JP2011171041A - Transparent conductor and conductive film for transfer - Google Patents

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倍達 眞下
Shigeo Kurose
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductor having a low electric resistance value, having a high durability, and manufactured with a low cost; a conductive film for transfer suitably used for manufacturing the transparent conductor; and a method of manufacturing the transparent conductor using the conductive film for transfer. <P>SOLUTION: The transparent conductor 20 includes a base material 6, an adhesive layer 5 on the base material 6, and a transparent conductive layer 3 on the adhesive layer 5, wherein the adhesive layer 5 is a hardened material layer at least containing a curable compound, the conductive layer 3 comprises a compressed layer with at least two layers of conductive particulates including a surface layer 3a located on a surface opposite from the base material 6 and an inner layer 3b in contact with the adhesive layer 5, the compressed layer with at least two layers of conductive particulates is constituted by the conductive particulates having different average particle diameters, respectively, and the surface layer 3a is constituted by the conductive particulates having the smallest average particle diameter among the compressed layer with at least two layers of conductive particulates. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明導電体、及びそれを作製するために用いられる転写用導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductor and a transfer conductive film used for producing the transparent conductor.

液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスパネル(有機EL、無機EL)、タッチパネル、エレクトロクロミック素子といった表示装置には、透明電極が用いられている。このような透明電極は、基材と基材上に形成された透明導電層とからなる透明導電体によって構成されることが多い。また、透明導電体は、透明な電磁波遮蔽膜として用いることもできる。   Transparent electrodes are used in display devices such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence panel (organic EL, inorganic EL), a touch panel, and an electrochromic element. Such a transparent electrode is often composed of a transparent conductor composed of a base material and a transparent conductive layer formed on the base material. The transparent conductor can also be used as a transparent electromagnetic wave shielding film.

従来より、透明導電膜は主にスパッタリング法によって製造されている。スパッタリング法は、ある程度大きな面積のものでも、表面電気抵抗の低い導電膜を形成できる点で優れている。しかし、装置が大掛かりで成膜速度が遅いという欠点がある。   Conventionally, a transparent conductive film has been mainly produced by a sputtering method. The sputtering method is excellent in that a conductive film having a low surface electric resistance can be formed even with a certain large area. However, there is a drawback that the apparatus is large and the film forming speed is slow.

塗布法による透明導電膜の製造も試みられている。従来の塗布法では、導電性微粒子がバインダー樹脂中に分散された導電性塗料を基材上に塗布して、乾燥し、硬化させ、導電膜を形成する。塗布法では、大面積の導電膜を容易に形成しやすく、装置が簡便で生産性が高く、スパッタリング法よりも低コストで導電膜を製造できるという長所がある。塗布法では、導電性微粒子同士が接触することにより電気経路を形成し導電性が発現される。しかしながら、従来の塗布法で作製された導電膜ではバインダー樹脂の存在のために導電性微粒子同士の接触が不十分で、得られる導電膜の電気抵抗値が高い(導電性に劣る)という欠点があり、その用途が限られてしまう。   Attempts have also been made to produce a transparent conductive film by a coating method. In the conventional coating method, a conductive coating material in which conductive fine particles are dispersed in a binder resin is applied on a substrate, dried and cured to form a conductive film. The coating method has an advantage that a conductive film having a large area can be easily formed, the apparatus is simple, the productivity is high, and the conductive film can be manufactured at a lower cost than the sputtering method. In the coating method, when conductive fine particles come into contact with each other, an electric path is formed and conductivity is expressed. However, the conductive film produced by the conventional coating method has a drawback that the contact between the conductive fine particles is insufficient due to the presence of the binder resin, and the resulting conductive film has a high electrical resistance value (inferior in conductivity). Yes, its use is limited.

バインダー樹脂を用いない塗布法として、例えば、特開平8−199096号公報には、錫ドープ酸化インジウム(ITO)粉末、溶媒、カップリング剤、金属の有機酸塩もしくは無機酸塩からなる、バインダーを含まない導電膜形成用塗料をガラス板に塗布し、300℃以上の温度で焼成する方法が開示されている。この方法では、バインダーを用いないので、導電膜の電気抵抗値は低くなる。しかしながら、高温での焼成が必要であり、基材としては、ガラス板のように高温にも耐え得る材料のものに限られてしまう。   As a coating method not using a binder resin, for example, JP-A-8-199096 discloses a binder comprising a tin-doped indium oxide (ITO) powder, a solvent, a coupling agent, a metal organic acid salt or an inorganic acid salt. A method of applying a conductive film-forming coating material not included on a glass plate and firing at a temperature of 300 ° C. or higher is disclosed. In this method, since no binder is used, the electric resistance value of the conductive film is lowered. However, firing at a high temperature is necessary, and the base material is limited to a material that can withstand high temperatures such as a glass plate.

特開平6−103839号公報には、透明導電性基板を転写によって製造する方法が開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-103839 discloses a method for producing a transparent conductive substrate by transfer.

特開2002−347150号公報には、対象物体表面上に透明導電層を形成するための転写用導電性フィルムが開示されている。転写用導電性フィルムの導電層は、導電性微粒子を圧縮することにより形成されたものである。この転写用導電性フィルムを用いて、対象物体表面上に透明導電層を形成することが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-347150 discloses a conductive film for transfer for forming a transparent conductive layer on the surface of a target object. The conductive layer of the transfer conductive film is formed by compressing conductive fine particles. It is disclosed that a transparent conductive layer is formed on the surface of a target object using this transfer conductive film.

また、特開2007−253425号公報、特開2007−257963号公報、及び特開2007−257964号公報には、対象物体表面上に透明導電層を形成するための転写用導電性フィルムが開示されている。転写用導電性フィルムの導電層は、導電性微粒子を圧縮することにより形成されたものである。この転写用導電性フィルムを用いた透明導電層が付与された物体が開示されている。   JP-A-2007-253425, JP-A-2007-257963, and JP-A-2007-257964 disclose a conductive film for transfer for forming a transparent conductive layer on the surface of a target object. ing. The conductive layer of the transfer conductive film is formed by compressing conductive fine particles. An object provided with a transparent conductive layer using the transfer conductive film is disclosed.

特開2006−185865号公報には、基材と、導電層と、前記基材と前記導電層との間に設けられている樹脂及びフィラーを含有する中間層とを備える透明導電体が開示されている。透明導電体の製造を転写的に行ってもよいことも開示されている(段落[0060]〜[0063])。しかしながら、導電層は、導電粉とバインダー樹脂とを塗布することにより形成されたものである。   JP-A-2006-185865 discloses a transparent conductor comprising a base material, a conductive layer, and an intermediate layer containing a resin and a filler provided between the base material and the conductive layer. ing. It is also disclosed that the production of the transparent conductor may be performed in a transfer manner (paragraphs [0060] to [0063]). However, the conductive layer is formed by applying conductive powder and a binder resin.

また、特開2001−328192号公報には、転写用のものではないが、支持体上に、導電層を含む少なくとも2層の各種機能を発現できる多層機能性層が設けられた機能性膜が開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-328192 discloses a functional film in which a multilayer functional layer capable of expressing various functions of at least two layers including a conductive layer is provided on a support, although not intended for transfer. It is disclosed.

ところで、タッチパネル等のパネルスイッチは、一般に、互いに対向する一対の透明電極と、これら一対の透明電極間に挟まれたスペーサとから構成され、一方の透明電極を指やペンなどで押圧すると、この透明電極が他方の透明電極と接触して通電が起こり、これによって、その接触点の位置が検知される。タッチパネルを繰り返し使用すると、繰り返しの押圧や、押圧時の指やペンなどでの摺動によって、透明導電体の導電層にクラックや削れが生じて、電気抵抗値の変化やバラツキ、リニアリティーの悪化が起こる。   By the way, a panel switch such as a touch panel generally includes a pair of transparent electrodes facing each other and a spacer sandwiched between the pair of transparent electrodes. When one of the transparent electrodes is pressed with a finger or a pen, The transparent electrode comes into contact with the other transparent electrode and energization occurs, whereby the position of the contact point is detected. If the touch panel is used repeatedly, the conductive layer of the transparent conductor will be cracked or scraped by repeated pressing or sliding with a finger or pen during pressing, resulting in changes in electrical resistance, variations, and deterioration of linearity. Occur.

特開平8−64067号公報には、スパッタリング法により形成された透明導電層を有するペン入力タッチパネルが開示されている。また、特開2001−283644号公報には、スパッタリング法により形成された透明導電層を有する透明導電性フィルム及びタッチパネルが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-64067 discloses a pen input touch panel having a transparent conductive layer formed by a sputtering method. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-283644 discloses a transparent conductive film and a touch panel having a transparent conductive layer formed by a sputtering method.

また、特開平6−202789号公報には、繰り返し使用における耐久性を向上させるために、少なくとも一方の電極表面を電極材料と結合可能な官能基を有する絶縁性鎖状有機高分子化合物で被覆処理した描画パッドが開示されている。しかしながら、電極表面を絶縁性有機高分子化合物で被覆処理すると、表面抵抗値が上昇し、対向する透明電極同士が接触する際の接触抵抗値が高くなる。そのため、押圧時の圧力を大きくしなければ電極同士の接触による通電が起こらなくなる。   JP-A-6-202789 discloses that at least one electrode surface is coated with an insulating chain organic polymer compound having a functional group capable of binding to an electrode material in order to improve durability in repeated use. A drawing pad is disclosed. However, when the electrode surface is coated with an insulating organic polymer compound, the surface resistance value increases, and the contact resistance value when the opposing transparent electrodes come into contact with each other increases. Therefore, energization due to contact between the electrodes does not occur unless the pressure during pressing is increased.

特開平8−199096号公報JP-A-8-199096 特開平6−103839号公報JP-A-6-103839 特開2002−347150号公報JP 2002-347150 A 特開2007−253425号公報JP 2007-253425 A 特開2007−257963号公報JP 2007-257963 A 特開2007−257964号公報JP 2007-257964 A 特開2006−185865号公報JP 2006-185865 A 特開2001−328192号公報JP 2001-328192 A 特開平8−64067号公報JP-A-8-64067 特開2001−283644号公報JP 2001-283644 A 特開平6−202789号公報JP-A-6-202789

本発明の目的は、低い電気抵抗値を有し、耐久性に優れると共に低コストで製造できる透明導電体を提供することにある。また、本発明の目的は、前記透明導電体を製造するために好適に用いることのできる転写用導電性フィルムを提供することにある。さらに、本発明の目的は、前記転写用導電性フィルムを用いて、前記透明導電体を製造する方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a transparent conductor having a low electric resistance value, excellent in durability and capable of being manufactured at low cost. Moreover, the objective of this invention is providing the electroconductive film for transfer which can be used suitably in order to manufacture the said transparent conductor. Furthermore, the objective of this invention is providing the method of manufacturing the said transparent conductor using the said conductive film for transcription | transfer.

本発明には、以下の発明が含まれる。
(1) 基材と、前記基材上の接着層と、前記接着層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、
前記接着層は、硬化性化合物を少なくとも含む接着剤組成物の硬化物層であり、
前記導電層は、前記基材とは反対側の表面に位置している表面層と、前記接着層と接している内部層とを含む少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層からなり、
前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層は、それぞれ平均粒径の異なる導電性微粒子から構成されており、
前記表面層は、前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層のうち、最も小さい平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている、透明導電体。
The present invention includes the following inventions.
(1) A transparent conductor having a base material, an adhesive layer on the base material, and a transparent conductive layer on the adhesive layer,
The adhesive layer is a cured product layer of an adhesive composition containing at least a curable compound,
The conductive layer comprises a compressed layer of at least two conductive fine particles including a surface layer located on the surface opposite to the substrate and an inner layer in contact with the adhesive layer,
The compressed layer of at least two layers of conductive fine particles is composed of conductive fine particles having different average particle diameters, respectively.
The said surface layer is a transparent conductor comprised from the conductive fine particle which has the smallest average particle diameter among the compression layers of the said at least 2 layer of conductive fine particle.

