JP5055837B2 - Light emitting device - Google Patents
Light emitting device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5055837B2 JP5055837B2 JP2006147123A JP2006147123A JP5055837B2 JP 5055837 B2 JP5055837 B2 JP 5055837B2 JP 2006147123 A JP2006147123 A JP 2006147123A JP 2006147123 A JP2006147123 A JP 2006147123A JP 5055837 B2 JP5055837 B2 JP 5055837B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- hole
- emitting device
- light
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/49105—Connecting at different heights
- H01L2224/49107—Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
Description
この発明は、液晶のバックライト光源や、各種表示装置(ディスプレイ)、センサ光源などに利用される発光装置の改良に関するものである。 The present invention relates to an improvement of a light-emitting device used for a liquid crystal backlight source, various display devices (displays), sensor light sources, and the like.
各種光源として使用される発光装置には、発光ダイオード(以下、「LED」という)や半導体レーザなどの発光素子が利用されている。このような発光素子は、通電により発光する際に熱を生じる。特に高精細な表示装置などを得ようとする場合に、これら発光素子を搭載した発光装置を基板等に高密度に実装すると、発光素子が生成する熱により装置自体の特性が悪化したり、周囲の部材や部品に熱的悪影響を与えることになる。 Light emitting devices used as various light sources use light emitting elements such as light emitting diodes (hereinafter referred to as “LEDs”) and semiconductor lasers. Such a light emitting element generates heat when it emits light when energized. In particular, when trying to obtain a high-definition display device, etc., if a light-emitting device equipped with these light-emitting elements is mounted on a substrate or the like at a high density, the characteristics of the device itself may deteriorate due to heat generated by the light-emitting elements, Adversely affect the members and parts.
そこで、図4に示すような発光装置1も提案されている(特許文献1、図1参照)。
図4において、発光装置1は、積層基板2と、積層基板2内に配置され、該積層基板2よりも高い熱伝導率を有する放熱部材3と、該放熱部材3の上に接着部材6を用いて接合されたLED素子4と、該LED素子4の周囲を囲むように配置され、LED素子4からの光を上方に反射する反射面3aを備えるパッケージ3と、LED素子4を封止するモールド樹脂とを有している。
Therefore, a light emitting device 1 as shown in FIG. 4 has also been proposed (see Patent Document 1 and FIG. 1).
In FIG. 4, the light emitting device 1 includes a laminated substrate 2, a
このような発光装置1は、LED素子4の発光により生成される熱が放熱部材3に伝えられ、該放熱部材3から図示しない実装基板などへ放散されるので、熱による装置自体の特性の悪化や、周囲の部材や部品に対する熱的悪影響を防止できるようにしたものである。
In such a light emitting device 1, heat generated by light emission of the
本発明は、貫通孔を有する絶縁性の基体と、前記基体より高い熱伝導率を有し、前記貫通孔から上面が突出するように挿入された絶縁性の放熱体と、前記上面に形成された反射金属膜と、前記反射金属膜上に実装された発光素子とを有し、前記放熱体および前記貫通孔は、それぞれ下方側が拡径していて、前記貫通孔の下方の貫通孔は、前記貫通孔の上方の貫通孔よりも大きな内径を有するとともに、内径の変更される箇所で下向き段部が設けられた段付き孔であり、前記放熱体は、前記下方の貫通孔の内径よりも僅かに小さな外形備えた第1の部分と、該第1の部分より上方に位置して、該第1の部分よりも小さな第2の部分とを有していて、該第2の部分の上面には上向き段部が形成されており、前記貫通孔の下向き段部と、前記放熱体の上向き段部との間には、接着部材が適用されることにより固定されており、かつ、前記絶縁性の基体の下部の開口である前記下方の貫通孔の内縁と、前記放熱体の第2の部分の外縁との間には僅かな間隙が設けられていいて、さらに、前記第2の部分は、周囲を囲まれない部分となるように、前記基体の上面よりも上方に突出していることを特徴とする。
The present invention is formed on the upper surface, an insulating base having a through hole, an insulating radiator having a higher thermal conductivity than the base and inserted so that the upper surface protrudes from the through hole. The reflective metal film, and a light emitting element mounted on the reflective metal film, the radiator and the through hole each have a lower diameter, and the through hole below the through hole is The stepped hole has a larger inner diameter than the through hole above the through hole, and is provided with a downward stepped portion at a location where the inner diameter is changed, and the heat radiator is larger than the inner diameter of the lower through hole. A first portion having a slightly smaller profile; and a second portion located above the first portion and smaller than the first portion, the upper surface of the second portion An upward stepped portion is formed in the through hole, and the heat sink An adhesive member is fixed between the upward stepped portion and the inner edge of the lower through-hole, which is an opening in the lower portion of the insulating base, and the second of the radiator. between the outer edge portions of they have a slight clearance is provided, further, the second portion, so that the portion not surrounded, that protrudes above the upper surface of the substrate It is characterized by.
