JP5023322B2 - 縮合多環化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
また、非特許文献4に、下記化学反応式〔3〕で示す通り、アントラキノン誘導体(14)を、ウルマン(Ullmann)のカップリング反応により二量化させた誘導体(15)にした後、還元的分子内環化、引続く酸化的光環化、さらに脱保護化して、ステントリンC(2)へ誘導する合成方法が開示されている。この方法は、分子内環化・酸化的光環化での収率が著しく低いという問題がある。
重合防止剤存在下、水酸化物存在下でのアルカリ条件下、1×108〜1×1010Paの高圧に晒し、その2分子を、10位の炭素原子同士と、該4位の炭素同士又は該5位の炭素原子同士とで二量化をするようそれぞれ直接結合させて、二量体に縮合する工程を有することを特徴とする。
該フェナントロペリレン ジオン類にする工程の後、該フェナントロペリレン ジオン類から、該アントラキノン類の該3,6位の少なくとも何れかに存していた該保護基によって保護された水酸基中のその保護基を、ヨウ化水素酸存在下の酸性条件下で開裂させ遊離の水酸基にする工程を有することを特徴とする。
該ヨウ化水素酸存在下の酸性条件下で開裂させ遊離の水酸基にする工程によって、該保護基Rを開裂させることにより、前記化学式(2)
Rf 0.28 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 4:1).
FTIR (KBr) ν1704, 1586, 1337, 1124 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.60 (9H, s), 3.90 (3H, s), 3.91 (6H, s), 7.26 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 28.1 (×3), 56.1 (×3), 60.8, 81.1, 106.6 (×2), 127.0, 141.8, 152.7 (×2), 165.3.
Rf 0.40 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 9:1).
融点 65.0-65.5 ℃.
FTIR (KBr) ν 1710, 1579, 1144 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.27 (6H, d, J = 7.1 Hz), 1.59 (9H, s), 3.62 (1H, sept, J = 7.1 Hz), 3.84 (6H, s), 7.18 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 20.3 (×2), 24.3, 28.2 (×3), 55.7, 80.9, 105.4, 129.4, 130.3, 158.2 (×2), 165.8.
Rf 0.26 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 2:1).
Rf 0.65 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 2:1).
FTIR (KBr) ν 1694, 1142 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.29 (6H, d, J = 7.1 Hz), 3.66 (1H, sept, J = 7.1 Hz), 3.87 (6H, s), 7.05 (2H, s), 9.89 (1H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 20.1 (×2), 24.5, 55.8 (×2), 105.4 (×2), 131.8, 135.1, 158.90 (×2), 191.8.
Rf 0.46 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 4:1).
FTIR (neat) ν 1705, 1231, 1130 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (9H, t, J = 7.4 Hz), 1.98 (6H, q, J = 7.5 Hz), 3.90 (3H, s), 3.90 (6H, s), 7.27 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 7.8 (×3), 27.0 (×3), 56.1 (×3), 60.9, 89.1, 106.6 (×2), 127.0, 141.9, 152.8 (×2), 165.0.
Rf 0.63 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 9:1).
融点 65.0-65.5 ℃
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.27 (6H, d, J = 7.1 Hz), 1.59 (9H, s), 3.62 (1H, quin, J = 7.1 Hz), 3.84 (6H, s), 7.18 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 20.3 (×2), 24.3, 28.2 (×3), 55.7 (×2), 80.9, 105.4, 129.4, 130.3, 158.2 (×2), 165.79.
前記のように安息香酸ブチル体(31a)から(32a)を経てベンズアルデヒド体(33)を合成したのと同様にして、安息香酸ジエチルプロピル体(32b)からベンズアルデヒド体(33)を同様な収率で合成した。
Rf 0.49 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 1:1).
FTIR (KBr) ν 3341, 1642 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.92 (3H, s), 6.37 (1H, d, J = 2.4 Hz), 6.40 (1H, dd, J = 2.4, 6.8 Hz), 7.73 (1H, d, J = 8.8 Hz), 11.0 (1H, br).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 52.0, 103.0, 105.7, 108.0, 131.9, 162.3, 163.4, 170.4.
Rf 0.23 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 4:1).
FTIR (KBr) ν 1713, 1258 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.83 (3H, s), 5.07 (2H, s), 6.54 (1H,d, J = 5.4 Hz), 6.55 (1H, s), 7.73-7.43 (5H, m), 7.84 (1H, d, J = 9.5 Hz).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 51.6, 55.9, 70.1, 99.8, 105.2,112.4,127.5 (×2), 128.2, 128.6 (×2), 133.8, 136.0, 161.2, 163.3, 166.0.
Rf 0.25 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 1:1).
FTIR (KBr) ν 3308, 1699 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.80 (3H, s), 3.86 (3H, s), 6.44 (1H, dd, J = 2.3, 8.4 Hz), 6.46 (1H, d, J = 2.2 Hz), 7.80 (1H, d, J = 8.5 Hz).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 51.8, 55.8, 99.5, 107.3, 111.3, 134.0, 161.4, 161.7, 166.6.
