JP4967485B2 - Adhesive composition and transparent laminate - Google Patents

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Description

本発明は接着剤組成物に関する。当該接着剤組成物は、プリント配線板用接着剤に好適であり、特に、フレキシブルプリント基板や、カバーレイフィルム、TAB(テープオートメーテッドボンディング)方式と称する半導体集積回路実装用テープ(以下、「TABテープ」と略す)、タッチパネル用基板、ICカード、ICタグ用基板、電子ペーパー用基板、フレキシブルディスプレイ用基板等に用いられる金属層とプラスチックフィルムとの接着剤組成物に適する。  The present invention relates to an adhesive composition. The adhesive composition is suitable for an adhesive for printed wiring boards, and in particular, a flexible printed circuit board, a coverlay film, and a semiconductor integrated circuit mounting tape (hereinafter referred to as “TAB”) called a TAB (tape automated bonding) system. It is suitable for an adhesive composition of a metal layer and a plastic film used for a touch panel substrate, an IC card, an IC tag substrate, an electronic paper substrate, a flexible display substrate, and the like.

フレキシブルプリント配線板は、一般に耐熱性および電気絶縁性に優れたポリイミド、液晶ポリマー等を素材とする耐熱性有機絶縁フィルムに接着剤を介して銅箔やITO膜等の導体を接着して一体化させたものであるが、当該接着剤としては接着性が良好であることからエポキシ樹脂系接着剤が用いられている。しかし近年の、配線密度や実装密度の格段の増加に伴い、プリント配線板の耐熱性、耐湿性、接着性、作業性につき一層の向上が求められている。また、TABテープは基本的にはフレキシブルプリント配線板と同一のものであり、材料構成や要求される諸特性も基本的に共通するが、要求特性レベルに応じて両者が使い分けられているのが現状である。このような市場の要求に対し、特に作業性やコスト、耐湿性を求める用途においては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)などポリエステルフィルムを使用したプリント基板が使用されるようになってきた。これらのフィルムはポリイミド・液品ポリマーと比べて安価で、透明性が優れているためプリント基板作製時の加工がし易く、またポリイミドと比較して耐湿性に優れている。  Flexible printed wiring boards are generally integrated by adhering a conductor such as copper foil or ITO film to a heat-resistant organic insulating film made of polyimide, liquid crystal polymer, etc., which is excellent in heat resistance and electrical insulation, via an adhesive. However, an epoxy resin adhesive is used as the adhesive because of its good adhesiveness. However, with the remarkable increase in wiring density and mounting density in recent years, there has been a demand for further improvements in the heat resistance, moisture resistance, adhesion, and workability of printed wiring boards. The TAB tape is basically the same as the flexible printed wiring board and basically has the same material structure and various required characteristics, but both are used properly according to the required characteristic level. Currently. In response to such market demands, printed boards using polyester films such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) have come to be used particularly in applications that require workability, cost, and moisture resistance. I came. These films are cheaper than polyimide and liquid polymer, and are excellent in transparency, so that they are easy to process during the production of printed circuit boards, and are excellent in moisture resistance compared to polyimide.

ところで、エポキシ樹脂と硬化剤からなる接着剤を用いてこれらの接着をすると、熱サイクルによって接着剤硬化物に大きな歪みが発生し、接合部が破壊されることがあった。このような内部歪みを吸収し、内部応力の発生を防止すべく、接着剤硬化物にたわみ性を持たせる試みがなされている。例えば、接着剤組成物中に合成ゴムなどを添加する方法が開示されている(特許文献1参照)が、エポキシ樹脂に合成ゴムを添加した接着剤組成物は剥離強度に優れるものの、耐熱性において満足しうるものではなかった。  By the way, when these bonds are made using an adhesive composed of an epoxy resin and a curing agent, a large distortion may occur in the cured adhesive due to the thermal cycle, and the joint may be destroyed. Attempts have been made to impart flexibility to the cured adhesive in order to absorb such internal strain and prevent the occurrence of internal stress. For example, a method of adding a synthetic rubber or the like to an adhesive composition is disclosed (see Patent Document 1). An adhesive composition in which a synthetic rubber is added to an epoxy resin is excellent in peel strength, but in heat resistance. It was not satisfactory.

本出願人は、これらの問題を解決すべく、メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂、エポキシ基含有合成ゴムおよびエポキシ樹脂用硬化剤からなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を提案したが、当該組成物は、ポリイミドフィルムへの接着性は良好であるが、PENなどのポリエステルフィルムへの接着性が充分なものではなかった。(特許文献2参照)  In order to solve these problems, the present applicant has proposed an epoxy resin composition comprising a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin, an epoxy group-containing synthetic rubber, and a curing agent for epoxy resin. Although the thing has the favorable adhesiveness to a polyimide film, the adhesiveness to polyester films, such as PEN, was not enough. (See Patent Document 2)

そこで本出願人は、改良を重ねメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂、カルボキシル基および/または水酸基を有し、ガラス転移点が20℃以下のアクリルポリマー、エポキシ樹脂用硬化剤を含有することを特徴とする接着剤組成物を提案した。当該接着剤組成物は、ポリイミドフィルムだけではなく、PEN、液晶ポリマーに対し優れた接着性を示すと共に、プリント配線板用接着剤である従来のエポキシ樹脂系接着剤に比較して、一層優れた耐熱性等を示すものであったが、ディスプレイや光学用途等で用いるために、さらに透明性を改良したものが求められていた。(特許文献3参照)  Therefore, the applicant of the present invention has been characterized by containing a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin, a carboxyl group and / or a hydroxyl group, an acrylic polymer having a glass transition point of 20 ° C. or less, and a curing agent for epoxy resin, with repeated improvements. An adhesive composition was proposed. The adhesive composition exhibits excellent adhesion to not only polyimide films but also PEN and liquid crystal polymers, and is further superior to conventional epoxy resin adhesives that are adhesives for printed wiring boards. Although it showed heat resistance etc., in order to use for a display, an optical use, etc., what improved further transparency was calculated | required. (See Patent Document 3)

特開平10−335768号公報  JP-A-10-335768 特開2003−246838号公報  JP 2003-246838 A 特開2005−179408号公報  JP-A-2005-179408

本発明は、プリント配線板用接着剤である従来のエポキシ樹脂系接着剤に比較して、一層優れた透明性と、耐熱性、接着性、耐湿性、絶縁性等を兼ね備えた接着剤層を与える接着剤組成物を提供することを目的とする。  The present invention has an adhesive layer that has more excellent transparency and heat resistance, adhesiveness, moisture resistance, insulation, and the like compared to a conventional epoxy resin adhesive that is an adhesive for printed wiring boards. It is an object to provide an adhesive composition to be applied.

本発明者は前記課題を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、特定のエポキシ樹脂を特定のメトキシシラン化合物で変性してなるメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂、特定のエラストマー、エポキシ樹脂用硬化剤を必須構成成分とする樹脂組成物を用いることにより、前記目的に合致した接着剤組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。  As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has obtained a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin obtained by modifying a specific epoxy resin with a specific methoxysilane compound, a specific elastomer, and a curing agent for epoxy resin. It has been found that an adhesive composition that meets the above-mentioned purpose can be obtained by using a resin composition containing as an essential component, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明はビスフェノール型エポキシ樹脂(a−1)およびメトキシシラン部分縮合物(a−2)を脱アルコール反応させて得られるメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)、カルボキシル基を有し、ガラス転移点が20℃以下、酸価が2〜10(mgKOH/g)、数平均分子量が15万〜30万のアクリルポリマー(B)、エポキシ樹脂用硬化剤(C)を含有することを特徴とする積層体用接着剤組成物;ポリエチレンナフタレートまたはポリエチレンテレフタレートを当該積層体用接着剤組成物を用いて接着した積層体であって、当該積層体のヘイズ値が20%である透明積層体に係る。  That is, the present invention has a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) obtained by subjecting a bisphenol-type epoxy resin (a-1) and a methoxysilane partial condensate (a-2) to a dealcoholization reaction, a carboxyl group, Acrylic polymer (B) having a glass transition point of 20 ° C. or less, an acid value of 2 to 10 (mgKOH / g), a number average molecular weight of 150,000 to 300,000, and a curing agent for epoxy resin (C) A laminate obtained by bonding polyethylene naphthalate or polyethylene terephthalate using the laminate adhesive composition, wherein the laminate has a haze value of 20% Concerning.

本発明の接着剤組成物は、接着性、耐熱性、耐湿性、絶縁性等に優れるだけでなく、透明性にも優れるものであり、特に光学用途等にも十分に使用することができるものである。そのため、本発明による接着剤組成物は、フレキシブルプリント基板、TABテープ、タッチパネル用基板、ICカード、ICタグ用基板、電子ペーパー用基板、フレキシブルディスプレイ用基板、電磁波シールド用積層体等に用いられる金属層とプラスチックフィルムとの接着剤組成物として有用である。  The adhesive composition of the present invention is not only excellent in adhesiveness, heat resistance, moisture resistance, insulation, etc., but also excellent in transparency, and can be sufficiently used especially for optical applications. It is. Therefore, the adhesive composition according to the present invention is a metal used for flexible printed circuit boards, TAB tapes, touch panel substrates, IC cards, IC tag substrates, electronic paper substrates, flexible display substrates, electromagnetic wave shielding laminates, and the like. It is useful as an adhesive composition between a layer and a plastic film.