ところが、特許文献1の発光装置1においては、放熱部材3が熱効率の高い材料として金属材料を用いて形成されている場合には、大きな電流が流れた場合には、破壊されるおそれがある。
つまり、該LED素子4に大電流を流すと、その分多量の熱が生成され、その熱が放熱部材3に伝えられる。放熱部材3は、この熱を図示しない2次基板、すなわち、実装基板に伝えると同時に、当該熱の影響で、その熱膨張係数にしたがって、熱膨張する。
ここで、LED素子4を構成する基板は、セラミックスであり、当該基板部分が、接着部材6で放熱部材3に接合されているため、このセラミックス部分の熱膨張係数と、金属である放熱部材3の熱膨張係数の相違により、接合した接着部材6部分に応力が加わり、破壊されるおそれがある。
However, in the light emitting device 1 of Patent Document 1, when the
That is, when a large current is passed through the
Here, since the board | substrate which comprises the
上記特許文献1には、放熱部材3の材料として、セラミックスが開示されているが、単に放熱部材3をセラミックで形成するだけでは、放熱性と信頼性とを兼ね備えた発光装置を得ることはできなかった。接着部材
The above-mentioned Patent Document 1 discloses ceramics as a material for the
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、発光にともなう熱による悪影響を排除し、しかも光の取り出し効率を良好にした発光装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a light-emitting device that eliminates the adverse effects of heat associated with light emission and that has good light extraction efficiency.
上記の目的は、第1の発明にあっては、貫通孔を有する絶縁性の基体と、前記基体より高い熱伝導率を有し、前記貫通孔から上面が突出するように挿入された絶縁性の放熱体と、前記上面に形成された反射金属膜と、前記反射金属膜上に実装された発光素子とを有する発光装置により、達成される。 According to the first aspect of the present invention, there is provided an insulating base having a through hole and an insulating base having a higher thermal conductivity than the base and having an upper surface protruding from the through hole. This is achieved by a light emitting device having a heat dissipation body, a reflective metal film formed on the upper surface, and a light emitting element mounted on the reflective metal film.
また、前記基体および/または前記放熱体がセラミックス、合成樹脂、もしくは有機物に無機物が含有されたハイブリッド材料のいずれかの材料で形成されていることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the base body and / or the heat dissipating body is made of any material of ceramics, synthetic resin, or a hybrid material in which an inorganic substance is contained in an organic substance.
また、前記基体と前記放熱体とが互いに異なる種類のセラミックスで形成されていることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the base body and the heat radiating body are formed of different types of ceramics.
また、前記放熱体が、窒化珪素により形成されていることが好ましく、窒化アルミニウム、シリコンカーバイド、もしくは炭化アルミニウムのいずれかの材料により形成することもできる。 The heat radiator is preferably made of silicon nitride, and can be made of any material of aluminum nitride, silicon carbide, or aluminum carbide.
また、前記反射金属膜の表面に、硫化防止膜が形成されていることが好ましい。 Moreover, it is preferable that an anti-sulfurization film is formed on the surface of the reflective metal film.