(2) 前記表面層を構成する導電性微粒子の平均粒径は、10〜20nmである、上記(1)に記載の透明導電体。 (2) The transparent conductor according to (1) above, wherein the conductive fine particles constituting the surface layer have an average particle diameter of 10 to 20 nm.

(3) 前記表面層は、0.2〜0.7μmの厚みを有する、上記(1)又は(2)に記載の透明導電体。 (3) The transparent conductor according to (1) or (2), wherein the surface layer has a thickness of 0.2 to 0.7 μm.

(4) 前記内部層を構成する導電性微粒子の平均粒径は、25〜80nmである、上記(1)〜(3)のうちのいずれかに記載の透明導電体。 (4) The transparent conductor according to any one of (1) to (3), wherein the conductive fine particles constituting the inner layer have an average particle size of 25 to 80 nm.

(5) 前記内部層は、0.3〜1.3μmの厚みを有する、上記(1)〜(4)のうちのいずれかに記載の透明導電体。 (5) The transparent conductor according to any one of (1) to (4), wherein the inner layer has a thickness of 0.3 to 1.3 μm.

(6) 前記導電性微粒子は、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる導電性無機微粒子である、上記(1)〜(5)のうちのいずれかに記載の透明導電体。 (6) The conductive fine particles include indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and oxidation. Conductive inorganic fine particles selected from the group consisting of zinc, aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide, and cadmium oxide, The transparent conductor according to any one of (1) to (5).

(7) 支持体と、前記支持体上の前記支持体とは剥離可能な透明導電層と、前記透明導電層上の接着剤層とを少なくとも含む転写用導電性フィルムであって、
前記接着剤層は、硬化性化合物を少なくとも含む接着剤組成物からなり、
前記導電層は、前記支持体に接している層と、前記接着剤層に接している層とを含む少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層からなり、
前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層は、それぞれ平均粒径の異なる導電性微粒子から構成されており、
前記支持体に接している層は、前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層のうち、最も小さい平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている、転写用導電性フィルム。
(7) A conductive film for transfer comprising at least a support, a transparent conductive layer that is peelable from the support on the support, and an adhesive layer on the transparent conductive layer,
The adhesive layer is made of an adhesive composition containing at least a curable compound,
The conductive layer comprises a compressed layer of at least two conductive fine particles including a layer in contact with the support and a layer in contact with the adhesive layer,
The compressed layer of at least two layers of conductive fine particles is composed of conductive fine particles having different average particle diameters, respectively.
The conductive film for transfer, wherein the layer in contact with the support is composed of conductive fine particles having the smallest average particle diameter among the compressed layers of the at least two conductive fine particles.

(7−2) 前記支持体に接している層を構成する導電性微粒子の平均粒径は、10〜20nmである、上記(7)に記載の透明導電体。 (7-2) The transparent conductor according to (7) above, wherein an average particle diameter of the conductive fine particles constituting the layer in contact with the support is 10 to 20 nm.

(7−3) 前記支持体に接している層は、0.2〜0.7μmの厚みを有する、上記(7)又は(7−2)に記載の透明導電体。 (7-3) The transparent conductor according to (7) or (7-2), wherein the layer in contact with the support has a thickness of 0.2 to 0.7 μm.

(7−4) 前記接着剤層に接している層を構成する導電性微粒子の平均粒径は、25〜80nmである、上記(7)〜(7−3)のうちのいずれかに記載の透明導電体。 (7-4) The average particle diameter of the conductive fine particles constituting the layer in contact with the adhesive layer is 25 to 80 nm, according to any one of (7) to (7-3) above. Transparent conductor.

(7−5) 前記接着剤層に接している層は、0.3〜1.3μmの厚みを有する、上記(7)〜(7−4)のうちのいずれかに記載の透明導電体。 (7-5) The transparent conductor according to any one of (7) to (7-4), wherein the layer in contact with the adhesive layer has a thickness of 0.3 to 1.3 μm.

(7−6) 前記導電性微粒子は、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる導電性無機微粒子である、上記(7)〜(7−5)のうちのいずれかに記載の透明導電体。 (7-6) The conductive fine particles include indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), and fluorine-doped tin oxide (FTO). Conductive inorganic fine particles selected from the group consisting of zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide, and cadmium oxide The transparent conductor according to any one of (7) to (7-5) above.

前記導電性微粒子の圧縮層は、導電性微粒子を分散した液を支持体上に、塗布、乾燥して形成された導電性微粒子含有層を圧縮することにより得ることができる。各圧縮層において、所望の平均粒径を有する導電性微粒子を用いる。前記導電性微粒子の圧縮層は、44N/mm2 以上の圧縮力で圧縮することにより得られたものであることが好ましい。また、常温(15〜40℃)にて圧縮することにより得られたものであることが好ましい。均一厚みの透明導電層が形成される。 The compressed layer of conductive fine particles can be obtained by compressing a conductive fine particle-containing layer formed by applying and drying a liquid in which conductive fine particles are dispersed on a support. In each compressed layer, conductive fine particles having a desired average particle diameter are used. The compressed layer of conductive fine particles is preferably obtained by compressing with a compressive force of 44 N / mm 2 or more. Moreover, it is preferable that it was obtained by compressing at normal temperature (15-40 degreeC). A transparent conductive layer having a uniform thickness is formed.

前記転写用導電性フィルムを製造するに際して、前記導電性微粒子の分散液は、少量の樹脂を含んでも良いが、特に樹脂を含まないことが好ましい。前記導電性微粒子の分散液が樹脂を含む場合には、前記樹脂の含有量は、体積で表して、前記導電性微粒子の体積を100としたとき、例えば25未満の体積、好ましくは19未満の体積、より好ましくは3.7未満の体積である。導電性微粒子含有層の圧縮の際に樹脂が含まれていないか、あるいは含まれていても少量であることにより、圧縮後に、導電性微粒子相互間の接触点が増え、導電層の膜強度が増すと共に導電性が良好となる。   When the conductive film for transfer is produced, the conductive fine particle dispersion may contain a small amount of resin, but preferably does not contain a resin. When the dispersion liquid of the conductive fine particles contains a resin, the content of the resin is expressed by volume, and when the volume of the conductive fine particles is 100, for example, the volume is less than 25, preferably less than 19. Volume, more preferably less than 3.7. When the conductive fine particle-containing layer is compressed, the resin is not contained, or even if it is contained in a small amount, the contact point between the conductive fine particles is increased after compression, and the film strength of the conductive layer is increased. As it increases, the conductivity becomes good.

前記導電性微粒子の圧縮層中の導電性微粒子相互の間には、空隙が存在している。この空隙中に、最上の圧縮層上に形成される接着剤層の前記接着性成分が含浸する。接着剤層は、前記導電性微粒子の圧縮層が形成された後(圧縮操作後)に、最上の圧縮層上に塗布により形成される。転写の際に、含浸している前記接着性成分が硬化させられるため、前記導電層の膜強度がさらに増す。また、硬化した接着層と、前記導電層との密着性も向上する。   There is a gap between the conductive fine particles in the compressed layer of the conductive fine particles. This adhesive component of the adhesive layer formed on the uppermost compression layer is impregnated in this void. The adhesive layer is formed by coating on the uppermost compression layer after the compression layer of the conductive fine particles is formed (after the compression operation). Since the adhesive component impregnated in the transfer is cured, the film strength of the conductive layer is further increased. In addition, the adhesion between the cured adhesive layer and the conductive layer is also improved.

(8) 上記(1)に記載の透明導電体を製造する方法であって、
基材表面に、上記(7)に記載の転写用導電性フィルムを、前記フィルムの前記接着剤層を介して前記支持体が外側になるようにして貼り付け、貼り付け後に前記接着剤層を硬化させ、その後、前記支持体を剥離することを含む、透明導電体の製造方法。
(8) A method for producing the transparent conductor according to (1) above,
The conductive film for transfer described in (7) above is attached to the surface of the base material with the support on the outside via the adhesive layer of the film, and the adhesive layer is attached after the application. A method for producing a transparent conductor, comprising curing and then peeling the support.

硬化操作は、接着剤層の硬化性化合物に応じて行われる。すなわち、熱硬化性化合物の場合には、加熱により硬化させる。活性エネルギー線硬化性化合物の場合には、活性エネルギー線照射により硬化させる。   The curing operation is performed according to the curable compound of the adhesive layer. That is, in the case of a thermosetting compound, it is cured by heating. In the case of an active energy ray-curable compound, it is cured by irradiation with an active energy ray.

活性エネルギー線の照射は、前記基材側から行うとよい。前記導電層(導電性微粒子の圧縮層)による活性エネルギー線の吸収があるため、前記支持体側からではなく、前記基材側から活性エネルギー線の照射を行うとよい。活性エネルギー線の照射により、前記接着剤層が硬化させられると共に、前記導電層中に含浸している前記接着性成分も硬化させられる。それによって、前記導電層の膜強度がより向上し、前記導電層のヘイズ値も良好となる。   The irradiation with the active energy ray is preferably performed from the substrate side. Since active energy rays are absorbed by the conductive layer (compressed layer of conductive fine particles), it is preferable to irradiate active energy rays not from the support side but from the base material side. The adhesive layer is cured by irradiation with active energy rays, and the adhesive component impregnated in the conductive layer is also cured. Thereby, the film strength of the conductive layer is further improved, and the haze value of the conductive layer is also improved.

このように本発明の透明導電体は、上記本発明の転写用導電性フィルムを用いて、転写用導電性フィルムの導電層を接着剤層を介して基材表面に転写することにより得ることができる。   Thus, the transparent conductor of the present invention can be obtained by transferring the conductive layer of the transfer conductive film to the substrate surface via the adhesive layer using the transfer conductive film of the present invention. it can.

なお、本発明において、「支持体とは剥離可能な透明導電層」あるいは「支持体から剥離可能な透明導電層」とは、支持体と透明導電層とが互いに剥離可能な状態であることを意味する。本発明の転写用導電性フィルムを実際に使用する際には、接着剤層を介して基材表面上に貼り付けられた導電層から支持体を剥離することが多い。   In the present invention, “a transparent conductive layer that can be peeled off from the support” or “a transparent conductive layer that can be peeled off from the support” means that the support and the transparent conductive layer are peelable from each other. means. When the conductive film for transfer of the present invention is actually used, the support is often peeled off from the conductive layer attached on the surface of the substrate via the adhesive layer.

本発明の転写用導電性フィルムにおいて、転写用導電性フィルムの作製の際に支持体上に導電性微粒子を固定する役目を果たし、そして、基材上への導電層の転写の際に、接着剤層が硬化されれば、支持体から導電層を剥離しやすくする役目を果たすために、支持体は、その表面にアンカー層が設けられていることも好ましい。このような場合には、本発明においては、アンカー層を含めて支持体と称する。   In the conductive film for transfer of the present invention, the conductive film for transfer serves to fix the conductive fine particles on the support during the production of the conductive film for transfer, and adheres during transfer of the conductive layer onto the substrate. If the agent layer is cured, the support is preferably provided with an anchor layer on the surface in order to facilitate the peeling of the conductive layer from the support. In such a case, in the present invention, the support including the anchor layer is referred to as a support.

本発明の透明導電体によれば、上記のように、透明導電層は、表面層と内部層とを含む少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層からなり、前記表面層は、前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層のうち、最も小さい平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている。このように、透明導電層の最表面に最も小さい平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている表面層が配置されているので、導電層の表面粗さが小さく抑えられ、繰り返し使用による導電層のクラックや削れの発生を防止でき、透明導電体の十分な耐久性が得られる。また、前記表面層よりも接着層に近い内部側には、前記表面層を構成する導電性微粒子の平均粒径よりも大きな平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている内部層が配置されているので、導電性能が確保され、透明導電体の表面抵抗値は小さくできる。このようにして、本発明によれば、表面抵抗値が小さく且つ十分な耐久性を有する透明導電体が提供される。   According to the transparent conductor of the present invention, as described above, the transparent conductive layer is composed of a compressed layer of at least two conductive fine particles including a surface layer and an internal layer, and the surface layer includes the at least two layers. Among the conductive fine particle compressed layers, the conductive fine particles have the smallest average particle diameter. As described above, since the surface layer composed of the conductive fine particles having the smallest average particle diameter is arranged on the outermost surface of the transparent conductive layer, the surface roughness of the conductive layer is suppressed to be small, and the conductive layer is repeatedly conductive. Generation of cracks and scraping of the layer can be prevented, and sufficient durability of the transparent conductor can be obtained. In addition, an inner layer made of conductive fine particles having an average particle size larger than the average particle size of the conductive fine particles constituting the surface layer is disposed on the inner side closer to the adhesive layer than the surface layer. Therefore, conductive performance is ensured, and the surface resistance value of the transparent conductor can be reduced. Thus, according to the present invention, a transparent conductor having a small surface resistance value and sufficient durability is provided.

