JP4982984B2 - Polymer light emitter composition and polymer light emitting device - Google Patents

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Description

本発明は、高分子発光体組成物、高分子発光体溶液組成物およびそれを用いた高分子発光素子(高分子LED)に関する。   The present invention relates to a polymer light emitter composition, a polymer light emitter solution composition, and a polymer light emitting device (polymer LED) using the same.

高分子発光体(高分子量の発光材料)は低分子量のそれとは異なり溶媒に可溶であるため塗布法により発光素子における発光層を形成でき、素子の大面積化の要求に合致している。このため、近年種々の高分子発光材料が提案されている(例えば、非特許文献1)。   Unlike a low molecular weight light emitting material (high molecular weight light emitting material), which is soluble in a solvent, a light emitting layer in a light emitting element can be formed by a coating method, which meets the demand for a large area of the element. For this reason, various polymer light emitting materials have been proposed in recent years (for example, Non-Patent Document 1).

Advanced Materials Vol.12 1737-1750 (2000)Advanced Materials Vol.12 1737-1750 (2000)

ところで、発光素子は、その発光効率が高い、すなわち電流あたりの発光輝度が高いことが望まれる。
しかしながら、高分子発光体を用いたときに、その素子の効率は未だ十分なものではなかった。
本発明の目的は、発光素子の発光層に用いたとき、効率の高い発光素子を与えることができる高分子発光体組成物を提供することにある。
By the way, the light emitting element is desired to have high light emission efficiency, that is, high light emission luminance per current.
However, when a polymer light emitter is used, the efficiency of the device has not yet been sufficient.
An object of the present invention is to provide a polymer light-emitting composition capable of providing a light-emitting element with high efficiency when used in a light-emitting layer of a light-emitting element.

本発明者等は、上記課題を解決すべく検討した結果、発光素子の発光層の材料として、高分子発光体に、特定の構造の化合物を含有させた組成物を用いると、効率の著しく向上した発光素子を与えることを見出し、本発明に至った。   As a result of investigations to solve the above problems, the present inventors have significantly improved efficiency when a composition containing a compound having a specific structure is used as a material of a light emitting layer of a light emitting element. The present inventors have found that a light-emitting element can be obtained, and have reached the present invention.

すなわち本発明は、高分子発光体と、下記式(1a)および(1b)から選ばれる化合物とを含有する高分子発光体組成物を提供するものである。

Figure 0004982984

(Xは、式中の2個のベンゼン環上の4個の炭素原子と一緒になって5員環または6員環を形成するための原子または原子団を表し、R1〜R46はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、置換アミノ基、アミド基、酸イミド基、アシルオキシ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、シアノ基またはニトロ基を表す。) That is, the present invention provides a polymer light emitter composition comprising a polymer light emitter and a compound selected from the following formulas (1a) and (1b).
Figure 0004982984

(X represents an atom or an atomic group for forming a 5-membered ring or a 6-membered ring together with 4 carbon atoms on two benzene rings in the formula, and R 1 to R 46 are respectively Independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, arylalkenyl group , Arylalkynyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, substituted amino group, amide group, acid imide group, acyloxy group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, cyano group Or represents a nitro group.)

また、本発明は、上記高分子発光体、上記式(1a)および(1b)から選ばれる化合物に加え、さらに溶媒を含有する高分子発光体溶液組成物に関する。   The present invention also relates to a polymer light emitter solution composition containing a solvent in addition to the polymer light emitter and the compound selected from the above formulas (1a) and (1b).

本発明の高分子発光体組成物を発光素子の発光層に含有させることにより、その素子の効率を高くすることができる。したがって、本発明の高分子発光体組成物を使用した高分子LEDは、液晶ディスプレイのバックライトまたは照明用としての曲面状や平面状の光源、セグメントタイプの表示素子、ドットマトリックスのフラットパネルディスプレイ等の装置に好ましく使用できる。   By incorporating the light emitting polymer composition of the present invention in the light emitting layer of the light emitting device, the efficiency of the device can be increased. Therefore, the polymer LED using the polymer light emitter composition of the present invention is a curved or flat light source for backlight or illumination of a liquid crystal display, a segment type display element, a dot matrix flat panel display, etc. It can be preferably used in the apparatus.

本発明の組成物に用いる化合物は、上記式(1a)または(1b)で示されることを特徴とする。   The compound used in the composition of the present invention is represented by the above formula (1a) or (1b).

式(1a)または(1b)中のR1〜R46における、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、よう素が例示される。 Examples of the halogen atom in R 1 to R 46 in the formula (1a) or (1b) include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

アルキル基は、直鎖、分岐または環状のいずれでもよく、置換基を有していてもよく、
全炭素数が通常1〜20程度であり、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、 i−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基などが例示される。置換基としては、ハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。
The alkyl group may be linear, branched or cyclic, and may have a substituent,
The total number of carbon atoms is usually about 1 to 20, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, t-butyl group, pentyl group, and hexyl group. Cyclohexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, lauryl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl Group, perfluorooctyl group and the like. Examples of the substituent include halogen, oxetane group, epoxy group, oxetidinyl group, oxolidinyl group, oxolanyl group, oxanyl group, oxonanyl group, oxathiolanyl group, piperidyl group and the like.

アルキルオキシ基は、直鎖、分岐または環状のいずれでもよく、置換基を有していてもよく、全炭素数が通常1〜20程度であり、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、 i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、メトキシメチルオキシ基、2−メトキシエチルオキシ基などが例示される。置換基としてはハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 The alkyloxy group may be linear, branched or cyclic, and may have a substituent, and the total number of carbon atoms is usually about 1 to 20, and specific examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, Propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy Group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, perfluorobutoxy group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, methoxymethyloxy group, 2- A methoxyethyloxy group etc. are illustrated. Examples of the substituent include halogen, oxetane group, epoxy group, oxetidinyl group, oxolidinyl group, oxolanyl group, oxanyl group, oxonanyl group, oxathiolanyl group, piperidyl group and the like.

アルキルチオ基は、直鎖、分岐または環状のいずれでもよく、置換基を有していてもよく、全炭素数が通常1〜20程度であり、その具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、 i−プロピルチオ基、ブチルチオ基、 i−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、3,7−ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基などが例示される。置換基としてはハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 The alkylthio group may be linear, branched or cyclic, and may have a substituent. The total number of carbon atoms is usually about 1 to 20, and specific examples thereof include methylthio group, ethylthio group, propylthio group. Group, i-propylthio group, butylthio group, i-butylthio group, t-butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, cyclohexylthio group, heptylthio group, octylthio group, 2-ethylhexylthio group, nonylthio group, decylthio group, 3, Examples thereof include 7-dimethyloctylthio group, laurylthio group, trifluoromethylthio group and the like. Examples of the substituent include halogen, oxetane group, epoxy group, oxetidinyl group, oxolidinyl group, oxolanyl group, oxanyl group, oxonanyl group, oxathiolanyl group, piperidyl group and the like.

アリール基は、置換基を有していてもよく、全炭素数が通常3〜60程度であり、その具体例としては、フェニル基、C1〜C12アルコキシフェニル基(C1〜C12は、炭素数1〜12であることを示す。以下も同様である。)、C1〜C12アルキルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ペンタフルオロフェニル基などが例示される。置換基としてはハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 The aryl group may have a substituent, and the total carbon number is usually about 3 to 60. Specific examples thereof include a phenyl group, a C 1 to C 12 alkoxyphenyl group (C 1 to C 12 are , C 1 -C 12 alkylphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, pentafluorophenyl group, and the like. Examples of the substituent include halogen, oxetane group, epoxy group, oxetidinyl group, oxolidinyl group, oxolanyl group, oxanyl group, oxonanyl group, oxathiolanyl group, piperidyl group and the like.

アリールオキシ基は、芳香環上に置換基を有していてもよく、全炭素数が通常3〜60程度であり、その具体例としては、フェノキシ基、C1〜C12アルコキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基などが例示される。置換基としてはアルコキシ基、アルキル基、ハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 The aryloxy group may have a substituent on the aromatic ring and generally has about 3 to 60 carbon atoms. Specific examples thereof include a phenoxy group, a C 1 to C 12 alkoxyphenoxy group, a C Examples thereof include 1 to C 12 alkylphenoxy groups, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, pentafluorophenyloxy group and the like. Examples of the substituent include an alkoxy group, an alkyl group, a halogen, an oxetane group, an epoxy group, an oxetidinyl group, an oxolidinyl group, an oxolanyl group, an oxanyl group, an oxonanyl group, an oxathiolanyl group, and a piperidyl group.

アリールチオ基は、芳香環上に置換基を有していてもよく、全炭素数が通常3〜60程度であり、その具体例としては、フェニルチオ基、C1〜C12アルコキシフェニルチオ基、C1〜C12アルキルフェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基などが例示される。置換基としてはアルコキシ基、アルキル基、ハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 Arylthio group may have a substituent on the aromatic ring, the total carbon number of usually about 3 to 60, and specific examples thereof include phenylthio groups, C 1 -C 12 alkoxyphenyl-thio groups, C 1 -C 12 alkyl phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group, pentafluorophenylthio group and the like. Examples of the substituent include an alkoxy group, an alkyl group, a halogen, an oxetane group, an epoxy group, an oxetidinyl group, an oxolidinyl group, an oxolanyl group, an oxanyl group, an oxonanyl group, an oxathiolanyl group, and a piperidyl group.

アリールアルキル基は、置換基を有していてもよく、全炭素数が通常7〜60程度であり、その具体例としては、フェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキル基などが例示される。
置換基としてはアルコキシ基、アルキル基、ハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。
The arylalkyl group may have a substituent, and the total number of carbon atoms is usually about 7 to 60. Specific examples thereof include a phenyl-C 1 -C 12 alkyl group and a C 1 -C 12 alkoxyphenyl. -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl group Illustrated.
Examples of the substituent include an alkoxy group, an alkyl group, a halogen, an oxetane group, an epoxy group, an oxetidinyl group, an oxolidinyl group, an oxolanyl group, an oxanyl group, an oxonanyl group, an oxathiolanyl group, and a piperidyl group.

アリールアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよく、全炭素数が通常7〜60程度であり、その具体例としては、フェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルコキシ基、1−ナフチル−C1〜C12アルコキシ基、2−ナフチル−C1〜C12アルコキシ基などが例示される。置換基としてはアルコキシ基、アルキル基、ハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 The arylalkyloxy group may have a substituent, and the total number of carbon atoms is usually about 7 to 60. Specific examples thereof include a phenyl-C 1 -C 12 alkoxy group and a C 1 -C 12 alkoxy group. phenyl -C 1 -C 12 alkoxy group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkoxy groups, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkoxy groups, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkoxy group Is exemplified. Examples of the substituent include an alkoxy group, an alkyl group, a halogen, an oxetane group, an epoxy group, an oxetidinyl group, an oxolidinyl group, an oxolanyl group, an oxanyl group, an oxonanyl group, an oxathiolanyl group, and a piperidyl group.

アリールアルキルチオ基は、置換基を有していてもよく、全炭素数が通常7〜60程度であり、その具体例としては、フェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基などが例示される。置換基としてはアルコキシ基、アルキル基、ハロゲン、オキセタン基、エポキシ基、オキセチジニル基、オキソリジニル基、オキソラニル基、オキサニル基、オキソナニル基、オキサチオラニル基、ピペリジル基などが挙げられる。 Arylalkylthio group may have a substituent, the total carbon number of usually about 7 to 60, and specific examples thereof include a phenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylthio group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylthio group Illustrated. Examples of the substituent include an alkoxy group, an alkyl group, a halogen, an oxetane group, an epoxy group, an oxetidinyl group, an oxolidinyl group, an oxolanyl group, an oxanyl group, an oxonanyl group, an oxathiolanyl group, and a piperidyl group.

アルケニル基は、炭素数が通常2〜20程度であり、その具体例としてはビニル基、1−プロピレニル基、2−プロピレニル基、3−プロピレニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、シクロヘキセニル基が挙げられる。
また、アルケニル基には1,3−ブタジエニル基などのアルカジエニル基も含まれる。
The alkenyl group usually has about 2 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a vinyl group, a 1-propylenyl group, a 2-propylenyl group, a 3-propylenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and a heptenyl group. Octenyl group and cyclohexenyl group.
Alkenyl groups also include alkadienyl groups such as 1,3-butadienyl groups.

アルキニル基は、炭素数が通常2〜20程度であり、その具体例としてはエチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプテニル基、オクチニル基、シクロヘキシルエチニル基が挙げられる。また、アルキニル基には1,3−ブタジイニル基などのアルキジエニル基も含まれる。   The alkynyl group usually has about 2 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, butynyl group, pentynyl group, hexynyl group, heptenyl group, octynyl group, cyclohexylethynyl. Groups. In addition, the alkynyl group includes an alkydenyl group such as a 1,3-butadiynyl group.

アリールアルケニル基は、炭素数が通常8〜50程度であり、アリールアルケニルにおけるアリール基、アルケニル基としては、上記記載のアリール基、アルケニル基とそれぞれ同様のものが挙げられる。その具体例としては、1−アリールビニル基、2−アリールビニル基、1−アリール−1−プロピレニル基、2−アリール−1−プロピレニル基、2−アリール−2−プロピレニル基、3−アリール−2−プロピレニル基などが挙げられる。また、4−アリール−1,3−ブタジエニル基などのアリールアルカジエニル基も含まれる。   The arylalkenyl group usually has about 8 to 50 carbon atoms, and examples of the aryl group and alkenyl group in arylalkenyl include the same aryl groups and alkenyl groups as those described above. Specific examples thereof include 1-arylvinyl group, 2-arylvinyl group, 1-aryl-1-propylenyl group, 2-aryl-1-propylenyl group, 2-aryl-2-propylenyl group, and 3-aryl-2. -A propylenyl group etc. are mentioned. Also included are arylalkadienyl groups such as 4-aryl-1,3-butadienyl groups.

アリールアルキニル基は、炭素数が通常8〜50程度であり、アリールアルキニル基におけるアリール基、アルキニル基としては、上記のアリール基、アルキニル基とそれぞれ同様である。その具体例としては、アリールエチニル基、3−アリール−1−プロピオニル基、3−アリール−2−プロピオニル基等が挙げられる。また、4−アリール−1,3−ブタジイニルなどのアリールアルカジイニル基も含まれる。 The arylalkynyl group usually has about 8 to 50 carbon atoms, and the aryl group and alkynyl group in the arylalkynyl group are the same as the above aryl group and alkynyl group, respectively. Specific examples thereof include an arylethynyl group, a 3-aryl-1-propionyl group, and a 3-aryl-2-propionyl group. Also included are arylalkadiynyl groups such as 4-aryl-1,3-butadiynyl.

置換シリルオキシ基における置換シリル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリル基があげられ、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜30である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。具体的にはトリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリ−n−プロピルシリルオキシ基、トリ−i−プロピルシリルオキシ基、t−ブチルシリルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、t−ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基などが例示される。   Examples of the substituted silyl group in the substituted silyloxy group include a silyl group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a monovalent heterocyclic group. Usually, it is about 1-60, Preferably it is C3-C30. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent. Specifically, trimethylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, tri-n-propylsilyloxy group, tri-i-propylsilyloxy group, t-butylsilyldimethylsilyloxy group, triphenylsilyloxy group, tri-p- Examples include xylylsilyloxy group, tribenzylsilyloxy group, diphenylmethylsilyloxy group, t-butyldiphenylsilyloxy group, dimethylphenylsilyloxy group and the like.

置換シリルチオ基における置換シリル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリル基があげられ、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜30である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。具体的には、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリ−n−プロピルシリルチオ基、トリ−i−プロピルシリルチオ基、t−ブチルシリルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ−p−キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、t−ブチルジフェニルシリルチオ基、ジメチルフェニルシリルチオ基などが例示される。   Examples of the substituted silyl group in the substituted silylthio group include a silyl group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a monovalent heterocyclic group. Usually, it is about 1-60, Preferably it is C3-C30. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent. Specifically, trimethylsilylthio group, triethylsilylthio group, tri-n-propylsilylthio group, tri-i-propylsilylthio group, t-butylsilyldimethylsilylthio group, triphenylsilylthio group, tri-p -Xylylsilylthio group, tribenzylsilylthio group, diphenylmethylsilylthio group, t-butyldiphenylsilylthio group, dimethylphenylsilylthio group and the like are exemplified.

置換シリルアミノ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1〜6個の基で置換されたシリルアミノ基(H3SiNH−または(H3Si)2N−)が挙げられ、炭素数は通常1〜120であり、好ましくは炭素数3〜60である。なお、該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、1価の複素環基は置換基を有していてもよい。具体的には、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリ−n−プロピルシリルアミノ基、トリ−i−プロピルシリルアミノ基、t−ブチルシリルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ−p−キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、t−ブチルジフェニルシリルアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基、ジ(トリメチルシリル)アミノ基、ジ(トリエチルシリル)アミノ基、ジ(トリ−n−プロピルシリル)アミノ基、ジ(トリ−i−プロピルシリル)アミノ基、ジ(t−ブチルシリルジメチルシリル)アミノ基、ジ(トリフェニルシリル)アミノ基、ジ(トリ−p−キシリルシリル)アミノ基、ジ(トリベンジルシリル)アミノ基、ジ(ジフェニルメチルシリル)アミノ基、ジ(t−ブチルジフェニルシリル)アミノ基、ジ(ジメチルフェニルシリル)アミノ基などが例示される。 The substituted silylamino group includes a silylamino group (H 3 SiNH— or (H 3 Si) 2 N substituted with 1 to 6 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a monovalent heterocyclic group. -) Is mentioned, and carbon number is 1-120 normally, Preferably it is C3-C60. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group, and monovalent heterocyclic group may have a substituent. Specifically, trimethylsilylamino group, triethylsilylamino group, tri-n-propylsilylamino group, tri-i-propylsilylamino group, t-butylsilyldimethylsilylamino group, triphenylsilylamino group, tri-p -Xylylsilylamino group, tribenzylsilylamino group, diphenylmethylsilylamino group, t-butyldiphenylsilylamino group, dimethylphenylsilylamino group, di (trimethylsilyl) amino group, di (triethylsilyl) amino group, di ( Tri-n-propylsilyl) amino group, di (tri-i-propylsilyl) amino group, di (t-butylsilyldimethylsilyl) amino group, di (triphenylsilyl) amino group, di (tri-p-xylylsilyl) ) Amino group, di (tribenzylsilyl) amino group, di (di E methylpropenylmethyl silyl) amino, di (t-butyldiphenylsilyl) amino group, such as di (dimethylphenyl silyl) amino groups.

置換アミノ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1または2個の基で置換されたアミノ基があげられ、該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。炭素数は通常1〜40程度であり、具体的には、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、t−ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7−ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル)アミノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基、フェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基などが例示される。 Examples of the substituted amino group include an amino group substituted with one or two groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a monovalent heterocyclic group. The alkyl group, aryl group, arylalkyl The group or the monovalent heterocyclic group may have a substituent. The number of carbon atoms is usually about 1 to 40. Specifically, methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, propylamino group, dipropylamino group, isopropylamino group, diisopropylamino group, butylamino group Group, isobutylamino group, t-butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, cyclohexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, nonylamino group, decylamino group, 3,7-dimethyloctyl amino group, laurylamino group, cyclopentylamino group, dicyclopentylamino group, cyclohexylamino group, dicyclohexylamino group, pyrrolidyl group, piperidyl group, ditrifluoromethylamino group, phenylamino group, diphenylamino group, C 1 -C 12 Turkey hydroxyphenyl amino group, di (C 1 -C 12 alkoxyphenyl) amino group, di (C 1 -C 12 alkylphenyl) amino groups, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, pentafluorophenylamino group, pyridylamino group, pyridazinylamino group, pyrimidylamino group, Pirajiruamino group, triazyl amino group, phenyl -C 1 -C 12 alkylamino groups, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylamino groups, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylamino group, di (C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl) amino group, di (C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl) amino group, 1-naphthyl-C 1 -C 12 alkylamino group, 2-naphthyl-C 1 -C 12 alkylamino group and the like.

アミド基は、炭素数が通常2〜20程度であり、その具体例としては、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基などが例示される。   The amide group usually has about 2 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a formamide group, an acetamide group, a propioamide group, a butyroamide group, a benzamide group, a trifluoroacetamide group, a pentafluorobenzamide group, a diformamide group, Examples include a diacetamide group, a dipropioamide group, a dibutyroamide group, a dibenzamide group, a ditrifluoroacetamide group, a dipentafluorobenzamide group, and the like.

酸イミド基としては、酸イミドからその窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる残基があげられ、通常炭素数2〜60程度であり、好ましくは炭素数2〜20である。具体的には以下に示す基が例示される。

Figure 0004982984
The acid imide group includes a residue obtained by removing a hydrogen atom bonded to the nitrogen atom from an acid imide, and usually has about 2 to 60 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms. Specific examples include the following groups.

Figure 0004982984

アシルオキシ基は、炭素数が通常2〜20程度であり、その具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基などが例示される。   The acyloxy group usually has about 2 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, Examples thereof include a pentafluorobenzoyloxy group.

