JP4965388B2 - Manufacturing method of transflective liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transflective liquid crystal display having a new construction using a ferroelectric liquid crystal. <P>SOLUTION: The transflective liquid crystal display 5 is provided which has an element substrate 1, a counter substrate 2 disposed opposite thereto and thereon and the ferroelectric liquid crystal 38 interposed between the element substrate 1 and the counter substrate 2 and aligned in the horizontal direction and in which a plurality of pixel parts each constituted of a reflection part A1 and a transmission part A2 are demarcated, wherein the element substrate 1 is provided with a reflection pattern layer 30 at a part corresponding to the reflection part on the upper surface side of the element substrate and a retardation pattern layer 22 (quarter-wave retardation layer) formed above the reflection pattern layer 30 and a first polarizing layer 36 on the lower surface side of the element substrate, and wherein the counter substrate 2 is provided with a second polarizing layer 36a having a light transmission axis PA2 orthogonal to a light transmission axis PA1 of the first polarizing layer 36 on the upper surface side of the counter substrate, and wherein the ferroelectric liquid crystal 38 is aligned in a direction parallel or vertical to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は半透過型液晶表示装置の製造方法に係り、さらに詳しくは、プラスチックフィルムを基板として使用するフレキシブル液晶ディスプレイに好適に適用できる半透過型液晶表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a transflective liquid crystal display device, and more particularly to a method for manufacturing a transflective liquid crystal display device that can be suitably applied to a flexible liquid crystal display using a plastic film as a substrate.

従来、液晶表示装置は、薄型・軽量であると共に、低電圧で駆動できて消費電力が少ないという長所があり、情報機器などのディスプレイとして広く使用されている。近年では、プラスチックフィルムを基板として使用するフレキシブルタイプの液晶表示装置が注目されている。そのようなフレキシブルタイプの液晶表示装置は、丸めて収納できて持ち運びに便利な超薄型・軽量のモバイル用ばかりではなく、大型ディスプレイ用としても利用できる。   2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device is thin and lightweight, and has an advantage that it can be driven at a low voltage and consumes less power, and is widely used as a display for information equipment. In recent years, a flexible liquid crystal display device using a plastic film as a substrate has attracted attention. Such a flexible-type liquid crystal display device can be used not only for ultra-thin and lightweight mobile devices that can be rolled up and stored and is convenient to carry, but also for large displays.

しかしながら、プラスチックフィルムは、剛性が弱く、また熱変形温度が低いため、熱処理を伴う製造工程において反りや膨張収縮のような熱変形が生じ易い。このため、プラスチックフィルム上に直接各種素子を形成する製造方法では、熱処理を伴う製造工程などの条件が制限され、また高精度の位置合わせが困難になるので、所望の特性を有する素子基板を製造できなくなる場合がある。   However, the plastic film has a low rigidity and a low thermal deformation temperature, and thus is likely to undergo thermal deformation such as warping and expansion / contraction in a manufacturing process involving heat treatment. For this reason, in a manufacturing method in which various elements are formed directly on a plastic film, conditions such as a manufacturing process involving heat treatment are limited, and high-precision alignment becomes difficult, so that an element substrate having desired characteristics is manufactured. It may not be possible.

このような問題を回避するために、耐熱性で剛性のガラス基板の上に製造条件が制限されないで透明電極やカラーフィルタなどを高精度で位置合わせして形成して転写層とした後、その転写層をプラスチックフィルム上に転写・形成することにより、液晶表示装置用素子基板を製造する方法がある(特許文献1)。   In order to avoid such a problem, a transparent layer, a color filter, etc. are aligned and formed with high precision on a heat-resistant and rigid glass substrate without restricting manufacturing conditions, and then the transfer layer is used. There is a method of manufacturing an element substrate for a liquid crystal display device by transferring and forming a transfer layer on a plastic film (Patent Document 1).

液晶表示装置は、自ら発光する自発光型の表示装置ではないため、光を供給して表示を行う必要があり、この光の供給方法によって、透過型と反射型とに分類される。透過型の液晶表示装置では、液晶表示装置の背後にバックライトを配置して、そこから入射される光に基づいて表示を行う。また、反射型の液晶表示装置では、外光が反射層によって反射した光に基づいて表示を行う。   Since the liquid crystal display device is not a self-luminous display device that emits light by itself, it is necessary to display by supplying light. The liquid crystal display device is classified into a transmission type and a reflection type depending on the light supply method. In a transmissive liquid crystal display device, a backlight is disposed behind the liquid crystal display device, and display is performed based on light incident from the backlight. In the reflective liquid crystal display device, display is performed based on light reflected by the reflective layer from outside light.

透過型の液晶表示装置においては、バックライトを用いて表示を行うため、明るく、コントラストが高い表示を行うことができる反面、消費電力が大きいという欠点がある。また、反射型の液晶表示装置においては、バックライトを使用しないため、消費電力を極めて小さくすることができる反面、周囲の明るさなどの使用環境に表示特性が大きく影響するという欠点がある。   In a transmissive liquid crystal display device, since display is performed using a backlight, a bright and high-contrast display can be performed, but there is a disadvantage that power consumption is large. In addition, since a reflective liquid crystal display device does not use a backlight, power consumption can be extremely reduced, but there is a drawback in that display characteristics greatly affect the usage environment such as ambient brightness.

そこで、反射と透過との両方の機能を合わせもった半透過型の液晶表示装置が開発されている。半透過型の液晶表示装置は、画素ごとに外光の反射光が透過する反射部とバックライトからの光が透過する透過部とが形成された構造を有している。そして、半透過型の液晶表示装置では、使用環境の明るさに応じて、反射型、透過型及び反射透過型のうちのいずれかの表示方法を用いて液晶画像を表示することができる。   Therefore, transflective liquid crystal display devices having both functions of reflection and transmission have been developed. The transflective liquid crystal display device has a structure in which a reflection portion that transmits reflected light of external light and a transmission portion that transmits light from a backlight are formed for each pixel. In the transflective liquid crystal display device, a liquid crystal image can be displayed using any one of a reflective type, a transmissive type, and a reflective / transmissive type depending on the brightness of the use environment.

そのような半透過型の液晶表示装置に関連する技術としては、特許文献2には、上基板及び下基板の各外面側に上偏光板及び下偏光板がそれぞれ設けられ、下基板の内面側の反射表示領域のみに1/4波長の位相差をもつ位相差層が設けられ、上基板と偏光板との間に1/2波長の位相差をもつ位相差板が設けられた構造の半透過型液晶表示装置が記載されている。   As a technique related to such a transflective liquid crystal display device, in Patent Document 2, an upper polarizing plate and a lower polarizing plate are respectively provided on the outer surface sides of the upper substrate and the lower substrate, and the inner surface side of the lower substrate. Of the structure in which a retardation layer having a quarter wavelength retardation is provided only in the reflective display region, and a retardation plate having a half wavelength retardation is provided between the upper substrate and the polarizing plate. A transmissive liquid crystal display device is described.

また、特許文献3には、半透過型液晶表示装置において、液晶層と反射部との間にセル内リタデーション層が設けられ、反射部のセルギャップが透過部のセルギャップより小さく設定されることが記載されている。   Further, in Patent Document 3, in the transflective liquid crystal display device, an in-cell retardation layer is provided between the liquid crystal layer and the reflective portion, and the cell gap of the reflective portion is set smaller than the cell gap of the transmissive portion. Is described.

特許文献4には、メモリ性液晶(強誘電性液晶)を使用した半透過型の液晶表示装置が記載されている。
特開2001−356370号公報 特開2003−279956号公報 特表2006−529033号公報 特開2006−201799号公報
Patent Document 4 describes a transflective liquid crystal display device using a memory liquid crystal (ferroelectric liquid crystal).
JP 2001-356370 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-279956 JP 2006-529033 A JP 2006-201799 A

上記したように強誘電性液晶を使用した半透過型の液晶表示装置については開示されているものの、その光学設計などは十分に確立されているとはいえない。特に表示のコントラスト比を確保するためには、黒レベルを十分に抑えるための光学設計が必要とされている。   Although a transflective liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal as described above has been disclosed, it cannot be said that its optical design has been sufficiently established. In particular, in order to ensure the contrast ratio of the display, an optical design for sufficiently suppressing the black level is required.

さらには、プラスチックフィルムを基板に使用するフレキシブルタイプの半透過型の液晶表示装置においては、プラスチックフィルムの上に各種の機能素子(画素電極、位相差層及び反射層など)が精度よく位置合わせされて形成される方法が切望されている。   Furthermore, in a flexible transflective liquid crystal display device using a plastic film as a substrate, various functional elements (pixel electrodes, retardation layers, reflective layers, etc.) are accurately aligned on the plastic film. The method that is formed is eagerly desired.

本発明は上記した問題点を鑑みて創作されたものであり、強誘電性液晶を使用した新規な構成の半透過型液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a transflective liquid crystal display device having a novel configuration using a ferroelectric liquid crystal.

上記した課題を解決するため、本発明は半透過型液晶表示装置に係り、素子基板と、前記素子基板の上に対向して配置された対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間には挟持され、水平方向に配向された強誘電性液晶とを有し、反射部と透過部とから構成される複数の画素部が画定された半透過型液晶表示装置であって、前記素子基板は、上面側の前記反射部に対応する部分に、反射パターン層とその上方に形成されたリタデーションパターン層とを備え、かつ下面側に第1偏光層を備えており、前記対向基板は、上面側に、前記第1偏光層の光透過軸と直交する光透過軸をもつ第2偏光層を備え、前記強誘電性液晶は、前記対向基板の前記第2偏光層の光透過軸に対して平行方向又は垂直方向に配向されており、前記リタデーション層の位相差はλ/4で、かつその遅相軸が前記第1、第2偏光層の光透過軸に対して45°ずれていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention relates to a transflective liquid crystal display device, and relates to an element substrate, a counter substrate disposed opposite to the element substrate, and the element substrate and the counter substrate. Is a transflective liquid crystal display device including a ferroelectric liquid crystal sandwiched between and horizontally aligned, and having a plurality of pixel portions each composed of a reflective portion and a transmissive portion. The substrate includes a reflective pattern layer and a retardation pattern layer formed above the reflective pattern layer in a portion corresponding to the reflective portion on the upper surface side, and includes a first polarizing layer on the lower surface side. A second polarizing layer having a light transmission axis orthogonal to the light transmission axis of the first polarizing layer is provided on the upper surface side, and the ferroelectric liquid crystal is in relation to the light transmission axis of the second polarizing layer of the counter substrate. Oriented in a parallel direction or a vertical direction. Phase difference layer is characterized by being shifted 45 ° relative to the optical transmission axis of lambda / 4, and the slow axis of the first, second polarizing layer.

本発明の半透過型液晶表示装置では、反射部と透過部とから構成される複数の画素部が画定された素子基板と対向基板の間に液晶分子が水平配向した強誘電性液晶が挟持されている。素子基板の反射部に対応するする部分に反射パターン層とリタデーションパターン層(λ/4位相差層)が形成されている。そして、素子基板の下面側に備えられた第1偏光層と、対向基板の上面側に備えられた第2偏光層とはそれらの光透過軸が直交している。さらに、強誘電性液晶は、対向基板の第2偏光層の光透過軸と水平方向又は垂直方向に配向されている。   In the transflective liquid crystal display device of the present invention, a ferroelectric liquid crystal in which liquid crystal molecules are horizontally aligned is sandwiched between an element substrate in which a plurality of pixel portions each composed of a reflective portion and a transmissive portion are defined and a counter substrate. ing. A reflection pattern layer and a retardation pattern layer (λ / 4 retardation layer) are formed in a portion corresponding to the reflection portion of the element substrate. The light transmission axes of the first polarizing layer provided on the lower surface side of the element substrate and the second polarizing layer provided on the upper surface side of the counter substrate are orthogonal to each other. Further, the ferroelectric liquid crystal is aligned in the horizontal direction or the vertical direction with respect to the light transmission axis of the second polarizing layer of the counter substrate.