また、本発明によれば、前記透明導電体を製造するために好適に用いることのできる転写用導電性フィルムが提供される。   Moreover, according to this invention, the electroconductive film for transfer which can be used suitably in order to manufacture the said transparent conductor is provided.

本発明の転写用導電性フィルムは、導電性微粒子の分散液の塗布、圧縮による導電性微粒子の圧縮層の形成、その後の接着剤層の塗布形成という簡便な操作で低コストで製造することができる。低い電気抵抗値を有する均一厚みの透明導電層が形成される。   The conductive film for transfer of the present invention can be produced at a low cost by a simple operation of applying a dispersion of conductive fine particles, forming a compressed layer of conductive fine particles by compression, and then applying and forming an adhesive layer. it can. A transparent conductive layer having a uniform thickness and a low electrical resistance value is formed.

さらに、本発明によれば、前記本発明の転写用導電性フィルムを用いて、前記本発明の透明導電体を製造する方法が提供される。   Furthermore, according to the present invention, there is provided a method for producing the transparent conductor of the present invention using the conductive film for transfer of the present invention.

本発明の透明導電体は、透明電極用、帯電防止用、電磁波シールド用として、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスパネル(有機EL、無機EL)、タッチパネル、エレクトロクロミック素子、電子ペーパーなどの表示装置、及びアンテナに適用できる。   The transparent conductor of the present invention is a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence panel (organic EL, inorganic EL), a touch panel, an electrochromic device, for transparent electrodes, for antistatic purposes, and for electromagnetic wave shielding It can be applied to display devices such as electronic paper and antennas.

本発明の透明導電体は、表面抵抗値が小さく且つ十分な耐久性を有するので、タッチパネル等のパネルスイッチに特に好適に用いられる。タッチパネル等のパネルスイッチに適用した場合に、その入力荷重(押圧)は良好なレベルに維持される。   Since the transparent conductor of the present invention has a small surface resistance and sufficient durability, it is particularly suitably used for a panel switch such as a touch panel. When applied to a panel switch such as a touch panel, the input load (pressing) is maintained at a good level.

本発明の転写用導電性フィルムの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the electroconductive film for transfer of this invention. 本発明の透明導電体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the transparent conductor of this invention.

(1) :支持体
(1a):支持体本体
(1b):アンカー層
(2a):導電性微粒子(最小平均粒径の粒子)
(2b):導電性微粒子
(3) :透明導電層
(3a):透明導電層(最小平均粒径の導電性微粒子からなる層)
(3b):透明導電層
(5) :未硬化の接着剤層
(10):転写用導電性フィルム
(6) :基材
(5) :硬化した接着層
(20):透明導電体
(1): Support
(1a): Support body
(1b): Anchor layer
(2a): Conductive fine particles (particles with the smallest average particle size)
(2b): Conductive fine particles
(3): Transparent conductive layer
(3a): Transparent conductive layer (layer consisting of conductive fine particles with minimum average particle diameter)
(3b): Transparent conductive layer
(5): Uncured adhesive layer
(10): Conductive film for transfer
(6): Base material
(5): Hardened adhesive layer
(20): Transparent conductor

まず、本発明の転写用導電性フィルム(以下、単に導電性フィルムとも記す)について説明する。   First, the conductive film for transfer of the present invention (hereinafter also simply referred to as a conductive film) will be described.

図1は、転写用導電性フィルムの層構成例を示す断面図である。図1の導電性フィルムにおいて、支持体本体(1a)と本体(1a)の一方の表面上に設けられたアンカー層(1b)とからなる支持体(1) のアンカー層(1b)上に透明導電層(3) が形成され、透明導電層(3) 上に接着剤層(5) が形成されている。透明導電層(3) は、支持体(1) に接している層(3a)と、層(3a)上に接しており且つ接着剤層(5) に接している層(3b)とを含む2層の導電性微粒子の圧縮層からなり、支持体(1) とは剥離可能に設けられている。また、使用時まで接着剤層面を保護するために、接着剤層(5) 上に図示されない剥離フィルムが付与されていてもよい。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a layer configuration example of a transfer conductive film. In the conductive film of FIG. 1, the support body (1a) and the anchor layer (1b) provided on one surface of the body (1a) are transparent on the anchor layer (1b) of the support body (1). A conductive layer (3) is formed, and an adhesive layer (5) is formed on the transparent conductive layer (3). The transparent conductive layer (3) includes a layer (3a) in contact with the support (1) and a layer (3b) in contact with the layer (3a) and in contact with the adhesive layer (5). It consists of a compressed layer of two conductive fine particles, and is provided so as to be peelable from the support (1). In order to protect the adhesive layer surface until use, a release film (not shown) may be provided on the adhesive layer (5).

本発明における透明とは、可視光を透過することを意味し、光をある程度散乱しても透明の概念に含まれる。光の散乱度合いについては、転写用導電性フィルムの用途すなわち導電層が転写形成される対象物体(基材)の用途により要求されるレベルが異なり、一般に半透明といわれるような光の散乱のある場合も透明の概念に含まれる。   The term “transparent” in the present invention means that visible light is transmitted, and even if light is scattered to some extent, it is included in the concept of transparency. Regarding the degree of light scattering, the level required varies depending on the use of the conductive film for transfer, that is, the use of the target object (substrate) on which the conductive layer is transferred, and there is light scattering that is generally said to be translucent. Cases are also included in the concept of transparency.

本発明において、支持体本体(1a)として、後述する圧縮工程の圧縮力を大きくしても割れることがない可撓性樹脂フィルムが好適である。本発明では、転写用導電性フィルムの製造において、高温での加圧工程や、焼成工程がないので、樹脂フィルムを支持体として用いることができる。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム等が挙げられる。   In the present invention, as the support body (1a), a flexible resin film that does not crack even if the compression force in the compression step described later is increased is suitable. In the present invention, in the production of the conductive film for transfer, since there is no pressurizing step or baking step at high temperature, a resin film can be used as a support. Examples of the resin film include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate films, acrylic films, and norbornene films.

アンカー層(1b)は、導電性微粒子の圧縮層からなる導電層(3) を支持体(1) 上に形成し保持する役割を果たすために、ある程度の硬さとクッション性を有していることが好ましく、また一方で、転写に際してアンカー層(1b)と導電層(3) との間で剥離されるために、アンカー層(1b)は比較的硬いことが好ましく、支持体本体(1a)とアンカー層(1b)との密着性は、アンカー層(1b)と導電層(3) との密着性よりも高いことが好ましい。アンカー層(1b)は、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂等の中から選定して、樹脂の溶液を支持体本体(1a)上に塗布、乾燥して形成するとよい。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。   The anchor layer (1b) has a certain degree of hardness and cushioning properties in order to form and hold a conductive layer (3) composed of a compressed layer of conductive fine particles on the support (1). On the other hand, the anchor layer (1b) is preferably relatively hard because it is peeled off between the anchor layer (1b) and the conductive layer (3) during transfer, and the support body (1a) The adhesion with the anchor layer (1b) is preferably higher than the adhesion between the anchor layer (1b) and the conductive layer (3). The anchor layer (1b) is preferably selected from silicone resin, acrylic resin, urethane resin, vinyl chloride resin, etc., and a resin solution is applied to the support body (1a) and dried. Application | coating in this case can be performed by a well-known method. For example, it can be performed by a coating method such as an extrusion nozzle method, a blade method, a knife method, a bar coating method, a kiss coating method, a gravure roll method, a dipping method, a reverse roll method, a direct roll method, a curtain method, or a squeeze method.

アンカー層(1b)の厚みは、限定されないが、例えば、0.5〜5μm程度とすればよい。アンカー層(1b)の厚みが0.5μm未満であると、導電性粒子を支持体(1) 上にしっかり固定させる効果が得られにくく、一方、5μmより厚いと、硬化性樹脂を用いた場合に転写操作の活性エネルギー線照射の際に硬化不足となる可能性がある。アンカー層(1b)が完全に硬化した方が高い硬度となるので、転写に際してアンカー層(1b)と導電層(3) との間で容易に剥離されやすい。   Although the thickness of an anchor layer (1b) is not limited, For example, what is necessary is just to be about 0.5-5 micrometers. When the thickness of the anchor layer (1b) is less than 0.5 μm, it is difficult to obtain the effect of firmly fixing the conductive particles on the support (1). On the other hand, when the thickness is greater than 5 μm, a curable resin is used. In addition, there is a possibility of insufficient curing during irradiation of active energy rays in the transfer operation. When the anchor layer (1b) is completely cured, the hardness becomes higher. Therefore, the anchor layer (1b) is easily peeled off between the anchor layer (1b) and the conductive layer (3).

支持体(1) のアンカー層(1b)上に、導電性微粒子の分散液を用いて透明導電層(3) を形成する。透明導電層(3) は、支持体(1) に接している層(3a)と、層(3a)上に接しており且つ接着剤層(5) に接している層(3b)との2層の導電性微粒子の圧縮層からなる。   A transparent conductive layer (3) is formed on the anchor layer (1b) of the support (1) using a dispersion of conductive fine particles. The transparent conductive layer (3) consists of a layer (3a) in contact with the support (1) and a layer (3b) in contact with the layer (3a) and in contact with the adhesive layer (5). It consists of a compressed layer of conductive fine particles.

導電性微粒子は、透明導電性酸化物材料から構成されていることが好ましい。透明導電性酸化物材料は、透明性及び導電性を有すれば特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、又は酸化インジウムに、錫、亜鉛、テルル、銀、ガリウム、ジルコニウム、ハフニウム及びマグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも1種以上の元素がドープされたもの; 酸化錫、又は酸化錫に、アンチモン、亜鉛及びフッ素からなる群より選ばれる少なくとも1種以上の元素がドープされたもの; 酸化亜鉛、又は酸化亜鉛に、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ホウ素、フッ素、及びマンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種以上の元素がドープされたもの; 酸化チタンにニオブもしくはタンタルがドープされたもの等が挙げられる。   The conductive fine particles are preferably composed of a transparent conductive oxide material. The transparent conductive oxide material is not particularly limited as long as it has transparency and conductivity. For example, indium oxide, or indium oxide, tin, zinc, tellurium, silver, gallium, zirconium, hafnium, and magnesium. One doped with at least one element selected from tin; or tin oxide or tin oxide doped with at least one element selected from the group consisting of antimony, zinc and fluorine; zinc oxide, or A zinc oxide doped with at least one element selected from the group consisting of aluminum, gallium, indium, boron, fluorine, and manganese; a titanium oxide doped with niobium or tantalum.

好適な導電性微粒子としては、例えば、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、酸化カドミウム等の導電性無機微粒子が用いられる。ITOがより優れた導電性が得られる点で好ましい。あるいは、ATO、ITO等の無機材料を硫酸バリウム等の透明性を有する微粒子の表面にコーティングしたものを用いることもできる。   Suitable conductive fine particles include, for example, indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), Conductive inorganic fine particles such as zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide, and cadmium oxide are used. ITO is preferable in that it provides better conductivity. Or what coated inorganic material, such as ATO and ITO, on the surface of fine particles which have transparency, such as barium sulfate, can also be used.

