JP4945998B2 - Integrated circuit device and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、集積回路装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to an integrated circuit device and an electronic apparatus.

近年、EMIノイズの低減などを目的としたインターフェースとしてLVDS(Low Voltage Differential Signaling)などの高速シリアル転送が脚光を浴びている。この高速シリアル転送では、トランスミッタ回路がシリアル化されたデータを差動信号により送信し、レシーバ回路が差動信号を差動増幅することでデータ転送を実現する。   In recent years, high-speed serial transfer such as LVDS (Low Voltage Differential Signaling) has attracted attention as an interface for the purpose of reducing EMI noise. In this high-speed serial transfer, the transmitter circuit transmits serialized data as a differential signal, and the receiver circuit differentially amplifies the differential signal to realize data transfer.

一般的な携帯電話機は、電話番号入力や文字入力のためのボタンが設けられる第1の機器部分と、LCD(Liquid Crystal Display)やカメラデバイスが設けられる第2の機器部分と、第1、第2の機器部分を接続するヒンジなどの接続部分により構成される。従って、第1の機器部分に設けられる第1の回路基板と、第2の機器部分に設けられる第2の回路基板との間のデータ転送を、小振幅の差動信号を用いた高速シリアル転送により行えば、接続部分を通る配線の本数を減らすことができ、好都合である。   A general mobile phone includes a first device portion provided with buttons for inputting a telephone number and characters, a second device portion provided with an LCD (Liquid Crystal Display) and a camera device, and first and first devices. It is comprised by connection parts, such as a hinge which connects two apparatus parts. Therefore, data transfer between the first circuit board provided in the first device portion and the second circuit board provided in the second device portion is performed by high-speed serial transfer using a small amplitude differential signal. This is advantageous because the number of wires passing through the connection portion can be reduced.

このような高速シリアル転送を実現するためには、高速インターフェース回路を表示ドライバ、ホストデバイスなどの集積回路装置に組み込む必要がある。そしてこのような高速インターフェース回路を組み込んだ場合、高速インターフェース回路内のトランジスタが静電気により破壊されてしまうおそれがある。   In order to realize such high-speed serial transfer, it is necessary to incorporate a high-speed interface circuit into an integrated circuit device such as a display driver or a host device. When such a high-speed interface circuit is incorporated, the transistors in the high-speed interface circuit may be destroyed by static electricity.

また高速インターフェース回路の差動信号は、電圧振幅が例えば0.1V〜1.0Vというように小さいため、ドライバ回路などの他の回路ブロックで発生するノイズの影響を受けやすい。また高速インターフェース回路で生じるノイズがドライバ回路に悪影響を及ぼす可能性もある。
特開2001−222249号公報
Further, since the differential signal of the high-speed interface circuit has a small voltage amplitude such as 0.1 V to 1.0 V, it is easily affected by noise generated in other circuit blocks such as a driver circuit. In addition, noise generated in the high-speed interface circuit may adversely affect the driver circuit.
JP 2001-222249 A

本発明は、以上のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、静電気破壊等を効果的に防止できる集積回路装置及びこれを含む電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above technical problems, and an object of the present invention is to provide an integrated circuit device capable of effectively preventing electrostatic breakdown and the like and an electronic apparatus including the integrated circuit device. is there.

本発明は、シリアルバスを介してデータ転送を行う物理層回路を含む高速インターフェース回路ブロックと、少なくとも1つの他の回路ブロックとを含み、前記高速インターフェース回路ブロックは、前記高速インターフェース回路ブロックの電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる保護回路を含む第1、第2の保護回路ブロックを含み、前記第1の保護回路ブロックは、前記高速インターフェース回路ブロックの短辺である第1の辺側に配置され、前記第2の保護回路ブロックは、前記高速インターフェース回路ブロックの前記第1の辺に対向する第3の辺側に配置される集積回路装置に関係する。   The present invention includes a high-speed interface circuit block including a physical layer circuit that performs data transfer via a serial bus, and at least one other circuit block. The high-speed interface circuit block includes a power source for the high-speed interface circuit block, Including first and second protection circuit blocks including a protection circuit provided between the power supply of the other circuit block, and the first protection circuit block is a first side that is a short side of the high-speed interface circuit block. The second protection circuit block is related to an integrated circuit device arranged on the third side opposite to the first side of the high-speed interface circuit block.

本発明によれば、高速インターフェース回路ブロックの第1の辺側に第1の保護回路ブロックが配置され、第2の辺側に第2の保護回路ブロックが配置される。従って、他の回路ブロックの電源からの静電気が第1の辺側から到来した場合には、第1の保護回路ブロックにより静電気破壊等を防止でき、他の回路ブロックの電源からの静電気が第2の辺側から到来した場合には、第2の保護回路ブロックにより静電気破壊等を防止できる。従って、高速インターフェース回路を組み込んだ場合にも静電気破壊等を効果的に防止でき、集積回路装置の信頼性を向上できる。   According to the present invention, the first protection circuit block is disposed on the first side of the high-speed interface circuit block, and the second protection circuit block is disposed on the second side. Therefore, when static electricity from the power source of another circuit block comes from the first side, the first protection circuit block can prevent electrostatic breakdown or the like, and static electricity from the power source of the other circuit block is second. In the case of coming from the side, the electrostatic breakdown or the like can be prevented by the second protection circuit block. Therefore, even when a high-speed interface circuit is incorporated, electrostatic breakdown and the like can be effectively prevented, and the reliability of the integrated circuit device can be improved.

また本発明では、前記物理層回路は、前記第1、第2の保護回路ブロックの間に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the physical layer circuit may be disposed between the first and second protection circuit blocks.

このようにすれば、物理層回路のトランジスタ等が破壊されるのを、物理層回路の両サイドに配置された第1、第2の保護回路ブロックにより効果的に防止できる。   By doing so, it is possible to effectively prevent the transistors of the physical layer circuit from being destroyed by the first and second protection circuit blocks arranged on both sides of the physical layer circuit.

また本発明では、前記高速インターフェース回路ブロックは、前記物理層回路と、ロジック回路を含み、前記高速インターフェース回路ブロックの前記第1の辺から前記第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、前記高速インターフェース回路ブロックの長辺である第2の辺から対向する第4の辺へと向かう方向を第2の方向とした場合に、前記ロジック回路は、前記物理層回路の前記第2の方向側に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the high-speed interface circuit block includes the physical layer circuit and a logic circuit, and a direction from the first side to the third side of the high-speed interface circuit block is a first direction. When the direction from the second side, which is the long side of the high-speed interface circuit block, to the fourth side facing the second direction is the second direction, the logic circuit is configured to output the second layer of the physical layer circuit. It may be arranged on the direction side.

このようにすれば、信号の流れに沿った効率的なレイアウトが可能になる。   In this way, an efficient layout along the signal flow becomes possible.

また本発明では、前記他の回路ブロックとして、表示制御信号を生成するドライバ用ロジック回路ブロックを含み、前記ドライバ用ロジック回路ブロックは、前記ロジック回路の前記第2の方向側に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the other circuit block includes a driver logic circuit block that generates a display control signal, and the driver logic circuit block is arranged on the second direction side of the logic circuit. May be.

このようにすれば、ロジック回路、ドライバ用ロジック回路ブロック間の配線をショートパスで接続できるようになり、レイアウト効率を向上できる。   In this way, the wiring between the logic circuit and the driver logic circuit block can be connected by a short path, and the layout efficiency can be improved.

また本発明では、前記物理層回路の前記第1の方向での長さをL1とし、前記ロジック回路の前記第1の方向での長さをL2とした場合に、L2>L1であってもよい。   In the present invention, when the length of the physical layer circuit in the first direction is L1, and the length of the logic circuit in the first direction is L2, L2> L1 Good.

このようにすればロジック回路、ドライバ用ロジック回路ブロック間の信号配線領域の幅を広くすることができ、配線をショートパスで接続できるようになる。   In this way, the width of the signal wiring area between the logic circuit and the driver logic circuit block can be widened, and the wiring can be connected by a short path.

また本発明では、前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、前記物理層回路の前記第3の方向側の第1の領域に前記第1の保護回路ブロックが配置され、前記物理層回路の前記第1の方向側の第2の領域に前記第2の保護回路ブロックが配置されるようにしてもよい。   In the present invention, when the direction opposite to the first direction is the third direction, the first protection circuit block is arranged in the first region on the third direction side of the physical layer circuit. The second protection circuit block may be arranged in a second region on the first direction side of the physical layer circuit.

このようにすれば、物理層回路の第3の方向側の空き領域である第1の領域や第1の方向側の空き領域である第2の領域を有効活用できる。   In this way, it is possible to effectively utilize the first area that is the empty area on the third direction side of the physical layer circuit and the second area that is the empty area on the first direction side.

また本発明では、前記第1、第2の領域に、前記高速インターフェース回路ブロックの高電位側電源と低電位側電源の間に設けられるキャパシタが形成されるキャパシタ領域が配置されるようにしてもよい。   In the present invention, a capacitor region in which a capacitor provided between the high potential side power source and the low potential side power source of the high-speed interface circuit block is disposed in the first and second regions. Good.

このようにすれば、第1、第2の領域を有効活用して電源の安定化を図れる。   In this way, the power supply can be stabilized by effectively utilizing the first and second regions.

また本発明では、前記高速インターフェース回路ブロックは、前記物理層回路と、ロジック回路と、共用電源の電源線を含み、前記第1の保護回路ブロックは、前記物理層回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第1の保護回路と、前記ロジック回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第2の保護回路と、前記他の回路ブロックの電源と前記共用電源との間に設けられる第3の保護回路を含み、前記第2の保護回路ブロックは、前記物理層回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第4の保護回路と、前記ロジック回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第5の保護回路と、前記他の回路ブロックの電源と前記共用電源との間に設けられる第6の保護回路を含むようにしてもよい。   In the present invention, the high-speed interface circuit block includes the physical layer circuit, a logic circuit, and a power supply line of a shared power supply, and the first protection circuit block includes a power supply of the physical layer circuit and the shared power supply. A first protection circuit provided between the power supply of the logic circuit and the shared power supply, a second protection circuit provided between the power supply of the logic circuit and the shared power supply. The second protection circuit block includes a fourth protection circuit provided between a power supply of the physical layer circuit and the shared power supply, a power supply of the logic circuit, and the shared power supply. And a sixth protection circuit provided between the power supply of the other circuit block and the shared power supply.

このようにすれば、物理層回路の電源、ロジック回路の電源、他の回路ブロックの電源と、共用電源との間に、1段の保護回路が配置されるようになる。従って、一部の経路においてのみ静電気耐圧やノイズ耐性が低下してしまう事態を防止できる。   In this way, a one-stage protection circuit is arranged between the power supply for the physical layer circuit, the power supply for the logic circuit, the power supply for other circuit blocks, and the shared power supply. Accordingly, it is possible to prevent a situation where the electrostatic withstand voltage and noise resistance are reduced only in a part of the paths.

また本発明では、前記高速インターフェース回路ブロックは、前記物理層回路と、ロジック回路を含み、前記第1の保護回路ブロックは、前記物理層回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第1の保護回路と、前記ロジック回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第2の保護回路を含み、前記第2の保護回路ブロックは、前記物理層回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第4の保護回路と、前記ロジック回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第5の保護回路を含むようにしてもよい。   In the present invention, the high-speed interface circuit block includes the physical layer circuit and a logic circuit, and the first protection circuit block is between a power supply of the physical layer circuit and a power supply of the other circuit block. A first protection circuit provided; and a second protection circuit provided between a power supply of the logic circuit and a power supply of the other circuit block, wherein the second protection circuit block includes: A fourth protection circuit provided between a power supply and the power supply of the other circuit block; and a fifth protection circuit provided between the power supply of the logic circuit and the power supply of the other circuit block. Good.

このようにすれば、物理層回路の電源、ロジック回路の電源と、他の回路ブロックの電源との間に、1段の保護回路が配置されるようになる。従って、一部の経路においてのみ静電気耐圧等が低下してしまう事態を防止できる。   In this way, a one-stage protection circuit is arranged between the power supply for the physical layer circuit, the power supply for the logic circuit, and the power supply for other circuit blocks. Therefore, it is possible to prevent a situation where the electrostatic withstand voltage or the like is lowered only in a part of the paths.

また本発明では、前記高速インターフェース回路ブロックの前記第1の辺から前記第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、前記第1の保護回路の前記第3の方向側に前記第2の保護回路が配置され、前記第4の保護回路の前記第1の方向側に前記第5の保護回路が配置されるようにしてもよい。   In the present invention, when the direction from the first side to the third side of the high-speed interface circuit block is a first direction, and the direction opposite to the first direction is a third direction. The second protection circuit is disposed on the third direction side of the first protection circuit, and the fifth protection circuit is disposed on the first direction side of the fourth protection circuit. It may be.

このようにすれば、物理層回路やロジック回路に供給する電源の電源線の効率的な配線が可能になる。   In this way, it is possible to efficiently wire the power supply lines of the power supplied to the physical layer circuit and the logic circuit.

また本発明では、前記第1の保護回路と前記物理層回路を接続する第1の電源線の前記第3の方向側に、前記第2の保護回路と前記ロジック回路を接続する第2の電源線が配線され、前記第4の保護回路と前記物理層回路を接続する第4の電源線の前記第1の方向側に、前記第5の保護回路と前記ロジック回路を接続する第5の電源線が配線されるようにしてもよい。   In the present invention, the second power supply for connecting the second protection circuit and the logic circuit to the third direction side of the first power supply line for connecting the first protection circuit and the physical layer circuit. A fifth power supply for connecting the fifth protection circuit and the logic circuit to the first direction side of the fourth power supply line for connecting the fourth protection circuit and the physical layer circuit. Lines may be routed.

このようにすれば、第1、第2の電源線が交差して配線されたり、第4、第5の電源線が交差して配線される事態を防止でき、レイアウト効率を向上できる。   In this way, it is possible to prevent the first and second power supply lines from being crossed and the fourth and fifth power supply lines from crossing and to prevent layout efficiency.

また本発明では、前記高速インターフェース回路ブロックの長辺である第2の辺から対向する第4の辺へと向かう方向を第2の方向とし、前記第2の方向の反対方向を第4の方向とした場合に、前記第1の電源線が接続される第1のパッドが、前記第1の保護回路の前記第4の方向側に配置され、前記第2の電源線が接続される第2のパッドが、前記第1のパッドの前記第3の方向側に配置され、前記第4の電源線が接続される第4のパッドが、前記第4の保護回路の前記第4の方向側に配置され、前記第5の電源線が接続される第5のパッドが、前記第4のパッドの前記第1の方向側に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the direction from the second side, which is the long side of the high-speed interface circuit block, to the fourth side facing the second side is defined as the second direction, and the direction opposite to the second direction is defined as the fourth direction. In this case, the first pad to which the first power supply line is connected is disposed on the fourth direction side of the first protection circuit, and the second pad to which the second power supply line is connected. Are arranged on the third direction side of the first pad, and the fourth pad to which the fourth power supply line is connected is on the fourth direction side of the fourth protection circuit. A fifth pad that is disposed and connected to the fifth power supply line may be disposed on the first direction side of the fourth pad.

このようにすれば、第1、第2のパッドからの第1、第2の電源線や、第4、第5のパッドからの第4、第5の電源線を、物理層回路の両サイドの空き領域を利用して効率的に配線できるようになり、レイアウト効率を向上できる。   In this way, the first and second power lines from the first and second pads and the fourth and fifth power lines from the fourth and fifth pads are connected to both sides of the physical layer circuit. This makes it possible to efficiently perform wiring by using the free space, thereby improving the layout efficiency.

また本発明では、前記物理層回路の受信用パッド又は送信用パッドの少なくとも一方が、前記第1のパッドと前記第4のパッドの間に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, at least one of the reception pad and the transmission pad of the physical layer circuit may be disposed between the first pad and the fourth pad.

このようにすれば、物理層回路の受信用パッドや送信用パッドを、高速インターフェース回路ブロックの中央付近にまとめて配置できるようになり、信号伝送品質を向上できると共に、パッドの効率的なレイアウトが可能になる。   In this way, the receiving and transmitting pads of the physical layer circuit can be arranged together near the center of the high-speed interface circuit block, which can improve the signal transmission quality and the efficient layout of the pads. It becomes possible.

また本発明では、前記第1、第2の保護回路ブロックが含む保護回路は、双方向ダイオードを含むようにしてもよい。   In the present invention, the protection circuit included in the first and second protection circuit blocks may include a bidirectional diode.

このようにすれば、第1、第2の保護回路ブロックの保護回路に、静電気防止の機能とノイズ除去の機能を持たせることが可能になる。   In this way, the protection circuits of the first and second protection circuit blocks can be provided with an antistatic function and a noise removal function.