また、前記発光素子と前記反射金属膜との間に複数の金属バンプを離間して有することが好ましい。 In addition, it is preferable that a plurality of metal bumps are separated from the light emitting element and the reflective metal film.
本発明によれば、発光にともなう熱による悪影響を排除し、しかも光の取り出し効率を良好にした発光装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a light-emitting device that eliminates the adverse effects of heat associated with light emission and that has good light extraction efficiency.
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is particularly limited in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these forms.
図1は実施形態に係る発光装置の概略斜視図、図2は図1のA−A線切断概略端面図、図3は図1の概略下面図である。
これらの図において、発光装置20は、ほぼ中央に貫通孔24を形成した絶縁性の基体30と、該基体30の貫通孔24内に上面が突出するように挿入された熱伝導率の高い絶縁性の放熱体40と、該放熱体40の上面に実装された発光素子21とを有していて、放熱体40の上面において、発光素子21を実装した実装面に反射金属膜23を形成している。そして、基体30の上部から露出した部分は透光性の封止部材50により封止されている。
1 is a schematic perspective view of a light emitting device according to an embodiment, FIG. 2 is a schematic end view taken along line AA of FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic bottom view of FIG.
In these drawings, the light-
この実施形態では、発光素子21と放熱体40の間に反射金属膜23を介していることから、発光素子21から発生する熱を迅速に2次基板側に放熱することができ、発光素子21およびその周辺部材へ熱がこもり熱的悪影響が及ぶことを防止することができる。
また、前記発光素子21が実装され最も熱の影響を受ける前記放熱体40の上面を前記基体30より突出させていることから、前記基体30へかかる熱応力を抑制することができる。さらに、発光素子21から射出した光のうち、前記放熱体40の内部に向かう部分が、該反射金属膜23により反射されて、放熱体40以外の方向へ向けられるので、光の取り出し効率が向上する。
In this embodiment, since the reflective metal film 23 is interposed between the
Further, since the upper surface of the
基体30の平面は、図1および図3に示されているように、例えば、ほぼ正方形の外形とされており、中央部に貫通孔24が形成されている。
貫通孔24の内径は上部で小さく、下部では大きい。すなわち、貫通孔24は階段状に拡径されており、下方の貫通孔24bの内径は上方の貫通孔24aの内径より大きい。この貫通孔24の内側が、後述する放熱体が挿入される空間とされている。すなわち、前記空間は、図2に示すように、略凸形状とされており、内側に下向き段部36を備えている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the plane of the
The inner diameter of the
この基体30は、セラミックスもしくは合成樹脂、有機物に無機物が含有されたハイブリッド材料で形成することができる。このような構成により、特に発光素子21の基板22がセラミックスの場合、発光素子21の基板22と放熱体40とは同種の材料となって、熱膨張係数に大きな相違がないことから、各部材の熱応力により接合部分が破壊されるおそれがない。
基体30を構成する材料としては、本実施形態では、セラミックスが選択されている。また、後述する放熱体40をセラミックスで形成した場合に、該放熱体40より熱伝導率の低いセラミックスにて形成することができる。このように、一般に高価とされる放熱性に優れたセラミック材料を使用する部分を放熱体40の部分に限定することで、大幅にコストを下げることができる。
The
In this embodiment, ceramics is selected as the material constituting the
具体的には、図2に示すように、酸化アルミニウム(アルミナ)(Al2O3)によるセラミックスグリーンシートを利用した第1の基板31と、第2の基板32とを積層して形成されている。すなわち、第1の基板31の内側の材料を上記開口部37の大きさに対応するように大きく除去し、第2の基板32の内側の材料を貫通孔24の大きさに対応するように除去して成形し、積層後に焼結して形成することができるものである。
Specifically, as shown in FIG. 2, a
そして、この焼結前においては、貫通孔を形成することで、第1の基板31と第2の基板のそれぞれについて、上記したように内側の材料を除去するとともに、図2の縦方向に延びる貫通孔と、これに続いて第2の基板32の表面に沿って引き回した部分と、これに続いて第1の基板31の縦方向に沿って形成した貫通孔内にタングステンメタライズを形成するための導電ペーストを印刷などにより塗布する。また、同時に導電ペーストは、基体30の上面39の符合33で示す箇所と、基体30の下面の図3の符合34で示す箇所にも塗布しておく。そして、上記焼結後に金メッキなどを施すことにより、電極パッド33と、実装端子34とを形成することができるとともに、この電極パッド33と実装端子34とを導通部35にて導通させることができる。
なお、導電ペーストは、タングステンやモリブデンなど高融点金属を樹脂バインダーに含有させたペースト状の材料であり、例えばスクリーン印刷などの手法により焼結前のグリーンシート成形物に塗布し、セラミックス材料の焼結とともに、メタライズ部を形成することができるものである。
And before this sintering, while forming a through-hole, while removing the inner material about each of the 1st board |
The conductive paste is a paste-like material in which a high-melting-point metal such as tungsten or molybdenum is contained in a resin binder. For example, the conductive paste is applied to a green sheet molding before sintering by a technique such as screen printing, and the ceramic material is baked. A metallized part can be formed together with the conclusion.