本発明で用いるメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)は、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a−1)(以下、(a−1)成分という)とメトキシシラン部分縮合物(a−2)(以下、(a−2)成分という)から構成される。当該(a−1)成分は、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンまたはβ−メチルエピクロルヒドリン等のハロエポキシドとの反応により得られるものである。ビスフェノール類としては、フェノールまたは2,6−ジハロフェノールと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノン等のアルデヒド類もしくはケトン類との反応物の他、ジヒドロキシフェニルスルフィドの過酸による酸化、ハイドロキノン同士のエーテル化反応等により得られるものがあげられる。  The methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) used in the present invention comprises a bisphenol-type epoxy resin (a-1) (hereinafter referred to as (a-1) component) and a methoxysilane partial condensate (a-2) (hereinafter referred to as (A-2) component). The component (a-1) is obtained by a reaction of bisphenols with a haloepoxide such as epichlorohydrin or β-methylepichlorohydrin. Examples of bisphenols include reaction products of phenol or 2,6-dihalophenol with aldehydes or ketones such as formaldehyde, acetaldehyde, acetone, acetophenone, cyclohexanone, and benzophenone, as well as oxidation of dihydroxyphenyl sulfide with peracid, Examples thereof include those obtained by etherification reaction between hydroquinones.

また、(a−1)成分は、(a−2)成分と脱メタノール反応しうる水酸基を有するものである。当該水酸基は、(a−1)成分を構成するすべての分子に含有されている必要はなく、(a−1)成分として、水酸基を有していればよい。(a−1)成分のエポキシ当量は、(a−1)成分の構造により異なるため、用途に応じて適当なエポキシ当量のものを適宜に選択して使用できるが、350以上1000g/eq以下であるものが好適である。350g/eq未満では、得られる接着層の高温下での密着性が低下する傾向にあり、また1000g/eqを超えるとメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂の保存安定性が低下する傾向がある。これら(a−1)成分の中でも、特にビスフェノールA型エポキシ樹脂が、最も汎用され低価格であり好ましい。  The component (a-1) has a hydroxyl group that can undergo a demethanol reaction with the component (a-2). The hydroxyl group does not need to be contained in all molecules constituting the component (a-1), and may have a hydroxyl group as the component (a-1). Since the epoxy equivalent of the component (a-1) varies depending on the structure of the component (a-1), an epoxy equivalent having an appropriate epoxy equivalent can be appropriately selected and used depending on the application, but 350 to 1000 g / eq or less. Some are preferred. If it is less than 350 g / eq, the adhesiveness of the resulting adhesive layer tends to be low, and if it exceeds 1000 g / eq, the storage stability of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin tends to be low. Among these (a-1) components, bisphenol A type epoxy resins are particularly preferred because they are the most widely used and inexpensive.

また、(A)成分を構成する(a−2)成分としては、一般的にゾル−ゲル法に用いられているメトキシシランを部分的に加水分解、縮合したオリゴマーを使用できる。たとえば、一般式:RSi(OCH4−p(式中、pは0または1の整数を示し、Rは炭素数6以下の低級アルキル基またはフェニル基を示す。)で表される化合物の部分縮合物等を例示できる。なお、pが2〜4である場合は、3次元架橋が起こらなくなるため、最終的に得られる接着剤硬化物に所望の耐熱性を付与し得ない。As the component (a-2) constituting the component (A), an oligomer obtained by partially hydrolyzing and condensing methoxysilane generally used in a sol-gel method can be used. For example, it is represented by the general formula: R p Si (OCH 3 ) 4-p (wherein p represents an integer of 0 or 1, and R represents a lower alkyl group having 6 or less carbon atoms or a phenyl group). Examples include partial condensates of compounds. In addition, when p is 2-4, since three-dimensional crosslinking does not occur, desired heat resistance cannot be imparted to the finally obtained cured adhesive.

前記(a−2)成分の具体例としては、テトラメトキシシランの部分縮合物;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のトリメトキシシラン類の部分縮合物やそれらの混合物があげられる。これらの中でも、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン等の部分縮合物、およびそれらの混合物等が、ゾル−ゲル硬化速度が大きいため好ましい。  Specific examples of the component (a-2) include a partial condensation product of tetramethoxysilane; methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane. Examples thereof include partial condensates of trimethoxysilanes such as methoxysilane and mixtures thereof. Among these, partial condensates such as tetramethoxysilane and methyltrimethoxysilane, and mixtures thereof are preferable because of their high sol-gel curing rate.

(a−2)成分は、上記物質の中から1種または2種以上を適宜選択すればよいが、1分子当たりのSiの平均個数は3〜12であることが好ましい。Siの平均個数が3未満であると、(a−1)成分との脱アルコール反応の際、副生アルコールと一緒に系外に流出する有毒なメトキシシラン類の量が増えるため好ましくない。また12を超えると、(a−1)成分との反応性が落ち、目的とする(A)成分を得るのに長時間を要する。  The component (a-2) may be appropriately selected from one or more of the above substances, but the average number of Si per molecule is preferably 3-12. When the average number of Si is less than 3, the amount of toxic methoxysilanes flowing out of the system together with the by-product alcohol during the dealcoholization reaction with the component (a-1) is not preferable. If it exceeds 12, the reactivity with the component (a-1) falls, and it takes a long time to obtain the desired component (A).

特に、(a−2)成分として、一般式:  In particular, as the component (a-2), the general formula:

Figure 0004967485
Figure 0004967485

(式中、Meはメチル基を示し、nの平均繰り返し単位数は3〜8である。)で表されるメチルトリメトキシシラン部分縮合物を70重量%以上含むものを用いると、接着性、耐湿性、屈曲性などの点で好ましい。  (In the formula, Me represents a methyl group, and the average number of repeating units of n is 3 to 8.) When the one containing 70% by weight or more of a methyltrimethoxysilane partial condensate represented by It is preferable in terms of moisture resistance and flexibility.

本発明で用いる(A)成分は、前記(a−1)成分と、(a−2)成分との脱メタノール反応により得られる。(a−1)成分と(a−2)成分の使用割合は、得られる(A)成分中に、メトキシ基が残存するような割合であれば特に制限されないが、(a−2)成分のシリカ換算重量/(a−1)成分の重量(重量比)が0.25〜1.2の範囲であるのが耐熱性や密着性の点で好ましい。なお、一般的なエラストマー(B)(以下、(B)成分という)に対し、(a−1)成分とエポキシ樹脂硬化剤(C)(以下、(C)成分という)のみから得られる硬化膜の屈折率は高く、また、(a−2)成分のシリカ換算重量/(a−1)成分の重量(重量比)が大きくなると、(A)成分と(C)成分のみから得られる硬化膜の屈折率が減少し、(B)成分の屈折率に接近するため、前記重量比を0.50以上とすることが、使用できる(B)成分の選択肢が広がるため、特に好ましい。  (A) component used by this invention is obtained by the demethanol reaction of the said (a-1) component and (a-2) component. The proportion of the component (a-1) and the component (a-2) used is not particularly limited as long as the methoxy group remains in the component (A) to be obtained, but the component (a-2) It is preferable in terms of heat resistance and adhesion that the silica equivalent weight / (a-1) component weight (weight ratio) is in the range of 0.25 to 1.2. In addition, with respect to a general elastomer (B) (hereinafter referred to as component (B)), a cured film obtained only from component (a-1) and epoxy resin curing agent (C) (hereinafter referred to as component (C)). The refractive index of (a-2) is high, and when the weight of the component (a-2) in terms of silica / weight (weight ratio) of the component (a-1) increases, a cured film obtained only from the component (A) and the component (C) Since the refractive index of (B) decreases and approaches the refractive index of the component (B), the weight ratio is particularly preferably 0.50 or more because the choices of the component (B) that can be used are widened.

かかる(A)成分の製造は、例えば、(a−1)成分と(a−2)成分を仕込み、加熱して副生するアルコールを留去または冷却管で還流させて系内に戻すことにより行なわれる。反応温度は50〜130℃程度、好ましくは70〜110℃であり、全反応時間は1〜15時間程度である。この反応は、(a−2)成分自体の重縮合反応を防止するため、実質的に無水条件下で行うことが好ましい。  The production of the component (A) is, for example, by charging the components (a-1) and (a-2), heating and distilling off the alcohol produced as a by-product or returning to the system by refluxing with a cooling tube. Done. The reaction temperature is about 50 to 130 ° C., preferably 70 to 110 ° C., and the total reaction time is about 1 to 15 hours. In order to prevent the polycondensation reaction of the component (a-2) itself, this reaction is preferably carried out under substantially anhydrous conditions.

また、上記の脱メタノール反応に際しては、反応促進のために従来公知の触媒の内、エポキシ環を開環しないものを使用することができる。該触媒としては、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、砒素、セリウム、硼素、カドミウム、マンガンのような金属;これら金属の酸化物、有機酸塩、ハロゲン化物、メトキシド等があげられる。これらの中でも、特に有機錫、有機酸錫が好ましく、具体的には、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸錫等が有効である。  In the above demethanol reaction, a catalyst that does not open an epoxy ring among conventionally known catalysts can be used to promote the reaction. Examples of the catalyst include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium, strontium, zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, boron, cadmium, and manganese. And metals such as oxides, organic acid salts, halides, and methoxides of these metals. Among these, organic tin and organic acid tin are particularly preferable, and specifically, dibutyltin dilaurate, tin octylate and the like are effective.