また本発明は、上記のいずれかに記載の集積回路装置と、前記集積回路装置により駆動される表示パネルとを含む電子機器に関係する。   The present invention also relates to an electronic apparatus including any one of the integrated circuit devices described above and a display panel driven by the integrated circuit device.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお以下に説明する本実施形態は特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The present embodiment described below does not unduly limit the contents of the present invention described in the claims, and all the configurations described in the present embodiment are indispensable as means for solving the present invention. Not necessarily.

1.集積回路装置の回路構成
図1に本実施形態の集積回路装置10が表示ドライバである場合の回路構成例を示す。なお集積回路装置10の回路構成は図1に限定されず、種々の変形実施が可能である。例えば図1の構成要素の一部を省略したり、図1に示されるもの以外の構成要素を含んでいてもよい。また本実施形態の集積回路装置は、表示ドライバには限定されず、ベースバンドエンジン、アプリケーションプロセッサ、画像処理コントローラなどのホストデバイスなどであってもよい。
1. Circuit Configuration of Integrated Circuit Device FIG. 1 shows a circuit configuration example when the integrated circuit device 10 of this embodiment is a display driver. The circuit configuration of the integrated circuit device 10 is not limited to that shown in FIG. 1, and various modifications can be made. For example, some of the components in FIG. 1 may be omitted, or components other than those shown in FIG. 1 may be included. The integrated circuit device according to the present embodiment is not limited to the display driver, and may be a host device such as a baseband engine, an application processor, or an image processing controller.

表示パネル512は、複数のデータ線(ソース線)と、複数の走査線(ゲート線)と、データ線及び走査線により特定される複数の画素を有する。そして各画素領域における電気光学素子(狭義には、液晶素子)の光学特性を変化させることで、表示動作を実現する。この表示パネル512は、TFT、TFDなどのスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式のパネルにより構成できる。なお表示パネル512は、アクティブマトリクス方式以外のパネルであってもよいし、液晶パネル以外のパネル(有機ELパネル等)であってもよい。   The display panel 512 includes a plurality of data lines (source lines), a plurality of scanning lines (gate lines), and a plurality of pixels specified by the data lines and the scanning lines. A display operation is realized by changing the optical characteristics of the electro-optical element (in a narrow sense, a liquid crystal element) in each pixel region. This display panel 512 can be constituted by an active matrix type panel using switching elements such as TFT and TFD. Note that the display panel 512 may be a panel other than the active matrix method, or may be a panel other than the liquid crystal panel (such as an organic EL panel).

メモリ520(RAM)は画像データを記憶する。メモリセルアレイ522は複数のメモリセルを含み、少なくとも1フレーム(1画面)分の画像データ(表示データ)を記憶する。このメモリ520は、ローアドレスデコーダ524(MPU/LCDローアドレスデコーダ)、カラムアドレスデコーダ526(MPUカラムアドレスデコーダ)、ライト/リード回路528(MPUライト/リード回路)を含む。   A memory 520 (RAM) stores image data. The memory cell array 522 includes a plurality of memory cells and stores image data (display data) for at least one frame (one screen). The memory 520 includes a row address decoder 524 (MPU / LCD row address decoder), a column address decoder 526 (MPU column address decoder), and a write / read circuit 528 (MPU write / read circuit).

ロジック回路540(ドライバ用ロジック回路)は、表示タイミングやデータ処理タイミングを制御するための表示制御信号を生成する。このロジック回路540は例えばゲートアレイ(G/A)などの自動配置配線により形成できる。制御回路542は各種制御信号を生成したり、装置全体の制御を行う。表示タイミング制御回路544は表示タイミングの制御信号を生成し、メモリ520から表示パネル512側への画像データの読み出しを制御する。ホストI/F(インターフェース)回路546は、ホスト(MPU)からのアクセス毎に内部パルスを発生してメモリ520にアクセスするホストインターフェースを実現する。RGBI/F回路548は、ドットクロックにより動画のRGBデータをメモリ520に書き込むRGBインターフェースを実現する。高速I/F回路620はシリアルバスを介した高速シリアル転送を実現する。   The logic circuit 540 (driver logic circuit) generates a display control signal for controlling display timing and data processing timing. The logic circuit 540 can be formed by automatic placement and routing such as a gate array (G / A). The control circuit 542 generates various control signals and controls the entire apparatus. The display timing control circuit 544 generates a display timing control signal and controls reading of image data from the memory 520 to the display panel 512 side. The host I / F (interface) circuit 546 implements a host interface that generates an internal pulse for each access from the host (MPU) and accesses the memory 520. The RGB I / F circuit 548 realizes an RGB interface that writes moving image RGB data to the memory 520 using a dot clock. The high-speed I / F circuit 620 realizes high-speed serial transfer via a serial bus.

データドライバ550は、表示パネル512のデータ線を駆動するためのデータ信号を生成する。具体的にはデータドライバ550は、メモリ520から画像データである階調データを受け、階調電圧生成回路610から複数(例えば64段階)の階調電圧(基準電圧)を受ける。そして、これらの複数の階調電圧の中から、階調データに対応する電圧を選択して、データ信号(データ電圧)として表示パネル512の各データ線に出力する。   The data driver 550 generates a data signal for driving the data lines of the display panel 512. Specifically, the data driver 550 receives gradation data that is image data from the memory 520 and receives a plurality of (for example, 64 levels) gradation voltages (reference voltages) from the gradation voltage generation circuit 610. Then, a voltage corresponding to the gradation data is selected from the plurality of gradation voltages and is output to each data line of the display panel 512 as a data signal (data voltage).

走査ドライバ570は表示パネルの走査線を駆動するための走査信号を生成する。電源回路590は各種の電源電圧を生成し、データドライバ550、走査ドライバ570、階調電圧生成回路610等に供給する。階調電圧生成回路610(γ補正回路)は階調電圧を生成し、データドライバ550に出力する。   The scan driver 570 generates a scan signal for driving the scan line of the display panel. The power supply circuit 590 generates various power supply voltages and supplies them to the data driver 550, the scan driver 570, the gradation voltage generation circuit 610, and the like. The gradation voltage generation circuit 610 (γ correction circuit) generates a gradation voltage and outputs it to the data driver 550.

2.高速I/F回路の構成
図2(A)に高速I/F(インターフェース)回路620の構成例を示す。物理層回路630(アナログフロントエンド回路、トランシーバ)は、差動信号(差動データ信号、差動ストローブ信号、差動クロック信号)等を用いたシリアルバスを介してデータ(パケット)を受信したり、送信するための回路である。具体的にはシリアルバスの差動信号線を電流駆動又は電圧駆動することによりデータの送受信が行われる。この物理層回路630は、シリアルバスを介してデータを受信するレシーバ回路及びシリアルバスを介してデータを送信するトランスミッタ回路の少なくとも一方を含むことができる。
2. Configuration of High-Speed I / F Circuit FIG. 2A shows a configuration example of a high-speed I / F (interface) circuit 620. The physical layer circuit 630 (analog front-end circuit, transceiver) receives data (packets) via a serial bus using differential signals (differential data signals, differential strobe signals, differential clock signals), etc. , A circuit for transmitting. Specifically, data transmission / reception is performed by current driving or voltage driving the differential signal line of the serial bus. The physical layer circuit 630 can include at least one of a receiver circuit that receives data via a serial bus and a transmitter circuit that transmits data via a serial bus.

なおシリアルバスは多チャンネル構成のものであってもよい。またシングルエンド転送でシリアル転送を行ってもよい。また物理層回路630は高速ロジック回路を含むことができる。この高速ロジック回路は、シリアルバスの転送クロックに相当する高速クロックで動作する回路である。具体的には物理層回路630は、シリアルバスを介して受信したシリアルデータをパラレルデータに変換するシリアル/パラレル変換回路、シリアルバスを介して送信するシリアルデータにパラレルデータを変換するパラレル/シリアル変換回路、FIFO、エラスティシティバッファ、或いは分周回路などを含むことができる。   The serial bus may have a multi-channel configuration. Serial transfer may be performed by single-ended transfer. The physical layer circuit 630 can include a high-speed logic circuit. This high-speed logic circuit is a circuit that operates with a high-speed clock corresponding to the transfer clock of the serial bus. Specifically, the physical layer circuit 630 is a serial / parallel conversion circuit that converts serial data received via the serial bus into parallel data, and parallel / serial conversion that converts parallel data into serial data transmitted via the serial bus. A circuit, a FIFO, an elasticity buffer, a frequency divider, or the like can be included.

ロジック回路650は高速I/F回路620が内蔵するロジック回路であり、物理層の上層であるリンク層やトランザクション層の処理を行う。例えばシリアルバスを介して物理層回路630が受信したパケットを解析し、パケットのヘッダとデータを分離して、ヘッダを抽出する。また、シリアルバスを介してパケットを送信する場合には、そのパケットの生成処理を行う。このロジック回路650は例えばゲートアレイ(G/A)などの自動配置配線により形成できる。   The logic circuit 650 is a logic circuit built in the high-speed I / F circuit 620, and performs processing of a link layer and a transaction layer that are upper layers of the physical layer. For example, the packet received by the physical layer circuit 630 via the serial bus is analyzed, the packet header and data are separated, and the header is extracted. In addition, when a packet is transmitted via the serial bus, the packet generation process is performed. The logic circuit 650 can be formed by automatic placement and routing such as a gate array (G / A).

ロジック回路650はドライバI/F回路672を含む。ドライバI/F回路672は、高速I/F回路620と表示ドライバの内部回路(図1のドライバ用ロジック回路540、ホストI/F回路546)との間のインターフェース処理を行う。具体的にはドライバI/F回路672は、アドレス0信号A0(コマンド/データ識別信号)、ライト信号WR、リード信号RD、パラレルデータ信号PDATA、チップセレクト信号CSなどを含むインターフェース信号を生成して、表示ドライバの内部回路(他の回路ブロック)に出力する。   The logic circuit 650 includes a driver I / F circuit 672. The driver I / F circuit 672 performs interface processing between the high-speed I / F circuit 620 and the internal circuit (driver logic circuit 540 and host I / F circuit 546 in FIG. 1) of the display driver. Specifically, the driver I / F circuit 672 generates interface signals including an address 0 signal A0 (command / data identification signal), a write signal WR, a read signal RD, a parallel data signal PDATA, a chip select signal CS, and the like. And output to the internal circuit (other circuit block) of the display driver.

図2(B)に物理層回路の構成例を示す。図2(B)において、物理層回路640はホストデバイスに内蔵され、物理層回路630は表示ドライバに内蔵される。また636、642、644はトランスミッタ回路であり、632、634、646はレシーバ回路である。また638、648はウェイクアップ検出回路である。ホスト側のトランスミッタ回路642はSTB+/−を駆動する。そしてクライアント側のレシーバ回路632は、駆動により抵抗RT1の両端に発生した電圧を増幅し、ストローブ信号STB_Cを後段の回路に出力する。またホスト側のトランスミッタ回路644はDATA+/−を駆動する。そしてクライアント側のレシーバ回路634は、駆動により抵抗RT2の両端に発生した電圧を増幅し、データ信号DATA_C_HCを後段の回路に出力する。   FIG. 2B shows a configuration example of the physical layer circuit. In FIG. 2B, the physical layer circuit 640 is built in the host device, and the physical layer circuit 630 is built in the display driver. Reference numerals 636, 642, and 644 denote transmitter circuits, and reference numerals 632, 634, and 646 denote receiver circuits. Reference numerals 638 and 648 denote wakeup detection circuits. The transmitter circuit 642 on the host side drives STB +/−. The client-side receiver circuit 632 amplifies the voltage generated at both ends of the resistor RT1 by driving, and outputs a strobe signal STB_C to a subsequent circuit. The host-side transmitter circuit 644 drives DATA +/−. The client-side receiver circuit 634 amplifies the voltage generated at both ends of the resistor RT2 by driving, and outputs the data signal DATA_C_HC to the subsequent circuit.

図2(C)に示すように送信側は、データ信号DATAとクロック信号CLKの排他的論理和をとることで、ストローブ信号STBを生成し、このSTBを高速シリアルバスを介して受信側に送信する。そして受信側は、受信したデータ信号DATAとストローブ信号STBの排他的論理和をとることで、クロック信号CLKを再生する。   As shown in FIG. 2C, the transmitting side generates a strobe signal STB by taking the exclusive OR of the data signal DATA and the clock signal CLK, and transmits this STB to the receiving side via the high-speed serial bus. To do. The receiving side reproduces the clock signal CLK by taking an exclusive OR of the received data signal DATA and the strobe signal STB.

なお物理層回路の構成は図2(B)に限定されず、例えば図3(A)(B)に示すような種々の変形実施が可能である。   Note that the configuration of the physical layer circuit is not limited to that shown in FIG. 2B, and various modifications such as those shown in FIGS. 3A and 3B are possible.

例えば図3(A)の第1の変形例において、ホスト側は差動クロック信号CLK+/−のエッジに同期して差動データ信号(OUTデータ)DTO+/−を出力する。従ってターゲット側は、CLK+/−を用いてDTO+/−をサンプリングして取り込むことができる。またターゲット側はホスト側から供給された差動クロック信号CLK+/−に基づいて差動ストローブ信号STB+/−を生成して出力する。そしてターゲット側はSTB+/−のエッジに同期して差動データ信号(INデータ)DTI+/−を出力する。従ってホスト側は、STB+/−を用いてDTI+/−をサンプリングして取り込むことができる。   For example, in the first modification of FIG. 3A, the host side outputs a differential data signal (OUT data) DTO +/− in synchronization with the edge of the differential clock signal CLK +/−. Therefore, the target side can sample and capture DTO +/− using CLK +/−. The target side generates and outputs a differential strobe signal STB +/− based on the differential clock signal CLK +/− supplied from the host side. The target side outputs a differential data signal (IN data) DTI +/− in synchronization with the edge of STB +/−. Therefore, the host side can sample and capture DTI +/− using STB +/−.

また図3(B)の第2の変形例において、データ用のレシーバ回路750は差動データ信号DATA+/−を受信し、得られたシリアルデータSDATAをシリアル/パラレル変換回路754に出力する。クロック用のレシーバ回路752は差動クロック信号CLK+/−を受信し、得られたクロックCLKを後段のPLL(Phase Locked Loop)回路756に出力する。PLL回路756は、クロックCLKに基づいてサンプリングクロックSCK(周波数が同一で位相が互いに異なる多相のサンプリングクロック)を生成し、シリアル/パラレル変換回路754に出力する。シリアル/パラレル変換回路754は、サンプリングクロックSCKを用いて、シリアルデータSDATAをサンプリングし、パラレルデータPDATAを出力する。   In the second modification of FIG. 3B, the data receiver circuit 750 receives the differential data signal DATA +/−, and outputs the obtained serial data SDATA to the serial / parallel conversion circuit 754. The clock receiver circuit 752 receives the differential clock signal CLK +/−, and outputs the obtained clock CLK to a PLL (Phase Locked Loop) circuit 756 in the subsequent stage. The PLL circuit 756 generates a sampling clock SCK (a multi-phase sampling clock having the same frequency and different phases) based on the clock CLK, and outputs the sampling clock SCK to the serial / parallel conversion circuit 754. The serial / parallel conversion circuit 754 samples the serial data SDATA using the sampling clock SCK and outputs parallel data PDATA.

例えば携帯電話機などでは、MPU、BBE/APP、画像処理コントローラなどのホストデバイスは、電話番号入力や文字入力のためのボタンが設けられる携帯電話機の第1の機器部分の第1の回路基板に実装される。また表示ドライバは、表示パネル(LCD)やカメラデバイスが設けられる携帯電話機の第2の機器部分の第2の回路基板に実装される。   For example, in a cellular phone, a host device such as an MPU, BBE / APP, or image processing controller is mounted on a first circuit board of a first device portion of the cellular phone provided with buttons for entering a telephone number and characters. Is done. The display driver is mounted on the second circuit board of the second device portion of the mobile phone provided with a display panel (LCD) and a camera device.

そして従来は、ホストデバイス、表示ドライバの間でのデータ転送は、CMOS電圧レベルのパラレル転送により実現していた。このため、第1、第2の機器部分を接続するヒンジなどの接続部分を通る配線の本数が多くなって、設計の自由度を妨げたり、EMIノイズが発生するなどの問題があった。   Conventionally, data transfer between the host device and the display driver has been realized by parallel transfer at the CMOS voltage level. For this reason, the number of wirings that pass through a connecting portion such as a hinge connecting the first and second device portions increases, which causes problems such as hindering the degree of freedom in design and generating EMI noise.

これに対して図2(A)〜図3(B)では、ホストデバイス、表示ドライバ間でのデータ転送は小振幅のシリアル転送により実現される。従って第1、第2の機器部部分の接続部分を通る配線の本数を減らすことができると共にEMIノイズの発生を低減できる。   On the other hand, in FIGS. 2A to 3B, data transfer between the host device and the display driver is realized by small amplitude serial transfer. Therefore, it is possible to reduce the number of wires passing through the connecting portions of the first and second device portions, and to reduce the generation of EMI noise.