強誘電性液晶の配向方向が対向基板の第2偏光層の光透過軸と水平方向(素子基板の第1偏光層の光透過軸と垂直方向)に設定される場合における電界OFF時の光伝播について説明する。   Light propagation when the electric field is OFF when the orientation direction of the ferroelectric liquid crystal is set in the horizontal direction (perpendicular to the light transmission axis of the first polarizing layer of the element substrate) of the second polarizing layer of the counter substrate. Will be described.

図3に示すように、電界OFF時の透過部A2では、素子基板の第1偏光層36を透過して強誘電性液晶38に入射する偏光LA(直線偏光)の偏光軸は強誘電性液晶38の配向方向と直交するので、その偏光LAは位相差が発生することなくそのまま強誘電性液晶38を透過して対向基板の第2偏光層36aに入射する。このとき、その偏光LAの偏光軸は第2偏光層の光透過軸PA2と直交することになり、黒表示となる。   As shown in FIG. 3, in the transmission part A2 when the electric field is OFF, the polarization axis of the polarized light LA (linearly polarized light) that passes through the first polarizing layer 36 of the element substrate and enters the ferroelectric liquid crystal 38 is the ferroelectric liquid crystal. Since the polarization LA is orthogonal to the alignment direction of 38, the polarized light LA passes through the ferroelectric liquid crystal 38 without any phase difference and enters the second polarizing layer 36a of the counter substrate. At this time, the polarization axis of the polarized light LA is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer, resulting in black display.

また、図4に示すように、電界OFFのときの反射部A1では、外光LXが対向基板の第2偏光層36aを透過して得られる第1偏光LB1の偏光軸は強誘電性液晶38の配向方向と同じ方向(左側の平面イメージ)となるので、その第1偏光LBは位相差が発生することなくそのまま強誘電性液晶38を透過してリタデーションパターン層22に入射する。第1偏光LB1がリタデーションパターン層22を透過することにより、第1偏光LB1の位相がλ/4ずれて第2偏光LB2(円偏光)となる。   Further, as shown in FIG. 4, in the reflection portion A1 when the electric field is OFF, the polarization axis of the first polarization LB1 obtained by transmitting the external light LX through the second polarization layer 36a of the counter substrate is the ferroelectric liquid crystal 38. Therefore, the first polarized light LB passes through the ferroelectric liquid crystal 38 as it is and enters the retardation pattern layer 22 without causing a phase difference. When the first polarized light LB1 passes through the retardation pattern layer 22, the phase of the first polarized light LB1 is shifted by λ / 4 to become the second polarized light LB2 (circularly polarized light).

続いて、第2偏光LB2は反射パターン層30で反射されて、再度、リタデーションパターン層22を透過した後に、第2偏光LB2がさらに位相がλ/4ずれて第3偏光LB3(直線偏光)となって強誘電性液晶38に入射する。第3偏光LB3の偏光軸は強誘電性液晶38の配向方向に対して垂直方向(左側の平面イメージ)となるので、その第3偏光LB3は位相差が発生することなくそのまま強誘電性液晶を透過して対向基板の第2偏光層に戻ってくる。このとき、第3偏光LB3は第2偏光層36aの光透過軸PA2と直交することになり、黒表示となる。   Subsequently, after the second polarized light LB2 is reflected by the reflective pattern layer 30 and again passes through the retardation pattern layer 22, the second polarized light LB2 is further shifted in phase by λ / 4 to be converted into the third polarized light LB3 (linearly polarized light). And enters the ferroelectric liquid crystal 38. Since the polarization axis of the third polarized light LB3 is perpendicular to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38 (left plane image), the third polarized light LB3 can be used as it is without causing a phase difference. The light passes through and returns to the second polarizing layer of the counter substrate. At this time, the third polarized light LB3 is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a, resulting in black display.

このように、本発明では、電界OFF時に、偏光が強誘電性液晶を透過する際に、偏光の偏光軸が強誘電性液晶の配向方向と平行方向又は垂直方向になるように設定し、偏光が強誘電性液晶による複屈性を受けないように光設計している。これにより、電界OFF時には、強誘電性液晶の厚みの影響(複屈折)を受けることなく、黒表示を行うことができる。   As described above, in the present invention, when the polarized light is transmitted through the ferroelectric liquid crystal when the electric field is turned off, the polarization axis of the polarized light is set to be parallel or perpendicular to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal. Is optically designed so as not to suffer from birefringence due to ferroelectric liquid crystal. Thereby, when the electric field is OFF, black display can be performed without being affected by the thickness (birefringence) of the ferroelectric liquid crystal.

従って、基板としてプラスチックフィルムを使用するフレキシブルディスプレイに適用する場合、強誘電性液晶の厚み(セルギャップ)が不均一な場合にも、光漏れがない黒表示を行うことができるため、高いコントラストが得られる。   Therefore, when applied to a flexible display using a plastic film as a substrate, even when the thickness (cell gap) of the ferroelectric liquid crystal is not uniform, black display without light leakage can be performed, so that high contrast is achieved. can get.

本発明の半透過型液晶表示装置をフレキシブルディスプレイに適用する場合は、仮基板の上に剥離できる状態で画素電極、リタデーションパターン層及び反射パターン層などが位置合わせ精度よく形成された後に、プラスチックフィルムの上に上下反転した状態で転写・形成される。そのような素子基板は、プラスチックフィルムと、プラスチックフィルムの上に形成された接着層と、接着層の上に形成された反射パターン層と、反射パターン層の上に形成されたリタデーションパターン層と、リタデーションパターン層の上方に形成され、画素部に対応する部分に形成された画素電極とを含んで構成される。   When the transflective liquid crystal display device of the present invention is applied to a flexible display, a plastic film is formed after pixel electrodes, a retardation pattern layer, a reflection pattern layer, and the like are formed on a temporary substrate in a state where the transflective liquid crystal display device can be peeled off with high alignment accuracy It is transferred and formed in an upside down state. Such an element substrate includes a plastic film, an adhesive layer formed on the plastic film, a reflective pattern layer formed on the adhesive layer, a retardation pattern layer formed on the reflective pattern layer, The pixel electrode is formed above the retardation pattern layer and includes a pixel electrode formed in a portion corresponding to the pixel portion.

また、本発明の好適な態様では、素子基板と対向基板とを組み立てて半透過型液晶表示装置を構成する際に、強誘電性液晶には光硬化性モノマーが混合されており、素子基板と対向基板とが前記光硬化性モノマーが硬化したポリマーによって接着される。   In a preferred aspect of the present invention, when the element substrate and the counter substrate are assembled to form a transflective liquid crystal display device, the ferroelectric liquid crystal is mixed with a photocurable monomer, and the element substrate and The counter substrate is bonded with the polymer obtained by curing the photocurable monomer.

本発明では、黒表示の際に、強誘電性液晶の厚み(複屈折)の影響を受けないので、光設計に関係なく、種々の強誘電性液晶を選択できるだけではなく、強誘電性液晶に分散されるポリマーの含有量を自由に最適化することができる。これによって、フレキシブルディスプレイに適用する場合に、ディスプレイが曲げられても、全体にわたって一定のセルギャップを確保できるので、安定した表示特性が得られるようになる。   In the present invention, since the thickness (birefringence) of the ferroelectric liquid crystal is not affected during black display, various ferroelectric liquid crystals can be selected regardless of the optical design. The content of the polymer to be dispersed can be freely optimized. As a result, when applied to a flexible display, even if the display is bent, a constant cell gap can be secured over the entire display, so that stable display characteristics can be obtained.

上記した図番及び符号は、本発明の理解を容易にするために引用されたものであり、本発明を限定するものではない。   The above-mentioned drawing numbers and symbols are cited for facilitating the understanding of the present invention, and do not limit the present invention.

以上のように、本発明の半透過型液晶表示装置では、光漏れのない黒表示を行うことができて良好な表示特性が得られると共に、フレキシブルディスプレイに好適に適用できる。   As described above, the transflective liquid crystal display device of the present invention can perform black display with no light leakage, obtain good display characteristics, and can be suitably applied to a flexible display.

以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1及び図2は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の基本構成を示す模式図である。図1に示すように、本実施形態の半透過型液晶表示装置3は、素子基板1と、対向基板2と、それらの間に挟持された強誘電性液晶38と、素子基板1の下側に配置されたバックライト50とより基本構成される。図1では、半透過型液晶表示装置3の1つの画素部が示されており、素子基板1の各画素部には反射部A1と透過部A2とが画定されている。   1 and 2 are schematic views showing a basic configuration of a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the transflective liquid crystal display device 3 of this embodiment includes an element substrate 1, a counter substrate 2, a ferroelectric liquid crystal 38 sandwiched therebetween, and a lower side of the element substrate 1. And the backlight 50 arranged in the base. In FIG. 1, one pixel portion of the transflective liquid crystal display device 3 is shown, and a reflective portion A1 and a transmissive portion A2 are defined in each pixel portion of the element substrate 1.

素子基板1の強誘電性液晶38と接する面側では、透過部A2に対応する基板部1aに凹部Cが設けられており、反射部A1が透過部A2から突出する凸部Pとなっている。つまり、反射部A1は、その高さが透過部A2の高さより高く設定されて強誘電性液晶38側に突出した状態となっている。これによって、反射部A1のセルギャップ(強誘電性液晶38の厚み)は、透過部A2のセルギャップの1/2に設定されている。基板部1aには、不図示のTFT、画素電極及びカラーフィルタなどが設けられている。   On the side of the element substrate 1 in contact with the ferroelectric liquid crystal 38, a concave portion C is provided in the substrate portion 1a corresponding to the transmissive portion A2, and the reflective portion A1 is a convex portion P protruding from the transmissive portion A2. . That is, the reflecting portion A1 is set to have a height higher than that of the transmitting portion A2 and protrudes toward the ferroelectric liquid crystal 38 side. Thereby, the cell gap (thickness of the ferroelectric liquid crystal 38) of the reflection part A1 is set to ½ of the cell gap of the transmission part A2. The substrate unit 1a is provided with TFTs, pixel electrodes, color filters, and the like (not shown).

また、反射部A1に対応する基板部1aの上には、下から順に、反射パターン層30とリタデーションパターン層22(λ/4位相差層)とが設けられている。さらに、基板部1aの下には第1偏光層36が設けられている。   A reflective pattern layer 30 and a retardation pattern layer 22 (λ / 4 retardation layer) are provided in order from the bottom on the substrate portion 1a corresponding to the reflective portion A1. Further, a first polarizing layer 36 is provided below the substrate portion 1a.

一方、対向基板2では、コモン電極(不図示)などが設けられた基板部2aの上に第2偏光層36aが設けられて基本構成されている。   On the other hand, the counter substrate 2 has a basic configuration in which a second polarizing layer 36a is provided on a substrate portion 2a provided with a common electrode (not shown).

強誘電性液晶38は、素子基板1及び対向基板2に設けられた配向膜(不図示)によって、液晶分子の長軸が基板部1a,2aの水平面と平行になって水平配向している。図1の第1平面イメージに示すように、素子基板1の第1偏光層36の光透過軸PA1は、強誘電性液晶38の配向方向と直交する方向に設定されている。また、図1の第2平面イメージに示すように、対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2は強誘電性液晶38の配向方向と同じ方向(平行)に配置されている。   The ferroelectric liquid crystal 38 is horizontally aligned by an alignment film (not shown) provided on the element substrate 1 and the counter substrate 2 so that the major axis of the liquid crystal molecules is parallel to the horizontal plane of the substrate portions 1a and 2a. As shown in the first plane image of FIG. 1, the light transmission axis PA <b> 1 of the first polarizing layer 36 of the element substrate 1 is set in a direction orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38. As shown in the second plane image of FIG. 1, the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 is arranged in the same direction (parallel) as the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38.

リタデーションパターン層22の位相差はλ/4であり、かつその遅相軸は第1偏光層36の光透過軸PA1及び第2偏光層36aの光透過軸PA2に対して45°ずれている。   The retardation pattern layer 22 has a phase difference of λ / 4, and its slow axis is shifted by 45 ° with respect to the light transmission axis PA1 of the first polarizing layer 36 and the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a.

次に、本実施形態の半透過液晶表示装置3の光伝播について説明する。   Next, the light propagation of the transflective liquid crystal display device 3 of this embodiment will be described.

まず、強誘電性液晶38に電界をかけない電界OFF時(黒表示)について説明する。   First, a description will be given of when the electric field is OFF (black display) when no electric field is applied to the ferroelectric liquid crystal 38.

