JP2002275445A - Adhesive for printed circuit - Google Patents

Adhesive for printed circuit

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JP2002275445A
JP2002275445A JP2001081844A JP2001081844A JP2002275445A JP 2002275445 A JP2002275445 A JP 2002275445A JP 2001081844 A JP2001081844 A JP 2001081844A JP 2001081844 A JP2001081844 A JP 2001081844A JP 2002275445 A JP2002275445 A JP 2002275445A
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Japan
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epoxy resin
adhesive
printed wiring
wiring boards
weight
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JP2001081844A
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Inventor
Kaoru Tsuchiya
薫 土屋
Hideki Aida
秀樹 合田
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Arakawa Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Arakawa Chemical Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive for a printed circuit, capable of exhibiting further excellent heat resistance, adhering property, processing property, etc., comparing with conventional epoxy resin-based adhesive. SOLUTION: This adhesive for the printed circuit is characterized by consisting of (A) a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin obtained by performing a de-alcohol reaction of (1) a bisphenol type epoxy resin with (2) a methoxysilane partially condensed material, (B) a synthetic rubber, (C) a curing agent for an epoxy resin, (D) a sol-gel curing accelerator and (E) a solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプリント配線板用接
着剤に関する。特に、フレキシブルプリント基板用接着
剤組成物や、TAB(テープオートメーテッドボンディ
ング)方式と称する半導体集積回路実装用テープ(以
下、「TABテープ」と略す)に好適な接着剤組成物に
関する。本発明のプリント配線板用接着剤は、特に接着
性、耐熱性および加工性に優れる。
The present invention relates to an adhesive for printed wiring boards. In particular, the present invention relates to an adhesive composition suitable for an adhesive composition for a flexible printed board and a tape for mounting a semiconductor integrated circuit called a TAB (tape automated bonding) method (hereinafter, abbreviated as “TAB tape”). The adhesive for printed wiring boards of the present invention is particularly excellent in adhesiveness, heat resistance and workability.

【0002】[0002]

【従来の技術】フレキシブルプリント配線板は、一般に
耐熱性および電気絶縁性に優れたポリイミド等を素材と
する耐熱性有機絶縁フィルムに接着剤を介して銅箔等の
導体を接着して一体化させたものであるが、当該接着剤
としては高接着性の観点からエポキシ樹脂系接着剤が用
いられている。しかし最近では、配線密度や実装密度の
格段の増加に伴ない、配線個所や実装部品からの発熱等
に起因してエポキシ樹脂系接着剤の耐熱性や接着性につ
き一層の向上要求がある。また、TABテープは基本的
にはフレキシブルプリント配線板と同一のものであり、
材料構成や要求諸特性も基本的に共通するが、要求特性
レベルに応じて両者が使い分けられているのが現状であ
る。
2. Description of the Related Art In general, a flexible printed wiring board is formed by bonding a conductor such as a copper foil to a heat-resistant organic insulating film made of polyimide or the like having excellent heat resistance and electrical insulation properties via an adhesive. However, an epoxy resin adhesive is used as the adhesive from the viewpoint of high adhesiveness. However, recently, with the remarkable increase in wiring density and mounting density, there is a demand for further improvement in heat resistance and adhesiveness of epoxy resin-based adhesives due to heat generated from wiring locations and mounted components. The TAB tape is basically the same as a flexible printed wiring board,
Although the material composition and various required characteristics are basically common, both are used properly according to the required characteristic level at present.

【0003】また、エポキシ樹脂系接着剤を用いて異種
材料を接着すると、熱サイクルによって接着剤層に大き
な歪みが発生し、接合部が破壊されることがある。この
ような内部歪みを吸収し、内部応力の発生を防止せんと
して、接着剤にたわみ性を持たせる試みがなされいる。
例えば特開平10−335768号公報には、接着剤中
に合成ゴムなどを添加する方法が開示されているが、エ
ポキシ樹脂に合成ゴムを添加した当該接着剤は剥離強度
に優れるものの、耐熱性は満足しうるものではない。
[0003] Further, when dissimilar materials are bonded using an epoxy resin-based adhesive, a large distortion is generated in the adhesive layer due to thermal cycling, and the joint may be broken. Attempts have been made to make the adhesive flexible by absorbing such internal strain and preventing the generation of internal stress.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-335768 discloses a method of adding a synthetic rubber or the like to an adhesive. The adhesive obtained by adding a synthetic rubber to an epoxy resin has excellent peel strength, but has a high heat resistance. Not satisfactory.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、プリント配
線板用接着剤である従来のエポキシ樹脂系接着剤に比較
して、一層優れた耐熱性、接着性、加工性等を発揮しう
るプリント配線板用接着剤を提供することを目的とす
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a print which can exhibit more excellent heat resistance, adhesiveness, workability and the like as compared with a conventional epoxy resin adhesive which is an adhesive for printed wiring boards. An object of the present invention is to provide an adhesive for a wiring board.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は前記課題を解
決すべく、鋭意検討を重ねた結果、特定のエポキシ樹脂
を特定のメトキシシラン化合物で変性してなるメトキシ
基含有シラン変性エポキシ樹脂を必須構成成分とする樹
脂組成物を用いることにより、前記目的に合致したプリ
ント配線板用接着剤が得られることを見出し、本発明を
完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have obtained a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin obtained by modifying a specific epoxy resin with a specific methoxysilane compound. By using a resin composition as an essential component, it has been found that an adhesive for printed wiring boards meeting the above-mentioned object can be obtained, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明は、ビスフェノール型エ
ポキシ樹脂(1)およびメトキシシラン部分縮合物
(2)を脱アルコール反応させて得られるメトキシ基含
有シラン変性エポキシ樹脂(A)、合成ゴム(B)、エ
ポキシ樹脂用硬化剤(C)、ゾル−ゲル硬化促進剤
(D)ならびに溶剤(E)からなることを特徴とするプ
リント配線板用接着剤に係る。また本発明は、フレキシ
ブルプリント配線基板用接着剤、およびテープオートメ
ーテッドボンディングテープ用接着剤に係る。
That is, the present invention provides a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A), a synthetic rubber (B) obtained by subjecting a bisphenol-type epoxy resin (1) and a methoxysilane partial condensate (2) to a dealcoholization reaction. The present invention relates to an adhesive for printed wiring boards, comprising an epoxy resin curing agent (C), a sol-gel curing accelerator (D) and a solvent (E). The present invention also relates to an adhesive for a flexible printed wiring board and an adhesive for a tape automated bonding tape.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明で用いるメトキシ基含有シ
ラン変性エポキシ樹脂(A)は、上記の通り、ビスフェ
ノール型エポキシ樹脂(1)とメトキシシラン部分縮合
物(2)から構成される。当該ビスフェノール型エポキ
シ樹脂(1)は、ビスフェノール類とエピクロルヒドリ
ンまたはβ−メチルエピクロルヒドリン等のハロエポキ
シドとの反応により得られるものである。ビスフェノー
ル類としては、フェノールまたは2,6−ジハロフェノ
ールと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセト
ン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノ
ン等のアルデヒド類もしくはケトン類との反応物の他、
ジヒドロキシフェニルスルフィドの過酸による酸化、ハ
イドロキノン同士のエーテル化反応等により得られるも
のがあげられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As described above, a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) used in the present invention comprises a bisphenol-type epoxy resin (1) and a methoxysilane partial condensate (2). The bisphenol type epoxy resin (1) is obtained by reacting a bisphenol with a haloepoxide such as epichlorohydrin or β-methylepichlorohydrin. Examples of bisphenols include a reaction product of phenol or 2,6-dihalophenol with an aldehyde or ketone such as formaldehyde, acetaldehyde, acetone, acetophenone, cyclohexanone, and benzophenone;
Examples include those obtained by oxidation of dihydroxyphenyl sulfide with a peracid, etherification reaction between hydroquinones, and the like.

