JP4961853B2 - Anti-reflection laminate - Google Patents

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Description

本発明は反射防止積層体に関するものである。さらに詳細には、本発明は表示装置等の表面に適用される反射防止積層体に関するものである。   The present invention relates to an antireflection laminate. More specifically, the present invention relates to an antireflection laminate applied to the surface of a display device or the like.

従来、ガラスやプラスチック等の透明基材上に、酸化チタンや酸化ケイ素などの無機酸化物からなる低屈折率層を形成してなる反射防止積層体が知られている。さらに、汚れ防止機能を付与するために、該低屈折率層の上に防汚層を形成することが知られている。また、低屈折率層にフッ素樹脂等を含有させ、低屈折率層に防汚性を付与することが提案されている。   Conventionally, an antireflection laminate is known in which a low refractive index layer made of an inorganic oxide such as titanium oxide or silicon oxide is formed on a transparent substrate such as glass or plastic. Furthermore, it is known to form an antifouling layer on the low refractive index layer in order to impart an antifouling function. Further, it has been proposed that the low refractive index layer contains a fluororesin or the like to impart antifouling properties to the low refractive index layer.

特許文献1には、ガラスなどの透明基板と、この透明基板上に形成された反射防止膜とを備える反射防止フィルムが開示されている。該反射防止膜はフッ素含有のシラン化合物が表面に複合された反射防止超微粒子を単粒子層配列してなるものである。そして、該超微粒子をエチルシリケートなどのバインダーで透明基板に結合させている。特許文献1の反射防止フィルムでは、エチルシリケートなどのバインダーで微粒子と透明基板とを結合させるために高温で焼成している。
特開平8−211202号公報
Patent Document 1 discloses an antireflection film including a transparent substrate such as glass and an antireflection film formed on the transparent substrate. The antireflection film is formed by arranging a single particle layer of antireflection ultrafine particles having a fluorine-containing silane compound composited on the surface thereof. The ultrafine particles are bonded to the transparent substrate with a binder such as ethyl silicate. In the antireflection film of Patent Document 1, baking is performed at a high temperature in order to bond the fine particles and the transparent substrate with a binder such as ethyl silicate.
JP-A-8-211202

また、特許文献2には、透明プラスチックフィルム基材上に、直接又は他の層を介して、低屈折率層を形成した反射防止フィルムが開示されている。この反射防止フィルムの低屈折率層には、パーフルオロアルキル基を有する化合物や、ポリジメチルシロキサンセグメント等を含む疎水性化合物などによって、撥水・撥油性基を導入した空隙を有するシリカ微粒子が含まれている。
特開2006−106507号公報
Patent Document 2 discloses an antireflection film in which a low refractive index layer is formed on a transparent plastic film substrate directly or via another layer. The low refractive index layer of this antireflection film contains silica fine particles having voids into which water- and oil-repellent groups are introduced by a compound having a perfluoroalkyl group or a hydrophobic compound containing a polydimethylsiloxane segment. It is.
JP 2006-106507 A

しかし、本発明者らの検討によると、特許文献1に記載の反射防止フィルムでは、透明基材と微粒子との結合を強くするために高温での焼成が必要であり、耐熱性という観点から、透明基板を構成する樹脂フィルムの選択に制限があることがわかった。また、特許文献2に記載の反射防止フィルムでは、撥水・撥油性基の導入量が増えるほど、透明基材と低屈折率層との密着性が低下し、分離してしまうことがわかった。さらに、これら従来の反射防止フィルムは耐アルカリ性が低く、アルカリ性洗剤等によってシミが生じることがわかった。
そこで、本発明の目的は、透明基材と低屈折率層との間の密着性が高く、反射防止性と防汚性とに優れ且つ耐アルカリ性に優れた反射防止積層体を提供することにある。
However, according to the study by the present inventors, the antireflection film described in Patent Document 1 requires firing at a high temperature in order to strengthen the bond between the transparent substrate and the fine particles, and from the viewpoint of heat resistance, It turned out that there is a limit in selection of the resin film which comprises a transparent substrate. Moreover, in the antireflection film described in Patent Document 2, it was found that as the introduction amount of the water / oil repellent group increased, the adhesion between the transparent substrate and the low refractive index layer was lowered and separated. . Further, it has been found that these conventional antireflection films have low alkali resistance and stains are caused by an alkaline detergent or the like.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an antireflection laminate having high adhesion between a transparent substrate and a low refractive index layer, excellent antireflection properties and antifouling properties, and excellent alkali resistance. is there.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、変性シリコーンオイルを被覆させた微粒子と(メタ)アクリロイル基を有するモノマーとを用いて低屈折率層を透明基材上に形成することにより、透明基材と低屈折率層との間の密着性が高く、反射防止性と防汚性とに優れ且つ耐アルカリ性に優れた反射防止積層体が得られることを見いだした。本発明は、この知見に基づいてさらに研究を進め、完成させたものである。   As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventor forms a low refractive index layer on a transparent substrate using fine particles coated with modified silicone oil and a monomer having a (meth) acryloyl group. Thus, it has been found that an antireflection laminate having high adhesion between the transparent substrate and the low refractive index layer, excellent in antireflection and antifouling properties, and excellent in alkali resistance can be obtained. The present invention has been completed by further research based on this finding.

すなわち、本発明は、以下のとおりのものである。
(1) 透明基材と、その上に直接又は他の層を介して形成された低屈折率層とを有し、
該低屈折率層が変性シリコーンオイルによって被覆された微粒子、及び(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを含有する組成物の硬化物からなる反射防止積層体。
(2) 変性シリコーンオイルが(メタ)アクリル変性ジメチルシリコーンオイルである(1)に記載の反射防止積層体。
(3) 前記微粒子が中空シリカ微粒子である(1)に記載の反射防止積層体。
(4) 前記低屈折率層は、その屈折率が1.45以下である(1)〜(3)に記載の反射防止積層体。
(5) 波長430〜700nmにおける入射角5度で測定した反射率の最大値が2.5%以下である(1)〜(4)に記載の反射防止積層体。
(6) (1)〜(5)のいずれかに記載の反射防止積層体を含んで成る光学部材。
(7) (1)〜(5)のいずれかに記載の反射防止積層体を備える表示装置。
That is, the present invention is as follows.
(1) having a transparent substrate and a low refractive index layer formed on the transparent substrate directly or via another layer;
An antireflective laminate comprising a cured product of a composition containing fine particles in which the low refractive index layer is coated with a modified silicone oil and a monomer having a (meth) acryloyl group.
(2) The antireflection laminate according to (1), wherein the modified silicone oil is (meth) acryl-modified dimethyl silicone oil.
(3) The antireflection laminate according to (1), wherein the fine particles are hollow silica fine particles.
(4) The antireflective laminate according to any one of (1) to (3), wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.45 or less.
(5) The antireflection laminate according to (1) to (4), wherein the maximum reflectance measured at an incident angle of 5 degrees at a wavelength of 430 to 700 nm is 2.5% or less.
(6) An optical member comprising the antireflection laminate according to any one of (1) to (5).
(7) A display device comprising the antireflection laminate according to any one of (1) to (5).

本発明の反射防止積層体は、透明基材と低屈折率層との間の密着性が高く、反射防止性と防汚性とに優れ且つ耐アルカリ性に優れている。この反射防止積層体を液晶表示装置、プラズマ表示装置、EL表示装置などに代表される表示装置の表示面に備えると、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射が減り、視認性が大幅に改善される。さらに、アルカリ性洗剤等を用いた拭き掃除を行ってもシミ等が生じず、また透明基材から低屈折率層が剥離するなどの外観上、機能上の不具合が生じにくくなる。   The antireflection laminate of the present invention has high adhesion between the transparent substrate and the low refractive index layer, is excellent in antireflection properties and antifouling properties, and is excellent in alkali resistance. When this antireflection laminate is provided on the display surface of a display device typified by a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, etc., reflection of light emitted from an external light source such as a fluorescent lamp is reduced and visibility is improved. Greatly improved. Further, even when wiping and cleaning with an alkaline detergent or the like is performed, no spots or the like are generated, and functional problems such as peeling of the low refractive index layer from the transparent substrate are less likely to occur.