図1に図3を加えて参照すると、透過部A2では、まず、バックライト50からの光が素子基板1の第1偏光層36を透過して偏光LAとして強誘電性液晶38に入射する。このとき、第1偏光層36の光透過軸PA1は強誘電性液晶38の配向方向と直交するので、偏光LAは強誘電性液晶38の配向方向(液晶分子の長軸方向)に直交して強誘電性液晶38に入射する(図3の平面イメージ)。この偏光LAは強誘電性液晶38の配向方向に直交することから、強誘電性液晶38を通過する際に複屈折効果を受けないためそのまま透過する。このため、偏光LAは対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2と直交することになり、黒表示となる。   Referring to FIG. 1 in addition to FIG. 3, in the transmission part A2, first, the light from the backlight 50 passes through the first polarizing layer 36 of the element substrate 1 and enters the ferroelectric liquid crystal 38 as polarized light LA. At this time, since the light transmission axis PA1 of the first polarizing layer 36 is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, the polarization LA is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38 (major axis direction of the liquid crystal molecules). The light enters the ferroelectric liquid crystal 38 (planar image in FIG. 3). Since this polarized light LA is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, it passes through the ferroelectric liquid crystal 38 as it is not subjected to the birefringence effect and is transmitted as it is. For this reason, the polarized light LA is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2, and black is displayed.

一方、反射部A1においては、図1に図4を加えて参照すると、外光LXが対向基板2の第2偏光層36aを通過して第1偏光LB1となって強誘電性液晶38に入射する。このとき、第2偏光層36aの光透過軸PA2は強誘電性液晶38の配向方向と同じ向きに設定されているので、第1偏光LB1は強誘電性液晶38の液晶分子の配向方向と同じ方向に偏光軸をもって入射される(図4の左側の平面イメージ)。このため、第1偏光LB1は偏光軸が変化することなく強誘電性液晶38を通過する。   On the other hand, in the reflection part A1, referring to FIG. 1 in addition to FIG. 4, the external light LX passes through the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 and becomes the first polarized light LB1, and enters the ferroelectric liquid crystal 38. To do. At this time, since the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a is set in the same direction as the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, the first polarization LB1 is the same as the alignment direction of the liquid crystal molecules of the ferroelectric liquid crystal 38. Incident with a polarization axis in the direction (planar image on the left side of FIG. 4). Therefore, the first polarization LB1 passes through the ferroelectric liquid crystal 38 without changing the polarization axis.

さらに、第1偏光LB1は、第2偏光層36aの光透過軸PA2に対して45°ずれた遅相軸DAをもったリタデーションパターン層22(λ/4位相差層)を透過して第2偏光LB2となる。このとき、直交する2つの振動成分にλ/4分の位相のずれが生じるため、第2偏光LB2は円偏光となる。   Further, the first polarized light LB1 is transmitted through the retardation pattern layer 22 (λ / 4 phase difference layer) having a slow axis DA shifted by 45 ° with respect to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a. It becomes polarized light LB2. At this time, a phase shift of λ / 4 occurs between two orthogonal vibration components, so that the second polarized light LB2 becomes circularly polarized light.

続いて、第2偏光LB2は、反射パターン層30で反射されてリタデーションパターン層22を再度透過し、第2偏光LB2は位相がさらにλ/4ずれた第3偏光LB3となって強誘電性液晶38に再度入射する。このとき、第3偏光LB3は、第1偏光LB1から90°回転した直線偏光となる。また、第3偏光LB3の偏光軸は、強誘電性液晶38の配向方向と直交しているので(図4の右側の平面イメージ)、第3偏光LB3は強誘電性液晶38を通過する際に偏光軸を維持したまま透過する。このため、第3偏光LB3は対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2と直交することになり、黒表示となる。   Subsequently, the second polarized light LB2 is reflected by the reflective pattern layer 30 and is transmitted again through the retardation pattern layer 22, and the second polarized light LB2 becomes a third polarized light LB3 whose phase is further shifted by λ / 4, and is a ferroelectric liquid crystal. 38 is incident again. At this time, the third polarized light LB3 becomes linearly polarized light rotated by 90 ° from the first polarized light LB1. In addition, since the polarization axis of the third polarization LB3 is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38 (right-side plane image in FIG. 4), the third polarization LB3 passes through the ferroelectric liquid crystal 38. Transmits while maintaining the polarization axis. For this reason, the third polarized light LB3 is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2, and a black display is obtained.

本実施形態の半透過型液晶表示装置3では、対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2を強誘電性液晶38の配向方向と同じ方向に設定し、素子基板1の第1偏光層36の光透過軸PA1を強誘電性液晶38の配向方向と直交する方向に設定している。   In the transflective liquid crystal display device 3 of the present embodiment, the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 is set in the same direction as the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, and the first polarization of the element substrate 1 is set. The light transmission axis PA1 of the layer 36 is set in a direction orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38.

これにより、透過部A2では、強誘電性液晶38を透過する直線偏光LAは強誘電性液晶38の配向方向に直交するため、位相のずれが発生せず偏光軸を維持したまま透過する。また、反射部A1では、リタデーションパターン層22に入射する第1偏光LBの偏光軸は強誘電性液晶38の配向方向と平行になり、リタデーションパターン層22から出射する第3偏光LB3の偏光軸は強誘電性液晶38の配向方向と直交する。   Thereby, in the transmission part A2, the linearly polarized light LA transmitted through the ferroelectric liquid crystal 38 is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, and thus transmits while maintaining the polarization axis without causing a phase shift. In the reflection part A1, the polarization axis of the first polarized light LB incident on the retardation pattern layer 22 is parallel to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, and the polarization axis of the third polarized light LB3 emitted from the retardation pattern layer 22 is It is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38.

強誘電性液晶38の分子の長軸方向に対して平行又は直交する偏光は、位相差が生じることなく、偏光軸を維持したまま強誘電性液晶38を透過する特性を有する。このため、本実施形態の半透過型液晶表示装置3では、電界OFF時には、透過部A2及び反射部A1の両者において、強誘電性液晶38の複屈折による偏光の位相のずれを考慮する必要がなく、反射部A1では、リタデーションパターン層22のみで偏光の位相変調が行われる。   Polarized light that is parallel or orthogonal to the major axis direction of the molecules of the ferroelectric liquid crystal 38 has a characteristic of transmitting through the ferroelectric liquid crystal 38 while maintaining the polarization axis without causing a phase difference. For this reason, in the transflective liquid crystal display device 3 of the present embodiment, it is necessary to consider the phase shift of the polarization due to the birefringence of the ferroelectric liquid crystal 38 in both the transmission part A2 and the reflection part A1 when the electric field is OFF. Instead, in the reflection part A1, the phase modulation of the polarization is performed only by the retardation pattern layer 22.

このように、本実施形態の半透過型液晶表示装置3では、電界OFF時には、強誘電性液晶38の複屈折特性を考慮する必要がないので、強誘電性液晶38の厚みや屈折率異方性(Δn)に依存せずに安定して黒表示を行うことができる(ノーマリブラックモード)。   As described above, in the transflective liquid crystal display device 3 of the present embodiment, it is not necessary to consider the birefringence characteristics of the ferroelectric liquid crystal 38 when the electric field is OFF. The black display can be performed stably without depending on the property (Δn) (normally black mode).

本実施形態と違って、対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2を強誘電性液晶38の配向方向に対して45°ずらして設定し、素子基板1の第1偏向層36の光透過軸PA1を第2偏光層36aの光透過軸PA2と直交させた場合を想定してみる。   Unlike the present embodiment, the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 is set to be shifted by 45 ° with respect to the orientation direction of the ferroelectric liquid crystal 38, and the first deflection layer 36 of the element substrate 1 is changed. Assume that the light transmission axis PA1 is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a.

この場合は、透過部A2を例にすると、バックライト50の光が素子基板1の第1偏向層36を透過して得られる偏光を強誘電性液晶38の複屈折特性によって90°回転させて対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸に直交するように設計する必要がある。この方法では、偏光方向を90°回転させるため、強誘電性液晶38の屈折率異方性(Δn)に応じて厚みを厳密に制御する必要がある。このため、強誘電性液晶38の厚みにわずかな不均一性が生じると、楕円偏光成分が生じて光漏れが発生してコントラストが大幅に劣化してしまう。   In this case, taking the transmissive portion A2 as an example, the polarization obtained by the light of the backlight 50 being transmitted through the first deflection layer 36 of the element substrate 1 is rotated by 90 ° by the birefringence characteristics of the ferroelectric liquid crystal 38. It is necessary to design so as to be orthogonal to the light transmission axis of the second polarizing layer 36 a of the counter substrate 2. In this method, since the polarization direction is rotated by 90 °, it is necessary to strictly control the thickness in accordance with the refractive index anisotropy (Δn) of the ferroelectric liquid crystal 38. For this reason, if a slight non-uniformity occurs in the thickness of the ferroelectric liquid crystal 38, an elliptically polarized component is generated, light leakage occurs, and the contrast is greatly deteriorated.

しかしながら、本実施形態では、電界OFF時には、偏光が強誘電性液晶38を透過する際に偏光軸が維持されるため、強誘電性液晶38のΔnや厚みに依存せず、光漏れの少ない良好な黒表示が得られる。   However, in the present embodiment, when the electric field is turned off, the polarization axis is maintained when polarized light passes through the ferroelectric liquid crystal 38. Therefore, the light leakage does not depend on Δn or the thickness of the ferroelectric liquid crystal 38 and is good. A black display can be obtained.

このような光学設計を採用することにより、特にプラスチックフィルムを基板に使用するフレキシブルタイプの半透過型液晶装置では、作製時に生じ得る強誘電性液晶38の厚みの不均一性や曲げなどによって生じるわずかなセルギャップの変動に対して極めて有効であり、電界OFFの画素部では光漏れが発生しない黒表示を行うことができる。これによって、液晶画像のコントラスト比を向上させることができる。   By adopting such an optical design, particularly in a flexible type transflective liquid crystal device using a plastic film as a substrate, the thickness of the ferroelectric liquid crystal 38 that may occur during fabrication is slightly uneven due to unevenness or bending. This is extremely effective against a change in cell gap, and black display can be performed without light leakage in a pixel portion where the electric field is OFF. Thereby, the contrast ratio of the liquid crystal image can be improved.

また、後述するように、強誘電性液晶38にポリマーを分散させて対向する基板同士を接着する場合、ポリマーの分散状態によって強誘電性液晶38のΔnが変化してしまう。しかしながら、本実施形態では、黒表示する際に強誘電性液晶38のΔnを考慮する必要がないので、ポリマーの含有率が制限されることなく自由に設定することができる。   As will be described later, when the polymer is dispersed in the ferroelectric liquid crystal 38 and the opposing substrates are bonded to each other, Δn of the ferroelectric liquid crystal 38 changes depending on the dispersion state of the polymer. However, in the present embodiment, it is not necessary to consider Δn of the ferroelectric liquid crystal 38 when displaying black, and therefore the polymer content can be freely set without being limited.

本実施形態では、このような原理を利用するので、上下の第1、第2偏光層36,36aの光透過軸PA1,PA2が相互に直交するように設定し、強誘電性液晶38の配向方向が対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2と平行又は直交するように設定すればよい。   In this embodiment, since such a principle is used, the light transmission axes PA1 and PA2 of the upper and lower first and second polarizing layers 36 and 36a are set so as to be orthogonal to each other, and the alignment of the ferroelectric liquid crystal 38 is performed. The direction may be set so as to be parallel or orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2.

すなわち、図2に示すように、図1において第1偏光層36の光透過軸PA1と第2偏光層36aの光透過軸PA2の方向を入れ替えて、対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2が強誘電性液晶38の配向方向と直交し、素子基板1の第1偏光層36の光透過軸PA1が強誘電性液晶38の配向方向と平行になるようにしてもよい。図2においてその他の要素は図1と同一である。   That is, as shown in FIG. 2, the light transmission axis PA1 of the first polarizing layer 36 and the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a in FIG. The transmission axis PA2 may be orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, and the light transmission axis PA1 of the first polarizing layer 36 of the element substrate 1 may be parallel to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38. The other elements in FIG. 2 are the same as those in FIG.

