JP4955276B2 - Hydroxyphenyl (meth) acrylate composition, method for producing the same, and method for producing the polymer - Google Patents

Hydroxyphenyl (meth) acrylate composition, method for producing the same, and method for producing the polymer Download PDF

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本発明は、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物その製造方法及びポリマーの製造方法に関する。 The present invention relates to a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition, a method for producing the same, and a method for producing a polymer .

エステルを製造する方法としては、カルボン酸とアルコールとを触媒の存在下で反応させる方法が一般的である。しかし、アルコールとしてフェノール類を用いたエステル化反応は反応し難いことが知られている。そこで、フェノール類を(メタ)アクリル酸無水物と反応させて(メタ)アクリル酸フェニルエステルを得る方法が知られている(例えば、特許文献1を参照)。この特許文献1では、一価フェノール類を使用した場合を主に対象としており、二価フェノール類を使用した際の製造方法については特に詳細な記述はない。
また、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を製造する方法としては、二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物又は(メタ)アクリル酸クロライドを反応させる方法が知られている(例えば、特許文献2を参照)。
As a method for producing an ester, a method in which a carboxylic acid and an alcohol are reacted in the presence of a catalyst is generally used. However, it is known that an esterification reaction using a phenol as an alcohol hardly reacts. Therefore, a method is known in which phenols are reacted with (meth) acrylic anhydride to obtain (meth) acrylic acid phenyl ester (see, for example, Patent Document 1). In this patent document 1, the case where monohydric phenols are mainly used is mainly targeted, and there is no detailed description about the manufacturing method at the time of using dihydric phenols.
In addition, as a method for producing a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition, a method of reacting a dihydric phenol with (meth) acrylic anhydride or (meth) acrylic acid chloride is known (for example, patent document). 2).

特開2000−191590号公報JP 2000-191590 A 特公昭49−34667号公報Japanese Patent Publication No.49-34667

しかしながら、上記特許文献2の方法において(メタ)アクリル酸クロライドを使用する場合、反応容器を腐食する問題があり、また、ハロゲン化物を含有する廃液が大量に発生するので工業的に有利でないばかりか、ハロゲン化物を使用しているため、得られたヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物は電気、電子部品の用途にはふさわしくない。一方、上記特許文献2の方法において(メタ)アクリル酸無水物を使用する場合、上記のような問題は起こらないが、副成物であるフェニレンジ(メタ)アクリレートを比較的多く含む純度の低いヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物しか得ることができない。このフェニレンジ(メタ)アクリレートは、重合時には架橋成分となることから、溶剤溶解性を低下させたり、場合によっては重合時にゲル化を引き起こすという問題がある。
従って、本発明は、重合時の溶剤溶解性が良好な高純度のヒドロキシフェニル(メタ)アクリルレート組成物、及びハロゲン化物を使用することなく高純度のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を製造する方法を提供することを目的とする。
However, when (meth) acrylic acid chloride is used in the method of Patent Document 2, there is a problem of corroding the reaction vessel, and not only is industrially advantageous because a large amount of waste liquid containing halide is generated. Since the halide is used, the obtained hydroxyphenyl (meth) acrylate composition is not suitable for use in electrical and electronic parts. On the other hand, when (meth) acrylic anhydride is used in the method of Patent Document 2, the above-mentioned problem does not occur, but the purity is relatively low including a relatively large amount of phenylene di (meth) acrylate as a by-product. Only hydroxyphenyl (meth) acrylate compositions can be obtained. Since this phenylene di (meth) acrylate becomes a cross-linking component at the time of polymerization, there is a problem that solvent solubility is lowered or gelation is caused at the time of polymerization.
Therefore, the present invention produces a high-purity hydroxyphenyl (meth) acrylate composition having good solvent solubility during polymerization and a high-purity hydroxyphenyl (meth) acrylate composition without using a halide. It aims to provide a method.

そこで、本発明者らは、鋭意研究、開発を遂行した結果、上記のような課題を解決するためには、二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物とを反応させてヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を製造する方法において、未反応の二価フェノール類を水洗浄により除去して粗結晶を得、得られた粗結晶を溶媒で溶解させた後、貧溶媒と接触させてフェニレンジ(メタ)アクリレートを除去することが有効であることに想到し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物とを反応させて、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートと副成物であるフェニレンジ(メタ)アクリレートとを含有する反応溶液を調製する工程、前記反応溶液中の未反応二価フェノール類を水洗浄により除去して粗結晶を調製する工程、前記粗結晶を、トルエン、キシレン又はこれらの混合物である溶媒で溶解させて溶解液を調製する工程、及び前記溶解液を貧溶媒と接触させることにより前記溶解液中の前記フェニレンジ(メタ)アクリレートを除去する工程を含むことを特徴とするヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法である。
前記二価フェノール類と前記(メタ)アクリル酸無水物とを反応させる際に、酸触媒として有機スルホン酸又は無機酸を用いることが好ましい。
前記未反応二価フェノール類、前記ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート及び前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの合計量100モル%に対し、前記未反応二価フェノール類を1.0モル%以下まで除去し、前記フェニレンジ(メタ)アクリレートを1.0モル%以下まで除去することが好ましい。
た、前記貧溶媒として、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン及びヘプタンからなる群から選択される少なくとも1種を用いることが望ましい。
また、本発明は、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、二価フェノール類及びフェニレンジ(メタ)アクリレートのみからなるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物であって、前記ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、前記二価フェノール類及び前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの合計100モル%に対し、前記二価フェノール類の含有量が0モル%超0.2モル%以下であり且つ前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの含有量が0モル%超1.0モル%以下であることを特徴とするヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物である。
Therefore, as a result of diligent research and development, the present inventors have reacted dihydric phenols with (meth) acrylic anhydride to react hydroxyphenyl (meta). ) In the method for producing an acrylate composition, unreacted dihydric phenols are removed by washing with water to obtain crude crystals. The obtained crude crystals are dissolved in a solvent, and then contacted with a poor solvent to obtain phenylenediamine. The inventors have come up with the idea that removing (meth) acrylate is effective, and have completed the present invention.
That is, the present invention prepares a reaction solution containing hydroxyphenyl (meth) acrylate and by-product phenylene di (meth) acrylate by reacting dihydric phenols with (meth) acrylic anhydride. A step of removing unreacted dihydric phenols in the reaction solution by washing with water to prepare a crude crystal , and dissolving the crude crystal with a solvent that is toluene, xylene or a mixture thereof to obtain a solution. A method for producing a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition, comprising a step of preparing, and a step of removing the phenylene di (meth) acrylate in the solution by bringing the solution into contact with a poor solvent. It is.
When the dihydric phenol and the (meth) acrylic anhydride are reacted, it is preferable to use an organic sulfonic acid or an inorganic acid as an acid catalyst.
For the total amount of 100 mol% of the unreacted dihydric phenols, the hydroxyphenyl (meth) acrylate and the phenylene di (meth) acrylate, the unreacted dihydric phenols are removed to 1.0 mol% or less, It is preferable to remove the phenylene di (meth) acrylate to 1.0 mol% or less.
Also, as the poor solvent, hexane, cyclohexane, it is desirable to use at least one selected from the group consisting of methyl cyclohexane, ethyl cyclohexane and heptane.
The present invention also relates to a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition comprising only hydroxyphenyl (meth) acrylate, dihydric phenols and phenylene di (meth) acrylate, wherein the hydroxyphenyl (meth) acrylate, the divalent The content of the dihydric phenol is more than 0 mol% and not more than 0.2 mol% with respect to a total of 100 mol% of the phenols and the phenylene di (meth) acrylate, and the content of the phenylene di (meth) acrylate Is a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition characterized by being more than 0 mol% and 1.0 mol% or less.

本発明によれば、重合時の溶剤溶解性が良好な高純度のヒドロキシフェニル(メタ)アクリルレート組成物、及びハロゲン化物を使用することなく高純度のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を製造する方法を提供することができる。   According to the present invention, a high-purity hydroxyphenyl (meth) acrylate composition having good solvent solubility during polymerization and a high-purity hydroxyphenyl (meth) acrylate composition are produced without using a halide. A method can be provided.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明によるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法は、
(1)二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物とを反応させて、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートと副成物であるフェニレンジ(メタ)アクリレートとを含有する反応溶液を調製する工程、
(2)前記反応溶液中の未反応二価フェノール類を水洗浄により除去して粗結晶を調製する工程、
(3)前記粗結晶を溶媒で溶解させて溶解液を調製する工程、及び
(4)前記溶解液を貧溶媒と接触させることにより前記溶解液中の前記フェニレンジ(メタ)アクリレートを除去する工程
を含むものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The method for producing a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition according to the present invention comprises:
(1) A step of reacting a dihydric phenol with (meth) acrylic anhydride to prepare a reaction solution containing hydroxyphenyl (meth) acrylate and a by-product phenylene di (meth) acrylate,
(2) a step of preparing crude crystals by removing unreacted dihydric phenols in the reaction solution by washing with water;
(3) a step of preparing a solution by dissolving the crude crystals with a solvent, and (4) a step of removing the phenylene di (meth) acrylate in the solution by bringing the solution into contact with a poor solvent. Is included.

本発明において用いられる二価フェノール類には、具体的にはカテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン等が挙げられる。   Specific examples of the dihydric phenols used in the present invention include catechol, resorcin, hydroquinone, methylhydroquinone and the like.

本発明において用いられる(メタ)アクリル酸無水物とは、アクリル酸無水物及びメタクリル酸無水物である。反応に使用する際には、これらの市販品をそのまま用いてもよいが、既知の方法によって容易に製造することもできる。(メタ)アクリル酸無水物の製造方法としては、例えば、無水酢酸と(メタ)アクリル酸から製造する方法、(メタ)アクリル酸ハライドと(メタ)アクリル酸から縮合反応により製造する方法等が挙げられる。また、(メタ)アクリル酸無水物は、従来用いられていた(メタ)アクリル酸クロライドとは異なり、反応容器の材質として一般的なステンレスへの腐食性が低い。そのため、本発明では、一般的な反応容器を用いても腐食の問題なく、工業的規模でヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を製造することができる。   The (meth) acrylic anhydride used in the present invention is acrylic anhydride and methacrylic anhydride. When used in the reaction, these commercially available products may be used as they are, but they can also be easily produced by known methods. Examples of the method for producing (meth) acrylic anhydride include a method of producing from acetic anhydride and (meth) acrylic acid, a method of producing from (meth) acrylic acid halide and (meth) acrylic acid by a condensation reaction, and the like. It is done. Moreover, unlike the (meth) acrylic acid chloride conventionally used, (meth) acrylic anhydride has low corrosiveness to general stainless steel as a material for the reaction vessel. Therefore, in this invention, even if it uses a general reaction container, a hydroxyphenyl (meth) acrylate composition can be manufactured on an industrial scale without the problem of corrosion.

本発明において、二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物とを反応させる際のモル比は、二価フェノール類1.0モルに対し、(メタ)アクリル酸無水物が0.5〜1.2モル、好ましくは0.8〜1.1モルである。二価フェノール類1.0モルに対し、(メタ)アクリル酸無水物が0.5モル未満では収率が低くなり好ましくない。また、二価フェノール類1.0モルに対し、(メタ)アクリル酸無水物が1.2モルを越えると副成物であるフェニレンジメタクリレートが多く生成し好ましくない。   In this invention, the molar ratio at the time of making bihydric phenols and (meth) acrylic anhydride react is 0.5-1 of (meth) acrylic anhydride with respect to 1.0 mol of dihydric phenols. .2 mol, preferably 0.8 to 1.1 mol. If the amount of (meth) acrylic anhydride is less than 0.5 mol relative to 1.0 mol of the dihydric phenol, the yield is unfavorable. On the other hand, if the amount of (meth) acrylic anhydride exceeds 1.2 moles relative to 1.0 mole of dihydric phenols, a large amount of phenylene dimethacrylate as a by-product is generated, which is not preferable.

反応の際には、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン等の有機溶媒を使用することが好ましい。溶媒の使用量は二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物との合計量100質量部に対して、0〜1000質量部、好ましくは10〜200質量部である。反応は、室温から120℃の範囲で1〜24時間行われる。   In the reaction, it is preferable to use an organic solvent such as dioxane, tetrahydrofuran or acetone. The usage-amount of a solvent is 0-1000 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of dihydric phenols and (meth) acrylic anhydride, Preferably it is 10-200 mass parts. The reaction is carried out at room temperature to 120 ° C. for 1 to 24 hours.

また、反応の際には、酸触媒を使用することが好ましく、中でも有機スルホン酸又は無機酸を使用することが更に好ましい。有機スルホン酸としては、例えば、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などが挙げられ、無機酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸などが挙げられる。触媒の使用量は、使用する溶媒量、反応温度などにより任意に決めることができるが、二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物の合計量100質量部に対して、好ましくは0.001〜1質量部、更に好ましくは0.01〜0.1質量部である。この反応を塩基性触媒の存在下で行うと、フェニレンジ(メタ)アクリレートが多く生成するため好ましくない。反応の完結は、例えばIR測定による酸無水物基の吸収(1783cm−1付近)の消失により確認できる。反応の完結を確認後、必要によりトリエチルアミン、炭酸ナトリウム等により中和を行えばよい。 In the reaction, it is preferable to use an acid catalyst, and it is more preferable to use an organic sulfonic acid or an inorganic acid. Examples of the organic sulfonic acid include dimethyl sulfuric acid, diethyl sulfuric acid, p-toluene sulfonic acid, and methane sulfonic acid. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid. The amount of catalyst used can be arbitrarily determined depending on the amount of solvent used, reaction temperature, etc., but is preferably 0.001 with respect to 100 parts by mass of the total amount of dihydric phenols and (meth) acrylic anhydride. To 1 part by mass, more preferably 0.01 to 0.1 part by mass. If this reaction is carried out in the presence of a basic catalyst, a large amount of phenylene di (meth) acrylate is generated, which is not preferable. Completion of the reaction can be confirmed, for example, by disappearance of the acid anhydride group absorption (around 1783 cm −1 ) by IR measurement. After confirming completion of the reaction, neutralization may be carried out with triethylamine, sodium carbonate or the like, if necessary.

二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物との反応で得られた反応溶液には、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、副成物であるフェニレンジ(メタ)アクリレート及び未反応の二価フェノール類が含まれている。この反応溶液を水洗浄することで、未反応の二価フェノール類の含有量を低減させることができる。充分に水洗浄を行って未反応二価フェノール類を除去すると、水中では粗結晶が析出する。ここで、未反応二価フェノール類、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート及びフェニレンジ(メタ)アクリレートの合計100モル%に対し、未反応の二価フェノール類が1.0モル%以下になるまで水洗浄を繰り返すことが好ましい。未反応二価フェノール類が1.0モル%を越えて残存した場合、最終的に得られるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の収率の悪化及び純度の低下を招く恐れがある。   In the reaction solution obtained by the reaction of dihydric phenols with (meth) acrylic anhydride, hydroxyphenyl (meth) acrylate, phenylene di (meth) acrylate as a by-product and unreacted dihydric phenols It is included. By washing this reaction solution with water, the content of unreacted dihydric phenols can be reduced. When the unreacted dihydric phenols are removed by sufficiently washing with water, crude crystals are precipitated in water. Here, with respect to 100 mol% in total of unreacted dihydric phenols, hydroxyphenyl (meth) acrylate and phenylene di (meth) acrylate, water washing until unreacted dihydric phenols became 1.0 mol% or less. Is preferably repeated. If the unreacted dihydric phenol exceeds 1.0 mol%, the yield of the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition finally obtained may be deteriorated and the purity may be lowered.

次に、水中に析出した粗結晶を溶媒で溶解させる。溶解に用いる溶媒としては、トルエン、キシレン又はこれらの混合物が挙げられる。このような溶媒を使用することで、最終的に得られるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の収率が向上する。粗結晶を溶媒で溶解させる際は、粗結晶100質量部に対して、好ましくは溶媒50〜300質量部、更に好ましくは100〜200質量部を使用して、必要により加熱して溶解させるのがよい。その際、粗結晶に含まれる水は、粗結晶を含む溶媒層と分離除去しておくことが好ましい。このように、溶媒により粗結晶を溶解させることで、最終的に得られるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の純度が向上する。   Next, the crude crystals precipitated in water are dissolved with a solvent. Examples of the solvent used for dissolution include toluene, xylene, or a mixture thereof. By using such a solvent, the yield of the finally obtained hydroxyphenyl (meth) acrylate composition is improved. When dissolving the crude crystal with a solvent, it is preferable to use 50 to 300 parts by mass, more preferably 100 to 200 parts by mass of the solvent with respect to 100 parts by mass of the crude crystal, and dissolve by heating if necessary. Good. At that time, the water contained in the crude crystals is preferably separated and removed from the solvent layer containing the crude crystals. Thus, the purity of the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition finally obtained improves by dissolving a crude crystal with a solvent.

次に、粗結晶が溶解された溶解液を貧溶媒と接触させて洗浄することでフェニレンジ(メタ)アクリレートを除去することができる。貧溶媒で洗浄する方法としては、粗結晶が溶解された溶解液を貧溶媒中へ投入する方法、又は粗結晶が溶解された溶解液に貧溶媒を添加する方法が挙げられる。ここで貧溶媒としては、具体的には、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘプタンが挙げられ、これらの少なくとも1種を使用することができる。ここで、未反応二価フェノール類、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート及びフェニレンジ(メタ)アクリレートの合計100モル%に対し、フェニレンジ(メタ)アクリレートを1.0モル%以下になるまで貧溶媒で洗浄を繰り返すことが好ましい。フェニレンジ(メタ)アクリレートが1.0モル%を越えて残存した場合、最終的に得られるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の純度の低下を招き、これを原料として重合を行うとフェニレンジ(メタ)アクリレートが架橋成分であるため、ポリマーの分子量が異常に大きくなったり、場合によってはゲル化を起こしたり、溶剤溶解性が悪くなる恐れがある。   Next, the phenylene di (meth) acrylate can be removed by bringing the solution in which the crude crystals are dissolved into contact with a poor solvent and washing. Examples of the method of washing with a poor solvent include a method in which a solution in which crude crystals are dissolved is poured into the poor solvent, or a method in which the poor solvent is added to a solution in which crude crystals are dissolved. Specific examples of the poor solvent include hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, and heptane, and at least one of these can be used. Here, with respect to a total of 100 mol% of unreacted dihydric phenols, hydroxyphenyl (meth) acrylate and phenylene di (meth) acrylate, phenylene di (meth) acrylate is used as a poor solvent until it becomes 1.0 mol% or less. It is preferable to repeat the washing. When phenylene di (meth) acrylate remains in excess of 1.0 mol%, the purity of the finally obtained hydroxyphenyl (meth) acrylate composition is reduced. When polymerization is performed using this as a raw material, phenylene di (( Since (meth) acrylate is a cross-linking component, the molecular weight of the polymer may be abnormally increased, gelation may occur in some cases, and solvent solubility may deteriorate.

最後に、貧溶媒を脱液、乾燥させることで、高収率で且つ高純度、具体的には、二価フェノール類、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート及びフェニレンジメタクリレートの合計100モル%に対し、二価フェノール類の含有量が1.0モル%以下であり且つフェニレンジメタクリレートの含有量が1.0モル%以下であるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を得ることができる。   Finally, the poor solvent is removed and dried to obtain a high yield and high purity, specifically, 100 mol% of the total of dihydric phenols, hydroxyphenyl (meth) acrylate and phenylene dimethacrylate, A hydroxyphenyl (meth) acrylate composition having a dihydric phenol content of 1.0 mol% or less and a phenylene dimethacrylate content of 1.0 mol% or less can be obtained.

本発明の製造方法で得られたヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートは、常温では固体であり、熱や光に対して比較的安定であるにも係わらず、重合性は一般的な(メタ)アクリル酸エステルと同等であるという特長を有する。   The hydroxyphenyl (meth) acrylate obtained by the production method of the present invention is solid at room temperature and is relatively stable to heat and light, but the polymerization property is general (meth) acrylic acid. It has the feature of being equivalent to an ester.

本発明の製造方法で得られたヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を使用してポリマーを合成すると、溶剤溶解性、アルカリ溶解性、透明性、耐熱変色性等に優れ、高Tg、高熱分解温度、高屈折率のポリマーが得られる。従って、半導体製造用、ディスプレイ部材、印刷製版材料等に使用するアルカリ現像型のフォトレジスト、透明性及び耐熱変色性が要求される保護膜等に応用することができる。また、エポキシ樹脂等の硬化剤としても有用である。   When a polymer is synthesized using the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition obtained by the production method of the present invention, it is excellent in solvent solubility, alkali solubility, transparency, heat discoloration, etc., high Tg, and high thermal decomposition temperature. A polymer with a high refractive index is obtained. Therefore, it can be applied to alkali developing type photoresists used for semiconductor manufacturing, display members, printing plate making materials, and the like, and protective films requiring transparency and heat discoloration. It is also useful as a curing agent such as an epoxy resin.

また、本発明の製造方法で得られたヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物は、単独重合体だけでなく、その他の不飽和基含有重合性化合物との共重合性も良好である。このような不飽和基含有重合性化合物の具体例としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、無水マレイン酸、無水フマル酸、無水シトラコン酸、無水メサコン酸、無水イタコン酸、ビニル安息香酸、o−カルボキシフェニル(メタ)アクリレート、m−カルボキシフェニル(メタ)アクリレート、p−カルボキシフェニル(メタ)アクリレート、o−カルボキシフェニル(メタ)アクリルアミド、m−カルボキシフェニル(メタ)アクリルアミド、p−カルボキシフェニル(メタ)アクリルアミド、コハク酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、5−カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン無水物、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチル(メタ)アクリレート、   Moreover, the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition obtained by the production method of the present invention has good copolymerizability with not only homopolymers but also other unsaturated group-containing polymerizable compounds. Specific examples of such unsaturated group-containing polymerizable compounds include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, maleic anhydride, fumaric anhydride, Citraconic anhydride, mesaconic anhydride, itaconic anhydride, vinyl benzoic acid, o-carboxyphenyl (meth) acrylate, m-carboxyphenyl (meth) acrylate, p-carboxyphenyl (meth) acrylate, o-carboxyphenyl (meth) Acrylamide, m-carboxyphenyl (meth) acrylamide, p-carboxyphenyl (meth) acrylamide, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone mono ( ) Acrylate, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo [ 2.2.1] Hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo [2.2.1] hept- 2-ene, 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride, tricyclo [5 .2.1.02,6] decan-8-yl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.02,6] decan-8-yloxyethyl (meth) acrylate,

メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n−ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、n−ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルグリコサイド、 Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, n-stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, 2,3- Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl glycoside,

フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、o−メトキシフェニル(メタ)アクリレート、m−メトキシフェニル(メタ)アクリレート、p−メトキシフェニル(メタ)アクリレート、 Phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, o-methoxyphenyl (meth) acrylate, m-methoxyphenyl (meth) acrylate, p-methoxyphenyl (meth) acrylate,

マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−t−ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(t−ブトキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(シクロヘキシルオキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチル−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、 Diethyl maleate, diethyl fumarate, diethyl itaconate, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2. 2.1] hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-t-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2 -Ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (t-butoxycarbonyl ) Bicyclo 2.2.1] Hept-2-ene, 5,6-di (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene 5,6-di (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- Hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、o−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、m−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、p−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル(メタ)アクリルアミド、フェニルマレイミド、ヒドロキシフェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、α−エチルアクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、イソプロペニルグリシジルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートなどを挙げることができる。 Styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl -1,3-butadiene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, o-hydroxyphenyl (meth) acrylamide, m-hydroxyphenyl (meth) acrylamide, p-hydroxyphenyl ( (Meth) acrylamide, 3,5-dimethyl-4-hydroxybenzyl (meth) acrylamide, phenylmaleimide, hydroxyphenylmaleimide, cyclohexylmaleimide, benzylmaleimide, trifluoromethyl (meth) acyl Rate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, 3,4-epoxybutyl acrylate, 3,4-epoxybutyl methacrylate, 3,4-epoxybutyl acrylate, Acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, vinyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, isopropenyl glycidyl ether, o-vinyl benzyl Glycidyl ether, m-vinylbenzylglycidyl ether, p-vinylbenzylglycidyl ether, vinylcyclohexene monooxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate And so on.

重合は、アゾビスイソブチロニトリルを代表とするアゾ系開始剤、ベンゾイルパーオキシドを代表とする有機過酸化物等を使用して、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ノルマルプロピルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸3−メトキシブチル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、3−メトキシブタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、乳酸エチルなどの有機溶媒中で行なうことができる。   Polymerization uses azo initiators typified by azobisisobutyronitrile, organic peroxides typified by benzoyl peroxide, etc., methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol , Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, xylene, ethyl acetate, isopropyl acetate, normal propyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, acetic acid 3-methoxybutyl, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether Conducted in an organic solvent such as acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 3-methoxybutanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, ethyl lactate be able to.

以下に実施例、比較例及び参考例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。また、参考例におけるポリマーの平均分子量の測定は以下の方法により行った。なお、実施例3は参考例とする。
(平均分子量の測定)
得られた重合体の重量平均分子量(Mw)の値は、ゲル・パーミッション・クロマトグラフィー(GPC)を用いて、下記条件にて測定し、ポリスチレン換算にて算出した。
カラム:ショデックス KF−801+KF−802+KF−802+KF−803
カラム温度:40℃
展開溶媒:テトラヒドロフラン
検出器:示差屈折計(ショデックス RI−101)
流速:1mL/min
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, comparative examples and reference examples. However, the present invention is not limited to the following examples. Moreover, the measurement of the average molecular weight of the polymer in the reference example was performed by the following method. Example 3 is a reference example.
(Measurement of average molecular weight)
The value of the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polymer was measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC) and calculated in terms of polystyrene.
Column: sucrose c Dex KF-801 + KF-802 + KF-802 + KF-803
Column temperature: 40 ° C
Developing solvent: tetrahydrofuran Detector: differential refractometer (sucrose c index RI-101)
Flow rate: 1 mL / min

[実施例1]
4−ヒドロキシフェニルメタクリレートの合成
攪拌機を備えたフラスコに、ヒドロキノン100質量部、メタクリル酸無水物140質量部、1,4−ジオキサン200質量部及びp−トルエンスルホン酸1.0質量部を入れ、80℃で4時間反応させた。IR測定により無水メタクリル酸のカルボニルの吸収(1783cm−1)が消失したことを確認し、トリエチルアミン1.0質量部で中和した。H−NMR測定により、未反応ヒドロキノン、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート及びp−フェニレンジメタクリレートの合計100モル%に対し、未反応ヒドロキノンが0.1モル%になるまでイオン交換水による洗浄を繰り返して粗結晶を含むスラリーを得た。なお、H−NMR測定における化学シフトは、ヒドロキノンのベンゼン環:6.57ppm、p−ヒドロキシフェニルメタクリレートのベンゼン環:6.76〜6.96ppm、p−フェニレンジメタクリレートのベンゼン環:1.49ppmである。
次に、トルエン160質量部を添加し、60℃で粗結晶を溶解させた。60℃で粗結晶中に含まれる水を分離除去し、粗結晶が溶解されたトルエン溶液をヘキサン110質量部に投入して結晶を析出させた。引き続き、副成物であるp−フェニレンジメタクリレートが0.3モル%になるまでヘキサンによる洗浄を繰り返した後、ヘキサンを乾燥させてp−ヒドロキシフェニルメタクリレート85質量部を得た。この結晶のp−ヒドロキシフェニルメタクリレートは99.6モル%であった。
[Example 1]
Synthesis of 4-hydroxyphenyl methacrylate In a flask equipped with a stirrer, 100 parts by mass of hydroquinone, 140 parts by mass of methacrylic anhydride, 200 parts by mass of 1,4-dioxane and 1.0 part by mass of p-toluenesulfonic acid were added. The reaction was carried out at 4 ° C. for 4 hours. It was confirmed by IR measurement that carbonyl anhydride (1783 cm −1 ) of methacrylic anhydride had disappeared, and neutralized with 1.0 part by mass of triethylamine. According to 1 H-NMR measurement, washing with ion-exchanged water was repeated until the unreacted hydroquinone was 0.1 mol% with respect to 100 mol% of the total of unreacted hydroquinone, p-hydroxyphenyl methacrylate and p-phenylene dimethacrylate. A slurry containing crude crystals was obtained. The chemical shift in 1 H-NMR measurement was as follows: benzene ring of hydroquinone: 6.57 ppm, benzene ring of p-hydroxyphenyl methacrylate: 6.76 to 6.96 ppm, benzene ring of p-phenylene dimethacrylate: 1.49 ppm It is.
Next, 160 parts by mass of toluene was added, and the crude crystals were dissolved at 60 ° C. Water contained in the crude crystals was separated and removed at 60 ° C., and a toluene solution in which the crude crystals were dissolved was added to 110 parts by mass of hexane to precipitate crystals. Subsequently, washing with hexane was repeated until the by-product p-phenylene dimethacrylate was 0.3 mol%, and then hexane was dried to obtain 85 parts by mass of p-hydroxyphenyl methacrylate. The p-hydroxyphenyl methacrylate of this crystal was 99.6 mol%.

[実施例2]
粗結晶の溶解に用いたトルエンをキシレンに変更し、粗結晶の溶解温度を60℃から70℃に変更し、貧溶媒であるヘキサンをメチルシクロヘキサンに変更した以外は実施例1と同様にして、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート84質量部を得た。この結晶のH−NMR測定による純度は99.5モル%であった。
[Example 2]
Toluene used for dissolution of the crude crystals was changed to xylene, the dissolution temperature of the crude crystals was changed from 60 ° C. to 70 ° C., and the hexane as a poor solvent was changed to methylcyclohexane in the same manner as in Example 1, 84 parts by mass of p-hydroxyphenyl methacrylate was obtained. The purity of this crystal determined by 1 H-NMR measurement was 99.5 mol%.

[実施例3]
3−ヒドロキシフェニルメタクリレートの合成
攪拌機を備えたフラスコに、レゾルシン100質量部、メタクリル酸無水物140質量部、1,4−ジオキサン50質量部及び硫酸0.1質量部を入れ、80℃で4時間反応させた。IR測定により無水メタクリル酸のカルボニルの吸収(1783cm−1)が消失したことを確認し、トリエチルアミン0.1質量部で中和した。H−NMR測定により、未反応レゾルシン、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート及びm−フェニレンジメタクリレートの合計100モル%に対し、未反応レゾルシンが0.4モル%になるまでイオン交換水による洗浄を繰り返して粗結晶を含むスラリーを得た。
次に、トルエン160質量部を添加し、60℃で粗結晶を溶解させた。60℃で粗結晶中に含まれる水を分離除去し、粗結晶が溶解されたトルエン溶液にシクロヘキサン110質量部を添加して結晶を析出させた。引き続き、副成物であるm−フェニレンジメタクリレートが0.4モル%になるまでヘキサンによる洗浄を繰り返した後、シクロヘキサンを乾燥させて、m−ヒドロキシフェニルメタクリレートの結晶80質量部を得た。この結晶のH−NMR測定による純度は99.2モル%であった。
[Example 3]
Synthesis of 3-hydroxyphenyl methacrylate In a flask equipped with a stirrer, 100 parts by mass of resorcin, 140 parts by mass of methacrylic anhydride, 50 parts by mass of 1,4-dioxane and 0.1 part by mass of sulfuric acid were added, and the mixture was heated at 80 ° C. for 4 hours. Reacted. By IR measurement, it was confirmed that absorption of carbonyl of methacrylic anhydride (1783 cm −1 ) disappeared, and neutralized with 0.1 part by mass of triethylamine. By 1 H-NMR measurement, washing with ion-exchanged water was repeated until the total amount of unreacted resorcin was 0.4 mol% with respect to the total of 100 mol% of unreacted resorcin, m-hydroxyphenyl methacrylate and m-phenylene dimethacrylate. A slurry containing crude crystals was obtained.
Next, 160 parts by mass of toluene was added, and the crude crystals were dissolved at 60 ° C. Water contained in the crude crystals was separated and removed at 60 ° C., and 110 parts by mass of cyclohexane was added to the toluene solution in which the crude crystals were dissolved to precipitate crystals. Subsequently, washing with hexane was repeated until the by-product m-phenylene dimethacrylate was 0.4 mol%, and then cyclohexane was dried to obtain 80 parts by mass of m-hydroxyphenyl methacrylate crystals. The purity of this crystal determined by 1 H-NMR measurement was 99.2 mol%.

[比較例1]
攪拌機を備えたフラスコに、ヒドロキノン100質量部、メタクリル酸無水物131質量部、テトラヒドロフラン900質量部及び硫酸6.0質量部を入れ、室温、窒素雰囲気下で21時間反応させた。IR測定により無水メタクリル酸のカルボニルの吸収(1783cm−1)が消失したことを確認し、得られた反応溶液を水5000質量部中に注ぎ、水酸化ナトリウムで中和した。更に、1時間、窒素雰囲気下で攪拌し、上澄みを除去した後、大量のヘキサンで洗浄を繰り返したが、p−フェニレンジメタクリレートは1.5モル%までしか除去できなかった。ヘキサンを乾燥させてp−ヒドロキシフェニルメタクリレートの結晶62質量部を得た。この結晶中のp−ヒドロキシフェニルメタクリレート含有量は98.4モル%であった。
[Comparative Example 1]
In a flask equipped with a stirrer, 100 parts by mass of hydroquinone, 131 parts by mass of methacrylic anhydride, 900 parts by mass of tetrahydrofuran and 6.0 parts by mass of sulfuric acid were added and reacted at room temperature in a nitrogen atmosphere for 21 hours. It was confirmed by IR measurement that absorption of carbonyl of methacrylic anhydride (1783 cm −1 ) disappeared, and the resulting reaction solution was poured into 5000 parts by mass of water and neutralized with sodium hydroxide. Furthermore, after stirring for 1 hour in a nitrogen atmosphere and removing the supernatant, washing with a large amount of hexane was repeated, but p-phenylene dimethacrylate was only removed up to 1.5 mol%. Hexane was dried to obtain 62 parts by mass of p-hydroxyphenyl methacrylate crystals. The p-hydroxyphenyl methacrylate content in the crystals was 98.4 mol%.

[参考例1]
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、実施例1で得られたp−ヒドロキシフェニルメタクリレートの結晶(組成物)100質量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300質量部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル4.0質量部を仕込み、80℃で6時間反応させた。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は19,900であった。
[Reference Example 1]
In a flask equipped with a reflux condenser and a stirrer, 100 parts by mass of p-hydroxyphenyl methacrylate crystals (composition) obtained in Example 1, 300 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, and azobis as a polymerization initiator. 4.0 parts by mass of isobutyronitrile was charged and reacted at 80 ° C. for 6 hours. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polymer was 19,900.

[参考例2〜3及び比較参考例1]
実施例2〜3及び比較例1で得られたヒドロキシフェニルメタクリレートの結晶(組成物)を用いて、参考例1と同様にしてポリマーを得た。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)を表1に示す。
[Reference Examples 2-3 and Comparative Reference Example 1]
Using the hydroxyphenyl methacrylate crystals (composition) obtained in Examples 2 to 3 and Comparative Example 1, a polymer was obtained in the same manner as in Reference Example 1. Table 1 shows the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polymer.

Figure 0004955276
Figure 0004955276

参考例1〜3ではいずれもポリマーが得られたが、比較参考例1では、重合途中で異常に粘度が上昇し流動性を失った。この原因としては、比較例1で得られたヒドロキシフェニルメタクリレートの結晶中にp−フェニレンジメタクリレートが多く含まれているためであると考えられる。   In Reference Examples 1 to 3, polymers were obtained, but in Comparative Reference Example 1, the viscosity increased abnormally during the polymerization and lost fluidity. This is considered to be because a large amount of p-phenylene dimethacrylate is contained in the hydroxyphenyl methacrylate crystal obtained in Comparative Example 1.

Claims (8)

ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、二価フェノール類及びフェニレンジ(メタ)アクリレートのみからなるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物であって、
前記ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、前記二価フェノール類及び前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの合計100モル%に対し、前記二価フェノール類の含有量が0モル%超0.2モル%以下であり且つ前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの含有量が0モル%超1.0モル%以下であることを特徴とするヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物。
A hydroxyphenyl (meth) acrylate composition consisting only of hydroxyphenyl (meth) acrylate, dihydric phenols and phenylene di (meth) acrylate,
The content of the dihydric phenols is more than 0 mol% and 0.2 mol% or less with respect to 100 mol% in total of the hydroxyphenyl (meth) acrylate, the dihydric phenols and the phenylene di (meth) acrylate. And the content of the said phenylene di (meth) acrylate is more than 0 mol% and 1.0 mol% or less, The hydroxyphenyl (meth) acrylate composition characterized by the above-mentioned.
二価フェノール類と(メタ)アクリル酸無水物とを反応させて、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートと副成物であるフェニレンジ(メタ)アクリレートとを含有する反応溶液を調製する工程、
前記反応溶液中の未反応二価フェノール類を水洗浄により除去して粗結晶を調製する工程、
前記粗結晶を、トルエン、キシレン又はこれらの混合物である溶媒で溶解させて溶解液を調製する工程、及び
前記溶解液を貧溶媒と接触させることにより前記溶解液中の前記フェニレンジ(メタ)アクリレートを除去する工程
を含むことを特徴とするヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法。
A step of preparing a reaction solution containing hydroxyphenyl (meth) acrylate and by-product phenylene di (meth) acrylate by reacting dihydric phenols with (meth) acrylic anhydride,
Removing unreacted dihydric phenols in the reaction solution by washing with water to prepare crude crystals;
A step of preparing a solution by dissolving the crude crystals with a solvent that is toluene, xylene or a mixture thereof ; and the phenylene di (meth) acrylate in the solution by contacting the solution with a poor solvent. The manufacturing method of the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition characterized by including the process of removing.
前記二価フェノール類と前記(メタ)アクリル酸無水物とを反応させる際に、酸触媒として有機スルホン酸又は無機酸を用いることを特徴とする請求項2に記載のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法。   The hydroxyphenyl (meth) acrylate composition according to claim 2, wherein an organic sulfonic acid or an inorganic acid is used as an acid catalyst when the dihydric phenol and the (meth) acrylic anhydride are reacted. Manufacturing method. 前記未反応二価フェノール類、前記ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート及び前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの合計量100モル%に対し、前記未反応二価フェノール類を1.0モル%以下まで除去し、前記フェニレンジ(メタ)アクリレートを1.0モル%以下まで除去することを特徴とする請求項2又は3に記載のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法。   For the total amount of 100 mol% of the unreacted dihydric phenols, the hydroxyphenyl (meth) acrylate and the phenylene di (meth) acrylate, the unreacted dihydric phenols are removed to 1.0 mol% or less, The said phenylene di (meth) acrylate is removed to 1.0 mol% or less, The manufacturing method of the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition of Claim 2 or 3 characterized by the above-mentioned. 前記貧溶媒が、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン及びヘプタンから選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項2〜の何れか一項に記載のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法。 The poor solvent is hexane, cyclohexane, hydroxyphenyl (meth) acrylate composition according to any one of claims 2-4, characterized in that at least one selected from methylcyclohexane, ethylcyclohexane and heptane Manufacturing method. 前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの除去後に、前記貧溶媒を脱液、乾燥させる工程を更に含むことを特徴とする請求項2〜5の何れか一項に記載のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物の製造方法。The hydroxyphenyl (meth) acrylate composition according to any one of claims 2 to 5, further comprising a step of removing and drying the poor solvent after the removal of the phenylene di (meth) acrylate. Manufacturing method. 請求項1に記載のヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物を重合原料として使用することを特徴とするポリマーの製造方法。A method for producing a polymer, wherein the hydroxyphenyl (meth) acrylate composition according to claim 1 is used as a polymerization raw material. 二価フェノール類及びフェニレンジ(メタ)アクリレートを不純物として含むヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートであって、Hydroxyphenyl (meth) acrylate containing dihydric phenols and phenylene di (meth) acrylate as impurities,
前記ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート100モル%に対し、前記二価フェノール類の含有量が0モル%超0.2モル%以下であり且つ前記フェニレンジ(メタ)アクリレートの含有量が0モル%超1.0モル%以下であることを特徴とするヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート。The content of the dihydric phenol is more than 0 mol% and not more than 0.2 mol% and the content of the phenylene di (meth) acrylate is more than 0 mol% with respect to 100 mol% of the hydroxyphenyl (meth) acrylate. Hydroxyphenyl (meth) acrylate characterized by being 1.0 mol% or less.
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