本発明の反射防止積層体は、透明基材と、その上に直接又は他の層を介して形成された低屈折率層とを有するものである。   The antireflection laminate of the present invention has a transparent substrate and a low refractive index layer formed on the substrate directly or via another layer.

本発明の反射防止積層体を構成する透明基材は、光透過性があるものであれば特に制限されない。透明基材を構成する材料としては、ガラスや樹脂が挙げられる。
樹脂としては、1mm厚で全光線透過率が80%以上のものであれば特に制限されず、例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。これらの透明樹脂は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
The transparent base material constituting the antireflection laminate of the present invention is not particularly limited as long as it has optical transparency. Glass and resin are mentioned as a material which comprises a transparent base material.
The resin is not particularly limited as long as it has a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more. For example, a resin having an alicyclic structure, a polyester resin, a cellulose resin, a polycarbonate resin, a polysulfone resin, or a polyethersulfone. Examples thereof include resins, polystyrene resins, polyolefin resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl chloride resins, and polymethyl methacrylate resins. These transparent resins can be used alone or in combination of two or more.

透明基材は、通常、シート、フィルム又は板の形状を成している。透明基材の平均厚みは、機械的強度などの観点から、好ましくは30〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。本発明において、透明基材は、単層からなるものあっても、2層以上が積層された複層からなるものであってもよい。また、基材表面は、平らな形状であってもよいし、凹凸形状であっても良い。凹凸形状はエンボス加工などの公知の腑形法によって得ることができる。   The transparent substrate is usually in the form of a sheet, film or plate. The average thickness of the transparent substrate is preferably 30 to 300 μm, more preferably 40 to 200 μm, from the viewpoint of mechanical strength and the like. In the present invention, the transparent substrate may be composed of a single layer or a multilayer composed of two or more layers. Further, the substrate surface may be flat or uneven. The uneven shape can be obtained by a known saddle shape method such as embossing.

透明基材は、その片面又は両面に表面処理が施されたものであってもよい。表面処理を行うことにより、透明基材上に直接形成される他の層との密着性を向上させることができる。表面処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。なお、浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間浸漬したままにしておくと表面が溶解したり、透明性が低下したりすることがあるので、処理に用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、浸漬時間、温度などの処理条件を調整することが好ましい。
The transparent substrate may have a surface treated on one side or both sides. By performing the surface treatment, adhesion with other layers directly formed on the transparent substrate can be improved. Examples of the surface treatment include energy ray irradiation treatment and chemical treatment.
Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred.
Examples of the chemical treatment include a method of immersing in an aqueous solution of an oxidizing agent such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water. In addition, it is effective to shake in the soaked state, but if left soaked for a long time, the surface may dissolve or the transparency may be lowered. It is preferable to adjust treatment conditions such as immersion time and temperature according to the above.

本発明の反射防止積層体を構成する低屈折率層は、変性シリコーンオイルによって被覆された微粒子、及び(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを含有する組成物の硬化物からなるものである。なお、(メタ)アクリロイルは、アクリロイル又はメタクリロイルを略記しているものである。また、(メタ)アクリルは、アクリル又はメタクリルを略記しているものである。   The low refractive index layer constituting the antireflection laminate of the present invention is composed of a cured product of a composition containing fine particles coated with a modified silicone oil and a monomer having a (meth) acryloyl group. (Meth) acryloyl is an abbreviation for acryloyl or methacryloyl. (Meth) acryl is an abbreviation for acrylic or methacrylic.

低屈折率層を形成するための組成物に含有する(メタ)アクリロイル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸などのアクリル酸類;エチレンオキサイド変性フェノールのアクリレート若しくはメタクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノールのアクリレート若しくはメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレート若しくはメタクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレート若しくはメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシヘキシルアクリレート、ヒドロキシヘキシルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、ジプロピレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールメタクリレート、トリエチレングリコールモノアクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、トリプロピレングリコール等のモノアクリレート若しくはメタクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、アクリロニトリル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の単官能アクリレート若しくはメタクリレート類;   Examples of the monomer having a (meth) acryloyl group contained in the composition for forming the low refractive index layer include acrylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; acrylate or methacrylate of ethylene oxide-modified phenol, acrylate of propylene oxide-modified phenol Or methacrylate, ethylene oxide modified nonylphenol acrylate or methacrylate, propylene oxide modified nonylphenol acrylate or methacrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-ethylhexyl carbitol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl Acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, hydroxyethyl Acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxybutyl acrylate, hydroxybutyl methacrylate, hydroxyhexyl acrylate, hydroxyhexyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol methacrylate, dipropylene glycol monoacrylate, dipropylene glycol methacrylate, triethylene Monoacrylate or methacrylate such as glycol monoacrylate, triethylene glycol monomethacrylate, tripropylene glycol, methyl acrylate, methyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethyl acrylate Hexyl methacrylate, acrylonitrile, glycidyl acrylate, monofunctional acrylate or methacrylate such as glycidyl methacrylate;

ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジアクリレート若しくはジメタクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAのジアクリレート若しくはジメタクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールAのジアクリレート若しくはジメタクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールAのジアクリレート若しくはジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート若しくはジメタクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジアクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレート若しくはメタクリレート類;   Diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, dipropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, Tripropylene glycol dimethacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, neopentylglycoldia Relate, neopentyl glycol dimethacrylate, diacrylate or dimethacrylate of ethylene oxide modified neopentyl glycol, diacrylate or dimethacrylate of ethylene oxide modified bisphenol A, diacrylate or dimethacrylate of propylene oxide modified bisphenol A, hydrogenated ethylene oxide Bisphenol A diacrylate or dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate or dimethacrylate, trimethylolpropane allyl ether diacrylate, trimethylolpropane allyl ether dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene oxide modified trimethylo Propanetriacrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane trimethacrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetra Polyfunctional acrylates or methacrylates such as methacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate;

ポリエステルアロニックスM−6400(東亞合成社製ポリエステルアクリレート)等のポリエステルアクリレート;アロニックスM−1200(東亞合成社製)等のウレタンアクリレート;環状ヒンダートアミン構造を有する2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、ベンゾトリアゾール環を有する2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
(メタ)アクリロイル基を有するモノマーの量は、低屈折率層を形成するための組成物中の水及び溶剤を除いた全量に対して、通常30〜70重量%、好ましくは40〜60重量%である。
Polyester acrylates such as polyester Aronix M-6400 (polyester acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.); Urethane acrylates such as Aronix M-1200 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.); 2,2,6,6-tetra having a cyclic hindered amine structure Methyl-4-piperidinyl methacrylate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl methacrylate, 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloxyethylphenyl)-having a benzotriazole ring And 2H-benzotriazole.
The amount of the monomer having a (meth) acryloyl group is usually 30 to 70% by weight, preferably 40 to 60% by weight, based on the total amount excluding water and solvent in the composition for forming the low refractive index layer. It is.

低屈折率層を形成するための組成物に含有する微粒子は、変性シリコーンオイルによって被覆された微粒子である。
変性シリコーンオイルによって被覆される微粒子は、低い屈折率を有する無機又は有機の微粒子である。そして、低屈折率と耐擦傷性を両立させるという観点から、シリカ微粒子が好ましく、特に中空シリカ微粒子が好ましい。
中空シリカ微粒子は、その屈折率が1.20〜1.35のものが好ましく、特に1.20〜1.30のものが特に好ましい。なお、微粒子の屈折率は特開2002−79616号公報に記載の方法で算出することができる。
The fine particles contained in the composition for forming the low refractive index layer are fine particles coated with a modified silicone oil.
The fine particles coated with the modified silicone oil are inorganic or organic fine particles having a low refractive index. From the viewpoint of achieving both a low refractive index and scratch resistance, silica fine particles are preferred, and hollow silica fine particles are particularly preferred.
The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.20 to 1.35, particularly preferably 1.20 to 1.30. The refractive index of the fine particles can be calculated by the method described in JP-A-2002-79616.

