JP5026133B2 - Flexible printed circuit board - Google Patents

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Description

本発明は、主としてカメラ等の光学機器における信号伝達の為に使用されるフレキシブルプリント基板に関する。このフレキシブルプリント基板は、フレアやゴーストなどの障害を抑制する為の反射防止層(皮膜)を備えている。   The present invention relates to a flexible printed board used mainly for signal transmission in an optical apparatus such as a camera. This flexible printed circuit board is provided with an antireflection layer (film) for suppressing obstacles such as flare and ghost.

一般的に、スチールカメラ、ビデオカメラ等の光学機器では、レンズを通過した入射光の反射が引き起こす障害が問題となっている。具体的には、内壁からの反射光、或いは、鏡筒部周囲に、信号伝達の為に使用されるフレキシブルプリント基板からの反射光が、受光素子等に入射すると、撮影映像や動画にフレアやゴーストなどの障害が生じる。
かかる反射光に起因する問題を解決するために反射光を低減し得る公知の手段としては、(1)フレキシブルプリント基板に熱硬化性接着剤を介して反射防止フィルムを貼り付ける方法や(2)フレキシブルプリント基板に艶消しインクを塗布する方法等が広く知られている。また、この種の艶消しインクには、反射防止剤としてのカーボンブラックを配合することも広く知られている(例えば、特許文献1乃至3参照)。
In general, in an optical apparatus such as a still camera or a video camera, there is a problem of a failure caused by reflection of incident light that has passed through a lens. Specifically, when reflected light from the inner wall or reflected light from a flexible printed circuit board used for signal transmission around the lens barrel is incident on the light receiving element or the like, flare or Disturbances such as ghosts occur.
Known means that can reduce the reflected light in order to solve the problems caused by the reflected light include (1) a method of attaching an antireflection film to a flexible printed circuit board via a thermosetting adhesive, and (2) A method of applying matte ink to a flexible printed circuit board is widely known. It is also widely known that this type of matte ink is blended with carbon black as an antireflection agent (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

一方、反射防止機能以外の要素に目を向けると、カメラ等の光学機器においては小型化の流れは止まることはなく、フレキシブルプリント基板に対しても必然的に小型化、薄型化が要求されている。すなわち光学機器の小型化、薄型化に対応するためには、フレキシブルプリント基板も単に小型化と薄型化を追求するだけでは不十分であり、総合的な機能を満足することが求められ、特に屈曲性、可撓性を十分に満足することが必要である。   On the other hand, if we look at elements other than the antireflection function, the trend toward miniaturization of optical devices such as cameras will not stop, and flexible printed circuit boards are inevitably required to be smaller and thinner. Yes. In other words, in order to cope with the miniaturization and thinning of optical equipment, it is not sufficient to simply pursue the miniaturization and thinning of a flexible printed circuit board. It is necessary to sufficiently satisfy the properties and flexibility.

また、光学機器の高性能化に伴い、フレキシブルプリント基板等の部品に付着するごみについてもその影響が無視できなくなってきており、ごみ対策が解決すべき重大な課題の一つとなっている。ごみ除去のためには溶剤による洗浄が有効であり、したがって、フレキシブルプリント基板には溶剤に耐え得るだけの耐溶剤性が求められる。   In addition, with the improvement in performance of optical equipment, the influence of dust attached to components such as flexible printed circuit boards has become ignorable, and this is one of the important issues that should be solved. Cleaning with a solvent is effective for removing dust. Therefore, the flexible printed circuit board is required to have solvent resistance sufficient to withstand the solvent.

加えて、近年の人体や環境に対する鉛の影響が懸念されることから、鉛を使わない半田ペーストを使用して部品実装を行うケースが多くなっている。鉛成分を含まない結果、半田ペーストの融点が高温化しているため、フレキシブルプリント基板についても従来よりも高い温度での耐熱性が求められる。   In addition, since there is concern about the influence of lead on the human body and the environment in recent years, there are many cases where component mounting is performed using a solder paste that does not use lead. As a result of not containing the lead component, the melting point of the solder paste is increased, so that the flexible printed circuit board is also required to have heat resistance at a higher temperature than before.

特開平10−275964号公報JP-A-10-275964 特開平02−050826号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-050826 特開平07−319004号公報JP 07-31904 A

しかし、前述の(1)反射防止フィルムを貼り付ける方法では、接着剤層(一般的に、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化型接着剤層)を設けるため、必然的にフレキシブルプリント基板全体の厚みが増すこととなる。かかる厚さの増加は屈曲性の低下、折り曲げ時の反発力の増加を招く。さらに、反射防止フィルムと基板とを繋ぐ熱硬化性接着剤が、鉛フリータイプの半田ペーストの使用に耐え得るだけの満足な耐熱性を有しない点にも不利がある。   However, in the above-described method (1) of applying the antireflection film, an adhesive layer (generally, a thermosetting adhesive layer such as epoxy or acrylic) is inevitably formed. The thickness will increase. Such an increase in thickness leads to a decrease in flexibility and an increase in repulsive force during bending. Further, there is a disadvantage that the thermosetting adhesive that connects the antireflection film and the substrate does not have sufficient heat resistance to withstand the use of lead-free solder paste.

また、前述の(2)艶消しインクを塗布する方法においても、一般的な艶消しインクの主成分はエポキシ系、アクリル系、ウレタン系等であるため、耐熱性が不十分となりやすい。さらに、ごみ洗浄、基板洗浄等で用いられるアルコール類、ケトン類等の有機溶剤に対する耐性が不十分である。   Further, in the above-described method (2) method of applying matte ink, the main component of general matte ink is epoxy, acrylic, urethane, etc., so that heat resistance tends to be insufficient. In addition, the resistance to organic solvents such as alcohols and ketones used in dust cleaning and substrate cleaning is insufficient.

加えて、この種の艶消しインクに配合されるカーボンブラックには一種の電磁波である光エネルギーを減衰させる機能が認められるが、カーボンブラックは一種の導電性物質であるため、これを主材とする反射光を低減するインクをプリント基板に塗布する場合には絶縁性塗料による下塗りが必要となる。又、カーボンブラックは、バインダー樹脂との接着性を欠き、炭酸カルシウムや水酸化マグネシウム、カオリンクレー等の通常の充填剤(フィラー)のようにインクに多量配合し難く、その配合された当該インクの塗布量を多くして当該塗膜の膜厚を厚くせざるを得なくなる。
しかし、絶縁性塗料による下塗りを施したり、反射光を低減する塗膜の膜厚を厚くすると、フレキシブルプリント基板の可撓性が損なわれ、塗膜が亀裂し剥脱し易くなる。
In addition, the carbon black blended in this kind of matte ink has a function of attenuating light energy, which is a kind of electromagnetic wave, but carbon black is a kind of conductive material. When ink for reducing reflected light to be applied is applied to a printed circuit board, an undercoat with an insulating paint is required. Carbon black lacks adhesiveness with the binder resin and is difficult to be blended in large amounts in inks like ordinary fillers (fillers) such as calcium carbonate, magnesium hydroxide and kaolin clay. The coating amount must be increased to increase the thickness of the coating film.
However, when an undercoat is applied with an insulating paint or the thickness of the coating film that reduces reflected light is increased, the flexibility of the flexible printed circuit board is impaired, and the coating film is cracked and easily peeled off.

