JP5026828B2 - Electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents
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本発明は、電子部品およびその製造方法に関し、より詳細には、ウエハレベルパッケージの構造をした電子部品およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an electronic component and a manufacturing method thereof, and more particularly to an electronic component having a wafer level package structure and a manufacturing method thereof.
近年、電子部品の小型化の要求に対応して、基板上に設けられた素子を覆うように、基板上に樹脂を設けることで素子を保護し、樹脂をパッケージの代わりとして利用するウエハレベルパッケージ(以下、WLP)の構造が開発されている。図1に代表的なWLP構造をした電子部品(従来例1)の断面図を示す。図1を参照に、基板10に素子12が設けられている。基板10上に素子12に電気的に接続する電極14が設けられている。基板10上に素子12を覆うように樹脂16が設けられている。電極14上に樹脂16を貫通する貫通電極18が設けられている。貫通電極18上にはハンダボール20が設けられている。これにより、素子12とハンダボール20とは貫通電極18および電極14を介して電気的に接続しており、電子部品をフリップチップ実装する際、貫通電極18およびハンダボール20は電子部品を外部に電気的に接続する端子部として機能する。
In recent years, in response to the demand for downsizing of electronic components, a wafer level package that protects an element by providing a resin on the substrate so as to cover the element provided on the substrate, and uses the resin as a substitute for the package. (Hereinafter referred to as WLP) structure has been developed. FIG. 1 is a sectional view of an electronic component (conventional example 1) having a typical WLP structure. Referring to FIG. 1, an
また、弾性波を利用した弾性波デバイスの1つとして、圧電基板の表面に形成したIDT(Interdigital Transducer)からなる櫛型電極を備え、この櫛型電極に電力を印加することで励振した弾性波を用いる弾性表面波デバイスは良く知られている。さらに、最近では圧電薄膜の表裏に一対の電極を形成しその厚み振動を利用する圧電薄膜共振器(FBAR:Film Bulk Acoustic Resonator)を用いた弾性波デバイスも開発されている。これら弾性波デバイスは、弾性波素子の特性を維持するため、弾性波素子の機能部分(弾性表面波素子:IDTの電極指、圧電薄膜共振器素子:圧電薄膜を挟みこむ上下電極の重なる領域)上に空洞を設ける必要がある。図2にWLP構造をした弾性表面波デバイス(従来例2)の断面図を示す。図2を参照に、基板10上に櫛型電極および反射器等からなる弾性表面波素子である素子12が設けられている。素子12の機能部分上に第2空洞部22を有する樹脂16が設けられている。その他の構成については、従来例1と同じであり、図1に示しているので説明を省略する。
In addition, as one of acoustic wave devices using elastic waves, there is provided a comb electrode made of IDT (Interdigital Transducer) formed on the surface of a piezoelectric substrate, and an elastic wave excited by applying electric power to the comb electrode Surface acoustic wave devices using are well known. Furthermore, recently, an acoustic wave device using a piezoelectric thin film resonator (FBAR: Film Bulk Acoustic Resonator) that forms a pair of electrodes on the front and back sides of a piezoelectric thin film and uses thickness vibration thereof has been developed. In order to maintain the characteristics of the acoustic wave element, these acoustic wave devices have a functional portion of the acoustic wave element (surface acoustic wave element: IDT electrode finger, piezoelectric thin film resonator element: region where the upper and lower electrodes sandwiching the piezoelectric thin film overlap) It is necessary to provide a cavity above. FIG. 2 is a sectional view of a surface acoustic wave device (conventional example 2) having a WLP structure. Referring to FIG. 2, an
貫通電極18の形成方法の1つとして、電極14上に形成した、樹脂16を貫通する貫通孔にスキージ印刷を用いてハンダペースト等を充填する方法がある。従来例1および従来例2は、貫通孔が深さ方向で閉じた空間の構造をしている。このため、スキージ印刷により貫通孔にハンダペースト等の充填を行なうと、貫通孔内の空気は抜け道がないため貫通孔に閉じ込められ、貫通孔にボイドが発生する。
One method for forming the through
特許文献1にこの課題の解決を図る技術が開示されている。図3に特許文献1に係る弾性表面波デバイス(従来例3)の断面図を示す。図3を参照に、貫通電極18の側面から樹脂16の表面に貫通する孔部24が1方向に設けられている。その他の構成については、従来例2と同じであり、図2に示しているので説明を省略する。従来例3によれば、貫通電極18の側面から樹脂16の表面に貫通する孔部24が設けられているため、スキージ印刷により貫通孔にハンダペースト等の充填を行なうと、孔部24が空気の抜け道として機能し、貫通孔にボイドが発生することを抑制することができる。
まず、図4に、従来例2に係る弾性表面波デバイスにおいて、スキージ印刷により貫通孔26にハンダペーストの充填を行なう場合の課題を説明するための断面図を示す。なお、図4において、従来例2に係る弾性表面波デバイスを個別にダイシングする前の断面図を図示(図5、図13および図15においても同様にダイシングする前の断面図を図示)している。図4を参照に、貫通孔26は深さ方向で閉じた空間の構造をしているため、スキージ48を用いたスキージ印刷により貫通孔26にハンダペーストの充填を行なうと、貫通孔26内の空気は抜け道がなく閉じ込められ、貫通孔26にボイド28が発生する。ボイド28はスキージ印刷の進行方向と貫通孔26の形状とに関連した特定の方向に発生しやすい。ボイド28の発生を抑えるには、真空中でスキージ印刷を行なえばよいが、基板10を真空に引くため製造効率が低下し、また、高価な装置が必要となる。
First, FIG. 4 shows a cross-sectional view for explaining a problem in the case where the