この形態の場合は、透過部A2では、前述した図3において、第1、第2偏光層36,36aの光透過軸PA1,PA2の向きが入れ替わり、偏光LAが強誘電性液晶38の配向方向と同じ方向の偏光となり、それが偏光軸を維持したまま強誘電性液晶38を透過し、その偏光は第2偏光層36aの光透過軸PA2と直交することになり、黒表示となる。   In the case of this form, in the transmission part A2, the directions of the light transmission axes PA1 and PA2 of the first and second polarizing layers 36 and 36a in FIG. 3 are switched, and the polarization LA is the orientation direction of the ferroelectric liquid crystal 38. The polarized light is transmitted through the ferroelectric liquid crystal 38 while maintaining the polarization axis, and the polarized light is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a, resulting in black display.

また、反射部A1では、前述した図4において、第2偏光層36aの光透過軸PA2が90°反転し、第1偏光LB1の偏光軸は強誘電性液晶38の配向方向と直交し、第3偏光LB3の偏光軸が強誘電性液晶38の配向方向と同一方向となる。これによって、第3偏光LB3が第2偏光層36aの光透過軸PA2と直交することになり、黒表示となる。   In the reflection part A1, the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a is inverted by 90 ° in FIG. 4 described above, the polarization axis of the first polarization LB1 is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, The polarization axis of the three-polarized light LB3 is the same direction as the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38. As a result, the third polarized light LB3 is orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a, resulting in black display.

次に、強誘電性液晶38に電界をかけた電界ON時(白表示)の光伝播について説明する。本実施形態で使用される強誘電性液晶38は、電界ONにすると電界OFF時の水平配向の状態で水平方向に傾く特性を有する。強誘電性液晶38の回転角は、液晶材料やポリマーの分散状態により制御することができる。本実施形態では、最も大きな光変調効果が得られる45°傾く強誘電性液晶を例に挙げて説明する。   Next, the light propagation when the electric field is applied to the ferroelectric liquid crystal 38 (white display) will be described. The ferroelectric liquid crystal 38 used in the present embodiment has a characteristic that when the electric field is turned on, the ferroelectric liquid crystal 38 is inclined in the horizontal direction in a horizontal alignment state when the electric field is turned off. The rotation angle of the ferroelectric liquid crystal 38 can be controlled by the dispersion state of the liquid crystal material or polymer. In the present embodiment, a ferroelectric liquid crystal tilted by 45 ° and capable of obtaining the greatest light modulation effect will be described as an example.

透過部A2では、図1に図5を加えて参照すると、電界ON時には、バックライト50の光が素子基板1の第1偏光層36を透過して得られる第1偏光LA1は、電界OFF時の配向方向から45°傾いた強誘電性液晶38に入射することになる(図5の平面イメージ)。このため、第1偏光LA1は強誘電性液晶38から複屈折を受けて直交する2つの振動成分に位相差が生じることになる。これは、長軸状の液晶分子が配向方向とそれの垂直方向とにおいて異なる屈折率を有するため、波(光)の伝播速度がおのおののベクトル方向で変位することに起因する。   In the transmission part A2, with reference to FIG. 5 in addition to FIG. 5, when the electric field is ON, the first polarized light LA1 obtained by transmitting the light of the backlight 50 through the first polarizing layer 36 of the element substrate 1 is when the electric field is OFF. Is incident on the ferroelectric liquid crystal 38 inclined by 45 ° from the orientation direction (planar image in FIG. 5). For this reason, the first polarized light LA1 is subjected to birefringence from the ferroelectric liquid crystal 38 and causes a phase difference between two orthogonal vibration components. This is because the long-axis liquid crystal molecules have different refractive indexes in the alignment direction and the direction perpendicular thereto, and thus the wave (light) propagation velocity is displaced in the vector direction.

そして、強誘電性液晶38は、第1偏光LA1が強誘電性液晶38を透過した後に90°回転するようにその厚みが調整されている。これにより、第1偏光LA1は、強誘電性液晶38を透過した後に90°回転した第2偏光LA2となって対向基板2の第2偏光層36aに入射する。第1偏光層36の光透過軸PA1と第2偏光層36aの光透過軸PA2は直交していることから、第1偏光LA1が90°回転した第2偏光LA2の偏光軸は、第2偏光層36aの光透過軸PA2と同じ方向を向いていることになる。これにより、第2偏光LA2が第2偏光層36aの光透過軸PA2を透過して外部に放出されて、白表示となる。   The thickness of the ferroelectric liquid crystal 38 is adjusted so that the first polarized light LA1 is rotated by 90 ° after passing through the ferroelectric liquid crystal 38. As a result, the first polarized light LA1 is transmitted through the ferroelectric liquid crystal 38 and then becomes the second polarized light LA2 rotated by 90 ° and enters the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2. Since the light transmission axis PA1 of the first polarizing layer 36 and the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a are orthogonal, the polarization axis of the second polarized light LA2 obtained by rotating the first polarized light LA1 by 90 ° is the second polarized light. That is, the layer 36a faces the same direction as the light transmission axis PA2. As a result, the second polarized light LA2 passes through the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a and is emitted to the outside, resulting in white display.

一方、反射部A1では、図1に図6を加えて参照すると、電界ON時には、外光LXが対向基板2の第2偏光層36aを透過して得られる第1偏光LB1は、電界OFF時の配向方向から45°傾いた強誘電性液晶38を透過することになる(図6の平面イメージ)。従って、第1偏光LB1は、透過部A2と同様に、強誘電性液晶38から複屈折を受けて位相差が生じることになる。   On the other hand, in the reflection part A1, when FIG. 6 is added to FIG. 1, when the electric field is ON, the first polarization LB1 obtained by transmitting the external light LX through the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 is when the electric field is OFF. Is transmitted through the ferroelectric liquid crystal 38 inclined by 45 ° from the alignment direction (planar image of FIG. 6). Accordingly, the first polarized light LB1 undergoes birefringence from the ferroelectric liquid crystal 38 and causes a phase difference, like the transmissive portion A2.

このとき、反射部A1の強誘電性液晶38の厚みが透過部A2の半分に設定されているので、位相差も透過部A2の半分になって第1偏光LB1にλ/4の位相差が生じる。従って、第1偏光LB1が強誘電性液晶38を透過すると、第1偏光LB1は第2偏光LB2(円偏光)となる。さらに、第2偏光LB2がリタデーションパターン層22を透過することにより、λ/4の位相差が生じ、第2偏光LB2は第3偏光LB3となる。この時点で、第3偏光LB3は、第1偏光LB1の偏光軸から90°回転した直線偏光となる。   At this time, since the thickness of the ferroelectric liquid crystal 38 of the reflection part A1 is set to half of the transmission part A2, the phase difference is also half of the transmission part A2, and the phase difference of λ / 4 is present in the first polarization LB1. Arise. Therefore, when the first polarized light LB1 is transmitted through the ferroelectric liquid crystal 38, the first polarized light LB1 becomes the second polarized light LB2 (circularly polarized light). Further, the second polarized light LB2 passes through the retardation pattern layer 22, thereby generating a phase difference of λ / 4, and the second polarized light LB2 becomes the third polarized light LB3. At this time, the third polarized light LB3 becomes linearly polarized light rotated by 90 ° from the polarization axis of the first polarized light LB1.

続いて、第3偏光LB3が反射パターン層30で反射されて再度リタデーションパターン層22を透過することにより、さらにλ/4の位相差が生じ、第3偏光LB3は第4偏光LB4(円偏光)となる。さらに、第4偏光LB4が強誘電性液晶38を再度透過する。このとき、第4偏光LB4は強誘電性液晶38から複屈折を受け、さらにλ/4の位相差が生じて第5偏光LB5となり、白表示となる。   Subsequently, the third polarized light LB3 is reflected by the reflective pattern layer 30 and is transmitted through the retardation pattern layer 22 again, thereby causing a phase difference of λ / 4. The third polarized light LB3 is the fourth polarized light LB4 (circularly polarized light). It becomes. Further, the fourth polarized light LB4 transmits the ferroelectric liquid crystal 38 again. At this time, the fourth polarized light LB4 receives birefringence from the ferroelectric liquid crystal 38, and further, a phase difference of λ / 4 is generated to become the fifth polarized light LB5, resulting in white display.

なお、前述した図2に示すように、対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2を強誘電性液晶38の配向方向と直交させ、素子基板1の第1偏光層36の光透過軸PA1が強誘電性液晶38の配向方向と平行になるように設定しても、電界ON時には同様に反射部A1及び透過部A2の両者で白表示となる。つまり、最初に入射する偏光の偏光軸が90°反転するだけで、同じ原理によって透過部A2及び反射部A1から光が放出されて白表示となる。   2, the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 is orthogonal to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, and the light transmission of the first polarizing layer 36 of the element substrate 1 is performed. Even if the axis PA1 is set so as to be parallel to the alignment direction of the ferroelectric liquid crystal 38, white display is similarly performed in both the reflection part A1 and the transmission part A2 when the electric field is ON. That is, only by reversing the polarization axis of the first incident polarized light by 90 °, light is emitted from the transmission part A2 and the reflection part A1 according to the same principle, and white display is performed.

以上のように、電界ON時には、透過部A2では強誘電性液晶38の厚みによって、また反射部A1ではリタデーションパターン層22と強誘電性液晶38の厚みによって偏光の位相が変調されて光が外部に放出される。従って、フレキシブルディスプレイに適用した場合、強誘電性液晶38の厚み(セルギャップ)の不均一性により楕円偏光成分が生じた場合でも、白レベルの若干の低下が生じるものの、黒レベルは十分低いため高いコントラストの表示が得られる。   As described above, when the electric field is ON, the polarization phase is modulated by the thickness of the ferroelectric liquid crystal 38 in the transmission portion A2 and the thickness of the retardation pattern layer 22 and the ferroelectric liquid crystal 38 in the reflection portion A1, and the light is externally transmitted. To be released. Therefore, when applied to a flexible display, even when an elliptically polarized component is generated due to the non-uniformity of the thickness (cell gap) of the ferroelectric liquid crystal 38, the white level is slightly lowered, but the black level is sufficiently low. A high contrast display can be obtained.

なお、透過部A2の強誘電性液晶38の厚み(セルギャップ)が反射部A1の2倍に設定された形態を例示したが、透過部A2と反射部A1の高さを同等にしてセルギャップを変えないで光設計することも可能である。   In addition, although the thickness (cell gap) of the ferroelectric liquid crystal 38 in the transmission part A2 is set to be twice as large as that of the reflection part A1, the height of the transmission part A2 and that of the reflection part A1 are made equal to each other. It is also possible to design the light without changing.

また、強誘電性液晶38としては、黒表示の配向方向から電圧印加によって片側に45°傾く特性のものと、両側に±45°傾く特性のもののうちいずれかを適用することができる。特にポリマー繊維で安定化する場合、傾き角度を電圧に応じてアナログ的に変化させて階調機能をもたせることができる。   As the ferroelectric liquid crystal 38, either one having a characteristic of tilting 45 ° to one side by applying a voltage from the black display alignment direction or one having a characteristic tilting ± 45 ° to both sides can be applied. In particular, when stabilizing with a polymer fiber, the inclination angle can be changed in an analog manner according to the voltage to provide a gradation function.

なお、強誘電性液晶38の最大傾き角度は45°が理想的であるが、それに限定されるものではない。   The maximum tilt angle of the ferroelectric liquid crystal 38 is ideally 45 °, but is not limited thereto.

次に、本実施の半透過型液晶表示装置の詳細な構成について説明する。本実施形態では、プラスチックフィルムを基板に使用するフレキシブルタイプの半透過型液晶表示装置を例に挙げて説明する。   Next, a detailed configuration of the transflective liquid crystal display device of the present embodiment will be described. In the present embodiment, a flexible transflective liquid crystal display device using a plastic film as a substrate will be described as an example.

本実施形態の半透過型液晶表示装置の製造方法では、図7(a)に示すように、まず、仮基板として青板ガラスなどのガラス基板10を用意し、そのガラス基板10の上にポリイミドなどからなる剥離層12を形成する。   In the method of manufacturing the transflective liquid crystal display device of this embodiment, as shown in FIG. 7A, first, a glass substrate 10 such as blue plate glass is prepared as a temporary substrate, and polyimide or the like is provided on the glass substrate 10. A release layer 12 made of is formed.