屈折率が1.5以下であるシリコーン樹脂(屈折率1.40〜1.45)、フッ素樹脂(屈折率1.35〜1.40)、カチオン性アクリル樹脂(屈折率1.48)、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等の低屈折率樹脂では、樹脂表面での反射光が少なく、反射光を低減するインクのバインダーに好適と考えられている。
しかし、シリコーン樹脂やフッ素樹脂はベース基板との接着性が悪く、絶えず曲折して使用されるフレキシブルプリント基板には不向きである。また、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等は、接着性はよいものの耐熱性を欠き、帯熱状況におかれる光学機器のフレキシブルプリント基板には不向きである。かかるインクからなる塗膜が、無鉛半田ペーストの使用に耐え得るだけの耐熱性を具備しない点にも不利がある。
Silicone resin (refractive index 1.40 to 1.45) having a refractive index of 1.5 or less, fluororesin (refractive index 1.35 to 1.40), cationic acrylic resin (refractive index 1.48), polyamide Low refractive index resins such as resins and polyurethane resins are considered to be suitable as an ink binder for reducing reflected light because of little reflected light on the resin surface.
However, silicone resin and fluororesin have poor adhesion to the base substrate and are not suitable for flexible printed boards that are constantly bent. In addition, acrylic resin, polyamide resin, polyurethane resin, and the like have good adhesiveness but lack heat resistance, and are not suitable for a flexible printed circuit board of an optical device in a heated state. There is also a disadvantage in that the coating film made of such ink does not have sufficient heat resistance to withstand the use of lead-free solder paste.

本発明は以上のような問題点を解決するためになされたものであり、優れた反射光防止能を備えることは勿論のこと、当該反射防止能を発揮する艶消しインクの塗膜によってベース基板の本来の可撓性が損なわれることがなく、しかも優れた耐溶剤性と耐熱性とを兼ね備えた、新規なフレキシブルプリント基板を得ることを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and has a base substrate made of a matte ink coating film that exhibits an excellent anti-reflective ability as well as an anti-reflective ability. It is an object of the present invention to obtain a novel flexible printed circuit board that does not impair its original flexibility and has both excellent solvent resistance and heat resistance.

上述のように、近年、鉛フリー半田への対応のためリフロー温度は220℃から250℃へと耐熱性への要求はさらに厳しくなっている。また、耐熱性とともにフレキシブルプリント基板に用いる艶消しインクには、基板に対する接着性、可撓性、耐折性も満足することを求められている。しかし、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系の樹脂をバインダーとする従来の艶消しインクでは、これらの要求を満足できなかった。リフロー温度耐熱性を有する樹脂としては、(1)ポリアミドイミド、(2)ポリイミド及び(3)ポリアミドイミドへ特定量のエポキシを配合した樹脂が使用可能であり、これらを艶消しインクのバインダーとして検討を行った結果、ポリアミドイミドとポリイミドが好ましく、当社フレキシブルプリント基板と同じ樹脂であるポリアミドイミドが可撓性など信頼性の点からバインダーとしてもっとも好ましいという知見を得た。また、艶消しインクには従来からシリカ粒子が用いられてきたが、シリカの表面特性と処理方法を検討した結果、疎水性シリカを選択することにより、樹脂の屈折率及びカーボンブラックの要否にかかわらず、光沢度(反射防止特性の評価特性)、可撓性、耐折性を最適に制御できる条件を見出し、また、カーボンブラックを添加することにも反射低減の効果があり、非導電性のカーボンブラックが好適であるとの知見を得、本発明を完成するに至った。   As described above, in recent years, in order to cope with lead-free solder, the requirement for heat resistance has become more severe from 220 ° C. to 250 ° C. Further, matte ink used for flexible printed boards as well as heat resistance is required to satisfy adhesion to the board, flexibility, and folding resistance. However, conventional matte inks using epoxy, acrylic and urethane resins as binders cannot satisfy these requirements. As the resin having heat resistance at reflow temperature, (1) polyamide imide, (2) polyimide, and (3) polyamide imide with a specific amount of epoxy can be used, and these are considered as binders for matte ink. As a result, it was found that polyamideimide and polyimide are preferable, and polyamideimide which is the same resin as our flexible printed circuit board is most preferable as a binder from the viewpoint of reliability such as flexibility. In addition, silica particles have been used for matte ink, but as a result of studying the surface characteristics and processing method of silica, the hydrophobic index of the silica can be selected to determine the refractive index of the resin and the necessity of carbon black. Regardless, we have found conditions that allow optimal control of glossiness (evaluation characteristics of antireflection properties), flexibility, and folding resistance, and the addition of carbon black also has the effect of reducing reflection and is non-conductive. The present inventors have obtained knowledge that carbon black is suitable and have completed the present invention.

すなわち、本発明に係るフレキシブルプリント基板は、疎水化処理が施された平均粒径2〜8μmのシリカ微粒子と芳香族ポリアミドイミド樹脂と有機溶媒を主成分とする艶消しインクによる膜厚5〜20μmの塗膜によって表面が被覆されており、艶消しインクには、芳香族ポリアミドイミド樹脂100重量部に対し、5重量部〜8重量部のシリカ微粒子が配合されており、艶消しインクの粘度が2000poise 以下に調整されており、JIS−Z−8741に規定される測定方法によって測定される表面光沢度が2.0%以下であることを第1の特徴とする。 That is, the flexible printed circuit board according to the present invention has a film thickness of 5 to 20 μm by matte ink mainly composed of silica fine particles having an average particle diameter of 2 to 8 μm, an aromatic polyamideimide resin and an organic solvent subjected to a hydrophobic treatment. The matte ink contains 5 to 8 parts by weight of silica fine particles per 100 parts by weight of the aromatic polyamideimide resin, and the matte ink has a viscosity of The first characteristic is that the surface glossiness is 2.0% or less, which is adjusted to 2000 poise or less and is measured by a measuring method specified in JIS-Z-8741.

本発明に係るフレキシブルプリント基板の第2の特徴は、上記第1の特徴に加えて、シリカ微粒子の形状が球状である点にある。 A second aspect of the flexible printed circuit board according to the present invention, in addition to the first feature, the shape of the silica fine particles is in terms Ru spherical der.

本発明に係るフレキシブルプリント基板の第3の特徴は、上記第1と第2の何れかの特徴に加えて、有機溶媒がN・N・ジメチルホルムアミド、N・N・ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N・メチル・2・ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミドから選ばれる何れか一種類の極性有機溶媒を含み、艶消しインクに非導電性のカーボンブラックが配合されている点にある。 The third feature of the flexible printed circuit board according to the present invention is that, in addition to any of the first and second features, the organic solvent is N · N · dimethylformamide, N · N · dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N -It contains any one kind of polar organic solvent selected from methyl 2, pyrrolidone and hexamethylphosphoramide, and is characterized in that non-conductive carbon black is blended in matte ink.

本発明によると、艶消しインク14の膜厚(5〜20μm)の割にはシリカ微粒子12の粒径(2〜8μm)が大きく、シリカ微粒子の粒径に応じた微細な凹凸が形成されて塗膜表面での反射光が抑えられる(図1参照)。かくして、フレキシブルプリント基板11の表面光沢度が2.0以下であり、フレキシブルプリント基板の幻影(フレアやゴースト)が正規に映し出されるべき影像に朧に現われることを効果的に防ぐことができる。   According to the present invention, the particle size (2 to 8 μm) of the silica fine particles 12 is large for the film thickness (5 to 20 μm) of the matte ink 14, and fine irregularities corresponding to the particle size of the silica fine particles are formed. Reflected light on the coating surface is suppressed (see FIG. 1). Thus, the surface glossiness of the flexible printed circuit board 11 is 2.0 or less, and it is possible to effectively prevent the illusion (flare or ghost) of the flexible printed circuit board from appearing in the image to be properly projected.

