JP4931783B2 - Organic EL display panel - Google Patents

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Description

本発明は、ディスプレイデバイスに関するもので、特に、有機EL素子を用いた表示パネルに関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to a display panel using an organic EL element.

ディスプレイデバイスが更に大型化していくことによって、空間占有率の少ない平板型ディスプレイパネルが注目を浴びている。
特に最近有機ELを用いて平板型ディスプレイパネルを製作する研究が続けられている。
As display devices become larger, flat panel display panels with a small space occupancy have attracted attention.
In particular, recently, research on manufacturing flat display panels using organic EL has been continued.

有機ELは駆動方式によってパッシブマトリックスパネルとアクティブマトリックスから分ける。
パッシブマトリックスはスキャン電極ラインとデータ電極ラインとを横縦形態に配置し、行方向と列との交差領域に画素が形成される。
The organic EL is divided into a passive matrix panel and an active matrix according to the driving method.
In the passive matrix, scan electrode lines and data electrode lines are arranged in a horizontal and vertical form, and pixels are formed in an intersection region between a row direction and a column.

図1は従来技術によるパッシブマトリックス有機EL構造を示す図である。
図1を参照すると有機ELパネルはスキャン電極とデータ電極が交差する領域に画素が形成される。即ち画素はマトリックス形態に形成されている。
また、スキャン電極とデータ電極が交差する領域に形成される画素で発光するようにスキャン電極に電流を与えるスキャンドライバーとデータ電極に電流を与えるデータドライバーが備えられる。
FIG. 1 shows a passive matrix organic EL structure according to the prior art.
Referring to FIG. 1, in the organic EL panel, pixels are formed in a region where a scan electrode and a data electrode intersect. That is, the pixels are formed in a matrix form.
In addition, a scan driver that supplies current to the scan electrode and a data driver that supplies current to the data electrode so that light is emitted from a pixel formed in a region where the scan electrode and the data electrode intersect are provided.

有機ELパネルを製作する工程を見ると、下側に透明基板を配置し、その透明基板の上に透明電極の第1電極を形成し、その第1電極の上に有機物層を形成し、その有機物層の上に金属化合物を用いる第2電極を形成し、その第2電極の上に保護膜を形成する。
透明基板はガラス素材を用いる。透明基板は伝導性がないのでITOをその透明基板上にコーティングして伝導性を有する透明電極を形成する。
しかしながら、ITOは抵抗値が高いので金属補助電極を透明電極の上に形成して用いることが多い。
次に隔壁を形成し、有機ELパネルの全体面に有機物を蒸着して有機物層を形成する。
Looking at the process of manufacturing an organic EL panel, a transparent substrate is arranged on the lower side, a first electrode of a transparent electrode is formed on the transparent substrate, an organic layer is formed on the first electrode, A second electrode using a metal compound is formed on the organic layer, and a protective film is formed on the second electrode.
A glass material is used for the transparent substrate. Since the transparent substrate is not conductive, ITO is coated on the transparent substrate to form a transparent electrode having conductivity.
However, since ITO has a high resistance value, a metal auxiliary electrode is often used on a transparent electrode.
Next, a partition is formed, and an organic substance is deposited on the entire surface of the organic EL panel to form an organic substance layer.

パッシブマトリックス有機EL構造では、高解像度のパネルであればあるほど画素数が多くなる。従って、画素を形成するために要求されるスキャン電極のライン数とデータ電極のライン数も多くなる。
ところが、各電極のライン数が多くなると、一つの画素が発光する時間はその分短くなる。
In the passive matrix organic EL structure, the higher the resolution, the larger the number of pixels. Accordingly, the number of scan electrode lines and the number of data electrode lines required to form a pixel also increase.
However, as the number of lines of each electrode increases, the time for one pixel to emit light decreases accordingly.

このように各電極のライン数が多くなるほど各画素の単位時間当たり発光時間が短くなるのでこれを克服するためには瞬間輝度をその分高める必要がある。
これを補うための一般的な方法として、二つがあるが、これを図2及び図3に示した。
図2及び図3は従来技術による輝度を高くするように改良したパッシブマトリックス有機EL構造を示す図である。これらの図は図1のものと90゜回転させて表示している。したがってデータラインの長手方向が横方向である。
図2は第1電極ストリップを半分に分けた有機EL構造である。
図2に示すように、第1電極ストリップを二つのストリップに分け、各ストリップを独立に同時にスキャン駆動する。
Thus, as the number of lines of each electrode increases, the light emission time per unit time of each pixel is shortened. In order to overcome this, it is necessary to increase the instantaneous luminance accordingly.
There are two general methods for compensating for this, and these are shown in FIGS.
2 and 3 are diagrams showing a passive matrix organic EL structure improved to increase the luminance according to the prior art. These figures are shown rotated by 90 ° from those of FIG. Therefore, the longitudinal direction of the data line is the horizontal direction.
FIG. 2 shows an organic EL structure in which the first electrode strip is divided in half.
As shown in FIG. 2, the first electrode strip is divided into two strips, and each strip is independently driven simultaneously.

このように各ストリップ当たりのスキャン数が半減されるのでその分発光時間を長くすることができ発光効率及び素子寿命を良くする。
しかしながら、図2に示す有機EL構造はデータ電極が図で左右両側に分けられ、データ電極に電流を与えるデータドライバーが両側の全てのストリップに用意しなければならない。従って、コスト増の問題が発する。
As described above, since the number of scans per strip is halved, the light emission time can be lengthened accordingly, and the light emission efficiency and the device life are improved.
However, in the organic EL structure shown in FIG. 2, the data electrodes are divided into left and right sides in the figure, and a data driver for supplying current to the data electrodes must be prepared for all the strips on both sides. Therefore, the problem of cost increase arises.

図3は第1電極ストリップを行方向方向に分けた有機EL構造である。
図3に示すように、有機EL構造は、第1電極ストリップを従来の1本の幅を2本のラインとして使用するもので、スキャン電極を従来のスキャン電極の間隔に比べて2倍の広さに形成することでスキャン数を半分に減らす方式がある。すなわち2つの画素を同時にスキャンする。
図3に示すように、有機EL構造は、スキャン数を半分に減らしてもデータ電極に電流を与えるデータドライバーを更に備える必要がない。しかしながら、かかる構造は第1電極ラインを分割してあるので開口率が相当低いという問題がある。
FIG. 3 shows an organic EL structure in which the first electrode strip is divided in the row direction.
As shown in FIG. 3, the organic EL structure uses the first electrode strip as two lines having a conventional width, and the scan electrode is twice as wide as the interval between the conventional scan electrodes. There is a method of reducing the number of scans in half by forming the size. That is, two pixels are scanned simultaneously.
As shown in FIG. 3, the organic EL structure does not need to further include a data driver for supplying a current to the data electrode even if the number of scans is reduced to half. However, this structure has a problem that the aperture ratio is considerably low because the first electrode line is divided.

