JP5025128B2 - Thin film transistor circuit - Google Patents

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Description

本発明は、薄膜トランジスタの温度上昇を低減できる薄膜トランジスタ回路に関する。   The present invention relates to a thin film transistor circuit capable of reducing a temperature rise of a thin film transistor.

従来においては、薄膜トランジスタ回路により、例えば、図1に示す2倍昇圧電源回路1が構成される。   Conventionally, for example, a double boosting power supply circuit 1 shown in FIG.

2倍昇圧電源回路1では、充電期間と放電期間とが交互に訪れる。   In the double boosting power supply circuit 1, the charging period and the discharging period come alternately.

充電期間では、薄膜トランジスタQ1、Q2がオンし、薄膜トランジスタQ3、Q4がオフする。これにより、容量素子C2が充電され、その極間電圧が電圧VCCに等しくなる。   In the charging period, the thin film transistors Q1 and Q2 are turned on, and the thin film transistors Q3 and Q4 are turned off. Thereby, the capacitive element C2 is charged, and the voltage between the electrodes becomes equal to the voltage VCC.

放電期間では、薄膜トランジスタQ3、Q4がオンし、薄膜トランジスタQ1、Q2がオフする。これにより、容量素子C2のマイナス極に電圧VCCが印加され、しかも、容量素子C2から容量素子C1への放電がなされ、よって、容量素子C1のプラス極の、回路節点Gに対する電位が上昇する。   In the discharge period, the thin film transistors Q3 and Q4 are turned on, and the thin film transistors Q1 and Q2 are turned off. As a result, the voltage VCC is applied to the negative pole of the capacitive element C2, and discharge from the capacitive element C2 to the capacitive element C1 is performed. Accordingly, the potential of the positive pole of the capacitive element C1 with respect to the circuit node G increases.

このような充電期間および放電期間が交互に訪れることで、容量素子C1のプラス極の電位は、やがて、電圧VCCの2倍の大きさの正電位になる。   By such alternating charging and discharging periods, the potential of the positive electrode of the capacitive element C1 eventually becomes a positive potential that is twice as large as the voltage VCC.

また、従来では、薄膜トランジスタ回路により、例えば、図5に示す当倍負電圧電源回路2が構成される。   Conventionally, for example, a double negative voltage power supply circuit 2 shown in FIG. 5 is configured by a thin film transistor circuit.

当倍負電圧電源回路2でも、充電期間と放電期間が交互に訪れる。   In the double negative voltage power supply circuit 2, the charging period and the discharging period come alternately.

充電期間では、薄膜トランジスタQ11、Q12がオンし、薄膜トランジスタQ13、Q14がオフする。これにより、容量素子C12が充電され、その極間電圧が電圧VCCに等しくなる。   In the charging period, the thin film transistors Q11 and Q12 are turned on, and the thin film transistors Q13 and Q14 are turned off. Thereby, the capacitive element C12 is charged, and the voltage between the electrodes becomes equal to the voltage VCC.

放電期間では、薄膜トランジスタQ13、Q14がオンし、薄膜トランジスタQ11、Q12がオフする。これにより、容量素子C12のプラス極が回路節点Gに接続され、しかも、容量素子C12から容量素子C11への放電がなされ、よって、容量素子C11のマイナス極の、回路節点Gに対する電位が下降して負電位になる。   In the discharge period, the thin film transistors Q13 and Q14 are turned on, and the thin film transistors Q11 and Q12 are turned off. As a result, the positive pole of the capacitive element C12 is connected to the circuit node G, and further, the capacitive element C12 is discharged to the capacitive element C11. Accordingly, the potential of the negative pole of the capacitive element C11 with respect to the circuit node G drops. Negative potential.

このような充電期間および放電期間が交互に訪れることで、容量素子C11のマイナス極の電位は、やがて、電圧VCCに等しい大きさの負電位になる。
特開2005−151634号公報
By such alternating charging and discharging periods, the negative electrode potential of the capacitive element C11 eventually becomes a negative potential having a magnitude equal to the voltage VCC.
JP 2005-151634 A

2倍昇圧電源回路1では、図13に示すように、放電期間においてオフしている薄膜トランジスタQ2にもドレイン電流(オフ電流)が流れる。また、当倍負電圧電源回路2では、図14に示すように、充電期間においてオフしている薄膜トランジスタQ14にもドレイン電流(オフ電流)が流れる。   In the double boosting power supply circuit 1, as shown in FIG. 13, a drain current (off-state current) also flows through the thin film transistor Q2 that is off during the discharge period. Further, in the double negative voltage power supply circuit 2, as shown in FIG. 14, the drain current (off current) also flows through the thin film transistor Q <b> 14 that is turned off during the charging period.

これらN型の薄膜トランジスタでは、図15の特性図に示すように、通電当初は、オフ電流が小さい。これは、薄膜トランジスタの温度が低いからである。しかし、長時間通電するとオフ電流が増加する。これは、薄膜トランジスタの温度上昇が大きくなるからである。そのため、長時間通電すると、電源回路での消費電力が増加することになる。   In these N type thin film transistors, as shown in the characteristic diagram of FIG. This is because the temperature of the thin film transistor is low. However, the off-current increases when energized for a long time. This is because the temperature rise of the thin film transistor increases. Therefore, when power is supplied for a long time, the power consumption in the power supply circuit increases.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、薄膜トランジスタの温度上昇を低減できる薄膜トランジスタ回路を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a thin film transistor circuit capable of reducing the temperature rise of the thin film transistor.

上記の課題を解決するために、本発明の薄膜トランジスタ回路は、オン、オフする第1薄膜トランジスタと、第1薄膜トランジスタがオンする期間にオフし、第1薄膜トランジスタがオフする期間にオンする第2薄膜トランジスタとを、絶縁体上において、交互に配置したことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a thin film transistor circuit of the present invention includes a first thin film transistor that is turned on and off, a second thin film transistor that is turned off during a period in which the first thin film transistor is turned on, and turned on in a period in which the first thin film transistor is turned off. Are alternately arranged on an insulator.