支持体(1) に接している層(3a)は、対象物体への転写操作において支持体(1) が剥離されるので、転写後には露出されるべき表面層(3a)である。   The layer (3a) in contact with the support (1) is a surface layer (3a) to be exposed after transfer because the support (1) is peeled off during the transfer operation to the target object.

表面層(3a)用の導電性微粒子(2a)の平均粒径は、10nm〜20nmであることが好ましい。平均粒径が10nm未満であると、平均粒径が10nm以上である場合と比べて、透明導電体の導電性が十分に得られない傾向がある。一方、平均粒径が20nmを超えると、平均粒径が上記範囲にある場合と比較して、表面層(3a)の表面平滑性が低下し、透明導電体をタッチパネルとして用いた場合に、十分な耐久性が得られない傾向がある。より好ましい導電性微粒子(2a)の平均粒径は、例えば上限17nm、下限12nmである。また、シランカップリング剤で表面処理された粒子を用いてもよい。平均粒径は、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて測定することができる(JISH7804)。   The average particle diameter of the conductive fine particles (2a) for the surface layer (3a) is preferably 10 nm to 20 nm. When the average particle size is less than 10 nm, the conductivity of the transparent conductor tends to be insufficient as compared with the case where the average particle size is 10 nm or more. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 20 nm, the surface smoothness of the surface layer (3a) is reduced compared to the case where the average particle diameter is in the above range, and sufficient when the transparent conductor is used as a touch panel. There is a tendency that the durability is not obtained. More preferable average particle diameter of the conductive fine particles (2a) is, for example, an upper limit of 17 nm and a lower limit of 12 nm. Moreover, you may use the particle | grains surface-treated with the silane coupling agent. The average particle size can be measured using, for example, a transmission electron microscope (JIS 7804).

表面層(3a)用の導電性微粒子(2a)の比表面積は、52m2 /g〜63m2 /g であることが好ましい。導電性微粒子の比表面積が52m2 /g 未満であると、比表面積が上記範囲である場合と比較して、表面層(3a)の表面平滑性が低下し、透明導電体をタッチパネルとして用いた場合に、十分な耐久性が得られない傾向がある。一方、比表面積が63m2 /g を超えると、比表面積が上記範囲である場合と比較して、透明導電体の導電性が十分に得られない傾向がある。より好ましい導電性微粒子(2a)の比表面積は、例えば上限60m2 /g、下限55m2 /gである。なお、ここで言う比表面積は、BET法によるものであり、比表面積測定装置(型式:NOVA2000、カンタクローム社製)を用いて、試料を300℃で30分間真空乾燥した後に測定した値である。 The specific surface area of the surface layer (3a) for the conductive fine particles (2a) is preferably 52m 2 / g~63m 2 / g. When the specific surface area of the conductive fine particles is less than 52 m 2 / g, the surface smoothness of the surface layer (3a) is reduced as compared with the case where the specific surface area is in the above range, and the transparent conductor was used as a touch panel. In some cases, sufficient durability tends not to be obtained. On the other hand, when the specific surface area exceeds 63 m 2 / g, there is a tendency that the conductivity of the transparent conductor cannot be sufficiently obtained as compared with the case where the specific surface area is in the above range. More preferable specific surface area of the conductive fine particles (2a) is, for example, an upper limit of 60 m 2 / g and a lower limit of 55 m 2 / g. The specific surface area referred to here is based on the BET method, and is a value measured after vacuum drying the sample at 300 ° C. for 30 minutes using a specific surface area measuring device (model: NOVA2000, manufactured by Cantachrome). .

表面層(3a)の膜厚は、0.2μm〜0.7μmであることが好ましい。膜厚が0.2μm未満であると、表面層(3a)の表面平滑性の改善効果が少なく、透明導電体をタッチパネルとして用いた場合に、十分な耐久性が得られない傾向がある。一方、膜厚が0.7μmを超えると、透明導電体の導電性が十分に得られない傾向がある。より好ましい表面層(3a)の膜厚は、例えば上限0.5μm、下限0.3μmである。   The film thickness of the surface layer (3a) is preferably 0.2 μm to 0.7 μm. When the film thickness is less than 0.2 μm, the effect of improving the surface smoothness of the surface layer (3a) is small, and when the transparent conductor is used as a touch panel, sufficient durability tends not to be obtained. On the other hand, when the film thickness exceeds 0.7 μm, the conductivity of the transparent conductor tends to be insufficient. More preferable film thickness of the surface layer (3a) is, for example, an upper limit of 0.5 μm and a lower limit of 0.3 μm.

支持体(1) に接している層(3a)[すなわち表面層(3a)]に接しており且つ接着剤層(5) に接している層(3b)は、対象物体への転写後には硬化した接着層(5) を介して対象物体に最も近く位置されるべき内部層(3b)である。   The layer (3b) in contact with the layer (3a) in contact with the support (1) [that is, the surface layer (3a)] and in contact with the adhesive layer (5) is cured after transfer to the target object. It is the inner layer (3b) that should be positioned closest to the target object via the adhesive layer (5).

内部層(3b)用の導電性微粒子(2b)の平均粒径は、25nm〜80nmであることが好ましい。平均粒径が25nm未満であると、平均粒径が25nm以上である場合と比べて、透明導電体の導電性が十分に得られない傾向がある。一方、平均粒径が80nmを超えると、平均粒径が上記範囲にある場合と比較して、可視光の波長領域で光散乱が大きくなり、ヘイズ値が増加する傾向がある。より好ましい導電性微粒子(2b)の平均粒径は、例えば上限50nm、下限30nmである。   The average particle diameter of the conductive fine particles (2b) for the inner layer (3b) is preferably 25 nm to 80 nm. When the average particle size is less than 25 nm, the conductivity of the transparent conductor tends to be insufficient as compared with the case where the average particle size is 25 nm or more. On the other hand, when the average particle size exceeds 80 nm, light scattering increases in the wavelength region of visible light and the haze value tends to increase as compared with the case where the average particle size is in the above range. More preferable average particle diameter of the conductive fine particles (2b) is, for example, an upper limit of 50 nm and a lower limit of 30 nm.

内部層(3b)用の導電性微粒子(2b)の比表面積は、10m2 /g〜48m2 /g であることが好ましい。導電性微粒子の比表面積が10m2 /g 未満であると、比表面積が上記範囲である場合と比較して、可視光の波長領域で光散乱が大きくなり、ヘイズ値が増加する傾向がある。一方、比表面積が48m2 /g を超えると、比表面積が上記範囲である場合と比較して、透明導電体の導電性が十分に得られない傾向がある。より好ましい導電性微粒子(2b)の比表面積は、例えば上限45m2 /g、下限25m2 /gである。 The specific surface area of the inner layer (3b) for the electrically conductive fine particles (2b) is preferably 10m 2 / g~48m 2 / g. When the specific surface area of the conductive fine particles is less than 10 m 2 / g, light scattering increases in the visible light wavelength region and the haze value tends to increase as compared with the case where the specific surface area is in the above range. On the other hand, when the specific surface area exceeds 48 m 2 / g, there is a tendency that the conductivity of the transparent conductor cannot be sufficiently obtained as compared with the case where the specific surface area is in the above range. More preferable specific surface area of the conductive fine particles (2b) is, for example, an upper limit of 45 m 2 / g and a lower limit of 25 m 2 / g.

内部層(3b)の膜厚は、0.3μm〜1.3μmであることが好ましい。膜厚が0.3μm未満であると、透明導電体の導電性が十分に得られない傾向がある。一方、膜厚が1.3μmを超えると、透明導電体の光透過率が低下する傾向がある。より好ましい内部層(3b)の膜厚は、例えば上限0.7μm、下限0.5μmである。   The film thickness of the inner layer (3b) is preferably 0.3 μm to 1.3 μm. If the film thickness is less than 0.3 μm, the conductivity of the transparent conductor tends to be insufficient. On the other hand, when the film thickness exceeds 1.3 μm, the light transmittance of the transparent conductor tends to decrease. A more preferable thickness of the inner layer (3b) is, for example, an upper limit of 0.7 μm and a lower limit of 0.5 μm.

図1においては、透明導電層(3) が、支持体(1) に接している層(3a)[すなわち表面層(3a)]と、層(3a)に接しており且つ接着剤層(5) に接している層(3b)[すなわち内部層(3b)]との2層からなる形態が示されている。本発明においては、図1の例に限定されず、透明導電層(3) が、支持体(1) に接している層(3a)[すなわち表面層(3a)]と、接着剤層(5) に接している層(3b)[すなわち内部層(3b)]と、これらの間に位置する中間層との3層からなる形態も含まれる。さらに、前記中間層が2層以上設けられている形態も含まれる。   In FIG. 1, the transparent conductive layer (3) is in contact with the layer (3a) [that is, the surface layer (3a)] in contact with the support (1), the layer (3a), and the adhesive layer (5 ) Is a two-layered form with the layer (3b) [that is, the inner layer (3b)] in contact therewith. In the present invention, the transparent conductive layer (3) is not limited to the example of FIG. 1, and the transparent conductive layer (3) is in contact with the support (1) (3a) [that is, the surface layer (3a)] and the adhesive layer (5 ) Includes a layer composed of three layers, ie, a layer (3b) [that is, an inner layer (3b)] in contact with the intermediate layer and an intermediate layer located between them. Furthermore, a mode in which two or more intermediate layers are provided is also included.

中間層用の導電性微粒子の平均粒径は、表面層(3a)用の導電性微粒子(2a)の平均粒径よりも大きい。また、中間層用の導電性微粒子の平均粒径は、内部層(3b)用の導電性微粒子(2b)の平均粒径よりも小さいことが好ましい。これら条件を満たすように、中間層用の導電性微粒子の平均粒径は、例えば20nm〜25nmであることが好ましい。前記中間層を2層以上設ける場合には、表面層(3a)側から内部層(3b)に向かうに従って順次、該中間層を構成する導電性微粒子の平均粒径が大きくなるようにするとよい。   The average particle size of the conductive fine particles for the intermediate layer is larger than the average particle size of the conductive fine particles (2a) for the surface layer (3a). The average particle size of the conductive fine particles for the intermediate layer is preferably smaller than the average particle size of the conductive fine particles (2b) for the inner layer (3b). In order to satisfy these conditions, the average particle size of the conductive fine particles for the intermediate layer is preferably 20 nm to 25 nm, for example. When two or more intermediate layers are provided, the average particle diameter of the conductive fine particles constituting the intermediate layer is preferably increased sequentially from the surface layer (3a) side toward the inner layer (3b).

中間層用の導電性微粒子の比表面積は、表面層(3a)用の導電性微粒子(2a)の比表面積よりも小さく、内部層(3b)用の導電性微粒子(2b)の比表面積よりも大きいことが好ましい。この条件を満たすように、中間層用の導電性微粒子の比表面積は、例えば45m2 /g〜85m2 /g であることが好ましい。前記中間層を2層以上設ける場合には、表面層(3a)側から内部層(3b)に向かうに従って順次、該中間層を構成する導電性微粒子の比表面積が小さくなるようにするとよい。 The specific surface area of the conductive fine particles for the intermediate layer is smaller than the specific surface area of the conductive fine particles (2a) for the surface layer (3a) and smaller than the specific surface area of the conductive fine particles (2b) for the inner layer (3b). Larger is preferred. So as to satisfy this condition, the specific surface area of the conductive fine particles for the intermediate layer is preferably, for example, 45m 2 / g~85m 2 / g. When two or more intermediate layers are provided, it is preferable that the specific surface area of the conductive fine particles constituting the intermediate layer be sequentially reduced from the surface layer (3a) side toward the inner layer (3b).

中間層の膜厚は、特に限定されることなく、例えば0.2μm〜0.4μmとすることが好ましい。前記中間層を2層以上設ける場合には、それらの合計の膜厚が上記範囲となるようにするとよい。   The film thickness of the intermediate layer is not particularly limited and is preferably 0.2 μm to 0.4 μm, for example. When two or more intermediate layers are provided, the total film thickness is preferably in the above range.

