JP4934101B2 - Method for manufacturing printed circuit board - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 33
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 136
- 239000002585 base Substances 0.000 description 78
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 16
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 16
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- -1 for example Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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Description
本発明は、配線回路基板の製造方法、詳しくは、回路付サスペンション基板の製造に好適に用いられる、配線回路基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a wired circuit board, and more particularly to a method for manufacturing a wired circuit board that is preferably used for manufacturing a suspension board with circuit.
電子・電気機器などに用いられる配線回路基板には、通常、外部端子と接続するための端子部が形成されている。 A wired circuit board used for electronic / electrical devices or the like usually has a terminal portion for connection to an external terminal.
このような端子部として、近年の電子機器の高密度化および小型化に対応すべく、配線回路基板の導体層の両面を露出させるフライングリードが知られている。 As such a terminal portion, a flying lead that exposes both surfaces of a conductor layer of a printed circuit board is known in order to cope with a recent increase in density and size of electronic devices.
フライングリードを形成する方法として、例えば、支持基板の上にベース層を形成し、ベース層の上に導体層を形成し、支持基板およびベース層を開口することにより、導体層の表面を露出させて、その露出した導体層を、端子を形成するための端子形成部分とする配線回路基板の製造方法において、ベース層の形成において、ベース層における導体層を露出させるための開口部分の厚さを、フォトマスクを用いてベース層における開口部分と他の部分とを異なる露光量で露光させることにより、ベース層における他の部分の厚さよりも薄く形成する方法が提案されている(特許文献1参照。)。
しかるに、特許文献1に記載の方法では、ベース層をエッチングして、導体層を露出させるときに、ベース層を過度にエッチングして、端子形成部分以外の導体層を露出させてしまう場合がある。
However, in the method described in
端子形成部分以外の導体層は、通常、ベース層によって被覆されているが、露出することによって、外部からの要因などで損傷しやすくなり、また、次工程において、めっきリードをエッチングする場合には、そのときにエッチングされてしまい、断線する場合がある。 The conductor layer other than the terminal forming part is usually covered with the base layer, but it becomes easy to damage due to external factors when exposed, and when the plating lead is etched in the next process At that time, etching may occur and disconnection may occur.
本発明の目的は、ベース絶縁層が過度にエッチングされた配線回路基板を判別し、配線回路基板の品質の安定性を向上させることのできる配線回路基板の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed circuit board capable of determining a printed circuit board in which a base insulating layer is excessively etched and improving the quality stability of the printed circuit board.
上記目的を達成するために、本発明の配線回路基板の製造方法は、端子部を備える配線回路基板を形成するための製品形成領域と、前記配線回路基板の良否を判定するための判定部を形成するための判定部形成領域とが区画されている金属支持基板を準備する工程と、前記製品形成領域および前記判定部形成領域に、前記端子部に対応する段部を有するベース絶縁層および前記判定部を、絶縁層からそれぞれ形成する工程と、前記ベース絶縁層の上に、前記端子部を備える導体層を形成する工程と、前記金属支持基板をエッチングした後、前記ベース絶縁層および前記判定部を同時にエッチングし、前記端子部の下面を露出させる工程と、前記判定部の厚みを測定する工程とを備えることを特徴としている。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a wired circuit board according to the present invention includes a product formation region for forming a wired circuit board having a terminal portion, and a determination unit for determining the quality of the wired circuit board. A step of preparing a metal support substrate in which a determination part forming region for forming is partitioned, a base insulating layer having a step portion corresponding to the terminal part in the product forming region and the determination part forming region, and A step of forming each of the determination portions from an insulating layer; a step of forming a conductor layer including the terminal portion on the insulating base layer; and etching the metal supporting substrate, and then the insulating base layer and the determining A step of simultaneously etching the portion to expose the lower surface of the terminal portion, and a step of measuring the thickness of the determination portion.
この方法では、金属支持基板の判定部形成領域に、配線回路基板の良否を判定するための判定部が、ベース絶縁層と同じ絶縁層から形成されている。 In this method, a determination part for determining the quality of the printed circuit board is formed in the determination part formation region of the metal supporting board from the same insulating layer as the base insulating layer.
そして、この方法では、端子部の下面を露出させる工程において、ベース絶縁層と判定部とが同時にエッチングされる。そのため、ベース絶縁層と判定部とは、同じ深さでエッチングされる。 In this method, in the step of exposing the lower surface of the terminal portion, the base insulating layer and the determination portion are simultaneously etched. Therefore, the base insulating layer and the determination part are etched at the same depth.
その結果、エッチングした後に判定部の厚みを測定することで、ベース絶縁層が適切にエッチングされているか否かを効率よく判定することができる。よって、ベース絶縁層が過度にエッチングされ、導体層が損傷または破断している可能性のある配線回路基板を判別することができる。 As a result, it is possible to efficiently determine whether or not the base insulating layer is appropriately etched by measuring the thickness of the determination portion after etching. Therefore, it is possible to determine a printed circuit board in which the base insulating layer is excessively etched and the conductor layer may be damaged or broken.