Rf 0.42 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 2:1).
FTIR (neat) ν 1728, 1705, 1252 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ0.23 (6H, s), 0.99 (9H, s), 3.85 (3H, s), 3.87 (3H, s), 6.43 (1H, d, J = 2.4 Hz), 6.43 (1H, dd, J = 2.2, 9.3 Hz), 7.77 (1H, d, J = 9.0 Hz).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ -4.3 (×2), 18.3, 25.6 (×3), 51.7, 55.9, 104.3, 111.7, 112.9.
Rf 0.36 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 2:1).
FTIR (neat) ν 3406, 1591, 1205 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.21 (6H, s), 0.99 (9H, s), 1.02 (3H, t, J = 7.3 Hz), 1.22 (3H, t, J = 7.2 Hz), 3.14 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.55 (2H, br), 6.43 (1H, d, J = 2.4 Hz), 6.43 (1H, dd, J = 2.2, 9.3 Hz), 7.77 (1H, d, J = 9.0 Hz).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ -4.4 (×2), 12.9,13.9,18.2, 25.6 (×3), 38.8, 51.7, 55.9, 104.3, 111.7, 112.9.
Rf 0.39 (展開溶媒 ヘキサン/アセトン = 1:1).
FTIR (KBr) ν 3268, 1736 cm-1
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 1.23 (6H, d, J = 7.1 Hz), 3.55 (1H, sept, J = 7.0 Hz), 3.76 (6H, s), 3.94 (3H, s), 6.34 (1H, s), 6.43 (1H, s), 6.43 (2H, s), 9.93 (1H, br).
13C NMR (100 MHz, DMSO-d6) δ 20.5 (×2), 23.4, 33.2, 55.7 (×2), 65.7, 80.3, 97.2, 99.4, 101.1, 102.5, 103.0, 123.2, 136.6, 154.7, 158.2, 159.3, 165.5, 167.4.
Anal. Calcd for C20H22O6: C, 67.03; H, 6.19; Found: C, 66.97; H, 6.04.
FTIR (neat) ν 1750, 1603 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.22(1), 0.22(8) (3H ×2, s), 0.97 (9H, s), 1.25 (6H, dd, J = 1.5, 7.1 Hz), 3.56 (1H, sept, J = 7.1 Hz), 3.75 (6H, s), 3.96 (3H, s), 6.15 (1H, s), 6.31 (1H, dd, J = 0.73, 1.7 Hz), 6.38 (2H, d, J = 7.0 Hz) 6.42 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ -4.3 (×2), 18.2, 20.5 (×2), 24.1, 25.2 (×3), 55.8 (×2), 56.0, 81.5, 103.0 (×2), 103.0, 105.8, 135.1, 154.0, 158.8 (×2), 159.6, 163.3, 168.3.
Rf 0.31 (展開溶媒 ヘキサン/アセトン = 1:1).
FTIR (neat) ν 3382, 1678, 1595 cm-1.
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.23 (6H, d, J = 7.1 Hz), 3.52 (1H, sept, J = 7.0 Hz), 3.73 (6H, s), 3.85 (3H, s), 4.10 (2H, s), 6.30 (1H, d, J = 2.2 Hz), 6.35 (1H, d, J = 2.0 Hz) 6.41 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, CD3OD) δ 20.8 (×2), 23.8, 39.7, 55.7 (×2), 56.2, 97.5, 105.9 (×2), 110.4, 113.0, 121.9, 139.0, 144.3, 158.4 (×2), 159.0, 159.7, 168.5.
Rf 0.25 (展開溶媒 ヘキサン/アセトン = 2:1).
融点 246 ℃ (分解).
FTIR (KBr) ν 3462, 1639, 1591 cm-1.
UV λmax 280 (ε = 12000), 346 (ε = 2200) nm.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.34 (6H, d, J = 7.1 Hz), 3.69 (1H, sept, J = 7.1 Hz), 3.89 (3H, s), 3.94 (3H, s), 3.96 (3H, s), 6.74 (1H, d, J = 2.2 Hz), 7.18 (1H, d, J = 2.2 Hz) 7.45 (1H, s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 20.4 (×2), 25.2, 55.6, 56.3, 62.6, 104.6, 105.3, 105.6, 116.7, 120.0, 133.3, 136.1, 159.3, 162.1, 162.3, 162.4, 181.4, 184.3.
Rf0.40 (展開溶媒 ヘキサン/アセトン = 2:1).
融点233.5-235.5 ℃.
FTIR (KBr) ν 3314, 3229, 1622 cm-1.
1H NMR (400 MHz, acetone-d6) δ 1.34 (6H, d, J = 7.1 Hz), 3.69 (1H, sept, J = 7.1 Hz), 4.04 (3H, s), 6.59 (1H, d, J = 2.2Hz), 7.17 (1H, d, J = 2.2 Hz), 7.30 (1H, s), 12.14 (1H,s), 12.66 (1H,s).