3.保護回路ブロック
図4に集積回路装置10のレイアウト例を示す。集積回路装置10は、高速I/F回路ブロックHBと、少なくとも1つの他の回路ブロック(HB以外の回路ブロック)を含む。ここで他の回路ブロックとは、データドライバブロックである。或いはドライバ(表示ドライバ)用ロジック回路ブロックや電源回路ブロックや階調電圧生成回路ブロックである。或いはメモリ内蔵の場合にはメモリブロックであり、アモルファスTFT用の場合には走査ドライバブロックである。
3. Protection Circuit Block FIG. 4 shows a layout example of the integrated circuit device 10. The integrated circuit device 10 includes a high-speed I / F circuit block HB and at least one other circuit block (circuit block other than HB). Here, the other circuit blocks are data driver blocks. Alternatively, they are a logic circuit block for driver (display driver), a power supply circuit block, and a gradation voltage generation circuit block. Alternatively, it is a memory block in the case of a built-in memory, and a scan driver block in the case of an amorphous TFT.

高速I/F回路ブロックHBは第1、第2の保護回路ブロック(保護回路領域)PTB1、PTB2を含む。この保護回路ブロックPTB1、PTB2の各々は、高速I/F回路ブロックHBの電源(低電位電源)VSSM、VSSG又はVSSAと、他の回路ブロックの電源(低電位電源)VSSとの間に設けられる少なくとも1つの保護回路を含む。   The high-speed I / F circuit block HB includes first and second protection circuit blocks (protection circuit regions) PTB1 and PTB2. Each of the protection circuit blocks PTB1 and PTB2 is provided between the power source (low potential power source) VSSM, VSSG, or VSSA of the high-speed I / F circuit block HB and the power source (low potential power source) VSS of the other circuit block. At least one protection circuit is included.

そして保護回路ブロックPTB1は、高速I/F回路ブロックHBの第1の辺SE1側に配置され、保護回路ブロックPTB2は、HBの辺SE1に対向する第3の辺SE3側に配置される。即ちHBの両サイドにPTB1、PTB2が配置される。例えば図4において、高速I/F回路ブロックHBの短辺である第1の辺SE1から対向する第3の辺SE3へと向かう方向を第1の方向D1とし、D1の反対方向を第3の方向D3としたとする。またHBの長辺である第2の辺SE2から対向する第4の辺SE4へと向かう方向を第2の方向D2とし、D2の反対方向を第4の方向D4としたとする。そして高速I/F回路ブロックHBのD2方向に沿った中心線を想定すると、保護回路ブロックPTB1はこの中心線のD3方向側に配置され、保護回路ブロックPTB2はこの中心線のD1方向側に配置される。なお図4ではHBの左辺が第1の辺SE1で、右辺が第3の辺SE3になっているが、左辺が第3の辺SE3で、右辺が第1の辺SE1であってもよい。   The protection circuit block PTB1 is arranged on the first side SE1 side of the high-speed I / F circuit block HB, and the protection circuit block PTB2 is arranged on the third side SE3 side facing the side SE1 of the HB. That is, PTB1 and PTB2 are arranged on both sides of the HB. For example, in FIG. 4, the direction from the first side SE1 which is the short side of the high-speed I / F circuit block HB to the third side SE3 facing the first direction D1 is the first direction D1, and the opposite direction of D1 is the third direction. It is assumed that the direction is D3. A direction from the second side SE2 which is the long side of HB to the fourth side SE4 facing the second side SE2 is defined as a second direction D2, and a direction opposite to D2 is defined as a fourth direction D4. Assuming a center line along the D2 direction of the high-speed I / F circuit block HB, the protection circuit block PTB1 is disposed on the D3 direction side of the center line, and the protection circuit block PTB2 is disposed on the D1 direction side of the center line. Is done. In FIG. 4, the left side of HB is the first side SE1 and the right side is the third side SE3, but the left side may be the third side SE3 and the right side may be the first side SE1.

図4の配置によれば異種電源間に静電気電圧が印加された場合に、高速I/F回路ブロックHB内のトランジスタ等の静電気破壊を効果的に防止できる。例えばドライバ用電源VSSとHB用の電源VSSM又はVSSG等の間に静電気電圧が印加された場合に、PTB1、PTB2の保護回路(双方向ダイオード等)が静電気の放電経路になることで、トランジスタの静電気破壊が防止される。   According to the arrangement of FIG. 4, when an electrostatic voltage is applied between different power sources, it is possible to effectively prevent electrostatic breakdown of transistors and the like in the high-speed I / F circuit block HB. For example, when an electrostatic voltage is applied between the driver power supply VSS and the HB power supply VSSM or VSSG, the protection circuits (bidirectional diodes, etc.) of PTB1 and PTB2 serve as a static electricity discharge path. ESD damage is prevented.

特に、高速I/F回路ブロックHBは、D1方向での長さが長い細長のブロックになっている。従って、保護回路ブロックをHBの中央付近に配置すると、保護回路により静電気放電が行われる前に、HB内のトランジスタが破壊されてしまうおそれがある。   In particular, the high-speed I / F circuit block HB is an elongated block having a long length in the D1 direction. Therefore, if the protection circuit block is disposed near the center of the HB, the transistor in the HB may be destroyed before electrostatic discharge is performed by the protection circuit.

この点、図4では、保護回路ブロックPTB1、PTB2が高速I/F回路ブロックHBの両サイドに配置されている。従ってVSSからの静電気を、HBの両サイドの位置である入り口部分で放電することが可能になるため、HB内のトランジスタが静電気破壊される事態を効果的に防止できる。   In this regard, in FIG. 4, the protection circuit blocks PTB1 and PTB2 are arranged on both sides of the high-speed I / F circuit block HB. Accordingly, it is possible to discharge static electricity from VSS at the entrance portions that are positions on both sides of the HB, so that it is possible to effectively prevent the transistor in the HB from being electrostatically destroyed.

なお保護回路ブロックPTB1、PTB2の各々は、異種電源(VSSM、VSSG、VSSA、VSS)間の保護回路を少なくとも1つを含めばよい。またこれらの保護回路は近くの場所に配置してもよいし、離れた場所に配置してもよい。   Note that each of the protection circuit blocks PTB1 and PTB2 may include at least one protection circuit between different types of power supplies (VSSM, VSSG, VSSA, VSS). Further, these protection circuits may be arranged in a nearby place or may be arranged in a remote place.

またPTB1、PTB2の保護回路に、静電保護素子としての機能に加えて、VSSからのノイズ伝達を防止するノイズ除去素子としての機能を持たせてもよい。即ち高速I/F回路ブロックHBの物理層回路は、アナログ回路により構成されており、例えば小振幅の差動信号でデータ転送を行う。従って、表示ドライバの内部回路(ドライバ用ロジック回路等)からのノイズにより、物理層回路のアナログ回路の動作が悪影響を受け、伝送品質が劣化するおそれがある。また逆に、物理層回路は例えば100〜500Mbpsというような高速な転送レートでデータ転送を行うため、物理層回路が発生するノイズが、表示ドライバの内部回路の動作に悪影響を及ぼす可能性もある。PTB1、PTB2の保護回路にノイズ除去素子の機能を持たせれば、このようなノイズの悪影響を防止できる。   In addition to the function as an electrostatic protection element, the protection circuit of PTB1 and PTB2 may have a function as a noise removal element that prevents noise transmission from VSS. That is, the physical layer circuit of the high-speed I / F circuit block HB is composed of an analog circuit, and performs data transfer with a differential signal having a small amplitude, for example. Accordingly, the operation of the analog circuit of the physical layer circuit is adversely affected by noise from the internal circuit (driver logic circuit or the like) of the display driver, and the transmission quality may be deteriorated. Conversely, since the physical layer circuit performs data transfer at a high transfer rate such as 100 to 500 Mbps, noise generated by the physical layer circuit may adversely affect the operation of the internal circuit of the display driver. . If the protection circuit of PTB1 and PTB2 has a function of a noise removing element, such an adverse effect of noise can be prevented.

また高速I/F回路では、信号の反射を防止するために送信側と受信側とでインピーダンス整合をとっている。ところが、集積回路装置をガラス基板にCOG(Chip On Glass)実装すると、集積回路装置の両端部のバンプでの接触抵抗が上昇してしまう。即ち集積回路装置とガラス基板の熱膨張係数は異なる。従って、熱膨張係数の差によって生じる応力(熱ストレス)は、集積回路装置の両端部の方が中央部よりも大きくなる。このため、両端部では、バンプでの接触抵抗が時間経過につれて上昇してしまう。従って高速I/F回路の受信用パッド又は送信用パッド(DATA+/−等)として、集積回路装置の両端部のバンプに接続されるパッドを使用すると、バンプでの接触抵抗の上昇によって、インピーダンス整合が崩れてしまい、高速シリアル転送の信号品質が劣化する。   In the high-speed I / F circuit, impedance matching is performed between the transmission side and the reception side in order to prevent signal reflection. However, when the integrated circuit device is mounted on a glass substrate by COG (Chip On Glass), the contact resistance at the bumps at both ends of the integrated circuit device increases. That is, the thermal expansion coefficients of the integrated circuit device and the glass substrate are different. Therefore, the stress (thermal stress) caused by the difference in thermal expansion coefficient is larger at both ends of the integrated circuit device than at the center. For this reason, the contact resistance at the bumps increases with time at both ends. Therefore, if pads connected to bumps at both ends of the integrated circuit device are used as reception pads or transmission pads (DATA +/−, etc.) of a high-speed I / F circuit, impedance matching occurs due to an increase in contact resistance at the bumps. Collapses and the signal quality of high-speed serial transfer deteriorates.

この点、図4では、高速I/F回路ブロックHBが、集積回路装置10の両端を除く中央付近に配置される。具体的には集積回路装置10の辺SD1と高速I/F回路ブロックHB(HBの辺SE1)との間に、HB以外の他の回路ブロックが配置される。また集積回路装置10の辺SD3とHB(HBの辺SE3)との間に、HB以外の他の回路ブロックが配置される。このようにすれば、高速I/F回路ブロックHBは、集積回路装置10の両端に配置されないようになる。従って、接触抵抗の上昇を原因とするインピーダンス不整合を低減でき、高速シリアル転送の信号品質の劣化を低減できる。   In this regard, in FIG. 4, the high-speed I / F circuit block HB is disposed near the center excluding both ends of the integrated circuit device 10. Specifically, other circuit blocks other than HB are arranged between the side SD1 of the integrated circuit device 10 and the high-speed I / F circuit block HB (side SE1 of HB). Further, a circuit block other than HB is arranged between the side SD3 and the HB (HB side SE3) of the integrated circuit device 10. In this way, the high-speed I / F circuit block HB is not disposed at both ends of the integrated circuit device 10. Therefore, impedance mismatch caused by an increase in contact resistance can be reduced, and deterioration in signal quality of high-speed serial transfer can be reduced.

4.集積回路装置、高速I/F回路ブロック詳細なレイアウト例
図5に集積回路装置10、高速I/F回路ブロックHBの詳細なレイアウト例を示す。図5では、HBが含む物理層回路PHYが、保護回路ブロックPTB1、PTB2の間に配置される。即ちPHYのD3方向側にPTB1が配置され、PHYのD1方向側にPTB2が配置される。このようにすれば、電源VSSからの静電気が、HBの両サイドのPTB1、PTB2の保護回路で放電され、PTB1、PTB2の間の物理層回路PHYのトランジスタが破壊されるのを効果的に防止できる。また電源VSSからのノイズが物理層回路PHYに伝達されるのも効果的に防止できる。なお、PTB1、PTB2を物理層回路PHYの両サイドに配置しない変形実施も可能である。例えばPTB1、PTB2をロジック回路HLの両サイドに配置してもよい。
4). Detailed Layout Example of Integrated Circuit Device and High-Speed I / F Circuit Block FIG. 5 shows a detailed layout example of the integrated circuit device 10 and the high-speed I / F circuit block HB. In FIG. 5, the physical layer circuit PHY included in the HB is arranged between the protection circuit blocks PTB1 and PTB2. That is, PTB1 is arranged on the PHY D3 direction side, and PTB2 is arranged on the PHY D1 direction side. In this way, it is possible to effectively prevent static electricity from the power source VSS from being discharged by the protection circuits of the PTB1 and PTB2 on both sides of the HB and destroying the transistor of the physical layer circuit PHY between the PTB1 and PTB2. it can. Further, it is possible to effectively prevent noise from the power source VSS from being transmitted to the physical layer circuit PHY. A modification in which PTB1 and PTB2 are not arranged on both sides of the physical layer circuit PHY is also possible. For example, PTB1 and PTB2 may be arranged on both sides of the logic circuit HL.

また図5に示すように、高速I/F回路ブロックHBは、物理層回路PHYとロジック回路HL(図2(A)の650)を含む。このロジック回路HLは、リンク層やトランザクション層の処理を行ったり、ドライバ回路とのインターフェース処理を行う回路である。そしてロジック回路HLが物理層回路PHYのD2方向側(辺SE2からSE4へと向かう方向側)に配置される。更に集積回路装置10が、高速I/F回路ブロックHB以外の他の回路ブロックとして、表示制御信号を生成するドライバ用ロジック回路ブロックLB(図1の540)を含む。そしてドライバ用ロジック回路ブロックLBがロジック回路HLのD2方向側に配置される。   As shown in FIG. 5, the high-speed I / F circuit block HB includes a physical layer circuit PHY and a logic circuit HL (650 in FIG. 2A). The logic circuit HL is a circuit that performs link layer and transaction layer processing and interface processing with a driver circuit. Then, the logic circuit HL is arranged on the D2 direction side (direction side from the side SE2 to SE4) of the physical layer circuit PHY. Furthermore, the integrated circuit device 10 includes a driver logic circuit block LB (540 in FIG. 1) that generates a display control signal as a circuit block other than the high-speed I / F circuit block HB. The driver logic circuit block LB is disposed on the D2 direction side of the logic circuit HL.

図5において物理層回路PHYはホストデバイスからのシリアルのデータ(画像データ)を受け、パラレルのデータに変換してロジック回路HLに出力する。そしてロジック回路HLは、図2(A)に示すようなホストインターフェース信号(A0、WR、RD、PDATA等)を生成してドライバ用ロジック回路ブロックLBに出力する。このように信号の流れはD2方向になる。このため図5では、この信号の流れに合わせて、物理層回路PHYのD2方向側にロジック回路HLを配置すると共にHLのD2方向側にドライバ用ロジック回路ブロックLBを配置している。このようにすることで、入力と出力の間がショートパスになり、信号遅延を最適化でき、効率の良い信号伝達が可能になる。   In FIG. 5, the physical layer circuit PHY receives serial data (image data) from the host device, converts it into parallel data, and outputs it to the logic circuit HL. The logic circuit HL generates a host interface signal (A0, WR, RD, PDATA, etc.) as shown in FIG. 2A and outputs it to the driver logic circuit block LB. Thus, the signal flow is in the direction D2. Therefore, in FIG. 5, the logic circuit HL is arranged on the D2 direction side of the physical layer circuit PHY and the driver logic circuit block LB is arranged on the D2 direction side of the HL in accordance with the signal flow. By doing so, a short path is formed between the input and the output, the signal delay can be optimized, and efficient signal transmission becomes possible.

また図5のように配置すれば、高速I/F回路ブロックHBのD1方向の長さを長くすることで、D2方向でのHBの幅WHを小さくできる。そしてHBの幅WHが小さくなると、集積回路装置10のD2方向での幅Wも小さくでき、チップのスリム化を図れる。これにより実装を容易化できる。   If the arrangement is as shown in FIG. 5, the width WH of the HB in the D2 direction can be reduced by increasing the length in the D1 direction of the high-speed I / F circuit block HB. When the width WH of the HB is reduced, the width W of the integrated circuit device 10 in the D2 direction can be reduced, and the chip can be slimmed. This can facilitate mounting.

図6に高速I/F回路ブロックHBの更に詳細なレイアウト例を示す。図6において、物理層回路PHYのD1方向での長さをL1とし、ロジック回路HLのD1方向での長さをL2とすると、L2>L1の関係が成り立つ。即ち長辺方向の長さは、物理層回路PHYよりもロジック回路HLの方が長い。そして図6では、物理層回路PHYのD3方向側の空き領域である第1の領域RG1に保護回路ブロックPTB1が配置され、PHYのD1方向側の空き領域である第2の領域RG2に保護回路ブロックPTB2が配置される。更に領域RG1、RG2にはキャパシタ領域CPR1、CPR2が配置される。このキャパシタ領域CPR1、CPR2には、高速I/F回路ブロックHBの電源を安定化するためのキャパシタが形成される。即ち高速I/F回路ブロックHBの高電位側電源(VDD)と低電位側電源(VSS)の間に設けられるキャパシタが形成される。このキャパシタは、ゲートアレイ(G/A)のベーシックセルのゲート容量などを利用して形成できる。   FIG. 6 shows a more detailed layout example of the high-speed I / F circuit block HB. In FIG. 6, when the length of the physical layer circuit PHY in the D1 direction is L1, and the length of the logic circuit HL in the D1 direction is L2, the relationship of L2> L1 is established. That is, the length in the long side direction is longer in the logic circuit HL than in the physical layer circuit PHY. In FIG. 6, the protection circuit block PTB1 is arranged in the first area RG1 which is an empty area on the D3 direction side of the physical layer circuit PHY, and the protection circuit is provided in the second area RG2 which is an empty area on the D1 direction side of PHY. Block PTB2 is arranged. Further, capacitor regions CPR1 and CPR2 are arranged in regions RG1 and RG2. Capacitors for stabilizing the power supply of the high-speed I / F circuit block HB are formed in the capacitor regions CPR1 and CPR2. That is, a capacitor is formed between the high potential side power supply (VDD) and the low potential side power supply (VSS) of the high-speed I / F circuit block HB. This capacitor can be formed by utilizing the gate capacitance of the basic cell of the gate array (G / A).