芳香族ポリアミドイミド樹脂13の溶媒に、N・N・ジメチルホルムアミド、N・N・ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N・メチル・2・ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミドの何れかの極性有機溶媒を使用するときは、チキソトロピックな特性がカバーレイインクに好適なポリアミド樹脂インクを得ることができるので、にじみのない密着性に優れた極薄塗膜をフレキシブルプリント基板11の表面に形成することができる。   As the solvent for the aromatic polyamideimide resin 13, any one of polar organic solvents such as N · N · dimethylformamide, N · N · dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N · methyl · 2 · pyrrolidone, and hexamethylphosphoramide is used. In some cases, a polyamide resin ink having thixotropic characteristics suitable for a coverlay ink can be obtained, so that an ultrathin coating film having excellent adhesion without bleeding can be formed on the surface of the flexible printed board 11.

フレキシブルプリント基板11の表面に形成される艶消しインク14の膜厚が極薄(5〜20μm)で、可撓性に富み、その塗膜(反射防止層)に亀裂が発生しない。そして、本発明では艶消しインク14の塗膜を極薄にしたのでベース基板15やプリント回路16によく馴染んで剥脱しない。つまり、ベース基板15やプリント回路16上に、艶消しインク14からなる塗膜が不離一体的に形成されたフレキシブルプリント基板11を得ることができる。
加えて、芳香族ポリアミドイミド樹脂は、フッ素樹脂やシリコーン樹脂に比して接着性に優れ、また、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、および、ポリウレタン樹脂に比して耐熱性に優れている。また、芳香族ポリアミドイミド樹脂は、アルコールやメチルエチルケトン等の一般有機溶媒には難溶解で極性溶媒に溶解する耐溶媒溶解性(耐溶剤性)を有する。
このため、本発明によると、一般有機溶媒を使用して洗浄拭き取りが可能で耐溶剤性に富み、しかも無鉛半田ペーストの使用に耐え、耐久性に富むフレキシブルプリント基板11を得ることができる。
The matte ink 14 formed on the surface of the flexible printed board 11 has a very thin film thickness (5 to 20 μm), is highly flexible, and does not crack in the coating film (antireflection layer). In the present invention, since the coating film of the matte ink 14 is made extremely thin, it is well adapted to the base substrate 15 and the printed circuit 16 and does not peel off. That is, it is possible to obtain the flexible printed circuit board 11 in which the coating film made of the matte ink 14 is formed on the base substrate 15 and the printed circuit 16 in an integral manner.
In addition, the aromatic polyamideimide resin is excellent in adhesiveness as compared with a fluororesin and a silicone resin, and is excellent in heat resistance as compared with a polyamide resin, an acrylic resin, and a polyurethane resin. In addition, the aromatic polyamideimide resin has solvent solubility (solvent resistance) that is difficult to dissolve in a general organic solvent such as alcohol and methyl ethyl ketone but dissolves in a polar solvent.
For this reason, according to the present invention, it is possible to obtain a flexible printed circuit board 11 that can be cleaned and wiped using a general organic solvent, has high solvent resistance, and withstands the use of lead-free solder paste, and has high durability.

本発明によると、フレキシブルプリント基板11の表面にシリカ微粒子12と芳香族ポリアミドイミド樹脂13によって表面光沢度が2.0以下の艶消し塗膜が形成され、その塗膜へのカーボンブラックの使用は必ずしも必要でない。尤もカーボンブラックを添加することにより、反射率・光沢度のさらなる低減化を図ることができる。   According to the present invention, a matte coating film having a surface glossiness of 2.0 or less is formed on the surface of the flexible printed circuit board 11 by the silica fine particles 12 and the aromatic polyamideimide resin 13, and the use of carbon black for the coating film is as follows. It is not always necessary. However, by adding carbon black, the reflectance and gloss can be further reduced.

図1に本発明に係るフレキシブルプリント基板の実施形態を示す。このフレキシブルプリント基板11は、以下に示すような艶消しインク14を、プリント回路16を有するベース基板15上に印刷することにより、反射光を低減する機能を有する塗膜を形成してなるものである。かかる艶消しインク14からなる塗膜は、図示例のごとく、ベース基板15の両面に形成するほか、片面に形成することができる。塗膜の形成個所は、全面に限られず、一部であってもよい。   FIG. 1 shows an embodiment of a flexible printed circuit board according to the present invention. This flexible printed circuit board 11 is formed by forming a coating film having a function of reducing reflected light by printing matte ink 14 as shown below on a base substrate 15 having a printed circuit 16. is there. The coating film made of the matte ink 14 can be formed on one side as well as on both sides of the base substrate 15 as in the illustrated example. The part where the coating film is formed is not limited to the entire surface, but may be a part.

この艶消しインク14は、芳香族ポリアミドイミド樹脂13とシリカ微粒子12と有機溶媒とを主成分とするものであり、5〜20μmの膜厚を有する。具体的には、この艶消しインク14は、極性有機溶媒に芳香族ポリアミドイミド樹脂13を配合して溶解し、シリカ微粒子12を配合して攪拌機、ボールミル、三本ロールミル等に通して調製したものである。   This matte ink 14 is composed mainly of an aromatic polyamideimide resin 13, silica fine particles 12, and an organic solvent, and has a thickness of 5 to 20 μm. Specifically, this matte ink 14 is prepared by blending and dissolving an aromatic polyamideimide resin 13 in a polar organic solvent, blending silica fine particles 12 and passing through a stirrer, a ball mill, a three roll mill or the like. It is.

本発明における芳香族ポリアミドイミド樹脂13は、化1または化2で示される。尚、化1または化2において、nは2以上の整数を示す。また、化2において、Xは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カルボン基またはメチル基を示し、nは2以上の整数を示す。   The aromatic polyamideimide resin 13 in the present invention is represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2. In Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2, n represents an integer of 2 or more. In Chemical Formula 2, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfonyl group, a carboxylic group or a methyl group, and n represents an integer of 2 or more.

Figure 0005026133
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Figure 0005026133
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芳香族ポリアミドイミド樹脂13は、例えば、芳香族ジアミンと無水トリメリット酸クロライドとの反応や、芳香族イソシアネートとビスイミドジカルボン酸との反応によって得ることが出来る。   The aromatic polyamideimide resin 13 can be obtained, for example, by a reaction between an aromatic diamine and trimellitic anhydride chloride or a reaction between an aromatic isocyanate and bisimide dicarboxylic acid.

シリカ微粒子には球状を成すものや鱗片状をなすもの等各種の形態のものがあるが、本発明のインク調製の際に添加し、最終的に塗膜を構成するシリカ微粒子12には、光沢度と耐折性の点からその形状は球状が好ましい(表11参照)。本発明のインクによる塗膜の可撓性と艶消し効果の点では、球状を成すもの、特に、芳香族ポリアミドイミド樹脂との親和性の点を考慮して、シリコンオイルまたはシランカップリング処理により疎水化したシリカや塩基性塩化アルミニウムで処理したアルミナ被覆シリカの使用が推奨される(表4参照)。   There are various types of silica fine particles, such as spherical ones and scale-like ones, which are added during the preparation of the ink of the present invention, and finally the silica fine particles 12 constituting the coating film are glossy. From the viewpoint of degree and folding resistance, the shape is preferably spherical (see Table 11). In view of the flexibility and matting effect of the coating film by the ink of the present invention, in consideration of the affinity with the spherical shape, in particular, the aromatic polyamideimide resin, by silicon oil or silane coupling treatment The use of hydrophobized silica or alumina coated silica treated with basic aluminum chloride is recommended (see Table 4).