本発明によれば、第1薄膜トランジスタと第2薄膜トランジスタを交互に配置したことで、同一期間において、オンしている薄膜トランジスタ、つまり熱源を分散化できるので、薄膜トランジスタの温度上昇を低減することができる。   According to the present invention, since the first thin film transistor and the second thin film transistor are alternately arranged, the thin film transistor that is turned on, that is, the heat source can be dispersed in the same period, so that the temperature rise of the thin film transistor can be reduced.

本発明の薄膜トランジスタ回路によれば、同一期間にオンする薄膜トランジスタを分散化できるので、薄膜トランジスタの温度上昇を低減することができる。   According to the thin film transistor circuit of the present invention, since the thin film transistors that are turned on in the same period can be dispersed, the temperature rise of the thin film transistors can be reduced.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[第1の実施の形態]
図1は、第1の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である2倍昇圧電源回路1の回路図である。2倍昇圧電源回路1は、充電期間と放電期間とが交互に訪れるものであり、各期間での電流の流れを図1(a)と図1(b)に示す。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a circuit diagram of a double boosting power supply circuit 1 which is a thin film transistor circuit according to the first embodiment. In the double boosting power supply circuit 1, the charging period and the discharging period come alternately, and the current flow in each period is shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b).

2倍昇圧電源回路1は、本発明の第1容量素子に相当する容量素子C1と、本発明の第2容量素子に相当する容量素子C2とを備え、容量素子C1のマイナス極は、接地された回路節点Gに接続されている。容量素子は例えば、電解コンデンサである。   The double boosting power supply circuit 1 includes a capacitive element C1 corresponding to the first capacitive element of the present invention and a capacitive element C2 corresponding to the second capacitive element of the present invention, and the negative pole of the capacitive element C1 is grounded. Connected to the circuit node G. The capacitive element is, for example, an electrolytic capacitor.

また、2倍昇圧電源回路1は、不図示の絶縁体(例えば、ガラスなどを材料とした基板。以下同様)上に形成されたP型の薄膜トランジスタQ1、N型の薄膜トランジスタQ2、P型の薄膜トランジスタQ3、Q4を備えている。薄膜トランジスタQ1、Q2は、本発明の第1薄膜トランジスタに相当し、薄膜トランジスタQ3、Q4は、本発明の第2薄膜トランジスタに相当する。   The double boosting power supply circuit 1 includes a P-type thin film transistor Q1, an N-type thin film transistor Q2, and a P-type thin film transistor formed on an insulator (not shown) (for example, a substrate made of glass or the like; the same applies hereinafter). Q3 and Q4 are provided. The thin film transistors Q1 and Q2 correspond to the first thin film transistor of the present invention, and the thin film transistors Q3 and Q4 correspond to the second thin film transistor of the present invention.

薄膜トランジスタQ1は、回路節点Gに対してプラスの電圧VCCが与えられる回路節点Aと容量素子C2のプラス極との間に挿入(ドレイン電流が流れるように。以下同様)されている。薄膜トランジスタ薄膜トランジスタQ2は、容量素子C2のマイナス極と回路節点Gとの間に挿入されている。薄膜トランジスタQ3は、回路節点Aと容量素子C2のマイナス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ4は、容量素子C2のプラス極と容量素子C1のプラス極との間に挿入されている。   The thin film transistor Q1 is inserted between the circuit node A to which a positive voltage VCC is applied to the circuit node G and the positive electrode of the capacitive element C2 (so that a drain current flows, and so on). The thin film transistor thin film transistor Q2 is inserted between the negative pole of the capacitive element C2 and the circuit node G. The thin film transistor Q3 is inserted between the circuit node A and the negative pole of the capacitive element C2. The thin film transistor Q4 is inserted between the positive pole of the capacitive element C2 and the positive pole of the capacitive element C1.

図2は、2倍昇圧電源回路1での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。   FIG. 2 is a diagram showing the arrangement and state transition of the thin film transistors in the double boosting power supply circuit 1.

各薄膜トランジスタは、薄膜トランジスタQ2、Q3、Q1、Q4の順に並べて配置されている。   The thin film transistors are arranged in the order of the thin film transistors Q2, Q3, Q1, and Q4.

充電期間では、薄膜トランジスタQ1、Q2がオンし、薄膜トランジスタQ3、Q4がオフする。これにより、図1に示す容量素子C2が充電され、その極間電圧が電圧VCCに等しくなる。   In the charging period, the thin film transistors Q1 and Q2 are turned on, and the thin film transistors Q3 and Q4 are turned off. Thereby, the capacitive element C2 shown in FIG. 1 is charged, and the voltage between the electrodes becomes equal to the voltage VCC.

放電期間では、薄膜トランジスタQ3、Q4がオンし、薄膜トランジスタQ1、Q2がオフする。これにより、容量素子C2のマイナス極に電圧VCCが印加され、しかも、容量素子C2から容量素子C1への放電がなされ、よって、容量素子C1のプラス極の、回路節点Gに対する電位が上昇する。   In the discharge period, the thin film transistors Q3 and Q4 are turned on, and the thin film transistors Q1 and Q2 are turned off. As a result, the voltage VCC is applied to the negative pole of the capacitive element C2, and discharge from the capacitive element C2 to the capacitive element C1 is performed. Accordingly, the potential of the positive pole of the capacitive element C1 with respect to the circuit node G increases.

このような充電期間および放電期間が交互に訪れることで、容量素子C1のプラス極の電位は、やがて、電圧VCCの2倍の大きさの正電位になる。   By such alternating charging and discharging periods, the potential of the positive electrode of the capacitive element C1 eventually becomes a positive potential that is twice as large as the voltage VCC.

かかる動作を考慮して、図2を参照すれば、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとが交互に配置されていることになる。   In consideration of such operation, referring to FIG. 2, thin film transistors that are turned on in the charging period and thin film transistors that are turned on in the discharging period are alternately arranged.