次に、図5に、従来例3に係る弾性表面波デバイスにおいて、スキージ印刷により貫通孔26にハンダペーストの充填を行なう場合の課題を説明するための断面図を示す。図5を参照に、スキージ48を用いたスキージ印刷により貫通孔26にハンダペーストの充填を行なう際、貫通孔26より先に孔部24にハンダペーストが充填されてしまうと、貫通孔26内の空気の抜け道は塞がってしまう。このため、貫通孔26内の空気は閉じ込められ、貫通孔26にボイド28が発生する。
Next, FIG. 5 shows a cross-sectional view for explaining a problem in the case where the
通常、弾性表面波デバイス25は図6に示すようなウエハ状態の基板10上で一括して形成され、ダイシング領域で分離することにより、ウエハ上に形成された複数の弾性表面波デバイス25がそれぞれ1つに分離される。つまり、スキージ印刷により貫通孔26にハンダペーストを充填させる工程もウエハ状態の基板10上で一括して行われる。また、一般的に、製造効率およびハンダペーストの充填性を良くするためスキージ印刷は往復して行われる。従来例3のように孔部24が1方向にしか設けられていないと、貫通孔26より先に孔部24にハンダペーストが充填される箇所が生じる。したがって、従来例3では孔部24にハンダペーストが充填されないために、1方向にしかスキージ印刷を行なわないか、もしくは、スキージ印刷を往復して行なうにはマスク等を用いて孔部24を覆わなければならない。このため、従来例3では貫通電極18を製造効率良く形成することが困難である。
Usually, the surface
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、貫通孔に発生するボイドの発生量を抑制することができ、製造効率良く貫通電極を形成することが可能な電子部品およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides an electronic component capable of suppressing the amount of voids generated in a through hole and capable of forming a through electrode with high production efficiency, and a method for producing the same. The purpose is to do.
本発明は、基板上に設けられた素子と、前記基板上に設けられ、前記素子と電気的に接続する電極と、前記素子を覆うように前記基板上に設けられた樹脂と、前記電極上に設けられ、前記樹脂を貫通する貫通電極と、を具備し、前記樹脂は前記貫通電極の側面から2以上の方向に延びるように設けられた第1空洞部を有し、前記第1空洞部の上面と下面とは前記樹脂で覆われていることを特徴とする電子部品である。本発明によれば、第1空洞部が空気の抜け穴として機能するため、貫通孔に発生するボイドの発生量を抑制することができる。また、第1空洞部が設けられている2以上の方向からスキージ印刷を行なっても、貫通孔に発生するボイドの発生量を抑制することができるため、製造効率良く貫通電極を形成することができる。 The present invention provides an element provided on a substrate, an electrode provided on the substrate and electrically connected to the element, a resin provided on the substrate so as to cover the element, and the electrode provided, anda through electrode penetrating through the resin, the resin will have a first hollow portion provided to extend in two or more directions from the side surface of the through electrode, the first cavity portion An upper surface and a lower surface of the electronic component are covered with the resin . According to the present invention, since the first cavity functions as an air hole, the amount of voids generated in the through hole can be suppressed. In addition, even if squeegee printing is performed from two or more directions where the first cavity is provided, the amount of voids generated in the through hole can be suppressed, so that the through electrode can be formed with high manufacturing efficiency. it can.
上記構成において、前記第1空洞部は前記樹脂で覆われている構成とすることができる。この構成によれば、樹脂上でスキージ印刷を行なっても第1空洞部が塞がることはないため、スキージ印刷の際にマスク等を用いなくてもよい。このため、製造効率良く貫通電極を形成することができる。 The said structure WHEREIN: The said 1st cavity part can be set as the structure covered with the said resin. According to this configuration, even if squeegee printing is performed on the resin, the first cavity portion is not blocked, so that a mask or the like does not have to be used for squeegee printing. For this reason, a through electrode can be formed with high manufacturing efficiency.
上記構成において、前記第1空洞部のうち少なくとも2つの前記第1空洞部は前記貫通電極に対して対称となるように設けられている構成とすることができる。この構成によれば、スキージ印刷を往復して行なうことができるため、製造効率良く貫通電極を形成することができる。 In the above configuration, at least two of the first cavities may be provided so as to be symmetric with respect to the through electrode. According to this configuration, since the squeegee printing can be performed in a reciprocating manner, the through electrode can be formed with high manufacturing efficiency.
上記構成において、前記第1空洞部は前記貫通電極の側面を取り囲むように設けられている構成とすることができる。この構成によれば、360°どの方向からスキージ印刷を行なっても、貫通孔に発生するボイドの発生量を抑制することができる。 The said structure WHEREIN: The said 1st cavity part can be set as the structure provided so that the side surface of the said penetration electrode may be surrounded. According to this configuration, it is possible to suppress the amount of voids generated in the through-holes regardless of the direction of 360 ° squeegee printing.