シリカ微粒子12の平均粒径は、2〜8μmの範囲とすることが好ましい(図2乃至図5参照)。これはシリカ微粒子の平均粒径が2μmを下回ると光沢度が上昇すること、8μmを超えると、耐折性が不良となることに拠る。   The average particle diameter of the silica fine particles 12 is preferably in the range of 2 to 8 μm (see FIGS. 2 to 5). This is because the glossiness increases when the average particle size of the silica fine particles is less than 2 μm, and the folding resistance becomes poor when the average particle size exceeds 8 μm.

シリカ微粒子12の配合量は、その粒径に応じて変る艶消しインクの粘度、塗膜の表面粗度、光沢度及び耐折性を考慮して設定される。本発明者等の知見によれば、上記の2〜8μmの平均粒径を有するシリカ微粒子12を用いた場合には、芳香族ポリアミドイミド樹脂100重量部に対し、5重量部〜8重量部のシリカ微粒子12を配合することが好ましく、5重量部〜7重量部が最適である(表10、図6乃至図7参照)。   The blending amount of the silica fine particles 12 is set in consideration of the viscosity of the matte ink, the surface roughness of the coating film, the glossiness, and the folding resistance, which vary depending on the particle size. According to the knowledge of the present inventors, when silica fine particles 12 having an average particle diameter of 2 to 8 μm are used, 5 to 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of aromatic polyamideimide resin. The silica fine particles 12 are preferably blended, and 5 to 7 parts by weight is optimal (see Table 10 and FIGS. 6 to 7).

ベース基板15には、ポリアミドイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等が使用され、その表面に金属箔を貼り合わせ、エッチング処理してプリント回路16が刻設され、このプリント回路面16、或いは、その裏側のベース基板15の表面に艶消しインク14が塗布される。   For the base substrate 15, a polyamideimide film, a polyester film, a polycarbonate film, a polyimide film, or the like is used. A printed circuit 16 is engraved by bonding a metal foil to the surface of the base substrate 15 and performing an etching process. Alternatively, the matte ink 14 is applied to the surface of the base substrate 15 on the back side.

本発明に係る艶消しインク14には、カーボンブラックを添加することができる。かかるカーボンブラックは、反射防止膜表面に当たった光のうち表面で反射した光以外の、反射防止膜内に入射した残余の光を一部吸収して、トータルの反射率を下げる効果を有する(表5参照)。かかるカーボンブラックの添加量は、0.5〜5重量%の範囲であることが好ましい。   Carbon black can be added to the matte ink 14 according to the present invention. Such carbon black has an effect of reducing the total reflectance by partially absorbing the remaining light incident on the antireflection film other than the light reflected on the surface among the light hitting the antireflection film ( (See Table 5). The amount of carbon black added is preferably in the range of 0.5 to 5% by weight.

フレキシブルプリント基板は絶縁性であることが求められ、絶縁性に関してはJPCA規格が定められている。しかし、通常の場合、カーボンブラックは導電性を有する。そこで、本発明では、非導電性のカーボンブラックを用いることで、上記のJPCA規格を満足することができる(表6、表7、表8参照)。かかる非導電性のカーボンブラックの具体例としては、三菱化学社製、MA78を挙げることができる。尤も、本発明はこれに限定されるものではなく、要は非導電性のカーボンブラックであればよい。 The flexible printed circuit board is required to be insulative, and the JPCA standard is defined for the insulative property. However, carbon black usually has electrical conductivity. Therefore, in the present invention, the above-mentioned JPCA standard can be satisfied by using non-conductive carbon black (see Table 6, Table 7, and Table 8). Specific examples of such non-conductive carbon black include MA78 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. However, the present invention is not limited to this, and what is necessary is just non-conductive carbon black.

本発明において使用される艶消しインク14は、フレキシブルプリント基板11の他に、光学機器に装着される電子部品や光学機器内壁面の塗装に使用することも出来る。例えば、カバーレイ上に本発明に係る反射防止膜を形成することも可能である。カプトン、ポリイミド、ポリイミドアミド等から成る各種カバーレイフィルムの上に本発明に係る反射防止膜を形成することは、光学機器に装着される電子部品や光学機器内壁面にフレアやゴースト等の障害を防止する好ましい効果をもたらす。したがって、当然ながらカバーレイフィルムへの本発明の実施をなんら妨げることはない。
その場合、可撓性や耐熱性の要求されない部位では、芳香族ポリアミドイミド樹脂に代えて屈折率が1.5以下となるシリコーン樹脂を使用することが出来、又、酸化チタンも艶消し剤としてシリカ微粒子と併用することも出来る。
The matte ink 14 used in the present invention can be used for coating electronic parts mounted on optical equipment and inner wall surfaces of optical equipment in addition to the flexible printed circuit board 11. For example, the antireflection film according to the present invention can be formed on the coverlay. Forming the antireflection film according to the present invention on various cover lay films made of Kapton, polyimide, polyimide amide, etc. can cause obstacles such as flare and ghost on the electronic parts mounted on the optical equipment and the inner wall surface of the optical equipment. It has a favorable effect to prevent. Therefore, of course, implementation of this invention to a coverlay film is not prevented at all.
In that case, a silicone resin having a refractive index of 1.5 or less can be used in place of the aromatic polyamideimide resin in a portion where flexibility and heat resistance are not required, and titanium oxide is also used as a matting agent. It can also be used in combination with silica fine particles.

次に、実施例と比較例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
以下の実施例と比較例で行ったフレキシブルプリント基板の評価方法および条件は以下の通りである。
〈光沢度〉
JIS−Z−8741に従い、入射光60度に対する光沢度を測定する。
〈半田耐熱性〉
フレキシブルプリント基板の試験片を270℃の半田浴に30秒浸漬したときの艶消しインクの塗膜の膨れと剥離の有無を目視確認する。
〈耐溶剤性〉
一般的な洗浄に使用する溶剤として、アセトン、キシレン、2−プロパノール(IPA)、エタノール、水の5種類を準備し、それを不織布に含浸させて艶消しインクの塗膜を拭き取りを行い、その塗膜の外観の変化具合を目視確認する。
Next, although an example and a comparative example explain the present invention concretely, the present invention is not limited to these examples.
The evaluation methods and conditions of flexible printed circuit boards performed in the following examples and comparative examples are as follows.
<Glossiness>
In accordance with JIS-Z-8741, the glossiness for incident light of 60 degrees is measured.
<Solder heat resistance>
When the test piece of the flexible printed circuit board is immersed in a solder bath at 270 ° C. for 30 seconds, the coating of the matte ink is visually checked for swelling and peeling.
<Solvent resistance>
Prepare five types of acetone, xylene, 2-propanol (IPA), ethanol, and water as solvents used for general cleaning, impregnate them into a nonwoven fabric, wipe off the matte ink film, Visually check the change in appearance of the coating.