1価の複素環基とは、複素環化合物から水素原子1個を除いた残りの原子団をいい、炭素数は通常2〜60程度であり、具体的には、チエニル基、C1〜C12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、C1〜C12アルキルピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾール基、チアジアゾール基などが例示される。 The monovalent heterocyclic group means a remaining atomic group obtained by removing one hydrogen atom from a heterocyclic compound, and usually has about 2 to 60 carbon atoms. Specifically, a thienyl group, C 1 to C Examples include 12 alkylthienyl groups, pyrrolyl groups, furyl groups, pyridyl groups, C 1 -C 12 alkylpyridyl groups, imidazolyl groups, pyrazolyl groups, triazolyl groups, oxazolyl groups, thiazole groups, thiadiazole groups, and the like.

ヘテロアリールオキシ基(Q4-O−で示される基、Q4は1価の複素環基を表す)は、炭素数が通常2〜60程度であり、その具体例としては、チエニルオキシ基、C1〜C12アルキルチエニルオキシ基、ピロリルオキシ基、フリルオキシ基、ピリジルオキシ基、C1〜C12アルキルピリジルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾールオキシ基、チアジアゾールオキシ基などが例示される。 A heteroaryloxy group (a group represented by Q 4 —O—, Q 4 represents a monovalent heterocyclic group) usually has about 2 to 60 carbon atoms. Specific examples thereof include a thienyloxy group, C 1 -C 12 alkyl thienyl group, pyrrolyloxy group, furyloxy group, pyridyloxy group, C 1 -C 12 alkyl pyridyl group, imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, triazolyl group, benzoxazolyl group, Examples include a thiazoleoxy group and a thiadiazoleoxy group.

ヘテロアリールチオ基(Q5−S−で示される。Q5は1価の複素環基を表す。)は、炭素数が、通常2〜60程度で、その具体例としては、チエニルメルカプト基、C1〜C12アルキルチエニルメルカプト基、ピロリルメルカプト基、フリルメルカプト基、ピリジルメルカプト基、C1〜C12アルキルピリジルメルカプト基、イミダゾリルメルカプト基、ピラゾリルメルカプト基、トリアゾリルメルカプト基、オキサゾリルメルカプト基、チアゾールメルカプト基、チアジアゾールメルカプト基などが例示される。 (The .Q 5 represented by Q 5 -S- represents a monovalent heterocyclic group.) Heteroarylthio group has a carbon number in usually about 2 to 60, and specific examples thereof include thienylmercapto group, C 1 -C 12 alkyl thienylmercapto group, pyrrolyl mercapto group, a furyl mercapto group, pyridyl mercapto group, C 1 -C 12 alkyl pyridyl mercapto group, imidazolylmethyl mercapto group, a pyrazolyl mercapto group, benzotriazolyl mercapto group, oxazolyl Examples include mercapto group, thiazole mercapto group, thiadiazole mercapto group and the like.

Xは、式(1a)中の2個のベンゼン環上の4個の炭素原子と一緒になって5員環または6員環を形成するための原子または原子団を表し、具体例としては、下記に示すが、これらに限定されるものではない。   X represents an atom or an atomic group for forming a 5-membered ring or a 6-membered ring together with 4 carbon atoms on the 2 benzene rings in the formula (1a). Although shown below, it is not limited to these.

Figure 0004982984

式中、Rはそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシルオキシ基、置換アミノ基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基または1価の複素環基を表す。R’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基、ニトロ基または1価の複素環基を表す。R''はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基または1価の複素環基を表す。
Figure 0004982984

In the formula, each R is independently a halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, An arylalkenyl group, an arylalkynyl group, an acyloxy group, a substituted amino group, a substituted silyloxy group, a substituted silylthio group, a substituted silylamino group, a cyano group, or a monovalent heterocyclic group is represented. R ′ is independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group , Arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, cyano group, nitro Represents a monovalent heterocyclic group. R '' is independently hydrogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, aryl An alkenyl group, an arylalkynyl group, an acyl group, a substituted silyl group, a substituted silyloxy group, a substituted silylthio group, a substituted silylamino group, or a monovalent heterocyclic group is represented.

R、R’、R''におけるハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、置換アミノ基、アミド基、酸イミド基、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基の具体例としては、式(1a)、(1b)のR1〜R46に例示のものが挙げられる。 R, R ′, R ″ halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group Specific examples of arylalkenyl groups, arylalkynyl groups, substituted silyloxy groups, substituted silylthio groups, substituted silylamino groups, substituted amino groups, amide groups, acid imide groups, acyl groups, acyloxy groups, and monovalent heterocyclic groups are as follows: Examples of R 1 to R 46 in the formulas (1a) and (1b) are exemplified.

Xの中では、−O−、−S−、−Se−、−NR''−、−CR'R’−または−SiR’R’−が好ましく、-O-、-S-、−CR’R’−がより好ましい。 In X, —O—, —S—, —Se—, —NR ″ —, —CR′R′— or —SiR′R′— are preferable, —O—, —S—, —CR ′. R'- is more preferred.

式(1a)で示される化合物として、具体的には、以下に示すものが挙げられる。


Figure 0004982984
Specific examples of the compound represented by the formula (1a) include those shown below.


Figure 0004982984

式(1b)で示される化合物として、具体的には、以下に示すものが挙げられる。

Figure 0004982984
Specific examples of the compound represented by the formula (1b) include those shown below.
Figure 0004982984

(1a)、(1b)の化合物のうち、式(1a)の化合物のほうが、溶媒溶解性の点で好ましい。 Of the compounds of (1a) and (1b), the compound of formula (1a) is preferred from the viewpoint of solvent solubility.

本発明に用いる式(1a)、(1b)の化合物の合成法としては、例えば パラジウム触媒を用いたカルバゾールとジブロモフルオレン誘導体やジブロモカルバゾール誘導体等とのクロスカップリング或いはullmann反応によるカップリング等の方法などが例示される。   Examples of the method for synthesizing the compounds of the formulas (1a) and (1b) used in the present invention include methods such as cross-coupling between carbazole and dibromofluorene derivatives or dibromocarbazole derivatives using a palladium catalyst, or coupling by a ullmann reaction. Etc. are exemplified.

次に、本発明に用いる高分子発光体について説明する。
本発明に用いる高分子発光体は、特に限定されず、ポリスチレン換算の数平均分子量が通常103〜108である。本発明に用いられる高分子発光体は、単独重合体であっても共重合体でもよい。
本発明に用いる高分子発光体のなかでは、共役系高分子化合物であるものが好ましい。ここに、共役系高分子化合物とは高分子化合物の主鎖骨格に沿って非局在π電子対が存在している高分子化合物を意味する。この非局在電子としては、2重結合のかわりに不対電子または孤立電子対が共鳴に加わる場合もある。
Next, the polymer light emitter used in the present invention will be described.
The polymer light emitter used in the present invention is not particularly limited, and the polystyrene-equivalent number average molecular weight is usually from 10 3 to 10 8 . The polymer light emitter used in the present invention may be a homopolymer or a copolymer.
Among the polymer light emitters used in the present invention, those which are conjugated polymer compounds are preferred. Here, the conjugated polymer compound means a polymer compound in which a delocalized π electron pair exists along the main chain skeleton of the polymer compound. As this delocalized electron, an unpaired electron or a lone electron pair may participate in resonance instead of a double bond.

本発明に用いる高分子発光体としては、例えば、
ポリフルオレン〔例えば、ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス(Jpn.J.Appl.Phys.)第30巻、L1941頁(1991年)〕、ポリパラフェニレン〔例えば、アドバンスト・マテリアルズ(Adv.Mater.)第4巻、36頁(1992年)〕、ポリピロール、ポリピリジン、ポリアニリン、ポリチオフェン等のポリアリーレン系
;ポリパラフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン等のポリアリーレンビニレン系(例えば、WO98/27136号公開明細書)
;ポリフェニレンサルファイド、ポリカルバゾール等が挙げられる。
〔総説としては、例えば「Advanced Materials Vol.12 1737-1750 (2000)」や、「有機ELディスプレイ技術 月刊ディスプレイ 12月号増刊 P68〜73」〕
As the polymer light emitter used in the present invention, for example,
Polyfluorene [e.g. Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 30, L1941 (1991)], polyparaphenylene [e.g. Advanced Materials (Adv. Mater). 4) 36 (1992)], polyarylenes such as polypyrrole, polypyridine, polyaniline and polythiophene; polyarylene vinylenes such as polyparaphenylene vinylene and polythienylene vinylene (for example, published in WO 98/27136) Specification)
Polyphenylene sulfide, polycarbazole and the like.
[For review, for example, "Advanced Materials Vol.12 1737-1750 (2000)" and "Organic EL Display Technology Monthly Display December issue P68-73")

中でも、ポリアリーレン系の高分子発光体が好ましい。
ポリアリーレン系の高分子発光体が含む繰り返し単位としては、アリーレン基、2価の複素環基があげられる。
ここに、アリーレン基の環を構成する炭素数は通常6〜60程度であり、その具体例として、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ペンタレンジイル基、インデンジイル基、ヘプタレンジイル基、インダセンジイル基、トリフェニレンジイル基、ビナフチルジイル基、フェニルナフチレンジイル基、スチルベンジイル基、フルオレンジイル基(例えば、下式(2)で、A=−CR’R’−である場合)等があげられる。
また、2価の複素環基の環を構成する炭素数は通常3〜60程度であり、具体例としては、ピリジンージイル基、ジアザフェニレン基、キノリンジイル基、キノキサリンジイル基、アクリジンジイル基、ビピリジルジイル基、フェナントロリンジイル基、下式(2)で、A=-O-、-S-、-Se-、−NR''−、または−SiR'R'−である場合があげられる。
Of these, polyarylene polymer light emitters are preferred.
Examples of the repeating unit contained in the polyarylene polymer light emitter include an arylene group and a divalent heterocyclic group.
Here, the number of carbon atoms constituting the ring of the arylene group is usually about 6 to 60. Specific examples thereof include a phenylene group, a biphenylene group, a terphenylene group, a naphthalenediyl group, an anthracenediyl group, a phenanthrene diyl group, and a pentarange. Yl group, indenediyl group, hepterenediyl group, indacenediyl group, triphenylenediyl group, binaphthyldiyl group, phenylnaphthylenediyl group, stilbenediyl group, fluorenediyl group (for example, in the following formula (2), A = -CR 'R'-).
The number of carbon atoms constituting the ring of the divalent heterocyclic group is usually about 3 to 60. Specific examples include pyridine-diyl group, diazaphenylene group, quinolinediyl group, quinoxalinediyl group, acridinediyl group, bipyridyldiyl. A group, a phenanthrolinediyl group, and the following formula (2), A = —O—, —S—, —Se—, —NR ″ —, or —SiR′R′—.

更に好ましくは、下記式(2)で示される繰返し単位を含む場合である。   More preferably, it includes a repeating unit represented by the following formula (2).

Figure 0004982984


(式中、Aは、式中の2個のベンゼン環上の4個の炭素原子と一緒になって5員環または6員環を完成させるための原子または原子団を表し、R4a、R4b、R4c、R5a、R5bおよびR5cは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはカルボキシル基を表し、R4bとR4c、およびR5bとR5cは、それぞれ一緒になって環を形成していてもよい。)
Figure 0004982984


(In the formula, A represents an atom or an atomic group for completing a 5-membered ring or a 6-membered ring together with 4 carbon atoms on the two benzene rings in the formula, R 4a , R 4b , R 4c , R 5a , R 5b and R 5c are each independently a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, aryl Alkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group Substituted silylthio group, substituted silylamino group, cyano group, nitro group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroaryl Represents a thio group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group or a carboxyl group, and R 4b and R 4c , and R 5b and R 5c are each taken together to form a ring May be formed.)

Aの具体例としては、式(1a)中のXに例示のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of A include those exemplified for X in formula (1a), but are not limited thereto.

Aの中では、−O−、−S−、−Se−、−NR''−、−CR'R’−または−SiR’R’−が好ましく、-O-、-S-、−CR’R’−がより好ましい。 In A, —O—, —S—, —Se—, —NR ″ —, —CR′R′— or —SiR′R′— are preferable, —O—, —S—, —CR ′. R'- is more preferred.

4a、R4b、R4c、R5a、R5bおよびR5cにおけるハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、置換アミノ基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、及びカルボキシル基、は前記と同様である。 R 4a, R 4b, R 4c , R 5a, halogen atom definitive to R 5b and R 5c, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group , Arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, substituted amino group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic ring The group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, and carboxyl group are the same as described above.

また、イミン残基は、イミン化合物(分子内に、−N=C-を持つ有機化合物のことをいう。その例として、アルジミン、ケチミン及びこれらのN上の水素原子が、アルキル基等で置換された化合物があげられる)から水素原子1個を除いた残基があげられ、炭素数2〜20程度であり、具体的には、以下の基などが例示される。

Figure 0004982984
The imine residue refers to an imine compound (an organic compound having —N═C— in the molecule. For example, aldimine, ketimine, and hydrogen atoms on these N are substituted with alkyl groups or the like. And a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound having about 2 to 20 carbon atoms. Specific examples include the following groups.
Figure 0004982984

アシル基は、炭素数が通常2〜20程度であり、その具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基などが例示される。 The acyl group usually has about 2 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, pivaloyl group, benzoyl group, trifluoroacetyl group, and pentafluorobenzoyl group. Illustrated.

置換シリル基は、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリル基があげられる。置換シリル基は、炭素数が通常1〜60程度であり、その具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ−i−プロピルシリル基、ジメチル−i−プロピルシリル基、ジエチル−i−プロピルシリル基、t−ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、2−エチルヘキシル−ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、3,7−ジメチルオクチル−ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル−C1〜C12アルキルシリル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルシリル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルシリル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルシリル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルシリル基、フェニル−C1〜C12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−p−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリプロピルオキシシリル基、トリ−i−プロピルシリル基、ジメチル−i−プロピルシリル基、メチルジメトキシシリル基、エチルジメトキシシリル基、などが例示される。 Examples of the substituted silyl group include a silyl group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a monovalent heterocyclic group. The substituted silyl group usually has about 1 to 60 carbon atoms, and specific examples thereof include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tripropylsilyl group, tri-i-propylsilyl group, dimethyl-i-propylsilyl group, Diethyl-i-propylsilyl group, t-butylsilyldimethylsilyl group, pentyldimethylsilyl group, hexyldimethylsilyl group, heptyldimethylsilyl group, octyldimethylsilyl group, 2-ethylhexyl-dimethylsilyl group, nonyldimethylsilyl group, decyl butyldimethylsilyl group, a 3,7-- dimethylsilyl group, lauryldimethylsilyl group, a phenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, tri -p- Kishirirushiriru group, Tribenzylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, dimethylphenylsilyl group, trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, tripropyloxysilyl group, tri-i-propylsilyl group, dimethyl-i- Examples include propylsilyl group, methyldimethoxysilyl group, ethyldimethoxysilyl group, and the like.

アルキルオキシカルボニル基におけるアルキルオキシ基は、炭素数が通常2〜20程度であり、その具体例として、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基などが例示される。 The alkyloxy group in the alkyloxycarbonyl group usually has about 2 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, Examples include a fluoroacetyloxy group and a pentafluorobenzoyloxy group.

アリールオキシカルボニル基におけるアリールオキシ基は、炭素数が通常6〜60程度であり、その具体的例としては、フェノキシ基、C1〜C12アルコキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基が好ましい。 The aryloxy group in the aryloxycarbonyl group usually has about 6 to 60 carbon atoms. Specific examples thereof include phenoxy group, C 1 to C 12 alkoxyphenoxy group, C 1 to C 12 alkylphenoxy group, 1 - naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, pentafluorophenyloxy group are exemplified, C 1 -C 12 alkoxy phenoxy group, a C 1 -C 12 alkylphenoxy group are preferable.

アリールアルキルオキシカルボニル基におけるアリールアルキル基は、炭素数が通常7〜60程度であり、その具体例としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基、フェニルヘプチル基、フェニルオクチル基などのフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキル基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基が好ましい。 The arylalkyl group in the arylalkyloxycarbonyl group usually has about 7 to 60 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenylbutyl group, a phenylpentyl group, a phenylhexyl group, and a phenylheptyl group. group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl group such as a phenyl octyl group, 1 - naphthyl -C 1 -C 12 alkyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl groups and the like, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl group are preferable.

ヘテロアリールオキシカルボニル基におけるヘテロアリールオキシ基(Q6-O−で示される基、Q6は1価の複素環基を表す)は、炭素数が通常2〜60程度であり、その具体例としては、チエニルオキシ基、C1〜C12アルキルチエニルオキシ基、ピロリルオキシ基、フリルオキシ基、ピリジルオキシ基、C1〜C12アルキルピリジルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾールオキシ基、チアジアゾールオキシ基などが例示される。Q6としては1価の芳香族複素環基が好ましい。 The heteroaryloxy group in the heteroaryloxycarbonyl group (the group represented by Q 6 —O—, Q 6 represents a monovalent heterocyclic group) usually has about 2 to 60 carbon atoms. is thienyloxy group, C 1 -C 12 alkyl thienyl group, pyrrolyloxy group, furyloxy group, pyridyloxy group, C 1 -C 12 alkyl pyridyl group, imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, triazolyl group, Examples thereof include an oxazolyloxy group, a thiazoleoxy group, and a thiadiazoleoxy group. Q 6 is preferably a monovalent aromatic heterocyclic group.

上記式(2)で示される繰返し単位としては、下記の構造が例示される。

Figure 0004982984

Examples of the repeating unit represented by the above formula (2) include the following structures.

Figure 0004982984


Figure 0004982984

式中、ベンゼン環上の水素原子は、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基、ニトロ基または1価の複素環基に置換されていてもよい。

Figure 0004982984

In the formula, a hydrogen atom on the benzene ring is a halogen atom, an alkyl group, an alkyloxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, an arylalkyl group, an arylalkyloxy group, an arylalkylthio group, an alkenyl group, Alkynyl group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, cyano group , A nitro group or a monovalent heterocyclic group may be substituted.

本発明に用いる高分子発光体は、アリーレン基、2価の複素環基の他に、例えば、芳香族アミンから誘導される繰り返し単位を含んでいてもよい。この場合、正孔注入性、輸送性を付与し得る。
この場合、アリーレン基、2価の複素環基からなる繰り返し単位と芳香族アミンから誘導される繰り返しのモル比率は、通常99:1〜20:80の範囲である。
The polymer light emitter used in the present invention may contain, for example, a repeating unit derived from an aromatic amine in addition to an arylene group and a divalent heterocyclic group. In this case, hole injection property and transport property can be imparted.
In this case, the molar ratio of repeating units derived from an arylene group and a repeating unit consisting of a divalent heterocyclic group and an aromatic amine is usually in the range of 99: 1 to 20:80.

芳香族アミンから誘導される繰返し単位としては、下記式(3)で表される繰返し単位が好ましい。 As the repeating unit derived from an aromatic amine, a repeating unit represented by the following formula (3) is preferable.


Figure 0004982984

Figure 0004982984

式中、Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は、それぞれ独立にアリーレン基または2価の複素環基を表す。Ar8、Ar9およびAr10は、それぞれ独立にアリール基または1価の複素環基を表す。oおよびpはそれぞれ独立に0または1を表し、0≦o+p≦2である。 In the formula, Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group. Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 each independently represent an aryl group or a monovalent heterocyclic group. o and p each independently represent 0 or 1, and 0 ≦ o + p ≦ 2.

ここで、アリーレン基、2価の複素環基の具体例は、ポリアリーレン系の高分子発光体が含む繰り返し単位としてのそれらの具体例と同様であり、
アリール基および1価の複素環基の具体例は、上記式(1a)、(1b)におけるそれらの具体例と同様である。
Here, specific examples of the arylene group and the divalent heterocyclic group are the same as those specific examples as a repeating unit included in the polyarylene polymer light-emitting body,
Specific examples of the aryl group and the monovalent heterocyclic group are the same as those in the above formulas (1a) and (1b).

上記式(3)で示される繰り返し単位の具体例としては、以下の繰返し単位があげられる。

Figure 0004982984
Specific examples of the repeating unit represented by the above formula (3) include the following repeating units.
Figure 0004982984

式中、芳香環上の水素原子はハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基およびカルボキシル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい。   In the formula, the hydrogen atom on the aromatic ring is a halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl Group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, cyano group, A substituent selected from a nitro group, a monovalent heterocyclic group, a heteroaryloxy group, a heteroarylthio group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group and a carboxyl group It may be conversion.

上記式(3)で表される繰返し単位の中で、下式(4)で表される繰り返し単位が特に好ましい。   Among the repeating units represented by the above formula (3), the repeating unit represented by the following formula (4) is particularly preferable.