基体30の内側に挿入固定される放熱体40は、絶縁材料で形成されており、特に、その上面に実装される発光素子21の基板22と熱膨張係数(線膨張係数)の点で大きく相違しない材料が選択され、しかも熱伝達率が高いものを選択することが好ましい。そのような点から、この実施形態では、放熱体40は比較的熱伝達率の高いセラミックスが選択されている。
この放熱体40も基本的には、後で詳しく説明する個々のセラミックス材料で形成されたセラミックスグリーンシートなどを用いて、例えば、図2において鎖線で区分したような2枚の基板を積層して焼結することにより形成することができる。
このようにして形成される放熱体40は、図2に示すように、基体30の開口部37の内径よりもわずかに小さな外形を備えた基部である第1の部分41と、第1の部分41よりも小さな外形であって、貫通孔24の内径よりも僅かに小さな外形を備えた第2の部分42とを有している。
The
Basically, the
As shown in FIG. 2, the
これにより、放熱体40は、図2に示すように、縦断面がほぼ凸形状とされており、第2の部分42は基体30の上面39よりも上方に大きく突出している。また、第1の部分41の上面は、第2の部分42の周囲を囲む上向き段部43を有している。このような構成により、放熱体の上面に接合されている発光素子からの熱が、該放熱体の下方に移動しながら、拡径部で熱を広い範囲に伝達して拡散させやすく、迅速に発光装置から二次実装基板側へ放熱することができる。
As a result, as shown in FIG. 2, the
ここで、セラミックス製の放熱体40を、窒化珪素(Si3N4)で形成する場合には、熱伝達率が70乃至80(W/m2h℃)と、比較的高く、放熱性に優れるとともに、可撓性があることで、成形性、加工性に優れている点を利用して製造が容易となる。
また、放熱体40を、窒化アルミニウム(AlH)により形成すると、その200(W/m2h℃)を超える良好な熱伝導率により、特に放熱機能に優れた発光装置を得ることができる。
Here, when the
In addition, when the
さらに、放熱体40を、シリコンカーバイド(SiC)により形成すると、300(W/m2h℃)の良好な熱伝導率により、特に放熱機能に優れた発光装置を得ることができるという利点がある。
また、放熱体40を、金属浸透複合材料(Al/C、Al/SiC、Cu/Moなど)により形成すると、150−350(W/m2h℃)の高い熱伝達率を有するだけでなく、成形性・加工性にも優れているという利点がある。
以上の構成の放熱体40が、基体30の貫通孔24の内側に収容された状態で、放熱体40の上向き段部43と、基体30の下向き段部36の間に、接着部材45を適用して固定されている。
Furthermore, when the
In addition, when the
The
基体30の上面39から大きく突出した放熱体40の第2の部分42の上面側44には発光素子21が接合されている。
特に、この実施形態では、図1に示すように、放熱体40の第2の部分42の上面側44には、4つの発光素子21,21,21,21が接合されることにより、合計すると非常に大きな光量となるようにされている。
ここで、これら発光素子21が固定されている放熱体40は、上述のようにセラミックスにより形成されている。
The
In particular, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the four
Here, the
すなわち、各発光素子21の基板22は、窒化ガリウム系化合物半導体を使用した場合、該基板22にはサファイヤ、スピネル、SiC、Si、ZnOやGaN単結晶等の材料が用いられる。つまり、基板22はセラミックスで形成されていることから、放熱体40を金属で形成すると、発光素子21に通電されることで熱が生成された際に、その熱による基板22の部分の熱膨張係数と、該熱が伝えられる金属製の放熱体の熱膨張係数に大きな違いがあると、発光素子21の接合部分に応力が集中されて破壊されるおそれがある。
That is, when a gallium nitride compound semiconductor is used for the
本実施形態では、このような事態を回避するために、上述のように、発光素子から直接熱引きをする金属部材を、熱にてほとんど膨張しない膜(反射金属膜23)として形成し、その膜から熱伝達率の比較的高いセラミックスからなる放熱体40へと放熱させる熱経路を設けることにより、放熱効果を確保しつつ、熱膨張係数が発光素子21の基板22の部分と大きく相違しないようにして、上記破壊を防止するものである。