〈ベース基板の準備〉
フレキシブルプリント基板のベース基板には、可撓性と耐熱性に優れ、表裏に接着剤の塗着されていないものを使用する。
〈フレキシブルプリント基板の調製〉
二層銅張積層板であるエスパネックスMシリーズ(新日鉄化学株式会社製)の銅箔面に極性有機溶媒可溶性型芳香族ポリアミドイミド樹脂(ニッポン高度紙工業株式会社製ソクシール(登録商標))をスクリーン印刷装置により塗布厚みを20μmに設定して塗布し、100℃にて8分間予備乾燥し、次いで遠赤外線炉において300℃にて50分間最終加熱乾燥処理してフレキシブルプリント基板を作成する。
<Preparation of base substrate>
As the base substrate of the flexible printed circuit board, one having excellent flexibility and heat resistance and having no adhesive applied on the front and back sides thereof is used.
<Preparation of flexible printed circuit board>
Screened with an organic polyamide-imide resin (Sokuseal (registered trademark) made by Nippon Kogyo Kogyo Co., Ltd.) on the copper foil surface of Espanex M Series (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), a two-layer copper clad laminate. The coating thickness is set to 20 μm using a printing apparatus, preliminarily dried at 100 ° C. for 8 minutes, and then subjected to final heat drying at 300 ° C. for 50 minutes in a far-infrared furnace to produce a flexible printed circuit board.

[実施例1]
4、4−ジアミノジフェニルエーテルと無水トリメリット酸クロライドから合成した極性有機溶媒可溶性の芳香族ポリアミドイミド樹脂100重量部をN−メチルピロリドン450重量部によって溶解した。
次いで、平均粒径5μmの疎水性球状シリカ(SS−70、東ソー・シリカ株式会社製)7重量部と、平均粒径20nmのカーボンブラック(三菱化学工業株式会社製)1重量部を加え、攪拌機で均一に分散させ、艶消しインクを調製した。
予め作成した前記フレキシブルプリント基板にスクリーン印刷装置により塗布し、100℃で8分間予備乾燥し、次いで遠赤外線炉において300℃にて50分間最終加熱乾燥処理して厚さ10μmの艶消しインク塗膜を形成した。
[Example 1]
100 parts by weight of a polar organic solvent-soluble aromatic polyamideimide resin synthesized from 4,4-diaminodiphenyl ether and trimellitic anhydride chloride was dissolved in 450 parts by weight of N-methylpyrrolidone.
Subsequently, 7 parts by weight of hydrophobic spherical silica having an average particle diameter of 5 μm (SS-70, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) and 1 part by weight of carbon black having an average particle diameter of 20 nm (manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) were added, and a stirrer was added. And uniformly dispersed to prepare a matte ink.
A matte ink coating having a thickness of 10 μm is applied to the previously prepared flexible printed circuit board by a screen printing apparatus, preliminarily dried at 100 ° C. for 8 minutes, and then finally heated and dried at 300 ° C. for 50 minutes in a far-infrared furnace. Formed.

[実施例
シリカ微粉末として平均粒径5μmの疎水性球状シリカ(東ソー・シリカ株式会社製)を使用し、添加量を5重量部とした以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作成した。
[Example 2 ]
A flexible printed circuit board was prepared in the same manner as in Example 1 except that hydrophobic spherical silica (manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) having an average particle diameter of 5 μm was used as the silica fine powder, and the addition amount was 5 parts by weight.

[実施例
カーボンブラックを使用しなかったこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作成した。
[Example 3 ]
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that carbon black was not used.

[比較例1]
一般市販の艶消しインク(セイコウアドバンス社製)を予め作成した前記フレキシブルプリント基板にスクリーン印刷装置により塗布し、80℃で60分間乾燥し、厚さ10μmの艶消しインク塗膜を形成した。
[Comparative Example 1]
A commercially available matte ink (manufactured by Seiko Advance Co., Ltd.) was applied to the previously prepared flexible printed circuit board with a screen printing apparatus and dried at 80 ° C. for 60 minutes to form a matte ink coating film having a thickness of 10 μm.

[比較例2]
一般市販の艶消しインク(東洋インキ株式会社製)を予め作成した前記フレキシブルプリント基板にスクリーン印刷装置により塗布し、60℃で60分間乾燥し、厚さ10μmの艶消しインク塗膜を形成した。
[Comparative Example 2]
A commercially available matte ink (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was applied to the flexible printed board prepared in advance by a screen printing apparatus and dried at 60 ° C. for 60 minutes to form a matte ink coating film having a thickness of 10 μm.

実施例1〜と比較例1〜2で得られたフレキシブルプリント基板の物性を表1に示す。表1が示す通り、比較例1〜2のフレキシブルプリント基板は、何れも高い反射率を示し、耐熱性と耐溶剤性においても満足し得るものではなかった。これに対し、本発明の実施例1〜のフレキシブルプリント基板では、光沢度において低い値(光沢度2.0%以下)を示し、耐熱性と耐溶剤性においても優れた特性を示すものであった。また、実施例より、本発明に係るフレキシブルプリント基板では、艶消しインクへのカーボンブラックの配合が無くても、低い反射率を達成出来ることが確認できた。 Table 1 shows the physical properties of the flexible printed boards obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. As Table 1 shows, the flexible printed circuit boards of Comparative Examples 1 and 2 all showed high reflectivity, and were not satisfactory in heat resistance and solvent resistance. On the other hand, in the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 3 of the present invention, the gloss value is low (the gloss value is 2.0% or less), and the heat resistance and the solvent resistance are also excellent. there were. Further, from Example 3 , it was confirmed that the flexible printed circuit board according to the present invention can achieve a low reflectance even without the addition of carbon black to the matte ink.

Figure 0005026133
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[実験例]
以下に、本発明を実施するための最良の形態に関する根拠を、実験結果により詳細に説明する。具体的には、シリカの粒径、シリカの形状、シリカ表面の化学的親和性等の反射防止膜作成条件側の要因による反射防止膜の表面粗度、光沢度、耐折性への効果についての評価試験を示す。
[Experimental example]
Below, the basis regarding the best mode for carrying out the present invention will be described in detail based on experimental results. Specifically, the effect on the surface roughness, glossiness, and folding resistance of the antireflection film due to factors such as the particle size of the silica, the shape of the silica, and the chemical affinity of the silica surface. The evaluation test is shown.

以下の実験においては、ニッポン高度紙工業株式会社製ポリアミドイミド樹脂インク(ソクシール(登録商標)、溶剤Nメチルピロリドン)に、実験目的に応じた各種のシリカを混練してインク試料を作成し、ブレード印刷とその後の乾燥工程を経て厚さ50μmのフィルムを作成し、各種条件で作成したフィルムの光沢度、耐折性、表面粗度を評価した。耐折性については、フィルム耐折性の指標の一つであるMIT試験法(R=0.38mm、加重500g)により試験を行った。インクについては、粘度をインク特性評価の指標とした。   In the following experiment, an ink sample was prepared by kneading various types of silica according to the purpose of the experiment with polyamide imide resin ink (Socsea (registered trademark), solvent N methylpyrrolidone) manufactured by Nippon Kogyo Paper Industries Co., Ltd. A film having a thickness of 50 μm was prepared through printing and a subsequent drying step, and the glossiness, folding resistance, and surface roughness of the film prepared under various conditions were evaluated. About folding resistance, it tested by the MIT test method (R = 0.38mm, weight 500g) which is one of the indexes of film folding resistance. For ink, viscosity was used as an index for evaluating ink characteristics.