上記構成において、前記第1空洞部は前記貫通電極の側面から前記樹脂の端面にかけて貫通している構成とすることができる。この構成によれば、第1空洞部の空気の抜け穴としての効果がより大きくなるため、貫通孔に発生するボイドの発生量をより抑制することができる。 The said structure WHEREIN: The said 1st cavity part can be set as the structure penetrated from the side surface of the said penetration electrode to the end surface of the said resin. According to this configuration, since the effect of the first cavity portion as an air hole is further increased, the amount of voids generated in the through hole can be further suppressed.
上記構成において、前記第1空洞部の上方に設けられた前記樹脂の端面は、前記第1空洞部の下方に設けられた前記樹脂の端面より、前記基板の周辺側に設けられている構成とすることができる。この構成によれば、第1空洞部の空気の抜け穴としての効果がさらに大きくなる。このため、貫通孔に発生するボイドの発生量をさらに抑制することができる。 In the above-described configuration, the end face of the resin provided above the first cavity is provided closer to the peripheral side of the substrate than the end face of the resin provided below the first cavity. can do. According to this configuration, the effect of the first cavity portion as an air hole is further increased. For this reason, the generation amount of the void generated in the through hole can be further suppressed.
上記構成において、前記貫通電極はCu、SnおよびPbいずれかを主成分とする導電性材料からなる構成とすることができる。また、上記構成において、前記基板は圧電基板であり、前記素子は弾性波素子であり、前記樹脂は前記弾性波素子の機能部分上に第2空洞部を有する構成とすることができる。 The said structure WHEREIN: The said penetration electrode can be set as the structure which consists of an electroconductive material which has either Cu, Sn, and Pb as a main component. In the above structure, the substrate may be a piezoelectric substrate, the element may be an acoustic wave element, and the resin may have a second cavity on a functional portion of the acoustic wave element.
本発明は、基板上に素子および前記素子に電気的に接続する電極を形成する工程と、前記基板上に、前記素子を覆い、前記電極上に第1開口部を有する第1樹脂膜を形成する工程と、前記第1樹脂膜上に、前記第1開口部上に第2開口部を有し、前記第2開口部の側面から2以上の方向に延びる第4開口部を有する第2樹脂膜を形成する工程と、前記第1開口部、前記第2開口部および第3開口部からなり、前記第1樹脂膜、前記第2樹脂膜および第3樹脂膜を貫通する貫通孔が形成されるように、且つ前記第4開口部が第1空洞部となるように、前記第2樹脂膜上に、前記第2開口部上に前記第3開口部を有する前記第3樹脂膜を形成する工程と、前記貫通孔に導電性材料を充填することで、前記電極上に貫通電極を形成する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法である。本発明によれば、貫通孔および第1空洞部を容易に形成することができる。 The present invention includes a step of forming an element and an electrode electrically connected to the element on a substrate, and forming a first resin film covering the element and having a first opening on the electrode on the substrate. A second resin having a second opening on the first opening and a fourth opening extending in two or more directions from a side surface of the second opening on the first resin film. A step of forming a film, and a through-hole that includes the first opening, the second opening, and the third opening and penetrates the first resin film, the second resin film, and the third resin film is formed. The third resin film having the third opening on the second opening is formed on the second resin film so that the fourth opening becomes the first cavity. And a step of forming a through electrode on the electrode by filling the through hole with a conductive material. A method of manufacturing an electronic component according to claim Rukoto. According to the present invention, the through hole and the first cavity can be easily formed.
上記構成において、前記第1樹脂膜を形成する工程は、前記素子の機能部分上に第5開口部を有する前記第1樹脂膜を形成する工程を含み、前記第2樹脂膜を形成する工程は、前記第5開口部上に第6開口部を有する前記第2樹脂膜を形成する工程を含み、前記第3樹脂膜を形成する工程は、前記第5開口部および前記第6開口部が第2空洞部となるように前記第3樹脂膜を形成する工程を含む構成とすることができる。この構成によれば、第2空洞部を容易に形成することができる。 In the above configuration, the step of forming the first resin film includes the step of forming the first resin film having a fifth opening on the functional portion of the element, and the step of forming the second resin film includes Forming the second resin film having a sixth opening on the fifth opening, and the step of forming the third resin film includes the step of forming the fifth opening and the sixth opening. It can be set as the structure including the process of forming the said 3rd resin film so that it may become a 2 cavity part. According to this configuration, the second cavity can be easily formed.
上記構成において、前記貫通電極を形成する工程は、スキージ印刷により前記貫通孔に導電性材料を充填することで、前記貫通電極を形成する工程である構成とすることができる。 In the above configuration, the step of forming the through electrode may be a step of forming the through electrode by filling the through hole with a conductive material by squeegee printing.
本発明によれば、基板上に素子および前記素子に電気的に接続する電極を有し、前記素子を覆うように前記基板上に樹脂を形成する工程と、前記電極上に前記樹脂を貫通する貫通孔および前記貫通孔の側面から2以上の方向に延びる第1空洞部を形成する工程と、前記貫通孔にスキージ印刷により導電性材料を充填することで、前記電極上に貫通電極を形成する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法である。本発明によれば、スキージ印刷により貫通孔に貫通電極を形成する際に、貫通孔に発生するボイドの発生量を抑制することができる。 According to the present invention, there is provided an element on the substrate and an electrode electrically connected to the element, the step of forming a resin on the substrate so as to cover the element, and the resin penetrating through the electrode A through-hole is formed on the electrode by forming a through-hole and a first cavity extending in two or more directions from the side surface of the through-hole, and filling the through-hole with a conductive material by squeegee printing. And a process for producing an electronic component. According to the present invention, when the through electrode is formed in the through hole by squeegee printing, the amount of voids generated in the through hole can be suppressed.
