JP4866074B2 - Anti-reflection coating agent and anti-reflection film - Google Patents

Anti-reflection coating agent and anti-reflection film Download PDF

Info

Publication number
JP4866074B2
JP4866074B2 JP2005358954A JP2005358954A JP4866074B2 JP 4866074 B2 JP4866074 B2 JP 4866074B2 JP 2005358954 A JP2005358954 A JP 2005358954A JP 2005358954 A JP2005358954 A JP 2005358954A JP 4866074 B2 JP4866074 B2 JP 4866074B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
meth
antireflection film
acrylate
antireflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005358954A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007163754A (en
Inventor
寛 前中
弘幸 西本
恭幸 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2005358954A priority Critical patent/JP4866074B2/en
Publication of JP2007163754A publication Critical patent/JP2007163754A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4866074B2 publication Critical patent/JP4866074B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、耐擦傷性に優れる反射防止膜を得ることができる反射防止用コーティング剤、及び、反射防止膜に関する。 The present invention relates to an antireflection coating agent capable of obtaining an antireflection film excellent in scratch resistance, and an antireflection film.

パソコン、ワープロ、携帯電話等に用いる液晶ディスプレイや、その他種々の商業ディスプレイ等は、極めて広範な分野で利用されている。これらのディスプレイにはガラスやプラスチック等の透明基板が用いられており、これらの透明基板を通して物体や文字、図形等の視覚情報を認知している。
これらディスプレイの実用上の問題点として、表示面の反射による視認性の悪化が挙げられる。すなわち、室内外を問わずに外光が入射するような環境下で使用した場合に、外光等の入射光が透明基板の表面で反射することにより、内部の視覚情報が見えにくくなる。
Liquid crystal displays used for personal computers, word processors, mobile phones, and other various commercial displays are used in a very wide range of fields. These displays use transparent substrates such as glass and plastic, and recognize visual information such as objects, characters, and figures through these transparent substrates.
As a practical problem of these displays, deterioration of visibility due to reflection of the display surface can be mentioned. That is, when used in an environment in which external light is incident regardless of whether it is indoors or outdoors, the incident light such as external light is reflected on the surface of the transparent substrate, so that the internal visual information becomes difficult to see.

このような透明基板の反射を防止する方法をしては、従来、ガラスやプラスチックの表面に透明な微粒子を含むコーティング剤層を形成し、凹凸状の表面により外光を乱反射させる方法、或いはガラスやプラスチックの表面に低屈折率の反射防止層を形成する方法等があった。 As a method for preventing such reflection of the transparent substrate, conventionally, a coating agent layer containing transparent fine particles is formed on the surface of glass or plastic, and irregular light is reflected by the uneven surface, or glass And a method of forming an antireflection layer having a low refractive index on the surface of plastic.

例えば、特許文献1には、ゾルゲル法により調整されたシリケート系コーティング剤中にシリカ分散液を混合し、その混合液をガラス基板状に塗布して焼成することで表面にシリカ粒子或いはシリカ粒子の凝集体による凹凸を有する反射防止膜を得られることが記載されている。 For example, in Patent Document 1, a silica dispersion is mixed in a silicate coating agent prepared by a sol-gel method, and the mixture is applied to a glass substrate and baked to form silica particles or silica particles on the surface. It is described that an antireflection film having irregularities due to aggregates can be obtained.

また、例えば、特許文献2には、透明材料中に独立した微少空孔を分散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にすることにより多孔構造を有する反射防止層を形成しうることが記載されている。 Further, for example, in Patent Document 2, it is possible to form an antireflection layer having a porous structure by dispersing independent micropores in a transparent material so that the refractive index is lower than the refractive index of the transparent material itself. Is described.

しかしながら、このような従来の表面に凹凸を有する反射防止膜や低屈折率層を単層で形成した反射防止層は、透明基板の反射を防止することはできるものの擦過等により表面に傷がつきやすく、ディスプレイ表示画面への反射防止フィルムの張り合わせの際や、反射防止フィルムの汚れを拭き取る際に傷が付き表示画像が見にくくなるといった問題があった。
特開平09−101518号公報 特開2002−317152号公報
However, such a conventional antireflection film having an uneven surface or a low-refractive index layer formed as a single layer can prevent reflection of the transparent substrate, but the surface is scratched by rubbing or the like. There is a problem that the display image is easily scratched when the antireflection film is attached to the display screen or when the antireflection film is wiped off.
JP 09-101518 A JP 2002-317152 A

本発明者らは、上記現状に鑑み、耐擦傷性に優れる反射防止膜を得ることができる反射防止用コーティング剤、及び、反射防止膜を提供することを目的とする。 In view of the above situation, the present inventors have aimed to provide an antireflection coating agent and an antireflection film capable of obtaining an antireflection film having excellent scratch resistance.

本発明は、平均粒子径が50〜200nm、屈折率が1.40以下であり、かつ、少なくとも表面がポリオルガノシロキサン化合物からなる微粒子と、バインダー成分とを含有する反射防止用コーティング剤であって、前記微粒子が中空構造であり、かつ、単孔構造を有する反射防止用コーティング剤である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention is an antireflection coating agent comprising an average particle size of 50 to 200 nm , a refractive index of 1.40 or less, and containing at least a fine particle comprising a polyorganosiloxane compound and a binder component. The fine particles have a hollow structure and have a single-hole structure.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討の結果、特定範囲の平均粒子径を有し、かつ、表面が低表面張力の特定の物質からなる微粒子と、バインダー成分とを含有する反射防止用コーティング剤を用いることにより、耐擦傷性に優れる反射防止膜を得ることができ、更に、上記微粒子とバインダー成分の屈折率を所定の範囲内に調整することで、充分な低屈折率を示し優れた反射防止効果を奏する反射防止膜を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors use an antireflection coating agent containing fine particles made of a specific substance having an average particle diameter in a specific range and a low surface tension, and a binder component. Thus, an antireflection film having excellent scratch resistance can be obtained, and by adjusting the refractive index of the fine particles and the binder component within a predetermined range, a sufficiently low refractive index is exhibited and an excellent antireflection effect is exhibited. The present inventors have found that an antireflection film exhibiting the above can be obtained, and have completed the present invention.

本発明の反射防止コーティング剤は、平均粒子径が50〜200nmであり、かつ、少なくとも表面がポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる微粒子(以下、滑り性付与微粒子ともいう)を含有する。
上記滑り性付与微粒子は、本発明の反射防止コーティング剤を用いてなる反射防止膜に優れた耐擦傷性を付与する微粒子であり、平均粒子径の下限は50nmであり、上限は200nmである。
上記滑り性付与粒子は、一般的な反射防止膜の厚さである100nm程度と比較して、同程度かやや大きい平均粒子径を持つため、本発明の反射防止用コーティング剤を用いて反射防止膜を形成した際に、該反射防止膜の表面に低表面張力であるポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる上記滑り性付与粒子が部分的に露出することとなる。その結果、本発明の反射防止コーティング剤を用いてなる反射防止膜は、表面の滑り性が高く、優れた耐擦傷効果を有するものとなる。
The antireflection coating agent of the present invention contains fine particles (hereinafter also referred to as slipperiness-imparting fine particles) having an average particle diameter of 50 to 200 nm and at least a surface comprising a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound.
The slipperiness-imparting fine particles are fine particles that impart excellent scratch resistance to the antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention, and the lower limit of the average particle diameter is 50 nm, and the upper limit is 200 nm.
The slipperiness-imparting particles have an average particle size that is the same or slightly larger than the typical antireflection film thickness of about 100 nm. Therefore, the antireflection coating agent of the present invention is used for antireflection. When the film is formed, the slipperiness-imparting particles made of a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound having a low surface tension are partially exposed on the surface of the antireflection film. As a result, the antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention has a high surface slipperiness and an excellent scratch resistance effect.

上記滑り性付与微粒子の平均粒子径が50nm未満であると、反射防止膜を形成した際に、上記滑り性付与微粒子が反射防止膜内部に埋没してしまい滑り性付与微粒子のポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物表面による耐擦傷効果が発現せず、200nmを超えると、本発明の反射防止用コーティング剤を用いて形成した反射防止膜に、レイリー散乱に起因する白化現象が起こることがあり、透明性を必要とする場合に不都合となる。好ましい下限は70nm、好ましい上限は150nmである。 When the antireflection film is formed when the average particle size of the slipperiness-imparting fine particles is less than 50 nm, the slipperiness-imparting fine particles are buried inside the antireflection film, or the slip-giving fineness polyorganosiloxane compound or If the surface of the fluorine compound does not exhibit the scratch resistance effect and exceeds 200 nm, the antireflection film formed using the antireflection coating agent of the present invention may cause a whitening phenomenon due to Rayleigh scattering. It becomes inconvenient when it is necessary. A preferred lower limit is 70 nm and a preferred upper limit is 150 nm.

上記滑り性付与微粒子は、粒子径のCV値の好ましい上限が20%である。上記CV値が20%を超えると、粒子径が200nmを超える粗大粒子の比率が高くなり、本発明の反射防止用コーティング剤を用いてなる反射防止膜のヘイズが高くなってしまう場合がある。 The upper limit of the CV value of the particle diameter of the slipperiness-imparting fine particles is 20%. When the CV value exceeds 20%, the ratio of coarse particles having a particle diameter exceeding 200 nm increases, and the haze of the antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention may increase.

上記滑り性付与微粒子は、屈折率の上限が1.40であることが好ましい。1.40を超えると、本発明の反射防止用コーティング剤を用いてなる反射防止膜全体の屈折率を押し上げてしまい、その結果、充分な反射防止効果が得られなくなってしまう場合がある。より好ましい上限は1.35、更に好ましい上限は1.30である。 The slipperiness-imparting fine particles preferably have an upper limit of refractive index of 1.40. When it exceeds 1.40, the refractive index of the entire antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention is increased, and as a result, a sufficient antireflection effect may not be obtained. A more preferred upper limit is 1.35, and a more preferred upper limit is 1.30.

なお、本明細書において、「屈折率」とは、下記のようにして求める値を意味する。
まず、屈折率を求めようとする微粒子と屈折率既知の重合性化合物とを用いて薄膜を作製する。この際、光波長550nmに最低反射率を有する薄膜を作製することが好ましい。
得られた薄膜について、光波長380〜770nmの光の入射角5°での片面反射スペクトルを測定する。
得られた反射スペクトルについて、光学特性解析ソフト(例えば、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製「WVASE32」) を用いて薄膜の屈折率を見積もる。
得られた薄膜の光波長550nmにおける屈折率の値と、屈折率既知の重合性化合物の屈折率の値とを用い、上記微粒子と屈折率既知の重合性化合物の体積比から、微粒子の屈折率を算出する。
In the present specification, “refractive index” means a value obtained as follows.
First, a thin film is prepared using fine particles whose refractive index is to be obtained and a polymerizable compound having a known refractive index. At this time, it is preferable to produce a thin film having a minimum reflectance at a light wavelength of 550 nm.
About the obtained thin film, the single-sided reflection spectrum in the incident angle of 5 degrees of light with a light wavelength of 380-770 nm is measured.
About the obtained reflection spectrum, the refractive index of a thin film is estimated using optical characteristic analysis software (for example, "WVASE32" by JA Woollam Japan).
Using the refractive index value of the obtained thin film at a light wavelength of 550 nm and the refractive index value of the polymerizable compound having a known refractive index, the refractive index of the fine particle is determined from the volume ratio of the fine particles to the polymerizable compound having the known refractive index. Is calculated.

上記滑り性付与微粒子の内部形状としては、その平均粒子径が上述の範囲内であれば特に限定はされず、例えば、空隙を有さない中実微粒子であってもよいし空隙を有する中空微粒子であってもよいが、低屈折率を達成しやすいことから、中空微粒子であることが好ましい。 The internal shape of the slipperiness-imparting fine particles is not particularly limited as long as the average particle diameter is within the above-mentioned range. For example, solid fine particles having no voids or hollow fine particles having voids may be used. However, since it is easy to achieve a low refractive index, hollow fine particles are preferable.

上記滑り性付与微粒子が中空微粒子である場合、単孔構造を有することが好ましい。単孔構造であることにより、空隙内部は密閉性に優れたものとなり、反射防止膜とした場合に空隙内にバインダー等の他成分が侵入して滑り性付与微粒子の空隙率が低下することを防止できる。また、反射防止膜全体の強度を向上させることができる。なお、本明細書において、「単孔構造を有する」とは、多孔質状等の複数の空隙を有する場合を含まず、外殻層と、ただ一つの空隙とを有することを意味する。 When the slipperiness-imparting fine particles are hollow fine particles, it is preferable to have a single-pore structure. Due to the single-hole structure, the inside of the voids has excellent sealing properties, and in the case of an antireflection film, other components such as a binder enter the void and the porosity of the slipperiness-imparting fine particles decreases. Can be prevented. In addition, the strength of the entire antireflection film can be improved. In the present specification, “having a single pore structure” does not include the case of having a plurality of voids such as a porous shape, and means having an outer shell layer and only one void.

上記滑り性付与微粒子が中空微粒子である場合、空隙率の好ましい下限は10%である。10%未満であると、屈折率を充分に低くできない場合がある。より好ましい下限は30%、更に好ましい下限は50%である。上記空隙率の上限としては特に限定されないが、微粒子の形状維持やある程度の強度確保という観点から、好ましい上限は90%、より好ましい上限は80%である。 When the slipperiness-imparting fine particles are hollow fine particles, the preferable lower limit of the porosity is 10%. If it is less than 10%, the refractive index may not be sufficiently lowered. A more preferred lower limit is 30%, and a still more preferred lower limit is 50%. Although the upper limit of the porosity is not particularly limited, the preferable upper limit is 90% and the more preferable upper limit is 80% from the viewpoint of maintaining the shape of the fine particles and securing a certain degree of strength.

また、上記滑り性付与微粒子の構造としては、少なくとも表面がポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなるものであれば特に限定されず、例えば、微粒子自体がポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなるものであってもよく、ポリオルガノシロキサン化合物及びフッ素化合物以外からなる微粒子(以下、基材粒子ともいう)表面を、ポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物で表面処理したものであってもよい。 Further, the structure of the slipperiness-imparting fine particles is not particularly limited as long as at least the surface is made of a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound. For example, the fine particles themselves are made of a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound. Alternatively, the surface of fine particles (hereinafter also referred to as substrate particles) other than the polyorganosiloxane compound and the fluorine compound may be surface-treated with the polyorganosiloxane compound or the fluorine compound.

上記滑り性付与微粒子自体がポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる場合、その合成方法としては特に限定されず、例えば、構造内部にビニル基又は(メタ)アクリル基を有するオルガノシロキサン化合物、若しくは、含フッ素系モノマーと、非重合性有機溶剤とを用いた乳化重合、滴下型の乳化重合、ソープフリー重合、マイクロエマルジョン重合、ミニエマルジョン重合、マイクロサスペンジョン重合;構造内部にエポキシ基やイソシアネート基、ウレイド基、アミノ基、メルカプト基、ハロゲン基を有するオルガノシロキサン化合物を用いた界面重合等が挙げられ、適宜の重合方法を用いて合成することができる。
なお、上記オルガノシロキサン化合物や含フッ素系モノマー、非重合性有機溶剤等の配合量を適宜調整することで、得られる滑り性付与微粒子を中実構造や中空構造とすることができる。
When the above-mentioned slipperiness-imparting fine particles themselves comprise a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound, the synthesis method is not particularly limited. For example, an organosiloxane compound having a vinyl group or (meth) acryl group inside the structure, or Emulsion polymerization using fluorine-based monomer and non-polymerizable organic solvent, drop-type emulsion polymerization, soap-free polymerization, microemulsion polymerization, miniemulsion polymerization, microsuspension polymerization; epoxy group, isocyanate group, ureido group inside the structure And interfacial polymerization using an organosiloxane compound having an amino group, mercapto group, or halogen group, and the like, and can be synthesized using an appropriate polymerization method.
In addition, the slipperiness | fine-particles provision fine particle obtained can be made into a solid structure or a hollow structure by adjusting suitably the compounding quantities of the said organosiloxane compound, a fluorine-containing monomer, a nonpolymerizable organic solvent, etc.