〈インク〉
ソクシール粉末100重量部にNメチルピロリドン450重量部を加えて溶解したものに、各種のシリカと平均粒径20nmのカーボンブラック(三菱化学社製)を実験条件に応じて所定量加え、均一に分散したインクを得られるように固体粒子の凝集・沈降に注意しながら攪拌機を用いて所望のインクを作成した。塗布乾燥後の塗膜組成はソクシールとシリカ及びカーボンブラックから構成されるので、実験の都合上ここではシリカ添加量とカーボンブラック添加量及び溶剤使用量は、ソクシール樹脂粉末の100重量部に対する重量パーセントにより表示した。
<ink>
Disperse uniformly by adding various amounts of silica and carbon black having an average particle size of 20 nm (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) to 100 parts by weight of sock seal powder and adding 450 parts by weight of N-methylpyrrolidone according to the experimental conditions. The desired ink was prepared using a stirrer while paying attention to the aggregation / sedimentation of the solid particles so that the obtained ink was obtained. Since the coating composition after coating and drying is composed of sock seal, silica, and carbon black, for the convenience of the experiment, the silica addition amount, the carbon black addition amount, and the solvent use amount are weight percent with respect to 100 parts by weight of the sock seal resin powder. Displayed.

シリカ表面の化学的親和性に関する実験結果を表4に示す。表4において試料1は、特には表面処理されていない一般的なシリカ粒子(G)を用いて作成したフィルムである。これに対し、試料2はシランカップリング剤により表面を疎水化処理したシリカ(D)を用いて作成した場合である。なお、以下の表2および表3に、以下の各実験例で使用したシリカの種別をまとめて示す。   Table 4 shows the experimental results regarding the chemical affinity of the silica surface. In Table 4, sample 1 is a film prepared using general silica particles (G) that are not particularly surface-treated. On the other hand, Sample 2 is prepared using silica (D) whose surface is hydrophobized with a silane coupling agent. Tables 2 and 3 below collectively show the types of silica used in the following experimental examples.

Figure 0005026133
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後に詳述するように、スクリーン印刷におけるインク粘度は2000poise (以下Pとする)を超えると印刷は不可能である。試料1と試料2を比較すると、試料2のように表面に疎水性処理を行ったシリカ(D)を用いるとインク粘度が2000P以下となり、インク粘度が改善されることがわかる。そして、この試料2に係るインクを用いた結果、スクリーン印刷により、良好な塗膜を形成することができた。   As will be described in detail later, when the ink viscosity in screen printing exceeds 2000 poise (hereinafter referred to as P), printing is impossible. Comparing sample 1 and sample 2, it can be seen that when silica (D) whose surface is subjected to hydrophobic treatment as in sample 2 is used, the ink viscosity is 2000 P or less and the ink viscosity is improved. And as a result of using the ink which concerns on this sample 2, the favorable coating film was able to be formed by screen printing.

また、このインクを用いて形成した試料2のフィルムは、表4の通り、耐折性が1000回を超え、疎水化処理のない場合の100回以下に対し、10倍以上の大幅な改善を達成できた。これはシリカに疎水化処理を施すことにより、シリカ界面のソクシール樹脂に対する化学的親和性が改善され、その結果、この界面での破壊強度が高くなったことによると考える。以上の知見により、以後の実験においてはシランカップリング剤により疎水化処理を行ったシリカを用いた。なお、塗膜の表面光沢度は、シリカが疎水性でない場合も疎水性の場合のいずれにおいても目標とする2.0%以下であった。   In addition, as shown in Table 4, the film of Sample 2 formed using this ink has a folding resistance of more than 1000 times and a significant improvement of 10 times or more compared to 100 times or less when there is no hydrophobic treatment. I was able to achieve it. This is considered to be because the chemical affinity of the silica interface to the sock seal resin was improved by subjecting the silica to a hydrophobization treatment, and as a result, the fracture strength at this interface was increased. Based on the above findings, silica subjected to a hydrophobic treatment with a silane coupling agent was used in the subsequent experiments. In addition, the surface glossiness of the coating film was 2.0% or less which is the target in both cases where the silica is not hydrophobic and hydrophobic.

〈カーボン添加の影響について〉
カーボン添加の影響について、検討した結果を表5に示す。詳しくは、表5にカーボンブラックを添加しない場合と、添加した場合(黒色)における各物性(インク粘度、表面粗度、光沢度、耐折れ(回数))の差異を示す。ここではシリカ添加量はソクシール粉末重量の7wt%(以下、特別な場合を除きシリカのwt%とはソクシールに対する重量パーセント)とした。以下の各実験においては、カーボンブラックとして非導電性をもつ三菱化学社製、MA78を用いた。
<Influence of carbon addition>
Table 5 shows the results of studies on the effects of carbon addition. Specifically, Table 5 shows differences in physical properties (ink viscosity, surface roughness, glossiness, folding resistance (number of times)) when carbon black is not added and when carbon black is added (black). Here, the amount of silica added was 7 wt% of the weight of the sock seal powder (hereinafter, except for special cases, the wt% of silica is the weight percent with respect to the sock seal). In each of the following experiments, MA78 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation having non-conductivity was used as carbon black.

Figure 0005026133
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表5からわかるように、カーボンブラックの添加により若干ではあるが粘度が増大し、耐折性も低下する傾向が伺われるものの、カーボンブラック添加による影響はソクシール樹脂粉末重量の1wt%であれば無視できることがわかる。以下の実験では、カーボンブラックを添加して行った。   As can be seen from Table 5, although the viscosity increases slightly and the folding resistance tends to decrease with the addition of carbon black, the effect of adding carbon black is ignored if it is 1 wt% of the weight of the sock seal resin powder. I understand that I can do it. In the following experiment, carbon black was added.

〈フレキシブルプリント基板の絶縁性〉
フレキシブルプリント基板には一定以上の絶縁性を有することが求められる。しかし、通常の場合、カーボンブラックは導電性を有する。そこで、上記段落番号0045に示したインク調製方法に準じて、表6に示す条件のインクを調製した後、フレキシブルプリント基板の両面に印刷厚み10μmの塗膜を形成した試料を作成し、絶縁性を評価した。ここでのカーボンブラックは、非導電性を有する三菱化学社製のMA78を用いた。
<Insulation properties of flexible printed circuit boards>
A flexible printed circuit board is required to have a certain level of insulation. However, carbon black usually has electrical conductivity. Therefore, after preparing inks having the conditions shown in Table 6 according to the ink preparation method shown in the paragraph No. 0045, a sample having a coating thickness of 10 μm formed on both surfaces of the flexible printed board was prepared. Evaluated. As the carbon black here, MA78 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation having non-conductivity was used.

Figure 0005026133
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高温放置と低温放置それぞれの環境負荷試験における線間絶縁抵抗値の測定結果を表7と表8に示す。カーボンブラックを添加しない試料の各種環境負荷試験後の測定値は1E+13Ω以上であった。この評価結果はJPCA規格のレベル3(5.0E+8Ω)を十分満足するものであった。
一方、カーボンブラックを用いた黒色のインクによる黒色反射防止膜を有するフレキシブルプリント基板も、1重量部添加の場合も5重量部の場合とも、試験前の抵抗値は1E+13以上であった。カーボンブラックを用いない場合と同様に、高温放置と低温放置それぞれの環境負荷試験による試験後の抵抗値も、すべて1E+13以上であった。これらの評価結果はJPCA規格のレベル3(5.0E+8Ω)を十分満足するものであった。以上より、非導電性を有するカーボンブラックを用いれば、実用上問題のないことを確認することができた。
Tables 7 and 8 show the measurement results of the insulation resistance value between lines in the environmental load test for each of the high temperature storage and the low temperature storage. The measured value after various environmental load tests of the sample to which no carbon black was added was 1E + 13Ω or more. This evaluation result sufficiently satisfied level 3 (5.0E + 8Ω) of the JPCA standard.
On the other hand, the resistance value before the test was 1E + 13 or more in both the case of adding 1 part by weight and the case of adding 5 parts by weight of the flexible printed circuit board having the black antireflection film made of black ink using carbon black. Similarly to the case where carbon black was not used, the resistance values after the environmental load tests for both high temperature and low temperature exposure were all 1E + 13 or more. These evaluation results sufficiently satisfied level 3 (5.0E + 8Ω) of the JPCA standard. From the above, it was confirmed that there was no practical problem if non-conductive carbon black was used.