また、本実施形態では、反射金属膜23が発光素子21からの光を反射する機能を有している。このため、透明もしくは光透過性(窒化アルミニウム)、あるいは基本的には多孔質材料であるセラミックスからなる放熱体に、放熱性を低下させる原因となる白色顔料などを含有させなくても、高い放熱性と光取り出し効率とを兼ね備えた発光装置を得ることができる。この反射金属膜23は、以下の構成を考慮して形成する。
In the present embodiment, in order to avoid such a situation, as described above, the metal member that directly heats from the light emitting element is formed as a film (reflective metal film 23) that hardly expands due to heat. By providing a heat path for dissipating heat from the film to the
In the present embodiment, the reflective metal film 23 has a function of reflecting light from the
すなわち、放熱体40の第2の部分42の上面44に反射金属膜23を形成し、その上に接着部材などを用いて発光素子21を接合している。各発光素子は図1に示すように、それぞれ陽極と陰極に区分された電極パッド33に対してワイヤボンディングされることにより電気的に接続されており、このようにして、発光素子21が実装されている。
ここで、表示用のカラーディスプレイに用いる発光装置として利用するためには、赤色系発光素子と、緑色系発光素子とともに、発光波長が430nmから490nmである青色系発光素子を用いることが必要である。また、図1のように、同色発光の発光素子を複数個用いることもできる。このような発光素子21としては、広く用いられているものを利用することができるが、青色系発光素子としては、InGaNの半導体を発光層として形成した発光ダイオード(LED)を好適に利用することができる。
That is, the reflective metal film 23 is formed on the
Here, in order to use as a light emitting device used for a color display for display, it is necessary to use a red light emitting element and a green light emitting element together with a blue light emitting element having an emission wavelength of 430 nm to 490 nm. . In addition, as shown in FIG. 1, a plurality of light emitting elements emitting the same color can be used. As such a
そして、このような発光素子21に関して、特に青色系発光素子の光取り出し効率を向上させるためには、その光反射率が70%以上となる反射金属膜23を形成することが好ましい。
このような金属膜としては、金、アルミニウム、銀、パラジウム、ロジウムなどを主成分とする合金からなる反射金属膜23を形成することが好ましい。金は波長430nmから490nmの光に対して、ほぼ70パーセントの反射率を有しており、放熱体40の上面44に対して、スパッタリングや、ニッケルの下地を形成後にメッキすることなどにより形成することができる。
アルミニウムは波長430nmから490nmの光に対して、ほぼ92パーセントの反射率を有しており、放熱体40の上面44に対して、スパッタリングなどにより形成することができ、金等よりも安価である。
また、銀は波長430nmから490nmの光に対して、ほぼ96パーセントの反射率を有しており、放熱体40の上面44に対して、スパッタリングやニッケルの下地を形成後にメッキすることなどにより形成することができる。あるいは銀ペーストなどによるメタライズを形成することによっても形成可能である。
In order to improve the light extraction efficiency of the blue light emitting element, it is preferable to form the reflective metal film 23 having a light reflectance of 70% or more.