本発明の配線回路基板の製造方法によれば、ベース絶縁層が過度にエッチングされた配線回路基板を判別することができ、配線回路基板の品質の安定性を向上させることができる。 According to the method for manufacturing a wired circuit board of the present invention, it is possible to determine a wired circuit board in which the base insulating layer is excessively etched, and it is possible to improve the quality stability of the wired circuit board.
図1は、配線回路基板が複数形成される配線回路基板集合体シートの一実施形態を示す平面図である。 FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a printed circuit board assembly sheet on which a plurality of printed circuit boards are formed.
図2(a)は、図1に示される配線回路基板集合体シートのA−A断面図、図2(b)は、図2(a)の要部拡大図、図2(c)は、ベース絶縁層が適度にエッチングされた場合の(b)を示す要部拡大図、図2(d)は、ベース絶縁層が過度にエッチングされた場合の(b)を示す要部拡大図である。 2A is a cross-sectional view taken along the line AA of the printed circuit board assembly sheet shown in FIG. 1, FIG. 2B is an enlarged view of the main part of FIG. 2A, and FIG. FIG. 2D is an enlarged view of the main part showing (b) when the base insulating layer is etched excessively, and FIG. 2D is an enlarged view of the main part showing (b) when the base insulating layer is etched excessively. .
図3および図4は、配線回路基板集合体シートの製造工程図である。 3 and 4 are manufacturing process diagrams of the printed circuit board assembly sheet.
配線回路基板集合体シート1は、図1に示されるように、長尺な平板状の金属支持基板7から形成されている。
As shown in FIG. 1, the printed circuit
金属支持基板7には、複数の平面視略矩形状のブロック2が区画されており、ブロック2には、配線回路基板としての回路付サスペンション基板5を形成するための製品形成領域3と、回路付サスペンション基板5の良否を判定するための判定部6を形成するための判定部形成領域4とが区画されている。
A plurality of
回路付サスペンション基板5は、ブロック2の長手方向および幅方向(長手方向および層厚方向の両方と直交する方向。以下同じ。)に沿って、互いに間隔を隔てて、複数、形成されている。
A plurality of suspension boards with
また、回路付サスペンション基板5は、長手方向に延びる平面視略矩形状に形成され、図1および図2に示されるように、金属支持基板7、ベース絶縁層8、端子部としての端子11と配線12とを備えた導体層としての導体パターン9、およびカバー絶縁層10を備えている。
The suspension board with
金属支持基板7は、製造の最終工程において、各回路付サスペンション基板5ごとに、打ち抜きなどにより外形加工される。金属支持基板7には、各端子11に対応して、基板
側開口部18が厚み方向を貫通するように形成されている。
In the final manufacturing process, the
ベース絶縁層8は、図1に示されるように、製品形成領域3に、ブロック2の長手方向に沿って、平面視略矩形状に形成されている。
As shown in FIG. 1, the
また、ベース絶縁層8は、図2(a)に示されるように、金属支持基板7の上に形成され、端子11に対応して、下側開口部20および上側開口部21が形成されている。
Further, as shown in FIG. 2A, the
下側開口部20は、底面視において、基板側開口部18と同じ大きさおよび配置で、ベース絶縁層8の厚み方向下側部分に形成されている。
The
上側開口部21は、底面視において、下側開口部20より小さい相似形状で、下側開口部20と連通するように、ベース絶縁層8の厚み方向上側部分に形成されている。上側開口部21は、下方に向かって次第に幅狭となるテーパ形状に形成されている。
The
導体パターン9は、ベース絶縁層8の上に形成されている。
The
導体パターン9は、図1に示されるように、複数の端子11と、各端子11に対応するように各端子11から連続して形成される複数の配線12とを備えている。
As shown in FIG. 1, the
各端子11は、各配線12よりも幅広のランドとして形成され、回路付サスペンション基板5の長手方向両端部において、回路付サスペンション基板5の幅方向に沿って間隔を隔てて配置されている。また、各端子11は、図2(a)に示されるように、その上下両面が露出するフライングリードとして形成されている。すなわち、端子11は、上側開口部21内に充填されるとともに、上側開口部21の周辺のベース絶縁層8の上に積層されており、中央部が周端部よりも下方へ凹んで形成されている。端子11の下面は、下側開口部20と上側開口部21との境界面と面一となるように配置され、下側開口部20および基板側開口部18から露出している。また、端子11の上面は、次に述べるカバー側開口部23から露出している。