Figure 0005026133
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Figure 0005026133
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〈シリカの粒径と各物性〉
シリカ添加量7wt%(ソクシール重量比)の条件で、シリカの粒径を1.6μm〜10μmの範囲で変化させてインクを作成した。各インク組成とフィルムの特性測定結果を表9に示す。
<Silica particle size and physical properties>
Ink was prepared by changing the particle size of silica in the range of 1.6 μm to 10 μm under the condition of silica addition amount of 7 wt% (sock seal weight ratio). Table 9 shows the ink composition and the measurement results of the film characteristics.

Figure 0005026133
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〈シリカ粒径と表面粗度〉
図2にシリカ添加量7wt%(ソクシール比)におけるシリカの粒径と表面粗度の関係を示す。同図および表9より、シリカの粒径の増加に応じてほぼ直線的にRa(表面粗度)も増加していることがわかる。したがって、シリカの粒径が1〜10μmの範囲では添加するシリカの粒径により表面粗度を調整できることがわかる。
<Silica particle size and surface roughness>
FIG. 2 shows the relationship between the particle diameter of silica and the surface roughness at a silica addition amount of 7 wt% (soccer ratio). From this figure and Table 9, it can be seen that Ra (surface roughness) increases almost linearly as the particle size of silica increases. Therefore, it can be seen that the surface roughness can be adjusted by the particle size of the silica to be added when the silica particle size is in the range of 1 to 10 μm.

〈シリカ粒径と光沢度〉
図3にシリカ添加量7wt%(ソクシール比)におけるシリカの平均粒径と光沢度の関係を示す。同図および表9より、光沢度とシリカの平均粒径との間には、一定の規則性があることがわかる。すなわち、シリカの平均粒径の小径化に伴って光沢度が上昇しており、粒径1.6μmでは2%を上回っているため、好適な表面光沢度の数値範囲を2.0%以下に設定したことを考慮すると、シリカ粒子の粒径の下限は2.0μmとすることが適当である。以上より、光沢度の観点からは、本発明における好適なシリカの平均粒径は2.0μm以上である。
<Silica particle size and gloss>
FIG. 3 shows the relationship between the average particle diameter of silica and the glossiness at a silica addition amount of 7 wt% (sock seal ratio). From this figure and Table 9, it can be seen that there is a certain regularity between the glossiness and the average particle diameter of silica. That is, as the average particle diameter of the silica is reduced, the glossiness increases, and when the particle diameter is 1.6 μm, it exceeds 2%. Therefore, the preferable numerical value range of the surface glossiness is 2.0% or less. In consideration of the setting, the lower limit of the particle size of the silica particles is suitably 2.0 μm. From the above, from the viewpoint of glossiness, the preferred average particle diameter of silica in the present invention is 2.0 μm or more.

〈表面粗度と光沢度〉
図4にシリカ添加量7wt%(ソクシール比)におけるフィルムの表面粗度と光沢度の関係を示す。表面粗度が0.5μm付近以下では急激に光沢度が増加し、反射光が増えてくることがわかる。従って光沢度と表面粗度の観点からは、光沢度を安定的に1.5%以下に調整するためには、少なくとも表面粗度は0.5〜5μmであればよいことがわかる。
<Surface roughness and gloss>
FIG. 4 shows the relationship between the surface roughness of the film and the glossiness at a silica addition amount of 7 wt% (sock seal ratio). It can be seen that when the surface roughness is below 0.5 μm, the glossiness increases rapidly and the reflected light increases. Therefore, from the viewpoint of glossiness and surface roughness, it can be seen that at least the surface roughness may be 0.5 to 5 μm in order to stably adjust the glossiness to 1.5% or less.

シリカの粒径が耐折性に及ぼす効果を検討した。図5にシリカ添加量7wt%(ソクシール比)におけるシリカの平均粒径とMIT試験の結果を示す。同図および表7より、耐折性をMIT試験により評価すると、シリカの平均粒径が10μmになると耐折性はほぼ喪失することが明らかである。したがって、シランカップリング剤処理をしたシリカであっても平均粒径が10μm以上大きさのシリカを用いると、フレキシブルプリント基板として使用できるものが得られない。したがって、耐折性の観点から、反射防止膜を形成するために用いるシリカ粒子の粒径の上限を8μmとした。   The effect of silica particle size on folding resistance was investigated. FIG. 5 shows the average particle diameter of silica at a silica addition amount of 7 wt% (sock seal ratio) and the results of the MIT test. From this figure and Table 7, it is clear that when the folding resistance is evaluated by the MIT test, the folding resistance is almost lost when the average particle diameter of silica is 10 μm. Therefore, even if it is the silica which processed the silane coupling agent, what can be used as a flexible printed circuit board will not be obtained if the average particle diameter is 10 micrometers or more. Therefore, from the viewpoint of folding resistance, the upper limit of the particle size of the silica particles used for forming the antireflection film is 8 μm.

〈シリカ添加量〉
シリカ添加量とインク特性及び塗布乾燥後のフィルム特性の関係を確認するため、シリカ粒径を5μmとした条件において、シリカの添加量を3〜7wt%として試料を作成した。インク組成と作成したフィルムの特性の測定結果を表10に示す。
<Silica addition amount>
In order to confirm the relationship between the silica addition amount, the ink properties, and the film properties after coating and drying, a sample was prepared with the silica addition amount of 3 to 7 wt% under the condition that the silica particle size was 5 μm. Table 10 shows the measurement results of the ink composition and the properties of the prepared film.

Figure 0005026133
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図6にシリカの添加量とインクの粘度(p;ポイズ)との関係を示す。同図および表10より、シリカ添加量の増大に従いインク粘度が増大していることがわかる。スクリーン印刷においてはインクの粘度は塗膜形成上重要な要因であり、一般的に1500pを超すと印刷が困難となり、2000p以上では不可能になる場合もある。図6においてシリカ添加量と粘度の関係を外挿するとシリカ添加量が10%を超えると、インク粘度が2000(p)以上となるので、スクリーン印刷による印刷が困難になる。以上より、インクの粘度とシリカ添加量という観点からは、インク調製におけるシリカ添加量は8%以下であり、好ましくは6%以下である。   FIG. 6 shows the relationship between the amount of silica added and the viscosity (p; poise) of the ink. From the figure and Table 10, it can be seen that the ink viscosity increases as the silica addition amount increases. In the screen printing, the viscosity of the ink is an important factor for forming a coating film. Generally, if it exceeds 1500 p, printing becomes difficult, and if it exceeds 2000 p, it may be impossible. In FIG. 6, when the relationship between the silica addition amount and the viscosity is extrapolated, if the silica addition amount exceeds 10%, the ink viscosity becomes 2000 (p) or more, and printing by screen printing becomes difficult. From the above, from the viewpoint of the viscosity of the ink and the amount of silica added, the amount of silica added in the ink preparation is 8% or less, preferably 6% or less.