Figure 0004982984

Figure 0004982984

式中、Q1、Q2およびQ3は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはカルボキシル基を表す。xおよびyはそれぞれ独立に0〜4の整数を示す。zは0〜2の整数を示す。wは0〜5の整数を示す。 In the formula, Q 1 , Q 2 and Q 3 are each independently a halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio Group, alkenyl group, alkynyl group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted Silylamino group, cyano group, nitro group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, arylalkyloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group or carboxyl group The table The x and y each independently represents an integer of 0 to 4. z shows the integer of 0-2. w shows the integer of 0-5.

本発明に用いられる高分子発光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよい。発光の量子収率の高い高分子発光体を得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共重合体が好ましい。主鎖に枝分かれがあり、末端部が3つ以上ある場合やデンドリマーも含まれる。   The polymer light emitter used in the present invention may be a random, block or graft copolymer, or a polymer having an intermediate structure thereof, for example, a random copolymer having a block property. Also good. From the viewpoint of obtaining a polymer light emitter having a high quantum yield of light emission, a random copolymer having a block property and a block or graft copolymer are preferable to a completely random copolymer. A case in which the main chain is branched and there are three or more terminal portions and dendrimers are also included.

本発明に用いられる高分子発光体の末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、素子にしたときの発光特性や寿命が低下する可能性があるので、安定な基で保護されていても良い。主鎖の共役構造と連続した共役結合を有しているものが好ましく、例えば、炭素―炭素結合を介してアリール基または複素環基と結合している構造が例示される。具体的には、特開平9−45478号公報の化10に記載の置換基等が例示される。   The terminal group of the polymer light-emitting material used in the present invention is protected with a stable group, because if the polymerization active group remains as it is, there is a possibility that the light emission characteristics and life when the device is made will be reduced. Also good. Those having a conjugated bond continuous with the conjugated structure of the main chain are preferable, and examples thereof include a structure in which an aryl group or a heterocyclic group is bonded via a carbon-carbon bond. Specific examples include substituents described in Chemical formula 10 of JP-A-9-45478.

本発明に用いられる高分子発光体は、数平均分子量がポリスチレン換算で103〜108程度であることが好ましく、中でも、数平均分子量がポリスチレン換算で104〜106程度である場合、更に好ましい。 The polymer light-emitting material used in the present invention preferably has a number average molecular weight of about 10 3 to 10 8 in terms of polystyrene, and in particular, when the number average molecular weight is about 10 4 to 10 6 in terms of polystyrene, preferable.

また、薄膜からの発光を利用するので高分子発光体としては、固体状態で発光を有するものが好適に用いられる。   In addition, since light emission from a thin film is used, a polymer light-emitting body having light emission in a solid state is preferably used.

本発明に用いる高分子発光体の合成法としては、例えば該当するモノマーからSuzukiカップリング反応により重合する方法、Grignard反応により重合する方法、Ni(0)触媒により重合する方法、FeCl3等の酸化剤により重合する方法、電気化学的に酸化重合する方法、あるいは適当な脱離基を有する中間体高分子の分解による方法などが例示される。これらのうち、Suzukiカップリング反応により重合する方法、Grignard反応により重合する方法、Ni(0)触媒により重合する方法が、反応制御が容易であり、好ましい。
高分子発光体を高分子LEDの発光材料として用いる場合、その純度が発光特性に影響を与えるため、重合前のモノマーを蒸留、昇華精製、再結晶等の方法で精製したのちに重合することが好ましく、また合成後、再沈精製、クロマトグラフィーによる分別等の純化処理をすることが好ましい。
Examples of the method for synthesizing the polymer light emitter used in the present invention include a method of polymerizing from a corresponding monomer by a Suzuki coupling reaction, a method of polymerizing by a Grignard reaction, a method of polymerizing by a Ni (0) catalyst, an oxidation of FeCl 3 or the like. Examples include a method of polymerizing with an agent, a method of electrochemically oxidatively polymerizing, a method of decomposing an intermediate polymer having an appropriate leaving group, and the like. Among these, a method of polymerizing by Suzuki coupling reaction, a method of polymerizing by Grignard reaction, and a method of polymerizing by Ni (0) catalyst are preferable because of easy reaction control.
When a polymer light emitter is used as a light emitting material for a polymer LED, its purity affects the light emission characteristics. Therefore, the monomer before polymerization may be polymerized after being purified by methods such as distillation, sublimation purification, and recrystallization. Preferably, after the synthesis, purification treatment such as reprecipitation purification and fractionation by chromatography is preferable.

本発明の高分子発光体組成物は高分子発光体と式(1a)または(1b)の化合物とを含有することを特徴とするが、式(1a)または(1b)の化合物の含有量が、高分子発光体を100重量部としたとき、通常0.1〜10000重量部程度であり、好ましくは、1〜1000重量部、より好ましくは5〜500重量部、さらに好ましくは10〜100重量部である。   The polymer light emitter composition of the present invention is characterized by containing a polymer light emitter and a compound of the formula (1a) or (1b), and the content of the compound of the formula (1a) or (1b) is When the polymer light emitter is 100 parts by weight, it is usually about 0.1 to 10000 parts by weight, preferably 1 to 1000 parts by weight, more preferably 5 to 500 parts by weight, and further preferably 10 to 100 parts by weight. Part.

また本発明の高分子発光体溶液組成物は、高分子発光体と、式(1a)または(1b)と溶媒とを含有することを特徴とする。この溶液組成物を用いて、塗布法により、発光層を形成できる。この溶液組成物を用いて、製造された、発光層は通常は、本発明の高分子発光体組成物を含むものとなる。   The polymer light emitter solution composition of the present invention is characterized by containing a polymer light emitter, the formula (1a) or (1b), and a solvent. A light emitting layer can be formed by a coating method using this solution composition. The light emitting layer produced using this solution composition usually contains the polymer light emitter composition of the present invention.

溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、デカリン、n−ブチルベンゼンなどが例示される。高分子発光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの溶媒に0.1重量%以上溶解させることができる。   Examples of the solvent include chloroform, methylene chloride, dichloroethane, tetrahydrofuran, toluene, xylene, mesitylene, tetralin, decalin, n-butylbenzene and the like. Although depending on the structure and molecular weight of the polymer light emitter, it can usually be dissolved in these solvents in an amount of 0.1% by weight or more.

溶媒の量は、高分子発光体100重量部に対して、通常1000〜100000重量部程度である。   The amount of the solvent is usually about 1000 to 100000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer light emitter.

本発明の高分子発光体組成物は、高分子発光体を2種以上含んでいてもよく、式(1a)または(1b)の化合物を2種以上含んでいてもよい。   The polymer light emitter composition of the present invention may contain two or more polymer light emitters, and may contain two or more compounds of the formula (1a) or (1b).

本発明の組成物は、必要に応じ、色素、電荷輸送材料等を含有していてもよい。   The composition of the present invention may contain a dye, a charge transport material and the like, if necessary.

本発明の高分子LEDは、陽極および陰極からなる電極間に、発光層を有し、該発光層が本発明の高分子発光体組成物を含むことを特徴とする。
また、本発明の高分子LEDは、 陽極および陰極からなる電極間に、発光層を有し、該発光層が本発明の溶液組成物を用いて形成されることを特徴とする。
The polymer LED of the present invention has a light emitting layer between electrodes composed of an anode and a cathode, and the light emitting layer contains the polymer light emitter composition of the present invention.
The polymer LED of the present invention is characterized in that it has a light emitting layer between electrodes composed of an anode and a cathode, and the light emitting layer is formed using the solution composition of the present invention.

また、本発明の高分子LEDとしては、陰極と発光層との間に、電子輸送層を設けた高分子LED、陽極と発光層との間に、正孔輸送層を設けた高分子LED、陰極と発光層との間に、電子輸送層を設け、かつ陽極と発光層との間に、正孔輸送層を設けた高分子LED等が挙げられる。   In addition, as the polymer LED of the present invention, a polymer LED having an electron transport layer provided between the cathode and the light emitting layer, a polymer LED having a hole transport layer provided between the anode and the light emitting layer, Examples include a polymer LED in which an electron transport layer is provided between the cathode and the light emitting layer, and a hole transport layer is provided between the anode and the light emitting layer.

例えば、具体的には、以下のa)〜d)の構造が例示される。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
c)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)

ここで、発光層とは、発光する機能を有する層であり、正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層であり、電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層である。なお、電子輸送層と正孔輸送層を総称して電荷輸送層と呼ぶ。
発光層、正孔輸送層、電子輸送層は、それぞれ独立に2層以上用いてもよい。
For example, the following structures a) to d) are specifically exemplified.
a) Anode / light emitting layer / cathode b) Anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode c) Anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode d) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (Here, / indicates that each layer is laminated adjacently. The same shall apply hereinafter.)

Here, the light emitting layer is a layer having a function of emitting light, the hole transporting layer is a layer having a function of transporting holes, and the electron transporting layer is a layer having a function of transporting electrons. It is. The electron transport layer and the hole transport layer are collectively referred to as a charge transport layer.
Two or more light emitting layers, hole transport layers, and electron transport layers may be used independently.

また、電極に隣接して設けた電荷輸送層のうち、電極からの電荷注入効率を改善する機能を有し、素子の駆動電圧を下げる効果を有するものは、特に電荷注入層(正孔注入層、電子注入層)と一般に呼ばれることがある。   Further, among the charge transport layers provided adjacent to the electrodes, those having a function of improving the charge injection efficiency from the electrodes and having the effect of lowering the driving voltage of the element are particularly charge injection layers (hole injection layers). , An electron injection layer).

さらに電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して前記の電荷注入層又は膜厚2nm以下の絶縁層を設けてもよく、また、界面の密着性向上や混合の防止等のために電荷輸送層や発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。   Further, in order to improve adhesion with the electrode and charge injection from the electrode, the charge injection layer or an insulating layer having a thickness of 2 nm or less may be provided adjacent to the electrode, and the adhesion at the interface may be improved. In order to prevent mixing, a thin buffer layer may be inserted at the interface between the charge transport layer and the light emitting layer.

積層する層の順番や数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができる。   The order and number of layers to be laminated, and the thickness of each layer can be appropriately used in consideration of light emission efficiency and element lifetime.

本発明において、電荷注入層(電子注入層、正孔注入層)を設けた高分子LEDとしては、陰極に隣接して電荷注入層を設けた高分子LED、陽極に隣接して電荷注入層を設けた高分子LEDが挙げられる。   In the present invention, a polymer LED provided with a charge injection layer (electron injection layer, hole injection layer) includes a polymer LED provided with a charge injection layer adjacent to the cathode, and a charge injection layer adjacent to the anode. The provided polymer LED is mentioned.

例えば、具体的には、以下のe)〜p)の構造が挙げられる。
e)陽極/電荷注入層/発光層/陰極
f)陽極/発光層/電荷注入層/陰極
g)陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極
h)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
i)陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
j)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
k)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/陰極
l)陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
m)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
n)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
o)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
p)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極

電荷注入層の具体的な例としては、導電性高分子を含む層、陽極と正孔輸送層との間に設けられ、陽極材料と正孔輸送層に含まれる正孔輸送材料との中間の値のイオン化ポテンシャルを有する材料を含む層、陰極と電子輸送層との間に設けられ、陰極材料と電子輸送層に含まれる電子輸送材料との中間の値の電子親和力を有する材料を含む層などが例示される。
For example, the following structures e) to p) are specifically mentioned.
e) Anode / charge injection layer / light emitting layer / cathode
f) Anode / light emitting layer / charge injection layer / cathode
g) Anode / charge injection layer / light emitting layer / charge injection layer / cathode
h) Anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / cathode
i) Anode / hole transport layer / light emitting layer / charge injection layer / cathode
j) Anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / charge injection layer / cathode
k) Anode / charge injection layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode
l) Anode / light-emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode
m) Anode / charge injection layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode
n) Anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode o) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode p) Anode / charge injection layer / Hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode

Specific examples of the charge injection layer include a layer containing a conductive polymer, an anode and a hole transport layer provided between the anode material and the hole transport material included in the hole transport layer. A layer containing a material having an ionization potential of a value, a layer provided between a cathode and an electron transport layer, and a layer containing a material having an electron affinity of an intermediate value between the cathode material and the electron transport material contained in the electron transport layer, etc. Is exemplified.

上記電荷注入層が導電性高分子を含む層の場合、該導電性高分子の電気伝導度は、10-5S/cm以上103S/cm以下であることが好ましく、発光画素間のリーク電流を小さくするためには、10-5S/cm以上102S/cm以下がより好ましく、10-5S/cm以上101S/cm以下がさらに好ましい。 When the charge injection layer is a layer containing a conductive polymer, the electrical conductivity of the conductive polymer is preferably 10 −5 S / cm or more and 10 3 S / cm or less. in order to reduce the current, more preferably less 10 -5 S / cm or more and 10 2 S / cm, more preferably less 10 -5 S / cm or more and 10 1 S / cm.

通常は該導電性高分子の電気伝導度を10-5S/cm以上103S/cm以下とするために、該導電性高分子に適量のイオンをドープする。 Usually, in order to set the electric conductivity of the conductive polymer to 10 −5 S / cm or more and 10 3 S / cm or less, the conductive polymer is doped with an appropriate amount of ions.

ドープするイオンの種類は、正孔注入層であればアニオン、電子注入層であればカチオンである。アニオンの例としては、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオンなどが例示され、カチオンの例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンなどが例示される。   The type of ions to be doped is an anion for the hole injection layer and a cation for the electron injection layer. Examples of anions include polystyrene sulfonate ions, alkylbenzene sulfonate ions, camphor sulfonate ions, and examples of cations include lithium ions, sodium ions, potassium ions, tetrabutylammonium ions, and the like.

電荷注入層の膜厚としては、例えば1nm〜100nmであり、2nm〜50nmが好ましい。   The thickness of the charge injection layer is, for example, 1 nm to 100 nm, and preferably 2 nm to 50 nm.

電荷注入層に用いる材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロールおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体、ポリキノリンおよびその誘導体、ポリキノキサリンおよびその誘導体、芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン(銅フタロシアニンなど)、カーボンなどが例示される。   The material used for the charge injection layer may be appropriately selected in relation to the material of the electrode and the adjacent layer. Polyaniline and its derivatives, polythiophene and its derivatives, polypyrrole and its derivatives, polyphenylene vinylene and its derivatives, polythienylene vinylene And derivatives thereof, polyquinoline and derivatives thereof, polyquinoxaline and derivatives thereof, conductive polymers such as polymers containing an aromatic amine structure in the main chain or side chain, metal phthalocyanines (such as copper phthalocyanine), and carbon .

膜厚2nm以下の絶縁層は電荷注入を容易にする機能を有するものである。上記絶縁層の材料としては、金属フッ化物、金属酸化物、有機絶縁材料等が挙げられる。膜厚2nm以下の絶縁層を設けた高分子LEDとしては、陰極に隣接して膜厚2nm以下の絶縁層を設けた高分子LED、陽極に隣接して膜厚2nm以下の絶縁層を設けた高分子LEDが挙げられる。   An insulating layer having a thickness of 2 nm or less has a function of facilitating charge injection. Examples of the material for the insulating layer include metal fluorides, metal oxides, and organic insulating materials. As the polymer LED provided with the insulating layer having a thickness of 2 nm or less, the polymer LED provided with the insulating layer having a thickness of 2 nm or less adjacent to the cathode, or the insulating layer having a thickness of 2 nm or less provided adjacent to the anode. Polymer LED is mentioned.

具体的には、例えば、以下のq)〜ab)の構造が挙げられる。
q)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/陰極
r)陽極/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
s)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
t)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/陰極
u)陽極/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
v)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
w)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/陰極
x)陽極/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
y)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
z)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
aa)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
ab)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
Specific examples include the following structures q) to ab).
q) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / cathode r) Anode / light emitting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode s) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / film thickness 2 nm Insulating layer / cathode t) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transport layer / light emitting layer / cathode
u) Anode / hole transport layer / light emitting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode
v) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transport layer / light emitting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode
w) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / electron transport layer / cathode
x) Anode / light-emitting layer / electron transport layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode
y) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / electron transport layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode
z) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode
aa) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode
ab) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transporting layer / light emitting layer / electron transporting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode

発光層は、例えば、本発明の高分子発光体溶液組成物を用いて、溶液から成膜する場合、この溶液を塗布後乾燥により溶媒を除去するだけでよく、また電荷輸送材料や発光材料を混合した場合においても同様な手法が適用でき、製造上非常に有利である。溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法を用いることができる。   For example, when the light emitting layer is formed from a solution using the polymer phosphor solution composition of the present invention, it is only necessary to remove the solvent by drying after coating the solution. Even in the case of mixing, the same technique can be applied, which is very advantageous in production. As a film forming method from a solution, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, Application methods such as a flexographic printing method, an offset printing method, and an ink jet printing method can be used.

発光層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   As the film thickness of the light emitting layer, the optimum value varies depending on the material to be used, and it may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate values. For example, the thickness is 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm. More preferably, it is 5 nm-200 nm.

本発明の高分子LEDにおいては、発光層に上記高分子発光体以外の発光材料を混合して使用してもよい、上記高分子発光体以外の発光材料を含む発光層が、上記高分子発光体を含む発光層と積層されていてもよい。   In the polymer LED of the present invention, the light emitting layer may contain a light emitting material other than the polymer light emitter, and the light emitting layer containing a light emitting material other than the polymer light emitter may include the polymer light emitting. The light emitting layer including the body may be stacked.

該発光材料としては、公知のものが使用できる。低分子化合物では、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンもしくはその誘導体、ペリレンもしくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンもしくはその誘導体、またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体などを用いることができる。   As the light emitting material, known materials can be used. Examples of the low molecular weight compound include naphthalene derivatives, anthracene or derivatives thereof, perylene or derivatives thereof, polymethine dyes, xanthene dyes, coumarin dyes, cyanine dyes, 8-hydroxyquinoline or metal complexes of derivatives thereof, aromatic amines, and the like. , Tetraphenylcyclopentadiene or a derivative thereof, or tetraphenylbutadiene or a derivative thereof can be used.

具体的には、例えば特開昭57−51781号、同59−194393号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。   Specifically, for example, known ones such as those described in JP-A-57-51781 and 59-194393 can be used.

三重項発光錯体としては、例えば、イリジウムを中心金属とするIr(ppy)3、Btp2Ir(acac)、白金を中心金属とするPtOEP、ユーロピウムを中心金属とするEu(TTA)3phen等が挙げられる。 Examples of triplet light-emitting complexes include Ir (ppy) 3, Btp 2 Ir (acac) with iridium as the central metal, PtOEP with platinum as the central metal, and Eu (TTA) 3phen with europium as the central metal. It is done.

Figure 0004982984

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三重項発光錯体として具体的には、例えばNature, (1998), 395, 151、Appl. Phys. Lett. (1999), 75(1), 4、Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. (2001), 4105(Organic Light-Emitting Materials and DevicesIV), 119、J. Am. Chem. Soc., (2001), 123, 4304、Appl. Phys. Lett., (1997), 71(18), 2596、Syn. Met., (1998), 94(1), 103、Syn. Met., (1999), 99(2), 1361、Adv. Mater., (1999), 11(10), 852 、Jpn.J.Appl.Phys.,34, 1883 (1995)などに記載されている。
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Specific examples of triplet light emitting complexes include Nature, (1998), 395, 151, Appl. Phys. Lett. (1999), 75 (1), 4, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. (2001), 4105 (Organic Light-Emitting Materials and Devices IV), 119, J. Am. Chem. Soc., (2001), 123, 4304, Appl. Phys. Lett., (1997), 71 (18), 2596, Syn. Met., (1998), 94 (1), 103, Syn. Met., (1999), 99 (2), 1361, Adv. Mater., (1999), 11 (10), 852, Jpn. J. Appl. Phys., 34, 1883 (1995).

本発明の高分子LEDが正孔輸送層を有する場合、使用される正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリピロールもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体などが例示される。   When the polymer LED of the present invention has a hole transport layer, the hole transport material used includes polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, and a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain. , Pyrazoline derivatives, arylamine derivatives, stilbene derivatives, triphenyldiamine derivatives, polyaniline or derivatives thereof, polythiophene or derivatives thereof, polypyrrole or derivatives thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivatives thereof, or poly (2,5-thieni Lembinylene) or a derivative thereof is exemplified.

具体的には、該正孔輸送材料として、特開昭63−70257号公報、同63−175860号公報、特開平2−135359号公報、同2−135361号公報、同2−209988号公報、同3−37992号公報、同3−152184号公報に記載されているもの等が例示される。   Specifically, as the hole transport material, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, JP-A-2-209998, Examples described in JP-A-3-37992 and JP-A-3-152184 are exemplified.

これらの中で、正孔輸送層に用いる正孔輸送材料として、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体等の高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。   Among these, as a hole transport material used for the hole transport layer, polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine compound group in a side chain or a main chain, polyaniline or a derivative thereof, Preferred is a polymer hole transport material such as polythiophene or a derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or a derivative thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or a derivative thereof, more preferably polyvinyl carbazole or a derivative thereof, Polysilane or a derivative thereof, or a polysiloxane derivative having an aromatic amine in the side chain or main chain. In the case of a low-molecular hole transport material, it is preferably used by being dispersed in a polymer binder.

ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体は、例えばビニルモノマーからカチオン重合またはラジカル重合によって得られる。   Polyvinylcarbazole or a derivative thereof is obtained, for example, from a vinyl monomer by cation polymerization or radical polymerization.

ポリシランもしくはその誘導体としては、ケミカル・レビュー(Chem.Rev.)第89巻、1359頁(1989年)、英国特許GB2300196号公開明細書に記載の化合物等が例示される。合成方法もこれらに記載の方法を用いることができるが、特にキッピング法が好適に用いられる。   Examples of polysilane or derivatives thereof include compounds described in Chem. Rev. 89, 1359 (1989) and GB 2300196 published specification. As the synthesis method, the methods described in these can be used, but the Kipping method is particularly preferably used.

ポリシロキサンもしくはその誘導体は、シロキサン骨格構造には正孔輸送性がほとんどないので、側鎖または主鎖に上記低分子正孔輸送材料の構造を有するものが好適に用いられる。特に正孔輸送性の芳香族アミンを側鎖または主鎖に有するものが例示される。   Since polysiloxane or a derivative thereof has almost no hole transporting property in the siloxane skeleton structure, those having the structure of the low molecular hole transporting material in the side chain or main chain are preferably used. Particularly, those having a hole transporting aromatic amine in the side chain or main chain are exemplified.

正孔輸送層の成膜の方法に制限はないが、低分子正孔輸送材料では、高分子バインダーとの混合溶液からの成膜による方法が例示される。また、高分子正孔輸送材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。   Although there is no restriction | limiting in the film-forming method of a positive hole transport layer, In the low molecular hole transport material, the method by the film-forming from a mixed solution with a polymer binder is illustrated. In the case of a polymer hole transport material, a method of film formation from a solution is exemplified.

溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒が例示される。   The solvent used for film formation from a solution is not particularly limited as long as it can dissolve a hole transport material. Examples of the solvent include chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane; ether solvents such as tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, An ester solvent such as ethyl cellosolve acetate is exemplified.

溶液からの成膜方法としては、溶液からのスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法を用いることができる。   Examples of film formation methods from solution include spin coating from solution, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen Coating methods such as a printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an inkjet printing method can be used.

混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収が強くないものが好適に用いられる。該高分子バインダーとして、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサン等が例示される。   As the polymer binder to be mixed, those not extremely disturbing charge transport are preferable, and those showing no strong absorption against visible light are suitably used. Examples of the polymer binder include polycarbonate, polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, and polysiloxane.

正孔輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該正孔輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   The film thickness of the hole transport layer differs depending on the material used, and may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate. However, at least a thickness that does not cause pinholes is required. If it is too thick, the driving voltage of the element becomes high, which is not preferable. Therefore, the film thickness of the hole transport layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

本発明の高分子LED組成物においては、芳香族アミンから誘導される繰返し単位を有するポリアミンを含む正孔輸送層と組み合わせることでさらに高効率を得ることができる。ポリアミンとしては式(3)で表される繰り返し単位を含むものが好ましく、さらに好ましくは式(4)で表される繰り返し単位を含むものが良い。   In the polymer LED composition of the present invention, higher efficiency can be obtained by combining with a hole transport layer containing a polyamine having a repeating unit derived from an aromatic amine. As the polyamine, those containing a repeating unit represented by the formula (3) are preferable, and those containing a repeating unit represented by the formula (4) are more preferable.

本発明の高分子LEDが電子輸送層を有する場合、使用される電子輸送材料としては公知のものが使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンもしくはその誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、ナフトキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンもしくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンもしくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体等が例示される。   When the polymer LED of the present invention has an electron transport layer, known electron transport materials can be used, such as oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinone or derivatives thereof, naphthoquinone or derivatives thereof. Derivatives, anthraquinones or derivatives thereof, tetracyanoanthraquinodimethane or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or Examples thereof include polyfluorene or a derivative thereof.

具体的には、特開昭63−70257号公報、同63−175860号公報、特開平2−135359号公報、同2−135361号公報、同2−209988号公報、同3−37992号公報、同3−152184号公報に記載されているもの等が例示される。   Specifically, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, JP-A-2-20988, JP-A-3-37992, The thing etc. which are described in the same 3-152184 gazette are illustrated.

これらのうち、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。   Of these, oxadiazole derivatives, benzoquinone or derivatives thereof, anthraquinones or derivatives thereof, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof are preferred, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum, and polyquinoline are more preferable.

電子輸送層の成膜法としては特に制限はないが、低分子電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法、または溶液もしくは溶融状態からの成膜による方法が、高分子電子輸送材料では溶液または溶融状態からの成膜による方法がそれぞれ例示される。溶液または溶融状態からの成膜時には、高分子バインダーを併用してもよい。   There are no particular restrictions on the method for forming the electron transport layer, but for low molecular weight electron transport materials, vacuum deposition from powder, or by film formation from a solution or molten state, and for polymer electron transport materials, solution or Each method is exemplified by film formation from a molten state. In film formation from a solution or a molten state, a polymer binder may be used in combination.

溶液からの成膜に用いる溶媒としては、電子輸送材料および/または高分子バインダーを溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒が例示される。   The solvent used for film formation from a solution is not particularly limited as long as it can dissolve an electron transport material and / or a polymer binder. Examples of the solvent include chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane; ether solvents such as tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, An ester solvent such as ethyl cellosolve acetate is exemplified.

溶液または溶融状態からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法を用いることができる。   Examples of film formation methods from a solution or a molten state include spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, and screen. Coating methods such as a printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an inkjet printing method can be used.

混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また、可視光に対する吸収が強くないものが好適に用いられる。該高分子バインダーとして、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、またはポリシロキサンなどが例示される。   As the polymer binder to be mixed, those not extremely disturbing charge transport are preferable, and those not strongly absorbing visible light are suitably used. As the polymer binder, poly (N-vinylcarbazole), polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof, poly (p-phenylenevinylene) or a derivative thereof, poly (2,5-thienylenevinylene) or a derivative thereof, polycarbonate , Polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, or polysiloxane.

電子輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該電子輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   The film thickness of the electron transport layer differs depending on the material used, and may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate. However, at least a thickness that does not cause pinholes is required. If the thickness is too thick, the driving voltage of the element increases, which is not preferable. Therefore, the thickness of the electron transport layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

本発明の高分子LEDを形成する基板は、電極を形成し、有機物の層を形成する際に変化しないものであればよく、例えばガラス、プラスチック、高分子フィルム、シリコン基板などが例示される。不透明な基板の場合には、反対の電極が透明または半透明であることが好ましい。   The substrate on which the polymer LED of the present invention is formed may be any substrate that does not change when the electrode is formed and the organic layer is formed, and examples thereof include glass, plastic, polymer film, and silicon substrate. In the case of an opaque substrate, the opposite electrode is preferably transparent or translucent.

本発明の高分子LEDにおいて、通常は、陽極および陰極からなる電極の少なくとも一方が透明または半透明であり、陽極側が透明または半透明であることが好ましい。陽極の材料としては、導電性の金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が用いられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、およびそれらの複合体であるインジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等からなる導電性ガラスを用いて作成された膜(NESAなど)や、金、白金、銀、銅等が用いられ、ITO、インジウム・亜鉛・オキサイド、酸化スズが好ましい。作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。   In the polymer LED of the present invention, it is usually preferable that at least one of an electrode composed of an anode and a cathode is transparent or translucent, and the anode side is transparent or translucent. As the material for the anode, a conductive metal oxide film, a translucent metal thin film, or the like is used. Specifically, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and a composite film made of conductive glass made of indium / tin / oxide (ITO), indium / zinc / oxide, etc. (NESA) Etc.), gold, platinum, silver, copper and the like are used, and ITO, indium / zinc / oxide, and tin oxide are preferable. Examples of the production method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plating method, and the like. Further, an organic transparent conductive film such as polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof may be used as the anode.

陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nm〜10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。   The film thickness of the anode can be appropriately selected in consideration of light transmittance and electrical conductivity, and is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, more preferably 50 nm to 500 nm. is there.

また、陽極上に、電荷注入を容易にするために、フタロシアニン誘導体、導電性高分子、カーボンなどからなる層、あるいは金属酸化物や金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる平均膜厚2nm以下の層を設けてもよい。   Further, in order to facilitate charge injection on the anode, a layer made of a phthalocyanine derivative, a conductive polymer, carbon or the like, or an average film thickness of 2 nm or less made of a metal oxide, a metal fluoride, an organic insulating material, or the like. A layer may be provided.

本発明の高分子LEDで用いる陰極の材料としては、仕事関数の小さい材料が好ましい。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、およびそれらのうち2つ以上の合金、あるいはそれらのうち1つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1つ以上との合金、グラファイトまたはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。陰極を2層以上の積層構造としてもよい。   As a material of the cathode used in the polymer LED of the present invention, a material having a small work function is preferable. For example, metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, and their Two or more of these alloys, or an alloy of one or more of them and one or more of gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin, graphite or graphite intercalation compound, etc. Is used. Examples of the alloy include magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, magnesium-aluminum alloy, indium-silver alloy, lithium-aluminum alloy, lithium-magnesium alloy, lithium-indium alloy, calcium-aluminum alloy, and the like. The cathode may have a laminated structure of two or more layers.

陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nm〜10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。   The film thickness of the cathode can be appropriately selected in consideration of electric conductivity and durability, but is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, and more preferably 50 nm to 500 nm.

陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が用いられる。また、陰極と有機物層との間に、導電性高分子からなる層、あるいは金属酸化物や金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる平均膜厚2nm以下の層を設けても良く、陰極作製後、該高分子LEDを保護する保護層を装着していてもよい。該高分子LEDを長期安定的に用いるためには、素子を外部から保護するために、保護層および/または保護カバーを装着することが好ましい。   As a method for producing the cathode, a vacuum deposition method, a sputtering method, a laminating method in which a metal thin film is thermocompression bonded, or the like is used. Further, a layer made of a conductive polymer or a layer made of a metal oxide, metal fluoride, organic insulating material or the like having an average film thickness of 2 nm or less may be provided between the cathode and the organic layer. A protective layer for protecting the polymer LED may be attached. In order to use the polymer LED stably for a long period of time, it is preferable to attach a protective layer and / or protective cover in order to protect the element from the outside.

該保護層としては、高分子化合物、金属酸化物、金属フッ化物、金属ホウ化物などを用いることができる。また、保護カバーとしては、ガラス板、表面に低透水率処理を施したプラスチック板などを用いることができ、該カバーを熱効果樹脂や光硬化樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法が好適に用いられる。スペーサーを用いて空間を維持すれば、素子がキズつくのを防ぐことが容易である。該空間に窒素やアルゴンのような不活性なガスを封入すれば、陰極の酸化を防止することができ、さらに酸化バリウム等の乾燥剤を該空間内に設置することにより製造工程で吸着した水分が素子にダメージを与えるのを抑制することが容易となる。これらのうち、いずれか1つ以上の方策をとることが好ましい。   As the protective layer, a polymer compound, metal oxide, metal fluoride, metal boride and the like can be used. Further, as the protective cover, a glass plate, a plastic plate having a low water permeability treatment on the surface, or the like can be used, and a method of sealing the cover by bonding it to the element substrate with a heat effect resin or a photo-curing resin is preferable. Used for. If a space is maintained using a spacer, it is easy to prevent the element from being damaged. If an inert gas such as nitrogen or argon is sealed in the space, the cathode can be prevented from being oxidized, and moisture adsorbed in the manufacturing process by installing a desiccant such as barium oxide in the space. It is easy to suppress damage to the element. Among these, it is preferable to take any one or more measures.

本発明の高分子LEDは面状光源、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置、液晶表示装置のバックライト等として用いることができる。   The polymer LED of the present invention can be used as a planar light source, a segment display device, a dot matrix display device, a backlight of a liquid crystal display device, and the like.

本発明の高分子LEDを用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にOn/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子発光体を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは発光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動も可能であるし、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動しても良い。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。   In order to obtain planar light emission using the polymer LED of the present invention, the planar anode and cathode may be arranged so as to overlap each other. In addition, in order to obtain pattern-like light emission, a method of installing a mask provided with a pattern-like window on the surface of the planar light-emitting element, an organic material layer of a non-light-emitting portion is formed extremely thick and substantially non- There are a method of emitting light and a method of forming either one of the anode or the cathode or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging some electrodes so that they can be turned on / off independently, a segment type display element capable of displaying numbers, letters, simple symbols and the like can be obtained. Further, in order to obtain a dot matrix element, both the anode and the cathode may be formed in a stripe shape and arranged so as to be orthogonal to each other. Partial color display and multicolor display are possible by a method of separately coating a plurality of types of polymer light emitters having different emission colors or a method using a color filter or a light emission conversion filter. The dot matrix element can be driven passively, or can be actively driven in combination with a TFT or the like. These display elements can be used as display devices for computers, televisions, mobile terminals, mobile phones, car navigation systems, video camera viewfinders, and the like.

さらに、前記面状の発光素子は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。   Furthermore, the planar light-emitting element is a self-luminous thin type, and can be suitably used as a planar light source for a backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can be used as a curved light source or display device.

以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下、ポリスチレン換算の数平均分子量はSECにより求めた。
カラム: TOSOH TSKgel SuperHM-H(2本)+ TSKgel SuperH2000(4.6mm I.d. × 15cm)、検出器:RI (SHIMADZU RID-10A)を使用。移動相はテトラヒドロフラン(THF)を用いた。
Examples will be shown below for illustrating the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.
Hereinafter, the number average molecular weight in terms of polystyrene was determined by SEC.
Column: TOSOH TSKgel SuperHM-H (2) + TSKgel SuperH2000 (4.6mm Id x 15cm), Detector: RI (SHIMADZU RID-10A) is used. Tetrahydrofuran (THF) was used as the mobile phase.

合成例1
<4−t−ブチル−2,6−ジメチルブロモベンゼンの合成>

Figure 0004982984

不活性雰囲気下で、500mlの3つ口フラスコに酢酸225gを入れ、5−t−ブチル−m−キシレン24.3gを加えた。続いて臭素31.2gを加えた後、15〜20℃で3時間反応させた。
反応液を水500mlに加え析出した沈殿をろ過した。水250mlで2回洗浄し、白色の固体34.2gを得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ(ppm) = 1.3〔s,9H〕、2.4〔s,6H〕、7.1〔s,2H〕
MS(FD+)M+ 241 Synthesis example 1
<Synthesis of 4-t-butyl-2,6-dimethylbromobenzene>

Figure 0004982984

Under an inert atmosphere, 225 g of acetic acid was placed in a 500 ml three-necked flask, and 24.3 g of 5-t-butyl-m-xylene was added. Then, after adding 31.2 g of bromine, it was made to react at 15-20 degreeC for 3 hours.
The reaction solution was added to 500 ml of water, and the deposited precipitate was filtered. This was washed twice with 250 ml of water to obtain 34.2 g of a white solid.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ (ppm) = 1.3 [s, 9H], 2.4 [s, 6H], 7.1 [s, 2H]
MS (FD + ) M + 241

合成例2
<N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミンの合成>

Figure 0004982984

不活性雰囲気下で、100mlの3つ口フラスコに脱気した脱水トルエン36mlを入れ、トリ(t−ブチル)ホスフィン0.63gを加えた。続いてトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム0.41g、上記の4−t−ブチル−2,6−ジメチルブロモベンゼン9.6g、t−ブトキシナトリウム5.2g、N,N’−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン4.7gを加えた後、100℃で3時間反応させた。
反応液を飽和食塩水300mlに加え、約50℃に温めたクロロホルム300mlで抽出した。溶媒を留去した後、トルエン100mlを加えて、固体が溶解するまで加熱、放冷した後、沈殿をろ過し、白色の固体9.9gを得た。 Synthesis example 2
<Synthesis of N, N′-diphenyl-N, N′-bis (4-t-butyl-2,6-dimethylphenyl) -1,4-phenylenediamine>

Figure 0004982984

Under an inert atmosphere, 36 ml of degassed dehydrated toluene was placed in a 100 ml three-necked flask, and 0.63 g of tri (t-butyl) phosphine was added. Subsequently, 0.41 g of tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, 9.6 g of the above-mentioned 4-t-butyl-2,6-dimethylbromobenzene, 5.2 g of sodium t-butoxy, N, N′-diphenyl-1, After adding 4.7 g of 4-phenylenediamine, the mixture was reacted at 100 ° C. for 3 hours.
The reaction solution was added to 300 ml of saturated brine and extracted with 300 ml of chloroform warmed to about 50 ° C. After the solvent was distilled off, 100 ml of toluene was added, and the mixture was heated and allowed to cool until the solid was dissolved, and then the precipitate was filtered to obtain 9.9 g of a white solid.

合成例3
<N,N’−ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミンの合成>

Figure 0004982984

不活性雰囲気下で、1000mlの3つ口フラスコに脱水N,N−ジメチルホルムアミド350mlを入れ、上記のN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミン5.2gを溶解した後、氷浴下でN−ブロモスクシンイミド3.5g/N,N−ジメチルホルムアミド溶液を滴下し、一昼夜反応させた。
反応液に水150mlを加え、析出した沈殿をろ過し、メタノール50mlで2回洗浄し白色の固体4.4gを得た。
1H−NMR(300MHz/THF−d8):
δ(ppm) = 1.3〔s,18H〕、2.0〔s,12H〕、6.6〜6.7〔d,4H〕、6.8〜6.9〔br,4H〕、7.1〔s,4H〕、7.2〜7.3〔d,4H〕
MS(FD+)M+ 738 Synthesis example 3
<Synthesis of N, N′-bis (4-bromophenyl) -N, N′-bis (4-tert-butyl-2,6-dimethylphenyl) -1,4-phenylenediamine>

Figure 0004982984

Under an inert atmosphere, 350 ml of dehydrated N, N-dimethylformamide was placed in a 1000 ml three-necked flask and the above N, N′-diphenyl-N, N′-bis (4-t-butyl-2,6- After dissolving 5.2 g of (dimethylphenyl) -1,4-phenylenediamine, a 3.5 g / N, N-dimethylformamide solution of N-bromosuccinimide was added dropwise in an ice bath and allowed to react overnight.
150 ml of water was added to the reaction solution, and the deposited precipitate was filtered and washed twice with 50 ml of methanol to obtain 4.4 g of a white solid.
1 H-NMR (300 MHz / THF-d8):
δ (ppm) = 1.3 [s, 18H], 2.0 [s, 12H], 6.6 to 6.7 [d, 4H], 6.8 to 6.9 [br, 4H], 7 .1 [s, 4H], 7.2 to 7.3 [d, 4H]
MS (FD + ) M + 738

合成例4
(化合物Aの合成)

Figure 0004982984

化合物A
不活性雰囲気下、300ml三つ口フラスコに1‐ナフタレンボロン酸5.00g(29mmol)、2−ブロモベンズアルデヒド6.46g(35mmol)、炭酸カリウム10.0g(73mmol)、トルエン36ml、イオン交換水36mlを入れ、室温で撹拌しつつ20分間アルゴンバブリングした。続いてテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム16.8mg(0.15mmol)を入れ、さらに室温で撹拌しつつ10分間アルゴンバブリングした。100℃に昇温し、25時間反応させた。室温まで冷却後、トルエンで有機層を抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。トルエン:シクロヘキサン=1:2混合溶媒を展開溶媒としたシリカゲルカラムで生成することにより、化合物A5.18g(収率86%)を白色結晶として得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ7.39〜7.62(m、5H)、7.70(m、2H)、7.94(d、2H)、8.12(dd、2H)、9.63(s、1H)
MS(APCI(+)):(M+H)+ 233 Synthesis example 4
(Synthesis of Compound A)

Figure 0004982984

Compound A
Under an inert atmosphere, in a 300 ml three-necked flask, 5.00 g (29 mmol) of 1-naphthaleneboronic acid, 6.46 g (35 mmol) of 2-bromobenzaldehyde, 10.0 g (73 mmol) of potassium carbonate, 36 ml of toluene, 36 ml of ion-exchanged water And argon bubbling was performed for 20 minutes with stirring at room temperature. Subsequently, 16.8 mg (0.15 mmol) of tetrakis (triphenylphosphine) palladium was added, and argon was bubbled for 10 minutes while stirring at room temperature. The temperature was raised to 100 ° C. and reacted for 25 hours. After cooling to room temperature, the organic layer was extracted with toluene, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. By producing on a silica gel column using a mixed solvent of toluene: cyclohexane = 1: 2 as a developing solvent, 5.18 g of Compound A (yield 86%) was obtained as white crystals.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 7.39-7.62 (m, 5H), 7.70 (m, 2H), 7.94 (d, 2H), 8.12 (dd, 2H), 9.63 (s, 1H)
MS (APCI (+)): (M + H) <+> 233

合成例5
(化合物Bの合成)

Figure 0004982984

化合物B
不活性雰囲気下で300mlの三つ口フラスコに化合物A8.00g(34.4mmol)と脱水THF46mlを入れ、−78℃まで冷却した。続いてn−オクチルマグネシウムブロミド(1.0mol/lTHF溶液)52mlを30分かけて滴下した。滴下終了後0℃まで昇温し、1時間撹拌後、室温まで昇温して45分間撹拌した。氷浴して1N塩酸20mlを加えて反応を終了させ、酢酸エチルで有機層を抽出、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後トルエン:ヘキサン=10:1混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムで精製することにより、化合物B7.64g(収率64%)を淡黄色のオイルとして得た。HPLC測定では2本のピークが見られたが、LC−MS測定では同一の質量数であることから、異性体の混合物であると判断した。 Synthesis example 5
(Synthesis of Compound B)

Figure 0004982984

Compound B
Under an inert atmosphere, 8.00 g (34.4 mmol) of Compound A and 46 ml of dehydrated THF were placed in a 300 ml three-necked flask and cooled to -78 ° C. Subsequently, 52 ml of n-octylmagnesium bromide (1.0 mol / l THF solution) was added dropwise over 30 minutes. After completion of dropping, the temperature was raised to 0 ° C., stirred for 1 hour, then warmed to room temperature and stirred for 45 minutes. The reaction was terminated by adding 20 ml of 1N hydrochloric acid in an ice bath, and the organic layer was extracted with ethyl acetate and dried over sodium sulfate. After distilling off the solvent, the residue was purified by a silica gel column using a mixed solvent of toluene: hexane = 10: 1 as a developing solvent to obtain 7.64 g (yield: 64%) of Compound B as a pale yellow oil. Although two peaks were observed in the HPLC measurement, they were determined to be a mixture of isomers because they were the same mass number in the LC-MS measurement.