また、上記反応は溶剤中でも、無溶剤でも行うこともできる。溶剤としては、(a−1)成分および(a−2)成分を溶解し、且つこれらに対し不活性である有機溶剤であれば特に制限はない。このような有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系、トルエン、キシレン等の芳香族系、セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール等のアルコール類、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒があげられる。これらの中でも、メチルエチルケトンなどの常圧での沸点が70〜110℃のものが以下の理由により特に好ましい。すなわち、当該接着剤組成物は、PENなどの基材フィルム上にBステージ層(接着シート)を形成させ、銅箔等の導体をラミネート、またはホットプレスした後、更に加熱してCステージ層(本接着剤硬化物)を形成させる製造過程を経るが、導体を接着させた後に加熱する際、多量の揮発分(溶剤など)が発生すると導体と接着剤硬化物との間に気泡が発生し、導体表面に凹凸ができるなどの問題が起こるためである。このことから、前記接着シートを作製する場合は、溶剤などの揮発分の残存量をできるだけ低減させ、Cステージ層の硬化残分中の揮発分残存率が5重量%以下になるよう調整することが好ましい。沸点が110℃を超える溶剤を使用した場合には、溶剤残存率を低下させるために接着シートの形成温度を過度に上昇させる必要があり、その結果、引き続くCステージ層と導体との層間密着性が不十分となる傾向があるため好ましくない。また使用溶剤の沸点が70℃未満である場合は、(a−1)成分と(a−2)成分との脱メタノール反応に長時間を要するため好ましくない。  The above reaction can be performed in a solvent or without a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is an organic solvent that dissolves the component (a-1) and the component (a-2) and is inert to them. Examples of such an organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and isophorone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatics such as toluene and xylene, cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and the like. And an aprotic polar solvent such as dimethylformamide, ethers such as cellosolve, tetrahydrofuran and diethylene glycol dimethyl ether, alcohols such as isopropyl alcohol and n-butyl alcohol, and the like. Among these, those having a boiling point of 70 to 110 ° C. at normal pressure such as methyl ethyl ketone are particularly preferable for the following reasons. That is, the adhesive composition is formed by forming a B stage layer (adhesive sheet) on a base film such as PEN, laminating or hot pressing a conductor such as copper foil, and further heating to form a C stage layer ( This adhesive cured product) undergoes a manufacturing process. When heating after bonding the conductor, if a large amount of volatile matter (solvent, etc.) is generated, bubbles are generated between the conductor and the adhesive cured product. This is because problems such as irregularities on the conductor surface occur. From this, when producing the adhesive sheet, the residual amount of volatile components such as a solvent is reduced as much as possible, and the residual amount of volatile components in the cured residue of the C stage layer is adjusted to 5% by weight or less. Is preferred. When a solvent having a boiling point exceeding 110 ° C. is used, it is necessary to excessively increase the formation temperature of the adhesive sheet in order to reduce the residual ratio of the solvent. As a result, the interlayer adhesion between the subsequent C stage layer and the conductor Is not preferable because of a tendency to become insufficient. Moreover, when the boiling point of the solvent used is less than 70 ° C., it takes a long time for the demethanol reaction between the component (a-1) and the component (a-2), which is not preferable.

こうして得られた(A)成分は、(a−1)成分中の水酸基がシラン変性されたエポキシ樹脂を主成分とするが、当該(A)成分中には未反応の(a−1)成分や未反応の(a−2)成分が含有されていてもよい。  The component (A) thus obtained is mainly composed of an epoxy resin in which the hydroxyl group in the component (a-1) is silane-modified, but the component (A) is not reacted with the component (a-1). Or an unreacted component (a-2) may be contained.

(A)成分は、その分子中に(a−2)成分に由来するメトキシシリル部位とビスフェノール型エポキシ樹脂に由来するエポキシ基を有している。このメトキシシリル部位は、溶剤の蒸発や加熱処理により、または水分(湿気)との反応により、相互に結合した硬化物を形成する。かかる硬化物は、ゲル化した微細なシリカ部位(シロキサン結合の高次網目構造)を有するものである。従って、(A)成分中に含まれるメトキシ基は、用いた(a−2)成分のメトキシル基の60モル%以上を保持しているものが好ましい。またエポキシ基は後述する(C)成分と反応するものである。  The component (A) has in its molecule an methoxysilyl moiety derived from the component (a-2) and an epoxy group derived from a bisphenol type epoxy resin. The methoxysilyl moiety forms a cured product bonded to each other by evaporation of the solvent, heat treatment, or reaction with moisture (humidity). Such a cured product has fine gelled silica sites (high-order network structure of siloxane bonds). Therefore, the methoxy group contained in the component (A) preferably retains 60 mol% or more of the methoxyl group of the component (a-2) used. The epoxy group reacts with the component (C) described later.

本発明に用いる(B)成分としては、カルボキシル基を有し、ガラス転移点が20℃以下、酸価が2〜10(mgKOH/g)、数平均分子量が15万〜30万であり、接着剤硬化物に柔軟性を付与し、且つ半田溶融温度(230〜260℃)で分解物を生じず、PENやPETなどの透明フィルムに対し密着力が強いものを選択する必要がある。  The component (B) used in the present invention has a carboxyl group, a glass transition point of 20 ° C. or less, an acid value of 2 to 10 (mgKOH / g), a number average molecular weight of 150,000 to 300,000, It is necessary to select a material that gives flexibility to the cured agent and does not generate a decomposition product at a solder melting temperature (230 to 260 ° C.) and has a strong adhesion to a transparent film such as PEN or PET.

(B)成分のガラス転移温度は、−50〜20℃とすることにより、(A)成分など他成分と混合が容易となるため、溶剤(D)の使用量を減らせることができ、また、粘度調整が容易となることから好ましく、さらに−50〜0℃とすることが季節要因等気温の影響を受け難く特に好ましい。ガラス転移点が20℃を超えると、接着剤硬化物の柔軟性が悪化し、張り合わせ時のプレス温度が上昇するため好ましくない。By setting the glass transition temperature of the component (B) to −50 to 20 ° C., it becomes easy to mix with other components such as the component (A), so the amount of the solvent (D) used can be reduced. From the viewpoint of easy viscosity adjustment, it is particularly preferable to set the temperature to −50 to 0 ° C. because it is hardly affected by temperature such as seasonal factors. When the glass transition point exceeds 20 ° C., the flexibility of the cured adhesive is deteriorated, and the press temperature at the time of bonding is increased, which is not preferable.

PENやPETなどの透明フィルムに対し密着力を得るためには、カルボキシル基、ヒドロキシル基からなる群から選ばれた少なくとも一つの官能基を有するものであって、一般的に、(1)アクリル酸エステル、α−置換アクリル酸エステルを主成分とし、これに架橋点として上記官能基の少なくとも1個を含有させてなる重合体、または(2)上記官能基を有するモノマーの少なくとも1個を上記主成分であるモノマーとグラフト重合させたポリマーがあげられる。具体的には、アクリル酸エステルまたはα−置換アクリル酸エステル(B−1)(以下、(B−1)成分という)の1種を主成分とした構成成分に、エポキシ基含有モノマー(B−2)(以下、(B−2)成分という)、カルボキシル基含有モノマー(B−3)(以下、(B−3)成分という)、水酸基含有モノマー(B−4)(以下、(B−4)成分という)からなる群から選ばれた少なくとも一つの官能基を有するモノマーを共重合させたものである。(B−1)成分としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート等のエポキシ基、カルボキシル基および水酸基を有さないモノマーがあげられる。(B−2)成分としては、(B−1)成分以外でカルボキシル基および水酸基を有しない、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等があげられる。(B−3)成分としては、(B−1)成分、(B−2)成分以外で水酸基を有しない、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等があげられる。(B−4)成分としては、(B−1)〜(B−3)以外のメタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の多価アルコールのジメタクリレート類、メトキシメチルアクリレート等のアルコキシアクリレート等があげられる。これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。さらに、必要に応じて他のビニルモノマー、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル等を共重合させてもよい。In order to obtain adhesion to a transparent film such as PEN or PET, it has at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group and a hydroxyl group, and is generally (1) acrylic acid An ester, an α-substituted acrylate ester as a main component, and a polymer containing at least one of the functional groups as a crosslinking point, or (2) at least one monomer having the functional group as the main component. Examples thereof include a polymer obtained by graft polymerization with a monomer as a component. Specifically, an epoxy group-containing monomer (B-) is added to a constituent component mainly composed of one of acrylic ester or α-substituted acrylic ester (B-1) (hereinafter referred to as component (B-1)). 2) (hereinafter referred to as (B-2) component), carboxyl group-containing monomer (B-3) (hereinafter referred to as (B-3) component), hydroxyl group-containing monomer (B-4) (hereinafter referred to as (B-4) And a monomer having at least one functional group selected from the group consisting of components)). Examples of the component (B-1) include monomers having no epoxy group, carboxyl group and hydroxyl group such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate and octyl acrylate. Examples of the component (B-2) include glycidyl ethers such as vinyl glycidyl ether and allyl glycidyl ether, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate and the like which do not have a carboxyl group and a hydroxyl group other than the component (B-1). Examples of the component (B-3) include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride and the like which have no hydroxyl group other than the components (B-1) and (B-2). (B-4) Components other than (B-1) to (B-3), methacrylic acid-2-hydroxyethyl, methacrylic acid-2-hydroxypropyl, ethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol Examples include dimethacrylates of polyhydric alcohols such as dimethacrylate, alkoxy acrylates such as methoxymethyl acrylate, and the like. These can be used alone or in admixture of two or more. Furthermore, if necessary, other vinyl monomers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, acrylonitrile, vinyl acetate and the like may be copolymerized.