その後に、図7(b)に示すように、剥離層12の上にポリイミド前駆体ワニスを均一の厚みで塗布した後に、プレベークを行うことにより未硬化のポリイミド塗布層14aを形成する。続いて、ポリイミド塗布層14aの上にポジレジスト15を形成した後に、所定の露光パターンを備えたフォトマスクを介してポジレジスト15を露光する。その後に、ポジレジスト15の露光部を現像液によって除去して開口部15aを形成する。   Thereafter, as shown in FIG. 7B, after applying the polyimide precursor varnish with a uniform thickness on the release layer 12, pre-baking is performed to form an uncured polyimide coating layer 14a. Subsequently, after forming a positive resist 15 on the polyimide coating layer 14a, the positive resist 15 is exposed through a photomask having a predetermined exposure pattern. Thereafter, the exposed portion of the positive resist 15 is removed with a developer to form an opening 15a.

さらに、現像液によってポジレジスト15の開口部15aを通してその下のポリイミド塗布層14aを除去する。その後に、剥離液によってポジレジスト15がポリイミド塗布層14aに対して選択的に除去される。さらに、ポリイミド塗布層14aを熱処理することによって完全に硬化させる。   Furthermore, the polyimide coating layer 14a thereunder is removed through the opening 15a of the positive resist 15 with a developing solution. Thereafter, the positive resist 15 is selectively removed with respect to the polyimide coating layer 14a by the stripping solution. Further, the polyimide coating layer 14a is completely cured by heat treatment.

これにより、図7(c)に示すように、剥離層12の上にポリイミド層がパターン化されて得られる剥離性パターン部14(凸部)が得られる。剥離性パターン部14の高さは、例えば1〜4μmに設定され、剥離層12の上に凹凸が設けられた状態となる。   Thereby, as shown in FIG.7 (c), the peelable pattern part 14 (convex part) obtained by patterning a polyimide layer on the peeling layer 12 is obtained. The height of the peelable pattern portion 14 is set to, for example, 1 to 4 μm, and unevenness is provided on the peelable layer 12.

ガラス基板10の上には赤色画素部R、緑色画素部G及び青色画素部Bが画定されており、剥離性パターン部14は各画素部R,G,Bの領域内に開口部14aがそれぞれ設けられた状態で形成される。図7(c)の部分平面図を加えて参照すると、各画素部R,G,Bにおいて、剥離性パターン部14の開口部14a(凹部)が反射部A1に対応し、中央部に配置された剥離性パターン部14が透過部A2に対応するように配置される。   A red pixel portion R, a green pixel portion G, and a blue pixel portion B are defined on the glass substrate 10, and the peelable pattern portion 14 has openings 14a in the regions of the pixel portions R, G, and B, respectively. It is formed in the provided state. Referring to FIG. 7C in addition to the partial plan view, in each of the pixel portions R, G, and B, the opening portion 14a (concave portion) of the peelable pattern portion 14 corresponds to the reflective portion A1 and is disposed at the center portion. The peelable pattern portion 14 is arranged so as to correspond to the transmission portion A2.

なお、後述するように、剥離性パターン部14は、液晶表示装置を組み立てる際に、透過部A2の液晶の厚み(セルギャップ)を反射部A1の液晶の厚みより厚くするためのものである。従って、透過部A2と反射部A1の間で液晶の厚みを変える必要がない場合は、剥離性パターン部14を省略してもよい。   As will be described later, the peelable pattern portion 14 is for making the liquid crystal thickness (cell gap) of the transmissive portion A2 thicker than the liquid crystal thickness of the reflective portion A1 when the liquid crystal display device is assembled. Therefore, when it is not necessary to change the thickness of the liquid crystal between the transmission part A2 and the reflection part A1, the peelable pattern part 14 may be omitted.

次いで、図8(a)に示すように、剥離層12及び剥離性パターン部14の上に膜厚が150nm程度の透明導電層16aをスパッタ法により形成する。透明導電層16aは、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などから形成される。続いて、図8(b)に示すように、透明導電層16aの上にレジストパターン(不図示)を形成し、それをマスクにして透明導電層16aをエッチングすることにより画素電極16を得る。その後に、レジストパターンが除去される。画素電極16は各画素部R,G,Bの領域に相互に分離されてそれぞれ配置される。   Next, as shown in FIG. 8A, a transparent conductive layer 16a having a thickness of about 150 nm is formed on the release layer 12 and the peelable pattern portion 14 by sputtering. The transparent conductive layer 16a is formed of ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). Subsequently, as shown in FIG. 8B, a resist pattern (not shown) is formed on the transparent conductive layer 16a, and the transparent conductive layer 16a is etched using the resist pattern as a mask to obtain the pixel electrode 16. Thereafter, the resist pattern is removed. The pixel electrodes 16 are arranged separately in the regions of the pixel portions R, G, and B, respectively.

本実施形態では、ガラス基板10上に画素電極16を形成するので、プラスチックフィルム上に形成する場合と違って成膜温度などのプロセス条件が限定されることがない。例えば、画素電極16としてITO層を使用する場合は、成膜温度が200℃程度のスパッタ法などを採用することができる。これにより、画素電極16(ITO)は低抵抗(シート抵抗値:15Ω/□)な電気特性をもって形成される。   In this embodiment, since the pixel electrode 16 is formed on the glass substrate 10, the process conditions such as the film formation temperature are not limited unlike the case of forming the pixel electrode 16 on the plastic film. For example, when an ITO layer is used as the pixel electrode 16, a sputtering method having a film forming temperature of about 200 ° C. can be employed. Thus, the pixel electrode 16 (ITO) is formed with low resistance (sheet resistance value: 15Ω / □) electrical characteristics.

剥離性パターン部14の高さが数μmであるため、画素電極16は、反射部A1と透過部A2の境界部で断線することなく形成される。   Since the height of the peelable pattern portion 14 is several μm, the pixel electrode 16 is formed without being disconnected at the boundary portion between the reflective portion A1 and the transmissive portion A2.

なお、剥離層12及び剥離性パターン部14の上に、SiOXやSiNXなどのバリア層を形成し、その上に画素電極16を形成してもよい。バリア層は、基板温度が220℃のスパッタ法によって膜厚が15nm程度で形成される。 Incidentally, on the release layer 12 and release pattern portion 14, forming a barrier layer such as SiO X or SiN X, it may form a pixel electrode 16 thereon. The barrier layer is formed with a film thickness of about 15 nm by a sputtering method with a substrate temperature of 220 ° C.

また、本実施形態では、アクティブマトリクスタイプの素子基板を製造する形態を例示しており、各画素電極16は各画素部R,G,Bごとに設けられたTFT(不図示)にそれぞれ接続されて形成される。あるいは、画素電極16をストライプ状のパターンで形成することにより、単純マトリクス駆動用の素子基板を製造してもよい。   Further, in this embodiment, an example of manufacturing an active matrix type element substrate is illustrated, and each pixel electrode 16 is connected to a TFT (not shown) provided for each pixel portion R, G, B, respectively. Formed. Alternatively, an element substrate for simple matrix driving may be manufactured by forming the pixel electrodes 16 in a stripe pattern.

このようにして、各画素部R,G,Bの領域に画素電極16がそれぞれ位置合わせされて配置される。   In this way, the pixel electrodes 16 are aligned and arranged in the regions of the pixel portions R, G, and B, respectively.

次いで、図8(c)に示すように、画素電極16の上にアクリル樹脂などからなる膜厚が2μm程度の第1保護層18を形成する。次いで、図9(a)に示すように、第1保護層18の上にポリイミドからなる膜厚が1μm程度の配向膜20を形成し、配向膜20を熱処理した後に、液晶分子が水平方向に配向するように一定方向に配向処理を施す。次いで、図9(b)に示すように、配向膜20の上に光硬化性液晶モノマー22aを形成する。このとき、光硬化性液晶モノマー22aは、その液晶分子の長軸がガラス基板10に対して水平方向に配向されて形成される。   Next, as shown in FIG. 8C, a first protective layer 18 made of acrylic resin or the like and having a thickness of about 2 μm is formed on the pixel electrode 16. Next, as shown in FIG. 9A, an alignment film 20 made of polyimide having a thickness of about 1 μm is formed on the first protective layer 18, and after the alignment film 20 is heat-treated, the liquid crystal molecules are aligned in the horizontal direction. An orientation process is performed in a certain direction so as to be oriented. Next, as shown in FIG. 9B, a photocurable liquid crystal monomer 22 a is formed on the alignment film 20. At this time, the photocurable liquid crystal monomer 22 a is formed by aligning the long axis of the liquid crystal molecules in the horizontal direction with respect to the glass substrate 10.

次いで、光硬化性液晶モノマー22aにパルスキセノン光を照射することにより、液晶分子が水平方向に配向した状態で光硬化性液晶ポリマー22aを硬化させてポリマー22bを得る。その後に、ポリマー22bを温度:150℃、処理時間:1時間の条件でベークする。これにより、硬化したポリマー22bはリタデーション層(λ/4位相差層)として機能するようになる。   Next, by irradiating the photocurable liquid crystal monomer 22a with pulse xenon light, the photocurable liquid crystal polymer 22a is cured with the liquid crystal molecules aligned in the horizontal direction to obtain a polymer 22b. Thereafter, the polymer 22b is baked under the conditions of temperature: 150 ° C. and processing time: 1 hour. Thus, the cured polymer 22b functions as a retardation layer (λ / 4 retardation layer).

次いで、硬化したポリマー22bの上にポジレジスト(不図示)を形成し、各画素部R,G,Bの反射部A2上にパターンを残すためのフォトマスクを介してポジレジストを露光・現像する。さらに、パターン化されたポジレジストをマスクにしてポリマー22bをエッチングした後に、ポジレジストを除去する。   Next, a positive resist (not shown) is formed on the cured polymer 22b, and the positive resist is exposed and developed through a photomask for leaving a pattern on the reflection portion A2 of each pixel portion R, G, B. . Further, after etching the polymer 22b using the patterned positive resist as a mask, the positive resist is removed.

これにより、図9(c)に示すように、各画素部R,G,Bの反射部A1に対応する配向膜20の上に、ポリマー22bから形成されたリタデーションパターン層22(λ/4位相差層)がそれぞれパターン化されて形成される。リタデーションパターン層22(λ/4位相差層)として機能する好適なポリマー22bとしては、その屈折率異方性Δnが0.17、その膜厚が810nmに設定される。   As a result, as shown in FIG. 9C, the retardation pattern layer 22 (λ / 4 position) formed from the polymer 22b on the alignment film 20 corresponding to the reflection portion A1 of each pixel portion R, G, B. The phase difference layer) is formed by patterning. A suitable polymer 22b that functions as the retardation pattern layer 22 (λ / 4 retardation layer) has a refractive index anisotropy Δn of 0.17 and a film thickness of 810 nm.

なお、ポリマーをパターン化せずに、反射部の配向膜の上に液晶分子が水平方向に配向される光硬化性液晶モノマーを部分的に硬化させてリタデーションパターン層を形成し、透過部の配向膜の上に液晶分子がランダム又は垂直に配向される光硬化性液晶モノマーを部分的に硬化させて透明層を形成してもよい。   In addition, without patterning the polymer, a retardation pattern layer is formed by partially curing a photo-curable liquid crystal monomer in which liquid crystal molecules are aligned in the horizontal direction on the alignment film of the reflection portion, and the alignment of the transmission portion. A transparent layer may be formed by partially curing a photocurable liquid crystal monomer in which liquid crystal molecules are randomly or vertically aligned on the film.