合成例6
(化合物Cの合成)

Figure 0004982984

化合物C
不活性雰囲気下、500ml三つ口フラスコに化合物B(異性体の混合物)5.00g(14.4mmol)と脱水ジクロロメタン74mlを入れ、室温で撹拌、溶解させた。続いて、三フッ化ホウ素のエーテラート錯体を室温で1時間かけて滴下し、的か終了後室温で4時間撹拌した。撹拌しながらエタノール125mlをゆっくりと加え、発熱がおさまったらクロロホルムで有機層を抽出、2回水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、ヘキサンを展開溶媒とするシリカゲルカラムで精製することにより、化合物C3.22g(収率68%)を無色のオイルとして得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.90(t、3H)、1.03〜1.26(m、14H)、2.13(m、2H)、4.05(t、1H)、7.35(dd、1H)、7.46〜7.50(m、2H)、7.59〜7.65(m、3H)、7.82(d、1H)、7.94(d、1H)、8.35(d、1H)、8.75(d、1H)
MS(APCI(+)):(M+H)+ 329 Synthesis Example 6
(Synthesis of Compound C)

Figure 0004982984

Compound C
Under an inert atmosphere, 5.00 g (14.4 mmol) of Compound B (mixture of isomers) and 74 ml of dehydrated dichloromethane were placed in a 500 ml three-necked flask and stirred and dissolved at room temperature. Subsequently, boron ether trifluoride etherate complex was added dropwise at room temperature over 1 hour, and after completion, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. While stirring, 125 ml of ethanol was slowly added. When the exotherm subsided, the organic layer was extracted with chloroform, washed twice with water, and dried over magnesium sulfate. After distilling off the solvent, the residue was purified by a silica gel column using hexane as a developing solvent to obtain 3.22 g (yield 68%) of Compound C as a colorless oil.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.90 (t, 3H), 1.03-1.26 (m, 14H), 2.13 (m, 2H), 4.05 (t, 1H), 7.35 (dd, 1H), 7 .46-7.50 (m, 2H), 7.59-7.65 (m, 3H), 7.82 (d, 1H), 7.94 (d, 1H), 8.35 (d, 1H) ), 8.75 (d, 1H)
MS (APCI (+)): (M + H) <+> 329

合成例7
(化合物Dの合成)

Figure 0004982984

化合物D
不活性雰囲気下200ml三つ口フラスコにイオン交換水20mlをいれ、撹拌しながら水酸化ナトリウム18.9g(0.47mol)を少量ずつ加え、溶解させた。水溶液が室温まで冷却した後、トルエン20ml、化合物C5.17g(15.7mmol)、臭化トリブチルアンモニウム1.52g(4.72mmol)を加え、50℃に昇温した。臭化n−オクチルを滴下し、滴下終了後50℃で9時間反応させた。反応終了後トルエンで有機層を抽出し、2回水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。ヘキサンを展開溶媒とするシリカゲルカラムで精製することにより、化合物D5.13g(収率74%)を黄色のオイルとして得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.52(m、2H)、0.79(t、6H)、1.00〜1.20(m、22H)、2.05(t、4H)、7.34(d、1H)、7.40〜7.53(m、2H)、7.63(m、3H)、7.83(d、1H)、7.94(d、1H)、8.31(d、1H)、8.75(d、1H)
MS(APCI(+)):(M+H)+ 441 Synthesis example 7
(Synthesis of Compound D)

Figure 0004982984

Compound D
Under an inert atmosphere, 20 ml of ion-exchanged water was placed in a 200 ml three-necked flask, and 18.9 g (0.47 mol) of sodium hydroxide was added little by little with stirring to dissolve. After the aqueous solution was cooled to room temperature, 20 ml of toluene, 5.17 g (15.7 mmol) of Compound C and 1.52 g (4.72 mmol) of tributylammonium bromide were added, and the temperature was raised to 50 ° C. N-Octyl bromide was added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was reacted at 50 ° C. for 9 hours. After completion of the reaction, the organic layer was extracted with toluene, washed twice with water, and dried over sodium sulfate. Purification by a silica gel column using hexane as a developing solvent gave 5.13 g (yield 74%) of Compound D as a yellow oil.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.52 (m, 2H), 0.79 (t, 6H), 1.00-1.20 (m, 22H), 2.05 (t, 4H), 7.34 (d, 1H), 7 40 to 7.53 (m, 2H), 7.63 (m, 3H), 7.83 (d, 1H), 7.94 (d, 1H), 8.31 (d, 1H), 8. 75 (d, 1H)
MS (APCI (+)): (M + H) <+> 441

合成例8
(化合物Eの合成)

Figure 0004982984

化合物E
空気雰囲気下、50mlの三つ口フラスコに化合物D4.00g(9.08mmol)と酢酸:ジクロロメタン=1:1混合溶媒57mlを入れ、室温で撹拌、溶解させた。続いて三臭化ベンジルトリメチルアンモニウム7.79g(20.0mmol)を加えて撹拌しつつ、塩化亜鉛を三臭化ベンジルトリメチルアンモニウムが完溶するまで加えた。室温で20時間撹拌後、5%亜硫酸水素ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を停止し、クロロホルムで有機層を抽出、炭酸カリウム水溶液で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。ヘキサンを展開溶媒とするフラッシュカラムで2回精製した後、エタノール:ヘキサン=1:1、続いて10:1混合溶媒で再結晶することにより、化合物E4.13g(収率76%)を白色結晶として得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.60(m、2H)、0.91(t、6H)、1.01〜1.38(m、22H)、2.09(t、4H)、7.62〜7.75(m、3H)、7.89(s、1H)、8.20(d、1H)、8.47(d、1H)、8.72(d、1H)
MS(APPI(+)):(M+H)+ 598 Synthesis Example 8
(Synthesis of Compound E)

Figure 0004982984

Compound E
Under an air atmosphere, 4.00 g (9.08 mmol) of Compound D and 57 ml of a mixed solvent of acetic acid: dichloromethane = 1: 1 were placed in a 50 ml three-necked flask, and the mixture was stirred and dissolved at room temperature. Subsequently, 7.79 g (20.0 mmol) of benzyltrimethylammonium tribromide was added and stirred, and zinc chloride was added until benzyltribromide tribromide was completely dissolved. After stirring at room temperature for 20 hours, the reaction was stopped by adding 10 ml of 5% aqueous sodium bisulfite solution, and the organic layer was extracted with chloroform, washed twice with aqueous potassium carbonate solution, and dried over sodium sulfate. After purification twice with a flash column using hexane as a developing solvent, 4.13 g (yield 76%) of Compound E was obtained as white crystals by recrystallization with ethanol: hexane = 1: 1, followed by a 10: 1 mixed solvent. Got as.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.60 (m, 2H), 0.91 (t, 6H), 1.01-1.38 (m, 22H), 2.09 (t, 4H), 7.62-7.75 (m, 3H), 7.89 (s, 1H), 8.20 (d, 1H), 8.47 (d, 1H), 8.72 (d, 1H)
MS (APPI (+)): (M + H) <+> 598

化合物Fの合成実施例

Figure 0004982984
100 mLの三口フラスコにPd(OAc)2 (123 mg, 0.54 mmol)、P(t-Bu)3・HBF4 (476 mg, 16.4 mmol)、Cs2CO3 (2.67 g, 82.1 mmol)を秤り取り、アルゴン雰囲気にした。
脱水キシレン (50 mL)をシリンジで導入し、室温で2時間撹拌した。カルバゾール(2.74 g, 16.4 mmol)、2,7-dibromo-9,9-di-n-octylfluorene (3g, 5.47 mmol)をフラスコ内に加え、120℃で8時間加熱した。
反応終了後、反応液を室温まで冷却してから固体をろ別した。ろ液を濃縮乾固し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製{展開溶媒:CHCl3/hexane (1:3, v/v)}することにより、白色のフィルム状固体として化合物F (2.9 g,74.4%)を得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.79〜0.89(m、10H)、1.15〜1.27(m、20H)、2.01〜2.07(m、4H)、7.30〜7.35(m、4H)、7.41〜7.49(m、8H)、7.59〜7.62(m、4H)、7.98(d、J = 7.5 Hz、1H)、8.19(d、J = 8.4 Hz、4H)
MS(APCI(+)):(M+H)+ 721 Synthesis Example of Compound F
Figure 0004982984
Three-necked flask 100 mL Pd (OAc) 2 ( 123 mg, 0.54 mmol), P (t-Bu) 3 · HBF 4 (476 mg, 16.4 mmol), Cs 2 CO 3 (2.67 g, 82.1 mmol) the balance To an argon atmosphere.
Dehydrated xylene (50 mL) was introduced with a syringe and stirred at room temperature for 2 hours. Carbazole (2.74 g, 16.4 mmol) and 2,7-dibromo-9,9-di-n-octylfluorene (3 g, 5.47 mmol) were added to the flask and heated at 120 ° C. for 8 hours.
After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the solid was filtered off. The filtrate was concentrated to dryness and purified by silica gel chromatography {developing solvent: CHCl3 / hexane (1: 3, v / v)} to give compound F (2.9 g, 74.4%) as a white film-like solid. Obtained.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.79 to 0.89 (m, 10H), 1.15 to 1.27 (m, 20H), 2.01 to 2.07 (m, 4H), 7.30 to 7.35 (m, 4H) ), 7.41-7.49 (m, 8H), 7.59-7.62 (m, 4H), 7.98 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 8.19 (d, J = 8.4 Hz, 4H)
MS (APCI (+)): (M + H) <+> 721

合成例9
<高分子化合物1の合成>
化合物E(8.0g)、および2,2’−ビピリジル(5.9g)を脱水したテトラヒドロフラン300mLに溶解した後、窒素でバブリングして系内を窒素置換した。窒素雰囲気下において、この溶液を60℃まで昇温し、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(10.4g、0.038mol)加え、5時間反応させた。反応後、この反応液を室温(約25℃)まで冷却し、25%アンモニア水40mL/メタノール300mL/イオン交換水300mL混合溶液中に滴下して30分間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して風乾した。その後、トルエン400mLに溶解させてからろ過を行い、ろ液をアルミナカラムを通して精製し、1N塩酸約300mLを加えて3時間攪拌し、水層を除去し、有機層に4%アンモニア水約300mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。有機層にイオン交換水約300mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。有機層にメタノール約100mLを滴下して1時間攪拌し、続いて静置した後、上澄み液をデカンテーションで除去した。得られた沈殿物をトルエン100mLに溶解して、メタノール約200mLに滴下して1時間攪拌し、ろ過して2時間減圧乾燥した。得られた共重合体の収量は4.1gであった(以後、高分子化合物1と呼ぶ)。高分子化合物1のポリスチレン換算の平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=1.5×105、Mw=2.7×105であった(移動相:テトラヒドロフラン)。
Synthesis Example 9
<Synthesis of Polymer Compound 1>
Compound E (8.0 g) and 2,2′-bipyridyl (5.9 g) were dissolved in 300 mL of dehydrated tetrahydrofuran, and then bubbled with nitrogen to purge the system with nitrogen. In a nitrogen atmosphere, the temperature of the solution was raised to 60 ° C., bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } (10.4 g, 0.038 mol) was added, and the reaction was performed for 5 hours. I let you. After the reaction, this reaction solution was cooled to room temperature (about 25 ° C.), dropped into a mixed solution of 25% ammonia water 40 mL / methanol 300 mL / ion exchanged water 300 mL and stirred for 30 minutes, and then the deposited precipitate was filtered. Air dried. Then, after dissolving in 400 mL of toluene, filtration is performed, the filtrate is purified through an alumina column, about 300 mL of 1N hydrochloric acid is added and stirred for 3 hours, the aqueous layer is removed, and about 300 mL of 4% aqueous ammonia is added to the organic layer. In addition, the aqueous layer was removed after stirring for 2 hours. About 300 mL of ion exchange water was added to the organic layer and stirred for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. About 100 mL of methanol was added dropwise to the organic layer, stirred for 1 hour, and allowed to stand, and then the supernatant was removed by decantation. The obtained precipitate was dissolved in 100 mL of toluene, dropped into about 200 mL of methanol, stirred for 1 hour, filtered and dried under reduced pressure for 2 hours. The yield of the obtained copolymer was 4.1 g (hereinafter referred to as polymer compound 1). The average molecular weight and weight average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer compound 1 were Mn = 1.5 × 10 5 and Mw = 2.7 × 10 5 (mobile phase: tetrahydrofuran), respectively.

合成例10
<高分子化合物2の合成>
化合物E(0.65g)、N,N’−ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミン(0.34g)および2,2’−ビピリジル(0.58g)を脱水したテトラヒドロフラン100mLに溶解した後、窒素でバブリングして系内を窒素置換した。窒素雰囲気下において、この溶液に、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(1.0g)加え、60℃まで昇温し、攪拌しながら3時間反応させた。反応後、この反応液を室温(約25℃)まで冷却し、25%アンモニア水10mL/メタノール約100mL/イオン交換水約100mL混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して3時間減圧乾燥し、その後、トルエン50mLに溶解させてからろ過を行い、ろ液をアルミナカラムを通して精製し、4%アンモニア水約50mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。有機層にイオン交換水約50mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。有機層はメタノール約100mLに滴下して1時間攪拌し、続いて静置した後、上澄み液をデカンテーションで除去した。得られた沈殿物をトルエン50mLに溶解して、メタノール約200mLに滴下して1時間攪拌し、ろ過して2時間減圧乾燥した。得られた共重合体の収量は390mgであった(以後、高分子化合物2と呼ぶ)。高分子化合物2のポリスチレン換算の平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=1.6×104、Mw=7.4×104であった(移動相:テトラヒドロフラン)。
Synthesis Example 10
<Synthesis of Polymer Compound 2>
Compound E (0.65 g), N, N′-bis (4-bromophenyl) -N, N′-bis (4-t-butyl-2,6-dimethylphenyl) -1,4-phenylenediamine (0 .34 g) and 2,2′-bipyridyl (0.58 g) were dissolved in 100 mL of dehydrated tetrahydrofuran, and the inside of the system was purged with nitrogen by bubbling with nitrogen. Under a nitrogen atmosphere, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } (1.0 g) was added to this solution, the temperature was raised to 60 ° C., and the reaction was continued for 3 hours with stirring. I let you. After the reaction, this reaction solution is cooled to room temperature (about 25 ° C.), dropped into a mixed solution of 25% ammonia water 10 mL / methanol about 100 mL / ion exchange water about 100 mL, and stirred for 1 hour, and then the deposited precipitate is filtered. The solution was dried under reduced pressure for 3 hours, and then dissolved in 50 mL of toluene, followed by filtration. The filtrate was purified through an alumina column, added with about 50 mL of 4% aqueous ammonia, stirred for 2 hours, and then the aqueous layer was removed. About 50 mL of ion exchange water was added to the organic layer and stirred for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. The organic layer was dropped into about 100 mL of methanol, stirred for 1 hour, and allowed to stand, and then the supernatant was removed by decantation. The obtained precipitate was dissolved in 50 mL of toluene, dropped into about 200 mL of methanol, stirred for 1 hour, filtered and dried under reduced pressure for 2 hours. The yield of the obtained copolymer was 390 mg (hereinafter referred to as polymer compound 2). The average molecular weight and weight average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer compound 2 were Mn = 1.6 × 10 4 and Mw = 7.4 × 10 4 (mobile phase: tetrahydrofuran), respectively.

合成例11
化合物Gの合成

Figure 0004982984

50 mLの三口フラスコにPd(OAc)2 (0.007g, 0.03 mmol)、カルバゾール(0.75g, 4.5mmol)、2,7-ジブロモ-9,9-ジ-シクロヘキシルメチルフルオレン (0.77g, 1.5mmol)、K2CO3(1.24g、9mmol)、を仕込み減圧でアルゴン置換を3度行った。次に脱水トルエン(16mL)をシリンジで加え再度減圧でアルゴン置換を行った。このマスを70〜75℃に加熱し(t-Bu)P (0.015g、0.075mmolを加え昇温し105〜107℃で9時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し固体をろ別し た。濾紙上の残滓をクロロホルム(50mL)で洗浄し濾液を濃縮乾固した。シリカゲルクロマトグラフィーで精製{展開媒:クロロホルム/ヘキサン(1:10, v/v)、0.1%トリエチルアミン添加}することにより、白色の固体として化合物G(0.6g、 収率 59.2%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ0.747(m、6H)、0.934(m、6H)、1.165(m、4H)、1.459(m、6H)、1.983(d、4H)、7.382(m、12H)、7.583(m、4H)、8.006(m、2H)、8.187(d、4H)
Synthesis Example 11
Synthesis of Compound G
Figure 0004982984

Pd (OAc) 2 (0.007g, 0.03mmol), carbazole (0.75g, 4.5mmol), 2,7-dibromo-9,9-dicyclohexylmethylfluorene (0.77g, 1.5mmol) in a 50 mL three-necked flask , K2CO3 (1.24 g, 9 mmol) was charged, and argon substitution was performed three times under reduced pressure. Next, dehydrated toluene (16 mL) was added with a syringe, and argon substitution was performed again under reduced pressure. The mass was heated to 70 to 75 ° C., (t-Bu) P (0.015 g, 0.075 mmol was added, the temperature was raised, and the mixture was heated and stirred for 9 hours at 105 to 107 ° C. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and solid. The residue on the filter paper was washed with chloroform (50 mL), and the filtrate was concentrated to dryness and purified by silica gel chromatography {developing medium: chloroform / hexane (1:10, v / v), 0.1% triethylamine Compound G (0.6 g, yield 59.2%) was obtained as a white solid.
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.747 (m, 6H), 0.934 (m, 6H), 1.165 (m, 4H), 1.259 (m, 6H), 1.983 (d, 4H), 7.382 (m , 12H), 7.583 (m, 4H), 8.006 (m, 2H), 8.187 (d, 4H)

合成例12
化合物Hの合成

Figure 0004982984

化合物H

Figure 0004982984
化合物Hの前駆体

50 mLの三口フラスコにPd(OAc)2 (0.007g, 0.03 mmol)、カルバゾール(0.80g, 4.8mmol)、 特願2003-343244の記載に従って合成した上記前駆体 (0.77g, 1.6mmol)、 K2CO3(1.33g、9.6mmol)、を仕込み減圧でアルゴン置換を3度行った。次に脱水トルエン(16mL)をシリンジで加え再度減圧でアルゴン置換を行った。このマスを70〜75℃に加熱し(t-Bu)P(0.016g、0.08mmol)を加え昇温し105〜107℃で6時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し固体をろ別した。濾紙上の残滓をクロロホルム(50mL)で洗浄し濾液を濃縮乾固した。シリカゲルクロマトグラフィーで精製{展開溶媒:クロ ロホルム/ヘキサン (1:10, v/v)、0.1%トリエチルアミン添加}することにより白色の固体1.05gを得た。この白色個体にメタノール30gを加え30分還流攪拌し室温へ冷却後濾過しケーキをメタノール20mL洗浄した。80℃で減圧乾燥し化合物H (0.87g、収率 82.8%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ0.882(m、12H)、1.407(m、6H)、1.992(m、4H)、7.597(m、16H)、8.069(m、2H)、8.174(m、4H)
Synthesis Example 12
Synthesis of Compound H