本発明に用いる(B)成分としては、酸価が2〜10(mgKOH/g)である必要がある。この範囲を超えると、(A)成分との相溶性が悪化し、均一な接着剤組成物が得られず、透明性が低下する傾向にある。また、10を超えると、接着剤組成物の吸水率、電気特性が低下する傾向にある。  As (B) component used for this invention, an acid value needs to be 2-10 (mgKOH / g). When this range is exceeded, the compatibility with the component (A) deteriorates, a uniform adhesive composition cannot be obtained, and the transparency tends to decrease. Moreover, when it exceeds 10, it exists in the tendency for the water absorption of an adhesive composition and an electrical property to fall.

また本発明に用いる(B)成分の数平均分子量は、15万〜30万である必要がある。この範囲を超えると、(A)成分との相溶性が悪化し、均一な接着剤組成物が得られず、接着剤組成物から得られる硬化膜の透明性が悪化する傾向にある。  Moreover, the number average molecular weight of the (B) component used for this invention needs to be 150,000-300,000. When this range is exceeded, compatibility with the component (A) deteriorates, a uniform adhesive composition cannot be obtained, and the transparency of the cured film obtained from the adhesive composition tends to deteriorate.

本発明においては特に透明性に優れた接着剤層を得る目的で(A)成分と(C)成分から得られる硬化膜と(B)成分の屈折率差を少なくすることが重要であり、従って屈折率が1.45〜1.54のエラストマーを選択する必要がある。屈折率が1.45以下、1.54以上になると、(A)成分と(C)成分から得られる硬化膜との屈折率との差が大きくなることから、接着剤層にヘイズが生じやすく、透明性が失われる傾向が強い。なお、上記(B)成分としては、市販の物をそのまま使用することもできる。市販のアクリルポリマーとしては、例えば、テイサンレジンSG−70L(商品名 ナガセケムテックス(株)社製)等を主成分とする方法があげられる。  In the present invention, it is important to reduce the refractive index difference between the cured film obtained from the component (A) and the component (C) and the component (B) for the purpose of obtaining an adhesive layer excellent in transparency. It is necessary to select an elastomer having a refractive index of 1.45 to 1.54. When the refractive index is 1.45 or less and 1.54 or more, the difference between the refractive index of the cured film obtained from the component (A) and the component (C) becomes large, so that haze is likely to occur in the adhesive layer. There is a strong tendency to lose transparency. In addition, as said (B) component, a commercially available thing can also be used as it is. As a commercially available acrylic polymer, the method which has Teisan resin SG-70L (brand name Nagase ChemteX Co., Ltd. product) etc. as a main component is mention | raise | lifted, for example.

本発明の接着剤組成物に用いる(B)成分はその他の成分に混合する前に溶剤に溶解させておくのが好ましい。(B)成分の溶解に使用できる溶剤としては(A)成分の製造時に使用したものと同じものが挙げられる。混合のし易さを考慮すれば、固形分として、10〜30重量%程度にし、粘度を100〜10000mPa・s程度としておくことが好ましい。  The component (B) used in the adhesive composition of the present invention is preferably dissolved in a solvent before being mixed with other components. (B) As a solvent which can be used for melt | dissolution of a component, the same thing as what was used at the time of manufacture of (A) component is mentioned. Considering the ease of mixing, it is preferable that the solid content is about 10 to 30% by weight and the viscosity is about 100 to 10000 mPa · s.

本発明に用いる(C)成分としては特に限定されず、公知のエポキシ樹脂用硬化剤であるフェノール樹脂系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、ポリカルボン酸系硬化剤等を使用することができる。具体的には、フェノール樹脂系硬化剤としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラック樹脂、ポリp−ビニルフェノール等があげられ、ポリアミン系硬化剤としてはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、m−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等があげられ、ポリカルボン酸系硬化剤としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチル−3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、があげられる。これらの中では、芳香族アミンおよびノボラックフェノール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることにより、接着剤組成物のポットライフ、低温硬化の両立ができるため好ましい。なお、本発明の接着剤組成物に用いる(C)成分が室温で固形の場合には、その他の成分に混合する前に溶剤に溶解させておくことが好ましい。(C)成分の溶解に使用できる溶剤としては(A)成分の製造時に使用したものと同じものが挙げられる。また、本発明の接着剤組成物は、コーターの種類など塗布条件によって、溶剤で希釈にし、粘度を調整することが好ましい。希釈溶剤としては(A)成分の製造時に使用したものと同じものが挙げられる。  (C) component used for this invention is not specifically limited, The phenol resin type hardening | curing agent which is a well-known hardening | curing agent for epoxy resins, a polyamine type hardening | curing agent, a polycarboxylic acid type hardening | curing agent, etc. can be used. Specifically, examples of the phenol resin-based curing agent include phenol novolak resin, cresol novolac resin, bisphenol novolak resin, poly p-vinylphenol, and the like, and examples of the polyamine-based curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, and tetraethylenepenta. Min, dicyandiamide, polyamidoamine (polyamide resin), ketimine compound, isophoronediamine, m-xylenediamine, m-phenylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, N-aminoethylpiperazine, 4,4'-diamino Examples include diphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and the like, and polycarboxylic acid curing agents include phthalic anhydride, tetrahydroanhydride Taric acid, methyltetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, hexachloroendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methyl-3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, can give. Among these, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of an aromatic amine and a novolak phenol resin because both pot life and low-temperature curing of the adhesive composition can be achieved. In addition, when (C) component used for the adhesive composition of this invention is solid at room temperature, it is preferable to make it melt | dissolve in a solvent before mixing with another component. (C) As a solvent which can be used for melt | dissolution of a component, the same thing as what was used at the time of manufacture of (A) component is mentioned. In addition, the adhesive composition of the present invention is preferably diluted with a solvent to adjust the viscosity depending on the coating conditions such as the type of coater. Examples of the diluting solvent include the same ones used in the production of the component (A).

本発明の接着剤組成物は、上記の各種必須構成成分、すなわち、(A)成分、(B)成分、(C)成分を配合して調製される。(A)成分に対する(B)成分の配合割合は透明性、接着剤硬化物とポリエステルフィルムなどの透明フィルムとの層間密着性の点から、(A)成分の硬化残分に対して90〜200重量%である必要がある。当該配合割合が90重量%未満であれば、導体に対する硬化層の密着性が不十分となる上に、透明な接着剤硬化物が得られない。また200重量%を超えると耐熱性が低下する傾向がある。なお、(A)成分の硬化残分は次のようにして求められる。すなわち、(A)成分と1当量のトリエチレンテトラミンを混合し、当該混合液をアルミカップ(50mm径)に約1gを秤り取り(計量(i))、これを100℃で1時間、続いて200℃で2時間乾燥、硬化させて再計量(計量(ii))し、下式から算出する。
硬化残分(%)=(計量(ii)−トリエチレンテトラミン重量)×100/計量(i)
The adhesive composition of the present invention is prepared by blending the above-described various essential components, that is, the component (A), the component (B), and the component (C). The blending ratio of the component (B) to the component (A) is 90 to 200 with respect to the curing residue of the component (A) from the viewpoint of transparency and interlayer adhesion between the cured adhesive and a transparent film such as a polyester film. Must be in weight percent. If the said mixture ratio is less than 90 weight%, the adhesiveness of the hardened layer with respect to a conductor will become inadequate, and a transparent adhesive hardened | cured material will not be obtained. Moreover, when it exceeds 200 weight%, there exists a tendency for heat resistance to fall. In addition, the hardening residue of (A) component is calculated | required as follows. That is, (A) component and 1 equivalent of triethylenetetramine are mixed, and about 1 g of the mixed solution is weighed into an aluminum cup (50 mm diameter) (weighing (i)), and this is continued at 100 ° C. for 1 hour. Dried at 200 ° C. for 2 hours, cured, reweighed (weighed (ii)), and calculated from the following equation.
Curing residue (%) = (weighing (ii) -triethylenetetramine weight) × 100 / weighing (i)

また(C)成分の配合割合は、接着剤組成物中に存在するエポキシ基1当量に対して(C)成分中の活性水素を有する官能基が0.1〜1.2当量程度の範囲であることが好ましい。  The blending ratio of the component (C) is such that the functional group having active hydrogen in the component (C) is about 0.1 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group present in the adhesive composition. Preferably there is.