上記構造内部にビニル基、又は、(メタ)アクリル基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定されず、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、p−スチリルメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル基又は、(メタ)アクリル基変性ポリジメチルシロキサン化合物(市販品としては、例えば、X−22−164A、X−22−164B、X−22−164C、X−22−174DX、X−24−8201、X−22−2426、X−22−2404(以上、いずれも信越化学工業社製)、サイラプレーンFM−7711、FM−7721、FM−7725、FM−0711、FM−0721、FM−0725、FM−0701、FM−0701T(以上、いずれもチッソ社製))等が挙げられるが、滑り性の観点からビニル基、又は、(メタ)アクリル基変性ポリジメチルシロキサン化合物が好ましく、より好ましくは数平均分子量3000以上のビニル基、又は、(メタ)アクリル基変性ポリジメチルシロキサン化合物である。 The organosilane compound having a vinyl group or (meth) acryl group inside the structure is not particularly limited. For example, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, p-styrylmethoxysilane, 3- Methacryloxypropyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, vinyl group or (meth) Acrylic group-modified polydimethylsiloxane compounds (commercially available products include, for example, X-22-164A, X-22-164B, X-22-164C, X-22-174DX, X-24-8201, X-22-2426. , X-22-2 04 (above, all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Silaplane FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM-0711, FM-0721, FM-0725, FM-0701, FM-0701T (above, any From the viewpoint of slipperiness, a vinyl group or a (meth) acrylic group-modified polydimethylsiloxane compound is preferable, and a vinyl group having a number average molecular weight of 3000 or more, or ( It is a (meth) acrylic group-modified polydimethylsiloxane compound.

上記含フッ素系モノマーとしては特に限定されず、例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等のフルオロオレフィン類;トリフルオロエチルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等の下記一般式(1)で表される(メタ)アクリル酸の一部分若しくは完全フッ素化アルキルエステル誘導体類;(メタ)アクリル酸の一部分若しくは完全フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。 The fluorine-containing monomer is not particularly limited. For example, fluoroolefins such as fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole; Part of (meth) acrylic acid or fully fluorinated alkyl ester derivatives represented by the following general formula (1) such as fluoroethyl methacrylate and perfluorooctylethyl (meth) acrylate; part of (meth) acrylic acid or complete fluorine Vinyl ethers and the like.

Figure 0004866074
式中、Rは水素原子、メチル基、又は、フッ素原子を表し、m、nは自然数を表す。
Figure 0004866074
In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a fluorine atom, and m and n represent natural numbers.

上記非重合性有機溶剤としては、上記構造内部にビニル基又は(メタ)アクリル基を有するオルガノシロキサン化合物、若しくは、含フッ素系モノマーと混和し、かつ、重合温度において液状であるものであれば特に限定されないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、デカン、ヘキサデカン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、1,4―ジオキサン、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の有機溶剤等が好適である。 The non-polymerizable organic solvent is not particularly limited as long as it is mixed with an organosiloxane compound having a vinyl group or a (meth) acryl group in the structure or a fluorine-containing monomer and is liquid at the polymerization temperature. For example, but not limited to, butane, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, decane, hexadecane, toluene, xylene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 1,4-dioxane, methyl chloride, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride An organic solvent such as is suitable.

上記構造内部にエポキシ基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定されず、例えば、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、エポキシ基変性ポリジメチルシロキサン化合物(市販品としては、例えば、信越化学工業社製KF−1001,KF−101,KF−102,KF−105、X−22−2000,X−22−163A,X−22−163B,X−22−163C、X−22−169AS,X−22−169B,X−22−173−DX、X−22−3667,X−22−4741)等が挙げられるが、滑り性の観点からエポキシ基変性ポリジメチルシロキサン化合物が好ましく、より好ましくは数平均分子量3000以上のエポキシ基変性ポリジメチルシロキサン化合物である。 The organosilane compound having an epoxy group inside the structure is not particularly limited, and examples thereof include 2- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl. Methyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, epoxy group-modified polydimethylsiloxane compound (commercially available products include, for example, KF-1001, KF-101, KF-102, KF-105 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. X-22-2000, X-22-163A, X-22-163B, X-22-163C, X-22-169AS, X-22-169B, X-22-173-DX, X-22-3667 X-22-4741) and the like, but from the viewpoint of slipperiness, an epoxy group-modified polymer Le siloxane compounds are preferred, and more preferably the number average molecular weight of 3000 or more epoxy group-modified polydimethylsiloxane compounds.

上記構造内部にイソシアネート基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定されず、例えば、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 The organosilane compound having an isocyanate group inside the structure is not particularly limited, and examples thereof include 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

上記構造内部にウレイド基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定はされず、例えば、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 The organosilane compound having a ureido group in the structure is not particularly limited, and examples thereof include 3-ureidopropyltriethoxysilane.

上記構造内部にアミノ基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定されず、例えば、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミンN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、特殊アミノシラン、アミノ基変性ポリジメチルシロキサン化合物(市販品としては、例えば、KF−393、KF−858、KF−859、KF−860、KF−861、KF−864、KF−865、KF−867、KF−868、KF−869、KF−880、KF−8003、KF−8002、KF−8004、KF−8005、KF−8008、KF−8010、KF−8012、X−22−3939A、X−22−3908A、X−22−161A、X−22−161B、X−22−1660B−3、KF−857、KF−862、KF−8001(以上、いずれも信越化学工業社製)、サイラプレーンFM−3311、FM−3321、FM−3325(以上、いずれもチッソ社製))等が挙げられ、滑り性の観点からアミノ基変性ポリジメチルシロキサン化合物が好ましく、より好ましくは数平均分子量3000以上のエポキシ基変性ポリジメチルシロキサン化合物である。 The organosilane compound having an amino group in the structure is not particularly limited. For example, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, special aminosilane, amino group-modified polydimethylsiloxane compound (as commercial products For example, KF-393, KF-858 KF-859, KF-860, KF-861, KF-864, KF-865, KF-867, KF-868, KF-869, KF-880, KF-8003, KF-8002, KF-8004, KF- 8005, KF-8008, KF-8010, KF-8012, X-22-3939A, X-22-3908A, X-22-161A, X-22-161B, X-22-1660B-3, KF-857, KF-862, KF-8001 (all are manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Silaplane FM-3311, FM-3321, FM-3325 (all are manufactured by Chisso)) and the like. From the viewpoint, an amino group-modified polydimethylsiloxane compound is preferable, and an epoxy group-modified polydimethyl having a number average molecular weight of 3000 or more is more preferable. It is a Rokisan compound.

上記構造内部にメルカプト基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定されず、例えば、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプト基変性ポリジメチルシロキサン化合物(市販品としては、例えば、KF−2002、KF−2004、X−22−167B(以上、いずれも信越化学工業社製))等が挙げられ、滑り性の観点からメルカプト基変性ポリジメチルシロキサン化合物が好ましく、より好ましくは数平均分子量3000以上のメルカプト基変性ポリジメチルシロキサン化合物である。 The organosilane compound having a mercapto group in the structure is not particularly limited. For example, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, mercapto group-modified polydimethylsiloxane compound (commercially available products include, for example, , KF-2002, KF-2004, X-22-167B (all of which are manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like, and a mercapto group-modified polydimethylsiloxane compound is preferable from the viewpoint of slipperiness, more preferably a number. It is a mercapto group-modified polydimethylsiloxane compound having an average molecular weight of 3000 or more.

上記構造内部にハロゲン基を有するオルガノシラン化合物としては特に限定はされず、例えば、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 The organosilane compound having a halogen group in the structure is not particularly limited, and examples thereof include 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

上記オルガノシラン化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なかでも、ビニル基、又は、(メタ)アクリル基を有するオルガノシラン化合物、エポキシ基を有するオルガノシラン化合物又はアミノ基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。このようなオルガノシラン化合物を含有することで、滑り性に優れかつ強固な滑り性付与微粒子を作製することができるからである。 The said organosilane compound may be used independently and may use 2 or more types together. Especially, the organosilane compound which has a vinyl group or a (meth) acryl group, the organosilane compound which has an epoxy group, or the organosilane compound which has an amino group is preferable. This is because, by containing such an organosilane compound, it is possible to produce slipperiness-imparting fine particles having excellent slipperiness and strength.

また、上記構造の滑り性付与微粒子を合成する際には、樹脂成分を併用してもよい。上記樹脂成分を併用することで、得られる滑り性付与微粒子が耐アルカリ性に優れたものとなる。 Moreover, when synthesizing the slipperiness imparting fine particles having the above structure, a resin component may be used in combination. By using the resin component in combination, the resulting slip imparting fine particles are excellent in alkali resistance.

上記樹脂成分としては特に限定されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、クミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、パルミチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1.6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル樹脂、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル樹脂、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン含有ビニル樹脂、アリルメタクリレート、ジアリルフタレート、ジアリルマレート、ジアリルフマレート、ジアリルサクシネート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル樹脂、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ジビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂及びエポキシ樹脂、若しくは、それらの完全又は部分フッ素化物等が挙げられる。なかでも、完全又は部分フッ素化物であることが好ましい。完全又は部分フッ素化物を用いることで、上記滑り性付与微粒子の滑り性を良好に発現することが可能であり、また、中空構造とした場合に、後述する極性媒体等の気孔内部への浸入を好適に抑制することが可能となるからである。 The resin component is not particularly limited. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, cumyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, myristyl ( (Meth) acrylate, palmityl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1.6 Hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylic resins, (meth) acrylic resins such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, vinyl ester resins such as vinyl acetate and vinyl propionate, halogen-containing vinyl resins such as vinyl chloride and vinylidene chloride, allyl methacrylate, diallyl phthalate, Allyl resins such as diallyl malate, diallyl fumarate, diallyl succinate, triallyl isocyanurate, styrene, α-methylstyrene, p-methyls Examples include aromatic divinyl resins such as tylene, p-chlorostyrene, divinylbenzene, polyurethane resins, polyurea resins, polyamide resins, polyimide resins, polyester resins, nylon resins and epoxy resins, or complete or partially fluorinated products thereof. . Of these, a complete or partially fluorinated product is preferable. By using a completely or partially fluorinated product, it is possible to satisfactorily express the slipperiness of the above-mentioned slipperiness-imparting fine particles, and in the case of a hollow structure, penetration of pores such as a polar medium to be described later It is because it becomes possible to suppress suitably.

上記樹脂成分を併用する場合、その配合量としては特に限定されないが、上記オルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物100重量部に対して、好ましい下限は1重量部、好ましい上限は90重量部である。1重量部未満であると、上記滑り性付与微粒子に充分な耐アルカリ性を付与できないことがあり、90重量部を超えると、本発明の反射防止用コーティング剤を用いてなる反射防止膜の耐擦傷性が不充分となることがある。より好ましい下限は10重量部、より好ましい上限は50重量部である。 When using the said resin component together, the compounding quantity is although it does not specifically limit, A preferable minimum is 1 weight part and a preferable upper limit is 90 weight part with respect to 100 weight part of said organosiloxane compounds or fluorine compounds. When the amount is less than 1 part by weight, the above-mentioned slipperiness-imparting fine particles may not be provided with sufficient alkali resistance. When the amount exceeds 90 parts by weight, the anti-scratch film of the antireflection film using the antireflection coating of the present invention has scratch resistance. May be insufficient. A more preferred lower limit is 10 parts by weight, and a more preferred upper limit is 50 parts by weight.

上記滑り性付与微粒子の構造が基材粒子の表面を上記ポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物で表面処理したものである場合、上記基材粒子の構造としては特に限定されず、例えば、中実構造であってもよく、中空構造であってもよいが、上記滑り性付与粒子に低屈折率を達成しやすいことから、中空構造であることが好ましい。 When the structure of the slipperiness-imparting fine particles is obtained by surface-treating the surface of the base material particle with the polyorganosiloxane compound or the fluorine compound, the structure of the base material particle is not particularly limited, for example, a solid structure Although it may have a hollow structure, a hollow structure is preferable because the slipperiness-imparting particles can easily achieve a low refractive index.

上記基材粒子としては、上述のポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物以外からなるものであり、例えば、無機系微粒子であってもよく有機系微粒子であってもよい。 As said base material particle, it consists of other than the above-mentioned polyorganosiloxane compound or a fluorine compound, for example, may be an inorganic type fine particle and an organic type fine particle.

上記基材粒子が無機系微粒子の場合、その原料としては特に限定されず種々の無機成分を用いることができ、例えば、シリカ、アルミナ等が挙げられる。なかでも、耐熱性、耐溶剤性、強度及び屈折率の観点から、シリカが好適であり、特に中空シリカを用いることが好ましい。 When the substrate particles are inorganic fine particles, the raw material is not particularly limited, and various inorganic components can be used, and examples thereof include silica and alumina. Among these, silica is preferable from the viewpoint of heat resistance, solvent resistance, strength, and refractive index, and hollow silica is particularly preferable.

上記基材粒子が有機系微粒子である場合、その原料としては特に限定されず、例えば、上述した樹脂成分と同様のものが挙げられる。
また、上記有機系微粒子が中空構造である場合、外殻層は、上記樹脂成分の中でも後述する親油性反応成分と親水性反応成分とが反応してなる樹脂であることが好ましい。外殻層が親油性反応成分と親水性反応成分とを反応させてなる樹脂からなることにより、内部に空隙を有する有機系粒子(以下、中空基材粒子ともいう)を好適に作製することができる。なお、上記外殻層は、単層であってもよく、複数の層が積層された構造であってもよい。
When the substrate particles are organic fine particles, the raw material is not particularly limited, and examples thereof include the same resin components as described above.
When the organic fine particles have a hollow structure, the outer shell layer is preferably a resin obtained by reacting a lipophilic reaction component and a hydrophilic reaction component described later among the resin components. By forming the outer shell layer from a resin obtained by reacting a lipophilic reaction component and a hydrophilic reaction component, organic particles having voids inside (hereinafter also referred to as hollow substrate particles) can be suitably prepared. it can. The outer shell layer may be a single layer or a structure in which a plurality of layers are stacked.

上記親油性反応成分と親水性反応成分とを反応させてなる樹脂からなる外殻層を有する中空基材粒子の製造方法としては特に限定されないが、後述する親油性反応成分と親水性反応成分とを用いた微粒子の製造方法により好適に製造することができる。このような製造方法を用いることにより、単孔構造を有する中空基材粒子を好適に製造することができ、また、所望の空隙率を好適に達成することができる。 Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the hollow base material particle which has the outer shell layer which consists of resin which makes the above-mentioned lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component react, Lipophilic reaction component and hydrophilic reaction component which are mentioned below It can be suitably produced by a method for producing fine particles using. By using such a production method, it is possible to suitably produce hollow substrate particles having a single-pore structure, and it is possible to suitably achieve a desired porosity.

上記親油性反応成分としては特に限定されず、例えば、ポリイソシアネート、エポキシプレポリマー、酸ハロゲン化物等が挙げられる。なかでも、エポキシプレポリマーであることが好ましい。上記親油性反応成分としてエポキシプレポリマーを用いる場合、上記中空基材粒子は、エポキシ樹脂を含有することとなる。エポキシ樹脂を含有することで上記中空基材粒子は、耐熱性、耐溶剤性、強度に優れたものとなり、このような中空基材粒子を用いて得られる滑り性付与微粒子を含有する本発明の反射防止用コーティング剤は、反射防止層を成形した場合に破壊され難くなる。 The lipophilic reaction component is not particularly limited, and examples thereof include polyisocyanate, epoxy prepolymer, and acid halide. Among these, an epoxy prepolymer is preferable. When an epoxy prepolymer is used as the lipophilic reaction component, the hollow base particle contains an epoxy resin. By containing an epoxy resin, the hollow base material particles have excellent heat resistance, solvent resistance, and strength, and the present invention contains slipperiness-imparting fine particles obtained by using such hollow base material particles. The antireflection coating agent is difficult to be destroyed when the antireflection layer is formed.

上記エポキシ樹脂のなかでも、クレゾールノボラック型、フェノールノボラック型、ジシクロペンタジエン型、ナフタレン型、ビスナフトール型、フルオレン型、トリフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、グリシジルアミン型、特殊多官能型等を用いると、耐熱性を向上させることができる。 Among the above epoxy resins, cresol novolac type, phenol novolac type, dicyclopentadiene type, naphthalene type, bisnaphthol type, fluorene type, triphenolmethane type, tetraphenolethane type, glycidylamine type, special multifunctional type, etc. When used, the heat resistance can be improved.

上記エポキシプレポリマーは親油性を有し、アミンやポリカルボン酸、酸無水物と反応して樹脂を与える。上記エポキシプレポリマーとしては特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型、レゾルシン型、ビスフェノールF型、テトラフェニルメタン型、ノボラック型、ポリアルコール型、ポリグリコール型、グリセリントリエーテル型、グリシジルエーテル型、グリシジルエステル型、グリシジルアミン型、脂肪族型、脂環式型、アミノフェノール型、ヒダトイン型、イソシアヌレート型、ビフェノール型、ビフェニレン型、ナフタレン型、ビスナフトール型、又は、これらの水添加物、フッ素化物、臭素化物、リン含有化物、ケイ素含有化等が挙げられる。 The epoxy prepolymer has lipophilic properties and reacts with amines, polycarboxylic acids, and acid anhydrides to give resins. The epoxy prepolymer is not particularly limited. For example, bisphenol A type, resorcin type, bisphenol F type, tetraphenylmethane type, novolac type, polyalcohol type, polyglycol type, glycerin triether type, glycidyl ether type, glycidyl type. Ester type, glycidylamine type, aliphatic type, alicyclic type, aminophenol type, hydatoin type, isocyanurate type, biphenol type, biphenylene type, naphthalene type, bisnaphthol type, or their water additives, fluorinated products , Bromide, phosphorus-containing material, silicon-containing material and the like.

また、上記エポキシプレポリマーのなかでも、高い熱分解温度が要求される局面においては、臭素化物、フッ素化物等のハロゲン化エポキシプレポリマー、リン含有エポキシプレポリマー、ケイ素含有エポキシプレポリマー、フェノール・ビフェニレン型エポキシプレポリマー等が好適に用いられる。 Among the above-mentioned epoxy prepolymers, halogenated epoxy prepolymers such as bromides and fluorinated compounds, phosphorus-containing epoxy prepolymers, silicon-containing epoxy prepolymers, phenol biphenylenes, etc. A type epoxy prepolymer or the like is preferably used.

また、上記エポキシプレポリマーのなかでも、エポキシ当量の上限が500のエポキシプレポリマーを用いると、架橋度の高い樹脂層が得られ、上記中空樹脂微粒子は、耐熱性、耐溶剤性、強度に優れた樹脂を得ることができる。より好ましい上限は200である。 Among the epoxy prepolymers, when an epoxy prepolymer having an upper limit of epoxy equivalent of 500 is used, a resin layer having a high degree of crosslinking is obtained, and the hollow resin fine particles are excellent in heat resistance, solvent resistance, and strength. Can be obtained. A more preferred upper limit is 200.

上記エポキシ当量の上限が200のエポキシプレポリマーとしては特に限定されず、例えば、エポトートYD115、エポトートYD127、エポトートYD128(商品名 東都化成社製)、エピコート825、エピコート827、エピコート828(商品名 ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON 840、EPICLON 850(商品名 大日本インキ化学社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エポトートYDF−170、エポトートYDF−175S(商品名 東都化成社製)、エピコート806、エピコート807(商品名 ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON 830、EPICLON 835(商品名 大日本インキ化学社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エポトートYDPN−638、エポトートYDCN−701、エポトートYDCN−702、エポトートYDCN−703、エポトートYDCN−704、エポトートYDCN−500(商品名 東都化成社製)、エピコート152、エピコート154(商品名 ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON N−655、EPICLON N−740、EPICLONN−770、EPICLON N−775、EPICLON N−865(商品名 大日本インキ化学社製)等のノボラック型エポキシ樹脂;エポトートYH−434、エポトートYH434−L(商品名 東都化成社製)、エピコート1031S、エピコート1032H60、エピコート604、エピコート630(商品名 ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON 430(商品名 大日本インキ化学社製)、TETRAD−X、TETRAD−C(商品名 三菱ガス化学社製)等の特殊多官能タイプ;エピコートYX4000、エピコートYL6121H、エピコートYL6640、エピコートYL6677(商品名 ジャパンエポキシレジン社製)等のビフェニル型エポキシ樹脂;エポトートYH−300、エポトート−YH301、エポトートYH−315、エポトートYH−324、エポトートYH−325(商品名 東都化成社製)等の脂肪族ポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;エポトートYDC−1312、エポトートYSLV−80XY(商品名 東都化成社製)等の結晶性エポキシ樹脂;EPICLON HP−4032、EPICLON EXA−4700(商品名 大日本インキ化学社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂;エピコート191P、エピコートYX310(商品名 ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON HP−820(商品名 大日本インキ化学社製)等の特殊機能型エポキシ樹脂;EPICLON 725(商品名 大日本インキ化学社製)等の反応性希釈剤等が挙げられる。
また、EXA4701(商品名、いずれも大日本インキ化学社製)、ESN355、ESN375(商品名、いずれも新日鐵化学社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂も好適に用いることができる。
The epoxy prepolymer having an upper limit of the above epoxy equivalent of 200 is not particularly limited. For example, Epototo YD115, Epototo YD127, Epototo YD128 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 825, Epicoat 827, Epicoat 828 (trade name Japan Epoxy) Resin Co., Ltd.), EPICLON 840, EPICLON 850 (trade name, Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) and other bisphenol A type epoxy resins; Epototo YDF-170, Epototo YDF-175S (trade name, manufactured by Toto Kasei), Epicoat 806, Epicoat Bisphenol F type epoxy resins such as 807 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 830, EPICLON 835 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals); Epotot YDPN-638, Epot YDCN-701, Epototo YDCN-702, Epotot YDCN-703, Epotot YDCN-704, Epotot YDCN-500 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 152, Epicoat 154 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin), EPICLON Novolac type epoxy resins such as N-655, EPICLON N-740, EPICLONN-770, EPICLON N-775, EPICLON N-865 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals); Epotot YH-434, Epotot YH434-L (Product) Name Toto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031S, Epicoat 1032H60, Epicoat 604, Epicoat 630 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 430 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Special multifunctional types such as TETRAD-X, TETRAD-C (trade name, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company); biphenyl type epoxy resins such as Epicoat YX4000, Epicoat YL6121H, Epicoat YL6640, Epicoat YL6677 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin); Aliphatic polyglycidyl ether type epoxy resins such as Epototo YH-300, Epototo-YH301, Epototo YH-315, Epototo YH-324, Epototo YH-325 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.); Epototo YDC-1312, Epototo YSLV- Crystalline epoxy resins such as 80XY (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.); Naphthalene type epoxy resins such as EPICLON HP-4032 and EPICLON EXA-4700 (trade names, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals); Epico 191P, Epicote YX310 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON HP-820 (trade name, manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), etc .; EPICLON 725 (trade name, manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), etc. Reactive diluents and the like.
In addition, naphthalene type epoxy resins such as EXA4701 (trade name, all manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), ESN355, ESN375 (trade name, both manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), and the like can also be suitably used.

上記エポキシ当量が200を超えるエポキシプレポリマーとしては特に限定されないが、上記エポキシ当量が200を超え、500以下のエポキシプレポリマーとしては、例えば、エポトートYD134、エポトートYD011(商品名、いずれも東都化成社製)、エピコート801、エピコート1001(商品名、いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1055(商品名、いずれも大日本インキ化学社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エポトートYDF−2001(商品名、東都化成社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;EPICLON N−660、EPICLON N−665、EPICLON N−670、EPICLON N−673、EPICLON N−680、EPICLON N−695(商品名、いずれも大日本インキ化学社製)等のノボラック型エポキシ樹脂;エピコート157S70(商品名、ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON5500(商品名、大日本インキ化学社製)等の特殊多官能タイプ;エポトートYDB−360、エポトートYDB−400、エポトートYDB405(商品名、いずれも東都化成社製)、EPICLON152、EPICLON153(商品名、いずれも大日本インキ化学社製)等の臭素化エポキシ樹脂;エポトートYD−171(商品名、東都化成社製)、エピコート871(商品名、ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLONTSR−960、EPICLON TSR−601(商品名、いずれも大日本インキ化学社製)等の可とう性エポキシ樹脂;エポトートST−3000(商品名、東都化成社製)、エピコートYX8000、エピコートYX8034(商品名、いずれもジャパンエポキシレジン社製)等の水添型エポキシ樹脂;EPICLON HP−7200(商品名、大日本インキ化学社製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等、又は、これらのフッ素化物;ESN165、SN175、ESN185、ESN195(商品名、いずれも新日鐵化学社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。なかでも、フッ素化物であることが好ましい。フッ素化物を用いることで、後述する極性媒体等の気孔内部への浸入を抑制することが可能である。 The epoxy prepolymer having an epoxy equivalent of more than 200 is not particularly limited. Examples of the epoxy prepolymer having an epoxy equivalent of more than 200 and not more than 500 include, for example, Epototo YD134, Epototo YD011 (trade names, all of which are Toto Kasei Co., Ltd.) ), Epicoat 801, Epicoat 1001 (trade names, all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 860, EPICLON 1050, EPICLON 1055 (trade names, both manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), etc .; Epototo YDF- Bisphenol F type epoxy resin such as 2001 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.); EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EP Novolak type epoxy resins such as CLON N-680 and EPICLON N-695 (trade names, both manufactured by Dainippon Ink and Chemicals); Epicoat 157S70 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin), EPICLON 5500 (trade names, Dainippon Ink) Epototo YDB-360, Epototo YDB-400, Epototo YDB405 (trade names, all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), EPICLON 152, EPICLON 153 (trade names, both manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Brominated epoxy resins such as Epototo YD-171 (trade name, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 871 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLONTSR-960, EPICLON TSR-601 (trade names, both large) Nippon Ink Chemical Flexible epoxy resins such as Epototo ST-3000 (trade name, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), hydrogenated epoxy resins such as Epicoat YX8000, Epicoat YX8034 (trade names, both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.); Dicyclopentadiene type epoxy resins such as EPICLON HP-7200 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), etc., or fluorinated products thereof; ESN165, SN175, ESN185, ESN195 (trade names, all of which are Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) And naphthalene type epoxy resins. Of these, a fluorinated product is preferable. By using the fluoride, it is possible to suppress the penetration of the polar medium or the like described later into the pores.

また、エポキシ当量500を超えるエポキシプレポリマーとしては、例えば、エポトートYD−012、エポトートYD−013、エポトートYD―014、エポトートYD−017、エポトートYD−019(商品名、いずれも東都化成社製)、エピコート1002、エピコート1003、エピコート1055、エピコート1004、エピコート1007、エピコート1009、エピコート1010(商品名、いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON3050、EPICLON4050、EPICLON AM−020−P、EPICLON AM−030−P、EPICLON AM−040−P、EPICLON 7050、EPICLON HM−091、EPICLON HM−101(商品名、いずれも大日本インキ化学社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エポトートYDF−2004(商品名、東都化成社製)、エピコート4004P、エピコート4007P、エピコート4010P、エピコート4110、エピコート4210(商品名、いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エポトートYDB−405(商品名、東都化成社製)、EPICLON1123P−75M(商品名、大日本インキ化学社製)等の臭素化エポキシ樹脂;エポトートYD−172(商品名、東都化成社製)、エピコート872(商品名、ジャパンエポキシレジン社製)、EPICLON1600−75X(商品名、大日本インキ化学社製)等の可とう性エポキシ樹脂;エポトートST−4000D(商品名、東都化成社製)等の水添型エポキシ樹脂;EPICLON5800(商品名、大日本インキ化学社製)等の多官能型エポキシ樹脂等、又は、これらのフッ素化物等が挙げられる。なかでも、フッ素化物であることが好ましい。フッ素化物を用いることで、後述する極性媒体等の気孔内部への浸入を抑制することが可能である。
これらのエポキシプレポリマーは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
Moreover, as an epoxy prepolymer exceeding epoxy equivalent 500, for example, Epototo YD-012, Epototo YD-013, Epototo YD-014, Epototo YD-017, Epototo YD-019 (trade names, all manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) , Epicoat 1002, Epicoat 1003, Epicoat 1055, Epicoat 1004, Epicoat 1007, Epicoat 1009, Epicoat 1010 (trade names, all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 3050, EPICLON 4050, EPICLON AM-020-P, EPICLON AM-030- P, EPICLON AM-040-P, EPICLON 7050, EPICLON HM-091, EPICLON HM-101 (trade names, all made by Dainippon Ink Epototo YDF-2004 (trade name, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 4004P, Epicoat 4007P, Epicoat 4010P, Epicoat 4110, Epicoat 4210 (trade names, all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Brominated epoxy resins such as Epototo YDB-405 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), EPICLON 1123P-75M (trade name, manufactured by Dainippon Ink &Chemicals); Epototo YD-172 (product) Name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 872 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 1600-75X (trade name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals), etc .; Epototo ST-4000D (trade name) , Manufactured by Toto Kasei) -Contained epoxy resin; EPICLON5800 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Incorporated) polyfunctional epoxy resins such as, or, these fluoride and the like. Of these, a fluorinated product is preferable. By using the fluoride, it is possible to suppress the penetration of the polar medium or the like described later into the pores.
These epoxy prepolymers may be used alone or in combination of two or more.

上記ポリイソシアネートは、親油性を有し、水、アミン、ポリオール、ポリカルボン酸等の親水性反応成分と反応して樹脂を与える。上記ポリイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、ビュレット型、アダクト型、イソシアヌレート型等が挙げられる。
なお、上記ポリイソシアネート、ポリオール、ポリカルボン酸とは、1分子内に該官能基を複数有する化合物を意味する。
The polyisocyanate has lipophilicity and reacts with hydrophilic reaction components such as water, amine, polyol, polycarboxylic acid to give a resin. The polyisocyanate is not particularly limited, and examples thereof include a burette type, an adduct type, and an isocyanurate type.
In addition, the said polyisocyanate, polyol, and polycarboxylic acid mean the compound which has multiple this functional group in 1 molecule.

上記酸ハロゲン化物としては特に限定されず、例えば、アジポイルジクロライド、フタロイルジクロライド、テレフタロイルジクロライド、1,4−シクロヘキサンジカルボニルクロライド等の二塩基酸ハロゲン化物が挙げられる。 The acid halide is not particularly limited, and examples thereof include dibasic acid halides such as adipoyl dichloride, phthaloyl dichloride, terephthaloyl dichloride, and 1,4-cyclohexanedicarbonyl chloride.

上記親油性反応成分として上述したようなものを用いることにより、上記中空基材粒子は、耐熱性、耐溶剤性、強度等に優れたものとなる。 By using the above-mentioned lipophilic reaction component, the hollow substrate particles are excellent in heat resistance, solvent resistance, strength, and the like.

上記親水性反応成分としては特に限定されず、上記親油性反応成分と反応して樹脂が生成されるように、上記親油性反応成分に合わせて適宜決定される。
具体的には、例えば、上記親油性反応成分としてポリイソシアネートを用いる場合には、上記親水性反応成分としては、水、アミン、ポリオール、及び、ポリカルボン酸からなる群より選択される少なくとも1種が好適に用いられる。
この場合、ポリイソシアネートと水及び/又はアミンとが反応することによりポリウレアが生成され、ポリイソシアネートとポリオールとが反応することによりポリウレタンが生成され、ポリイソシアネートとポリカルボン酸とが反応することによりポリアミドが生成される。
It does not specifically limit as said hydrophilic reaction component, It determines suitably according to the said lipophilic reaction component so that resin may be produced | generated by reacting with the said lipophilic reaction component.
Specifically, for example, when polyisocyanate is used as the lipophilic reaction component, the hydrophilic reaction component is at least one selected from the group consisting of water, amines, polyols, and polycarboxylic acids. Are preferably used.
In this case, a polyurea is produced by reacting polyisocyanate with water and / or amine, a polyurethane is produced by reacting polyisocyanate and polyol, and a polyamide is produced by reacting polyisocyanate and polycarboxylic acid. Is generated.

上記親油性反応成分としてエポキシプレポリマーを用いる場合、上記親水性反応成分としては、アミン、ポリカルボン酸及びポリチオール等が好適に用いられる。
上記エポキシ化合物と、アミン、ポリカルボン酸、ポリチオール等が反応することにより、エポキシ重合体が形成される。
When an epoxy prepolymer is used as the lipophilic reaction component, amine, polycarboxylic acid, polythiol and the like are preferably used as the hydrophilic reaction component.
An epoxy polymer is formed by the reaction of the epoxy compound with amine, polycarboxylic acid, polythiol and the like.

上記アミンとしては特に限定はされず、例えば、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、フェニレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチルアミノプロピルアミン、テトラエチレンペンタミン等のポリアミン;2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物等のイミダゾール;ピペラジン、2−メチルピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン等のピペラジン系化合物;エポキシ樹脂のアミノ付加物等のアミノ基含有プレポリマー等が挙げられる。 The amine is not particularly limited. For example, polyamines such as ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, phenylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diethylaminopropylamine, tetraethylenepentamine; 2-methylimidazole, 2- Undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1 -Benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1- Anoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino- 6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2 , 4-diamino-6- [2′-methyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, etc. Imidazole; piperazine such as piperazine, 2-methylpiperazine, 2,5-dimethylpiperazine Compounds; amino group-containing prepolymer of amino adducts of epoxy resins.

上記ポリカルボン酸としては特に限定はされず、例えば、シュウ酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マロン酸、コハク酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸、(o−、m−、p−)ベンゼンジカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸、アクリル酸、メチルメタクリル酸等のいずれかを10重量%以上含むポリマー共重合体等が挙げられる。 The polycarboxylic acid is not particularly limited. For example, oxalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, malonic acid, succinic acid, 1,4-cyclohexyldicarboxylic acid, (o-, m-, p-) Examples thereof include a polymer copolymer containing 10% by weight or more of any of benzenedicarboxylic acid, maleic acid, itaconic acid, acrylic acid, methylmethacrylic acid and the like.

上記ポリオールとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、o−ジヒドロキシメチルベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、1,1,1−トリメチロールプロパン;ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシメタクリレート、ポリエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール等のヒドロキシル基含有ポリマー等が挙げられる。 The polyol is not particularly limited, and examples thereof include ethylene glycol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, catechol, resorcinol, hydroquinone, o-dihydroxymethylbenzene, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 2, 2-bis (4-hydroxyphenyl) -propane, 1,1,1-trimethylolpropane; hydroxyl group-containing polymers such as polyvinyl alcohol, polyhydroxy methacrylate, polyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, and polyoxyalkylene glycol It is done.

また、例えば、上記親油性反応成分として酸ハロゲン化物を用いる場合には、上記親水性反応成分としては、アミン、ポリオールが好適に用いられる。
この場合、酸ハロゲン化物とアミン、ポリオールとが反応することによりナイロン、ポリエステルが生成される。
Further, for example, when an acid halide is used as the lipophilic reaction component, an amine or a polyol is preferably used as the hydrophilic reaction component.
In this case, nylon and polyester are produced by the reaction of the acid halide with the amine and polyol.

上記中空基材粒子を製造する方法としては特に限定されないが、上記親油性反応成分と親水性反応成分とを反応させる製造方法であることが好ましく、具体的には、上記親油性反応成分を含有する親油性反応溶液を調製する工程と、上記親水性反応成分を含有する親水性反応溶液を調製する工程と、乳化剤を添加する工程と、上記親油性反応溶液及び親水性反応溶液のうち、一方の反応溶液を他方の反応溶液中に分散させた分散液を調製する工程と、上記親油性反応成分と親水性反応成分を反応させる工程とを有する方法により好適に中空基材粒子を製造することができる。 The method for producing the hollow substrate particles is not particularly limited, but is preferably a production method in which the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component are reacted, and specifically includes the lipophilic reaction component. One of a step of preparing a lipophilic reaction solution, a step of preparing a hydrophilic reaction solution containing the hydrophilic reaction component, a step of adding an emulsifier, and the lipophilic reaction solution and the hydrophilic reaction solution. A hollow substrate particle is preferably produced by a method comprising a step of preparing a dispersion in which the reaction solution of 1 is dispersed in the other reaction solution and a step of reacting the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component. Can do.

上記親油性反応液を調製する工程としては、上述した親油性反応成分と、その他の親油性成分とを混合することが好ましい。上記その他の親油性反応成分としては、例えば、非重合性化合物が挙げられる。 As the step of preparing the lipophilic reaction liquid, it is preferable to mix the above-described lipophilic reaction component and other lipophilic components. Examples of the other lipophilic reaction component include non-polymerizable compounds.

上記非重合性化合物は、極性媒体中で安定した重合性液滴を形成したり、親油性反応成分と親水性反応成分との反応速度を制御したりする役割を有する。また、上記親油性反応成分に非重合性化合物を配合することにより、後述する工程により未反応の親油性反応成分を内包する樹脂微粒子を調製したときに、該樹脂微粒子には非重合性化合物も内包されることになり、非重合性化合物と未反応の親油性反応成分とを内包する樹脂微粒子から非重合性化合物及び未反応の親油性反応成分を除くことで、樹脂微粒子を中空状にする役割を有する。 The non-polymerizable compound has a role of forming a stable polymerizable droplet in a polar medium and controlling a reaction rate between the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component. In addition, when resin fine particles containing unreacted lipophilic reaction components are prepared by the steps described later by blending non-polymerizable compounds with the lipophilic reaction components, the resin fine particles also contain non-polymerizable compounds. The resin fine particles are made hollow by removing the non-polymerizable compound and the unreacted lipophilic reaction component from the resin fine particles encapsulating the non-polymerizable compound and the unreacted lipophilic reaction component. Have a role.

上記非重合性化合物としては、上記親油性反応成分と親水性反応成分との反応温度において液状であり、親油性反応成分と混合でき、親油性反応成分と反応せず、かつ、加熱等により容易に蒸散させることができるものであれば特に限定はされず、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ヘプタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、エイコサン、酢酸エチル、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ステアリル(メタ)アクリレート等の有機溶剤等が好適である。上記非重合性化合物は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The non-polymerizable compound is liquid at the reaction temperature between the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component, can be mixed with the lipophilic reaction component, does not react with the lipophilic reaction component, and can be easily heated. Is not particularly limited as long as it can be evaporated, for example, butane, pentane, hexane, cyclohexane, toluene, xylene, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, heptadecane, hexadecane, heptadecane, Preferred are organic solvents such as octadecane, nonadecane, eicosane, ethyl acetate, methyl chloride, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, stearyl (meth) acrylate, and the like. The said nonpolymerizable compound may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記非重合性化合物の中でも、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ヘプタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、エイコサン、ステアリル(メタ)アクリレート等の炭素数8〜20程度の高級アルカンや長鎖状の疎水性化合物は、極性媒体中で重合性液滴が合一することを効果的に抑制することができるため、これらと上記非重合性化合物とを適宜併用して用いると、ナノメートルオーダーの重合性液滴を安定して形成することができる。 Among the non-polymerizable compounds, higher alkanes having about 8 to 20 carbon atoms such as octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, heptadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, nonadecane, eicosane, stearyl (meth) acrylate, etc. And long-chain hydrophobic compounds can effectively suppress the coalescence of polymerizable droplets in a polar medium, so when used in combination with these non-polymerizable compounds as appropriate, Nanometer order polymerizable droplets can be formed stably.

上記非重合性化合物の配合量としては。上記親油性反応成分90重量部に対して好ましい下限は10重量部、好ましい上限は1000重量部である。10重量部未満であると、得られる中空基材粒子の空隙率が低くなり充分な低屈折率を実現できないことがあり、1000重量部を超えると、非重合性化合物を除いたときに粒子形状が保てず中空基材粒子が得られなかったり、得られた中空基材粒子の強度が極端に劣ったりすることがある。 As a blending amount of the non-polymerizable compound. A preferable lower limit is 10 parts by weight and a preferable upper limit is 1000 parts by weight with respect to 90 parts by weight of the lipophilic reaction component. If the amount is less than 10 parts by weight, the void ratio of the obtained hollow base material particles may be low and a sufficiently low refractive index may not be realized. If the amount exceeds 1000 parts by weight, the particle shape may be reduced when the non-polymerizable compound is removed. However, the hollow base particles may not be obtained, or the strength of the obtained hollow base particles may be extremely inferior.

ナノメートルオーダーの重合性液滴を安定して形成することを目的として、炭素数8〜20程度の高級アルカンや長鎖状の疎水性化合物をそれら以外の非重合性化合物と併用して用いる場合には、その配合比は、親油性反応成分と非重合性化合物の合計量100重量部に対し好ましい下限が0.1重量部である。0.1重量部未満であると、重合性液滴の合一を効果的に抑制することができないことがある。 In the case of using higher alkanes having about 8 to 20 carbon atoms or long-chain hydrophobic compounds in combination with other non-polymerizable compounds for the purpose of stably forming nanometer-order polymerizable droplets. As for the compounding ratio, a preferable minimum is 0.1 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of a lipophilic reaction component and a nonpolymerizable compound. If it is less than 0.1 part by weight, coalescence of polymerizable droplets may not be effectively suppressed.

上記親水性反応溶液を調製する工程としては、上述した親水性反応成分を極性媒体と混合することが好ましい。上記極性媒体としては特に限定はされず、例えば、水、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。 As the step of preparing the hydrophilic reaction solution, it is preferable to mix the above-described hydrophilic reaction component with a polar medium. The polar medium is not particularly limited, and examples thereof include water, ethanol, methanol, isopropyl alcohol, and the like.

上記親水性反応溶液及び親油性反応溶液のうち、一方の反応溶液を他方の反応溶液中に分散させた重合性液滴の分散液を調製する工程では、上記親油性反応溶液を上記親水性反応溶液に分散させることが好ましい。
上記分散液を調製する方法としては特に限定はされず、従来公知の方法を用いることができ、例えば、高せん断力の乳化装置を用いることでナノメートルオーダーの分散液を調製することができる。上記高せん弾力の乳化装置としては、例えば、オムニミキサー、超音波ホモジナイザー、マイクロフルイダイザー等が挙げられる。
Among the hydrophilic reaction solution and the lipophilic reaction solution, in the step of preparing a dispersion of polymerizable droplets in which one reaction solution is dispersed in the other reaction solution, the lipophilic reaction solution is converted into the hydrophilic reaction solution. It is preferable to disperse in a solution.
The method for preparing the dispersion is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. For example, a nanometer-order dispersion can be prepared by using a high shearing emulsifier. Examples of the high elasticity emulsifying device include an omni mixer, an ultrasonic homogenizer, and a microfluidizer.

上記乳化液を添加する工程としては、上記親水性反応溶液に添加してもよく、上記親油性反応溶液に添加してもよく、更に、上記親水性反応溶液及び親油性反応溶液のうち、一方の反応溶液を他方の反応溶液中に分散させた重合性液滴の分散液を調製する工程で分散液を調製する際に添加してもよい。 As the step of adding the emulsion, it may be added to the hydrophilic reaction solution, may be added to the lipophilic reaction solution, and one of the hydrophilic reaction solution and the lipophilic reaction solution. It may be added when preparing the dispersion in the step of preparing a dispersion of polymerizable droplets in which the reaction solution is dispersed in the other reaction solution.

上記乳化剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、高級アルコール硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸カリウム、アルケニルコハク酸ジカリウム、アルカンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル等のアニオン性乳化剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンミリスチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレエート等のノニオン性乳化剤、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、椰子アルキルアンモニウムクロライド、牛脂アルキルアンモニウムクロライド、ベヘニルアンモニウムクロライド、テトラデシルジメチルベンジンアンモニウムクロライド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジアシロキシエチルN−ヒドロキシエチルN−メチルアンモニウムメトサルフェート、N,N−塩化ジポリオキシエチレン−N−ステアリル−N−メチルアンモニウム、N−塩化牛脂アルキルN,N,N’,N’,N−ペンタメチルプロピレンジアンモニウムジクロライド、N−塩化ジデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジ椰子アルキルアンモニウムクロライド、ジ硬化牛脂アルキルアンモニウムクロライド、ジオレイルアンモニウムクロライド、椰子アルキルポリエチレンオキサイド付加型アンモニウムクロライド、オレイルアルキルポリエチレンオキサイド付加型アンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ベンザルコリウムクロリド、ステアラミドプロピルジメチルアミド、アルキルベンジルメチルアンモニウムクロライド、1−ヒドロキシエチル2−アルキルイミダゾリン等のカチオン性乳化剤、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリルジメチルアミンオキサイド等の両性乳化剤、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、マリアリム、ポリスチレンスルホン酸等の高分子分散剤や、セチルアルコール等の分散助剤が挙げられる。 Examples of the emulsifier include sodium lauryl sulfate, sodium higher alcohol sulfate, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, polyethanol ethylene alkyl ether sulfate triethanolamine. Sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, potassium polyoxyethylene alkyl ether phosphate, dipotassium alkenyl succinate, sodium alkanesulfonate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate Anionic emulsifiers such as esters, polyoxyethylene la Ryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene myristyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene higher alcohol ether, polyoxyethylene alkylene alkyl ether, polyoxyethylene diether Styrenated phenyl ether, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan tristearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan laurate, poly Oxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate Nonionic emulsifiers such as polyoxyethylene sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, glycerol monostearate, glycerol monostearate, glycerol monooleate, lauryltrimethylammonium chloride, Stearyl trimethyl ammonium chloride, cetyl trimethyl ammonium chloride, stearyl trimethyl ammonium chloride, palm alkyl ammonium chloride, beef tallow alkyl ammonium chloride, behenyl ammonium chloride, tetradecyldimethylbenzen ammonium chloride, octadecyldimethylbenzylammonium chloride, N, N-diacyloxyethyl N -Hydroxye N-methylammonium methosulfate, N, N-dipolyoxyethylene chloride-N-stearyl-N-methylammonium, N-chloride beef tallow alkyl N, N, N ′, N ′, N-pentamethylpropylenediammonium dichloride N-didecyltrimethylammonium chloride chloride, di-alkyl alkyl ammonium chloride, di-cured tallow alkyl ammonium chloride, dioleyl ammonium chloride, coconut alkyl polyethylene oxide addition ammonium chloride, oleyl alkyl polyethylene oxide addition ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium Chloride, benzalkonium chloride, stearamidepropyldimethylamide, alkylbenzylmethylammonium chloride, 1- Cationic emulsifiers such as loxyethyl 2-alkyl imidazoline, amphoteric emulsifiers such as lauryl betaine, stearyl betaine, 2-alkyl-N-carboxymethyl-N-hydroxyethyl imidazolinium betaine, lauryl dimethylamine oxide, partially saponified polyvinyl acetate , Cellulose derivatives, poly (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylic acid copolymers, polymer dispersants such as polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, marialim, polystyrene sulfonic acid, and dispersion aids such as cetyl alcohol. .

上記乳化剤を上記親水性反応溶液、又は、上記親油性反応溶液に配合する場合、配合量としては特に限定されないが、上記親水性反応溶液100重量部に対して好ましい下限は0.01重量部、好ましい上限は10重量%である。 When the emulsifier is blended with the hydrophilic reaction solution or the lipophilic reaction solution, the blending amount is not particularly limited, but a preferable lower limit with respect to 100 parts by weight of the hydrophilic reaction solution is 0.01 parts by weight, A preferred upper limit is 10% by weight.

上記親油性反応溶液及び親水性反応溶液のうち、一方の反応溶液を他方の反応溶液中に分散させた分散液を調製する工程において、上記親油性反応溶液と親水性反応溶液との配合比としては特に限定はされないが、上記親水性反応溶液100重量部に対して上記親油性反応溶液の好ましい下限は1重量部、好ましい上限は100重量部である。 In the step of preparing a dispersion in which one of the lipophilic reaction solution and the hydrophilic reaction solution is dispersed in the other reaction solution, the blending ratio of the lipophilic reaction solution and the hydrophilic reaction solution is as follows. Although there is no particular limitation, the preferred lower limit of the lipophilic reaction solution is 1 part by weight and the preferred upper limit is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the hydrophilic reaction solution.

上記親水性反応成分と親油性反応成分とを反応させる工程においては、上記分散液の界面で上記親油性反応成分と上記親水性反応成分を反応させることにより、樹脂成分を含有する外殻層を形成することができる。 In the step of reacting the hydrophilic reaction component and the lipophilic reaction component, the outer shell layer containing the resin component is formed by reacting the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component at the interface of the dispersion. Can be formed.

上記親水性反応成分と親油性反応成分とを反応させる方法としては特に限定されないが、例えば、上記分散液を加熱して上述した親油性反応成分と親水性反応成分との反応温度とし、反応させて外殻層を生じさせる方法が挙げられる。このとき、反応は、上記分散液の界面付近においてのみ起こり、生成した外殻を有し、未反応の油成分(及び、上記非重合性有機溶剤等)を内包する樹脂微粒子が形成される。 The method for reacting the hydrophilic reaction component and the lipophilic reaction component is not particularly limited. For example, the dispersion liquid is heated to the reaction temperature of the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component described above to cause the reaction. And a method of forming an outer shell layer. At this time, the reaction occurs only in the vicinity of the interface of the dispersion, and fine resin particles are formed that have a generated outer shell and encapsulate an unreacted oil component (and the non-polymerizable organic solvent or the like).

その後、上記樹脂微粒子の内包する未反応の油成分等を除去することで、中空基材粒子を合成することができる。 Thereafter, unreacted oil components and the like encapsulated in the resin fine particles are removed to synthesize hollow base particles.

上記樹脂微粒子の内包する未反応の油成分等を除去する方法としては特に限定されず、例えば、得られた樹脂微粒子の分散液に窒素、空気等の気体を吹き込む方法;系全体を減圧する方法;内包する油成分と混合可能な溶媒中において上記油成分を抽出除去する方法等が挙げられる。
更に、温度条件を微粒子内部の未反応の油成分の沸点以上とすることで、内包する未反応の油成分を樹脂微粒子から除くこともできる。
The method for removing unreacted oil components contained in the resin fine particles is not particularly limited. For example, a method of blowing a gas such as nitrogen or air into the obtained dispersion of resin fine particles; a method of depressurizing the entire system A method of extracting and removing the oil component in a solvent that can be mixed with the encapsulated oil component.
Furthermore, by making the temperature condition equal to or higher than the boiling point of the unreacted oil component inside the fine particles, the encapsulated unreacted oil component can be removed from the resin fine particles.

上記中空基材粒子は、粒子の外殻層が2層構造を有するものであってもよい。このような、外殻が2層構造を有する中空基材粒子には、種々の機能を持たせることができる。
このような中空基材粒子は、外殻層が最外層と内側層との2層から構成されていることが好ましく、上記最外層と内側層とは密着した状態であることが好ましい。これは、電子顕微鏡(日本電子社製、「JEM−1200EXII」)等で確認することができる。
The hollow base particle may be one in which the outer shell layer of the particle has a two-layer structure. Such hollow base particles having an outer shell having a two-layer structure can have various functions.
In such hollow base particles, the outer shell layer is preferably composed of two layers of an outermost layer and an inner layer, and the outermost layer and the inner layer are preferably in close contact with each other. This can be confirmed with an electron microscope (“JEM-1200EXII” manufactured by JEOL Ltd.).

上記外殻層が2層構造を有する中空基材粒子は、親油性反応成分と、親水性反応成分と、親油性反応成分及び親水性反応成分とは反応しない他の親油性反応成分とを用いた方法により好適に製造することができる。このような方法により製造された中空基材粒子の最外層は、上記親油性反応成分と親水性反応成分とが反応して構成され、内側層は、上記親油性反応成分及び親水性反応成分とは反応しない他の親油性反応成分が反応して構成されている。このような構造の中空基材粒子は、最外層及び内側層の構成を調整することで、低屈折率と粒子強度の両方を達成することができる。 The hollow base particle having the outer shell layer having a two-layer structure uses a lipophilic reaction component, a hydrophilic reaction component, and a lipophilic reaction component and another lipophilic reaction component that does not react with the hydrophilic reaction component. Can be suitably produced by the conventional method. The outermost layer of the hollow base particles produced by such a method is constituted by the reaction between the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component, and the inner layer comprises the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component. Is constituted by the reaction of other lipophilic reaction components that do not react. The hollow base particle having such a structure can achieve both a low refractive index and a particle strength by adjusting the configuration of the outermost layer and the inner layer.

上記親油性反応成分及び上記親水性反応成分としては特に限定されず、例えば、上述した中空基材粒子の製造方法において説明した親油性反応成分及び親水性反応成分と同様のものが挙げられる。 It does not specifically limit as said lipophilic reaction component and said hydrophilic reaction component, For example, the thing similar to the lipophilic reaction component and hydrophilic reaction component demonstrated in the manufacturing method of the hollow base particle mentioned above is mentioned.

上記他の親油性反応成分としては、上記親油性反応成分及び親水性反応成分と反応しないものであれば特に限定されないが、反応成分の選択の広さ、取扱いの簡便さ等の点からラジカル重合性のモノマーが好適に用いられる。 The other lipophilic reaction component is not particularly limited as long as it does not react with the lipophilic reaction component and the hydrophilic reaction component, but radical polymerization is performed from the viewpoint of the wide selection of reaction components and the ease of handling. Sex monomers are preferably used.

上記ラジカル重合性のモノマーとしては特に限定されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、クミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、パルミチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の極性基含有(メタ)アクリル系モノマー、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等の芳香族ビニルモノマー、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン含有モノマー、ビニルピリジン、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、イタコン酸、フマル酸、エチレン、プロピレン、ポリジメチルシロキサンマクロモノマー等の単官能性モノマー、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート、ジアリルマレート、ジアリルフマレート、ジアリルサクシネート、トリアリルイソシアヌレート、ジビニルベンゼン、ブタジエン等の多官能性モノマー等が挙げられる。
これらの他の親油性反応成分は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
The radical polymerizable monomer is not particularly limited. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, cumyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate , Myristyl (meth) acrylate, palmityl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate such as isobornyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, glycidyl ( Polar group-containing (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, -Aromatic vinyl monomers such as chlorostyrene, vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate, halogen-containing monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride, vinyl pyridine, 2-acryloyloxyethylphthalic acid, itaconic acid, fumaric acid, ethylene Monofunctional monomer such as propylene, polydimethylsiloxane macromonomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate , Trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol Li (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, diallyl phthalate, diallyl malate, diallyl fumarate, diallyl succinate, triallyl isocyanurate, divinylbenzene, butadiene, etc. A functional monomer etc. are mentioned.
These other lipophilic reaction components may be used alone or in combination of two or more.

上記他の親油性反応成分としてラジカル重合性モノマーを用いる場合は、反応触媒としてラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。
上記ラジカル重合開始剤としては特に限定されず、例えば、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベンゾネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾネート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,5,5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、及び、ベンゾイルパーオキサイド等の各種ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシカーボネート、パーオキシエステル等の有機系過酸化物;2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、VPS−0501(商品名、和光純薬工業社製)、VPS−1001(商品名、和光純薬工業社製)等のアゾ系開始剤;レドックス開始剤等が挙げられる。
When using a radically polymerizable monomer as said other lipophilic reaction component, it is preferable to contain a radical polymerization initiator as a reaction catalyst.
The radical polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-sec-butyl peroxycarbonate, and t-butyl peroxylaur. Rate, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanate, t-butylperoxyisopropylmonocarbonate, t-hexylperoxybenzoate, 1,1-bis (t-butylperoxy ) -3,5,5-trimethylhexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, benzoyl peroxide, and the like Ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide Organic peroxides such as dialkyl peroxide, diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxycarbonate, peroxyester; 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2, 2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylpropionitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (Cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2 , 2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane), VPS-0501 (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), VPS-1001 (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries) System initiators; redox initiators and the like.

また、上記他の親油性反応成分としては、含フッ素系モノマーを用いてもよい。含フッ素系モノマーを用いることで、上述した極性媒体等の空隙内部への浸入を抑制することが可能である。
上記含フッ素系モノマーとしては特に限定されず、例えば、上述したものと同様のものが挙げられる。
Moreover, you may use a fluorine-containing monomer as said other lipophilic reaction component. By using a fluorine-containing monomer, it is possible to suppress the penetration of the above-described polar medium or the like into the gap.
The fluorine-containing monomer is not particularly limited, and examples thereof include the same ones as described above.

上記基材粒子表面をポリオルガノシラン化合物又はフッ素化合物で表面処理する方法としては特に限定はされず、上記基材粒子が表面に有している官能基に応じて、エポキシ基、イソシアネート基、ウレイド基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基、(メタ)アクリル基等を有するシランカップリング剤、変性シリコーンオイル等のオルガノシロキサン化合物、フッ素化合物等を適宜表面処理剤として用いることができる。なかでも、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、(メタ)アクリル基を有する変性シリコーンオイルが好適に用いられる。 The surface treatment of the substrate particle surface with a polyorganosilane compound or a fluorine compound is not particularly limited, and an epoxy group, an isocyanate group, or a ureido can be used depending on the functional group of the substrate particle on the surface. A silane coupling agent having a group, an amino group, a mercapto group, a vinyl group, a (meth) acryl group, an organosiloxane compound such as a modified silicone oil, a fluorine compound, or the like can be appropriately used as a surface treatment agent. Especially, the modified silicone oil which has an epoxy group, an amino group, a vinyl group, and a (meth) acryl group is used suitably.

上記エポキシ基、アミノ基、ビニル基、(メタ)アクリル基を有する変性シリコーンオイルの分子量としては特に限定されないが、好ましい下限は400、好ましい上限は10万である。400未満であると、表面処理されて得られる滑り性付与粒子の滑り性付与効果が充分でないことがあり、分子量が10万を超えると、粘度が高くなり取扱い性に劣ることがある。より好ましい下限は1000、より好ましい上限は5万であり、更に好ましい下限は3000、更に好ましい上限は1万である。 Although it does not specifically limit as molecular weight of the modified silicone oil which has the said epoxy group, an amino group, a vinyl group, and a (meth) acryl group, A preferable minimum is 400 and a preferable upper limit is 100,000. When the molecular weight is less than 400, the slipperiness imparting effect of the slipperiness imparting particles obtained by the surface treatment may not be sufficient, and when the molecular weight exceeds 100,000, the viscosity may increase and the handling property may be poor. A more preferred lower limit is 1000, a more preferred upper limit is 50,000, a still more preferred lower limit is 3000, and a still more preferred upper limit is 10,000.

本発明の反射防止用コーティング剤において、上記滑り性付与微粒子の配合量としては特に限定されないが、後述するバインダー成分100体積部に対して好ましい下限は1体積部、好ましい上限は900体積部である。1体積部未満であると、本発明の反射防止用コーティング剤を用いて得られる反射防止膜に耐擦傷性を充分に付与できないことがあり、900体積部を超えると、反射防止膜とした場合に膜強度が劣ることがあり、また、上記滑り性付与微粒子の屈折率が充分に低く無い場合は膜の屈折率が高くなることがある。 In the anti-reflection coating agent of the present invention, the blending amount of the slipperiness-imparting fine particles is not particularly limited, but a preferable lower limit is 1 part by volume and a preferable upper limit is 900 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the binder component described later. . When the amount is less than 1 part by volume, the antireflection film obtained by using the antireflection coating agent of the present invention may not be provided with sufficient scratch resistance. When the amount exceeds 900 parts by volume, the antireflection film is obtained. The film strength may be inferior, and the refractive index of the film may be high if the slipperiness-imparting fine particles are not sufficiently low.

本発明の反射防止用コーティング剤は、バインダー成分を含有する。
上記バインダー成分を含有することにより、例えば、本発明の反射防止用コーティング剤を用いて反射防止膜を作製する場合、本発明の反射防止用コーティング剤を所望の形状に成型し、簡便に反射防止膜を作製することができる。
The antireflection coating agent of the present invention contains a binder component.
By containing the binder component, for example, in the case of producing an antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention, the antireflection coating agent of the present invention is molded into a desired shape and simply antireflective. A film can be made.

上記バインダー成分は、透明であり、成膜可能な材料であれば特に限定されず、例えば、各種有機系材料や無機系材料、重合可能なモノマー溶液が挙げられる。
上記有機系材料としては特に限定されず、例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブタノイルセルロース、アセチルプロピオニルセルロースアセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体;ポリアミド、ポリカーボネート;ポリエチレンテレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン1,2−ジフェノキシエタン−4,4−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、又は、これらの各種含フッ素体等の比較的低屈折率の透明樹脂等が挙げられる。
なお、上記バインダーとして透明樹脂を用いる場合には、ガラス転移温度が上記滑り性付与微粒子のガラス転移温度よりも低いものを用いることが好ましい。これにより、充分な膜強度を得ることができる。
The binder component is not particularly limited as long as it is transparent and can be formed into a film, and examples thereof include various organic materials, inorganic materials, and polymerizable monomer solutions.
The organic material is not particularly limited. For example, cellulose derivatives such as triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butanoylcellulose, acetylpropionylcellulose acetate, nitrocellulose; polyamide, polycarbonate; polyethylene terephthalate, poly-1, Polyesters such as 4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene 1,2-diphenoxyethane-4,4-dicarboxylate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polystyrene, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, polysulfone, polyether Sulphone, polyarylate, polyetherimide, polymethyl methacrylate, or various fluorine-containing materials thereof Relatively transparent resin having a low refractive index and the like.
In addition, when using transparent resin as the said binder, it is preferable to use a glass transition temperature lower than the glass transition temperature of the said slipperiness | lubricity provision fine particle. Thereby, sufficient film strength can be obtained.

上記無機系材料としては特に限定されず、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物が挙げられ、具体的には、例えば、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−i−プロポキシド、チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−ブトキシド、チタンテトラ−sec−ブトキシド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−i−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−sec−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキシド等の金属アルコレート化合物;ジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジブトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジエトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−n−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムジ−i−プロポキシドモノメチルアセトアセテート、トリ−n−ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセテート等のキレート化合物;炭酸ジルコニールアンモニウム又はジルコニウムを主成分とする活性無機ポリマー等が挙げられる。 The inorganic material is not particularly limited, and examples thereof include alkoxides of various elements, salts of organic acids, and coordination compounds bonded to coordination compounds. Specifically, for example, titanium tetraethoxide, titanium Tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum Tributoxide, antimony triethoxide, antimony riboxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide, zirco Metal alcoholate compounds such as um tetra-tert-butoxide; di-isopropoxytitanium bisacetylacetonate, dibutoxytitanium bisacetylacetonate, diethoxytitanium bisacetylacetonate, bisacetylacetone zirconium, aluminum acetylacetonate, aluminum di- Chelating compounds such as n-butoxide monoethyl acetoacetate, aluminum di-i-propoxide monomethyl acetoacetate, tri-n-butoxide zirconium monoethyl acetoacetate; active inorganic polymers mainly composed of zirconyl ammonium carbonate or zirconium Can be mentioned.

上記重合可能なモノマー溶液における重合可能なモノマーとしては、透明なものであれば特に限定されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、クミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、パルミチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の極性基含有(メタ)アクリル系モノマー;スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等の芳香族ビニルモノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン含有モノマー;ビニルピリジン、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、イタコン酸、フマル酸、エチレン、プロピレン等が挙げられる。
これらのモノマーは単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
The polymerizable monomer in the polymerizable monomer solution is not particularly limited as long as it is transparent. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate , Alkyl (meth) acrylates such as cumyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, palmityl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate; (meth) acrylonitrile, ( Polar group-containing (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate; styrene Aromatic vinyl monomers such as α-methylstyrene, p-methylstyrene, and p-chlorostyrene; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; halogen-containing monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; vinyl pyridine, 2-acryloyloxy Examples include ethylphthalic acid, itaconic acid, fumaric acid, ethylene, propylene and the like.
These monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記重合可能なモノマー溶液は、本発明の反射防止用コーティング剤を用いてなる反射防止膜の膜強度を向上させる目的で多官能モノマーを含有してもよい。
上記多官能モノマーとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等のテトラ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のヘキサ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート、ジアリルマレート、ジアリルフマレート、ジアリルサクシネート、トリアリルイソシアヌレート等のジ又はトリアリル化合物;ジビニルベンゼン、ブタジエン等のジビニル化合物等が挙げられる。
これらの多官能モノマーは単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
The polymerizable monomer solution may contain a polyfunctional monomer for the purpose of improving the film strength of an antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention.
The polyfunctional monomer is not particularly limited. For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tri Di (meth) acrylates such as methylolpropane di (meth) acrylate; Tri (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate A tetra (meth) acrylate such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate; a hexa (meth) acrylate such as pentaerythritol hexa (meth) acrylate; a pentaerythritol Di- or triallyl compounds such as rutetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, diallyl phthalate, diallyl malate, diallyl fumarate, diallyl succinate, triallyl isocyanurate; divinyl compounds such as divinylbenzene, butadiene, etc. Is mentioned.
These polyfunctional monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記バインダー成分として重合可能なモノマー溶液を用いる場合は、重合開始剤を含有することが好ましい。
上記重合開始剤としては特に限定はされず、熱硬化型のものでもよく、光硬化型のものであってもよい。このような重合開始剤としては、熱硬化型のものとしては、例えば、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベンゾネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾネート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,5,5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、及び、ベンゾイルパーオキサイド等の各種ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシカーボネート、パーオキシエステル等の有機系過酸化物;2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、VPS−0501(商品名、和光純薬工業社製)、VPS−1001(商品名、和光純薬工業社製)等のアゾ系開始剤;レドックス開始剤等が挙を用いることができる。
When a polymerizable monomer solution is used as the binder component, a polymerization initiator is preferably contained.
The polymerization initiator is not particularly limited, and may be a thermosetting type or a photocurable type. As such a polymerization initiator, examples of the thermosetting type include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-sec-butyl peroxycarbonate, t -Butyl peroxylaurate, t-butyl peroxybenzoate, t-butyl peroxy-2-ethyl hexanate, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, 1,1-bis ( t-butylperoxy) -3,5,5-trimethylhexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, and benzoyl Various peroxides such as peroxides, peroxyketals, hydropero Organic peroxides such as side, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxycarbonate, peroxyester; 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-methylpropionitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1 ′ -Azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide) 2,2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropiamide) Nate), 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane), VPS-0501 (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), VPS-1001 (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), etc. Azo initiators; redox initiators and the like can be used.

また、光硬化型のものとしては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル類、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等を用いることができる。また、上記光硬化型の硬化剤を用いる場合、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルスルフィン等を混合して用いることができる。これらの重合開始剤はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the photo-curing type include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, tetramethylchuram monosulfide, thioxanthones, and the like. Moreover, when using the said photocurable hardening | curing agent, n-butylamine, a triethylamine, poly- n-butylsulfine etc. can be mixed and used as a photosensitizer. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

上記重合開始剤の配合量としては特に限定されないが、上記重合可能なモノマー溶液中のモノマー成分100重量部に対して好ましい下限は0.1重量部、好ましい上限は100重量部である。0.1重量部未満であると、反射防止膜を形成する場合に硬化が不充分となってしまう場合があり、100重量部を超えると、重合開始剤の分解副生生物により得られる反射防止膜の強度や耐溶剤性が低下する場合がある。 The blending amount of the polymerization initiator is not particularly limited, but a preferable lower limit is 0.1 parts by weight and a preferable upper limit is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer component in the polymerizable monomer solution. If the amount is less than 0.1 part by weight, curing may be insufficient when an antireflection film is formed. If the amount exceeds 100 parts by weight, the antireflection obtained by decomposition by-products of the polymerization initiator is present. The strength and solvent resistance of the film may decrease.

上記重合可能なモノマー成分中のモノマー成分と上記重合開始剤等との各所定量を配合、混合することにより、上記バインダー成分を得ることができる。
上記混合する方法としては特に限定されず、例えば、ディスパー、ホモジナイザー、スターラー、ボールミル、超音波等の適宜の混合方法を用いることができる。
The binder component can be obtained by blending and mixing each predetermined amount of the monomer component in the polymerizable monomer component and the polymerization initiator.
The mixing method is not particularly limited, and for example, an appropriate mixing method such as a disper, a homogenizer, a stirrer, a ball mill, or an ultrasonic wave can be used.

上記バインダー成分は、適宜溶媒を含有してもよい。このような溶媒としては特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、等の脂肪族炭化水素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N−メチルピロリドン、ジメチルホルミアミド、ジミチルスルフォキシド、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの溶媒は1種のみで用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The binder component may contain a solvent as appropriate. Such a solvent is not particularly limited, for example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate , Esters such as butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol, glycol ethers such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane Aliphatic hydrocarbons such as chloroform, halogenated hydrocarbons such as chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, N-methylpyrrolidone, dimethylformia De, steady Rusuru sulfoxide, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の反射防止用コーティング剤は、上記滑り性付与微粒子の他に平均粒子径が100nm以下であり、かつ、屈折率が1.35以下の低屈折微粒子を含有していてもよい。
このような低屈折微粒子を用いることで、滑り性付与粒子の屈折率が充分に低くない場合においても、本発明のコーティング剤を用いてなる反射防止膜の屈折率を低く保つことができる。
The antireflection coating agent of the present invention may contain low refractive fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.35 or less in addition to the slipperiness-imparting fine particles.
By using such low refractive fine particles, even when the refractive index of the slipperiness-imparting particles is not sufficiently low, the refractive index of the antireflection film using the coating agent of the present invention can be kept low.

上記低屈折微粒子としては上述の粒子径及び屈折率を満たす物であれば特に限定されないが、中空シリカ、上述の中空樹脂粒子が好適である。 The low refractive fine particles are not particularly limited as long as they satisfy the above particle diameter and refractive index, but hollow silica and the above hollow resin particles are preferable.

上記低屈折粒子の配合量としては特に限定されないが、上記バインダー成分100重量部に対して、好ましい下限は10重量部、好ましい上限は900重量部である。10重量部未満であると、上記低屈折粒子を添加する効果を充分に得ることができないことがあり、900重量部を超えると、得られる反射防止膜の膜強度が劣ることがある。より好ましい下限は50重量部であり、より好ましい上限は400重量部である。 The blending amount of the low refractive particles is not particularly limited, but the preferred lower limit is 10 parts by weight and the preferred upper limit is 900 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder component. If the amount is less than 10 parts by weight, the effect of adding the low refractive particles may not be sufficiently obtained. If the amount exceeds 900 parts by weight, the strength of the resulting antireflection film may be inferior. A more preferred lower limit is 50 parts by weight, and a more preferred upper limit is 400 parts by weight.

本発明の反射防止用コーティング剤は、上記滑り性付与微粒子と上記バインダー成分と、必要に応じて添加される上記平均粒子径100nm以下の低屈折微粒子及び後述する添加剤の各所定量を混合することで得ることができる。 The antireflection coating agent of the present invention is a mixture of the above-mentioned slipperiness-imparting fine particles, the above-mentioned binder component, and the predetermined amounts of the above-mentioned low-refractive fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less and additives described later, which are added as necessary. Can be obtained at

本発明の反射防止用コーティング剤は、上記滑り性付与微粒子及びバインダー成分以外に、必要に応じて適宜光拡散剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等の添加剤を含有してもよい。
上記添加剤を含有する場合の配合量としては特に限定されないが、反射防止性能を阻害しない観点から、上記バインダー成分100重量部に対して好ましい上限は100重量部である。
The antireflective coating agent of the present invention is a light diffusing agent, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a colorant, an antioxidant, as necessary, in addition to the above-described slipperiness-imparting fine particles and binder component. You may contain additives, such as a flame retardant.
Although it does not specifically limit as a compounding quantity in the case of containing the said additive, From a viewpoint which does not inhibit antireflection performance, a preferable upper limit is 100 weight part with respect to 100 weight part of said binder components.

上記添加剤は、上記バインダー成分を調製する際に添加されてもよいし、本発明の反射防止用コーティング剤を調製する際に添加されてもよい。 The additive may be added when preparing the binder component, or may be added when preparing the antireflection coating agent of the present invention.

本発明の反射防止用コーティング剤は、上記バインダー成分中に上記滑り性付与微粒子が懸濁したエマルジョン状態であってもよく、適宜揮発性溶媒に希釈したものであってもよい。
上記揮発性溶媒としては特に限定されないが、組成物の安定性、濡れ性、揮発性等から、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコールエーテル類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;ハロゲン化炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が好適に用いられる。これらの揮発性溶媒は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
The antireflective coating agent of the present invention may be in an emulsion state in which the slipperiness-imparting fine particles are suspended in the binder component, or may be appropriately diluted in a volatile solvent.
Although it does not specifically limit as said volatile solvent, For example, alcohol, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl from stability of a composition, wettability, volatility, etc. Ketones such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as diisopropyl ether; glycol ethers such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol; aliphatic carbonization such as hexane, heptane and octane Hydrogens; halogenated hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and the like are preferably used. These volatile solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の反射防止用コーティング剤は、成膜体の屈折率の好ましい上限が1.40である。1.40を超えると、反射防止膜を作製した場合に、充分に低い屈折率が得られず、結果、充分な反射防止効果が得られないことがある。より好ましい上限は1.37、更に好ましい上限は1.35である。下限としては特に限定されないが、好ましい下限は1.25である。
なお、本明細書において成膜体の屈折率とは、基材上に成膜した膜体について分光光度計(島津製作所社製、「UV−3101PC」)を用いて、光の入射角5°での光波長380〜780nmの片面の反射率スペクトルを測定し、得られた反射スペクトルについて、光学特性解析ソフト(例えば、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製「WVASE32」)を用いて見積もることにより得られる値を意味する。
上記成膜体の成膜方法としては特に限定されないが、例えば、後述する反射防止膜の製造方法と同様の方法で成膜することができる。
In the antireflection coating agent of the present invention, the preferable upper limit of the refractive index of the film-formed body is 1.40. When it exceeds 1.40, when an antireflection film is produced, a sufficiently low refractive index cannot be obtained, and as a result, a sufficient antireflection effect may not be obtained. A more preferred upper limit is 1.37, and a more preferred upper limit is 1.35. Although it does not specifically limit as a minimum, A preferable minimum is 1.25.
In the present specification, the refractive index of the film-formed body refers to a light incident angle of 5 ° using a spectrophotometer (“UV-3101PC” manufactured by Shimadzu Corporation) for the film formed on the substrate. By measuring the reflectance spectrum of one side at a light wavelength of 380 to 780 nm, and estimating the obtained reflection spectrum using optical characteristic analysis software (for example, “WVASE32” manufactured by JA Woollam Japan) Means the value obtained.
The film forming method of the film forming body is not particularly limited. For example, the film forming body can be formed by the same method as the manufacturing method of the antireflection film described later.

マトリックス樹脂と、該マトリックス樹脂中に分散された平均粒子径が50〜200nmであり、かつ、少なくとも表面がポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる微粒子とからなる反射防止膜もまた、本発明の1つである。 An antireflection film comprising a matrix resin and fine particles having an average particle diameter of 50 to 200 nm dispersed in the matrix resin and at least a surface comprising a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound is also included in the present invention. One.

本発明の反射防止用コーティング剤を用いて、反射防止膜を作製することができる。このような本発明の反射防止用コーティング剤を用いてなる反射防止膜もまた、本発明の1つである。 An antireflection film can be produced using the antireflection coating agent of the present invention. Such an antireflection film using the antireflection coating agent of the present invention is also one aspect of the present invention.

すなわち、本発明の反射防止膜は、上述した本発明の反射防止用コーティング剤を膜状に成膜することで得ることができる。
本発明の反射防止膜の構造としては特に限定されず、例えば、本発明の反射防止用コーティング剤からなる層のみからなる単層構造であってもよく、基材層上に本発明の反射防止用コーティング剤からなる層が形成された積層構造であってもよい。なかでも、上記基材層上に本発明の反射防止用コーティング剤からなる層が形成された積層構造であることが好ましい。基材層を有することにより、本発明の反射防止膜の機械的強度が向上し、取扱い性に優れたものとなるからである。
That is, the antireflection film of the present invention can be obtained by forming the above-described antireflection coating agent of the present invention into a film.
The structure of the antireflection film of the present invention is not particularly limited. For example, the antireflection film of the present invention may have a single-layer structure consisting of only the layer made of the antireflection coating agent of the present invention. The laminated structure in which the layer which consists of coating agents for coatings was formed may be sufficient. Especially, it is preferable that it is a laminated structure in which the layer which consists of the coating agent for antireflection of this invention was formed on the said base material layer. This is because by having the base material layer, the mechanical strength of the antireflection film of the present invention is improved and the handleability is excellent.

本発明の反射防止膜を製造する方法としては特に限定されず、例えば、上記単層構造である場合、本発明の反射防止用コーティング剤を離型フィルム等上に塗工し硬化させた後に、上記離型フィルムを剥離する方法等が挙げられ、上記積層構造である場合、後述する基材層上に本発明の反射防止用コーティング剤を直接塗工した後、硬化させる方法や、本発明の反射防止用コーティング剤からなる膜を基材上に貼り付ける方法等が挙げられる。
なお、上記離型フィルム上や基材層上に塗工する本発明のコーティング剤の厚さとしては、本発明のコーティング剤に含有される滑り性付与微粒子の平均粒子径と同じか小さいことが好ましい。このような厚さとすることで、製造する本発明の反射防止膜の表面に後述するような滑り性付与微粒子からなる凹凸が形成され、本発明の反射防止膜の耐擦傷性が優れたものとなるからである。
The method for producing the antireflection film of the present invention is not particularly limited. For example, in the case of the single-layer structure, after coating and curing the antireflection coating agent of the present invention on a release film or the like, Examples include a method of peeling the release film, and in the case of the laminated structure, after directly coating the antireflection coating agent of the invention on the base material layer described later, Examples thereof include a method of attaching a film made of an antireflection coating agent on a substrate.
In addition, the thickness of the coating agent of the present invention applied on the release film or the base material layer is equal to or smaller than the average particle diameter of the slipperiness-imparting fine particles contained in the coating agent of the present invention. preferable. By using such a thickness, the surface of the antireflection film of the present invention to be produced has irregularities made of slipperiness-imparting fine particles as described later, and the antireflection film of the present invention has excellent scratch resistance. Because it becomes.

本発明の反射防止用コーティング剤を上記離型フィルムや基材層上に塗工する方法としては特に限定されず、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。 The method for coating the antireflection coating agent of the present invention on the release film or substrate layer is not particularly limited, and examples thereof include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, and roll coating. Method, gravure roll coating method, air doctor coating method, blade coating method, wire doctor coating method, knife coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method , Calendar coating method, die coating method and the like.

上記離型フィルムや基材層上に塗工した本発明の反射防止用コーティング剤を硬化させる方法としては、上記重合性化合物に含有される重合開始剤を活性化させ、重合性組成物を硬化させればよく特に限定されないが、例えば、上記重合開始剤が熱硬化型の開始剤である場合には加熱すればよく、上記重合開始剤が熱硬化型の開始剤の場合は光照射を行えばよい。
上記加熱する方法又は光照射する方法としては特に限定はされず、従来公知の方法を用いることができる。
As a method of curing the antireflection coating agent of the present invention coated on the release film or substrate layer, the polymerization initiator contained in the polymerizable compound is activated and the polymerizable composition is cured. However, for example, when the polymerization initiator is a thermosetting initiator, it may be heated, and when the polymerization initiator is a thermosetting initiator, light irradiation is performed. Just do it.
The heating method or the light irradiation method is not particularly limited, and a conventionally known method can be used.

上記基材層を構成する材料としては特に限定されないが、透明であることが好ましく、そのような材料としては、例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブタノイルセルロース、アセチルプロピオニルセルロースアセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体;ポリアミド、ポリカーボネート、特公昭48−40414号公報に記載されたポリエステル(特にポリエチレンテレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン1,2−ジフェノキシエタン−4,4−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、又は、これらの各種含フッ素体等の比較的低屈折率の透明樹脂等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as a material which comprises the said base material layer, It is preferable that it is transparent, As such a material, for example, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butanoylcellulose, acetylpropionylcellulose acetate, Cellulose derivatives such as nitrocellulose; polyamides, polycarbonates, polyesters described in JP-B-48-40414 (in particular, polyethylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene 1,2-diphenoxyethane-4, 4-dicarboxylate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polystyrene, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, polysulfone, polyether Rusurufon, polyarylate, polyetherimide, polymethyl methacrylate, or a transparent resin having a relatively low refractive index, such as these various fluorinated products thereof.

上記基材層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は40μm、好ましい上限は200μmである。40μm未満であると、本発明の反射防止膜は機械的強度が劣ることがあり、200μmを超えると、本発明の反射防止膜の透明性が劣り、内部の視覚情報が見えにくくなることがある。 Although it does not specifically limit as thickness of the said base material layer, A preferable minimum is 40 micrometers and a preferable upper limit is 200 micrometers. If it is less than 40 μm, the antireflection film of the present invention may have poor mechanical strength, and if it exceeds 200 μm, the antireflection film of the present invention may have poor transparency, making it difficult to see internal visual information. .

本発明の反射防止膜が上記基材層を有する場合、上記反射防止用コーティング剤を用いた層を上記基材層上に直接作製してもよいし、上記反射防止用コーティング剤を用いた層を別個に作製し、従来公知の種々の方法により、上記基材上に積層させてもよい。 When the antireflection film of the present invention has the base material layer, a layer using the antireflection coating agent may be directly formed on the base material layer, or a layer using the antireflection coating agent. May be prepared separately and laminated on the base material by various conventionally known methods.

また、本発明の反射防止層の厚さ(d)nmとしては特に限定されないが、反射防止膜の屈折率をnとし、測定に用いた光波長(λ)nmとした場合、n・d=λ/4の関係が成り立つことが望ましい。
なお、上記反射防止膜の厚さ(d)は、反射防止膜の反射率の測定により得られる光波長380〜780nmの片面の反射率スペクトルを、光学特性計算ソフト(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製「WVASE32」)を用いて解析することにより測定することができる。
Further, the thickness (d) nm of the antireflection layer of the present invention is not particularly limited, but when the refractive index of the antireflection film is n and the light wavelength (λ) nm used for measurement is n · d = It is desirable that the relationship of λ / 4 holds.
The thickness (d) of the antireflection film is obtained by measuring the reflectance spectrum of one surface having a light wavelength of 380 to 780 nm obtained by measuring the reflectance of the antireflection film with optical characteristic calculation software (JA Woollam Japan). It can measure by analyzing using "WVASE32" by Corporation | KK.

本発明の反射防止膜は、その表面が上記滑り性付与微粒子に由来するポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる凹凸形状を有することが好ましい。表面にポリオルガノシロキサン又はフッ素化合物からなる凹凸形状を有することにより、優れた耐擦傷性が得られる。これは、反射防止膜表面に表面張力の低いポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物表面が露出することにより、擦過に対する摩擦抵抗が低減するためである。 It is preferable that the antireflection film of the present invention has a concavo-convex shape whose surface is made of a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound derived from the slipperiness-imparting fine particles. By having a concavo-convex shape made of polyorganosiloxane or fluorine compound on the surface, excellent scratch resistance can be obtained. This is because the surface of the polyorganosiloxane compound or fluorine compound having a low surface tension is exposed on the surface of the antireflection film, thereby reducing the frictional resistance against abrasion.

本発明の反射防止膜表面のポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる表面凹凸の数としては特に限定されないが、反射防止膜1μm当たりの凹凸の存在個数の好ましい下限は1個、好ましい上限は500個未満である。1個未満であると、目的である滑り性付与による耐擦傷性効果が充分に得られないことがあり、500個以上であると、滑り性付与粒子の割合が多すぎ、滑り性は付与されるものの、膜自体の強度が劣る場合がある。より好ましい下限は10個、より好ましい上限は100個未満である。 The number of surface irregularities made of a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound on the surface of the antireflection film of the present invention is not particularly limited, but the preferred lower limit of the number of irregularities per 1 μm 2 of the antireflection film is 1, and the preferred upper limit is 500. Less than When the number is less than 1, the intended scratch resistance effect due to imparting slipperiness may not be sufficiently obtained, and when it is 500 or more, the ratio of slipperiness imparting particles is too large and slipperiness is imparted. However, the strength of the film itself may be inferior. A more preferred lower limit is 10 and a more preferred upper limit is less than 100.

本発明の反射防止膜表面から突出した上記滑り性付与微粒子の高さとしては特に限定されないが、好ましい下限は上記滑り性付与微粒子の粒子径の1%、好ましい上限は上記滑り性付与微粒子の粒子径の50%である。1%未満であると、本発明の反射防止膜に充分な耐擦傷性を付与することができないことがあり、50%を超えると、上記滑り性付与微粒子が脱落しやすくなる。より好ましい下限は2%、より好ましい上限は20%である。
なお、ここでいう本発明の反射防止膜表面とは、上記滑り性付与微粒子由来のポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物の凹凸間における本発明の反射防止層の表面を意味する。
The height of the slipperiness-imparting fine particles protruding from the surface of the antireflection film of the present invention is not particularly limited, but the preferred lower limit is 1% of the particle diameter of the slip-providing fine particles, and the preferred upper limit is the particles of the slip-giving fine particles. 50% of the diameter. If it is less than 1%, sufficient anti-scratch resistance may not be imparted to the antireflection film of the present invention, and if it exceeds 50%, the slipperiness-imparting fine particles are likely to fall off. A more preferred lower limit is 2%, and a more preferred upper limit is 20%.
In addition, the surface of the antireflection film of the present invention referred to herein means the surface of the antireflection layer of the present invention between the irregularities of the polyorganosiloxane compound or fluorine compound derived from the slipperiness-imparting fine particles.

本発明の反射防止膜は、静摩擦係数と動摩擦係数とが0.3以下であることが好ましい。静摩擦係数、動摩擦係数が0.3を超えると、擦過により本発明の反射防止膜に傷が付きやすくなる。より好ましい上限は0.1、更に好ましい上限は0.05である。 The antireflection film of the present invention preferably has a static friction coefficient and a dynamic friction coefficient of 0.3 or less. When the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient exceed 0.3, the antireflection film of the present invention is likely to be damaged by rubbing. A more preferred upper limit is 0.1, and a still more preferred upper limit is 0.05.

本発明の反射防止膜は、超純水の接触角の下限が100°であることが好ましい。超純水の接触角が100°未満であると、本発明の反射防止膜表面の極性が高いために摩擦抵抗が高くなり、耐擦傷性が劣る場合があり、また、本発明の反射防止膜表面に汚れが付きやすいといった問題がある。 In the antireflection film of the present invention, the lower limit of the contact angle of ultrapure water is preferably 100 °. When the contact angle of ultrapure water is less than 100 °, the antireflection film surface of the present invention has a high polarity, resulting in high frictional resistance and inferior scratch resistance, and the antireflection film of the present invention. There is a problem that the surface is easily soiled.

本発明の反射防止膜は、超純水及びn−ヘキサデカンの転落角の上限が30°であることが好ましい。転落角が30°を超えると、本発明の反射防止膜表面に汚染物質が付着しやすくなる傾向にある。より好ましい上限は20°である。 In the antireflection film of the present invention, the upper limit of the falling angle of ultrapure water and n-hexadecane is preferably 30 °. When the falling angle exceeds 30 °, contaminants tend to adhere to the surface of the antireflection film of the present invention. A more preferred upper limit is 20 °.

本発明の反射防止膜は、550nmの光の屈折率の上限が1.40であることが好ましい。1.40を超えると、本発明の反射防止膜に充分な反射防止効果が得られないことがある。より好ましい上限は1.37、更に好ましい上限は1.35である。 In the antireflection film of the present invention, the upper limit of the refractive index of light having a wavelength of 550 nm is preferably 1.40. If it exceeds 1.40, the antireflection film of the present invention may not have a sufficient antireflection effect. A more preferred upper limit is 1.37, and a more preferred upper limit is 1.35.

本発明の反射防止膜は、ヘイズの好ましい上限が1.0%である。ヘイズが1.0%を超えると、本発明の反射防止膜の外観が白っぽくなることがある。より好ましい上限は0.5%、更に好ましい上限は0.3%である。好ましい下限としては特に限定されないが、検出限界であることが好ましい。 In the antireflection film of the present invention, the preferable upper limit of haze is 1.0%. When the haze exceeds 1.0%, the appearance of the antireflection film of the present invention may become whitish. A more preferred upper limit is 0.5%, and a still more preferred upper limit is 0.3%. Although it does not specifically limit as a preferable minimum, It is preferable that it is a detection limit.

本発明は、少なくとも表面が低表面張力のポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる微粒子を含有するため、反射防止膜としたときに、その表面から上記微粒子の一部が突出して凹凸が形成されるようにすることで、優れた耐擦傷性を有することができる反射防止用コーティング剤、及び、反射防止膜を提供することができる。 Since the present invention contains fine particles made of a polyorganosiloxane compound or fluorine compound having a low surface tension at least on the surface, when the antireflection film is formed, a part of the fine particles protrudes from the surface to form irregularities. By doing so, it is possible to provide an antireflection coating agent and an antireflection film that can have excellent scratch resistance.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
(1)滑り性付与微粒子の調製
反応性シリコーン成分としてサイラプレーンFM−7721(チッソ社製)40重量部と、非重合性有機溶剤としてトルエン50重量部及びヘキサデカン10重量部とを混合・攪拌した混合溶液の全量を、水溶性乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム2重量部、セチルアルコール6重量部、開始剤として過硫酸アンモニウム2重量部を含有するイオン交換水390重量部に添加し、超音波ホモジナイザーにて60分強制乳化して、平均粒子径108nmの重合性液滴が分散した分散液を調製した。
Example 1
(1) Preparation of slipperiness imparting fine particles 40 parts by weight of Silaplane FM-7721 (manufactured by Chisso) as a reactive silicone component and 50 parts by weight of toluene and 10 parts by weight of hexadecane as non-polymerizable organic solvents were mixed and stirred. The total amount of the mixed solution is added to 390 parts by weight of ion-exchanged water containing 2 parts by weight of sodium dodecylbenzenesulfonate as a water-soluble emulsifier, 6 parts by weight of cetyl alcohol, and 2 parts by weight of ammonium persulfate as an initiator, and is added to an ultrasonic homogenizer. The mixture was forcibly emulsified for 60 minutes to prepare a dispersion in which polymerizable droplets having an average particle diameter of 108 nm were dispersed.

攪拌機、ジャケット、還流冷却器及び温度計を備えた20L容の重合器を用い、重合器内を減圧して容器内の脱酸素を行った後、窒素置換して内部を窒素雰囲気とし、得られた分散液を投入し、重合器を80℃まで昇温して重合を開始した。4時間重合し、その後1時間の熟成期間をおいた後、重合器を室温まで冷却した。得られたスラリーを分画分子量1万のセルロース膜を用いて透析し、過剰な界面活性剤や無機塩類を除去し、更に濾過して凝集粒子及び不溶分を除去してシリコーン樹脂微粒子を得た。
得られたシリコーン樹脂微粒子を、真空乾燥して平均粒子径112nmの滑り性付与微粒子を得た。
Using a 20 L polymerization vessel equipped with a stirrer, jacket, reflux condenser and thermometer, the inside of the vessel was depressurized and deoxygenated in the vessel, and then purged with nitrogen to make the inside a nitrogen atmosphere. The dispersion was charged, and the polymerization vessel was heated to 80 ° C. to initiate polymerization. Polymerization was performed for 4 hours, and after a aging period of 1 hour, the polymerization vessel was cooled to room temperature. The resulting slurry was dialyzed using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000 to remove excess surfactant and inorganic salts, and further filtered to remove aggregated particles and insoluble matter, thereby obtaining silicone resin fine particles. .
The obtained silicone resin fine particles were vacuum-dried to obtain slipperiness-imparting fine particles having an average particle diameter of 112 nm.

(2)反射防止用コーティング剤の調製、及び、反射防止膜の作製
重合性化合物100体積部としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート用い、これに得られた滑り性付与微粒子100体積部と、希釈溶媒としてメチルエチルケトン800体積部と、開始剤としてイルガキュア814(商品名:チバスペシャリティーケミカルズ社製)とを添加し反射防止フィルム用コーティング剤を調製した。
得られた反射防止用コーティング剤をトリアセチルセルロースフィルム上に重合硬化物の反射率が550nmで最低値を取るようにバーコーターを用いて塗布した後、120Wの高圧水銀ランプを20cmの距離から紫外線を180秒照射し、反射防止膜を得た。反射防止膜の厚さは98nmであり、反射防止膜表面には滑り性付与微粒子に由来する表面凹凸が存在していた。
(2) Preparation of anti-reflection coating agent and preparation of anti-reflection film Dipentaerythritol hexaacrylate was used as 100 parts by volume of the polymerizable compound, 100 parts by volume of the resulting slipperiness-imparting fine particles, and methyl ethyl ketone as the diluent solvent 800 parts by volume and Irgacure 814 (trade name: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as an initiator were added to prepare a coating agent for an antireflection film.
The obtained anti-reflection coating agent was applied onto a triacetyl cellulose film using a bar coater so that the reflectance of the polymerized cured product had a minimum value of 550 nm, and then a 120 W high-pressure mercury lamp was irradiated with ultraviolet rays from a distance of 20 cm. Was irradiated for 180 seconds to obtain an antireflection film. The thickness of the antireflection film was 98 nm, and surface irregularities derived from the slipperiness-imparting fine particles were present on the surface of the antireflection film.

(実施例2)
エポキシプレポリマー成分としてエピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)40重量部と非重合性有機溶剤としてトルエン60重量部とを混合・攪拌した混合溶液の全量を、アミン成分としてエチレンジアミン10重量部、水溶性乳化剤としてラウリルトリメチルアンモニウムクロライド2重量部を含有するイオン交換水390重量部に添加し、超音波ホモジナイザーにて60分強制乳化して、平均粒子径92nmの重合性液滴が分散した分散液を調製した。
攪拌機、ジャケット、還流冷却器及び温度計を備えた20L容の重合器を用い、重合器内を減圧して容器内の脱酸素を行った後、窒素置換して内部を窒素雰囲気とし、得られた分散液を投入し、重合器を80℃まで昇温して重合を開始した。4時間重合し、その後1時間の熟成期間をおいた後、重合器を室温まで冷却した。得られたスラリーを分画分子量1万のセルロース膜を用いて透析し、過剰な界面活性剤や無機塩類を除去し、更に濾過して凝集粒子及び不溶分を除去して基材粒子を得た。
(Example 2)
The total amount of a mixed solution obtained by mixing and stirring 40 parts by weight of Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co.) as an epoxy prepolymer component and 60 parts by weight of toluene as a non-polymerizable organic solvent, 10 parts by weight of ethylenediamine as an amine component, water-soluble Add to 390 parts by weight of ion-exchanged water containing 2 parts by weight of lauryltrimethylammonium chloride as an emulsifier, and forcibly emulsify with an ultrasonic homogenizer for 60 minutes to prepare a dispersion in which polymerizable droplets having an average particle size of 92 nm are dispersed. did.
Using a 20 L polymerization vessel equipped with a stirrer, jacket, reflux condenser and thermometer, the inside of the vessel was depressurized and deoxygenated in the vessel, and then purged with nitrogen to make the inside a nitrogen atmosphere. The dispersion was charged, and the polymerization vessel was heated to 80 ° C. to initiate polymerization. Polymerization was performed for 4 hours, and after a aging period of 1 hour, the polymerization vessel was cooled to room temperature. The obtained slurry was dialyzed using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000, excess surfactant and inorganic salts were removed, and further filtered to remove aggregated particles and insoluble matter to obtain base particles. .

得られた基材粒子を、真空乾燥して樹脂微粒子を得た後10重量部をメチルエチルケトン90重量部中に再分散し、樹脂微粒子のメチルエチルケトン分散液を作製した。
得られた基材粒子の分散液95重量部に表面処理剤として片末端エポキシ変性シリコーンオイル(信越化学工業社製「X−22−173DX」)5重量部を加え攪拌を行いながら60℃で4時間反応を行った。得られた粒子を遠心分離により洗浄し、未反応のシリコーンオイルを取り除いた後に、真空乾燥を行い平均粒子径が98nmの基材粒子表面がシリコーン被覆された滑り性付与微粒子を得た。
The obtained base particles were vacuum dried to obtain resin fine particles, and then 10 parts by weight were redispersed in 90 parts by weight of methyl ethyl ketone to prepare a methyl ethyl ketone dispersion of resin fine particles.
5 parts by weight of one-end epoxy-modified silicone oil (“X-22-173DX” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a surface treatment agent was added to 95 parts by weight of the obtained dispersion of base particles, and the mixture was stirred at 60 ° C. while stirring. Time reaction was performed. The obtained particles were washed by centrifugation and unreacted silicone oil was removed, followed by vacuum drying to obtain slipperiness-imparting fine particles in which the surface of the base material particles having an average particle diameter of 98 nm was coated with silicone.

得られた基材粒子表面がシリコーン被覆された滑り性付与微粒子を用いた以外は、実施例1と同様の方法により反射防止用コーティング剤を調製し、反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の厚さは94nmであり、反射防止膜表面には滑り性付与微粒子に由来する表面凹凸が存在していた。 An antireflection coating agent was prepared by the same method as in Example 1 except that the resulting base particle surface was coated with silicone-coated slipperiness-imparting fine particles. The thickness of the obtained antireflection film was 94 nm, and surface irregularities derived from the slipperiness-imparting fine particles were present on the surface of the antireflection film.

参考例1
(1)滑り性付与微粒子の調製
反応性シリコーン成分としてサイラプレーンFM−7721(チッソ社製)90重量部と非重合性有機溶剤としてヘキサデカン10重量部とを混合・攪拌した混合溶液の全量を、水溶性乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム2重量部、セチルアルコール6重量部、開始剤として過硫酸アンモニウム2重量部を含有するイオン交換水390重量部に添加し、超音波ホモジナイザーにて60分強制乳化して、平均粒子径120nmの重合性液滴が分散した分散液を調製した。
攪拌機、ジャケット、還流冷却器及び温度計を備えた20L容の重合器を用い、重合器内を減圧して容器内の脱酸素を行った後、窒素置換して内部を窒素雰囲気とし、得られた分散液を投入し、重合器を80℃まで昇温して重合を開始した。4時間重合し、その後1時間の熟成期間をおいた後、重合器を室温まで冷却した。得られたスラリーを分画分子量1万のセルロース膜を用いて透析し、過剰な界面活性剤や無機塩類を除去し、更に濾過して凝集粒子及び不溶分を除去してシリコーン樹脂微粒子を得た。
得られたシリコーン樹脂微粒子を、真空乾燥して平均粒子径132nmの滑り性付与微微粒子を得た。
( Reference Example 1 )
(1) Preparation of slipperiness-imparting microparticles The total amount of a mixed solution obtained by mixing and stirring 90 parts by weight of Silaplane FM-7721 (manufactured by Chisso) as a reactive silicone component and 10 parts by weight of hexadecane as a non-polymerizable organic solvent, It is added to 390 parts by weight of ion-exchanged water containing 2 parts by weight of sodium dodecylbenzenesulfonate as a water-soluble emulsifier, 6 parts by weight of cetyl alcohol and 2 parts by weight of ammonium persulfate as an initiator, and forcibly emulsified with an ultrasonic homogenizer for 60 minutes. Thus, a dispersion liquid in which polymerizable droplets having an average particle diameter of 120 nm were dispersed was prepared.
Using a 20 L polymerization vessel equipped with a stirrer, jacket, reflux condenser and thermometer, the inside of the vessel was depressurized and deoxygenated in the vessel, and then purged with nitrogen to make the inside a nitrogen atmosphere. The dispersion was charged, and the polymerization vessel was heated to 80 ° C. to initiate polymerization. Polymerization was performed for 4 hours, and after a aging period of 1 hour, the polymerization vessel was cooled to room temperature. The resulting slurry was dialyzed using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000 to remove excess surfactant and inorganic salts, and further filtered to remove aggregated particles and insoluble matter, thereby obtaining silicone resin fine particles. .
The obtained silicone resin fine particles were vacuum-dried to obtain slipperiness-imparting fine particles having an average particle diameter of 132 nm.