Each
また、各端子11の露出されている中央部の上面および下面には、金属めっき層19が形成されている。
A
各配線12は、図1に示されるように、幅方向に沿って間隔を隔てて配置され、回路付サスペンション基板5の長手方向に沿って、一方の端部の端子11と他方の端部の端子11とに連続するように、形成されている。
As shown in FIG. 1, the
カバー絶縁層10は、ベース絶縁層8よりもやや小さな平面視略矩形状に形成されている。すなわち、カバー絶縁層10は、その長手方向および幅方向の長さがベース絶縁層8の長手方向および幅方向の長さよりも短く形成されている。そして、カバー絶縁層10の長手方向両端面および幅方向両端面は、ベース絶縁層8の長手方向両端面および幅方向両端面よりも、長手方向および幅方向において内側に形成されている。
The
また、カバー絶縁層10は、図2(a)に示されるように、各配線12と各端子11の周端部とを被覆し、各端子11の中央部を露出するカバー側開口部23が形成されるように、ベース絶縁層8の上に形成されている。
Further, as shown in FIG. 2A, the
カバー側開口部23は、基板側開口部18および下側開口部20と同じ大きさおよび配置で形成されている。
The
判定部6は、図1に示されるように、判定部形成領域4に、平面視略円形状に、複数形成され、ブロック2の四隅に1つずつ配置されている。
As shown in FIG. 1, a plurality of
また、各判定部6は、図2(a)に示されるように、金属支持基板7の上において、下方に開放される断面略コ字形状に形成されている。より具体的には、判定部6は、金属支持基板7の上に立設する周端脚部24と、周端脚部24の上端部を被覆するように設けられている厚み測定部25とを一体的に備えている。周端脚部24内には、基板側開口部18および下側開口部20が形成されている。
Further, as shown in FIG. 2A, each
次に、本実施形態の配線回路基板集合体シート1の製造方法について、図3および図4を参照して説明する。
Next, a method for manufacturing the printed circuit
まず、この方法では、図3(a)に示すように、金属支持基板7を準備する。
First, in this method, a
金属支持基板7は、例えば、ステンレス、42アロイ、銅などの金属のシートから形成されている。金属としては、好ましくは、ステンレスが用いられる。
The
また、金属支持基板7の厚みは、例えば、8〜50μm、好ましくは、10〜30μmである。また、金属支持基板7に区画されるブロック2は、長手方向長さが、例えば、2〜30cm、好ましくは、3〜28cm、幅方向長さが、例えば、2〜30cm、好ましくは、3〜28cmである。
Moreover, the thickness of the
次いで、この方法では、図3(b)〜(d)に示すように、ベース絶縁層8および判定部6を同一の絶縁層からそれぞれ形成する。
Next, in this method, as shown in FIGS. 3B to 3D, the
絶縁層を形成するための絶縁材料としては、例えば、ポリイミド、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂が用いられる。これらのうち、好ましくは、感光性の合成樹脂が用いられ、さらに好ましくは、感光性ポリイミドが用いられる。 As an insulating material for forming the insulating layer, for example, synthetic resins such as polyimide, polyether nitrile, polyether sulfone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polyvinyl chloride are used. Of these, a photosensitive synthetic resin is preferably used, and a photosensitive polyimide is more preferably used.
ベース絶縁層8および判定部6を形成するには、例えば、感光性ポリイミドを用いて、金属支持基板7の上に、絶縁層を所定のパターンで形成する。より具体的には、まず、金属支持基板7の上に、図3(b)に示すように、感光性ポリイミドの前駆体の溶液を、金属支持基板7の全面に塗工した後、乾燥して、感光性ポリイミドの前駆体の皮膜8Xを形成する。
In order to form the
次に、図3(c)に示すように、フォトマスク13を介して、感光性ポリイミドの前駆体の皮膜8Xを階調露光し、その後、現像することにより、所定のパターンを形成する。なお、図3(c)は、ネガ型でパターンニングする態様を示している。
Next, as shown in FIG. 3C, the photosensitive
フォトマスク13は、遮光部分14、透過部分15および半透過部分16からなる階調パターンとして形成されている。
The
遮光部分14は、光を遮る部分であり、遮光部分14の下に配置される、感光性ポリイミドの前駆体の皮膜は、露光されないため、現像により除去される。
The light-shielding
透過部分15は、光を透過する部分であり、透過部分15の下に配置される、感光性ポリイミドの前駆体の皮膜は、露光され、現像後も残存する。
The
半透過部分16は、光を一部透過する部分であり、半透過部分16の下に配置される、感光性ポリイミドの前駆体の皮膜は、露光され、現像により一部除去されるとともに、一部残存する。
The
そして、ベース絶縁層8(各端子11を形成する部分を除く。)および判定部6を形成する部分には、透過部分15を対向配置し、各端子11を形成する部分には、半透過部分16を対向配置し、それ以外の部分には、遮光部分14を対向配置して、露光し、現像する。
The base insulating layer 8 (excluding the part where each terminal 11 is formed) and the part where the
すると、図3(d)に示すように、遮光部分14と対向する部分は除去され、透過部分15と対向する部分に、ベース絶縁層8および判定部6が形成される。さらに、ベース絶縁層8のうち、半透過部分16と対向する部分は、透過部分15と対向する部分よりも薄く形成され、各端子11に対応する段部としての凹部17が形成される。
Then, as shown in FIG. 3D, the portion facing the
次いで、パターン化された皮膜8Xを、加熱により硬化(イミド化)させ、これによって、ポリイミドからなるベース絶縁層8および判定部6を所定のパターンでそれぞれ形成する。
Next, the patterned
なお、上記の方法では、階調パターンのフォトマスク13を用いたが、例えば、パターンが異なる複数のフォトマスクを用いて(例えば、凹部17を形成する部分を露光するパターンと、露光しないパターンとを用いる。)、少なくとも2回以上の露光を順次行なって凹部17を形成することもできる。
In the above method, the
さらには、ベース絶縁層8および判定部6の形成において、感光性樹脂を用いない場合には、例えば、金属支持基板7の上に、樹脂を、所定のパターンで、塗工またはドライフィルムとして積層すればよく、この場合において、ベース絶縁層8における凹部17の厚みを、ベース絶縁層8におけるその他の部分の厚みよりも薄く形成するには、例えば、樹脂の積層を複数回に分けて行ない、凹部17の積層回数を、その他の部分の積層回数よりも少なくなるようにする。
Furthermore, in the formation of the
このようにして形成されるベース絶縁層8(凹部17が形成されている部分を除く。)および判定部6の厚みは、例えば、3〜20μm、好ましくは、4〜12μmである。
The thickness of the insulating base layer 8 (excluding the portion where the
ベース絶縁層8において、凹部17が形成されている部分の厚みは、例えば、1〜7μm、好ましくは、2〜5μmである。ベース絶縁層8の凹部17の長手方向長さは、例えば、0.1〜10mm、好ましくは、0.5〜5mmである。ベース絶縁層8の凹部17の幅方向長さは、例えば、0.1〜10mm、好ましくは、0.5〜5mmである。
In the
判定部6は、図1では、1つのブロック2に4箇所形成しているが、実際には、例えば、1〜8箇所、好ましくは、2〜4箇所形成される。また、判定部6の形状は、特に限定されず、平面視略円形状以外に、平面視略矩形状、平面視略三角形状、平面視略六角形状などを適宜選択することができる。判定部6が平面視略円形状に形成される場合、判定部6の直径は、例えば、1〜10mm、好ましくは、2〜5mmであり、平面視略円形状以外の場合の最大長さは、例えば、1〜10mm、好ましくは、2〜5mmである。
In FIG. 1, the
次いで、この方法では、図3(e)に示すように、ベース絶縁層8の上に、導体パターン9を形成する。
Next, in this method, a
導体パターン9は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などが用いられ、好ましくは、銅が用いられる。
For the
また、導体パターン9を形成するには、ベース絶縁層8の表面に、導体パターン9を、例えば、サブトラクティブ法、アディティブ法などの公知のパターンニング法によって形成する。これらのパターンニング法のなかでは、アディティブ法が好ましく用いられる。
In order to form the
サブトラクティブ法では、まず、ベース絶縁層8の表面に、必要により接着剤層を介して金属層を積層し、次いで、その上に、導体パターン9に対応させてエッチングレジストを形成し、次いで、金属層をエッチングして、その後、エッチングレジストを除去する。
In the subtractive method, first, a metal layer is laminated on the surface of the
また、アディティブ法では、まず、ベース絶縁層8の上に、種膜となる金属薄膜を形成する。金属薄膜は、クロム、ニッケル、銅およびこれらの合金などから、スパッタリング法などの薄膜形成法により形成する。次いで、金属薄膜の表面に、導体パターン9の反転パターンで、めっきレジストを形成する。めっきレジストは、ドライフィルムフォトレジストなどから、露光および現像する公知の方法により形成する。その後、めっきレジストから露出する金属薄膜の表面に、導体パターン9を形成する。導体パターン9は、例えば、電解めっき、好ましくは、電解銅めっきにより形成する。その後、めっきレジストをエッチングまたは剥離により除去した後、導体パターン9から露出する金属薄膜を、エッチングにより除去する。
In the additive method, first, a metal thin film to be a seed film is formed on the
このようにして形成された導体パターン9の端子11は、凹部17内に充填されるとともに、凹部17の周辺のベース絶縁層8の上に積層されており、中央部が周端部よりも下方へ凹んで形成される。つまり、ベース絶縁層8の凹部17に対応するように、端子11が形成される。
The terminal 11 of the
導体パターン9の厚みは、例えば、3〜20μm、好ましくは、5〜14μmであり、各端子11の幅は、例えば、40〜1000μm、好ましくは、60〜500μmであり、各端子11間の間隔は、例えば、40〜1000μm、好ましくは、60〜500μmである。各配線12の幅は、例えば、10〜300μm、好ましくは、15〜100μmであり、各配線12間の間隔は、例えば、10〜300μm、好ましくは、15〜100μmである。
The thickness of the
次いで、図4(f)に示すように、カバー絶縁層10をカバー側開口部23が形成される所定のパターンとして形成する。カバー絶縁層10を形成するための絶縁層としては、ベース絶縁層8と同様の絶縁層が用いられ、好ましくは、感光性ポリイミドが用いられる。カバー絶縁層10を形成するには、ベース絶縁層8の形成方法と同様の方法が用いられる。
Next, as shown in FIG. 4F, the insulating
カバー絶縁層10の厚みは、例えば、2〜20μm、好ましくは、3〜10μmである。
The insulating
次いで、図4(g)に示すように、ベース絶縁層8の凹部17が形成されている部分の下面が金属支持基板7から露出するように、金属支持基板7に基板側開口部18を形成する。同時に、同一条件下、判定部6の下面を露出するように、金属支持基板7に基板側開口部18を形成する。
Next, as shown in FIG. 4G, the
基板側開口部18を形成するには、ベース絶縁層8の凹部17が形成されている部分および判定部6の下面が露出するように、金属支持基板7をエッチングする。
In order to form the
金属支持基板7のエッチングは、公知の方法でよく、例えば、基板側開口部18を形成する部分以外をすべてマスキングした後に、化学エッチングする。
The
基板側開口部18の幅方向長さは、ベース絶縁層8側において、例えば、40〜7000μm、好ましくは、60〜5000μmであり、判定部6側において、例えば、2〜10mm、好ましくは、3〜5mmである。また、基板側開口部18の長手方向長さは、ベース絶縁層8側において、例えば、40〜7000μm、好ましくは、60〜5000μmであり、判定部6側において、例えば、2〜10mm、好ましくは、3〜5mmである。
The width direction length of the
次いで、図4(h)に示すように、端子11の中央部の下面が露出するまで、基板側開口部18から露出しているベース絶縁層8の、凹部17が形成されている部分および判定部6をエッチングする。
Next, as shown in FIG. 4 (h), the portion of the
ベース絶縁層8および判定部6のエッチングは、公知の方法でよく、例えば、化学エッチング、プラズマエッチングなどにより形成する。好ましくは、化学エッチングにより形成する。化学エッチングは、公知の方法でよく、たとえば、アルカリエッチングする。
The
そして、ベース絶縁層8の凹部17が形成されている部分をエッチングすると、下側開口部20と上側開口部21とが形成され、判定部6をエッチングすると、周端脚部24と厚み測定部25とが形成される。ベース絶縁層8の凹部17が形成されている部分および判定部6は、同時に同一条件でエッチングされるので、同じ深さにエッチングされる。
Then, when the portion of the
このようにして、金属支持基板7をエッチングした後、ベース絶縁層8および判定部6を同時にエッチングし、端子11の下面を露出させる。
In this manner, after etching the
また、周端脚部24の厚み方向長さは、例えば、1〜9μm、好ましくは、2〜5μmであり、厚み測定部25の厚みは、例えば、1〜9μm、好ましくは、5〜8μmである。
Moreover, the thickness direction length of the peripheral
その後、図4(i)に示すように、露出している端子11の両面に、金属めっき層19を、めっきにより同時に形成する。金属めっき層19の形成は、特に制限されず、電解めっきおよび無電解めっきのいずれの方法を用いてもよく、また、めっきに用いる金属も、特に制限されず、公知の金属を用いることができる。好ましくは、電解ニッケルめっきと電解金めっきとを順次行なうことにより、ニッケルめっき層の上に金めっき層を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 4I, metal plating layers 19 are simultaneously formed on both surfaces of the exposed
電解めっきを用いる場合には、端子11にめっきリード(図示せず)を配置するため、金属めっき層を形成した後に、エッチングによりめっきリードを除去する。 In the case of using electrolytic plating, in order to arrange a plating lead (not shown) on the terminal 11, after forming a metal plating layer, the plating lead is removed by etching.
なお、ニッケルめっき層および金めっき層の厚みは、いずれも、好ましくは、1〜5μm程度である。 The thicknesses of the nickel plating layer and the gold plating layer are preferably about 1 to 5 μm.