次いで、図10(a)に示すように、配向膜20及びリタデーションパターン層22の上にアクリル樹脂などからなる第2保護層24を形成する。さらに、図10(b)に示すように、第2保護層24の上にカラーフィルタ26を形成する。カラーフィルタ26は赤色画素部Rに配置される赤色カラーフィルタ26Rと、緑色画素部Gに配置される緑色カラーフィルタ26Gと、青色画素部Bに配置される青色カラーフィルタ26Bと、各画素部の間に配置される遮光層26Xとによって構成される。そして、3原色の画素部R,G,B(サブピクセル)が表示単位であるピクセルを構成する。カラーフィルタ26は、例えば顔料分散タイプの感光性塗布膜がフォトリソグラフィによって順次パターニングされて形成される。   Next, as shown in FIG. 10A, a second protective layer 24 made of an acrylic resin or the like is formed on the alignment film 20 and the retardation pattern layer 22. Further, as shown in FIG. 10B, a color filter 26 is formed on the second protective layer 24. The color filter 26 includes a red color filter 26R disposed in the red pixel portion R, a green color filter 26G disposed in the green pixel portion G, a blue color filter 26B disposed in the blue pixel portion B, and each pixel portion. It is comprised by the light shielding layer 26X arrange | positioned between. The pixel portions R, G, and B (sub-pixels) of the three primary colors constitute a display unit. The color filter 26 is formed by sequentially patterning, for example, a pigment dispersion type photosensitive coating film by photolithography.

次いで、図10(c)に示すように、カラーフィルタ26の上にアクリル樹脂などかならなる第3保護層28を形成した後に、その表面を粗面化処理して微細な凹凸を形成する。   Next, as shown in FIG. 10C, after the third protective layer 28 made of acrylic resin or the like is formed on the color filter 26, the surface is roughened to form fine irregularities.

続いて、図11(a)に示すように、真空蒸着法により第3保護層28の上にアルミニウムなどの金属層30aを形成する。さらに、金属層30aの上にポジレジスト(不図示)を形成し、各画素部R,G,Bの反射部A1上にパターンを残すための露光パターンを備えたフォトマスクを介してポジレジストを露光・現像する。さらに、パターン化されたポジレジストをマスクにして金属層30aをエッチングした後に、ポジレジストを除去する。   Subsequently, as shown in FIG. 11A, a metal layer 30a such as aluminum is formed on the third protective layer 28 by vacuum deposition. Further, a positive resist (not shown) is formed on the metal layer 30a, and the positive resist is formed through a photomask having an exposure pattern for leaving a pattern on the reflection portion A1 of each pixel portion R, G, B. Exposure and development. Furthermore, after the metal layer 30a is etched using the patterned positive resist as a mask, the positive resist is removed.

これにより、図11(b)に示すように、各画素部R,G,Bの反射部A1に対応する第3保護層28の上に反射パターン層30がそれぞれ形成される。   Thus, as shown in FIG. 11B, the reflective pattern layer 30 is formed on the third protective layer 28 corresponding to the reflective portion A1 of each pixel portion R, G, B.

このようにして、各画素部R,G,Bの反射部A1に対応する領域にリタデーションパターン層22と反射パターン層30とがそれぞれ位置合わせされて配置される。   In this way, the retardation pattern layer 22 and the reflective pattern layer 30 are respectively aligned and arranged in the region corresponding to the reflective portion A1 of each pixel portion R, G, B.

続いて、図12(a)に示すように、図11(b)の構造体の反射パターン層30及び第3保護層28の上にスプレーコートにより、膜厚が10μm程度の紫外線硬化型の接着層32を形成する。このとき、接着層32の中に予めスペーサ粒子を混入しておくことによってその膜厚を均一に保つことができる。   Subsequently, as shown in FIG. 12A, an ultraviolet curable adhesive having a film thickness of about 10 μm is formed on the reflective pattern layer 30 and the third protective layer 28 of the structure of FIG. 11B by spray coating. Layer 32 is formed. At this time, by mixing spacer particles in the adhesive layer 32 in advance, the film thickness can be kept uniform.

さらに、接着層32の上に光学的に等方性のプラスチックフィルム40を貼り合せる。プラスチックフィルム40としては、厚みが100〜200μm(好適には120μm)のポリエーテルスルホンフィルムやポリカーボネートフィルムなどが使用される。   Further, an optically isotropic plastic film 40 is bonded onto the adhesive layer 32. As the plastic film 40, a polyethersulfone film or a polycarbonate film having a thickness of 100 to 200 μm (preferably 120 μm) is used.

その後に、プラスチップフィルム40側から紫外線を照射することにより接着層32を硬化させた後に、クリーンオーブンで温度:120℃、処理時間:30分の条件で熱処理する。   Thereafter, the adhesive layer 32 is cured by irradiating ultraviolet rays from the plus chip film 40 side, and then heat-treated in a clean oven at a temperature of 120 ° C. and a treatment time of 30 minutes.

次いで、図12(b)に示すように、プラスチックフィルム40の一端にロール(不図示)を固定し、そのロールを回転させながらガラス基板10を剥離する。このとき、ガラス基板10と剥離層12との界面に沿って剥離され、ガラス基板10が廃棄される。   Next, as shown in FIG. 12B, a roll (not shown) is fixed to one end of the plastic film 40, and the glass substrate 10 is peeled while rotating the roll. At this time, it peels along the interface of the glass substrate 10 and the peeling layer 12, and the glass substrate 10 is discarded.

図13(a)には、図12(b)の構造体を上下反転させた状態が示されている。図13(a)に示すように、プラスチックフィルム40の上に、反射A1では、下から順に、接着層32、反射パターン層30、第3保護層28、カラーフィルタ26、第2保護層24、リタデーションパターン層22、配向膜20、第1保護層18、画素電極16、剥離性パターン部14、及び剥離層12から構成される転写層Tが転写・形成される。   FIG. 13A shows a state where the structure of FIG. 12B is turned upside down. As shown in FIG. 13A, on the plastic film 40, in the reflective A1, in order from the bottom, the adhesive layer 32, the reflective pattern layer 30, the third protective layer 28, the color filter 26, the second protective layer 24, A transfer layer T composed of the retardation pattern layer 22, the alignment film 20, the first protective layer 18, the pixel electrode 16, the peelable pattern portion 14, and the peelable layer 12 is transferred and formed.

本実施形態と違ってプラスチックフィルムの上に直接、各種素子を位置合わせして形成する場合は、各種素子の形成造工程でのプラスチックフィルムの熱変形などによって各画素部R,G,Bの反射部A1にリタデーションパターン層22及び反射パターン層30を高精度に位置合わせして形成することは困難である。   Unlike the present embodiment, when various elements are aligned and formed directly on a plastic film, the reflection of each pixel portion R, G, B is caused by thermal deformation of the plastic film in the process of forming various elements. It is difficult to form the retardation pattern layer 22 and the reflective pattern layer 30 in the portion A1 with high accuracy.

しかしながら、本実施形態では、耐熱性で剛性のガラス基板10の上に画定された各画素部R,G,Bの反射部A1にリタデーションパターン層22及び反射パターン層30が高精度に位置合わせして形成される。その後に、ガラス基板10の上に形成された転写層Tがプラスチックフィルム40の上に上下反転した状態で転写・形成される。   However, in this embodiment, the retardation pattern layer 22 and the reflective pattern layer 30 are accurately aligned with the reflective portions A1 of the pixel portions R, G, and B defined on the heat-resistant and rigid glass substrate 10. Formed. Thereafter, the transfer layer T formed on the glass substrate 10 is transferred and formed on the plastic film 40 while being inverted upside down.

このような転写技術を採用することにより、各種素子の形成工程でのプラスチックフィルム40の熱変形を考慮する必要がないので、プラスチックフィルム40の上の各画素部R,G,Bの反射部A1にリタデーションパターン層22及び反射パターン層30が高精度に位置合わせして形成される。   By adopting such a transfer technique, it is not necessary to consider the thermal deformation of the plastic film 40 in the process of forming various elements. Therefore, the reflective portions A1 of the pixel portions R, G, B on the plastic film 40 are used. In addition, the retardation pattern layer 22 and the reflective pattern layer 30 are formed with high precision alignment.

次いで、図13(b)に示すように、図13(a)の構造体の上面側の剥離層12及び剥離性パターン部14を、酸素を含むガスのプラズマ又はアルカリ溶液などを使用するウェットエッチングにより除去することにより、画素電極16を露出させる。剥離層12及び剥離性パターン部14は剥離が容易なポリイミドからなるので、上記処理によって下地の画素電極16や第1保護層18に対して選択的に除去される。   Next, as shown in FIG. 13B, wet etching using a plasma of oxygen-containing gas or an alkaline solution is performed on the release layer 12 and the peelable pattern portion 14 on the upper surface side of the structure in FIG. Thus, the pixel electrode 16 is exposed. Since the release layer 12 and the peelable pattern portion 14 are made of polyimide that can be easily peeled off, they are selectively removed from the underlying pixel electrode 16 and the first protective layer 18 by the above-described treatment.

これにより、各画素部R,G,Bにおいて、露出した画素電極16の上面側では、剥離性パターン部14が除去されて透過部A2に凹部Cが設けられ、反射部A1が透過部A2から突出する凸部Pとなる。このようにして、反射部A1の高さが透過部A2の高さより高く設定される。   Thereby, in each pixel part R, G, B, on the upper surface side of the exposed pixel electrode 16, the peelable pattern part 14 is removed, and the concave part C is provided in the transmission part A2, and the reflection part A1 is separated from the transmission part A2. It becomes the convex part P which protrudes. In this way, the height of the reflection part A1 is set higher than the height of the transmission part A2.

続いて、図14に示すように、図13(b)の構造体の上面側の画素電極16及び第1保護層18の上に液晶を配向させるための配向膜34を形成した後に、配向処理を行う。さらに、プラスチックフィルム40の下面に第1偏光層36を形成する。以上により、本実施形態の半透過型液晶表示装置を構成するための素子基板1が得られる。   Subsequently, as shown in FIG. 14, an alignment film 34 for aligning liquid crystal is formed on the pixel electrode 16 and the first protective layer 18 on the upper surface side of the structure in FIG. I do. Further, the first polarizing layer 36 is formed on the lower surface of the plastic film 40. Thus, the element substrate 1 for constituting the transflective liquid crystal display device of the present embodiment is obtained.

次に、本実施形態の素子基板1を利用して構成される半透過型液晶表示装置について説明する。図15に示すように、まず、上記した素子基板1と、それに対向して配置される対向基板2とを用意する。対向基板2は、プラスチックフィルム40aと、その一方の面に形成された保護層18aと、保護層18aの上に形成されたITOなどからなるコモン電極17と、コモン電極17の上に形成された配向膜34aと、プラスチックフィルム40aの他方の面に形成された第2偏光層36aとによって基本構成される。   Next, a transflective liquid crystal display device configured using the element substrate 1 of the present embodiment will be described. As shown in FIG. 15, first, the above-described element substrate 1 and the counter substrate 2 disposed to face the element substrate 1 are prepared. The counter substrate 2 is formed on the plastic film 40a, the protective layer 18a formed on one surface thereof, the common electrode 17 made of ITO or the like formed on the protective layer 18a, and the common electrode 17. The alignment film 34a and the second polarizing layer 36a formed on the other surface of the plastic film 40a are basically configured.

そして、素子基板1の配向膜34側の面に対向基板2の配向膜34a側の面が所定間隔を空けた状態で対向して配置され、素子基板1と対向基板2との間に強誘電性液晶38が挟持されて、本実施形態の半透過型液晶表示装置3が得られる。   Then, the surface on the alignment film 34 side of the counter substrate 2 is disposed opposite to the surface on the alignment film 34 side of the element substrate 1 with a predetermined gap therebetween, and the ferroelectric is interposed between the element substrate 1 and the counter substrate 2. The transflective liquid crystal display device 3 of the present embodiment is obtained by sandwiching the conductive liquid crystal 38.