As such a metal film, it is preferable to form a reflective metal film 23 made of an alloy mainly composed of gold, aluminum, silver, palladium, rhodium or the like. Gold has a reflectivity of approximately 70 percent with respect to light having a wavelength of 430 nm to 490 nm, and is formed by sputtering or plating after forming a nickel base on the
Aluminum has a reflectivity of approximately 92% with respect to light having a wavelength of 430 nm to 490 nm, and can be formed on the
Further, silver has a reflectivity of approximately 96% with respect to light having a wavelength of 430 nm to 490 nm, and is formed by plating the
また、反射金属膜23上に図示しない硫化防止膜が形成されていることが好ましく、これにより、高温高湿下での使用による硫化に起因する反射性の低下を抑制することができる。硫化防止膜は、SiO2,SiC,Si,又はそれらのいずれかを主成分とする材料を用いることができる。ここで主成分とするとは、材料中にSiO2,SiC,又はSiを90mol%以上含有することを意味し、好ましくは95mol%以上である。
硫化防止膜の膜厚は、3〜22nmとすることが好ましい。3nm以上あれば、スパッタリングにより形成された膜がほぼ均一になるので硫化防止機能を発揮するが、これよりも薄いと、部分的に欠陥を生じる確率が急に高くなってしまう。また、22nmを超えると、膜厚の増加と共に反射金属膜23の反射率が低下してしまう。
In addition, it is preferable that an anti-sulfurization film (not shown) is formed on the reflective metal film 23, thereby suppressing a decrease in reflectivity due to sulfurization due to use under high temperature and high humidity. The sulfidation preventing film can be made of SiO2, SiC, Si, or a material mainly containing any of them. Here, the main component means that the material contains 90 mol% or more of SiO2, SiC, or Si, and preferably 95 mol% or more.
The film thickness of the sulfidation preventive film is preferably 3 to 22 nm. If the thickness is 3 nm or more, the film formed by sputtering becomes almost uniform and exhibits a function of preventing sulfidation. However, if the thickness is smaller than this, the probability that a defect is partially generated suddenly increases. On the other hand, if it exceeds 22 nm, the reflectivity of the reflective metal film 23 decreases as the film thickness increases.
また、前記反射金属膜23上に発光素子21を接合する接着部材として、金属材料を主成分とする接着部材を用いることが好ましい。これにより発光素子21から反射金属膜23への放熱性を向上させることができる。しかしながら、金属性接着部材にて発光素子21下面全面を反射金属膜23に接着すると、発光素子21の下面側へ発光される光は前記金属性接着剤および反射金属膜23にて発光素子側へ全反射されることから、光取り出し効率が低下してしまう。そこで、金属性接着部材として図示しないバンプを用い、前記発光素子21と前記反射金属膜23との間に、互いに離間して配置された複数の金属バンプを介在させ、該金属バンプにより発光素子21を接合することが好ましい。これにより、金属バンプが形成されていない発光素子21の下面部分から取り出された光を、前記反射金属膜23の表面にて効率良く外部方向へ取り出すことが可能となる。
Further, as an adhesive member for joining the
図1および図2に示すように、発光装置20は、基体30の上部から、放熱体40に実装された各発光素子21をカバーするように、封止部材50により封止されている。該封止部材50により、発光装置の各部材を外部からの機械的応力や水分の侵入から保護することができる。
ただし、発光素子21の生成する光が外部に効率良く取り出されるように、封止部材50は、光を透過する材料でなければならない。
具体的には、封止部材50は、透明樹脂として、エポキシ樹脂や、シリコーン樹脂、変性エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、ポリアミドなど半導体に用いる封止樹脂を好適に使用でき、樹脂以外にも透明なガラスなどを用いてもよい。樹脂を用いる場合には、耐熱性や耐光性に優れ、紫外線を含む短波長の高エネルギー光に曝されても着色劣化しにくいシリコーン樹脂や変性シリコーン樹脂を用いることが好ましい。
さらに、透明な封止部材50には、視野角を増加するためチタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素等の拡散剤を混入してもよい。
また、封止部材50には、特定の波長をカットするための着色料を混入させてもよい。
さらには、LEDチップからの青色系の光を一部吸収して補色となる黄色系の光を発するYAG:Ce蛍光体などの蛍光物質を含有させることにより、白色系の光を発光することが可能な高出力なLEDを形成することができる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
However, the sealing
Specifically, the sealing
Further, the
The sealing
Furthermore, white light can be emitted by containing a fluorescent material such as a YAG: Ce phosphor that emits yellow light that is a complementary color by partially absorbing blue light from the LED chip. Possible high power LEDs can be formed.