Figure 0004982984

Compound H

Figure 0004982984
Compound H precursor

In a 50 mL three-necked flask, Pd (OAc) 2 (0.007 g, 0.03 mmol), carbazole (0.80 g, 4.8 mmol), the precursor synthesized as described in Japanese Patent Application 2003-343244 (0.77 g, 1.6 mmol), K2CO3 (1.33 g, 9.6 mmol) was charged, and argon substitution was performed three times under reduced pressure. Next, dehydrated toluene (16 mL) was added with a syringe, and argon substitution was performed again under reduced pressure. The mass was heated to 70 to 75 ° C., (t-Bu) P (0.016 g, 0.08 mmol) was added, the temperature was raised, and the mixture was heated and stirred at 105 to 107 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and the solid was filtered off. The residue on the filter paper was washed with chloroform (50 mL), and the filtrate was concentrated to dryness. Purification by silica gel chromatography {developing solvent: chloroform / hexane (1:10, v / v), addition of 0.1% triethylamine} gave 1.05 g of a white solid. To this white solid, 30 g of methanol was added, stirred under reflux for 30 minutes, cooled to room temperature, filtered, and the cake was washed with 20 mL of methanol. Drying under reduced pressure at 80 ° C. gave Compound H (0.87 g, yield 82.8%).
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.882 (m, 12H), 1.407 (m, 6H), 1.992 (m, 4H), 7.597 (m, 16H), 8.069 (m, 2H), 8.174 (m 4H)

合成例13
化合物Iの合成
(1)前駆体の合成

Figure 0004982984
化合物Iの前駆体

500 mLの三口フラスコにNaOH( 48.0g、1.2mol)、水(89.1)gを仕込みNaOHを溶解した。50℃に調温後2,7-ジブロモフル オレン(12.96g、40mmol)、トルエン(74.8g)、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド(7.74g,24mmol)を仕込んだ。
攪拌下1-クロロ-3-メチル-2-ブテン(12.55g、120mmol)を52〜55℃で40分で滴下した。その後50〜55℃で3 時間攪拌した。反応終了後室温まで冷却しトルエン(50mL)を加え水層を分離した。油層を水(100mL)で4回洗浄した後濃縮し19.0gの
固形物を得た。この固形物をエタノール(57g)に80℃で溶解、5℃以下で析出結晶を濾過、エタノール(30mL)で洗浄した後乾燥し乾燥ケーキ15.3gを得た。ケーキ/ヘキサン/エタノール=1/0.5/1.5(重量比)で更に2回再結晶を行ったのち乾燥し白色の前駆体(10.3g、収率 55.9%)を得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ1.42(s、6H)、1.48(s、6H)、2.525(d、4H)、4.625(t、2H)、7.465(m、6H)

(2)化合物Iの合成
Figure 0004982984
化合物I

Pd(OAc)2(0.045g, 0.2 mmol)、カルバゾール(5.02g, 30mmol)、 前駆体 (4.60g, 10mmol)、K2CO3(8.29g、60mmol)を仕込み減圧でアルゴン置換を3度行った。次に脱水トルエン(50mL)をシリンジで加え再度減圧でアルゴン置換を行った。
このマスを70〜75℃に加熱し(t-Bu)P(0.10g、0.5mmol)を加え昇温し105〜107℃で11時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し固体をろ別した。濾紙上の残滓をクロロホルム(100mL)で洗浄し濾液を濃縮乾固し固形分(8.6g)を得た。
固形分/クロロホルム/エタノール=1/5/5(重量比)の条件で再結晶を行い乾燥ケーキ(6.04g)を得た。
シリカゲルクロマトグラフィーで精製{展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン (1:10, v/v)、0.1%トリエチルアミン添加}することにより白色の固体(6.00)gを得た。更に、白色個体/クロロホルム/ヘキサン=1/3/10(重量比)の 条件で再結晶を2回行い80℃で減圧乾燥し化合物I(5.10g、収率 80.5%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ1.513(s、6H)、1.551(s、6H)、2.730(m、4H)、4.818(m、2H)、7.314(m、4H)、7.446(m、8H)、7.586(m、4H)、7.976(d、2H)、8.185(d、4H)
Synthesis Example 13
Synthesis of Compound I (1) Synthesis of precursor
Figure 0004982984
Precursor of Compound I

NaOH (48.0 g, 1.2 mol) and water (89.1) g were charged into a 500 mL three-necked flask to dissolve NaOH. After adjusting the temperature to 50 ° C., 2,7-dibromofluorene (12.96 g, 40 mmol), toluene (74.8 g), and tetra-n-butylammonium bromide (7.74 g, 24 mmol) were charged.
With stirring, 1-chloro-3-methyl-2-butene (12.55 g, 120 mmol) was added dropwise at 52-55 ° C. over 40 minutes. Thereafter, the mixture was stirred at 50 to 55 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (50 mL) was added, and the aqueous layer was separated. The oil layer was washed 4 times with water (100 mL) and concentrated to 19.0 g
A solid was obtained. This solid was dissolved in ethanol (57 g) at 80 ° C., and the precipitated crystals were filtered at 5 ° C. or less, washed with ethanol (30 mL) and dried to obtain 15.3 g of a dry cake. The crystal was further recrystallized twice with cake / hexane / ethanol = 1 / 0.5 / 1.5 (weight ratio) and then dried to obtain a white precursor (10.3 g, yield 55.9%).
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ1.42 (s, 6H), 1.48 (s, 6H), 2.525 (d, 4H), 4.625 (t, 2H), 7.465 (m, 6H)

(2) Synthesis of Compound I
Figure 0004982984
Compound I

Pd (OAc) 2 (0.045 g, 0.2 mmol), carbazole (5.02 g, 30 mmol), precursor (4.60 g, 10 mmol), K2CO3 (8.29 g, 60 mmol) were charged, and argon substitution was performed three times under reduced pressure. Next, dehydrated toluene (50 mL) was added with a syringe, and argon substitution was performed again under reduced pressure.
The mass was heated to 70 to 75 ° C., (t-Bu) P (0.10 g, 0.5 mmol) was added, the temperature was raised, and the mixture was heated and stirred at 105 to 107 ° C. for 11 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and the solid was filtered off. The residue on the filter paper was washed with chloroform (100 mL), and the filtrate was concentrated to dryness to obtain a solid (8.6 g).
Recrystallization was performed under the conditions of solid content / chloroform / ethanol = 1/5/5 (weight ratio) to obtain a dry cake (6.04 g).
Purification by silica gel chromatography {developing solvent: chloroform / hexane (1:10, v / v), addition of 0.1% triethylamine} gave white solid (6.00) g. Further, recrystallization was carried out twice under the conditions of white solid / chloroform / hexane = 1/3/10 (weight ratio), and dried under reduced pressure at 80 ° C. to obtain Compound I (5.10 g, yield 80.5%).
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 1.513 (s, 6H), 1.551 (s, 6H), 2.730 (m, 4H), 4.818 (m, 2H), 7.314 (m, 4H), 7.446 (m) 8H), 7.586 (m, 4H), 7.976 (d, 2H), 8.185 (d, 4H)

合成例14
化合物Jの合成
(1)前駆体の合成

Figure 0004982984
化合物Jの前駆体
500 mLの三口フラスコにNaOH( 48.0g、1.2mol)、水(89.1)gを仕込みNaOHを溶解した。50℃に調温後2,7-ジブロモフル オレン(12.96g、40mmol)、トルエン(64.8g)、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド(7.74g,24mmol)を仕込んだ。
攪拌下エチルブロミド(6.54g、60mmol)を52〜55℃で30分で滴下した。その後50〜55℃で7時間攪拌した。反応終了後室温まで冷却しトルエン(50mL)を加え水層を分離した。油層を水(100mL)で4回洗浄した後濃縮し15.2gの 固形物を得た。この固形物をエタノール(45g)で75〜80℃で1時間洗浄し、室温に冷却後濾過、エタノール(30mL)で洗浄した。乾燥し乾燥ケーキ(15.2)gを得た。ケーキ/クロロホルム/ヘキサン=1/2/4(重量比)で更に3回再結晶を行ったのち乾燥し白色の前駆体 (4.90g、収率 32.2%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ0.317(t、6H)、1.991(q、4H)、7.493(m、6H)

(2)化合物Jの合成
Figure 0004982984
化合物J

Pd(OAc)2(0.045g, 0.2 mmol)、カルバゾール(5.02g, 30mmol)、 前駆体 (3.80g, 10mmol)、K2CO3(8.29g、60mmol)を仕込み減圧でアルゴン置換を3度行った。次に脱水トルエン40mLをシリンジで加え再度減圧でアルゴン置換を行った。このマスを70〜75℃に加熱し(t-Bu)P(0.10g、0.5mmol)を加え昇温し105〜107℃で10.5時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し固体をろ別した。濾紙上の残滓をクロロホルム(150mL)で洗浄し濾液を濃縮乾固し固形分(6.85g)た。
固形分/クロロホルム/エタノール=1/5/5(重量比)の条件で再結晶を行い乾燥ケーキ(5.45g)を得た。 このケーキを クロロホルム(24g)に溶解しヘキサン(36g)を加えて再結晶を行い乾燥ケーキ(5.00g)を得た。シリカゲルクロマトグフィー で精製{展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン (1:5, v/v)、0.1%トリエチルアミン添加}することにより白色の固(5.00g)を得た。更に、白色個体をクロロホルム(24g)に溶解しヘキサン(36g)を加えて再結晶を行い化合物J(4.55g、収82.4%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ0.559(t、6H)、2.101(m、4H)、7.334(m、4H)、7.456(m、8H)、7.594(m、4H)、8.087(d、2H)、8.185(d、4H)
Synthesis Example 14
Synthesis of Compound J (1) Synthesis of precursor
Figure 0004982984
Compound J precursor
NaOH (48.0 g, 1.2 mol) and water (89.1) g were charged into a 500 mL three-necked flask to dissolve NaOH. After adjusting the temperature to 50 ° C., 2,7-dibromofluorene (12.96 g, 40 mmol), toluene (64.8 g), and tetra-n-butylammonium bromide (7.74 g, 24 mmol) were charged.
Ethyl bromide (6.54 g, 60 mmol) was added dropwise at 52-55 ° C. over 30 minutes with stirring. Then, it stirred at 50-55 degreeC for 7 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (50 mL) was added, and the aqueous layer was separated. The oil layer was washed 4 times with water (100 mL) and then concentrated to obtain 15.2 g of a solid. This solid was washed with ethanol (45 g) at 75-80 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, filtered, and washed with ethanol (30 mL). The dried cake (15.2) g was obtained by drying. The crystal was recrystallized three more times with cake / chloroform / hexane = 1/2/4 (weight ratio) and then dried to obtain a white precursor (4.90 g, yield 32.2%).
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.317 (t, 6H), 1.991 (q, 4H), 7.493 (m, 6H)

(2) Synthesis of Compound J
Figure 0004982984
Compound J

Pd (OAc) 2 (0.045 g, 0.2 mmol), carbazole (5.02 g, 30 mmol), precursor (3.80 g, 10 mmol), K2CO3 (8.29 g, 60 mmol) were charged, and argon substitution was performed three times under reduced pressure. Next, 40 mL of dehydrated toluene was added with a syringe, and argon substitution was performed again under reduced pressure. The mass was heated to 70 to 75 ° C., (t-Bu) P (0.10 g, 0.5 mmol) was added, the temperature was raised, and the mixture was heated and stirred at 105 to 107 ° C. for 10.5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and the solid was filtered off. The residue on the filter paper was washed with chloroform (150 mL), and the filtrate was concentrated to dryness to obtain a solid (6.85 g).
Recrystallization was performed under the conditions of solid content / chloroform / ethanol = 1/5/5 (weight ratio) to obtain a dry cake (5.45 g). This cake was dissolved in chloroform (24 g), hexane (36 g) was added and recrystallized to obtain a dry cake (5.00 g). Purification by silica gel chromatography {developing solvent: chloroform / hexane (1: 5, v / v), 0.1% triethylamine added} gave a white solid (5.00 g). Further, the white solid was dissolved in chloroform (24 g), hexane (36 g) was added and recrystallized to obtain Compound J (4.55 g, yield 82.4%).
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.559 (t, 6H), 2.101 (m, 4H), 7.334 (m, 4H), 7.456 (m, 8H), 7.594 (m, 4H), 8.087 (d 2H), 8.185 (d, 4H)

合成例15
化合物Kの合成
オキセタンユニットの合成

Figure 0004982984

オキセタンユニット

アルゴン置換した1l三つ口フラスコにイオン交換水163mlを入れ、水酸化ナトリウム85.2g(2.13mol)を少量ずつ加えて撹拌、溶解させた。続いて臭化テトラブチルアンモニウム12.5g(0.04mol)、を入れ、3−エチル−3−オキセタンメタノール15g(0.13mol)、1,6−ジブロモヘキサン94.5g(0.39mol)、およびヘキサン128mlを加え、室温で9時間反応後、80℃に昇温して1時間反応させた。室温まで冷却後、ヘキサンで有機層を抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。減圧蒸留で精製することにより、無色透明なオイル状のオキセタンユニット32.4gを得た

(1)前駆体の合成
Figure 0004982984
化合物Kの前駆体
200 mLの三口フラスコにNaOH( 12.0g、0.3mol)、水(22.3)gを仕込みNaOHを溶解した。50℃に調温後2,7-ジブロモフル オレン(3.24g、10mmol)、トルエン(13.9g)、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド(0.97g,3mmol)を仕込んだ。
攪拌下上記オキセタンユニット(6.98g、25mmol)をトルエン(7.0g)に溶解した液を52〜55℃で25分で滴下した。その後50〜55℃で8時間攪拌した。反応終了後室温 まで冷却しトルエン(100mL)を加え水層を分離した。油層を水(50mL)で4回洗浄した後濃
縮し9.0gの粘稠な油状物(一部結晶化)を得た。このマスにメタノール(20g)を加え結晶を濾別した。濾液を濃縮し粘稠な油 状物(9.0g)を得た。シリカゲルクロマトグフィーで精製{展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン (1:1, v/v)、0.1%トリエチルアミン添加}を3回繰り返すことにより前駆体(1.82g、収率 25.2%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ0.594(m、4H)、0.850(t、6H)、1.096(m、8H)、1.380(m、4H)、1.693(m、4H)、1.914(m、4H)、3.332(t、4H)、3.458(s、4H)、4.326(d、4H)、4.408(d、4H)、7.486(m、6H)

(2)化合物Kの合成
Figure 0004982984
化合物K

Pd(OAc)2(0.007g, 0.03 mmol)、カルバゾール(0.75g, 4.5mmol)、前駆体 (1.08g, 1.5mmol)、K2CO3(1.24g、9mmol)を仕込み減圧でアルゴン置換を3度行った。次に脱水トルエン(16mL)をシリンジで加え再度減圧でアルゴン置換を行った。
このマスを70〜75℃に加熱し(t-Bu)P(0.015g、0.075mmol)を加え昇温し105〜107℃で6時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し固体をろ別した。濾紙上の残滓をクロロホルム(50mL)で洗浄し濾液を濃縮乾固し固形分(1.95g)を 得た。シリカゲルクロマトグフィーで2回精製{展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン (1:2, v/v)、0.1%トリエチルアミンを添加}することにより樹脂状個体の化合物K(0.92g、収率68.6%)を得た。
1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ0.809(t、4H)、0.901(m、6H)、1.194(m、8H)、1.446(m、4H)、1.658(m、4H)、2.089(m、4H)、3.338(t、4H)、3.442(s、4H)、4.299(d、4H)、4.367(d、4H)、7.366(m、4H)、7.456(m、8H)、7.608(m、4H)、7.992(d、2H)、8.187(d、4H)
Synthesis Example 15
Synthesis of Compound K Synthesis of Oxetane Unit
Figure 0004982984

Oxetane unit

163 ml of ion-exchanged water was placed in a 1 l three-neck flask purged with argon, and 85.2 g (2.13 mol) of sodium hydroxide was added little by little to stir and dissolve. Subsequently, 12.5 g (0.04 mol) of tetrabutylammonium bromide was added, 15 g (0.13 mol) of 3-ethyl-3-oxetanemethanol, 94.5 g (0.39 mol) of 1,6-dibromohexane, and After adding 128 ml of hexane and reacting at room temperature for 9 hours, the temperature was raised to 80 ° C. and reacted for 1 hour. After cooling to room temperature, the organic layer was extracted with hexane, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. Purification by vacuum distillation gave 32.4 g of a colorless and transparent oily oxetane unit.

(1) Synthesis of precursor
Figure 0004982984
Compound K precursor
NaOH (12.0 g, 0.3 mol) and water (22.3) g were charged into a 200 mL three-necked flask to dissolve NaOH. After adjusting the temperature to 50 ° C., 2,7-dibromofluorene (3.24 g, 10 mmol), toluene (13.9 g), and tetra-n-butylammonium bromide (0.97 g, 3 mmol) were charged.
Under stirring, a solution prepared by dissolving the oxetane unit (6.98 g, 25 mmol) in toluene (7.0 g) was added dropwise at 52 to 55 ° C. over 25 minutes. Thereafter, the mixture was stirred at 50 to 55 ° C. for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (100 mL) was added, and the aqueous layer was separated. The oil layer is washed 4 times with water (50 mL) and concentrated
Shrinking to obtain 9.0 g of a viscous oil (partially crystallized). Methanol (20 g) was added to the mass and the crystals were separated by filtration. The filtrate was concentrated to obtain a viscous oil (9.0 g). Purification by silica gel chromatography {developing solvent: chloroform / hexane (1: 1, v / v), 0.1% triethylamine added} was repeated 3 times to obtain a precursor (1.82 g, yield 25.2%).
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.594 (m, 4H), 0.850 (t, 6H), 1.096 (m, 8H), 1.380 (m, 4H), 1.663 (m, 4H), 1.914 (m) 4H), 3.332 (t, 4H), 3.458 (s, 4H), 4.326 (d, 4H), 4.408 (d, 4H), 7.486 (m, 6H)

(2) Synthesis of compound K
Figure 0004982984
Compound K

Pd (OAc) 2 (0.007 g, 0.03 mmol), carbazole (0.75 g, 4.5 mmol), precursor (1.08 g, 1.5 mmol), K2CO3 (1.24 g, 9 mmol) were charged, and argon substitution was performed three times under reduced pressure. . Next, dehydrated toluene (16 mL) was added with a syringe, and argon substitution was performed again under reduced pressure.
The mass was heated to 70 to 75 ° C., (t-Bu) P (0.015 g, 0.075 mmol) was added, the temperature was raised, and the mixture was heated and stirred at 105 to 107 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and the solid was filtered off. The residue on the filter paper was washed with chloroform (50 mL), and the filtrate was concentrated to dryness to obtain a solid (1.95 g). Purified twice with silica gel chromatography {Developing solvent: chloroform / hexane (1: 2, v / v), 0.1% triethylamine added} to obtain resinous solid compound K (0.92 g, yield 68.6%) Obtained.
1 H-NMR (270 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.809 (t, 4H), 0.901 (m, 6H), 1.194 (m, 8H), 1.446 (m, 4H), 1.658 (m, 4H), 2.089 (m 4H), 3.338 (t, 4H), 3.442 (s, 4H), 4.299 (d, 4H), 4.367 (d, 4H), 7.366 (m, 4H), 7 .456 (m, 8H), 7.608 (m, 4H), 7.992 (d, 2H), 8.187 (d, 4H)

合成例16
<4−t−ブチル−2,6−ジメチルブロモベンゼンの合成>

Figure 0004982984
不活性雰囲気下で、500mlの3つ口フラスコに酢酸225gを入れ、5−t−ブチル−m−キシレン24.3gを加えた。続いて臭素31.2gを加えた後、15〜20℃で3時間反応させた。
反応液を水500mlに加え析出した沈殿をろ過した。水250mlで2回洗浄し、白色の固体34.2gを得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ(ppm) = 1.3〔s,9H〕、2.4〔s,6H〕、7.1〔s,2H〕
MS(FD+)M+ 241 Synthesis Example 16
<Synthesis of 4-t-butyl-2,6-dimethylbromobenzene>

Figure 0004982984
Under an inert atmosphere, 225 g of acetic acid was placed in a 500 ml three-necked flask, and 24.3 g of 5-t-butyl-m-xylene was added. Then, after adding 31.2 g of bromine, it was made to react at 15-20 degreeC for 3 hours.
The reaction solution was added to 500 ml of water, and the deposited precipitate was filtered. This was washed twice with 250 ml of water to obtain 34.2 g of a white solid.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ (ppm) = 1.3 [s, 9H], 2.4 [s, 6H], 7.1 [s, 2H]
MS (FD + ) M + 241

合成例17
<N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジンの合成>

Figure 0004982984

不活性雰囲気下で、300mlの3つ口フラスコに脱気した脱水トルエン1660mlを入れ、N,N’−ジフェニルベンジジン275.0g、4−t−ブチル−2,6−ジメチルブロモベンゼン449.0gを加えた。続いてトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム7.48g、t−ブトキシナトリウム196.4g、を加えた後、トリ(t−ブチル)ホスフィン5.0gを加えた。その後、105℃で7時間反応させた。
反応液にトルエン2000mlを加え、セライト濾過し、濾液を水1000mlで3回洗浄した後、700mlまで濃縮した。これにトルエン/メタノール(1:1)溶液1600mlを加え、析出した結晶を濾過し、メタノールで洗浄した。白色の固体479.4gを得た。 Synthesis Example 17
<Synthesis of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (4-tert-butyl-2,6-dimethylphenyl) -benzidine>
Figure 0004982984

In an inert atmosphere, 1660 ml of degassed toluene was put into a 300 ml three-necked flask, and 275.0 g of N, N′-diphenylbenzidine and 449.0 g of 4-t-butyl-2,6-dimethylbromobenzene were added. added. Subsequently, 7.48 g of tris (dibenzylideneacetone) dipalladium and 196.4 g of sodium t-butoxy were added, and 5.0 g of tri (t-butyl) phosphine was added. Then, it was made to react at 105 degreeC for 7 hours.
Toluene (2000 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was filtered through Celite. The filtrate was washed with 1000 ml of water three times and then concentrated to 700 ml. To this was added 1600 ml of a toluene / methanol (1: 1) solution, and the precipitated crystals were filtered and washed with methanol. 479.4 g of a white solid was obtained.