また、前記接着剤組成物には、エポキシ硬化促進剤を含有させ、エポキシ樹脂と硬化剤との硬化反応を促進させ、銅箔などの基材の貼り合わせ後に行う接着剤組成物の硬化の温度を下げ、硬化時間を短縮することができる。例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン類;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類;トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などをあげることができる。当該硬化促進剤は(A)成分の硬化残分に対して、0.05〜5重量%の割合で使用することが好ましい。  In addition, the adhesive composition contains an epoxy curing accelerator, accelerates the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent, and cures the adhesive composition that is performed after bonding the base material such as copper foil. And the curing time can be shortened. For example, tertiary amines such as 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2 -Imidazoles such as methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole; Organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine; Tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N-methylmorpholine / tetraphenylborate, etc. Such as boron salt can be mentioned. It is preferable to use the said hardening accelerator in the ratio of 0.05-5 weight% with respect to the hardening remainder of (A) component.

また、メトキシシリル部位のゾルーゲル硬化反応ではアルコールが発生するため、(A)成分中のエポキシ基と、(C)成分との間で、エポキシ基の開環・架橋反応による硬化が進行した後に当該アルコールが発生した場合、接着剤硬化物に発泡やクラックが生じる恐れがある。そこで、有機スズ触媒等のゾル−ゲル硬化促進剤を添加する必要があるが、当該促進剤はアクリルポリマーに含有されるカルボン酸、水酸基等の官能基と錯化し、結果として接着剤組成物のポットライフが短くなる恐れがある。従って、(C)成分には、ゾル−ゲル硬化促進剤としても作用する芳香族アミンを使用、もしくは併用することが好ましい。  In addition, since alcohol is generated in the sol-gel curing reaction of the methoxysilyl moiety, the curing after the epoxy group ring-opening / crosslinking reaction proceeds between the epoxy group in the component (A) and the component (C). When alcohol is generated, foaming or cracking may occur in the cured adhesive. Therefore, it is necessary to add a sol-gel curing accelerator such as an organotin catalyst, but the accelerator is complexed with a functional group such as a carboxylic acid or a hydroxyl group contained in the acrylic polymer. Pot life may be shortened. Therefore, it is preferable to use or use an aromatic amine that also acts as a sol-gel curing accelerator for the component (C).

本発明の接着剤組成物の組成は、その用途に応じて適宜に調整できるが、通常は、当該接着剤組成物から得られる接着剤硬化物中のシリカ換算重量が7〜41重量%になるよう配合するのが好ましい。なお、同換算重量が15〜25重量%の場合には、接着剤硬化物の耐熱性、基材との密着性が優れており、特に好ましい。ここでシリカ換算重量とは、接着剤組成物中に含まれる(A)成分の製造に用いた(a−2)成分をゾル−ゲル硬化反応せしめて得られるシリカの重量をいう。当該接着剤組成物から得られる接着剤硬化物中のシリカ換算重量の調整方法としては、(A)成分、(B)成分、(C)成分の配合比を上記記載の比率の範囲内で調整する方法の他に、その他の固形成分を含有させる方法や(a−2)成分を添加する方法がある。このようなその他の固形成分としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a−1)の他、従来公知のノボラック型エポキシ樹脂、水添エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。特に本接着剤組成物をカバーレイ用接着剤組成物として使用する場合には、回路の凹凸を埋める必要性から、(A)成分の硬化残分に対して20〜400重量%のエポキシ樹脂を用いる必要がある。20重量%未満では接着剤の流動性に欠け、回路が埋まらず、400重量%を越えると耐熱性が落ち、染み出し性が悪化する傾向にある。このようなエポキシ樹脂の種類としては、(A)成分の製造時に使用した(a−1)と同じものが挙げられるが、室温で固体であるものの方が、カバーレイフィルムとしてハンドリングが容易である。  The composition of the adhesive composition of the present invention can be appropriately adjusted according to its use, but usually the silica equivalent weight in the cured adhesive obtained from the adhesive composition is 7 to 41% by weight. It is preferable to blend them as follows. In addition, when the equivalent weight is 15 to 25% by weight, the heat resistance of the adhesive cured product and the adhesion to the base material are excellent, which is particularly preferable. Here, the weight in terms of silica refers to the weight of silica obtained by subjecting the component (a-2) used in the production of the component (A) contained in the adhesive composition to a sol-gel curing reaction. As a method for adjusting the weight in terms of silica in the cured adhesive obtained from the adhesive composition, the blending ratio of the component (A), the component (B), and the component (C) is adjusted within the range of the ratio described above. In addition to the method of performing, there are a method of containing other solid components and a method of adding the component (a-2). Examples of such other solid components include bisphenol type epoxy resins (a-1), epoxy resins such as conventionally known novolak type epoxy resins and hydrogenated epoxy resins, and phenol resins. In particular, when the adhesive composition is used as an adhesive composition for a coverlay, 20 to 400% by weight of an epoxy resin is used with respect to the cured residue of the component (A) because it is necessary to fill the unevenness of the circuit. It is necessary to use it. If it is less than 20% by weight, the fluidity of the adhesive is insufficient and the circuit is not filled. If it exceeds 400% by weight, the heat resistance is lowered and the bleeding property tends to deteriorate. Examples of such epoxy resins include the same ones as (a-1) used during the production of the component (A), but those that are solid at room temperature are easier to handle as a coverlay film. .

本発明の接着剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、離型剤、表面処理剤、難燃剤、粘度調節剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、安定剤、カップリング剤等を配合してもよい。  In the adhesive composition of the present invention, a mold release agent, a surface treatment agent, a flame retardant, a viscosity modifier, a plasticizer, an antibacterial agent, an antifungal agent, and the like, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may mix | blend a leveling agent, an antifoamer, a coloring agent, a stabilizer, a coupling agent, etc.

このようにして得られた接着剤組成物は、フレキシブルプリント基板、カバーレイフィルムやTABテープ、タッチパネル用基板、ICカード、ICタグ用基板、電子ペーパー用基板、フレキシブルディスプレイ用基板、電磁波シールド用積層体等に用いられる金属層とプラスチックフィルムとの接着剤組成物として用いることができる。  The adhesive composition thus obtained includes a flexible printed circuit board, a coverlay film and a TAB tape, a touch panel substrate, an IC card, an IC tag substrate, an electronic paper substrate, a flexible display substrate, and an electromagnetic wave shielding laminate. It can be used as an adhesive composition of a metal layer and a plastic film used for a body or the like.

本発明の接着剤組成物からフレキシブルプリント基板、カバーレイフィルム、TABテープ、タッチパネル用基板、ICカード、ICタグ用基板、電子ペーパー用基板、フレキシブルディスプレイ用基板、電磁波シールド用積層体を得るには、本発明の接着剤組成物を基材フィルム上に、硬化膜厚5〜50μm程度で塗布し、70〜150℃で30秒〜15分程度乾燥させた後、銅箔などの金属箔を50〜100℃程度で熱圧着し、後に40〜150℃程度で1〜3時間程度アフターキュアし、Cステージに完全に硬化させる方法が用いられる。Bステージでは、接着剤組成物の揮発分((A)成分中の製造用溶剤、(A)成分のメトキシシリル部位のゾル−ゲル硬化反応により副生するメタノール、接着剤組成物中の溶剤)の残存率を低減させることにより、引き続くCステージでの気泡発生を防ぐ必要がある。カバーレイフィルムにおいては基材フィルム上で接着剤組成物を乾燥硬化させてBステージを作った時点で製造は完成するが、後にプリント基板に0.5〜5MPa、80〜150℃、1〜3時間程度熱プレスして用いられる。  To obtain a flexible printed circuit board, cover lay film, TAB tape, touch panel substrate, IC card, IC tag substrate, electronic paper substrate, flexible display substrate, electromagnetic wave shielding laminate from the adhesive composition of the present invention The adhesive composition of the present invention is applied on a substrate film at a cured film thickness of about 5 to 50 μm, dried at 70 to 150 ° C. for about 30 seconds to 15 minutes, and then a metal foil such as copper foil is applied to 50 A method is used in which thermocompression bonding is performed at about -100 ° C., followed by after-curing at about 40-150 ° C. for about 1 to 3 hours and complete curing on the C stage. In stage B, the volatile content of the adhesive composition (solvent for production in component (A), methanol by-produced by sol-gel curing reaction of methoxysilyl moiety of component (A), solvent in adhesive composition) It is necessary to prevent the generation of bubbles in the subsequent C stage by reducing the residual rate of. In the case of the coverlay film, the production is completed when the adhesive composition is dried and cured on the base film to make the B stage. Later, the printed circuit board is 0.5 to 5 MPa, 80 to 150 ° C., 1 to 3 Used by hot pressing for about an hour.

本接着剤組成物を塗布する基材フィルムとしては特に制限されず、用途に応じて公知のものを制限なく使用することができるが、タッチパネル用基板、ICカード、ICタグ用基板、電子ペーパー用基板、フレキシブルディスプレイ用基板のように積層体として特に光透過性を重視する場合には、無色の基材のフィルムを用いることが好ましく、PEN、PETなどのポリエステルフィルムが特に好ましい。フレキシブルプリント基板、カバーレイフィルム、TABテープのように積層体として特に耐熱性が必要な場合には、PEN、ポリイミドからなる群より選ばれるいずれか一種からなる基材を用いることが、耐熱性等の点から好ましい。  The substrate film to which the adhesive composition is applied is not particularly limited, and any known film can be used without limitation depending on the application, but for touch panel substrates, IC cards, IC tag substrates, and electronic papers. When light transmittance is particularly important as a laminate such as a substrate or a flexible display substrate, a colorless base film is preferably used, and a polyester film such as PEN or PET is particularly preferable. When heat resistance is particularly required as a laminate, such as a flexible printed circuit board, coverlay film, and TAB tape, it is possible to use a base material made of any one selected from the group consisting of PEN and polyimide. From the point of view, it is preferable.