本発明によれば、第1空洞部は貫通孔内の空気の抜け穴として機能し、第1空洞部が設けられている2以上の方向からスキージ印刷を行ない貫通電極を形成しても、貫通孔に発生するボイドの発生量を抑制することができる。このため、製造効率良く貫通電極を形成することができる。 According to the present invention, the first cavity portion functions as an air hole in the through hole, and even if squeegee printing is performed from two or more directions in which the first cavity portion is provided, The amount of voids generated can be suppressed. For this reason, a through electrode can be formed with high manufacturing efficiency.
以下、図面を参照に本発明の実施例について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図7(a)は実施例1に係る弾性表面波デバイスの上視図であり、図7(b)は図7(a)のA−A間の断面図である。なお、図7(a)において、樹脂16を透視して基板10、素子12、配線32、第1空洞部34および第2空洞部22を図示しており、ハンダボール20は図示を省略(以下、実施例2から実施例4において同じ)している。
FIG. 7A is a top view of the surface acoustic wave device according to the first embodiment, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along a line AA in FIG. 7A, the
図7(a)および図7(b)を参照に、例えばLiNbO3(ニオブ酸リチウム)あるいはLiTaO3(タンタル酸リチウム)等からなる圧電基板である基板10表面に、例えばAl(アルミニウム)あるいはCu(銅)等からなる金属膜で形成されたIDTおよび反射器等からなる弾性表面波素子である素子12、および配線32が設けられている。また、基板10上に例えばNi(ニッケル)等からなる電極14が設けられている。素子12と電極14とは配線32を介し電気的に接続している。基板10上に素子12の機能部分上に高さ約30μmの第2空洞部22を有し、素子12および配線32を覆うように高さ約50μmのエポキシ樹脂である樹脂16が設けられている。電極14上に樹脂16を貫通する直径約100μmの貫通電極18が設けられている。貫通電極18は例えばハンダペーストで形成される。貫通電極18の側面に樹脂16で覆われた、高さ20μm、幅50〜100μmの第1空洞部34が貫通電極18に対して対称となるような2方向に延びて設けられている。また、第1空洞部34は貫通電極18の底面付近に設けられている。貫通電極18上にはハンダボール20が設けられている。これにより、素子12とハンダボール20は配線32、電極14および貫通電極18を介して電気的に接続しており、貫通電極18およびハンダボール20は、弾性表面波デバイスをフリップチップ実装する際、素子12を外部に電気的に接続する端子部として機能する。
Referring to FIGS. 7A and 7B, on the surface of the
図8(a)から図10(d)を用い、実施例1に係る弾性表面波デバイスの製造方法について説明する。図8(a)から図10(d)は、図7(b)に相当する箇所の断面図である。なお、図8(a)から図10(d)は、ウエハ状態の基板10を用いて行われる製造工程であり、複数の弾性表面波デバイスとなるべき領域がウエハ上に存在するが、複数の弾性表面波デバイスのうち1つの弾性表面波デバイスとなるべき領域を図示して説明する。そして、図10(d)において、基板10周辺のダイシング領域で分離することにより、ウエハ上に形成された複数の弾性表面波デバイスがそれぞれ1つに分離される。
A method for manufacturing the surface acoustic wave device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 8A to FIG. 10D are cross-sectional views corresponding to FIG. 7B. FIGS. 8A to 10D show a manufacturing process performed using the
図8(a)を参照に、例えばLiNbO3あるいはLiTaO3等からなる圧電基板である基板10表面に、例えばAlあるいはCu等からなる金属膜を形成し弾性表面波素子である素子12および配線32(図示せず)を形成する。また、基板10上に、例えばNi等からなり、配線32(図示せず)を介して素子12に電気的に接続する電極14を形成する。図8(b)を参照に、基板10上に、例えばネガ型感光性エポキシ樹脂からなる第1樹脂膜36をスピンコート法により厚さ10μm塗布しベークする。図8(c)を参照に、マスクを用い紫外線(UV光)を素子12の機能部分上の第2空洞部22を形成すべき領域および電極14上の貫通孔26を形成すべき領域以外の領域の第1樹脂膜36に照射する。図8(d)を参照に、第1樹脂膜36を現像することで紫外線(UV光)を照射していない領域の第1樹脂膜36を除去する。これにより、素子12の機能部分上の第2空洞部22となるべき領域に第5開口部45が形成され、また、電極14上の貫通孔26となるべき領域に第1開口部38が形成される。窒素雰囲気中の200℃で1時間熱処理することで第1樹脂膜36を硬化させる。