合成例18
<N,N’− ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジンの合成>

Figure 0004982984

不活性雰囲気下で、クロロホルム4730gに、上記N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジン472.8gを溶解した後、遮光および氷浴下でN−ブロモスクシンイミド281.8gを12分割で1時間かけて仕込み、3時間反応させた。
クロロホルム1439mlを反応液に加え、濾過し、濾液のクロロホルム溶液を5%チオ硫酸ナトリウム2159mlで洗浄し、トルエンを溶媒留去して白色結晶を得た。得られた白色結晶をトルエン/エタノールで再結晶し、白色結晶678.7gを得た。 Synthesis Example 18
<Synthesis of N, N′-bis (4-bromophenyl) -N, N′-bis (4-tert-butyl-2,6-dimethylphenyl) -benzidine>
Figure 0004982984

In an inert atmosphere, 472.8 g of N, N′-diphenyl-N, N′-bis (4-t-butyl-2,6-dimethylphenyl) -benzidine was dissolved in 4730 g of chloroform, In an ice bath, 281.8 g of N-bromosuccinimide was charged in 12 portions over 1 hour and reacted for 3 hours.
Chloroform 1439 ml was added to the reaction solution, followed by filtration. The chloroform solution of the filtrate was washed with 2159 ml of 5% sodium thiosulfate, and toluene was distilled off to obtain white crystals. The obtained white crystals were recrystallized with toluene / ethanol to obtain 678.7 g of white crystals.

合成例19
<高分子化合物3の合成>
化合物E(5.25g)、N,N’−ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジン(3.06g)および2,2’−ビピリジル(5.3g)を脱水したテトラヒドロフラン226mLに溶解した後、窒素でバブリングして系内を窒素置換した。窒素雰囲気下において、この溶液に、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(9.30g)加え、60℃まで昇温し、攪拌しながら3時間反応させた。反応後、この反応液を室温(約25℃)まで冷却し、25%アンモニア水45mL/メタノール約230mL/イオン交換水約230mL混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して2時間減圧乾燥し、その後、トルエン400mLに溶解させてからろ過を行い、ろ液をアルミナカラムを通して精製し、5.2%塩酸水約400mlを加え、3時間攪拌した後に水層を除去した。次に4%アンモニア水約400mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約400mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。有機層にトルエン80mlを加え、デカンテーションで析出した沈殿物を捕集し、トルエン200mlに溶かした後、これをメタノール約600mLに滴下して1時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して2時間減圧乾燥した。得られた共重合体(以後、高分子化合物3と呼ぶ)の収量は4.25gであった。ポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=2.5x104、Mw=8.0x105であった(移動相:テトラヒドロフラン)。
Synthesis Example 19
<Synthesis of Polymer Compound 3>
Compound E (5.25 g), N, N′-bis (4-bromophenyl) -N, N′-bis (4-tert-butyl-2,6-dimethylphenyl) -benzidine (3.06 g) and 2 2,2′-bipyridyl (5.3 g) was dissolved in 226 mL of dehydrated tetrahydrofuran, and the system was purged with nitrogen by bubbling with nitrogen. Under a nitrogen atmosphere, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } (9.30 g) was added to this solution, the temperature was raised to 60 ° C., and the reaction was continued for 3 hours with stirring. I let you. After the reaction, this reaction solution was cooled to room temperature (about 25 ° C.), dropped into a mixed solution of 25% ammonia water 45 mL / methanol about 230 mL / ion exchanged water about 230 mL and stirred for 1 hour, and then the deposited precipitate was filtered. And then dried under reduced pressure for 2 hours, then dissolved in 400 mL of toluene and filtered. The filtrate was purified through an alumina column, added with about 400 ml of 5.2% hydrochloric acid and stirred for 3 hours, and then the aqueous layer was removed. did. Next, about 400 mL of 4% aqueous ammonia was added, and after stirring for 2 hours, the aqueous layer was removed. Further, about 400 mL of ion exchange water was added to the organic layer and stirred for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. 80 ml of toluene was added to the organic layer, and the precipitate deposited by decantation was collected and dissolved in 200 ml of toluene. Then, this was dropped into about 600 ml of methanol and stirred for 1 hour, and the deposited precipitate was filtered for 2 hours. Dry under reduced pressure. The yield of the obtained copolymer (hereinafter referred to as polymer compound 3) was 4.25 g. The number average molecular weight and weight average molecular weight in terms of polystyrene were Mn = 2.5 × 10 4 and Mw = 8.0 × 10 5 (mobile phase: tetrahydrofuran), respectively.

合成例20
<3,6−ジブロモカルバゾ−ルのアミノ基の保護>

Figure 0004982984
窒素雰囲気下で、1lの3つ口フラスコに3,6−ジブロモカルバゾール93.4g、4−ジメチルアミノピリジン1.76gを加え次に脱水テトラヒドロフラン467mlを加え溶解した。 ジ-t-ブチルジカ−ボネ−ト69.0gを滴下ロ−トに秤り取り水冷下20〜23℃で1.5時間かけ滴下した。同温度で1時間攪拌した。反応液を1lナス型フラスコに移し減圧下60℃でエバポレ−タでテトラヒドロフランを留去した。濃縮途中で結晶が析出した。次に70℃、3mmHgで結晶を乾燥し122.4gの粗ケ−キを得た。粗ケ−キにエタノ−ル250gを加え還流下1時間攪拌し室温まで冷却後濾過した。ウエットケ−キをエタノ−ル150gで2回洗浄した。このウエットケ−キにエタノ−ル250gを加え粗ケ−キと同じ精製操作を再度行った後80℃、3mmHgで乾燥した。僅かに黄色を帯びた乾燥ケ−キ117.9gを得た。

1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ(ppm) = 1.75〔s,9H〕、7.57〔d,2H〕、8.03〔s,2H〕、8.16〔d,2H〕 Synthesis Example 20
<Protection of amino group of 3,6-dibromocarbazole>
Figure 0004982984
Under a nitrogen atmosphere, 93.4 g of 3,6-dibromocarbazole and 1.76 g of 4-dimethylaminopyridine were added to a 1 l three-necked flask and then dissolved in 467 ml of dehydrated tetrahydrofuran. 69.0 g of di-t-butyl dicarbonate was weighed into a dropping funnel and added dropwise at 20-23 ° C. for 1.5 hours under water cooling. Stir at the same temperature for 1 hour. The reaction solution was transferred to a 1 l eggplant type flask, and tetrahydrofuran was distilled off with an evaporator at 60 ° C. under reduced pressure. Crystals precipitated during the concentration. Next, the crystals were dried at 70 ° C. and 3 mmHg to obtain 122.4 g of a crude cake. 250 g of ethanol was added to the crude cake, stirred for 1 hour under reflux, cooled to room temperature, and filtered. The wet cake was washed twice with 150 g of ethanol. 250 g of ethanol was added to the wet cake, and the same purification operation as that of the crude cake was performed again, followed by drying at 80 ° C. and 3 mmHg. 117.9 g of a slightly yellowish dry cake was obtained.

1H-NMR (270 MHz / CDCl3):
δ (ppm) = 1.75 [s, 9H], 7.57 [d, 2H], 8.03 [s, 2H], 8.16 [d, 2H]

合成例21
<3,6−ジ-n-ブチルカルバゾ−ルの合成>

Figure 0004982984

アルゴン雰囲気下で、500mlの3つ口フラスコに合成例20で合成したBoc体25.5g、炭酸カリウム41.5g、n−ブチルボロン酸14.7g、イオン交換水96.7g、トルエン153gを加えた。室温下フラスコを40mmHgまで減圧にしアルゴンで復圧する操作を3回繰り返しフラスコ内をアルゴン置換した。65℃まで昇温しテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.35gを加えた。次にトリ-t-ブチルホスフィンの10%トルエン溶液2.7mlをシリンジで量りとり加えた。昇温し84〜85℃で3.5時間還流下反応させた。反応終了後65℃まで冷却し分液ロ−トに反応液を移し水層を分離した。60〜65℃に保温したイオン交換水100mlで油層を2回洗浄した。中間層が生成したのため同温度で10%食塩水100mlで再度洗浄した。油層を室温まで冷却し無水硫酸ナトリウムを適量加え20〜23℃で脱水した。
油層を濾別後濾紙上の無水硫酸ナトリウムを50mlのトルエンで洗浄した。濾洗液をエバポレ−タで濃縮し最終70℃、3mmHgで乾個した。オレンジ色のBoc体結晶23.4gを得た。
アルゴン雰囲気下で、1lの3つ口フラスコにBoc体結晶23.4g、テトラブチルアンモニウムフロリドの1mol/Lテトラヒドロフラン溶液494mlを加えた。昇温し還流下66時間反応させた。室温に冷却後反応マスを1lナス型フラスコに移し減圧下60℃でエバポレ−タで濃縮し濃縮物228.1gを得た。濃縮物にイオン交換水500mlを加え1l分液ロ−トに移しクロロホルム200mlで2回抽出した。クロロホルム層を1lナス型フラスコに移し減圧下60℃でエバポレ−タで濃縮し濃縮物61.5gを得た。シリカゲルクロマトグラフィ−[展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン=1/6(V/V)、トリエチルアミン0.1%添加]で精製し白色ケ−キ13.4gを得た。

1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ(ppm) = 0.95〔t,6H〕、1.40〔m,4H〕、1.69〔m、4H〕、2.77〔t、4H〕、7.25〔m,4H〕、7.85〔m,3H〕
Synthesis Example 21
<Synthesis of 3,6-di-n-butylcarbazole>
Figure 0004982984

Under an argon atmosphere, 25.5 g of the Boc compound synthesized in Synthesis Example 20, 41.5 g of potassium carbonate, 14.7 g of n-butylboronic acid, 96.7 g of ion-exchanged water, and 153 g of toluene were added to a 500 ml three-necked flask. . The operation of depressurizing the flask to 40 mmHg at room temperature and restoring the pressure with argon was repeated three times, and the atmosphere in the flask was replaced with argon. The temperature was raised to 65 ° C., and 0.35 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) was added. Next, 2.7 ml of a 10% toluene solution of tri-t-butylphosphine was weighed and added with a syringe. The temperature was raised, and the reaction was carried out under reflux at 84 to 85 ° C. for 3.5 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to 65 ° C., transferred to a separatory funnel, and the aqueous layer was separated. The oil layer was washed twice with 100 ml of ion-exchanged water kept at 60 to 65 ° C. Since an intermediate layer was formed, it was washed again with 100 ml of 10% brine at the same temperature. The oil layer was cooled to room temperature, added with an appropriate amount of anhydrous sodium sulfate, and dehydrated at 20-23 ° C.
After the oil layer was filtered off, anhydrous sodium sulfate on the filter paper was washed with 50 ml of toluene. The filtrate was concentrated with an evaporator and dried at 70 ° C. and 3 mmHg. 23.4 g of orange Boc crystals were obtained.
Under an argon atmosphere, 23.4 g of Boc crystals and 494 ml of a 1 mol / L tetrahydrofuran solution of tetrabutylammonium fluoride were added to a 1 l three-necked flask. The temperature was raised and reacted for 66 hours under reflux. After cooling to room temperature, the reaction mass was transferred to a 1 L eggplant-shaped flask and concentrated under reduced pressure at 60 ° C. with an evaporator to obtain 228.1 g of a concentrate. To the concentrate was added 500 ml of ion exchange water, transferred to a 1 l separatory funnel, and extracted twice with 200 ml of chloroform. The chloroform layer was transferred to a 1 L eggplant-shaped flask and concentrated with an evaporator at 60 ° C. under reduced pressure to obtain 61.5 g of a concentrate. Purification by silica gel chromatography [developing solvent: chloroform / hexane = 1/6 (V / V), triethylamine 0.1% added] gave 13.4 g of a white cake.

1H-NMR (270 MHz / CDCl3):
δ (ppm) = 0.95 [t, 6H], 1.40 [m, 4H], 1.69 [m, 4H], 2.77 [t, 4H], 7.25 [m, 4H], 7.85 [m, 3H]

合成例22
<N-ビフェニルカルバゾ−ル体の合成>

Figure 0004982984
2lの3つ口フラスコに4、4´-ジヨ−ドビフェニル97.4g、炭酸カリウム66.3g、カルバゾ−ル13.4g、酢酸パラジウム0.36g、脱水トルエン780gを加えた。フラスコを40mmHgまで減圧にしアルゴンで復圧する操作を3回繰り返しアルゴン置換した。70〜75℃まで昇温しトリ(t−ブチル)ホスフィンの10%トルエン溶液11.6mlをシリンジで量り取りフラスコに加えた。105〜107℃に昇温し還流下16時間反応させた。反応マスを室温に冷却後濾過しケ−キをトルエン100mlで洗浄した。濾過ビンを変え次にイオン交換水150mlで3回洗浄した。ケ−キを500mlナス型フラスコに移し80℃、3mmHgで乾燥し個体52.9gを得た。別途濾洗液を500mlナス型フラスコで濃縮し最終80℃、3mmHgで乾個し固体41.4gを得た。この個体にトルエン200gを加え還流下溶解した後室温まで冷却し結晶を析出させた。結晶を濾過しトルエン100mlで洗浄後80℃、3mmHgで乾燥し24.9gの結晶を得た。個体52.9gと結晶24.9gを合わせシリカゲルクロマトグラフィ−[展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン=1/5(V/V)、トリエチルアミン0.1%添加]で2回精製し白色の個体22.4gを得た。この個体にクロロホルム72g、ヘキサン72gを加え還流下1時間攪拌し室温に冷却後濾過し、ケ−キをヘキサン50mlで洗浄した。80℃、3mmHgで乾燥し21.3gの結晶を得た。このケ−キを500mlナス型フラスコに移しトルエン60gを加え80〜85℃で1時間攪拌した。室温に冷却後濾過しケ−キを50mlのトルエンで洗浄した。このケ−キを200mlナス型フラスコに移し80〜85℃、3mmHgで乾燥し白色結晶16.76gを得た。

1H−NMR(270MHz/THFd8):
δ(ppm) = 7.22〔m,2H〕、7.37〔m,4H〕、7.53〔d,2H〕、
7.68〔d,2H〕、7.86〔m,4H〕、8.12〔d,2H〕 Synthesis Example 22
<Synthesis of N-biphenylcarbazole>
Figure 0004982984
To a 2-liter three-necked flask, 97.4 g of 4,4′-di-bibiphenyl, 66.3 g of potassium carbonate, 13.4 g of carbazole, 0.36 g of palladium acetate, and 780 g of dehydrated toluene were added. The operation of depressurizing the flask to 40 mmHg and restoring the pressure with argon was repeated three times and replaced with argon. The temperature was raised to 70 to 75 ° C., and 11.6 ml of a 10% toluene solution of tri (t-butyl) phosphine was weighed with a syringe and added to the flask. The temperature was raised to 105 to 107 ° C., and the reaction was conducted for 16 hours under reflux. The reaction mass was cooled to room temperature and filtered, and the cake was washed with 100 ml of toluene. The filter bottle was changed and then washed with 150 ml of ion exchange water three times. The cake was transferred to a 500 ml eggplant-shaped flask and dried at 80 ° C. and 3 mmHg to obtain 52.9 g of a solid. Separately, the filtrate was concentrated in a 500 ml eggplant type flask and dried at 80 ° C. and 3 mmHg to obtain 41.4 g of a solid. To this solid was added 200 g of toluene, dissolved under reflux, and then cooled to room temperature to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed with 100 ml of toluene, and then dried at 80 ° C. and 3 mmHg to obtain 24.9 g of crystals. The solid 52.9 g and the crystal 24.9 g were combined and purified twice by silica gel chromatography [developing solvent: chloroform / hexane = 1/5 (V / V), triethylamine 0.1% added] to obtain 22.4 g of a white solid. Obtained. To this solid were added 72 g of chloroform and 72 g of hexane, stirred for 1 hour under reflux, cooled to room temperature, filtered, and the cake was washed with 50 ml of hexane. It was dried at 80 ° C. and 3 mmHg to obtain 21.3 g of crystals. The cake was transferred to a 500 ml eggplant type flask, 60 g of toluene was added, and the mixture was stirred at 80 to 85 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, it was filtered and the cake was washed with 50 ml of toluene. This cake was transferred to a 200 ml eggplant type flask and dried at 80 to 85 ° C. and 3 mmHg to obtain 16.76 g of white crystals.

1H-NMR (270 MHz / THF d8):
δ (ppm) = 7.22 [m, 2H], 7.37 [m, 4H], 7.53 [d, 2H],
7.68 [d, 2H], 7.86 [m, 4H], 8.12 [d, 2H]

合成例23
<化合物Lの合成>

Figure 0004982984
化合物L
200mlの3つ口フラスコに合成例21で合成したヨ−ドビフェニル体8.02g、炭酸カリウム7.46g、合成例20で合成した3,6−ジ-n-ブチルカルバゾ−ル6.54g、酢酸パラジウム0.081g、脱水トルエン120gを加えた。フラスコを40mmHgまで減圧にしアルゴンで復圧する操作を3回繰り返しアルゴン置換した。70〜75℃まで昇温しトリ(t−ブチル)ホスフィンの10%トルエン溶液2mlをシリンジで量り取りフラスコに加えた。105〜107℃に昇温し還流下16時間反応させた。反応マスを室温に冷却後濾過しケ−キをトルエン100mlで洗浄した。濾洗液を500mlナス型フラスコで濃縮し最終80℃、3mmHgで乾個し固体12.54gを得た。シリカゲルクロマトグラフィ−[展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン=1/5(V/V)、トリエチルアミン0.1%添加]で精製し白色の個体9.51gを得た。これを化合物Lと呼ぶ。

1H−NMR(270MHz/CDCl3):
δ(ppm) = 0.97〔t,6H〕、1.44〔m,4H〕、1.73〔m,4H〕、2.82〔t,4H〕、7.29〔m,4H〕、7.47〔m,6H〕、7.87〔d,4H〕、7.92〔m,6H〕、8.17〔d,2H〕
Synthesis Example 23
<Synthesis of Compound L>
Figure 0004982984
Compound L
In a 200 ml three-necked flask, 8.02 g of iodobiphenyl synthesized in Synthesis Example 21, 7.46 g of potassium carbonate, 6.54 g of 3,6-di-n-butylcarbazole synthesized in Synthesis Example 20, acetic acid 0.081 g of palladium and 120 g of dehydrated toluene were added. The operation of depressurizing the flask to 40 mmHg and restoring the pressure with argon was repeated three times and replaced with argon. The temperature was raised to 70 to 75 ° C., and 2 ml of a 10% toluene solution of tri (t-butyl) phosphine was weighed with a syringe and added to the flask. The temperature was raised to 105 to 107 ° C., and the reaction was conducted for 16 hours under reflux. The reaction mass was cooled to room temperature and filtered, and the cake was washed with 100 ml of toluene. The filtrate was concentrated in a 500 ml eggplant type flask and dried at 80 ° C. and 3 mmHg to obtain 12.54 g of a solid. Purification by silica gel chromatography [developing solvent: chloroform / hexane = 1/5 (V / V), 0.1% triethylamine added] gave 9.51 g of a white solid. This is referred to as Compound L.