ロジック回路HLとドライバ用ロジック回路LBの間には、データ信号、制御信号などの多数の信号が配線される。従って、HL、LB間の信号配線領域(インターフェース領域)はなるべく広いことが望ましい。   A number of signals such as data signals and control signals are wired between the logic circuit HL and the driver logic circuit LB. Therefore, it is desirable that the signal wiring area (interface area) between HL and LB is as large as possible.

この点、図6では、ロジック回路HLのD2方向側にドライバ用ロジック回路ブロックLBが配置されると共に、HLのD1方向での長さL2が長くなっている。従ってロジック回路HLとドライバ用ロジック回路ブロックLBとの間の信号配線領域のD1方向の長さも広くできる。即ち信号配線領域のD1方向の長さをL2にできる。従って例えば信号線の配線ピッチをPTHとした場合には、HLとLBの間で(L2/PTH)本の信号線を配線できる。またHLとLBの間の配線をショートパスで接続できるようになり、信号配線領域のD2方向での幅を小さくできる。この結果、集積回路装置10のD2方向での幅Wも小さくでき、チップのスリム化を図れ、実装を容易化できる。   In this regard, in FIG. 6, the driver logic circuit block LB is disposed on the D2 direction side of the logic circuit HL, and the length L2 of the HL in the D1 direction is increased. Accordingly, the length of the signal wiring region between the logic circuit HL and the driver logic circuit block LB in the D1 direction can be increased. That is, the length of the signal wiring region in the D1 direction can be set to L2. Therefore, for example, when the wiring pitch of the signal lines is PTH, (L2 / PTH) signal lines can be wired between HL and LB. In addition, the wiring between HL and LB can be connected by a short path, and the width of the signal wiring region in the D2 direction can be reduced. As a result, the width W of the integrated circuit device 10 in the D2 direction can be reduced, the chip can be slimmed, and the mounting can be facilitated.

また物理層回路PHYの長さL1よりもロジック回路HLの長さL2を長くすると、PHYの両サイドに空き領域RG1、RG2ができる。   Further, when the length L2 of the logic circuit HL is made longer than the length L1 of the physical layer circuit PHY, empty areas RG1 and RG2 are formed on both sides of the PHY.

この点、図6では、この空き領域RG1、RG2に保護回路ブロックPTB1、PTB2やキャパシタ領域CPR1、CPR2を配置している。従って、L2>L1としたことで形成された空き領域RG1、RG2を有効利用して、保護回路ブロックPTB1、PTB2等を配置できる。即ち、HL、LB間の効率的な配線によるD2方向での幅W、WHの縮小と、PHYの両サイドにPTB1、PTB2を配置することによる静電気耐圧、ノイズ耐性の向上を両立できる。また空き領域RG1、RG2にはキャパシタ領域CPR1、CPR2が形成されるため、電源を安定化でき、ノイズ耐性等を更に向上できる。   In this regard, in FIG. 6, protection circuit blocks PTB1 and PTB2 and capacitor areas CPR1 and CPR2 are arranged in the empty areas RG1 and RG2. Therefore, the protection circuit blocks PTB1, PTB2, etc. can be arranged by effectively using the empty areas RG1, RG2 formed by setting L2> L1. That is, it is possible to simultaneously reduce the widths W and WH in the D2 direction by efficient wiring between HL and LB, and improve the electrostatic withstand voltage and noise resistance by disposing PTB1 and PTB2 on both sides of the PHY. Further, since the capacitor regions CPR1 and CPR2 are formed in the empty regions RG1 and RG2, the power source can be stabilized and noise resistance and the like can be further improved.

図7に集積回路装置10の詳細なレイアウト例を示す。集積回路装置10は、高速I/F回路ブロックHB、ドライバ用ロジック回路ブロックLBを含む。また階調電圧を生成する階調電圧生成回路ブロックGBと、生成された階調電圧に基づいて表示パネルのデータ線を駆動するデータドライバブロックDB1、DB2を含む。また階調データである画像データを記憶するメモリブロックMB1、MB2と、表示パネルの走査線を駆動する走査ドライバブロックSB1、SB2と、電源を生成する電源回路ブロックPB1、PB2を含む。更にI/O領域IO1、IO2、パッド領域PDS(データ線、走査線のパッドの領域)を含む。   FIG. 7 shows a detailed layout example of the integrated circuit device 10. The integrated circuit device 10 includes a high-speed I / F circuit block HB and a driver logic circuit block LB. Further, it includes a gradation voltage generation circuit block GB for generating gradation voltages, and data driver blocks DB1 and DB2 for driving data lines of the display panel based on the generated gradation voltages. In addition, memory blocks MB1 and MB2 that store image data as gradation data, scan driver blocks SB1 and SB2 that drive scan lines of the display panel, and power supply circuit blocks PB1 and PB2 that generate power are included. Furthermore, I / O areas IO1 and IO2 and a pad area PDS (pad area for data lines and scanning lines) are included.

図7に示すように高速I/F回路ブロックHBとドライバ用ロジック回路ブロックLBは隣接して配置される。具体的には、辺SD2から辺SD4に向かう方向をD2方向とした場合に、D2方向に沿ってHB、LBが隣接して配置される。またLBと階調電圧生成回路ブロックGBも隣接して配置される。具体的にはLBとGBもD2方向に沿って隣接して配置される。   As shown in FIG. 7, the high-speed I / F circuit block HB and the driver logic circuit block LB are arranged adjacent to each other. Specifically, when the direction from the side SD2 to the side SD4 is the D2 direction, HB and LB are adjacently arranged along the D2 direction. The LB and the gradation voltage generation circuit block GB are also arranged adjacent to each other. Specifically, LB and GB are also arranged adjacently along the D2 direction.

また図7では、階調電圧生成回路ブロックGBとデータドライバブロックDB1、DB2が隣接して配置される。具体的には、辺SD1から辺SD3に向かう方向をD1方向とした場合に、GBとDB1、DB2はD1方向に沿って隣接して配置される。   In FIG. 7, the gradation voltage generation circuit block GB and the data driver blocks DB1 and DB2 are arranged adjacent to each other. Specifically, when the direction from the side SD1 to the side SD3 is the D1 direction, GB and DB1, DB2 are arranged adjacent to each other along the D1 direction.

例えば階調電圧生成回路ブロックGBは図示しない調整レジスタを含む。そしてこの調整レジスタには、階調電圧の振幅調整、階調特性の傾き調整、階調特性の微調整などを行うための調整データが、ドライバ用ロジック回路ブロックLBにより設定される。このような調整データを設定することで、表示パネルの種類に応じた最適な階調特性(γ特性)を得ることができ、表示品質を向上できる。   For example, the gradation voltage generation circuit block GB includes an adjustment register (not shown). In this adjustment register, adjustment data for performing gradation voltage amplitude adjustment, gradation characteristic inclination adjustment, gradation characteristic fine adjustment, and the like is set by the driver logic circuit block LB. By setting such adjustment data, it is possible to obtain optimum gradation characteristics (γ characteristics) according to the type of display panel, and to improve display quality.

しかしながら、このような調整を行うための調整データのビット数は非常に多い。このため、ドライバ用ロジック回路ブロックLBから階調電圧生成回路ブロックGBへの調整データの信号線の本数も多い。従ってLBとGBを隣接して配置しないと、調整データの信号線のための配線領域が原因となってチップ面積が増加するおそれがある。   However, the number of bits of adjustment data for performing such adjustment is very large. For this reason, the number of adjustment data signal lines from the driver logic circuit block LB to the gradation voltage generation circuit block GB is also large. Therefore, if LB and GB are not arranged adjacent to each other, the chip area may increase due to the wiring area for the adjustment data signal line.

この点、図7では、ドライバ用ロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBはD2方向に沿って隣接して配置される。従って、LBからの調整データの信号線をショートパスでGBに接続できるため、配線領域を原因とするチップ面積の増加を防止できる。   In this regard, in FIG. 7, the driver logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB are arranged adjacent to each other along the direction D2. Therefore, since the signal line of the adjustment data from the LB can be connected to the GB by a short path, an increase in the chip area due to the wiring region can be prevented.

またデータドライバブロックDB1、DB2は図示しないD/A変換回路を含む。そしてこのD/A変換回路は、階調電圧生成回路ブロックGBからの複数の階調電圧を受ける。そしてこれらの階調電圧の中から階調データに対応した電圧を選択することで、階調データのD/A変換を行う。従って、階調電圧生成回路ブロックGBからデータドライバブロックDB1、DB2への階調電圧の信号線の本数も多い。従ってGBとDB1、DB2とを隣接して配置しないと、階調電圧の信号線のための配線領域が原因となってチップ面積が増加するおそれがある。   The data driver blocks DB1 and DB2 include a D / A conversion circuit (not shown). The D / A conversion circuit receives a plurality of gradation voltages from the gradation voltage generation circuit block GB. Then, by selecting a voltage corresponding to the gradation data from these gradation voltages, D / A conversion of the gradation data is performed. Therefore, the number of gradation voltage signal lines from the gradation voltage generation circuit block GB to the data driver blocks DB1 and DB2 is also large. Therefore, unless GB and DB1 and DB2 are arranged adjacent to each other, there is a possibility that the chip area increases due to the wiring area for the signal line of the gradation voltage.

この点、図7では、階調電圧生成回路ブロックGBとデータドライバブロックDB1、DB2はD1方向に沿って隣接して配置される。従って、GBからの階調電圧の信号線をショートパスでDB1、DB2に接続できるため、配線領域を原因とするチップ面積の増加を防止できる。   In this regard, in FIG. 7, the gradation voltage generation circuit block GB and the data driver blocks DB1 and DB2 are arranged adjacent to each other along the direction D1. Therefore, since the grayscale voltage signal line from GB can be connected to DB1 and DB2 by a short path, an increase in chip area due to the wiring region can be prevented.

5.保護回路の配置
図8に保護回路ブロックPTB1、PTB2が含む保護回路の第1のレイアウト例を示す。図8に示すように高速I/F回路ブロックHBは、物理層回路PHYと、ロジック回路HLと、共用電源VSSA(ESD用ダミー電源)の電源線PLを含む。この電源線PLは、高速I/F回路ブロックHB内において例えばD1方向に沿って配線される。
5. Arrangement of Protection Circuit FIG. 8 shows a first layout example of the protection circuit included in the protection circuit blocks PTB1 and PTB2. As shown in FIG. 8, the high-speed I / F circuit block HB includes a physical layer circuit PHY, a logic circuit HL, and a power supply line PL of a shared power supply VSSA (ESD dummy power supply). The power supply line PL is wired along the direction D1, for example, in the high-speed I / F circuit block HB.

そして保護回路ブロックPTB1は、物理層回路PHYの電源VSSMと共用電源VSSAとの間に設けられる保護回路PT1を含む。またロジック回路HLの電源VSSGと共用電源VSSAとの間に設けられる保護回路PT2や、他の回路ブロック(ドライバ用ロジック回路ブロック等)の電源VSSと共用電源VSSAとの間に設けられる保護回路PT3を含む。   The protection circuit block PTB1 includes a protection circuit PT1 provided between the power supply VSSM of the physical layer circuit PHY and the shared power supply VSSA. Further, a protection circuit PT2 provided between the power supply VSSG of the logic circuit HL and the shared power supply VSSA, or a protection circuit PT3 provided between the power supply VSS of the other circuit block (driver logic circuit block or the like) and the shared power supply VSSA. including.

また保護回路ブロックPTB2は、電源VSSMと共用電源VSSAとの間に設けられる保護回路PT4を含む。また電源VSSGと共用電源VSSAとの間に設けられる保護回路PT5や、電源VSSと共用電源VSSAとの間に設けられる保護回路PT6を含む。   The protection circuit block PTB2 includes a protection circuit PT4 provided between the power supply VSSM and the shared power supply VSSA. Further, a protection circuit PT5 provided between the power supply VSSG and the shared power supply VSSA and a protection circuit PT6 provided between the power supply VSS and the shared power supply VSSA are included.

図9に保護回路ブロックPTB1、PTB2が含む保護回路の第2のレイアウト例を示す。図9では図8とは異なり、高速I/F回路ブロックHBが共用電源VSSAの電源線を含まない。そして保護回路ブロックPTB1は、VSSMとVSSとの間に設けられる保護回路PT1と、VSSGとVSSとの間に設けられる保護回路PT2を含む。また保護回路ブロックPTB2は、VSSMとVSSとの間に設けられる保護回路PT4と、VSSGとVSSとの間に設けられる保護回路PT5を含む。   FIG. 9 shows a second layout example of the protection circuit included in the protection circuit blocks PTB1 and PTB2. In FIG. 9, unlike FIG. 8, the high-speed I / F circuit block HB does not include the power supply line of the shared power supply VSSA. The protection circuit block PTB1 includes a protection circuit PT1 provided between VSSM and VSS and a protection circuit PT2 provided between VSSG and VSS. The protection circuit block PTB2 includes a protection circuit PT4 provided between VSSM and VSS and a protection circuit PT5 provided between VSSG and VSS.

なお図8、図9において物理層回路PHYがシリアル/パラレル変換回路などの高速ロジック回路を含む場合には、この高速ロジック回路用の電源を設けてもよい。この場合には、保護回路ブロックPTB1、PTB2の各々に、高速ロジック回路用の電源とVSSA又はVSSとの間に設けられる保護回路を更に含ませればよい。   8 and 9, when the physical layer circuit PHY includes a high-speed logic circuit such as a serial / parallel conversion circuit, a power supply for the high-speed logic circuit may be provided. In this case, each of the protection circuit blocks PTB1 and PTB2 may further include a protection circuit provided between the power supply for the high-speed logic circuit and VSSA or VSS.

図8、図9では、保護回路PT1のD3方向側に保護回路PT2が配置され、保護回路PT4のD1方向側に保護回路PT5が配置される。そして図8では更に、保護回路PT2のD3方向側に保護回路PT3が配置され、保護回路PT5のD1方向側に保護回路PT6が配置される。   8 and 9, the protection circuit PT2 is disposed on the D3 direction side of the protection circuit PT1, and the protection circuit PT5 is disposed on the D1 direction side of the protection circuit PT4. In FIG. 8, the protection circuit PT3 is further disposed on the D3 direction side of the protection circuit PT2, and the protection circuit PT6 is disposed on the D1 direction side of the protection circuit PT5.

また図8、図9では、保護回路PT1と物理層回路PHYを接続する第1の電源線PL1のD3方向側に、保護回路PT2とロジック回路HLを接続する第2の電源線PL2が配線される。同様に、保護回路PT4と物理層回路PHYを接続する第4の電源線PL4のD1方向側に、保護回路PT5とロジック回路HLを接続する第5の電源線PL5が配線される。   8 and 9, the second power supply line PL2 connecting the protection circuit PT2 and the logic circuit HL is wired on the D3 direction side of the first power supply line PL1 connecting the protection circuit PT1 and the physical layer circuit PHY. The Similarly, a fifth power supply line PL5 connecting the protection circuit PT5 and the logic circuit HL is wired on the D1 direction side of the fourth power supply line PL4 connecting the protection circuit PT4 and the physical layer circuit PHY.

具体的には電源線PL1、PL4は、物理層回路PHYに接続するために、保護回路PT1、PT4からD2方向に沿って配線された後、D1方向又はD3方向に屈曲されて配線される。これらのPL1、PL4は、パッド(電極)P1、P4からの電源VSSMを物理層回路PHYに供給するための電源線である。   Specifically, the power supply lines PL1 and PL4 are wired along the D2 direction from the protection circuits PT1 and PT4 to be connected to the physical layer circuit PHY, and then bent and wired in the D1 direction or the D3 direction. These PL1 and PL4 are power supply lines for supplying the power supply VSSM from the pads (electrodes) P1 and P4 to the physical layer circuit PHY.

また電源線PL2、PL5は、ロジック回路HLに接続するために、保護回路PT2、PT5からD2方向に沿って配線される。これらのPL2、PL5は、パッドP2、P5からの電源VSSGをロジック回路HLに供給するための電源線である。   Further, the power supply lines PL2 and PL5 are wired along the direction D2 from the protection circuits PT2 and PT5 in order to connect to the logic circuit HL. These PL2 and PL5 are power supply lines for supplying the power supply VSSG from the pads P2 and P5 to the logic circuit HL.

また図8、図9では、電源線PL1が接続されるパッドP1が、保護回路PT1のD4方向側に配置され、電源線PL2が接続されるパッドP2が、保護回路PT2のD4方向側に配置される。即ちパッドP2がパッドP1のD3方向側に配置される。同様に電源線PL4が接続されるパッドP4が、保護回路PT4のD4方向側に配置され、電源線PL5が接続されるパッドP5が、保護回路PT5のD4方向側に配置される。即ちパッドP5がパッドP4のD1方向側に配置される。   8 and 9, the pad P1 to which the power supply line PL1 is connected is disposed on the D4 direction side of the protection circuit PT1, and the pad P2 to which the power supply line PL2 is connected is disposed on the D4 direction side of the protection circuit PT2. Is done. That is, the pad P2 is disposed on the D3 direction side of the pad P1. Similarly, the pad P4 to which the power supply line PL4 is connected is disposed on the D4 direction side of the protection circuit PT4, and the pad P5 to which the power supply line PL5 is connected is disposed on the D4 direction side of the protection circuit PT5. That is, the pad P5 is disposed on the D1 direction side of the pad P4.

また図8、図9では物理層回路PHYの受信用のパッドDP、DM(或いは送信用パッドであってもよい)が設けられる。これらのDP、DMは、図2(A)〜図3(B)で説明した差動データ信号(DATA+/−、DTO+/−)用のパッドである。そして図8、図9では、これらのパッドDP、DMがパッドP1とパッドP4の間に配置される。   8 and 9, reception pads DP and DM (or transmission pads may be provided) of the physical layer circuit PHY are provided. These DP and DM are pads for the differential data signals (DATA +/−, DTO +/−) described with reference to FIGS. 2 (A) to 3 (B). 8 and 9, these pads DP and DM are arranged between the pad P1 and the pad P4.

図8、図9の配置によれば、外部の他の回路ブロックの電源VSSからの静電気を、物理層回路PHYの両サイドに配置された保護回路により効率的に放電できる。従って物理層回路PHY等のトランジスタが破壊される事態を効果的に防止できる。   8 and 9, static electricity from the power supply VSS of other external circuit blocks can be efficiently discharged by the protection circuits disposed on both sides of the physical layer circuit PHY. Therefore, it is possible to effectively prevent the breakdown of the transistors such as the physical layer circuit PHY.

また図8、図9では、電源VSSA又はVSSの電源線PLがD1方向に沿って配線され、電源VSSM、VSSGの電源線PL1、PL2、PL4、PL5がD2方向に沿って配線される。従って、電源線PL1、PL2、PL4、PL5の各々と電源線PLとの交差位置付近に、保護回路PT1、PT2、PT4、PT5を配置できるようになり、効率的なレイアウトを実現できる。   8 and 9, the power supply line PL of the power supply VSSA or VSS is wired along the D1 direction, and the power supply lines PL1, PL2, PL4, and PL5 of the power supplies VSSM and VSSG are wired along the D2 direction. Therefore, the protection circuits PT1, PT2, PT4, and PT5 can be disposed near the intersections between the power lines PL1, PL2, PL4, and PL5 and the power lines PL, thereby realizing an efficient layout.

また図8、図9では電源線PL1とPL2を交差させずに配線でき、電源線PL4とPL5も交差させずに配線できる。従って、空き領域RG1、RG2を利用して、十分な太さの電源線PL1、PL2、PL4、PL5を配線できるようになり、物理層回路PHY、ロジック回路HLに供給される電源VSSM、VSSGの安定化を図れる。更に、領域RG1、RG2にキャパシタ領域CPR1、CPR2を形成し、そのキャパシタの一端を電源線に接続するようにすれば、電源の更なる安定化を図れる。   8 and 9, the power supply lines PL1 and PL2 can be wired without crossing, and the power supply lines PL4 and PL5 can also be wired without crossing. Accordingly, the power lines PL1, PL2, PL4, and PL5 having sufficient thicknesses can be wired using the empty areas RG1 and RG2, and the power supply VSSM and VSSG supplied to the physical layer circuit PHY and the logic circuit HL can be connected. Stabilize. Furthermore, if the capacitor regions CPR1 and CPR2 are formed in the regions RG1 and RG2 and one end of the capacitor is connected to the power supply line, the power supply can be further stabilized.

6.トリプルウェル構造
本実施形態では、以下に説明するように、トリプルウェル構造を有効活用してノイズの悪影響を低減している。
6). Triple well structure In this embodiment, as described below, the triple well structure is effectively used to reduce the adverse effects of noise.

即ち図10(A)に示すように、高速I/F回路ブロックHBが含むN型トランジスタ(広義には第1導電型トランジスタ)NTR1は、P型ウェル(広義には第2導電型ウェル)PWLHに形成される。また高速I/F回路ブロックHBが含むP型トランジスタ(広義には第2導電型トランジスタ)PTR1は、P型ウェルPWLHを囲むようにP型基板(広義には第2導電型基板)PSUBに形成されたN型ウェル(広義には第1導電型ウェル)NWLHに形成される。   That is, as shown in FIG. 10A, the N-type transistor (first conductivity type transistor in a broad sense) NTR1 included in the high-speed I / F circuit block HB is a P-type well (second conductivity type well in a broad sense) PWLH. Formed. The P-type transistor (second conductivity type transistor in a broad sense) PTR1 included in the high-speed I / F circuit block HB is formed on the P-type substrate (second conductivity type substrate in a broad sense) PSUB so as to surround the P-type well PWLH. N-type well (first conductivity type well in a broad sense) NWLH is formed.

一方、ドライバ用ロジック回路ブロックLB(ドライバ回路)が含むN型トランジスタNTR2、P型トランジスタPTR2は、高速I/F回路ブロックHB用のN型ウェルNWLHには形成されず、NWLHの領域以外の領域に形成される。具体的にはP型トランジスタPTR2は、HB用のNWLHとは分離されたN型ウェルNWLDに形成され、N型トランジスタNTR2は、P型基板PSUBに形成される。このようにすれば、高速I/F回路ブロックHBを構成するトランジスタNTR1、PTR1と、ドライバ用ロジック回路ブロックLBを構成するトランジスタNTR2、PTR2とを、トリプルウェル構造のN型ウェルNWLHにより分離できる。これにより、N型ウェルNWLHを障壁にして、HB、LB間でのノイズ伝達を防止できる。従って、LBが発生するノイズの悪影響をHB(PHY)が受けにくくなり、シリアル転送の伝送品質を維持できる。またHBが発生するノイズの悪影響をLB等が受けにくくなり、誤動作の発生等を防止できる。なおLBのトランジスタNTR2、PTR2をトリプルウェル構造で実現してもよい。   On the other hand, the N-type transistor NTR2 and the P-type transistor PTR2 included in the driver logic circuit block LB (driver circuit) are not formed in the N-type well NWLH for the high-speed I / F circuit block HB, but are regions other than the NWLH region. Formed. Specifically, the P-type transistor PTR2 is formed in an N-type well NWLD separated from the HB NWLH, and the N-type transistor NTR2 is formed in a P-type substrate PSUB. In this way, the transistors NTR1 and PTR1 constituting the high-speed I / F circuit block HB and the transistors NTR2 and PTR2 constituting the driver logic circuit block LB can be separated by the N-type well NWLH having a triple well structure. Thereby, noise transmission between HB and LB can be prevented using the N-type well NWLH as a barrier. Therefore, HB (PHY) is less susceptible to the adverse effects of noise generated by LB, and the transmission quality of serial transfer can be maintained. In addition, LB or the like is less susceptible to the adverse effects of noise generated by HB, and malfunctions can be prevented. Note that the transistors NTR2 and PTR2 of the LB may be realized with a triple well structure.

図10(B)にトリプルウェル構造の詳細例を示す。図10(B)のN型ウェルNWLA1、NWLB1、NWLB2、NWLB3が、図10(A)のN型ウェルNWLHに相当する。また図10(B)のP型ウェルPWLB1が、図10(A)のP型ウェルPWLHに相当する。また図10(B)のN型ウェルNWLB4が、図10(A)のN型ウェルNWLDに相当する。   FIG. 10B shows a detailed example of the triple well structure. The N-type wells NWLA1, NWLB1, NWLB2, and NWLB3 in FIG. 10B correspond to the N-type well NWLH in FIG. The P-type well PWLB1 in FIG. 10B corresponds to the P-type well PWLH in FIG. Further, the N-type well NWLB4 in FIG. 10B corresponds to the N-type well NWLD in FIG.

図10(B)においてNWLA1は深いウェルになっており、NWLB1、NWLB2、NWLB3、NWLB4は浅いウェルになっている。またNWLB2、NWLB3はリング状に形成されている。これにより、P型ウェルPWLB1を囲むようにN型ウェルを形成できる。またP型ウェルPWLB2、PWLB3には、VSSの電源線に電気的に接続されるP+領域(広義には第2導電型拡散領域)が形成されている。このようなP型ウェルPWLB2、PWLB3やP+領域を設けることで、P型基板PSUBの電位を安定化でき、ノイズ耐性を向上できる。   In FIG. 10B, NNLA1 is a deep well, and NLLB1, NLLB2, NLLB3, and NLLB4 are shallow wells. NWLB2 and NWLB3 are formed in a ring shape. As a result, an N-type well can be formed so as to surround the P-type well PWLB1. In the P-type wells PWLB2 and PWLB3, a P + region (second conductivity type diffusion region in a broad sense) electrically connected to the VSS power supply line is formed. By providing such P-type wells PWLB2, PWLB3 and P + regions, the potential of the P-type substrate PSUB can be stabilized and noise resistance can be improved.

基板電位安定化用のP+領域(第2導電型拡散領域)は、例えば図11(A)(B)で説明する手法により形成できる。   The P + region (second conductivity type diffusion region) for stabilizing the substrate potential can be formed by, for example, the method described with reference to FIGS.

図11(A)では、ドライバ用ロジック回路ブロックLBの電源VSSに電気的に接続される基板電位安定化用のP+領域が、高速I/F回路ブロックHBを囲むようにリング状にP型基板PSUBに形成されている。即ちコンタクトによりVSSの電源線に電気的に接続されたP+領域のガードリングが、HBが形成されるN型ウェルNWLHの周囲を囲むように形成されている。このようにすれば、N型ウェルNWLHの周縁のP型基板PSUBの電位が安定化されるため、HBで発生したノイズがLB等に伝達するのを効果的に防止できる。   In FIG. 11A, a P-type substrate is formed in a ring shape so that a substrate potential stabilizing P + region electrically connected to the power source VSS of the driver logic circuit block LB surrounds the high-speed I / F circuit block HB. It is formed in PSUB. That is, the guard ring in the P + region electrically connected to the VSS power supply line by the contact is formed so as to surround the N-type well NWLH in which the HB is formed. By doing so, the potential of the P-type substrate PSUB at the periphery of the N-type well NWLH is stabilized, so that it is possible to effectively prevent noise generated in the HB from being transmitted to the LB or the like.

また図11(B)では、HBが含む物理層回路PHYは、トリプルウェル構造のN型ウェルNWLH1に形成され、ロジック回路HLは、NWLH1と分離して形成されたトリプルウェル構造のN型ウェルNWLH2に形成される。具体的にはPHYを構成するN型トランジスタは、P型ウェルPWLH1に形成される。またPHYを構成するP型トランジスタは、PWLH1を囲むようにPSUBに形成されたN型ウェルNWLH1に形成される。   In FIG. 11B, the physical layer circuit PHY included in the HB is formed in an N-type well NWLH1 having a triple well structure, and the logic circuit HL is formed in an N-type well NWLH2 having a triple well structure formed separately from the NWLH1. Formed. Specifically, the N-type transistor constituting the PHY is formed in the P-type well PWLH1. The P-type transistor constituting the PHY is formed in the N-type well NWLH1 formed in the PSUB so as to surround the PWLH1.

一方、ロジック回路HLを構成するN型トランジスタは、P型ウェルPWLH2に形成される。またHLを構成するP型トランジスタは、PWLH2を囲むようにPSUBに形成されたN型ウェルNWLH2に形成される。   On the other hand, the N-type transistor constituting the logic circuit HL is formed in the P-type well PWLH2. The P-type transistor constituting the HL is formed in the N-type well NWLH2 formed in the PSUB so as to surround the PWLH2.

図11(B)のようにすれば、物理層回路PHYとロジック回路HLが、トリプルウェル構造の別ウェルに形成される。従ってHLで発生したノイズの悪影響をPHYが受けにくくなり、シリアル転送の伝送品質を維持できる。またPHYで発生したノイズの悪影響もHLが受けにくくなり、誤動作の発生等を防止できる。またHLが形成されるN型ウェルNWLH2が障壁となって、物理層回路PHYとドライバ用ロジック回路ブロックLBとの間でのノイズ伝達も低減できる。   As shown in FIG. 11B, the physical layer circuit PHY and the logic circuit HL are formed in another well having a triple well structure. Therefore, it is difficult for PHY to be adversely affected by noise generated in HL, and the transmission quality of serial transfer can be maintained. In addition, the adverse effect of noise generated in the PHY is not easily affected by HL, and the occurrence of malfunctions can be prevented. Further, the N-type well NWLH2 in which the HL is formed serves as a barrier, and noise transmission between the physical layer circuit PHY and the driver logic circuit block LB can be reduced.

また図11(B)では、VSSの電源線が、高速I/F回路ブロックHB内に配線される。即ち、HBの周縁のみならず、図11(B)のA1に示すようにHBの内部にもVSSの電源線が配線される。そして、このように配線されたVSSに接続されるP+領域が、N型ウェルNWLH1とNWLH2の間のP型基板PSUBに形成される。   In FIG. 11B, the VSS power line is wired in the high-speed I / F circuit block HB. In other words, not only the peripheral edge of the HB but also the VSS power line is wired inside the HB as indicated by A1 in FIG. A P + region connected to the VSS thus wired is formed in the P-type substrate PSUB between the N-type wells NWLH1 and NWLH2.

このようにすれば、N型ウェルNWLH1、NWLH2の間に介在するP型基板PSUBについても、そこに形成されるP+領域によりその電位が安定化される。従って、HLで発生したノイズがPHYに伝達しにくくなると共に、PHYで発生したノイズもHLに伝達しにくくなる。また、このようにVSSの電源線を配線すれば、HB用の電源VSSM、VSSG等とVSSとの間の保護回路についても効率良くレイアウトできるようになり、レイアウトの効率化と信頼性の向上を両立できる。   In this way, the potential of the P-type substrate PSUB interposed between the N-type wells NWLH1 and NWLH2 is also stabilized by the P + region formed there. Accordingly, noise generated in HL is difficult to be transmitted to PHY, and noise generated in PHY is also difficult to be transmitted to HL. In addition, if the VSS power line is wired in this way, the protection circuit between the HB power supply VSSM, VSSG, etc. and VSS can be laid out efficiently, improving the layout efficiency and the reliability. Can be compatible.

なおHB内でのN型ウェルやP+領域の形成手法は図11(A)(B)に限定されない。例えばPHYのアナログ回路が形成されるN型ウェルと、PHYの高速ロジック回路が形成されるN型ウェルとを別ウェルにしてもよい。このようにすれば、ノイズ耐性を更に向上できる。   Note that the method of forming the N-type well and the P + region in the HB is not limited to FIGS. 11A and 11B. For example, the N-type well in which the PHY analog circuit is formed and the N-type well in which the PHY high-speed logic circuit is formed may be separated. In this way, noise tolerance can be further improved.

7.双方向ダイオード
図12に示すように、保護回路PT1〜PT6は双方向ダイオード(整流素子)などにより構成できる。図12は、図8のように共用電源VSSAの電源線を設けた場合の回路例である。
7). Bidirectional Diode As shown in FIG. 12, the protection circuits PT1 to PT6 can be constituted by bidirectional diodes (rectifier elements) or the like. FIG. 12 is a circuit example in the case where the power supply line of the shared power supply VSSA is provided as shown in FIG.

例えば保護回路PT1、PT4は、各々、ダイオードDI1、DI2により構成される双方向ダイオードを含む。具体的には、VSSMの電源ノード(第1の電源ノード)とVSSAの電源ノード(中間ノード)との間に設けられ、VSSMからVSSAへの方向を順方向とする第1のダイオードDI1を含む。またVSSMの電源ノードとVSSAの電源ノードとの間に設けられ、VSSAからVSSMへの方向を順方向とする第2のダイオードDI2を含む。更に、VSSの電源ノード(第2の電源ノード)とVSSAの電源ノードとの間に設けられ、VSSからVSSAへの方向を順方向とする第1の寄生ダイオードDP1を含む。この寄生ダイオードDP1は、トリプルウェル構造を構成するP型基板(第2導電型基板)とその上のN型ウェル(第1の第1導電型ウェル)との間の接合面に形成される。これらのP型基板、N型ウェルは、図10(A)のトリプルウェル構造を構成するPSUB、NWLHである。   For example, the protection circuits PT1 and PT4 include bidirectional diodes configured by the diodes DI1 and DI2, respectively. Specifically, it includes a first diode DI1 provided between the VSSM power supply node (first power supply node) and the VSSA power supply node (intermediate node) and having a forward direction from VSSM to VSSA. . A second diode DI2 is provided between the power supply node of VSSM and the power supply node of VSSA, and has a forward direction from VSSA to VSSM. Furthermore, a first parasitic diode DP1 provided between the VSS power supply node (second power supply node) and the VSSA power supply node and having a forward direction from VSS to VSSA is included. The parasitic diode DP1 is formed on a junction surface between a P-type substrate (second conductivity type substrate) constituting a triple well structure and an N-type well (first first conductivity type well) thereabove. These P-type substrate and N-type well are PSUB and NWLH constituting the triple well structure of FIG.

保護回路PT3、PT6は、各々、VSSとVSSAの間に設けられ、VSSからVSSAへの方向を順方向とする第3のダイオードDI3と、VSSとVSSAの間に設けられ、VSSAからのVSSへの方向を順方向とする第4のダイオードDI4を含む。更に、VSSとVSSAの間に設けられ、VSSからVSSAへの方向を順方向とする第2の寄生ダイオードDP2を含む。この寄生ダイオードDP2は、トリプルウェル構造を構成するP型基板(第2導電型基板)とその上のN型ウェル(第2の第1導電型ウェル)との間の接合面に形成される。   The protection circuits PT3 and PT6 are each provided between VSS and VSSA, provided between the third diode DI3 having a forward direction from VSS to VSSA, and between VSS and VSSA, and from VSSA to VSS. Includes a fourth diode DI4 having a forward direction as the first direction. Furthermore, a second parasitic diode DP2 provided between VSS and VSSA and having a forward direction from VSS to VSSA is included. The parasitic diode DP2 is formed on a junction surface between a P-type substrate (second conductivity type substrate) constituting a triple well structure and an N-type well (second first conductivity type well) thereon.

保護回路PT2、PT5は、各々、VSSGとVSSAの間に設けられ、VSSGからVSSAへの方向を順方向とする第5のダイオードDI5を含む。またVSSGとVSSAの間に設けられ、VSSAからのVSSGへの方向を順方向とする第6のダイオードDI6を含む。更に、VSSとVSSAの間に設けられ、VSSからVSSAへの方向を順方向とする第3の寄生ダイオードDP3を含む。この寄生ダイオードDP3は、トリプルウェル構造を構成するP型基板(第2導電型基板)とその上のN型ウェル(第3の第1導電型ウェル)との間の接合面に形成される。   The protection circuits PT2 and PT5 are each provided between VSSG and VSSA, and include a fifth diode DI5 whose forward direction is from VSSG to VSSA. Also included is a sixth diode DI6 provided between VSSG and VSSA and having a forward direction from VSSA to VSSG. Further, a third parasitic diode DP3 provided between VSS and VSSA and having a forward direction from VSS to VSSA is included. The parasitic diode DP3 is formed on a junction surface between a P-type substrate (second conductivity type substrate) constituting a triple well structure and an N-type well (third first conductivity type well) thereabove.

このような双方向ダイオードにより保護回路を形成すれば、静電保護の機能とノイズ除去の機能を保護回路に持たせることが可能になる。例えば電源VSSMとVSSの間に正極性又は負極性の静電気電圧が印加された場合にも、保護回路PT1、PT3(PT4、PT6)の双方向ダイオードが放電経路になって静電気が放電されるため、トランジスタの静電気破壊が防止される。また表示ドライバからのノイズが電源VSSに乗った場合にも、保護回路PT1、PT3(PT4、PT6)の双方向ダイオードによりノイズが除去されて、電源VSSMにノイズが伝わらないないようになる。例えばダイオードの順方向電圧が0.6Vである場合には、1.2V以下のノイズはVSSMに伝わらないようになる。   If a protection circuit is formed by such a bidirectional diode, the protection circuit can have an electrostatic protection function and a noise removal function. For example, even when a positive or negative electrostatic voltage is applied between the power supplies VSSM and VSS, the bidirectional diodes of the protection circuits PT1 and PT3 (PT4 and PT6) serve as a discharge path to discharge static electricity. The electrostatic breakdown of the transistor is prevented. Further, when noise from the display driver is applied to the power supply VSS, the noise is removed by the bidirectional diodes of the protection circuits PT1 and PT3 (PT4 and PT6) so that the noise is not transmitted to the power supply VSSM. For example, when the forward voltage of the diode is 0.6V, noise of 1.2V or less is not transmitted to VSSM.

なお図12に示すように、VDDMとVSSMの間、VDDとVSSの間、VDDGとVSSGの間には、各々、サイリスタSCR1、SCR2、SCR3が設けられている。またVDDMとVSSMの間、VDDGとVSSGの間には、各々、寄生ダイオードDP4、DP7が形成される。更にVDDM、VDD、VDDGとVSSとの間には、寄生ダイオードDP5、DP6、DP8が形成される。   As shown in FIG. 12, thyristors SCR1, SCR2, and SCR3 are provided between VDDM and VSSM, between VDD and VSS, and between VDDG and VSSG, respectively. Parasitic diodes DP4 and DP7 are formed between VDDM and VSSM and between VDDG and VSSG, respectively. Further, parasitic diodes DP5, DP6 and DP8 are formed between VDDM, VDD, VDDG and VSS.

図13は、図9のような共用電源VSSAの電源線を設けなかった場合の回路例である。図13では、図12の保護回路PT3、PT6は設けられない。そして保護回路PT1、PT4はVSSMとVSSの間に設けられ、保護回路PT2、PT5はVSSGとVSSの間に設けられる。   FIG. 13 is a circuit example in the case where the power supply line of the shared power supply VSSA as shown in FIG. 9 is not provided. In FIG. 13, the protection circuits PT3 and PT6 of FIG. 12 are not provided. The protection circuits PT1 and PT4 are provided between VSSM and VSS, and the protection circuits PT2 and PT5 are provided between VSSG and VSS.

図14(A)(B)は、保護回路を構成するダイオードの縦構造を模式的に示す断面図である。図14(A)では、P型基板PSUB(第2導電型基板)に、P型ウェルPWLH1を囲むようにN型ウェルNWLH1が形成される。そしてダイオードDI1は、P+領域(第1の第2導電型拡散領域)とその下のN型ウェルNWLH1(第1の第1導電型ウェル)との間の接合面に形成される。またダイオードDI2は、N+領域(第1の第1導電型拡散領域)とその下のP型ウェルPWLH1(第1の第2導電型ウェル)との間の接合面に形成される。そして寄生ダイオードDP1は、P型基板PSUBとその上のN型ウェルNWLH1との間の接合面に形成される。   14A and 14B are cross-sectional views schematically showing a vertical structure of a diode constituting the protection circuit. In FIG. 14A, an N-type well NWLH1 is formed on a P-type substrate PSUB (second conductivity type substrate) so as to surround the P-type well PWLH1. The diode DI1 is formed at the junction surface between the P + region (first second conductivity type diffusion region) and the N type well NWLH1 (first first conductivity type well) therebelow. The diode DI2 is formed at the junction surface between the N + region (first first conductivity type diffusion region) and the P type well PWLH1 (first second conductivity type well) therebelow. The parasitic diode DP1 is formed on the junction surface between the P-type substrate PSUB and the N-type well NWLH1 thereon.

図14(B)では、P型基板PSUBに、P型ウェルPWLH2を囲むようにN型ウェルNWLH2が形成されている。そしてダイオードDI3は、P+領域(第2の第2導電型拡散領域)とその下のN型ウェルNWLH2(第2の第1導電型ウェル)との間の接合面に形成される。またダイオードDI4は、N+領域(第2の第1導電型拡散領域)とその下のP型ウェルPWLH2(第2の第2導電型ウェル)との間の接合面に形成される。このようにダイオードDI3は、ダイオードDI1が形成されるN型ウェルNWLH1とは分離形成されたN型ウェルNWLH2に形成される。またダイオードDI4は、ダイオードDI2が形成されるP型ウェルPWLH1とは分離形成されたP型ウェルPWLH2に形成される。そして寄生ダイオードDP2は、P型基板PSUBとその上のN型ウェルNWLH2との間の接合面に形成される。   In FIG. 14B, an N-type well NWLH2 is formed on a P-type substrate PSUB so as to surround the P-type well PWLH2. The diode DI3 is formed at the junction surface between the P + region (second second conductivity type diffusion region) and the N type well NWLH2 (second first conductivity type well) therebelow. The diode DI4 is formed at the junction surface between the N + region (second first conductivity type diffusion region) and the P type well PWLH2 (second second conductivity type well) therebelow. As described above, the diode DI3 is formed in the N-type well NWLH2 formed separately from the N-type well NWLH1 in which the diode DI1 is formed. The diode DI4 is formed in a P-type well PWLH2 formed separately from the P-type well PWLH1 in which the diode DI2 is formed. The parasitic diode DP2 is formed on the junction surface between the P-type substrate PSUB and the N-type well NWLH2 thereon.

ダイオードDI5、DI6も、図14(A)(B)と同様の構造により構成される。この場合、ダイオードDI5は、ダイオードDI1のN型ウェルNWLH1やダイオードDI3のN型ウェルNWLH2とは分離形成されたN型ウェル(第3の第1導電型ウェル)に形成されることになる。またダイオードDI6は、ダイオードDI2のP型ウェルPWLH1やダイオードDI4のP型ウェルPWLH2とは分離形成されたP型ウェル(第3の第2導電型ウェル)に形成されることになる。   The diodes DI5 and DI6 also have the same structure as that shown in FIGS. In this case, the diode DI5 is formed in an N-type well (third first conductivity type well) formed separately from the N-type well NWLH1 of the diode DI1 and the N-type well NWLH2 of the diode DI3. The diode DI6 is formed in a P-type well (third second conductivity type well) formed separately from the P-type well PWLH1 of the diode DI2 and the P-type well PWLH2 of the diode DI4.

なお図15に、ダイオードが形成されるトリプルウェル構造の詳細例を示す。図15のPWLB1は図14(A)のPWLH1に相当し、図15のNWLB1は図14(A)のNWLH1に相当する。   FIG. 15 shows a detailed example of a triple well structure in which a diode is formed. PWLB1 in FIG. 15 corresponds to PWLH1 in FIG. 14A, and NWLB1 in FIG. 15 corresponds to NWLH1 in FIG.

図14(A)(B)に示すように、保護回路(双方向ダイオード)のA端子には、寄生ダイオードDP1やDP2が寄生する。そして図12では、このような寄生ダイオードが形成される保護回路のA端子同士を接続するようにしている。具体的には保護回路PT1(PT4)のA端子と保護回路PT3(PT6)のA端子は、VSSAの電源線を介して接続される。また保護回路PT2(PT5)のA端子と保護回路PT3(PT6)のA端子も、VSSAの電源線を介して接続される。   As shown in FIGS. 14A and 14B, parasitic diodes DP1 and DP2 are parasitic on the A terminal of the protection circuit (bidirectional diode). In FIG. 12, the A terminals of the protection circuit in which such a parasitic diode is formed are connected to each other. Specifically, the A terminal of the protection circuit PT1 (PT4) and the A terminal of the protection circuit PT3 (PT6) are connected via a VSSA power line. The A terminal of the protection circuit PT2 (PT5) and the A terminal of the protection circuit PT3 (PT6) are also connected via a VSSA power line.

このように接続すれば、寄生ダイオードDP1、DP2、DP3は、A端子であるVSSAの電源線にだけ寄生するようになる。従って、VSSMとVSSAの間のダイオードの段数、VSSとVSSAの間のダイオードの段数、VSSGとVSSAの間のダイオードの段数は、共に1段になり、寄生ダイオードがノイズ伝搬経路になってしまう事態を防止できる。   With this connection, the parasitic diodes DP1, DP2, and DP3 are parasitic only on the power supply line of the VSSA that is the A terminal. Therefore, the number of diode stages between VSSM and VSSA, the number of diode stages between VSS and VSSA, and the number of diode stages between VSSG and VSSA are all one, and the parasitic diode becomes a noise propagation path. Can be prevented.

即ち図12において、保護回路PT1のB端子をVSSAに接続すると、寄生ダイオードDP1が、VSSMとVSSの間に形成されるようになってしまう。従ってDP1の順方向電圧が0.6Vであったとすると、0.6Vより大きいノイズは除去されずに、VSSからVSSMに伝搬してしまう。   That is, in FIG. 12, when the B terminal of the protection circuit PT1 is connected to VSSA, the parasitic diode DP1 is formed between VSSM and VSS. Therefore, assuming that the forward voltage of DP1 is 0.6V, noise larger than 0.6V is not removed, but propagates from VSS to VSSM.

これに対して図12では、保護回路PT1のA端子にVSSAが接続されるため、寄生ダイオードDP1はVSSとVSSAの間に形成される。従って、保護回路PT3、PT1の経路でのダイオードの段数のみならず、寄生ダイオードDP1、保護回路PT1の経路でのダイオードの段数も2段になる。従って、ダイオードの順方向電圧が0.6Vである場合に、1.2V以下のノイズがVSSからVDDMに伝搬してしまう事態を確実に防止できる。   On the other hand, in FIG. 12, since VSSA is connected to the A terminal of the protection circuit PT1, the parasitic diode DP1 is formed between VSS and VSSA. Accordingly, not only the number of diode stages in the path of the protection circuits PT3 and PT1, but also the number of diode stages in the path of the parasitic diode DP1 and the protection circuit PT1 is two. Therefore, when the forward voltage of the diode is 0.6V, it is possible to reliably prevent a noise of 1.2V or less from propagating from VSS to VDDM.

8.細長の集積回路装置
図16に集積回路装置10のレイアウトの変形例を示す。この集積回路装置10は、D1方向に沿って配置される第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBN(Nは2以上の整数)を含む。また集積回路装置10は、第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのD2方向側に辺SD4に沿って設けられる出力側I/F領域12(広義には第1のインターフェース領域)を含む。また第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのD4方向側に辺SD2に沿って設けられる入力側I/F領域14(広義には第2のインターフェース領域)を含む。より具体的には、出力側I/F領域12(第1のI/O領域)は、回路ブロックCB1〜CBNのD2方向側に、例えば他の回路ブロック等を介さずに配置される。また入力側I/F領域14(第2のI/O領域)は、回路ブロックCB1〜CBNのD4方向側に、例えば他の回路ブロック等を介さずに配置される。
8). Elongated Integrated Circuit Device FIG. 16 shows a modification of the layout of the integrated circuit device 10. The integrated circuit device 10 includes first to Nth circuit blocks CB1 to CBN (N is an integer of 2 or more) arranged along the direction D1. The integrated circuit device 10 also includes an output-side I / F region 12 (first interface region in a broad sense) provided along the side SD4 on the D2 direction side of the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN. Further, it includes an input-side I / F area 14 (second interface area in a broad sense) provided along the side SD2 on the D4 direction side of the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN. More specifically, the output-side I / F region 12 (first I / O region) is arranged on the D2 direction side of the circuit blocks CB1 to CBN without using, for example, other circuit blocks. The input-side I / F area 14 (second I / O area) is arranged on the D4 direction side of the circuit blocks CB1 to CBN, for example, without passing through other circuit blocks.

出力側(表示パネル側)I/F領域12は、表示パネルとのインターフェースとなる領域であり、パッドや、パッドに接続される出力用トランジスタ、保護素子などの種々の素子を含む。具体的には、データ線へのデータ信号や走査線への走査信号を出力するための出力用トランジスタなどを含む。なお表示パネルがタッチパネルである場合等には、入力用トランジスタを含んでもよい。   The output side (display panel side) I / F area 12 is an area serving as an interface with the display panel, and includes various elements such as a pad, an output transistor connected to the pad, and a protection element. Specifically, it includes an output transistor for outputting a data signal to the data line and a scanning signal to the scanning line. In the case where the display panel is a touch panel, an input transistor may be included.

入力側(ホスト側)I/F領域14は、ホストとのインターフェースとなる領域であり、パッドや、パッドに接続される入力用(入出力用)トランジスタ、出力用トランジスタ、保護素子などの種々の素子を含むことができる。具体的には、ホストからの信号(デジタル信号)を入力するための入力用トランジスタやホストへの信号を出力するための出力用トランジスタなどを含む。   The input side (host side) I / F area 14 is an area serving as an interface with the host, and includes various elements such as pads, input (input / output) transistors connected to the pads, output transistors, and protection elements. An element can be included. Specifically, an input transistor for inputting a signal (digital signal) from the host, an output transistor for outputting a signal to the host, and the like are included.