中間層を設ける場合の導電性微粒子の平均粒径、比表面積、膜厚については、上述した表面層(3a)、内部層(3b)の記述をも参考にして適宜決定するとよい。   The average particle diameter, specific surface area, and film thickness of the conductive fine particles when the intermediate layer is provided may be appropriately determined with reference to the description of the surface layer (3a) and the inner layer (3b).

本発明において、表面層(3a)用、内部層(3b)用、及び必要に応じて中間層用の各導電性微粒子の分散液を作製する。   In the present invention, a dispersion of conductive fine particles for the surface layer (3a), the inner layer (3b), and if necessary, for the intermediate layer is prepared.

導電性微粒子を分散する分散媒としては、特に限定されることなく、既知の各種液体を使用することができる。例えば、液体として、ヘキサン等の飽和炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、エチレンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることができる。これらのなかでも、極性を有する液体が好ましく、特にメタノール、エタノール等のアルコール類、NMP等のアミド類のような水と親和性のあるものは、分散剤を使用しなくても分散性が良好であり好適である。これら液体は、単独でも2種以上の混合したものでも使用することができる。また、液体の種類により、分散剤を使用することもできる。   The dispersion medium for dispersing the conductive fine particles is not particularly limited, and various known liquids can be used. For example, as liquid, saturated hydrocarbons such as hexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, etc. Ketones, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and diethyl ether, amides such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone (NMP) and N, N-dimethylacetamide And halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride and chlorobenzene. Among these, polar liquids are preferable, and those having an affinity for water, such as alcohols such as methanol and ethanol, and amides such as NMP, have good dispersibility without using a dispersant. It is preferable. These liquids can be used singly or as a mixture of two or more. Moreover, a dispersing agent can also be used according to the kind of liquid.

また、分散媒として、水も使用可能である。水を用いる場合には、支持体(1) (アンカー層がない場合)又は支持体本体(1a)上に設けられたアンカー層(1b)の表面が親水性のものである必要がある。樹脂フィルムやアンカー層(樹脂層)は通常疎水性であるため水をはじきやすく、均一な膜が得られにくい。このような場合には、水にアルコールを混合するとか、あるいはアンカー層の表面をコロナ処理などにより親水性にする必要がある。   Water can also be used as a dispersion medium. When water is used, the surface of the support (1) (when no anchor layer is provided) or the anchor layer (1b) provided on the support body (1a) needs to be hydrophilic. Since the resin film and the anchor layer (resin layer) are usually hydrophobic, they easily repel water and it is difficult to obtain a uniform film. In such a case, it is necessary to mix alcohol with water, or to make the surface of the anchor layer hydrophilic by corona treatment or the like.

用いる分散媒の量は、特に制限されず、前記導電性微粒子の分散液が塗布に適した粘度を有するようにすればよい。例えば、前記導電性微粒子100重量部に対して、液体100〜100,000 重量部程度である。前記導電性微粒子と分散媒の種類に応じて適宜選択するとよい。   The amount of the dispersion medium to be used is not particularly limited, and the dispersion liquid of the conductive fine particles may have a viscosity suitable for coating. For example, the amount is about 100 to 100,000 parts by weight of the liquid with respect to 100 parts by weight of the conductive fine particles. It is preferable to select appropriately according to the type of the conductive fine particles and the dispersion medium.

前記導電性微粒子の分散媒中への分散は、公知の分散手法により行うとよい。例えば、サンドグラインダーミル法により分散する。分散に際しては、微粒子の凝集をほぐすために、ジルコニアビーズ等のメディアを用いることも好ましい。   The conductive fine particles may be dispersed in a dispersion medium by a known dispersion method. For example, it is dispersed by a sand grinder mill method. In dispersing, it is also preferable to use media such as zirconia beads in order to loosen the aggregation of the fine particles.

なお、前記導電性微粒子の分散液中には、目的とする性能を損なわない程度に、必要に応じて添加剤を更に含有してもよい。添加剤としては、難燃剤、紫外線吸収剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、結合剤、カップリング剤、フィラー、レべリング剤、界面活性剤等が挙げられる。透明電極用途であれば、低い電気抵抗値が要求されるので、これらの添加剤は用いるとしても少量とすべきであろう。帯電防止用途であれば、これらの添加剤により、付加的な性能を与えてもよい。   In addition, in the dispersion liquid of the conductive fine particles, an additive may be further contained as necessary to the extent that the target performance is not impaired. Examples of the additive include a flame retardant, an ultraviolet absorber, a radical scavenger, a plasticizer, a binder, a coupling agent, a filler, a leveling agent, and a surfactant. For transparent electrode applications, low electrical resistance values are required, so these additives should be used in small amounts. For antistatic applications, these additives may provide additional performance.

まず、調製した表面層(3a)用の導電性微粒子の分散液を支持体(1) (アンカー層(1b))上に、塗布、乾燥し、導電性微粒子含有層を形成する。前記微粒子分散液の塗布は、特に限定されることなく、公知の方法により行うことができ、例えば、アンカー層の塗布で説明した方法と同様の塗布法によって行うことができる。乾燥温度は分散に用いた分散媒の種類によるが、10〜150℃程度が好ましい。10℃未満では空気中の水分の結露が起こりやすく、150℃を越えると樹脂フィルム支持体が変形する。   First, the prepared dispersion of conductive fine particles for the surface layer (3a) is applied and dried on the support (1) (anchor layer (1b)) to form a conductive fine particle-containing layer. The application of the fine particle dispersion is not particularly limited, and can be performed by a known method. For example, the fine particle dispersion can be performed by a coating method similar to the method described in the application of the anchor layer. The drying temperature depends on the type of dispersion medium used for dispersion, but is preferably about 10 to 150 ° C. If it is less than 10 ° C, condensation of moisture in the air tends to occur, and if it exceeds 150 ° C, the resin film support is deformed.

その後、前記表面層(3a)用の導電性微粒子含有層をシートプレス、ロールプレス等により圧縮し、導電性微粒子の圧縮層(3a)を形成する。圧縮することで導電性微粒子相互間の接触点が増え接触面が増加する。このため、塗膜強度が上がると共に、電気抵抗値が低下する。導電性に優れ、膜強度に優れる導電層を得るために、圧縮は44N/mm2 以上の圧縮力で行うことが好ましく、135N/mm2 以上の圧縮力がより好ましく、180N/mm2 以上の圧縮力が更に好ましい。圧縮力を高くするほど装置の耐圧を上げなくてはならないので、一般には1000N/mm2 までの圧縮力が適当である。また、圧縮は常温(15〜40℃)にて行うことが好ましい。ロールプレス機のロール温度を常温(15〜40℃)とするとよい。 Thereafter, the conductive fine particle-containing layer for the surface layer (3a) is compressed by a sheet press, a roll press or the like to form a compressed layer (3a) of conductive fine particles. By compressing, the contact points between the conductive fine particles increase and the contact surface increases. For this reason, the coating strength increases and the electrical resistance value decreases. Excellent in conductivity, in order to obtain a conductive layer excellent in film strength, compression is preferably carried out at 44N / mm 2 or more compression force, more preferably 135N / mm 2 or more compression strength, 180 N / mm 2 or more A compressive force is more preferable. Since the pressure resistance of the apparatus has to be increased as the compressive force is increased, generally a compressive force of up to 1000 N / mm 2 is appropriate. Moreover, it is preferable to perform compression at normal temperature (15-40 degreeC). The roll temperature of the roll press machine is preferably normal temperature (15 to 40 ° C.).

次に、圧縮された表面層(3a)の上に、同様の方法で、内部層(3b)用の導電性微粒子の分散液を塗布、乾燥し、導電性微粒子含有層を形成する。その後、前記内部層(3b)用の導電性微粒子含有層を、同様の方法で、圧縮し、導電性微粒子の圧縮層(3b)を形成する。   Next, a conductive fine particle dispersion for the inner layer (3b) is applied and dried on the compressed surface layer (3a) by the same method to form a conductive fine particle-containing layer. Thereafter, the conductive fine particle-containing layer for the inner layer (3b) is compressed by the same method to form a compressed layer (3b) of conductive fine particles.

中間層を設ける場合には、表面層(3a)の形成に続いて、中間層の塗布、乾燥、圧縮を行い、その後、内部層(3b)を形成するとよい。   In the case of providing the intermediate layer, it is preferable to form the surface layer (3a), then apply, dry, and compress the intermediate layer, and then form the inner layer (3b).

このようにして、2層以上の導電性微粒子の圧縮層からなる透明導電層(3) が形成される。導電性微粒子圧縮層の全体厚みは、用途にもよるが、0.5μm〜2.5μm程度、好ましくは1.0〜2.0μm程度とすればよい。なお、図1においては、透明導電層(3) の表面層(3a)及び内部層(3b)が概念的に表されている。両層(3a)(3b)の界面付近では、小径粒子(2a)と大径粒子(2b)とがある程度混在していると考えられる。   In this way, a transparent conductive layer (3) composed of a compressed layer of two or more conductive fine particles is formed. The total thickness of the conductive fine particle compressed layer may be about 0.5 μm to 2.5 μm, preferably about 1.0 to 2.0 μm, although it depends on the application. In FIG. 1, the surface layer (3a) and the inner layer (3b) of the transparent conductive layer (3) are conceptually represented. In the vicinity of the interface between the two layers (3a) and (3b), it is considered that small-sized particles (2a) and large-sized particles (2b) are mixed to some extent.

次に、透明導電層(3) 上に接着剤組成物からなる接着剤層(5) を形成する。   Next, an adhesive layer (5) made of an adhesive composition is formed on the transparent conductive layer (3).

前記接着剤組成物としては、硬化性化合物を含み、導電性フィルムの前記導電層(3) と導電層(3) が転写されるべき基材(6) の表面の双方に対して親和性があり、両者を強力に接着できる接着剤であれば、特に限定されることなく、公知の種々の接着剤を用いることができる。例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、イソシアネート系接着剤、シリコーン系接着剤等が挙げられる。得られた導電性微粒子の圧縮層(3) 中の導電性微粒子相互の間には空隙が存在しているので、前記接着剤組成物は圧縮層(3) 中に含浸する。   The adhesive composition contains a curable compound and has an affinity for both the conductive layer (3) of the conductive film and the surface of the substrate (6) to which the conductive layer (3) is to be transferred. There are no particular limitations as long as the adhesive can strongly bond both, and various known adhesives can be used. Examples include acrylic adhesives, epoxy adhesives, isocyanate adhesives, silicone adhesives, and the like. Since there are voids between the conductive fine particles in the compressed layer (3) of the obtained conductive fine particles, the adhesive composition is impregnated in the compressed layer (3).

前記接着剤組成物は、活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含んでいるものが好ましい。例えば、接着剤組成物は、高分子樹脂(P)と、前記活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物(C)(例えばアクリル系モノマー(M))とを含む。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、γ線、X線等が使用できるが、紫外線を用いる場合には、接着剤組成物はさらに光重合開始剤を含む。   The adhesive composition preferably contains a curable compound having an active energy ray reactive group. For example, the adhesive composition includes a polymer resin (P) and a curable compound (C) having the active energy ray reactive group (for example, an acrylic monomer (M)). As the active energy ray, ultraviolet rays, electron beams, γ rays, X-rays and the like can be used. When ultraviolet rays are used, the adhesive composition further contains a photopolymerization initiator.

高分子樹脂(P)成分と、硬化性化合物(C)(例えばアクリル系モノマー(M))とを併用して粘度調整することによって、粘着性を有しながら、紫外線等の活性エネルギー線照射によって硬化物となるような接着剤層を容易に形成できる。適度な粘着性を有していればよい。   By adjusting the viscosity by using the polymer resin (P) component and the curable compound (C) (for example, acrylic monomer (M)) in combination, it has adhesiveness and is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays. An adhesive layer that becomes a cured product can be easily formed. What is necessary is just to have moderate adhesiveness.