【0008】また、ビスフェノール型エポキシ樹脂
(1)は、メトキシシラン部分縮合物(2)と脱アルコ
ール反応しうる水酸基を有するものである。当該水酸基
は、ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)を構成するす
べての分子に含有されている必要はなく、ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂(1)として、水酸基を有していれば
よい。ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)のエポキシ
当量は、ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)の構造に
より異なるため、用途に応じて適当なエポキシ当量のも
のを適宜に選択して使用できるが、350以上1000
g/eq以下であるものが好適である。350g/eq
未満では、得られる接着層の高温下での密着性が低下す
る傾向にあり、また1000g/eqを超えるとメトキ
シ基含有シラン変性エポキシ樹脂の保存安定性が低下す
る傾向がある。これらビスフェノール型エポキシ樹脂
(1)の中でも、特にビスフェノールA型エポキシ樹脂
が、最も汎用され低価格であり好ましい。
Further, the bisphenol type epoxy resin (1) has a hydroxyl group capable of undergoing a dealcoholization reaction with the methoxysilane partial condensate (2). The hydroxyl group does not need to be contained in all molecules constituting the bisphenol-type epoxy resin (1), and it is sufficient that the bisphenol-type epoxy resin (1) has a hydroxyl group. Since the epoxy equivalent of the bisphenol-type epoxy resin (1) varies depending on the structure of the bisphenol-type epoxy resin (1), an epoxy equivalent having an appropriate epoxy equivalent can be appropriately selected and used depending on the application.
Those having g / eq or less are preferable. 350g / eq
If it is less than 1, the adhesiveness of the obtained adhesive layer at high temperatures tends to decrease, and if it exceeds 1000 g / eq, the storage stability of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin tends to decrease. Among these bisphenol-type epoxy resins (1), bisphenol A-type epoxy resins are particularly most commonly used and are inexpensive and preferable.

【0009】また、メトキシ含有シラン変性エポキシ樹
脂(A)を構成するメトキシシラン部分縮合物(2)と
しては、一般的にゾル−ゲル法に用いられているメトキ
シシランを部分的に加水分解、縮合したオリゴマーを使
用できる。たとえば、一般式:RSi(OCH3
4−p(式中、pは0または1の整数を示し、Rは炭素
数6以下の低級アルキル基又はフェニル基を示す。)で
表される化合物の部分縮合物等を例示できる。なお、p
が2〜4である場合は、3次元架橋が起こらなくなるた
め、最終的に得られるプリント配線板用接着剤に所望の
高耐熱性を付与し得ない。
As the methoxysilane partial condensate (2) constituting the methoxy-containing silane-modified epoxy resin (A), methoxysilane generally used in the sol-gel method is partially hydrolyzed and condensed. Oligomers can be used. For example, the general formula: R p Si (OCH 3 )
4-p (where p represents an integer of 0 or 1 and R represents a lower alkyl group or a phenyl group having 6 or less carbon atoms), and a partial condensate of the compound represented by 4-p and the like can be exemplified. Note that p
Is 2 to 4, three-dimensional crosslinking does not occur, and thus the desired high heat resistance cannot be imparted to the finally obtained adhesive for printed wiring boards.

【0010】前記メトキシシラン部分縮合物(2)の具
体例としては、テトラメトキシシランの部分縮合物;メ
チルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
n−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン等のトリメトキシシラン類の部分縮合
物があげられる。これらの中でも、プリント基板用接着
剤としてはテトラメトキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン等の部分縮合物等が、ゾル−ゲル硬化速度が大き
いため好ましい。
Specific examples of the methoxysilane partial condensate (2) include partial condensates of tetramethoxysilane; methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane,
and partial condensates of trimethoxysilanes such as n-propyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and phenyltrimethoxysilane. Among these, a partial condensate such as tetramethoxysilane or methyltrimethoxysilane is preferable as the adhesive for printed circuit boards because of its high sol-gel curing rate.

【0011】メトキシシラン部分縮合物(2)は、上記
物質の中から1種または2種以上を適宜選択すればよい
が、1分子当たりのSiの平均個数は3〜12であるこ
とが好ましい。Siの平均個数が3未満であると、ビス
フェノール型エポキシ樹脂(1)との脱アルコール反応
の際、副生アルコールと一緒に系外に流出する有毒なメ
トキシシラン類の量が増えるため好ましくない。また1
2を超えると、ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)と
の反応性が落ち、目的とするメトキシ基含有シラン変性
エポキシ樹脂(A)を得るのに長時間を要するため好ま
しくない。
As the methoxysilane partial condensate (2), one or more of the above substances may be appropriately selected, but the average number of Si per molecule is preferably 3 to 12. If the average number of Si is less than 3, the amount of toxic methoxysilanes flowing out of the system together with the by-product alcohol during the dealcoholization reaction with the bisphenol-type epoxy resin (1) is not preferred. Also one
If it exceeds 2, the reactivity with the bisphenol-type epoxy resin (1) decreases, and it takes a long time to obtain the desired methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A).

【0012】特に、一般式:In particular, the general formula:

【0013】[0013]

【化1】 Embedded image

【0014】(式中、Meはメチル基を示し、nの平均
繰り返し単位数は2〜7である。)で表されるテトラメ
トキシシランの部分縮合物が好ましい。当該部分縮合物
は、脱メタノール反応において、副生メタノールととも
に系外流出し得る有毒なテトラメトキシシランがほとん
ど存在せず、反応操作や安全衛生の点からも好ましい。
(In the formula, Me represents a methyl group, and the average number of repeating units of n is 2 to 7.) A partial condensate of tetramethoxysilane represented by the following formula: The partial condensate has almost no toxic tetramethoxysilane that can flow out of the system together with the by-product methanol in the demethanol reaction, and is preferable from the viewpoint of reaction operation and safety and health.

【0015】本発明で用いるメトキシ基含有シラン変性
エポキシ樹脂(A)は、前記ビスフェノール型エポキシ
樹脂(1)と、メトキシシラン部分縮合物(2)との脱
アルコール反応により得られる。ビスフェノール型エポ
キシ樹脂(1)とメトキシシラン部分縮合物(2)の使
用割合は、得られるメトキシ基含有シラン変性エポキシ
樹脂(A)中に、メトキシ基が残存するような割合であ
れば特に制限されないが、メトキシシラン部分縮合物
(2)のシリカ換算重量/ビスフェノール型エポキシ樹
脂(1)の重量(重量比)が0.25〜1.2の範囲で
あるのが好ましい。ここでメトキシシラン部分縮合物
(2)のシリカ換算重量とは、メトキシシラン部分縮合
物(2)がゾル−ゲル反応しシリカに硬化した時の重量
である。
The methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) used in the present invention is obtained by a dealcoholation reaction between the bisphenol type epoxy resin (1) and the methoxysilane partial condensate (2). The usage ratio of the bisphenol type epoxy resin (1) and the methoxysilane partial condensate (2) is not particularly limited as long as the methoxy group remains in the obtained methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A). However, it is preferable that the weight (weight ratio) of the methoxysilane partial condensate (2) in terms of silica / the weight of the bisphenol-type epoxy resin (1) is in the range of 0.25 to 1.2. Here, the silica equivalent weight of the methoxysilane partial condensate (2) is the weight when the methoxysilane partial condensate (2) is cured to silica by a sol-gel reaction.

【0016】かかるメトキシ基含有シラン変性エポキシ
樹脂(A)の製造は、例えば、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂(1)とメトキシシラン部分縮合物(2)を仕込
み、加熱して副生するアルコールを留去または冷却管で
還流させて系内に戻すことにより行なわれる。反応温度
は50〜130℃程度、好ましくは70〜110℃であ
り、全反応時間は1〜15時間程度である。この反応
は、メトキシシラン部分縮合物(2)自体の重縮合反応
を防止するため、実質的に無水条件下で行うのが好まし
い。
In the production of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A), for example, a bisphenol type epoxy resin (1) and a methoxysilane partial condensate (2) are charged and heated to distill off by-produced alcohol. It is carried out by refluxing in a cooling pipe and returning the system. The reaction temperature is about 50 to 130 ° C, preferably 70 to 110 ° C, and the total reaction time is about 1 to 15 hours. This reaction is preferably performed under substantially anhydrous conditions in order to prevent a polycondensation reaction of the methoxysilane partial condensate (2) itself.