(2)反射防止用コーティング剤の調製、及び、反射防止膜の作製
重合性化合物100体積部としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート用い、これに得られた滑り性付与微粒子20体積部と低屈折粒子として平均粒子径60nm、屈折率1.30中空シリカ微粒子80体積部、希釈溶媒としてメチルエチルケトン800体積部、及び、開始剤としてイルガキュア814(商品名:チバスペシャリティーケミカルズ社製)を添加し反射防止用コーティング剤を調製した。
得られた反射防止用コーティング剤をトリアセチルセルロースフィルム上に重合硬化物の反射率が550nmで最低値を取るようにバーコーターを用いて塗布した後、120Wの高圧水銀ランプを20cmの距離から紫外線を180秒照射し、反射防止膜を得た。反射防止膜の厚さは98nmであり、反射防止膜表面には滑り性付与微粒子に由来する表面凹凸が存在していた。
(2) Preparation of anti-reflection coating agent and preparation of anti-reflection film Dipentaerythritol hexaacrylate was used as 100 parts by volume of the polymerizable compound, and 20 parts by volume of slipperiness-imparting fine particles thus obtained and averaged as low refractive particles. Antireflective coating agent by adding particle size 60 nm, refractive index 1.30 hollow silica fine particle 80 volume part, methyl ethyl ketone 800 volume part as diluent solvent, and Irgacure 814 (trade name: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as initiator. Was prepared.
The obtained anti-reflection coating agent was applied onto a triacetyl cellulose film using a bar coater so that the reflectance of the polymerized cured product had a minimum value of 550 nm, and then a 120 W high-pressure mercury lamp was irradiated with ultraviolet rays from a distance of 20 cm. Was irradiated for 180 seconds to obtain an antireflection film. The thickness of the antireflection film was 98 nm, and surface irregularities derived from the slipperiness-imparting fine particles were present on the surface of the antireflection film.

(比較例1)
滑り性付与粒子を添加せず、重合性化合物100重量部に対して、低屈折粒子として平均粒子径60nm、屈折率1.30中空シリカ微粒子を100重量部用いた以外は、実施例1と同様の方法により反射防止用コーティング剤を調製し、反射防止膜を得た。フィルムの厚さは103nmであり、反射防止膜表面には中空シリカ微粒子に由来する表面凹凸が形成されていなかった。
(Comparative Example 1)
The same as in Example 1, except that no slipperiness-imparting particles were added, and 100 parts by weight of low-refractive particles having an average particle diameter of 60 nm and a refractive index of 1.30 hollow silica particles were used with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound. An antireflection coating agent was prepared by the above method to obtain an antireflection film. The thickness of the film was 103 nm, and surface irregularities derived from the hollow silica fine particles were not formed on the surface of the antireflection film.

(評価)
実施例1〜2、参考例1で得られた滑り性付与微粒子、比較例1で用いた中空シリカ、並びに、実施例1〜2、参考例1、比較例1で得られた反射防止性コーティング剤、及び、反射防止膜について以下の方法により評価を行った。結果を表1に示す。
(Evaluation)
Examples 1-2, fine particles imparted with slipperiness obtained in Reference Example 1 , hollow silica used in Comparative Example 1, and anti-reflective coating obtained in Examples 1-2, Reference Example 1 and Comparative Example 1 The agent and the antireflection film were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.

(1)反射防止膜の反射率の測定
実施例1〜2、参考例1、比較例1において作製した反射防止膜の表面を♯400のサンドペーパーで荒らした後、艶消しの黒色塗料を塗布し、その後分光光度計(島津製作所社製、「UV−3101PC」)を用いて、光の入射角5°での光波長380〜780nmの片面の反射率スペクトルを測定した。得られた反射率スペクトルの光波長550nmにおける反射率の値を反射防止膜の反射率として用いた。
(1) Measurement of reflectance of antireflection film The surface of the antireflection film prepared in Examples 1 and 2, Reference Example 1 and Comparative Example 1 was roughened with # 400 sandpaper, and then a matte black paint was applied. Then, using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, “UV-3101PC”), the reflectance spectrum of one side at a light wavelength of 380 to 780 nm at an incident angle of light of 5 ° was measured. The reflectance value of the obtained reflectance spectrum at a light wavelength of 550 nm was used as the reflectance of the antireflection film.

(2)反射防止膜の屈折率の測定
反射防止膜の反射率の測定により得られた光波長380〜780nmの片面の反射率スペクトルを、光学特性計算ソフト(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製「WVASE32」)を用いて解析し、反射防止膜の屈折率を算出した。
(2) Measurement of refractive index of antireflection film One side reflectance spectrum of light wavelength of 380 to 780 nm obtained by measuring the reflectance of the antireflection film is obtained by optical property calculation software (manufactured by JA Woollam Japan). The refractive index of the antireflection film was calculated using “WVASE32”).

(3)反射防止膜の透過率及びヘイズの測定
反射防止膜をヘイズメーター(東京電色社製、「TC−H3PDK」)を用いて全光線透過率及びヘイズを測定した。
(3) Measurement of transmittance and haze of antireflection film The total light transmittance and haze of the antireflection film were measured using a haze meter (“TC-H3PDK” manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.).

(4)反射防止膜の耐擦傷性
反射防止膜表面をスチールウール「日本スチールウール社製、(ボンスター♯0000:)」により250g/cmで20回擦り、傷の有無を目視にて観察し、下記の基準で判定した。
○:傷なし
△:僅かに傷あり
×:傷あり
(4) Scratch resistance of the antireflection film The surface of the antireflection film was rubbed 20 times with steel wool “Nihon Steel Wool Co., Ltd. (Bonster # 0000 :)” at 250 g / cm 2 and the presence or absence of scratches was visually observed. The determination was made according to the following criteria.
○: No scratch △: Slightly scratched ×: Scratched

(5)反射防止膜の摩擦係数測定
自動摩擦・摩耗解析装置(DFPM−SS型:協和界面科学社製)を用いて、JIS K 7125に準拠してサファイアを用いた点接触、加重200g、速度1.7mm/s、ストローク50.0mm条件における各反射防止膜の静摩擦係数及び動摩擦係数を測定した。
(5) Measurement of friction coefficient of anti-reflection film Using an automatic friction / wear analyzer (DFPM-SS type: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), point contact using sapphire according to JIS K 7125, load 200 g, speed The static friction coefficient and the dynamic friction coefficient of each antireflection film under the conditions of 1.7 mm / s and a stroke of 50.0 mm were measured.

(6)反射防止膜の接触角測定
接触角計(CA―X型:協和界面科学社製)を用いて20℃、65%RHにおける1.8μLの液滴を作り、これを試料表面に接触させた際の接触角を測定した。測定液体としては超純水「日本ミリポア社製、Milli−Q Gradient」を使用した。
(6) Contact angle measurement of antireflection film Using a contact angle meter (CA-X type: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), a droplet of 1.8 μL at 20 ° C. and 65% RH was formed and contacted with the sample surface. The contact angle when measured was measured. As the measurement liquid, ultrapure water “Milli-Q Gradient manufactured by Nihon Millipore” was used.

(7)反射防止膜の転落角の測定
転落角計(CA−X型:協和界面科学社製)を用いて20℃、65%RHにおける63μLの液滴を針先に作り、これを水平な試料表面状に接触させて液滴を作った。次いで、この試料を徐々に傾斜し、液滴か滑り始めた角度を測定した。測定液体としては超純水「日本ミリポア社製、Milli−Q Gradient」を使用した。
(7) Measurement of falling angle of antireflection film Using a falling angle meter (CA-X type: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), a droplet of 63 μL at 20 ° C. and 65% RH was formed on the needle tip, Droplets were made by contacting the sample surface. The sample was then tilted and the angle at which the droplet began to slide was measured. As the measurement liquid, ultrapure water “Milli-Q Gradient manufactured by Nihon Millipore” was used.

(8)微粒子の平均粒子径及び粒子径のCV値の測定
動的光散乱式粒度分布計(Particle Sizing Systems社製、「Nicomp model 380ZLS−S」)を用いて、各実施例及び比較例で得られた微粒子の体積平均粒子径及び粒子径のCV値を測定した。
(8) Measurement of average particle diameter of fine particles and CV value of particle diameter Using a dynamic light scattering particle size distribution meter (manufactured by Particle Sizing Systems, "Nicomp model 380ZLS-S") in each example and comparative example The volume average particle diameter and the CV value of the particle diameter of the obtained fine particles were measured.

(9)微粒子の屈折率及び中空度の測定
反射防止膜の屈折率の値の測定方法と同様にして、微粒子を使用しない重合性化合物のみの屈折率を測定し、反射防止膜に添加した重合性化合物と微粒子の体積添加率比とから各微粒子の屈折率を算出した。
また、算出された微粒子の屈折率の値と、中空部分を除いた組成から計算される微粒子の屈折率の値とを用いて微粒子の中空度を算出した。こうして算出した中空度は電子顕微鏡(日本電子社製、「JEM−1200EXII」)で観察された微粒子の粒子径及びフィルムの厚さから計算される粒子中空度とも良い一致を示した。
(9) Measurement of refractive index and hollowness of fine particles In the same manner as the method for measuring the refractive index value of an antireflection film, the refractive index of only a polymerizable compound that does not use fine particles is measured, and polymerization added to the antireflection film The refractive index of each fine particle was calculated from the volume addition ratio of the functional compound and the fine particles.
Further, the hollowness of the fine particles was calculated using the calculated refractive index value of the fine particles and the refractive index value of the fine particles calculated from the composition excluding the hollow portion. The hollowness calculated in this manner showed good agreement with the particle hollowness calculated from the particle diameter of the fine particles and the film thickness observed with an electron microscope (manufactured by JEOL Ltd., “JEM-1200EXII”).

Figure 0004866074
Figure 0004866074

本発明によれば、耐擦傷性に優れる反射防止膜を得ることができる反射防止用コーティング剤、及び、反射防止膜を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coating agent for antireflection which can obtain the antireflection film excellent in abrasion resistance, and an antireflection film can be provided.

Claims (6)

平均粒子径が50〜200nm、屈折率が1.40以下であり、かつ、少なくとも表面がポリオルガノシロキサン化合物からなる微粒子と、バインダー成分とを含有する反射防止用コーティング剤であって、前記微粒子が中空構造であり、かつ、単孔構造を有することを特徴とする反射防止用コーティング剤。 An antireflective coating agent comprising an average particle size of 50 to 200 nm , a refractive index of 1.40 or less , and at least a surface comprising fine particles composed of a polyorganosiloxane compound, and a binder component, wherein the fine particles are An antireflection coating agent having a hollow structure and a single-hole structure. 更に、平均粒子径が100nm以下であり、かつ、屈折率が1.35以下の微粒子を含有することを特徴とする請求項1載の反射防止用コーティング剤。 Further, the average particle diameter is not more 100nm or less, and, for preventing coatings reflection of claim 1 Symbol placement refractive index is characterized in that it contains 1.35 microparticles. 請求項1又は2記載の反射防止用コーティング剤を用いてなることを特徴とする反射防止膜。 An antireflective film comprising the antireflective coating agent according to claim 1 or 2 . 表面に微粒子由来のポリオルガノシロキサン化合物からなる凹凸を有することを特徴とする請求項記載の反射防止膜。 4. The antireflection film according to claim 3, wherein the surface has irregularities made of a polyorganosiloxane compound derived from fine particles. 動摩擦係数と静摩擦係数とが0.3以下であることを特徴とする請求項3又は4記載の反射防止膜。 5. The antireflection film according to claim 3, wherein the dynamic friction coefficient and the static friction coefficient are 0.3 or less. 水の接触角が100°以上であることを特徴とする請求項3、4又は5記載の反射防止膜。 6. The antireflection film according to claim 3 , wherein the contact angle of water is 100 ° or more.
JP2005358954A 2005-12-13 2005-12-13 Anti-reflection coating agent and anti-reflection film Active JP4866074B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005358954A JP4866074B2 (en) 2005-12-13 2005-12-13 Anti-reflection coating agent and anti-reflection film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005358954A JP4866074B2 (en) 2005-12-13 2005-12-13 Anti-reflection coating agent and anti-reflection film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007163754A JP2007163754A (en) 2007-06-28
JP4866074B2 true JP4866074B2 (en) 2012-02-01

Family

ID=38246720

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005358954A Active JP4866074B2 (en) 2005-12-13 2005-12-13 Anti-reflection coating agent and anti-reflection film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4866074B2 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4961853B2 (en) * 2006-06-19 2012-06-27 日本ゼオン株式会社 Anti-reflection laminate
JP4948387B2 (en) * 2007-12-27 2012-06-06 リケンテクノス株式会社 Antireflection film
JP5376283B2 (en) * 2008-03-26 2013-12-25 大日本印刷株式会社 Phase difference body and manufacturing method thereof
KR20090118724A (en) * 2008-05-14 2009-11-18 도레이새한 주식회사 Antireflective film with excellent scratch resistance and surface slip property
KR101166081B1 (en) * 2010-04-05 2012-07-23 한국화학연구원 Composition comprising polymer latex particle for antireflective surface and preparation method of single layer porous antireflective surface using it
JP2014016607A (en) * 2012-06-13 2014-01-30 Ube Exsymo Co Ltd Antireflection material
KR101692109B1 (en) * 2013-07-26 2017-01-02 주식회사 엘지화학 High brightness polarizing plate and liquid crystal display device comprizing the same
JP6866562B2 (en) * 2014-04-04 2021-04-28 三菱ケミカル株式会社 Polycarbonate resin composition and molded products made of it
JP2018115265A (en) * 2017-01-18 2018-07-26 積水化学工業株式会社 Resin fine particle-containing composition
KR101991928B1 (en) 2017-04-28 2019-06-21 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film
JP6636069B2 (en) 2017-09-08 2020-01-29 株式会社ダイセル Anti-reflection film
WO2019049579A1 (en) * 2017-09-08 2019-03-14 株式会社ダイセル Anti-reflection film

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09288201A (en) * 1995-12-07 1997-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and image display device using the same
JP3921262B2 (en) * 1996-07-22 2007-05-30 東レ・ダウコーニング株式会社 Silicone resin hollow body and method for producing the same
JPH10319211A (en) * 1997-05-19 1998-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and image display device using the same
JPH1123803A (en) * 1997-07-01 1999-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflective film and display device arranging the same
JP2001188102A (en) * 1999-12-27 2001-07-10 Toppan Printing Co Ltd Antireflection film
JP2001240747A (en) * 2000-02-29 2001-09-04 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd Low-specific gravity liquid silicone rubber composition
JP4263422B2 (en) * 2002-03-28 2009-05-13 大日本印刷株式会社 Method for producing single particle layer laminate and single particle layer laminate
JP4378972B2 (en) * 2003-02-25 2009-12-09 パナソニック電工株式会社 Antireflection film, method of manufacturing antireflection film, antireflection member
JP2004354699A (en) * 2003-05-29 2004-12-16 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film and polarizing plate
JP2005208290A (en) * 2004-01-22 2005-08-04 Konica Minolta Opto Inc Soil-resistant optical thin film, stain-resistant antireflection film, polarizing plate using the same and display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007163754A (en) 2007-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4866074B2 (en) Anti-reflection coating agent and anti-reflection film
JP4059912B2 (en) Hollow resin fine particles, organic / inorganic hybrid fine particles, and method for producing hollow resin fine particles
JP5411477B2 (en) Hollow organic-inorganic hybrid fine particles, antireflection resin composition, coating agent for antireflection film, antireflection laminate and antireflection film
JP5064649B2 (en) Anti-reflection laminate
JP5558414B2 (en) Method for manufacturing antireflection laminate
JP4853813B2 (en) Anti-reflection laminate
TWI670335B (en) Coating liquid for forming transparent coating film and method for producing the same, organic resin dispersant sol, and substrate with transparent coating film and method for producing the same
JP2010032719A (en) Optical sheet and backlight unit
WO2006093748A2 (en) Inorganic-organic hybrid nanocomposite antiglare and antireflection coatings
CN107438778B (en) Low-index layer and antireflective coating comprising the low-index layer
CN100543070C (en) The manufacture method of hollow resin particulate, organic-inorganic hybrid fine particles and hollow resin particulate
WO2019003905A1 (en) Reflection-preventing film, polarization plate, and image display device
CN108027451A (en) Antireflective coating
JP2010084018A (en) Method for producing hollow organic-inorganic hybrid fine particle, and hollow organic-inorganic hybrid fine particle
CN110225949A (en) Coating composition, antireflection film and its manufacturing method, laminated body and solar cell module
JPH07325201A (en) High refractive index coating composition and coated article obtained by the same
JP7406485B2 (en) Inorganic oxide fine particle dispersion
JP7395263B2 (en) Transparent hydrophilic UV absorbing laminate and transparent hydrophilic UV absorbing coating agent
TW200525185A (en) Composition for light-reflecting film and light-reflecting film using the same
JP4238147B2 (en) Hollow resin fine particles and antireflection film
JP4217200B2 (en) Method for producing hollow resin fine particles, hollow resin fine particles, coating agent for antireflection film, and antireflection film
WO2009118415A1 (en) Coating compostiion, coating and an object coated with the coating composition
JP2009242475A (en) Hollow organic-inorganic hybrid fine particle, antireflective resin composition, coating agent for antireflective film, antireflective laminated product and antireflective film
WO2017155336A1 (en) Antireflective film
JPH01245062A (en) Coating composition and plastic molded article with film therefrom

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080821

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110502

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110502

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110621

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110920

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110926

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110920

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111018

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4866074

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3