高分子樹脂(P)としてはアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、セルロース系樹脂などが挙げられる。アクリル系樹脂としては、公知のものを用いることができ、例えばアクリル樹脂103B、1BR−305(いずれも大成化工(株)製)等が挙げられる。   Examples of the polymer resin (P) include acrylic resins, silicone resins, epoxy resins, urethane resins, and cellulose resins. A publicly known thing can be used as acrylic resin, for example, acrylic resin 103B, 1BR-305 (all are the Taisei Kako Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

前記硬化性化合物(C)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する化合物である。硬化後の接着性成分の十分な硬度を得るため、前記硬化性化合物は、1つの分子内に2つ以上、好ましくは3つ以上の活性エネルギー線反応性基を含む多官能モノマーもしくはオリゴマーを含んでいることが好ましい。   The said curable compound (C) is a compound which has active energy ray reactive groups, such as a (meth) acryloyl group and a vinyl group. In order to obtain sufficient hardness of the adhesive component after curing, the curable compound contains a polyfunctional monomer or oligomer containing two or more, preferably three or more active energy ray reactive groups in one molecule. It is preferable that

前記硬化性化合物(C)は、好ましくはアクリル系モノマー(M)を含んでいる。アクリル系モノマー(M)としては、具体的には、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、3-(メタ)アクリロイルオキシグリセリンモノ(メタ)アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。また、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等も挙げられる。   The curable compound (C) preferably contains an acrylic monomer (M). Specific examples of the acrylic monomer (M) include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 3- (meth) acryloyloxyglycerin mono (meth) ) Acrylate and the like, but not necessarily limited thereto. Moreover, urethane acrylate, epoxy acrylate, etc. are also mentioned.

アクリル系モノマー(M)としては、公知のものを用いることができ、例えば、KAYARAD GPO-303 、KAYARAD TMPTA 、KAYARAD THE-330 (いずれも日本化薬(株)製)等の3官能以上のアクリル系モノマーが挙げられる。   As the acrylic monomer (M), known ones can be used. For example, trifunctional or higher acrylics such as KAYARAD GPO-303, KAYARAD TMPTA, and KAYARAD THE-330 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Based monomers.

また、前記硬化性化合物(C)として、ビニル基を有する化合物を用いてもよい。ビニル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Moreover, you may use the compound which has a vinyl group as said curable compound (C). Examples of the compound having a vinyl group include ethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, ethylene oxide-modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide-modified bisphenol A divinyl ether, Examples include, but are not necessarily limited to, pentaerythritol trivinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, ditrimethylolpropane polyvinyl ether, and the like.

前記接着剤組成物中において、高分子樹脂(P)と硬化性化合物(C)(好ましくはアクリル系モノマー(M))との混合比率によって、粘度、タック性、及び塗膜の硬化後の硬さが変化する。高分子樹脂(P)が多くなると接着剤組成物の粘度が高くなる。高分子樹脂(P)が適度な比率であれば、良好なタック性が得られ、硬化性化合物(C)(好ましくはアクリル系モノマー(M))が多いほど硬化後の硬さが得られる。これらのことを考慮して、高分子樹脂(P)と硬化性化合物(C)との配合比率を適宜決定すればよく、硬化性化合物(C)としてアクリル系モノマー(M)を用いる場合には、高分子樹脂(P)とアクリル系モノマー(M)とは、不揮発分として重量比率P/M=0/100〜80/20で含まれることが好ましく、P/M=1/99〜50/50で含まれることがより好ましく、P/M=2/98〜30/70で含まれることがさらに好ましい。   In the adhesive composition, depending on the mixing ratio of the polymer resin (P) and the curable compound (C) (preferably acrylic monomer (M)), the viscosity, tackiness, and hardness after curing of the coating film are increased. Changes. When the amount of the polymer resin (P) increases, the viscosity of the adhesive composition increases. If the polymer resin (P) is in an appropriate ratio, good tackiness can be obtained, and the more curable compound (C) (preferably acrylic monomer (M)), the more hardened after curing. In consideration of these, the blending ratio of the polymer resin (P) and the curable compound (C) may be appropriately determined. When the acrylic monomer (M) is used as the curable compound (C) The polymer resin (P) and the acrylic monomer (M) are preferably contained in a weight ratio P / M = 0/100 to 80/20 as a non-volatile content, and P / M = 1/99 to 50 / 50 is more preferable, and P / M = 2/98 to 30/70 is more preferable.

前記接着剤組成物中には、通常、さらに光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができ、例えば、 KAYACURE DETX-S(日本化薬(株)製)が挙げられる。光重合開始剤の量は、アクリル系樹脂(P)とアクリル系モノマー(M)を含む硬化性成分(C)との合計(P+C)重量に対して、0.01〜20重量%程度とすればよい。接着性成分が紫外線等の活性エネルギー線照射によって硬化することによって、転写用導電性フィルムを対象基材に接着させる際の生産性が高まる。また、光重合開始剤として、アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えた公知のものを用いてもよい。アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えたものとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂SD−318(大日本インキ化学工業(株)製)、XNR5535(長瀬産業(株)製)等が挙げられる。   The adhesive composition usually further contains a photopolymerization initiator. Various photopolymerization initiators can be used, and examples thereof include KAYACURE DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). The amount of the photopolymerization initiator is about 0.01 to 20% by weight based on the total (P + C) weight of the acrylic resin (P) and the curable component (C) containing the acrylic monomer (M). That's fine. When the adhesive component is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, productivity when the transfer conductive film is adhered to the target substrate is increased. Moreover, you may use the well-known thing which added the photoinitiator to the acrylic monomer as a photoinitiator. As what added the photoinitiator to the acryl-type monomer, ultraviolet curable resin SD-318 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. product), XNR5535 (Nagase Sangyo Co., Ltd. product), etc. are mentioned, for example.

本発明の転写用導電性フィルムの接着剤層(5) 上に剥離フィルムを付与し、使用時まで接着剤層面を保護してもよい。   A release film may be provided on the adhesive layer (5) of the transfer conductive film of the present invention to protect the adhesive layer surface until use.

接着剤層(5) の形成は、導電層(3) 上への接着剤組成物溶液の塗布、乾燥により行うことができる。接着剤組成物溶液の塗布は、特に限定されることなく、公知の方法により行うことができ、例えば、アンカー層の塗布で説明した方法と同様の塗布法によって行うことができる。塗布後に乾燥する。あるいは、別に用意した剥離処理された剥離用支持体上に接着剤組成物溶液を塗布、乾燥して接着剤層を形成し、剥離用支持体上のこの接着剤層と、支持体(1) 上の導電層(3) とが接するようにラミネートして接着(密着)させることによって、導電層(3) 上に接着剤層(5) を設けてもよい。この場合には、接着剤層(5) の形成と同時に、接着剤層上に剥離用支持体が付与され、使用時まで接着剤層面が保護される。   The adhesive layer (5) can be formed by applying an adhesive composition solution onto the conductive layer (3) and drying. Application of the adhesive composition solution is not particularly limited, and can be performed by a known method. For example, the adhesive composition solution can be applied by the same application method as that described in application of the anchor layer. Dry after application. Alternatively, the adhesive composition solution is applied onto a separately prepared release support that has been subjected to a release treatment, and dried to form an adhesive layer, and this adhesive layer on the release support and the support (1) The adhesive layer (5) may be provided on the conductive layer (3) by laminating and adhering (adhering) so that the upper conductive layer (3) is in contact therewith. In this case, simultaneously with the formation of the adhesive layer (5), a peeling support is provided on the adhesive layer, and the adhesive layer surface is protected until use.

導電層(3) 中には、接着剤組成物溶液の一部が含浸される。接着剤層(5) の厚みは、接着剤のタック性などによるが、硬化前において、1μm〜10μm程度とすればよく、2μm〜10μmが好ましく、2μm〜5μmがより好ましい。接着剤層(5) 厚みが1μm未満であると、対象基材(6) に貼り合せた時に、基材(6) との密着性が低下する傾向がある。また10μmを超えると、接着層の硬化不足や硬化後の基材(6) (透明導電体)の反りが大きくなる傾向がある。なお、硬化後の接着層(5) の厚みは、硬化前の接着剤層(5) の厚みと変わらない。   A part of the adhesive composition solution is impregnated in the conductive layer (3). The thickness of the adhesive layer (5) depends on the tackiness of the adhesive, but may be about 1 μm to 10 μm before curing, preferably 2 μm to 10 μm, and more preferably 2 μm to 5 μm. When the thickness of the adhesive layer (5) is less than 1 μm, the adhesion to the base material (6) tends to be lowered when it is bonded to the target base material (6). On the other hand, when the thickness exceeds 10 μm, there is a tendency that the adhesive layer is insufficiently cured and warpage of the substrate (6) (transparent conductor) after curing is increased. The thickness of the adhesive layer (5) after curing is not different from the thickness of the adhesive layer (5) before curing.

以上のようにして、本発明の転写用導電性フィルムを製造することができる。   As described above, the conductive film for transfer of the present invention can be produced.

次に、本発明の透明導電体について説明する。
図2は、透明導電体の層構成例を示す断面図である。図2において、基材(6) 表面上に接着層(5) を介して導電性微粒子の圧縮層からなる透明導電層(3) が付与されている。透明導電層(3) は、基材(6) とは反対側の表面に位置している表面層(3a)と、層(3a)と接しており且つ接着層(5) と接している内部層(3b)とを含む2層の導電性微粒子の圧縮層からなる。
Next, the transparent conductor of the present invention will be described.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a layer configuration example of a transparent conductor. In FIG. 2, a transparent conductive layer (3) composed of a compressed layer of conductive fine particles is provided on the surface of a substrate (6) via an adhesive layer (5). The transparent conductive layer (3) has a surface layer (3a) located on the surface opposite to the substrate (6), and an inner surface in contact with the layer (3a) and in contact with the adhesive layer (5). It consists of a compressed layer of two conductive fine particles including the layer (3b).

基材(6) は、可視光に対して透明な樹脂材料で構成されるものであれば特に限定されない。通常は、可撓性の樹脂シートないしは樹脂フィルムを用いる。また、基材(6) は、接着剤層を硬化させる際に使用する活性エネルギー線を透過させるものが好ましい。このような基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム(JSR(株)製アートン、日本ゼオン(株)製ゼオノアなど)、ポリエーテルサルフォン(PES)等が挙げられる。また、これらの樹脂フィルムの他に、基材として、ガラス板を用いることもできる。基材としては、樹脂のみからなるものが好ましい。可撓性の樹脂フィルムを用いると、基材がガラス板である場合と比較して、透明導電体は透明性、屈曲性、軽量化に優れるものとなる。従って、可撓性の樹脂フィルムは、例えば透明導電体をタッチパネルに用いる場合には特に有効である。   The substrate (6) is not particularly limited as long as it is composed of a resin material that is transparent to visible light. Usually, a flexible resin sheet or resin film is used. Further, the substrate (6) is preferably one that transmits active energy rays used when the adhesive layer is cured. Examples of such a substrate include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate films, acrylic films, norbornene films (Arton manufactured by JSR Corporation, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) Zeonore etc.), polyethersulfone (PES) and the like. In addition to these resin films, a glass plate can also be used as a substrate. As a base material, what consists only of resin is preferable. When a flexible resin film is used, the transparent conductor is excellent in transparency, flexibility, and weight reduction as compared with the case where the substrate is a glass plate. Therefore, a flexible resin film is particularly effective when a transparent conductor is used for a touch panel, for example.

本発明の透明導電体を得るには、まず、上述の転写用導電性フィルムの導電層(3) を支持体(1) から対象基材(6) 上に転写する。すなわち、導電性フィルムを対象基材(6) 面に、支持体(1) が外側となるように導電性フィルムの接着剤層(5) を介して貼り付け、貼り付け後、接着剤層(5) を活性エネルギー線照射(好ましくは紫外線照射)により硬化させ、その後、導電性フィルムの支持体(1) を剥離する。また、対象基材(6) 面上にも予め接着剤層(5) の接着性成分と同様の接着剤を塗布しておいてもよい。   In order to obtain the transparent conductor of the present invention, first, the conductive layer (3) of the above-mentioned transfer conductive film is transferred from the support (1) onto the target substrate (6). That is, the conductive film is attached to the surface of the target substrate (6) via the adhesive layer (5) of the conductive film so that the support (1) is on the outside, and after bonding, the adhesive layer ( 5) is cured by active energy ray irradiation (preferably ultraviolet irradiation), and then the support (1) of the conductive film is peeled off. Further, an adhesive similar to the adhesive component of the adhesive layer (5) may be applied to the surface of the target substrate (6) in advance.