図16(a)〜(c)には、図15の半透過型液晶表示装置3の組み立て方法が模式的に示されている。図16(a)に示すように、まず、本実施形態では、強誘電性液晶38として、光硬化性液晶モノマー38aが混合された液晶/モノマー混合液38xが使用される。液晶/モノマー混合液38xは、強誘電性液晶38と光硬化性液晶モノマー38aとをかくはんすることによって得られる。光硬化性液晶モノマー38aとしては、紫外線照射によって重合する液晶性のアクリルモノマーが使用される。そのような光硬化性液晶モノマー38aは、強誘電性液晶38と相溶性をもち、かつ強誘電性液晶と共に分子配向性を示す。   16A to 16C schematically show a method for assembling the transflective liquid crystal display device 3 of FIG. As shown in FIG. 16A, first, in the present embodiment, as the ferroelectric liquid crystal 38, a liquid crystal / monomer mixed solution 38x in which a photocurable liquid crystal monomer 38a is mixed is used. The liquid crystal / monomer mixture liquid 38x is obtained by stirring the ferroelectric liquid crystal 38 and the photocurable liquid crystal monomer 38a. As the photocurable liquid crystal monomer 38a, a liquid crystalline acrylic monomer that is polymerized by ultraviolet irradiation is used. Such a photocurable liquid crystal monomer 38a is compatible with the ferroelectric liquid crystal 38 and exhibits molecular orientation together with the ferroelectric liquid crystal.

そして、この液晶/モノマー混合液38xを素子基板1の配向処理が施された配向膜34(図15)の上に均一に塗布する。さらに、対向基板2の配向膜34a(図15)の面を液晶/モノマー混合液38xに当接させて配置し、対向基板2及び素子基板1をプレスすることにより、液晶/モノマー混合液38xを挟み込む。このとき、液晶/モノマー混合液38xにはスペーサ粒子(不図示)が分散されているため、対向基板2及び素子基板1がスペーサのサイズまで押し込まれてそれらの間隔(液晶/モノマー混合液38xの厚み)が一定となる。またこのとき、光硬化性液晶モノマー38aは、強誘電性液晶38と共に配向膜34,34a(図15)によって分子配向する。   Then, the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x is uniformly applied on the alignment film 34 (FIG. 15) on which the alignment treatment of the element substrate 1 has been performed. Further, the surface of the alignment film 34a (FIG. 15) of the counter substrate 2 is disposed in contact with the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x, and the counter substrate 2 and the element substrate 1 are pressed, whereby the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x is obtained. Sandwich. At this time, since the spacer particles (not shown) are dispersed in the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x, the counter substrate 2 and the element substrate 1 are pushed to the size of the spacer, and the distance between them (the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x). (Thickness) becomes constant. At this time, the photocurable liquid crystal monomer 38a is molecularly aligned by the alignment films 34 and 34a (FIG. 15) together with the ferroelectric liquid crystal 38.

なお、スペーサ粒子を分散する代わりに、基板上にフォトリソグラフィなどによりスペーサ柱を形成してもよい。   Instead of dispersing the spacer particles, spacer columns may be formed on the substrate by photolithography or the like.

次いで、図16(b)に示すように、格子状のフォトマスク42を介して液晶/モノマー混合液38xに紫外線をパターン露光する。このとき、液晶/モノマー混合液38x内で拡散・浮遊するモノマーの分子は露光部に達した時点で重合・硬化して、対向基板2及び素子基板1に接着するポリマー壁44を構築する。   Next, as shown in FIG. 16B, the liquid crystal / monomer mixed solution 38x is subjected to pattern exposure through the lattice-like photomask 42. At this time, the monomer molecules diffusing and floating in the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x are polymerized and cured when reaching the exposed portion, and the polymer wall 44 that adheres to the counter substrate 2 and the element substrate 1 is constructed.

さらに、図16(c)に示すように、液晶/モノマー混合液38xの全体にわたって紫外線を露光することにより、未露光部に残された液晶/モノマー混合液38x中のモノマー成分が液晶中で凝集・析出してポリマー繊維46がネットワーク状に形成される。このようにして、素子基板1と対向基板2との間に強誘電性液晶38が挟持され、それらの基板がポリマー壁及びポリマー繊維46によって所定間隔を保った状態で接着される。   Further, as shown in FIG. 16C, the monomer component in the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x left in the unexposed area is aggregated in the liquid crystal by exposing the entire liquid crystal / monomer mixture liquid 38x to ultraviolet rays. -It precipitates and the polymer fiber 46 is formed in a network form. In this manner, the ferroelectric liquid crystal 38 is sandwiched between the element substrate 1 and the counter substrate 2, and these substrates are bonded to each other with the polymer wall and the polymer fiber 46 at a predetermined interval.

なお、形成されるポリマーの分子配向をラビング方向に分子配向させるためには、露光時に液晶/モノマー混合液38xを加熱してネマティック相に制御することが望ましいが、ネマティック相には限定されるものではない。また、図16では、紫外線を2段階に分けて照射しているが、ポリマー壁44は必ずしも形成する必要はない。つまり、フォトマスク42を介した部分露光を省略し、紫外線で液晶/モノマー混合液38xの全体を露光することにより、ポリマー繊維46のみが設けられるようにしてもよい。   In order to align the molecular orientation of the polymer to be formed in the rubbing direction, it is desirable to control the nematic phase by heating the liquid crystal / monomer mixture liquid 38x during exposure, but this is limited to the nematic phase. is not. In FIG. 16, the ultraviolet rays are irradiated in two stages, but the polymer wall 44 is not necessarily formed. That is, partial exposure through the photomask 42 may be omitted, and only the polymer fiber 46 may be provided by exposing the entire liquid crystal / monomer mixture liquid 38x with ultraviolet rays.

以上により、上記した本実施形態のフレキシブルタイプの半透過型液晶表示装置3が得られる。   As described above, the flexible transflective liquid crystal display device 3 of the present embodiment described above is obtained.

図15に示すように、本実施形態の半透過型液晶表示装置3は、素子基板1と、対向基板2と、それらの間に挟持された強誘電性液晶38とによって基本構成される。素子基板1では、プラスチックフィルム40の上に赤色画素部R、緑色画素部G、及び青色画素部Bが画定されている。各画素部R,G,Bの領域は、中央部に配置された透過部A2と周縁側に配置された反射部A1とによって構成される。反射部A1と透過部A2のレイアウトは、各種の形態を採用することができる。本実施形態と逆に、中央部に反射部A1が配置され、周縁側に透過部A2が配置されるようにしてもよい。さらには、各画素部R,G,Bの領域内で反射部A1と透過部A2が複数に分割されていてもよい。   As shown in FIG. 15, the transflective liquid crystal display device 3 of this embodiment is basically composed of an element substrate 1, a counter substrate 2, and a ferroelectric liquid crystal 38 sandwiched therebetween. In the element substrate 1, a red pixel portion R, a green pixel portion G, and a blue pixel portion B are defined on the plastic film 40. The regions of the pixel portions R, G, and B are configured by a transmissive portion A2 disposed in the center portion and a reflective portion A1 disposed on the peripheral side. Various forms can be adopted for the layout of the reflection part A1 and the transmission part A2. Contrary to the present embodiment, the reflection part A1 may be arranged at the center and the transmission part A2 may be arranged at the peripheral side. Furthermore, the reflection part A1 and the transmission part A2 may be divided into a plurality of areas within the regions of the pixel parts R, G, and B.

また、反射部A1と透過部A2との分割比は任意に設定することができる。反射部A1の面積を透過部A2より大きくすれば、反射重視型の表示特性が得られる。また逆に、透過部A2の面積を反射部A1より大きくすれば、透過重視型の表示特性が得られる。   Further, the division ratio between the reflection part A1 and the transmission part A2 can be arbitrarily set. If the area of the reflection part A1 is made larger than that of the transmission part A2, reflection-oriented display characteristics can be obtained. Conversely, if the area of the transmission part A2 is larger than that of the reflection part A1, transmission-oriented display characteristics can be obtained.

プラスチックフィルム40の上には接着層32が形成されており、接着層32の上にはそれに埋設された状態で反射パターン層30が形成されている。反射パターン層30は各画素部R,G,Bの反射部A1に対応する部分にそれぞれ配置されている。   An adhesive layer 32 is formed on the plastic film 40, and the reflective pattern layer 30 is formed on the adhesive layer 32 in a state of being embedded therein. The reflective pattern layer 30 is disposed in a portion corresponding to the reflective portion A1 of each pixel portion R, G, B.

さらに、反射パターン層30の上に第3保護層28及びカラーフィルタ26が順に形成されている。カラーフィルタ26は、赤色画素部Rに配置された赤色カラーフィルタ26Rと、緑色画素部Gに配置された緑色カラーフィルタ26Gと、青色画素部Bに配置された青色カラーフィルタ26Bと、画素部の間の領域に配置された遮光層26Xとにより構成される。   Further, a third protective layer 28 and a color filter 26 are formed in order on the reflective pattern layer 30. The color filter 26 includes a red color filter 26R disposed in the red pixel portion R, a green color filter 26G disposed in the green pixel portion G, a blue color filter 26B disposed in the blue pixel portion B, and a pixel portion. It is comprised by the light shielding layer 26X arrange | positioned in the area | region between.

また、カラーフィルタ26の上に第2保護層24が形成されている。各画素部R,G,Bの反射部A1に対応する第2保護層24の上(反射パターン層30に対応する部分)にリタデーションパターン層22(λ/4位相差層)がそれぞれ形成されている。   A second protective layer 24 is formed on the color filter 26. A retardation pattern layer 22 (λ / 4 retardation layer) is formed on the second protective layer 24 corresponding to the reflective portion A1 of each pixel portion R, G, B (a portion corresponding to the reflective pattern layer 30). Yes.

リタデーションパターン層22の上にはそれを形成する際にその液晶分子を配向させるために使用された配向膜20が形成されている。配向膜20の上には第1保護層18が形成されている。さらに、各画素部R,G,Bの全体に対応する第1保護層18の上に画素電極16がそれぞれ形成されている。また、画素電極の16の上に強誘電性液晶38を配向させるための配向膜34が形成されている。さらに、プラスチックフィルム40の下面に第1偏光層36が設けられている。   On the retardation pattern layer 22, an alignment film 20 used for aligning liquid crystal molecules when forming the retardation pattern layer 22 is formed. A first protective layer 18 is formed on the alignment film 20. Further, pixel electrodes 16 are formed on the first protective layer 18 corresponding to the entire pixel portions R, G, and B, respectively. An alignment film 34 for aligning the ferroelectric liquid crystal 38 is formed on the pixel electrode 16. Further, a first polarizing layer 36 is provided on the lower surface of the plastic film 40.

一方、対向基板2では、プラスチックフィルム40aの上(図15では下)に保護層18a、コモン電極17及び配向膜34aが順に形成され、プラスチックフィルム40aのコモン電極17が配置された面と反対面に第2偏光層36aが形成されて構成されている。   On the other hand, in the counter substrate 2, the protective layer 18a, the common electrode 17 and the alignment film 34a are formed in this order on the plastic film 40a (lower in FIG. 15), and the surface opposite to the surface on which the common electrode 17 is disposed. The second polarizing layer 36a is formed.

そして、前述したような光伝播を達成するため、素子基板1の第1偏光層36と対向基板2の第2偏光層36aとはそれらの光透過軸が直交するように配置されている。   In order to achieve the above-described light propagation, the first polarizing layer 36 of the element substrate 1 and the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2 are arranged so that their light transmission axes are orthogonal to each other.

本実施形態に係る素子基板1では、前述したように、強誘電性液晶38と接する面側において、各画素部R,G,Bの透過部A2に対応する部分に凹部Cが設けられており、反射部A1が透過部A2から突出する凸部Pとなっている。これによって、透過部A2の強誘電性液晶38の厚み(セルギャップ)が反射部A1の強誘電性液晶38の厚みよりも厚く(2倍程度)なるように設定されている。そして、前述したような光伝播を達成するため、強誘電性液晶38は、対向基板2の第2偏光層36aの光透過軸PA2と平行又は直交する配向方向に配向されている。   In the element substrate 1 according to the present embodiment, as described above, the concave portion C is provided in the portion corresponding to the transmission portion A2 of each pixel portion R, G, B on the surface side in contact with the ferroelectric liquid crystal 38. The reflection part A1 is a convex part P protruding from the transmission part A2. Thus, the thickness (cell gap) of the ferroelectric liquid crystal 38 in the transmission part A2 is set to be thicker (about twice) than the thickness of the ferroelectric liquid crystal 38 in the reflection part A1. In order to achieve the light propagation as described above, the ferroelectric liquid crystal 38 is aligned in an alignment direction that is parallel or orthogonal to the light transmission axis PA2 of the second polarizing layer 36a of the counter substrate 2.