また、金属箔としては、当該積層体の用途に応じて各種公知のものを用いることができる。具体的には、金箔、ITO箔、銀箔、銅箔、ニクロム箔、アルミ箔などが挙げられるが、特にプリント配線板やTABテープ等に用いる場合には、銅箔、ニクロム箔、アルミ箔が好ましい。  Moreover, as a metal foil, various well-known things can be used according to the use of the said laminated body. Specifically, gold foil, ITO foil, silver foil, copper foil, nichrome foil, aluminum foil and the like can be mentioned, but when used for printed wiring boards, TAB tapes, etc., copper foil, nichrome foil, aluminum foil are preferable. .

本発明の接着剤組成物からできる硬化物は、耐熱性、密着性、耐湿性、絶縁性を有し、特に透明性が優れている。当該接着剤組成物から得られた15μm程度の接着層では、通常、ハンダ耐熱性として230℃〜260℃を有しており、また密着性としては、例えば基材フィルムとしてPEN・PET、金属層として電解銅箔を用いた場合、9N/cm以上の剥離強度を有する。また吸水率は、通常0.5%以下で、耐湿性が優れており、前記用途で通常評価される温度80℃、湿度85%環境下で12時間保管後のハンダ耐熱性試験においても特に問題は生じない。また、通常体積抵抗は1013Ω・cm以上を有し絶縁性にも優れている。最も重要な透明性においては、15μmの接着剤層の膜厚でヘイズ値が、通常5%以下、500μmの厚膜で10%以下であることが好ましい。この時、PENまたはPET上に接着材層を設け接着剤層上にPENまたはPETを積層した積層体を作製した時に、ヘイズ値の上昇は抑えられ、通常ヘイズ値が20%以下となる。The cured product made from the adhesive composition of the present invention has heat resistance, adhesion, moisture resistance and insulation, and is particularly excellent in transparency. The adhesive layer of about 15 μm obtained from the adhesive composition usually has a solder heat resistance of 230 ° C. to 260 ° C., and the adhesion is, for example, PEN / PET as a base film, metal layer When an electrolytic copper foil is used, the peel strength is 9 N / cm or more. Further, the water absorption is usually 0.5% or less, and the moisture resistance is excellent. Especially in the solder heat resistance test after storage for 12 hours in the environment of temperature 80 ° C. and humidity 85%, which is usually evaluated for the above-mentioned use. Does not occur. Further, the volume resistance is usually 10 13 Ω · cm or more, and the insulation is excellent. In the most important transparency, it is preferable that the haze value is usually 5% or less when the film thickness is 15 μm, and 10% or less when the film thickness is 500 μm. At this time, when a laminate in which an adhesive layer is provided on PEN or PET and PEN or PET is laminated on the adhesive layer is produced, an increase in haze value is suppressed, and the haze value is usually 20% or less.

以下、実施例および比較例をあげて本発明を具体的に説明する。なお、各例中、%は特記なし限り重量基準である。  Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In each example, “%” is based on weight unless otherwise specified.

製造例1(メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−1)の製造)
攪拌機、冷却管、温度計を備えた反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名「JER1001」、エポキシ当量480g/eq)(a−1)800.0gおよびMEK960.0gを加え、80℃で溶解した。更にメチルトリメトキシシラン(CHSi(OCH)の部分縮合物でSiの平均個数が3.5である、ポリ(メチルトリメトキシシラン)(多摩化学(株)製、商品名「MTMS−A」)(a−2)605.0gと触媒としてジブチル錫ラウレート2.3gを加え、80℃で5時間、脱メタノール反応させて、有効成分(硬化後)50%、シリカ換算重量/ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)の重量(重量比)が0.51.エポキシ当量1400g/eqのメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−1)を得た。また、メチルトリメトキシシランの、部分縮合物成分のメトキシ基の87モル%が保持されていることが、H−NMRで確認された。
Production Example 1 (Production of methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-1))
In a reactor equipped with a stirrer, a condenser tube, and a thermometer, bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “JER1001”, epoxy equivalent 480 g / eq) (a-1) 800.0 g and MEK960 0.0 g was added and dissolved at 80 ° C. Furthermore, poly (methyltrimethoxysilane) (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., trade name “MTMS”, which is a partial condensate of methyltrimethoxysilane (CH 3 Si (OCH 3 ) 3 ) and having an average number of Si of 3.5. -A ") (a-2) 605.0 g and 2.3 g of dibutyltin laurate as a catalyst were added and subjected to a demethanol reaction at 80 ° C for 5 hours to obtain an active ingredient (after curing) 50%, weight in terms of silica / bisphenol. Type epoxy resin (1) has a weight (weight ratio) of 0.51. A methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-1) having an epoxy equivalent of 1400 g / eq was obtained. Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR that 87 mol% of the methoxy group of the partial condensate component of methyltrimethoxysilane was retained.

製造例2(メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−2)の製造)
攪拌機、冷却管、温度計を備えた反応装置に、JER1001(a−1)を400.0gおよびMEK334.8gを加え、80℃で溶解した。更にテトラメトキシシラン(Si(OCH)(a−2)の部分縮合物でSiの平均個数が4.0である、ポリ(テトラメトキシシラン)(多摩化学(株)製、商品名「MS−51」)429.1gと触媒としてジブチル錫ジラウレート0.35gを加え、80℃で5時間、脱メタノール反応させて、有効成分(硬化後)50%、シリカ換算重量/ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)の重量(重量比)が0.55、エポキシ当量1400g/eqのメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−2)を得た。また、メチルトリメトキシシランの、部分縮合物成分のメトキシ基の87モル%が保持されていることが、H−NMRで確認された。
Production Example 2 (Production of methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-2))
400.0 g of JER1001 (a-1) and 334.8 g of MEK were added to a reactor equipped with a stirrer, a condenser tube, and a thermometer, and dissolved at 80 ° C. Furthermore, poly (tetramethoxysilane) (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., trade name “Partial condensate of tetramethoxysilane (Si (OCH 3 ) 4 ) (a-2)) having an average number of Si of 4.0. MS-51 ") (429.1 g) and dibutyltin dilaurate (0.35 g) as a catalyst were added and subjected to a demethanol reaction at 80 ° C for 5 hours to obtain an active ingredient (after curing) of 50%, weight in terms of silica / bisphenol type epoxy resin ( A methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-2) having a weight (weight ratio) of 1) of 0.55 and an epoxy equivalent of 1400 g / eq was obtained. Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR that 87 mol% of the methoxy group of the partial condensate component of methyltrimethoxysilane was retained.

実施例1(接着剤組成物の製造)
製造例1で得たメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−1)を20.0g、ナガセケムテックス(株)社製、商品名「テイサンレジンSG−70L」(固形分12.5%MEKワニス、ガラス転移点−17℃、酸価5mgKOH/g、数平均分子量20万)(成分B)を64.0g、芳香族アミン(三菱ガス化学(株)製、商品名「ガスカミン240」、活性水素当量103g/eq)(成分C)を1.10g、メチルエチルケトンを10.0g加え均一に溶解して接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は、固形分で(A)成分の硬化残分に対して80重量%であった。接着剤組成物中に存在するエポキシ基1当量に対して(C)成分中の活性水素を有する官能基は1当量である。接着剤硬化物中のシリカ換算重量は18重量%である。
Example 1 (Production of adhesive composition)
20.0 g of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-1) obtained in Production Example 1, manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name “Taisan Resin SG-70L” (solid content 12.5% MEK varnish , Glass transition point -17 ° C., acid value 5 mg KOH / g, number average molecular weight 200,000) (component B) 64.0 g, aromatic amine (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name “Gascamin 240”, active hydrogen Equivalent 103 g / eq) (Component C) 1.10 g and methyl ethyl ketone 10.0 g were added and uniformly dissolved to prepare an adhesive composition. The blending ratio of the component (B) was 80% by weight with respect to the cured residue of the component (A) in solid content. The functional group having active hydrogen in the component (C) is 1 equivalent relative to 1 equivalent of the epoxy group present in the adhesive composition. The weight in terms of silica in the cured adhesive is 18% by weight.

実施例2(接着剤組成物の製造)
製造例1で得たメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−1)を11.5g、製造例2で得たメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A−2)を1.0g、テイサンレジンSG−70L(成分B)を68.0g、ガスカミン240を0.1g(成分C)、更にJER1001を2.3g、メチルエチルケトンを10.0g加え均一に溶解して接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して100重量%である。接着剤組成物中に存在するエポキシ基1当量に対して(C)成分中の活性水素を有する官能基は0.1当量である。接着剤硬化物中のシリカ換算重量は12.8重量%である。
Example 2 (Production of adhesive composition)
11.5 g of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-1) obtained in Production Example 1, 1.0 g of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A-2) obtained in Production Example 2, and Teisan Resin SG- 70 L (component B) 68.0 g, gascamine 240 0.1 g (component C), JER1001 2.3 g, and methyl ethyl ketone 10.0 g were uniformly dissolved to prepare an adhesive composition. The blending ratio of the component (B) is 100% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The functional group having active hydrogen in the component (C) is 0.1 equivalent with respect to 1 equivalent of the epoxy group present in the adhesive composition. The weight in terms of silica in the cured adhesive is 12.8% by weight.