中空シリカ微粒子の数平均粒子径は、通常100nm以下、好ましくは5〜100nm、さらに好ましくは15〜90nmである。中空シリカ微粒子の数平均粒子径が100nmを超えると、塗工厚みより中空シリカ微粒子の粒子径が大きくなり塗工しづらくなる。また、中空シリカ微粒子の粒径分布は、狭くて、単分散であることが好ましいが、多分散であってもよい。従って、中空シリカ微粒子は、平均粒子径の異なるものを2種以上併用して用いることができる。また、所定の粒径を満たすならば凝集した粒子でも構わない。中空シリカ微粒子は、球状のものが最も好ましいが、不定形のものであってもよい。なお、中空シリカ微粒子の粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。   The number average particle diameter of the hollow silica fine particles is usually 100 nm or less, preferably 5 to 100 nm, and more preferably 15 to 90 nm. When the number average particle diameter of the hollow silica fine particles exceeds 100 nm, the particle diameter of the hollow silica fine particles becomes larger than the coating thickness, and it becomes difficult to perform the coating. The particle size distribution of the hollow silica fine particles is preferably narrow and monodispersed, but may be polydispersed. Therefore, two or more types of hollow silica fine particles having different average particle diameters can be used in combination. Further, agglomerated particles may be used as long as a predetermined particle size is satisfied. The hollow silica fine particles are most preferably spherical, but may be indefinite. The particle size of the hollow silica fine particles can be determined from an electron micrograph.

中空シリカ微粒子の外殻(シェル)を形成するシリカは、結晶性のものであっても、非晶性のものであってもよい。シェルは外部と中空部とが連通可能な多孔質のものであってもよいが、中空部を外部と遮断できるものであることが好ましい。
本発明で用いる中空シリカ微粒子は、例えば特開2001−233611号公報や特開2002−79616号公報に記載されている方法により得ることができる。
The silica forming the outer shell (shell) of the hollow silica fine particles may be crystalline or amorphous. The shell may be porous so that the outside and the hollow portion can communicate with each other, but it is preferable that the shell can be blocked from the outside.
The hollow silica fine particles used in the present invention can be obtained, for example, by the methods described in JP-A Nos. 2001-233611 and 2002-79616.

微粒子に被覆される変性シリコーンオイルは、官能基を有するシリコーンオイルである。シリコーンオイルは、ジメチルシロキサン構造が繰り返し単位に含まれるものと、メチルフェニルシロキサン構造が繰返し単位に含まれるものと、メチルハイドロシロキサン構造が繰返し単位に含まれるものとがあるが、本発明ではジメチルシロキサン構造だけが繰返し単位に含まれるものが好ましい。   The modified silicone oil coated on the fine particles is a silicone oil having a functional group. Silicone oils include those in which a dimethylsiloxane structure is contained in a repeating unit, those in which a methylphenylsiloxane structure is contained in a repeating unit, and those in which a methylhydrosiloxane structure is contained in a repeating unit. Those in which only the structure is contained in the repeating unit are preferred.

変性シリコーンオイルとしては、長鎖アルキル変性ジメチルシリコーンオイル、フッ素変性ジメチルシリコーンオイル、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル、アクリル変性ジメチルシリコーンオイル、カルビノール変性ジメチルシリコーンオイル、ポリオール変性ジメチルシリコーンオイル、メチルスチリル変性ジメチルシリコーンオイル等が挙げられる。変性の部位は、主鎖の末端や側鎖の末端など、いずれの部位でも良い。また、上記変性の組み合わせでもよい。これらのうち、長鎖アルキル変性ジメチルシリコーンオイル、フッ素変性ジメチルシリコーンオイル、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル、アクリル変性ジメチルシリコーンオイル、ポリオール変性ジメチルシリコーンオイルが好ましく、特にメタクリル変性ジメチルシリコーンオイル、アクリル変性ジメチルシリコーンオイルが好ましい。   Modified silicone oils include long chain alkyl modified dimethyl silicone oil, fluorine modified dimethyl silicone oil, methacryl modified dimethyl silicone oil, acrylic modified dimethyl silicone oil, carbinol modified dimethyl silicone oil, polyol modified dimethyl silicone oil, methylstyryl modified dimethyl silicone. An oil etc. are mentioned. The site of denaturation may be any site such as the end of the main chain or the end of the side chain. A combination of the above modifications may also be used. Of these, long-chain alkyl-modified dimethyl silicone oil, fluorine-modified dimethyl silicone oil, methacryl-modified dimethyl silicone oil, acrylic-modified dimethyl silicone oil, and polyol-modified dimethyl silicone oil are preferred. Is preferred.

被覆させる変性シリコーンオイルの量は、微粒子100重量部に対して、10〜100重量部、好ましくは10〜60重量部である。変性シリコーンオイルの量が少ないと、完全に被覆できていない微粒子が存在するようになり、すべり性、耐汚染性、耐アルカリ性が低下傾向になる。逆に変性シリコーンオイルの量が多くなると、変性シリコーンオイルが微粒子から離れて独立に存在するようになり、これによって反射防止積層体の表面強度が弱くなる傾向になる。   The amount of the modified silicone oil to be coated is 10 to 100 parts by weight, preferably 10 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fine particles. When the amount of the modified silicone oil is small, fine particles that cannot be completely coated exist, and the slipping property, stain resistance, and alkali resistance tend to decrease. On the contrary, when the amount of the modified silicone oil increases, the modified silicone oil comes to exist independently from the fine particles, and this tends to decrease the surface strength of the antireflection laminate.

変性シリコーンオイルによって被覆された微粒子は、前記の微粒子と変性シリコーンオイルとを混合し攪拌することによって得ることができる。微粒子と変性シリコーンオイルとを混合し攪拌する際にシランカップリング剤、シリル化剤を添加して攪拌してもよい。   The fine particles coated with the modified silicone oil can be obtained by mixing and stirring the fine particles and the modified silicone oil. When mixing and stirring the fine particles and the modified silicone oil, a silane coupling agent and a silylating agent may be added and stirred.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシランを挙げることができる。シランカップリング剤の量は、微粒子100重量部に対して、通常0.5〜10重量部である。   As silane coupling agents, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy Propylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltri Ethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, Examples include γ-chloropropyltrimethoxysilane and γ-ureidopropyltriethoxysilane. The amount of the silane coupling agent is usually 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fine particles.

シリル化剤としては、トリメチルシリルクロライド、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン、N,N’−ビス(トリメチルシリル)ウレア、N,O−ビス(トリメチルシリル)トリフロロアセトアミド、トリメチルシリルトリフロロメタンスルホネート、トリエチルシリルクロライド、トリ−i−ブチルシリルクロライド、t−ブチルジメチルシリルクロライド、トリ−i−プロピルシリルクロライド、テキシルジメチルシリルクロライド、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラ−i−プロピルジシロキサンを挙げることができる。シリル化剤の量は、微粒子100重量部に対して、通常0.5〜10重量部である。   Examples of silylating agents include trimethylsilyl chloride, 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, N, N′-bis (trimethylsilyl) urea, N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, trimethylsilyl. Trifluoromethanesulfonate, triethylsilyl chloride, tri-i-butylsilyl chloride, t-butyldimethylsilyl chloride, tri-i-propylsilyl chloride, texyldimethylsilyl chloride, 1,3-dichloro-1,1,3 Mention may be made of 3-tetra-i-propyldisiloxane. The amount of the silylating agent is usually 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fine particles.

変性シリコーンオイルによって被覆された微粒子の量は、低屈折率層に求められる屈折率の値に応じて適宜調整すればよい。   The amount of fine particles coated with the modified silicone oil may be appropriately adjusted according to the refractive index value required for the low refractive index layer.

低屈折率層を形成するための組成物には、他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、光重合開始剤、溶剤、分散剤、増粘剤などが挙げられる。   The composition for forming the low refractive index layer may contain other components. Examples of other components include a photopolymerization initiator, a solvent, a dispersant, and a thickener.