上記動作の過程で発生する薄膜トランジスタからの発熱は、薄膜トランジスタがオンする期間において大きくなるのだが、図2の配置を採用したことで、そのような薄膜トランジスタ同士が隣り合うことがない。つまり、同一期間(充電期間または放電期間)での熱源(オンしている薄膜トランジスタ)を分散化できるので、各薄膜トランジスタの温度上昇を低減することができる。よって、オフ電流ならびに消費電力も低減することができる。また、消費電力の低減に相俟って、温度上昇を一層低減することができる。   Although heat generation from the thin film transistor that occurs in the process of the above operation increases during the period in which the thin film transistor is turned on, such thin film transistors are not adjacent to each other by adopting the arrangement of FIG. That is, heat sources (thin-film transistors that are turned on) in the same period (charging period or discharging period) can be dispersed, so that an increase in temperature of each thin film transistor can be reduced. Thus, off-state current and power consumption can also be reduced. In addition, the temperature rise can be further reduced in conjunction with the reduction in power consumption.

なお、かかる作用効果を鑑みれば、薄膜トランジスタQ1とQ2の位置を逆にしてもよい。同様に、薄膜トランジスタQ3とQ4の位置を逆にしてもよい。   In view of this effect, the positions of the thin film transistors Q1 and Q2 may be reversed. Similarly, the positions of the thin film transistors Q3 and Q4 may be reversed.

また、かかる作用効果を鑑みれば、図3に示すように、充電期間でオンする薄膜トランジスタQ1、Q2と放電期間でオンする薄膜トランジスタQ3、Q4とを千鳥格子状に配置してもよい。   In view of such effects, as shown in FIG. 3, the thin film transistors Q1 and Q2 that are turned on during the charging period and the thin film transistors Q3 and Q4 that are turned on during the discharging period may be arranged in a staggered pattern.

また、図4に示すように、充電期間でオンする薄膜トランジスタQ1と放電期間でオンする薄膜トランジスタQ4とが互いに嵌合するように、それぞれの外形を例えば、コの字型に形成し、外形が互いに嵌合するように配置し、薄膜トランジスタQ2とQ3についても同様にすることで、同一期間(充電期間または放電期間)において、熱源(オンする薄膜トランジスタ)と他部との接触面積を大きくできる。これにより、各薄膜トランジスタの上昇温度をより小さくでき、その結果、オフ電流ならびに消費電力をより低減することができる。   Also, as shown in FIG. 4, the outer shapes are formed in, for example, a U-shape so that the thin film transistor Q1 that is turned on in the charging period and the thin film transistor Q4 that is turned on in the discharging period are fitted to each other. By arranging so as to be fitted and the same applies to the thin film transistors Q2 and Q3, the contact area between the heat source (thin film transistor to be turned on) and the other part can be increased in the same period (charging period or discharging period). Thereby, the rising temperature of each thin film transistor can be further reduced, and as a result, the off current and the power consumption can be further reduced.

[第2の実施の形態]
図5は、第2の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である当倍負電圧電源回路2の回路図である。当倍負電圧電源回路2は、充電期間と放電期間とが交互に訪れるものであり、各期間での電流の流れを図5(a)と図5(b)に示す。
[Second Embodiment]
FIG. 5 is a circuit diagram of the double negative voltage power supply circuit 2 which is a thin film transistor circuit according to the second embodiment. In the double negative voltage power supply circuit 2, the charging period and the discharging period come alternately, and the current flow in each period is shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b).

当倍負電圧電源回路2は、本発明の第1容量素子に相当する容量素子C11と、本発明の第2容量素子に相当する容量素子C12とを備え、容量素子C11のプラス極は、接地された回路節点Gに接続されている。   The double negative voltage power supply circuit 2 includes a capacitive element C11 corresponding to the first capacitive element of the present invention and a capacitive element C12 corresponding to the second capacitive element of the present invention, and the positive electrode of the capacitive element C11 is connected to the ground. Connected to the connected circuit node G.

また、当倍負電圧電源回路2は、絶縁体上に形成されたP型の薄膜トランジスタQ11、N型の薄膜トランジスタQ12〜Q14を備えている。薄膜トランジスタQ11、Q12は、本発明の第1薄膜トランジスタに相当し、薄膜トランジスタQ13、Q14は、本発明の第2薄膜トランジスタに相当する。   The double negative voltage power supply circuit 2 includes a P-type thin film transistor Q11 and N-type thin film transistors Q12 to Q14 formed on an insulator. The thin film transistors Q11 and Q12 correspond to the first thin film transistor of the present invention, and the thin film transistors Q13 and Q14 correspond to the second thin film transistor of the present invention.

薄膜トランジスタQ11は、回路節点Gに対してプラスの電圧VCCが与えられる回路節点Aと容量素子C12のプラス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ12は、容量素子C12のマイナス極と回路節点Gとの間に挿入されている。薄膜トランジスタQ13は、容量素子C11のマイナス極と容量素子C12のマイナス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ14は、容量素子C12のプラス極と回路節点Gとの間に挿入されている。   The thin film transistor Q11 is inserted between the circuit node A to which a positive voltage VCC is applied to the circuit node G and the positive electrode of the capacitive element C12. The thin film transistor Q12 is inserted between the negative pole of the capacitive element C12 and the circuit node G. The thin film transistor Q13 is inserted between the negative pole of the capacitive element C11 and the negative pole of the capacitive element C12. The thin film transistor Q14 is inserted between the positive electrode of the capacitive element C12 and the circuit node G.

図6は、当倍負電圧電源回路2での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。   FIG. 6 is a diagram showing the arrangement and state transition of the thin film transistors in the double negative voltage power supply circuit 2.

各薄膜トランジスタは、薄膜トランジスタQ11、Q14、Q12、Q13の順に並べて配置されている。   The thin film transistors are arranged in the order of thin film transistors Q11, Q14, Q12, and Q13.