このようにセルギャップを設定することにより、反射部A1と透過部A2と間で強誘電性液晶38を通過する光の経路を等しくできることから、反射部A1と透過部A2とで光学的ロスの少ない画像表示を実現することができる。   By setting the cell gap in this way, the path of light passing through the ferroelectric liquid crystal 38 can be made equal between the reflective portion A1 and the transmissive portion A2, so that the optical loss between the reflective portion A1 and the transmissive portion A2 is reduced. Fewer image displays can be realized.

本実施形態の半透過型液晶表示装置3では、ポリマー壁44及びポリマー繊維46によって、素子基板1と対向基板2とが緻密に接着されて両基板と液晶が一体化されることから、プラスチックフィルム40,40aが曲げられた場合であっても全体にわたって一定のセルギャップが確保される。従って、フレキシブル液晶ディスプレイにおいて安定した表示特性が得られるようになる。しかも、前述したように、電界OFFのときは、液晶による光の位相差を考慮する必要がないので、光設計への影響を考慮することなく、ポリマー壁44やポリマー繊維46の分散率を自由に最適化することができる。   In the transflective liquid crystal display device 3 of the present embodiment, the element substrate 1 and the counter substrate 2 are closely bonded by the polymer wall 44 and the polymer fiber 46 so that the two substrates and the liquid crystal are integrated. Even if 40 and 40a are bent, a constant cell gap is secured throughout. Therefore, stable display characteristics can be obtained in the flexible liquid crystal display. In addition, as described above, when the electric field is OFF, it is not necessary to consider the phase difference of light due to the liquid crystal, so the dispersion rate of the polymer wall 44 and the polymer fiber 46 can be freely set without considering the influence on the optical design. Can be optimized.

なお、本実施形態では、好適な形態として、転写技術を使用することによりプラスチックフィルムの上に反射パターン層30、リタデーションパターン層22及び画素電極116などを位置合わせ精度よく形成して素子基板1を製造したが、位置合わせ精度が問題にならない場合は、プラスチックフィルムの上に素子を直接形成するようにしてもよい。あるいは、基板としてプラスチックフィルムの代わりにガラス基板などを使用して剛性を有する半透過型液晶表示装置としてもよい。   In this embodiment, as a preferred embodiment, the reflection substrate 30, the retardation pattern layer 22, the pixel electrode 116, and the like are formed on the plastic film with a high alignment accuracy by using a transfer technique. If manufactured, but alignment accuracy is not a problem, the element may be formed directly on the plastic film. Alternatively, a semi-transmissive liquid crystal display device having rigidity may be used by using a glass substrate or the like instead of a plastic film as a substrate.

図1は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の基本構成を示す模式図(その1)である。FIG. 1 is a schematic diagram (No. 1) showing a basic configuration of a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図2は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の基本構成を示す模式図(その2)である。FIG. 2 is a schematic diagram (No. 2) showing a basic configuration of a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図3は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の電界OFF時の透過部の光伝播の様子を模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing the state of light propagation in the transmissive portion when the electric field is OFF in the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図4は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の電界OFF時の反射部の光伝播の様子を模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing the state of light propagation in the reflecting portion when the electric field is OFF in the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図5は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の電界ON時の透過部の光伝播の様子を模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing the state of light propagation in the transmissive portion when the electric field is ON in the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図6は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の電界ON時の反射部の光伝播の様子を模式図である。FIG. 6 is a schematic view showing the state of light propagation in the reflecting portion when the electric field is ON in the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図7(a)〜(c)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その1)である。7A to 7C are sectional views (No. 1) showing a method for manufacturing an element substrate of a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図8(a)〜(c)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その2)である。8A to 8C are cross-sectional views (part 2) showing the method for manufacturing the element substrate of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図9(a)〜(c)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その3)である。9A to 9C are cross-sectional views (No. 3) showing the method for manufacturing the element substrate of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図10(a)〜(c)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その4)である。10A to 10C are cross-sectional views (part 4) showing the method for manufacturing the element substrate of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図11(a)及び(b)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その5)である。11A and 11B are sectional views (No. 5) showing the method for manufacturing the element substrate of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図12(a)及び(b)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その6)である。12A and 12B are sectional views (No. 6) showing the method for manufacturing the element substrate of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図13(a)及び(b)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板の製造方法を示す断面図(その7)である。13A and 13B are cross-sectional views (No. 7) showing the method for manufacturing the element substrate of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図14は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の素子基板を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing an element substrate of a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図15は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図16(a)〜(c)は本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の組み立て方法を示す模式図である。FIGS. 16A to 16C are schematic views showing a method for assembling the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…素子基板、1a,2a…基板部、2…対向基板、3…半透過型液晶表示装置、10…ガラス基板、12…剥離層、14…剥離性パターン部、14a,15a…開口部、15…ポジレジスト、16a…透明導電層、16…画素電極、17…コモン電極、18…第1保護層、18a…保護層、20,34,34a…配向膜、22a…光硬化性液晶モノマー、22b…ポリマー、22…リタデーションパターン層、23…フォトマスク、24…第2保護層、26…カラーフィルタ、26R…赤色カラーフィルタ、26G…緑色カラーフィルタ、26B…青色カラーフィルタ、26X…遮光層、28…第3保護層、30a…金属層、30…反射パターン層、32…接着層、36…第1偏光層、36a…第2偏光層、38…強誘電性液晶、38a…光硬化性モノマー、38x…液晶/モノマー混合液、40,40a…プラスチックフィルム、42…フォトマスク、44…ポリマー壁、46…ポリマー繊維、50…バックライト、A1…反射部、A2…透過部、R…赤色画素部、G…緑色画素部、B…青色画素部、C…凹部、P…凸部、PA1,PA2…光透過軸、LA,LA1,LA2,LB1〜LB5…偏光、LX…外光、DA…遅相軸。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Element substrate, 1a, 2a ... Substrate part, 2 ... Opposite substrate, 3 ... Semi-transmissive liquid crystal display device, 10 ... Glass substrate, 12 ... Release layer, 14 ... Release pattern part, 14a, 15a ... Opening part, DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 ... Positive resist, 16a ... Transparent conductive layer, 16 ... Pixel electrode, 17 ... Common electrode, 18 ... 1st protective layer, 18a ... Protective layer, 20, 34, 34a ... Alignment film, 22a ... Photocurable liquid crystal monomer, 22b ... polymer, 22 ... retardation pattern layer, 23 ... photomask, 24 ... second protective layer, 26 ... color filter, 26R ... red color filter, 26G ... green color filter, 26B ... blue color filter, 26X ... light shielding layer, 28 ... third protective layer, 30a ... metal layer, 30 ... reflective pattern layer, 32 ... adhesive layer, 36 ... first polarizing layer, 36a ... second polarizing layer, 38 ... ferroelectric liquid crystal, 38a ... Curing monomer, 38x ... liquid crystal / monomer mixture, 40, 40a ... plastic film, 42 ... photomask, 44 ... polymer wall, 46 ... polymer fiber, 50 ... backlight, A1 ... reflection part, A2 ... transmission part, R ... red pixel part, G ... green pixel part, B ... blue pixel part, C ... concave part, P ... convex part, PA1, PA2 ... light transmission axis, LA, LA1, LA2, LB1 to LB5 ... polarized light, LX ... external light , DA ... Slow axis.

Claims (3)

反射部と透過部とから構成される複数の画素部が画定される仮基板を用意する工程と、
前記仮基板の上に剥離層を形成する工程と、
前記透過部に対応する前記剥離層の上に剥離性パターン部を部分的に形成する工程と、
前記反射部及び前記透過部に対応する前記剥離層及び剥離性パターン部の上方に画素電極を形成する工程と、
前記反射部に対応する前記画素電極の上方にリタデーションパターン層を形成する工程と、
前記反射部に対応する前記リタデーションパターン層の上方に反射パターン層を形成する工程と、
前記反射パターン層の上に接着層を介してプラスチックフィルムを接着する工程と、
前記仮基板を前記剥離層との界面から剥離することにより、前記プラスチックフィルム上に、前記接着層を介して、前記反射パターン層、前記リタデーションパターン層、前記画素電極、前記剥離性パターン部及び前記剥離層を転写・形成する工程と、
前記剥離層及び前記剥離性パターン部を除去することにより、前記画素電極を露出させる工程とを含む方法により、
前記反射部と前記透過部とから構成される複数の画素部が画定され、上面側の前記反射部に対応する部分に、前記反射パターン層とその上方に設けられた前記リタデーションパターン層とを備え、かつ下面側に第1偏光層を備え、前記反射部の高さが前記透過部の高さより高く設定された素子基板を用意し、
前記第1偏光層の光透過軸と直交する光透過軸をもつ第2偏光層を上面側に備えた対向基板を用意する工程と、
前記素子基板とその上に対向して配置される前記対向基板との間に、液晶分子が前記対向基板の前記第2偏光層の光透過軸に対して平行方向又は垂直方向に配向するように強誘電性液晶を挟持させる工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置の製造方法。
Preparing a temporary substrate in which a plurality of pixel portions composed of a reflective portion and a transmissive portion are defined;
Forming a release layer on the temporary substrate;
Partially forming a peelable pattern portion on the release layer corresponding to the transmission portion;
Forming a pixel electrode above the release layer and the peelable pattern portion corresponding to the reflective portion and the transmissive portion;
Forming a retardation pattern layer above the pixel electrode corresponding to the reflective portion;
Forming a reflective pattern layer above the retardation pattern layer corresponding to the reflective portion;
Adhering a plastic film on the reflective pattern layer via an adhesive layer;
By peeling the temporary substrate from the interface with the release layer, the reflective pattern layer, the retardation pattern layer, the pixel electrode, the peelable pattern portion, and the plastic film on the plastic film via the adhesive layer. A step of transferring and forming the release layer;
A step of exposing the pixel electrode by removing the release layer and the peelable pattern portion,
A plurality of pixel portions each including the reflective portion and the transmissive portion are defined, and the reflective pattern layer and the retardation pattern layer provided above the reflective pattern layer are provided in a portion corresponding to the reflective portion on the upper surface side. And an element substrate provided with a first polarizing layer on the lower surface side, the height of the reflective portion being set higher than the height of the transmissive portion,
Preparing a counter substrate provided with a second polarizing layer on the upper surface side having a light transmission axis perpendicular to the light transmission axis of the first polarizing layer;
Between the element substrate and the counter substrate disposed opposite thereto, liquid crystal molecules are aligned in a direction parallel or perpendicular to the light transmission axis of the second polarizing layer of the counter substrate. And a step of sandwiching a ferroelectric liquid crystal. A method of manufacturing a transflective liquid crystal display device.
前記素子基板と前記対向基板の間に前記強誘電性液晶を挟持させる工程は、
前記強誘電性液晶として、該強誘電性液晶に光硬化性モノマーが混合された液晶/モノマー混合液を使用し、
前記素子基板と前記対向基板とによって前記液晶/モノマー混合液を挟み込み、紫外線を全面に照射することによって前記光硬化性モノマーを硬化させて、ポリマー繊維を形成することにより、前記素子基板と前記対向基板とを接着することを含むことを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示装置の製造方法。
The step of sandwiching the ferroelectric liquid crystal between the element substrate and the counter substrate,
As the ferroelectric liquid crystal, a liquid crystal / monomer mixed liquid in which a photocurable monomer is mixed with the ferroelectric liquid crystal is used,
The liquid crystal / monomer mixed liquid is sandwiched between the element substrate and the counter substrate, and the photocurable monomer is cured by irradiating the entire surface with ultraviolet rays to form a polymer fiber. The method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to claim 1 , further comprising adhering the substrate.
前記ポリマー繊維を形成する前に、フォトマスクを介して前記光硬化性モノマーを部分露光することにより、ポリマー壁を形成し、
次いで、全面露光することにより、未露光部の前記光硬化性モノマーを硬化させて前記ポリマー繊維を形成することを特徴とする請求項2に記載の半透過型液晶表示装置の製造方法。
Before forming the polymer fiber, partially exposing the photocurable monomer through a photomask to form a polymer wall,
3. The method for manufacturing a transflective liquid crystal display device according to claim 2 , wherein the polymer fiber is formed by curing the photo-curable monomer in an unexposed portion by exposing the entire surface.
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