光重合開始剤は、公知の光重合開始剤の中から選択することができる、光重合開始剤としては、アリールケトン系光重合開始剤(例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類など);含硫黄系光重合開始剤(例えば、スルフィド類、チオキサントン類など);アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤などが挙げられる。光重合開始剤の量は、(メタ)アクリロイル基を有するモノマー100重量部に対して、好ましくは0.01〜20重量部、より好ましくは0.1〜10重量部である。なお、これら光重合開始剤に、アミン類などの光増感剤を組み合わせて使用することができる。   The photopolymerization initiator can be selected from known photopolymerization initiators. As the photopolymerization initiator, aryl ketone photopolymerization initiators (for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyl) Benzoins, benzoin ethers, benzyl dimethyl ketals, benzoyl benzoates, α-acyloxime esters, etc.); sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.); acylphosphine oxide light A polymerization initiator etc. are mentioned. The amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer having a (meth) acryloyl group. These photopolymerization initiators can be used in combination with a photosensitizer such as amines.

溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;ジアセトンアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、n−プロピルアルコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。溶剤の量は、使用する塗工機の塗工条件(例えば、適正粘度、適正膜厚)により適宜調整すればよい。   Solvents include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether; alcohols such as diacetone alcohol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, and n-propyl alcohol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Ketones such as acetylacetone; ethyl acetate, butyl acetate, xylene, toluene and the like. What is necessary is just to adjust the quantity of a solvent suitably with the coating conditions (for example, appropriate viscosity, appropriate film thickness) of the coating machine to be used.

低屈折率層は、透明基材上に直接又は他の層を介して、前記組成物を塗布し、乾燥し、硬化することにより得ることができる。塗布方法は、特に制限されず、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、バーコート法などが挙げられる。硬化手段としては、熱によるものと、電離放射線照射によるものとが挙げられるが、電離放射線照射が好ましい。   The low refractive index layer can be obtained by applying the composition on a transparent substrate directly or via another layer, drying, and curing. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include a spin coating method, a dip method, a spray method, and a bar coating method. Examples of the curing means include heat and ionizing radiation, and ionizing radiation is preferred.

低屈折率層の平均厚みは、通常10〜1000nm、好ましくは20〜500nmである。また、低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.45以下である。低屈折率層の屈折率が上記範囲であることにより、偏光板保護フィルムに求められるような硬度及び強度を実現でき、密着性及び透明性にも優れた反射防止積層体を得ることができる。なお、屈折率は、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。   The average thickness of the low refractive index layer is usually 10 to 1000 nm, preferably 20 to 500 nm. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less. When the refractive index of the low refractive index layer is in the above range, it is possible to achieve the hardness and strength required for the polarizing plate protective film, and to obtain an antireflection laminate excellent in adhesion and transparency. The refractive index can be determined by measuring using a known spectroscopic ellipsometer.

本発明の反射防止積層体には、他の層が積層されていてもよい。他の層としては、高屈折率層が挙げられる。本発明において高屈折率層は、屈折率が1.55以上の層をいう。高屈折率層は、通常、透明基材と低屈折率層との間に形成される。
高屈折率層を構成する材料としては、無機材料、樹脂材料が挙げられるが、生産性に優れるという観点から樹脂材料が好ましい。
高屈折率層を形成する樹脂材料としては、高屈折率層におけるバインダーとしての性質を有し、高屈折率層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、さらに透明性のあるものであれば、特に制限されない。例えば、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂又は電離放射線硬化型樹脂が好ましい。
Other layers may be laminated on the antireflection laminate of the present invention. Examples of the other layer include a high refractive index layer. In the present invention, the high refractive index layer refers to a layer having a refractive index of 1.55 or more. The high refractive index layer is usually formed between the transparent substrate and the low refractive index layer.
Examples of the material constituting the high refractive index layer include inorganic materials and resin materials, but resin materials are preferred from the viewpoint of excellent productivity.
As a resin material for forming the high refractive index layer, it has properties as a binder in the high refractive index layer, has sufficient strength as a film after the formation of the high refractive index layer, and is further transparent, There is no particular limitation. For example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and an ionizing radiation curable resin can be used, but a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin is preferable in terms of the strength and workability of the film.

熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が挙げられる。また、これらの熱硬化型樹脂には、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等が含まれていてもよい。   Thermosetting resins include phenolic resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicone resin, polysiloxane Resin. Further, these thermosetting resins may contain a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like.

電離放射線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーが含まれ、これらが電離放射線の照射により硬化するものである。電離放射線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものである。通常は紫外線又は電子線が用いられる。
紫外線又は電子線硬化型樹脂は特に制限されず、公知の紫外線又は電子線硬化型樹脂の中から適宜選択して使用することができる。紫外線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーと光重合開始剤や光増感剤とを含有するものである。また、電子線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有するものである。
The ionizing radiation curable resin contains a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule, and these are cured by irradiation with ionizing radiation. Ionizing radiation has energy quanta that can polymerize or crosslink molecules of electromagnetic waves or charged particle beams. Usually, ultraviolet rays or electron beams are used.
The ultraviolet or electron beam curable resin is not particularly limited, and can be appropriately selected from known ultraviolet or electron beam curable resins. The ultraviolet curable resin contains a photopolymerizable prepolymer or a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a photosensitizer. The electron beam curable resin contains a photopolymerizable prepolymer or a photopolymerizable monomer.

前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリアクリレート、ポリメチロールプロパントリメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ヘキサンジオールメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。
本発明においては、光重合性プレポリマーとしてウレタンアクリレート系を用いることが好ましく、光重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート若しくはジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートを用いることが好ましい。
Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable prepolymers can be used singly or in combination of two or more. Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane triacrylate, polymethylolpropane trimethacrylate, hexanediol acrylate, hexanediol methacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol di Methacrylate etc. It is.
In the present invention, urethane acrylate is preferably used as the photopolymerizable prepolymer, and dipentaerythritol hexaacrylate or dipentaerythritol hexamethacrylate is preferably used as the photopolymerizable monomer.

光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, tetramethylchuram monosulfide, thioxanthones, and the like. Moreover, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, etc. are mentioned as a photosensitizer.

高屈折率層には、前記熱硬化型樹脂又は電離放射線硬化型樹脂以外に導電性微粒子が含まれていることが好ましい。導電性微粒子を含むことにより、高屈折率層に帯電防止機能が付与され、また機械的強度に優れたものとなる。   The high refractive index layer preferably contains conductive fine particles in addition to the thermosetting resin or ionizing radiation curable resin. By containing the conductive fine particles, an antistatic function is imparted to the high refractive index layer, and the mechanical strength is excellent.

導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。   The conductive fine particles are not particularly limited as long as they are conductive fine particles, but metal oxide fine particles are preferable because of excellent transparency.

導電性の金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、酸化スズ、リンがドープされた酸化スズ(PTO)、アンチモンがドープされた酸化スズ(ATO)、スズがドープされた酸化インジウム(ITO)、亜鉛がドープされた酸化インジウム(IZO)、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛(AZO)、フッ素がドープされた酸化スズ(FTO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン微粒子、及びリンがドープされた酸化スズ微粒子から選ばれる少なくとも一種が好ましい。   Examples of the metal oxide constituting the conductive metal oxide fine particles include antimony pentoxide, tin oxide, tin oxide doped with phosphorus (PTO), tin oxide doped with antimony (ATO), and tin doped. Indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide / aluminum oxide, zinc antimonate Etc. These metal oxide fine particles can be used singly or in combination of two or more. Among these, at least one selected from antimony pentoxide fine particles and tin oxide fine particles doped with phosphorus is preferable because of excellent transparency.

また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に、導電性金属酸化物を被覆することによって、導電性を付与したものを使用することができる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与したものが挙げられる。   Moreover, in this invention, what provided electroconductivity can be used by coat | covering electroconductive metal oxide to the metal oxide microparticles | fine-particles which do not have electroconductivity as electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles. For example, the surface of fine particles of titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide or the like having a high refractive index but no conductivity is coated with the conductive metal oxide to impart conductivity.