なお、発光素子21に大きな電流が流れて破壊されることを防止するために、好ましくは、図1に示すように、保護素子として、例えば好ましくは、ツェナーダイオード51を、これら発光素子21への通電回路へ並列に介装するようにしてもよい。
図1および図3に示すように、基体30の下部外面に切欠き部55を形成することが好ましい。これにより、二次基板(図示せず)にハンダなどを用いて実装する際に、リフロー工程で、基体30の側面にハンダのヒケを形成することができ、接続を確実にすることができる。
In order to prevent a large current from flowing through the
As shown in FIGS. 1 and 3, it is preferable to form a
本発明は上述の実施形態に限定されない。上述の実施形態における各構成は、必要により、その一部を省略したり、他の構成と入れ換えて、異なる構成の組み合わせのもとで実施されてもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiment. Each configuration in the above-described embodiment may be implemented under a combination of different configurations, if necessary, by omitting a part thereof or replacing other configurations.
20・・・発光装置、21・・・発光素子、22・・・基板、23・・・反射金属膜、24・・・貫通孔、30・・・基体、31・・・第1の基板、32・・・第2の基板、33・・・電極パッド、34・・・実装端子、40・・・放熱体
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記基体より高い熱伝導率を有し、前記貫通孔から上面が突出するように挿入された絶縁性の放熱体と、
前記上面に形成された反射金属膜と、
前記反射金属膜上に実装された発光素子と
を有し、
前記放熱体および前記貫通孔は、それぞれ下方側が拡径していて、
前記貫通孔の下方の貫通孔は、前記貫通孔の上方の貫通孔よりも大きな内径を有するとともに、内径の変更される箇所で下向き段部が設けられた段付き孔であり、
前記放熱体は、
前記下方の貫通孔の内径よりも僅かに小さな外形備えた第1の部分と、
該第1の部分より上方に位置して、該第1の部分よりも小さな第2の部分とを有していて、該第2の部分の上面には上向き段部が形成されており、
前記貫通孔の下向き段部と、前記放熱体の上向き段部との間には、接着部材が適用されることにより固定されており、
かつ、前記絶縁性の基体の下部の開口である前記下方の貫通孔の内縁と、前記放熱体の第2の部分の外縁との間には僅かな間隙が設けられていて、
さらに、前記第2の部分は、周囲を囲まれない部分となるように、前記基体の上面よりも上方に突出している
ことを特徴とする発光装置。 An insulating substrate having a through hole;
An insulating heat sink having a higher thermal conductivity than the base and inserted so that the upper surface protrudes from the through hole;
A reflective metal film formed on the upper surface;
A light emitting device mounted on the reflective metal film,
The heat radiator and the through-hole each have a lower diameter on the lower side,
The through-hole below the through-hole has a larger inner diameter than the through-hole above the through-hole, and is a stepped hole provided with a downward stepped portion at a place where the inner diameter is changed,
The radiator is
A first portion having an outer shape slightly smaller than the inner diameter of the lower through hole;
The second portion is located above the first portion and is smaller than the first portion, and an upward step is formed on the upper surface of the second portion.
Between the downward stepped portion of the through hole and the upward stepped portion of the radiator, an adhesive member is applied and fixed.