Referring to FIG. 8A, for example, a metal film made of Al or Cu or the like is formed on the surface of a
図9(a)を参照に、第1開口部38および第5開口部45を保持するように、保護フィルム40に塗られたフィルム状の例えばネガ型感光性エポキシ樹脂からなる第2樹脂膜42を厚さ20μmになるようラミネータ等の押し付けロール44を用いて押し付け貼り付ける。図9(b)を参照に、マスクを用い紫外線(UV光)を素子12の機能部分上の第2空洞部22を形成すべき領域、電極14上の貫通孔26を形成すべき領域および第1空洞部34を形成すべき領域以外の領域の第2樹脂膜42に照射する。図9(c)を参照に、保護フィルム40を剥がし、現像することにより紫外線(UV光)を照射していない領域の第2樹脂膜42を除去する。これにより、素子12の機能部分上の第5開口部45上に第6開口部47が形成され、電極14上の第1開口部38上に第2開口部39が形成され、第2開口部39の側面に2方向に延びる第4開口部43が形成される。窒素雰囲気中の200℃で1時間熱処理することで第2樹脂膜42を硬化させる。図9(d)を参照に、第1開口部38、第2開口部39、第4開口部43、第5開口部45および第6開口部47を保持するように、保護フィルム40に塗られたフィルム状の例えばネガ型感光性エポキシ樹脂からなる第3樹脂膜46を厚さ約20μmになるようラミネータ等の押し付けロール44を用いて押し付け貼り付ける。これにより、第4開口部43は第1空洞部34になり、第5開口部45および第6開口部47は第2空洞部22になる。
Referring to FIG. 9A, the
図10(a)を参照に、マスクを用い紫外線(UV光)を電極14上の貫通孔26を形成すべき領域以外の領域の第3樹脂膜46に照射する。図10(b)を参照に、保護フィルム40を剥がし、現像することにより紫外線(UV光)を照射していない領域の第3樹脂膜46を除去する。これにより、電極14上の第2開口部39上に第3開口部41が形成される。よって、電極14上に第1開口部38、第2開口部39および第3開口部41からなり、第1樹脂膜36、第2樹脂膜42および第3樹脂膜46からなる樹脂16を貫通する貫通孔26が形成される。窒素雰囲気中で200℃で1時間熱処理することで第3樹脂膜46を硬化させる。図10(c)を参照に、樹脂16上でスキージ48を用いたスキージ印刷を行なうことにより、例えばハンダペーストを貫通孔26に充填し、貫通電極18を形成する。図10(d)を参照に、貫通電極18上に例えばSnAgハンダボールの搭載あるいはSnAgハンダペーストをマスク印刷、リフローすることによりハンダボール20を形成する。その後、ダイシング領域でウエハ状態の基板10をダイシングにより切断して個別化する。以上により、実施例1に係る弾性表面波デバイスが完成する。
Referring to FIG. 10A, the mask is used to irradiate the
実施例1によれば、図7(a)および図7(b)に示すように、貫通電極18の側面から2方向に延びる第1空洞部34が設けられている。このため、図10(c)に示すように、スキージ印刷により貫通孔26にハンダペーストを充填させて貫通電極18を形成しても、第1空洞部34が貫通孔26内の空気の抜け穴として機能するため、貫通孔26に発生するボイド28の発生量を抑制することができる。したがって、図4に示す従来例2においては、真空中でスキージ印刷を行なわなければ、ボイド28の発生量を抑制することができなかったが、実施例1では真空中でスキージ印刷を行なわずとも、ボイド28の発生量を抑制することができる。このため、実施例1は、基板10を真空に引く工程が不要となり、製造効率良く貫通電極18を形成することができる。
According to the first embodiment, as shown in FIGS. 7A and 7B, the
また、図7(a)および図7(b)に示すように、第1空洞部34は貫通電極18に対して対称となるような2方向に延びて設けられている。第1空洞部34が設けられている2方向からスキージ印刷を行ない貫通孔26にハンダペーストを充填させる場合は、貫通孔26に発生するボイド28の発生量を抑制することができる。つまり、実施例1は貫通孔26に発生するボイド28の発生量を抑制させつつ、スキージ印刷を往復して行なうことができる。したがって、図5に示す従来例3のように、貫通電極18の側面に孔部24が1方向にしか設けられていない場合に比べ、実施例1は製造効率良く貫通電極18を形成することができ、また、貫通孔26に充填させるハンダペーストの充填性も向上させることができる。
Further, as shown in FIGS. 7A and 7B, the
さらに、図7(a)および図7(b)に示すように、第1空洞部34は樹脂16で覆われている。このため、図10(c)に示すように、樹脂16上でスキージ印刷を行っても、第1空洞部34にハンダペーストが充填されることはない。つまり、第1空洞部34が有する貫通孔26内の空気の抜け穴という機能を維持し続けることができる。したがって、図5に示す従来例3のように、孔部24が樹脂16の表面に貫通している場合は、孔部24にハンダペーストが充填されないようマスク等を用いてスキージ印刷をする必要があったが、実施例1はマスク等を用いなくてもよいため、製造効率良く貫通電極18を形成することができる。また、樹脂16はハンダペーストの濡れ性が悪いため、貫通孔26にハンダペーストを充填しても、貫通孔26のハンダペーストが第1空洞部34に漏れ出すことはない。
Further, as shown in FIGS. 7A and 7B, the
