JP5007428B2 - アベルメクチン、アベルメクチン単糖およびアベルメクチンアグリコンの誘導体 - Google Patents

アベルメクチン、アベルメクチン単糖およびアベルメクチンアグリコンの誘導体 Download PDF

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Description

本発明は、特に、特定のアベルメクチン、アベルメクチン単糖およびアベルメクチンアグリコンの誘導体、このような誘導体を調製するための方法、このような誘導体の調製の際の中間体、ならびに害虫の制御のための特定の誘導体の使用に関する。
害虫を制御するための特定のマクロライド化合物は公知である。しかし、これらの既知化合物の生物学的特性は十分満足のいくものではなく、結果として、依然として殺虫特性を有するさらなる化合物を提供する必要性がある。
２位に置換基をもつ６員の環状アセタールを、４”位、４’位または１３位にそれぞれ有するアベルメクチン、アベルメクチン単糖およびアベルメクチンアグリコンの特定の誘導体が、害虫、特に作物およびその繁殖材料に有害な害虫、例えば、昆虫綱、ダニ目および線虫綱に代表されるものなどの制御に有用であることが見出された。
従って、第１の態様では、本発明は、式（Ｉ）
Figure 0005007428
 （式中、破線で示される炭素原子２２〜２３間の結合は、単結合もしくは二重結合であり、
ｎは０、１もしくは２であり、
Ｒ1は、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキルまたはＣ2−Ｃ12アルケニル基を表し、
Ｒ2は、Ｒ15、Ｒ16Ｏ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｒ16Ｓ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｓ、Ｒ16Ｒ17Ｎ、Ｒ16（ＣＮ）Ｎ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｒ17Ｎ、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ17Ｎ、Ｒ15ＳＯ2Ｒ17Ｎ、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ17Ｎ、またはＲ18Ｒ19Ｎ−ＳＯ2Ｒ17Ｎ基を表し、
Ｒ3は、水素またはＲ2基を表すか、あるいはＲ2およびＲ3はともに−ＯＣＲ7Ｒ8Ｏ−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、または−ＯＣ（Ｓ）Ｏ−を表し、
Ｒ4は、ハロゲン、水素または化学成分を表し、
Ｒ5は、水素、ヒドロカルビル基または置換されたヒドロカルビル基、あるいは、Ｒ4およびＲ5はともに＝Ｏ、＝ＮＲ9もしくは＝ＣＲ10Ｒ11を表し、かつ
Ｒ6は、Ｒ16、Ｒ16ＯＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ2、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）ＯＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｓ）ＯＣＨ2、Ｒ16ＳＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）ＳＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｓ）ＳＣＨ2、Ｒ16Ｒ17ＮＣＨ2、Ｒ16（ＮＣ）ＮＣＨ2、Ｒ16（Ｒ17Ｏ）ＮＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ17ＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲ17）ＣＨ2、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ17ＣＨ2、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲ17）ＣＨ2、Ｒ15ＳＯ2ＮＲ17ＣＨ2、Ｒ16Ｒ17ＮＯＣＨ2、Ｒ16（ＮＣ）ＮＯＣＨ2、Ｒ16（Ｒ17Ｏ）ＮＯＣＨ2、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ17ＯＣＨ2、Ｒ18Ｒ19Ｎ−ＮＲ17ＣＨ2、Ｒ18（ＮＣ）Ｎ−ＮＲ17ＣＨ2、Ｒ18（Ｒ19Ｏ）Ｎ−ＮＲ17ＣＨ2、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ2、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ17ＣＨ2、もしくはＲ18Ｒ19Ｎ−ＳＯ2ＮＲ17ＣＨ2基を表し；
（ここで、Ｒ7およびＲ8は、互いに独立に、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル基を表し、
Ｒ9は水素、またはＲ2基を表し、
Ｒ10およびＲ11は、互いに独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ホルミル、Ｃ（Ｏ）ＯＲ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ13Ｒ14、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルケニル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルキニル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ3−Ｃ6シクロアルキル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているアリール、または非置換であるかまたは一置換〜五置換されているヘテロアリール基を表し、
Ｒ15は、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルケニル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルキニル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ3−Ｃ6シクロアルキル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているアリール、または非置換であるかまたは一置換〜五置換されているヘテロアリール基を表し、かつ
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は、互いに独立に、水素もしくはＲ15を表すか、あるいはＲ16およびＲ17、またはＲ18およびＲ19、はともに、互いに独立に、所望によりヘテロ原子を含有する３員〜１０員の環を表す）；
但し、（ｉ）Ｒ2およびＲ3がヒドロキシ基である場合、置換基Ｒ4はヒドロキシでなく、また、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はＣＨ3もしくはＣＨ2ＯＨ基である、または（ｉｉ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ2Ｃ6Ｈ5もしくはＯＣ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ5基である場合、置換基Ｒ4はＯＣＨ2Ｃ6Ｈ5もしくはＯＣ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ5基でなく、また、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ6Ｈ5もしくはＣＨ2ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ5基である、または（ｉｉｉ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ3基である場合、Ｒ4はＯＣＨ3でなく、また、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はＣＨ2ＯＣＨ3であり、環状アセタールの炭素の立体配置は２位（φ）で（Ｒ）であり、３位（η）で（Ｓ）であり、４位（κ）で（Ｓ）であり、そして５位（λ）で（Ｒ）であるか、あるいは、（ｉｖ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ3基である場合、Ｒ4はＯＣＨ3でなく、また、Ｒ5およびＲ6は水素であり、環状アセタールの炭素の立体配置は２位（φ）で（Ｓ）であり、３位（η）で（Ｒ）であり、そして４位（κ）で（Ｒ）であり、ｎは１であり、あるいは（ｖ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ3基である場合、Ｒ4はＯＣＨ3でなく、また、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はＣＨ3であり、環状アセタールの炭素の立体配置は２位（φ）で（Ｓ）であり、３位（η）で（Ｒ）であり、４位（κ）で（Ｒ）であり、そして５位（λ）で（Ｓ）であり、ｎは１であり、あるいは（ｖｉ）（ａ）Ｒ2およびＲ3が非置換のアセチルオキシであるか、または（ｂ）Ｒ2が非置換のアセチルアミノ基であり、Ｒ3が非置換のアセチルオキシである場合、置換基Ｒ4は非置換のアセチルオキシ基でなく、また、（ａ）または（ｂ）のいずれに関しても、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はＨ、ＣＨ3、ＣＨ2ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ3、もしくはＣＯ2Ｈ基である）の化合物；
さらに、適切な場合、式（Ｉ）の化合物のＥ／Ｚ異性体および／もしくはジアステレオ異性体および／もしくは互変異性体、いずれの場合も遊離形態または塩形態を提供する。
式（Ｉ）における記号δ、ε、φ、η、κ、λおよびγは、対応する炭素原子の立体配置が（Ｓ）または（Ｒ）であり得ることを表す。
第２の態様では、本発明は、式（Ｉ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、炭素原子２２〜２３間の結合およびｎは上記第１の態様に定義されるとおりである）の化合物を調製するための方法であって、
（ｉ）メクチン骨格の１３位、４’位、または４”位（ｎはそれぞれ０、１または２である）のヒドロキシ基にて、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6置換基を有する活性化したテトラヒドロピランを用いてグリコシル化反応を行って、式（ＩＩ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、炭素原子２２〜２３間の結合およびｎは上記第１の態様に定義されるとおりであり、Ｌ1は保護基であり、Ｌ2は水素または保護基である）の化合物を得る段階と；
（ｉｉ）適切な場合、保護基Ｌ1およびＬ2を除去して式（Ｉ）の化合物を得る段階か、または
（ｉｉｉ）Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6基の１以上で基を修飾する反応を行った後、適切な場合、保護基Ｌ1およびＬ2を除去して式（Ｉ）の化合物を得る段階とを含む方法を提供する。
第３の態様では、本発明は、式（Ｉ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5および炭素原子２２〜２３間の結合は上記第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、かつＲ2は第１の態様に定義されるとおりＲ15である）の化合物を調製するための方法であって、
（ｉ）４’−または４”−位のヒドロキシ基を酸化させて式（ＩＩＩ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、かつＬ1は保護基である）のオキソ化合物を得る段階と、
（ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）の化合物と塩基およびトリアルキルシリル化合物とを反応させてエノラートを形成する段階と、
（ｉｖ）エノラートを酸化させて式（ＩＶ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は上記第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、かつＬ1は保護基である）のエノンとする段階と、
（ｖ）置換基Ｒ2を有する有機金属試薬をエノンに添加する段階と、
（ｖｉ）Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5基の１以上で基を修飾する反応を行って、保護基Ｌ1を除去して式（Ｉ）の化合物を得る段階とを含む方法を提供する。
第４の態様では、本発明は、
式（ＩＩ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、炭素原子２２〜２３間の結合およびｎは上記第１の態様に定義されるとおりであり、Ｌ1は保護基であり、Ｌ2は水素または保護基である）の化合物を提供する。
第５の態様では、本発明は、活性化合物として第１または第４の態様にそれぞれ定義される式（Ｉ）、または（ＩＩ）の少なくとも１種類の化合物、および少なくとも１種類の補助剤を含む殺虫組成物を提供する。
第６の態様では、本発明は、第５の態様に定義される組成物を害虫またはそれらの生息地に適用する段階を含む、害虫、特に動物における外部害虫または内部害虫および植物害虫を制御するための方法を提供する。
第７の態様では、本発明は、第１または第４の態様にそれぞれ定義される式（Ｉ）、または（ＩＩ）の少なくとも１種類の化合物を活性化合物として、少なくとも１種類の補助剤と密に混合および／または粉砕する段階を含む、第５の態様に定義される組成物を調製するための方法を提供する。
第８の態様では、本発明は、第５の態様に定義される組成物を調製するための、第１または第４の態様にそれぞれ定義される式（Ｉ）、または（ＩＩ）の化合物の使用を提供する。
第９の態様では、本発明は、害虫を制御するための、第５の態様に定義される組成物の使用を提供する。
第１０の態様では、本発明は、植物繁殖材料、または植物繁殖材料が植えられている場所を、第５の態様に定義される組成物で処理する段階を含む、植物繁殖材料を保護するための方法を提供する。
第１１の態様では、本発明は、好ましくは第１０の態様の方法によって処理された、第１または第４の態様にそれぞれ定義される式（Ｉ）、または（ＩＩ）の少なくとも１種類の化合物を付着させた、害虫に抵抗力のある植物繁殖材料を提供する。
本発明の化合物は、アベルメクチン、アベルメクチン単糖、またはアベルメクチンアグリコンの特定の置換誘導体である。
アベルメクチン類は当業者に公知である。アベルメクチン類は、構造上密接に関連した殺虫活性化合物の群であり、微生物ストレプトミセス・アベルミティリス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ ａｖｅｒｍｉｔｉｌｉｓ）の菌株を発酵させることにより得られる。また、Ｒ1がｉｓｏ−プロピルまたはｓｅｃ−ブチルでない、例えばシクロヘキシルまたは１−メチルブチルである誘導体も発酵によって得られる。アベルメクチン類の誘導体は、従来の化学合成により得ることができる。本発明は、アベルメクチン、アベルメクチン単糖、またはアベルメクチンアグリコンと結合した新規な炭水化物単位を有する新規な化合物の系に関する。
本発明の化合物は、破線で示される炭素原子２２〜２３間の結合が単結合もしくは二重結合である、（ｉ）アベルメクチン（式（Ｉ）においてｎが２である場合）、（ｉｉ）アベルメクチン単糖（式（Ｉ）においてｎが１である場合）、および（ｉｉｉ）アベルメクチンアグリコン（式（Ｉ）においてｎが０である場合）の誘導体である。従って、本明細書において用いられるメクチン骨格とは、下記のいずれか１つをさす。
Figure 0005007428
 矢印は、新規に導入されるピラン誘導体との結合点を示す。
ストレプトミセス・アベルミティリス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ ａｖｅｒｍｉｔｉｌｉｓ）から得られるアベルメクチン類は、Ａ１ａ、Ａ１ｂ、Ａ２ａ、Ａ２ｂ、Ｂ１ａ、Ｂ１ｂ、Ｂ２ａおよびＢ２ｂと呼ばれる。「Ａ」および「Ｂ」と呼ばれる化合物は、５位にそれぞれメトキシラジカルおよびＯＨ基を有する。「ａ」系および「ｂ」系は、置換基Ｒ1（２５位）がそれぞれｓｅｃ−ブチルラジカルおよびイソプロピルラジカルである化合物である。化合物名中の数字１は、炭素原子２２と２３が二重結合で結合していることを意味し、数字２はそれらが一重結合により結合し、かつ炭素原子２３がＯＨ基を有していることを意味する。天然に存在するアベルメクチンに対応する、本発明の天然に存在しないアベルメクチン誘導体の具体的な構造種を表示するために、上記の命名法は本発明の記載において忠実に守られる。本発明の化合物は、特にＢ１系、有利にはＢ１ａおよびＢ１ｂのアベルメクチン化合物の誘導体；炭素原子２２と２３の間に一重結合を有する誘導体；２５位にｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピル以外の置換基を有する誘導体；および対応する単糖の誘導体である。
マクロライドの化学的性質の概説は、Ｉｖｅｒｍｅｃｔｉｎ Ａｂａｍｅｃｔｉｎ．Ｆｉｓｈｅｒ，Ｍ．Ｈ．；Ｍｒｏｚｉｋ，Ｈ．Ｅｄｉｔｏｒ（ｓ）−Ｃａｍｐｂｅｌｌ，Ｗｉｌｌｉａｍ Ｃｅｃｉｌ，（１９８９），１−２３；およびＭａｃｒｏｌｉｄｅ Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ（２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ），Ｓｕｎａｚｕｋａ，Ｔｏｓｈｉａｋｉ，Ｏｍｕｒａ，Ｓａｄａｆｕｍｉ；Ｉｗａｓａｋｉ，Ｓｈｉｇｅｏ，Ｏｍｕｒａ，Ｓａｔｏｓｈｉ．Ｅｄｉｔｏｒ（ｓ）−Ｏｍｕｒａ，Ｓａｔｏｓｈｉ（２００２），９９−１８０参照。
グリコシル化の化学的性質の概説は、Ｄｅｍｃｈｅｎｋｏ，Ａ．Ｖ．，Ｓｙｎｌｅｔｔ（２００３），１２２５−１２４０；Ｎｉｃｏｌａｏｕ，Ｋ．Ｃ．，Ｍｉｔｃｈｅｌ Ｈ．Ｊ．Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ Ｃｈｅｍｉｅ（２００１），１１３，１６２４−１６７２；Ｇａｒｅｇｇ，Ｊ．Ｐ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９９７），５２，１７９−２０５；およびＴｏｓｈｉｍａ Ｋ．，Ｔａｔｓｕｔａ Ｋ．，Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ（１９９３），１５０３−１５３１参照。
ＥＰ−Ａ−７８１２号には、アベルメクチン単糖、またはアベルメクチンアグリコンの合成、ならびにモノ−、ジ−およびトリグリコシル誘導体の調製、グリコシル化の後にアセチル基を切断できる、活性化した過アセチル化糖を有するメクチン骨格のグリコシル化が記載されている。ＵＳ４１５６７２０号も参照。
クプラート類の調製および共役エノンへのこれらのクプラートの１，４−付加は、Ｃｌａｒｋｅ，Ｐ．Ｄ．，Ｆｉｔｔｏｎ Ａ．Ｏ．，Ｓｕｓｃｈｉｔｚｋｙ Ｈ．，Ｗａｌｌａｃｅ，Ｔ．Ｗ．，Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ（１９８６），２７，９１−９４参照。
本発明は、アベルメクチン、アベルメクチン単糖、またはアベルメクチンアグリコンの、それぞれ４”位、４’位または１３位のヒドロキシ基での新規な糖誘導体を用いるグリコシル化、グリコシル化の後に新規に導入された糖での置換基の修飾、またはデスオキシ糖誘導体の２”位または２’位での新規な置換基の導入を記載する。このような化合物は殺虫効力を有することが見出されている。
本発明の各化合物は、単一の異性体、Ｅ／Ｚ異性体および／またはジアステレオ異性体および／または互変異性体として存在し得る。従って、化合物、例えば式（Ｉ）の化合物も、適切な場合は、たとえそれがいずれの場合にも具体的に言及されていなくとも、対応するＥ／Ｚ異性体および／またはジアステレオ異性体および／または互変異性体を含むものと理解される。
本発明の各々の化合物、例えば式（Ｉ）の化合物、および、適用可能な場合、そのＥ／Ｚ異性体および／またはジアステレオ異性体および／または互変異性体は、塩、例えば酸付加塩を形成し得る。これらの酸付加塩は、例えば、強力な無機酸類、例えば鉱酸類、例えば硫酸、リン酸またはハロゲン化水素酸、強力な有機カルボン酸類、例えば非置換であるかまたは置換された、例えばハロ置換された、Ｃ1−Ｃ4アルカンカルボン酸類、例えば酢酸、不飽和又は飽和ジカルボン酸類、例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸またはフタル酸、ヒドロキシカルボン酸類、例えばアスコルビン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸もしくはクエン酸、または安息香酸、あるいは有機スルホン酸類、例えば非置換であるかまたは置換された、例えばハロ置換された、Ｃ1−Ｃ4アルカン−スルホン酸またはアリール−スルホン酸、例えばメタン−スルホン酸またはｐ−トルエン−スルホン酸を用いて形成される。少なくとも１つの酸性基を有する式（Ｉ）の化合物は、さらに塩基と塩を形成することができる。塩基との適した塩は、例えば金属塩、例えばアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウムもしくはマグネシウム塩、あるいは、アンモニアまたは有機アミン、例えばモルホリン、ピペリジン、ピロリジン、モノ−、ジ−もしくはトリ−低級アルキルアミン、例えば、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンまたはジメチルプロピルアミン、またはモノ−、ジ−もしくはトリヒドロキシ−低級アルキルアミン、例えば、モノ−、ジ−もしくはトリ−エタノールアミンである。対応する内部塩も、適切な場合には形成され得る。式（Ｉ）の化合物の塩の中では、農薬として有利な塩が好ましい。
本発明の遊離化合物、例えば、式（Ｉ）の遊離化合物、またはその塩に対するどのような言及も、適切な場合には、それぞれ式（Ｉ）の対応する塩または遊離化合物をまた含むことと理解される。同じことが、本発明の化合物、例えば式（Ｉ）の化合物のＥ／Ｚ異性体および／またはジアステレオ異性体および／または互変異性体、およびその塩にも当てはまる。
本発明を以下に詳細に記載する。さらに、下に記載されるように、本発明の特徴の各々の実施形態は、別の特徴の実施形態とは独立している。
本発明の第１の態様の文脈において、選好されるものは以下の基：
（２）遊離形態の第１の態様の化合物（群（１）とも呼ばれる）；
（３）塩形態の第１の態様の化合物（群（１）とも呼ばれる）；
（４）Ｒ4が、ハロゲン、Ｒ16、Ｒ16Ｏ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｒ16Ｃ（＝Ｓ）Ｏ、Ｒ16Ｓ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｓ、Ｒ16Ｃ（＝Ｓ）Ｓ、Ｒ16Ｒ17Ｎ、Ｒ16（ＮＣ）Ｎ、Ｒ16（Ｒ17Ｏ）Ｎ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｒ17Ｎ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）（ＯＲ17）Ｎ、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ17Ｎ、Ｒ15ＯＣ（＝Ｏ）（ＯＲ17）Ｎ、Ｒ15ＳＯ2Ｒ17Ｎ、Ｒ16Ｒ17ＮＯ、Ｒ16（ＮＣ）ＮＯ、（Ｒ16Ｒ17Ｃ＝）ＮＯ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｒ17ＮＯ、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｒ17Ｎ、Ｒ18（ＮＣ）Ｎ−Ｒ17Ｎ、Ｒ18（Ｒ19Ｏ）Ｎ−Ｒ17Ｎ、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ、Ｒ18Ｒ19Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ17Ｎ、またはＲ18Ｒ19Ｎ−ＳＯ2Ｒ17Ｎ基を表す、群（１）〜（３）のいずれか１つに記載の化合物；
（５）Ｒ5が、水素、シアノ、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルケニル、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルキニル基、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ3−Ｃ6シクロアルキル基を表すか、またはＲ4およびＲ5がともに、＝Ｏ、＝ＮＲ9または＝ＣＲ10Ｒ11と同種の基を表す、群（１）〜（４）のいずれか１つに記載の化合物；
（６）言及される、アルキル−、アルケニル−、アルキニル−、シクロアルキル、アリールもしくはヘテロアリールラジカルの置換基が適用できる場合、Ｒ5、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19において、ＯＨ、＝Ｏ、ＳＨ、＝Ｓ、ハロゲン、ＣＮ、ＳＣＮ、Ｎ3、ＮＯ2、アリール、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキル、Ｃ3−Ｃ8ハロシクロアルキル、Ｃ1−Ｃ12アルコキシ、Ｃ3−Ｃ8シクロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ12アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ12シクロアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルケニル、Ｃ2−Ｃ6アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ8アルキニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルキニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルキニルオキシ、Ｃ2−Ｃ6アルケニルチオ、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニルチオ、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ3−Ｃ8ハロシクロアルキルスルフィニル、Ｃ2−Ｃ6アルケニルスルフィニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ3−Ｃ8ハロシクロアルキルスルホニルＣ2−Ｃ6アルケニルスルホニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニルスルホニル、フェノキシ、フェニル−Ｃ1−Ｃ6アルキル、トリアルキルシリル；−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ20、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ21、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ20および−Ｎ（Ｒ22）2（２つのＲ22は互いに独立している）、アリール、ベンジル、ヘテロシクリル、アリールオキシ、ベンジルオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アリールチオ、ベンジルチオおよびヘテロシクリルチオ；（アリール、ヘテロシクリル、アリールオキシ、ベンジルオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アリールチオ、ベンジルチオおよびヘテロシクリルチオ置換基は、非置換であるか、または、環の置換可能性に応じて、ＯＨ、＝Ｏ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ1−Ｃ12ヒドロキシアルキル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ12アルコキシ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ12アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−Ｃ1−Ｃ6アルキル、ジメチルアミノ−Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ2−Ｃ8アルケニル、Ｃ2−Ｃ8アルキニル、フェノキシ、フェニル−Ｃ1−Ｃ6アルキルからなる群から選択される置換基で一置換〜五置換されている）；メチレンジオキシ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ20、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ21、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ20、−Ｎ（Ｒ22）2（２つのＲ22は互いに独立している）、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ3−Ｃ8ハロシクロアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルスルホニルおよびＣ3−Ｃ8ハロシクロアルキルスルホニル；（ここで
Ｒ20は、Ｈ、ＯＨ、ＳＨ、−Ｎ（Ｒ22）2（２つのＲ22は互いに独立している）、Ｃ1−Ｃ24アルキル、Ｃ2−Ｃ12アルケニル、Ｃ1−Ｃ8ヒドロキシアルキル、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ12アルコキシ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ12アルキルチオ、Ｃ2−Ｃ8アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ8アルキニルオキシ；アリール、ベンジル、ヘテロシクリル、アリールオキシ、ベンジルオキシ、もしくはヘテロシクリルオキシ；または、環中で、ハロゲン、ニトロ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルもしくはＣ1−Ｃ6ハロアルコキシ基で互いに独立に一置換〜三置換されている、アリール、ベンジル、ヘテロシクリル、アリールオキシ、ベンジルオキシもしくはヘテロシクリルオキシであり；
Ｒ21は、Ｈ、所望により、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、ヒドロキシおよびシアノからなる群から選択される１個〜５個の置換基で置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ8−シクロアルキル、アリール、ベンジル、もしくはヘテロアリールであるか；または、環の置換可能性に応じて、ＯＨ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ12アルコキシ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ12アルキルチオおよびＣ1−Ｃ12ハロアルキルチオからなる群から選択される置換基で一置換〜三置換されている、アリール、ベンジルもしくはヘテロアリールであり；かつ
Ｒ22は、Ｈ、所望により、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、ヒドロキシおよびシアノからなる群から選択される１個〜５個の置換基で置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ8−シクロアルキル、アリール、ベンジル、もしくはヘテロアリールであるか；または、環の置換可能性に応じて、ＯＨ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ1−Ｃ12ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ12アルコキシ、Ｃ1−Ｃ12ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ12アルキルチオおよびＣ1−Ｃ12ハロアルキルチオからなる群から選択される置換基で一置換〜三置換されている、アリール、ベンジルもしくはヘテロアリールである）からなる群から選択される、群（１）〜（５）のいずれか１つに記載の化合物；
（７）１３位（γ）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（６）のいずれか１つに記載の化合物；
（８）１３位（γ）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（６）のいずれか１つに記載の化合物；
（９）Ｒ2がヒドロキシ、アルカノイルオキシ、またはアルカノイルアミノ基でない、群（１）〜（８）のいずれか１つに記載の化合物；
（１０）Ｒ1がイソプロピル、またはｓｅｃ−ブチルである、群（１）〜（９）のいずれか１つに記載の化合物；
（１１）Ｒ1がシクロヘキシルである、群（１）〜（９）のいずれか１つに記載の化合物；
（１２）Ｒ1が１−メチル−ブチルである、群（１）〜（９）のいずれか１つに記載の化合物；
（１３）炭素原子２２〜２３間の結合が一重結合である、群（１）〜（１２）のいずれか１つに記載の化合物；
（１４）炭素原子２２〜２３間の結合が二重結合である、群（１）〜（１２）のいずれか１つに記載の化合物；
（１５）ｎが２である、群（１）〜（１４）のいずれか１つに記載の化合物；
（１６）ｎが１である、群（１）〜（１４）のいずれか１つに記載の化合物；
（１７）ｎが０である、群（１）〜（１４）のいずれか１つに記載の化合物；
（１８）４’位（δ）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（１６）のいずれか１つに記載の化合物；
（１９）４’位（δ）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（１６）のいずれか１つに記載の化合物；
（２０）４”位（δ）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（１５）のいずれか１つに記載の化合物；
（２１）４”位（δ）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（１５）のいずれか１つに記載の化合物；
（２２）Ｒ2が、Ｒ15、Ｒ15Ｏ、またはＲ16ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を表す、群（１）〜（２１）のいずれか１つに記載の化合物；
（２３）Ｒ3が、Ｈ、Ｒ15Ｏ、またはＲ16ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を表す、群（１）〜（２２）のいずれか１つに記載の化合物；
（２４）Ｒ4が、Ｈ、Ｒ15Ｏ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−またはＲ16Ｒ17Ｎを表す、群（１）〜（２３）のいずれか１つに記載の化合物、；
（２５）Ｒ5が、Ｈ、またはＲ15を表す、群（１）〜（２４）のいずれか１つに記載の化合物；
（２６）Ｒ4およびＲ5がともに、＝Ｏ、または＝ＮＯＲ16を表す、群（１）〜（２３）のいずれか１つに記載の化合物；
（２７）Ｒ6が、Ｈ、Ｒ15、またはＲ16ＯＣＨ2を表す、群（１）〜（２６）のいずれか１つに記載の化合物；
（２８）Ｒ15が、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、好ましくは、非置換のＣ1−Ｃ3アルキルを表す、群（２２）〜（２５）および（２７）のいずれか１つに記載の化合物；
（２９）Ｒ16が、Ｈあるいは非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキルを表す、群（２２）、（２３）、（２４）、（２６）および（２７）のいずれか１つに記載の化合物；
（３０）Ｒ17が、Ｈあるいは非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキルを表す、群（２４）に従う化合物；
（３１）環状アセタールの１位（ε）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（３０）のいずれか１つに記載の化合物；
（３２）環状アセタールの１位（ε）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（３０）のいずれか１つに記載の化合物；
（３３）Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4が、ＯＣＨ3、好ましくはＯＣ1-4アルキルである場合、環状アセタールの３位（η）と４位（κ）炭素の立体配置が互いに逆である、群（１）〜（３２）のいずれか１つに記載の化合物；
（３４）Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4が、ＯＣＨ3、好ましくはＯＣ1-4アルキルである場合、環状アセタールの２位（φ）と３位（η）の炭素の立体配置が同じ、好ましくは（Ｒ）である、群（１）〜（３３）のいずれか１つに記載の化合物；
（３５）Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4が同じ置換基である場合、環状アセタールの３位（η）と４位（κ）炭素の立体配置が互いに逆である、群（１）〜（３２）のいずれか１つに記載の化合物；
（３６）Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4が同じ置換基であり、環状アセタールの２位（φ）と３位（η）の炭素の立体配置が同じ、好ましくは（Ｒ）である、群（１）〜（３２）および（３５）のいずれか１つに記載の化合物；
（３７）環状アセタールの２位（φ）、３位（η）および４位（κ）の炭素の立体配置が同じである、群（１）〜（３２）、（３４）および（３６）のいずれか１つに記載の化合物；
（３８）環状アセタールの２位（φ）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（３７）のいずれか１つに記載の化合物；
（３９）環状アセタールの２位（φ）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（３７）のいずれか１つに記載の化合物；
（４０）環状アセタールの３位（η）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（３９）のいずれか１つに記載の化合物；
（４１）環状アセタールの３位（η）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（３９）のいずれか１つに記載の化合物；
（４２）環状アセタールの４位（κ）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（４１）のいずれか１つに記載の化合物；
（４３）環状アセタールの４位（κ）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（４１）のいずれか１つに記載の化合物；
（４４）環状アセタールの５位（λ）の炭素原子の立体配置が（Ｒ）である、群（１）〜（４３）のいずれか１つに記載の化合物；
（４５）環状アセタールの５位（λ）の炭素原子の立体配置が（Ｓ）である、群（１）〜（４３）のいずれか１つに記載の化合物、
である。
好ましい式（Ｉ）または式（ＩＩ）の化合物は、炭素原子２２〜２３間の結合が二重結合であり、ｎが１または２であり、Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ4アルキル基（好ましくは、イソプロピル、またはｓｅｃ−ブチル）を表し、Ｒ2が、Ｃ1−Ｃ4アルキルまたはＣ1−Ｃ4アルコキシを表し、Ｒ3が、Ｃ1−Ｃ4アルコキシを表し、Ｒ4が、Ｈ、ＯＨ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシＣ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4アルカノイルオキシ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ2−Ｃ4アルケニルオキシカルボニルオキシ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、ジＣ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4アルカノイルアミノ、ジＣ1−Ｃ4アルカノイルアミノ、Ｃ1−Ｃ4アルカノイル−Ｃ1−Ｃ4アルキル−アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシカルボニルアミノ、ジＣ1−Ｃ4アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシカルボニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル−アミノ、またはＣ2−Ｃ4アルケニルオキシカルボニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル−アミノを表し、Ｒ5が、Ｈ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ2−Ｃ3アルケニル、Ｃ2−Ｃ3アルキニルまたはＣＮを表すか、あるいはＲ4およびＲ5がともに、＝Ｏ、＝ＮＯＨ、＝ＮＯＣ1−Ｃ4アルキル、または＝ＮＯＣ1−Ｃ4アルカノイルを表し、かつ、Ｒ6が、Ｈ、メチル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシＣＨ2、またはＣ1−Ｃ4アルカノイルオキシＣＨ2を表し、ここで、（ａ）環状アセタールの３位（η）と４位（κ）の炭素の立体配置が互いに逆であり、（ｂ）環状アセタールの２位（φ）と３位（η）の炭素の立体配置が同じ、好ましくは（Ｒ）であるか、または（ｃ）環状アセタールの２位（φ）、３位（η）および４位（κ）の炭素の立体配置が同じであり、かつ、（ａ）、（ｂ）または（ｃ）のいずれか１つにおいてもその他の炭素原子のいずれか１つの炭素立体配置が互いに独立に（Ｒ）または（Ｓ）である、アベルメクチンまたはアベルメクチン単糖誘導体である。
同じ一般基（またはラジカルもしくは置換基）の種類が、１つの化合物中の２以上の位置に存在するとして記載されている場合、その特定の基は同じであってもよいし、異なっていてもよい。さらに、例えば、一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ12アルキルなど、置換数の範囲が示されている場合、当業者であれば置換の程度が置換部位の利用能に依存することを理解する。別に定義されていなければ、本出願において用いられる一般用語は、下記の意味を有する。
化学成分、好ましくは、有機基は、炭素、窒素、硫黄、酸素、またはリンから選択される原子を介して結合している原子からなる基である。結合させている原子は、炭素、窒素、硫黄または酸素であることが好ましい。例としては、非置換および置換ヒドロカルビル基、炭酸塩および誘導体、硝酸塩および誘導体、リン酸塩および誘導体、硫酸塩および誘導体、ＯＨおよび誘導体、アミンおよび誘導体、チオ基および誘導体、スルフィニル基およびスルホニル基が挙げられる。最も好ましいのは、ＯＨ、アミンおよびそれらの誘導体である。
ヒドロカルビル基は、炭素原子を介して結合している原子からなる基である。この基は、１個以上の炭素原子および１個以上の水素原子を含有し、脂肪族、脂環式、二環式、スピロ環（各々、飽和もしくは不飽和）、芳香族、直鎖、分枝鎖であるか、またはそれらの組合せを有する基であり得る。例としては、メチル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル、ビニル、エチニル、アリル、フェニル、またはベンジルが挙げられる。ヒドロカルビル基は、１〜１５個、より好ましくは１〜１２個、特に１〜４個、例えば１個または２個の炭素原子を含有することが好ましい。
置換ヒドロカルビル基は、炭素原子を介して結合している原子からなる基である。この基は１個以上の炭素原子、所望により１個以上の水素原子、および１個以上のヘテロ原子、例えば、ハロゲン、ホウ素、酸素、窒素、硫黄、リン、またはそれらの混合物を含有する。例としては、シアノ、ハロゲン置換炭素含有基、アルコキシ基、複素環基、例えばピリジンおよびその誘導体、ならびにカルボニル含有基が挙げられる。置換ヒドロカルビル基は、１〜１５個、より好ましくは１〜１２個、特に１〜４個、例えば１個または２個の炭素原子を含有することが好ましい。
別に定義されていなければ、炭素含有基（例えば、アルキル、アルケニル、シクロアルキル）は１〜６個まで、好ましくは１〜４個まで、特に１個または２個の炭素原子を含有する。
それ自体が１つの基として、また他の基ならびに化合物、例えばハロアルキル、ハロアルコキシおよびハロアルキルチオの構造要素としてのハロゲンは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、特にフッ素、塩素または臭素、特にフッ素または塩素である。
それ自体が１つの基としての、また他の基ならびに化合物、例えばハロアルキル、アルコキシおよびアルキルチオの構造要素としてのアルキルは、いずれの場合も当該の基または化合物に含まれる炭素原子数を考慮に入れると、直鎖、すなわちメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルもしくはオクチルであるか、または分枝鎖、例えば、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチルもしくはイソヘキシルである。アルキル基において好ましい炭素原子数は１〜６個の間、例えば１〜４個である。
それ自体が１つの基として、また他の基ならびに化合物、例えばハロシクロアルキル、シクロアルコキシおよびシクロアルキルチオの構造要素としてのシクロアルキルは、いずれの場合も当該の基または化合物に含まれる炭素原子数を考慮に入れると、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシクロオクチルである。シクロアルキル基において好ましい炭素原子数は３〜６個の間、例えば３〜４個である。
それ自体が１つの基として、また他の基および化合物の構造要素としてのアルケニルは、その基に含まれる炭素原子および共役二重結合または孤立二重結合の数を考慮に入れると、直鎖、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル、１−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１，３−ヘキサジエニルもしくは１，３−オクタジエニルであるか、または分枝鎖、例えば、イソプロペニル、イソブテニル、イソプレニル、ｔｅｒｔ−ペンテニル、イソヘキセニル、イソヘプテニルもしくはイソオクテニルである。３〜１２個、特に３〜６個、特に３個または４個の炭素原子を有するアルケニル基が選好される。
それ自体が１つの基として、また他の基および化合物の構造要素としてのアルキニルは、いずれの場合も当該の基または化合物に含まれる炭素原子および共役三重結合または孤立三重結合の数を考慮に入れると、直鎖、例えば、エチニル、プロパルギル、２−ブチニル、３−ペンチニル、１−ヘキシニル、１−へプチニル、３−ヘキセン−１−イニルもしくは１，５−ヘプタジエン−３−イニルであるか、または分枝鎖、例えば、３−メチルブト−１−イニル、４−エチルペント−１−イニル、４−メチルヘキシ（ｍｅｔｈｙｌｈｅｘ）−２−イニルもしくは２−メチルヘプト−３−イニルである。３〜１２個、特に３〜６個、特に３個または４個の炭素原子を有するアルキニル基が選好される。
それ自体が１つの基として、また他の基および化合物の構造要素としてのアルコキシは、いずれの場合も当該の基または化合物に含まれる炭素原子数を考慮に入れると、直鎖、例えば、メトキシ、エトキシもしくはプロポキシであるか、または分枝鎖、例えば、イソプロポキシ、イソブチオキシ（ｉｓｏｂｕｔｙｏｘｙ）、もしくはｓｅｃ−ブトキシである。この基には１個以上の酸素原子が存在し得る。アルコキシ基において好ましい炭素原子数は１〜６個、例えば１〜４個である。同様に、アルケニルオキシ基またはアルキニルオキシ基中の酸素原子は任意の位置に存在し得、いずれの基においても好ましい炭素原子数は２〜６個、例えば２〜４個である。
ハロゲン置換炭素を含有基および化合物、例えば、ハロゲン置換されているアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシもしくはアルキルチオは、部分的にハロゲン化またはペルハロゲン化され得、ポリハロゲン化の場合、ハロゲン置換基は同じであることも異なっていることもあり得る。それ自体が１つの基として、また他の基および化合物、例えばハロアルコキシもしくはハロアルキルチオの構造要素としてのハロアルキルの例は、フッ素、塩素および／もしくは臭素、例えばＣＨＦ2もしくはＣＦ3で一置換〜三置換されているメチル；フッ素、塩素および／もしくは臭素、例えばＣＨ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＣＩ3、ＣＦ2ＣＨＣｌ2、ＣＦ2ＣＨＦ2、ＣＦ2ＣＦＣｌ2、ＣＦ2ＣＨＢｒ2、ＣＦ2ＣＨＣｌＦ、ＣＦ2ＣＨＢｒＦもしくはＣＣｌＦＣＨＣｌＦで一置換〜五置換されているエチル；フッ素、塩素および／もしくは臭素、例えばＣＨ2ＣＨＢｒＣＨ2Ｂｒ、ＣＦ2ＣＨＦＣＦ3、ＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ（ＣＦ3）2もしくはＣＨ（ＣＦ3）2で一置換〜五置換されているプロピルまたはイソプロピル；フッ素、塩素および／もしくは臭素、例えばＣＦ（ＣＦ3）ＣＨＦＣＦ3もしくはＣＨ2（ＣＦ2）2ＣＦ3で一置換〜九置換されているブチルまたはその異性体；フッ素、塩素および／もしくは臭素、例えばＣＦ（ＣＦ3）（ＣＨＦ2）ＣＦ3もしくはＣＨ2（ＣＦ2）3ＣＦ3で一置換〜十一置換されているペンチルまたはその異性体；ならびに、フッ素、塩素および／もしくは臭素、例えば（ＣＨ2）4ＣＨＢｒＣＨ2Ｂｒ、ＣＦ2（ＣＨＦ）4ＣＦ3、ＣＨ2（ＣＦ2）4ＣＦ3もしくはＣ（ＣＦ3）2（ＣＨＦ）2ＣＦ3で一置換〜十三置換されているヘキシルまたはその異性体である。
アリールは、特にフェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、ペリレニルまたはフルオレニル、好ましくはフェニルである。
ヘテロシクリルは、飽和であっても不飽和であってもよく、Ｂ、Ｎ、ＯおよびＳ、特にＮおよびＳからなる群から選択される１〜３個のヘテロ原子を含有する３員〜７員の単環；または、飽和であっても不飽和であってもよく、一方の環だけに、または両方の環に互いに独立に、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１個または２個のヘテロ原子を含有していてもよい、８〜１４個の環原子を有する二環系であるとして理解される；ヘテロシクリルは、特に、ピペリジニル、ピペラジニル、オキシラニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピリジル、Ｎ−オキシドピリジニオ、ピリミジル、ピラジニル、ｓ−トリアジニル、１，２，４−トリアジニル、チエニル、フラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロフラニル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、ピラゾリル、イミダゾリル、イミダゾリニル、チアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、チアジアゾリル、チアゾリニル、チアゾリジニル、オキサジアゾリル、ジオキサボロラニル、フタルイミドイル、ベンゾチエニル、キノリニル、キノキサリニル、ベンゾフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピロリル、ベンゾチアゾリル、インドリニル、イソインドリニル、クマリニル、インダゾリル、ベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、プテリジニルまたはプリニルであり、これらは、Ｃ原子を介して結合していることが好ましい；チエニル、ベンゾフラニル、ベンゾチアゾリル、テトラヒドロピラニル、ジオキサボロラニル、またはインドリルが好ましい；特に、ジオキサボロラニル、ピリジルまたはチアゾリルが好ましい。前記ヘテロシクリルラジカルは、非置換であるか、または、環系の置換可能性に応じて、ハロゲン、＝Ｏ、−ＯＨ、＝Ｓ、ＳＨ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ヒドロキシアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルコキシ、フェニルおよびベンジルからなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されていることが好ましい。
また、本発明は、グリコシル化およびエノール化経路を介して式（Ｉ）または式（ＩＩ）の化合物を調製するための方法を提供する。
グリコシル化
（Ａ）有利には、５番の炭素位置で酸素を保護し、さらに所望により７番の炭素位置で酸素を保護した、アベルメクチンアグリコン、アベルメクチン単糖、アベルメクチンのそれぞれ１３位、４’位、または４”位、またはそれらのエピマー（下記式（Ｖ））を出発物質として用いる。
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1、ｎおよび炭素原子２２〜２３間の結合は、第１の態様の式（Ｉ）の化合物について定義したとおりであり、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ５番の炭素位置、または７番の炭素位置で酸素原子の反応を防ぐために適した保護基である。）
式（Ｖ）中の１３位、４’位、または４”位の遊離ヒドロキシ基（ｎはそれぞれ０、１または２である）を、活性剤および式（α）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、上記第１の態様に定義されるとおりであり、Ａは、式（ＩＩ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、炭素原子２２〜２３間の結合ならびにｎは、上記第１の態様に定義されるとおりであり、Ｌ1は保護基であり、Ｌ2は水素または保護基である）の化合物を得るための適した脱離基である）
の活性化したテトラヒドロピランと反応させ；かつ
（Ｂ）適用できる場合、保護基Ｌ1およびＬ2を、脱保護剤、例えば酸性試薬および／またはフッ化物試薬を用いて除去して、式（Ｉ）の化合物を得るか、または
（Ｃ）１個以上のＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6基で反応を行って基を修飾した後、適用できる場合、保護基Ｌ1およびＬ2を、脱保護剤、例えば酸性試薬および／またはフッ化物試薬を用いて除去して、式（Ｉ）の化合物
を得る。
エノール化
（Ｄ）好ましくは、５番の炭素位置にて酸素を保護したそれぞれ４”または４’オキソアベルメクチンまたはアベルメクチン単糖（式（ＩＩＩ））を、出発物質として用いる。
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は、上記第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、Ｌ1は保護基である）。このような出発物質の調製はＥＰ−Ａ−０３４３７０８号に記載されており、手短に言えば、５番の炭素位置の酸素が保護されている、アベルメクチンまたはアベルメクチン単糖のそれぞれ４”または４’位のヒドロキシル基の酸化を伴う。
式（ＩＩＩ）の化合物を、塩基および求電子物質Ｅ−Ｘ、好ましくはトリアルキルシリル化合物と反応させて、式（ＶＩａ）および（ＶＩｂ）のエノラートの混合物を形成する。
Figure 0005007428
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は、上記第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、Ｌ1は保護基であり、Ｅは上記の各式のシリル基である。）
（Ｅ）式（ＶＩａ）の化合物を、適した酸化剤で酸化させて式（ＩＶ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は、上記第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、Ｌ1は保護基である）のエノンとし、
（Ｆ）式（ＩＶ）の化合物を有機金属試薬、例えば、式（β）
（Ｒ2）r−Ｍ−（Ｈａｌ）s （β）
（式中、Ｒ2は式（Ｉ）の化合物に関して定義されたとおりであり、ヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル基であり、Ｍは金属原子もしくは金属原子の基、好ましくはリチウム銅クプラートであり、Ｈａｌはハロゲン原子、好ましくは塩素、臭素もしくはヨウ素であり、ｒは１〜２であり、ｓは金属電荷の関数としての０〜２である（このような試薬は公知であるか、公知の方法により調製できる））または種々の組成物の付加物もしくは溶媒和物と反応させて、式（ＶＩＩ）
Figure 0005007428
 （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は、上記第１の態様に定義されるとおりであり、ｎは０または１であり、Ｌ1は保護基である）の化合物を得、さらに
（Ｇ）化合物（ＶＩＩ）を、４”または４’位のケト基でのさらなる反応手順に用いることができる；このような反応は当業者に公知である（例えば還元、有機金属の添加または還元的アミノ化から開始した後、それぞれ得られるヒドロキシ基またはアミノ基で他の形質転換、例えばアルキル化またはアシル化を行う）、さらに
（Ｈ）保護基Ｌ1を脱保護剤、例えば酸性試薬および／またはフッ化物試薬を用いて除去して、式（Ｉ）の化合物を得る。
第３の態様の方法は、原則として他の２−デスオキシ糖に適用した後、メクチン骨格と連結させるか、または他の２−デスオキシ糖をメクチン骨格と連結させて第３の態様の反応を実施することができると考えられる。
従って、本発明は、終端のピラン環が、ラムノピラノース、キシロピラノース、アラビノピラノース、アロピラノース、イドピラノース、グロピラノース、アルトロピラノース、グルコピラノース、ガラクトピラノース、フコピラノース、リキソピラノース、リボピラノース、マンノピラノースまたはタロピラノース；好ましくは、ラムノピラノース、キシロピラノース、アロピラノース、イドピラノース、グロピラノース、アルトロピラノース、リキソピラノース、リボピラノース、マンノピラノースまたはタロピラノースのＤまたはＬ型の立体配置を有する誘導体を提供する。特に好ましいのは、Ｌ型の立体配置である。
記載される反応のための条件は、それ自体公知の方法、例えば適した溶媒もしくは希釈剤またはそれらの混合物の不在下で、あるいは、通例、適した溶媒もしくは希釈剤またはそれらの混合物の存在下で実施され、反応は、要求に応じて、室温にて冷却しながら、または、例えば、反応媒質の約−８０℃〜沸点の温度範囲、好ましくは約０℃〜約＋１５０℃で加熱しながら、かつ、必要に応じて、閉じた容器内で、圧力下、不活性ガス雰囲気下でおよび／または無水条件下で実施される。特に有利な反応条件は実施例の項に見出すことができる。
反応時間は重大ではない。約０．１〜約２４時間、特に約０．５〜約１０時間の反応時間が好ましい。
生成物は、常習的な方法によって、例えば濾過、結晶化、蒸留またはクロマトグラフィー、あるいはこのような方法の任意の適した組合せによって単離される。
アベルメクチンおよびアベルメクチン単糖を用いて反応を実施する際には、通常、その位置での反応を保護するために保護基Ｌ1を有する５番の炭素位置で酸素を保護することが有用である。選好されるものは、トリアルキルシリルラジカル類、例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、ジフェニル−ｔｅｒｔ−チルシリル、エステル類、例えばメトキシ酢酸塩およびフェノキシ酢酸塩、ならびに炭酸塩、例えばアリル炭酸塩である。ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルエーテルが特に好ましい。いくつかの場合、アベルメクチンおよびアベルメクチン単糖を用いて反応を実施する際には、その位置での反応を保護するために保護基Ｌ2を有する７番の炭素位置で酸素を保護することが有用であり得る。選好されるものは、トリアルキルシリルラジカル類、例えばトリメチルシリルまたはトリエチルシリルである。トリメチルシリルエーテルが特に好ましい。
式（Ｉ）の化合物、中間体（例えば、式（ＩＩ）、もしくは式（Ｖ）の化合物）、ならびに、適用できる場合、それらのＥ／Ｚ異性体および／またはジアステレオ異性体および／または互変異性体の調製に用いられる言及された出発物質は公知であるか、またはそれ自体公知の方法により調製することができる。
上記の工程段階（Ａ）〜（Ｈ）を以下にさらに詳しく説明する。
工程段階（Ａ）：
溶媒および希釈剤の例として、芳香族、脂肪族および脂環式炭化水素、およびハロゲン化炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエテン、もしくはテトラクロロエテン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジメトキシジエチルエーテル、テトラヒドロフランもしくはジオキサン；カルボン酸のエステル、例えば酢酸エチル；アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドもしくは１−メチル−２−ピロリジノン；ニトリル、例えばアセトニトリルもしくはプロピオニトリル；スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド；または言及された溶媒の混合物が挙げられる。選好されるものは、ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、特にジクロロメタンである。
前記反応は、有利には約−７０℃〜５０℃、好ましくは−４０℃〜２５℃の温度範囲で実施される。
段階（Ａ）で用いられる式（α）
Figure 0005007428
 の活性化したテトラヒドロピランは、公知であるか、または公知の方法により調製することができる。脱離基Ａは、例えば、フッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物のようなハロゲン化物、またはアルキルチオ基、またはアリールチオ基であり得る。好ましい脱離基は、フェニルチオ基である。
脱離基としてハロゲン化物に適した活性化剤は、金属塩、例えば銀、水銀およびカドミウム塩である。好ましい塩は、Ａｇ2ＣＯ3およびＡｇ2Ｏである。
脱離基としてアルキルチオ基またはアリールチオ基に適した活性化剤は、酸化試薬、例えば臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、ヨウ化物、Ｎ−ヨードスクシンイミドであり、酸、例えばトリフルオロスルホン酸、またはルイス酸、例えば銀トリフラートまたは銅トリフラートの存在下であることが好ましい。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例１（段階Ａ）、実施例３（段階Ａ）、実施例５（段階Ａ）に記載されている。
工程段階（Ｂ）
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、環状エーテル類、例えばテトラヒドロフラン、またはアルコール類、例えばメタノールが特に適している。
前記反応は、約０℃〜１１０℃、好ましくは０℃〜５０℃の温度範囲で有利に実施される。
所望の反応が完了すると、保護基Ｌ1を除去するために用いた試薬は、酸、例えば塩酸、メタンスルホン酸、ＢＦ3・ＯＥｔ2、ピリジン中のＨＦ、Ｚｎ（ＢＦ4）2・Ｈ2Ｏ、ｐ−トルエンスルホン酸、ＡＩＣＩ3、ＨｇＣＩ2；フッ化アンモニウム、例えばテトラブチルフッ化アンモニウム；塩基、例えばアンモニア、トリアルキルアミンまたは複素環塩基；パラジウム炭素などの触媒を用いる水素化分解；還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化トリブチルスズと触媒、例えばＰｄ（ＰＰｈ3）4、または、亜鉛と酢酸、である。選好されるものは、酸、例えばメタンスルホン酸またはピリジン中のＨＦ；水素化ホウ素ナトリウムとＰｄ（０）；塩基、例えばアンモニア、トリエチルアミンまたはピリジン；特に、酸、例えばピリジン中のＨＦまたはメタンスルホン酸である。一般に、酸性試薬、例えばメタノール中のメタンスルホン酸またはピリジン／ＴＨＦの混合物中のＨＦの混合物が、５番の炭素位置の酸素からジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルエーテル基を除去するために効果的である。５番の炭素位置の酸素からジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルエーテル基を除去するために好ましい条件は、実施例１（段階Ｂ）、実施例２、実施例３（段階Ｃ）、実施例４（段階Ｂ）、実施例５（段階Ｂ）、実施例６（段階Ｂ）、実施例７（段階Ｂ）、実施例９、実施例１１（段階Ｅ）、実施例１２に記載されている。
７番の炭素のアルキルシリル保護基Ｌ2は、５番の炭素の酸素からのジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルエーテル基の除去に関して上に記載された同じ酸性試薬により除去される。
工程段階（ｃ）：
当業者であれば、文献または概説、例えばＳｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ： Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ．Ａ Ｇｕｉｄｅ ｔｏ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ．Ｌａｒｏｃｋ，Ｒ．Ｃ．（１９８９），１０６０ ｐｐ．Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ：（ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，Ｆｅｄ．Ｒｅｐ．Ｇｅｒ．）；Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ．２ｎｄ Ｅｄ．，Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．；Ｗｕｔｓ，Ｐｅｔｅｒ Ｇ．Ｍ．（１９９１），４７３ ｐｐ．Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ：（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，Ｎ．Ｙ．）から有機基の形質転換のための反応条件をいくつか選択することができる。例は次の通り。
アリルカーボネートまたはアリルアリルカルバメート基の切断：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、環状エーテル類、例えばテトラヒドロフランが特に適している。
切断剤は、還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化トリブチルスズまたはギ酸／トリフェニルホスフィンと触媒、例えばＰｄ（ＰＰｈ3）4である。
前記反応は、約０℃〜１１０℃、好ましくは０℃〜５０℃の温度範囲で有利に実施される。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例３（段階Ｂ）、実施例４（段階Ａ）、実施例８、実施例１０に説明されている。
ＯＨ基のアルキル化：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、環状エーテル類、例えばテトラヒドロフラン、またはハロゲン化炭化水素、例えばクロロホルムおよびジクロロメタンが特に適している。
適した塩基は、特にトリアルキルアミン類、例えばトリエチルアミンまたはエチルジイソプロピルアミンである。
前記反応は、約０℃〜１１０℃、好ましくは０℃〜５０℃の温度範囲で有利に実施される。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例５（段階Ａ）、実施例６（段階Ａ）に記載されている。
ＯＨ基のケトンへの酸化：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、ハロゲン化炭化水素、例えばクロロホルムおよびジクロロメタンが特に適している。
適した酸化試薬は、酸塩化物、例えばオキサリルクロリドまたは酸無水物、例えば無水酢酸の存在下で、特にＤＭＳＯである。
反応をクエンチするために適した塩基は、特にトリアルキルアミン類、例えばトリエチルアミンまたはエチルジイソプロピルアミンである。
前記反応は、約−７０℃〜０℃、好ましくは−５０℃〜−１０℃の温度範囲で有利に実施される。
ケト基のアルコールへの還元：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、アルコール類、例えばメタノールおよびエタノールが特に適している。
適した還元試薬は、特に金属水素化物類、例えば水素化ホウ素ナトリウムである。
前記反応は、約−５０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜５０℃の温度範囲で有利に実施される。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例１１（段階Ｃ）に記載されている。
ケト基のアルキル化：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンが特に適している。
適したアルキル化試薬は、有機金属試薬、特にグリニャール試薬、例えばメチルマグネシウム塩化物である。
前記反応は、約−５０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜５０℃の温度範囲で有利に実施される。
ケト基の還元的アミノ化：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、エステル類、例えば酢酸エチル、および芳香族溶媒、例えばトルエンが特に適している。
イミン形成に適した試薬は、ルイス酸、例えば臭化亜鉛または塩化亜鉛の存在下での、アルキルシリルアミン類、例えばビス（トリメチルシリル）アミンまたはヘプタメチルジサラザン（ｈｅｐｔａｍｅｔｈｙｌｄｉｓａｌａｚａｎｅ）である。
適した還元試薬は、特に金属水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウムである。
前記反応は、約−５０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜５０℃の温度範囲で有利に実施される。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例１２に記載されている。
アミノ基のアシル化：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、エステル類、例えば酢酸エチル、および芳香族溶媒、例えばトルエンが特に適している。上記の溶媒および重炭酸ナトリウム水溶液からなる二相系が好ましい。
適したアシル化剤は、塩化アシルである。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例１３に記載されている。
所望の反応が完了すると、適用できる場合、工程段階（Ｂ）に記載される条件下で、保護基Ｌ1および保護基Ｌ2を除去することができる。
工程段階（Ｄ）：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、芳香族炭化水素類、例えばベンゼンまたはトルエンが特に適している。
適した塩基は、特にトリアルキルアミン類、例えばトリエチルアミンまたはエチルジイソプロピルアミンである。
適した求電子物質Ｅ−Ｘは、トリアルキルシリルハロゲン化物類、例えば塩化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化トリイソプロピル、塩化ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、塩化ジフェニル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、またはトリアルキルシリルトリフルオロメタンスルホン酸塩、例えばトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸塩、トリエチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸塩、トリイソプロピルトリフルオロメタンスルホン酸塩、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸塩、ジフェニル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸塩である。
前記反応は、約０℃〜１１０℃、好ましくは５０℃〜１１０℃の温度範囲で有利に実施される。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例１１（段階Ａ）に記載されている。
工程段階（Ｅ）：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロホルムおよびジクロロメタン、またはエステル類、例えば酢酸エチルおよび水が特に適している。
前記反応は、約−７０℃〜５０℃、好ましくは−１０℃〜２５℃の温度範囲で有利に実施される。
好ましくは、位置異性体（式（ＶＩａ）および（ＶＩｂ）の化合物）の混合物を、式（ＩＶ）の環状共役エノンへの酸化段階のエノラートの供給源に用いる；必要に応じて、式（ＶＩａ）の化合物を位置異性体混合物から分離して酸化段階に用いてよい。
エノラートをエノンへ酸化するために適した酸化剤の例は、過酸化水素、アリールペルオキソ酸（ａｒｙｌｐｅｒｏｘｏｉｃ ａｃｉｄ）、アルキルヒドロペルオキシド、ジメチルジオキシラン、ペルオキシ一硫酸水素カリウム複合物（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｐｅｒｏｘｙｍｏｎｏｓｕｌｆａｔｅ ｓｕｌｆａｔｅ）、過ヨウ素酸ナトリウム、ビアルキルペルオキシド（ｂｉａｌｋｙｌｐｅｒｏｘｉｄｅ）、２−インドイル安息香酸、α−クメンヒドロペルオキシド、オキサジリジン類似体であり、３−クロロ過安息香酸が好ましい。前記反応は二相系で実施されることが好ましい。
前記反応に特に好ましい条件は、実施例１１（段階Ｂ）に記載されている。
工程段階（Ｆ）：
溶媒および希釈剤の例は、工程段階（Ａ）において言及されたものと同じである。特に、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、またはテトラヒドロフランが特に適している。
前記反応は、約−３０℃〜５０℃、好ましくは−１０℃〜２５℃の温度範囲で有利に実施される。
段階（Ｆ）で用いられる式（β）の有機金属試薬
（Ｒ2）r−Ｍ−（Ｈａｌ）s （β）
は、公知であるか、または公知の方法により調製することができる。適した例は、アルキルクプラートである。前記反応に特に好ましい条件は、実施例１１（段階Ｃ）に説明されている。
工程段階（Ｇ）：
工程段階（Ｃ）に説明される有機基形質転換のための条件も適用できる。
工程段階（Ｈ）：
所望の反応が完了すると、適用できる場合、工程段階（Ｂ）に記載される条件下で、保護基Ｌ1および保護基Ｌ2を除去することができる。
本発明の化合物は、起こり得る異性体の１つの形態であってよい。従って、調製物は異性体の混合物、例えば、ジアステレオマー混合物となり得る。つまり、本発明は、純粋な異性体とジアステレオマー混合物の双方に関し、たとえ立体化学に関する内容が具体的に言及されていなくても、それに応じて解釈される。
ジアステレオマー混合物は、公知の方法により、例えば溶媒からの再結晶により、クロマトグラフィー、例えば適した微生物を用いるアセチルセルロースでの高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により、固定化された特異的な酵素を用いる切断によるか、または、例えばクラウンエーテルを用いる抱接化合物の形成を介して、１種類の異性体のみが複合体化した、純粋な異性体へ分離することができる。
対応する異性体の混合物の分離とは別に、純粋なジアステレオ異性体は、一般に公知の立体選択的合成方法により、例えばそれ相応に適した立体化学を有する出発物質を用いて本発明の方法を実施することにより、本発明に従ってまた得ることができる。
いずれの場合も、個々の成分が異なる生物活性を有する場合、生物活性のより高い異性体を単離または合成することが有利である。
また、式（Ｉ）〜（ＶＩＩ）の化合物は、それらの水和物の形態で得ることができ、かつ／または、他の溶媒、例えば固形形態の化合物の結晶化に使用され得る溶媒を含んでよい。
本発明は、式（Ｉ）の化合物を調製するために、前記方法のいずれかの段階で中間体として得ることのできる化合物を、残りの段階の出発物質として用いる、前記方法に従う全ての実施形態に関する。例えば、式（Ｉ）の化合物を、別の式（Ｉ）の化合物の調製のための出発物質として用いることができる。アルキル化、アシル化、メタセシス、有機金属類の付加、還元および酸化などのこのような操作法は当業者に公知である。
本発明の方法において、式（Ｉ）の化合物をもたらす出発物質および中間体を用いることが好ましい。
本発明は、特に、実施例１〜１３に記載される調製方法に関する。
また、５番の炭素位置にヒドロキシ基である代わりに酸素原子に保護基Ｌ1を有する式（Ｉ）の化合物、または５番の炭素位置にヒドロキシ基である代わりに酸素原子に保護基Ｌ1を有し、７番の炭素位置にヒドロキシ基である代わりに酸素原子に保護基Ｌ2を有する式（Ｉ）の化合物も本発明の範囲内にある。保護基が存在する場合には、穏和な条件下で加水分解できることが好ましい。選好されるものは、トリアルキルシリルラジカル類、例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、ジフェニル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、エステル類、例えばメトキシ酢酸塩およびフェノキシ酢酸塩、ならびに炭酸塩類、例えばアリル炭酸塩である。ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルエーテルが特に好ましい。
式（Ｉ）および（ＶＩＩ）のいずれか１種類の化合物は、式（Ｉ）の化合物の合成のための中間体であり得る。従って、式（Ｉ）の化合物の合成のための式（Ｉ）および（ＶＩＩ）の化合物の使用もまた、本発明の主題である。必要に応じた置換基の選択は、群（２）〜（４５）の式（Ｉ）の化合物について定義されるものと同じである。
本発明の文脈において、下記の表Ｘおよび表１〜７２０の式（Ｉ〜１）〜（Ｉ〜１２０）の化合物；また、いずれの場合も、適切な場合、そのＥ／Ｚ異性体またはそれらの混合物が参照される。
表Ｘ：式（Ｉ〜１）〜（Ｉ〜１２０）のいずれか１種類の化合物
下記式中、Ｑ1およびＱ2は下記のマクロライド構造を表し、下記構造中、矢印は新規に導入されたピラン誘導体の結合点を表す：
Figure 0005007428
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Figure 0005007428
Figure 0005007428
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上の表は各式
Figure 0005007428
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および以下の表１〜表７２０に関する。
表１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１）の化合物。
表２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１）の化合物。
表３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１）の化合物。
表４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１）の化合物。
表５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１）の化合物。
表６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１）の化合物。
表７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２）の化合物。
表８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２）の化合物。
表９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２）の化合物。
表１０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２）の化合物。
表１１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２）の化合物。
表１２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２）の化合物。
表１３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３）の化合物。
表１４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３）の化合物。
表１５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３）の化合物。
表１６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３）の化合物。
表１７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３）の化合物。
表１８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３）の化合物。
表１９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４）の化合物。
表２０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４）の化合物。
表２１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４）の化合物。
表２２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４）の化合物。
表２３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４）の化合物。
表２４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４）の化合物。
表２５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５）の化合物。
表２６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５）の化合物。
表２７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５）の化合物。
表２８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５）の化合物。
表２９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５）の化合物。
表３０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５）の化合物。
表３１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６）の化合物。
表３２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６）の化合物。
表３３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６）の化合物。
表３４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６）の化合物。
表３５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６）の化合物。
表３６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６）の化合物。
表３７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７）の化合物。
表３８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７）の化合物。
表３９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７）の化合物。
表４０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７）の化合物。
表４１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７）の化合物。
表４２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７）の化合物。
表４３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８）の化合物。
表４４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８）の化合物。
表４５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８）の化合物。
表４６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８）の化合物。
表４７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８）の化合物。
表４８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８）の化合物。
表４９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９）の化合物。
表５０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９）の化合物。
表５１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９）の化合物。
表５２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９）の化合物。
表５３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９）の化合物。
表５４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９）の化合物。
表５５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０）の化合物。
表５６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０）の化合物。
表５７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０）の化合物。
表５８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０）の化合物。
表５９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０）の化合物。
表６０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０）の化合物。
表６１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１）の化合物。
表６２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１）の化合物。
表６３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１）の化合物。
表６４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１）の化合物。
表６５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１）の化合物。
表６６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１）の化合物。
表６７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２）の化合物。
表６８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２）の化合物。
表６９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２）の化合物。
表７０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２）の化合物。
表７１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２）の化合物。
表７２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２）の化合物。
表７３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１３）の化合物。
表７４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１３）の化合物。
表７５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１３）の化合物。
表７６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１３）の化合物。
表７７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１３）の化合物。
表７８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１３）の化合物。
表７９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１４）の化合物。
表８０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１４）の化合物。
表８１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１４）の化合物。
表８２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１４）の化合物。
表８３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１４）の化合物。
表８４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１４）の化合物。
表８５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１５）の化合物。
表８６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１５）の化合物。
表８７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１５）の化合物。
表８８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１５）の化合物。
表８９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１５）の化合物。
表９０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１５）の化合物。
表９１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１６）の化合物。
表９２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１６）の化合物。
表９３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１６）の化合物。
表９４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１６）の化合物。
表９５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１６）の化合物。
表９６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１６）の化合物。
表９７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１７）の化合物。
表９８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１７）の化合物。
表９９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１７）の化合物。
表１００
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１７）の化合物。
表１０１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１７）の化合物。
表１０２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１７）の化合物。
表１０３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１８）の化合物。
表１０４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１８）の化合物。
表１０５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１８）の化合物。
表１０６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１８）の化合物。
表１０７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１８）の化合物。
表１０８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１８）の化合物。
表１０９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１９）の化合物。
表１１０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１９）の化合物。
表１１１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１９）の化合物。
表１１２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１９）の化合物。
表１１３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１９）の化合物。
表１１４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１９）の化合物。
表１１５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２０）の化合物。
表１１６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２０）の化合物。
表１１７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２０）の化合物。
表１１８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２０）の化合物。
表１１９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２０）の化合物。
表１２０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２０）の化合物。
表１２１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２１）の化合物。
表１２２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２１）の化合物。
表１２３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２１）の化合物。
表１２４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２１）の化合物。
表１２５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２１）の化合物。
表１２６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２１）の化合物。
表１２７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２２）の化合物。
表１２８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２２）の化合物。
表１２９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２２）の化合物。
表１３０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２２）の化合物。
表１３１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２２）の化合物。
表１３２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２２）の化合物。
表１３３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２３）の化合物。
表１３４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２３）の化合物。
表１３５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２３）の化合物。
表１３６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２３）の化合物。
表１３７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２３）の化合物。
表１３８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２３）の化合物。
表１３９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２４）の化合物。
表１４０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２４）の化合物。
表１４１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２４）の化合物。
表１４２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２４）の化合物。
表１４３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6がＸの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２４）の化合物。
表１４４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２４）の化合物。
表１４５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２５）の化合物。
表１４６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２５）の化合物。
表１４７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２５）の化合物。
表１４８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２５）の化合物。
表１４９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２５）の化合物。
表１５０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２５）の化合物。
表１５１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２６）の化合物。
表１５２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２６）の化合物。
表１５３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２６）の化合物。
表１５４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２６）の化合物。
表１５５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２６）の化合物。
表１５６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２６）の化合物。
表１５７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２７）の化合物。
表１５８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２７）の化合物。
表１５９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２７）の化合物。
表１６０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２７）の化合物。
表１６１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２７）の化合物。
表１６２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２７）の化合物。
表１６３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２８）の化合物。
表１６４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２８）の化合物。
表１６５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２８）の化合物。
表１６６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２８）の化合物。
表１６７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２８）の化合物。
表１６８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２８）の化合物。
表１６９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２９）の化合物。
表１７０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２９）の化合物。
表１７１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２９）の化合物。
表１７２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２９）の化合物。
表１７３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２９）の化合物。
表１７４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−２９）の化合物。
表１７５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３０）の化合物。
表１７６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３０）の化合物。
表１７７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３０）の化合物。
表１７８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３０）の化合物。
表１７９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３０）の化合物。
表１８０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３０）の化合物。
表１８１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３１）の化合物。
表１８２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３１）の化合物。
表１８３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３１）の化合物。
表１８４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３１）の化合物。
表１８５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３１）の化合物。
表１８６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３１）の化合物。
表１８７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３２）の化合物。
表１８８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３２）の化合物。
表１８９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（ｉ−３２）の化合物。
表１９０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３２）の化合物。
表１９１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３２）の化合物。
表１９２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３２）の化合物。
表１９３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３３）の化合物。
表１９４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３３）の化合物。
表１９５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３３）の化合物。
表１９６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３３）の化合物。
表１９７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３３）の化合物。
表１９８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３３）の化合物。
表１９９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３４）の化合物。
表２００
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３４）の化合物。
表２０１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３４）の化合物。
表２０２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３４）の化合物。
表２０３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３４）の化合物。
表２０４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３４）の化合物。
表２０５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３５）の化合物。
表２０６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３５）の化合物。
表２０７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３５）の化合物。
表２０８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３５）の化合物。
表２０９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３５）の化合物。
表２１０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３５）の化合物。
表２１１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３６）の化合物。
表２１２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３６）の化合物。
表２１３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３６）の化合物。
表２１４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３６）の化合物。
表２１５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３６）の化合物。
表２１６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３６）の化合物。
表２１７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３７）の化合物。
表２１８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３７）の化合物。
表２１９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３７）の化合物。
表２２０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３７）の化合物。
表２２１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３７）の化合物。
表２２２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３７）の化合物。
表２２３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３８）の化合物。
表２２４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３８）の化合物。
表２２５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３８）の化合物。
表２２６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３８）の化合物。
表２２７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３８）の化合物。
表２２８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３８）の化合物。
表２２９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３９）の化合物。
表２３０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３９）の化合物。
表２３１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３９）の化合物。
表２３２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３９）の化合物。
表２３３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３９）の化合物。
表２３４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−３９）の化合物。
表２３５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４０）の化合物。
表２３６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４０）の化合物。
表２３７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４０）の化合物。
表２３８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４０）の化合物。
表２３９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４０）の化合物。
表２４０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４０）の化合物。
表２４１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４１）の化合物。
表２４２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４１）の化合物。
表２４３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４１）の化合物。
表２４４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４１）の化合物。
表２４５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４１）の化合物。
表２４６
Ｒ1がメチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４１）の化合物。
表２４７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４２）の化合物。
表２４８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４２）の化合物。
表２４９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４２）の化合物。
表２５０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４２）の化合物。
表２５１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４２）の化合物。
表２５２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４２）の化合物。
表２５３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４３）の化合物。
表２５４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４３）の化合物。
表２５５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４３）の化合物。
表２５６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４３）の化合物。
表２５７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４３）の化合物。
表２５８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４３）の化合物。
表２５９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４４）の化合物。
表２６０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４４）の化合物。
表２６１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４４）の化合物。
表２６２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４４）の化合物。
表２６３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４４）の化合物。
表２６４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４４）の化合物。
表２６５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４５）の化合物。
表２６６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４５）の化合物。
表２６７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４５）の化合物。
表２６８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４５）の化合物。
表２６９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４５）の化合物。
表２７０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４５）の化合物。
表２７１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４６）の化合物。
表２７２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４６）の化合物。
表２７３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４６）の化合物。
表２７４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４６）の化合物。
表２７５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４６）の化合物。
表２７６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４６）の化合物。
表２７７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４７）の化合物。
表２７８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４７）の化合物。
表２７９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４７）の化合物。
表２８０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４７）の化合物。
表２８１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４７）の化合物。
表２８２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４７）の化合物。
表２８３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４８）の化合物。
表２８４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４８）の化合物。
表２８５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４８）の化合物。
表２８６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４８）の化合物。
表２８７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４８）の化合物。
表２８８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４８）の化合物。
表２８９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４９）の化合物。
表２９０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４９）の化合物。
表２９１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４９）の化合物。
表２９２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４９）の化合物。
表２９３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４９）の化合物。
表２９４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−４９）の化合物。
表２９５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５０）の化合物。
表２９６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５０）の化合物。
表２９７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５０）の化合物。
表２９８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５０）の化合物。
表２９９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５０）の化合物。
表３００
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５０）の化合物。
表３０１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５１）の化合物。
表３０２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５１）の化合物。
表３０３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５１）の化合物。
表３０４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５１）の化合物。
表３０５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５１）の化合物。
表３０６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５１）の化合物。
表３０７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５２）の化合物。
表３０８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５２）の化合物。
表３０９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５２）の化合物。
表３１０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５２）の化合物。
表３１１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５２）の化合物。
表３１２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５２）の化合物。
表３１３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５３）の化合物。
表３１４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５３）の化合物。
表３１５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５３）の化合物。
表３１６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５３）の化合物。
表３１７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５３）の化合物。
表３１８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５３）の化合物。
表３１９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５４）の化合物。
表３２０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５４）の化合物。
表３２１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５４）の化合物。
表３２２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５４）の化合物。
表３２３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５４）の化合物。
表３２４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５４）の化合物。
表３２５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５５）の化合物。
表３２６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５５）の化合物。
表３２７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５５）の化合物。
表３２８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５５）の化合物。
表３２９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５５）の化合物。
表３３０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５５）の化合物。
表３３１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５６）の化合物。
表３３２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５６）の化合物。
表３３３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５６）の化合物。
表３３４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５６）の化合物。
表３３５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５６）の化合物。
表３３６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５６）の化合物。
表３３７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５７）の化合物。
表３３８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５７）の化合物。
表３３９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５７）の化合物。
表３４０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５７）の化合物。
表３４１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５７）の化合物。
表３４２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５７）の化合物。
表３４３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５８）の化合物。
表３４４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５８）の化合物。
表３４５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５８）の化合物。
表３４６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５８）の化合物。
表３４７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５８）の化合物。
表３４８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５８）の化合物。
表３４９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５９）の化合物。
表３５０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５９）の化合物。
表３５１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５９）の化合物。
表３５２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５９）の化合物。
表３５３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５９）の化合物。
表３５４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−５９）の化合物。
表３５５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６０）の化合物。
表３５６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６０）の化合物。
表３５７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６０）の化合物。
表３５８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６０）の化合物。
表３５９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６０）の化合物。
表３６０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６０）の化合物。
表３６１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６１）の化合物。
表３６２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６１）の化合物。
表３６３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６１）の化合物。
表３６４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６１）の化合物。
表３６５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６１）の化合物。
表３６６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６１）の化合物。
表３６７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６２）の化合物。
表３６８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６２）の化合物。
表３６９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６２）の化合物。
表３７０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６２）の化合物。
表３７１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６２）の化合物。
表３７２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６２）の化合物。
表３７３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６３）の化合物。
表３７４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６３）の化合物。
表３７５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６３）の化合物。
表３７６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６３）の化合物。
表３７７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６３）の化合物。
表３７８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６３）の化合物。
表３７９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６４）の化合物。
表３８０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６４）の化合物。
表３８１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６４）の化合物。
表３８２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６４）の化合物。
表３８３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６４）の化合物。
表３８４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６４）の化合物。
表３８５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６５）の化合物。
表３８６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６５）の化合物。
表３８７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６５）の化合物。
表３８８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６５）の化合物。
表３８９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６５）の化合物。
表３９０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６５）の化合物。
表３９１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６６）の化合物。
表３９２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６６）の化合物。
表３９３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６６）の化合物。
表３９４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６６）の化合物。
表３９５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６６）の化合物。
表３９６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６６）の化合物。
表３９７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６７）の化合物。
表３９８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６７）の化合物。
表３９９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６７）の化合物。
表４００
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６７）の化合物。
表４０１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６７）の化合物。
表４０２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６７）の化合物。
表４０３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６８）の化合物。
表４０４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６８）の化合物。
表４０５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６８）の化合物。
表４０６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６８）の化合物。
表４０７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６８）の化合物。
表４０８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６８）の化合物。
表４０９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６９）の化合物。
表４１０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６９）の化合物。
表４１１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６９）の化合物。
表４１２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６９）の化合物。
表４１３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６９）の化合物。
表４１４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−６９）の化合物。
表４１５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７０）の化合物。
表４１６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７０）の化合物。
表４１７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７０）の化合物。
表４１８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７０）の化合物。
表４１９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７０）の化合物。
表４２０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７０）の化合物。
表４２１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７１）の化合物。
表４２２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７１）の化合物。
表４２３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７１）の化合物。
表４２４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７１）の化合物。
表４２５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７１）の化合物。
表４２６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７１）の化合物。
表４２７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７２）の化合物。
表４２８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７２）の化合物。
表４２９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７２）の化合物。
表４３０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７２）の化合物。
表４３１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７２）の化合物。
表４３２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７２）の化合物。
表４３３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７３）の化合物。
表４３４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７３）の化合物。
表４３５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７３）の化合物。
表４３６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７３）の化合物。
表４３７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７３）の化合物。
表４３８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７３）の化合物。
表４３９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７４）の化合物。
表４４０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７４）の化合物。
表４４１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７４）の化合物。
表４４２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７４）の化合物。
表４４３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７４）の化合物。
表４４４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７４）の化合物。
表４４５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７５）の化合物。
表４４６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７５）の化合物。
表４４７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７５）の化合物。
表４４８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７５）の化合物。
表４４９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７５）の化合物。
表４５０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７５）の化合物。
表４５１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７６）の化合物。
表４５２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７６）の化合物。
表４５３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７６）の化合物。
表４５４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７６）の化合物。
表４５５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７６）の化合物。
表４５６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７６）の化合物。
表４５７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７７）の化合物。
表４５８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７７）の化合物。
表４５９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７７）の化合物。
表４６０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７７）の化合物。
表４６１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７７）の化合物。
表４６２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７７）の化合物。
表４６３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７８）の化合物。
表４６４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７８）の化合物。
表４６５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７８）の化合物。
表４６６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７８）の化合物。
表４６７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７８）の化合物。
表４６８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７８）の化合物。
表４６９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７９）の化合物。
表４７０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７９）の化合物。
表４７１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７９）の化合物。
表４７２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７９）の化合物。
表４７３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７９）の化合物。
表４７４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−７９）の化合物。
表４７５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８０）の化合物。
表４７６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８０）の化合物。
表４７７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８０）の化合物。
表４７８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８０）の化合物。
表４７９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８０）の化合物。
表４８０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８０）の化合物。
表４８１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８１）の化合物。
表４８２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８１）の化合物。
表４８３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８１）の化合物。
表４８４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８１）の化合物。
表４８５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８１）の化合物。
表４８６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８１）の化合物。
表４８７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８２）の化合物。
表４８８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８２）の化合物。
表４８９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８２）の化合物。
表４９０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８２）の化合物。
表４９１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８２）の化合物。
表４９２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８２）の化合物。
表４９３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８３）の化合物。
表４９４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８３）の化合物。
表４９５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８３）の化合物。
表４９６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８３）の化合物。
表４９７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８３）の化合物。
表４９８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８３）の化合物。
表４９９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８４）の化合物。
表５００
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８４）の化合物。
表５０１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８４）の化合物。
表５０２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８４）の化合物。
表５０３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８４）の化合物。
表５０４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８４）の化合物。
表５０５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８５）の化合物。
表５０６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８５）の化合物。
表５０７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８５）の化合物。
表５０８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８５）の化合物。
表５０９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８５）の化合物。
表５１０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８５）の化合物。
表５１１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８６）の化合物。
表５１２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８６）の化合物。
表５１３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８６）の化合物。
表５１４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８６）の化合物。
表５１５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８６）の化合物。
表５１６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８６）の化合物。
表５１７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８７）の化合物。
表５１８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８７）の化合物。
表５１９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８７）の化合物。
表５２０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８７）の化合物。
表５２１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８７）の化合物。
表５２２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８７）の化合物。
表５２３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８８）の化合物。
表５２４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８８）の化合物。
表５２５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８８）の化合物。
表５２６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８８）の化合物。
表５２７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８８）の化合物。
表５２８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８８）の化合物。
表５２９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８９）の化合物。
表５３０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８９）の化合物。
表５３１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８９）の化合物。
表５３２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８９）の化合物。
表５３３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８９）の化合物。
表５３４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−８９）の化合物。
表５３５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９０）の化合物。
表５３６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９０）の化合物。
表５３７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９０）の化合物。
表５３８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９０）の化合物。
表５３９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９０）の化合物。
表５４０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９０）の化合物。
表５４１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９１）の化合物。
表５４２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９１）の化合物。
表５４３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９１）の化合物。
表５４４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９１）の化合物。
表５４５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９１）の化合物。
表５４６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９１）の化合物。
表５４７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９２）の化合物。
表５４８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９２）の化合物。
表５４９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９２）の化合物。
表５５０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９２）の化合物。
表５５１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９２）の化合物。
表５５２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９２）の化合物。
表５５３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９３）の化合物。
表５５４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９３）の化合物。
表５５５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９３）の化合物。
表５５６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９３）の化合物。
表５６７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９３）の化合物。
表５５８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９３）の化合物。
表５５９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９４）の化合物。
表５６０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９４）の化合物。
表５６１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９４）の化合物。
表５６２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９４）の化合物。
表５６３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９４）の化合物。
表５６４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９４）の化合物。
表５６５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９５）の化合物。
表５６６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９５）の化合物。
表５６７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９５）の化合物。
表５６８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９５）の化合物。
表５６９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９５）の化合物。
表５７０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９５）の化合物。
表５７１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９６）の化合物。
表５７２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９６）の化合物。
表５７３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９６）の化合物。
表５７４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９６）の化合物。
表５７５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９６）の化合物。
表５７６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９６）の化合物。
表５７７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９７）の化合物。
表５７８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９７）の化合物。
表５７９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９７）の化合物。
表５８０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９７）の化合物。
表５８１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９７）の化合物。
表５８２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９７）の化合物。
表５８３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９８）の化合物。
表５８４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９８）の化合物。
表５８５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９８）の化合物。
表５８６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９８）の化合物。
表５８７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９８）の化合物。
表５８８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９８）の化合物。
表５８９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９９）の化合物。
表５９０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９９）の化合物。
表５９１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９９）の化合物。
表５９２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９９）の化合物。
表５９３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９９）の化合物。
表５９４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−９９）の化合物。
表５９５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１００）の化合物。
表５９６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１００）の化合物。
表５９７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１００）の化合物。
表５９８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１００）の化合物。
表５９９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１００）の化合物。
表６００
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１００）の化合物。
表６０１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０１）の化合物。
表６０２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０１）の化合物。
表６０３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０１）の化合物。
表６０４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０１）の化合物。
表６０５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０１）の化合物。
表６０６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０１）の化合物。
表６０７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０２）の化合物。
表６０８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０２）の化合物。
表６０９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０２）の化合物。
表６１０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０２）の化合物。
表６１１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０２）の化合物。
表６１２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０２）の化合物。
表６１３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０３）の化合物。
表６１４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０３）の化合物。
表６１５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０３）の化合物。
表６１６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０３）の化合物。
表６１７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０３）の化合物。
表６１８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０３）の化合物。
表６１９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０４）の化合物。
表６２０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０４）の化合物。
表６２１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０４）の化合物。
表６２２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０４）の化合物。
表６２３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０４）の化合物。
表６２４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０４）の化合物。
表６２５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０５）の化合物。
表６２６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０５）の化合物。
表６２７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０５）の化合物。
表６２８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０５）の化合物。
表６２９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０５）の化合物。
表６３０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０５）の化合物。
表６３１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０６）の化合物。
表６３２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０６）の化合物。
表６３３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０６）の化合物。
表６３４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０６）の化合物。
表６３５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０６）の化合物。
表６３６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０６）の化合物。
表６３７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０７）の化合物。
表６３８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０７）の化合物。
表６３９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０７）の化合物。
表６４０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０７）の化合物。
表６４１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０７）の化合物。
表６４２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０７）の化合物。
表６４３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０８）の化合物。
表６４４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０８）の化合物。
表６４５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０８）の化合物。
表６４６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０８）の化合物。
表６４７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０８）の化合物。
表６４８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０８）の化合物。
表６４９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０９）の化合物。
表６５０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０９）の化合物。
表６５１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０９）の化合物。
表６５２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０９）の化合物。
表６５３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０９）の化合物。
表６５４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１０９）の化合物。
表６５５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１０）の化合物。
表６５６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１０）の化合物。
表６５７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１０）の化合物。
表６５８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１０）の化合物。
表６５９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１０）の化合物。
表６６０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１０）の化合物。
表６６１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１１）の化合物。
表６６２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１１）の化合物。
表６６３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１１）の化合物。
表６６４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１１）の化合物。
表６６５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１１）の化合物。
表６６６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１１）の化合物。
表６６７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１２）の化合物。
表６６８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１２）の化合物。
表６６９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１２）の化合物。
表６７０
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１２）の化合物。
表６７１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１２）の化合物。
表６７２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１２）の化合物。
表６７３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１３）の化合物。
表６７４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１３）の化合物。
表６７５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１３）の化合物。
表６７６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１３）の化合物。
表６７７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１３）の化合物。
表６７８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１３）の化合物。
表６７９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１４）の化合物。
表６８０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１４）の化合物。
表６８１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１４）の化合物。
表６８２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１４）の化合物。
表６８３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１４）の化合物。
表６８４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１４）の化合物。
表６８５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１５）の化合物。
表６８６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１５）の化合物。
表６８７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１５）の化合物。
表６８８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１５）の化合物。
表６８９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１５）の化合物。
表６９０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１５）の化合物。
表６９１
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１６）の化合物。
表６９２
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１６）の化合物。
表６９３
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１６）の化合物。
表６９４
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１６）の化合物。
表６９５
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１６）の化合物。
表６９６
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１６）の化合物。
表６９７
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１７）の化合物。
表６９８
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１７）の化合物。
表６９９
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１７）の化合物。
表７００
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１７）の化合物。
表７０１
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１７）の化合物。
表７０２
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１７）の化合物。
表７０３
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１８）の化合物。
表７０４
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１８）の化合物。
表７０５
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１８）の化合物。
表７０６
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１８）の化合物。
表７０７
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１８）の化合物。
表７０８
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１８）の化合物。
表７０９
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１９）の化合物。
表７１０
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１９）の化合物。
表７１１
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１９）の化合物。
表７１２
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１９）の化合物。
表７１３
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１９）の化合物。
表７１４
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１１９）の化合物。
表７１５
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２０）の化合物。
表７１６
Ｒ1がｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２０）の化合物。
表７１７
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２０）の化合物。
表７１８
Ｒ1がシクロヘキシルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２０）の化合物。
表７１９
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｒ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２０）の化合物。
表７２０
Ｒ1が１−メチルブチルであり、ε位の炭素原子の立体配置が（Ｓ）であり、かつ、置換基Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6が表Ｘの１行〜４３９行に対応する、式（Ｉ−１２０）の化合物。
害虫制御、特に治療適用以外の分野において、式（Ｉ）、または（ＩＩ）の化合物は、低い濃度割合であってさえ非常に有利な殺生範囲および非常に広い範囲を有するものの、温血動物、魚および植物に十分許容される、価値のある予防活性および／または治療活性を示す活性化合物（有効成分と呼ばれる）である。これらは、意外にも、植物害虫、ならびにヒト、生産的な家畜、および飼育動物およびペットの外部寄生虫および内部寄生虫の制御にも等しく適している。これらは、通常感受性のある動物害虫の全体または個々の発達段階に効果があるが、昆虫綱、ダニ目、線虫綱、条虫綱および吸虫綱に代表されるものなどの抵抗力のある動物害虫の全体または個々の発達段階にも効果があると同時に有用な生物を保護する。本発明の有効成分の殺虫活性、ダニ駆除活性または線虫駆除活性は、それ自体直接的に、すなわち害虫の死亡率として、直ちに発生するか、またはしばらく経ってから、例えば脱皮中に起こるか、あるいは、間接的に、例えば産卵および／または孵化率の低下などに起こる可能性があり、少なくとも５０〜６０％の死亡率に対応する良好な活性を表す。
害虫、特に、レピドプテラ（Ｌｅｐｉｄｏｐｔｅｒａ）目、コレオプテラ（Ｃｏｌｅｏｐｔｅｒａ）目、オーソプテラ（Ｏｒｔｈｏｐｔｅｒａ）目、イソプテラ（Ｉｓｏｐｔｅｒａ）目、プソコプテラ（Ｐｓｏｃｏｐｔｅｒａ）目、アノプルラ（Ａｎｏｐｌｕｒａ）目、マロファーガ（Ｍａｌｌｏｐｈａｇａ）目、サイサノプテラ（Ｔｈｙｓａｎｏｐｔｅｒａ）目、ヘテロプテラ（Ｈｅｔｅｒｏｐｔｅｒａ）目、ホモプテラ（Ｈｏｍｏｐｔｅｒａ）目、ヒメノプテラ（Ｈｙｍｅｎｏｐｔｅｒａ）目、ジプテラ（Ｄｉｐｔｅｒａ）目、シフォナプテラ（Ｓｉｐｈｏｎａｐｔｅｒａ）目、サイサヌラ（Ｔｈｙｓａｎｕｒａ）目、およびアカリナ（Ａｃａｒｉｎａ）目（ダニ目）、主に、アカリナ目（ダニ目）、サイサヌラ目、ジプテラ目、レピドプテラ目およびコレオプテラ目の、本発明の主題の範囲内にある首尾よい制御が可能である。以下の害虫について非常に特に良好な制御が可能である。
アバグロチス（Ａｂａｇｒｏｔｉｓ）属、アブラクサス（Ａｂｒａｘａｓ）属、アカンソレウケニア（Ａｃａｎｔｈｏｌｅｕｃａｎｉａ）属、アカンソプルシア（Ａｃａｎｔｈｏｐｌｕｓｉａ）属、アカラス（コナダニ）（Ａｃａｒｕｓ）属、アカラス・シロ（アシブトコナダニ）（Ａｃａｒｕｓ ｓｉｒｏ）、アケリア（Ａｃｅｒｉａ）属、アケリア・シェルドニ（Ａｃｅｒｉａ ｓｈｅｌｄｏｎｉ）、アクレリス（Ａｃｌｅｒｉｓ）属、アコロイタス（Ａｃｏｌｏｉｔｈｕｓ）属、アコンプシア（Ａｃｏｍｐｓｉａ）属、アコッサス（Ａｃｏｓｓｕｓ）属、アクリア（Ａｃｒｉａ）属、アクロバシス（Ａｃｒｏｂａｓｉｓ）属、アクロサーコップス（ナシカワモグリ）（Ａｃｒｏｃｅｒｃｏｐｓ）属、アクロレピア（Ａｃｒｏｌｅｐｉａ）属、アクロレピオプシス（Ａｃｒｏｌｅｐｉｏｐｓｉｓ）属、アクロニクタ（Ａｃｒｏｎｉｃｔａ）属、アクロポリティス（Ａｃｒｏｐｏｌｉｔｉｓ）属、アクテビア（Ａｃｔｅｂｉａ）属、アクルス（Ａｃｕｌｕｓ）属、アクルス・シュレクテンダリ（リンゴサビダニ）（Ａｃｕｌｕｓ ｓｃｈｌｅｃｈｔｅｎｄａｌｉ）、アドキソファイエス（コカクモンハマキ）（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ）属、アドキソファイエス・レチキュラーナ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ ｒｅｔｉｃｕｌａｎａ）、アエデス（ヤブカ）（Ａｅｄｅｓ）属、アエゲリア（Ａｅｇｅｒｉａ）属、アエセス（Ａｅｔｈｅｓ）属、アガペタ（Ａｇａｐｅｔａ）属、アゴノプテリックス（Ａｇｏｎｏｐｔｅｒｉｘ）属、アグリオピス（Ａｇｒｉｏｐｉｓ）属、アグリオテス（Ａｇｒｉｏｔｅｓ）属、アグリフィラ（Ａｇｒｉｐｈｉｌａ）属、アグロコラ（Ａｇｒｏｃｈｏｌａ）属、アグロペリナ（Ａｇｒｏｐｅｒｉｎａ）属、アラバマ（Ａｌａｂａｍａ）属、アラバマ・アーギラセア（Ａｌａｂａｍａ ａｒｇｉｌｌａｃｅａｅ）、アグロチス（Ａｇｒｏｔｉｓ）属、アルブナ（Ａｌｂｕｎａ）属、アルカソエ（Ａｌｃａｔｈｏｅ）属、アルシス（Ａｌｃｉｓ）属、アレイマ（Ａｌｅｉｍｍａ）属、アレチア（Ａｌｅｔｉａ）属、アレウロトリキス（Ａｌｅｕｒｏｔｈｒｉｘｕｓ）属、アレウロスリキス・フロコッサス（ウーリーコナジラミ）（Ａｌｅｕｒｏｔｈｒｉｘｕｓ ｆｌｏｃｃｏｓｕｓ）、アレイローデス（コナジラミ）（Ａｌｅｙｒｏｄｅｓ）属、アレイローデス・ブラシカ（Ａｌｅｙｒｏｄｅｓ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、アロフィエス（Ａｌｌｏｐｈｙｅｓ）属、アルソフィラ（Ａｌｓｏｐｈｉｌａ）属、アマータ（Ａｍａｔａ）属、アマテス（Ａｍａｔｈｅｓ）、アンブリオンマ（キララマダニ）（Ａｍｂｌｙｏｍｍａ）属、アンブリプチリア（Ａｍｂｌｙｐｔｉｌｉａ）属、アンモコニア（Ａｍｍｏｃｏｎｉａ）属、アモービア（Ａｍｏｒｂｉａ）属、アンフィオン（Ａｍｐｈｉｏｎ）属、アンフィポエア（Ａｍｐｈｉｐｏｅａ）属、アンフィピラ（Ａｍｐｈｉｐｙｒａ）属、アミエロイス（Ａｍｙｅｌｏｉｓ）属、アナカムプトーデス（Ａｎａｃａｍｐｔｏｄｅｓ）属、アナグラファ（Ａｎａｇｒａｐｈａ）属、アナルシア（Ａｎａｒｓｉａ）属、アナトリキンティス（Ａｎａｔｒｙｃｈｙｎｔｉｓ）属、アナビトリネラ（Ａｎａｖｉｔｒｉｎｅｌｌａ）属、アンサイリス（Ａｎｃｙｌｉｓ）属、アンドロポリア（Ａｎｄｒｏｐｏｌｉａ）属、アンヒメラ（Ａｎｈｉｍｅｌｌａ）属、アンセラエア（ヤママユガ）（Ａｎｔｈｅｒａｅａ）属、アンセリゴーナ（Ａｎｔｈｅｒｉｇｏｎａ）属、アンセリゴーナ・ソッカータ（Ａｎｔｈｅｒｉｇｏｎａ ｓｏｃｃａｔａ）、アントノムス（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ）属、アントノムス・グランディス（ワタミゾウムシ）（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ ｇｒａｎｄｉｓ）、アンチカルシア（Ａｎｔｉｃａｒｓｉａ）属、アンチカルシア・ゲマタリス（Ａｎｔｉｃａｒｓｉａ ｇｅｍｍａｔａｌｉｓ）、アオニジエラ（アカマルカイガラムシ）（Ａｏｎｉｄｉｅｌｌａ）属、アパメア（Ａｐａｍｅａ）属、アファニア（Ａｐｈａｎｉａ）属、アフェリア（Ａｐｈｅｌｉａ）属、アフィジダエ（アブラムシ科）（Ａｐｈｉｄｉｄａｅ）、アフィス（ワタアブラムシ）（Ａｐｈｉｓ）属、アポトミス（Ａｐｏｔｏｍｉｓ）属、アプロアエレマ（Ａｐｒｏａｅｒｅｍａ）属、アーチッパス（Ａｒｃｈｉｐｐｕｓ）属、アーチップス（ハマキガ）（Ａｒｃｈｉｐｓ）属、アクロミルメックス（Ａｃｒｏｍｙｒｍｅｘ）、アークチア（Ａｒｃｔｉａ）属、アーガス（ヒメダニ）（Ａｒｇａｓ）属、アルゴラムプロテス（Ａｒｇｏｌａｍｐｒｏｔｅｓ）属、アルギレスチア（ヒメシンクイ）（Ａｒｇｙｒｅｓｔｈｉａ）属、アルギログランマ（Ａｒｇｙｒｏｇｒａｍｍａ）属、アルギロプロス（Ａｒｇｙｒｏｐｌｏｃｅ）属、アルギロテニア（Ａｒｇｙｒｏｔａｅｎｉａ）属、アロトロフォラ（Ａｒｏｔｒｏｐｈｏｒａ）属、アスコチス（Ａｓｃｏｔｉｓ）属、アスピジオツス（ウスイロマルカイガラムシ）（Ａｓｐｉｄｉｏｔｕｓ）属、アスピラプテリックス（Ａｓｐｉｌａｐｔｅｒｙｘ）属、アステノプチチャ（Ａｓｔｈｅｎｏｐｔｙｃｈａ）属、アテルピア（Ａｔｅｒｐｉａ）属、アテチス（Ａｔｈｅｔｉｓ）属、アトマリア（Ａｔｏｍａｒｉａ）属、アトマリア・リネアリス（Ａｔｏｍａｒｉａ ｌｉｎｅａｒｉｓ）、アッタ（Ａｔｔａ）属、アチファ（Ａｔｙｐｈａ）属、アウトグラファ（Ａｕｔｏｇｒａｐｈａ）属、アキシリア（Ａｘｙｌｉａ）属、バクトラ（シンムシガ）（Ｂａｃｔｒａ）属、バーバラ（Ｂａｒｂａｒａ）属、バトラチェドラ（Ｂａｔｒａｃｈｅｄｒａ）属、バッタリスチス（Ｂａｔｔａｒｉｓｔｉｓ）属、ベムベシア（Ｂｅｍｂｅｃｉａ）属、ベミシア（Ｂｅｍｉｓｉａ）属、ベミシア・タバシ（タバココナジラミ）（Ｂｅｍｉｓｉａ ｔａｂａｃｉ）、ビビオ（Ｂｉｂｉｏ）属、ビビオ・ホーチュラニス（Ｂｉｂｉｏ ｈｏｒｔｕｌａｎｉｓ）、ビシグナ（Ｂｉｓｉｇｎａ）属、ブラステスチア（Ｂｌａｓｔｅｓｔｈｉａ）属、ブラッタ（トウヨウゴキブリ）（Ｂｌａｔｔａ）属、ブラテラ（Ｂｌａｔｅｌｌａ）属、ブレファロシス（Ｂｌｅｐｈａｒｏｓｉｓ）属、ブレプチナ（Ｂｌｅｐｔｉｎａ）属、ボアルミア（Ｂｏａｒｍｉａ）属、ボンビックス（カイコガ）（Ｂｏｍｂｙｘ）属、ボモロッチャ（Ｂｏｍｏｌｏｃｈａ）属、ブーフィラス（ウシマダニ）（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ）属、ブラキミア（Ｂｒａｃｈｍｉａ）属、ブラジナ（Ｂｒａｄｉｎａ）属、ブレビパルプス（Ｂｒｅｖｉｐａｌｐｕｓ）属、ブリシス（Ｂｒｉｔｈｙｓ）属、ブリオビア（Ｂｒｙｏｂｉａ）属、ブリオビア・プラエチオーサ（クローバーハダニ）（Ｂｒｙｏｂｉａ ｐｒａｅｔｉｏｓａ）、ブリオトロファ（Ｂｒｙｏｔｒｏｐｈａ）属、ブパルス（Ｂｕｐａｌｕｓ）属、ブッセオラ（Ｂｕｓｓｅｏｌａ）属、ブッセオラ・フスカ（アフリカズイムシ）（Ｂｕｓｓｅｏｌａ ｆｕｓｃａ）、キャベラ（Ｃａｂｅｒａ）属、カコエキモルファ（Ｃａｃｏｅｃｉｍｏｒｐｈａ）属、カドラ（Ｃａｄｒａ）属、カドラ・コーテラ（スジマダラメイガ）（Ｃａｄｒａ ｃａｕｔｅｌｌａ）、カーヌルギナ（Ｃａｅｎｕｒｇｉｎａ）属、キャリピトリメラス（Ｃａｌｉｐｉｔｒｉｍｅｒｕｓ）属、キャリエルゲス（Ｃａｌｌｉｅｒｇｅｓ）属、キャロフポラ（Ｃａｌｌｏｐｈｐｏｒａ）属、キャロフポラ・エリスロセファラ（Ｃａｌｌｏｐｈｐｏｒａ・ｅｒｙｔｈｒｏｃｅｐｈａｌａ）、キャロファシア（Ｃａｌｏｐｈａｓｉａ）属、キャロプチリア（Ｃａｌｏｐｔｉｌｉａ）属、キャリバイテス（Ｃａｌｙｂｉｔｅｓ）属、キャプノプチチャ（Ｃａｐｎｏｐｔｙｃｈａ）属、キャプア（Ｃａｐｕａ）属、キャラドリナ（Ｃａｒａｄｒｉｎａ）属、キャリペタ（Ｃａｒｉｐｅｔａ）属、カーメンタ（Ｃａｒｍｅｎｔａ）属、カーポジナ（モモシンクイガ）（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ）属、カーポジナ・ニッポンネンシス（モモシンクイガ）（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ ｎｉｐｐｏｎｅｎｓｉｓ）、キャタマクタ（Ｃａｔａｍａｃｔａ）属、キャテラフリス（Ｃａｔｅｌａｐｈｒｉｓ）属、キャトプトリア（Ｃａｔｏｐｔｒｉａ）属、コーストローマ（Ｃａｕｓｔｏｌｏｍａ）属、セラエナ（Ｃｅｌａｅｎａ）属、セリファ（Ｃｅｌｙｐｈａ）属、セノピス（Ｃｅｎｏｐｉｓ）属、ケフス（Ｃｅｐｈｕｓ）属、セラミカ（Ｃｅｒａｍｉｃａ）属、セラプテリクス（Ｃｅｒａｐｔｅｒｙｘ）属、セラチチス（チチュウカイミバエ）（Ｃｅｒａｔｉｔｉｓ ｓｐｐ）、セラトフィラス（Ｃｅｒａｔｏｐｈｙｌｌｕｓ）属、セロプラスター（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｒ）属、シャトクネーマ（ノミハムシ）（Ｃｈａｅｔｏｃｎｅｍａ）属、シャトクネーマ・チビアリス（Ｃｈａｅｔｏｃｎｅｍａ ｔｉｂｉａｌｉｓ）、シャメスフェシア（Ｃｈａｍａｅｓｐｈｅｃｉａ）属、シャランブカ（Ｃｈａｒａｎｖｃａ）属、シェイモフィラ（Ｃｈｅｉｍｏｐｈｉｌａ）属、シェーソチス（Ｃｈｅｒｓｏｔｉｓ）属、チアスミア（Ｃｈｉａｓｍｉａ）属、チロ（メイチュウ）（Ｃｈｉｌｏ）属、チオノーデス（Ｃｈｉｏｎｏｄｅｓ）属、コリオプテス（Ｃｈｏｒｉｏｐｔｅｓ）属、コリストノイラ（Ｃｈｏｒｉｓｔｏｎｅｕｒａ）属、クリサスピディア（Ｃｈｒｙｓａｓｐｉｄｉａ）属、クリソデイキス（Ｃｈｒｙｓｏｄｅｉｘｉｓ）属、クリソミヤ（Ｃｈｒｙｓｏｍｙａ）属、クリソムファラス（トビイロマルカイガラムシ）（Ｃｈｒｙｓｏｍｐｈａｌｕｓ）属、クリソムファラス・ディクチオスペルミ（オンシツマルカイガラムシ）（Ｃｈｒｙｓｏｍｐｈａｌｕｓ ｄｉｃｔｙｏｓｐｅｒｍｉ）、クリソムファラス・アオニジウム（Ｃｈｒｙｓｏｍｐｈａｌｕｓ ａｏｎｉｄｉｕｍ）、クリソトウチア（Ｃｈｒｙｓｏｔｅｕｃｈｉａ）属、シリックス（Ｃｉｌｉｘ）属、キメクス（Ｃｉｍｅｘ）属、クリシア（Ｃｌｙｓｉａ）属、クリシア・アムビグエラ（Ｃｌｙｓｉａ ａｍｂｉｇｕｅｌｌａ）、クレプシス（Ｃｌｅｐｓｉｓ）属、クナエミドフォラス（Ｃｎａｅｍｉｄｏｐｈｏｒｕｓ）属、クナファロクロキス（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ）属、クネファシア（Ｃｎｅｐｈａｓｉａ）属、コッカス（ヒラタカタカイガラムシ）（Ｃｏｃｃｕｓ）属、コッカス・ヘスペリダム（ヒラタカタカイガラムシ）（Ｃｏｃｃｕｓ ｈｅｓｐｅｒｉｄｕｍ）、コキリス（Ｃｏｃｈｙｌｉｓ）属、コレホラ（Ｃｏｌｅｏｐｈｏｒａ）属、コロトイス（Ｃｏｌｏｔｏｉｓ）属、コモフィラ（Ｃｏｍｍｏｐｈｉｌａ）属、コニストラ（Ｃｏｎｉｓｔｒａ）属、コノポモルファ（Ｃｏｎｏｐｏｍｏｒｐｈａ）属、コルキラ（Ｃｏｒｃｙｒａ）属、コーヌチプルシア（Ｃｏｒｎｕｔｉｐｌｕｓｉａ）属、コスミア（Ｃｏｓｍｉａ）属、コスモポライテス（Ｃｏｓｍｏｐｏｌｉｔｅｓ）属、コスモプテリクス（Ｃｏｓｍｏｐｔｅｒｉｘ）属、コッサス（Ｃｏｓｓｕｓ）属、コスタエオンベキサ（Ｃｏｓｔａｅｏｎｖｅｘａ）属、クラムバス（Ｃｒａｍｂｕｓ）属、クレアトノトス（Ｃｒｅａｔｏｎｏｔｏｓ）属、クロキドロミア（Ｃｒｏｃｉｄｏｌｏｍｉａ）属、クロキドロミア・ビノタリス（ケブカノメイガ）（Ｃｒｏｃｉｄｏｌｏｍｉａ ｂｉｎｏｔａｌｉｓ）、クロエジア（Ｃｒｏｅｓｉａ）属、クリモデス（Ｃｒｙｍｏｄｅｓ）属、クリプトアスパズマ（Ｃｒｙｐｔａｓｐａｓｍａ）属、クリプトブレーブズ（Ｃｒｙｐｔｏｂｌａｂｅｓ）属、クリプトキャラ（Ｃｒｙｐｔｏｃａｌａ）属、クリプトフレビア（Ｃｒｙｐｔｏｐｈｌｅｂｉａ）属、クリプトフレビア・ロイコトレタ（コドリンガモドキ）（Ｃｒｙｐｔｏｐｈｌｅｂｉａ ｌｅｕｃｏｔｒｅｔａ）、クリプトプチラ（Ｃｒｙｐｔｏｐｔｉｌａ）属、クテノプソウスチス（Ｃｔｅｎｏｐｓｅｕｓｔｉｓ）属、ククリア（Ｃｕｃｕｌｌｉａ）属、カーキュリオ（シギゾウムシ）（Ｃｕｒｃｕｌｉｏ）属、キューレックス（イエカ）（Ｃｕｌｅｘ）属、クテレブラ（Ｃｕｔｅｒｅｂｒａ）属、キジア（Ｃｙｄｉａ）属、キジア・ポモネラ（コドリンガ）（Ｃｙｄｉａ ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）、シンバロフォラ（Ｃｙｍｂａｌｏｐｈｏｒａ）属、ダクチルエスラ（Ｄａｃｔｙｌｅｔｈｒａ）属、ダクス（Ｄａｃｕｓ）属、ダディカ（Ｄａｄｉｃａ）属、ダマリネア（Ｄａｍａｌｉｎｅａ）属、ダシキラ（Ｄａｓｙｃｈｉｒａ）属、デカダルチス（Ｄｅｃａｄａｒｃｈｉｓ）属、デコーデス（Ｄｅｃｏｄｅ
ｓ）属、デイレフィラ（Ｄｅｉｌｅｐｈｉｌａ）属、デルトーデス（Ｄｅｌｔｏｄｅｓ）属、デンドロリムス（Ｄｅｎｄｒｏｌｉｍｕｓ）属、デプレサリア（Ｄｅｐｒｅｓｓａｒｉａ）属、デルメステス（Ｄｅｒｍｅｓｔｅｓ）属、デルマニスス（Ｄｅｒｍａｎｙｓｓｕｓ）属、デルマニスス・ガリナエ（ワクモ）（Ｄｅｒｍａｎｙｓｓｕｓ ｇａｌｌｉｎａｅ）、ジアブロティカ（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ）属、ジアキリシア（Ｄｉａｃｈｒｙｓｉａ）属、ジアファニア（Ｄｉａｐｈａｎｉａ）属、ジアーシア（Ｄｉａｒｓｉａ）属、ジアセミア（Ｄｉａｓｅｍｉａ）属、ディアトラエア（Ｄｉａｔｒａｅａ）属、ジセラチュラ（Ｄｉｃｅｒａｔｕｒａ）属、ジコメリス（Ｄｉｃｈｏｍｅｒｉｓ）属、ジクロクロシス（Ｄｉｃｈｒｏｃｒｏｃｉｓ）属、ジクロラムファ（Ｄｉｃｈｒｏｒａｍｐｈａ）属、ジサイクラ（Ｄｉｃｙｃｌａ）属、ジオリクトリア（Ｄｉｏｒｙｃｔｒｉａ）属、ジパロプシス（Ｄｉｐａｒｏｐｓｉｓ）属、ジパロプシス・カスタネア（Ｄｉｐａｒｏｐｓｉｓ ｃａｓｔａｎｅａ）、ジプロウリナ（Ｄｉｐｌｅｕｒｉｎａ）属、ジプリオン（Ｄｉｐｒｉｏｎ）属、ジプリオニダエ（マツハバチ科）（Ｄｉｐｒｉｏｎｉｄａｅ）、ディスセストラ（Ｄｉｓｃｅｓｔｒａ）属、ジスタンティエラ（Ｄｉｓｔａｎｔｉｅｌｌａ）属、ジスタンティエラ・セオブローマ（Ｄｉｓｔａｎｔｉｅｌｌａ ｔｈｅｏｂｒｏｍａ）、ディチュラ（Ｄｉｔｕｌａ）属、ジウルネア（Ｄｉｕｒｎｅａ）属、ドラトプテリクス（Ｄｏｒａｔｏｐｔｅｒｙｘ）属、ドレパナ（Ｄｒｅｐａｎａ）属、ドロソフィラ（Ｄｒｏｓｐｈｉｌａ）属、ドロソフィラ・メラノガスター（ショウジョウバエ）（Ｄｒｏｓｐｈｉｌａ ｍｅｌａｎｏｇａｓｔｅｒ）、ジソーキセス（Ｄｙｓａｕｘｅｓ）属、ジスデルクス（Ｄｙｓｄｅｒｃｕｓ）属、ジスストローマ（Ｄｙｓｓｔｒｏｍａ）属、エアナ（Ｅａｎａ）属、エアリアス（Ｅａｒｉａｓ）属、エクリチカ（Ｅｃｃｌｉｔｉｃａ）属、エクジトロファ（Ｅｃｄｙｔｏｌｏｐｈａ）属、エクピローロ（Ｅｃｐｙｒｒｈｏｒｒｈｏｅ）属、エクトミエロイス（Ｅｃｔｏｍｙｅｌｏｉｓ）属、エエトロピス（Ｅｅｔｒｏｐｉｓ）属、エジラ（Ｅｇｉｒａ）属、エラスモパルプス（Ｅｌａｓｍｏｐａｌｐｕｓ）属、エンメリア（Ｅｍｍｅｌｉａ）属、ムポアスカ（ｍｐｏａｓｃａ）属、エムピロウマ（Ｅｍｐｙｒｅｕｍａ）属、エナージア（Ｅｎａｒｇｉａ）属、エナルモニア（Ｅｎａｒｍｏｎｉａ）属、エンドピザ（Ｅｎｄｏｐｉｚａ）属、エンドセニア（Ｅｎｄｏｔｈｅｎｉａ）属、エンドトリチャ（Ｅｎｄｏｔｒｉｃｈａ）属、エオレウマ（Ｅｏｒｅｕｍａ）属、エオテトラニクス（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ）属、エオテトラニクス・カーピニ（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｃａｒｐｉｎｉ）、エパゴーゲ（Ｅｐａｇｏｇｅ）属、エペリス（Ｅｐｅｌｉｓ）属、エフェスチア（Ｅｐｈｅｓｔｉａ）属、エフェスチオデス（Ｅｐｈｅｓｔｉｏｄｅｓ）属、エピブレマ（Ｅｐｉｂｌｅｍａ）属、エピエホリストデス（Ｅｐｉｅｈｏｒｉｓｔｏｄｅｓ）属、エピノチア（Ｅｐｉｎｏｔｉａ）属、エピフィアス（Ｅｐｉｐｈｙａｓ）属、エピプレマ（Ｅｐｉｐｌｅｍａ）属、エピプセスチス（Ｅｐｉｐｓｅｓｔｉｓ）属、エピルホエ（Ｅｐｉｒｒｈｏｅ）属、エピシムス（Ｅｐｉｓｉｍｕｓ）属、エピチムビア（Ｅｐｉｔｙｍｂｉａ）属、エプラクナ（Ｅｐｌｌａｃｈｎａ）属、エラニス（Ｅｒａｎｎｉｓ）属、エラストリア（Ｅｒａｓｔｒｉａ）属、エレムナス（Ｅｒｅｍｎｕｓ）属、エロウネチス（Ｅｒｅｕｎｅｔｉｓ）属、エリオフィエス（フシダニ）（Ｅｒｉｏｐｈｙｅｓ）属、エリオソマ（Ｅｒｉｏｓｏｍａ）属、エリオソマ・ラニゲルム（リンゴワタムシ）（Ｅｒｉｏｓｏｍａ ｌａｎｉｇｅｒｕｍ）、エリトロネウラ（Ｅｒｙｔｈｒｏｎｅｕｒａ）属、エスティグメネ（Ｅｓｔｉｇｍｅｎｅ）属、エスミア（Ｅｔｈｍｉａ）属、エチエラ（Ｅｔｉｅｌｌａ）属、エウアグロチス（Ｅｕａｇｒｏｔｉｓ）属、エウコズマ（Ｅｕｃｏｓｍａ）属、エウエラエナ（Ｅｕｅｈｌａｅｎａ）属、ユーエリジア（Ｅｕｅｌｉｄｉａ）属、ユーエオスマ（Ｅｕｅｏｓｍａ）属、エウチスツス（Ｅｕｃｈｉｓｔｕｓ）属、ユーコスモモルファ（Ｅｕｃｏｓｍｏｍｏｒｐｈａ）属、ユードニア（Ｅｕｄｏｎｉａ）属、ユーフィドニア（Ｅｕｆｉｄｏｎｉａ）属、ユーヒポノミュートイデス（Ｅｕｈｙｐｏｎｏｍｅｕｔｏｉｄｅｓ）属、ユーレピトーデス（Ｅｕｌｅｐｉｔｏｄｅｓ）属、ユーリア（Ｅｕｌｉａ）属、ユーリシス（Ｅｕｌｉｔｈｉｓ）属、ユーピセシア（Ｅｕｐｉｔｈｅｃｉａ）属、ユープレキシア（Ｅｕｐｌｅｘｉａ）属、エウペキリア（Ｅｕｐｏｅｃｉｌｉａ）属、エウペキリア・アンビグエラ（ブドウホソハマキ）（Ｅｕｐｏｅｃｉｌｉａ ａｍｂｉｇｕｅｌｌａ）、エウプロクチス（Ｅｕｐｒｏｃｔｉｓ）属、ユープシリア（Ｅｕｐｓｉｌｉａ）属、ユーロドープ（Ｅｕｒｈｏｄｏｐｅ）属、ユーロイス（Ｅｕｒｏｉｓ）属、エウリガステル（Ｅｕｒｙｇａｓｔｅｒ）属、ユーリチミア（Ｅｕｒｙｔｈｍｉａ）属、ユーストロチア（Ｅｕｓｔｒｏｔｉａ）属、エウクソア（Ｅｕｘｏａ）属、ユーゾフェラ（Ｅｕｚｏｐｈｅｒａ）属、エバーゲスティス（Ｅｖｅｒｇｅｓｔｉｓ）属、エビッペ（Ｅｖｉｐｐｅ）属、エグザーテマ（Ｅｘａｒｔｅｍａ）属、ファニア（Ｆａｎｎｉａ）属、ファロンタ（Ｆａｒｏｎｔａ）属、フェルチア（Ｆｅｌｔｉａ）属、フィラチーマ（Ｆｉｌａｔｉｍａ）属、フィッシア（Ｆｉｓｈｉａ）属、フランクリニエラ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ）属、フミボチス（Ｆｕｍｉｂｏｔｙｓ）属、ガエサ（Ｇａｅｓａ）属、ガスガージア（Ｇａｓｇａｒｄｉａ）属、ガストロフィラス（ウマバエ）（Ｇａｓｔｒｏｐｈｉｌｕｓ）属、ゲレッチア（Ｇｅｌｅｃｈｉａ）属、ジルピニア（モミハバチ）（Ｇｉｌｐｉｎｉａ）属、ジルピニア・ポリトーマ（シマトウヒハバチ）（Ｇｉｌｐｉｎｉａ 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ｃｕｎｅａ）、ハイポカーラ（Ｈｙｐｏｃａｌａ）属、ハイポコエナ（Ｈｙｐｏｃｏｅｎａ）属、ハイポデーマ（Ｈｙｐｏｄｅｍａ）属、ヒッポボスカ（Ｈｙｐｐｏｂｏｓｃａ）属、ハイプシピラ（Ｈｙｐｓｉｐｙｌａ）属、ヒッシア（Ｈｙｓｓｉａ）属、ハイステロシア（Ｈｙｓｔｅｒｏｓｉａ）属、アイダエ（Ｉｄａｅａ）属、イディア（Ｉｄｉａ）属、イピモルファ（Ｉｐｉｍｏｒｐｈａ）属、イシア（Ｉｓｉａ）属、イソコリスタ（Ｉｓｏｃｈｏｒｉｓｔａ）属、イソフリクティス（Ｉｓｏｐｈｒｉｃｔｉｓ）属、イソポリア（Ｉｓｏｐｏｌｉａ）属、イソトリアス（Ｉｓｏｔｒｉａｓ）属、イキソデス（マダニ）（Ｉｘｏｄｅｓ）属、イターム（Ｉｔａｍｅ）属、ジョディア（Ｊｏｄｉａ）属、ジョディス（Ｊｏｄｉｓ）属、カワベア（Ｋａｗａｂｅａ）属、ケイフェリア（Ｋｅｉｆｅｒｉａ）属、ケイフェリア・リコペルシケラ（Ｋｅｉｆｅｒｉａ ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｅｌｌａ）、ラブディア（Ｌａｂｄｉａ）属、ラシニポリア（Ｌａｃｉｎｉｐｏｌｉａ）属、ランブジーナ（Ｌａｍｂｄｉｎａ）属、ランプロスリトパ（Ｌａｍｐｒｏｔｈｒｉｔｐａ）属、ラオデルファクス（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ）属、ラシウス（ケアリ）（Ｌａｓｉｕｓ）属、ラスペイレシア（Ｌａｓｐｅｙｒｅｓｉａ）属、レプチノタルサ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ）属、レプチノタルサ・デケムリネエータ（コロラドハムシ）（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔａ）、レプトコリサ（Ｌｅｐｔｏｃｏｒｉｓａ）属、レプトスタレス（Ｌｅｐｔｏｓｔａｌｅｓ）属、レカニウム（Ｌｅｃａｎｉｕｍ）属、レカニウム・コミ（Ｌｅｃａｎｉｕｍ ｃｏｍｉ）、レピドサフエス（カキカイガラムシ）（Ｌｅｐｉｄｏｓａｐｈｅｓ）属、レピスマ（Ｌｅｐｉｓｍａ）属、レピスマ・サッカリーナ（セイヨウシミ）（Ｌｅｐｉｓｍａ ｓａｃｃｈａｒｉｎａ）、レズモネ（Ｌｅｓｍｏｎｅ）属、レウカニア（Ｌｅｕｃａｎｉａ）属、レウキノデス（Ｌｅｕｃｉｎｏｄｅｓ）属、レウコファエア（Ｌｅｕｃｏｐｈａｅａ）属、レウコファエア・マデラ（マデラゴキブリ）（Ｌｅｕｃｏｐｈａｅａ ｍａｄｅｒａｅ）、レウコプテラ（Ｌｅｕｃｏｐｔｅｒａ）属、レウコプテラ・サイテラ（Ｌｅｕｃｏｐｔｅｒａ Ｓｃｉｔｅｌｌａ）、リノグナサス（ケモノホソジラミ）（Ｌｉｎｏｇｎａｔｈｕｓ）属、リポセリス（Ｌｉｐｏｓｃｅｌｉｓ）属、リッソロプトラス（イネミズゾウムシ）（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ）属、リタコジア（Ｌｉｔｈａｃｏｄｉａ）属、リトコレティス（Ｌｉｔｈｏｃｏｌｌｅｔｉｓ）属、リトモイア（Ｌｉｔｈｏｍｏｉａ）属、リトファネ（Ｌｉｔｈｏｐｈａｎｅ）属、リキソデッサ（Ｌｉｘｏｄｅｓｓａ）属、ロベシア（Ｌｏｂｅｓｉａ）属、ロベシア・ボトラーナ（ホソバヒメハマキ）（Ｌｏｂｅｓｉａ ｂｏｔｒａｎａ）、ロボフォラ（Ｌｏｂｏｐｈｏｒａ）属、ロカスタ（トノサマバッタ）（Ｌｏｃｕｓｔａ）属、ロマナルテス（Ｌｏｍａｎａｌｔｅｓ）属、ロモグラファ（Ｌｏｍｏｇｒａｐｈａ）属、ロキサグロティス（Ｌｏｘａｇｒｏｔｉｓ）属、ロクソステゲ（Ｌｏｘｏｓｔｅｇｅ）属、ルシリア（キンバエ）（Ｌｕｃｉｌｉａ）属、リマントリア（マイマイガ）（Ｌｙｍａｎｔｒｉａ）属、リムナエシア（Ｌｙｍｎａｅｃｉａ）属、リオネチア（Ｌｙｏｎｅｔｉａ）属、リリオマイザ（Ｌｙｒｉｏｍｙｚａ）属、マクドノーフィア（Ｍａｃｄｏｎｎｏｕｇｈｉａ）属、マクラウザタ（Ｍａｃｒａｕｚａｔａ）属、マクロノクチュア（Ｍａｃｒｏｎｏｃｔｕａ）属、マクロシフス（Ｍａｃｒｏｓｉｐｈｕｓ）属、マラコソマ（Ｍａｌａｃｏｓｏｍａ）属、マリアルファ（Ｍａｌｉａｒｐｈａ）属、マメストラ（ヨトウガ）（Ｍａｍｅｓｔｒａ）属、マメストラ・ブラシカ（ヨトウ
ガ）（Ｍａｍｅｓｔｒａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、マンズカ（Ｍａｎｄｕｃａ）属、マンズカ・セクスタ（タバコスズメガ）（Ｍａｎｄｕｃａ ｓｅｘｔａ）、マラスミア（Ｍａｒａｓｍｉａ）属、マーガリチア（Ｍａｒｇａｒｉｔｉａ）属、マトラチネア（Ｍａｔｒａｔｉｎｅａ）属、マツムレーセス（Ｍａｔｓｕｍｕｒａｅｓｅｓ）属、メラナグロミザ（Ｍｅｌａｎａｇｒｏｍｙｚａ）属、メリポテス（Ｍｅｌｉｐｏｔｅｓ）属、メリッソパス（Ｍｅｌｉｓｓｏｐｕｓ）属、メリッチア（Ｍｅｌｉｔｔｉａ）属、メロロンタ（コフキコガネ）（Ｍｅｌｏｌｏｎｔｈａ）属、メリスチス（Ｍｅｒｉｓｔｉｓ）属、メリタスチス（Ｍｅｒｉｔａｓｔｉｓ）属、メロフィアス（Ｍｅｒｏｐｈｙａｓ）属、メサパメア（Ｍｅｓａｐａｍｅａ）属、メソゴーナ（Ｍｅｓｏｇｏｎａ）属、メソロイカ（Ｍｅｓｏｌｅｕｃａ）属、メタネーマ（Ｍｅｔａｎｅｍａ）属、メテンドセニア（Ｍｅｔｅｎｄｏｔｈｅｎｉａ）属、メツネリア（Ｍｅｔｚｎｅｒｉａ）属、ミカルディア（Ｍｉｃａｒｄｉａ）属、ミクロコーセス（Ｍｉｃｒｏｃｏｒｓｅｓ）属、ミクロレオン（Ｍｉｃｒｏｌｅｏｎ）属、ネシクテーナ（Ｍｎｅｓｉｃｔｅｎａ）属、モキス（Ｍｏｃｉｓ）属、モニマ（Ｍｏｎｉｍａ）属、モノクロア（Ｍｏｎｏｃｈｒｏａ）属、モノモリウム（ヒメケアリ）（Ｍｏｎｏｍｏｒｉｕｍ）属、モノモリウム・ファラオニス（イエヒメアリ）（Ｍｏｎｏｍｏｒｉｕｍ ｐｈａｒａｏｎｉｓ）、モノプシス（Ｍｏｎｏｐｓｉｓ）属、モリソニア（Ｍｏｒｒｉｓｏｎｉａ）属、ムスカ（イエバエ）（Ｍｕｓｃａ）属、ムッツライア（Ｍｕｔｕｕｒａｉａ）属、ミエロイス（Ｍｙｅｌｏｉｓ）属、ミチムナ（クサシロヨトウ）（Ｍｙｔｈｉｍｎａ）属、マイザス（ミズス）（Ｍｙｚｕｓ）属、ナランガ（Ｎａｒａｎｇａ）属、ネドラ（Ｎｅｄｒａ）属、ネマポゴン（Ｎｅｍａｐｏｇｏｎ）属、ネオディプリオン（Ｎｅｏｄｉｐｒｉｏｎ）属、ネオスファレロプテラ（Ｎｅｏｓｐｈａｌｅｒｏｐｔｅｒａ）属、ネフェロデス（Ｎｅｐｈｅｌｏｄｅｓ）属、ネホテティックス（ツマグロヨコバイ）（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ）属、ネザラ（アオクサカメムシ）（Ｎｅｚａｒａ）属、ニラパルバタ（トビイロウンカ）（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ）属、ニフォニンファ（Ｎｉｐｈｏｎｙｍｐｈａ）属、ニッポプチリア（Ｎｉｐｐｏｐｔｉｌｉａ）属、ノクツア（Ｎｏｃｔｕａ）属、ノーラ（Ｎｏｌａ）属、ノトセリア（Ｎｏｔｏｃｅｌｉａ）属、ノトドンタ（Ｎｏｔｏｄｏｎｔａ）属、ヌダウレリア（Ｎｕｄａｕｒｅｌｉａ）属、オクロプロイラ（Ｏｃｈｒｏｐｌｅｕｒａ）属、オクネロストーマ（Ｏｃｎｅｒｏｓｔｏｍａ）属、オエストラス（ヒツジバエ）（Ｏｅｓｔｒｕｓ）属、オレスロイテス（Ｏｌｅｔｈｒｅｕｔｅｓ）属、オリージア（Ｏｌｉｇｉａ）属、オリンジア（Ｏｌｉｎｄｉａ）属、オリゴニチュス（Ｏｌｙｇｏｎｙｃｈｕｓ）属、オリゴニチュス・ガリナエ（Ｏｌｙｇｏｎｙｃｈｕｓ・ｇａｌｌｉｎａｅ）、オンコクネミス（Ｏｎｃｏｃｎｅｍｉｓ）属、オペロフテラ（Ｏｐｅｒｏｐｈｔｅｒａ）属、オフィスマ（Ｏｐｈｉｓｍａ）属、オポゴナ（Ｏｐｏｇｏｎａ）属オラエシア（Ｏｒａｅｓｉａ）属、オーニオドロス（Ｏｒｎｉｏｄｏｒｏｓ）属、オルギア（Ｏｒｇｙｉａ）属、オリア（Ｏｒｉａ）属、オルセオリア（Ｏｒｓｅｏｌｉａ）属、オーソデス（Ｏｒｔｈｏｄｅｓ）属、オーソゴニア（Ｏｒｔｈｏｇｏｎｉａ）属、オルトシア（Ｏｒｔｈｏｓｉａ）属、オリザエフィルス（Ｏｒｙｚａｅｐｈｉｌｕｓ）属、オスキネラ（Ｏｓｃｉｎｅｌｌａ）属、オスキネラ・フリット（Ｏｓｃｉｎｅｌｌａ ｆｒｉｔ）、オスミニア（Ｏｓｍｉｎｉａ）属、オストリニア（Ｏｓｔｒｉｎｉａ）属、オストリニア・ヌビラリス（Ｏｓｔｒｉｎｉａ 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ｈｙｏｕｓｃｙａｍｉ）、ペロクリスタ（Ｐｅｌｏｃｈｒｉｓｔａ）属、ペニセチア（Ｐｅｎｎｉｓｅｔｉａ）属、ペンステモニア（Ｐｅｎｓｔｅｍｏｎｉａ）属、ペムフィグス（Ｐｅｍｐｈｉｇｕｓ）属、ペリバトデス（Ｐｅｒｉｂａｔｏｄｅｓ）属、ペリドロマ（Ｐｅｒｉｄｒｏｍａ）属、ペリレウコプテラ（Ｐｅｒｉｌｅｕｃｏｐｔｅｒａ）属、ペリプラネタ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ）属、ペリゾマ（Ｐｅｒｉｚｏｍａ）属、ペトロバ（Ｐｅｔｒｏｖａ）属、ペキシコピア（Ｐｅｘｉｃｏｐｉａ）属、ファロニア（Ｐｈａｌｏｎｉａ）属、ファロニジア（Ｐｈａｌｏｎｉｄｉａ）属、ファネタ（Ｐｈａｎｅｔａ）属、フリクテニア（Ｐｈｌｙｃｔａｅｎｉａ）属、フリクチヌス（Ｐｈｌｙｃｔｉｎｕｓ）属、ホルミア（Ｐｈｏｒｂｉａ）属、フラグマトビア（Ｐｈｒａｇｍａｔｏｂｉａ）属、フリカンテス（Ｐｈｒｉｃａｎｔｈｅｓ）属、フトリマエア（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ）属、フトリマエア・オパキュレラ（ジャガイモキバガ）（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ ｏｐｅｒｃｕｌｅｌｌａ）、フィロクニスティス（Ｐｈｙｌｌｏｃｎｉｓｔｉｓ）属、フィロコプツルタ（Ｐｈｙｌｌｏｃｏｐｔｒｕｔａ）属、フィロコプトルタ・オレイボラ（Ｐｈｙｌｌｏｃｏｐｔｒｕｔａ ｏｌｅｉｖｏｒａ）、フィロノリクテル（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ）属、フィロフィラ（Ｐｈｙｌｌｏｐｈｉｌａ）属、フィロキセラ（Ｐｈｙｌｌｏｘｅｒａ）属、ピエリス（アセビ）（Ｐｉｅｒｉｓ）属、ピエリス・ラーパエ（モンシロチョウ）（Ｐｉｅｒｉｓ ｒａｐａｅ）、ピエスマ（Ｐｉｅｓｍａ）属、プラノコッカス（Ｐｌａｎｏｃｏｃｕｓ）属、プラノトートリックス（Ｐｌａｎｏｔｏｒｔｒｉｘ）属、プラチエドラ（Ｐｌａｔｙｅｄｒａ）属、プラチノタ（Ｐｌａｔｙｎｏｔａ）属、プラチプチリア（Ｐｌａｔｙｐｔｉｌｉａ）属、プラチセンタ（Ｐｌａｔｙｓｅｎｔａ）属、プロジア（Ｐｌｏｄｉａ）属、プルシア（ウワバガ）（Ｐｌｕｓｉａ）属、プルテラ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ）属、プルテラ・キシロステラ（コナガ）（Ｐｌｕｔｅｌｌａ ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）、ポドセシア（Ｐｏｄｏｓｅｓｉａ）属、ポリア（Ｐｏｌｉａ）属、ポピリア（Ｐｏｐｉｌｌｉａ）属、ポリミキシス（Ｐｏｌｙｍｉｘｉｓ）属、ポリファゴタソネムス（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ）属、ポリファーゴターソネムス・ラタス（チャノホコリダニ）（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ ｌａｔｕｓ）、プライス（Ｐｒａｙｓ）属、プリオノクシスツス（Ｐｒｉｏｎｏｘｙｓｔｕｓ）属、プロボレ（Ｐｒｏｂｏｌｅ）属、プロケラス（Ｐｒｏｃｅｒａｓ）属、プロコエロデス（Ｐｒｏｃｈｏｅｒｏｄｅｓ）属、プロユーリア（Ｐｒｏｅｕｌｉａ）属、プロスキスチス（Ｐｒｏｓｃｈｉｓｔｉｓ）属、プロセレナ（Ｐｒｏｓｅｌｅｎａ）属、プロセルピナス（Ｐｒｏｓｅｒｐｉｎｕｓ）属、プロタグロチス（Ｐｒｏｔａｇｒｏｔｉｓ）属、プロテオテラス（Ｐｒｏｔｅｏｔｅｒａｓ）属、プロトバトラ（Ｐｒｏｔｏｂａｔｈｒａ）属、プロトシニア（Ｐｒｏｔｏｓｃｈｉｎｉａ）属、セルノフォラス（Ｐｓｅｌｎｏｐｈｏｒｕｓ）属、プセウドアレチア（ミトヒムナ）（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ）属、プセウドアントノマス（Ｐｓｅｕｄａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ）属、プセウドアテネリア（Ｐｓｅｕｄｏａｔｅｒｎｅｌｉａ）属、プセウドアウラキャプシス（クワシロイガラムシ）（Ｐｓｅｕｄａｕｌａｃａｓｐｉｓ）属、プセウドエキセンテラ（Ｐｓｅｕｄｅｘｅｎｔｅｒａ）属、プセウドコッカス（Ｐｓｅｕｄｏｃｏｃｕｓ）属、プセウドハーメニアス（Ｐｓｅｕｄｏｈｅｒｍｅｎｉａｓ）属、プセウドプルシア（Ｐｓｅｕｄｏｐｌｕｓｉａ）属、プソロプテス（Ｐｓｏｒｏｐｔｅｓ）属、プシラ（Ｐｓｙｌｌａ）属、プシリオデス（Ｐｓｙｌｌｉｏｄｅｓ）属、プテロフォラス（Ｐｔｅｒｏｐｈｏｒｕｓ）属、プチコロマ（Ｐｔｙｃｈｏｌｏｍａ）属、プルビナリア（ワタカイガラムシ）（Ｐｕｌｖｉｎａｒｉａ）属、プルビナリア・エチオピカ（Ｐｕｌｖｉｎａｒｉａ ａｅｔｈｉｏｐｉｃａ）、ピラリス（Ｐｙｒａｌｉｓ）属、ピラウスタ（Ｐｙｒａｕｓｔａ）属、ピルゴチス（Ｐｙｒｇｏｔｉｓ）属、ピルレフェラ（Ｐｙｒｒｅｆｅｒｒａ）属、ピルラークチア（Ｐｙｒｒｈａｒｃｔｉａ）属、カドラスピディオツス（Ｑｕａｄｒａｓｐｉｄｉｏｔｕｓ）属、ランコラ（Ｒａｎｃｏｒａ）属、ラフィア（アメリカサケヤシ）（Ｒａｐｈｉａ）属、レチカルテルメス（Ｒｅｔｉｃｕｌｔｅｒｍｅｓ）属、レチニア（Ｒｅｔｉｎｉａ）属、ラゴレチス（Ｒｈａｇｏｌｅｔｉｓ）属、ラゴレチス・ポモネラ（リンゴミバエ）（Ｒｈａｇｏｌｅｔｉｓ ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）、リピセファルス（Ｒｈｉｐｉｃｅｐｈａｌｕｓ）属、リゾグリフス（Ｒｈｉｚｏｇｌｙｐｈｕｓ）属、リゾペルタ（Ｒｈｉｚｏｐｅｒｔｈａ）属、ロドニウス（Ｒｈｏｄｎｉｕｓ）属、ロファロジフム（Ｒｈｏｐｈａｌｏｓｉｐｈｕｍ）属、ロポボタ（Ｒｈｏｐｏｂｏｔａ）属、リアキア（Ｒｈｙａｃｉａ）属、リアキオニア（Ｒｈｙａｃｉｏｎｉａ）属、リンコパチャ（Ｒｈｙｎｃｈｏｐａｃｈａ）属、リゾステネス（Ｒｈｙｚｏｓｔｈｅｎｅｓ）属、リブラ（Ｒｉｖｕｌａ）属、ロンドチア（Ｒｏｎｄｏｔｉａ）属、ルシドリナ（Ｒｕｓｉｄｒｉｎａ）属、リンチャグラエ（Ｒｙｎｃｈａｇｌａｅａ）属、サブローデス（Ｓａｂｕｌｏｄｅｓ）属、サールベルゲラ（Ｓａｈｌｂｅｒｇｅｌｌａ）属、サールバーゲラ・シングラリス（Ｓａｈｌｂｅｒｇｅｌｌａ ｓｉｎｇｕｌａｒｉｓ）、サイッセチア（ハンエンカタカイガラムシ）（Ｓａｉｓｓｅｔｉａ）属、サミア（Ｓａｍｉａ）属、サニナ（Ｓａｎｎｉｎａ）属、サンニノイデア（Ｓａｎｎｉｎｏｉｄｅａ）属、サフォイデウス（Ｓａｐｈｏｉｄｅｕｓ）属、サルコプテス（ヒゼンダニ）（Ｓａｒｃｏｐｔｅｓ）属、サトロブロタ（Ｓａｔｈｒｏｂｒｏｔａ）属、スカラベイダ（Ｓｃａｒａｂｅｉｄａｅ）、セリオデス（Ｓｃｅｌｉｏｄｅｓ）属、スキニア（Ｓｃｈｉｎｉａ）属、スキストケルカ（Ｓｃｈｉｓｔｏｃｅｒｃａ）属、スキザフィス（Ｓｃｈｉｚａｐｈｉｓ）属、スキズラ（Ｓｃｈｉｚｕｒａ）属、シュレッケンステイニア（Ｓｃｈｒｅｃｋｅｎｓｔｅｉｎｉａ）属、スキアラ（Ｓｃｉａｒａ）属、スキルポファーガ（シロオオメイガ）（Ｓｃｉｒｐｏｐｈａｇａ）属、スキルトリプス・アウランチ（Ｓｃｉｒｔｈｒｉｐｓ ａｕｒａｎｔｉ）、スコパリア（Ｓｃｏｐａｒｉａ）属、スコプラ（Ｓｃｏｐｕｌａ）属、スコチア（Ｓｃｏｔｉａ）属、スコチノファラ（イネクロカメムシ）（Ｓｃｏｔｉｎｏｐｈａｒａ）属、スコトグラマ（Ｓｃｏｔｏｇｒａｍｍａ）属、スクロビパルパ（Ｓｃｒｏｂｉｐａｌｐａ）属、スクロビパルポプシス（Ｓｃｒｏｂｉｐａｌｐｏｐｓｉｓ）属、セミオチサ（Ｓｅｍｉｏｔｈｉｓａ）属、セレダ（Ｓｅｒｅｄａ）属、セサミア（Ｓｅｓａｍｉａ）属、
セシア（カシワスカシバ）（Ｓｅｓｉａ）属、シクヤ（Ｓｉｃｙａ）属、シデリディス（Ｓｉｄｅｒｉｄｉｓ）属、シミラ（Ｓｉｍｙｒａ）属、シノイグラフェ（Ｓｉｎｅｕｇｒａｐｈｅ）属、シトクロア（Ｓｉｔｏｃｈｒｏａ）属、シトビオン（Ｓｉｔｏｂｉｏｎ）属、シトフィラス（コクゾウ）（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ）属、シトトロガ（バクガ）（Ｓｉｔｏｔｒｏｇａ）属、ソレノプシス（トフシアリ）（Ｓｏｌｅｎｏｐｓｉｓ）属、スメリンサス（Ｓｍｅｒｉｎｔｈｕｓ）属、ソフロニア（Ｓｏｐｈｒｏｎｉａ）属、スパエロチス（Ｓｐａｅｌｏｔｉｓ）属、スパルガロマ（Ｓｐａｒｇａｌｏｍａ）属、スパルガノティス（テングハマキ）（Ｓｐａｒｇａｎｏｔｈｉｓ）属、スパタリスチス（Ｓｐａｔａｌｉｓｔｉｓ）属、スペルキア（Ｓｐｅｒｃｈｉａ）属、スフェシア（Ｓｐｈｅｃｉａ）属、スフィンクス（Ｓｐｈｉｎｘ）属、スピロノタ（Ｓｐｉｌｏｎｏｔａ）属、スポドプテラ（スジキリヨトウ）（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ）属、スポドプテラ・リットラリス（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｌｉｔｔｏｒａｌｉｓ）、スタグマトフォラ（Ｓｔａｇｍａｔｏｐｈｏｒａ）属、スタフィリノクラス（Ｓｔａｐｈｙｌｉｎｏｃｈｒｏｕｓ）属、スタスモポダ（Ｓｔａｔｈｍｏｐｏｄａ）属、ステノーデス（Ｓｔｅｎｏｄｅｓ）属、スターハ（Ｓｔｅｒｒｈａ）属、ストモキシス（サシバエ）（Ｓｔｏｍｏｘｙｓ）属、ストロフェドラ（Ｓｔｒｏｐｈｅｄｒａ）属、スニラ（Ｓｕｎｉｒａ）属、スチナ（Ｓｕｔｙｎａ）属、スワマーダミア（Ｓｗａｍｍｅｒｄａｍｉａ）属、シロマチア（Ｓｙｌｌｏｍａｔｉａ）属、シンピスチス（Ｓｙｍｐｉｓｔｉｓ）属、シナンセドン（コスカシバ）（Ｓｙｎａｎｔｈｅｄｏｎ）属、シナキシス（Ｓｙｎａｘｉｓ）属、シンコパクマ（Ｓｙｎｃｏｐａｃｍａ）属、シンデミス（Ｓｙｎｄｅｍｉｓ）属、シングラファ（Ｓｙｎｇｒａｐｈａ）属、シントメイダ（Ｓｙｎｔｈｏｍｅｉｄａ）属、タバヌス（ウシアブ）（Ｔａｂａｎｕｓ）属、テニアーキス（Ｔａｅｎｉａｒｃｈｉｓ）属、テニオトリプス（Ｔａｅｎｉｏｔｈｒｉｐｓ）属、タニア（Ｔａｎｎｉａ）属、ターソネムス（ホコリダニ）（Ｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ）属、テグリフェラ（Ｔｅｇｕｌｉｆｅｒａ）属、テハマ（Ｔｅｈａｍａ）属、テレイオデス（Ｔｅｌｅｉｏｄｅｓ）属、テロータ（Ｔｅｌｏｒｔａ）属、テネブリオ（ゴミムシダマシ）（Ｔｅｎｅｂｒｉｏ）属、テフリナ（Ｔｅｐｈｒｉｎａ）属、テラトグラエ（Ｔｅｒａｔｏｇｌａｅａ）属、テリキュラ（Ｔｅｒｒｉｃｕｌａ）属、テセア（Ｔｅｔｈｅａ）属、テトラニクス（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ）属、タルポフィラ（Ｔｈａｌｐｏｐｈｉｌａ）属、タウメトポエア（Ｔｈａｕｍｅｔｏｐｏｅａ）属、チオジア（Ｔｈｉｏｄｉａ）属、トリプス（Ｔｈｒｉｐｓ）属、トリプス・パルミ（ミナミキイロアザミウマ）（Ｔｈｒｉｐｓ ｐａｌｍｉ）、トリプス・タバシ（ネギアザミウマ）（Ｔｈｒｉｐｓ ｔａｂａｃｉ）、チリドプテリクス（Ｔｈｙｒｉｄｏｐｔｅｒｙｘ）属、チリス（Ｔｈｙｒｉｓ）属、チネオラ（コイガ）（Ｔｉｎｅｏｌａ）属、チプラ（Ｔｉｐｕｌａ）属、トートリシディア（Ｔｏｒｔｒｉｃｉｄｉａ）属、トートリックス（ウスアミメキハマキ）（Ｔｏｒｔｒｉｘ）属、トラケア（Ｔｒａｃｈｅａ）属、トリアレウロデス（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ）属、トリアレウローデス・バポラリオラム（オンシツコナジラミ）（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）、トリアトーマ（オオサシガメ）（Ｔｒｉａｔｏｍａ）属、トリアキソメラ（Ｔｒｉａｘｏｍｅｒａ）属、トリボリウム（コクヌストモドキ）（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ）属、トリコデクテス（Ｔｒｉｃｏｄｅｃｔｅｓ）属、トリコプルシア（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ）属、トリコプルシア・ニー（イラクサギンウワバ）（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ ｎｉ）、トリコプチラス（Ｔｒｉｃｈｏｐｔｉｌｕｓ）属、トリオザ（Ｔｒｉｏｚａ）属、トリオーザ・エリトレア（Ｔｒｉｏｚａ ｅｒｙｔｒｅａｅ）、トリフェニア（Ｔｒｉｐｈａｅｎｉａ）属、トリフォサ（Ｔｒｉｐｈｏｓａ）属、トロゴダマ（マダラカツオブシムシ）（Ｔｒｏｇｏｄｅｒｍａ）属、チリア（Ｔｙｒｉａ）属、ウデア（Ｕｄｅａ）属、ウナスピス（ヤノネカイガラムシ）（Ｕｎａｓｐｉｓ）属、ウナスピス・シトリ（Ｕｎａｓｐｉｓ ｃｉｔｒｉ）、ウテテイサ（Ｕｔｅｔｈｅｉｓａ）属、バレリオデス（Ｖａｌｅｒｉｏｄｅｓ）属、ウェスパ（Ｖｅｓｐａ）属、ウェスパミマ（Ｖｅｓｐａｍｉｍａ）属、ウィタセア（Ｖｉｔａｃｅａ）属、ウィチュラ（Ｖｉｔｕｌａ）属、ウィトレシア（Ｗｉｔｌｅｓｉａ）属、キサンチア（Ｘａｎｔｈｉａ）属、キサントロー（Ｘａｎｔｈｏｒｈｏｅ）属、キサントタイプ（Ｘａｎｔｈｏｔｙｐｅ）属、キセノミクタ（Ｘｅｎｏｍｉｃｔａ）属、キセノプシラ（ネズミノミ）（Ｘｅｎｏｐｓｙｌｌａ）属、キセノプシラ・ケオプシス（ケオプスネズミノミ）（Ｘｅｎｏｐｓｙｌｌａ ｃｈｅｏｐｓｉｓ）、クセスチア（Ｘｅｓｔｉａ）属、キシレナ（Ｘｙｌｅｎａ）属、キシロミジェス（Ｘｙｌｏｍｙｇｅｓ）属、キシロサリス（Ｘｙｒｏｓａｒｉｓ）属、イポノモイタ（スガ）（Ｙｐｏｎｏｍｅｕｔａ）属、イプソロファ（Ｙｐｓｏｌｏｐｈａ）属、ザール（Ｚａｌｅ）属、ザンクロナタス（Ｚａｎｃｌｏｇｎａｔｈｕｓ）属、ツァイラフェラ（アミメハマキ）（Ｚｅｉｒａｐｈｅｒａ）属、ゼノドキサス（Ｚｅｎｏｄｏｘｕｓ）属、ゾイゼラ（ゴマフボクトウ）（Ｚｅｕｚｅｒａ）属、ザイガエナ（Ｚｙｇａｅｎａ）属。
また、本発明の化合物を用いて線虫綱の害虫を制御することも可能である。このような害虫としては、例えば、根瘤線虫、シスト形成線虫、ならびに、茎線虫および葉線虫；特にヘテロデラ（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ）属のもの、例えばヘテロデラ・シャクチイ（テンサイシストセンチュウ）（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ ｓｃｈａｃｈｔｉｉ）、ヘテロデラ・アベナエ（ムギシストセンチュウ）（Ｈｅｔｅｒｏｄｏｒａ ａｖｅｎａｅ）およびヘテロデラ・トリフォリイ（クローバシストセンチュウ）（Ｈｅｔｅｒｏｄｏｒａ ｔｒｉｆｏｌｉｉ）；グロボデラ（Ｇｌｏｂｏｄｅｒａ）属のもの、例えばグロボデラ・ロストチエンシス（ジャガイモシストセンチュウ）（Ｇｌｏｂｏｄｅｒａ ｒｏｓｔｏｃｈｉｅｎｓｉｓ）；メロイドギネ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ）属のもの、例えばメロイドギネ・インコグニータ（サツマイモノコブセンチュウ）（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｉｎｃｏｇｎｉｔａ）およびメロイドジャイネ・ジャワニカ（ジャワネコブセンチュウ）（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｊａｖａｎｉｃａ）；ラドフォラス（ネモグリセンチュウ）（Ｒａｄｏｐｈｏｌｕｓ）属のもの、例えばラドフォラス・シミリス（バナナネモグリセンチュウ）（Ｒａｄｏｐｈｏｌｕｓ ｓｉｍｉｌｉｓ）；プラティレンクス（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ）属のもの、例えばプラティレンクス・ネグレクタンス（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ ｎｅｇｌｅｃｔａｎｓ）及びプラティレンクス・ペネトランス（キタネグサレセンチュウ）（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ ｐｅｎｅｔｒａｎｓ）；ティレンクス（Ｔｙｌｅｎｃｈｕｌｕｓ）属のもの、例えばティレンクス・セミペネトランス（ミカンネセンチュウ）（Ｔｙｌｅｎｃｈｕｌｕｓ ｓｅｍｉｐｅｎｅｔｒａｎｓ）；ロンギドルス（Ｌｏｎｇｉｄｏｒｕｓ）、トリコドルス（Ｔｒｉｃｈｏｄｏｒｕｓ）、ジフィネマ（Ｘｉｐｈｉｎｅｍａ）、ディチレンクス（Ｄｉｔｙｌｅｎｃｈｕｓ）、アフィーンコイデス（Ａｐｈｅｅｎｃｈｏｉｄｅｓ）およびアングイナ（Ａｎｇｕｉｎａ）種のもの；特にメロイドジャイネ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ）種のもの、例えばメロイドギネ・インコグニータ（サツマイモネコブセンチュウ）（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｉｎｃｏｇｎｉｔａ）、およびヘテロデラ（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ）属のもの、例えばヘテロデラ・グリシンス（ダイズシストセンチュウ）（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ ｇｌｙｃｉｎｅｓ）が挙げられる。
本発明の特に重要な態様は、式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物の、寄生性の摂食害虫からの植物の保護における使用である。
式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物および前記化合物を含む組成物の動物害虫に対する作用は、他の殺虫剤、ダニ駆除剤または線虫駆除剤を付加することによって、有意に広がり、また所与の環境に合わせることができる。適した添加剤としては、例えば、次のクラスの有効成分：有機リン化合物、ニトロフェノールおよび誘導体、ホルムアミジン、尿素、カルバミン酸塩、ピレトロイド、塩素化炭化水素、ネオニコチノイドおよびバチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）調製物に代表されるものが挙げられる。
特に適した混合パートナーの例としては、アザメチホス；クロルフェンビンホス；シペルメトリン、シペルメトリン高シス；シロマジン；ジアフェンチウロン；ダイアジノン；ジクロルボス；ジクロトホス；ジシクラニル；フェノキシカルブ；フルアズロン；フラチオカルブ；イサゾフォス；ヨードフェンフォス；キノプレン；ルフェヌロン；メタクリフォス；メチダチオン；モノクロトフォス；フォスファミドン；プロフェノフォス；ジオフェノラン；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）株ＧＣ９１又は株ＮＣＴＣ１１８２１から得られる化合物；ピメトロジン；ブロモプロピレート；メトプレン；ジスルホトン；キナルフォス；タウフルバリネート；チオシクラム；チオメトン；アルジカルブ；アジンホスメチル；ベンフラカルブ；ビフェントリン；ブプロフェジン；カルボフラン；ジブチルアミノチオ；カルタップ；クロルフルアズロン；クロルピリフォス；シフルトリン；ラムダシハロトリン；アルファシペルメトリン；ゼータシペルメトリン；デルタメトリン；ジフルベンズロン；エンドスルファン；エチオフェンカルブ；フェニトロチオン；フェノブカルブ；フェナバレレート；フォルモチオン；メチオカルブ；ヘプテノフォス；イミダクロプリド；チアメトキサム；クロチアニジン；イソプロカルブ；メタミドフォス；メトミル；メビンフォス；パラチオン；パラチオン−メチル；フォサロン；ピリミカルブ；プロポキスル；テフルベンズロン；テルブフォス；トリアザメート；フェノブカルブ；テブフェノジド；フィプロニル；ベータシフルトリン；シラフルオフェン；フェンピロキシメート；ピリダベン；フェナザキン；ピリプロキシフェン；ピリミジフェン；ニテンピラム；アセタミプリド；アバメクチン；エマメクチン；エマメクチン−ベンゾエート；スピノサド；昆虫に対して活性な植物抽出物；線虫を含み、かつ昆虫に対して活性な調製物；バチルス・サブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｌｉｓ）から得られる調製物；真菌を含み、かつ昆虫に対して活性な調製物；ウイルスを含み、かつ昆虫に対して活性な調製物；クロルフェナピル；アセフェート；アクリナトリン；アラニカルブ；アルファメトリン；アミトラズ；ＡＺ６０５４１；アジンホスＡ；アジンホスＭ；アザシクロチン；ベンジオカルブ；ベンスルタップ；ベータシフルトリン；ＢＰＭＣ；ブロフェンプロクス；ブロモフォスＡ；ブフェンカルブ；ブトカルボキシン；ブチルピリダベン；カズサホス；カルバリル；カルボフェノチオン；クロエトカルブ；クロルエトキシフォス；クロルメフォス；シス−レスメトリン；クロサイトリン（ｃｌｏｃｙｔｈｒｉｎ）；クロフェンテジン；シアノフォス；シクロプロトリン；シヘキサチン；デメトンＭ；デメトンＳ；デメトン−Ｓ−メチル；ジクロフェンチオン；ジクリフォス；ジエチオン；ジメトエート；ジメチルビンフォス；ジオキサチオン；エディフェンホス；エスフェンバレレート；エチオン；エトフェンプロクス；エトプロフォス；エトリムフォス；フェナミフォス；フェンブタチンオキシド；フェノチオカルブ；フェンプロパトリン；フェンピラド；フェンチオン；フルアジアナム；フルシクロクスロン；フルシトリネート；フルフェノクスロン；フルフェノプロクス；フォノフォス；フォスチアゼート；フブフェンプロクス（ｆｕｂｆｅｎｐｒｏｘ）；ＨＣＨ；ヘキサフルムロン；ヘキシチアゾクス；ＩＫＩ−２２０；イプロベンフォス；イソフェンフォス；イソキサチオン；イベルメクチン；マラチオン；メカルバム；メスルフェンフォス；メタアルデヒド；メトルカルブ；ミルベメクチン；モキシデクチン；ナレド；ＮＣ１８４；オメトエート；オキサミル；オキシデメトンＭ；オキシデプロフォス；ペルメトリン；フェントエート；フォレート；フォスメット；フォキシム；ピリミフォスＭ；ピリミフォスＥ；プロメカルブ；プロパフォス；プロチオフォス；プロトエート；ピラクロフォス；ピラダフェンチオン；ピレスメトリン（ｐｙｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）；ピレトラム；テブフェノジド；サリチオン；セブフォス；スルホテップ；スルプロフォス；テブフェンピラド；テブピリムフォス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｐｈｏｓ）；テフルトリン；テメフォス；テルバム；テトラクロルビンフォス；チアクロプリド；チアフェノックス；チオジカルブ；チオファノックス；チオナジン；スリンジエンシン（ｔｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｎ）；トラロメトリン；トリアルテン（ｔｒｉａｒｔｈｅｎｅ）；トリアゾフォス；トリアズロン；トリクロルフォン；トリフルムロン；トリメタカルブ；バミドチオン；キシリカルブ；ＹＩ５３０１／５３０２；ゼータメトリン（ｚｅｔａｍｅｔｈｒｉｎ）；ＤＰＸ−ＭＰ０６２−インドキサカルブ；メトキシフェノジド；ビフェナゼート；ＸＭＣ（３，５−キシリルメチルカルバメート）；または真菌病原体メタリジウム・アニソプリエ（Ｍｅｔａｒｈｉｚｉｕｍ ａｎｉｓｏｐｌｉａｅ）が挙げられる。
式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物は、植物、特に農業、園芸および林業において有用な植物および観賞植物、またはこのような植物の部分、例えば果実、花、葉、茎、塊茎または根に発生する前述の種類の害虫を制御する、すなわち抑制または駆除するために用いることができる。しかし一方、場合によって、後に成長する植物の部分はこれらの害虫から依然保護される。
標的作物としては、特に穀類、例えば小麦、大麦、ライ麦、オート麦、イネ、トウモロコシおよびソルガム；ビート、例えばテンサイおよび飼料用ビート；果実、例えば、梨状果、石果および柔らかい果実、例えばリンゴ、洋ナシ、プラム、桃、アーモンド、チェリーおよびベリー類、例えば、イチゴ、ラズベリーおよびブラックベリー；マメ科植物、例えばマメ、レンズマメ、エンドウマメおよびダイズ；油脂植物、例えばナタネ、カラシナ、ポピー、オリーブ、ヒマワリ、ココナッツ、ヒマシ油、ココアおよびラッカセイ；ウリ科、例えばマロー、キュウリおよびメロン；繊維植物、例えば綿、亜麻、麻およびジュート；柑橘類果実、例えばオレンジ、レモン、グレープフルーツおよびマンダリン；野菜、例えばホウレンソウ、レタス、アスパラガス、キャベツ、ニンジン、タマネギ、トマト、ジャガイモおよびパプリカ；クスノキ科、例えばアボカド、シナモンおよびカンファー；ならびにタバコ、ナッツ、コーヒー、ナス、サトウキビ、茶、コショウ、ブドウ、ホップ、バナナ、天然ゴム植物および観賞植物が挙げられる。
式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物のさらなる利用分野は、貯蔵品および貯蔵室の保護、ならびに原材料の保護、さらに、衛生部門において、特に飼育動物および生産的家畜の前述の種類の害虫からの保護、より特に飼育動物、特にネコおよびイヌの、ノミ、ダニおよび線虫による侵襲からの保護である。
従って、本発明はまた、殺虫組成物、例えば乳化性濃縮物、懸濁液濃縮物、直接噴霧可能なまたは希釈可能な溶液、塗付可能なペースト、希釈乳濁液、水和剤、溶解性粉末、分散性粉末、水和剤、粉塵、顆粒および式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の少なくとも１種類の化合物を含むポリマー物質のカプセル封入に関し、製剤形態の選択は、意図する目的および一般的環境に従ってなされる。さらに、殺虫組成物は多くの場合希釈され、また所望により他の殺虫組成物と使用前に混合して殺虫剤として用いられる。従って、本発明はまた、殺虫組成物および液体担体（一般的に水）、および所望により１種類以上の他の殺虫組成物（他の各殺虫組成物は活性化合物としてさらなる殺虫剤を含む）を含む、槽混合組成物（組成物が懸濁液の場合にはスラリーと呼ばれることもある）に関する。
有効成分は、純粋な形態で、固体の有効成分として、例えば特定の粒度で、あるいは、好ましくは製剤技術において常習的な少なくとも１種類の補助剤（アジュバントとしても公知）、例えば増量剤、例えば溶媒もしくは固体担体、または表面活性化合物（界面活性剤）とともに組成物中で用いられる。ヒト、飼育動物、生産的家畜およびペットにおける寄生虫制御の分野において、生理学的に許容される添加剤のみが用いられることは自明である。
溶媒は、例えば、水素化されていないか、または部分的に水素化された芳香族炭化水素、好ましくは、アルキルベンゼンの画分Ｃ8〜Ｃ12、例えばキシレン混合物、アルキル化ナフタレンまたはテトラヒドロナフタレン、脂肪族もしくはシクロ脂肪族炭化水素、例えばパラフィンまたはシクロヘキサン、アルコール類、例えばエタノール、プロパノールまたはブタノール、グリコール類およびエーテル類およびそのエステル類、例えばプロピレングリコール、ジプロピレングリコールエーテル、エチレングリコールまたはエチレングリコールモノメチルエーテルもしくはエチレングリコールモノエチルエーテル、ケトン類、例えばシクロヘキサノン、イソホロンまたはジアセトンアルコール、極性の強い溶媒、例えばＮ−メチルピロリド−２−オン、ジメチルスルホキシドまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水、非エポキシ化またはエポキシ化植物油、例えば非エポキシ化またはエポキシ化ナタネ油、ヒマシ油、ココナッツ油もしくはダイズ油、およびシリコーン油である。
例えば粉塵および分散性粉末に用いる固体担体は、概して、天然の岩石粉末、例えば方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまたはアタパルジャイトである。また、高分散性ケイ酸または高分散性吸収ポリマーを添加して物理特性を改善することもできる。顆粒状の吸着顆粒担体は多孔質型、例えば軽石、破砕レンガ、海泡石またはベントナイトであり、吸着担体でない物質は方解石または砂である。多数の無機性または有機性の顆粒状物質、特にドロマイトまたは粉砕された植物残渣がさらに使用できる。
表面活性化合物は、処方される活性化合物の性質に応じて、優れた乳化、分散および湿潤特性を有する非イオン性、陽イオン性および／または陰イオン性界面活性剤あるいは界面活性剤混合物である。下記に列挙される界面活性剤は、単なる例と見なされる、つまり、製剤技術において慣用的な他の多くの界面活性剤が適しており、それらは関連文献に説明されている。
非イオン性界面活性剤は、特に、（脂肪族）炭化水素ラジカル中に３〜３０個のグリコールエーテル基および８〜２０個の炭素原子を含み得、アルキルフェノールのアルキルラジカル中に６〜１８個の炭素原子を含み得る、脂肪族またはシクロ脂肪族アルコール、飽和もしくは不飽和脂肪酸およびアルキルフェノールのポリグリコールエーテル誘導体である。さらに適した物質は、水溶性ポリエチレンオキシド付加物であり、アルキル鎖中に１〜１０個の炭素原子を有するプロピレングリコール、エチレンジアミノポリプロピレングリコールおよびアルキルポリプロピレングリコールに、２０〜２５０個のエチレングリコールエーテル基および１０〜１００個のプロピレングリコールエーテル基を含む。前記化合物は通常、１プロピレングリコール単位につき１〜５個のエチレングリコール単位を含む。例としては、ノニルフェノール−ポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコールエーテル、ポリプロピレン−ポリエチレンオキシド付加物、トリブチルフェノキシポリ−エトキシエタノール、ポリエチレングリコールおよびオクチルフェノキシポリエトキシエタノールがある。その他の物質は、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸エステル、例えばポリオキシエチレンソルビタントリオレエートである。
陽イオン性界面活性剤は、特に、置換基として、８〜２２個の炭素原子を有する少なくとも１種類のアルキルラジカル、および、さらなる置換基として、低級の非ハロゲン化またはハロゲン化アルキル、ベンジルまたは低級ヒドロキシアルキルラジカルを含む、第四級アンモニウム塩である。この塩は、ハロゲン化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態であることが好ましい。例としては、塩化ステアリル−トリメチル−アンモニウムおよび臭化ベンジル−ジ−（２−クロロエチル）−エチル−アンモニウムがある。
適した陰イオン性界面活性剤は、水溶性石鹸と、水溶性合成表面活性化合物の両方であり得る。適した石鹸は、高級脂肪酸（Ｃ10−Ｃ22）のアルカリ金属、アルカリ土類金属および置換または非置換のアンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステアリン酸のナトリウムもしくはカリウム塩、あるいは、例えば、ココナッツ油またはトール油から得られる天然に存在する脂肪酸混合物のナトリウムもしくはカリウム塩；またさらに、脂肪酸メチル−タウリン塩である。しかし、合成界面活性剤、特に脂肪スルホン酸塩、脂肪硫酸塩、スルホン化ベンゾイミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホン酸塩は、より高い頻度で用いられる。脂肪スルホン酸塩および脂肪硫酸塩は、概して、アルカリ金属、アルカリ土類金属あるいは置換または非置換のアンモニウム塩の形態であり、一般に、８〜２２個の炭素原子のアルキルラジカルを有し、アルキルはアシルラジカルのアルキル部分も含む；例としては、リグニンスルホン酸のナトリウムもしくはカルシウム塩、ドデシル硫酸エステルのナトリウムもしくはカルシウム塩または天然に存在する脂肪酸から調製された脂肪アルコール硫酸塩混合物のナトリウムもしくはカルシウム塩である。また、これらの塩には、脂肪アルコール−エチレンオキシド付加物の硫酸エステルおよびスルホン酸の塩が含まれる。スルホン化ベンゾイミダゾール誘導体は、２個のスルホン酸基および約８〜２２個の炭素原子を有する１個の脂肪酸ラジカルを含むことが好ましい。アルキルアリールスルホン酸は、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸またはナフタレンスルホン酸−ホルムアルデヒド縮合生成物の、ナトリウム、カルシウムまたはトリエタノールアンモニウム塩である。対応するリン酸塩、例えばｐ−ノニルフェノール−（４−１４）−エチレンオキシド付加物またはリン脂質のリン酸エステルの塩もさらに使用され得る。
組成物は、概して０．１〜９９％、特に０．１〜９５％の活性化合物、および１〜９９．９％、特に５〜９９．９％の少なくとも１種類の固体もしくは液体の補助剤を含み、概して組成物の０〜２５％、特に０．１〜２０％が界面活性剤であり得る（％は、いずれの場合も重量パーセントである）。濃縮組成物は、市販の製品としてより好ましいが、エンドユーザーは、概してかなり低い濃度の活性化合物を含む希釈組成物を用いる。好ましい組成物は、特に以下のように構成される（％＝重量パーセント）。
乳化性濃縮物：
有効成分：１〜９０％、好ましくは５〜２０％
界面活性剤：１〜３０％、好ましくは１０〜２０％
溶媒：残り
粉塵：
有効成分：０．１〜１０％、好ましくは０．１〜１％
固体担体：９９．９〜９０％、好ましくは９９．９〜９９％
懸濁液濃縮物：
有効成分：５〜７５％、好ましくは１０〜５０％
界面活性剤：１〜４０％、好ましくは２〜３０％
水：残り
水和剤：
有効成分：０．５〜９０％、好ましくは１〜８０％
界面活性剤：０．５〜２０％、好ましくは１〜１５％
固体担体：残り
顆粒：
有効成分：０．５〜３０％、好ましくは３〜１５％
固体担体：９９．５〜７０％、好ましくは９７〜８５％
作物保護に用いられる特定の処方例を以下に示す（％＝重量パーセント）。
実施例Ｆ１：乳化性濃縮物
Figure 0005007428
 微粉砕活性化合物と添加剤を混合することにより乳濁液濃縮物が得られ、これを水で希釈すると所望の濃度の乳濁液が得られる。
実施例Ｆ２：溶液
Figure 0005007428
 微粉砕活性化合物と添加剤を混合することにより微小液滴の形態での使用に適した溶液が得られる。
実施例Ｆ３：顆粒
Figure 0005007428
 活性化合物をジクロロメタンに溶かし、溶液を担体の混合物上に噴霧し、溶媒を減圧下で蒸発させる。
実施例Ｆ４：水和剤
Figure 0005007428
 活性化合物と添加剤を混合し、混合物を適したミルで粉砕する。これにより、水に希釈すると所望の濃度の懸濁液が得られる水和剤が得られる。
実施例Ｆ５：乳化性濃縮物
Figure 0005007428
 微粉砕活性化合物と添加剤を混合することにより乳濁液濃縮物が得られ、これを水で希釈すると所望の濃度の乳濁液が得られる。
実施例Ｆ６：押出成形顆粒
Figure 0005007428
 活性化合物と添加剤を混合し、混合物を粉砕し、水で湿らせ、押出して粒状にし、その顆粒を空気流中で乾燥させる。
実施例Ｆ７：被覆顆粒
Figure 0005007428
 ミキサー中で、微粉砕活性化合物をポリエチレングリコールで湿らせておいたカオリンに均一に塗付する。これにより無塵被覆顆粒が得られる。
実施例Ｆ８：懸濁液濃縮物
Figure 0005007428
 微粉砕活性化合物と添加剤を混合することにより懸濁液濃縮物が得られ、これを水で希釈すると所望の濃度の懸濁液が得られる。
また、本発明の組成物は、さらなる固体もしくは液体のアジュバント、例えば安定剤、例えば、植物油またはエポキシ化植物油（例えば、エポキシ化ココナッツ油、ナタネ油またはダイズ油）、消泡剤、例えばシリコーン油、防腐剤、粘度調節剤、結合剤および／または粘着付与剤ならびに肥料または特別の効果を得るための他の有効成分、例えば、ダニ駆除剤、殺菌剤、殺真菌剤、線虫駆除剤、軟体動物駆除剤または選択的除草剤を含んでよい。
特に作物保護製品としての使用のための、本発明の殺虫組成物は、アジュバントの不在下で、例えば、式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物（有効成分として）またはその混合物を、粉砕し、篩にかけ、かつ／または例えば特定の粒子サイズへ圧縮することにより、また、少なくとも１種類のアジュバントの存在下、例えば、式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物（有効成分として）またはその混合物を、アジュバント（１または複数種類）と密に混合および／または粉砕することにより調製される。同様に本発明は、本発明の殺虫組成物の調製のための方法、および組成物の調製における式（Ｉ）、または式（ＩＩ）の化合物の使用に関する。
また、本発明は、殺虫組成物および槽混合組成物の適用方法、すなわち前述の種類の害虫を制御する方法、例えば意図する目的および一般的な環境に従って選択される、噴霧、霧化、ダスティング、コーティング、ドレッシング、散布または注入、ならびに、前述の種類の害虫を制御するための組成物の使用に関する。一般的な有効成分の濃度の比率は０．１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは０．１〜５００ｐｐｍである。１ヘクタールあたりの適用比率は一般に１〜２０００ｇの有効成分／ヘクタール、特に１０〜１０００ｇ／ｈａ、好ましくは２０〜６００ｇ／ｈａ、最も好ましくは２０〜１００ｇ／ｈａである。
作物保護の分野において好ましい適用方法は、植物の葉への適用（葉面散布）であり、この適用頻度および適用比率は当該の害虫による侵襲のリスクによって決まる。しかし、植物の場所が液体製剤に含浸されるかまたは有効成分が固体の形態で植物の場所、例えば土壌に例えば顆粒形態で組み込まれる場合（土壌施用）、有効成分は、根から植物に浸み込むこともできる（全体作用）。水田の稲作物の場合、このような顆粒剤を測定された量で水田へ適用すればよい。
また、殺虫組成物および槽混合組成物は、植物繁殖材料、例えば、種子、例えば果実、塊茎または穀粒、あるいは植物の裁断片を、動物害虫から保護することに適している。繁殖材料は、根付前に組成物で処理する、つまり、例えば種子を蒔く前にドレッシングすることができる。また、本発明の有効成分は、種子を液体製剤中に含浸させるかまたは種子を固体製剤でコーティングするかのいずれかによって、穀物にも適用できる（コーティング）。また、組成物は、繁殖材料が、例えば種蒔中に種子畝へ植えつけられる場合、その植え付け場所へ適用することもできる。本発明は、植物繁殖材料を処理するこのような方法およびこのようにして処理された植物繁殖材料にも関する。
調製実施例：
ほとんどの場合、化合物はアベルメクチン誘導体Ｂ１ａとＢ１ｂの混合物として存在するので、融点または屈折率などの常習的な物理的データによる特性決定は適用されない。このため、陽イオンモードでのエレクトロスプレーイオン化法を用いるＬＣ／ＭＳ分析（液体クロマトグラフィー／質量分析）の間に決定されるそれらのＨＰＬＣ保持時間によって化合物を特性決定する。ここで、用語Ｂ１ａとは、Ｒ1がｓｅｃ−ブチルであり、含量が通常８０％を上回る主構成成分をさす。Ｂ１ｂは、Ｒ1がイソプロピルである副構成成分を表す。Ｂ１ａとＢ１ｂ誘導体の双方に２つの保持時間が示されている化合物は、クロマトグラフによって分離することのできるジアステレオマーの混合物である。保持時間がＢ１ａのカラムにのみ、またはＢ１ｂのカラムにのみ示されている化合物の場合、純粋なＢ１ａまたはＢ１ｂ成分は、それぞれワークアップ中に得られる。Ｂ１ａおよびＢ１ｂ構成成分の分子量は、質量分析により確認される。
以下の方法をクロマトグラフ分離に用いる。
方法Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ１１００）
Figure 0005007428
方法Ｂ（Ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ１１００）
Figure 0005007428
方法Ｃ（Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２６９０）
Figure 0005007428
方法Ｄ（Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２６９０、ＨＰ１１００）
Figure 0005007428
方法Ｅ（Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２６９０）
Figure 0005007428
方法Ｆ（Ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ１１００）
Figure 0005007428
化合物のクロマトグラフィーに用いたＹＭＣ−Ｐａｃｋ ＯＤＳ−ＡＱカラムは、ＹＭＣ、Ａｌｔｅ Ｒａｅｓｆｅｌｄｅｒｓｔｒａｓｓｅ ６、４６５１４ Ｓｃｈｅｒｍｂｅｃｋ、Ｇｅｒｍａｎｙ製である。Ｚｏｒｂａｘ Ｂｏｎｕｓ−ＲＰカラムは、Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ、ＣＨ−４０５２ Ｂａｓｅｌ、Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ製である。
以下の実施例において、溶出剤の混合比は容積／容積で示され、温度は℃で示される。ＴＢＤＭＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルを意味し、ＴＩＰＳはトリ−イソ−プロピルシリルを意味し、ＴＭＳはトリメチルシリルを意味する。
実施例１：１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコン（表Ｐ１．１）
段階Ａ：５−ＯＴＢＤＭＳ−７−ＯＴＭＳ−アベルメクチンＢ1アグリコン１ｇ、１−Ｓ−フェニル−２，３，４−トリ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシド５４２ｍｇおよび砕いたモレキュラーシーブス（４Å）１ｇの１５ｍｌ無水ジクロロメタン溶液を、アルゴン雰囲気下、室温にて２時間攪拌する。混合物を−３０℃まで冷却し、Ｎ−ヨード−スクシンイミド５８３ｍｇおよびトリフルオロスルホン酸１１．３μｌを添加し、混合物を−３０℃にて５時間攪拌する。反応混合物を、ヒューニッヒ塩基６５μｌの添加によりクエンチし、ジクロロメタン２０ｍｌで希釈する。ジクロロメタン溶液を濾過し、チオ硫酸ナトリウムの飽和水溶液、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液、および水で洗浄する。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコンおよび５−ＯＴＢＤＭＳ−１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコンが得られる。
段階Ｂ：５−ＯＴＢＤＭＳ−１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコン４５ｍｇのテトラヒドロフラン１．２５ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．２５ｍｌを添加する。混合物を室温にて１９時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。次に相を分離し、水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、１３−Ｏ−（２，３，４−トリ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコンを得る。
実施例２：１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコン（表Ｐ２．１）
５−ＯＴＢＤＭＳ−１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコン（実施例１の段階Ａの生成物）２４ｍｇのテトラヒドロフラン０．６５ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．１３ｍｌを添加する。混合物を室温にて２０時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に相を分離し、水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、１３−Ｏ−（２’，３’，４’−トリ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1アグリコンを得る。
実施例３：４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ３．１）
段階Ａ：５−ＯＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ１単糖５．８９ｇ、１−Ｓ−フェニル−４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２，３−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシド２．８３ｇおよび砕いたモレキュラーシーブス（４Å）１０ｇの無水ジクロロメタン１００ｍｌ溶液を、アルゴン雰囲気下、室温にて１時間攪拌する。混合物を−４０℃まで冷却し、Ｎ−ヨード−スクシンイミド３．１４ｇおよびトリフルオロスルホン酸０．１３ｍｌを添加し、混合物を３０℃にて５時間攪拌する。反応混合物を−１０℃まで温まらせ、１時間攪拌した後にヒューニッヒ塩基１．５４ｍｌの添加によりクエンチし、ジクロロメタン１００ｍｌで希釈する。ジクロロメタン溶液を濾過し、チオ硫酸ナトリウムの飽和水溶液、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液、およびブラインで洗浄する。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖および５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖が得られる。
段階Ｂ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖１．５９ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、トリフェニルホスフィン１５５ｍｇ、ギ酸０．２９ｍｌ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２３２ｍｇを添加し、混合物を室温にて２１時間攪拌する。混合物を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、相を分離し、水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖が得られる。
段階Ｃ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖６５ｍｇのテトラヒドロフラン２ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．３４ｍｌを添加する。混合物を室温にて２４時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖を得る。
実施例４：４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ４．１）
段階Ａ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖（実施例３の段階Ａの生成物）１８４ｍｇのテトラヒドロフラン１６ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、トリフェニルホスフィン１７．４ｍｇ、ギ酸３２μｌおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２６．２ｍｇを添加し、混合物を室温にて１９時間攪拌する。混合物を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、相を分離し、水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖が得られる。
段階Ｂ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖６１ｍｇのテトラヒドロフラン２ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．３２ｍｌを添加する。混合物を室温にて１６時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖を得る。
実施例５：４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ３．６）
段階Ａ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖（実施例３の段階Ｂの生成物）１００ｍｇのジクロロメタン２．７ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、クロロメチルエーテル２３μｌおよびヒューニッヒ塩基２０７μｌを添加し、混合物を３５℃にて２０時間攪拌する。次に、クロロメチルエーテル１４μｌおよびヒューニッヒ塩基１２３μｌを添加し、混合物を３５℃にてさらに５時間攪拌する。混合物を氷水に注入し、ジクロロメタンで３回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖が得られる。
段階Ｂ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル−アベルメクチンＢ１単糖８０ｍｇのテトラヒドロフラン２．５ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．４０ｍｌを添加する。混合物を室温にて１８時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖を得る。
実施例６：４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ４．６）
段階Ａ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖（実施例４の段階Ａの生成物）１００ｍｇのジクロロメタン２．７ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、クロロメチルエーテル１１μｌおよびヒューニッヒ塩基１０３μｌを添加し、混合物を３５℃にて１５時間攪拌する。次に、クロロメチルエーテル１１μｌおよびヒューニッヒ塩基１０３μｌを添加し、混合物を３５℃にてさらに５時間攪拌する。混合物を氷水に注入し、ジクロロメタンで３回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖が得られる。
段階Ｂ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖７８ｍｇのテトラヒドロフラン２．５ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．３９ｍｌを添加する。混合物を室温にて１８時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、４’−Ｏ−（４”−Ｏ−メトキシメチル−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−ラムノピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖を得る。
実施例７：４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ９．４）
段階Ａ：５−ＯＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ１単糖１．６１ｇ、１−Ｓ−フェニル−４，６−ジデオキシ−４−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２，３−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシド８０１ｍｇおよび砕いたモレキュラーシーブス（４Å）２ｇの無水ジクロロメタン３５ｍｌ溶液を、アルゴン雰囲気下、室温にて１時間攪拌する。混合物を−４０℃まで冷却し、Ｎ−ヨード−スクシンイミド８６０ｍｇおよびトリフルオロスルホン酸３６μｌを添加する。反応混合物を−１０℃まで温まらせ、５時間攪拌した後ヒューニッヒ塩基０．４２ｍｌの添加によりクエンチし、ジクロロメタン５０ｍｌで希釈する。ジクロロメタン溶液を濾過し、チオ硫酸ナトリウムの飽和水溶液、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液、およびブラインで洗浄する。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖および５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖が得られる。
段階Ｂ：５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖５８ｍｇのテトラヒドロフラン２ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液０．３４ｍｌを添加する。混合物を室温にて２４時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖を得る。
実施例８：４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−メチルアミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ９．２）
４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖（実施例７の段階Ｂの生成物）５８ｍｇのテトラヒドロフラン７ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、３回に分けて各回トリフェニルホスフィン６．７ｍｇ、ギ酸１２μｌ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１０ｍｇを添加し、混合物を室温にて６９時間攪拌する。混合物を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、相を分離し、水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−メチルアミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−β−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖が得られる。
実施例９：４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ１０．８）
５−ＯＴＢＤＭＳ−４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖（実施例７の段階Ａの生成物）２４０ｍｇのテトラヒドロフラン７．５ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、室温にて、７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液１．１５ｍｌを添加する。混合物を室温にて１８時間攪拌する。次にＨＦ−ピリジン保存溶液０．２３ｍｌを添加し、混合物を室温にてさらに３時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製し、４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖を得る。
実施例１０：４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−メチルアミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖（表Ｐ１０．２）
４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−アリルオキシカルボニル（メチル）アミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ１単糖（実施例９の生成物）２３２ｍｇのテトラヒドロフラン２６ｍｌ溶液に、アルゴン雰囲気下、３回に分けて各回トリフェニルホスフィン２６．８ｍｇ、ギ酸５０μｌ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム４０．４ｍｇを添加し、混合物を室温にて６６時間攪拌する。混合物を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、相を分離し、水相を酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣をヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると４’−Ｏ−（４”，６”−ジデオキシ−４”−メチルアミノ−２”，３”−ジ−Ｏ−メチル−α−Ｌ−タロピラノシル）−アベルメクチンＢ1単糖が得られる。
実施例１１：２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−アベルメクチンＢ1−（表Ｐ１３．１）
段階Ａ：４”−オキソ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1４００ｍｇのトルエン２．６ｍｌ溶液に、エチルジイソプロピルアミン４２０μｌおよびトリフルオロメタンスルホン酸トリイソプロピルシリル５００μｌを添加する。反応混合物を８０℃にて３日間攪拌した後、室温まで放冷し、１Ｎクエン酸水溶液、続いて１Ｎ重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させた。残渣を、酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルでのフラッシュクロマトグラフィーにより精製すると純粋な４”−Ｏ−ＴＩＰＳ−３”，４”−デヒドロ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1が得られる。あるいは、粗生成物をクロマトグラフによる精製を行わずに段階Ｂに使用してもよい。
段階Ｂ：段階Ａで得た４”−Ｏ−ＴＩＰＳ−３”，４”−デヒドロ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1を含有する粗生成物を、酢酸エチル３ｍｌおよび１Ｎ重炭酸ナトリウム水溶液３ｍｌの混合物に溶かす。３−クロロ−過安息香酸１００ｍｇを添加し、混合物を室温にて２日間攪拌する。次に、相を分離し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させる。酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーによる精製により４”−オキソ−２”，３”−デヒドロ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1が得られる。
段階Ｃ：臭化銅（Ｉ）ジメチルスルフィド錯体８３ｍｇの無水エーテル３ｍｌ中の懸濁液に、メチルリチウムの１．６Ｍエーテル溶液５００μｌを室温にて添加する。５分後、４”−オキソ−２”，３”−デヒドロ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1２００ｍｇのエーテル２ｍｌ溶液を添加する。３０分後、反応混合物を、２Ｍ水酸化アンモニウムを添加してｐＨを８に調節しておいた２Ｍ塩化アンモニウム水溶液に注ぐ。相を分離し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させる。酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーによる精製により２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−オキソ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1が得られる。
段階Ｄ：２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−オキソ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1３００ｍｇを、エタノール１０ｍｌに溶かし、水素化ホウ素ナトリウム３４ｍｇを添加する。混合物を室温にて９０分間攪拌する。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加し、混合物を酢酸エチルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させる。残渣を精製すると純粋な２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1が得られる。あるいは、粗生成物をクロマトグラフによる精製を行わずに段階Ｅに使用してもよい。
段階Ｅ：段階Ｄで得た２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1を含有する粗生成物を、テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶かす。７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液３ｍｌを添加する。混合物を室温にて２４時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣を酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−アベルメクチンＢ1（表Ｐ１３．１）が得られる。
実施例１２：２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−デスオキシ−４”−（Ｓ）−メチルアミノ−アベルメクチンＢ1（表Ｐ１３．４）
２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−オキソ−５−Ｏ−ＴＢＤＭＳ−アベルメクチンＢ1（実施例１１の段階Ｃの生成物）１．２５ｇを、酢酸エチル８ｍｌに溶解する。ヘプタメチルジシラザン１ｍｌと塩化亜鉛１８０ｍｇを添加し、混合物を５０℃にて４時間攪拌する。反応混合物を０℃まで冷却した後、エタノール２ｍｌ中の水素化ホウ素ナトリウム１５０ｍｇを添加する。次に、混合物を室温まで温まらせる。４０分後、１０％酢酸水溶液４ｍｌを添加する。さらに５分間攪拌した後、混合物を酢酸エチルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させる。残渣をテトラヒドロフラン２５ｍｌに溶かす。７０％ＨＦ−ピリジン２５０ｇ、テトラヒドロフラン２７５ｍｌおよびピリジン１２５ｍｌから調製した保存溶液６．５ｍｌを添加する。混合物を室温にて２４時間攪拌し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出する。次に水相を再び酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸留除去する。残渣を酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーにより精製すると２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−デスオキシ−４”−（Ｓ）−メチルアミノ−アベルメクチンＢ1（表Ｐ１３．４）が得られる。
実施例１３：２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−デスオキシ−４”−（Ｓ）−（アセチル−メチル−アミノ）−アベルメクチンＢ1（表Ｐ１３．１２）
２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−デスオキシ−４”−（Ｓ）−メチルアミノ−アベルメクチンＢ1（実施例１２）２２５ｍｇを、酢酸エチル２．５ｍｌおよび１Ｎ重炭酸ナトリウム水溶液２．５ｍｌの混合物中に溶かす。塩化アセチル５０μｌを添加し、混合物を室温にて１６時間攪拌する。次に相を分離し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させる。酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフィーによる精製により２”−（Ｒ）−メチル−３”−エピ−４”−デスオキシ−４”−（Ｓ）−（アセチル−メチル−アミノ）−アベルメクチンＢ1（表Ｐ１３．１２）が得られる。
表Ｐ１〜Ｐ１９の他の化合物は、上記実施例に記載のとおり調製するか、当業者に公知の文献中に公開されている基本手順によって調製することができる。表Ｐ１〜Ｐ１９の保持時間の後の数字は、クロマトグラフ分離に上記のいずれの方法を用いたかを示す：１）方法Ａ、２）方法Ｂ、３）方法Ｃ、４）方法Ｄ、５）方法Ｅ、６）方法Ｆ。
表Ｐ１：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ３：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ４：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ５：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ６：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ７：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ８：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ９：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１０：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１１：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１２：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１３：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１４：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１５：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１６：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１７：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１８：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ１９：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２０：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２１：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２２：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２３：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２４：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２５：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２６：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
表Ｐ２７：式
Figure 0005007428
 の化合物
（式中、Ｒ1はｓｅｃ−ブチルまたはイソプロピルであり、また、下表の通りである）。
Figure 0005007428
生物学的実施例：
実施例Ｂ１：スポドプテラ・リットラリス（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｌｉｔｔｏｒａｌｉｓ）に対する活性
ダイズの苗木に、１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む水性乳濁スプレー液を噴霧し、スプレーした被膜が乾燥した後、スポドプテラ・リットラリスの第１期の毛虫１０匹を生息させ、プラスチック容器に導入する。３日後の個体群の減少パーセントおよび食害の減少パーセント（活性％）を、処理した植物と未処理植物とで、死んだ毛虫の数および食害を比較することによって決定する。
この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ３．３、Ｐ４．３、Ｐ７．１、Ｐ８．１、Ｐ１０．９、Ｐ１０．１０、Ｐ１２．１、Ｐ１３．２、Ｐ１３．４、Ｐ１３．６、Ｐ１３．７、Ｐ１３．９、Ｐ１３．１１、Ｐ１３．１２、Ｐ１３．１３、Ｐ１３．１４、Ｐ１３．１５、Ｐ１３．１６、およびＰ１５．３は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。
実施例Ｂ２：スポドプテラ・リットラリスに対する活性（浸透性）：
トウモロコシ苗を１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む試験溶液中に置く。６日後、葉を切り落とし、ペトリ皿中の湿った濾紙上に置き、Ｌ1期のスポドプテラ・リットラリスの幼虫１２〜１５匹を生息させる。４日後、処理した植物と未処理植物とで、死んだ毛虫の数を比較することにより個体群の減少パーセント（活性％）を決定する。
この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ２．３、Ｐ８．１、Ｐ１０．９、Ｐ１３．４、Ｐ１３．６、Ｐ１３．７、Ｐ１３．９、およびＰ１３．１６は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。
実施例Ｂ３：ヘリオチス・ウィレスケンス（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ ｖｉｒｅｓｃｅｎｓ）に対する活性
３５個の０〜２４時齢のヘリオチス・ウィレスケンスの卵を、ペトリ皿内の人工栄養の層上の濾紙の上に置く。次に、１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む０．８ｍｌの試験溶液を、濾紙上にピペッティングする。評価を６日後に行う。個体群の減少パーセント（活性％）を、処理した濾紙と未処理の濾紙とで、死んだ卵および幼虫の数を比較することにより決定する。
この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ２．２、Ｐ３．３、Ｐ３．５、Ｐ４．３、Ｐ４．５、Ｐ７．１、Ｐ８．１、Ｐ１０．９、Ｐ１０．１０、Ｐ１１．２、Ｐ１２．１、Ｐ１３．２、Ｐ１３．４、Ｐ１３．６、Ｐ１３．７、Ｐ１３．９、Ｐ１３．１１、Ｐ１３．１２、Ｐ１３．１３、Ｐ１３．１４、Ｐ１３．１５、Ｐ１３．１６、およびＰ１５．３は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。
実施例Ｂ４：プルテラ・キシロステラ（コナガ）（Ｐｌｕｔｅｌｌａ ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）の毛虫に対する活性
キャベツの苗木に１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む水性乳濁スプレー液を噴霧する。スプレーした被膜が乾燥した後、キャベツ植物にプルテラ・キシロステラの第３期の毛虫１０匹を生息させ、プラスチック容器に導入する。評価を３日後に行う。個体群の減少パーセントおよび食害の減少パーセント（活性％）を、処理した植物と未処理植物とで、死んだ毛虫の数および食害を比較することによって決定する。
この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ３．３、Ｐ３．５、Ｐ４．３、Ｐ４．５、Ｐ７．１、Ｐ８．１、Ｐ１０．９、Ｐ１０．１０、Ｐ１１．２、Ｐ１２．１、Ｐ１３．２、Ｐ１３．４、Ｐ１３．６、Ｐ１３．７、Ｐ１３．９、Ｐ１３．１１、Ｐ１３．１２、Ｐ１３．１３、Ｐ１３．１４、Ｐ１３．１５、Ｐ１３．１６、およびＰ１５．３は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。
実施例Ｂ５：フランクリニエラ・オキシデンタリス（ミカンキイロアザミウマ）（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）に対する活性
ペトリ皿中で、マメの葉の面を寒天に載せ、１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む、スプレー容器中の試験溶液を噴霧する。次に、葉にフランクリニエラ・オキシデンタリスの混合個体群を生息させる。評価を１０日後に行う。減少パーセント（活性％）を、処理した葉の個体群と未処理の葉の個体群を比較することによって決定する。
この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ２．２、Ｐ３．３、Ｐ３．５、Ｐ４．３、Ｐ４．５、Ｐ７．１、Ｐ８．１、Ｐ１０．９、Ｐ１０．１０、Ｐ１１．２、Ｐ１２．１、Ｐ１３．２、Ｐ１３．４、Ｐ１３．６、Ｐ１３．７、Ｐ１３．９、Ｐ１３．１１、Ｐ１３．１２、Ｐ１３．１３、Ｐ１３．１４、Ｐ１３．１５、Ｐ１３．１６、およびＰ１５．３は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。
実施例Ｂ６：ジアブロティカ・バレテアタ（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ ｂａｌｔｅａｔａ）に対する活性
トウモロコシ苗に、１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む水性乳濁スプレー液を噴霧し、スプレーした被膜が乾燥した後、ジアブロティカ・バレテアタの第２期の幼虫１０匹を生息させ、次にプラスチック容器に導入する。６日後、個体群の減少パーセント（活性％）を、処理した植物と未処理植物とで、死んだ幼虫を比較することによって決定する。この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ３．３、Ｐ１０．９、Ｐ１０．１０、Ｐ１１．２、Ｐ１３．２、Ｐ１３．６、Ｐ１３．９、Ｐ１３．１１、Ｐ１３．１２、Ｐ１３．１６、およびＰ１５．３は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。
実施例Ｂ７：テトラニクス・アーチカエ（ナミハダニ）（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｕｒｔｉｃａｅ）に対する活性
マメの苗木に、テトラニクス・アーチカエの混合個体群を生息させ、１日後、１２．５ｐｐｍの活性化合物を含む水性乳濁スプレー液を噴霧し、２５℃にて６日間インキュベートした後に評価する。個体群の減少パーセント（活性％）を、処理した植物と未処理植物とで、死んだ卵、幼虫および成体の数を比較することによって決定する。
この試験において、式（Ｉ）の化合物は良好な活性を示す。特に、化合物Ｐ１．１、Ｐ１．４、Ｐ２．１、Ｐ２．２、Ｐ２．３、Ｐ３．３、Ｐ３．５、Ｐ４．３、Ｐ４．５、Ｐ７．１、Ｐ８．１、Ｐ１０．９、Ｐ１０．１０、Ｐ１１．２、Ｐ１２．１、Ｐ１３．２、Ｐ１３．４、Ｐ１３．６、Ｐ１３．７、Ｐ１３．９、Ｐ１３．１１、Ｐ１３．１２、Ｐ１３．１３、Ｐ１３．１４、Ｐ１３．１５、Ｐ１３．１６、およびＰ１５．３は、害虫個体群の８０％を超える減少をもたらす。

Claims (11)

  1. 式（Ｉ）
    Figure 0005007428
     （式中、破線で示される炭素原子２２〜２３間の結合は、単結合もしくは二重結合であり、記号δ、ε、φ、η、κ、λおよびγは対応する炭素原子の立体配置が（Ｓ）または（Ｒ）であり得ることを表し、
    ｎは０、１もしくは２であり、
    Ｒ1は、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキルまたはＣ2−Ｃ12アルケニル基を表し、
    Ｒ2は、Ｒ15、Ｒ16Ｏ、Ｒ16Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、またはＲ15ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ基を表し、
    Ｒ3は、水素またはＲ2基を表し、
    Ｒ4は、Ｒ 16 、Ｒ 16 Ｏ、Ｒ 16 Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 16 （ＮＣ）Ｎ、Ｒ 16 （Ｒ 17 Ｏ）Ｎ、Ｒ 16 Ｃ（＝Ｏ）Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 16 Ｃ（＝Ｏ）（ＯＲ 17 ）Ｎ、Ｒ 15 ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 15 ＯＣ（＝Ｏ）（ＯＲ 17 ）Ｎ、Ｒ 15 ＳＯ 2 Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 16 Ｒ 17 ＮＯ、Ｒ 16 （ＮＣ）ＮＯ、（Ｒ 16 Ｒ 17 Ｃ＝）ＮＯ、Ｒ 16 Ｃ（＝Ｏ）Ｒ 17 ＮＯ、Ｒ 18 Ｒ 19 Ｎ−Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 18 （ＮＣ）Ｎ−Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 18 （Ｒ 19 Ｏ）Ｎ−Ｒ 17 Ｎ、Ｒ 18 Ｒ 19 Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ、Ｒ 18 Ｒ 19 Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ 17 Ｎ、またはＲ 18 Ｒ 19 Ｎ−ＳＯ 2 Ｒ 17 Ｎ基を表し、
    Ｒ5は、水素、ヒドロカルビル基または置換されたヒドロカルビル基を表し、かつ
    Ｒ6は、Ｒ16、またはＲ16ＯＣＨ 2 基を表し；
    ここで、
    Ｒ15は、非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ1−Ｃ6アルキル、あるいは非置換であるかまたは一置換〜五置換されているＣ2−Ｃ6アルケニル基を表し、かつ
    Ｒ 16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は、互いに独立に、水素もしくはＲ15を表し；
    但し、（ｉ）Ｒ2およびＲ3がヒドロキシ基であり、Ｒ 5 が水素であり、かつＲ 6 がＣＨ 3 もしくはＣＨ 2 ＯＨ基である場合、置換基Ｒ4はヒドロキシでなく、または（ｉｉ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ2Ｃ6Ｈ5もしくはＯＣ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ5基であり、Ｒ 5 が水素であり、かつＲ 6 がＣＨ 2 ＯＣＨ 2 Ｃ 6 Ｈ 5 もしくはＣＨ 2 ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ 6 Ｈ 5 基である場合、置換基Ｒ4はＯＣＨ2Ｃ6Ｈ5もしくはＯＣ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ5基でなく、または（ｉｉｉ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ3基であり、Ｒ5 が水素であり、Ｒ 6 がＣＨ 2 ＯＣＨ 3 であり、かつ環状アセタールの炭素の立体配置が２位（φ）で（Ｒ）であり、３位（η）で（Ｓ）であり、４位（κ）で（Ｓ）であり、そして５位（λ）で（Ｒ）である場合、Ｒ4はＯＣＨ3でなく、または（ｉｖ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ3基であり、Ｒ 5 およびＲ 6 が水素であり、環状アセタールの炭素の立体配置が２位（φ）で（Ｓ）であり、３位（η）で（Ｒ）であり、そして４位（κ）で（Ｒ）であり、かつｎが１である場合、Ｒ4はＯＣＨ3でなく、または（ｖ）Ｒ2およびＲ3がＯＣＨ3基であり、Ｒ 5 が水素であり、Ｒ 6 がＣＨ 3 であり、環状アセタールの炭素の立体配置が２位（φ）で（Ｓ）であり、３位（η）で（Ｒ）であり、４位（κ）で（Ｒ）であり、そして５位（λ）で（Ｓ）であり、かつｎが１である場合、Ｒ4はＯＣＨ3でなく、または（ｖｉ）（ａ）Ｒ2およびＲ3が非置換のアセチルオキシであるか、または（ｂ）Ｒ2が非置換のアセチルアミノ基であり、Ｒ3が非置換のアセチルオキシであり、かつ、（ａ）または（ｂ）のいずれかについて、Ｒ 5 が水素であり、そしてＲ 6 がＨ、ＣＨ 3 、ＣＨ 2 ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ 3 、もしくはＣＯ 2 Ｈ基である場合、置換基Ｒ4は非置換のアセチルオキシ基でない）の化合物であって、適切な場合には、遊離形態または塩形態のいずれかにおける、式（Ｉ）の化合物のＥ／Ｚ異性体および／もしくはジアステレオ異性体および／もしくは互変異性体である、化合物。
  2. 式（Ｉ）
    Figure 0005007428
    （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、炭素原子２２〜２３間の結合およびｎは請求項１に記載のとおりである）の化合物を調製するための方法であって、
    （ｉ）メクチン骨格の１３位、４’位、または４”位（ｎはそれぞれ０、１または２である）のヒドロキシ基にて、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6置換基を有する活性化したテトラヒドロピランを用いてグリコシル化反応を行って、式（ＩＩ）
    Figure 0005007428
    （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、炭素原子２２〜２３間の結合およびｎは請求項１に記載のとおりであり、Ｌ1は保護基であり、Ｌ2は水素または保護基である）の化合物を得る段階と；
    （ｉｉ）適切な場合、保護基Ｌ1およびＬ2を除去して式（Ｉ）の化合物を得る段階か、または
    （ｉｉｉ）Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6基の１以上で基を修飾する反応を行った後、適切な場合、保護基Ｌ1およびＬ2を除去して式（Ｉ）の化合物を得る段階：を含む、
    方法。
  3. 式（Ｉ）
    Figure 0005007428
    （式中、Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5および炭素原子２２〜２３間の結合は請求項１に記載のとおりであり、ｎは０または１であり、かつＲ2は請求項１に記載のとおりＲ15である）の化合物を調製するための方法であって、
    （ｉ）４’−または４”−位のヒドロキシ基を酸化させて式（ＩＩＩ）
    Figure 0005007428
    （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は請求項１に記載のとおりであり、ｎは０または１であり、かつＬ1は保護基である）のオキソ化合物を得る段階と、
    （ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）の化合物と塩基およびトリアルキルシリル化合物とを反応させてエノラートを形成する段階と、
    （ｉｖ）エノラートを酸化させて式（ＩＶ）
    Figure 0005007428
    （式中、Ｒ1および炭素原子２２〜２３間の結合は請求項１に記載のとおりであり、ｎは０または１であり、かつＬ1は保護基である）のエノンとする段階と、
    （ｖ）置換基Ｒ2を有する有機金属試薬をエノンに添加する段階と、
    （ｖｉ）Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5基の１以上で基を修飾する反応を行って、保護基Ｌ1を除去して式（Ｉ）の化合物を得る段階：を含む、
    方法。
  4. 前記式中、炭素原子２２〜２３間の結合が二重結合であり、ｎが１または２であり、Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ4アルキル基を表し、Ｒ2が、Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4アルコキシを表し、Ｒ3が、Ｃ1−Ｃ4アルコキシを表し、Ｒ4が、Ｈ、ＯＨ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、ジＣ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4アルカノイルアミノ、ジＣ1−Ｃ4アルカノイルアミノ、Ｃ1−Ｃ4アルカノイル−Ｃ1−Ｃ4アルキル−アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシカルボニルアミノ、ジＣ1−Ｃ4アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシカルボニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル−アミノ、またはＣ2−Ｃ4アルケニルオキシカルボニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル−アミノを表し、Ｒ5が、Ｈ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ2−Ｃ3アルケニル、Ｃ2−Ｃ3アルキニルまたはＣＮを表すか、あるいは、Ｒ4およびＲ5が、ともに＝Ｏ、＝ＮＯＨ、＝ＮＯＣ1−Ｃ4アルキル、または＝ＮＯＣ1−Ｃ4アルカノイルを表し、かつ、Ｒ6が、Ｈ、メチル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシＣＨ2、またはＣ1−Ｃ4アルカノイルオキシＣＨ2を表し、ここで、（ａ）環状アセタールの３位（η）と４位（κ）の炭素の立体配置が互いに逆であり、（ｂ）環状アセタールの２位（φ）と３位（η）の炭素の立体配置が同一であるか、または（ｃ）環状アセタールの２位（φ）、３位（η）および４位（κ）の炭素の立体配置が同一であり、かつ、（ａ）、（ｂ）または（ｃ）のいずれか１つにおいてもその他の炭素原子のいずれか１つの炭素立体配置が互いに独立に（Ｒ）または（Ｓ）である、請求項１に記載の化合物。
  5. 活性化合物として請求項１に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種類の化合物、および少なくとも１種類の補助剤を含む、殺虫組成物。
  6. 請求項５に記載の組成物を害虫またはそれらの生息地に適用する段階を含む、害虫を制御するための方法。
  7. 請求項１に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種類の化合物を活性化合物として、少なくとも１種類の補助剤と密に混合および／または粉砕する段階を含む、請求項１に記載の組成物を調製するための方法。
  8. 請求項５に記載の組成物を調製するための、請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
  9. 植物害虫、ならびに家畜、飼育動物およびペットの外部寄生虫および内部寄生虫を制御するための、請求項５に記載の組成物の使用。
  10. 植物繁殖材料、または植物繁殖材料が植えられている場所を、請求項５に記載の組成物で処理することを含む、植物繁殖材料を保護するための方法。
  11. 請求項１に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種類の化合物を付着させた、害虫に抵抗力のある植物繁殖材料。
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