なお、短辺である辺SD1、SD3に沿った出力側又は入力側I/F領域を設けるようにしてもよい。また外部接続端子となるバンプ等は、I/F(インターフェース)領域12、14に設けてもよいし、それ以外の領域(第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBN)に設けてもよい。I/F領域12、14以外の領域に設ける場合には、金バンプ以外の小型バンプ技術(樹脂をコアとするバンプ技術など)を用いることで実現される。   Note that an output-side or input-side I / F area along the short sides SD1 and SD3 may be provided. Further, bumps or the like serving as external connection terminals may be provided in the I / F (interface) regions 12 and 14, or may be provided in other regions (first to Nth circuit blocks CB1 to CBN). In the case where it is provided in a region other than the I / F regions 12 and 14, it is realized by using a small bump technology (such as a bump technology using a resin as a core) other than the gold bump.

また第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNは、少なくとも2つ(或いは3つ)の異なる回路ブロック(異なる機能を持つ回路ブロック)を含むことができる。集積回路装置10が表示ドライバである場合を例にとれば、回路ブロックCB1〜CBNは、データドライバ、メモリ、走査ドライバ、ロジック回路、階調電圧生成回路、電源回路のブロックの少なくとも2つを含むことができる。   The first to Nth circuit blocks CB1 to CBN can include at least two (or three) different circuit blocks (circuit blocks having different functions). Taking the case where the integrated circuit device 10 is a display driver as an example, the circuit blocks CB1 to CBN include at least two blocks of a data driver, a memory, a scan driver, a logic circuit, a gradation voltage generation circuit, and a power supply circuit. be able to.

図17(A)(B)に集積回路装置10の平面レイアウトの詳細例を示す。図17(A)(B)において、第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNは、第1〜第4のメモリブロックMB1〜MB4(広義には第1〜第Iのメモリブロック。Iは2以上の整数)を含む。また第1〜第4のメモリブロックMB1〜MB4の各々に対して、D1方向に沿ってその各々が隣接して配置される第1〜第4のデータドライバブロックDB1〜DB4(広義には第1〜第Iのデータドライバブロック)を含む。具体的にはメモリブロックMB1とデータドライバブロックDB1がD1方向に沿って隣接して配置され、メモリブロックMB2とデータドライバブロックDB2がD1方向に沿って隣接して配置される。そしてデータドライバブロックDB1がデータ線を駆動するために用いる画像データ(表示データ)は、隣接するメモリブロックMB1が記憶し、データドライバブロックDB2がデータ線を駆動するために用いる画像データは、隣接するメモリブロックMB2が記憶する。   17A and 17B show detailed examples of the planar layout of the integrated circuit device 10. 17A and 17B, the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN are first to fourth memory blocks MB1 to MB4 (first to Ith memory blocks in a broad sense. I is 2). Including the above integer). The first to fourth data driver blocks DB1 to DB4 (first in a broad sense, the first to fourth memory blocks MB1 to MB4) are arranged adjacent to each other along the direction D1. To I-th data driver block). Specifically, the memory block MB1 and the data driver block DB1 are arranged adjacently along the D1 direction, and the memory block MB2 and the data driver block DB2 are arranged adjacently along the D1 direction. The image data (display data) used by the data driver block DB1 to drive the data lines is stored in the adjacent memory block MB1, and the image data used by the data driver block DB2 to drive the data lines is adjacent. Memory block MB2 stores it.

なお本実施形態の集積回路装置10のレイアウト配置は図17(A)(B)に限定されない。例えばメモリブロックやデータドライバブロックのブロック数を2、3或いは5以上にしてもよいし、メモリブロックやデータドライバブロックをブロック分割しない構成にしてもよい。またメモリブロックとデータドライバブロックが隣接しないようにする変形実施も可能である。またメモリブロック、走査ドライバブロック、電源回路ブロック又は階調電圧生成回路ブロックなどを設けない構成としてもよい。また回路ブロックCB1〜CBNと出力側I/F領域12や入力側I/F領域14の間に、D2方向での幅が極めて狭い回路ブロック(WB以下の細長回路ブロック)を設けてもよい。また回路ブロックCB1〜CBNが、異なる回路ブロックがD2方向に多段に並んだ回路ブロックを含んでもよい。例えば走査ドライバ回路と電源回路を1つの回路ブロックとした構成としてもよい。   The layout arrangement of the integrated circuit device 10 of this embodiment is not limited to FIGS. For example, the number of memory blocks or data driver blocks may be 2, 3 or 5 or more, or the memory block or data driver block may be configured not to be divided into blocks. Further, a modification can be made so that the memory block and the data driver block are not adjacent to each other. In addition, a configuration in which a memory block, a scan driver block, a power supply circuit block, a gradation voltage generation circuit block, or the like is not provided may be employed. Further, a circuit block having a very narrow width in the D2 direction (elongated circuit block of WB or less) may be provided between the circuit blocks CB1 to CBN and the output-side I / F region 12 or the input-side I / F region 14. The circuit blocks CB1 to CBN may include circuit blocks in which different circuit blocks are arranged in multiple stages in the D2 direction. For example, the scan driver circuit and the power supply circuit may be configured as one circuit block.

図18(A)に、集積回路装置10のD2方向に沿った断面図の例を示す。ここでW1、WB、W2は、各々、出力側I/F領域12、回路ブロックCB1〜CBN、入力側I/F領域14のD2方向での幅である。この幅W1、WB、W2は、各々、出力側I/F領域12、回路ブロックCB1〜CBN、入力側I/F領域14のトランジスタ形成領域(バルク領域、アクティブ領域)の幅(最大幅)であり、バンプの形成領域は含まない。またWは集積回路装置10のD2方向での幅である。   FIG. 18A shows an example of a cross-sectional view of the integrated circuit device 10 along the direction D2. Here, W1, WB, and W2 are the widths in the D2 direction of the output side I / F region 12, the circuit blocks CB1 to CBN, and the input side I / F region 14, respectively. The widths W1, WB, and W2 are the widths (maximum widths) of the transistor formation regions (bulk region and active region) in the output side I / F region 12, circuit blocks CB1 to CBN, and input side I / F region 14, respectively. Yes, it does not include the bump formation area. W is the width of the integrated circuit device 10 in the direction D2.

本実施形態では図18(A)に示すように、D2方向において、回路ブロックCB1〜CBNと出力側、入力側I/F領域12、14との間に他の回路ブロックが介在しない構成にできる。従って、W1+WB+W2≦W<W1+2×WB+W2とすることができる。或いは、W1+W2<WBが成り立つため、W<2×WBとすることもできる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 18A, in the direction D2, no other circuit block is interposed between the circuit blocks CB1 to CBN and the output side and input side I / F regions 12 and 14. . Therefore, W1 + WB + W2 ≦ W <W1 + 2 × WB + W2. Alternatively, since W1 + W2 <WB holds, W <2 × WB can be set.

一方、図18(B)の配置手法では、2以上の複数の回路ブロックがD2方向に沿って配置される。具体的にはデータドライバブロックとメモリブロックがD2方向に沿って配置される。   On the other hand, in the arrangement method of FIG. 18B, two or more circuit blocks are arranged along the direction D2. Specifically, the data driver block and the memory block are arranged along the direction D2.

例えば図18(B)においてホスト側からの画像データはメモリブロックに書き込まれる。そしてデータドライバブロックは、メモリブロックに書き込まれたデジタルの画像データをアナログのデータ電圧に変換して、表示パネルのデータ線を駆動する。従って画像データの信号の流れはD2方向である。このため図18(B)では、この信号の流れに合わせて、メモリブロックとデータドライバブロックをD2方向に沿って配置している。   For example, in FIG. 18B, image data from the host side is written into the memory block. The data driver block converts the digital image data written in the memory block into an analog data voltage, and drives the data lines of the display panel. Accordingly, the signal flow of the image data is in the direction D2. For this reason, in FIG. 18B, the memory block and the data driver block are arranged along the direction D2 in accordance with the flow of this signal.

ところが図18(B)の配置手法には以下のような課題がある。   However, the arrangement method of FIG. 18B has the following problems.

第1に、表示ドライバなどの集積回路装置では、低コスト化のためにチップサイズの縮小が要求される。ところが、微細プロセスを採用し、集積回路装置を単純にシュリンクしてチップサイズを縮小すると、短辺方向のみならず長辺方向も縮小されてしまい、狭ピッチのために実装が困難になる。   First, in an integrated circuit device such as a display driver, a reduction in chip size is required for cost reduction. However, if a fine process is employed and the integrated circuit device is simply shrunk to reduce the chip size, not only the short side direction but also the long side direction is reduced, and mounting becomes difficult due to the narrow pitch.

第2に、表示ドライバでは、表示パネルの種類(アモルファスTFT、低温ポリシリコンTFT)や画素数(QCIF、QVGA、VGA)や製品の仕様などに応じて、メモリやデータドライバの構成が変わる。従って図18(B)の配置手法では、ある製品ではパッドピッチとメモリのセルピッチとデータドライバのセルピチが一致していたとしても、メモリやデータドライバの構成が変わると、これらのピッチが一致しなくなる。ピッチが一致しなくなると、回路ブロック間に、ピッチの不一致を吸収するための無駄な配線領域を形成しなければならなくなる。この結果、集積回路装置のD2方向での幅が大きくなり、チップ面積が増加し、コスト増を招く。一方、このような事態を避けるために、パッドピッチとセルピッチが揃うようにメモリやデータドライバのレイアウトを変更すると、開発期間が長期化し、結局、コスト増を招く。   Secondly, in the display driver, the configuration of the memory and data driver varies depending on the type of display panel (amorphous TFT, low-temperature polysilicon TFT), the number of pixels (QCIF, QVGA, VGA), product specifications, and the like. Therefore, in the arrangement method of FIG. 18B, even if the pad pitch, the memory cell pitch, and the data driver cell pitch match in a certain product, these pitches do not match if the configuration of the memory or data driver changes. . If the pitches do not match, it becomes necessary to form a useless wiring region for absorbing the pitch mismatch between the circuit blocks. As a result, the width of the integrated circuit device in the direction D2 is increased, the chip area is increased, and the cost is increased. On the other hand, in order to avoid such a situation, if the layout of the memory or data driver is changed so that the pad pitch and the cell pitch are aligned, the development period becomes longer, resulting in an increase in cost.

これに対して図16、図17(A)(B)の配置手法では複数の回路ブロックCB1〜CBNがD1方向に沿って配置される。また図18(A)では、パッド(バンプ)の下にトランジスタ(回路素子)を配置できる(能動面バンプ)。また回路ブロック内の配線であるローカル配線よりも上層(パッドよりも下層)で形成されるグローバル配線により、回路ブロック間や、回路ブロックとI/F領域間等での信号線を形成できる。従って、集積回路装置10のD1方向での長さを維持したままで、D2方向での幅Wを狭くでき、スリムな細長チップを実現できる。   On the other hand, in the arrangement methods of FIGS. 16, 17A, and 17B, a plurality of circuit blocks CB1 to CBN are arranged along the direction D1. In FIG. 18A, a transistor (circuit element) can be disposed under the pad (bump) (active surface bump). In addition, signal lines between circuit blocks, between circuit blocks and I / F regions, and the like can be formed by global wiring formed in a layer above the local wiring (lower layer than the pad) that is a wiring in the circuit block. Therefore, the width W in the D2 direction can be narrowed while maintaining the length of the integrated circuit device 10 in the D1 direction, and a slim elongated chip can be realized.

また図16、図17(A)(B)の配置手法では回路ブロックCB1〜CBNがD1方向に沿って配置されるため、製品の仕様変更等に容易に対応できる。即ち共通のプラットフォームを用いて様々な仕様の製品を設計できるため、設計効率を向上できる。例えば図17(A)(B)において、表示パネルの画素数や階調数が増減した場合にも、メモリブロックやデータドライバブロックのブロック数や、1水平走査期間での画像データの読み出し回数等を増減するだけで対応できる。また図17(A)(B)はメモリ内蔵のアモルファスTFTパネル用の例であるが、メモリ内蔵の低温ポリシリコンTFTパネル用の製品を開発する場合には、回路ブロックCB1〜CBNの中から走査ドライバブロックを取り除くだけで済む。またメモリ非内蔵の製品を開発する場合には、メモリブロックを取り除けば済む。そしてこのように仕様に合わせて回路ブロックを取り除いても、それが他の回路ブロックに及ぼす影響が最小限に抑えられるため、設計効率を向上できる。   In addition, the circuit blocks CB1 to CBN are arranged along the direction D1 in the arrangement methods of FIGS. 16, 17A, and 17B, so that it is possible to easily cope with a change in product specifications. In other words, since it is possible to design products with various specifications using a common platform, the design efficiency can be improved. For example, in FIGS. 17A and 17B, even when the number of pixels and the number of gradations of the display panel increase or decrease, the number of memory blocks and data driver blocks, the number of times image data is read out in one horizontal scanning period, etc. Just increase or decrease the number. FIGS. 17A and 17B are examples for an amorphous TFT panel with a built-in memory. When developing a product for a low-temperature polysilicon TFT panel with a built-in memory, scanning is performed from among the circuit blocks CB1 to CBN. Just remove the driver block. When developing a product without a memory, the memory block can be removed. Even if the circuit block is removed in accordance with the specifications as described above, the influence of the circuit block on other circuit blocks can be minimized, so that the design efficiency can be improved.

また図16、図17(A)(B)の配置手法では、各回路ブロックCB1〜CBNのD2方向での幅(高さ)を、例えばデータドライバブロックやメモリブロックの幅(高さ)に統一できる。そして各回路ブロックのトランジスタ数が増減した場合には、各回路ブロックのD1方向での長さを増減することで調整できるため、設計を更に効率化できる。例えば図17(A)(B)において、階調電圧生成回路ブロックや電源回路ブロックの構成が変更になり、トランジスタ数が増減した場合にも、階調電圧生成回路ブロックや電源回路ブロックのD1方向での長さを増減することで対応できる。   In the arrangement methods shown in FIGS. 16, 17A, and 17B, the width (height) of each circuit block CB1 to CBN in the D2 direction is unified to, for example, the width (height) of the data driver block or the memory block. it can. When the number of transistors in each circuit block increases / decreases, the design can be made more efficient because it can be adjusted by increasing / decreasing the length of each circuit block in the D1 direction. For example, in FIGS. 17A and 17B, even when the configuration of the gradation voltage generation circuit block or the power supply circuit block is changed and the number of transistors increases or decreases, the direction of the gradation voltage generation circuit block or the power supply circuit block in the direction D1 This can be dealt with by increasing or decreasing the length.

そして図16、図17(A)(B)の配置手法を採用した場合にも、図19(A)に示すように、高速I/F回路ブロックHBの両サイドに保護回路ブロックPTB1、PTB2が配置される。これにより高速I/F回路ブロックHBのトランジスタの静電気破壊の防止やノイズ除去を実現できる。また高速I/F回路ブロックHBとロジック回路ブロックLBとの間の配線領域のD1方向の長さを広くでき、配線効率を向上できる。また高速I/F回路ブロックHBのD2方向での幅を小さくできるため、集積回路装置のD2方向での幅Wも小さくでき、スリムな細長チップを実現できる。   Even when the arrangement methods of FIGS. 16, 17A and 17B are adopted, as shown in FIG. 19A, the protection circuit blocks PTB1 and PTB2 are provided on both sides of the high-speed I / F circuit block HB. Be placed. As a result, it is possible to prevent electrostatic breakdown and remove noise from the transistors of the high-speed I / F circuit block HB. In addition, the length in the D1 direction of the wiring region between the high-speed I / F circuit block HB and the logic circuit block LB can be increased, and the wiring efficiency can be improved. Further, since the width in the D2 direction of the high-speed I / F circuit block HB can be reduced, the width W in the D2 direction of the integrated circuit device can also be reduced, and a slim and slender chip can be realized.

また高速I/F回路ブロックHBを図19(B)のように配置してもよい。図19(B)では、高速I/F回路ブロックHBのD1(又はD3)方向に隣接してロジック回路ブロックLBが配置されている。図19(B)の場合でも、高速I/F回路ブロックHBの両サイドに保護回路ブロックPTB1、PTB2が配置される。従って、静電気破壊の防止、ノイズ除去を実現できると共に、HBとLBの間の配線領域の長さを広くして配線効率を向上できる。   Further, the high-speed I / F circuit block HB may be arranged as shown in FIG. In FIG. 19B, the logic circuit block LB is arranged adjacent to the high-speed I / F circuit block HB in the direction D1 (or D3). Even in the case of FIG. 19B, the protection circuit blocks PTB1 and PTB2 are arranged on both sides of the high-speed I / F circuit block HB. Accordingly, it is possible to prevent electrostatic breakdown and eliminate noise, and to increase the wiring efficiency between the HB and LB by increasing the length of the wiring region.