実施例3(接着剤組成物の製造)
テイサンレジンSG−70Lの使用量を80.0gに変えた以外は、実施例1と同じ仕込量で同じ操作を行い、接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して100重量%であり、接着剤硬化物中のシリカ換算重量が16.6重量%である。
Example 3 (Production of adhesive composition)
Except having changed the usage-amount of Taisan resin SG-70L into 80.0g, the same operation was performed by the same preparation amount as Example 1, and the adhesive composition was prepared. The blending ratio of the component (B) is 100% by weight with respect to the curing residue of the component (A), and the weight in terms of silica in the cured adhesive is 16.6% by weight.

実施例4(接着剤組成物の製造)
テイサンレジンSG−70Lの使用量を81.5gに変えた以外は、実施例1と同じ仕込量で同じ操作を行い、接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して120重量%であり、接着剤硬化物中のシリカ換算重量が11.7重量%である。
Example 4 (Production of adhesive composition)
An adhesive composition was prepared by performing the same operation as in Example 1 except that the amount of Taisan resin SG-70L was changed to 81.5 g. The blending ratio of the component (B) is 120% by weight with respect to the cured residue of the component (A), and the weight in terms of silica in the cured adhesive is 11.7% by weight.

(比較例1)
JER1001を10.0g、ガスカミン240を1.10g、SG−70Lを64.0g、メチルエチルケトンを20.0g加え均一に溶解して接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して80重量%である。接着剤組成物中に存在するエポキシ基1当量に対して(C)成分中の活性水素を有する官能基は0.75当量である。
(Comparative Example 1)
10.0 g of JER1001, 1.10 g of gascamine 240, 64.0 g of SG-70L and 20.0 g of methyl ethyl ketone were added and dissolved uniformly to prepare an adhesive composition. The blending ratio of the component (B) is 80% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The functional group having active hydrogen in the component (C) is 0.75 equivalent relative to 1 equivalent of the epoxy group present in the adhesive composition.

(比較例2)
JER1001を10.19g、ガスカミン240を0.23g、SG−70Lを81.5g、メチルエチルケトンを20.0g加え均一に溶解して接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して100重量%である。接着剤組成物中に存在するエポキシ基1当量に対して(C)成分中の活性水素を有する官能基は0.1当量である。
(Comparative Example 2)
10.19 g of JER1001, 0.23 g of gascamine 240, 81.5 g of SG-70L, and 20.0 g of methyl ethyl ketone were added and dissolved uniformly to prepare an adhesive composition. The blending ratio of the component (B) is 100% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The functional group having active hydrogen in the component (C) is 0.1 equivalent with respect to 1 equivalent of the epoxy group present in the adhesive composition.

(比較例3)
アクリルポリマー(B)として、テイサンレジンSG−70Lをナガセケムテックス(株)社製、商品名「テイサンレジン WS−023」(ガラス転移点−5℃、酸価20mgKOH/g、数平均分子量11万)に変更し、テイサンレジンWS−023を8g用い、メチルエチルケトンを32g加えた以外は実施例1と同じ仕込量で同じ操作を行い、接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して80重量%である。接着剤硬化物中のシリカ換算重量は18.3重量%である。
(Comparative Example 3)
As the acrylic polymer (B), Teisan Resin SG-70L was manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name "Taisan Resin WS-023" (glass transition point -5 ° C, acid value 20 mgKOH / g, number average molecular weight 110,000). The adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 8 g of Teisan Resin WS-023 was used and 32 g of methyl ethyl ketone was added. The blending ratio of the component (B) is 80% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The weight in terms of silica in the cured adhesive is 18.3% by weight.

(比較例4)
アクリルポリマー(B)としてテイサンレジンWS−023の使用量を6.8gに変更し、メチルエチルケトンを27.2g加えた以外は実施例1と同じ仕込量で同じ操作を行い、接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して80重量%である。接着剤硬化物中のシリカ換算重量は14.2重量%である。
(Comparative Example 4)
An adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of TAISIN RESIN WS-023 used as the acrylic polymer (B) was changed to 6.8 g and 27.2 g of methyl ethyl ketone was added. did. The blending ratio of the component (B) is 80% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The weight in terms of silica in the cured adhesive is 14.2% by weight.

(比較例5)
アクリルポリマー(B)として、テイサンレジンSG−70Lをナガセケムテックス(株)社製、商品名「テイサンレジンSG−P3」(固形分15%MEKワニス、ガラス転移点15℃、酸価0、数平均分子量25万)に変更し、テイサンレジンSG−P3を53.3g加えた以外は実施例1と同じ仕込量で同じ操作を行い、接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して80重量%である。接着剤硬化物中のシリカ換算重量は18.3重量%である。
(Comparative Example 5)
As acrylic polymer (B), Teisan Resin SG-70L manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name “Taisan Resin SG-P3” (solid content 15% MEK varnish, glass transition point 15 ° C., acid value 0, number The adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the average molecular weight was 250,000) and 53.3 g of Teisan resin SG-P3 was added. The blending ratio of the component (B) is 80% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The weight in terms of silica in the cured adhesive is 18.3% by weight.

(比較例6)
アクリルポリマー(B)としてテイサンレジンSG−P3の使用量を45.3gに変更した以外は実施例1と同じ仕込量で同じ操作を行い、接着剤組成物を調製した。(B)成分の配合割合は(A)成分の硬化残分に対して80重量%である。接着剤硬化物中のシリカ換算重量は14.2重量%である。
(Comparative Example 6)
An adhesive composition was prepared by performing the same operation as in Example 1 except that the amount of Teisan resin SG-P3 used as the acrylic polymer (B) was changed to 45.3 g. The blending ratio of the component (B) is 80% by weight with respect to the curing residue of the component (A). The weight in terms of silica in the cured adhesive is 14.2% by weight.

<張り合わせサンプルの製造:実施例1、3、比較例1、3および5の接着剤組成物を使用>
実施例1、3、比較例1、3および5で得た接着剤組成物を50μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(帝人デュポンフィルム(株)製 商品名「テオネックスQ83」)にロールコーターで乾燥後の厚さが15μmになるように塗布乾燥し、その接着剤面と18μmの銅箔(古河サーキットフォイル(株)製 商品名「F2−WS」)の処理面とを重ね合わせて120℃のラミネートロールで圧着した後、オーブンで100℃,3時間、130℃,3時間、160℃、3時間処理し、接着剤を硬化させて張り合わせサンプル(PEN/接着層/銅箔)を得た。実施例1の接着剤組成物を用いて得られた張り合わせサンプルをH−1とし、実施例3、比較例1、3および5の接着剤組成物を用いて得られた接着シートサンプルをそれぞれH−3、G−1、G−3、G−5とした。得られたサンプルの評価の剥離強度、はんだ耐熱性、耐湿性、体積抵抗を測定した結果を表1に示す。
<Manufacture of bonded samples: Use of adhesive compositions of Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1, 3 and 5>
The adhesive compositions obtained in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1, 3 and 5 were dried on a 50 μm polyethylene naphthalate (PEN) film (trade name “Teonex Q83” manufactured by Teijin DuPont Films) with a roll coater. After coating and drying so that the subsequent thickness becomes 15 μm, the adhesive surface and the treated surface of 18 μm copper foil (product name “F2-WS” manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) are superposed on each other at 120 ° C. After pressure bonding with a laminate roll, treatment was performed in an oven at 100 ° C. for 3 hours, 130 ° C., 3 hours, 160 ° C. for 3 hours, the adhesive was cured, and a bonded sample (PEN / adhesive layer / copper foil) was obtained. The laminated sample obtained using the adhesive composition of Example 1 is designated as H-1, and the adhesive sheet samples obtained using the adhesive compositions of Example 3, Comparative Examples 1, 3 and 5 are designated H. -3, G-1, G-3, and G-5. Table 1 shows the results of measuring the peel strength, solder heat resistance, moisture resistance, and volume resistance of the obtained sample.

剥離強度:JIS C−6481に基づき、銅箔とフィルムとの剥離強度を測定した。
はんだ耐熱性:試験片を100℃、60分加熱乾燥した後、260℃のはんだ浴に30秒フロートさせてフクレの有無を調査した。
耐湿性(耐湿はんだ耐熱性):試験片を80℃、湿度85%の環境下に12時間置いた後、はんだ耐熱試験を実施した。
体積抵抗:JIS C−6481に基づき、測定を行った。
Peel strength: The peel strength between the copper foil and the film was measured based on JIS C-6482.
Solder heat resistance: After the test piece was heated and dried at 100 ° C. for 60 minutes, it was floated in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds to examine the presence or absence of swelling.
Moisture resistance (humidity solder heat resistance): After placing the test piece in an environment of 80 ° C. and humidity of 85% for 12 hours, a solder heat resistance test was performed.
Volume resistance: Measurement was carried out based on JIS C-6481.