実施例1に係る弾性表面波デバイスの製造方法において、図8(d)に示すように、電極14上に第1開口部38を有し、素子12の機能部分上に第5開口部45を有する第1樹脂膜36を基板10上に形成する。図9(c)に示すように、電極14上の第1開口部38上に第2開口部39を有し、第2開口部39の側面から2方向に延びる第4開口部43を有し、素子12の機能部分上の第5開口部45上に第6開口部47を有する第2樹脂膜42を第1樹脂膜36上に形成する。図10(b)に示すように、電極14上に第1開口部38、第2開口部39および第3開口部41からなり、第1樹脂膜36、第2樹脂膜42および第3樹脂膜46を貫通する貫通孔26が形成され、第4開口部43に蓋がされ第1空洞部34となり、素子12の機能部分上の第5開口部45および第6開口部47に蓋がされ第2空洞部22となるよう、第2開口部39上に第3開口部41を有する第3樹脂膜46を第2樹脂膜42上に形成する。このように、第1開口部38および第5開口部45を有する第1樹脂膜36、第2開口部39、第4開口部43および第6開口部47を有する第2樹脂膜42並びに第3開口部41を有する第3樹脂膜46の3層からなる樹脂16を形成することにより、貫通孔26、第1空洞部34および第2空洞部22を容易に形成することができる。
In the method for manufacturing the surface acoustic wave device according to the first embodiment, as illustrated in FIG. 8D, the
実施例1において、図7(b)に示すように、第1空洞部34は貫通電極18の底面付近に設けられている場合を示したがこれに限られない。しかしながら、貫通電極18は樹脂16上でスキージ印刷を行ない貫通孔26にハンダペーストを充填することで形成されるため、ボイド28は貫通孔26の底面に発生しやすい。このため、貫通電極18の底面付近に第1空洞部34が設けられている場合は、ボイド28の発生量を抑制するという効果がより大きくなる。つまり、第1空洞部34の底面は貫通電極18の底面との段差が小さくなるように設けられていることが好ましい。
In the first embodiment, as illustrated in FIG. 7B, the
また、第1空洞部34は貫通電極18の側面から2方向に延びるように設けられている場合を示したがこれに限られない。第1空洞部34が貫通電極18の側面から2以上の方向に延びるように設けられていれば、貫通孔26にボイド28を発生させずにスキージ印刷できる方向が増え、スキージ印刷の自由度を増すことができる。特に、スキージ印刷を往復して行なうことが可能となり、貫通電極18の製造効率および貫通孔26へのハンダペーストの充填性が向上するため、少なくとも2つの第1空洞部34は貫通電極18に対して対称となるように設けられている場合が好ましい。
Moreover, although the case where the
さらに、第1空洞部34を覆っている樹脂16は感光性エポキシ樹脂である場合を示したがこれに限られない。ハンダペーストとの濡れ性が悪く、貫通孔26にハンダペーストを充填させた際に、第1空洞部34に漏れ出さない材料であることが好ましい。
Furthermore, although the case where the
さらに、貫通電極18はハンダペーストである場合を示したがこれに限らず、Cu、SnおよびPbのいずれかを主成分とする導電性材料である場合でもよい。特に、製造コストを抑える点から、Snを主成分とする導電性材料である場合が好ましい。
Furthermore, although the case where the through
さらに、図7(a)および図7(b)に示すように、貫通電極18は基板10上に設けられた電極14上に形成されている場合を示したがこれに限らず、貫通電極18が配線32上に設けられている場合でもよい。この場合でも、貫通電極18は配線32を介して素子12に電気的に接続し、弾性表面波デバイスをフリップチップで実装する際、素子12を外部に電気的に接続する端子部として機能する。
Further, as shown in FIGS. 7A and 7B, the case where the through
図11(a)は実施例2に係る弾性表面波デバイスの上視図であり、図11(b)は図11(a)のA−A間の断面図である。図11(a)および図11(b)を参照に、第1空洞部34は貫通電極18の側面を円状に取り囲むように設けられている。つまり、貫通電極18の側面の全ての方向に第1空洞部34は設けられている。その他の構成については、実施例1と同じであり、図7(a)および図7(b)に示しているので、説明を省略する。
FIG. 11A is a top view of the surface acoustic wave device according to the second embodiment, and FIG. 11B is a cross-sectional view taken along a line AA in FIG. Referring to FIGS. 11A and 11B, the
実施例2に係る弾性表面波デバイスの製造方法は、図9(b)において用いるマスクを変更する点以外は、実施例1と同じであり、図8(a)から図10(d)に示しているので、説明を省略する。 The method for manufacturing the surface acoustic wave device according to Example 2 is the same as that of Example 1 except that the mask used in FIG. 9B is changed, and is shown in FIGS. 8A to 10D. Therefore, the description is omitted.