活性エネルギー線照射による接着剤層(5) の硬化と同時に、導電層(3) 中に含浸している前記接着性成分が硬化させられるため、硬化した接着層(5) と前記導電層(3) との密着性もさらに強くなる。表面層(3a)と内部層(3b)との密着性も非常に高い。表面層(3a)と内部層(3b)との間に中間層が存在する場合にも、これら各層間の密着性も非常に高い。そのため、接着剤層(5) を硬化させた後の導電性フィルムの支持体(1) の剥離に際しては、支持体アンカー層(1b)と導電層(3) との間で剥離が起こる。透明導電層(3) 表面は露出状態である。   Since the adhesive component impregnated in the conductive layer (3) is cured simultaneously with the curing of the adhesive layer (5) by active energy ray irradiation, the cured adhesive layer (5) and the conductive layer (3 ) Will be even stronger. The adhesion between the surface layer (3a) and the inner layer (3b) is very high. Even when an intermediate layer exists between the surface layer (3a) and the inner layer (3b), the adhesion between these layers is also very high. Therefore, when the support (1) of the conductive film after the adhesive layer (5) is cured is peeled, peeling occurs between the support anchor layer (1b) and the conductive layer (3). The surface of the transparent conductive layer (3) is exposed.

導電層の転写に際して、対象基材を予め表面処理しておいてもよい。例えば、転写対象基材がガラスの場合、その表面をシランカップリング剤等で表面処理してもよい。   When transferring the conductive layer, the target substrate may be surface-treated in advance. For example, when the transfer target substrate is glass, the surface thereof may be surface treated with a silane coupling agent or the like.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
図1に示すように、支持体本体(1a)上にアンカー樹脂層(1b)が形成された支持体(1) 、透明導電層(3) [表面層(3a)と内部層(3b)]及び光硬化性接着剤層(5) をこの順で有する転写用導電性フィルムを次の手順で作製した。
[Example 1]
As shown in FIG. 1, a support (1) having an anchor resin layer (1b) formed on a support body (1a), a transparent conductive layer (3) [surface layer (3a) and inner layer (3b)] And the electroconductive film for transfer which has a photocurable adhesive bond layer (5) in this order was produced in the following procedure.

(圧縮時に用いる転写防止フィルムの作製)
50μm厚のPETフィルム(T100−50、三菱化学ポリエステルフィルム製)の片面にコロナ処理を施した。シリコーンハードコート液KP−854(信越化学工業製)をPETフィルムのコロナ処理された面に塗布、乾燥し、70℃、48時間で硬化させ、0.4μm厚のシリコーンハードコートを形成した。このようにして、圧縮時の転写防止フィルムを予め準備した。
(Preparation of anti-transfer film used during compression)
One side of a 50 μm thick PET film (T100-50, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film) was subjected to corona treatment. A silicone hard coat liquid KP-854 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was applied to the corona-treated surface of the PET film, dried, and cured at 70 ° C. for 48 hours to form a 0.4 μm thick silicone hard coat. In this way, an anti-transfer film during compression was prepared in advance.

(アンカー樹脂層の形成)
硬いアンカー樹脂層用にシリコーン樹脂を用いた。シリコーン樹脂溶液フレッセラN−180(パナソニック電工株式会社製)のA液100重量部とB液300重量部を混合し、アンカー樹脂層用の塗布液とした。50μm厚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(1a)(東レ株式会社製)の片面にコロナ処理を施した。PETフィルム(1a)のコロナ処理された面に前記塗布液を塗布、乾燥し、70℃、24時間で硬化させ、0.7μm厚のシリコーン樹脂層(1b)を形成した。
(Formation of anchor resin layer)
Silicone resin was used for the hard anchor resin layer. 100 parts by weight of liquid A and 300 parts by weight of liquid B of silicone resin solution Fresella N-180 (manufactured by Panasonic Electric Works Co., Ltd.) were mixed to obtain a coating liquid for the anchor resin layer. One side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (1a) (manufactured by Toray Industries, Inc.) was subjected to corona treatment. The coating solution was applied to the corona-treated surface of the PET film (1a), dried, and cured at 70 ° C. for 24 hours to form a 0.7 μm-thick silicone resin layer (1b).

(表面導電層の形成)
平均粒径10nmのITO微粒子(BET:63m2 /g)100重量部にエタノール300重量部を加え、メディアをジルコニアビーズとして分散機にて分散した。得られた塗液(ITO粉の固形分濃度25重量%)を前記アンカー樹脂層(1b)上に、バーコーターを用いて塗布し、50℃の温風を送って乾燥した。得られたフィルムを圧縮前ITOフィルムと称する。
(Formation of surface conductive layer)
300 parts by weight of ethanol was added to 100 parts by weight of ITO fine particles (BET: 63 m 2 / g) having an average particle diameter of 10 nm, and the media was dispersed as zirconia beads with a disperser. The obtained coating liquid (IT powder solid content concentration 25 wt%) was applied onto the anchor resin layer (1b) using a bar coater, and dried by sending hot air of 50 ° C. The obtained film is called an ITO film before compression.

まず、圧縮圧力の確認のための予備実験を行った。
一対の直径140mmの金属ロール(ロール表面にハードクロムめっき処理が施されたもの)を備えるロールプレス機を用いて、ロールを回転させず且つ前記ロールの加熱を行わないで室温(23℃)にて、前記圧縮前ITOフィルムを挟み圧縮した。この際、前記圧縮前ITOフィルムのITO含有塗膜面とロール面との間には、ITO含有塗膜のITO粒子がロール側に転写することを防止するために、前記転写防止フィルムを該転写防止フィルムのハードコート面と前記ITO含有塗膜面とが接するように重ねて介在させた。この時、フィルム幅方向の単位長さ当たりの圧力は660N/mmであった。次に、圧力を解放し、圧縮された部分のフィルム長手方向の長さを調べたら1.9mmであった。この結果から、単位面積当たりに347N/mm2 の圧力で圧縮したことになる。
First, a preliminary experiment for confirming the compression pressure was performed.
Using a roll press machine equipped with a pair of metal rolls having a diameter of 140 mm (the roll surface is subjected to hard chrome plating), the roll is not rotated and the roll is heated to room temperature (23 ° C.) without heating. The ITO film before compression was sandwiched and compressed. At this time, in order to prevent the ITO particles of the ITO-containing coating film from being transferred to the roll side between the ITO-containing coating film surface and the roll surface of the pre-compression ITO film, the transfer prevention film is transferred. The hard coat surface of the prevention film and the ITO-containing coating film surface were overlapped so as to contact each other. At this time, the pressure per unit length in the film width direction was 660 N / mm. Next, when the pressure was released and the length of the compressed portion in the longitudinal direction of the film was examined, it was 1.9 mm. From this result, it was compressed at a pressure of 347 N / mm 2 per unit area.

次に、予備実験に使用したものと同様の前記圧縮前ITOフィルムを金属ロール間に挟み660N/mmの圧力で圧縮し、ロールを回転させ5m/分の送り速度で圧縮した。このようにして、硬いアンカー樹脂層(1b)上に圧縮されたITO表面層(3a)を形成した。ITO表面層(3a)の厚みは0.5μmであった。   Next, the ITO film before compression similar to that used in the preliminary experiment was sandwiched between metal rolls and compressed at a pressure of 660 N / mm, and the roll was rotated and compressed at a feed rate of 5 m / min. In this way, a compressed ITO surface layer (3a) was formed on the hard anchor resin layer (1b). The thickness of the ITO surface layer (3a) was 0.5 μm.

(内部導電層の形成)
平均粒径25nmのITO微粒子(BET:30m2 /g)100重量部にエタノール300重量部を加え、メディアをジルコニアビーズとして分散機にて分散した。得られた塗液(ITO粉の固形分濃度25重量%)を前記ITO表面層(3a)上に、バーコーターを用いて塗布し、50℃の温風を送って乾燥した。
(Formation of internal conductive layer)
300 parts by weight of ethanol was added to 100 parts by weight of ITO fine particles (BET: 30 m 2 / g) having an average particle diameter of 25 nm, and the media was dispersed as zirconia beads with a disperser. The obtained coating solution (solid content concentration of ITO powder 25% by weight) was applied onto the ITO surface layer (3a) using a bar coater, and dried by sending hot air of 50 ° C.

次に、表面導電層の圧縮と同様の操作で、上記ITOフィルムを金属ロール間に挟み660N/mmの圧力で圧縮し、ロールを回転させ5m/分の送り速度で圧縮した。このようにして、ITO表面層(3a)上に圧縮されたITO内部層(3b)を形成した。ITO内部層(3b)の厚みは0.5μmであった。   Next, by the same operation as the compression of the surface conductive layer, the ITO film was sandwiched between metal rolls and compressed at a pressure of 660 N / mm, and the roll was rotated and compressed at a feed rate of 5 m / min. In this way, a compressed ITO inner layer (3b) was formed on the ITO surface layer (3a). The thickness of the ITO inner layer (3b) was 0.5 μm.

(光硬化性接着剤層の形成)
次に、光硬化性アクリル樹脂組成物の溶液をバーコート法により塗布した。ここで、アクリル樹脂組成物の溶液は、アクリルポリマー1BR−305(固形分:39.5重量%、大成化工株式会社製)30質量部と、紫外線硬化型樹脂液XNR5535(長瀬産業株式会社製)50質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製)20質量部と、光重合開始剤:イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)3質量部と、メチルエチルケトン(MEK)150質量部とを混合して調製したものであった。
(Formation of photocurable adhesive layer)
Next, the photocurable acrylic resin composition solution was applied by a bar coating method. Here, the solution of the acrylic resin composition is 30 parts by mass of acrylic polymer 1BR-305 (solid content: 39.5% by weight, manufactured by Taisei Kako Co., Ltd.) and ultraviolet curable resin liquid XNR5535 (manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.). 50 parts by mass, 20 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 3 parts by mass of photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and methyl ethyl ketone (MEK) It was prepared by mixing 150 parts by mass.

アクリル樹脂組成物溶液の塗布後、MEKを揮発させて3μm厚の接着剤層(5) を形成した。その後、この接着剤層(5) 上に剥離PETフィルムA314(帝人株式会社製)をラミネートし、転写用導電性フィルム(10)とした。   After application of the acrylic resin composition solution, MEK was volatilized to form an adhesive layer (5) having a thickness of 3 μm. Thereafter, a release PET film A314 (manufactured by Teijin Limited) was laminated on the adhesive layer (5) to obtain a conductive film for transfer (10).