充電期間では、薄膜トランジスタQ11、Q12がオンし、薄膜トランジスタQ13、Q14がオフする。これにより、図5に示す容量素子C12が充電され、その極間電圧が電圧VCCに等しくなる。   In the charging period, the thin film transistors Q11 and Q12 are turned on, and the thin film transistors Q13 and Q14 are turned off. Thereby, the capacitive element C12 shown in FIG. 5 is charged, and the voltage between the electrodes becomes equal to the voltage VCC.

放電期間では、薄膜トランジスタQ13、Q14がオンし、薄膜トランジスタQ11、Q12がオフする。これにより、容量素子C12のプラス極が回路節点Gに接続され、しかも、容量素子C12から容量素子C11への放電がなされ、よって、容量素子C11のマイナス極の、回路節点Gに対する電位が下降して負電位になる。   In the discharge period, the thin film transistors Q13 and Q14 are turned on, and the thin film transistors Q11 and Q12 are turned off. As a result, the positive pole of the capacitive element C12 is connected to the circuit node G, and further, the capacitive element C12 is discharged to the capacitive element C11. Accordingly, the potential of the negative pole of the capacitive element C11 with respect to the circuit node G drops. Negative potential.

このような充電期間および放電期間が交互に訪れることで、容量素子C11のマイナス極の電位は、やがて、電圧VCCに等しい大きさの負電位になる。   By such alternating charging and discharging periods, the negative electrode potential of the capacitive element C11 eventually becomes a negative potential having a magnitude equal to the voltage VCC.

かかる動作を考慮して、図6を参照すれば、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとが交互に配置されていることになる。   In consideration of such operation, referring to FIG. 6, thin film transistors that are turned on in the charging period and thin film transistors that are turned on in the discharging period are alternately arranged.

よって、第1の実施の形態と同様の作用により、各薄膜トランジスタの温度上昇を低減することができる。また、オフ電流ならびに消費電力も低減することができる。   Therefore, the temperature rise of each thin film transistor can be reduced by the same operation as that of the first embodiment. In addition, off-state current and power consumption can be reduced.

なお、かかる作用効果を鑑みれば、薄膜トランジスタQ11とQ12の位置を逆にしてもよい。同様に、薄膜トランジスタQ13とQ14の位置を逆にしてもよい。   In view of this effect, the positions of the thin film transistors Q11 and Q12 may be reversed. Similarly, the positions of the thin film transistors Q13 and Q14 may be reversed.

また、かかる作用効果を鑑みれば、図7に示すように、充電期間でオンする薄膜トランジスタQ11、Q12と放電期間でオンする薄膜トランジスタQ13、Q14とを千鳥格子状に配置してもよい。   In view of such effects, as shown in FIG. 7, the thin film transistors Q11 and Q12 that are turned on during the charging period and the thin film transistors Q13 and Q14 that are turned on during the discharging period may be arranged in a staggered pattern.

また、図8に示すように、充電期間でオンする薄膜トランジスタQ12と放電期間でオンする薄膜トランジスタQ13とが互いに嵌合するように、それぞれの外形を例えば、コの字型に形成し、外形が互いに嵌合するように配置し、薄膜トランジスタQ11とQ14についても同様にすることで、図4と同様に、各薄膜トランジスタの上昇温度をより小さくでき、その結果、オフ電流ならびに消費電力をより低減することができる。   Further, as shown in FIG. 8, the outer shape is formed in, for example, a U-shape so that the thin film transistor Q12 that is turned on in the charging period and the thin film transistor Q13 that is turned on in the discharging period are fitted to each other. By arranging so that the thin film transistors are fitted and the same applies to the thin film transistors Q11 and Q14, similarly to FIG. 4, the rising temperature of each thin film transistor can be further reduced, and as a result, the off current and the power consumption can be further reduced. it can.

[第3の実施の形態]
図9は、第3の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である2倍昇圧電源回路11の回路図である。
[Third Embodiment]
FIG. 9 is a circuit diagram of the double boosting power supply circuit 11 which is a thin film transistor circuit according to the third embodiment.

2倍昇圧電源回路11は、本発明の第1容量素子に相当する容量素子C21と、本発明の第2容量素子に相当する容量素子C22とを備え、容量素子C21のマイナス極は、接地された回路節点Gに接続されている。   The double boosting power supply circuit 11 includes a capacitive element C21 corresponding to the first capacitive element of the present invention and a capacitive element C22 corresponding to the second capacitive element of the present invention, and the negative pole of the capacitive element C21 is grounded. Connected to the circuit node G.

また、2倍昇圧電源回路11は、絶縁体上に形成されたP型の薄膜トランジスタQ1−1〜3、N型の薄膜トランジスタQ2−1〜3、P型の薄膜トランジスタQ3−1〜3、Q4−1〜3を備えている。薄膜トランジスタQ1−1〜3、Q2−1〜3は、本発明の第1薄膜トランジスタに相当し、薄膜トランジスタQ3−1〜3、Q4−1〜3は、本発明の第2薄膜トランジスタに相当する。   The double boosting power supply circuit 11 includes P-type thin film transistors Q1-1 to Q-3, N-type thin film transistors Q2-1 to Q3, P-type thin film transistors Q3-1 to Q-3, and Q4-1 formed on an insulator. ~ 3. The thin film transistors Q1-1 to Q3 and Q2-1 to Q3 correspond to the first thin film transistor of the present invention, and the thin film transistors Q3-1 to Q3 and Q4-1 to Q3 correspond to the second thin film transistor of the present invention.