実施例2によれば、第1空洞部34は貫通電極18の側面を円状に取り囲むように設けられている。このため、図10(c)に示すハンダペーストのスキージ印刷において、360°どの方向からスキージ印刷を行ない、貫通孔26にハンダペーストを充填させても、貫通孔26に発生するボイド28の発生量を抑制することができる。したがって、実施例1よりもスキージ印刷の自由度が増し、より製造効率良く貫通電極18を形成することができる。
According to the second embodiment, the
また、第1空洞部34は貫通電極18の側面を円状に取り囲むように設けられているため、実施例1に比べて、第1空洞部34の体積を大きくすることができる。このため、スキージ印刷による貫通孔26へのハンダペーストの充填において、貫通孔26内の空気は第1空洞部34により抜けやすくなる。したがって、実施例1に比べて、貫通孔26に発生するボイド28の発生量をより抑制することができる。
Further, since the
実施例2において、第1空洞部34は貫通電極18の側面を円状に取り囲んで設けられている場合を示したがこれに限られない。例えば、方形や楕円等の形状でも、第1空洞部34は貫通電極18の側面を取り囲むように設けられていれば、円状の場合と同様の効果を得ることができる。
In the second embodiment, the case where the
図12(a)は実施例3に係る弾性表面波デバイスの上視図であり、図12(b)は図12(a)のA−A間の断面図である。図12(a)および図12(b)を参照に、ダイシング領域50に樹脂16が設けられておらず、貫通電極18を形成するためのスキージ印刷により、ダイシング領域50の基板10上にハンダペーストが設けられている。第1空洞部34は貫通電極18の側面から樹脂16の端面に貫通し、これにより、第1空洞部34はダイシング領域50に接続している。その他の構成については、実施例2と同じであり、図11(a)および図11(b)に示しているので、説明を省略する。
FIG. 12A is a top view of the surface acoustic wave device according to the third embodiment, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line A-A in FIG. Referring to FIGS. 12A and 12B, the
実施例3に係る弾性表面波デバイスの製造方法は、図8(c)、図9(b)および図10(a)において用いるマスクを変更し、基板10周辺のダイシング領域50の第1樹脂膜36、第2樹脂膜42および第3樹脂膜46にも紫外線(UV光)が照射されないようにする。その他については、実施例1と同じであり、図8(a)から図10(d)に示しているので、説明を省略する。
In the surface acoustic wave device manufacturing method according to the third embodiment, the mask used in FIGS. 8C, 9B, and 10A is changed, and the first resin film in the
実施例3によれば、図12(a)および図12(b)に示すように、第1空洞部34は貫通電極18の側面から樹脂16の端面にかけて貫通している。このため、図13に示すように、スキージ印刷による貫通孔26へのハンダペーストの充填において、貫通孔26内の空気は第1空洞部34を介してダイシング領域50に抜けることができる。よって、実施例2に比べて、貫通孔26内の空気はより抜けやすくなり、貫通孔26に発生するボイド28の発生量をより抑制することができる。このように、第1空洞部34とダイシング領域50とを接続させ、ダイシング領域50を利用して貫通孔26内の空気を抜く場合は、ダイシング領域50を利用せず、ダイシング領域50に相当する領域を別個設けて貫通孔26内の空気を抜く場合に比べ、弾性表面波デバイスの小型化を図ることができる。また、第1空洞部34は貫通電極18の側面から樹脂16の端面に貫通しているため、樹脂16上でスキージ印刷を行っても、第1空洞部34にハンダペーストが充填されることはない。
According to Example 3, as shown in FIGS. 12A and 12B, the
実施例3において、図12(a)および図12(b)に示すように、ダイシング領域50の基板10上にハンダペーストが設けられている場合を例に示したがこれに限られない。貫通電極18を形成する際、貫通孔26にのみハンダペーストが充填され、ダイシング領域50の基板10上にはハンダペーストが充填されないようにスキージ印刷を行ない、ダイシング領域50の基板10上にはハンダペーストが設けられていない場合でもよい。
In the third embodiment, as shown in FIGS. 12A and 12B, the case where the solder paste is provided on the
図14(a)は実施例4に係る弾性表面波デバイスの上視図であり、図14(b)は図14(a)のA−A間の断面図である。図14(a)および図14(b)を参照に、第1空洞部34の上方に設けられた樹脂16の端面は、第1空洞部34の下方に設けられた樹脂16の端面より、基板10の周辺側に設けられている。その他の構成については、実施例3と同じであり、図12(a)および図12(b)に示しているので、説明を省略する。
FIG. 14A is a top view of the surface acoustic wave device according to the fourth embodiment, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along a line AA in FIG. 14A and 14B, the end surface of the
実施例4に係る弾性表面波デバイスの製造方法は、図8(c)および図9(b)において用いるマスクを変更し、ダイシング領域50の第1樹脂膜36および第2樹脂膜42にも紫外線(UV光)が照射されないようにする。その他については、実施例1と同じであり、図8(a)から図10(d)に示しているので、説明を省略する。
In the method of manufacturing the surface acoustic wave device according to the fourth embodiment, the mask used in FIGS. 8C and 9B is changed, and the
実施例4によれば、図14(a)および図14(b)に示すように、第1空洞部34の上方に設けられた樹脂16の端面は、第1空洞部34の下方に設けられた樹脂16の端面より、基板10の周辺側に設けられている。つまり、ダイシング領域50は、第1空洞部34の上方に設けられた樹脂16が庇となった状態になっている。このため、図15に示すように、樹脂16上でスキージ印刷を行なっても、ダイシング領域50にハンダペーストが充填されることはない。実施例3のように、ダイシング領域50にハンダペーストが充填される場合は、貫通孔26にハンダペーストが充填される前に、ダイシング領域50にハンダペーストが充填される場合が生じる。この場合は、貫通孔26内の空気を第1空洞部34を介してダイシング領域50に抜くことができなくなる。しかし、実施例4はダイシング領域50にハンダペーストが充填されないため、貫通孔26内の空気を常に第1空洞部34を介してダイシング領域50に抜くことができる。したがって、実施例3に比べて、貫通孔26に発生するボイド28の発生量をより抑制することができる。
According to the fourth embodiment, as shown in FIGS. 14A and 14B, the end face of the
実施例1から4において、WLP構造をした弾性表面波デバイスの場合を示したがこれに限られるわけではない。WLP構造をした他の電子部品についても、本発明を用いることにより、実施例1から4に示した弾性表面波デバイスの場合と同様の効果を得ることができる。特に、圧電基板上に設けられた弾性波素子の機能部分上に第2空洞部22を設けることが必要な弾性表面波デバイスや圧電薄膜共振器等の弾性波デバイスは、弾性波素子の機能部分上に第2空洞部22を有する樹脂16の強度を保つために樹脂16の厚さを十分に厚くしなければならない。つまり、貫通孔26の深さは深くなる。このため、スキージ印刷によりハンダペーストを貫通孔26に充填させることがより困難となり、ボイド28が発生しやすくなるため、本発明の効果がより大きくなる。
In the first to fourth embodiments, the surface acoustic wave device having the WLP structure is shown, but the present invention is not limited to this. For other electronic components having a WLP structure, the same effects as those of the surface acoustic wave devices shown in the first to fourth embodiments can be obtained by using the present invention. In particular, an acoustic wave device such as a surface acoustic wave device or a piezoelectric thin film resonator that requires the
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. It can be changed.