(転写による基材への透明導電層の付与)
得られた転写用導電性フィルムの剥離PETフィルムを剥がして、接着剤層(5) を露出させ、接着剤層(5) が100μm厚のPETフィルム基材U34(東レ株式会社製)(6) に接するようにラミネーターにて貼り合わせた。そして、メタルハライドランプを光源とする積算照度量400mJ/cm2 の紫外線を、PETフィルム基材(6) を通して接着剤層(5) に照射することにより、アクリル樹脂組成物を硬化させ、硬化した接着層(5) を得た。その後、支持体PETフィルム(1) を剥がした。シリコーン樹脂層(1b)と支持体本体(1a)との密着性は、シリコーン樹脂層(1b)とITO圧縮層(3) との密着性よりも高く、シリコーン樹脂層(1b)は支持体本体(1a)と共に剥がされた。PETフィルム基材(6) 上に露出したITO圧縮層(3) が形成された。図2に示すように、PETフィルム基材(6) 上に硬化した接着層(5) を介してITO圧縮層(3) [表面層(3a)と内部層(3b)]が付与された。このようにして、ITO透明導電層を有する透明導電体(20)を得た。
(Applying transparent conductive layer to substrate by transfer)
The peeled PET film of the obtained conductive film for transfer is peeled off to expose the adhesive layer (5), and the adhesive layer (5) is 100 μm thick PET film substrate U34 (manufactured by Toray Industries, Inc.) (6) It was pasted together with a laminator so that it touched. Then, the acrylic resin composition is cured by irradiating the adhesive layer (5) through the PET film substrate (6) with ultraviolet rays having an integrated illuminance of 400 mJ / cm 2 using a metal halide lamp as a light source. Layer (5) was obtained. Thereafter, the support PET film (1) was peeled off. The adhesion between the silicone resin layer (1b) and the support body (1a) is higher than the adhesion between the silicone resin layer (1b) and the ITO compression layer (3), and the silicone resin layer (1b) is the support body. It was peeled off with (1a). An exposed ITO compressed layer (3) was formed on the PET film substrate (6). As shown in FIG. 2, an ITO compressed layer (3) [surface layer (3a) and inner layer (3b)] was applied to the PET film substrate (6) through a cured adhesive layer (5). In this way, a transparent conductor (20) having an ITO transparent conductive layer was obtained.

(タッチパネルの作製)
ITO透明導電層を有する透明導電体(20)を上部電極、ドットスペーサーを印刷したガラスITOを下部電極としてそれぞれを対向させてタッチパネルを作製した。
(Production of touch panel)
A touch panel was prepared by using a transparent conductor (20) having an ITO transparent conductive layer as an upper electrode and glass ITO printed with a dot spacer as a lower electrode, facing each other.

[実施例2〜21]
表面層(3a)のITO微粒子の平均粒径及び膜厚、及び内部層(3b)のITO微粒子の平均粒径及び膜厚をそれぞれ表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、転写用導電性フィルムを得た。得られた転写用導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にして、PETフィルム基材への透明導電層の転写を行い、透明導電体を得た。そして、タッチパネルを作製した。
[Examples 2 to 21]
Example 1 except that the average particle diameter and film thickness of the ITO fine particles of the surface layer (3a) and the average particle diameter and film thickness of the ITO fine particles of the inner layer (3b) were changed as shown in Table 1, respectively. Thus, a conductive film for transfer was obtained. Using the obtained transfer conductive film, the transparent conductive layer was transferred to a PET film substrate in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductor. And the touch panel was produced.

[実施例22〜23]
表面層(3a)のITO微粒子の平均粒径及び膜厚、及び内部層(3b)のITO微粒子の平均粒径及び膜厚をそれぞれ表2に示すように変更し、さらに表面層(3a)と内部層(3b)との間に中間導電層を形成した以外は、実施例1と同様にして、転写用導電性フィルムを得た。得られた転写用導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にして、PETフィルム基材への透明導電層の転写を行い、透明導電体を得た。そして、タッチパネルを作製した。
[Examples 22 to 23]
The average particle diameter and film thickness of the ITO fine particles of the surface layer (3a) and the average particle diameter and film thickness of the ITO fine particles of the inner layer (3b) were changed as shown in Table 2, respectively, and the surface layer (3a) and A conductive film for transfer was obtained in the same manner as in Example 1 except that an intermediate conductive layer was formed between the inner layer (3b). Using the obtained transfer conductive film, the transparent conductive layer was transferred to a PET film substrate in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductor. And the touch panel was produced.

[比較例1〜8]
表面層(3a)のITO微粒子の平均粒径及び膜厚、及び内部層(3b)のITO微粒子の平均粒径及び膜厚をそれぞれ表3に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、転写用導電性フィルムを得た。得られた転写用導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にして、PETフィルム基材への透明導電層の転写を行い、透明導電体を得た。そして、タッチパネルを作製した。なお、比較例6では、導電層は単層(ITO微粒子の平均粒径25μm、膜厚1.0μm)とした。
[Comparative Examples 1-8]
Example 1 except that the average particle diameter and film thickness of the ITO fine particles of the surface layer (3a) and the average particle diameter and film thickness of the ITO fine particles of the inner layer (3b) were changed as shown in Table 3, respectively. Thus, a conductive film for transfer was obtained. Using the obtained transfer conductive film, the transparent conductive layer was transferred to a PET film substrate in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductor. And the touch panel was produced. In Comparative Example 6, the conductive layer was a single layer (average particle diameter of ITO fine particles 25 μm, film thickness 1.0 μm).

[性能評価]
次のようにして、各透明導電体について評価を行った。
[Performance evaluation]
Each transparent conductor was evaluated as follows.

(表面の電気抵抗値)
各透明導電体の初期のものと、以下に示す摺動試験後のものについて、表面の電気抵抗値(Ω/□)を抵抗測定装置(ロレスタEP、三菱化学(株)製)を用いて4端子法で測定した。
(Surface electrical resistance)
Using the resistance measuring device (Loresta EP, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), the electrical resistance value (Ω / □) of the surface of each of the transparent conductors at the initial stage and those after the sliding test shown below is 4 It was measured by the terminal method.

(摺動試験)
得られた透明導電体の透明導電層の表面に、5mm×45mm、厚さ100μmの両面粘着テープ4本を、50mm×50mmの正方形の枠が形成されるように貼り付けた。貼り付けられた両面粘着テープの枠に位置合わせしながら、50mm×50mmのガラス板を両面粘着テープに貼り合わせた。このようにして、両面粘着テープをスペーサとして透明導電体の透明導電層とガラス板とが対向して配置された試験用タッチパネルを得た。
作製したタッチパネルのPETフィルム基材側の表面を、ペン先が曲率半径0.8mmの尖端部を有するポリアセタール製のタッチペンにて、ガラス板側に押圧した状態でペン先を往復移動させることによって摺動試験を行った。摺動試験において、タッチペンには250gの荷重を加え、同一部分を摺動し、移動距離30mm、往復移動回数20万回とした。
(Sliding test)
Four double-sided pressure-sensitive adhesive tapes having a size of 5 mm × 45 mm and a thickness of 100 μm were attached to the surface of the transparent conductive layer of the obtained transparent conductor so that a square frame of 50 mm × 50 mm was formed. A 50 mm × 50 mm glass plate was bonded to the double-sided pressure-sensitive adhesive tape while being aligned with the frame of the attached double-sided pressure-sensitive adhesive tape. In this way, a test touch panel was obtained in which the transparent conductive layer of the transparent conductor and the glass plate were arranged to face each other using the double-sided adhesive tape as a spacer.
The surface of the prepared touch panel on the PET film substrate side is slid by reciprocating the pen tip while being pressed against the glass plate with a polyacetal touch pen having a tip with a radius of curvature of 0.8 mm. A dynamic test was performed. In the sliding test, a load of 250 g was applied to the touch pen, the same part was slid, the moving distance was 30 mm, and the number of reciprocating movements was 200,000 times.

(抵抗変化率)
各透明導電体について、初期(摺動試験前)の表面電気抵抗値Ri と、摺動試験後の表面電気抵抗値Rt とから、次式により抵抗変化率を求めた。抵抗変化率が小さいほど、耐久性に優れている。
抵抗変化率=Rt /Ri
(Resistance change rate)
For each transparent conductor, the rate of change in resistance was obtained from the following equation from the initial surface resistance value Ri (before the sliding test) and the surface electric resistance value Rt after the sliding test. The smaller the resistance change rate, the better the durability.
Resistance change rate = Rt / Ri

得られた結果を表1〜3に示す。   The obtained results are shown in Tables 1-3.

Figure 2011171041
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Figure 2011171041
Figure 2011171041

Figure 2011171041
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表1〜3より、各実施例では、いずれも初期の電気抵抗値は低く、摺動試験後の抵抗変化も少なく、耐久性に優れていた。   From Tables 1 to 3, in each Example, the initial electrical resistance value was low, the resistance change after the sliding test was small, and the durability was excellent.

Claims (8)

基材と、前記基材上の接着層と、前記接着層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、
前記接着層は、硬化性化合物を少なくとも含む接着剤組成物の硬化物層であり、
前記導電層は、前記基材とは反対側の表面に位置している表面層と、前記接着層と接している内部層とを含む少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層からなり、
前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層は、それぞれ平均粒径の異なる導電性微粒子から構成されており、
前記表面層は、前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層のうち、最も小さい平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている、透明導電体。
A transparent conductor having a substrate, an adhesive layer on the substrate, and a transparent conductive layer on the adhesive layer,
The adhesive layer is a cured product layer of an adhesive composition containing at least a curable compound,
The conductive layer comprises a compressed layer of at least two conductive fine particles including a surface layer located on the surface opposite to the substrate and an inner layer in contact with the adhesive layer,
The compressed layer of at least two layers of conductive fine particles is composed of conductive fine particles having different average particle diameters, respectively.
The said surface layer is a transparent conductor comprised from the conductive fine particle which has the smallest average particle diameter among the compression layers of the said at least 2 layer of conductive fine particle.
前記表面層を構成する導電性微粒子の平均粒径は、10〜20nmである、請求項1に記載の透明導電体。   The transparent conductor according to claim 1, wherein an average particle diameter of the conductive fine particles constituting the surface layer is 10 to 20 nm. 前記表面層は、0.2〜0.7μmの厚みを有する、請求項1又は2に記載の透明導電体。   The transparent conductor according to claim 1, wherein the surface layer has a thickness of 0.2 to 0.7 μm. 前記内部層を構成する導電性微粒子の平均粒径は、25〜80nmである、請求項1〜3のうちのいずれかに記載の透明導電体。   The transparent conductor in any one of Claims 1-3 whose average particle diameter of the electroconductive fine particles which comprise the said inner layer is 25-80 nm. 前記内部層は、0.3〜1.3μmの厚みを有する、請求項1〜4のうちのいずれかに記載の透明導電体。   The transparent conductor according to claim 1, wherein the inner layer has a thickness of 0.3 to 1.3 μm. 前記導電性微粒子は、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる導電性無機微粒子である、請求項1〜5のうちのいずれかに記載の透明導電体。   The conductive fine particles include indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide, and aluminum. Conductive inorganic fine particles selected from the group consisting of doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide, and cadmium oxide. The transparent conductor according to any one of 5. 支持体と、前記支持体上の前記支持体とは剥離可能な透明導電層と、前記透明導電層上の接着剤層とを少なくとも含む転写用導電性フィルムであって、
前記接着剤層は、硬化性化合物を少なくとも含む接着剤組成物からなり、
前記導電層は、前記支持体に接している層と、前記接着剤層に接している層とを含む少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層からなり、
前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層は、それぞれ平均粒径の異なる導電性微粒子から構成されており、
前記支持体に接している層は、前記少なくとも2層の導電性微粒子の圧縮層のうち、最も小さい平均粒径を有する導電性微粒子から構成されている、転写用導電性フィルム。
A conductive film for transfer comprising at least a support, a transparent conductive layer peelable from the support on the support, and an adhesive layer on the transparent conductive layer;
The adhesive layer is made of an adhesive composition containing at least a curable compound,
The conductive layer comprises a compressed layer of at least two conductive fine particles including a layer in contact with the support and a layer in contact with the adhesive layer,
The compressed layer of at least two layers of conductive fine particles is composed of conductive fine particles having different average particle diameters, respectively.
The conductive film for transfer, wherein the layer in contact with the support is composed of conductive fine particles having the smallest average particle diameter among the compressed layers of the at least two conductive fine particles.
請求項1に記載の透明導電体を製造する方法であって、
基材表面に、請求項7に記載の転写用導電性フィルムを、前記フィルムの前記接着剤層を介して前記支持体が外側になるようにして貼り付け、貼り付け後に前記接着剤層を硬化させ、その後、前記支持体を剥離することを含む、透明導電体の製造方法。
A method for producing the transparent conductor according to claim 1, comprising:
The conductive film for transfer according to claim 7 is attached to the surface of the base material with the support on the outside through the adhesive layer of the film, and the adhesive layer is cured after the application. And then peeling the support. A method for producing a transparent conductor.
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