従って、図3の有機EL構造で補助電極用絶縁膜を更に用いて開口率を高めるとよい。しかしながら、その方法は、絶縁膜を形成するための工程が更に必要になるので有機EL素子のパネルを製造するのにかかる費用が上昇する短所と製造効率が低下されるという短所がある。   Therefore, the aperture ratio may be increased by further using an auxiliary electrode insulating film in the organic EL structure of FIG. However, this method has a disadvantage that the cost for manufacturing the panel of the organic EL element is increased and the manufacturing efficiency is reduced because a process for forming the insulating film is further required.

本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためのもので、特に工程が追加されることなく、画面の明るさを決定する開口率を高めることができるようにした有機EL素子のパネルとその製造方法を提供することが目的である。   The present invention is intended to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an organic EL element panel that can increase the aperture ratio that determines the brightness of the screen without any additional process. It is an object to provide a manufacturing method thereof.

上記目的を達成するための本発明は、電極が交差する領域に画素が形成されるダブルスキャン構造の有機EL素子であって、透明基板と、透明基板の上に形成されている第1電極と、第1電極と連結されながら第1電極と一部が重なるように形成される補助電極と、画素に対応させて形成されている第1電極の上に形成される有機発光層と、有機発光層の上に第1電極と交差するように形成される第2電極とからなることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the present invention provides an organic EL element having a double scan structure in which pixels are formed in a region where electrodes intersect, a transparent substrate, a first electrode formed on the transparent substrate, An auxiliary electrode formed so as to partially overlap the first electrode while being connected to the first electrode, an organic light emitting layer formed on the first electrode formed corresponding to the pixel, and organic light emission It consists of a 2nd electrode formed so that it may cross | intersect a 1st electrode on a layer, It is characterized by the above-mentioned.

本発明の有機EL素子のパネルとその製造方法によると、次のような効果がある。
透明電極の第1電極のパターンを予め形成して画素領域の面積を増加させることによって開口率を向上させる。
補助電極を第1電極パターンと所定領域だけ重畳してずれるように形成することで、重畳される領域だけ画素領域の面積を増加させることによって有機EL素子の開口率を向上させることができる。
According to the panel of the organic EL element of the present invention and the manufacturing method thereof, the following effects can be obtained.
The aperture ratio is improved by forming a pattern of the first electrode of the transparent electrode in advance to increase the area of the pixel region.
By forming the auxiliary electrode so as to overlap with the first electrode pattern by a predetermined region, the aperture ratio of the organic EL element can be improved by increasing the area of the pixel region by the overlapping region.

また、補助電極を第1電極パターンとずれるように形成することで、上の2次絶縁膜が画素を覆う面積を減らすことができる。それによって2次絶縁膜がずれた部分だけ開口率を向上させることができる。
また、本発明は開口率を高めるために絶縁膜を形成する追加工程が不要であるので有機EL素子のパネルを製造するのにかかる費用上昇がなく、製造効率の点からも有利である。
In addition, by forming the auxiliary electrode so as to deviate from the first electrode pattern, the area where the upper secondary insulating film covers the pixel can be reduced. As a result, the aperture ratio can be improved only in the portion where the secondary insulating film is displaced.
In addition, the present invention does not require an additional step of forming an insulating film in order to increase the aperture ratio, so there is no increase in cost for manufacturing a panel of an organic EL element, and it is advantageous in terms of manufacturing efficiency.

本発明の説明に先立って、第1電極はアノードやデータ電極と称し、第2電極はカソードやスキャン電極を称することがあることを理解すべきである。
また、以下の有機EL素子はダブルスキャン構造であり、基本的には第1電極と第2電極とが交差する領域に画素が形成されるパッシブマトリックス有機EL素子である。
第1電極は透明基板の上に形成され、また、透明基板の上に形成される補助電極が第1電極と一部分が重畳されるように形成する。その第1電極の上に有機発光層が形成され、第1電極と交差するように有機発光層の上に第2電極が形成される。
以下、本発明による有機EL素子のパネルおよびその製造方法を詳細に説明する。
Prior to describing the present invention, it should be understood that the first electrode may be referred to as an anode or data electrode and the second electrode may be referred to as a cathode or scan electrode.
The following organic EL elements have a double scan structure, and are basically passive matrix organic EL elements in which pixels are formed in a region where the first electrode and the second electrode intersect.
The first electrode is formed on the transparent substrate, and the auxiliary electrode formed on the transparent substrate is formed so as to partially overlap the first electrode. An organic light emitting layer is formed on the first electrode, and a second electrode is formed on the organic light emitting layer so as to intersect the first electrode.
Hereinafter, a panel of an organic EL device according to the present invention and a manufacturing method thereof will be described in detail.

図4は本発明の第1実施形態によるダブルスキャン構造の有機EL素子を示す平面図であり、図5aないし図5cは図4においてI−I’断面の製造工程図を示すものである。
図4に示すように、本発明による有機EL素子は第1電極5と第2電極(図示せず)とが交差する領域に画素が形成される。
その画素は第1電極5の並びと平行な列方向には画素一つひとつが独立に並んでアレイを成している。一方、行方向では列方向で二つの画素が対とされてアレイに配列されている。
FIG. 4 is a plan view showing an organic EL device having a double scan structure according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 5a to 5c show manufacturing process diagrams taken along the line II 'in FIG.
As shown in FIG. 4, in the organic EL device according to the present invention, pixels are formed in a region where a first electrode 5 and a second electrode (not shown) intersect.
The pixels are arranged in an array in which pixels are arranged independently in a column direction parallel to the arrangement of the first electrodes 5. On the other hand, in the row direction, two pixels are paired in the column direction and arranged in an array.

列方向で対とされた二つの画素が行方向に並んだ画素アレイは同時にスキャン駆動される。即ち、一方向に配列された画素アレイにおいて、列方向において奇数番目の画素(基準となるアレイの一つの画素)3aと偶数番目の画素(その偶数番目の画素と対を成している奇数番目の画素)3bが同時にスキャン駆動される。   A pixel array in which two pixels paired in the column direction are arranged in the row direction is simultaneously scan-driven. That is, in the pixel array arranged in one direction, the odd-numbered pixel (one pixel of the reference array) 3a and the even-numbered pixel (the odd-numbered pair forming a pair with the even-numbered pixel) in the column direction. The pixel 3) is simultaneously scanned.

図示の有機EL素子は透明基板1の上に一方向で対とされた画素アレイが2本のラインとして配列される。前記したように一方向に一つの画素アレイが配列され、その画素アレイに対して平行に他の画素アレイが配列されて双方のアレイの画素で対とされている。
補助電極2a、2bは配列された画素アレイに垂直方向に形成される。その際、補助電極2a、2bは画素アレイの各画素の両側にラインとして形成される。しかしながら、一つの画素は補助電極2a、2bの両ラインのうちいずれか一つに連結される。
In the illustrated organic EL element, a pixel array paired in one direction on a transparent substrate 1 is arranged as two lines. As described above, one pixel array is arranged in one direction, and another pixel array is arranged in parallel to the pixel array, and the pixels of both arrays are paired.
The auxiliary electrodes 2a and 2b are formed in a direction perpendicular to the arranged pixel array. At that time, the auxiliary electrodes 2a and 2b are formed as lines on both sides of each pixel of the pixel array. However, one pixel is connected to any one of both lines of the auxiliary electrodes 2a and 2b.

例えば、列方向に奇数番目の画素3aが一つの補助電極2aと連結され、その奇数番目の画素3aと対を成している偶数番目の画素3bが他の一つの補助電極2bに連結される。
行方向に配列される第1電極5は偶数番目の画素3aと奇数番目の画素3bに対応させてパターニングされ、同時に補助電極2a、2bのいずれかと連結されるように形成される。
第1電極5の上には有機発光層(図示せず)が形成され、その有機発光層の上に第2電極(図示せず)が形成される。
For example, odd-numbered pixels 3a in the column direction are connected to one auxiliary electrode 2a, and even-numbered pixels 3b paired with the odd-numbered pixels 3a are connected to another auxiliary electrode 2b. .
The first electrodes 5 arranged in the row direction are patterned so as to correspond to the even-numbered pixels 3a and the odd-numbered pixels 3b, and are formed so as to be connected to one of the auxiliary electrodes 2a and 2b at the same time.
An organic light emitting layer (not shown) is formed on the first electrode 5, and a second electrode (not shown) is formed on the organic light emitting layer.

また、第1電極5のエッジ部分をカバーするように透明基板1の上に絶縁膜4−2が形成される。
第2電極を分離する隔壁6は一方向に配列された各対の画素アレイごとに形成され、対を成している両画素が同時にスキャン駆動されるように対画素アレイを一つの単位として第2電極(図示せず)を電気的に隔離させる。
図4に示す有機EL素子の製造方法に対して図5aないし図5cを参照して以下説明する。
In addition, an insulating film 4-2 is formed on the transparent substrate 1 so as to cover the edge portion of the first electrode 5.
The partition walls 6 separating the second electrodes are formed for each pair of pixel arrays arranged in one direction, and the pair of pixel arrays are used as one unit so that both the paired pixels are simultaneously scanned and driven. The two electrodes (not shown) are electrically isolated.
A method of manufacturing the organic EL element shown in FIG. 4 will be described below with reference to FIGS. 5a to 5c.

図5aに示すように、先ず透明基板1の上に2本のラインで一つのセットとされる補助電極2a、2bが形成される。その補助電極2a、2bは行方向に配列された画素アレイに対して垂直な列方向に形成され、対画素アレイの各画素対それぞれの画素に対するラインとなる補助電極2a、2bが形成される。
列方向に奇数番目の画素3aの第1電極は一つの補助電極2aに連結され、その奇数番目の画素3aと対を成す偶数番目の画素3bの第1電極は他の一つの補助電極2bに連結される。
As shown in FIG. 5 a, first, auxiliary electrodes 2 a and 2 b that form a set of two lines are formed on the transparent substrate 1. The auxiliary electrodes 2a and 2b are formed in the column direction perpendicular to the pixel array arranged in the row direction, and auxiliary electrodes 2a and 2b serving as lines for the respective pixels of the respective pixel pairs in the counter-pixel array are formed.
The first electrode of the odd-numbered pixel 3a in the column direction is connected to one auxiliary electrode 2a, and the first electrode of the even-numbered pixel 3b paired with the odd-numbered pixel 3a is connected to the other auxiliary electrode 2b. Connected.

図5bに示すように、補助電極2a、2bと電気的に連結されるようにそれぞれの画素に第1電極5を形成する。この時第1電極5は特定の画素に対応しており、一方の補助電極と連結され、他方の補助電極と電気的に絶縁されるように、その補助電極と所定距離(A)の間隔を有して形成される。例えば、図5bに示すように、奇数番目の画素アレイの断面で見ると、奇数番目の画素3aを駆動するための補助電極2aでない他の補助電極2bとは電気的に絶縁されるように‘A’の間隔をおいて第1電極5が形成されている。
また、図5cに示すように、第1電極5のエッジ部分をカバーするように透明基板1の上に絶縁膜4−2が形成されている。
As shown in FIG. 5b, the first electrode 5 is formed on each pixel so as to be electrically connected to the auxiliary electrodes 2a and 2b. At this time, the first electrode 5 corresponds to a specific pixel, is connected to one auxiliary electrode, and is electrically insulated from the other auxiliary electrode at a predetermined distance (A). Formed. For example, as shown in FIG. 5b, when viewed from the cross section of the odd-numbered pixel array, the auxiliary electrode 2b that is not the auxiliary electrode 2a for driving the odd-numbered pixel 3a is electrically insulated from the other auxiliary electrode 2b. The first electrode 5 is formed with an interval A ′.
Further, as shown in FIG. 5 c, an insulating film 4-2 is formed on the transparent substrate 1 so as to cover the edge portion of the first electrode 5.