導電性微粒子の数平均粒子径は、200nm以下であることが好ましく、50〜15nmであることがより好ましい。数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる   The number average particle diameter of the conductive fine particles is preferably 200 nm or less, and more preferably 50 to 15 nm. The number average particle size is determined by visual observation from a secondary electron emission image photograph obtained by a transmission electron microscope (TEM) or image processing of the image photograph, or a dynamic light scattering method, a static light scattering method, or the like. Can be measured with a particle size distribution meter using

本発明においては、高屈折率層に含まれる導電性微粒子の量は、30体積%以上であることが好ましく、40〜60体積%であることがさらに好ましい。なお、高屈折率層に含まれる導電性微粒子の量は、下式で求められる値である。
導電性微粒子の含有量(体積%)=(C−A)/(B−A)×100
但し、Cは高屈折率層の屈折率、Aは高屈折率層を形成する樹脂材料の屈折率、Bは導電性微粒子の屈折率である。
In the present invention, the amount of conductive fine particles contained in the high refractive index layer is preferably 30% by volume or more, and more preferably 40-60% by volume. The amount of the conductive fine particles contained in the high refractive index layer is a value obtained by the following formula.
Content of conductive fine particles (volume%) = (C−A) / (B−A) × 100
However, C is the refractive index of the high refractive index layer, A is the refractive index of the resin material forming the high refractive index layer, and B is the refractive index of the conductive fine particles.

また、高屈折率層は、防眩性を付与するための粒子を含有していてもよい。防眩性を付与するための粒子としては、高屈折率層の表面に凹凸を形成させることができるものであれば特に限定されない。防眩性を付与するための粒子の数平均粒子径は0.5〜10μmであることが好ましく、1〜7μmであることがより好ましい。   Moreover, the high refractive index layer may contain particles for imparting antiglare properties. The particles for imparting antiglare properties are not particularly limited as long as they can form irregularities on the surface of the high refractive index layer. The number average particle diameter of the particles for imparting antiglare properties is preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 1 to 7 μm.

高屈折率層には、層厚の均一性や密着性向上等を目的として、レベリング剤や分散剤を含有していてもよい。レベリング剤としては、シリコーンオイル、フッ素化ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル等の表面張力を低下させる化合物が挙げられる。分散剤としては、界面活性剤、シランカップリング剤等が挙げられる。   The high refractive index layer may contain a leveling agent and a dispersing agent for the purpose of improving the uniformity of the layer thickness and improving the adhesion. Examples of the leveling agent include compounds that lower the surface tension, such as silicone oil, fluorinated polyolefin, and polyacrylate. Examples of the dispersant include a surfactant and a silane coupling agent.

高屈折率層は、上記の高屈折率層を形成するための成分を含む組成物を、透明基材に直接又は透明基材の表面に形成されたその他の層の上に塗布し、乾燥し、次いで熱又は電離放射線を照射することによって形成することができる。塗布方法は、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、バーコート法などが挙げられる。   The high refractive index layer is formed by applying a composition containing the above-described components for forming the high refractive index layer directly on the transparent substrate or on the other layer formed on the surface of the transparent substrate and drying. Then, it can be formed by irradiation with heat or ionizing radiation. Examples of the coating method include a spin coating method, a dip method, a spray method, and a bar coating method.

高屈折率層の屈折率は好ましくは1.55以上、より好ましくは1.60以上である。高屈折率層の屈折率がこの範囲にあると、高屈折率層上に低屈折率層を積層した場合に、外光の反射を抑制し、映り込みを防止することができる。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 or more, more preferably 1.60 or more. When the refractive index of the high refractive index layer is within this range, reflection of external light can be suppressed and reflection can be prevented when the low refractive index layer is laminated on the high refractive index layer. The refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.

高屈折率層は、JIS K5600−5−4で示す鉛筆硬度試験(試験板はガラス板)で「HB」以上の硬さを示すことが好ましい。鉛筆硬度が「HB」以上の硬さを示す高屈折率層はハードコート層を兼ね、反射防止積層体の層数を減らして、薄くすることができる。高屈折率層の平均厚みは、通常0.3〜20μm、好ましくは0.8〜10μmである。   The high refractive index layer preferably exhibits a hardness of “HB” or higher in a pencil hardness test (test plate is a glass plate) shown in JIS K5600-5-4. The high refractive index layer having a pencil hardness of “HB” or higher can serve as a hard coat layer and can be thinned by reducing the number of layers of the antireflection laminate. The average thickness of the high refractive index layer is usually 0.3 to 20 μm, preferably 0.8 to 10 μm.

本発明の反射防止積層体は、波長430〜700nmにおける入射角5度における反射率の最大値が好ましくは2.5%以下であり、より好ましくは2.0%以下である。また波長550nmにおける入射角5度での反射率が1.5%以下であることが好ましい。   In the antireflection laminate of the present invention, the maximum reflectance at an incident angle of 5 degrees at a wavelength of 430 to 700 nm is preferably 2.5% or less, more preferably 2.0% or less. The reflectance at an incident angle of 5 degrees at a wavelength of 550 nm is preferably 1.5% or less.

本発明の反射防止積層体は、反射防止性能、表面層の物理的強度、耐防汚染性に優れるので、フラットパネルディスプレイの反射防止フィルムとして有用である。より具体的には、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル(登録商標)、ナビゲーションシステム、車載用液晶ディスプレイ、TV液晶モニター、調光パネル、OA機器用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイ等の各種液晶表示パネルやエレクトロルミネッス表示素子あるいはタッチパネル等に用いられる反射防止フィルムとして好適である。   Since the antireflection laminate of the present invention is excellent in antireflection performance, physical strength of the surface layer, and antifouling resistance, it is useful as an antireflection film for flat panel displays. More specifically, various liquid crystal displays such as a mobile phone, a digital information terminal, a pager (registered trademark), a navigation system, an in-vehicle liquid crystal display, a TV liquid crystal monitor, a light control panel, a display for OA equipment, and a display for AV equipment. It is suitable as an antireflection film used for panels, electroluminescence display elements, touch panels and the like.

本発明の光学部材は、前記の反射防止積層体を含んで成るものである。光学部材としては、タッチパネルにおける反射防止フィルム、プラズマパネルディスプレイにおけるプラズマパネルディスプレイ前面板、液晶表示装置における反射防止機能付偏光板が挙げられる。なかでも、液晶表示装置における反射防止機能付偏光板が好ましい。   The optical member of the present invention comprises the antireflection laminate. Examples of the optical member include an antireflection film in a touch panel, a plasma panel display front plate in a plasma panel display, and a polarizing plate with an antireflection function in a liquid crystal display device. Especially, the polarizing plate with an antireflection function in a liquid crystal display device is preferable.

本発明の表示装置は前記の反射防止積層体を備えるものである。
表示装置には、液晶表示装置、プラズマ表示装置、EL表示装置などのそれぞれに特有の部材が備わっている。例えば液晶表示装置では、冷陰極管、光拡散板、導光板、輝度向上フィルム、プリズムアレイシート、液晶セル、位相差板などが挙げられる。これらを適宜な位置に1層又は2層以上配置することができる。液晶セルに用いる液晶のモードも特に制限されない。液晶モードとしては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(Multiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plane Switching)型、OCB(Optical Compensated Bend)型等が挙げられる。本発明の表示装置は、本発明の反射防止積層体を単独でまたは前記表示装置特有の部材と組み合わせて適用して構成される。
The display device of the present invention includes the antireflection laminate.
The display device includes members unique to each of a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, and the like. For example, in a liquid crystal display device, a cold cathode tube, a light diffusion plate, a light guide plate, a brightness enhancement film, a prism array sheet, a liquid crystal cell, a phase difference plate, and the like can be given. One layer or two or more layers can be arranged at appropriate positions. The mode of the liquid crystal used for the liquid crystal cell is not particularly limited. Liquid crystal modes include TN (Twisted Nematic), STN (Super Twisted Nematic), HAN (Hybrid Alignment Nematic), VA (Vertical Alignment), MVA (Multiple Alignment). OCB (Optical Compensated Bend) type and the like. The display device of the present invention is configured by applying the antireflection laminate of the present invention alone or in combination with a member specific to the display device.

タッチパネルは、現在約9割が抵抗膜方式を採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に透明樹脂基材の片面に酸化インジウム錫(ITO)膜等の透明導電性薄膜を被覆した入力側樹脂基材と、ガラス等の透明基材の片面にITO膜等の透明導電性薄膜を被覆した受圧側透明基材とを、各透明導電性薄膜が向き合うように、絶縁スペーサを介して、配置させた構造を有している。そして、ペンや指で入力側樹脂基材の入力面(透明導電性薄膜側とは反対側の面をいう)を押圧すると、入力側樹脂基材の透明導電性薄膜と、受圧側透明基材の透明導電性薄膜とが接触し、情報が入力される仕組みとなっている。
本発明の反射防止積層体を前記タッチパネルの反射防止フィルムとして適用する態様としては、前記の入力側樹脂基材の入力面の上に、本発明の反射防止積層体を、透明基材が入力側樹脂基材側になり且つ低屈折率層が表面側になるように設ける態様と、本発明の反射防止積層体を構成する透明基材側の面(低屈折率層が形成されていない面)に、ITO膜等の透明導電性薄膜を形成し、それをそのままタッチパネルの入力側樹脂基材として用いる態様とがある。
About 90% of touch panels currently use the resistive film method. In general, the resistive film type touch panel has an input side resin base material in which a transparent conductive thin film such as indium tin oxide (ITO) film is coated on one side of a transparent resin base material, and an ITO film on one side of a transparent base material such as glass. The pressure-receiving side transparent base material coated with a transparent conductive thin film such as the above has a structure in which the transparent conductive thin films face each other through insulating spacers. Then, when the input surface of the input side resin base material (referred to as the surface opposite to the transparent conductive thin film side) is pressed with a pen or a finger, the transparent conductive thin film of the input side resin base material and the pressure receiving side transparent base material The transparent conductive thin film is in contact with each other and information is input.
As an aspect of applying the antireflection laminate of the present invention as an antireflection film of the touch panel, the antireflection laminate of the present invention is formed on the input side of the input side resin substrate, and the transparent substrate is on the input side. A mode in which the low-refractive index layer is provided on the surface side of the resin base and the transparent base-side surface constituting the antireflection laminate of the present invention (a surface on which the low-refractive index layer is not formed) Further, there is an embodiment in which a transparent conductive thin film such as an ITO film is formed and used as it is as an input side resin base material of the touch panel.

本発明の反射防止積層体をプラズマディスプレイパネルの前面板に適用する場合には、通常、本発明の反射防止積層体を、低屈折率層が形成されている側の面が視認側になるように、透明基板に積層して用いる。該透明基板は、透明な板であれば特に制限されず、例えば1mm厚で全光線透過率が80%以上、好ましくは90%以上のものを用いることができる。より具体的には、ガラス板、透明樹脂板が挙げられる。   When the antireflection laminate of the present invention is applied to the front plate of a plasma display panel, the antireflection laminate of the present invention is usually arranged so that the surface on which the low refractive index layer is formed is the viewing side. In addition, it is used by being laminated on a transparent substrate. The transparent substrate is not particularly limited as long as it is a transparent plate. For example, a substrate having a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more, preferably 90% or more can be used. More specifically, a glass plate and a transparent resin plate are mentioned.

本発明の反射防止積層体と透明基板とは、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合せることによって積層できる。接着剤又は粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性に優れる点で、アクリル系の接着剤又は粘着剤が好ましい。   The antireflection laminate of the present invention and the transparent substrate can be laminated by bonding them using an appropriate adhesive means such as an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, and rubber. Among these, acrylic adhesives or pressure-sensitive adhesives are preferable because they are excellent in heat resistance and transparency.

液晶表示装置においては、液晶セルの出射側又は入射側に偏光板が設けられている。この偏光板は、ヨウ素や有機染料等の二色性材料を染色又は吸着させたポリビニルアルコールの延伸フィルムからなる偏光子と、この偏光子の両面に貼り合せられたトリアセチルセルロース(TAC)等の保護フィルムとからなるものである。   In the liquid crystal display device, a polarizing plate is provided on the exit side or the entrance side of the liquid crystal cell. This polarizing plate includes a polarizer made of a stretched film of polyvinyl alcohol dyed or adsorbed with dichroic materials such as iodine and organic dyes, and triacetyl cellulose (TAC) bonded to both sides of the polarizer. It consists of a protective film.

本発明の反射防止積層体を液晶表示装置における偏光板に適用する場合には、本発明の反射防止積層体を、偏光子に貼り合わせられる一方の保護フィルムの替わりに、前記偏光子に反射防止積層体の透明基材が偏光子側になるように積層して用いる。本発明の反射防止積層体と偏光子との積層、及び偏光子と保護フィルムとの積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合せることができる。接着剤又は粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性に優れる点で、アクリル系の接着剤又は粘着剤が好ましい。   When the antireflective laminate of the present invention is applied to a polarizing plate in a liquid crystal display device, the antireflective laminate of the present invention is antireflective on the polarizer instead of one protective film bonded to the polarizer. The laminate is used so that the transparent substrate is on the polarizer side. The lamination of the antireflection laminate of the present invention and a polarizer and the lamination of a polarizer and a protective film can be bonded using an appropriate adhesive means such as an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, and rubber. Among these, acrylic adhesives or pressure-sensitive adhesives are preferable because they are excellent in heat resistance and transparency.

なお、保護フィルムを構成する材料としては、特に制限されないが、透明性、低複屈折性、寸法安定性の観点から、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂、脂環式構造を有する樹脂が好ましい。なお、保護フィルムは光学等方性を有していてもよいし、光学異方性を有していても良い。光学違法性を有した保護フィルムは位相差フィルムとして用いることができる。   In addition, although it does not restrict | limit especially as a material which comprises a protective film, Cellulosic resins, such as a cellulose triacetate, and resin which has an alicyclic structure are preferable from a viewpoint of transparency, low birefringence, and dimensional stability. The protective film may have optical isotropy or optical anisotropy. A protective film having optical illegality can be used as a retardation film.

本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び%は特に断りのない限り重量基準である。
(1)耐擦傷性(スチールウール試験)
反射防止積層体の表面にスチールウール#0000を荷重0.025MPaで圧し付けた状態で、該スチールウールを反射防止積層体の表面で10往復させ擦る。擦った後の反射防止積層体の表面状態を目視で観測し以下の指標で評価した。
○:傷が認められない。
×:傷が認められる。
The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.
(1) Scratch resistance (steel wool test)
In a state where steel wool # 0000 is pressed to the surface of the antireflection laminate with a load of 0.025 MPa, the steel wool is rubbed 10 times on the surface of the antireflection laminate. The surface state of the antireflection laminate after rubbing was visually observed and evaluated by the following indices.
○: Scratches are not recognized.
X: Scratches are observed.

(2)鉛筆硬度
JIS K5600−5−4に準じて、1Kg荷重で測定した。
(2) Pencil hardness Measured with a 1 kg load according to JIS K5600-5-4.

(3)反射率
分光光度計(紫外可視近赤外光光度計V−550、日本分光社製)を用いて、波長430〜700nmにおける入射角5度での反射率を測定し(測定波長間隔は1nm)、前記波長域における最大反射率、波長550nmにおける反射率を算出した。
(3) Reflectance Using a spectrophotometer (ultraviolet visible near infrared photometer V-550, manufactured by JASCO Corporation), the reflectance at an incident angle of 5 degrees at a wavelength of 430 to 700 nm is measured (measurement wavelength interval). 1 nm), the maximum reflectance in the wavelength range, and the reflectance at a wavelength of 550 nm were calculated.

(4)耐汚染性
反射防止積層体の表面に、油性マジックで長さ10cmの線を描いた。線画の状態を目視観察した。さらに該線画をふきとるために布で擦った。擦った後の線画を目視で観察した。観察結果を以下の4段階で評価した。
◎:はじく(ふきとれる)
○:はじかないがふきとれる
△:若干ふきとれない
×:ふきとれない
(4) Contamination resistance A 10 cm long line was drawn with oil-based magic on the surface of the antireflection laminate. The state of the line drawing was visually observed. Further, the cloth was rubbed with a cloth to wipe the line drawing. The line drawing after rubbing was visually observed. The observation results were evaluated in the following four stages.
◎: Repel (wipe off)
○: Not repelled but wiped off △: Slightly wiped off ×: Not wiped off

(5)耐アルカリ性
水酸化ナトリウム1重量%水溶液2mlを反射防止積層体の最表面(低屈折率層が積層されている面)に滴下し、30分放置後、水を含ませた布でふき取り、表面状態を目視で観察することにより、表面が侵されているかどうか判定した。
○:跡なし
△:輪郭のみ確認できる
×:全体的な跡がみえる
(5) Alkali resistance 2 ml of a 1% by weight aqueous solution of sodium hydroxide is dropped onto the outermost surface of the antireflection laminate (the surface on which the low refractive index layer is laminated), left for 30 minutes, and then wiped with a cloth soaked in water. The surface state was visually observed to determine whether the surface was attacked.
○: No trace △: Only outline can be confirmed ×: Overall trace is visible

(6)分散安定状態
低屈折率層形成用コーティング剤を100mlの透明な瓶にとり、40度にて3日間保存し、分離しているかどうか、目視にて確認した。
(6) Dispersion stable state The coating agent for forming a low refractive index layer was placed in a 100 ml transparent bottle, stored at 40 degrees for 3 days, and it was visually confirmed whether or not it was separated.

(製造例1)高屈折率層形成用組成物の調製
アクリロイル基を含有するオリゴマー(日本合成化学工業社製、UV−1700B)100部に、Sb粒子(触媒化成工業社製、平均粒径30nm)100部と、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製 IRGACURE184)2部とを加え、攪拌機にて2000rpmで5分間攪拌することにより、高屈折率層形成用組成物を得た。
(Production Example 1) Preparation of High Refractive Index Layer Composition 100 parts of an acryloyl group-containing oligomer (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., UV-1700B), Sb 2 O 5 particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., average) 100 parts of a particle size of 30 nm) and 2 parts of a photopolymerization initiator (IRGACURE 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added and stirred at 2000 rpm for 5 minutes with a stirrer to obtain a composition for forming a high refractive index layer. .

(製造例2)
(被膜形成微粒子Aの調製)
イオン交換樹脂(AG1x8、BIO−Rad Laboratories)を用いて、中空シリカ微粒子(数平均粒子径30nm、屈折率1.29)から不純物イオンを取り除いた。次いで、この中空シリカ微粒子100部に、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル(X−22−2404 信越化学工業社製)40部を添加し、ジゾルバー混合器にて1時間攪拌して、微粒子分散体Aを調製した。
(Production Example 2)
(Preparation of film-forming fine particles A)
Impurity ions were removed from the hollow silica fine particles (number average particle diameter 30 nm, refractive index 1.29) using an ion exchange resin (AG1 × 8, BIO-Rad Laboratories). Next, 40 parts of methacryl-modified dimethyl silicone oil (X-22-2404, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to 100 parts of the hollow silica fine particles, and the mixture is stirred for 1 hour in a dissolver mixer to prepare a fine particle dispersion A. did.

(被膜形成微粒子Bの調製)
アクリロイル基含有シランカップリング剤(KBM−5103 信越化学工業社製)10gを酢酸濃度0.1%水溶液100gに添加し、水溶液が透明になるまで、約1時間ジゾルバー混合器にて攪拌する。
イオン交換樹脂(AG1x8、BIO−Rad Laboratories)を用いて、中空シリカ微粒子(数平均粒子径30nm、屈折率1.29)、から不純物イオンを取り除いた。この中空シリカ微粒子100部に、前記のカップリング剤溶液2部(固形分)を加え、1時間ジゾルバー混合器にて攪拌した。次いでメタクリル変性ジメチルシリコーンオイル(X−22−2404 信越化学工業社製)40部を添加し、さらにジゾルバー混合器にて1時間攪拌して、微粒子分散体Bを調製した。
(Preparation of film-forming fine particles B)
10 g of an acryloyl group-containing silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to 100 g of an aqueous solution containing 0.1% acetic acid and stirred for about 1 hour in a dissolver mixer until the aqueous solution becomes transparent.
Impurity ions were removed from the hollow silica fine particles (number average particle size 30 nm, refractive index 1.29) using an ion exchange resin (AG1 × 8, BIO-Rad Laboratories). To 100 parts of the hollow silica fine particles, 2 parts (solid content) of the above-mentioned coupling agent solution was added and stirred for 1 hour in a dissolver mixer. Next, 40 parts of methacryl-modified dimethyl silicone oil (X-22-2404, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and the mixture was further stirred for 1 hour in a dissolver mixer to prepare a fine particle dispersion B.

(被膜形成微粒子Cの調製)
イオン交換樹脂(AG1x8、BIO−Rad Laboratories)を用い中空シリカ微粒子(数平均粒子径30nm、屈折率1.29)から不純物イオンを取り除いた。
メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル(X−22−2404 信越化学工業社製)40部に、トリメチルシリル基含有シリル化剤(KA31 信越化学工業社製)1部を添加し、ジゾルバー混合器にて1時間攪拌した。この液に前記中空シリカ微粒子100部を添加し、ジゾルバー混合器にて1時間攪拌して、微粒子分散体Cを調製した。
(Preparation of film-forming fine particles C)
Impurity ions were removed from the hollow silica fine particles (number average particle diameter 30 nm, refractive index 1.29) using an ion exchange resin (AG1 × 8, BIO-Rad Laboratories).
1 part of a trimethylsilyl group-containing silylating agent (KA31, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to 40 parts of methacryl-modified dimethyl silicone oil (X-22-2404, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the mixture was stirred for 1 hour in a dissolver mixer. . 100 parts of the hollow silica fine particles were added to this liquid, and stirred for 1 hour in a dissolver mixer to prepare a fine particle dispersion C.

(被膜形成微粒子Dの調製)
イオン交換樹脂(AG1x8、BIO−Rad Laboratories)を用いて、中空シリカ微粒子(数平均粒子径30nm、屈折率1.29)のシラノール基の活性を高める前処理を行った。この中空シリカ微粒子100部に、フッ素樹脂(ノベック1720 3M製)40部を添加し、ジゾルバー混合器にて1時間攪拌して、微粒子分散体Dを調製した。
(Preparation of film-forming fine particles D)
Using ion exchange resin (AG1 × 8, BIO-Rad Laboratories), pretreatment for increasing the activity of silanol groups of hollow silica fine particles (number average particle diameter 30 nm, refractive index 1.29) was performed. A fine particle dispersion D was prepared by adding 40 parts of a fluororesin (manufactured by Novec 1720 3M) to 100 parts of the hollow silica fine particles and stirring for 1 hour in a dissolver mixer.

(製造例3)低屈折率層用コーティング剤1の調製
アクリロイル基を含有するモノマー(アデカオプトマーKR566、旭電化工業社製)100部に、光重合開始剤(IRGACURE184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)2部、微粒子分散体Aを70部加え、攪拌機にて2000rpmで30分間攪拌することにより、低屈折率層用コーティング剤1を得た。
(Production Example 3) Preparation of Coating Agent 1 for Low Refractive Index Layer 100 parts of an acryloyl group-containing monomer (Adekaoptomer KR566, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) is added to a photopolymerization initiator (IRGACURE 184, Ciba Specialty Chemicals). (Manufactured) 2 parts, 70 parts of the fine particle dispersion A were added, and the mixture was stirred with a stirrer at 2000 rpm for 30 minutes to obtain a coating agent 1 for a low refractive index layer.

(製造例4)低屈折率層用コーティング剤2の調製
製造例3において、微粒子分散体Aを微粒子分散体Bに替えた他は、製造例3と同様にして、低屈折率層用コーティング剤2を得た。
(Production Example 4) Preparation of coating agent 2 for low refractive index layer A coating agent for low refractive index layer was produced in the same manner as in Production Example 3 except that the fine particle dispersion A was replaced with the fine particle dispersion B in Production Example 3. 2 was obtained.

