JP4933175B2 - ワークピースを流体処理する方法及び装置 - Google Patents
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Description
Claims (35)
- ワークピースを流体処理するための装置であって、
流体を収容することが可能なハウジングと、
前記ハウジング内に配置され、前記ワークピースを保持するように構成されたワークピースホルダと、
前記ハウジング内に前記ワークピースホルダに隣りあい且つ離間されて配置され、単方向の不均一な振動をしながら前記ワークピースの表面に対して実質的に平行に移動し、前記ワークピースホルダとの間に存在する前記流体を流体攪拌するように構成された流体攪拌ブレードとからなり、
前記単方向の不均一な振動は、連続くり返し的且つ幾何学的に非対称的である一連の振動であり、
前記連続くり返し的且つ幾何学的に非対称的である一連の振動の非対称は、少なくとも2つの隣り合う対向ストロークによってなされ、
前記少なくとも2つの対向ストロークの各々の逆転位置は、直前の対向ストロークの中心点に関して非対称となるように設定されていることを特徴とする装置。 - 前記不均一な振動は、複数の振動ストローク上にあり、前記複数の振動ストロークの各々が前記不均一な振動の先のストークの後に変化する逆転位置を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記不均一な振動は、一次振動ストロークと、少なくとも1つの二次振動ストロークとを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記一次振動ストロークの長さは、前記流体攪拌ブレードに形成された開口部間の間隔に等しく、前記第2の振動ストロークは、前記流体攪拌ブレードの不均一な振動の逆転位置を変化させる、請求項3に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードに、間隔を空けて複数の開口部が規定される、請求項1に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードは、間隔を空けて配置された複数のブレードを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記間隔を空けて配置された複数のブレードのうちの少なくとも1つの断面形状は、カップ形である、請求項6に記載の装置。
- 前記間隔を空けて配置された複数のブレードのうちの少なくとも1つの断面形状は、角のある断面形状である、請求項6に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードは、スペーサ機構によって1つのアセンブリとして結合された2つのパドルプレートを有し、前記ワークピースホルダは前記流体攪拌ブレードに挿入される、請求項1に記載の装置。
- 前記間隔を空けて形成された複数の開口部の不均一な振動によって前記流体が攪拌される、請求項5に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードは、前記ワークピースの表面に非周期的な流体境界層を形成する、請求項1に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードは、前記ワークピースの表面における流体境界層の厚さを低減する、請求項1に記載の装置。
- 前記流体境界層の厚さは、10μm未満にまで低減される、請求項12に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードは、前記ワークピースの表面から2mm未満の位置に配置される、請求項1に記載の装置。
- 前記流体攪拌ブレードの隣りに配置され、前記ワークピースの表面に入射する電界を成形するプレートを更に含む、請求項1に記載の装置。
- 前記プレートは、前記電界が前記プレートを通過して前記ワークピースの表面へ向かうときに、その電界の一部を遮断する働きをする非導電性材料からなる、請求項15に記載の装置。
- 前記プレートの本体に複数の穴が形成され、該複数の穴の直径が、前記プレートの表面において変化する、請求項15に記載の装置。
- 前記複数の穴は、前記プレートを通過して前記ワークピースの表面へ向かう電界の振幅を変化させるような穴サイズの分布を有する、請求項17に記載の装置。
- 前記複数の穴は、実質的に放射状パターンで変化する、請求項17に記載の装置。
- ワークピースを流体処理するための方法であって、
流体を収容することが可能なハウジング内に、ワークピースを保持するワークピースホルダを配置し、
前記ハウジング内の前記ワークピースホルダに隣りあい且つ離間して流体攪拌ブレードを配置し、
単方向の不均一な振動をさせながら前記流体攪拌ブレードを前記ワークピースの表面に対して実質的に平行に移動させることにより、前記ワークピースホルダとの間に存在する前記流体を攪拌することからなり、
前記単方向の不均一な振動は、連続くり返し的且つ幾何学的に非対称的である一連の振動であり、
前記連続くり返し的且つ幾何学的に非対称的である一連の振動の非対称は、少なくとも2つの隣り合う対向ストロークによってなされ、
前記少なくとも2つの対向ストロークの各々の逆転位置は、直前の対向ストロークの中心点に関して非対称となるように設定されていることを特徴とする方法。 - 前記不均一な振動の各ストークの後に、前記不均一な振動の逆転位置を変化させることを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記不均一な振動は、一次振動ストロークと、少なくとも1つの二次振動ストロークとを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記一次振動ストロークの長さを前記流体攪拌ブレードに形成された開口部間の間隔に一致させ、二次振動ストロークを使用して,前記流体攪拌ブレードの不均一な振動の逆転位置を変化させることを更に含む、請求項22に記載の方法。
- 前記不均一な振動により、前記ワークピースの表面における前記流体攪拌ブレードの電界像を最小限に抑えることを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記流体攪拌ブレードの不均一な振動により、前記ワークピースの表面における前記流体攪拌ブレードの流体フロー像を最小限に抑えることを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記ワークピースの表面から前記流体に捕捉されたガスの泡を除去することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記流体攪拌ブレードの不均一な振動により、前記ワークピースの表面に非周期的な流体境界層を形成することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記流体攪拌ブレードの不均一な振動により、前記ワークピースの表面における流体境界層の厚さを低減することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記流体境界層の厚さを10μm未満にまで低減することを更に含む、請求項28に記載の方法。
- 前記流体攪拌ブレードを前記ワークピースの表面から2mm未満の位置に配置することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記ワークピースの表面に金属又はプラスチックを堆積することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記ワークピースの表面にある金属又はプラスチックを溶解することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記流体攪拌ブレードの隣りに配置されたプレートを使用して、前記ワークピースの表面に入射する電界を成形することを更に含む,請求項20に記載の方法。
- 前記電界が前記プレートを通過して前記ワークピースの表面へ向かうとき、その電界の一部を遮断することを更に含む、請求項33に記載の方法。
- 前記プレートに、穴サイズの分布を有する複数の穴が形成される、請求項33に記載の方法。
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