And, a slight gap is provided between the inner edge of the lower through-hole, which is the lower opening of the insulating base, and the outer edge of the second part of the radiator ,
The light emitting device according to claim 1, wherein the second portion protrudes above the upper surface of the base so as to be a portion not surrounding the periphery .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006147123A JP5055837B2 (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Light emitting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006147123A JP5055837B2 (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Light emitting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007317956A JP2007317956A (en) | 2007-12-06 |
JP5055837B2 true JP5055837B2 (en) | 2012-10-24 |
Family
ID=38851542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006147123A Expired - Fee Related JP5055837B2 (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Light emitting device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5055837B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI395314B (en) * | 2009-10-16 | 2013-05-01 | Neobulb Technologies Inc | Chip lead frame and photoelectric energy transducing module |
JP2016184653A (en) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 京セラ株式会社 | Package for housing light-emitting element, and light-emitting device |
WO2018172152A1 (en) * | 2017-03-21 | 2018-09-27 | Lumileds Holding B.V. | Mounting an led element on a flat carrier |
JP7231809B2 (en) * | 2018-06-05 | 2023-03-02 | 日亜化学工業株式会社 | light emitting device |
JP7111989B2 (en) | 2019-04-22 | 2022-08-03 | 日亜化学工業株式会社 | Wavelength conversion component, method for manufacturing wavelength conversion component, and light emitting device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4432275B2 (en) * | 2000-07-13 | 2010-03-17 | パナソニック電工株式会社 | Light source device |
JP3539563B2 (en) * | 2001-07-06 | 2004-07-07 | 日立エーアイシー株式会社 | Light-emitting element laminate and display using the same |
JP4045781B2 (en) * | 2001-08-28 | 2008-02-13 | 松下電工株式会社 | Light emitting device |
JP4070208B2 (en) * | 2003-04-21 | 2008-04-02 | 京セラ株式会社 | Light emitting element storage package and light emitting device |
JP2005039194A (en) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Kyocera Corp | Package for housing light emitting element, light emitting device, and luminair |
JP2006032804A (en) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Koha Co Ltd | Light emitting device and its manufacturing method |
KR100881384B1 (en) * | 2004-08-18 | 2009-02-02 | 가부시끼가이샤 도꾸야마 | Submount for mounting light-emitting device, method of manufacturing the submount for mounting light-emitting device and complex light-emitting element |
JP2006106720A (en) * | 2004-09-09 | 2006-04-20 | Hitachi Metals Ltd | Reflecting film |
JP2006128511A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Ceramic substrate for light emitting element |
-
2006
- 2006-05-26 JP JP2006147123A patent/JP5055837B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007317956A (en) | 2007-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4780203B2 (en) | Semiconductor light emitting device | |
JP4826470B2 (en) | Light emitting device | |
JP5273486B2 (en) | Lighting device | |
JP4254669B2 (en) | Light emitting device | |
JP6065811B2 (en) | Light emitting device and manufacturing method thereof | |
JP4935514B2 (en) | Light emitting device | |
JP5167977B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2008071955A (en) | Light-emitting device | |
JP5200394B2 (en) | Light emitting device and method for manufacturing light emitting device | |
JP2009267289A (en) | Light-emitting device | |
JP4604819B2 (en) | Light emitting device | |
JP2008084943A (en) | Light-emitting device | |
JP2008085302A (en) | Illumination apparatus | |
WO2014141691A1 (en) | Light-emitting module | |
JP5125060B2 (en) | Light emitting device | |
JP5055837B2 (en) | Light emitting device | |
JP2007280983A (en) | Light-emitting device | |
JP6191214B2 (en) | Light emitting device | |
JP5030009B2 (en) | Light emitting device | |
JP6520482B2 (en) | Light emitting device | |
JP5849691B2 (en) | Mounting method of light emitting element | |
JP2008198962A (en) | Light emitting device and its manufacturing method | |
JP5817390B2 (en) | Light emitting device | |
JP6398541B2 (en) | Lead frame and light emitting device | |
JP2009094172A (en) | Light-emitting apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090515 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110728 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120426 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120716 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5055837 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |