JP4998642B2 - Method for producing polyimide resin - Google Patents

Method for producing polyimide resin Download PDF

Info

Publication number
JP4998642B2
JP4998642B2 JP2011214479A JP2011214479A JP4998642B2 JP 4998642 B2 JP4998642 B2 JP 4998642B2 JP 2011214479 A JP2011214479 A JP 2011214479A JP 2011214479 A JP2011214479 A JP 2011214479A JP 4998642 B2 JP4998642 B2 JP 4998642B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide resin
general formula
group
compound
diisocyanate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2011214479A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011256403A (en
Inventor
栄寿 一ノ瀬
英之 石田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
DIC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DIC Corp filed Critical DIC Corp
Priority to JP2011214479A priority Critical patent/JP4998642B2/en
Publication of JP2011256403A publication Critical patent/JP2011256403A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4998642B2 publication Critical patent/JP4998642B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

本発明は、耐熱性、電気特性、機械物性、寸法安定性に優れる硬化物が得られ、また、硬化前の保存安定性も優れ、各種耐熱性コーティング材料や電気絶縁材料、例えばプリント配線基板の層間絶縁材料、ビルドアップ材料、半導体の絶縁材料、耐熱性接着剤等の分野に好ましく用いることができる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物に用いるポリイミド樹脂の製造方法に関する。   The present invention provides a cured product having excellent heat resistance, electrical characteristics, mechanical properties, and dimensional stability, and also excellent storage stability before curing, such as various heat resistant coating materials and electrical insulating materials such as printed wiring boards. The present invention relates to a method for producing a polyimide resin used for a thermosetting polyimide resin composition that can be preferably used in the fields of interlayer insulating materials, build-up materials, semiconductor insulating materials, heat-resistant adhesives, and the like.

近年、電気電子産業を中心に各種分野に用いる樹脂の耐熱性、電気特性、機械物性、保存安定性の向上が要望されている。こうした中、上記要望に対して、カルボキシル基と数平均分子量300〜6,000の線状炭化水素構造を有するポリイミド樹脂と、エポキシ樹脂とを含有する熱硬化性ポリイミド樹脂組成物が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この特許文献1に記載された熱硬化性ポリイミド樹脂組成物の硬化物は、線膨張係数が大きく、この為寸法安定性に劣る。また、機械物性や耐熱性も十分ではない。   In recent years, there has been a demand for improvement in heat resistance, electrical properties, mechanical properties, and storage stability of resins used in various fields mainly in the electrical and electronic industries. Under these circumstances, a thermosetting polyimide resin composition containing a polyimide resin having a linear hydrocarbon structure having a carboxyl group and a number average molecular weight of 300 to 6,000, and an epoxy resin is known in response to the above-mentioned demand. (For example, refer to Patent Document 1). The cured product of the thermosetting polyimide resin composition described in Patent Document 1 has a large coefficient of linear expansion, and therefore is inferior in dimensional stability. In addition, mechanical properties and heat resistance are not sufficient.

特開2003−292575号公報           JP 2003-292575 A

本発明の課題は、耐熱性、電気特性、機械物性、寸法安定性に優れる硬化物が得られ、また、硬化前の保存安定性も優れる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物に用いるポリイミド樹脂の製造方法を提供することにある。   The subject of this invention is the manufacturing method of the polyimide resin used for the thermosetting polyimide resin composition which can obtain the hardened | cured material which is excellent in heat resistance, an electrical property, mechanical property, and dimensional stability, and is excellent also in the storage stability before hardening. Is to provide.

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、下記の知見を見出した。
(1)フェノール系化合物の構造残基とフェノール性水酸基とイソシアネート基との反応にて生成されるウレタン結合とを有するポリイミド樹脂とエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を用いて得られる硬化物は、耐熱性、電気特性、機械物性、寸法安定性に優れる。
As a result of intensive studies, the present inventor has found the following knowledge.
(1) A cured product obtained by using a resin composition containing a polyimide resin having a structural residue of a phenolic compound, a urethane bond formed by a reaction between a phenolic hydroxyl group and an isocyanate group, and an epoxy resin, Excellent heat resistance, electrical properties, mechanical properties, and dimensional stability.

(2)前記樹脂組成物は前記ポリイミド樹脂を含有していれば良く、前記特許文献1のポリイミド樹脂のように300〜6,000の線状炭化水素構造を含有するポリイミド樹脂を用いる必要がないため樹脂組成物の設計の幅が広がる。 (2) The resin composition only needs to contain the polyimide resin, and there is no need to use a polyimide resin containing a 300 to 6,000 linear hydrocarbon structure unlike the polyimide resin of Patent Document 1. Therefore, the range of design of the resin composition is expanded.

(3)前記樹脂組成物は保存安定性にも優れる。 (3) The resin composition is also excellent in storage stability.

(4)前記樹脂組成物に含まれる前記ポリイミド樹脂は、2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物とポリイソシアネート化合物と酸無水物とを反応させることにより容易に製造することができる。
本発明は上記の知見を基に完成したものである。
(4) The polyimide resin contained in the resin composition can be easily produced by reacting a polyphenol compound having two or more phenolic hydroxyl groups, a polyisocyanate compound, and an acid anhydride.
The present invention has been completed based on the above findings.

即ち、本発明は、2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)とを反応させるポリイミド樹脂の製造方法であり、酸無水物(a3)がエチレングリコールビスアンヒドロトリメリテートであることを特徴とするポリイミド樹脂の製造方法を提供するものである。   That is, this invention is a manufacturing method of the polyimide resin which makes the polyphenol compound (a1), polyisocyanate compound (a2), and acid anhydride (a3) which have two or more phenolic hydroxyl groups react, and acid anhydride ( The present invention provides a method for producing a polyimide resin, wherein a3) is ethylene glycol bisanhydro trimellitate.

本発明の製造方法は耐熱性、機械物性に優れる硬化物を提供できる。また、本発明の製造方法で得られるポリイミド樹脂を用いて得られる硬化物は線膨張係数が低いため、寸法安定性に優れる。更に、本発明の製造方法で得られるポリイミド樹脂を用いて得られる硬化物は誘電率と誘電正接が低く、電気特性に優れる。従って、本発明の製造方法で得られるポリイミド樹脂を用いて得られる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物は耐熱性コーティング材料や電気絶縁材料に好適に使用できる。加えて、本発明のポリイミド樹脂の製造方法は前記熱硬化性ポリイミド樹脂組成物に用いるポリイミド樹脂を容易に製造することができる。   The production method of the present invention can provide a cured product having excellent heat resistance and mechanical properties. Moreover, since the cured | curing material obtained using the polyimide resin obtained with the manufacturing method of this invention has a low linear expansion coefficient, it is excellent in dimensional stability. Furthermore, the cured product obtained using the polyimide resin obtained by the production method of the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, and is excellent in electrical characteristics. Therefore, the thermosetting polyimide resin composition obtained by using the polyimide resin obtained by the production method of the present invention can be suitably used for a heat resistant coating material or an electrical insulating material. In addition, the polyimide resin production method of the present invention can easily produce a polyimide resin used in the thermosetting polyimide resin composition.

2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)とを反応させる製造方法であり、酸無水物(a3)がエチレングリコールビスアンヒドロトリメリテートである本発明のポリイミド樹脂の製造方法によりポリイミド樹脂(A)を容易に得ることができる。   It is a production method in which a polyphenol compound (a1) having two or more phenolic hydroxyl groups, a polyisocyanate compound (a2) and an acid anhydride (a3) are reacted, wherein the acid anhydride (a3) is ethylene glycol bisanhydrotri A polyimide resin (A) can be easily obtained by the method for producing a polyimide resin of the present invention which is melitte.

ポリイミド樹脂(A)は、下記一般式(1)および/または下記一般式(2)で表されるようにウレタン結合としてイソシアネート基とフェノール性水酸基が連結した構造を有する。ポリイミド樹脂(A)としては、なかでも有機溶剤に溶解するポリイミド樹脂が取り扱い易いことから好ましい。   The polyimide resin (A) has a structure in which an isocyanate group and a phenolic hydroxyl group are linked as a urethane bond as represented by the following general formula (1) and / or the following general formula (2). As the polyimide resin (A), a polyimide resin that dissolves in an organic solvent is particularly preferable because it is easy to handle.

Figure 0004998642
Figure 0004998642

Figure 0004998642
(式中、Xは1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール系化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた残基を示す。)
Figure 0004998642
(In the formula, X represents a residue obtained by removing two phenolic hydroxyl groups from a phenolic compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule.)

前記一般式(1)で表される構造を有するポリイミド樹脂としては、例えば、下記一般式(10)で表される構造を有するポリイミド樹脂等が挙げられる。   Examples of the polyimide resin having the structure represented by the general formula (1) include a polyimide resin having a structure represented by the following general formula (10).

Figure 0004998642
(上記式中Rx1、Rx2は同一でも異なっていても良く、ポリイソシアネート化合物から一つのイソシアネート基を除いた残基を示す。)
Figure 0004998642
(In the above formula, R x1 and R x2 may be the same or different and represent a residue obtained by removing one isocyanate group from a polyisocyanate compound.)

また、前記一般式(2)で表される構造を有するポリイミド樹脂としては、例えば、下記一般式(11)で表される構造を有するポリイミド樹脂等が挙げられる。   Moreover, as a polyimide resin which has a structure represented by the said General formula (2), the polyimide resin etc. which have a structure represented by the following general formula (11) are mentioned, for example.

Figure 0004998642
(上記式中Rx1はポリイソシアネート化合物から一つのイソシアネート基を除いた残基を示す。)
Figure 0004998642
(In the above formula, R x1 represents a residue obtained by removing one isocyanate group from the polyisocyanate compound.)

前記一般式(10)及び一般式(11)中のRxは同一でも良いし異なっていても良い。 Rx 1 in the general formula (10) and the general formula (11) may be the same or different.

ここで、上記一般式(10)においてRx1および/またはRx2が後述する一般式(9)のRに該当すると、一般式(9)に一般式(1)が結合した構造を有した分岐状ポリイミド樹脂となる。上記一般式(11)においてRx1が後述する一般式(9)のRに該当すると、一般式(9)に一般式(2)が結合した構造を有した分岐状ポリイミド樹脂となる。 Here, in the general formula (10), when R x1 and / or R x2 correspond to R 5 of the general formula (9) described later, the general formula (9) was bonded to the general formula (1). It becomes a branched polyimide resin. In the general formula (11), when R x1 corresponds to R 5 in the general formula (9) described later, a branched polyimide resin having a structure in which the general formula (2) is bonded to the general formula (9) is obtained.

前記一般式(1)および/または一般式(2)中のXとしては、例えば、下記構造等が挙げられる。   Examples of X in the general formula (1) and / or the general formula (2) include the following structures.

Figure 0004998642
Figure 0004998642

ポリイミド樹脂(A)としては、一般式(1)のXとして前記一般式(3)で表される構造を有するポリイミド樹脂が好ましい。ここで、前記一般式(3)で表されるRは単結合あるいは2価の連結基を示し、Rは水素または炭素数1から5のアルキル基を示す。 As a polyimide resin (A), the polyimide resin which has a structure represented by the said General formula (3) as X of General formula (1) is preferable. Here, R 1 represented by the general formula (3) represents a single bond or a divalent linking group, and R 2 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

前記一般式(3)示される構造中のRとしては例えば、単結合、カルボニル基、スルホニル基、メチレン基、イソプロピリデン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基、オキソ基、ジメチルシリレン基、フルオレン−9−ジイル基、トリシクロ[5.2.1.02,8]デカン−ジイル基等の2価の結合基等が挙げられる。また、Rとしては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等の炭素原子数1〜5のアルキル基等が挙げられる。 Examples of R 1 in the structure represented by the general formula (3) include a single bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a methylene group, an isopropylidene group, a hexafluoroisopropylidene group, an oxo group, a dimethylsilylene group, and a fluorene-9-. And divalent linking groups such as a diyl group and a tricyclo [5.2.1.0 2,8 ] decane-diyl group. Moreover, as R < 2 >, C1-C5 alkyl groups, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, etc. are mentioned, for example.

尚、本発明において、カルボニル基は下記構造式(1a)、スルホニル基は下記構造式(1b)、メチレン基は下記構造式(1c)、イソプロピリデン基は下記構造式(1d)、ヘキサフルオロイソプロピリデン基は下記構造式(1e)、オキソ基は下記構造式(1f)、ジメチルシリレン基は下記構造式(1g)、フルオレン−9−ジイル基は下記構造式(1h)、トリシクロ[5.2.1.02,8]デカン−ジイル基は下記構造式(1i)でありこれらは、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフタレンジオール、ジシクロペンタジエン変性ビスフェノール等の残基である。(なお、図中の*は結合部位を表す。)また、ポリフェノール化合物、例えば、フェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂、ナフトールとアルキルフェノールとホルムアルデヒド縮合物から合成されるポリフェノール樹脂等から2つの水酸基を除いた構造残基等も挙げられる。 In the present invention, the carbonyl group is the following structural formula (1a), the sulfonyl group is the following structural formula (1b), the methylene group is the following structural formula (1c), the isopropylidene group is the following structural formula (1d), and hexafluoroisopropylidene. The redene group has the following structural formula (1e), the oxo group has the following structural formula (1f), the dimethylsilylene group has the following structural formula (1g), the fluorene-9-diyl group has the following structural formula (1h), and tricyclo [5.2.1.0]. The 2,8 ] decane-diyl group is represented by the following structural formula (1i), and these are residues of biphenol, tetramethylbiphenol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, naphthalenediol, dicyclopentadiene-modified bisphenol and the like. (In the figure, * represents a binding site.) In addition, two hydroxyl groups were removed from a polyphenol compound such as a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a polyphenol resin synthesized from naphthol, alkylphenol, and a formaldehyde condensate. Examples include structural residues.

Figure 0004998642
Figure 0004998642

前記Rの中でも、単結合及び前記一般式(1b)、一般式(1c)、一般式(1d)で示される構造が溶解性、相溶性に優れる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物が得られ、また、ポリイミド樹脂(A)を得る際の合成もしやすいことから好ましい。また、前記Rの中でも、水素原子、メチル基が好ましい。 Among the R 1, a thermosetting polyimide resin composition in which the structure represented by a single bond and the general formula (1b), the general formula (1c), and the general formula (1d) is excellent in solubility and compatibility is obtained. Moreover, since it is easy to synthesize | combine at the time of obtaining a polyimide resin (A), it is preferable. Of the R 2 , a hydrogen atom and a methyl group are preferable.

ポリイミド樹脂(A)としては、前記一般式(1)で表される構造および/または一般式(2)で表される構造を有すれば良いが、中でも前記一般式(1)で表される構造および一般式(2)で表される構造を有するイミド樹脂がより好ましい。ここで、前記一般式(1)で示される構造及び前記一般式(2)で示される構造中のXは同一でも良いし異なっていても良い。   The polyimide resin (A) may have a structure represented by the general formula (1) and / or a structure represented by the general formula (2), and above all, represented by the general formula (1). An imide resin having a structure and a structure represented by the general formula (2) is more preferable. Here, X in the structure represented by the general formula (1) and the structure represented by the general formula (2) may be the same or different.

前記一般式(2)で示される末端の水酸基はフェノール性水酸基であり、このフェノール性水酸基は、多官能フェノール化合物の1個の水酸基がウレタン結合で樹脂骨格に連結した以外の残りの1個のフェノール性水酸基である。一般式(2)で示される構造を得る際に用いる多価のフェノール性水酸基含有化合物は、2官能性フェノール化合物が好ましいが2官能フェノール化合物以外に3官能以上のポリフェノール化合物を使用あるいは併用し、末端に複数のフェノール性水酸基を残存させても良い。   The terminal hydroxyl group represented by the general formula (2) is a phenolic hydroxyl group, and this phenolic hydroxyl group is one remaining hydroxyl group other than one hydroxyl group of the polyfunctional phenol compound linked to the resin skeleton by a urethane bond. It is a phenolic hydroxyl group. The polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compound used for obtaining the structure represented by the general formula (2) is preferably a bifunctional phenol compound, but in addition to the bifunctional phenol compound, a trifunctional or higher polyphenol compound is used or used in combination. A plurality of phenolic hydroxyl groups may be left at the terminal.

ポリイミド樹脂(A)として前記一般式(2)で表される構造を有するポリイミド樹脂は末端にフェノール性水酸基を有しており、後述するエポキシ樹脂(B)と反応し硬化することが可能である。一般のフェノール化合物とエポキシ樹脂との硬化では、ガラス転移温度(TG)や耐熱性、誘電特性、機械物性、線膨張等の面で限界があるが、前記一般式(2)で表される構造を有するポリイミド樹脂は樹脂骨格にイミド構造を有しているために従来の技術では得られない高い性能を有する硬化物を得ることが可能である。   The polyimide resin having the structure represented by the general formula (2) as the polyimide resin (A) has a phenolic hydroxyl group at the terminal and can be cured by reacting with the epoxy resin (B) described later. . The curing of general phenol compounds and epoxy resins has limitations in terms of glass transition temperature (TG), heat resistance, dielectric properties, mechanical properties, linear expansion, etc., but the structure represented by the general formula (2) Since the polyimide resin having an imide structure in the resin skeleton, it is possible to obtain a cured product having high performance that cannot be obtained by conventional techniques.

更に、ポリイミド樹脂(A)は一般式(1)や一般式(2)で示される様にフェノール性水酸基とイソシアネート基からなるウレタン結合の構造を有する。一般にフェノール性水酸基とイソシアネートによるウレタン結合は、解離温度が低い為、フェノールやクレゾール等の低分子モノフェノール化合物などはイソシアネート基のブロック剤として使用されることがある。しかしながらこうしたブロック剤の解離は、塗膜や成型物の硬化反応において解離し揮発成分として気泡やボイドの発生につながり好ましいものではない。本発明において、フェノール性水酸基の導入を、2価以上のポリフェノール化合物を用いて行うと、硬化時の温度の高い状況下で樹脂から解離しても揮発せず系内に残存し、その為、ポリイミド樹脂(A)は積極的にエポキシ樹脂との架橋反応により硬化を行う。さらに生成したイソシアネート基は、このフェノール−エポキシ間の反応により生成する水酸基とさらにウレタン化反応を行い、分子の新たな架橋構造の構築を行い誘電特性に不利な水酸基をブロックすると考えられる。よって生成するウレタン結合により、樹脂骨格である剛直なイミド構造を結びつけるネットワークを形成し良好な耐熱性あるいは機械物性を発現すると本発明者らは考えている。   Furthermore, the polyimide resin (A) has a urethane bond structure composed of a phenolic hydroxyl group and an isocyanate group as represented by the general formula (1) or the general formula (2). In general, since the urethane bond between a phenolic hydroxyl group and an isocyanate has a low dissociation temperature, a low-molecular monophenol compound such as phenol or cresol may be used as a blocking agent for the isocyanate group. However, such dissociation of the blocking agent is not preferable because it dissociates in the curing reaction of the coating film or the molded product and leads to generation of bubbles and voids as volatile components. In the present invention, when a phenolic hydroxyl group is introduced using a polyphenol compound having a valence of 2 or more, it remains in the system without being volatilized even when dissociated from the resin under high temperature conditions during curing. The polyimide resin (A) is positively cured by a crosslinking reaction with the epoxy resin. Furthermore, it is considered that the generated isocyanate group further undergoes urethanation reaction with the hydroxyl group produced by the reaction between the phenol and the epoxy, thereby constructing a new crosslinked structure of the molecule and blocking the hydroxyl group which is disadvantageous in dielectric properties. Therefore, the present inventors consider that a network connecting rigid imide structures, which are resin skeletons, is formed by urethane bonds generated, and that good heat resistance or mechanical properties are expressed.

また、ポリイミド樹脂(A)は下記一般式(7)および/または下記一般式(8)で示されるイミド結合を有するポリイミド樹脂が好ましい。   The polyimide resin (A) is preferably a polyimide resin having an imide bond represented by the following general formula (7) and / or the following general formula (8).

Figure 0004998642
Figure 0004998642

Figure 0004998642
Figure 0004998642

一般式(7)式中のRはテトラカルボン酸無水物から酸無水物基を除いた残基構造を示す。一般式(8)中のRはトリカルボン酸無水物から酸無水物基とカルボキシル基を除いた残基構造を示す。 R 3 in the general formula (7) represents a residue structure obtained by removing an acid anhydride group from a tetracarboxylic acid anhydride. R 4 in the general formula (8) represents a residue structure obtained by removing an acid anhydride group and a carboxyl group from a tricarboxylic acid anhydride.

前記Rは、テトラカルボン酸無水物の酸無水物基を除いた残基である。こうした構造としては、例えば以下の構造が例示される。 R 3 is a residue obtained by removing the acid anhydride group of the tetracarboxylic acid anhydride. Examples of such a structure include the following structures.

Figure 0004998642
Figure 0004998642

前記Rは、トリカルボン酸無水物から酸無水物基とカルボキシル基を除いた残基構造である。こうした構造としては、例えば以下の構造が例示される。 The R 4 is a residue structure obtained by removing an acid anhydride group and a carboxyl group from a tricarboxylic acid anhydride. Examples of such a structure include the following structures.

Figure 0004998642
Figure 0004998642

前記一般式(7)で表される構造を有するポリイミド樹脂としては、例えば、下記一般式(12)で表される構造を有するポリイミド樹脂等が挙げられる。   Examples of the polyimide resin having the structure represented by the general formula (7) include a polyimide resin having a structure represented by the following general formula (12).

Figure 0004998642
(上記式中Rx、Rxは同一でも異なっていても良く、ポリイソシアネート化合物から一つのイソシアネート基を除いた残基を示す。)
Figure 0004998642
(In the above formula, Rx 1 and Rx 2 may be the same or different and represent a residue obtained by removing one isocyanate group from the polyisocyanate compound.)

上記一般式(12)においてRxおよび/またはRxが後述する一般式(9)のRに該当すると、一般式(9)に一般式(12)が結合した構造を有した分岐状ポリイミド樹脂となる。 In the general formula (12), when Rx 1 and / or Rx 2 corresponds to R 5 in the general formula (9) described later, a branched polyimide having a structure in which the general formula (12) is bonded to the general formula (9). It becomes resin.

前記一般式(8)で表される構造を有するポリイミド樹脂としては、例えば、下記一般式(13)で表される構造を有するポリイミド樹脂等が挙げられる。   Examples of the polyimide resin having the structure represented by the general formula (8) include a polyimide resin having a structure represented by the following general formula (13).

Figure 0004998642
Figure 0004998642

上記一般式(13)においてRxおよび/またはRxが後述する一般式(9)のRに該当すると、一般式(9)に一般式(13)が結合した構造を有した分岐状ポリイミド樹脂となる。 In the general formula (13), when Rx 1 and / or Rx 2 corresponds to R 5 in the general formula (9) described later, a branched polyimide having a structure in which the general formula (13) is bonded to the general formula (9). It becomes resin.

更に、ポリイミド樹脂(A)は下記一般式(9)で示される構造にて分岐しているポリイミド樹脂が、他の樹脂成分との相溶性、溶剤溶解性の向上や得られる硬化塗膜の耐熱性が良好なことから好ましい。   Furthermore, the polyimide resin (A) is a polyimide resin branched in the structure represented by the following general formula (9), which improves compatibility with other resin components, improves solvent solubility, and heat resistance of the resulting cured coating film. It is preferable because of good properties.

Figure 0004998642
(式中Rはジイソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基構造を示す。)
Figure 0004998642
(In the formula, R 5 represents a residue structure obtained by removing an isocyanate group from a diisocyanate compound.)

前記一般式(9)中のRとしては、例えば、芳香族系の残基構造、脂肪属系の残基構造、脂環族系等の残基構造等が挙げられる。中でも、炭素原子数が4から13のものを好ましく使用することができる。Rの構造は、結晶化の防止や溶解性向上の面から2種以上の構造を併用したほうが好ましい。特に芳香族系の残基構造と脂肪族あるいは脂環族の残基構造との併用が好ましい。 Examples of R 5 in the general formula (9) include aromatic residue structures, aliphatic residue structures, and alicyclic residue structures. Among these, those having 4 to 13 carbon atoms can be preferably used. The structure of R 5 is preferably a combination of two or more structures from the viewpoint of preventing crystallization and improving solubility. In particular, the combined use of an aromatic residue structure and an aliphatic or alicyclic residue structure is preferred.

前記2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)としては、例えば、ハイドロキノン、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、エチリデンビスフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、シクロヘキシリデンビスフェノール(ビスフェノールZ)、ジメチルブチリデンビスフェノール、4,4’−(1−メチルエチリデン)ビス〔2,6−ジメチルフェノール〕、4,4’−(1−フェニルエチリデン)ビスフェノール、5,5’−(1−メチルエチリデン)ビス〔1,1’−ビフェニル−2−オール〕、ナフタレンジオール、ジシクロペンタジエン変性ビスフェノール、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイドとハイドロキノンとの反応生成物等が挙げられる。更にポリフェノール化合物(A)としてフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等の3官能以上のフェノール化合物も使用可能である。尚、本発明のポリイミド樹脂の製造方法においては合成上、ポリフェノール化合物(A)として3官能以上のポリフェノール化合物を使用することで樹脂の高粘度化やゲル化の発生等があるため、2個のフェノール性水酸基を含有するポリフェノール化合物(2官能のポリフェノール化合物)を使用することが好ましい。中でも、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール系化合物が好ましい。また本発明の効果を損なわない範囲で一部、フェノールやクレゾール等の一官能性のフェノール化合物を併用しても良い。   Examples of the polyphenol compound (a1) having two or more phenolic hydroxyl groups include hydroquinone, biphenol, tetramethylbiphenol, ethylidene bisphenol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, cyclohexylidene bisphenol (bisphenol Z), and dimethyl. Butylidenebisphenol, 4,4 ′-(1-methylethylidene) bis [2,6-dimethylphenol], 4,4 ′-(1-phenylethylidene) bisphenol, 5,5 ′-(1-methylethylidene) bis [1,1′-biphenyl-2-ol], naphthalenediol, dicyclopentadiene-modified bisphenol, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and hydroquinone Response product, and the like. Furthermore, as the polyphenol compound (A), a trifunctional or higher functional phenol compound such as a phenol novolac resin or a cresol novolac resin can be used. In addition, in the production method of the polyimide resin of the present invention, the use of a polyphenol compound having three or more functions as the polyphenol compound (A) results in high viscosity of the resin, generation of gelation, etc. It is preferable to use a polyphenol compound containing a phenolic hydroxyl group (a bifunctional polyphenol compound). Of these, bisphenol compounds such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S are preferred. Moreover, you may use together monofunctional phenolic compounds, such as a phenol and a cresol, in the range which does not impair the effect of this invention.

本発明で用いるポリイソシアネート化合物(a2)としては、例えば、芳香族ポリイソシアネート化合物、脂肪族ポリイソシアネート化合物等が使用可能である。   As a polyisocyanate compound (a2) used by this invention, an aromatic polyisocyanate compound, an aliphatic polyisocyanate compound, etc. can be used, for example.

前記芳香族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、p−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルジフェニル−4,4′−ジイソシアネート、3,3′−ジエチルジフェニル−4,4′−ジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネート、1,3−ビス(α,α−ジメチルイソシアナートメチル)ベンゼン、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニレンエーテル−4,4′−ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物等に代表される芳香族ポリソシアネート化合物等が挙げられる。   Examples of the aromatic polyisocyanate compound include p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4. '-Diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethyldiphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'-diethyldiphenyl-4,4'-diisocyanate, m-xylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, 1,3-bis Aromatic diisocyanates such as (α, α-dimethyl isocyanate methyl) benzene, tetramethylxylylene diisocyanate, diphenylene ether-4,4'-diisocyanate, naphthalene diisocyanate Aromatic Po Resocia sulfonate compounds represented by compounds like.

前記脂肪族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート、ノルボヌレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物等が挙げられる。   Examples of the aliphatic polyisocyanate compound include aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexamethylenemethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, and norbornylene diisocyanate. Compounds and the like.

また前記ポリイソシアネート化合物(a2)と各種ポリオール成分をイソシアネート基過剰で予め反応させたイソシアネートプレポリマーを使用、併用することも可能である。   It is also possible to use and use an isocyanate prepolymer obtained by reacting the polyisocyanate compound (a2) and various polyol components in advance with an excess of isocyanate groups.

本発明の熱硬化性ポリイミド樹脂組成物に用いるポリイミド樹脂は、分岐構造をとる事により、溶剤溶解性や硬化剤等その他の樹脂成分との相溶性が向上することができる為より好ましい。かかる分岐の手法としては、ポリイソシアネート化合物(a2)の一部ないし全部として例えば、前記ジイソシアネート化合物等の単独や混合でのイソシアヌレート体であるイソシアヌレート環を有するポリイソシアネート化合物を使用、併用することが好ましい。   The polyimide resin used in the thermosetting polyimide resin composition of the present invention is more preferable because it has a branched structure, so that solvent solubility and compatibility with other resin components such as a curing agent can be improved. As such a branching method, as a part or all of the polyisocyanate compound (a2), for example, a polyisocyanate compound having an isocyanurate ring which is an isocyanurate body alone or in combination with the diisocyanate compound or the like is used and used in combination. Is preferred.

前記イソシアヌレート環を有するポリイソシアネート化合物は、例えば、1種または2種以上のジイソシアネート化合物を第4級アンモニウム塩等のイソシアヌレート化触媒の存在下あるいは非存在下において、イソシアヌレート化することにより得られるものであって、3量体、5量体、7量体等のイソシアヌレートの混合物からなるもの等が挙げられる。前記ポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート体の具体例としては、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート等脂肪族系ポリイソシアネート類やジフェニルメタンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート、キシレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネート等が挙げられる。   The polyisocyanate compound having an isocyanurate ring can be obtained, for example, by converting one or more diisocyanate compounds into an isocyanurate in the presence or absence of an isocyanuration catalyst such as a quaternary ammonium salt. And those composed of a mixture of isocyanurates such as trimer, pentamer and heptamer. Specific examples of the isocyanurate form of the polyisocyanate compound include isophorone diisocyanate isocyanurate type polyisocyanate, hexamethylene diisocyanate isocyanurate type polyisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate isocyanurate type polyisocyanate, norbornane diisocyanate isocyanurate type. Aliphatic polyisocyanates such as polyisocyanate, isocyanurate type polyisocyanate of diphenylmethane diisocyanate, isocyanurate type polyisocyanate of tolylene diisocyanate, isocyanurate type polyisocyanate of xylene diisocyanate, isocyanurate type polyisocyanate of naphthalene diisocyanate, etc. .

ポリイソシアネート化合物(a2)としては、ジイソシアネート化合物とイソシアヌレート環を有するジイソシアネート化合物と併用する場合はジイソシアネート化合物として、芳香族ジイソシアネートを、イソシアヌレート型ポリイソシアネートとして脂肪族ジイソシアネートのイソシヌレート型ポリイソシアネートおよび/または脂環式ジイソシアネートのイソシヌレート型ポリイソシアネートを含有する混合物を用いるのが好ましい。   As the polyisocyanate compound (a2), when used in combination with a diisocyanate compound and a diisocyanate compound having an isocyanurate ring, an aromatic diisocyanate is used as a diisocyanate compound, an isocyanurate type polyisocyanate of an aliphatic diisocyanate as an isocyanurate type polyisocyanate, and / or It is preferable to use a mixture containing an isocyanurate type polyisocyanate of an alicyclic diisocyanate.

前記ポリイソシアネート化合物(a2)としては、脂肪族ジイソシアネート化合物を用いると溶解性に優れる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物が得られ、且つ、電気特性が良好な硬化塗膜が得られることからより好ましい。   As the polyisocyanate compound (a2), it is more preferable to use an aliphatic diisocyanate compound because a thermosetting polyimide resin composition having excellent solubility can be obtained and a cured coating film having good electrical characteristics can be obtained.

更に、ポリイソシアネート化合物(a2)は、前記以外のポリイソシアネート化合物、例えば、前記ジイソシアネート化合物や前記ジイソシアネートのビュレット体、アダクト体、アロハネート体、あるいはポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート(クルードMDI)等と併用しても良い。   Furthermore, the polyisocyanate compound (a2) is used in combination with a polyisocyanate compound other than the above, for example, the diisocyanate compound, a buret body, an adduct body, an allohanate body of the diisocyanate, or a polymethylene polyphenyl polyisocyanate (crude MDI). May be.

本発明の製造方法で用いるポリイソシアネート化合物(a2)は、溶剤溶解性が良好な熱硬化性ポリイミド樹脂組成物が得られ、且つ、結晶性を崩す理由から2種以上のポリイソシアネート化合物を併用することが好ましい。加えて耐熱性に優れる硬化塗膜が得られることから上述のイソシアヌレート体を併用することが好ましい。イソシアヌレート体を併用する場合は、全ポリイソシアネート化合物(B)量の70重量%以下に設定することが樹脂の高分子量化やゲル化を防ぐ意味で好ましい。   As the polyisocyanate compound (a2) used in the production method of the present invention, a thermosetting polyimide resin composition having good solvent solubility is obtained, and two or more polyisocyanate compounds are used in combination for the reason of breaking crystallinity. It is preferable. In addition, since the cured coating film excellent in heat resistance is obtained, it is preferable to use the isocyanurate body in combination. When using an isocyanurate body together, setting to 70 weight% or less of the total amount of polyisocyanate compound (B) is preferable in terms of preventing high molecular weight and gelation of the resin.

前記酸無水物(a3)としては、例えば、1個の酸無水物基を有する酸無水物や2個の酸無水物基を有する酸無水物等が挙げられる。前記1個の酸無水物基を有する酸無水物としては、例えば、無水トリメリット酸、ナフタレン−1,2,4−トリカルボン酸無水物等の芳香族トリカルボン酸無水物等が挙げられる。   Examples of the acid anhydride (a3) include an acid anhydride having one acid anhydride group and an acid anhydride having two acid anhydride groups. Examples of the acid anhydride having one acid anhydride group include aromatic tricarboxylic acid anhydrides such as trimellitic anhydride and naphthalene-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride.

前記2個の酸無水物基を有する酸無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノン−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテル−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ビフェニル−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ビフェニル−2,2′,3,3′−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、フェナントレン−1,3,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ベリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、   Examples of the acid anhydride having two acid anhydride groups include pyromellitic dianhydride, benzophenone-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether-3,3'. , 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, biphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, biphenyl -2,2 ', 3,3'-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride , Naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, decahydronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3 5,6,7-Hexahydronaphthalene- , 2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8 -Tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,3,9,10-tetracarboxylic dianhydride , Berylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 1 , 1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ) Propane dianhydride, 2 1,3-bis (3,4-carboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) ether dianhydride,

エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、プロピレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、ブタンジオールビスアンヒドロトリメリテート、ヘキサメチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、ポリエチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、ポリプロピレンレングリコールビスアンヒドロトリメリテートやその他アルキレングリコールビスアンヒドロキシトリメリテートなどが挙げられる。 Ethylene glycol bisanhydro trimellitate, propylene glycol bis anhydro trimellitate, butanediol bis anhydro trimellitate, hexamethylene glycol bis anhydro trimellitate, polyethylene glycol bis anhydro trimellitate, polypropylene lenglycol bis Anhydro trimellitate and other alkylene glycol bis-an hydroxy trimellitate are listed.

前記酸無水物(a3)のなかでもピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノン−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテル−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ビフェニル−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ビフェニル−2,2′,3,3′−テトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテートが好ましい。   Among the acid anhydrides (a3), pyromellitic dianhydride, benzophenone-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether-3,3', 4,4'-tetracarboxylic Acid dianhydride, biphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, biphenyl-2,2', 3,3'-tetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol bisanhydro trimelli Tate is preferred.

酸無水物(a3)としては、これらの1種又は2種以上を用いることが可能である。また、芳香族テトラカルボン酸二酸無水物に芳香族トリカルボン酸無水物や芳香族テトラカルボン酸一酸無水物を混合して使用してもよい。   As the acid anhydride (a3), one or more of these can be used. Further, an aromatic tricarboxylic acid anhydride or an aromatic tetracarboxylic acid monoacid anhydride may be mixed with an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride.

ポリイミド樹脂(A)は、2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)とを反応させ本発明のポリイミド樹脂の製造方法により得ることができる。   A polyimide resin (A) is obtained by reacting a polyphenol compound (a1) having two or more phenolic hydroxyl groups, a polyisocyanate compound (a2), and an acid anhydride (a3) by the method for producing a polyimide resin of the present invention. Can do.

本発明のポリイミド樹脂の製造方法ではポリイソシアネート化合物(a2)に対してポリフェノール化合物(a1)と酸無水物(a3)が反応する。末端をフェノール性水酸基として残存させる為にポリフェノール化合物(a1)中のフェノール性水酸基のモル数と酸無水物(a3)中の酸無水物基のモル数との合計モル数がポリイソシアネート化合物(a2)中のイソシアネート基のモル数より大きくなる条件で反応させることが好ましい。特に好ましい範囲として合成上の安定性や硬化物の各種性能の面で、〔{(a1)中のフェノール性水酸基のモル数+(a3)中の酸無水物基のモル数}/(a2)中のイソシアネート基のモル数〕が1から10の範囲であり、より好ましくは1.1から7の範囲である。またポリフェノール化合物(a1)の重量と酸無水物(a3)の重量との合計重量に対して(a1)、(a3)はおのおの5%以上、さらに10%以上存在していることがより好ましい。   In the method for producing a polyimide resin of the present invention, the polyphenol compound (a1) and the acid anhydride (a3) react with the polyisocyanate compound (a2). In order to leave the terminal as a phenolic hydroxyl group, the total number of moles of the phenolic hydroxyl group in the polyphenol compound (a1) and the number of moles of the acid anhydride group in the acid anhydride (a3) is the polyisocyanate compound (a2 It is preferable to make it react on the conditions which become larger than the number of moles of the isocyanate group in. As a particularly preferable range, [{number of moles of phenolic hydroxyl group in (a1) + number of moles of acid anhydride group in (a3)} / (a2) in terms of synthesis stability and various performances of the cured product The number of moles of the isocyanate group in the range is from 1 to 10, more preferably from 1.1 to 7. More preferably, (a1) and (a3) are present in an amount of 5% or more, more preferably 10% or more, based on the total weight of the polyphenol compound (a1) and the acid anhydride (a3).

本発明のポリイミド樹脂の製造方法は1段反応で製造を行っても、2段以上の反応工程を有する反応で製造を行っても良い。1段反応で製造を行う場合は、例えば、反応容器にポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)等の原料を仕込み、攪拌を行いながら昇温することで脱炭酸を生じながら反応が進行する。2段以上の反応工程を有する反応で製造を行う場合は、例えば、ポリイソシアネート化合物(a2)存在下に酸無水物(a3)を仕込んで反応中あるいは反応後に残存するイソシアネート基とポリフェノール化合物(a1)のフェノール性水酸基を反応させることで製造が可能である。また、ポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)とを仕込んで、反応中あるいは反応後、酸無水物(a3)を仕込むことにより反応を行うこともできる。   The method for producing the polyimide resin of the present invention may be produced by a one-step reaction or by a reaction having two or more reaction steps. When the production is carried out by a one-stage reaction, for example, raw materials such as polyphenol compound (a1), polyisocyanate compound (a2) and acid anhydride (a3) are charged in a reaction vessel, and the temperature is increased while stirring. The reaction proceeds while producing carbonic acid. When the production is carried out by a reaction having two or more reaction steps, for example, an acid anhydride (a3) is charged in the presence of the polyisocyanate compound (a2), and an isocyanate group and a polyphenol compound (a1) remaining during or after the reaction. ) To react with the phenolic hydroxyl group. The reaction can also be carried out by charging the polyphenol compound (a1) and the polyisocyanate compound (a2) and charging the acid anhydride (a3) during or after the reaction.

更にポリフェノール化合物(a1)存在下に酸無水物(a3)を仕込んで反応中あるいは反応後に残存するイソシアネート基と酸無水物(a3)を反応させても良い。   Further, an acid anhydride (a3) may be charged in the presence of the polyphenol compound (a1), and the isocyanate group remaining during or after the reaction may react with the acid anhydride (a3).

反応条件としては、50℃から250℃の範囲で行うことが可能であり、反応速度と副反応防止の面から70℃から180℃の温度で行うことが好ましい。   As reaction conditions, it can be carried out in the range of 50 ° C. to 250 ° C., and it is preferably carried out at a temperature of 70 ° C. to 180 ° C. from the viewpoint of reaction rate and prevention of side reactions.

本発明の製造方法では前記2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)とを、(a1)、(a2)および(a3)の合計重量に対してそれぞれ5〜50重量%、20〜70重量%、20〜70重量%となるように用いて反応させるのが好ましい。   In the production method of the present invention, the polyphenol compound (a1) having two or more phenolic hydroxyl groups, the polyisocyanate compound (a2), and the acid anhydride (a3) are converted into (a1), (a2) and (a3). It is preferable to react by using 5 to 50% by weight, 20 to 70% by weight, and 20 to 70% by weight based on the total weight.

反応は、イソシアネート基がほぼ全て反応するまで行った方が得られるポリイミド樹脂の安定性が良好となることから好ましい。また、若干残存するイソシアネート基に対して、アルコールや、フェノール化合物を添加し反応させても良い。   The reaction is preferable because the stability of the resulting polyimide resin is improved when the reaction is performed until almost all isocyanate groups have reacted. Moreover, you may make it react by adding alcohol and a phenol compound with respect to the isocyanate group which remains a little.

本発明のポリイミド樹脂の製造方法は、有機溶剤を使用することと均一な反応を進行できるため好ましい。ここで有機溶剤は、系中にあらかじめ存在させてから化反応を行っても、途中で導入してもよい。また、この反応に際して適切な反応速度を維持するために系中の有機溶剤の割合は、反応系の80重量%以下であるが好ましく、10〜70重量%であることがより好ましい。かかる有機溶剤としては、原料成分としてイソシアネート基を含有する化合物を使用するため、水酸基やアミノ基等の活性プロトンを有しない非プロトン性極性有機溶剤が好ましい。   The method for producing a polyimide resin of the present invention is preferable because it can proceed with a uniform reaction using an organic solvent. Here, the organic solvent may be preliminarily present in the system before the chemical reaction or may be introduced in the middle. In order to maintain an appropriate reaction rate during this reaction, the proportion of the organic solvent in the system is preferably 80% by weight or less of the reaction system, more preferably 10 to 70% by weight. As such an organic solvent, since a compound containing an isocyanate group is used as a raw material component, an aprotic polar organic solvent having no active proton such as a hydroxyl group or an amino group is preferable.

前記非プロトン性極性有機溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトンなどの極性有機溶媒を使用することができる。また、溶解可能であれば、その他エーテル系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、石油系溶剤等を使用しても良い。また、各種溶剤を混合して使用しても良い。   Examples of the aprotic polar organic solvent that can be used include polar organic solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, and γ-butyrolactone. Further, as long as it is soluble, other ether solvents, ester solvents, ketone solvents, petroleum solvents and the like may be used. Various solvents may be mixed and used.

かかるエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル等のポリエチレングリコールジアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、等のポリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;   Examples of the ether solvent include ethylene glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and ethylene glycol dibutyl ether; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl. Polyethylene glycol dialkyl ethers such as ether and triethylene glycol dibutyl ether; ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate and ethylene glycol monobutyl ether acetate; Ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, triethylene glycol monobutyl ether acetate, polyethylene glycol monoalkyl ether acetates and the like;

プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテル等のポリプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のポリプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;低分子のエチレン−プロピレン共重合体等の共重合ポリエーテルグリコールのジアルキルエーテル類;共重合ポリエーテルグリコールのモノアセテートモノアルキルエーテル類;共重合ポリエーテルグリコールのアルキルエステル類;共重合ポリエーテルグリコールのモノアルキルエステルモノアルキルエーテル類等が挙げられる。 Propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dibutyl ether; dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dibutyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, tripropylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol Polypropylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol dibutyl ether; propylene glycol monoalkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate; Polypropylene glycol monoalkyl ether acetate such as triglycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monobutyl ether acetate, tripropylene glycol monomethyl ether acetate, tripropylene glycol monoethyl ether acetate, tripropylene glycol monobutyl ether acetate Dialkyl ethers of copolymerized polyether glycols such as low molecular weight ethylene-propylene copolymers; monoacetate monoalkyl ethers of copolymerized polyether glycols; alkyl esters of copolymerized polyether glycols; copolymerized polyethers Examples include glycol monoalkyl ester monoalkyl ethers.

エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。また、石油系溶剤として、トルエン、キシレンやその他高沸点の芳香族溶剤等や、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族、脂環族溶剤を使用することも可能である。   Examples of the ester solvent include ethyl acetate and butyl acetate. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone. Further, as the petroleum solvent, it is also possible to use toluene, xylene, other high-boiling aromatic solvents, and aliphatic and alicyclic solvents such as hexane and cyclohexane.

ポリイミド樹脂(A)の重量平均分子量は溶剤溶解性が良好な熱硬化性ポリイミド樹脂組成物が得られ、且つ、種々の物性に優れる硬化塗膜が得られることから800〜50,000が好ましく、1,000〜20,000がより好ましい。   The weight average molecular weight of the polyimide resin (A) is preferably 800 to 50,000 because a thermosetting polyimide resin composition having good solvent solubility is obtained and a cured coating film having excellent various physical properties is obtained. 1,000 to 20,000 is more preferable.

ポリイミド樹脂(A)のフェノール性水酸基当量は、400〜10000が好ましい。   The phenolic hydroxyl group equivalent of the polyimide resin (A) is preferably 400 to 10,000.

本発明の製造方法で得られるポリイミド樹脂を用いて得られる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂(B)は分子内に2個以上のエポキシ基を有していることが好ましい。こうしたエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型ノボラック等のノボラック型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンと各種フェノール類と反応させて得られる各種ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のエポキシ化物;2,2′,6,6′−テトラメチルビフェノールのエポキシ化物等のビフェニル型エポキシ樹脂;ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂;フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂等の芳香族系エポキシ樹脂やこれら芳香族系エポキシ樹脂の水素添加物;ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ樹脂;3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキヒシクロヘキシル)アジペート等の脂環式エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート等のごときヘテロ環含有エポキシ樹脂等が挙げられる。中でも、芳香族系エポキシ樹脂が、硬化塗膜の機会物性に優れる熱硬化性ポリイミド樹脂組成物が得られることから好ましい。   It is preferable that the epoxy resin (B) used for the thermosetting polyimide resin composition obtained by using the polyimide resin obtained by the production method of the present invention has two or more epoxy groups in the molecule. Examples of such epoxy resins include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and bisphenol F type epoxy resin; novolak types such as phenol novolac epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and bisphenol type novolak. Epoxy resins; epoxidized products of various dicyclopentadiene-modified phenol resins obtained by reacting dicyclopentadiene with various phenols; biphenyl type epoxy resins such as epoxidized products of 2,2 ', 6,6'-tetramethylbiphenol; Epoxy resin having naphthalene skeleton; aromatic epoxy resin such as epoxy resin having fluorene skeleton and hydrogenated product of these aromatic epoxy resins; neopentyl glycol diglycidyl Aliphatic epoxy resins such as ether and 1,6-hexanediol diglycidyl ether; fats such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and bis- (3,4-epoxycyclohexyl) adipate Cyclic epoxy resins; and heterocyclic ring-containing epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate. Among these, an aromatic epoxy resin is preferable because a thermosetting polyimide resin composition excellent in opportunity physical properties of a cured coating film can be obtained.

前記ポリイミド樹脂(A)とエポキシ樹脂硬化剤(B)の配合量は、樹脂分の重量比として(A)/(B)が1/100から50/1の割合で使用することができ、さらに好ましくは、1/10から20/1である。   The blending amount of the polyimide resin (A) and the epoxy resin curing agent (B) can be used in a ratio of (A) / (B) of 1/100 to 50/1 as a weight ratio of the resin, Preferably, it is 1/10 to 20/1.

本発明の熱硬化性ポリイミド樹脂組成物には、更に、前記ポリイミド樹脂(A)が有するフェノール性水酸基と反応する化合物を添加することができる。具体的には、例えば、前記エポキシ樹脂(A)以外のエポキシ化合物、イソシアネート化合物、シリケート、アルコキシシラン化合物等が挙げられる。   A compound that reacts with the phenolic hydroxyl group of the polyimide resin (A) can be further added to the thermosetting polyimide resin composition of the present invention. Specific examples include epoxy compounds other than the epoxy resin (A), isocyanate compounds, silicates, alkoxysilane compounds, and the like.

前記イソシアネート化合物としては、例えば、芳香族系のイソシアネート化合物、脂肪族系のイソシアネート化合物および脂環族系のイソシアネート化合物等が使用できる。好ましくは、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物が好ましい。また、ブロックイソシアネート化合物も使用可能である。   Examples of the isocyanate compound include aromatic isocyanate compounds, aliphatic isocyanate compounds, and alicyclic isocyanate compounds. Preferably, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule is preferable. A blocked isocyanate compound can also be used.

熱硬化性ポリイミド樹脂組成物にはポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノキシ樹脂、PPS樹脂、PPE樹脂、ポリアリレーン樹脂等のバインダー樹脂;フェノール樹脂、メラミン樹脂、アルコキシシラン系硬化剤、多塩基酸無水物、シアネート化合物等の硬化剤あるいは反応性化合物;メラミン、ジシアンジアミド、グアナミンやその誘導体、イミダゾール類、アミン類、水酸基を1個有するフェノール類、有機フォスフィン類、ホスホニュウム塩類、4級アンモニュウム塩類、光カチオン触媒等の硬化触媒や硬化促進剤;さらにフィラー、その他添加剤等添加することも可能である。   Thermosetting polyimide resin compositions include polyester resins, polyimide resins, phenoxy resins, PPS resins, PPE resins, polyarylene resins and other binder resins; phenol resins, melamine resins, alkoxysilane curing agents, polybasic acid anhydrides, cyanates Curing agents or reactive compounds such as compounds; melamine, dicyandiamide, guanamine and derivatives thereof, imidazoles, amines, phenols having one hydroxyl group, organic phosphines, phosphonium salts, quaternary ammonium salts, photocationic catalysts, etc. It is also possible to add a curing catalyst and a curing accelerator; further fillers and other additives.

また、上記硬化促進剤として、ウレタン化触媒の併用が好ましい。かかるウレタン化触媒としては、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7(以下DBU)やその有機塩化合物、トリエチレンジアミン、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート等のジアルキル錫のアルキルエステル類、ビスマスのカルボキシレート等挙げられる。   Further, as the curing accelerator, a urethanization catalyst is preferably used in combination. Examples of such a urethanization catalyst include 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 (hereinafter referred to as DBU) and its organic salt compounds, dialkyltin alkyls such as triethylenediamine, dibutyltin diacetate, and dibutyltin dilaurate. Examples thereof include esters and carboxylates of bismuth.

熱硬化性ポリイミド樹脂組成物の調製法には、特に限定はないが各種成分を機械的に混合しても、熱溶融により混合しても、溶剤に希釈してから混合しても良い。   Although there is no limitation in the preparation method of a thermosetting polyimide resin composition, various components may be mixed mechanically, may be mixed by heat melting, or may be mixed after diluting with a solvent.

また、熱硬化性ポリイミド樹脂組成物は、更に必要に応じて、種々の充填材、有機顔料、無機顔料、体質顔料、防錆剤等を添加することができる。これらは単独でも2種以上を併用してもよい。   The thermosetting polyimide resin composition may further contain various fillers, organic pigments, inorganic pigments, extender pigments, rust inhibitors, and the like as necessary. These may be used alone or in combination of two or more.

前記充填材としては、例えば、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化けい素酸粉、微粒状酸化けい素、シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルムニウム、雲母等が挙げられる。   Examples of the filler include barium sulfate, barium titanate, silicon oxide powder, fine particulate silicon oxide, silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, mica and the like. It is done.

前記有機顔料としては、アゾ顔料;フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーンの如き銅フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料等が挙げられる。   Examples of the organic pigment include azo pigments; copper phthalocyanine pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green, and quinacridone pigments.

前記無機顔料としては、例えば、黄鉛、ジンククロメート、モリブデート・オレンジの如きクロム酸塩;紺青の如きフェロシアン化物、酸化チタン、亜鉛華、ベンガラ、酸化鉄;炭化クロムグリーンの如き金属酸化物、カドミウムイエロー、カドミウムレッド;硫化水銀の如き金属硫化物、セレン化物;硫酸鉛の如き硫酸塩;群青の如き珪酸塩;炭酸塩、コバルト・バイオレッド;マンガン紫の如き燐酸塩;アルミニウム粉、亜鉛末、真鍮粉、マグネシウム粉、鉄粉、銅粉、ニッケル粉の如き金属粉;カーボンブラック等が挙げられる。   Examples of the inorganic pigment include chromates such as chrome lead, zinc chromate and molybdate orange; ferrocyanides such as bitumen, titanium oxide, zinc white, bengara, iron oxide; metal oxides such as chromium carbide green, Cadmium yellow, cadmium red; metal sulfides such as mercury sulfide; selenides; sulfates such as lead sulfate; silicates such as ultramarine; carbonates, cobalt biored; phosphates such as manganese purple; aluminum powder, zinc dust Metal powders such as brass powder, magnesium powder, iron powder, copper powder and nickel powder; carbon black and the like.

また、その他の着色、防錆、体質顔料のいずれも使用することができる。これらは単独でも2種以上を併用してもよい。   In addition, any of other coloring, rust prevention, and extender pigments can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の熱硬化性ポリイミド樹脂組成物は、有機系、無機−金属系のフィルム状基材やガラスクロス、ポリアラミドクロス等の織物基材に通常、キャスト法、含浸、塗装等目的の方法で塗工施行される。硬化温度は80〜300℃で、硬化時間は20分間〜5時間である。   The thermosetting polyimide resin composition of the present invention is usually applied to a textile substrate such as an organic or inorganic-metal film substrate or glass cloth or polyaramid cloth by a method such as casting, impregnation or coating. The coating is enforced. The curing temperature is 80 to 300 ° C., and the curing time is 20 minutes to 5 hours.

次に、本発明を実施例、比較例によりさらに具体的に説明する。以下において、部および%は特に断りのない限り、すべて重量基準である。   Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In the following, all parts and percentages are by weight unless otherwise specified.

実施例1
<ポリイミド樹脂の製造>
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを付けたフラスコに、DMAC(ジメチルアセトアミド)140gと、TMEG(エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート)98.4g(0.24モル)と、BPS(ビスフェノールS)40g(0.16モル)と、MDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)40g(0.16モル)とHDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)26.9g(0.16モル)を仕込み、攪拌を行いながら発熱に注意して80℃に昇温し、この温度で1時間かけて溶解、反応させ、更に2時間かけて120℃まで昇温した後、この温度で1時間反応させた。反応は炭酸ガスの発泡とともに進行し、系内は茶色の液体となった。 DMACにて樹脂固形分濃度を55%に調整し、25℃での粘度が100Pa・sのポリイミド樹脂(X−1)の溶液を得た。
Example 1
<Manufacture of polyimide resin>
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 140 g of DMAC (dimethylacetamide), 98.4 g (0.24 mol) of TMEG (ethylene glycol bisanhydrotrimellitate), and 40 g of BPS (bisphenol S) ( 0.16 mol), 40 g (0.16 mol) of MDI (diphenylmethane diisocyanate) and 26.9 g (0.16 mol) of HDI (hexamethylene diisocyanate), and while stirring, pay attention to heat generation at 80 ° C. The temperature was raised, the mixture was dissolved and reacted at this temperature for 1 hour, and further heated to 120 ° C. over 2 hours, and then reacted at this temperature for 1 hour. The reaction proceeded with the foaming of carbon dioxide, and the system became a brown liquid. The resin solid content concentration was adjusted to 55% with DMAC to obtain a polyimide resin (X-1) solution having a viscosity at 25 ° C. of 100 Pa · s.

得られたポリイミド樹脂(X−1)の溶液をKBr板に塗装し、溶剤を揮発させた試料の赤外線吸収スペクトルを測定した結果、イソシアネート基の特性吸収である2270cm−1が完全に消滅し、725cm−1と1780cm−1と1720cm−1にイミド環の特性吸収が確認された。また炭酸ガスの発生量は、フラスコ仕込み重量の変化で追跡し、21.1g(0.48モル)であった。これよりTMEGの酸無水物基の全量0.48モルの全量がイミド結合に変換していて、残りのイソシアネート基は、BPSとウレタン結合にて樹脂に連結されている構造と結論される。 As a result of coating the obtained polyimide resin (X-1) solution on a KBr plate and measuring the infrared absorption spectrum of the sample in which the solvent was volatilized, 2270 cm −1, which is the characteristic absorption of the isocyanate group, completely disappeared. Characteristic absorption of the imide ring was confirmed at 725 cm −1 , 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . Further, the amount of carbon dioxide generated was 21.1 g (0.48 mol), which was traced by the change in the weight charged to the flask. From this, it is concluded that a total amount of 0.48 mol of TMEG acid anhydride groups is converted to imide bonds, and the remaining isocyanate groups are linked to the resin by BPS and urethane bonds.

<熱硬化性ポリイミド樹脂組成物の調製>
以下の第1表に示す配合にて熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を調製した。なお、表中の数値はいずれも固形換算分での配合量(重量部)を表す。
<Preparation of thermosetting polyimide resin composition>
A thermosetting polyimide resin composition 1 was prepared with the formulation shown in Table 1 below. In addition, all the numerical values in a table | surface represent the compounding quantity (weight part) in a solid conversion part.

得られた熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を用いて相溶性、塗膜造膜性、耐熱性、機械物性、電気特性、寸法安定性及び保存安定性を下記方法に従って評価した。その結果を第3表に示す。   Using the obtained thermosetting polyimide resin composition 1, the compatibility, film-forming property, heat resistance, mechanical properties, electrical properties, dimensional stability and storage stability were evaluated according to the following methods. The results are shown in Table 3.

(1)相溶性の評価
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を調製した際の相溶状態と、調製後の熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1をガラス板に塗装し、120℃で乾燥した後の塗膜の状態を、下記の評価基準で評価した。
評価基準
◎:熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1の調製において攪拌により容易に均一となり、塗膜面にも異物等が見られない。
○:熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1の調製において攪拌により均一となり、塗膜面にも異物等が見られない。
△:熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1の調製において攪拌により均一になりにくく、塗膜面にもやや異物等が見られる。
×:熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1の調製において均一に溶解せず、塗膜面は、はじき、異物、不溶解物が確認できる。
(1) Compatibility Evaluation After the thermosetting polyimide resin composition 1 was prepared, the compatibility state and the prepared thermosetting polyimide resin composition 1 were coated on a glass plate and dried at 120 ° C. The state of the coating film was evaluated according to the following evaluation criteria.
Evaluation Criteria A: In the preparation of the thermosetting polyimide resin composition 1, it becomes uniform easily by stirring, and no foreign matter or the like is seen on the coating surface.
○: In the preparation of the thermosetting polyimide resin composition 1, it becomes uniform by stirring, and no foreign matter or the like is observed on the coating surface.
(Triangle | delta): It is hard to become uniform by stirring in preparation of the thermosetting polyimide resin composition 1, and a foreign material etc. are somewhat seen on the coating-film surface.
X: It does not melt | dissolve uniformly in preparation of the thermosetting polyimide resin composition 1, and a coating film surface can confirm a repelling, a foreign material, and an insoluble matter.

(2)塗膜造膜性の評価
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を乾燥後の膜厚が30μmになるようにブリキ板にアプリケーターにて塗布後、110℃で30分間乾燥させて得た試験片を、室温にて24時間放置し、塗膜外観を以下の評価基準で評価した。
評価基準
○:塗膜にクラック等の異常は見られない。
△:塗膜に若干クラックが見られる。
×:塗膜全面にクラックが発生した。
(2) Evaluation of coating film-forming property A test obtained by applying thermosetting polyimide resin composition 1 to a tin plate with an applicator so that the film thickness after drying was 30 μm, followed by drying at 110 ° C. for 30 minutes. The piece was allowed to stand at room temperature for 24 hours, and the appearance of the coating film was evaluated according to the following evaluation criteria.
Evaluation criteria ○: No abnormalities such as cracks are observed in the coating film.
Δ: Some cracks are observed in the coating film.
X: Cracks occurred on the entire surface of the coating film.

(3)耐熱性の評価
耐熱性の評価は硬化塗膜のガラス転移点(Tg)を測定することにより行った
<試験用試験片の作製>
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を硬化後の膜厚が50μmになるようにブリキ基板上に塗装し、70℃の乾燥機で30分間乾燥した後、200℃でそれぞれ1時間硬化させて、硬化塗膜を作成し、室温まで冷却した後、硬化塗膜を塗装板から切り出し、Tg測定用試料とした。
(3) Evaluation of heat resistance The evaluation of heat resistance was performed by measuring the glass transition point (Tg) of the cured coating film.
<Preparation of test specimen>
The thermosetting polyimide resin composition 1 was coated on a tin plate so that the film thickness after curing was 50 μm, dried for 30 minutes with a dryer at 70 ° C., and then cured at 200 ° C. for 1 hour, respectively. After a coating film was created and cooled to room temperature, the cured coating film was cut out from the coated plate and used as a sample for Tg measurement.

<Tg測定方法>
前記Tg測定用試料を用い、下記の条件で動的粘弾性を測定し、得られたスペクトルのTanδの最大の温度をTgとした。Tgの値が高いほど耐熱性に優れる塗膜であることを表す。
測定機器:レオメトッリク社製粘弾性測定装置RSA−II
治具:引張試験用治具
チャック間:20mm
測定温度:25〜300℃
測定周波数:1Hz
昇温速度:3℃/min
<Tg measurement method>
Using the Tg measurement sample, dynamic viscoelasticity was measured under the following conditions, and the maximum temperature of Tan δ of the obtained spectrum was defined as Tg. It represents that it is a coating film which is excellent in heat resistance, so that the value of Tg is high.
Measuring instrument: Viscoelasticity measuring device RSA-II manufactured by Rheometric
Jig: Tensile test jig Between chucks: 20 mm
Measurement temperature: 25-300 ° C
Measurement frequency: 1Hz
Temperature increase rate: 3 ° C / min

(4)機械物性の評価
機械物性は塗膜の引張試験を行うことにより評価した。
<試験片の作製>
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を硬化後の膜厚が50μmになるようにブリキ基板上に塗装した。次いで、この塗装板を70℃の乾燥機で20分間乾燥した後、200℃で1時間硬化させて硬化塗膜を作成した。室温まで冷却した後、硬化塗膜を所定の大きさに切り出し、基板から単離して測定用試料とした。
(4) Evaluation of mechanical properties Mechanical properties were evaluated by conducting a tensile test of the coating film.
<Preparation of test piece>
The thermosetting polyimide resin composition 1 was coated on a tin substrate so that the film thickness after curing was 50 μm. Next, this coated plate was dried with a dryer at 70 ° C. for 20 minutes and then cured at 200 ° C. for 1 hour to prepare a cured coating film. After cooling to room temperature, the cured coating film was cut into a predetermined size, isolated from the substrate, and used as a measurement sample.

<引張試験測定方法>
測定用試料を5枚作成し、下記の条件で引張試験を行い、破断強度と破断伸度を求めた。破断強度と破断伸度の値が高いほど機械物性に優れる塗膜であることを表す。
測定機器:東洋ボールドウィン社製テンシロン
サンプル形状:10mm×70mm
チャック間:20mm
引張速度:10mm/min
測定雰囲気:22℃、45%RH
<Tensile test measurement method>
Five samples for measurement were prepared and subjected to a tensile test under the following conditions to determine the breaking strength and breaking elongation. It represents that it is a coating film which is excellent in mechanical physical property, so that the value of breaking strength and breaking elongation is high.
Measuring instrument: Tensilon manufactured by Toyo Baldwin, Inc. Sample shape: 10 mm x 70 mm
Between chucks: 20 mm
Tensile speed: 10 mm / min
Measurement atmosphere: 22 ° C., 45% RH

(7)電気特性の評価
電気特性は塗膜の誘電率(ε)と誘電損失(Tanδ)を測定することにより評価した。
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を硬化後の膜厚が100μmになるようにブリキ基板上に塗装し、70℃の乾燥機で20分間乾燥した後、200℃で1時間硬化させ冷却した後、剥離した硬化塗膜を切り出した測定用試料を、アジレントテクノロジー社製4291Bを用いて、周波数は500MHzの条件で誘電率(ε)と誘電損失(Tanδ)を測定した。
(7) Evaluation of electrical characteristics The electrical characteristics were evaluated by measuring the dielectric constant (ε) and dielectric loss (Tanδ) of the coating film.
The thermosetting polyimide resin composition 1 was coated on a tinplate substrate so that the film thickness after curing was 100 μm, dried for 20 minutes with a 70 ° C. drier, then cured at 200 ° C. for 1 hour and cooled, A dielectric sample (ε) and dielectric loss (Tan δ) were measured using a 4291B manufactured by Agilent Technology Co., Ltd., with a frequency of 500 MHz.

(8)寸法安定性
寸法安定性は塗膜の線膨張係数を測定することにより評価した。
<試験用試験片の作製>
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を硬化後の膜厚が50μmになるようにブリキ基板上に塗装し、70℃の乾燥機で20分間乾燥した後、200℃で1時間硬化させ冷却した後、剥離した硬化塗膜を幅5mm、長さ30mmに切り出し、測定用試料とした。
(8) Dimensional stability Dimensional stability was evaluated by measuring the linear expansion coefficient of the coating film.
<Preparation of test specimen>
The thermosetting polyimide resin composition 1 was coated on a tinplate substrate so that the film thickness after curing was 50 μm, dried for 20 minutes with a dryer at 70 ° C., then cured at 200 ° C. for 1 hour and cooled, The peeled cured coating film was cut into a width of 5 mm and a length of 30 mm, and used as a measurement sample.

<線膨張係数測定方法>
セイコー電子(株)製熱分析システムTMA−SS6000を用いて、試料長10mm、昇温速度10℃/分、荷重49mNの条件でTMA(Thermal Mechanical Analysis)法により測定した。なお、線膨張係数に使用した温度域は40〜50℃での試料長の変位より求めた。線膨張係数が小さいほど寸法安定性に優れることを示す。
<Method of measuring linear expansion coefficient>
Using a thermal analysis system TMA-SS6000 manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd., measurement was performed by the TMA (Thermal Mechanical Analysis) method under the conditions of a sample length of 10 mm, a heating rate of 10 ° C./min, and a load of 49 mN. In addition, the temperature range used for the linear expansion coefficient was calculated | required from the displacement of the sample length in 40-50 degreeC. The smaller the linear expansion coefficient, the better the dimensional stability.

(9)保存安定性(熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1の保存安定性)
熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1を25mlのガラス容器に20ml入れて密封した。この状態で室温で1週間放置した後の状態を観察した。
(9) Storage stability (storage stability of thermosetting polyimide resin composition 1)
20 ml of thermosetting polyimide resin composition 1 was placed in a 25 ml glass container and sealed. In this state, the state after standing for 1 week at room temperature was observed.

実施例2(同上)
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを付けたフラスコに、DMAC 156.8gと、TMEG 65.6g(0.16モル)と、BP(ビフェノール)29.8g(0.16モル)と、MDI 40g(0.16モル)と、1,6−ヘキサンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート環を有するポリイソシアネート(以下、HDI−Nと略記する。イソシアネート基含有率23.5%、イソシアヌレート環含有トリイソシアネート含有率63.3%)21.4g(イソシアネート基として0.12モル)を仕込み、攪拌を行いながら発熱に注意して100℃に昇温し、この温度で7時間反応させた。反応は発泡とともに進行し、系内はクリアな茶色の液体となった。25℃での粘度が15Pa・sのポリイミド樹脂(X−2)の溶液を得た。
Example 2 (same as above)
A flask equipped with a stirrer, thermometer and condenser was charged with 156.8 g of DMAC, 65.6 g (0.16 mol) of TMEG, 29.8 g (0.16 mol) of BP (biphenol), and 40 g of MDI (0 .16 mol) and a polyisocyanate having an isocyanurate ring derived from 1,6-hexane diisocyanate (hereinafter abbreviated as HDI-N. Isocyanate group content 23.5%, isocyanurate ring-containing triisocyanate content) 63.3%) 21.4 g (0.12 mol as an isocyanate group) was charged, and the temperature was raised to 100 ° C. with attention to heat generation while stirring, and the mixture was reacted at this temperature for 7 hours. The reaction proceeded with foaming, and the system became a clear brown liquid. A solution of polyimide resin (X-2) having a viscosity at 25 ° C. of 15 Pa · s was obtained.

得られたポリイミド樹脂(X−2)の溶液をKBr板に塗装し、溶剤を揮発させた試料の赤外線吸収スペクトルを測定した結果、イソシアネート基の特性吸収である2270cm−1が完全に消滅し、725cm−1と1780cm−1と1720cm−1にイミド環の特性吸収、の特性吸収が確認された。また、1690cm−1と1460cm−1にイソシアヌレート環の特性吸収が確認された。 As a result of coating the obtained polyimide resin (X-2) solution on a KBr plate and measuring the infrared absorption spectrum of the sample in which the solvent was volatilized, 2270 cm −1, which is the characteristic absorption of the isocyanate group, disappeared completely. Characteristic absorption of the imide ring was confirmed at 725 cm −1 , 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . Moreover, the characteristic absorption of the isocyanurate ring was confirmed at 1690 cm −1 and 1460 cm −1 .

炭酸ガスの発生量は、フラスコ仕込み重量の変化で追跡し、12.3g(0.28モル)であった。これよりTMEGの酸無水物基の全量0.32モルの内、0.28モル(87.5%)がイミド結合に変換していて、さらにMDIとHDI−Nのイソシアネート基全量0.44モルの内、0.28モル(63.6%)がイミド結合に変換され、残りのイソシアネート基は、BPとウレタン結合にて樹脂に連結されている構造と結論される。   The amount of carbon dioxide generated was 12.3 g (0.28 mol), which was monitored by the change in the weight charged to the flask. From this, 0.28 mol (87.5%) of the total amount of TMEG acid anhydride groups was converted to imide bonds, and the total amount of MDI and HDI-N isocyanate groups was 0.44 mol. It is concluded that 0.28 mol (63.6%) is converted to an imide bond, and the remaining isocyanate groups are linked to the resin by BP and urethane bonds.

第1表に示す配合で配合した以外は実施例1と同様にして熱硬化性ポリイミド樹脂組成物2を調製した。これを用いて実施例1と同様に各種評価を行い、その結果を第3表に示す。   A thermosetting polyimide resin composition 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition shown in Table 1 was used. Using this, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.

実施例3(同上)
第1表に示す配合で配合した以外は実施例1と同様にして熱硬化性ポリイミド樹脂組成物3を調製した。これを用いて実施例1と同様に各種評価を行い、その結果を第3表に示す。
Example 3 (same as above)
A thermosetting polyimide resin composition 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was blended according to the blending shown in Table 1. Using this, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.

実施例4(同上)
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを付けたフラスコに、γ−ブチロラクトン 184gと、TMEG 82.0g(0.2モル)と、BPF(ビフェノールF)40.4g(0.2モル)と、TDI(トリレンジイソシアネート) 34.8g(0.2モル)と、1,6−ヘキサンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート環を有するポリイソシアネート(以下、HDI−Nと略記する。イソシアネート基含有率23.5%、イソシアヌレート環含有トリイソシアネート含有率63.3%)26.8g(イソシアネート基として0.15モル)を仕込み、攪拌を行いながら発熱に注意して120℃に昇温し、この温度で7時間反応させた。反応は発泡とともに進行し、系内はクリアな茶色の液体となった。 25℃での粘度が7Pa・sのポリイミド樹脂(X−3)の溶液を得た。
Example 4 (same as above)
To a flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 184 g of γ-butyrolactone, 82.0 g (0.2 mol) of TMEG, 40.4 g (0.2 mol) of BPF (biphenol F), and TDI (triol) (3) Diisocyanate) 34.8 g (0.2 mol) and a polyisocyanate having an isocyanurate ring derived from 1,6-hexane diisocyanate (hereinafter abbreviated as HDI-N. Isocyanate group content 23.5%, Charge 26.8g (isocyanate group-containing triisocyanate content: 63.3%) (0.15 mol as isocyanate group), raise the temperature to 120 ° C while taking care of heat generation while stirring, and react at this temperature for 7 hours I let you. The reaction proceeded with foaming, and the system became a clear brown liquid. A solution of polyimide resin (X-3) having a viscosity at 25 ° C. of 7 Pa · s was obtained.

得られたポリイミド樹脂(X−3)の溶液をKBr板に塗装し、溶剤を揮発させた試料の赤外線吸収スペクトルを測定した結果、イソシアネート基の特性吸収である2270cm−1が完全に消滅し、725cm−1と1780cm−1と1720cm−1にイミド環の特性吸収、の特性吸収が確認された。また、1690cm−1と1460cm−1にイソシアヌレート環の特性吸収が確認された。 As a result of coating the obtained polyimide resin (X-3) solution on a KBr plate and measuring the infrared absorption spectrum of the sample in which the solvent was volatilized, 2270 cm −1, which is the characteristic absorption of the isocyanate group, completely disappeared. Characteristic absorption of the imide ring was confirmed at 725 cm −1 , 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . Moreover, the characteristic absorption of the isocyanurate ring was confirmed at 1690 cm −1 and 1460 cm −1 .

炭酸ガスの発生量は、フラスコ仕込み重量の変化で追跡し、15.4g(0.35モル)であった。 これよりTMEGの酸無水物基の全量0.4モルの内、0.35モル(87.5%)がイミド結合に変換していて、さらにTDIとHDI−Nのイソシアネート基全量0.44モルの内、0.55モル(63.6%)がイミド結合に変換され、残りのイソシアネート基は、BPFとウレタン結合にて樹脂に連結されている構造と結論される。   The amount of carbon dioxide gas generated was 15.4 g (0.35 mol), which was monitored by the change in the weight charged to the flask. From this, 0.35 mol (87.5%) of the total amount of TMEG acid anhydride groups was converted to imide bonds, and the total amount of isocyanate groups of TDI and HDI-N was 0.44 mol. It is concluded that 0.55 mol (63.6%) is converted to an imide bond, and the remaining isocyanate groups are linked to the resin by BPF and urethane bonds.

第1表に示す配合で配合した以外は実施例1と同様にして熱硬化性ポリイミド樹脂組成物4を調製した。これを用いて実施例1と同様に各種評価を行い、その結果を第3表に示す。   A thermosetting polyimide resin composition 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was blended according to the blending shown in Table 1. Using this, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.

比較例1(比較対照用ポリイミド樹脂の合成)
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを付けた20リットルのフラスコに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート4951gと、IPDI−N2760g(イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート化合物、NCO含有率18.26%、イソシアネート基として12モル)と、ポリテールHA〔三菱化学(株)製の両末端に水酸基を有する水素添加液状ポリブタジエン、数平均分子量2,100、水酸基価51.2mgKOH/g〕2191g(水酸基として2モル)を仕込み、攪拌を行いながら発熱に注意して80℃に昇温した後、3時間反応を行った。次いで、さらにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート1536gとトリメリット酸無水物1536g(8モル)を仕込み、160℃まで昇温した後、4時間反応させた。反応は発泡とともに進行した。系内は薄茶色のクリアな液体となり、ポリイミド樹脂(X′−1)の溶液を得た。
Comparative Example 1 (Synthesis of polyimide resin for comparison)
In a 20-liter flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4951 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 2760 g of IPDI-N (isophorone diisocyanate isocyanurate compound, NCO content 18.26%, 12 mol as isocyanate group) , Polytail HA [Mitsubishi Chemical Co., Ltd., hydrogenated liquid polybutadiene having hydroxyl groups at both ends, number average molecular weight 2,100, hydroxyl value 51.2 mg KOH / g] 2191 g (2 mol as hydroxyl group) was charged and stirred. The temperature was raised to 80 ° C. while paying attention to heat generation, and the reaction was carried out for 3 hours. Next, 1536 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 1536 g (8 mol) of trimellitic anhydride were charged, and the temperature was raised to 160 ° C., followed by reaction for 4 hours. The reaction proceeded with foaming. The system became a light brown clear liquid, and a solution of polyimide resin (X′-1) was obtained.

得られたポリイミド樹脂(X′−1)の溶液を用いた以外は合成例1と同様にして赤外線吸収スペクトルを測定した結果、イソシアネート基の特性吸収である2270cm−1が完全に消滅し、725cm−1と1780cm−1と1720cm−1にイミド環の吸収、1690cm−1と1460cm−1にイソシアヌレート環の特性吸収、1550cm−1にウレタン結合の特性吸収が確認された。また、ポリイミド樹脂の酸価は79(樹脂固形分換算)で、イソシアヌレート環の濃度は0.66mmol/g(樹脂固形分換算)であった。 The infrared absorption spectrum was measured in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the obtained polyimide resin (X′-1) solution was used. As a result, 2270 cm −1, which is the characteristic absorption of the isocyanate group, disappeared completely, and 725 cm. absorption of imide ring to -1 and 1780 cm -1 and 1720 cm -1, characteristic absorption of isocyanurate ring at 1690 cm -1 and 1460 cm -1, characteristic absorption of the urethane bond at 1550 cm -1. Moreover, the acid value of the polyimide resin was 79 (resin solid content conversion), and the concentration of the isocyanurate ring was 0.66 mmol / g (resin solid content conversion).

第2表に示す配合で配合した以外は実施例1と同様にして比較対照用熱硬化性ポリイミド樹脂組成物1´を調製した。これを用いて実施例1と同様に各種評価を行い、その結果を第4表に示す。   A comparative thermosetting polyimide resin composition 1 ′ was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition shown in Table 2 was used. Using this, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 4.

比較例2及び比較例3
第2表に示す配合で配合した以外は実施例1と同様にして比較対照用熱硬化性樹脂組成物2´及び比較対照用熱硬化性樹脂組成物3´を調製した。これを用いて実施例1と同様に各種評価を行い、その結果を第4表に示す。
Comparative Example 2 and Comparative Example 3
A comparative thermosetting resin composition 2 'and a comparative thermosetting resin composition 3' were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition shown in Table 2 was used. Using this, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 4.

Figure 0004998642
Figure 0004998642

Figure 0004998642
Figure 0004998642

Figure 0004998642
Figure 0004998642

Figure 0004998642
Figure 0004998642

第3表の結果から明らかなように、実施例1〜4の熱硬化性ポリイミド樹脂組成物からなる硬化塗膜は、非常に高いTgを示しており、高温においても耐熱性を発揮できる材料と言える。さらに、こうした高Tgを有しながら、誘電率と誘電正接が低く誘電特性が良好で、機械物性的にも強靭であり、線膨張係数も極めて低い。さらに貯蔵安定性にも優れている結果であった。   As is apparent from the results in Table 3, the cured coating film made of the thermosetting polyimide resin composition of Examples 1 to 4 has a very high Tg, and is a material that can exhibit heat resistance even at high temperatures. I can say that. Furthermore, while having such a high Tg, the dielectric constant and dielectric loss tangent are low, the dielectric properties are good, the mechanical properties are tough, and the linear expansion coefficient is extremely low. Furthermore, the result was excellent in storage stability.

一方、比較例1〜3の熱硬化性樹脂組成物からなる硬化塗膜は、本発明の熱硬化性ポリイミド樹脂組成物からなる硬化塗膜に比較して、破断強度と破断伸度においても低い結果であり、しかも線膨張係数も極めて高い結果であった。また貯蔵安定性も悪い結果であった。   On the other hand, the cured coating film made of the thermosetting resin composition of Comparative Examples 1 to 3 is lower in breaking strength and breaking elongation than the cured coating film made of the thermosetting polyimide resin composition of the present invention. This was a result, and the linear expansion coefficient was extremely high. The storage stability was also poor.

Claims (4)

2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)とを反応させるポリイミド樹脂の製造方法であり、酸無水物(a3)がエチレングリコールビスアンヒドロトリメリテートであることを特徴とするポリイミド樹脂の製造方法。   A method for producing a polyimide resin in which a polyphenol compound (a1) having two or more phenolic hydroxyl groups, a polyisocyanate compound (a2), and an acid anhydride (a3) are reacted, wherein the acid anhydride (a3) is ethylene glycol bis A method for producing a polyimide resin, which is anhydrotrimellitate. 前記ポリフェノール化合物(a1)が2個のフェノール性水酸基を含有するポリフェノール化合物である請求項1記載のポリイミド樹脂の製造方法。   The method for producing a polyimide resin according to claim 1, wherein the polyphenol compound (a1) is a polyphenol compound containing two phenolic hydroxyl groups. 前記ポリフェノール化合物(a1)がビスフェノール系化合物である請求項2記載のポリイミド樹脂の製造方法。   The method for producing a polyimide resin according to claim 2, wherein the polyphenol compound (a1) is a bisphenol compound. 前記2個以上のフェノール性水酸基を有するポリフェノール化合物(a1)とポリイソシアネート化合物(a2)と酸無水物(a3)とを、(a1)、(a2)および(a3)の合計重量に対してそれぞれ5〜50重量%、20〜70重量%、20〜70重量%となるように用いて反応させる請求項1記載のポリイミド樹脂の製造方法。   The polyphenol compound (a1), the polyisocyanate compound (a2), and the acid anhydride (a3) having two or more phenolic hydroxyl groups, respectively, with respect to the total weight of (a1), (a2), and (a3) The method for producing a polyimide resin according to claim 1, wherein the reaction is carried out so as to be 5 to 50 wt%, 20 to 70 wt%, or 20 to 70 wt%.
JP2011214479A 2005-12-15 2011-09-29 Method for producing polyimide resin Expired - Fee Related JP4998642B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011214479A JP4998642B2 (en) 2005-12-15 2011-09-29 Method for producing polyimide resin

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005361691 2005-12-15
JP2005361691 2005-12-15
JP2011214479A JP4998642B2 (en) 2005-12-15 2011-09-29 Method for producing polyimide resin

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006035215A Division JP5158400B2 (en) 2005-12-15 2006-02-13 Method for producing polyimide resin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011256403A JP2011256403A (en) 2011-12-22
JP4998642B2 true JP4998642B2 (en) 2012-08-15

Family

ID=45472913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011214479A Expired - Fee Related JP4998642B2 (en) 2005-12-15 2011-09-29 Method for producing polyimide resin

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4998642B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2962528A1 (en) * 2013-02-27 2016-01-06 Tata Steel Nederland Technology B.V. Protective system for use in induction heating

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11293223A (en) * 1998-04-09 1999-10-26 Toyobo Co Ltd Heat-resistant adhesive and flexible printed wiring board prepared by using the same
JP2001329243A (en) * 2000-05-22 2001-11-27 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive, adhesive film, lead frame with adhesive film, and semiconductor unit therewith
JP4552109B2 (en) * 2003-12-22 2010-09-29 Dic株式会社 Thermosetting polyimide resin composition and cured product thereof
JP4103142B2 (en) * 2004-03-31 2008-06-18 荒川化学工業株式会社 Process for producing methoxysilyl group-containing silane-modified polyimidesiloxane resin, the resin, the resin composition, a cured film, and a metal foil laminate

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011256403A (en) 2011-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5516640B2 (en) Thermosetting resin composition
TWI299048B (en) Thermosetting polymide resin composition, process for producing polymide resin and polymide resin
JP5040284B2 (en) Thermosetting resin composition
JP4217952B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition, method for producing polyimide resin, and polyimide resin
JP4716149B2 (en) Polyimide resin, curable polyimide resin composition and cured product
WO1999036454A1 (en) Modified polyimide resin and thermosetting resin composition containing the same
JP2001316469A (en) Amide-imide resin containing carboxyl group and/or imide resin containing carboxyl group
JP5158400B2 (en) Method for producing polyimide resin
JP4552104B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition, method for producing polyimide resin, and polyimide resin
JP4998642B2 (en) Method for producing polyimide resin
JP4552109B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition and cured product thereof
JP5119757B2 (en) Polyimide resin composition
JP5012819B2 (en) Polyimide resin composition
JP4355837B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition, method for producing polyimide resin, and polyimide resin
WO2010098296A1 (en) Polyimide resin, process for production of polyimide resin, polyimide resin compositions, and cured products of same
JP4379676B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition, method for producing polyimide resin, and polyimide resin
JP5212418B2 (en) Resin production method
JP5245765B2 (en) Thermosetting resin composition
JP4259134B2 (en) Polyimide resin composition
JP2008280431A (en) Thermosetting polyimide resin composition
JP5233329B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition
JP4356338B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition and method for producing polyimide resin composition
JP4355838B2 (en) Thermosetting polyimide resin composition, method for producing polyimide resin, and polyimide resin
JP2010006894A (en) Thermosetting resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110929

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20111031

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120417

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120430

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees