JP4957079B2 - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス繊維強化複合材料、その製造方法およびプリント回路基板に関する。   The present invention relates to a glass fiber reinforced composite material, a method for producing the same, and a printed circuit board.

プリント回路基板の信号伝送速度を増加させるためには、電気絶縁体層の誘電率を下げる必要がある。また、プリント回路基板の伝送損失を低下させるためには、電気絶縁体層の誘電正接を下げる必要がある。そのため、信号伝送速度の増加および伝送損失の低下が求められる用途、たとえば高周波帯域の信号伝送を行う電子機器においては、低誘電率および低誘電正接のフッ素樹脂を電気絶縁体層に用いたプリント回路基板が用いられる。   In order to increase the signal transmission speed of the printed circuit board, it is necessary to lower the dielectric constant of the electrical insulator layer. In order to reduce the transmission loss of the printed circuit board, it is necessary to lower the dielectric loss tangent of the electrical insulator layer. Therefore, in applications where an increase in signal transmission speed and a reduction in transmission loss are required, for example, in electronic equipment that performs signal transmission in a high frequency band, a printed circuit using a fluororesin having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent as an electrical insulator layer A substrate is used.

フッ素樹脂を電気絶縁体層に用いたプリント回路基板としては、ガラスクロス等のガラス繊維の織布にフッ素樹脂のディスパージョンを含浸させたプリプレグの少なくとも片面に、銅箔等の金属箔からなる導電体層を形成したプリント回路基板が知られている(特許文献1、2参照)。
該プリント回路基板においては、プリプレグにおけるフッ素樹脂の含浸率を高めることによって、電気絶縁体層の誘電率および伝送損失を低下できる。
As a printed circuit board using a fluororesin as an electrical insulator layer, a conductive material made of a metal foil such as a copper foil on at least one surface of a prepreg in which a glass fiber woven fabric such as a glass cloth is impregnated with a fluororesin dispersion is used. A printed circuit board having a body layer is known (see Patent Documents 1 and 2).
In the printed circuit board, the dielectric constant and transmission loss of the electrical insulator layer can be lowered by increasing the impregnation rate of the fluororesin in the prepreg.

しかし、該プリント回路基板においては、以下の問題がある。
(1)プリプレグにおけるフッ素樹脂の含浸率を高めるためには、ガラス繊維の織布へのフッ素樹脂のディスパージョンの含浸を複数回繰り返す必要がある。そのため、プリント回路基板の生産性が著しく低下する。
(2)フッ素樹脂として、低誘電率および低誘電正接のポリテトラフルオロエチレン(PTFE)が用いられることが多い。しかし、PTFEは金属との密着性が低いため、電気絶縁体層のスルーホールにメッキ処理を行った場合、メッキがスルーホールに付着しない、またはメッキがスルーホールから剥離しやすい。該問題は、スルーホールにおける導通不良の原因となる。
However, the printed circuit board has the following problems.
(1) In order to increase the impregnation rate of the fluororesin in the prepreg, it is necessary to repeat the impregnation of the dispersion of the fluororesin into the woven fabric of glass fibers a plurality of times. Therefore, the productivity of the printed circuit board is significantly reduced.
(2) As a fluororesin, polytetrafluoroethylene (PTFE) having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent is often used. However, since PTFE has low adhesion to metal, when plating is performed on the through hole of the electrical insulator layer, the plating does not adhere to the through hole or the plating is easily peeled off from the through hole. This problem causes a conduction failure in the through hole.

(3)スルーホールへのメッキの密着性を高めるためには、プリプレグに無機微粒子を含有させることが知られている(特許文献2)。しかし、無機微粒子の誘電率はフッ素樹脂よりも高いため、無機微粒子を添加しつつ、低誘電率を維持するためには、ガラス繊維の織布の量を減らし、フッ素樹脂の含浸率を維持する必要がある。そのため、電気絶縁体層の熱膨張係数(CTE)が高くなり、かつ機械的強度(弾性率等。)が低くなる。
特開2002−158415号公報 特開2005−276926号公報
(3) In order to improve the adhesion of the plating to the through hole, it is known that the prepreg contains inorganic fine particles (Patent Document 2). However, since the dielectric constant of inorganic fine particles is higher than that of fluororesin, in order to maintain a low dielectric constant while adding inorganic fine particles, the amount of woven fabric of glass fiber is reduced and the impregnation rate of fluororesin is maintained. There is a need. Therefore, the coefficient of thermal expansion (CTE) of the electrical insulator layer is increased, and the mechanical strength (such as elastic modulus) is decreased.
JP 2002-158415 A JP 2005-276926 A

本発明は、誘電率および誘電正接が低く、金属との密着性が高く、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高いガラス繊維強化複合材料;該ガラス繊維強化複合材料を生産性よく製造できる製造方法;信号伝送速度が速く、伝送損失が低く、導電体層およびメッキの剥離が抑えられ、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高いプリント回路基板を提供する。   The present invention is a glass fiber reinforced composite material having a low dielectric constant and dielectric loss tangent, high adhesion to metal, low thermal expansion coefficient, and high mechanical strength; the glass fiber reinforced composite material can be produced with high productivity. Manufacturing method: Provided is a printed circuit board having a high signal transmission speed, low transmission loss, suppression of peeling of a conductor layer and plating, a low thermal expansion coefficient, and a high mechanical strength.

本発明のプリント回路基板は、下記含フッ素共重合体(F)とガラス繊維(G)とを含有するガラス繊維強化複合材料からなる電気絶縁体層(A)と、該電気絶縁体層(A)に直接接する導電体層(B)とを有することを特徴とする。
テトラフルオロエチレンおよび/またはクロロトリフルオロエチレンに基づく繰返し単位(a)と、フッ素モノマー(ただし、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンを除く。)に基づく繰返し単位(b)と、酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマーに基づく繰返し単位(c)とを有し、前記繰返し単位(a)〜(c)の合計100モル%のうち、前記繰返し単位(a)が50〜99.89モル%であり、前記繰返し単位(b)が0.1〜49.99モル%であり、前記繰返し単位(c)が0.01〜5モル%である含フッ素共重合体(F)。
The printed circuit board of the present invention includes an electrical insulator layer (A) made of a glass fiber reinforced composite material containing the following fluorine-containing copolymer (F) and glass fiber (G), and the electrical insulator layer (A And a conductor layer (B) in direct contact with the substrate .
A repeating unit (a) based on tetrafluoroethylene and / or chlorotrifluoroethylene, a repeating unit (b) based on a fluorine monomer (excluding tetrafluoroethylene and chlorotrifluoroethylene), and an acid anhydride residue And a repeating unit (c) based on a monomer having a polymerizable unsaturated bond, and the repeating unit (a) is 50 to 99.% of the total 100 mol% of the repeating units (a) to (c). The fluorine-containing copolymer (F) which is 89 mol%, the said repeating unit (b) is 0.1-49.99 mol%, and the said repeating unit (c) is 0.01-5 mol%.

前記含フッ素共重合体(F)は、さらに非フッ素モノマー(ただし、酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマーを除く。)に基づく繰返し単位(d)を有し、前記繰返し単位(a)〜(c)の合計と前記繰返し単位(d)とのモル比(((a)+(b)+(c))/(d))は、100/5〜100/90であることが好ましい。
前記酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマーは、無水イタコン酸、無水シトラコン酸および5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物からなる群から選ばれる1種以上であることが好ましい。
The fluorine-containing copolymer (F) further has a repeating unit (d) based on a non-fluorine monomer (excluding a monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond), and the repeating unit The molar ratio (((a) + (b) + (c)) / (d)) of the sum of (a) to (c) and the repeating unit (d) is 100/5 to 100/90. It is preferable.
The monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond may be at least one selected from the group consisting of itaconic anhydride, citraconic anhydride and 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride. preferable.

本発明のプリント回路基板の製造方法は、前記含フッ素共重合体(F)のフィルムと、ガラス繊維(G)の布帛とを熱ラミネーション法により複合化することによって前記ガラス繊維強化複合材料を得ることを特徴とする。
熱ラミネーション時における前記含フッ素共重合体(F)の溶融粘度は、100〜10000Pa・sであることが好ましい。
In the method for producing a printed circuit board according to the present invention, the glass fiber reinforced composite material is obtained by combining the fluorine-containing copolymer (F) film and the glass fiber (G) fabric by a thermal lamination method. It is characterized by that.
The melt viscosity of the fluorine-containing copolymer (F) during thermal lamination is preferably 100 to 10,000 Pa · s.

発明のプリント回路基板においては、前記電気絶縁体層(A)の表面から1〜40μmの深さに、ガラス繊維(G)の一部または全部が存在することが好ましい。
前記ガラス繊維(G)は、たて糸およびよこ糸から構成されるガラスクロスであり、下式(I)によって求めた空隙率が0〜25%であることが好ましい。
空隙率={(t1−s1)×(t2−s2)}/(t1×t2)×100・・・(I)。
ただし、s1 は、前記たて糸の糸束断面幅の平均値(μm)であり、t1 は、前記たて糸の糸束間隔の平均値(μm)であり、s2 は、前記よこ糸の糸束断面幅の平均値(μm)であり、t2 は、前記よこ糸の糸束間隔の平均値(μm)である。
In the printed circuit board of this invention, it is preferable that a part or all of glass fiber (G) exists in the depth of 1-40 micrometers from the surface of the said electrical insulator layer (A).
The glass fiber (G) is a glass cloth composed of warp and weft, and the porosity determined by the following formula (I) is preferably 0 to 25%.
Porosity = {(t 1 −s 1 ) × (t 2 −s 2 )} / (t 1 × t 2 ) × 100 (I).
Here, s 1 is the average value (μm) of the cross-sectional width of the warp yarn bundle, t 1 is the average value (μm) of the warp yarn bundle interval, and s 2 is the weft yarn bundle. It is an average value (μm) of the cross-sectional width, and t 2 is an average value (μm) of the yarn bundle interval of the weft yarn.

本発明のガラス繊維強化複合材料は、誘電率および誘電正接が低く、金属との密着性が高く、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高い。
本発明のガラス繊維強化複合材料の製造方法によれば、誘電率および誘電正接が低く、金属との密着性が高く、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高いガラス繊維強化複合材料を生産性よく製造できる。
本発明のプリント回路基板は、信号伝送速度が速く、伝送損失が低く、導電体層およびメッキの剥離が抑えられ、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高い。
The glass fiber reinforced composite material of the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, high adhesion to metal, low thermal expansion coefficient, and high mechanical strength.
According to the method for producing a glass fiber reinforced composite material of the present invention, a glass fiber reinforced composite material having low dielectric constant and dielectric loss tangent, high adhesion to metal, low thermal expansion coefficient and high mechanical strength is produced. Can be manufactured with good performance.
The printed circuit board of the present invention has a high signal transmission speed, low transmission loss, suppression of peeling of the conductor layer and plating, a low thermal expansion coefficient, and high mechanical strength.

本明細書においては、式(1)で表される化合物を化合物(1)と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。   In the present specification, a compound represented by the formula (1) is referred to as a compound (1). The same applies to compounds represented by other formulas.

<ガラス繊維強化複合材料>
本発明のガラス繊維強化複合材料は、含フッ素共重合体(F)とガラス繊維(G)とを含有するものである。
図1は、本発明のガラス繊維強化複合材料の一例を示す断面図である。ガラス繊維強化複合材料10は、含フッ素共重合体(F)12と、含フッ素共重合体(F)12に埋設されたガラス繊維(G)14とを有して構成される。
<Glass fiber reinforced composite material>
The glass fiber reinforced composite material of the present invention contains a fluorine-containing copolymer (F) and glass fiber (G).
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the glass fiber reinforced composite material of the present invention. The glass fiber reinforced composite material 10 includes a fluorine-containing copolymer (F) 12 and glass fibers (G) 14 embedded in the fluorine-containing copolymer (F) 12.

(含フッ素共重合体(F))
含フッ素共重合体(F)は、下記繰返し単位(a)〜(c)を有する。含フッ素共重合体(F)は、下記繰返し単位(d)を有していてもよい。
(a)テトラフルオロエチレン(以下、TFEと記す。)および/またはクロロトリフルオロエチレン(以下、CTFEと記す。)に基づく繰返し単位、
(b)フッ素モノマー(ただし、TFEおよびCTFEを除く。)に基づく繰返し単位、
(c)酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマー(以下、AMモノマーと記す。)に基づく繰返し単位、
(d)非フッ素モノマー(ただし、AMモノマーを除く。)に基づく繰返し単位。
(Fluorine-containing copolymer (F))
The fluorine-containing copolymer (F) has the following repeating units (a) to (c). The fluorine-containing copolymer (F) may have the following repeating unit (d).
(A) a repeating unit based on tetrafluoroethylene (hereinafter referred to as TFE) and / or chlorotrifluoroethylene (hereinafter referred to as CTFE),
(B) a repeating unit based on a fluorine monomer (excluding TFE and CTFE),
(C) a repeating unit based on a monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond (hereinafter referred to as AM monomer);
(D) Repeating units based on non-fluorine monomers (excluding AM monomers).

フッ素モノマーとしては、以下の化合物が挙げられる。
フルオロオレフィン:フッ化ビニル、フッ化ビニリデン(以下、VdFと記す。)、トリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン(以下、HFPと記す。)等、
CF2=CFOR1 ・・・(1)、
CF2=CFOR2SO21 ・・・(2)、
CF2=CFOR3CO22 ・・・(3)、
CF2=CF(CF2pOCF=CF2 ・・・(4)、
CH2=CX3(CF2q4 ・・・(5)、
ペルフルオロ(4−メチル−1,3−ジオキソール)、
ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)等。
Examples of the fluorine monomer include the following compounds.
Fluoroolefin: vinyl fluoride, vinylidene fluoride (hereinafter referred to as VdF), trifluoroethylene, hexafluoropropylene (hereinafter referred to as HFP), etc.
CF 2 = CFOR 1 (1),
CF 2 = CFOR 2 SO 2 X 1 (2),
CF 2 = CFOR 3 CO 2 X 2 (3),
CF 2 = CF (CF 2 ) p OCF = CF 2 (4),
CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 (5),
Perfluoro (4-methyl-1,3-dioxole),
Perfluoro (2,2-dimethyl-1,3-dioxole) and the like.

ただし、R1 は、酸素原子を含んでもよい炭素原子数1〜10のペルフルオロアルキル基を示し、
2 は、炭素原子間に酸素原子を含んでもよい炭素原子数1〜10のペルフルオロアルキレン基を示し、X1 は、ハロゲン原子または水酸基を示し、
3 は、炭素原子間に酸素原子を含んでもよい炭素原子数1〜10のペルフルオロアルキレン基を示し、X2 は、水素原子または炭素数3以下のアルキル基を示し、
pは1または2を示し、
3 は、水素原子またはフッ素原子を示し、qは、2〜10の整数を示し、X4 は、水素原子またはフッ素原子を示す。
However, R 1 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may atoms contain an oxygen atom,
R 2 represents a C 1-10 perfluoroalkylene group which may contain an oxygen atom between carbon atoms, X 1 represents a halogen atom or a hydroxyl group,
R 3 represents a C 1-10 perfluoroalkylene group which may contain an oxygen atom between carbon atoms, X 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms,
p represents 1 or 2,
X 3 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, q represents an integer of 2 to 10, and X 4 represents a hydrogen atom or a fluorine atom.

フッ素モノマーとしては、VdF、HFP、化合物(1)、または化合物(5)が好ましく、化合物(1)または化合物(5)がより好ましい。
化合物(1)としては、以下の化合物が挙げられる。
CF2=CFOCF2CF3 ・・・(1−1)、
CF2=CFOCF2CF2CF3 ・・・(1−2)、
CF2=CFOCF2CF2CF2CF3 ・・・(1−3)、
CF2=CFO(CF28F ・・・(1−4)等。
化合物(1)としては、化合物(1−2)が好ましい。
As a fluorine monomer, VdF, HFP, a compound (1), or a compound (5) is preferable, and a compound (1) or a compound (5) is more preferable.
Examples of the compound (1) include the following compounds.
CF 2 = CFOCF 2 CF 3 (1-1),
CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 (1-2),
CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 2 CF 3 (1-3),
CF 2 = CFO (CF 2 ) 8 F (1-4) and the like.
As the compound (1), the compound (1-2) is preferable.

化合物(5)としては、以下の化合物が挙げられる。
CH2=CH(CF22F ・・・(5−1)、
CH2=CH(CF23F ・・・(5−2)、
CH2=CH(CF24F ・・・(5−3)、
CH2=CF(CF23H ・・・(5−4)、
CH2=CF(CF24H ・・・(5−5)等。
化合物(5)としては、化合物(5−1)または化合物(5−3)が好ましい。
Examples of the compound (5) include the following compounds.
CH 2 = CH (CF 2 ) 2 F (5-1),
CH 2 = CH (CF 2 ) 3 F (5-2),
CH 2 = CH (CF 2) 4 F ··· (5-3),
CH 2 = CF (CF 2 ) 3 H (5-4),
CH 2 = CF (CF 2 ) 4 H (5-5) and the like.
As the compound (5), the compound (5-1) or the compound (5-3) is preferable.

AMモノマーとしては、無水イタコン酸(以下、IAHと記す。)、無水シトラコン酸(以下、CAHと記す。)、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物(以下、NAHと記す。)、無水マレイン酸等が挙げられ、無水マレイン酸を用いた場合に必要となる特殊な重合方法(特開平11−193312号を参照。)を用いることなく、酸無水物残基を有する含フッ素共重合体を容易に製造できる点から、IAH、CAH、またはNAHが好ましく、IAHまたはCAHがより好ましい。
含フッ素共重合体(F)には、AMモノマーが加水分解した、イタコン酸、シトラコン酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、マレイン酸等のジカルボン酸に基づく繰返し単位を有していてもよい。該ジカルボン酸に基づく繰返し単位を有する場合、繰返し単位(c)の量は、AMモノマーに基づく繰返し単位とジカルボン酸に基づく繰返し単位との合計量とする。
As the AM monomer, itaconic anhydride (hereinafter referred to as IAH), citraconic anhydride (hereinafter referred to as CAH), 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride (hereinafter referred to as NAH), Fluorine-containing copolymer having an acid anhydride residue without using a special polymerization method (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-193132) required when maleic anhydride is used. IAH, CAH, or NAH is preferable, and IAH or CAH is more preferable from the viewpoint that the combined product can be easily produced.
The fluorine-containing copolymer (F) has repeating units based on dicarboxylic acids such as itaconic acid, citraconic acid, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, maleic acid, etc., which are hydrolyzed by AM monomers. Also good. When having a repeating unit based on the dicarboxylic acid, the amount of the repeating unit (c) is the total amount of the repeating unit based on the AM monomer and the repeating unit based on the dicarboxylic acid.

非フッ素モノマーとしては、以下の化合物が挙げられる。
炭素数3以下のオレフィン:エチレン(以下、Eと記す。)、プロピレン(以下、Pと記す。)等、
ビニルエステル:酢酸ビニル(以下、VOAと記す。)等、
ビニルエーテル:エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等。
非フッ素モノマーとしては、E、P、またはVOAが好ましく、Eがより好ましい。
Examples of the non-fluorine monomer include the following compounds.
Olefin having 3 or less carbon atoms: ethylene (hereinafter referred to as E), propylene (hereinafter referred to as P), etc.
Vinyl ester: vinyl acetate (hereinafter referred to as VOA), etc.
Vinyl ether: ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.
As the non-fluorine monomer, E, P, or VOA is preferable, and E is more preferable.

繰返し単位(a)は、繰返し単位(a)〜(c)の合計100モル%のうち、50〜98.99モル%であり、50〜99.4モル%が好ましく、50〜98.9モル%がより好ましい。
繰返し単位(b)は、繰返し単位(a)〜(c)の合計100モル%のうち、0.1〜49.99モル%であり、0.5〜49.9モル%が好ましく、1〜49.9モル%がより好ましい。
繰返し単位(c)は、繰返し単位(a)〜(c)の合計100モル%のうち、0.01〜5モル%であり、0.1〜3モル%が好ましく、0.1〜2モル%がより好ましい。
繰返し単位(a)〜(c)が該範囲にあると、得られるガラス繊維強化複合材料は耐熱性、耐薬品性に優れる。繰返し単位(b)が該範囲にあると、含フッ素共重合体(F)は成形性に優れ、耐ストレスクラック性等の機械的強度に優れる。繰返し単位(c)が該範囲にあると、得られるガラス繊維強化複合材料は、金属との密着性に優れる。
The repeating unit (a) is 50 to 99.99 mol%, preferably 50 to 99.4 mol%, and preferably 50 to 98.9 mol, out of a total of 100 mol% of the repeating units (a) to (c). % Is more preferable.
The repeating unit (b) is 0.1 to 49.99 mol%, preferably 0.5 to 49.9 mol%, out of a total of 100 mol% of the repeating units (a) to (c). 49.9 mol% is more preferable.
The repeating unit (c) is 0.01 to 5 mol%, preferably 0.1 to 3 mol%, preferably 0.1 to 2 mol, out of a total of 100 mol% of the repeating units (a) to (c). % Is more preferable.
When the repeating units (a) to (c) are in this range, the obtained glass fiber reinforced composite material is excellent in heat resistance and chemical resistance. When the repeating unit (b) is in this range, the fluorine-containing copolymer (F) is excellent in moldability and excellent in mechanical strength such as stress crack resistance. When the repeating unit (c) is in this range, the obtained glass fiber reinforced composite material is excellent in adhesion to metal.

繰返し単位(a)〜(c)の合計は、含フッ素共重合体(F)を構成する全繰返し単位のうち、60モル%以上が好ましく、65モル%以上がより好ましく、68モル%以上が特に好ましい。
繰返し単位(d)を有する場合、繰返し単位(a)〜(c)の合計と繰返し単位(d)とのモル比(((a)+(b)+(c))/(d))は、100/5〜100/90が好ましく、100/5〜100/80がより好ましく、100/10〜100/66が特に好ましい。
各繰返し単位の割合は、溶融NMR分析、フッ素含有量分析および赤外吸収スペクトル分析の結果から公知の方法によって求める。
The total of repeating units (a) to (c) is preferably 60 mol% or more, more preferably 65 mol% or more, and 68 mol% or more of all repeating units constituting the fluorinated copolymer (F). Particularly preferred.
When the repeating unit (d) is included, the molar ratio (((a) + (b) + (c)) / (d)) of the total of the repeating units (a) to (c) and the repeating unit (d) is 100/5 to 100/90 are preferable, 100/5 to 100/80 are more preferable, and 100/10 to 100/66 is particularly preferable.
The ratio of each repeating unit is determined by a known method from the results of melt NMR analysis, fluorine content analysis, and infrared absorption spectrum analysis.

含フッ素共重合体(F)としては、以下の共重合体が好ましい。
TFE/化合物(1−2)/IAH共重合体、
TFE/化合物(1−2)/CAH共重合体、
TFE/HFP/IAH共重合体、
TFE/HFP/CAH共重合体、
TFE/VdF/IAH共重合体、
TFE/VdF/CAH共重合体、
TFE/化合物(5−3)/IAH/E共重合体、
TFE/化合物(5−3)/CAH/E共重合体、
TFE/化合物(5−1)/IAH/E共重合体、
TFE/化合物(5−1)/CAH/E共重合体、
CTFE/化合物(5−3)/IAH/E共重合体、
CTFE/化合物(5−3)/CAH/E共重合体、
CTFE/化合物(5−1)/IAH/E共重合体、
CTFE/化合物(5−3)/CAH/E共重合体。
As the fluorine-containing copolymer (F), the following copolymers are preferable.
TFE / compound (1-2) / IAH copolymer,
TFE / compound (1-2) / CAH copolymer,
TFE / HFP / IAH copolymer,
TFE / HFP / CAH copolymer,
TFE / VdF / IAH copolymer,
TFE / VdF / CAH copolymer,
TFE / compound (5-3) / IAH / E copolymer,
TFE / compound (5-3) / CAH / E copolymer,
TFE / compound (5-1) / IAH / E copolymer,
TFE / compound (5-1) / CAH / E copolymer,
CTFE / compound (5-3) / IAH / E copolymer,
CTFE / compound (5-3) / CAH / E copolymer,
CTFE / compound (5-1) / IAH / E copolymer,
CTFE / compound (5-3) / CAH / E copolymer.

含フッ素共重合体(F)は、ガラス繊維強化複合材料と金属との密着性の点から、高分子末端基として、エステル基、カーボネート基、水酸基、カルボキシル基、カルボニルフルオリド基、酸無水物等の官能基を有していてもよい。該高分子末端基は、含フッ素共重合体(F)の製造時に用いられる、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤等を適宜選定することにより導入できる。   The fluorine-containing copolymer (F) is an ester group, a carbonate group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a carbonyl fluoride group, an acid anhydride as a polymer end group from the viewpoint of adhesion between the glass fiber reinforced composite material and the metal. It may have a functional group such as The polymer end group can be introduced by appropriately selecting a radical polymerization initiator, a chain transfer agent and the like used in the production of the fluorine-containing copolymer (F).

含フッ素共重合体(F)の製造方法としては、ラジカル重合開始剤を用いて各モノマーを重合する方法が挙げられる。
重合法としては、塊状重合法;フッ化炭化水素、塩化炭化水素、フッ化塩化炭化水素、アルコール、炭化水素等の有機溶媒を用いる溶液重合法;水性媒体および必要に応じて適当な有機溶剤を用いる懸濁重合法;水性媒体および乳化剤を用いる乳化重合法が挙げられ、溶液重合法が特に好ましい。
As a manufacturing method of a fluorine-containing copolymer (F), the method of superposing | polymerizing each monomer using a radical polymerization initiator is mentioned.
As the polymerization method, a bulk polymerization method; a solution polymerization method using an organic solvent such as fluorinated hydrocarbon, chlorinated hydrocarbon, fluorinated chlorohydrocarbon, alcohol, hydrocarbon; an aqueous medium and an appropriate organic solvent as required Suspension polymerization method used; emulsion polymerization method using an aqueous medium and an emulsifier can be mentioned, and solution polymerization method is particularly preferable.

ラジカル重合開始剤としては、半減期が10時間となる温度が0〜100℃であるラジカル重合開始剤が好ましく、該温度が20〜90℃であるラジカル重合開始剤がより好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、以下の化合物が挙げられる。
アゾ化合物:アゾビスイソブチロニトリル等、
非フッ素系ジアシルペルオキシド:イソブチリルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等、
ペルオキシジカーボネート:ジイソプロピルペルオキシジカ−ボネート等、
ペルオキシエステル:tert−ブチルペルオキシピバレート、tert−ブチルペルオキシイソブチレート、tert−ブチルペルオキシアセテート等、
含フッ素ジアシルペルオキシド:化合物(6)等、
無機過酸化物:過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等。
(Z(CF2rCOO)2 ・・・(6)。
ただし、Zは、水素原子、フッ素原子または塩素原子を示し、rは、1〜10の整数を示す。
The radical polymerization initiator is preferably a radical polymerization initiator having a half-life of 10 hours at a temperature of 0 to 100 ° C., more preferably a radical polymerization initiator having a temperature of 20 to 90 ° C.
Examples of the radical polymerization initiator include the following compounds.
Azo compound: azobisisobutyronitrile, etc.
Non-fluorinated diacyl peroxide: isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, etc.
Peroxydicarbonate: Diisopropyl peroxydicarbonate, etc.
Peroxy ester: tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyisobutyrate, tert-butyl peroxyacetate, etc.
Fluorine-containing diacyl peroxide: Compound (6), etc.
Inorganic peroxide: potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate and the like.
(Z (CF 2 ) r COO) 2 (6).
However, Z shows a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, r shows the integer of 1-10.

含フッ素共重合体(F)の溶融粘度を制御するために、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、以下の化合物が挙げられる。
アルコール:メタノール、エタノール等、
クロロフルオロハイドロカーボン:1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン等、
ハイドロカーボン:ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等、
前記官能基を有する連鎖移動剤:酢酸、無水酢酸、酢酸メチル、エチレングリコール、プロピレングリコール等。
連鎖移動剤としては、高分子末端基に官能基が導入されることにより含フッ素共重合体(F)と金属との密着性が向上する点から、官能基を有する連鎖移動剤が好ましい。
In order to control the melt viscosity of the fluorinated copolymer (F), a chain transfer agent may be used. Examples of the chain transfer agent include the following compounds.
Alcohol: methanol, ethanol, etc.
Chlorofluorohydrocarbon: 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane, 1,1-dichloro-1-fluoroethane, etc.
Hydrocarbon: pentane, hexane, cyclohexane, etc.
Chain transfer agent having the functional group: acetic acid, acetic anhydride, methyl acetate, ethylene glycol, propylene glycol and the like.
As the chain transfer agent, a chain transfer agent having a functional group is preferable from the viewpoint that adhesion between the fluorine-containing copolymer (F) and the metal is improved by introducing the functional group into the polymer terminal group.

重合温度は、0〜100℃が好ましく、20〜90℃がより好ましい。
重合圧力は、0.1〜10MPaが好ましく、0.5〜3MPaがより好ましい。
重合時間は、1〜30時間が好ましい。
AMモノマーの濃度は、全モノマー100モル%のうち、0.01〜5モル%が好ましく、0.1〜3モル%がより好ましく、0.1〜1モル%が特に好ましい。AMモノマーの濃度が該範囲にあると、重合速度が適度で、かつ得られる含フッ素共重合体(F)の接着性が良好となる。AMモノマーの濃度が高すぎると、重合速度が低下する傾向が見られる。重合中、AMモノマーが重合で消費されるにしたがって、消費された量を連続的または断続的に供給し、AMモノマーの濃度を該範囲に維持することが好ましい。
The polymerization temperature is preferably 0 to 100 ° C, and more preferably 20 to 90 ° C.
The polymerization pressure is preferably from 0.1 to 10 MPa, more preferably from 0.5 to 3 MPa.
The polymerization time is preferably 1 to 30 hours.
The concentration of the AM monomer is preferably from 0.01 to 5 mol%, more preferably from 0.1 to 3 mol%, particularly preferably from 0.1 to 1 mol%, based on 100 mol% of all monomers. When the concentration of the AM monomer is within this range, the polymerization rate is moderate, and the resulting fluorine-containing copolymer (F) has good adhesion. When the concentration of the AM monomer is too high, the polymerization rate tends to decrease. During the polymerization, it is preferred to supply the consumed amount continuously or intermittently as the AM monomer is consumed in the polymerization, and to maintain the AM monomer concentration in this range.

(ガラス繊維(G))
ガラス繊維(G)としては、織布(ガラスクロス等。)、ガラス不織布等の布帛等が挙げられ、熱膨張係数の低減効果が高い点から、布帛が好ましく、ガラスクロスが特に好ましい。
ガラス繊維(G)の材料としては、Eガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Dガラス、NEガラス、Tガラス、クオーツ、低誘電率ガラス、高誘電率ガラス等が挙げられ、入手が容易である点から、Eガラス、Sガラス、Tガラス、NEガラスが好ましい。
(Glass fiber (G))
Examples of the glass fiber (G) include fabrics such as woven fabrics (glass cloth, etc.) and glass nonwoven fabrics, and fabrics are preferred, and glass cloths are particularly preferred from the viewpoint of a high effect of reducing the thermal expansion coefficient.
Examples of the glass fiber (G) material include E glass, C glass, A glass, S glass, D glass, NE glass, T glass, quartz, low dielectric constant glass, and high dielectric constant glass. Therefore, E glass, S glass, T glass, and NE glass are preferable.

ガラス繊維(G)は、含フッ素共重合体(F)との密着性が向上し、その結果、機械的強度、耐熱性、スルーホール信頼性が良好となる点から、シランカップリング剤等の公知の表面処理剤で表面処理されていてもよい。
ガラス繊維(G)の量は、含フッ素共重合体(F)100質量部に対して、1〜90質量部が好ましく、2〜80質量部がより好ましく、5〜60質量部が特に好ましい、ガラス繊維(G)の量が該範囲であれば、成形が容易で、かつ耐熱性を維持できる。
The glass fiber (G) has improved adhesion to the fluorinated copolymer (F), and as a result, the mechanical strength, heat resistance, and through-hole reliability are improved, such as a silane coupling agent. The surface treatment may be performed with a known surface treatment agent.
The amount of the glass fiber (G) is preferably 1 to 90 parts by mass, more preferably 2 to 80 parts by mass, and particularly preferably 5 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the fluorinated copolymer (F). If the amount of glass fiber (G) is within this range, molding is easy and heat resistance can be maintained.

(無機フィラー)
ガラス繊維強化複合材料は、必要に応じて、低誘電率および低誘電正接の無機フィラーを含有していてもよい。
無機フィラーとしては、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、珪藻土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化錫、酸化アンチモン、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、ドーソナイト、ハイドロタルサイト、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト、活性白土、セピオライト、イモゴライト、セリサイト、ガラスビーズ、シリカ系バルーン、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、グラファイト、炭素繊維、ガラスバルーン、炭素バルーン、木粉、ホウ酸亜鉛等が挙げられる。無機フィラーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Inorganic filler)
The glass fiber reinforced composite material may contain an inorganic filler having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent as necessary.
Inorganic fillers include silica, clay, talc, calcium carbonate, mica, diatomaceous earth, alumina, zinc oxide, titanium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, iron oxide, tin oxide, antimony oxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, water Aluminum oxide, basic magnesium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, barium carbonate, dosonite, hydrotalcite, calcium sulfate, barium sulfate, calcium silicate, montmorillonite, bentonite, activated clay, sepiolite, imogolite, sericite, glass beads, silica Balloons, carbon black, carbon nanotubes, carbon nanohorns, graphite, carbon fibers, glass balloons, carbon balloons, wood powder, zinc borate and the like. An inorganic filler may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

無機フィラーとしては、ガラス繊維強化複合材料の誘電率および誘電正接が低くなる点から、多孔質の無機フィラーが好ましい。
無機フィラーとしては、含フッ素共重合体(F)への分散性が向上する点から、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等の表面処理剤で表面処理されていてもよい。
無機フィラーの量は、含フッ素共重合体(F)100質量部に対して、100質量部以下が好ましく、60質量部以下がより好ましい。
As the inorganic filler, a porous inorganic filler is preferable because the dielectric constant and dielectric loss tangent of the glass fiber reinforced composite material are lowered.
The inorganic filler may be surface-treated with a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent from the viewpoint of improving dispersibility in the fluorine-containing copolymer (F).
100 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of fluorine-containing copolymers (F), and, as for the quantity of an inorganic filler, 60 mass parts or less are more preferable.

(フッ素樹脂繊維、フッ素樹脂微粒子)
ガラス繊維強化複合材料は、必要に応じて、フッ素樹脂繊維および/またはフッ素樹脂微粒子を含有していてもよい。
フッ素樹脂繊維またはフッ素樹脂微粒子の材料としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン/ペルフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン/クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン/ペルフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(EPE)等が挙げられ、比誘電率および誘電正接が低く、耐熱性および耐薬品性に優れている点から、PTFE、PFA、FEPが好ましい。
フッ素樹脂繊維は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
(Fluororesin fiber, fluororesin fine particles)
The glass fiber reinforced composite material may contain fluororesin fibers and / or fluororesin fine particles as necessary.
Examples of fluororesin fibers or fluororesin fine particles include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), and polychloro. Trifluoroethylene (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene / chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene / perfluoroalkyl vinyl ether Examples thereof include copolymers (EPE), and PTFE, PFA, and FEP are preferred from the viewpoints of low dielectric constant and dielectric loss tangent, and excellent heat resistance and chemical resistance.
A fluororesin fiber may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

フッ素樹脂繊維の直径は、40μm以下が好ましい。フッ素樹脂繊維の長さは、10mm以下が好ましい。フッ素樹脂繊維の直径および長さが上限を超えると、薄いフィルムを作製しにくくなる。
フッ素樹脂微粒子の粒子径は、40μm以下が好ましい。フッ素樹脂微粒子の粒子径が上限を超えると、薄いフィルムを作製しにくくなる。
フッ素樹脂繊維は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、フッ素樹脂微粒子は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
フッ素樹脂繊維およびフッ素樹脂微粒子の合計量は、含フッ素共重合体(F)100質量部に対して、70質量部以下が好ましい。
The diameter of the fluororesin fiber is preferably 40 μm or less. The length of the fluororesin fiber is preferably 10 mm or less. When the diameter and length of the fluororesin fibers exceed the upper limit, it becomes difficult to produce a thin film.
The particle diameter of the fluororesin fine particles is preferably 40 μm or less. When the particle diameter of the fluororesin fine particles exceeds the upper limit, it becomes difficult to produce a thin film.
A fluororesin fiber may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Moreover, fluororesin fine particles may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
The total amount of the fluororesin fibers and the fluororesin fine particles is preferably 70 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the fluorocopolymer (F).

<ガラス繊維強化複合材料の製造方法>
ガラス繊維強化複合材料の製造方法としては、以下の方法が挙げられる。
(i)あらかじめ成形された含フッ素共重合体(F)のフィルムと、ガラス繊維(G)の布帛とを加熱下で複合化する熱ラミネーション法。
(ii)ダイス等から押し出された含フッ素共重合体(F)の溶融樹脂と、ガラス繊維(G)の布帛とを複合化する押出ラミネーション法。
(iii)含フッ素共重合体(F)微粒子を分散した溶液中にガラス繊維(G)の布帛を浸漬し、ついで取り出す含浸工程の後、乾燥工程を経て複合化する含浸法。
ガラス繊維強化複合材料の製造方法としては、(i)または(ii)の方法が好ましく、製造設備をより簡素化でき、生産性がより高いという点から、(i)の方法がより好ましい。
<Method for producing glass fiber reinforced composite material>
The following method is mentioned as a manufacturing method of a glass fiber reinforced composite material.
(I) A thermal lamination method in which a pre-formed film of a fluorinated copolymer (F) and a glass fiber (G) fabric are combined under heating.
(Ii) An extrusion lamination method in which a molten resin of the fluorine-containing copolymer (F) extruded from a die or the like and a glass fiber (G) fabric are combined.
(Iii) An impregnation method in which a glass fiber (G) fabric is immersed in a solution in which the fluorinated copolymer (F) fine particles are dispersed, and then taken out and then combined through a drying step.
As a method for producing a glass fiber reinforced composite material, the method (i) or (ii) is preferred, and the method (i) is more preferred because the production equipment can be simplified and the productivity is higher.

ガラス繊維(G)の布帛への含フッ素共重合体(F)の含浸性を上げるためには、含フッ素共重合体(F)の溶融粘度を適切な範囲に調整すればよい。
(i)の方法における含フッ素共重合体(F)の溶融粘度は、熱ラミネーション時の温度において100〜10000Pa・sが好ましく、300〜8000Pa・sがより好ましく、500〜6000Pa・sが特に好ましい。溶融粘度を100Pa・s以上とすることにより、ガラス繊維(G)の布帛への含フッ素共重合体(F)の含浸性が良好となる。溶融粘度を10000Pa・s以下とすることにより、含フッ素共重合体(F)の機械的強度が良好となる。
溶融粘度は、フローテスタ(たとえば、島津製作所社製。)を用い、圧力0.98MPa、熱ラミネーション時の温度の条件下、内径1mmφ、長さ2mmのオリフィスにて測定する。
In order to increase the impregnation property of the fluorine-containing copolymer (F) into the glass fiber (G) fabric, the melt viscosity of the fluorine-containing copolymer (F) may be adjusted to an appropriate range.
The melt viscosity of the fluorinated copolymer (F) in the method (i) is preferably 100 to 10000 Pa · s, more preferably 300 to 8000 Pa · s, and particularly preferably 500 to 6000 Pa · s at the temperature during thermal lamination. . By setting the melt viscosity to 100 Pa · s or more, the impregnation property of the fluorocopolymer (F) into the fabric of the glass fiber (G) is improved. By setting the melt viscosity to 10000 Pa · s or less, the mechanical strength of the fluorinated copolymer (F) is improved.
The melt viscosity is measured using a flow tester (for example, manufactured by Shimadzu Corporation) with an orifice having an inner diameter of 1 mmφ and a length of 2 mm under conditions of a pressure of 0.98 MPa and a temperature during thermal lamination.

(i)の方法において、含フッ素共重合体(F)の溶融粘度が適切な範囲となる熱ラミネーション時の温度は、含フッ素共重合体(F)の融点より20〜100℃高い温度が好ましく、含フッ素共重合体(F)の融点より30〜70℃高い温度がより好ましい。
(ii)の方法において、含フッ素共重合体(F)の溶融粘度が適切な範囲となるダイス温度は、含フッ素共重合体(F)の融点より30〜100℃高い温度が好ましく、含フッ素共重合体(F)の融点より40〜70℃高い温度がより好ましい。
融点は、DSC装置(たとえば、セイコー電子社製)を用い、JIS K7122に準拠した方法で測定する。
In the method (i), the temperature during thermal lamination at which the melt viscosity of the fluorinated copolymer (F) is in an appropriate range is preferably 20 to 100 ° C. higher than the melting point of the fluorinated copolymer (F). A temperature 30 to 70 ° C. higher than the melting point of the fluorinated copolymer (F) is more preferable.
In the method (ii), the die temperature at which the melt viscosity of the fluorine-containing copolymer (F) is within an appropriate range is preferably 30 to 100 ° C. higher than the melting point of the fluorine-containing copolymer (F). A temperature 40 to 70 ° C. higher than the melting point of the copolymer (F) is more preferable.
The melting point is measured using a DSC apparatus (for example, manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.) by a method based on JIS K7122.

<プリント回路基板>
本発明のプリント回路基板は、本発明のガラス繊維強化複合材料からなる電気絶縁体層(A)と、該電気絶縁体層(A)に直接接する導電体層(B)とを有するものである。
図2は、本発明のプリント回路基板の一例を示す断面図である。プリント回路基板20は、ガラス繊維強化複合材料10からなる電気絶縁体層(A)22と、電気絶縁体層(A)22の両面に設けられた導電体層(B)24とを有して構成される。
<Printed circuit board>
The printed circuit board of the present invention has an electrical insulator layer (A) made of the glass fiber reinforced composite material of the present invention and a conductor layer (B) in direct contact with the electrical insulator layer (A). .
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the printed circuit board of the present invention. The printed circuit board 20 includes an electrical insulator layer (A) 22 made of the glass fiber reinforced composite material 10 and a conductor layer (B) 24 provided on both surfaces of the electrical insulator layer (A) 22. Composed.

(電気絶縁体層(A))
電気絶縁体層(A)においては、該表面から1〜40μmの深さに、ガラス繊維(G)の一部または全部が存在することが好ましい。該範囲にガラス繊維(G)の一部または全部が存在することにより、プリント回路基板の耐熱性が良好となり、溶融はんだ等の熱による変形等を抑えることができる。
(Electric insulator layer (A))
In the electrical insulator layer (A), it is preferable that a part or all of the glass fiber (G) is present at a depth of 1 to 40 μm from the surface. When part or all of the glass fiber (G) is present in this range, the heat resistance of the printed circuit board is improved, and deformation due to heat of molten solder or the like can be suppressed.

ガラス繊維(G)としては、熱膨張係数の低減効果が高い点から、ガラスクロスが好ましい。
ガラスクロスは、通常、たて糸とよこ糸とが交互に浮沈している平織り構造であり、たて糸およびよこ糸としては撚り糸が用いられている。該ガラスクロスにおいては、たて糸とよこ糸とが重なっている部分、たて糸またはよこ糸のどちらか一方の糸が存在している部分、およびガラス糸のない部分(空隙部)の3種の状態が混在している。
ガラスクロスとしては、プリント回路基板の寸法安定性を高め、また、誘電特性の面内ばらつきを抑える点から、たて糸とよこ糸とが重なっている部分が多い、すなわち空隙部が少ないものが好ましい。
As the glass fiber (G), a glass cloth is preferable because the effect of reducing the thermal expansion coefficient is high.
The glass cloth has a plain weave structure in which warp yarns and weft yarns are alternately floated, and twisted yarns are used as warp yarns and weft yarns. In the glass cloth, there are three types of states: a portion where the warp yarn and the weft yarn overlap, a portion where one of the warp yarn and the weft yarn exists, and a portion where there is no glass yarn (gap portion). ing.
As the glass cloth, in order to increase the dimensional stability of the printed circuit board and to suppress the in-plane variation of the dielectric characteristics, a glass cloth having many overlapping portions of warp yarns and weft yarns, that is, a material having few voids is preferable.

空隙部の面積比率、すなわち空隙率は0〜25%が好ましく、0〜20%がより好ましく、0〜18%が特に好ましい。空隙率を該範囲とすることにより、高周波帯域の信号伝送を行う電子機器にプリント回路基板に用いた場合であっても、伝送損失の面内ばらつきが抑えられる。   The area ratio of the voids, that is, the void ratio is preferably 0 to 25%, more preferably 0 to 20%, and particularly preferably 0 to 18%. By setting the porosity to this range, even when the printed circuit board is used in an electronic device that performs high-frequency band signal transmission, in-plane variation in transmission loss can be suppressed.

空隙率は、以下のようにして求める。
図3に示すように、撚り糸の糸束断面幅sおよび糸束間隔tを、たて糸およびよこ糸について、それぞれ20箇所測定し、たて糸の糸束断面幅の平均値s1 (μm)、たて糸の糸束間隔の平均値t1 (μm)、よこ糸の糸束断面幅の平均値s2 (μm)、およびよこ糸の糸束間隔の平均値t2 (μm)を求め、下式(I)から空隙率を求める。
空隙率={(t1−s1)×(t2−s2)}/(t1×t2)×100・・・(I)。
The porosity is determined as follows.
As shown in FIG. 3, the yarn bundle cross-sectional width s and the yarn bundle interval t of the twisted yarn were measured at 20 points for the warp yarn and the weft yarn, respectively, and the average value s 1 (μm) of the warp yarn bundle cross-sectional width was determined. The average value t 1 (μm) of the bundle interval, the average value s 2 (μm) of the cross-sectional width of the weft yarn, and the average value t 2 (μm) of the weft yarn bundle interval are obtained. Find the rate.
Porosity = {(t 1 −s 1 ) × (t 2 −s 2 )} / (t 1 × t 2 ) × 100 (I).

電気絶縁体層(A)の厚さは、1層あたり、10〜500μmが好ましく、20〜300μmがより好ましい。厚さを10μm以上とすることにより、プリント回路基板が変形または折れ曲がりにくくなり、導電体層(B)が断線しにくくなる。厚さを500μm以下とすることにより、柔軟性がよく、また、積層した場合の全体の厚さが抑えられ、小型化および軽量化に対応できる。   10-500 micrometers is preferable per layer, and, as for the thickness of an electrical insulator layer (A), 20-300 micrometers is more preferable. By setting the thickness to 10 μm or more, the printed circuit board is hardly deformed or bent, and the conductor layer (B) is not easily disconnected. By setting the thickness to 500 μm or less, the flexibility is good and the total thickness when laminated is suppressed, and it is possible to cope with downsizing and weight reduction.

(導電体層(B))
導電体層(B)としては、電気抵抗が低い金属箔が好ましい。金属箔としては、銅、銀、金、アルミニウム等の金属からなる箔が挙げられる。金属は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。2種以上の金属の併用する場合、金属箔としては、金属メッキを施した金属箔が好ましく、金メッキを施した銅箔が特に好ましい。
導電体層(B)の厚さは、0.1〜100μmが好ましく、1〜50μmがより好ましく、1〜30μmが特に好ましい。
(Conductor layer (B))
As the conductor layer (B), a metal foil having a low electric resistance is preferable. Examples of the metal foil include foil made of metal such as copper, silver, gold, and aluminum. A metal may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. When two or more kinds of metals are used in combination, the metal foil is preferably a metal foil subjected to metal plating, and particularly preferably a copper foil subjected to gold plating.
The thickness of the conductor layer (B) is preferably from 0.1 to 100 μm, more preferably from 1 to 50 μm, particularly preferably from 1 to 30 μm.

導電体層(B)は、電気絶縁体層(A)と直接接する側の面(以下、粗化面と記す。)の表面粗さ(以下、Rzと記す。)が10μm以下のものが好ましい。導電体層(B)の粗化面のRzは、高周波帯域の信号伝送を行う際の表皮効果を低減する点から、0.1〜5μmが好ましく、0.1〜3μmがより好ましく、0.1〜2μmが特に好ましい。
Rzは、JIS B0601に準拠した方法で測定する。
導電体層(B)の粗化面とは反対側の表面には、防錆性を有するクロメート等の酸化物皮膜が形成されていてもよい。
The conductor layer (B) preferably has a surface roughness (hereinafter referred to as Rz) of 10 μm or less on the surface that is in direct contact with the electrical insulator layer (A) (hereinafter referred to as a roughened surface). . Rz on the roughened surface of the conductor layer (B) is preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.1 to 3 μm, in view of reducing the skin effect when performing signal transmission in a high frequency band. 1 to 2 μm is particularly preferable.
Rz is measured by a method based on JIS B0601.
An oxide film such as chromate having antirust property may be formed on the surface opposite to the roughened surface of the conductor layer (B).

本発明のプリント回路基板は、図示例の3層積層体(両面プリント回路基板)に限定はされず、電気絶縁体層(A)の片面のみに導電体層(B)が設けられた2層積層体(片面プリント回路基板)であってもよく、該2層積層体を複数積層した多層プリント回路基板であってもよく、該2層積層体等をビルドアップ層として、ベース基板の表面に単層または複数積層した多層プリント回路基板(ビルドアップ基板)であってもよい。   The printed circuit board of the present invention is not limited to the three-layer laminate (double-sided printed circuit board) shown in the illustrated example, and two layers in which the conductor layer (B) is provided only on one side of the electrical insulator layer (A). It may be a laminate (single-sided printed circuit board) or a multilayer printed circuit board in which a plurality of the two-layer laminates are laminated. The two-layer laminate or the like is used as a build-up layer on the surface of the base substrate. A multilayer printed circuit board (build-up board) in which a single layer or a plurality of layers are stacked may be used.

ビルドアップ基板に用いるベース基板には、含フッ素共重合体(F)以外の樹脂を含有する電気絶縁体層を用いてもよい。該電気絶縁体層としては、ガラス繊維等の無機繊維の織布;ポリエステル、ポリアミド、フッ素樹脂、木綿等の有機繊維の織布;紙等の補強材の複数枚をラミネート法等により公知の含フッ素共重合体と複合化した電気絶縁体層が挙げられ、PTFE等のフッ素樹脂と、ガラス繊維、シリカ繊維等の織布とを複合化した電気絶縁体層が好ましい。   An electric insulator layer containing a resin other than the fluorine-containing copolymer (F) may be used for the base substrate used for the build-up substrate. As the electrical insulator layer, a woven fabric of inorganic fibers such as glass fibers; a woven fabric of organic fibers such as polyester, polyamide, fluororesin, and cotton; An electrical insulator layer combined with a fluorocopolymer may be mentioned, and an electrical insulator layer formed by combining a fluororesin such as PTFE and a woven fabric such as glass fiber or silica fiber is preferable.

プリント回路基板の製造方法としては、圧縮成形法(プレス成形法)、ラミネート成形法等が挙げられる。プレス成形法の条件は以下の通りである。
プレス温度は200〜380℃が好ましく、250〜360℃がより好ましい。
プレス圧力は、0.3〜30MPaが好ましく、0.5〜20MPaがより好ましく、1〜15MPaが特に好ましい。
プレス時間は、3〜240分が好ましく、5〜120分がより好ましく、10〜80分が特に好ましい。
プレス成形に用いるプレス板としては、ステンレス鋼板が好ましい。
導電体層(B)からなる配線回路を形成する方法としては、導電体層(B)をエッチングする方法、電気絶縁体層(A)の表面をメッキ処理する方法等が挙げられる。
Examples of the method for producing a printed circuit board include a compression molding method (press molding method) and a laminate molding method. The conditions of the press molding method are as follows.
The press temperature is preferably 200 to 380 ° C, more preferably 250 to 360 ° C.
The press pressure is preferably 0.3 to 30 MPa, more preferably 0.5 to 20 MPa, and particularly preferably 1 to 15 MPa.
The pressing time is preferably 3 to 240 minutes, more preferably 5 to 120 minutes, and particularly preferably 10 to 80 minutes.
As a press plate used for press forming, a stainless steel plate is preferable.
Examples of a method for forming a wiring circuit composed of the conductor layer (B) include a method of etching the conductor layer (B), a method of plating the surface of the electrical insulator layer (A), and the like.

以上説明した本発明のガラス繊維強化複合材料にあっては、含フッ素共重合体(F)を含有するため、誘電率および誘電正接が低い。また、含フッ素共重合体(F)が特定の繰返し単位を特定の割合で有するため、金属との密着性が高い。また、金属との密着性が高いため、無機微粒子を添加する必要がなく、その結果、誘電率および誘電正接を低く維持しつつも、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高い。   The glass fiber reinforced composite material of the present invention described above has a low dielectric constant and dielectric loss tangent because it contains the fluorinated copolymer (F). Moreover, since a fluorine-containing copolymer (F) has a specific repeating unit in a specific ratio, adhesiveness with a metal is high. In addition, since the adhesiveness with the metal is high, it is not necessary to add inorganic fine particles, and as a result, the coefficient of thermal expansion is low and the mechanical strength is high while keeping the dielectric constant and dielectric loss tangent low.

また、以上説明した本発明のガラス繊維強化複合材料の製造方法にあっては、含フッ素共重合体(F)のフィルムと、ガラス繊維(G)の布帛とを熱ラミネーション法により複合化する方法であるため、従来のように、ガラス繊維の織布へのフッ素樹脂のディスパージョンの含浸を複数回繰り返す必要がなく、生産性が高い。また、ディスパージョンの廃液の処理も必要ない。   Moreover, in the manufacturing method of the glass fiber reinforced composite material of this invention demonstrated above, the method of compounding the film of a fluorine-containing copolymer (F), and the fabric of glass fiber (G) by the thermal lamination method. Therefore, it is not necessary to repeat the impregnation of the dispersion of the fluororesin into the glass fiber woven fabric a plurality of times as in the prior art, and the productivity is high. In addition, it is not necessary to treat the waste liquid of the dispersion.

また、以上説明した本発明のプリント回路基板にあっては、誘電率および誘電正接が低く、金属との密着性が高く、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高い本発明のガラス繊維強化複合材料からなる電気絶縁体層(A)を有するため、信号伝送速度が速く、伝送損失が低く、導電体層およびスルーホールにおけるメッキの剥離が抑えられ、熱膨張係数が低く、かつ機械的強度が高い。特に、スルーホールにおけるメッキとの密着性が良好であり、従来のPTFEを含有する電気絶縁体層を有するプリント回路基板に比べ、スルーホールの電気的信頼性が高い。   In the printed circuit board of the present invention described above, the glass fiber reinforced fiber of the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, high adhesion to metal, low thermal expansion coefficient, and high mechanical strength. Since it has an electrical insulator layer (A) made of a composite material, the signal transmission speed is high, the transmission loss is low, the peeling of the plating in the conductor layer and the through hole is suppressed, the thermal expansion coefficient is low, and the mechanical strength Is expensive. In particular, the adhesion to the plating in the through hole is good, and the electrical reliability of the through hole is higher than that of a printed circuit board having an electrical insulator layer containing conventional PTFE.

また、本発明のプリント回路基板において、電気絶縁体層(A)の表面から1〜40μmの深さに、ガラス繊維(G)の一部または全部が存在すれば、はんだに対する耐熱性を充分に発現できる。よって、はんだリフロー工程後にも配線回路の幅、長さ、形状およびインピーダンスを設計値の通りに保持し、プリント回路基板としての所定性能を長期間にわたって安定よく保持できる。   Further, in the printed circuit board of the present invention, if part or all of the glass fiber (G) is present at a depth of 1 to 40 μm from the surface of the electrical insulator layer (A), the heat resistance to the solder is sufficient. It can be expressed. Therefore, the width, length, shape and impedance of the wiring circuit can be maintained as designed values even after the solder reflow process, and the predetermined performance as a printed circuit board can be stably maintained over a long period of time.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
例1〜2は実施例であり、例3は比較例である。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.
Examples 1 and 2 are examples, and example 3 is a comparative example.

(各繰返し単位の割合)
含フッ素共重合体における各繰返し単位の割合を、溶融NMR分析、フッ素含有量分析および赤外吸収スペクトル分析から求めた。
(Rate of each repeating unit)
The ratio of each repeating unit in the fluorine-containing copolymer was determined from melt NMR analysis, fluorine content analysis, and infrared absorption spectrum analysis.

(赤外吸収スペクトル分析)
以下の赤外吸収スペクトル分析によって、含フッ素共重合体におけるIAHまたはCAHに基づく繰返し単位の割合を求めた。
含フッ素共重合体をプレス成形して200μmのフィルムを得た。赤外吸収スペクトルにおいて、含フッ素共重合体中のIAHまたはCAHに基づく繰返し単位におけるC=O伸縮振動の吸収ピークは、いずれも1870cm-1に現れる。該吸収ピークの吸光度を測定し、下式(II)からIAHまたはCAHに基づく繰返し単位の割合M(モル%)を求めた。
M=aL ・・・(II)。
ただし、Lは、1870cm-1における吸光度を示し、aは係数を示す。aは、IAHをモデル化合物として決定された数値(0.87)とした。
(Infrared absorption spectrum analysis)
The proportion of repeating units based on IAH or CAH in the fluorinated copolymer was determined by the following infrared absorption spectrum analysis.
The fluorine-containing copolymer was press-molded to obtain a 200 μm film. In the infrared absorption spectrum, the absorption peak of C═O stretching vibration in the repeating unit based on IAH or CAH in the fluorine-containing copolymer appears at 1870 cm −1 . The absorbance of the absorption peak was measured, and the ratio M (mol%) of repeating units based on IAH or CAH was determined from the following formula (II).
M = aL (II).
However, L shows the light absorbency in 1870 cm < -1 > and a shows a coefficient. a is a numerical value (0.87) determined using IAH as a model compound.

(融点)
含フッ素共重合体の融点を、セイコー電子社製のDSCを用い、JIS K7122に準拠した方法で測定した。
(Melting point)
The melting point of the fluorine-containing copolymer was measured by a method based on JIS K7122 using a DSC manufactured by Seiko Denshi.

(溶融粘度)
含フッ素共重合体のラミネーション時の温度における溶融粘度を、島津製作所社製のフローテスタを用い、圧力0.98MPa、熱ラミネーション時の温度の条件下、内径1mmφ、長さ2mmのオリフィスにて測定した。
(Melt viscosity)
The melt viscosity at the temperature of lamination of the fluorinated copolymer is measured with an orifice with an inner diameter of 1 mmφ and a length of 2 mm using a flow tester manufactured by Shimadzu Corporation under a pressure of 0.98 MPa and a temperature of thermal lamination. did.

(誘電率および誘電正接)
ガラス繊維強化複合材料を200mm×120mmの大きさに切断し、試験フィルムを作製した。該試験フィルムについて、誘電率測定装置(アジレント社製、ネットワークアナライザー4291Bおよび16453Aフィクスチャー)を用い、25℃にて1GHzにおける誘電率および誘電正接を測定した。
(Dielectric constant and dielectric loss tangent)
The glass fiber reinforced composite material was cut into a size of 200 mm × 120 mm to prepare a test film. The test film was measured for dielectric constant and dielectric loss tangent at 1 GHz at 25 ° C. using a dielectric constant measuring apparatus (manufactured by Agilent, network analyzer 4291B and 16453A fixture).

(熱膨張係数)
ガラス繊維強化複合材料の熱膨張係数を、TMA装置(セイコー電子社製、TMA120C)を用い、100℃から200℃まで10℃/分で昇温することで熱膨張係数を測定した。
(Coefficient of thermal expansion)
The thermal expansion coefficient of the glass fiber reinforced composite material was measured by raising the temperature from 100 ° C. to 200 ° C. at a rate of 10 ° C./min using a TMA device (manufactured by Seiko Denshi, TMA120C).

(弾性率)
ガラス繊維強化複合材料の弾性率を、DMA装置(セイコー電子社製、DMS200)を用いて、25℃、10Hzの条件で測定した。
(Elastic modulus)
The elastic modulus of the glass fiber reinforced composite material was measured under conditions of 25 ° C. and 10 Hz using a DMA device (DMS200 manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.).

(密着性)
プリント回路基板を長さ150mm、幅10mmの大きさに切断し、試験フィルムを作製した。試験フィルムの長さ方向の端から50mmの位置まで電気絶縁体層(A)と導電体層(B)とを剥離した。ついで、試験フィルムの長さ方向の端から50mmの位置を中央にして、引張り試験機を用いて、引張り速度50mmで180度剥離し、最大荷重を剥離強度(N/10mm)とした。剥離強度が大きいほど、密着性に優れることを示す。
(Adhesion)
The printed circuit board was cut into a length of 150 mm and a width of 10 mm to prepare a test film. The electrical insulator layer (A) and the conductor layer (B) were peeled from the end in the length direction of the test film to a position of 50 mm. Subsequently, the position of 50 mm from the end in the length direction of the test film was set at the center, and a tensile tester was used to peel 180 degrees at a pulling speed of 50 mm, and the maximum load was defined as peel strength (N / 10 mm). It shows that it is excellent in adhesiveness, so that peeling strength is large.

(耐熱性)
プリント回路基板の導電体層(B)をエッチングにより除去し、電気絶縁体層(A)を50mm×50mmの大きさに切断して試験片を作製した。該試験片を、プレッシャークッカーテスター(121℃、0.22MPa)中に1時間保持した後、260℃のはんだ中に20秒間浸漬して、外観を目視により観察した。ミーズリングおよびふくれの発生がないものを○(良好)、ミーズリングまたはふくれが発生したものを×(不良)と評価した。
(Heat-resistant)
The conductor layer (B) of the printed circuit board was removed by etching, and the electrical insulator layer (A) was cut into a size of 50 mm × 50 mm to prepare a test piece. The test piece was held in a pressure cooker tester (121 ° C., 0.22 MPa) for 1 hour, then immersed in 260 ° C. solder for 20 seconds, and the appearance was visually observed. A sample having no occurrence of measling and blistering was evaluated as ◯ (good), and a sample having measling or blistering was evaluated as x (defective).

(伝送損失)
伝送損失の測定には、インピーダンスZ=50Ωのマイクロストリップラインを用いた。マイクロストリップラインは、面実装部品の実装に適した構造を有し、かつ作製が容易であることから、伝送損失の測定に広く用いられている。図4は、マイクロストリップラインの一例を示す断面図であり、マイクロストリップライン30は、ガラス繊維強化複合材料10からなる電気絶縁体層(A)22と、電気絶縁体層(A)22の一方の面の導電体層(B)をエッチング加工した後、銅メッキすることにより形成されたマイクロストリップ線路32と、電気絶縁体層(A)22の他方の面の導電体層(B)からなるグランド層34とを有する。
(Transmission loss)
For measurement of transmission loss, a microstrip line with impedance Z = 50Ω was used. A microstrip line has a structure suitable for mounting surface-mounted components and is easy to manufacture, and is therefore widely used for measuring transmission loss. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a microstrip line. The microstrip line 30 includes one of an electrical insulator layer (A) 22 made of a glass fiber reinforced composite material 10 and an electrical insulator layer (A) 22. After etching the conductor layer (B) on the surface, the microstrip line 32 formed by copper plating and the conductor layer (B) on the other surface of the electrical insulator layer (A) 22 are formed. And a ground layer 34.

マイクロストリップ線路32の両端およびグランド層34をネットワークアナライザー(図示略)に接続し、マイクロストリップ線路32への入射波に対する透過量を測定し、下式(III)から5GHzにおける伝送損失を求めた。測定は、20回行い、平均値および標準偏差を求めた。
伝送損失(dB/mm)=|S21|/L ・・・(III)。
ただし、S21は、マイクロストリップ線路32への入射波に対する5GHzにおける透過量(dB)を示し、Lは、マイクロストリップ線路32の線路長L(mm)を示す。
Both ends of the microstrip line 32 and the ground layer 34 were connected to a network analyzer (not shown), the amount of transmission with respect to the incident wave to the microstrip line 32 was measured, and the transmission loss at 5 GHz was obtained from the following formula (III). The measurement was performed 20 times, and an average value and a standard deviation were obtained.
Transmission loss (dB / mm) = | S21 | / L (III).
However, S21 shows the transmission amount (dB) in 5 GHz with respect to the incident wave to the microstrip line 32, L shows the line length L (mm) of the microstrip line 32.

〔例1〕
撹拌機付き重合槽(内容積94L)を脱気し、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロヘキサン(旭硝子社製、AK225cb。以下、AK225cbと記す。)の80.5kg、メタノールの0.077kg、化合物(1−2)の6.8kgを仕込み、重合槽内を50℃に昇温し、TFEを圧力が0.38MPaになるまで仕込んだ。重合開始剤溶液として、0.25質量%のジ(ペルフルオロブチリル)ペルオキシドのAK225cb溶液の50mLを仕込み、重合を開始させた。重合中、圧力が一定になるようにTFEを連続的に仕込んだ。適宜、前記重合開始剤溶液を追加し、TFEの仕込み速度をほぼ一定に保った。重合開始剤溶液は合計で120mL仕込んだ。また、重合中に仕込む全TFE(100モル%)に対して0.5モル%に相当する量のIAHを連続的に仕込んだ。重合開始から6時間後、TFEの7.0kgを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで冷却するとともに、未反応TFEを放出した。
[Example 1]
The polymerization tank with a stirrer (internal volume 94 L) was degassed and 80 of 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluorohexane (Asahi Glass Co., Ltd., AK225cb; hereinafter referred to as AK225cb). 0.5 kg, 0.077 kg of methanol, and 6.8 kg of compound (1-2) were charged, the temperature in the polymerization tank was raised to 50 ° C., and TFE was charged until the pressure reached 0.38 MPa. As a polymerization initiator solution, 50 mL of an AK225cb solution of 0.25% by mass of di (perfluorobutyryl) peroxide was charged to initiate polymerization. During the polymerization, TFE was continuously charged so that the pressure was constant. As appropriate, the polymerization initiator solution was added to keep the TFE feed rate substantially constant. A total of 120 mL of the polymerization initiator solution was charged. Further, IAH in an amount corresponding to 0.5 mol% was continuously charged with respect to the total TFE (100 mol%) charged during the polymerization. Six hours after the start of polymerization, when 7.0 kg of TFE was charged, the inside of the polymerization tank was cooled to room temperature and unreacted TFE was released.

スラリ状の含フッ素共重合体を、水の75kgを仕込んだ造粒槽(内容積200L)に投入し、撹拌下105℃まで昇温して溶媒を留出除去しながら造粒した。得られた造粒物を150℃で5時間乾燥することにより、7.5kgの含フッ素共重合体1の造粒物を得た。
含フッ素共重合体1における各繰返し単位の割合は、TFEに基づく繰返し単位/化合物(1−2)に基づく繰返し単位/IAHに基づく繰返し単位=97.7/2.0/0.3(モル%)であった。含フッ素共重合体1の融点は292℃であり、340℃での溶融粘度は800Pa・sであった。
The slurry-like fluorine-containing copolymer was put into a granulation tank (internal volume 200 L) charged with 75 kg of water, and the temperature was raised to 105 ° C. with stirring to granulate while removing the solvent by distillation. The obtained granulated product was dried at 150 ° C. for 5 hours to obtain 7.5 kg of a fluorinated copolymer 1 granulated product.
The ratio of each repeating unit in the fluorinated copolymer 1 is as follows: repeating unit based on TFE / repeating unit based on compound (1-2) / repeating unit based on IAH = 97.7 / 2.0 / 0.3 (mol) %)Met. The melting point of the fluorinated copolymer 1 was 292 ° C., and the melt viscosity at 340 ° C. was 800 Pa · s.

含フッ素共重合体1の造粒物を、750mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機を用いて押出成形し、厚さ30μmのフィルム1を得た。装置のスクリューL/D比は24であり、スクリューCRは3であった。成形条件は、以下の通りであった。
シリンダー温度:C1=300℃、C2=320℃、C3=340℃、
アダプター温度:340℃、
ヘッド温度:340℃、
ダイ温度:340℃、
スクリュー回転数:10rpm、
引取速度:5m/分。
The granulated product of the fluorinated copolymer 1 was extruded using a 30 mmφ single screw extruder having a 750 mm wide coat hanger die to obtain a film 1 having a thickness of 30 μm. The screw L / D ratio of the device was 24 and the screw CR was 3. The molding conditions were as follows.
Cylinder temperature: C1 = 300 ° C., C2 = 320 ° C., C3 = 340 ° C.,
Adapter temperature: 340 ° C
Head temperature: 340 ° C.
Die temperature: 340 ° C.
Screw rotation speed: 10rpm,
Take-up speed: 5 m / min.

フィルム1およびガラスクロス1(有沢製作所社製、ガラスクロス0634NS、単位面積質量48.5g/m2 、空隙率4.5%。)を、フィルム1/ガラスクロス1/フィルム1/フィルム1/ガラスクロス1/フィルム1の順序で積層し、高温ラミネーター(ヒラノ技研社製)を用いて、ラミネーション温度340℃、ライン速度0.2m/分で熱ラミネーションを行い、厚さ168μmのガラス繊維強化複合材料1(以下、複合材料1と記す。)を得た。該複合材料1の誘電率、誘電正接、熱膨張係数、および弾性率を評価した。結果を表1に示す。 Film 1 and glass cloth 1 (manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd., glass cloth 0634NS, unit area mass 48.5 g / m 2 , porosity 4.5%) are used as film 1 / glass cloth 1 / film 1 / film 1 / glass. Cloth 1 / film 1 are laminated in order, and heat lamination is performed at a lamination temperature of 340 ° C. and a line speed of 0.2 m / min using a high-temperature laminator (manufactured by Hirano Giken), and a glass fiber reinforced composite material having a thickness of 168 μm 1 (hereinafter referred to as composite material 1) was obtained. The composite material 1 was evaluated for dielectric constant, dielectric loss tangent, thermal expansion coefficient, and elastic modulus. The results are shown in Table 1.

複合材料1および銅箔1(福田金属箔粉工業社製、電解銅箔CF−T4X−SVR−12)を、銅箔1/複合材料1/銅箔1の順序で積層し、真空プレス(北川精機社製)を用い、温度340℃、圧力3.7MPaの条件で5分間真空プレスし、厚さ200μmのプリント回路基板1を得た。
プリント回路基板1の断面を顕微鏡で観察した結果、ガラスクロス1が複合材料1からなる電気絶縁層(A)の表面から22μmの深さに配置されていることを確認した。
プリント回路基板1について、耐熱性、密着性、および伝送損失を評価した。結果を表1に示す。
Composite material 1 and copper foil 1 (made by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., electrolytic copper foil CF-T4X-SVR-12) are laminated in the order of copper foil 1 / composite material 1 / copper foil 1 and vacuum pressed (Kitakawa Using a Seiki Co., Ltd.), vacuum pressing was performed for 5 minutes under conditions of a temperature of 340 ° C. and a pressure of 3.7 MPa to obtain a printed circuit board 1 having a thickness of 200 μm.
As a result of observing the cross section of the printed circuit board 1 with a microscope, it was confirmed that the glass cloth 1 was disposed at a depth of 22 μm from the surface of the electrical insulating layer (A) made of the composite material 1.
The printed circuit board 1 was evaluated for heat resistance, adhesion, and transmission loss. The results are shown in Table 1.

〔例2〕
撹拌機付き重合槽(内容積94L)を脱気し、1−ヒドロトリデカフルオロヘキサン(以下、HTHと記す。)の71.3kg、AK225cbの20.4kg、化合物(5−1)の562gを仕込み、重合槽内を66℃に昇温し、TFE/E=84/16(モル比)の初期モノマー混合ガスを導入し、1.5MPa/Gまで昇圧した。重合開始剤として、0.7質量%のtert−ブチルペルオキシピバレートのHTH溶液の1Lを仕込み、重合を開始させた。重合中、圧力が一定になるようにTFE/E=54.5/45.5(モル比)のモノマー混合ガスを連続的に仕込んだ。また、重合中に仕込むTFEとEとの合計(100モル%)に対して3.3モル%に相当する量の化合物(5−1)および0.8モル%に相当する量のIAHを連続的に仕込んだ。重合開始から9.9時間後、モノマー混合ガスの7.28kgを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで冷却するとともに、モノマー混合ガスを常圧まで放出した。
[Example 2]
The polymerization tank with a stirrer (internal volume 94 L) was degassed, and 71.3 kg of 1-hydrotridecafluorohexane (hereinafter referred to as HTH), 20.4 kg of AK225cb, and 562 g of compound (5-1) were added. First, the temperature in the polymerization tank was raised to 66 ° C., an initial monomer mixed gas of TFE / E = 84/16 (molar ratio) was introduced, and the pressure was increased to 1.5 MPa / G. As a polymerization initiator, 1 L of an HTH solution of 0.7% by mass of tert-butylperoxypivalate was charged to initiate polymerization. During the polymerization, a monomer mixed gas of TFE / E = 54.5 / 45.5 (molar ratio) was continuously charged so that the pressure was constant. Further, the amount of the compound (5-1) corresponding to 3.3 mol% and the amount of IAH corresponding to 0.8 mol% are continuously added to the total (100 mol%) of TFE and E charged during the polymerization. I was charged. 9.9 hours after the start of the polymerization, when 7.28 kg of the monomer mixed gas was charged, the inside of the polymerization tank was cooled to room temperature and the monomer mixed gas was released to normal pressure.

スラリ状の含フッ素共重合体を、水の77kgを仕込んだ造粒槽(内容積200L)に投入し、撹拌下105℃まで昇温して溶媒を留出除去しながら造粒した。得られた造粒物を150℃で15時間乾燥することにより、6.9kgの含フッ素共重合体2の造粒物を得た。
含フッ素共重合体2における各繰返し単位の割合は、TFEに基づく繰返し単位/化合物(5−1)に基づく繰返し単位/IAHに基づく繰返し単位/Eに基づく繰返し単位=86.0/5.7/0.8/70.4(モル%)であった。含フッ素共重合体2の融点は270℃であり、320℃での溶融粘度は6800Pa・sであった。
The slurry-like fluorine-containing copolymer was put into a granulating tank (internal volume 200 L) charged with 77 kg of water, and the temperature was raised to 105 ° C. with stirring to granulate while removing the solvent by distillation. The obtained granulated product was dried at 150 ° C. for 15 hours to obtain 6.9 kg of a granulated product of fluorinated copolymer 2.
The ratio of each repeating unit in the fluorinated copolymer 2 is as follows: repeating unit based on TFE / repeating unit based on compound (5-1) / repeating unit based on IAH / repeating unit based on E = 86.0 / 5.7 /0.8/70.4 (mol%). The melting point of the fluorinated copolymer 2 was 270 ° C., and the melt viscosity at 320 ° C. was 6800 Pa · s.

含フッ素共重合体2の造粒物を、例1の装置を用いて押出成形し、厚さ30μmのフィルム2を得た。成形条件は、以下の通りであった。
シリンダー温度:C1=280℃、C2=300℃、C3=320℃、
アダプター温度:320℃、
ヘッド温度:320℃、
ダイ温度:320℃、
スクリュー回転数:8rpm、
引取速度:4m/分。
The granulated product of the fluorinated copolymer 2 was extruded using the apparatus of Example 1 to obtain a film 2 having a thickness of 30 μm. The molding conditions were as follows.
Cylinder temperature: C1 = 280 ° C., C2 = 300 ° C., C3 = 320 ° C.,
Adapter temperature: 320 ° C
Head temperature: 320 ° C.
Die temperature: 320 ° C
Screw rotation speed: 8rpm
Take-up speed: 4 m / min.

フィルム2およびガラスクロス1を、フィルム2/ガラスクロス1/フィルム2/フィルム2/ガラスクロス1/フィルム2の順序で積層し、例1の高温ラミネーターを用いて、ラミネーション温度320℃、ライン速度0.2m/分で熱ラミネーションを行い、厚さ168μmのガラス繊維強化複合材料2(以下、複合材料2と記す。)を得た。該複合材料2の誘電率、誘電正接、熱膨張係数、および弾性率を評価した。結果を表1に示す。   Film 2 and glass cloth 1 are laminated in the order of film 2 / glass cloth 1 / film 2 / film 2 / glass cloth 1 / film 2 and the lamination temperature is 320 ° C. and the line speed is 0 using the high temperature laminator of Example 1. Thermal lamination was performed at 2 m / min to obtain a glass fiber reinforced composite material 2 (hereinafter referred to as composite material 2) having a thickness of 168 μm. The composite material 2 was evaluated for dielectric constant, dielectric loss tangent, thermal expansion coefficient, and elastic modulus. The results are shown in Table 1.

複合材料2および銅箔1を、銅箔1/複合材料2/銅箔1の順序で積層し、例1の真空プレスを用い、温度320℃、圧力3.7MPaの条件で5分間真空プレスし、厚さ200μmのプリント回路基板2を得た。
プリント回路基板2の断面を顕微鏡で観察した結果、ガラスクロス1が複合材料2からなる電気絶縁層(A)の表面から22μmの深さに配置されていることを確認した。
プリント回路基板2について、耐熱性、密着性、および伝送損失を評価した。結果を表1に示す。
The composite material 2 and the copper foil 1 are laminated in the order of copper foil 1 / composite material 2 / copper foil 1, and vacuum-pressed for 5 minutes under the conditions of a temperature of 320 ° C. and a pressure of 3.7 MPa using the vacuum press of Example 1. A printed circuit board 2 having a thickness of 200 μm was obtained.
As a result of observing the cross section of the printed circuit board 2 with a microscope, it was confirmed that the glass cloth 1 was disposed at a depth of 22 μm from the surface of the electrical insulating layer (A) made of the composite material 2.
The printed circuit board 2 was evaluated for heat resistance, adhesion, and transmission loss. The results are shown in Table 1.

〔例3〕
AMモノマーに基づく繰返し単位を有さないE/TFE共重合体フィルム(旭硝子社製、アフレックス#30N、融点270℃、厚さ30μm。以下、フィルム3と記す。)およびガラスクロス2(有沢製作所社製、ガラスクロス1080、単位面積質量48.5g/m2 、空隙率30%。)を、フィルム3/フィルム3/ガラスクロス2/ガラスクロス2/フィルム3/フィルム3の順序で積層し、例1の高温ラミネーターを用いて、ラミネーション温度320℃、ライン速度0.2m/分で熱ラミネーションを行い、厚さ168μmのガラス繊維強化複合材料3(以下、複合材料3と記す。)を得た。該複合材料3の誘電率、誘電正接、熱膨張係数、および弾性率を評価した。結果を表1に示す。
[Example 3]
E / TFE copolymer film (Asahi Glass Co., Aflex # 30N, melting point 270 ° C., thickness 30 μm, hereinafter referred to as film 3) and glass cloth 2 (Arisawa Manufacturing Co., Ltd.) having no repeating unit based on AM monomer Glass cloth 1080, unit area mass 48.5 g / m 2 , porosity 30%.) In the order of film 3 / film 3 / glass cloth 2 / glass cloth 2 / film 3 / film 3. Using the high-temperature laminator of Example 1, thermal lamination was performed at a lamination temperature of 320 ° C. and a line speed of 0.2 m / min to obtain a glass fiber reinforced composite material 3 (hereinafter referred to as composite material 3) having a thickness of 168 μm. . The composite material 3 was evaluated for dielectric constant, dielectric loss tangent, thermal expansion coefficient, and elastic modulus. The results are shown in Table 1.

複合材料3および銅箔2(福田金属箔粉工業社製、電解銅箔CF−T9FZ−HTE−18)を、銅箔2/複合材料3/銅箔2の順序で積層し、例1の真空プレスを用い、温度320℃、圧力3.7MPaの条件で5分間真空プレスし、厚さ200μmのプリント回路基板3を得た。
プリント回路基板3の断面を顕微鏡で観察した結果、ガラスクロス2が複合材料3からなる電気絶縁層(A)の表面から52μmの深さに配置されていることを確認した。
プリント回路基板3について、耐熱性、密着性、および伝送損失を評価した。結果を表1に示す。
Composite material 3 and copper foil 2 (made by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd., electrolytic copper foil CF-T9FZ-HTE-18) were laminated in the order of copper foil 2 / composite material 3 / copper foil 2, and the vacuum of Example 1 Using a press, vacuum pressing was performed for 5 minutes under the conditions of a temperature of 320 ° C. and a pressure of 3.7 MPa to obtain a printed circuit board 3 having a thickness of 200 μm.
As a result of observing the cross section of the printed circuit board 3 with a microscope, it was confirmed that the glass cloth 2 was disposed at a depth of 52 μm from the surface of the electrical insulating layer (A) made of the composite material 3.
The printed circuit board 3 was evaluated for heat resistance, adhesion, and transmission loss. The results are shown in Table 1.

Figure 0004957079
Figure 0004957079

はんだに対する耐熱性の評価では、プリント回路基板3の電気絶縁層(A)にミーズリングが発生した。また、プリント回路基板3の電気絶縁層(A)と導電体層(B)との密着力は不充分であった。さらに、プリント回路基板3の5GHzにおける伝送損失も不充分であり、かつばらつきが大きかった。   In the evaluation of the heat resistance against the solder, measling occurred in the electrical insulating layer (A) of the printed circuit board 3. Further, the adhesion between the electrical insulating layer (A) and the conductor layer (B) of the printed circuit board 3 was insufficient. Furthermore, the transmission loss at 5 GHz of the printed circuit board 3 was insufficient and the variation was large.

本発明のガラス繊維強化複合材料およびプリント回路基板は、高周波特性が必要とされるレーダー、ネットワークのルーター、バックプレーン、無線インフラ等の電子機器用基板;耐薬品性、耐熱性が必要とされる自動車用各種センサ用基板、エンジンマネージメントセンサ用基板;ビルドアッププリント回路基板、フレキシブルプリント回路基板、IDタグ用基板;複写機の熱定着ロール等のカバー、熱定着ベルト、電池等のカバー材;建造物の屋根材等に用いられるテント膜;産業機械用各種ロール、ベルト;樹脂含浸のパッキン、シール材、スペーサ、ガスケット、Oリング等に用いられる。   The glass fiber reinforced composite material and the printed circuit board of the present invention are substrates for electronic devices such as radars, network routers, backplanes and wireless infrastructures that require high frequency characteristics; chemical resistance and heat resistance are required. Various sensor boards for automobiles, boards for engine management sensors; build-up printed circuit boards, flexible printed circuit boards, ID tag boards; covers for heat fixing rolls of copying machines, cover materials for heat fixing belts, batteries, etc .; construction Tents used for roofing materials, etc .; various rolls and belts for industrial machines; used for resin-impregnated packing, sealing materials, spacers, gaskets, O-rings, etc.

本発明のガラス繊維強化複合材料の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the glass fiber reinforced composite material of this invention. 本発明のプリント回路基板の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the printed circuit board of this invention. ガラスクロスの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a glass cloth. 実施例において伝送損失の測定に用いたマイクロストリップラインを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the microstrip line used for the measurement of the transmission loss in an Example.

符号の説明Explanation of symbols

10 ガラス繊維強化複合材料
12 含フッ素共重合体(F)
14 ガラス繊維(G)
20 プリント回路基板
22 電気絶縁体層(A)
24 導電体層(B)
10 Glass fiber reinforced composite material 12 Fluorine-containing copolymer (F)
14 Glass fiber (G)
20 Printed Circuit Board 22 Electrical Insulator Layer (A)
24 Conductor layer (B)

Claims (7)

下記含フッ素共重合体(F)とガラス繊維(G)とを含有するガラス繊維強化複合材料からなる電気絶縁体層(A)と、該電気絶縁体層(A)に直接接する導電体層(B)とを有する、プリント回路基板
テトラフルオロエチレンおよび/またはクロロトリフルオロエチレンに基づく繰返し単位(a)と、
フッ素モノマー(ただし、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンを除く。)に基づく繰返し単位(b)と、
酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマーに基づく繰返し単位(c)とを有し、
前記繰返し単位(a)〜(c)の合計100モル%のうち、前記繰返し単位(a)が50〜99.89モル%であり、前記繰返し単位(b)が0.1〜49.99モル%であり、前記繰返し単位(c)が0.01〜5モル%である含フッ素共重合体(F)。
The following fluorine-containing copolymer (F) Glass fibers (G) and consisting Ruga Las fiber-reinforced composite material to contain electrical insulator layer (A), the electrical insulator layer (A) in direct contact with the conductor A printed circuit board having a layer (B) .
Repeating units (a) based on tetrafluoroethylene and / or chlorotrifluoroethylene;
A repeating unit (b) based on a fluorine monomer (excluding tetrafluoroethylene and chlorotrifluoroethylene);
Having a repeating unit (c) based on a monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond,
Of the total 100 mol% of the repeating units (a) to (c), the repeating unit (a) is 50 to 99.89 mol%, and the repeating unit (b) is 0.1 to 49.99 mol. % Of the fluorine-containing copolymer (F), wherein the repeating unit (c) is 0.01 to 5 mol%.
前記含フッ素共重合体(F)が、さらに非フッ素モノマー(ただし、酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマーを除く。)に基づく繰返し単位(d)を有し、
前記繰返し単位(a)〜(c)の合計と前記繰返し単位(d)とのモル比(((a)+(b)+(c))/(d))が、100/5〜100/90である、請求項1に記載のプリント回路基板
The fluorine-containing copolymer (F) further has a repeating unit (d) based on a non-fluorine monomer (excluding a monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond),
The molar ratio (((a) + (b) + (c)) / (d)) of the total of the repeating units (a) to (c) and the repeating unit (d) is 100/5 to 100 / The printed circuit board of claim 1, wherein the printed circuit board is 90.
前記酸無水物残基および重合性不飽和結合を有するモノマーが、無水イタコン酸、無水シトラコン酸および5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物からなる群から選ばれる1種以上である、請求項1または2に記載のプリント回路基板The monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond is at least one selected from the group consisting of itaconic anhydride, citraconic anhydride and 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride. Item 3. The printed circuit board according to Item 1 or 2. 前記電気絶縁体層(A)の表面から1〜40μmの深さに、ガラス繊維(G)の一部または全部が存在する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 3 , wherein a part or all of the glass fiber (G) is present at a depth of 1 to 40 µm from the surface of the electrical insulator layer (A). 前記ガラス繊維(G)が、たて糸およびよこ糸から構成されるガラスクロスであり、下式(I)によって求めた空隙率が0〜25%である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプリント回路基板。
空隙率={(t1−s1)×(t2−s2)}/(t1×t2)×100・・・(I)。
ただし、s1 は、前記たて糸の糸束断面幅の平均値(μm)であり、t1 は、前記たて糸の糸束間隔の平均値(μm)であり、s2 は、前記よこ糸の糸束断面幅の平均値(μm)であり、t2 は、前記よこ糸の糸束間隔の平均値(μm)である。
The said glass fiber (G) is a glass cloth comprised from a warp and a weft, and the porosity calculated | required by the following Formula (I) is 0 to 25%, It is any one of Claims 1-4. Printed circuit board.
Porosity = {(t 1 −s 1 ) × (t 2 −s 2 )} / (t 1 × t 2 ) × 100 (I).
Here, s 1 is the average value (μm) of the cross-sectional width of the warp yarn bundle, t 1 is the average value (μm) of the warp yarn bundle interval, and s 2 is the weft yarn bundle. It is an average value (μm) of the cross-sectional width, and t 2 is an average value (μm) of the yarn bundle interval of the weft yarn.
請求項1〜のいずれか一項に記載のプリント回路基板の製造方法であって、
含フッ素共重合体(F)のフィルムと、ガラス繊維(G)の布帛とを熱ラミネーション法により複合化することによって前記ガラス繊維強化複合材料を得る、プリント回路基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the printed circuit board according to any one of claims 1 to 5 ,
A method for producing a printed circuit board, wherein the glass fiber reinforced composite material is obtained by combining a film of a fluorinated copolymer (F) and a glass fiber (G) fabric by a thermal lamination method.
熱ラミネーション時における前記含フッ素共重合体(F)の溶融粘度が、100〜10000Pa・sである、請求項に記載のプリント回路基板の製造方法。 The manufacturing method of the printed circuit board of Claim 6 whose melt viscosity of the said fluorine-containing copolymer (F) at the time of thermal lamination is 100-10000 Pa.s.
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