薄膜トランジスタQ1−1〜3は並列接続され、回路節点Gに対してプラスの電圧VCCが与えられる回路節点Aと容量素子C22のプラス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ2−1〜3は並列接続され、容量素子C22のマイナス極と回路節点Gとの間に挿入されている。薄膜トランジスタQ3−1〜3は並列接続され、回路節点Aと容量素子C22のマイナス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ4−1〜3は並列接続され、容量素子C22のプラス極と容量素子C21のプラス極との間に挿入されている。   The thin film transistors Q1-1 to Q3-3 are connected in parallel and are inserted between the circuit node A to which a positive voltage VCC is applied to the circuit node G and the positive electrode of the capacitive element C22. The thin film transistors Q2-1 to Q2-3 are connected in parallel and are inserted between the negative pole of the capacitive element C22 and the circuit node G. The thin film transistors Q3-1 to Q3-1 are connected in parallel, and are inserted between the circuit node A and the negative pole of the capacitive element C22. The thin film transistors Q4-1 to Q3-3 are connected in parallel and are inserted between the positive pole of the capacitive element C22 and the positive pole of the capacitive element C21.

図10は、2倍昇圧電源回路11での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。   FIG. 10 is a diagram showing the arrangement and state transition of the thin film transistors in the double boosting power supply circuit 11.

各薄膜トランジスタは、薄膜トランジスタQ1−1、Q4−1、Q2−1、Q3−1、Q1−2、Q4−2、Q2−2、Q3−2、Q1−3、Q4−3、Q2−3、Q3−3の順に並べて配置されている。同図では、並列接続された薄膜トランジスタ同士を結線して示している。   Each thin film transistor is a thin film transistor Q1-1, Q4-1, Q2-1, Q3-1, Q1-2, Q4-2, Q2-2, Q3-2, Q1-3, Q4-3, Q2-3, Q3. Are arranged in the order of -3. In the figure, thin film transistors connected in parallel are connected to each other.

2倍昇圧電源回路11では、充電期間と放電期間とが交互に訪れる。   In the double boosting power supply circuit 11, the charging period and the discharging period come alternately.

充電期間では、薄膜トランジスタQ1−1〜3、Q2−1〜3がオンし、薄膜トランジスタQ3−1〜3、Q2−1〜34がオフする。つまり、薄膜トランジスタQ1−1〜3が1つのスイッチとして動作し、薄膜トランジスタQ2−1〜3が1つのスイッチとして動作し、薄膜トランジスタQ3−1〜3が1つのスイッチとして動作し、薄膜トランジスタQ4−1〜3が1つのスイッチとして動作する。これにより、図9に示す容量素子C22が充電され、その極間電圧が電圧VCCに等しくなる。   In the charging period, the thin film transistors Q1-1 to Q3 and Q2-1 to 3 are turned on, and the thin film transistors Q3-1 to Q3 and Q2-1 to 34 are turned off. That is, the thin film transistors Q1-1 to 3 operate as one switch, the thin film transistors Q2-1 to Q3 operate as one switch, the thin film transistors Q3-1 to Q3 operate as one switch, and the thin film transistors Q4-1 to Q3. Operates as one switch. Thereby, the capacitive element C22 shown in FIG. 9 is charged, and the voltage between the electrodes becomes equal to the voltage VCC.

図10に戻り、放電期間では、薄膜トランジスタQ3−1〜3、Q4−1〜3がオンし、薄膜トランジスタQ1−1〜3、Q2−1〜3がオフする。これにより、図9に示す容量素子C22のマイナス極に電圧VCCが印加され、しかも、容量素子C22から容量素子C21への放電がなされ、よって、容量素子C21のプラス極の、回路節点Gに対する電位が上昇する。   Returning to FIG. 10, in the discharge period, the thin film transistors Q3-1 to Q3 and Q4-1 to Q3 are turned on, and the thin film transistors Q1-1 to Q3 and Q2-1 to Q3 are turned off. As a result, the voltage VCC is applied to the negative pole of the capacitive element C22 shown in FIG. 9, and the discharge from the capacitive element C22 to the capacitive element C21 is performed. Therefore, the potential of the positive pole of the capacitive element C21 with respect to the circuit node G Rises.

このような充電期間および放電期間が交互に訪れることで、容量素子C21のプラス極の電位は、やがて、電圧VCCの2倍の大きさの正電位になる。   By such alternating charging and discharging periods, the potential of the positive electrode of the capacitive element C21 eventually becomes a positive potential that is twice as large as the voltage VCC.

かかる動作を考慮して、図10を参照すれば、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとが交互に配置されていることになる。   In consideration of such operation, referring to FIG. 10, thin film transistors that are turned on in the charging period and thin film transistors that are turned on in the discharging period are alternately arranged.

よって、第1の実施の形態などと同様の作用により、各薄膜トランジスタの温度上昇を低減することができる。また、オフ電流ならびに消費電力も低減することができる。   Therefore, the temperature rise of each thin film transistor can be reduced by the same operation as in the first embodiment. In addition, off-state current and power consumption can be reduced.

なお、かかる作用効果を鑑みれば、薄膜トランジスタQ1−1〜3、Q2−1〜3にあっては位置を変えてもよい。同様に、薄膜トランジスタQ3−1〜3、Q3−1〜3にあっては位置を変えてもよい。   In view of such operational effects, the positions of the thin film transistors Q1-1 to Q3 and Q2-1 to Q3 may be changed. Similarly, the positions of the thin film transistors Q3-1 to Q3-1 and Q3-1 to Q3-1 may be changed.

また、図3などと同様に、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとを千鳥格子状に配置してもよい。   Similarly to FIG. 3 and the like, thin film transistors that are turned on in the charging period and thin film transistors that are turned on in the discharging period may be arranged in a staggered pattern.

また、図4などと同様に、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとが互いに嵌合するように形成し配置してもよい。   Similarly to FIG. 4 and the like, the thin film transistor that is turned on in the charging period and the thin film transistor that is turned on in the discharging period may be formed and arranged so as to be fitted to each other.

また、同一スイッチを構成する薄膜トランジスタの数を2または4以上にしてもよい。   Further, the number of thin film transistors constituting the same switch may be two or four or more.