図7に平均粒径5μmのシリカを用いた場合におけるシリカ添加量と表面粗度との関係を示す。図8に同じく平均粒径5μmのシリカを用いた場合におけるシリカ添加量と光沢度の関係を示す。これらより、シリカを添加しない場合、表面は平滑であり、そのため光沢度が大きいことが分かる。シリカ添加量の増大にともない、表面粗度は増加し、それとともに光沢度は小さくなる。光沢度を2%以下とするためには、シリカ添加量は5wt%以上が好ましい。   FIG. 7 shows the relationship between the amount of silica added and the surface roughness when silica having an average particle size of 5 μm is used. FIG. 8 shows the relationship between the amount of silica added and the glossiness when silica having an average particle diameter of 5 μm is used. From these, it can be seen that when silica is not added, the surface is smooth, and therefore the glossiness is large. As the amount of silica added increases, the surface roughness increases and, at the same time, the glossiness decreases. In order to make the glossiness 2% or less, the amount of silica added is preferably 5 wt% or more.

図9に、シリカ添加量とMIT法による屈曲回数との関係を示す。同図より、シリカ添加量の増加に従って、MIT試験の耐折性指標(回)が低下(悪化)していることがわかる。シリカ添加量が10wt%を超えるとMIT試験は200回と推測され、フレキシブルプリント基板の耐折性としては実用にならない特性である。以上より、MIT試験の結果からはシリカの添加量は8wt%が上限であり、好ましくは7wt%以下である。   FIG. 9 shows the relationship between the amount of silica added and the number of bendings by the MIT method. From the figure, it can be seen that the folding resistance index (times) of the MIT test decreases (deteriorates) as the silica addition amount increases. When the amount of silica added exceeds 10 wt%, the MIT test is estimated to be 200 times, which is a characteristic that is not practical as the folding resistance of the flexible printed circuit board. As described above, the upper limit of the amount of silica added is 8 wt%, preferably 7 wt% or less, from the results of the MIT test.

シリカの形状の影響を述べる。上記の実験例と同様の条件で形状が鱗片状のシリカを用いてインクとそのフィルムを作成し、光沢度を比較した。その結果を表11に示す。同等の平均粒径で鱗片状の形状であるシリカの場合、同じ5wt%の添加量でも光沢度が7.0%となり、球状の場合に比較して大きくなった。鱗片状の形態の場合、平面状に配向するので、同じ添加量でも表面の凹凸が小さくなる。そのため、反射光が球状の場合より多くなる。したがって、添加する粒子の形状は異方性のない形状(球状)が好ましい。   The influence of the shape of silica is described. An ink and a film thereof were prepared using silica having a scaly shape under the same conditions as in the above experimental example, and the glossiness was compared. The results are shown in Table 11. In the case of silica having the same average particle diameter and scale-like shape, the glossiness was 7.0% even when the same addition amount of 5 wt% was obtained, which was larger than in the case of the spherical shape. In the case of a scale-like form, since it is oriented in a planar shape, surface irregularities are reduced even with the same addition amount. For this reason, the amount of reflected light is larger than when spherical. Accordingly, the shape of the particles to be added is preferably a shape having no anisotropy (spherical).

Figure 0005026133
Figure 0005026133

以上、説明してきたように、本発明によれば、従来の方法では成し得なかった、優れた耐熱性、耐溶剤性を具備し、かつ、反射防止層の厚みが20μm以下で、低反射率を実現する事が出来る、可撓性に優れたフレキシブルプリント基板を得ることができる。本発明の反射防止層を有するフレキシブルプリント基板を用いることにより、電子部品の溶剤、熱に対する信頼性が向上する。また、本発明に係るフレキシブルプリント基板は、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の小型化、高解像度化に大きく寄与できるものである。   As described above, according to the present invention, it has excellent heat resistance and solvent resistance, which cannot be achieved by a conventional method, and the antireflection layer has a thickness of 20 μm or less and low reflection. It is possible to obtain a flexible printed circuit board capable of realizing the rate and excellent in flexibility. By using the flexible printed board having the antireflection layer of the present invention, the reliability of the electronic component with respect to the solvent and heat is improved. The flexible printed circuit board according to the present invention can greatly contribute to miniaturization and high resolution of a digital camera, a mobile phone with a camera, and the like.

本発明に係るフレキシブルプリント基板を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the flexible printed circuit board which concerns on this invention. シリカの平均粒径と表面粗度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the average particle diameter of silica, and surface roughness. シリカの平均粒径とフィルム光沢度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the average particle diameter of a silica, and film glossiness. 表面粗度とフィルム光沢度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between surface roughness and film glossiness. シリカの平均粒径とMIT試験(耐折性)との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the average particle diameter of a silica, and a MIT test (folding resistance). シリカ添加量と粘度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a silica addition amount and a viscosity. シリカ添加量と表面粗度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the amount of silica addition, and surface roughness. シリカ添加量と光沢度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a silica addition amount and glossiness. シリカ添加量とMIT試験(耐折性)との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the addition amount of a silica, and a MIT test (folding resistance).

符号の説明Explanation of symbols

11 フレキシブルプリント基板
12 シリカ微粒子
13 芳香族ポリアミドイミド樹脂
14 艶消しインク
15 ベース基板
16 プリント回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Flexible printed circuit board 12 Silica microparticle 13 Aromatic polyamide-imide resin 14 Matte ink 15 Base board 16 Printed circuit

Claims (3)

疎水化処理が施された平均粒径2〜8μmのシリカ微粒子と芳香族ポリアミドイミド樹脂と有機溶媒を主成分とする艶消しインクによる膜厚5〜20μmの塗膜によって表面が被覆されており、
艶消しインクには、芳香族ポリアミドイミド樹脂100重量部に対し、5重量部〜8重量部のシリカ微粒子が配合されており、
艶消しインクの粘度が2000poise 以下に調整されており、
JIS−Z−8741に規定される測定方法によって測定される表面光沢度が2.0%以下であるフレキシブルプリント基板。
The surface is covered with a coating film having a film thickness of 5 to 20 μm made of matte ink mainly composed of silica fine particles having an average particle diameter of 2 to 8 μm subjected to a hydrophobization treatment , an aromatic polyamideimide resin and an organic solvent,
The matte ink contains 5 to 8 parts by weight of silica fine particles per 100 parts by weight of the aromatic polyamideimide resin.
The viscosity of the matte ink is adjusted to 2000 poise or less,
The flexible printed circuit board whose surface glossiness measured by the measuring method prescribed | regulated to JIS-Z-8741 is 2.0% or less.
シリカ微粒子の形状が球状である請求項1記載のフレキシブルプリント基板。 The flexible printed circuit board according to claim 1, wherein the shape of the silica fine particles Ru spherical der. 有機溶媒がN・N・ジメチルホルムアミド、N・N・ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N・メチル・2・ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミドから選ばれる何れか一種類の極性有機溶媒を含み、
艶消しインクに非導電性のカーボンブラックが配合されている請求項1又は2記載のフレキシブルプリント基板。
The organic solvent includes any one type of polar organic solvent selected from N · N · dimethylformamide, N · N · dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N · methyl · 2 · pyrrolidone, hexamethylphosphoramide,
The flexible printed circuit board according to claim 1, wherein non-conductive carbon black is blended in the matte ink.
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