【0017】また、上記の脱アルコール反応に際して
は、反応促進のために従来公知の触媒の内、エポキシ環
を開環しないものを使用することができる。該触媒とし
ては、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ル
ビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリ
ウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、
コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、砒素、
セリウム、硼素、カドミウム、マンガンのような金属;
これら金属の酸化物、有機酸塩、ハロゲン化物、メトキ
シド等があげられる。これらの中でも、特に有機錫、有
機酸錫が好ましく、具体的には、ジブチル錫ジラウレー
ト、オクチル酸錫等が有効である。
In the above-mentioned dealcoholization reaction, among the conventionally known catalysts for promoting the reaction, those which do not open the epoxy ring can be used. Examples of the catalyst include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium, strontium, zinc, aluminum, titanium,
Cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic,
Metals such as cerium, boron, cadmium, manganese;
Examples thereof include oxides, organic acid salts, halides, and methoxides of these metals. Among them, organic tin and organic acid tin are particularly preferable, and specifically, dibutyltin dilaurate, tin octylate and the like are effective.

【0018】また、上記反応は溶剤中でも、無溶剤でも
行うこともできる。溶剤としては、ビスフェノール型エ
ポキシ樹脂(1)およびメトキシシラン部分縮合物
(2)を溶解し、且つこれらに対し非活性である有機溶
剤であれば特に制限はない。このような有機溶剤として
は、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系、トルエン、キシ
レン等の芳香族系、セロソルブアセテート、メチルセロ
ソルブアセテート等のセロソルブ系、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル系、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミドなどの非プロ
トン性極性溶媒があげられる。これらの中でも、メチル
エチルケトンなどの常圧での沸点が70〜110℃のも
のが以下の理由により特に好ましい。すなわち、当該プ
リント配線板用接着剤を使用する際、ポリイミドなどの
耐熱有機絶縁フィルム上にBステージ層(本接着剤の半
硬化層)を形成させ、銅箔等の導体をホットプレスした
後、更に加熱してCステージ層(本接着剤の完全硬化
層)を形成させる製造過程を経るが、導体を接着させた
後に加熱する際、多量の揮発分(溶剤など)が発生する
と導体と接着剤層との間に気泡が発生し、導体表面に凹
凸が出来るなどの問題が起こるためである。そのため、
前記Bステージ層を作製する場合は、溶剤などの揮発分
の残存量をできるだけ低減させ、Cステージ層の硬化残
分中の揮発分残存率が5重量%以下になるよう調整する
のがよい。沸点が110℃を超える溶剤を使用した場合
には、溶剤残存率を低下させるためにBステージ層の形
成温度を過度に上昇させる必要があり、その結果、引き
続くCステージ層と導体との層間密着性が不十分となる
ため好ましくない。また使用溶剤の沸点が70℃未満で
ある場合は、ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)とメ
トキシシラン部分縮合物(2)との脱アルコール反応に
長時間を要するため好ましくない。
The above reaction can be carried out with or without a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is an organic solvent that dissolves the bisphenol-type epoxy resin (1) and the methoxysilane partial condensate (2) and is inactive against these. Examples of such an organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and isophorone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; aromatics such as toluene and xylene; cellosolve acetate; methyl cellosolve acetate; , Alcohols such as isopropyl alcohol and n-butyl alcohol, and aprotic polar solvents such as dimethylformamide. Among them, those having a boiling point of 70 to 110 ° C. at normal pressure, such as methyl ethyl ketone, are particularly preferable for the following reasons. That is, when using the adhesive for a printed wiring board, a B-stage layer (a semi-cured layer of the present adhesive) is formed on a heat-resistant organic insulating film such as polyimide, and a conductor such as a copper foil is hot-pressed. It goes through a manufacturing process of forming a C-stage layer (completely cured layer of the present adhesive) by further heating. However, when a large amount of volatile matter (solvent, etc.) is generated during heating after bonding the conductor, the conductor and the adhesive This is because air bubbles are generated between the conductive layer and the layer, causing problems such as unevenness on the conductor surface. for that reason,
When the B-stage layer is formed, it is preferable to reduce the residual amount of volatile components such as a solvent as much as possible and to adjust the residual ratio of volatile components in the cured residue of the C-stage layer to 5% by weight or less. When a solvent having a boiling point higher than 110 ° C. is used, it is necessary to excessively raise the formation temperature of the B-stage layer in order to lower the residual ratio of the solvent. It is not preferable because the property becomes insufficient. When the boiling point of the solvent used is lower than 70 ° C., it is not preferable because the alcohol removal reaction between the bisphenol-type epoxy resin (1) and the methoxysilane partial condensate (2) requires a long time.

【0019】こうして得られたメトキシ基含有シラン変
性エポキシ樹脂(A)は、ビスフェノール型エポキシ樹
脂(1)中の水酸基がシラン変性されてなるエポキシ樹
脂を主成分とするが、当該メトキシ基含有シラン変性エ
ポキシ樹脂(A)中には未反応のビスフェノール型エポ
キシ樹脂(1)や未反応のメトキシシラン部分縮合物
(2)が含有されていてもよい。
The methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) thus obtained contains, as a main component, an epoxy resin in which the hydroxyl group in the bisphenol type epoxy resin (1) is silane-modified. The epoxy resin (A) may contain an unreacted bisphenol-type epoxy resin (1) or an unreacted methoxysilane partial condensate (2).

【0020】メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂
(A)は、その分子中にメトキシシラン部分縮合物
(2)に由来するメトキシシリル部位とビスフェノール
型エポキシ樹脂に由来するエポキシ基を有している。こ
のメトキシシリル部位は、溶剤の蒸発や加熱処理によ
り、又は水分(湿気)との反応により、相互に結合した
硬化物を形成する。かかる硬化物は、ゲル化した微細な
シリカ部位(シロキサン結合の高次網目構造)を有する
ものである。従って、メトキシ基含有シラン変性エポキ
シ樹脂(A)中に含まれるメトキシ基は、用いたメトキ
シシラン部分縮合物(2)のメトキシル基の60モル%
以上を保持しているのが好ましい。またエポキシ基はエ
ポキシ樹脂硬化剤(C)と反応するものである。
The methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) has in its molecule a methoxysilyl moiety derived from a methoxysilane partial condensate (2) and an epoxy group derived from a bisphenol-type epoxy resin. The methoxysilyl moiety forms a mutually bonded cured product by evaporation or heat treatment of the solvent or by reaction with water (moisture). Such a cured product has a gelled fine silica site (high-order network structure of siloxane bonds). Therefore, the methoxy group contained in the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) accounts for 60 mol% of the methoxyl group of the methoxysilane partial condensate (2) used.
It is preferable to hold the above. The epoxy group reacts with the epoxy resin curing agent (C).

【0021】本発明に用いる合成ゴム(B)としては、
得られるプリント配線板用接着剤に適度のたわみ性を付
与しうるものであればよい。例えば、ポリイソブテン、
ブタジエンゴム、スチレン―ブタジエンゴム、ニトリル
ゴム、クロロプレンゴム等があげられるが、接着剤硬化
層と導体との層間密着性や接着剤硬化層の電気特性を考
慮すると、ニトリルゴム(以下、NBRとする)や分子
末端にカルボキシル基含有するNBRが好ましい。合成
ゴム(B)の配合割合は特に限定はされないが、接着剤
硬化層と導体との層間密着性の点から、メトキシ基含有
シラン変性エポキシ樹脂(A)の硬化残分100重量部
に対して30〜100重量部であるのが好ましい。当該
配合割合が30重量部未満であれば、導体に対する硬化
層の密着性が不十分となり、また100重量部を超える
と耐熱性が低下する傾向がある。なお、メトキシ基含有
シラン変性エポキシ樹脂(A)の硬化残分は次のように
して求められる。すなわち、メトキシ基含有シラン変性
エポキシ樹脂(A)と当量のトリエチレンテトラミンを
混合し、当該混合液をアルミカップ(50mm径)に約
1gを秤り取り(計量)、これを100℃で1時間、
続いて200℃で2時間乾燥、硬化させて再計量(計量
)し、下式から算出する。 硬化残分(%)=(計量−トリエチレンテトラミン重
量)×100/計量
The synthetic rubber (B) used in the present invention includes:
What is necessary is just to be able to give a moderate flexibility to the obtained adhesive for printed wiring boards. For example, polyisobutene,
Examples thereof include butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, and chloroprene rubber. Considering the interlayer adhesion between the cured adhesive layer and the conductor and the electrical characteristics of the cured adhesive layer, nitrile rubber (hereinafter referred to as NBR) is used. ) Or NBR containing a carboxyl group at the molecular end. The blending ratio of the synthetic rubber (B) is not particularly limited, but from the viewpoint of interlayer adhesion between the cured adhesive layer and the conductor, based on 100 parts by weight of the cured residue of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A). It is preferably 30 to 100 parts by weight. If the mixing ratio is less than 30 parts by weight, the adhesion of the cured layer to the conductor will be insufficient, and if it exceeds 100 parts by weight, the heat resistance tends to decrease. The cured residue of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) is determined as follows. That is, a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) and an equivalent amount of triethylenetetramine are mixed, and about 1 g of the mixed solution is weighed and measured in an aluminum cup (50 mm diameter), and this is weighed at 100 ° C. for 1 hour. ,
Subsequently, it is dried and cured at 200 ° C. for 2 hours, reweighed (weighed), and calculated from the following equation. Curing residue (%) = (weight-weight of triethylenetetramine) x 100 / weight

【0022】本発明に用いるエポキシ樹脂用硬化剤
(C)としては特に限定されず、公知のエポキシ樹脂用
硬化剤であるフェノール樹脂系硬化剤、ポリアミン系硬
化剤、ポリカルボン酸系硬化剤等を使用することができ
る。具体的には、フェノール樹脂系硬化剤としては、フ
ェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、
ビスフェノールノボラック樹脂、ポリp−ビニルフェノ
ール等があげられ、ポリアミン系硬化剤としてはジエチ
レントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチ
レンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン
(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジア
ミン、m−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミ
ン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N
-アミノエチルピペラジン、4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、4,4′−ジアミノ−3,3′―ジエチル
ジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等が
あげられ、ポリカルボン酸系硬化剤としては、無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ
無水フタル酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ
無水フタル酸、メチル−3,6−エンドメチレンテトラ
ヒドロ無水フタル酸があげられる。
The epoxy resin curing agent (C) used in the present invention is not particularly limited, and may be a known epoxy resin curing agent such as a phenol resin curing agent, a polyamine curing agent, or a polycarboxylic acid curing agent. Can be used. Specifically, as the phenolic resin-based curing agent, phenol novolak resin, cresol novolak resin,
Bisphenol novolak resin, poly p-vinyl phenol and the like are mentioned, and polyamine-based curing agents are diethylene triamine, triethylene tetramine, tetraethylene pentamine, dicyandiamide, polyamidoamine (polyamide resin), ketimine compound, isophorone diamine, m-xylene diamine , M-phenylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, N
-Aminoethylpiperazine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, etc., and polycarboxylic acid-based curing agents include phthalic anhydride, tetrahydrogen Examples include phthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, hexachloroendmethylenetetrahydrophthalic anhydride, and methyl-3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride.

【0023】本発明のプリント配線用接着剤は、前記の
通り、BステージおよびCステージを経て、目的とする
プリント配線板とされる。Bステージでは、プリント配
線板用接着剤の揮発分(メトキシ基含有シラン変性エポ
キシ樹脂(A)中の製造用溶剤、当該樹脂(A)のメト
キシシリル部位のゾル−ゲル硬化反応により副生するメ
タノール、プリント配線板用接着剤の配合成分である溶
剤(E))の残存率を低減させることにより、引き続く
Cステージでの気泡発生を防ぐ必要がある。しかしなが
ら、当該Bステージでは、引き続いて得られるCステー
ジ層の導体に対する層間密着性も考慮する必要がある。
すなわち、Bステージの接着剤層が導体と密着させる温
度で十分な表面タックを発現しうるよう、エポキシを残
存させておく必要があり、そのためBステージにおいて
は当該樹脂(A)のエポキシ基との硬化が進行しない潜
在性硬化剤を用いるのが好ましい。このような潜在性硬
化剤としては、フェノール樹脂系硬化剤が最適である。
As described above, the adhesive for printed wiring of the present invention passes through the B-stage and the C-stage to form a target printed wiring board. In the B stage, the volatile components of the adhesive for printed wiring boards (solvent for production in the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A), methanol produced by the sol-gel curing reaction of the methoxysilyl site of the resin (A)) It is necessary to prevent the generation of bubbles in the subsequent C stage by reducing the residual ratio of the solvent (E), which is a component of the adhesive for printed wiring boards. However, in the B stage, it is necessary to consider the interlayer adhesion of the subsequently obtained C stage layer to the conductor.
That is, it is necessary to leave the epoxy so that the adhesive layer of the B stage can develop a sufficient surface tack at a temperature at which the adhesive layer is brought into close contact with the conductor. It is preferable to use a latent curing agent that does not proceed with curing. As such a latent curing agent, a phenol resin-based curing agent is optimal.

【0024】上記のBステージやCステージでの設計観
点から、メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)
とエポキシ樹脂用硬化剤(C)の配合割合は、メトキシ
基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)に由来するエポキ
シ基1当量に対してエポキシ樹脂用硬化剤(C)中の活
性水素を有する官能基が0.5〜1.2当量の範囲であ
るのが好ましい。
From the viewpoint of the B-stage and C-stage design, the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A)
The mixing ratio of the epoxy resin-based curing agent (C) to the epoxy group-derived silane-modified epoxy resin (A) is equivalent to one equivalent of the epoxy group derived from the functional group having active hydrogen in the epoxy resin-based curing agent (C). Is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents.

【0025】前記のように、Cステージでの接着剤硬化
層の気泡発生を避けるため、Bステージでの揮発分残存
率の調整が重要となり、本発明の組成物においてゾル−
ゲル硬化促進剤(D)が必須使用される。ゾル−ゲル硬
化促進剤(D)としては、例えばリチウム、ナトリウ
ム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、
カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミ
ニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、ア
ンチモン、砒素、セリウム、硼素、カドミウム、マンガ
ンのような金属;これら金属の酸化物、有機酸塩、ハロ
ゲン化物、メトキシド等があげられる。これらの中で
も、特に有機錫、有機酸錫が好ましく、具体的には、ジ
ブチル錫ジラウレート、オクチル酸錫等が有効である。
当該ゾル−ゲル硬化促進剤(D)の使用量は、プリント
基板用接着剤の硬化残分に対して0.1〜5.0重量%
であるのが好ましい。0.1%未満であれば、Bステー
ジでのゾル−ゲル硬化反応が完了せず、5%を超えると
接着剤組成物に増粘が見られ、安定性が低下する傾向が
ある。
As described above, in order to avoid the formation of bubbles in the cured adhesive layer at the C stage, it is important to adjust the residual ratio of volatile components at the B stage.
A gel hardening accelerator (D) is indispensable. Examples of the sol-gel curing accelerator (D) include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium,
Metals such as calcium, barium, strontium, zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, boron, cadmium, manganese; oxides, organic acid salts, halides, methoxides of these metals And the like. Among them, organic tin and organic acid tin are particularly preferable, and specifically, dibutyltin dilaurate, tin octylate and the like are effective.
The amount of the sol-gel curing accelerator (D) used is 0.1 to 5.0% by weight based on the cured residue of the adhesive for printed circuit boards.
It is preferred that If it is less than 0.1%, the sol-gel curing reaction in the B stage is not completed, and if it exceeds 5%, the adhesive composition tends to be thickened and the stability tends to be reduced.

【0026】本発明に用いる溶剤(E)としては、例え
ばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル系、トルエン、キシレン等の芳
香族系、セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ系、テトラヒドロフラン、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル等のエーテル系、イソ
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール等のアルコ
ール類、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性
溶媒があげられる。アルコキシ基含有シラン変性エポキ
シ樹脂(A)の製造用溶剤を選定するのと同じ理由で、
メチルエチルケトンが最も好ましい。溶剤(E)の配合
割合は特に限定されず、プリント配線板用接着剤の塗布
方法に応じて適宜決定すればよい。
Examples of the solvent (E) used in the present invention include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and isophorone; ethyl acetate;
Esters such as butyl acetate, aromatics such as toluene and xylene, cellosolves such as cellosolve acetate and methyl cellosolve acetate, ethers such as tetrahydrofuran and diethylene glycol dimethyl ether, alcohols such as isopropyl alcohol and n-butyl alcohol, dimethylformamide And other aprotic polar solvents. For the same reason as selecting the solvent for the production of the alkoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A),
Methyl ethyl ketone is most preferred. The mixing ratio of the solvent (E) is not particularly limited, and may be appropriately determined according to the method of applying the adhesive for a printed wiring board.

【0027】本発明のプリント配線板用接着剤は、上記
の各種必須構成成分、すなわちメトキシ基含有シラン変
性エポキシ樹脂(A)、合成ゴム(B)、エポキシ樹脂
用硬化剤(C)、ゾル−ゲル硬化促進剤(D)ならびに
溶剤(E)を配合して調製される。
The adhesive for printed wiring boards of the present invention comprises the above-mentioned various essential components, ie, methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A), synthetic rubber (B), epoxy resin curing agent (C), sol- It is prepared by blending a gel hardening accelerator (D) and a solvent (E).

【0028】プリント配線板用接着剤の組成は、その用
途に応じて適宜に調整できるが、通常は、当該接着剤か
ら得られる硬化物中のシリカ換算重量が3〜40重量%
になるよう配合するのが好ましい。ここでシリカ換算重
量とは、プリント配線板用接着剤中に含まれるメトキシ
基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)に用いたメトキシ
シラン部分縮合物(2)をゾル−ゲル硬化反応せしめて
得られるシリカの重量をいう。
The composition of the adhesive for a printed wiring board can be appropriately adjusted according to its use. Usually, the weight of the cured product obtained from the adhesive in terms of silica is 3 to 40% by weight.
It is preferable to mix them. Here, the silica equivalent weight means silica obtained by subjecting methoxysilane partial condensate (2) used in methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) contained in the adhesive for printed wiring boards to a sol-gel curing reaction. Means the weight of

【0029】また、前記エポキシ樹脂組成物には、エポ
キシ樹脂と硬化剤との硬化反応を促進するための硬化促
進剤(前記ゾル−ゲル硬化促進剤(D)とは異なる)を
含有させることができる。例えば、1,8−ジアザ−ビ
シクロ[5.4.0]ウンデセン−7、トリエチレンジ
アミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミ
ン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミ
ノメチル)フェノールなどの三級アミン類;2−メチル
イミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダ
ゾールなどのイミダゾール類;トリブチルホスフィン、
メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの
有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウム・テト
ラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾ
ール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン
・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン
塩などをあげることができる。当該硬化促進剤はエポキ
シ樹脂の100重量部に対し、0.1〜5重量部の割合
で使用するのが好ましい。
The epoxy resin composition may contain a curing accelerator (different from the sol-gel curing accelerator (D)) for accelerating the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent. it can. For example, tertiary amines such as 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris (dimethylaminomethyl) phenol; Imidazoles such as -methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole; tributylphosphine;
Organic phosphines such as methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, and phenylphosphine; tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, N-methylmorpholine tetraphenylborate and the like And tetraphenylboron salts. The curing accelerator is preferably used in a ratio of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

【0030】本発明のプリント配線板用接着剤には、本
発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、充填
剤、離型剤、表面処理剤、難燃剤、粘度調節剤、可塑
剤、抗菌剤、防黴剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、
安定剤、カップリング剤等を配合してもよい。
The adhesive for a printed wiring board of the present invention may contain, if necessary, a filler, a release agent, a surface treatment agent, a flame retardant, a viscosity modifier, a plasticizer as long as the effects of the present invention are not impaired. , Antibacterial agent, fungicide, leveling agent, defoamer, coloring agent,
You may mix | blend a stabilizer, a coupling agent, etc.

【0031】当該プリント配線基板用接着剤の使用方法
としては、導体と耐熱絶縁フィルムとを接着する方法で
あれば特に限定されないが、フレキシブルプリント配線
基板やTABテープ用接着剤として使用する場合には、
例えば特開平6−338681号公報に記載された方法
を好ましく適用できる。フレキシブルプリント配線基板
に使用される耐熱性有機絶縁フィルムとしては、ポリイ
ミド、ポリエーテルイミド、芳香族ポリアミドなどから
なるいわゆる耐熱性フィルム、ポリエチレンテレフタレ
ートまたはフレキシブルエポキシ/ガラスクロスなどか
らなる複合材料などが好適である。導体としては、銅が
一般的に用いられる。
The method of using the adhesive for a printed wiring board is not particularly limited as long as it is a method of bonding a conductor and a heat-resistant insulating film. However, when the adhesive is used as an adhesive for a flexible printed wiring board or a TAB tape. ,
For example, the method described in JP-A-6-338681 can be preferably applied. As the heat-resistant organic insulating film used for the flexible printed wiring board, a so-called heat-resistant film made of polyimide, polyetherimide, aromatic polyamide, or the like, or a composite material made of polyethylene terephthalate, flexible epoxy / glass cloth, or the like is preferable. is there. Copper is generally used as the conductor.

【0032】本発明のプリント配線板用接着剤をフレキ
シブルプリント配線板へ適用する方法につき説明する。
耐熱性有機絶縁フィルムに本発明の接着剤を塗布し、B
ステージ硬化させるが、得られるBステージ層の柔軟性
を考慮して、当該硬化層の膜厚が10〜35μm程度に
なるよう塗布量を調整するのがよい。また、Bステージ
層の作製条件は、通常90〜130℃、1〜30分程度
の範囲であればよい。90℃未満では溶剤(E)が残存
しやすいため、またはアルコキシ基含有シラン変性エポ
キシ樹脂のゾル−ゲル硬化反応が不充分なために、Cス
テージで接着剤硬化層が発泡する不利がある。130℃
を超えると、アルコキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂
(A)のエポキシ基とエポキシ樹脂硬化剤(C)との反
応が過度に進行するため、導体との層間密着性が不十分
となる。ついで、得られたBステージ層上に銅箔を60
〜140℃でラミネートして張り合わせ、150〜21
0℃程度に加熱して、接着剤層をCステージ硬化させ
る。
A method for applying the printed wiring board adhesive of the present invention to a flexible printed wiring board will be described.
Applying the adhesive of the present invention to a heat-resistant organic insulating film,
Although the stage is cured, it is preferable to adjust the application amount so that the thickness of the cured layer is about 10 to 35 μm in consideration of the flexibility of the obtained B stage layer. In addition, the preparation conditions of the B-stage layer may be in the range of usually 90 to 130 ° C. and about 1 to 30 minutes. If the temperature is lower than 90 ° C., the solvent (E) tends to remain, or the sol-gel curing reaction of the alkoxy group-containing silane-modified epoxy resin is insufficient. 130 ° C
If it exceeds 300, the reaction between the epoxy group of the alkoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) and the epoxy resin curing agent (C) proceeds excessively, and the interlayer adhesion to the conductor becomes insufficient. Then, copper foil was placed on the obtained B-stage layer for 60 minutes.
Laminated at ~ 140 ° C and laminated, 150 ~ 21
By heating to about 0 ° C., the adhesive layer is C-stage cured.