次に本発明では透明基板1の上に一方向に対を成して2本のラインとして配列された画素アレイ対が外部のスキャン電極(第2電極)と連結され同時にスキャン駆動されるように各画素アレイごとに隔壁6が一つずつ形成されている。
即ち、画素アレイ対当たり一つずつ隔壁6が形成される。それによって以後形成される第2電極が画素アレイ対単位に電気的に隔離される。
隔壁6が形成された後には第1電極5の上に有機発光層(図示せず)を形成する。
更に最後に第2電極(図示せず)を形成した後、保護膜を形成するためのパシベーション、インキャップシュレーションを経ると素子が完成される。
ここで画素が対を成している画素アレイ対が同時にスキャン駆動されるように、補助電極2a、2bと交差する方向に画素アレイ(画素アレイ対)ごとに一つの第2電極(図示せず)が連結される。
Next, in the present invention, a pair of pixel arrays arranged as two lines in one direction on the transparent substrate 1 is connected to an external scan electrode (second electrode) so as to be simultaneously scanned. One partition wall 6 is formed for each pixel array.
That is, one partition wall 6 is formed per pixel array pair. As a result, the second electrodes formed thereafter are electrically isolated in pixel array pair units.
After the partition wall 6 is formed, an organic light emitting layer (not shown) is formed on the first electrode 5.
Finally, after the second electrode (not shown) is formed, the device is completed through passivation and encapsulation for forming a protective film.
Here, one second electrode (not shown) is provided for each pixel array (pixel array pair) in a direction intersecting with the auxiliary electrodes 2a and 2b so that the pixel array pair in which the pixels are paired is simultaneously scanned and driven. ) Are connected.

図6は本発明の第2実施形態によるダブルスキャン構造の有機EL素子を示す平面図であり、図7aないし図7cは図6においてII−II’断面の製造工程図を示すものである。
図6に示すように、有機EL素子は図4と同じ構成を有しており、図4の構成と異なる点は2本のラインとして形成される補助電極2a、2bが列方向の各奇数番目の画素3aと偶数番目の画素3bを独立に制御するように、その補助電極2a、2bのうち、任意の補助電極2a、又は補助電極2bの上に絶縁膜4−1を形成する。すなわち、第1電極を大きくし、駆動されることがない他方の補助電極の上まで広がるようにしている。
更に詳細には図7aないし図7cに示すように、奇数番目の画素アレイの断面で見ると、奇数番目の画素3aの第1電極に連結された補助電極2aではない他の補助電極2bの上に絶縁膜4−1を形成する。
FIG. 6 is a plan view showing an organic EL device having a double scan structure according to the second embodiment of the present invention, and FIGS. 7A to 7C show manufacturing process diagrams taken along line II-II ′ in FIG.
As shown in FIG. 6, the organic EL element has the same configuration as that of FIG. 4, and the difference from the configuration of FIG. 4 is that the auxiliary electrodes 2a and 2b formed as two lines are each odd-numbered in the column direction. Among the auxiliary electrodes 2a and 2b, an insulating film 4-1 is formed on any auxiliary electrode 2a or auxiliary electrode 2b so that the pixel 3a and the even-numbered pixel 3b are controlled independently. That is, the first electrode is enlarged so as to spread over the other auxiliary electrode that is not driven.
More specifically, as shown in FIGS. 7 a to 7 c, when viewed in the cross section of the odd-numbered pixel array, it is above the other auxiliary electrode 2 b that is not the auxiliary electrode 2 a connected to the first electrode of the odd-numbered pixel 3 a. Then, an insulating film 4-1 is formed.

それによって、第1電極5が絶縁膜4−1と所定間隔をおいて形成されても、また、第1電極5が絶縁膜4−1と一部分重畳されて形成されても、図7cに示すように、第1電極5が絶縁膜4−1と全部重畳して形成されても、形成された絶縁膜4−1によって第1電極5と補助電極2bとは確実に絶縁される。   As a result, even if the first electrode 5 is formed at a predetermined interval from the insulating film 4-1, or even if the first electrode 5 is partially overlapped with the insulating film 4-1, it is shown in FIG. Thus, even if the first electrode 5 is formed so as to overlap with the insulating film 4-1, the first electrode 5 and the auxiliary electrode 2b are reliably insulated by the formed insulating film 4-1.

従って、特定の画素には連結されずに隣接している補助電極2bと電気的に絶縁されるように、第1電極5をその補助電極2bと所定距離Aだけ間隔を持たせて形成しなくても良い。
これによって第1電極5が形成される領域を広げることによって画素の開口率を増加させることができる。
図8aないし図8cは本発明のダブルスキャン構造を有する有機EL素子の他の製造工程度を示したものであり、図9aないし図9cは図8aないし図8cでIII−III’断面の製造工程図を示したものである。
Therefore, the first electrode 5 is not formed at a predetermined distance A from the auxiliary electrode 2b so as to be electrically insulated from the adjacent auxiliary electrode 2b without being connected to a specific pixel. May be.
Accordingly, the aperture ratio of the pixel can be increased by expanding the region where the first electrode 5 is formed.
FIGS. 8a to 8c show other steps of manufacturing the organic EL device having the double scan structure of the present invention. FIGS. 9a to 9c are steps of manufacturing the III-III ′ cross section in FIGS. 8a to 8c. FIG.

図8cに示すように、対として配列された画素アレイで互いに対を成している画素が同時にスキャン駆動されるように形成されると共に、第1電極の部分(5a、5b、5c、5d)は一つおきに画素を駆動できるように画素アレイごとに画素の連結部位に形成される。すなわち、第1電極部分5aと5cが一つのラインとされ、第1電極部分5bと5dが他のラインとなるように、第1電極自体が列方向に分離された2本のラインとして形成される。見方を変えれば、部分5a、5bが凹凸状、すなわちジグザクのラインに形成され、それらに画素に対応する部分5c、5dが交互に連結されているとも言える(図8a参照)。
一つの画素アレイ対の図面上上下の画素を構成する部分への連結部位に形成された第1電極部分5a、5bの上にその第1電極部分5a、5bと一部分が重畳されるように補助電極2a、2bが形成される。
また、互いに対を成している画素が同時にスキャン駆動されるように各画素に形成された第1電極部分5c、5dの上に有機発光層(図示せず)が形成されている。その有機発光層の上に第1電極と交差するように第2電極(図示せず)が形成される。
As shown in FIG. 8c, a pixel array arranged as a pair is formed such that pixels that are paired with each other are simultaneously scanned and driven, and the first electrode portions (5a, 5b, 5c, 5d) Is formed at a pixel connection portion for each pixel array so that every other pixel can be driven. In other words, the first electrode itself is formed as two lines separated in the column direction so that the first electrode portions 5a and 5c are one line and the first electrode portions 5b and 5d are other lines. The In other words, the portions 5a and 5b are formed in a concavo-convex shape, that is, a zigzag line, and the portions 5c and 5d corresponding to the pixels are alternately connected to them (see FIG. 8a).
Auxiliary so as to partially overlap the first electrode portions 5a and 5b on the first electrode portions 5a and 5b formed at the connecting portion to the portion constituting the upper and lower pixels in the drawing of one pixel array pair. Electrodes 2a and 2b are formed.
In addition, an organic light emitting layer (not shown) is formed on the first electrode portions 5c and 5d formed in each pixel so that the paired pixels are simultaneously scan-driven. A second electrode (not shown) is formed on the organic light emitting layer so as to intersect the first electrode.

一つの画素で画素への連結部位にラインとして形成された第1電極部分5a、5bは凹凸の形態を有している。すなわち、駆動される画素でない部分では第1電極部分5aは電極部分5cから離れている。それによってラインとして形成させた第1電極分5aと5bは凹凸状態、ジグザクとなっている。
ここで第1電極を幅方向(行方向方向)で二つに分ける時、画素への連結部位に形成される第1電極部分5a、5bを直線状のストライプパターンに形成すると、隣接する画素対の隔離のために各画素に対応させて形成される第1電極5c、5dの面積が減少することによって画素3a、3bの開口率が劣る。しかしながら、本発明のように一つの画素アレイごとに画素への連結部位に形成された第1電極部分5a、5bを凹凸形態に形成すると、隣接する画素対の隔離のために各画素に対応させて形成される第1電極部分5c、5dの面積を増加させることができる。
The first electrode portions 5a and 5b formed as a line at a connection portion to the pixel in one pixel have a concavo-convex shape. That is, the first electrode portion 5a is separated from the electrode portion 5c in a portion that is not a pixel to be driven. As a result, the first electrode portions 5a and 5b formed as lines are uneven and zigzag.
Here, when the first electrode is divided into two in the width direction (row direction), if the first electrode portions 5a and 5b formed at the connection portion to the pixel are formed in a linear stripe pattern, adjacent pixel pairs As the area of the first electrodes 5c and 5d formed corresponding to each pixel is reduced for isolation, the aperture ratio of the pixels 3a and 3b is inferior. However, if the first electrode portions 5a and 5b formed in the connection portion to the pixel for each pixel array as in the present invention are formed in a concavo-convex shape, the first electrode portions 5a and 5b are made to correspond to each pixel in order to isolate adjacent pixel pairs. Thus, the area of the first electrode portions 5c and 5d formed can be increased.

また、補助電極2a、2bは前記で一つの画素毎にラインとして画素への連結部位に形成されている第1電極部分5a、5bの逆パターンを有する凹凸形態にして、第1電極部分5a、5bと一部重畳ようにずらして形成する。それにより2次絶縁膜4−2が画素を覆う面積を減らすことができ、開口率を向上させることができる。
第1電極5のエッジ部分をカバーするように透明基板1の上に2次絶縁膜4−2が形成される。
隔壁6は一方向に配列された各画素アレイ対に対して形成され、対を成す画素アレイが同時にスキャン駆動されるように画素アレイ対を一つの単位にして第2電極(図示せず)を電気的に隔離させる。
In addition, the auxiliary electrodes 2a and 2b are formed in a concavo-convex shape having a reverse pattern of the first electrode portions 5a and 5b formed as a line for each pixel as a line in the above-described manner. It is formed so as to be partially overlapped with 5b. Accordingly, the area where the secondary insulating film 4-2 covers the pixels can be reduced, and the aperture ratio can be improved.
A secondary insulating film 4-2 is formed on the transparent substrate 1 so as to cover the edge portion of the first electrode 5.
A partition wall 6 is formed for each pixel array pair arranged in one direction, and a second electrode (not shown) is formed with the pixel array pair as one unit so that the paired pixel arrays are simultaneously scanned and driven. Isolate electrically.

以上説明したように、本発明では画素アレイ毎に第1電極が一方向に配列された2本のラインに分けて形成されるが、他の実施例として画素アレイ毎に2本のライン以上に分けて形成することもできる。
前記のように構成された有機EL素子の製造方法に対して以下説明する。
先ず、図8a及び図9に示すように、透明基板1の上に第1電極部分5a、5b、5c、5dを形成する。より詳細には第1電極部分5a、5bは対に配列される画素アレイで相互に対を成している画素3a、3bにそれぞれ連結するように、その対を成している画素3a、3bへの連結部位が凹凸形態を有するように形成し、また、第1電極部分5c、5dは対として配列される両画素アレイで相互に対を成す画素3a、3bが同時にスキャン駆動されるように各画素に形成する。
As described above, in the present invention, each pixel array is formed by dividing the first electrode into two lines arranged in one direction. However, in another embodiment, the pixel array has two lines or more. It can also be formed separately.
The method for manufacturing the organic EL element configured as described above will be described below.
First, as shown in FIGS. 8 a and 9, first electrode portions 5 a, 5 b, 5 c, 5 d are formed on the transparent substrate 1. More specifically, the first electrode portions 5a and 5b are connected to the pixels 3a and 3b which are paired with each other in the pixel array arranged in pairs, so that the paired pixels 3a and 3b are connected. The first and second electrode portions 5c and 5d are arranged in pairs so that the pixels 3a and 3b forming a pair are simultaneously scanned and driven. Formed on each pixel.

ラインとして形成されている第1電極の部分5aが列方向の各奇数番目の画素3aを制御し、第1電極の部分5bが偶数番目の画素3bを制御するように透明導電性物質をパターニングして第1電極を形成する。
形成された第1電極のパターン間の間隔aと第1電極部分5bのパターンの幅bは工程条件や素子特性に依存することになるので最小の幅と最小の間隔が存在し、普通10μm内外である。
The transparent conductive material is patterned so that the first electrode portions 5a formed as lines control the odd-numbered pixels 3a in the column direction, and the first electrode portions 5b control the even-numbered pixels 3b. To form a first electrode.
The interval a between the formed first electrode patterns and the pattern width b of the first electrode portion 5b depend on process conditions and device characteristics, and therefore there are minimum width and minimum interval, which are usually 10 μm inside and outside. It is.

また、8b及び図9bに示すように、対に配列される画素アレイで相互に対を成す画素3a、3bへの連結部位が凹凸形態を有するように形成された第1電極の部分5a、5bの上に補助電極2a、2bを形成する。
この時補助電極2a、2bのパターン幅は抵抗を考慮して1〜100μm程度に形成する。また、補助電極2a、2bは画素に対応させて形成される第1電極部分5cのパターンとの所定間隔cと、画素3a、3bの連結部位に対して凹凸形態を有するように形成された第1電極部分5a、5bのパターンと一部重なる部分dが生成されるようにずれて形成する。
Further, as shown in FIG. 8b and FIG. 9b, the first electrode portions 5a and 5b are formed such that the connecting portions to the pixels 3a and 3b that form a pair in the pixel array arranged in pairs have an uneven shape. Auxiliary electrodes 2a and 2b are formed thereon.
At this time, the pattern width of the auxiliary electrodes 2a and 2b is formed to be about 1 to 100 μm in consideration of resistance. Further, the auxiliary electrodes 2a and 2b are formed so as to have a concavo-convex shape with respect to the predetermined interval c with respect to the pattern of the first electrode portion 5c formed corresponding to the pixel and the connection portion of the pixels 3a and 3b. The first electrode portions 5a and 5b are formed so as to be shifted so that a portion d partially overlapping with the pattern of the electrode portions 5a and 5b is generated.

間隔‘c’と重なる部分の‘d’とは装置のアライン公差に依存し、通常1〜2μmとして第1電極のパターン間の間隔aと第1電極部分のパターンの幅bに比べて遙かに小さい。
次に図8c及び図9cに示すように、第1電極5のエッジ部分をカバーするように透明基板1の上に2次絶縁膜4−2を形成する。
The portion “d” that overlaps the interval “c” depends on the alignment tolerance of the apparatus, and is usually 1 to 2 μm, which is much longer than the interval “a” between the first electrode patterns and the pattern width “b” of the first electrode portion. Small.
Next, as shown in FIGS. 8 c and 9 c, a secondary insulating film 4-2 is formed on the transparent substrate 1 so as to cover the edge portion of the first electrode 5.

図10は従来技術によるダブルスキャン構造を有する有機EL素子の製造工程図であって、本発明による図9cと比較するとき、画素の開口率が遙かに小さいことが分かる。
図10に示した従来技術では第1電極の部分5a、5bのパターンの上に補助電極2a、2bを形成しており、図9cに示す本発明では第1電極の部分5a、5bのパターンとずれるように補助電極2a、2bを形成したことが異なる。
本発明のように補助電極2a、2bを第1電極パターンとずれるように形成することで2次絶縁膜4−2が画素を覆う面積が減って2次絶縁膜がずれるその分開口率を向上させることができる。
FIG. 10 is a manufacturing process diagram of an organic EL device having a double scan structure according to the prior art, and it can be seen that the aperture ratio of the pixel is much smaller when compared with FIG. 9c according to the present invention.
In the prior art shown in FIG. 10, the auxiliary electrodes 2a and 2b are formed on the pattern of the first electrode portions 5a and 5b. In the present invention shown in FIG. 9c, the pattern of the first electrode portions 5a and 5b The difference is that the auxiliary electrodes 2a and 2b are formed so as to be displaced.
By forming the auxiliary electrodes 2a and 2b so as to deviate from the first electrode pattern as in the present invention, the area of the secondary insulating film 4-2 covering the pixel is reduced and the secondary insulating film is shifted, thereby improving the aperture ratio. Can be made.

図11a及び図11bは本発明による有機EL素子の製造工程図であり、図12a、図12cは図11a及び図11bでIV−IV’断面の製造工程図を示すものである。
図11bに示すように、本発明による有機EL素子は第1電極5と第2電極(図示せず)が交差する領域に多数の画素が形成される。
第1電極5は透明基板1の上に多数形成される。
補助電極2は形成された第1電極5に連結されるように、その第1電極5と一部分が重なるように透明基板1の上に形成される。
11a and 11b are manufacturing process diagrams of an organic EL device according to the present invention, and FIGS. 12a and 12c are manufacturing process diagrams taken along the line IV-IV ′ in FIGS. 11a and 11b.
As shown in FIG. 11b, in the organic EL device according to the present invention, a large number of pixels are formed in a region where the first electrode 5 and the second electrode (not shown) intersect.
A large number of first electrodes 5 are formed on the transparent substrate 1.
The auxiliary electrode 2 is formed on the transparent substrate 1 so as to partially overlap the first electrode 5 so as to be connected to the formed first electrode 5.

互いに対を成している画素が同時にスキャン駆動されるように各画素に形成された第1電極5の上に有機発光層(図示せず)が形成される。次にその有機発光層の上に第1電極5と交差するように第2電極(図示せず)が形成される。
また、第1電極5のエッジ部分をカバーするように透明基板1の上に絶縁膜4−2が形成されている。
隔壁6は一方向に配列された各画素アレイ対ごとに形成され、対を成している両画素が同時にスキャン駆動されるように画素アレイ対を単位にして第2電極(図示せず)を電気的に隔離させる。
An organic light emitting layer (not shown) is formed on the first electrode 5 formed in each pixel such that the pixels that are paired with each other are simultaneously scanned. Next, a second electrode (not shown) is formed on the organic light emitting layer so as to intersect the first electrode 5.
An insulating film 4-2 is formed on the transparent substrate 1 so as to cover the edge portion of the first electrode 5.
The partition wall 6 is formed for each pixel array pair arranged in one direction, and a second electrode (not shown) is provided in units of the pixel array pair so that both the paired pixels are simultaneously scanned and driven. Isolate electrically.

本発明では補助電極2を、第1電極5パターンと一部重なるように透明基板1の上に形成させることによって、絶縁膜4−2が画素を覆う面積が減って開口率を向上させることができる。
補助電極の材料は導電性の物質を用いて、特にCr、Mo、Al、Cuやこれらの合金及び二つ以上を同時に用いるのも可能である。補助電極の厚さは0.01〜10μmであり、線幅は素子によって異なり形成することができる。
In the present invention, by forming the auxiliary electrode 2 on the transparent substrate 1 so as to partially overlap with the first electrode 5 pattern, the area of the insulating film 4-2 covering the pixel can be reduced and the aperture ratio can be improved. it can.
The auxiliary electrode material may be a conductive substance, and in particular, Cr, Mo, Al, Cu, alloys thereof, and two or more may be used simultaneously. The auxiliary electrode has a thickness of 0.01 to 10 μm, and the line width can be different depending on the element.

絶縁膜の材料としては無機及び有機絶縁膜のいずれも使用可能であり、無機絶縁膜には酸化系絶縁膜(oxide類、SiO2)と窒化系絶縁膜(nitride類、SiNx)が用いられる。
有機絶縁膜はポリマー(特に、ポリアクリル類、polyimidefb、novolac、polyphenyl、polystylene)が用いられる。また、絶縁膜の厚さは0.01〜10μmであり、可視光線に対して吸光度の低い物質が良い。
また、発光領域内の第1電極の一部分は絶縁膜で覆うべきである。即ち、絶縁膜は第1電極と第2電極の短絡を防止するために工程中にエッジ部分が損傷され易い第1電極のエッジ部分をカバーするように形成する。
最後に第1電極は透明電極であり、第2電極は金属電極である。
As the material for the insulating film, both inorganic and organic insulating films can be used. For the inorganic insulating film, an oxide insulating film (oxides, SiO2) and a nitride insulating film (nitrides, SiNx) are used.
As the organic insulating film, a polymer (particularly, polyacryl, polyimidefb, novolac, polyphenyl, polystylene) is used. Moreover, the thickness of an insulating film is 0.01-10 micrometers, and the substance with a low light absorbency with respect to visible light is good.
Further, a part of the first electrode in the light emitting region should be covered with an insulating film. That is, the insulating film is formed so as to cover the edge portion of the first electrode where the edge portion is easily damaged during the process in order to prevent a short circuit between the first electrode and the second electrode.
Finally, the first electrode is a transparent electrode, and the second electrode is a metal electrode.

以上本発明の好適な一実施形態に対して説明したが、前記実施形態のものに限定されるわけではなく、本発明の技術思想に基づいて種々の変形可能である。   Although a preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention.

従来技術によるパッシブマトリックス有機EL構造を示す図である。It is a figure which shows the passive matrix organic electroluminescent structure by a prior art. 従来技術によるより補完されたパッシブマトリックス有機EL構造を示す図である。It is a figure which shows the passive matrix organic electroluminescent structure more complemented by the prior art. 従来技術によるより補完されたパッシブマトリックス有機EL構造を示す図である。It is a figure which shows the passive matrix organic electroluminescent structure more complemented by the prior art. 本発明の第1実施形態によるダブルスキャン構造の有機EL素子を示す平面図である。It is a top view which shows the organic EL element of the double scan structure by 1st Embodiment of this invention. 図4においてI−I’断面の製造工程図である。FIG. 5 is a manufacturing process diagram along I-I ′ section in FIG. 4; 本発明の第2実施形態によるダブルスキャン構造の有機EL素子を示す平面図である。It is a top view which shows the organic EL element of the double scan structure by 2nd Embodiment of this invention. 図6においてII−II’断面の製造工程図である。FIG. 7 is a manufacturing process diagram taken along the line II-II ′ in FIG. 6. 本発明のダブルスキャン構造を有する有機EL素子の更に他の製造工程図である。It is another manufacturing process figure of the organic EL element which has a double scan structure of this invention. 本発明のダブルスキャン構造を有する有機EL素子の更に他の製造工程図である。It is another manufacturing process figure of the organic EL element which has a double scan structure of this invention. 本発明のダブルスキャン構造を有する有機EL素子の更に他の製造工程図である。It is another manufacturing process figure of the organic EL element which has a double scan structure of this invention. 図8a〜図8cにおいてIII−III’断面の製造工程図である。8A to 8C are manufacturing process diagrams taken along the line III-III '. 従来技術によるダブルスキャン構造を有する有機EL素子の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of the organic EL element which has a double scan structure by a prior art. 本発明による有機EL素子の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of the organic EL element by this invention. 図11におけるIV−IV’断面の製造工程図である。FIG. 12 is a manufacturing process diagram taken along a line IV-IV ′ in FIG. 11.

符号の説明Explanation of symbols

1…透明基板、2a,2b…補助電極、3a…奇数番目の画素、3b…偶数番目の画素、5…第1電極、6…隔壁。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate, 2a, 2b ... Auxiliary electrode, 3a ... Odd-numbered pixel, 3b ... Even-numbered pixel, 5 ... 1st electrode, 6 ... Partition.

Claims (7)