次いで、ブロック2毎に、複数、配置されている判定部6の厚み測定部25の厚みをすべて測定し、そのすべての厚みが1〜8μm、好ましくは、2〜6μmの範囲内にあれば、適合ブロックとして判定し、判定部6の厚み測定部25の厚みが1つでも上記範囲よりも薄いと、エッチングし過ぎている可能性があるため、不適合ブロックと判定する。そして、適合ブロックの回路付サスペンション基板5のみを製品とする。
Next, for each
そして、この方法では、同時に同一条件でベース絶縁層8および判定部6をエッチングし、判定部6の厚み測定部25の厚みを測定することで、端子11の下面が適度に露出するようにエッチングされているかどうかを、効率よく判定することができる。
In this method, the insulating
すなわち、端子11の下面が適切に露出している場合には、図2(b)に示すように、端子11の下面と、下側開口部20と上側開口部21との境界面とが面一となる場合、および、図2(c)に示すように、下側開口部20と上側開口部21との境界面が、端子11の下面(破線参照。)とベース絶縁層8の上面との間に形成される場合が含まれる。このような場合には、端子11は、上側開口部21内において、ベース絶縁層8に、適切に支持されている。
That is, when the lower surface of the terminal 11 is appropriately exposed, the lower surface of the terminal 11 and the boundary surface between the
しかし、ベース絶縁層8が過度にエッチングされると、図2(d)に示すように、端子11が露出してしまう場合がある。すると、端子11が損傷しやすくなり、また、次工程において、めっきリードをエッチングにより除去する場合には、端子11も同時にエッチングされ、断線してしまう場合がある。
However, if the insulating
そこで、この方法では、ベース絶縁層8とは別途、判定部6を設けて、同時に同一条件でベース絶縁層8および判定部6をエッチングし、判定部6の厚み測定部25の厚みを測定している。
Therefore, in this method, the
これにより、ベース絶縁層8および判定部6は同じ深さにエッチングされるため、端子11の下面が適度に露出するようにエッチングされているかどうかを、厚み測定部25の厚みを測定することにより、効率よく判定することができる。
Thereby, since the
そのため、ベース絶縁層8が過度にエッチングされ、導体パターン9が損傷または破断する可能性のある回路付サスペンション基板5が形成されている不適合ブロックを、判別することができる。
Therefore, it is possible to determine a nonconforming block in which the suspension board with
そして、適合ブロックの回路付サスペンション基板5のみを製品にすることで、品質の安定性を向上させることができる。
Then, by using only the suspension block with
なお、本実施形態では、ブロック2の四隅に1つずつ判定部6を配置したが、判定部6が形成される位置は、四隅に限定されない。さらに、判定部形成領域4についても、ブロック2の周縁部に限られず、例えば、ブロック2の中央部に区画されていてもよい。
In the present embodiment, the
実施例1
(配線回路基板集合体シートの作製)
厚み20μmのステンレス箔からなる金属支持基板を準備した。金属支持基板には、長手方向長さ4.0cm、幅方向長さ9.0cmの平面視略矩形状の複数のブロックを区画し、各ブロックには、製品形成領域と判定部形成領域とを区画した。
Example 1
(Preparation of wiring circuit board assembly sheet)
A metal support substrate made of a stainless steel foil having a thickness of 20 μm was prepared. The metal support substrate is divided into a plurality of blocks each having a substantially rectangular shape in plan view having a length in the longitudinal direction of 4.0 cm and a length in the width direction of 9.0 cm. Partitioned.
次いで、その金属支持基板の全面に、感光性ポリイミドの前駆体(感光性ポリアミック酸樹脂)溶液(ワニス)を塗工した後、乾燥して、皮膜を形成した(図3(b)参照。)。この皮膜を、フォトマスクを介して階調露光させ(ネガ型)、アルカリ現像液を用いて現像することにより、凹部が形成されたベース絶縁層および判定部をパターンとして形成した(図3(c)参照。)。パターン化された皮膜を加熱硬化させて、平面視略矩形状のベース絶縁層および平面視略円形状の判定部を同時に形成した(図3(d)参照。)。 Next, a photosensitive polyimide precursor (photosensitive polyamic acid resin) solution (varnish) was applied to the entire surface of the metal support substrate, and then dried to form a film (see FIG. 3B). . This film was exposed to gradation through a photomask (negative type) and developed using an alkaline developer, thereby forming a base insulating layer having a recess and a determination portion as a pattern (FIG. 3C). )reference.). The patterned film was heat-cured to form a substantially rectangular base insulating layer in plan view and a substantially circular judgment unit in plan view at the same time (see FIG. 3D).
ベース絶縁層は、ブロックの長手方向および幅方向に沿って、互いに間隔を隔てて4つ形成された。判定部は、ブロック毎に4箇所形成され、四隅に1つずつ形成された。ベース絶縁層の両端部には、幅方向に沿って、互いに間隔を隔てて、4つの凹部が形成された。 Four insulating base layers were formed at intervals from each other along the longitudinal direction and the width direction of the block. The determination part was formed in four places for every block, and was formed one each in four corners. Four concave portions were formed at both ends of the base insulating layer at intervals from each other along the width direction.
ベース絶縁層および判定部の厚みは、10μmであった。ベース絶縁層において、凹部が形成されている部分の厚みは、5μmであり、その長手方向長さは、4500μm、その幅方向長さは、500μmであった。また、判定部の直径は、5mmであった。 The thickness of the base insulating layer and the determination part was 10 μm. In the base insulating layer, the thickness of the portion where the concave portion was formed was 5 μm, the length in the longitudinal direction was 4500 μm, and the length in the width direction was 500 μm. Moreover, the diameter of the determination part was 5 mm.
次いで、スパッタ蒸着法により、クロム薄膜および銅薄膜を順次形成することにより、導体薄膜を形成し、その後、導体薄膜の上に、導体パターンの反転パターンで、ドライフィルムレジストを用いてめっきレジストを形成した後、めっきレジストから露出する導体薄膜の上に、電解銅めっきにより導体パターンを形成した。その後、めっきレジストをウェットエッチングにより除去した後、そのめっきレジストが形成されていた部分の金属薄膜を剥離により除去し、4つの端子および4本の配線を備えた導体パターンを、ベース絶縁層の上に形成した(図3(e)参照。)。端子は、凹部内に充填されるとともに、凹部周辺のベース絶縁層の上に積層され、中央部が周端部よりも下方へ凹んで形成された。 Next, a chromium thin film and a copper thin film are sequentially formed by sputtering deposition to form a conductive thin film, and then a plating resist is formed on the conductive thin film in a reverse pattern of the conductive pattern using a dry film resist. After that, a conductor pattern was formed by electrolytic copper plating on the conductor thin film exposed from the plating resist. Then, after removing the plating resist by wet etching, the metal thin film in the portion where the plating resist was formed is removed by peeling, and a conductor pattern having four terminals and four wirings is formed on the base insulating layer. (See FIG. 3E). The terminal was filled in the concave portion and laminated on the base insulating layer around the concave portion, and the central portion was formed to be recessed below the peripheral end portion.
なお、導体パターンを形成すると同時に、各端子から連続するように、めっきリードを形成した。 In addition, the plating lead was formed so that it might continue from each terminal simultaneously with forming a conductor pattern.
導体パターンの厚みは、12μmであり、端子の幅は280μmであり、互いに隣接した端子の間隔は、500μmであった。また、配線の幅は50μmであり、互いに隣接した配線の間隔は、40μmであった。 The thickness of the conductor pattern was 12 μm, the terminal width was 280 μm, and the distance between adjacent terminals was 500 μm. Further, the width of the wiring was 50 μm, and the interval between the wirings adjacent to each other was 40 μm.
次いで、ベース絶縁層と同様にして、カバー側開口部が形成されるパターンで、厚み4μmのポリイミド樹脂からなるカバー絶縁層を、ベース絶縁層の上に形成した(図4(f)参照。)。 Next, similarly to the base insulating layer, a cover insulating layer made of polyimide resin having a thickness of 4 μm was formed on the base insulating layer in a pattern in which a cover-side opening was formed (see FIG. 4F). .
次いで、金属支持基板を、塩化第二鉄溶液を用いて化学エッチングして、端子に対応するベース絶縁層および判定部の下面を金属支持基板から露出させるように、ベース絶縁層および判定部にそれぞれ基板側開口部を形成した(図4(g)参照。)。 Next, the metal support substrate is chemically etched using a ferric chloride solution so that the base insulating layer and the determination unit corresponding to the terminal are exposed from the metal support substrate to the base insulation layer and the determination unit, respectively. A substrate side opening was formed (see FIG. 4G).
基板側開口部の幅方向長さは、ベース絶縁層側において、0.3mmであり、判定部側において、4mmであった。また、基板側開口部の長手方向長さは、ベース絶縁層側において、0.3mmであり、判定部側において、4mmであった。 The width direction length of the substrate side opening was 0.3 mm on the base insulating layer side and 4 mm on the determination unit side. The length in the longitudinal direction of the substrate side opening was 0.3 mm on the base insulating layer side, and 4 mm on the determination unit side.
次いで、端子の下面を露出させるまで、基盤側開口部から露出している、ベース絶縁層および判定部を同時にアルカリエッチングした。ベース絶縁層をエッチングして、下側開口部と上側開口部とを形成し、判定部をエッチングして、周端脚部と厚み測定部とを形成した(図4(h)参照。)。 Next, the base insulating layer and the determination portion exposed from the base-side opening were alkali etched simultaneously until the lower surface of the terminal was exposed. The base insulating layer was etched to form a lower opening and an upper opening, and the determination part was etched to form a peripheral end leg and a thickness measurement part (see FIG. 4H).
周端脚部の厚み方向長さは、5μmであり、厚み測定部の厚みは、5μmであった。 The length in the thickness direction of the peripheral end leg portion was 5 μm, and the thickness of the thickness measurement portion was 5 μm.
その後、めっきリードから各端子に給電して、電解ニッケルめっきと電解金めっきとを順次実施することにより、各端子の両面に、ニッケルめっき層および金めっき層からなる厚み3μmの金属めっき層を形成した(図4(i)参照。)。 After that, by supplying power to each terminal from the plating lead and performing electrolytic nickel plating and electrolytic gold plating sequentially, a metal plating layer having a thickness of 3 μm composed of a nickel plating layer and a gold plating layer is formed on both surfaces of each terminal. (See FIG. 4 (i)).
次いで、めっきリードを、塩化第二鉄溶液を用いるエッチングにより除去し、配線回路基板集合体シートを得た。
(判定部の厚みの測定)
得られた配線回路基板集合体シートから無作為に1つのブロックを選び、各判定部の厚み測定部の厚みを測定すると、いずれも4〜5μmの範囲内であった。
Next, the plating lead was removed by etching using a ferric chloride solution to obtain a printed circuit board assembly sheet.
(Measurement of judgment part thickness)
When one block was selected at random from the obtained printed circuit board assembly sheet and the thickness of the thickness measurement part of each judgment part was measured, all were within the range of 4 to 5 μm.
このブロックに形成された回路付サスペンション基板の端子は、断線していなかった。 The terminals of the suspension board with circuit formed in this block were not disconnected.
実施例2
実施例1で選んだブロック以外の任意のブロックを選んだ以外は、実施例1と同様にして各判定部の厚み測定部の厚みを測定すると、いずれも2〜6μmの範囲内であった。
Example 2
Except that an arbitrary block other than the block selected in Example 1 was selected, the thickness of each determination unit was measured in the same manner as in Example 1, and all were in the range of 2 to 6 μm.
このブロックに形成された回路付サスペンション基板の端子は、断線していなかった。 The terminals of the suspension board with circuit formed in this block were not disconnected.
比較例
実施例1および2で選んだブロック以外の任意のブロックを選んだ以外は、実施例1と同様にして各判定部の厚み測定部の厚みを測定すると、1μm未満の判定部が1箇所あった。
Comparative example When the thickness of the thickness measurement part of each determination part is measured in the same manner as in Example 1 except that an arbitrary block other than the block selected in Examples 1 and 2 is selected, there is one determination part of less than 1 μm. there were.
このブロックに形成された回路付サスペンション基板の端子は、断線していた。 The terminals of the suspension board with circuit formed in this block were disconnected.
3 製品形成領域
4 判定部形成領域
5 回路付サスペンション基板
6 判定部
7 金属支持基板
8 ベース絶縁層
9 導体パターン
11 端子
17 凹部
3 Product formation area 4 Judgment
Claims (1)
前記製品形成領域および前記判定部形成領域に、前記端子部に対応する段部を有するベース絶縁層および前記判定部を、絶縁層からそれぞれ形成する工程と、
前記ベース絶縁層の上に、前記端子部を備える導体層を形成する工程と、
前記金属支持基板をエッチングした後、前記ベース絶縁層および前記判定部を同時にエッチングし、前記端子部の下面を露出させる工程と、
前記判定部の厚みを測定する工程と
を備えることを特徴とする、配線回路基板の製造方法。 Preparing a metal support substrate in which a product formation region for forming a printed circuit board having a terminal portion and a determination portion formation region for forming a determination portion for determining the quality of the printed circuit board are partitioned And a process of
Forming a base insulating layer having a step portion corresponding to the terminal portion and the determination portion from the insulating layer in the product formation region and the determination portion formation region, respectively;
Forming a conductor layer including the terminal portion on the insulating base layer;
Etching the base insulating layer and the determination unit at the same time after etching the metal support substrate, exposing the lower surface of the terminal unit,
And a step of measuring the thickness of the determination unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008146153A JP4934101B2 (en) | 2008-06-03 | 2008-06-03 | Method for manufacturing printed circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008146153A JP4934101B2 (en) | 2008-06-03 | 2008-06-03 | Method for manufacturing printed circuit board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009295691A JP2009295691A (en) | 2009-12-17 |
JP4934101B2 true JP4934101B2 (en) | 2012-05-16 |
Family
ID=41543640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008146153A Active JP4934101B2 (en) | 2008-06-03 | 2008-06-03 | Method for manufacturing printed circuit board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4934101B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6157978B2 (en) * | 2012-11-26 | 2017-07-05 | 日東電工株式会社 | Wiring circuit board and manufacturing method thereof |
JP7317604B2 (en) * | 2019-07-09 | 2023-07-31 | 日東電工株式会社 | Wiring circuit board and method for manufacturing wiring circuit board |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2950016B2 (en) * | 1992-05-22 | 1999-09-20 | 三菱電機株式会社 | Method of measuring plating film thickness and etching groove depth in wet process |
JP4386827B2 (en) * | 2004-11-29 | 2009-12-16 | 日東電工株式会社 | Method for manufacturing printed circuit board |
JP4762734B2 (en) * | 2006-01-25 | 2011-08-31 | 日東電工株式会社 | Wiring circuit board assembly sheet and manufacturing method thereof |
-
2008
- 2008-06-03 JP JP2008146153A patent/JP4934101B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009295691A (en) | 2009-12-17 |
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