Figure 0004967485
Figure 0004967485

以上の結果から、実施例1および3の接着剤組成物は剥離強度・はんだ耐熱性に優れていることが明らかである。From the above results, it is clear that the adhesive compositions of Examples 1 and 3 are excellent in peel strength and solder heat resistance.

<接着シートサンプルの製造:実施例2、4、比較例2、4および6の接着剤組成物を使用>
実施例2、4、比較例2、4および6の接着剤組成物を50μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(帝人デュポンフィルム(株)製 商品名「テオネックスQ83」)にロールコーターで乾燥後の厚さが25μmになるように塗布、乾燥し、接着シートサンプル(PEN/接着層)を得た。実施例2の接着剤組成物を用いて得られた接着シートサンプルをH−2とし、実施例4、比較例2、4および6の接着剤組成物を用いて得られた接着シートサンプルをそれぞれH−4、G−2、G−4、G−6とした。
<Production of Adhesive Sheet Sample: Use of Adhesive Compositions of Examples 2, 4 and Comparative Examples 2, 4 and 6>
The adhesive compositions of Examples 2 and 4 and Comparative Examples 2, 4 and 6 were dried on a 50 μm polyethylene naphthalate (PEN) film (trade name “Teonex Q83” manufactured by Teijin DuPont Films) with a roll coater. The adhesive sheet sample (PEN / adhesive layer) was obtained by applying and drying to a thickness of 25 μm. The adhesive sheet sample obtained using the adhesive composition of Example 2 was designated as H-2, and the adhesive sheet samples obtained using the adhesive compositions of Example 4, Comparative Examples 2, 4 and 6 were respectively used. It was set as H-4, G-2, G-4, and G-6.

前項で得たシートサンプルの各種物性を表2に示す。測定方法は下記の通りである。
透明性:ヘイズ値(曇価)、JIS K 7105に基づき測定した。接着シートサンプルは、接着層がBステージの状態で測定した。
接着剤層の透明性:上記の積層体のヘイズ値からPENフィルムのヘイズ値を引いた値。
剥離強度:接着シートサンプルの接着力測定用サンプルは、接着シートサンプルの接着層側を、銅箔の鏡面側に重ね合わせ、熱プレスで140℃、2.0MPa、2時間加熱加圧接着することで試験片(PEN/接着層/銅箔)を作成した。
はんだ耐熱性:前記剥離強度試験で用いた試験片を100℃、60分間加熱乾燥した後、260℃のはんだ浴に30秒間フロートさせてフクレの有無を調査した。
Table 2 shows various physical properties of the sheet sample obtained in the previous section. The measuring method is as follows.
Transparency: Measured based on haze value (cloudiness value), JIS K 7105. The adhesive sheet sample was measured with the adhesive layer in the B stage.
Transparency of adhesive layer: A value obtained by subtracting the haze value of the PEN film from the haze value of the laminate.
Peel strength: Adhesive sheet sample for measuring adhesive strength is to superimpose the adhesive layer side of the adhesive sheet sample on the mirror surface side of the copper foil, and heat-press bond at 140 ° C, 2.0 MPa for 2 hours with a hot press. A test piece (PEN / adhesive layer / copper foil) was prepared.
Solder heat resistance: After the test piece used in the peel strength test was heated and dried at 100 ° C. for 60 minutes, it was floated in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds to examine the presence or absence of swelling.

Figure 0004967485
Figure 0004967485

以上の結果から、実施例2および4の接着剤組成物は透明性、剥離強度、はんだ耐熱性に優れており、カバーレイフィルムに用いられる接着剤組成物として有用である。From the above results, the adhesive compositions of Examples 2 and 4 are excellent in transparency, peel strength, and solder heat resistance, and are useful as adhesive compositions used for coverlay films.

<積層フィルムサンプルの製造>
実施例1、3、比較例1、3および5で得られた、張りあわせサンプルの銅箔を塩化鉄水溶液で全面エッチングにより除去し、それぞれ実施例2、4、比較例2、4および6で得られた接着シートサンプルの接着層側を重ね合わせ、熱プレスで140℃、2.0MPa、2時間加熱加圧接着し、積層フィルムサンプル(PEN/接着シートサンプル接着層/張りあわせサンプル接着層/PEN)を作成した。得られた各フィルムサンプルの透明性を前述のJIS K 7105に基づき測定した。結果を表3に示す。
<Manufacture of laminated film samples>
The copper foils of the bonded samples obtained in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1, 3 and 5 were removed by whole surface etching with an aqueous iron chloride solution, and in Examples 2, 4 and Comparative Examples 2, 4 and 6, respectively. The obtained adhesive sheet sample was laminated on the adhesive layer side, and heated and pressed at 140 ° C., 2.0 MPa for 2 hours, and laminated film sample (PEN / adhesive sheet sample adhesive layer / bonded sample adhesive layer / PEN). The transparency of each obtained film sample was measured based on the above-mentioned JIS K 7105. The results are shown in Table 3.

Figure 0004967485
Figure 0004967485

以上の結果から、実施例1および3の接着剤組成物から得られた銅張積層板と実施例2および4から得られたカバーレイフィルムの組み合わせによって、透明性に優れたフレキシブルプリント基板を作製することが可能である。From the above results, a flexible printed circuit board having excellent transparency was produced by combining the copper-clad laminate obtained from the adhesive compositions of Examples 1 and 3 and the coverlay film obtained from Examples 2 and 4. Is possible.

<硬化膜サンプル:実施例1、3、比較例1、3および5の接着剤組成物を使用>
実施例1、3、比較例1、3および5で得た接着剤組成物をアルミカップ上に流延し、50℃で12時間、150℃で3時間硬化させて、500μm厚の硬化膜を得た。
硬化膜の透明性:ヘイズ値(曇価)、JIS K 7105に基づき測定した。
吸水率:硬化膜を50℃で24時間、絶対乾燥状態に置いた後、水に24時間浸漬させ、含水量を求めた。結果を表4に示す。
<Hardened film sample: Use of adhesive compositions of Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1, 3 and 5>
The adhesive compositions obtained in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1, 3 and 5 were cast on an aluminum cup and cured at 50 ° C. for 12 hours and at 150 ° C. for 3 hours to obtain a cured film having a thickness of 500 μm. Obtained.
Transparency of cured film: Measured based on haze value (cloudiness value), JIS K 7105.
Water absorption: The cured film was placed in an absolute dry state at 50 ° C. for 24 hours and then immersed in water for 24 hours to determine the water content. The results are shown in Table 4.

Figure 0004967485
Figure 0004967485

以上の結果から、実施例1および3の接着剤組成物は透明性、絶縁性、耐湿性に優れていることが明らかである。From the above results, it is clear that the adhesive compositions of Examples 1 and 3 are excellent in transparency, insulation and moisture resistance.

Claims (6)

ビスフェノール型エポキシ樹脂(a−1)およびメトキシシラン部分縮合物(a−2)を脱アルコール反応させて得られるメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)、カルボキシル基を有し、ガラス転移点が20℃以下、酸価が2〜10(mgKOH/g)、数平均分子量が15万〜30万のアクリルポリマー(B)、エポキシ樹脂用硬化剤(C)を含有することを特徴とする積層体用接着剤組成物。  A methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) obtained by dealcoholizing a bisphenol type epoxy resin (a-1) and a methoxysilane partial condensate (a-2), having a carboxyl group, and having a glass transition point of 20 For laminates characterized by containing an acrylic polymer (B) having an acid value of 2 to 10 (mg KOH / g), a number average molecular weight of 150,000 to 300,000, and a curing agent for epoxy resin (C). Adhesive composition. メトキシシラン部分縮合物(a−2)が、テトラメトキシシランおよび/またはメチルトリメトキシシランの部分縮合物である請求項1記載の積層体用接着剤組成物。  The adhesive composition for laminates according to claim 1, wherein the methoxysilane partial condensate (a-2) is a partial condensate of tetramethoxysilane and / or methyltrimethoxysilane. アクリルポリマー(B)の配合量がシラン変性エポキシ樹脂(A)の硬化残分に対し、90〜200%である請求項1または2のいずれかに記載の積層体用接着剤組成物。  The adhesive composition for laminates according to claim 1, wherein the blending amount of the acrylic polymer (B) is 90 to 200% with respect to the curing residue of the silane-modified epoxy resin (A). エポキシ樹脂用硬化剤(C)が芳香族アミンおよびノボラックフェノール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項1〜3のいずれかに記載の積層体用接着剤組成物。  The adhesive composition for laminates according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxy resin curing agent (C) is at least one selected from the group consisting of aromatic amines and novolak phenol resins. 15μm硬化膜にした場合のヘイズ値が5%以下である請求項1〜4のいずれかに記載の積層体用接着剤組成物。  The adhesive composition for laminates according to any one of claims 1 to 4, which has a haze value of 5% or less when formed into a 15 µm cured film. ポリエチレンナフタレートまたはポリエチレンテレフタレートを請求項1〜5のいずれかに記載の積層体用接着剤組成物を用いて接着した積層体であって、当該積層体のヘイズ値が20%以下である透明積層体。  A laminate obtained by bonding polyethylene naphthalate or polyethylene terephthalate using the adhesive composition for laminates according to any one of claims 1 to 5, wherein the laminate has a haze value of 20% or less. body.
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