【0033】本発明の接着剤をTAB用途、すなわちT
AB用接着剤付きテープへ適用する方法につき説明す
る。前記フレキシブルプリント配線基板の作成方法と同
様にして、膜厚が10〜15μm程度になるようにBス
テージ層を作製し、必要に応じて離型性保護フィルムを
張り合わせることにより、TAB用接着剤付きテープが
得られる。当該保護フィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどが好
ましく使用される。また、上記保護フィルム上にBステ
ージ層を形成させ、ついでこれに耐熱性有機絶縁フィル
ムを張り合わせることによってもTAB用接着剤付きテ
ープを作製できる。こうして得られるTAB用接着剤付
きテープは、使用時に保護フィルムを取り去り、銅箔に
ラミネートして使用される。
The adhesive of the present invention is used for TAB,
A method for applying the adhesive tape for AB will be described. In the same manner as in the method of preparing the flexible printed wiring board, a B-stage layer is formed so that the film thickness is about 10 to 15 μm, and a release-protective film is attached to the B-stage layer as needed, thereby forming an adhesive for TAB. The resulting tape is obtained. As the protective film, polyethylene,
Polypropylene, polyethylene terephthalate and the like are preferably used. Alternatively, a tape with an adhesive for TAB can be produced by forming a B-stage layer on the protective film and then laminating a heat-resistant organic insulating film to the B-stage layer. The TAB adhesive tape obtained in this manner is used by removing the protective film at the time of use and laminating the tape on a copper foil.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のプリント配線板用接着剤は、接
着性、耐熱性、加工性等に優れるものであり、特に耐熱
性有機絶縁フィルムと導体との接着用に好適である。
The adhesive for printed wiring boards of the present invention has excellent adhesiveness, heat resistance, workability and the like, and is particularly suitable for bonding a heat-resistant organic insulating film to a conductor.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例および比較例をあげて本発明を
具体的に説明する。なお、各例中、%は特記なし限り重
量基準である。
The present invention will be described below in detail with reference to examples and comparative examples. In each case,% is based on weight unless otherwise specified.

【0036】製造例1(メトキシ基含有シラン変性エポ
キシ樹脂の製造) 攪拌機、冷却管、温度計、窒素吹き込み栓を備えた反応
装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成
(株)製、商品名「エポトートYD−011」、エポキ
シ当量475g/eq)336.0gおよびメチルエチ
ルケトン268.8gを加え、70℃で溶解した。更に
テトラメトキシシラン部分縮合物(多摩化学(株)製、
商品名「メチルシリケート51」)360.4gと、触
媒としてジブチル錫ジラウレート0.3gを加え、80
℃で6時間還流反応させた後、50℃まで冷却し、メチ
ルアルコール33.6gを加え、メトキシ基含有シラン
変性エポキシ樹脂溶液を得た。なお、仕込み時の(メト
キシシラン部分縮合物(2)のシリカ換算重量/エポキ
シ樹脂(1)の重量)=0.55であり、(メトキシシ
ラン部分縮合物(2)のメトキシ基の当量/ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂(1)の水酸基の当量)=10.0
である。本樹脂溶液のH-NMR(CDCl3溶液)測
定結果から、エポキシ環のメチンピーク(3.3ppm
付近)が100%保持されていること、及びエポキシ樹
脂中の水酸基のピーク(3.85ppm付近)が約50
%減少していることを確認できた。得られたメトキシ基
含有シラン変性エポキシ樹脂溶液の硬化残分は50.8
%、エポキシ当量は1400g/eq、硬化残分中に含
まれるシリカ量の割合は36%であった。
Production Example 1 (Production of methoxy group-containing silane-modified epoxy resin) Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name) was installed in a reactor equipped with a stirrer, a cooling pipe, a thermometer, and a nitrogen blowing plug. “Epotote YD-011”, 336.0 g of epoxy equivalent (475 g / eq) and 268.8 g of methyl ethyl ketone were added and dissolved at 70 ° C. Furthermore, tetramethoxysilane partial condensate (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.
360.4 g of trade name “methyl silicate 51”) and 0.3 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst were added, and 80
After a reflux reaction at 6 ° C. for 6 hours, the mixture was cooled to 50 ° C., and 33.6 g of methyl alcohol was added to obtain a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution. In addition, at the time of preparation, (weight in terms of silica of methoxysilane partial condensate (2) / weight of epoxy resin (1)) = 0.55, and (methoxy group partial condensate (2) equivalent of methoxy group / bisphenol) (Equivalent of hydroxyl group of epoxy resin of epoxy resin (1)) = 10.0
It is. From the 1 H-NMR (CDCl 3 solution) measurement results of the resin solution, the methine peak of the epoxy ring (3.3 ppm)
100%) and the peak of hydroxyl groups in the epoxy resin (around 3.85 ppm) was about 50%.
It was confirmed that the percentage decreased. The cured residue of the obtained methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution was 50.8.
%, The epoxy equivalent was 1,400 g / eq, and the ratio of the amount of silica contained in the cured residue was 36%.

【0037】製造例2(メトキシ基含有シラン変性エポ
キシ樹脂の製造) 製造例1と同様の反応装置に、エポトートYD−011
を332.0gおよびメチルエチルケトン400.0g
を加え、70℃で溶解した。更にメチルトリメトキシシ
ラン部分縮合物(多摩化学(株)製、商品名「MTMS
−A」)を251.0gおよびジブチル錫ジラウレート
1.0gを加え、80℃で6時間還流反応させることに
より、メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂溶液を得
た。なお、仕込み時の(メトキシシラン部分縮合物
(2)のシリカ換算重量/ビスフェノール型エポキシ樹
脂(1)の重量)=0.51、(メトキシシラン部分縮
合物(2)のメトキシ基の当量/ビスフェノール型エポ
キシ樹脂(1)の水酸基の当量)=5.2である。本樹
脂溶液のH-NMR(CDCl3溶液)測定結果から、
エポキシ環のメチンピーク(3.3ppm付近)が10
0%保持されていること、及びエポキシ樹脂中の水酸基
のピーク(3.85ppm付近)が消失していることが
確認できた。得られたメトキシ基含有シラン変性エポキ
シ樹脂溶液の硬化残分は49.9%、エポキシ当量は1
400g/eq、硬化残分中に含まれるシリカ量の割合
は35%であった。
Production Example 2 (Production of methoxy group-containing silane-modified epoxy resin) Epotote YD-011 was placed in the same reactor as in Production Example 1.
332.0 g and methyl ethyl ketone 400.0 g
Was added and dissolved at 70 ° C. Furthermore, methyltrimethoxysilane partial condensate (trade name “MTMS” manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.)
-A ") and 1.0 g of dibutyltin dilaurate were added, and refluxed at 80 ° C for 6 hours to obtain a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution. Incidentally, (weight in terms of silica of methoxysilane partial condensate (2) / weight of bisphenol-type epoxy resin (1)) at the time of preparation = 0.51, (equivalent of methoxy group of methoxysilane partial condensate (2) / bisphenol) (Equivalent of the hydroxyl group of the epoxy resin of the type (1)) = 5.2. From the 1 H-NMR (CDCl 3 solution) measurement results of the resin solution,
The methine peak of the epoxy ring (around 3.3 ppm) is 10
It was confirmed that 0% was retained and that the peak (around 3.85 ppm) of the hydroxyl group in the epoxy resin had disappeared. The resulting methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution had a cured residue of 49.9% and an epoxy equivalent of 1
400 g / eq, the ratio of the amount of silica contained in the cured residue was 35%.

【0038】製造例3(メトキシ基含有シラン変性エポ
キシ樹脂の製造) 攪拌機、分水器、温度計、窒素吹き込み栓を備えた反応
装置に製に、エポトートYD−011を185.0gお
よびジエチレングリコールジメチルエーテル400.0
gを加え、70℃で溶解した。更にメチルシリケート5
1を396.9gおよびジブチル錫ジラウレート1.0
gを加え、90℃で6時間、脱メタノール反応させるこ
とにより、メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂溶液
を得た。なお、仕込み時の(メトキシシラン部分縮合物
(2)のシリカ換算重量/ビスフェノール型エポキシ樹
脂(1)の重量)=1.09、(メトキシシラン部分縮
合物(2)のメトキシ基の当量/ビスフェノール型エポ
キシ樹脂(1)の水酸基の当量)=20.0である。本
樹脂溶液のH-NMR(CDCl3溶液)測定結果か
ら、エポキシ環のメチンピーク(3.3ppm付近)が
100%保持されていること、及びエポキシ樹脂中の水
酸基のピーク(3.85ppm付近)が消失しているこ
とが確認できた。得られたメトキシ基含有シラン変性エ
ポキシ樹脂溶液の硬化残分は39.5%、エポキシ当量
は2500g/eq、硬化残分中に含まれるシリカ量の
割合は53%であった。
Production Example 3 (Production of methoxy group-containing silane-modified epoxy resin) 185.0 g of Epotote YD-011 and diethylene glycol dimethyl ether 400 were prepared in a reactor equipped with a stirrer, a water separator, a thermometer, and a nitrogen inlet valve. .0
g was dissolved at 70 ° C. Methyl silicate 5
396.9 g and 1.0 of dibutyltin dilaurate
g was added thereto and subjected to a methanol removal reaction at 90 ° C. for 6 hours to obtain a methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution. Incidentally, (weight in terms of silica of methoxysilane partial condensate (2) / weight of bisphenol type epoxy resin (1)) at the time of preparation = 1.09, (equivalent of methoxy group of methoxysilane partial condensate (2) / bisphenol) (Equivalent of hydroxyl group of epoxy resin (1)) = 20.0. From the 1 H-NMR (CDCl 3 solution) measurement results of this resin solution, 100% of the methine peak of the epoxy ring (around 3.3 ppm) is maintained, and the peak of the hydroxyl group in the epoxy resin (around 3.85 ppm) Was confirmed to have disappeared. The cured residue of the obtained methoxy group-containing silane-modified epoxy resin solution was 39.5%, the epoxy equivalent was 2500 g / eq, and the ratio of the amount of silica contained in the cured residue was 53%.

【0039】比較製造例1 エポトートYD−011をメチルエチルケトンに溶解
し、不揮発分40.0%、エポキシ当量1200g/e
qのエポキシ樹脂溶液とした。
Comparative Production Example 1 Epotote YD-011 was dissolved in methyl ethyl ketone, and the nonvolatile content was 40.0% and the epoxy equivalent was 1200 g / e.
q was an epoxy resin solution.

【0040】比較製造例2 エポトートYD−011とビスフェノールA型エポキシ
樹脂(東都化成(株)製、商品名「エポトートYD−1
27」、エポキシ当量190g/eq)を重量比2:3
で混合したものをメチルエチルケトンに溶解し、不揮発
分40%、エポキシ当量360g/eqのエポキシ樹脂
溶液とした。
Comparative Production Example 2 Epototo YD-011 and bisphenol A type epoxy resin (trade name "Epototo YD-1" manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.)
27 ", an epoxy equivalent of 190 g / eq) in a weight ratio of 2: 3.
Was dissolved in methyl ethyl ketone to obtain an epoxy resin solution having a nonvolatile content of 40% and an epoxy equivalent of 360 g / eq.

【0041】比較製造例3 エポトートYD−011(640g)、メチルエチルケ
トンを640g、およびメチルシリケート51(52
1.3g)を配合し、不揮発分50%、エポキシ当量1
300g/eq、硬化残分中に含まれるシリカ量の割合
が42%のエポキシ樹脂−メトキシシラン樹脂溶液とし
た。
Comparative Production Example 3 Epotote YD-011 (640 g), 640 g of methyl ethyl ketone, and methyl silicate 51 (52
1.3 g), a nonvolatile content of 50%, an epoxy equivalent of 1
An epoxy resin-methoxysilane resin solution of 300 g / eq, in which the proportion of silica contained in the cured residue was 42%.

【0042】(プリント配線板用接着剤の調製)メトキ
シ基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)として前記の各
樹脂溶液を、合成ゴム(B)としてニトリルゴム(日本
ゼオン(株)製、商品名「NP1031」)を、エポキ
シ樹脂用硬化剤(C)としてフェノールノボラック樹脂
(荒川化学工業(株)製、商品名「タマノル759」)
を、ゾルゲル硬化促進剤(D)としてオクチル酸錫を、
溶剤(E)としてメチルエチルケトンを、第1表に示す
ような配合量で混合して、各種の調整ワニス(プリント
配線板用接着剤)を得た。
(Preparation of Adhesive for Printed Wiring Board) Each of the above resin solutions was used as the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A), and nitrile rubber was used as the synthetic rubber (B) (trade name "Nippon Zeon Co., Ltd.," NP1031 ") as a phenol novolak resin (trade name" Tamanol 759 "manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) as a curing agent (C) for epoxy resin
And tin octylate as a sol-gel curing accelerator (D)
Methyl ethyl ketone was mixed as the solvent (E) in the amounts shown in Table 1 to obtain various adjusted varnishes (adhesives for printed wiring boards).

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】表1中の数値の単位は、いずれも重量部で
ある。
The units of numerical values in Table 1 are all parts by weight.

【0045】(試験板の作製)上記で得られたプリント
配線板用接着剤(本発明のもの(実施例1〜3)を順に
組成物A〜Cといい、また比較用のもの(比較例1〜
3)を順に組成物a〜dという)を、乾燥後の膜厚が2
0μmとなるようにバーコーターでポリイミドフィルム
上に塗布し、110℃で5分間乾燥し、接着剤層をBス
テージ化した。この接着剤層に銅箔を重ね、110℃で
ラミネートし、その後160℃で3時間加熱硬化(Cス
テージ化)させ、試験板を作成した。
(Preparation of Test Board) The adhesive for printed wiring boards obtained above (the compositions of the present invention (Examples 1 to 3) are referred to as compositions A to C in order, and those for comparison (Comparative Examples) 1 to
3) are referred to as compositions a to d) in order.
It was applied on a polyimide film with a bar coater so as to have a thickness of 0 μm, and dried at 110 ° C. for 5 minutes to make the adhesive layer B-stage. A copper foil was overlaid on the adhesive layer, laminated at 110 ° C., and then cured at 160 ° C. for 3 hours (C stage) to prepare a test plate.

【0046】(耐熱性、接着性)上記で得られた試験板
を用い、以下の方法で接着剤性能を評価した。評価結果
は第2表に示す。 (1)剥離強度 得られた試験板を固定して90°方向に50mm/分の
速度で銅箔を引き剥がし、その強度を測定した(JIS
C 6481に準拠)。 (2)半田耐熱性 得られた試験板をフロー半田浴に30秒間浮かべた後、
膨れ、剥がれが生じない最高温度を測定した(JIS
C 6481に準拠)。
(Heat Resistance, Adhesiveness) Using the test plates obtained above, adhesive performance was evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 2. (1) Peeling strength The obtained test plate was fixed, the copper foil was peeled off at a speed of 50 mm / min in the direction of 90 °, and the strength was measured (JIS).
C 6481). (2) Solder heat resistance After the obtained test plate was floated in a flow solder bath for 30 seconds,
The maximum temperature at which swelling and peeling did not occur was measured (JIS
C 6481).

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】表2から明らかなように、本発明のプリン
ト配線板用接着剤を用いてなるプリント配線板は、従来
のエポキシ系接着剤を用いたプリント配線板に比べ、耐
熱性や、銅箔に対する接着性に優れることが分かる。
As is clear from Table 2, the printed wiring board using the adhesive for printed wiring boards of the present invention has higher heat resistance and copper foil compared to a printed wiring board using a conventional epoxy adhesive. It can be seen that the adhesiveness to is excellent.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J040 CA042 CA072 CA082 CA142 DA142 EB052 EB062 EC061 EC461 GA04 HB03 HB09 HB15 HB19 HB28 HB31 HB43 HC05 HC08 HC11 HD16 HD42 KA16 KA17 KA23 LA01 LA06 LA08 NA20 5E343 AA02 AA18 AA33 BB24 CC03 DD51 EE22 GG02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 4J040 CA042 CA072 CA082 CA142 DA142 EB052 EB062 EC061 EC461 GA04 HB03 HB09 HB15 HB19 HB28 HB31 HB43 HC05 HC08 HC11 HD16 HD42 KA16 KA17 KA23 LA01 LA06 LA08 NA20 A31A03 DD GG02

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)お
よびメトキシシラン部分縮合物(2)を脱アルコール反
応させて得られるメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹
脂(A)、合成ゴム(B)、エポキシ樹脂用硬化剤
(C)、ゾル−ゲル硬化促進剤(D)ならびに溶剤
(E)からなることを特徴とするプリント配線板用接着
剤。
1. A methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) obtained by subjecting a bisphenol type epoxy resin (1) and a methoxysilane partial condensate (2) to a dealcoholation reaction, a synthetic rubber (B), and curing for an epoxy resin. An adhesive for printed wiring boards, comprising an agent (C), a sol-gel curing accelerator (D) and a solvent (E).
【請求項2】 ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)が
平均エポキシ当量350〜1000g/eqのビスフェ
ノール型エポキシ樹脂である請求項1記載のプリント配
線板用接着剤。
2. The adhesive for printed wiring boards according to claim 1, wherein the bisphenol type epoxy resin (1) is a bisphenol type epoxy resin having an average epoxy equivalent of 350 to 1000 g / eq.
【請求項3】 メトキシシラン部分縮合物(2)が、テ
トラメトキシシラン又はメチルトリメトキシシランの部
分縮合物である請求項1または2記載のプリント配線板
用接着剤。
3. The adhesive for printed wiring boards according to claim 1, wherein the methoxysilane partial condensate (2) is a partial condensate of tetramethoxysilane or methyltrimethoxysilane.
【請求項4】 メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂
(A)が、メトキシシラン部分縮合物(2)のシリカ換
算重量/ビスフェノール型エポキシ樹脂(1)の重量
(重量比)で0.25〜1.2である請求項1〜3のい
ずれかに記載のプリント配線板用接着剤。
4. The methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A) has a methoxysilane partial condensate (2) silica equivalent weight / bisphenol type epoxy resin (1) weight (weight ratio) of 0.25 to 1: 1. The adhesive for printed wiring boards according to any one of claims 1 to 3, which is 2.
【請求項5】 合成ゴム(B)がポリイソブテン、ブタ
ジエンゴム、スチレン―ブタジエンゴム、ニトリルゴ
ム、およびクロロプレンゴムから選ばれる少なくとも1
種である請求項1〜4のいずれかに記載のプリント配線
板用接着剤。
5. The synthetic rubber (B) is at least one selected from polyisobutene, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, and chloroprene rubber.
The adhesive for printed wiring boards according to any one of claims 1 to 4, which is a seed.
【請求項6】 エポキシ樹脂用硬化剤(C)がフェノー
ル樹脂系硬化剤である請求項1〜5のいずれかに記載の
プリント配線板用接着剤。
6. The adhesive for printed wiring boards according to claim 1, wherein the epoxy resin curing agent (C) is a phenolic resin curing agent.
【請求項7】 ゾル−ゲル硬化促進剤(D)が、ジブチ
ル錫ジラウレート、オクチル酸錫から選ばれる少なくと
も1種である請求項1〜6のいずれかに記載のプリント
配線板用接着剤。
7. The adhesive for printed wiring boards according to claim 1, wherein the sol-gel curing accelerator (D) is at least one selected from dibutyltin dilaurate and tin octylate.
【請求項8】 溶剤(E)が、沸点が70〜110℃の
ものである請求項1〜7のいずれかに記載のプリント配
線板用接着剤。
8. The adhesive for printed wiring boards according to claim 1, wherein the solvent (E) has a boiling point of 70 to 110 ° C.
【請求項9】 合成ゴム(B)の配合割合が、メトキシ
基含有シラン変性エポキシ樹脂(A)の硬化残分100
重量部に対して30〜100重量部であり、かつエポキ
シ樹脂用硬化剤(C)の配合割合が、メトキシ基含有シ
ラン変性エポキシ樹脂(A)に由来するエポキシ基1当
量に対してエポキシ樹脂用硬化剤(C)中の活性水素を
有する官能基が0.5〜1.2当量である請求項1〜8
のいずれかに記載のプリント配線板用接着剤。
9. The compounding ratio of the synthetic rubber (B) is 100% of the cured residue of the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A).
30 to 100 parts by weight with respect to 1 part by weight, and the mixing ratio of the curing agent for epoxy resin (C) is 1 part by weight of the epoxy group derived from the methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (A). The functional group having active hydrogen in the curing agent (C) is 0.5 to 1.2 equivalent.
The adhesive for printed wiring boards according to any one of the above.
【請求項10】 フレキシブルプリント配線基板用接着
剤である請求項1〜9のいずれかに記載のプリント配線
板用接着剤。
10. The adhesive for a printed wiring board according to claim 1, which is an adhesive for a flexible printed wiring board.
【請求項11】 テープオートメーテッドボンディング
テープ用接着剤である請求項1〜9のいずれかに記載の
プリント配線板用接着剤。
11. The adhesive for printed wiring boards according to claim 1, which is an adhesive for a tape automated bonding tape.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004146754A (en) * 2002-10-22 2004-05-20 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Adhesive composition for flexible printed wiring board lamination and adhesion film
JP2004323807A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Flame retardant adhesive composition and cover lay
JP2004323810A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Adhesive composition for flexible printed wiring board, and adhesive film
JP2004323811A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Adhesive composition for laminating flexible printed circuit board and adhesive film
WO2005081024A1 (en) * 2004-02-25 2005-09-01 Kansai Paint Co., Ltd. Curable resin composition for light guide formation, curable dry film for light guide formation, cured resin and light guide
JP2006249342A (en) * 2005-03-14 2006-09-21 Sumitomo Electric Ind Ltd Adhesive composition and anisotropic conductive adhesive using the same
JP2007332337A (en) * 2006-06-12 2007-12-27 Arakawa Chem Ind Co Ltd Adhesive composition and transparent laminate
KR100823321B1 (en) * 2004-02-25 2008-04-18 간사이 페인트 가부시키가이샤 Curable resin composition for light guide formation, curable dry film for light guide formation, cured resin and light guide
JP2011132541A (en) * 2011-03-22 2011-07-07 Sumitomo Electric Ind Ltd Adhesive composition
CN114449747A (en) * 2022-02-09 2022-05-06 江苏智纬电子科技有限公司 Machining process of scratch-proof wear-resistant 5G high-precision photoelectric integrated circuit board

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004146754A (en) * 2002-10-22 2004-05-20 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Adhesive composition for flexible printed wiring board lamination and adhesion film
JP2004323807A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Flame retardant adhesive composition and cover lay
JP2004323810A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Adhesive composition for flexible printed wiring board, and adhesive film
JP2004323811A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Adhesive composition for laminating flexible printed circuit board and adhesive film
JP4526783B2 (en) * 2003-04-23 2010-08-18 日立化成ポリマー株式会社 Adhesive composition for laminating flexible printed wiring board and adhesive film
KR100823321B1 (en) * 2004-02-25 2008-04-18 간사이 페인트 가부시키가이샤 Curable resin composition for light guide formation, curable dry film for light guide formation, cured resin and light guide
JPWO2005081024A1 (en) * 2004-02-25 2008-03-06 関西ペイント株式会社 Curable resin composition for forming optical waveguide, curable dry film for forming optical waveguide, cured resin and optical waveguide
CN100427981C (en) * 2004-02-25 2008-10-22 关西涂料株式会社 Curable resin composition for light guide formation, curable dry film for light guide formation, cured resin and light guide
US7466893B2 (en) 2004-02-25 2008-12-16 Kansai Paint Co., Ltd. Curable resin composition for light guide formation, curable dry film for light guide formation, cured resin and light guide
WO2005081024A1 (en) * 2004-02-25 2005-09-01 Kansai Paint Co., Ltd. Curable resin composition for light guide formation, curable dry film for light guide formation, cured resin and light guide
JP4578469B2 (en) * 2004-02-25 2010-11-10 関西ペイント株式会社 Curable resin composition for forming optical waveguide, curable dry film for forming optical waveguide, cured resin and optical waveguide
JP2006249342A (en) * 2005-03-14 2006-09-21 Sumitomo Electric Ind Ltd Adhesive composition and anisotropic conductive adhesive using the same
JP2007332337A (en) * 2006-06-12 2007-12-27 Arakawa Chem Ind Co Ltd Adhesive composition and transparent laminate
JP2011132541A (en) * 2011-03-22 2011-07-07 Sumitomo Electric Ind Ltd Adhesive composition
CN114449747A (en) * 2022-02-09 2022-05-06 江苏智纬电子科技有限公司 Machining process of scratch-proof wear-resistant 5G high-precision photoelectric integrated circuit board
CN114449747B (en) * 2022-02-09 2024-02-27 江苏智纬电子科技有限公司 Processing technology of scratch-resistant wear-resistant 5G high-precision photoelectric integrated circuit board

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