[第4の実施の形態]
図11は、第4の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である当倍負電圧電源回路12の回路図である。
[Fourth Embodiment]
FIG. 11 is a circuit diagram of the double negative voltage power supply circuit 12 which is a thin film transistor circuit according to the fourth embodiment.

当倍負電圧電源回路12は、本発明の第1容量素子に相当する容量素子C31と、本発明の第2容量素子に相当する容量素子C32とを備え、容量素子C31のプラス極は、接地された回路節点Gに接続されている。   The double negative voltage power supply circuit 12 includes a capacitive element C31 corresponding to the first capacitive element of the present invention and a capacitive element C32 corresponding to the second capacitive element of the present invention, and the positive electrode of the capacitive element C31 is connected to the ground. Connected to the connected circuit node G.

また、当倍負電圧電源回路12は、絶縁体上に形成されたP型の薄膜トランジスタQ11−1〜3、N型の薄膜トランジスタQ12−1〜3、Q13−1〜3、Q14−1〜3を備えている。薄膜トランジスタQ11−1〜3、Q12−1〜3は、本発明の第1薄膜トランジスタに相当し、薄膜トランジスタQ13−1〜3、Q14−1〜3は、本発明の第2薄膜トランジスタに相当する。   The double negative voltage power supply circuit 12 includes P-type thin film transistors Q11-1 to Q11-3, N-type thin film transistors Q12-1 to Q3, Q13-1 to Q3, and Q14-1 to Q14-3 that are formed on an insulator. I have. The thin film transistors Q11-1 to Q3 and Q12-1 to 3 correspond to the first thin film transistor of the present invention, and the thin film transistors Q13-1 to Q13 to Q14-1 to 3 correspond to the second thin film transistor of the present invention.

薄膜トランジスタQ11−1〜3は並列接続され、回路節点Gに対してプラスの電圧VCCが与えられる回路節点Aと容量素子C32のプラス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ12−1〜3は並列接続され、容量素子C32のマイナス極と回路節点Gとの間に挿入されている。薄膜トランジスタQ13−1〜3は並列接続され、容量素子C31のマイナス極と容量素子C32のマイナス極との間に挿入されている。薄膜トランジスタQ14−1〜3は並列接続され、容量素子C32のプラス極と回路節点Gとの間に挿入されている。   The thin film transistors Q11-1 to Q11-3 are connected in parallel, and are inserted between the circuit node A to which a positive voltage VCC is applied to the circuit node G and the positive electrode of the capacitive element C32. The thin film transistors Q12-1 to Q12-3 are connected in parallel and are inserted between the negative pole of the capacitive element C32 and the circuit node G. The thin film transistors Q13-1 to Q13-3 are connected in parallel and are inserted between the negative pole of the capacitive element C31 and the negative pole of the capacitive element C32. The thin film transistors Q14-1 to Q3-3 are connected in parallel and are inserted between the positive electrode of the capacitive element C32 and the circuit node G.

図12は、当倍負電圧電源回路12での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。   FIG. 12 is a diagram showing the arrangement and state transition of the thin film transistors in the double negative voltage power supply circuit 12.

各薄膜トランジスタは、薄膜トランジスタQ12−1、Q13−1、Q11−1、Q14−1、Q12−2、Q13−2、Q11−2、Q14−2、Q12−3、Q13−3、Q11−3、Q14−3の順に並べて配置されている。同図では、並列接続された薄膜トランジスタ同士を結線して示している。   Each thin film transistor is a thin film transistor Q12-1, Q13-1, Q11-1, Q14-1, Q12-2, Q13-2, Q11-2, Q14-2, Q12-3, Q13-3, Q11-3, Q14. Are arranged in the order of -3. In the figure, thin film transistors connected in parallel are connected to each other.

当倍負電圧電源回路12では、充電期間と放電期間とが交互に訪れる。   In the double negative voltage power supply circuit 12, the charging period and the discharging period come alternately.

充電期間では、薄膜トランジスタQ11−1〜3、Q12−1〜3がオンし、薄膜トランジスタQ13−1〜3、Q14−1〜3がオフする。つまり、薄膜トランジスタQ11−1〜3が1つのスイッチとして動作し、薄膜トランジスタQ12−1〜3が1つのスイッチとして動作し、薄膜トランジスタQ13−1〜3が1つのスイッチとして動作し、薄膜トランジスタQ14−1〜3が1つのスイッチとして動作する。これにより、図11に示す容量素子C31が充電され、その極間電圧が電圧VCCに等しくなる。   In the charging period, the thin film transistors Q11-1 to Q3 and Q12-1 to Q3 are turned on, and the thin film transistors Q13-1 to Q3 and Q14-1 to Q3 are turned off. That is, the thin film transistor Q11-1 to 3 operates as one switch, the thin film transistor Q12-1 to 3 operates as one switch, the thin film transistor Q13-1 to 3 operates as one switch, and the thin film transistors Q14-1 to Q3-3. Operates as one switch. Thereby, the capacitive element C31 shown in FIG. 11 is charged, and the voltage between the electrodes becomes equal to the voltage VCC.

図12に戻り、放電期間では、薄膜トランジスタQ13−1〜3、Q14−1〜3がオンし、薄膜トランジスタQ11−1〜3、Q12−1〜3がオフする。これにより、図11に示す容量素子C31のプラス極が回路節点Gに接続され、しかも、容量素子C32から容量素子C31への放電がなされ、よって、容量素子C31のマイナス極の、回路節点Gに対する電位が下降して負電位になる。   Returning to FIG. 12, in the discharge period, the thin film transistors Q13-1 to Q3 and Q14-1 to Q3 are turned on, and the thin film transistors Q11-1 to Q3 and Q12-1 to Q3 are turned off. As a result, the positive pole of the capacitive element C31 shown in FIG. 11 is connected to the circuit node G, and the capacitive element C32 is discharged from the capacitive element C31. Therefore, the negative pole of the capacitive element C31 is connected to the circuit node G. The potential drops to a negative potential.