9.電子機器
図20(A)(B)に本実施形態の集積回路装置10を含む電子機器(電気光学装置)の例を示す。なお電子機器は図20(A)(B)に示されるもの以外の構成要素(例えばカメラ、操作部又は電源等)を含んでもよい。また本実施形態の電子機器は携帯電話機には限定されず、デジタルカメラ、PDA、電子手帳、電子辞書、プロジェクタ、リアプロジェクションテレビ、或いは携帯型情報端末などであってもよい。
9. Electronic Device FIGS. 20A and 20B show examples of electronic devices (electro-optical devices) including the integrated circuit device 10 of the present embodiment. Note that the electronic apparatus may include components (for example, a camera, an operation unit, a power supply, or the like) other than those illustrated in FIGS. The electronic device according to the present embodiment is not limited to a mobile phone, and may be a digital camera, a PDA, an electronic notebook, an electronic dictionary, a projector, a rear projection television, a portable information terminal, or the like.

図20(A)(B)においてホストデバイス410は、例えばMPU、ベースバンドエンジンなどである。このホストデバイス410は、表示ドライバである集積回路装置10の制御を行う。或いはアプリケーションエンジンやベースバンドエンジンとしての処理や、圧縮、伸長、サイジングなどのグラフィックエンジンとしての処理を行うこともできる。また図20(B)の画像処理コントローラ420は、ホストデバイス410に代行して、圧縮、伸長、サイジングなどのグラフィックエンジンとしての処理を行う。   20A and 20B, the host device 410 is, for example, an MPU, a baseband engine, or the like. The host device 410 controls the integrated circuit device 10 that is a display driver. Alternatively, processing as an application engine or baseband engine, or processing as a graphic engine such as compression, decompression, or sizing can be performed. The image processing controller 420 in FIG. 20B performs processing as a graphic engine such as compression, decompression, and sizing on behalf of the host device 410.

図20(A)の場合には、集積回路装置10としてメモリ内蔵のものを用いることができる。即ちこの場合には集積回路装置10は、ホストデバイス410からの画像データを、一旦内蔵メモリに書き込み、書き込まれた画像データを内蔵メモリから読み出して、表示パネルを駆動する。一方、図20(B)の場合には、集積回路装置10としてメモリ非内蔵のものを用いることができる。即ちこの場合には、ホストデバイス410からの画像データは、画像処理コントローラ420の内蔵メモリに書き込まれる。そして集積回路装置10は、画像処理コントローラ420の制御の下で、表示パネル400を駆動する。   In the case of FIG. 20A, the integrated circuit device 10 having a built-in memory can be used. That is, in this case, the integrated circuit device 10 once writes the image data from the host device 410 into the built-in memory, reads the written image data from the built-in memory, and drives the display panel. On the other hand, in the case of FIG. 20B, an integrated circuit device 10 without a memory can be used. That is, in this case, the image data from the host device 410 is written into the built-in memory of the image processing controller 420. The integrated circuit device 10 drives the display panel 400 under the control of the image processing controller 420.

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語(第1導電型ウェル、第2導電型ウェル、第1導電型拡散領域、第2導電型拡散領域、第1導電型トランジスタ、第2導電型トランジスタ、第2導電型基板等)と共に記載された用語(N型ウェル、P型ウェル、N+領域、P+領域、N型トランジスタ、P型トランジスタ、P型基板等)は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また集積回路装置や電子機器の構成、配置、動作も本実施形態で説明したものに限定に限定されず、種々の変形実施が可能である。   Although the present embodiment has been described in detail as described above, it will be easily understood by those skilled in the art that many modifications can be made without departing from the novel matters and effects of the present invention. Accordingly, all such modifications are intended to be included in the scope of the present invention. For example, in the specification or the drawings, different terms having a broader meaning or the same meaning (first conductivity type well, second conductivity type well, first conductivity type diffusion region, second conductivity type diffusion region, first conductivity type transistor) , Second conductivity type transistor, second conductivity type substrate, etc.) (N-type well, P-type well, N + region, P + region, N-type transistor, P-type transistor, P-type substrate, etc.) The different terms can be used anywhere in the book or drawing. Further, the configuration, arrangement, and operation of the integrated circuit device and the electronic device are not limited to those described in this embodiment, and various modifications can be made.

集積回路装置の回路構成例。6 is a circuit configuration example of an integrated circuit device. 図2(A)(B)(C)は高速I/F回路、物理層回路の構成例。2A, 2B, and 2C are configuration examples of a high-speed I / F circuit and a physical layer circuit. 図3(A)(B)は物理層回路の他の構成例。3A and 3B show other configuration examples of the physical layer circuit. 集積回路装置のレイアウト例。6 is a layout example of an integrated circuit device. 集積回路装置の詳細なレイアウト例。4 is a detailed layout example of an integrated circuit device. 高速I/F回路ブロックの詳細なレイアウト例。3 shows a detailed layout example of a high-speed I / F circuit block. 集積回路装置の更に詳細なレイアウト例。4 shows a more detailed layout example of an integrated circuit device. 保護回路の第1のレイアウト例。1 is a first layout example of a protection circuit. 保護回路の第2のレイアウト例。The 2nd layout example of a protection circuit. 図10(A)(B)はトリプルウェルを用いる手法の説明図。10A and 10B are explanatory diagrams of a method using a triple well. 図11(A)(B)はP+領域の形成手法の説明図。11A and 11B are explanatory diagrams of a method for forming a P + region. 双方向ダイオードの説明図。Explanatory drawing of a bidirectional diode. 双方向ダイオードの説明図。Explanatory drawing of a bidirectional diode. 図14(A)(B)は、ダイオードの縦構造を示す模式的な断面図。14A and 14B are schematic cross-sectional views showing a vertical structure of a diode. ダイオードの縦構造を示す詳細な断面図。The detailed sectional view showing the vertical structure of a diode. 集積回路装置のレイアウトの変形例。6 shows a modified example of the layout of the integrated circuit device. 図17(A)(B)は集積回路装置の平面レイアウトの詳細例。17A and 17B are detailed examples of the planar layout of the integrated circuit device. 図18(A)(B)は集積回路装置の断面図の例。18A and 18B are examples of cross-sectional views of an integrated circuit device. 図19(A)(B)は保護回路ブロックの配置例。19A and 19B show examples of arrangement of protection circuit blocks. 図20(A)(B)は電子機器の構成例。20A and 20B are configuration examples of electronic devices.

符号の説明Explanation of symbols

HB 高速I/F回路ブロック、LB ドライバ用ロジック回路ブロック、
PHY 物理層回路、HL ロジック回路、
PTB1、PTB2 第1、第2の保護回路ブロック、PT1〜PT6 保護回路、
P1、P2、P4、P5、DP、DM パッド、
PL1、PL2、PL4、PL5 電源線、RG1、RG2 第1、第2の領域、
CPR1、CPR2 第1、第2のキャパシタ領域、
10 集積回路装置、12 出力側I/F領域、14 入力側I/F領域、
HB high-speed I / F circuit block, logic circuit block for LB driver,
PHY physical layer circuit, HL logic circuit,
PTB1, PTB2 first and second protection circuit blocks, PT1 to PT6 protection circuit,
P1, P2, P4, P5, DP, DM pad,
PL1, PL2, PL4, PL5 power line, RG1, RG2 first and second regions,
CPR1, CPR2 first and second capacitor regions,
10 integrated circuit device, 12 output side I / F area, 14 input side I / F area,

Claims (16)

シリアルバスを介してデータ転送を行う物理層回路を含む高速インターフェース回路ブロックと、少なくとも1つの他の回路ブロックとを含み、
前記高速インターフェース回路ブロックは、
1、第2の保護回路ブロックを含み、
前記第1、第2の保護回路ブロックの各々は、前記高速インターフェース回路ブロックの電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる少なくとも1つの保護回路を含み、
前記第1の保護回路ブロックは、前記高速インターフェース回路ブロックの短辺を第1の辺とした場合に、前記第2の保護回路ブロックよりも前記第1の辺側に配置され、
前記第2の保護回路ブロックは、前記高速インターフェース回路ブロックの前記第1の辺に対向する辺を第3の辺とした場合に、前記第1の保護回路ブロックよりも前記第3の辺側に配置されることを特徴とする集積回路装置。
A high-speed interface circuit block including a physical layer circuit for transferring data via a serial bus, and at least one other circuit block;
The high-speed interface circuit block includes:
The first comprises a second protection circuit block,
Each of the first and second protection circuit blocks includes at least one protection circuit provided between the power supply of the high-speed interface circuit block and the power supply of the other circuit block .
The first protection circuit block is disposed closer to the first side than the second protection circuit block when the short side of the high-speed interface circuit block is the first side .
The second protection circuit block is located closer to the third side than the first protection circuit block when a side opposite to the first side of the high-speed interface circuit block is a third side. An integrated circuit device which is arranged.
請求項1において、
前記物理層回路は、前記第1、第2の保護回路ブロックの間に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 1,
The integrated circuit device, wherein the physical layer circuit is disposed between the first and second protection circuit blocks.
請求項1又は2において、In claim 1 or 2,
前記第1の辺から前記第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、前記物理層回路の前記第3の方向側に前記第1の保護回路ブロックが配置され、前記物理層回路の前記第1の方向側に前記第2の保護回路ブロックが配置されることを特徴とする集積回路装置。  The third direction of the physical layer circuit when the direction from the first side to the third side is the first direction and the direction opposite to the first direction is the third direction The integrated circuit device, wherein the first protection circuit block is disposed on a side of the physical layer circuit, and the second protection circuit block is disposed on a side of the physical layer circuit in the first direction.
請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記高速インターフェース回路ブロックは、前記物理層回路と、ロジック回路を含み、
前記高速インターフェース回路ブロックの前記第1の辺から前記第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、前記高速インターフェース回路ブロックの長辺である第2の辺から対向する第4の辺へと向かう方向を第2の方向とした場合に、前記ロジック回路は、前記物理層回路の前記第2の方向側に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3 ,
The high-speed interface circuit block includes the physical layer circuit and a logic circuit,
The direction from the first side to the third side of the high-speed interface circuit block is defined as a first direction, and the second side, which is the long side of the high-speed interface circuit block, is directed to the fourth side facing the first side. The logic circuit is arranged on the second direction side of the physical layer circuit when the direction toward the second direction is the second direction.
請求項において、
前記他の回路ブロックとして、表示制御信号を生成するドライバ用ロジック回路ブロックを含み、
前記ドライバ用ロジック回路ブロックは、前記ロジック回路の前記第2の方向側に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 4 ,
As the other circuit block, including a driver logic circuit block that generates a display control signal,
The integrated circuit device, wherein the driver logic circuit block is disposed on the second direction side of the logic circuit.
請求項4又は5において、
前記物理層回路の前記第1の方向での長さをL1とし、前記ロジック回路の前記第1の方向での長さをL2とした場合に、L2>L1であることを特徴とする集積回路装置。
In claim 4 or 5 ,
An integrated circuit, wherein L2> L1, where L1 is a length of the physical layer circuit in the first direction and L2 is a length of the logic circuit in the first direction. apparatus.
請求項において、
前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、前記物理層回路の前記第3の方向側の第1の領域に前記第1の保護回路ブロックが配置され、前記物理層回路の前記第1の方向側の第2の領域に前記第2の保護回路ブロックが配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 6 ,
When the direction opposite to the first direction is a third direction, the first protection circuit block is disposed in a first region on the third direction side of the physical layer circuit, and the physical layer circuit The integrated circuit device is characterized in that the second protection circuit block is arranged in the second region on the first direction side.
請求項において、
前記第1、第2の領域に、前記高速インターフェース回路ブロックの高電位側電源と低電位側電源の間に設けられるキャパシタが形成されるキャパシタ領域が配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 7 ,
An integrated circuit device, wherein a capacitor region in which a capacitor provided between a high potential side power source and a low potential side power source of the high-speed interface circuit block is formed in the first and second regions.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記高速インターフェース回路ブロックは、前記物理層回路と、ロジック回路と、共用電源の電源線を含み、
前記第1の保護回路ブロックは、
前記物理層回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第1の保護回路と、
前記ロジック回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第2の保護回路と、
前記他の回路ブロックの電源と前記共用電源との間に設けられる第3の保護回路を含み、
前記第2の保護回路ブロックは、
前記物理層回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第4の保護回路と、
前記ロジック回路の電源と前記共用電源との間に設けられる第5の保護回路と、
前記他の回路ブロックの電源と前記共用電源との間に設けられる第6の保護回路を含むことを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 8 .
The high-speed interface circuit block includes the physical layer circuit, a logic circuit, and a power line of a shared power source,
The first protection circuit block includes:
A first protection circuit provided between a power supply of the physical layer circuit and the shared power supply;
A second protection circuit provided between the power supply of the logic circuit and the shared power supply;
A third protection circuit provided between the power supply of the other circuit block and the shared power supply;
The second protection circuit block includes:
A fourth protection circuit provided between the power supply of the physical layer circuit and the shared power supply;
A fifth protection circuit provided between the power supply of the logic circuit and the shared power supply;
An integrated circuit device comprising a sixth protection circuit provided between a power supply of the other circuit block and the shared power supply.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記高速インターフェース回路ブロックは、前記物理層回路と、ロジック回路を含み、
前記第1の保護回路ブロックは、
前記物理層回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第1の保護回路と、
前記ロジック回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第2の保護回路を含み、
前記第2の保護回路ブロックは、
前記物理層回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第4の保護回路と、
前記ロジック回路の電源と前記他の回路ブロックの電源との間に設けられる第5の保護回路を含むことを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 8 .
The high-speed interface circuit block includes the physical layer circuit and a logic circuit,
The first protection circuit block includes:
A first protection circuit provided between the power supply of the physical layer circuit and the power supply of the other circuit block;
A second protection circuit provided between the power supply of the logic circuit and the power supply of the other circuit block;
The second protection circuit block includes:
A fourth protection circuit provided between the power supply of the physical layer circuit and the power supply of the other circuit block;
An integrated circuit device comprising a fifth protection circuit provided between a power supply of the logic circuit and a power supply of the other circuit block.
請求項9又は10において、
前記高速インターフェース回路ブロックの前記第1の辺から前記第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、
前記第1の保護回路の前記第3の方向側に前記第2の保護回路が配置され、
前記第4の保護回路の前記第1の方向側に前記第5の保護回路が配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 9 or 10 ,
When the direction from the first side to the third side of the high-speed interface circuit block is the first direction and the direction opposite to the first direction is the third direction,
The second protection circuit is disposed on the third direction side of the first protection circuit;
The integrated circuit device, wherein the fifth protection circuit is arranged on the first direction side of the fourth protection circuit.
請求項11において、
前記第1の保護回路と前記物理層回路を接続する第1の電源線の前記第3の方向側に、前記第2の保護回路と前記ロジック回路を接続する第2の電源線が配線され、
前記第4の保護回路と前記物理層回路を接続する第4の電源線の前記第1の方向側に、前記第5の保護回路と前記ロジック回路を接続する第5の電源線が配線されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 11 ,
A second power supply line connecting the second protection circuit and the logic circuit is wired on the third direction side of the first power supply line connecting the first protection circuit and the physical layer circuit,
A fifth power supply line connecting the fifth protection circuit and the logic circuit is wired on the first direction side of the fourth power supply line connecting the fourth protection circuit and the physical layer circuit. An integrated circuit device.
請求項12において、
前記高速インターフェース回路ブロックの長辺である第2の辺から対向する第4の辺へと向かう方向を第2の方向とし、前記第2の方向の反対方向を第4の方向とした場合に、
前記第1の電源線が接続される第1のパッドが、前記第1の保護回路の前記第4の方向側に配置され、
前記第2の電源線が接続される第2のパッドが、前記第1のパッドの前記第3の方向側に配置され、
前記第4の電源線が接続される第4のパッドが、前記第4の保護回路の前記第4の方向側に配置され、
前記第5の電源線が接続される第5のパッドが、前記第4のパッドの前記第1の方向側に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 12 ,
When the direction from the second side, which is the long side of the high-speed interface circuit block, to the fourth side facing the second direction is the second direction, and the direction opposite to the second direction is the fourth direction,
A first pad to which the first power line is connected is disposed on the fourth direction side of the first protection circuit;
A second pad to which the second power line is connected is disposed on the third direction side of the first pad;
A fourth pad connected to the fourth power line is disposed on the fourth direction side of the fourth protection circuit;
5. An integrated circuit device according to claim 5, wherein a fifth pad to which the fifth power supply line is connected is disposed on the first direction side of the fourth pad.
請求項13において、
前記物理層回路の受信用パッド又は送信用パッドの少なくとも一方が、前記第1のパッドと前記第4のパッドの間に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 13 ,
An integrated circuit device, wherein at least one of a receiving pad or a transmitting pad of the physical layer circuit is disposed between the first pad and the fourth pad.
請求項1乃至14のいずれかにおいて、
前記第1、第2の保護回路ブロックが含む保護回路は、双方向ダイオードを含むことを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 14 .
The integrated circuit device, wherein the protection circuit included in the first and second protection circuit blocks includes a bidirectional diode.
請求項1乃至15のいずれかに記載の集積回路装置と、
前記集積回路装置により駆動される表示パネルと、
を含むことを特徴とする電子機器。
An integrated circuit device according to any one of claims 1 to 15 ,
A display panel driven by the integrated circuit device;
An electronic device comprising:
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