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 19.7 (×2), 24.1, 55.8, 103.4, 108.5, 109.2, 109.4, 110.4, 130.0, 132.3, 135.0, 161.9, 163.5, 164.7, 182.5 (×2).
Rf0.45 (展開溶媒 ヘキサン/酢酸エチル = 2:1, シュウ酸塩処理シリカゲル).
1H NMR (400 MHz, acetone-d6) δ 1.53 (6H, d, J = 7.1 Hz), 1.63 (6H, d, J = 7.1 Hz), 3.48 (3H, s), 4.08 (2H, sept, J = 7.1Hz), 6.66 (2H, s), 14.75 (2H, s), 15.32 (2H, s).
13C NMR (100 MHz, acetone-d6 ) δ 20.9 (×2), 21.6 (×2), 25.8 (×2), 61.7 (×2), 103.1 (×2), 106.7 (×2), 107.7 (×2), 112.3 (×2), 120.9 (×2), 122.8 (×2), 126.5 (×2), 128.2 (×2), 128.7 (×2), 163.2 (×2), 164.3 (×2), 169.6 (×2), 176.3 (×2), 184.6 (×2).
HRMS (FAB) calcd. for C36H27O10 (M-H+) 620.6015, found 619.1595.
Rf 0.13(展開溶媒 酢酸エチル/アセトン = 1:1).
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ1.51 (12H, d, J = 7.1 Hz), 6.56 (2H, s), 14.61 (2H, s), 15.09 (2H, s).
Claims (6)
- 下記化学式
1,2,7,8位が未置換であり、又は該1,2,7,8位のうち1,8位が該未置換であることに代えて遊離の水酸基で置換され又はアルキル基、アラルキル基及びアシル基から選ばれる保護基によって保護された水酸基で置換され及び/又は該1,2,7,8位のうち2,7位の少なくとも一方が該未置換であることに代えてアルキル基で置換されており、
且つ3,6位が遊離の水酸基で置換され又はアルキル基、アラルキル基及びアシル基から選ばれる保護基によって保護された水酸基で置換され、
且つ4,5位が未置換であるアントラキノン類を、
重合防止剤存在下、水酸化物存在下でのアルカリ条件下、1×108〜1×1010Paの高圧に晒し、その2分子を、10位の炭素原子同士と、該4位の炭素同士又は該5位の炭素原子同士とで二量化をするようそれぞれ直接結合させて、二量体に縮合する工程を有することを特徴とする縮合多環化合物の製造方法。 - 該二量体に縮合する工程の後、該二量体に光を照射して、該アントラキノン類の該2分子に存していた該4位の炭素同士と該5位の炭素原子同士とのうち前記二量化で結合しなかった方の炭素原子同士を直接結合させることによりさらに縮合させてフェナントロペリレン ジオン類にする工程を有することを特徴とする請求項1に記載の縮合多環化合物の製造方法。
- 該アントラキノン類の該3,6位の少なくともいずれかがアルキル基、アラルキル基及びアシル基から選ばれる該保護基によって保護された水酸基で置換されており、
該フェナントロペリレン ジオン類にする工程の後、該フェナントロペリレン ジオン類から、該アントラキノン類の該3,6位の少なくとも何れかに存していた該保護基によって保護された水酸基中のその保護基を、ヨウ化水素酸存在下の酸性条件下で開裂させ遊離の水酸基にする工程を有することを特徴とする請求項2に記載の縮合多環化合物の製造方法。 - 該アントラキノン類の該3,6位のうちの一方が該遊離の水酸基で置換され該3,6位のうちの他方がアルキル基、アラルキル基及びアシル基から選ばれる該保護基によって保護された水酸基で置換され、該アントラキノン類の該1,8位が遊離の水酸基で置換され又はアルキル基、アラルキル基及びアシル基から選ばれる保護基によって保護された水酸基で置換され、該アントラキノン類の該2,7位の少なくとも一方がアルキル基で置換されていることを特徴とする請求項3に記載の縮合多環化合物の製造方法。
- 3,4,5−トリアルコキシ安息香酸エステルにアルキルマグネシウムハライド又はアルケニルマグネシウムハライドを反応させてから還元と引続く酸化とを経ることによってエステル基をアルデヒド基に変換した4−アルキル又はアルケニル−3,5−ジアルコキシベンズアルデヒドと、2−アルコキシ−4−トリアルキルシロキシ安息香酸N,N−ジアルキルアミドのオルトリチオ体とを、反応させた後、酸存在下の酸性条件下でのラクトン化反応、接触還元触媒存在下で水素ガス雰囲気下での接触還元反応、酸無水物存在下での分子内フリーデル・クラフツ反応、酸素雰囲気下での酸素による酸化反応及び、塩化アルミニウム存在下の酸性条件下でのアルコキシ開裂反応の順で反応させる工程により得られたものを、該アントラキノン類として用いることを特徴とする請求項1に記載の縮合多環化合物の製造方法。
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