このような充電期間および放電期間が交互に訪れることで、容量素子C31のマイナス極の電位は、やがて、電圧VCCに等しい大きさの負電位になる。   By such alternating charging and discharging periods, the potential of the negative pole of the capacitive element C31 eventually becomes a negative potential having a magnitude equal to the voltage VCC.

かかる動作を考慮して、図12を参照すれば、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとが交互に配置されていることになる。   In consideration of such operation, referring to FIG. 12, thin film transistors that are turned on in the charging period and thin film transistors that are turned on in the discharging period are alternately arranged.

よって、第1の実施の形態などと同様の作用により、各薄膜トランジスタの温度上昇を低減することができる。また、オフ電流ならびに消費電力も低減することができる。   Therefore, the temperature rise of each thin film transistor can be reduced by the same operation as in the first embodiment. In addition, off-state current and power consumption can be reduced.

なお、かかる作用効果を鑑みれば、薄膜トランジスタQ11−1〜3、Q12−1〜3にあっては位置を変えてもよい。同様に、薄膜トランジスタQ13−1〜3、Q13−1〜3にあっては位置を変えてもよい。   In view of such effects, the positions of the thin film transistors Q11-1 to Q3-3 and Q12-1 to Q12-1 may be changed. Similarly, the positions of the thin film transistors Q13-1 to Q13-3 and Q13-1 to Q13-3 may be changed.

また、図7などと同様に、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとを千鳥格子状に配置してもよい。   Similarly to FIG. 7 and the like, thin film transistors that are turned on in the charging period and thin film transistors that are turned on in the discharging period may be arranged in a staggered pattern.

また、図8などと同様に、充電期間でオンする薄膜トランジスタと放電期間でオンする薄膜トランジスタとが互いに嵌合するように形成し配置してもよい。   Similarly to FIG. 8 and the like, a thin film transistor that is turned on in a charging period and a thin film transistor that is turned on in a discharging period may be formed and arranged so as to be fitted to each other.

また、同一スイッチを構成する薄膜トランジスタの数を2または4以上にしてもよい。   Further, the number of thin film transistors constituting the same switch may be two or four or more.

第1の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である2倍昇圧電源回路1の回路図である。1 is a circuit diagram of a double boost power supply circuit 1 which is a thin film transistor circuit according to a first embodiment. FIG. 2倍昇圧電源回路1での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning and state transition of a thin-film transistor in the double boosting power supply circuit. 2倍昇圧電源回路1での薄膜トランジスタの他の配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows other arrangement | positioning and state transition of the thin-film transistor in the double boosting power supply circuit. 2倍昇圧電源回路1での薄膜トランジスタの他の形状および配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows other shapes and arrangement | positioning and state transition of a thin-film transistor in the double boosting power supply circuit. 第2の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である当倍負電圧電源回路2の回路図である。It is a circuit diagram of the double negative voltage power supply circuit 2 that is a thin film transistor circuit according to a second embodiment. 当倍負電圧電源回路2での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning and state transition of a thin-film transistor in the double negative voltage power supply circuit. 当倍負電圧電源回路2での薄膜トランジスタの他の配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows other arrangement | positioning and state transition of the thin-film transistor in the double negative voltage power supply circuit. 当倍負電圧電源回路2での薄膜トランジスタの他の形状および配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows the other shape and arrangement | positioning and state transition of a thin-film transistor in the double negative voltage power supply circuit 2. FIG. 第3の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である2倍昇圧電源回路11の回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of a double boost power supply circuit 11 which is a thin film transistor circuit according to a third embodiment. 2倍昇圧電源回路11での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the arrangement and state transition of thin film transistors in the double boosting power supply circuit 11. 第4の実施の形態に係る薄膜トランジスタ回路である当倍負電圧電源回路12の回路図である。It is a circuit diagram of the double negative voltage power supply circuit 12, which is a thin film transistor circuit according to a fourth embodiment. 当倍負電圧電源回路12での薄膜トランジスタの配置と状態遷移を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning and state transition of a thin-film transistor in the double negative voltage power supply circuit. 2倍昇圧電源回路1でのオフ電流を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an off-current in the double boost power supply circuit 1. 当倍負電圧電源回路2でのオフ電流を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an off-current in the double negative voltage power supply circuit 2; N型の薄膜トランジスタの特性図である。It is a characteristic view of an N-type thin film transistor.

符号の説明Explanation of symbols

1、11 2倍昇圧電源回路
2、12 当倍負電圧電源回路
Q1〜4、Q11〜14、Q1−1〜4、Q2−1〜4、Q3−1〜4、Q4−1〜4、Q11−1〜4、Q12−1〜4、Q13−1〜4、Q14−1〜4 薄膜トランジスタC1、C2、C11、C12、C21、C22、C31、C32 容量素子
1, 11 Double boosting power supply circuit 2, 12 Equal negative voltage power supply circuit Q1-4, Q11-14, Q1-1-4, Q2-1-4, Q3-1-4, Q4-1-4, Q11 -1 to 4, Q12-1 to 4, Q13-1 to 4, Q14-1 to 4 Thin film transistors C1, C2, C11, C12, C21, C22, C31, C32 capacitive elements

Claims (4)