行方向に配列された複数のデータ電極と列方向に配列された複数の走査電極の間の交差点に形成された複数の画素を含み、列方向に1対を構成する2つの画素を有しかつ行方向に配列される画素アレイを走査駆動するダブルスキャン構造の有機ELデバイスを有する有機EL表示パネルにおいて、
透明基板(1)と、
前記透明基板(1)上に画素(3a,3b)に対応して形成された第1電極(5)と、
列方向に互いに平行に配列された第1補助電極(2a)と第2補助電極(2b)とから構成される1対の補助電極(2a,2b)と、
前記画素(3a,3b)の第1電極(5)上に形成された有機発光層と、
前記有機発光層上に形成された第2電極と
を備え、
前記第1補助電極(2a)は、列方向に配列された奇数番号の画素に形成された前記第1電極(5)の端部で覆われるとともに、列方向に配列された偶数番号の画素に形成された第1電極(5)の端部で覆われ奇数番号の画素に形成された前記第1電極(5)の端部は前記第1補助電極(2a)に直接接触され、偶数番号の画素に形成された第1電極(5)の端部は第1絶縁膜(4−1)によって前記第1補助電極(2a)と電気的に絶縁され、
前記第2補助電極(2b)は、列方向に配列された前記奇数番号の画素に形成された第1電極(5)の端部で覆われるとともに、列方向に配列された前記偶数番号の画素に形成された前記第1電極(5)の端部で覆われ前記奇数番号の画素に形成された前記第1電極(5)の端部は第1絶縁膜(4−1)によって前記第2補助電極(2b)と電気的に絶縁され、前記偶数番号の画素に形成された第1電極(5)の端部は前記第2補助電極(2b)に直接接触され、
前記一対の補助電極(2a,2b)は、前記奇数番号の画素と前記偶数番号の画素とが同時に走査駆動されるように同時に駆動されることを特徴とする有機EL表示パネル。
A plurality of pixels formed at intersections between a plurality of data electrodes arranged in a row direction and a plurality of scanning electrodes arranged in a column direction, and having two pixels constituting a pair in the column direction; In an organic EL display panel having an organic EL device having a double scan structure for scanning and driving a pixel array arranged in a row direction,
A transparent substrate (1);
A first electrode (5) formed on the transparent substrate (1) corresponding to the pixels (3a, 3b);
A pair of auxiliary electrodes (2a, 2b) composed of a first auxiliary electrode (2a) and a second auxiliary electrode (2b) arranged in parallel to each other in the column direction;
An organic light emitting layer formed on the first electrode (5) of the pixel (3a, 3b);
A second electrode formed on the organic light emitting layer,
The first auxiliary electrode (2a) is covered with an end of the first electrode (5) formed in odd-numbered pixels arranged in the column direction, and is applied to even-numbered pixels arranged in the column direction. The end of the first electrode (5) formed in the odd-numbered pixel is covered with the end of the formed first electrode (5) and is in direct contact with the first auxiliary electrode (2a). The end portion of the first electrode (5) formed in the pixel is electrically insulated from the first auxiliary electrode (2a) by the first insulating film (4-1),
Pixels of the second auxiliary electrode (2b), together with covered at the end of the first electrode formed in a pixel of the odd numbers arranged in the column direction (5), the even numbers arranged in the column direction The end of the first electrode (5) formed in the odd-numbered pixel is covered with the end of the first electrode (5) formed on the first insulating film (4-1). 2 is electrically insulated from the auxiliary electrode (2b) and the end of the first electrode (5) formed in the even-numbered pixel is in direct contact with the second auxiliary electrode (2b);
The organic EL display panel, wherein the pair of auxiliary electrodes (2a, 2b) are simultaneously driven so that the odd-numbered pixels and the even-numbered pixels are simultaneously scanned and driven.
前記第1補助電極は、列方向に配列された奇数番号の画素に形成された前記第1電極の第1端部に電気的に接続され、前記第2補助電極は、列方向に配列された偶数番号の画素に形成された前記第1電極の第2端部に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子パネル。   The first auxiliary electrode is electrically connected to a first end of the first electrode formed in odd-numbered pixels arranged in the column direction, and the second auxiliary electrode is arranged in the column direction. The organic EL element panel according to claim 1, wherein the organic EL element panel is electrically connected to a second end portion of the first electrode formed in even-numbered pixels. 前記第1又は第2補助電極は、少なくともCr、Mo、Al、Cuの中の1つ、またはそれらの1つ以上の合金からなることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子パネル。   2. The organic EL element panel according to claim 1, wherein the first or second auxiliary electrode is made of at least one of Cr, Mo, Al, and Cu, or one or more alloys thereof. 前記第1又は第2補助電極は、1〜100μmの幅を持つラインを有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子パネル。   2. The organic EL element panel according to claim 1, wherein the first or second auxiliary electrode has a line having a width of 1 to 100 μm. 前記第1又は第2補助電極は、0.01〜10μmの厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子パネル。   The organic EL element panel according to claim 1, wherein the first or second auxiliary electrode has a thickness of 0.01 to 10 μm. 前記絶縁膜は、前記第1電極の発光領域に重複しないことを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子パネル。   The organic EL element panel according to claim 1, wherein the insulating film does not overlap a light emitting region of the first electrode. 行方向に配列された複数のデータ電極と列方向に配列された複数の走査電極の間の交差点に形成された複数の画素を含み、列方向に1対を構成する2つの画素を有しかつ行方向に配列される画素アレイを走査駆動するダブルスキャン構造の有機ELデバイスを有する有機EL表示パネルにおいて、
透明基板(1)と、
前記透明基板(1)上に画素(3a,3b)に対応して形成された複数の第1電極(5)と
を備え、
いくつかの第1電極(5c)は、列方向に配列された奇数番号の画素に形成されて、第1連結ライン(5a)によって電気的に接続され、残りの第1電極(5d)は、列方向に配列された偶数番号の画素に形成されて、第2連結ライン(5b)によって電気的に接続され、
列方向に互いに平行に配列された第1補助電極(2a)と第2補助電極(2b)とから構成される1対の補助電極(2a,2b)と、
前記第1連結ライン(5a)と電気的に接続された第1補助電極と、
前記第2連結ライン(5b)と電気的に接続された第2補助電極と、
前記画素(3a,3b)の第1電極(5)上に形成された有機発光層と、
前記有機発光層上に形成された第2電極と
を備え、
前記第1補助電極(2a)は、列方向に配列された奇数番号の画素に形成された前記第1電極(5)に電気的に接続されるように前記第1連結ライン(5a)と重複するとともに、列方向に配列された偶数番号の画素に形成された第1電極(5)から絶縁膜(4−2)によって電気的に絶縁され、
前記第2補助電極(2b)は、列方向に配列された偶数番号の画素に形成された前記第1電極(5)に電気的に接続されるように前記第2連結ライン(5b)と重複するとともに、列方向に配列された奇数番号の画素に形成された第1電極(5)から前記絶縁膜(4−2)によって電気的に絶縁され、
前記一対の補助電極(2a,2b)は、前記奇数番号の画素と前記偶数番号の画素とが同時に走査駆動されるように同時に駆動され
前記第1連結ライン(5a)と前記第2連結ライン(5b)は第1ジグザグパターンで構成され、かつ、前記第1補助電極(2a)と前記第2補助電極(2b)は前記第1ジグザグパターンと曲げ方向が異なる第2ジグザグパターンで構成されていることを特徴とする有機EL表示パネル。
A plurality of pixels formed at intersections between a plurality of data electrodes arranged in a row direction and a plurality of scanning electrodes arranged in a column direction, and having two pixels constituting a pair in the column direction; In an organic EL display panel having an organic EL device having a double scan structure for scanning and driving a pixel array arranged in a row direction,
A transparent substrate (1);
A plurality of first electrodes (5) formed on the transparent substrate (1) corresponding to the pixels (3a, 3b),
Several first electrodes (5c) are formed in odd-numbered pixels arranged in the column direction and are electrically connected by the first connection line (5a), and the remaining first electrodes (5d) are Formed in even-numbered pixels arranged in the column direction and electrically connected by the second connection line (5b);
A pair of auxiliary electrodes (2a, 2b) composed of a first auxiliary electrode (2a) and a second auxiliary electrode (2b) arranged in parallel to each other in the column direction;
A first auxiliary electrode electrically connected to the first connection line (5a);
A second auxiliary electrode electrically connected to the second connection line (5b);
An organic light emitting layer formed on the first electrode (5) of the pixel (3a, 3b);
A second electrode formed on the organic light emitting layer,
The first auxiliary electrode (2a) overlaps the first connection line (5a) so as to be electrically connected to the first electrode (5) formed in odd-numbered pixels arranged in the column direction. And electrically insulated from the first electrode (5) formed in the even-numbered pixels arranged in the column direction by the insulating film (4-2),
The second auxiliary electrode (2b) overlaps the second connection line (5b) so as to be electrically connected to the first electrode (5) formed in even-numbered pixels arranged in the column direction. And electrically insulated from the first electrode (5) formed on the odd-numbered pixels arranged in the column direction by the insulating film (4-2),
The pair of auxiliary electrodes (2a, 2b) are driven simultaneously so that the odd-numbered pixels and the even-numbered pixels are simultaneously scanned and driven ,
The first connection line 5a and the second connection line 5b have a first zigzag pattern, and the first auxiliary electrode 2a and the second auxiliary electrode 2b have the first zigzag pattern. An organic EL display panel comprising a second zigzag pattern having a bending direction different from that of the pattern .
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