(製造例5)低屈折率層用コーティング剤3の調製
製造例3において、微粒子分散体Aを微粒子分散体Cに替えた他は、製造例3と同様にして、低屈折率層用コーティング剤3を得た。
(Production Example 5) Preparation of coating agent 3 for low refractive index layer A coating agent for low refractive index layer was produced in the same manner as in Production Example 3 except that the fine particle dispersion A was replaced with the fine particle dispersion C in Production Example 3. 3 was obtained.

(製造例6)低屈折率層用コーティング剤4の調製
製造例3において、微粒子分散体Aを微粒子分散体Dに替えた他は、製造例3と同様にして、低屈折率層用コーティング剤4を得た。
(Production Example 6) Preparation of coating agent 4 for low refractive index layer A coating agent for low refractive index layer was produced in the same manner as in Production Example 3 except that the fine particle dispersion A was replaced with the fine particle dispersion D in Production Example 3. 4 was obtained.

(製造例7)低屈折率層用コーティング剤5の調製
製造例3において、微粒子分散体Aを被覆調整を行っていない中空シリカ微粒子(数平均粒子径30nm、屈折率1.29)50部に替えた他は、製造例3と同様にして、低屈折率層用コーティング剤5を得た。
(Production Example 7) Preparation of Coating Agent 5 for Low Refractive Index Layer In Production Example 3, 50 parts of hollow silica fine particles (number average particle size 30 nm, refractive index 1.29) not coated with the fine particle dispersion A were prepared. Other than having changed, it carried out similarly to manufacture example 3, and obtained the coating agent 5 for low refractive index layers.

(実施例1)
透明基材として、厚み70μmのポリエチレンテレフタレート(PET)製フィルム(A4300、東洋紡績社製)を用いた。この透明基材上に製造例1で得られた高屈折率層形成用組成物をバーコーターで塗布した。紫外線照射機を用いて積算光量300mJ/cmとなるように紫外線照射を行い硬化させて、透明基材/高屈折率層積層体を得た。高屈折率層の厚みは2μm、屈折率は1.70であった。次に、高屈折率層の上に、製造例3で得られた低屈折率層用コーティング剤1をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を90℃で3分間乾燥させ、次いで紫外線照射機を用いて積算光量300mJ/cmとなるように紫外線照射を行い、塗膜を硬化させ、透明基材/高屈折率層/低屈折率層からなる反射防止積層体1を得た。得られた反射防止積層体1の評価を行った。評価結果を表1に示す。
Example 1
A 70 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the transparent substrate. The composition for forming a high refractive index layer obtained in Production Example 1 was applied on this transparent substrate with a bar coater. Using a UV irradiator, the UV light was irradiated and cured so that the accumulated light amount was 300 mJ / cm 2 to obtain a transparent substrate / high refractive index layer laminate. The high refractive index layer had a thickness of 2 μm and a refractive index of 1.70. Next, the coating agent 1 for the low refractive index layer obtained in Production Example 3 was applied on the high refractive index layer with a bar coater, and the obtained coating film was dried at 90 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays. The antireflection laminate 1 comprising transparent substrate / high refractive index layer / low refractive index layer was obtained by irradiating with ultraviolet rays so as to obtain an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 using a machine and curing the coating film. The obtained antireflection laminate 1 was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

(実施例2)
低屈折率層用コーティング剤1の代わりに製造例4で得られた低屈折率層用コーティング剤2を用いた他は、実施例1と同様にして、反射防止積層体2を得た。得られた反射防止積層体2について、実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 2)
An antireflection laminate 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the low refractive index layer coating agent 2 obtained in Production Example 4 was used instead of the low refractive index layer coating agent 1. The obtained antireflection laminate 2 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

(実施例3)
低屈折率層用コーティング剤1の代わりに製造例5で得られた低屈折率層用コーティング剤3を用いた他は、実施例1と同様にして、反射防止積層体3を得た。得られた反射防止積層体3について、実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 3)
An antireflection laminate 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer coating agent 3 obtained in Production Example 5 was used instead of the low refractive index layer coating agent 1. The obtained antireflection laminate 3 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

(比較例1)
低屈折率層用コーティング剤1の代わりに製造例6で得られた低屈折率層用コーティング剤4を用いた他は、実施例1と同様にして、反射防止積層体4を得た。得られた反射防止積層体4について、実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
An antireflection laminate 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent 4 for low refractive index layer obtained in Production Example 6 was used instead of the coating agent 1 for low refractive index layer. The obtained antireflection laminate 4 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

(比較例2)
低屈折率層用コーティング剤1の代わりに製造例7で得られた低屈折率層用コーティング剤5を用いた他は、実施例1と同様にして、反射防止積層体5を得た。得られた反射防止積層体5について、実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
An antireflection laminate 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer coating agent 5 obtained in Production Example 7 was used instead of the low refractive index layer coating agent 1. The obtained antireflection laminate 5 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0004961853
Figure 0004961853

表1から以下のことがわかる。
実施例に示すように本発明の反射防止積層体は、表面強度(耐擦傷性および鉛筆硬度)に優れているため十分な物理的強度を有するとともに耐汚染性、耐アルカリ性も優れ、かつ反射率が良好であることがわかる。これに対して、比較例1の反射防止積層体は、コーティング液が分離してしまい、微粒子に対する被膜ができていないことがわかる。また、比較例2においては、被膜されていない、微粒子単体では表面強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)、耐汚染性、耐アルカリ性が不十分であることがわかる。
Table 1 shows the following.
As shown in the examples, the antireflective laminate of the present invention is excellent in surface strength (abrasion resistance and pencil hardness), and thus has sufficient physical strength, as well as excellent contamination resistance and alkali resistance, and reflectivity. Is found to be good. On the other hand, in the antireflection laminate of Comparative Example 1, it can be seen that the coating liquid is separated and a coating on fine particles is not formed. Further, in Comparative Example 2, it can be seen that the surface strength (scratch resistance, pencil hardness), stain resistance, and alkali resistance are insufficient when the fine particles are not coated.

Claims (8)

透明基材と、その上に直接又は他の層を介して形成された低屈折率層とを有し、
該低屈折率層が変性シリコーンオイルによって被覆された微粒子(平均粒子径が50〜200nmであるものを除く)、及び(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを含有する組成物の硬化物からなり、変性シリコーンオイルの被覆量が該微粒子100重量部に対して40〜100重量部である反射防止積層体。
A transparent substrate and a low refractive index layer formed on the transparent substrate directly or via another layer;
Fine particles coated low refractive index layer by modified silicone oil (average particle size except those is 50 to 200 nm), and (meth) Ri Do a cured product of a composition containing a monomer having an acryloyl group, 40 to 100 parts by weight of der Ru antireflection stack against coverages fine particles 100 parts by weight of the modified silicone oil.
変性シリコーンオイルが(メタ)アクリル変性ジメチルシリコーンオイルである請求項1に記載の反射防止積層体。   The antireflection laminate according to claim 1, wherein the modified silicone oil is (meth) acryl-modified dimethyl silicone oil. 前記微粒子が中空シリカ微粒子である請求項1に記載の反射防止積層体。   The antireflection laminate according to claim 1, wherein the fine particles are hollow silica fine particles. 前記低屈折率層の屈折率が1.45以下である請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止積層体。   The antireflective laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.45 or less. 波長430〜700nmにおける、入射角5度で測定した反射率の最大値が2.5%以下である請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止積層体。   The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the maximum reflectance measured at an incident angle of 5 degrees at a wavelength of 430 to 700 nm is 2.5% or less. 請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止積層体を含んで成る光学部材。   An optical member comprising the antireflection laminate according to claim 1. 請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止積層体を備える表示装置。   A display apparatus provided with the antireflection laminated body in any one of Claims 1-5. イオン交換樹脂で微粒子から不純物イオンを取り除き、該微粒子に変性シリコーンオイルを被覆させ、次いでそれを(メタ)アクリロイル基を有するモノマーと混合することを含む、請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止積層体の製造方法。  6. The method according to claim 1, comprising removing impurity ions from the fine particles with an ion exchange resin, coating the fine particles with a modified silicone oil, and then mixing it with a monomer having a (meth) acryloyl group. A method for producing an antireflection laminate.
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