オン、オフする第1薄膜トランジスタと、第1薄膜トランジスタがオンする期間にオフし、第1薄膜トランジスタがオフする期間にオンする第2薄膜トランジスタとを、絶縁体上において、交互に配置した薄膜トランジスタ回路であって、
第1容量素子のマイナス極に対してプラスの電圧が与えられる回路節点と第2容量素子のプラス極との間に挿入された第1薄膜トランジスタと、
前記第2容量素子のマイナス極と前記第1容量素子のマイナス極との間に挿入された第1薄膜トランジスタと、
前記回路節点と前記第2容量素子のマイナス極との間に挿入された第2薄膜トランジスタと、
前記第2容量素子のプラス極と前記第1容量素子のプラス極との間に挿入された第2薄膜トランジスタと
を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ回路。
On the first thin film transistor to turn off, and off period in which the first thin film transistor is turned on, and a second thin film transistor in which the first thin film transistor is turned on during a period of off, on the insulating thin film transistor circuit arranged alternately Because
A first thin film transistor inserted between a circuit node to which a positive voltage is applied to the negative pole of the first capacitive element and the positive pole of the second capacitive element;
A first thin film transistor inserted between a negative pole of the second capacitive element and a negative pole of the first capacitive element;
A second thin film transistor inserted between the circuit node and the negative pole of the second capacitive element;
Thin film transistor circuits you anda second thin film transistor which is inserted between the positive electrode and the positive electrode of the first capacitive element of the second capacitive element.
オン、オフする第1薄膜トランジスタと、第1薄膜トランジスタがオンする期間にオフし、第1薄膜トランジスタがオフする期間にオンする第2薄膜トランジスタとを、絶縁体上において、交互に配置した薄膜トランジスタ回路であって、
第1容量素子のプラス極に対してプラスの電圧が与えられる回路節点と第2容量素子のプラス極との間に挿入された第1薄膜トランジスタと、
前記第2容量素子のマイナス極と前記第1容量素子のプラス極との間に挿入された第1薄膜トランジスタと、
前記第1容量素子のマイナス極と前記第2容量素子のマイナス極との間に挿入された第2薄膜トランジスタと、
前記第2容量素子のプラス極と前記第1容量素子のプラス極との間に挿入された第2薄膜トランジスタと、
を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ回路。
On the first thin film transistor to turn off, and off period in which the first thin film transistor is turned on, and a second thin film transistor in which the first thin film transistor is turned on during a period of off, on the insulating thin Maku transistor circuit arranged alternately Because
A first thin film transistor inserted between a circuit node to which a positive voltage is applied to the positive electrode of the first capacitive element and the positive electrode of the second capacitive element;
A first thin film transistor inserted between a negative pole of the second capacitive element and a positive pole of the first capacitive element;
A second thin film transistor inserted between the negative pole of the first capacitive element and the negative pole of the second capacitive element;
A second thin film transistor inserted between a positive pole of the second capacitive element and a positive pole of the first capacitive element;
Thin Maku transistor circuit you comprising: a.
オン、オフする第1薄膜トランジスタと、第1薄膜トランジスタがオンする期間にオフし、第1薄膜トランジスタがオフする期間にオンする第2薄膜トランジスタとを、絶縁体上において、交互に配置した薄膜トランジスタ回路であって、
第1容量素子のマイナス極に対してプラスの電圧が与えられる回路節点と第2容量素子のプラス極との間に挿入された第1スイッチと、
前記第2容量素子のマイナス極と前記第1容量素子のマイナス極との間に挿入された第2スイッチと、
前記回路節点と前記第2容量素子のマイナス極との間に挿入された第3スイッチと、
前記第2容量素子のプラス極と前記第1容量素子のプラス極との間に挿入された第4スイッチと
を備え、
前記第1スイッチおよび第2スイッチは、並列接続された複数の第1薄膜トランジスタによりなり、
前記第3スイッチおよび第4スイッチは、並列接続された複数の第2薄膜トランジスタによりなる
ことを特徴とする薄膜トランジスタ回路。
On the first thin film transistor to turn off, and off period in which the first thin film transistor is turned on, and a second thin film transistor in which the first thin film transistor is turned on during a period of off, on the insulating thin film transistor circuit arranged alternately Because
A first switch inserted between a circuit node to which a positive voltage is applied to the negative pole of the first capacitive element and the positive pole of the second capacitive element;
A second switch inserted between the negative pole of the second capacitive element and the negative pole of the first capacitive element;
A third switch inserted between the circuit node and the negative pole of the second capacitive element;
A fourth switch inserted between the positive pole of the second capacitive element and the positive pole of the first capacitive element;
The first switch and the second switch include a plurality of first thin film transistors connected in parallel,
The third switch and the fourth switch, the thin film transistor circuit you characterized by comprising a parallel-connected plurality of second thin film transistor.
オン、オフする第1薄膜トランジスタと、第1薄膜トランジスタがオンする期間にオフし、第1薄膜トランジスタがオフする期間にオンする第2薄膜トランジスタとを、絶縁体上において、交互に配置した薄膜トランジスタ回路であって、
第1容量素子のプラス極に対してプラスの電圧が与えられる回路節点と第2容量素子のプラス極との間に挿入された第1スイッチと、
前記第2容量素子のマイナス極と前記第1容量素子のプラス極との間に挿入された第2スイッチと、
前記第1容量素子のマイナス極と前記第2容量素子のマイナス極との間に挿入された第3スイッチと、
前記第2容量素子のプラス極と前記第1容量素子のプラス極との間に挿入された第4スイッチと
を備え、
前記第1スイッチおよび第2スイッチは、並列接続された複数の第1薄膜トランジスタによりなり、
前記第3スイッチおよび第4スイッチは、並列接続された複数の第2薄膜トランジスタによりなる
ことを特徴とする薄膜トランジスタ回路。
On the first thin film transistor to turn off, and off period in which the first thin film transistor is turned on, and a second thin film transistor in which the first thin film transistor is turned on during a period of off, on the insulating thin film transistor circuit arranged alternately Because
A first switch inserted between a circuit node to which a positive voltage is applied to the positive pole of the first capacitive element and the positive pole of the second capacitive element;
A second switch inserted between the negative pole of the second capacitive element and the positive pole of the first capacitive element;
A third switch inserted between the negative pole of the first capacitive element and the negative pole of the second capacitive element;
A fourth switch inserted between the positive pole of the second capacitive element and the positive pole of the first capacitive element;
The first switch and the second switch include a plurality of first thin film transistors connected in parallel,
The third switch and the fourth switch, the thin film transistor circuit you characterized by comprising a parallel-connected plurality of second thin film transistor.
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