1H-NMR (270 MHz / CDCl3):
δ (ppm) = 0.97 [t, 6H], 1.44 [m, 4H], 1.73 [m, 4H], 2.82 [t, 4H], 7.29 [m, 4H], 7.47 [m, 6H], 7.87 [d, 4H], 7.92 [m, 6H], 8.17 [d, 2H]

合成例24
ポリアミン高分子化合物4の合成
不活性雰囲気下、N、N’-ビス(4−ブロモフェニル)−N、N’−ビス(4−n−ブチルフェニル)1、4−フェニレンジアミン(1.911g)、N、N’−ビス(4−ブロモフェニル)フェニルアミン(0.484g)、2,2’−ビピリジル(1.687g)をあらかじめアルゴンでバブリングした、脱水テトラヒドロフラン109mLに溶解した。この溶液を60℃まで昇温後、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(2.971g)を加え、攪拌し、5時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水14mL/メタノール109mL/イオン交換水109mL混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン120mlに溶解させた。溶解後、ラヂオライト0.48gを加えて30分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に4%アンモニア水236mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約236mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール376mlに注加して0.5時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物4と呼ぶ)の収量は1.54gであった。また、ポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=7.4x103、Mw=7.6x104であった。
Synthesis Example 24
Synthesis of polyamine polymer compound 4 Under inert atmosphere, N, N′-bis (4-bromophenyl) -N, N′-bis (4-n-butylphenyl) 1,4-phenylenediamine (1.911 g) , N, N′-bis (4-bromophenyl) phenylamine (0.484 g) and 2,2′-bipyridyl (1.687 g) were dissolved in 109 mL of dehydrated tetrahydrofuran previously bubbled with argon. After raising the temperature of this solution to 60 ° C., bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } (2.971 g) was added, stirred and allowed to react for 5 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, dropped into a mixed solution of 25% aqueous ammonia 14 mL / methanol 109 mL / ion-exchanged water 109 mL, stirred for 1 hour, the deposited precipitate was filtered, dried under reduced pressure, and dissolved in 120 mL of toluene. I let you. After dissolution, 0.48 g of radiolite was added and stirred for 30 minutes, and the insoluble material was filtered. The obtained filtrate was purified through an alumina column. Next, 236 mL of 4% aqueous ammonia was added, and after stirring for 2 hours, the aqueous layer was removed. Further, about 236 mL of ion-exchanged water was added to the organic layer and stirred for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. Thereafter, the organic layer was poured into 376 ml of methanol and stirred for 0.5 hour, and the deposited precipitate was filtered and dried under reduced pressure. The yield of the obtained polymer (hereinafter referred to as polymer compound 4) was 1.54 g. Moreover, the number average molecular weight and weight average molecular weight of polystyrene conversion were Mn = 7.4 × 10 3 and Mw = 7.6 × 10 4 , respectively.

合成例25
高分子化合物5の合成
化合物E22.5gと2,2’―ビピリジル17.6gとを反応容器に仕込んだ後、反応系内を窒素ガスで置換した。これに、あらかじめアルゴンガスでバブリングして、脱気したテトラヒドロフラン(脱水溶媒)1500gを加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)を31g加え、室温で10分間攪拌した後、60℃で3時間反応した。なお、反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。
反応後、この反応溶液を冷却した後、この溶液に、25%アンモニア水200ml/メタノール900ml/イオン交換水900ml混合溶液をそそぎ込み、約1時間攪拌した。次に、生成した沈殿を濾過し、回収した。この沈殿を減圧乾燥した後、トルエンに溶解した。このトルエン溶液を濾過し、不溶物を除去した後、このトルエン溶液を、アルミナを充填したカラムを通過させることにより精製した。次に、このトルエン溶液を、1規定塩酸水溶液で洗浄し、静置、分液した後、トルエン溶液を回収した。次に、このトルエン溶液を、約3%アンモニア水で洗浄し、静置、分液した後、トルエン溶液を回収した。次に、このトルエン溶液をイオン交換水で洗浄し、静置、分液した後、トルエン溶液を回収した。次に、このトルエン溶液を、メタノール中にそそぎ込み、再沈生成した。
次に、生成した沈殿を回収し、メタノールで洗浄した後、この沈殿を減圧乾燥して、重合体6.0gを得た。この重合体を高分子化合物5と呼ぶ。得られた高分子化合物5のポリスチレン換算重量平均分子量は、8.2x105であり、数平均分子量は、1.0x105であった。
Synthesis Example 25
Synthesis of Polymer Compound 5 After charging 22.5 g of compound E and 17.6 g of 2,2′-bipyridyl in a reaction vessel, the inside of the reaction system was replaced with nitrogen gas. To this, 1500 g of tetrahydrofuran (dehydrated solvent) deaerated previously by bubbling with argon gas was added. Next, 31 g of bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) was added to this mixed solution, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and then reacted at 60 ° C. for 3 hours. The reaction was performed in a nitrogen gas atmosphere.
After the reaction, this reaction solution was cooled, and then a mixed solution of 25% aqueous ammonia 200 ml / methanol 900 ml / ion exchanged water 900 ml was poured into this solution and stirred for about 1 hour. Next, the produced precipitate was filtered and collected. This precipitate was dried under reduced pressure and then dissolved in toluene. The toluene solution was filtered to remove insoluble matters, and the toluene solution was purified by passing through a column packed with alumina. Next, this toluene solution was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution, allowed to stand and separated, and then the toluene solution was recovered. Next, this toluene solution was washed with about 3% aqueous ammonia, allowed to stand and separated, and then the toluene solution was recovered. Next, this toluene solution was washed with ion-exchanged water, allowed to stand and separated, and then the toluene solution was recovered. Next, this toluene solution was poured into methanol and re-precipitated.
Next, the produced precipitate was recovered, washed with methanol, and then dried under reduced pressure to obtain 6.0 g of a polymer. This polymer is referred to as polymer compound 5. The obtained polymer compound 5 had a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 8.2 × 10 5 and a number average molecular weight of 1.0 × 10 5 .

合成例26
高分子化合物6の合成
2,7−ジブロモ−9,9−ジオクチルフルオレン(26g、0.047mol)、2,7−ジブロモ−9,9−ジイソペンチルフルオレン(5.6g、0.012mol)および2,2’−ビピリジル(22g、0.141mol)を脱水したテトラヒドロフラン1600mLに溶解した後、窒素でバブリングして系内を窒素置換した。窒素雰囲気下において、この溶液に、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(40g、0.15mol)加え、60℃まで昇温し、8時間反応させた。反応後、この反応液を室温(約25℃)まで冷却し、25%アンモニア水200mL/メタノール1200mL/イオン交換水1200mL混合溶液中に滴下して30分間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して風乾した。その後、トルエン1100mLに溶解させてからろ過を行い、ろ液をメタノール3300mLに滴下して30分間攪拌した。析出した沈殿をろ過し、メタノール1000mLで洗浄した後、5時間減圧乾燥した。得られた重合体の収量は20gであった。この重合体を高分子化合物6と呼ぶ。高分子化合物6のポリスチレン換算の平均分子量は、Mn=4.6×104、Mw=1.1×105であった。
Synthesis Example 26
Synthesis of polymer compound 6, 2,7-dibromo-9,9-dioctylfluorene (26 g, 0.047 mol), 2,7-dibromo-9,9-diisopentylfluorene (5.6 g, 0.012 mol) and 2,2′-bipyridyl (22 g, 0.141 mol) was dissolved in 1600 mL of dehydrated tetrahydrofuran, and the system was purged with nitrogen by bubbling with nitrogen. Under a nitrogen atmosphere, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } (40 g, 0.15 mol) was added to this solution, and the temperature was raised to 60 ° C. and allowed to react for 8 hours. It was. After the reaction, this reaction solution was cooled to room temperature (about 25 ° C.), dropped into a mixed solution of 25% ammonia water 200 mL / methanol 1200 mL / ion-exchanged water 1200 mL and stirred for 30 minutes, and then the deposited precipitate was filtered. Air dried. Then, it melt | dissolved in 1100 mL of toluene, it filtered, and the filtrate was dripped at methanol 3300mL, and was stirred for 30 minutes. The deposited precipitate was filtered, washed with 1000 mL of methanol, and dried under reduced pressure for 5 hours. The yield of the obtained polymer was 20 g. This polymer is referred to as polymer compound 6. The average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer compound 6 was Mn = 4.6 × 10 4 and Mw = 1.1 × 10 5 .

<高分子発光体溶液組成物の調製>
表1に示されるとおり高分子発光体の高分子化合物2または高分子化合物3と高分子化合物1の50:50(重量比)混合物をトルエンに1wt%、さらに添加物を表1に示される種類と添加量で混合し溶解させた。完溶しなかった実施例6については溶媒としてクロロホルムを追加した。その後0.2ミクロン径のテフロン(登録商標)フィルターでろ過して塗布溶液を調整した。
<Preparation of polymer light emitter solution composition>
As shown in Table 1, polymer compound 2 or polymer compound 3 and polymer compound 1 and 50:50 (weight ratio) mixture of polymer compound 1 in toluene are 1 wt% in toluene, and additives are the types shown in Table 1. Were mixed and dissolved in the added amount. For Example 6, which was not completely dissolved, chloroform was added as a solvent. Thereafter, the solution was filtered through a 0.2 micron diameter Teflon (registered trademark) filter to prepare a coating solution.

Figure 0004982984

1 高分子発光体の合計重量100重量部に対する添加物の添加量
2 DCBP:下式4,4’-ビス(9-カルバゾイル)-ビフェニル ((株)同仁化学研究所製)
Figure 0004982984

Figure 0004982984

1 Amount of additive added to 100 parts by weight of the total weight of the polymer light emitter 2 DCBP: Formula 4,4′-bis (9-carbazoyl) -biphenyl (made by Dojindo Laboratories)
Figure 0004982984

<素子の作成および評価>
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、ポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(バイエル社、Baytron)を用いてスピンコートにより70nmの厚みで成膜し、ホットプレート上で200℃で10分間乾燥した。次に、調製した高分子発光体塗布溶液を用いて1400rpmの回転数のスピンコートにより約70nmの厚みで成膜した。さらに、これを減圧下90℃で1時間乾燥した後、陰極バッファー層として、フッ化リチウムを4nm、陰極として、カルシウムを5nm、次いでアルミニウムを100nm蒸着して、高分子LEDを作製した。蒸着のときの真空度は、すべて1〜9×10-5Torrであった。得られた、発光部が2mm×2mm(面積4mm2 )の素子に電圧を段階的に印加することにより、高分子発光体からのEL発光の輝度を測定し、それより電流効率値を得た。得られた素子の電流効率の最大値を表1に示す。高分子発光体に高分子化合物1と高分子化合物2の50/50混合物を用いた素子はλmax=470nmのEL発光を、高分子化合物1と高分子化合物3の50/50混合物を用いた素子はλmax=460nmのEL発光であった。化合物F〜K、L、DCBPを含まない比較例の高分子発光素子に比べて、化合物F〜K、L、DCBPを含む実施例1〜13の塗布溶液を用いて作成した高分子発光素子は、著しい効率の改善が見られた。
<Creation and evaluation of device>
A glass substrate with an ITO film having a thickness of 150 nm formed by sputtering is formed to a thickness of 70 nm by spin coating using a solution of poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid (Bayer, Baytron). Dried on plate for 10 minutes at 200 ° C. Next, a film having a thickness of about 70 nm was formed by spin coating at a rotational speed of 1400 rpm using the prepared polymer light emitter coating solution. Further, this was dried at 90 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then, as a cathode buffer layer, lithium fluoride was deposited at 4 nm, cathode was deposited as calcium at 5 nm, and then aluminum was deposited at 100 nm to produce a polymer LED. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1 to 9 × 10 −5 Torr. By applying voltage stepwise to the obtained element having a light emitting part of 2 mm × 2 mm (area 4 mm 2 ), the luminance of EL light emission from the polymer light emitter was measured, and the current efficiency value was obtained therefrom. . Table 1 shows the maximum value of current efficiency of the obtained element. A device using a 50/50 mixture of polymer compound 1 and polymer compound 2 as a polymer light emitter emits EL light of λmax = 470 nm, and a device using a 50/50 mixture of polymer compound 1 and polymer compound 3. Was EL emission at λmax = 460 nm. Compared with the polymer light emitting device of the comparative example which does not contain the compounds F to K, L and DCBP, the polymer light emitting device prepared using the coating solutions of Examples 1 to 13 containing the compounds F to K, L and DCBP A significant improvement in efficiency was seen.

ポリアミン正孔輸送層1の作成
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、PEDOT:ポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(スタルクヴイテック社、Baytron)を用いてスピンコートにより成膜し、ホットプレート上で200℃で10分間乾燥して50nmの厚みで正孔注入層のPEDOT層を形成した。次にポリアミン高分子化合物4の1重量%トルエン溶液を500rpmの回転数で塗布した。その後、基板を200℃で10分間窒素雰囲気下でベークしてポリアミン正孔輸送層1を作成した。
Preparation of polyamine hole transport layer 1 A glass substrate with an ITO film having a thickness of 150 nm formed by sputtering is used with a solution of PEDOT: poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid (Stark Vitec, Baytron). A film was formed by spin coating, and dried at 200 ° C. for 10 minutes on a hot plate to form a PEDOT layer as a hole injection layer with a thickness of 50 nm. Next, a 1 wt% toluene solution of polyamine polymer compound 4 was applied at a rotational speed of 500 rpm. Thereafter, the substrate was baked at 200 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to form a polyamine hole transport layer 1.

ポリアミン正孔輸送層2の作成
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、次にポリアミン高分子化合物4の1重量%トルエン溶液にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製KAYARAD DPHA)を架橋剤として高分子化合物に対して25重量%混合し溶解させ、500rpmの回転数で塗布した。その後、基板を300℃で20分間窒素雰囲気下でベークして50nmの膜厚のポリアミン正孔輸送層2を作成した。
Preparation of polyamine hole transport layer 2 A glass substrate with an ITO film having a thickness of 150 nm formed by sputtering, and then dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in a 1 wt% toluene solution of polyamine polymer compound 4. ) As a crosslinking agent was mixed and dissolved in a polymer compound at 25% by weight and applied at a rotation speed of 500 rpm. Thereafter, the substrate was baked at 300 ° C. for 20 minutes in a nitrogen atmosphere to form a polyamine hole transport layer 2 having a thickness of 50 nm.

<高分子発光体溶液組成物の調製>
表2に示されるとおり高分子発光体の高分子化合物、さらに添加物と色素を表2に示される種類と添加量で混合しトルエンに溶解させた。その後0.2ミクロン径のテフロン(登録商標)フィルターでろ過して塗布溶液を調整した。
<Preparation of polymer light emitter solution composition>
As shown in Table 2, the polymer compound of the polymer luminescent material, and further the additive and the dye were mixed in the types and addition amounts shown in Table 2 and dissolved in toluene. Thereafter, the solution was filtered through a 0.2 micron diameter Teflon (registered trademark) filter to prepare a coating solution.

<素子の作成および評価>
次に、調製した高分子発光体塗布溶液を用いてスピンコートにより約70nmの厚みで成膜した。さらに、これを減圧下90℃で1時間乾燥した後、陰極バッファー層として、フッ化リチウムを4nm、陰極として、カルシウムを5nm、次いでアルミニウムを100nm蒸着して、高分子LEDを作製した。蒸着のときの真空度は、すべて1〜9×10-5Torrであった。得られた、発光部が2mm×2mm(面積4mm2 )の素子に電圧を段階的に印加することにより、高分子発光体からのEL発光の輝度を測定し、それより電流効率値を得た。得られた素子の電流効率の最大値を表2に示す。
<Creation and evaluation of device>
Next, a film having a thickness of about 70 nm was formed by spin coating using the prepared polymer light emitter coating solution. Further, this was dried at 90 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then, as a cathode buffer layer, lithium fluoride was deposited at 4 nm, cathode was deposited as calcium at 5 nm, and then aluminum was deposited at 100 nm to produce a polymer LED. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1 to 9 × 10 −5 Torr. By applying voltage stepwise to the obtained element having a light emitting part of 2 mm × 2 mm (area 4 mm 2 ), the luminance of EL light emission from the polymer light emitter was measured, and the current efficiency value was obtained therefrom. . Table 2 shows the maximum value of current efficiency of the obtained element.




Figure 0004982984


3 高分子発光体の合計重量100重量部に対する添加物の添加量
4 高分子発光体と添加物の合計重量100重量部に対する色素の添加量
ADS078GE:下式で示されるアメリカンダイソース社製のイリジウム錯体色素


Figure 0004982984



Figure 0004982984


3 Amount of additive added to 100 parts by weight of the total weight of the polymer light emitter 4 Amount of dye added to 100 parts by weight of the total weight of the polymer light emitter and additive
ADS078GE: Iridium complex dye made by American Daissource, Inc.


Figure 0004982984

高分子発光体塗布溶液に色素を含まない素子はλmax=460nmの青色EL発光を、色素を含んだ素子はλmax=460nmとλmax=555nmの二つのピークを持つ白色EL発光であった。化合物J、L、DCBPを含まない比較例の高分子発光素子に比べて、化合物J、L、DCBPを含む実施例14〜21の塗布溶液を用いて作成した高分子発光素子は、著しい効率の改善が見られた。


The element not containing the dye in the polymer light emitting coating solution emitted blue EL light having λmax = 460 nm, and the element containing the dye emitted white EL light having two peaks of λmax = 460 nm and λmax = 555 nm. Compared with the polymer light emitting device of the comparative example which does not contain the compounds J, L and DCBP, the polymer light emitting device prepared using the coating solutions of Examples 14 to 21 containing the compounds J, L and DCBP are significantly more efficient. An improvement was seen.


Claims (8)

高分子発光体と、下記式(1a)および(1b)から選ばれる化合物とを含有する〔但し、
(i)共役結合した形で三重項発光体を含む共役ポリマーと、下記式(1a)および(1b)から選ばれる化合物とを含む混合物、及び、
(ii)共役ポリマーと、下記式(1a)および(1b)から選ばれる化合物と、三重項発光体とを含む混合物
を除く〕ことを特徴とする高分子発光体組成物。

Figure 0004982984

(Xは、式中の2個のベンゼン環上の4個の炭素原子と一緒になって5員環または6員環を形成するための原子または原子団を表し、R1〜R46はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、置換アミノ基、アミド基、酸イミド基、アシルオキシ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、シアノ基またはニトロ基を表す。)
A polymer light emitter and a compound selected from the following formulas (1a) and (1b):
(I) a mixture comprising a conjugated polymer, and a compound selected from the following formulas (1a) and (1b) including a triplet emitters in conjugated form, and,
And (ii) co-auditors polymer, a compound selected from the following formulas (1a) and (1b), except a mixture containing the triplet emitters] that light emitting polymer composition characterized.

Figure 0004982984

(X represents an atom or an atomic group for forming a 5-membered ring or a 6-membered ring together with 4 carbon atoms on two benzene rings in the formula, and R 1 to R 46 are respectively Independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, arylalkenyl group , Arylalkynyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, substituted amino group, amide group, acid imide group, acyloxy group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, cyano group Or represents a nitro group.)
1〜R46がそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であることを特徴とする請求項1に記載の高分子発光体組成物。 The polymer light-emitting composition according to claim 1, wherein R 1 to R 46 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. 高分子発光体が、下式(2)で表される繰返し単位を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の高分子発光体組成物。
Figure 0004982984

(式中、Aは、式中の2個のベンゼン環上の4個の炭素原子と一緒になって5員環または6員環を形成するための原子または原子団を表し、R4a、R4b、R4c、R5a、R5bおよびR5cは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはカルボキシル基を表し、R4bとR4C、およびR5bとR5cは、それぞれ一緒になって環を形成していてもよい。)
The polymer light emitter composition according to claim 1 or 2, wherein the polymer light emitter comprises a repeating unit represented by the following formula (2).
Figure 0004982984

(In the formula, A represents an atom or an atomic group for forming a 5-membered ring or a 6-membered ring together with 4 carbon atoms on the two benzene rings in the formula, R 4a , R 4b , R 4c , R 5a , R 5b and R 5c are each independently a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, aryl Alkyloxy group, arylalkylthio group, alkenyl group, alkynyl group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group Substituted silylthio group, substituted silylamino group, cyano group, nitro group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthiol O group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group or a carboxyl group, R 4b and R 4C , and R 5b and R 5c are each taken together to form a ring May be formed.)
式(1a)および (1b)から選ばれる化合物の含有量が、高分子発光体を100重量部としたとき、0.1〜10000重量部であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高分子発光体組成物。   The content of the compound selected from the formulas (1a) and (1b) is 0.1 to 10,000 parts by weight when the polymer light emitter is 100 parts by weight. A polymer light emitter composition according to claim 1. 請求項1〜4のいずれかに記載の高分子発光体組成物がさらに溶媒を含有することを特徴とする高分子発光体溶液組成物。   The polymer light emitter composition according to claim 1, further comprising a solvent. 陽極および陰極からなる電極間に、発光層を有し、該発光層が請求項1〜4のいずれかに記載の高分子発光体組成物を含むことを特徴とする高分子発光素子。   A polymer light-emitting device comprising a light-emitting layer between electrodes composed of an anode and a cathode, wherein the light-emitting layer contains the polymer light-emitting composition according to claim 1. 陽極および陰極からなる電極間に、発光層を有し、該発光層が請求項5記載の高分子発光体溶液組成物を用いて形成されることを特徴とする高分子発光素子。   A polymer light emitting device comprising a light emitting layer between electrodes comprising an anode and a cathode, wherein the light emitting layer is formed using the polymer light emitter solution composition according to claim 5. 陽極および陰極からなる電極間に、さらに正孔輸送層を有し、該正孔輸送層が、芳香族アミンから誘導される繰返し単位を有するポリアミンを含むことを特徴とする請求項6または7に記載の高分子発光素子。   The electrode according to claim 6 or 7, further comprising a hole transport layer between the anode and the cathode, wherein the hole transport layer contains a polyamine having a repeating unit derived from an aromatic amine. The polymer light-emitting device described.
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