10 基板
12 素子
14 電極
16 樹脂
18 貫通電極
20 ハンダボール
22 第2空洞部
24 孔部
25 弾性表面波デバイス
26 貫通孔
28 ボイド
32 配線
34 第1空洞部
36 第1樹脂膜
38 第1開口部
39 第2開口部
40 保護フィルム
41 第3開口部
42 第2樹脂膜
43 第4開口部
44 押し付けロール
45 第5開口部
46 第3樹脂膜
47 第6開口部
48 スキージ
50 ダイシング領域
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記基板上に設けられ、前記素子と電気的に接続する電極と、
前記素子を覆うように前記基板上に設けられた樹脂と、
前記電極上に設けられ、前記樹脂を貫通する貫通電極と、を具備し、
前記樹脂は前記貫通電極の側面から2以上の方向に延びるように設けられた第1空洞部を有し、前記第1空洞部の上面と下面とは前記樹脂で覆われていることを特徴とする電子部品。 An element provided on a substrate;
An electrode provided on the substrate and electrically connected to the element;
A resin provided on the substrate so as to cover the element;
A through electrode provided on the electrode and penetrating the resin;
And wherein the resin is to have a first cavity portion provided to extend in two or more directions from the side surface of the through electrode, the upper and lower surfaces of the first cavity portion is covered with the resin Electronic parts.
前記基板上に、前記素子を覆い、前記電極上に第1開口部を有する第1樹脂膜を形成する工程と、
前記第1樹脂膜上に、前記第1開口部上に第2開口部を有し、前記第2開口部の側面から2以上の方向に延びる第4開口部を有する第2樹脂膜を形成する工程と、
前記第1開口部、前記第2開口部および第3開口部からなり、前記第1樹脂膜、前記第2樹脂膜および第3樹脂膜を貫通する貫通孔が形成されるように、且つ前記第4開口部が第1空洞部となるように、前記第2樹脂膜上に、前記第2開口部上に前記第3開口部を有する前記第3樹脂膜を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性材料を充填することで、前記電極上に貫通電極を形成する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法。 Forming an element and an electrode electrically connected to the element on a substrate;
Forming a first resin film covering the element on the substrate and having a first opening on the electrode;
A second resin film having a second opening on the first opening and a fourth opening extending in two or more directions from a side surface of the second opening is formed on the first resin film. Process,
The first opening, the second opening, and the third opening are formed so that a through-hole penetrating the first resin film, the second resin film, and the third resin film is formed, and the first opening is formed. Forming the third resin film having the third opening on the second opening on the second resin so that the four openings become the first cavity;
Forming a through electrode on the electrode by filling the through hole with a conductive material.
前記第2樹脂膜を形成する工程は、前記第5開口部上に第6開口部を有する前記第2樹脂膜を形成する工程を含み、
前記第3樹脂膜を形成する工程は、前記第5開口部および前記第6開口部が第2空洞部となるように前記第3樹脂膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項9記載の電子部品の製造方法。 The step of forming the first resin film includes the step of forming the first resin film having a fifth opening on the functional portion of the element,
The step of forming the second resin film includes the step of forming the second resin film having a sixth opening on the fifth opening,
The step of forming the third resin film includes a step of forming the third resin film so that the fifth opening and the sixth opening become a second cavity. The manufacturing method of the electronic component of description.
前記電極上の前記樹脂を貫通する貫通孔および前記貫通孔の側面から2以上の方向に延びる第1空洞部を形成する工程と、
前記貫通孔にスキージ印刷により導電性材料を充填することで、前記電極上に貫通電極を形成する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法。 Forming an element on the substrate and an electrode electrically connected to the element, and forming a resin on the substrate so as to cover the element;
Forming a through hole penetrating the resin on the electrode and a first cavity extending in two or more directions from a side surface of the through hole;
Forming a through electrode on the electrode by filling the through hole with a conductive material by squeegee printing.
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