JP4929868B2 - Semiconductor memory test equipment - Google Patents

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Description

本発明は、メモリデバイス及びLSI内蔵のメモリをテストするテスタ装置において、メモリのアドレスを演算によって発生させる半導体メモリ試験装置に関する。  The present invention relates to a semiconductor memory test apparatus for generating a memory address by calculation in a tester apparatus for testing a memory device and a memory built in an LSI.

従来、半導体メモリ試験装置は、被試験メモリにデータを書き込み、当該メモリへの書き込みデータを読み出して期待値と比較し、読出しデータと期待値との比較結果を不良解析のために判定用メモリに格納する。被試験メモリは、通常不良セルを救済するために、X、Yライン(もしくはロウライン、カラムライン)毎に一定量の予備ラインを有する構成となっている。  Conventionally, a semiconductor memory test apparatus writes data into a memory under test, reads the write data into the memory, compares it with an expected value, and compares the comparison result between the read data and the expected value into a determination memory for failure analysis. Store. The memory under test is usually configured to have a certain amount of spare lines for each of the X and Y lines (or row lines and column lines) in order to relieve defective cells.

従来技術の不良判定用メモリは、X、Yのライン不良メモリを別個に持ち、XYのライン数の設定に関しては規定されていない、もしくは固定的に一定量で限定されている(例えば、特許文献1参照)。  The conventional defect determination memory has X and Y line defect memories separately, and is not defined for setting the number of XY lines, or is fixedly limited to a certain amount (for example, Patent Documents). 1).

また、図13、図14のように被試験セルをX、Yの2次元座標で捉えた場合、期待値との比較結果が一致しなかった(X、Y)セルは不良セルと判定される。ここで、全X、Y座標について比較する過程で、XもしくはYの1ライン毎に不良セル数を計数していき、その不良セル数が閾値を超えた場合に、そのラインを不良ラインと判定する。さらに、その後のそのラインの不良計数をせずに、後続ラインの期待値の比較をすることで、不良が確定したラインの比較を不要にする事ができ、試験の高速化を実現できる。このとき、不良が確定したライン全体を予備ラインと置き換えることにより、被試験メモリを救済する。  In addition, when the cell under test is captured with the two-dimensional coordinates of X and Y as shown in FIGS. 13 and 14, the (X, Y) cell whose comparison result with the expected value does not match is determined as a defective cell. . Here, in the process of comparing all the X and Y coordinates, the number of defective cells is counted for each line of X or Y, and when the number of defective cells exceeds a threshold value, the line is determined as a defective line. To do. Further, by comparing the expected values of the subsequent lines without counting the number of defects thereafter, it is possible to eliminate the need to compare the lines for which the defects have been determined, thereby realizing high-speed testing. At this time, the memory under test is relieved by replacing the entire line where the defect is determined with a spare line.

一方で、上記のような半導体メモリ試験には実際には様々な方法が考えられる。例えば、初めに全X、Y領域についてライン毎に不良セルの有無を検索し、その際に不良セル数が閾値を超えたXもしくはYラインのデータのみを図13記載のようなステータスメモリ(ライン確定メモリ)にて記憶する。また、被試験メモリの1ラインずつに対応するアドレスを有するメモリを用意し、そのメモリの各アドレスにビット「1」が格納された場合に、当該ラインの不良セルをマスクする図14記載のようなマスクメモリを有する構成にする。  On the other hand, various methods are actually conceivable for the semiconductor memory test as described above. For example, first, a search is made for the presence or absence of defective cells for each line in all X and Y regions, and only the X or Y line data for which the number of defective cells exceeds the threshold at that time is stored in the status memory (line (Determined memory). As shown in FIG. 14, a memory having an address corresponding to each line of the memory under test is prepared, and when a bit “1” is stored in each address of the memory, defective cells in the line are masked. Having a simple mask memory.

このような構成での試験方法では、ステータスメモリに記憶された確定フェイルラインの情報をマスクメモリにコピーして使用することにより、一定数以上の不良セルが存在するX、Yラインについて新たな不良セルが存在しても、マスクをかけて該当ラインの不良セルを計数させず、不良の確定したラインを除外した状態で残存する不良セルを計数するといった作業が高速に実行できる。或いは、不良セルの検索過程で確定フェイルラインの情報を格納しながら、逐次マスクメモリにコピーすることで、あるラインの不良ライン確定後に、同一ラインの検索をマスクする事ができ、効率的な半導体メモリ試験を行う事ができる。
特開昭58−5681号公報
In the test method having such a configuration, the information of the confirmed fail line stored in the status memory is copied to the mask memory and used, so that a new defect is generated for the X and Y lines in which a certain number or more of defective cells exist. Even if there is a cell, it is possible to perform a high-speed operation such as counting the number of defective cells remaining in a state where the defective cells of the corresponding line are not counted by applying a mask and the line where the defect is confirmed is excluded. Alternatively, while storing the information of the determined fail line in the process of searching for a defective cell, it is possible to mask the search of the same line after the defective line of a certain line is determined by copying it to the mask memory in an efficient manner. A memory test can be performed.
JP 58-5681 A

しかしながら、上記のようなステータスメモリ及びマスクメモリの構成は、図15、図16に記載のようにX、Yライン用に個別に用意し、かつ、XないしはYラインの最大数で均等に格納メモリのアドレス深さを確保する、もしくは、1つのメモリの1/2の容量でXY各ラインのアドレスを分け合って確保するといったことが考えられていた。  However, the configuration of the status memory and the mask memory as described above is prepared separately for the X and Y lines as shown in FIGS. 15 and 16, and is equally stored in the maximum number of X or Y lines. It has been considered to secure the address depth of the XY lines or to share the addresses of the XY lines with a capacity of 1/2 of one memory.

一方で、これらのX、Yライン数は合計ライン数がハードウェア制約上の最大値を上回らない範囲で、可能な限り任意のライン数に設定する自由度が望まれる。このため、X、Yステータスメモリ、マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)それぞれについてメモリとアドレスを用意した場合、使用しないライン数分のメモリアドレスが無駄になる、または、任意のライン数分のメモリ領域を確保しようとした場合に、X、Yの一方のライン数の最大値で制約を受け、メモリが不足する可能性がある。  On the other hand, the number of X and Y lines is desired to be set to an arbitrary number of lines as much as possible within a range where the total number of lines does not exceed the maximum value in terms of hardware constraints. Therefore, if memories and addresses are prepared for each of the X, Y status memory, mask memory (X), and mask memory (Y), memory addresses corresponding to the number of unused lines are wasted, or an arbitrary number of lines. When the memory area is to be secured, there is a possibility that the memory is insufficient due to a restriction by the maximum value of the number of one of X and Y lines.

また、ステータスメモリの情報をマスクメモリに高速でコピーする、または、X、Yラインのマスクメモリのデータやステータスメモリのデータの読出しを高速で行う場合、X、Y同時に読み出す事が困難であることが問題となっていた。例えば、図16の構成についてみると、ステータスメモリ・マスクメモリの物理深さの最大までライン数を確保できるメリットはあるが、ステータスメモリ・マスクメモリ独立にメモリを確保すると、いずれかの機能についてメモリアクセスを実行する場合、同一メモリに対してX、Yの2回のアクセスが必要となるため高速動作できないという問題がある。  Also, when copying the status memory information to the mask memory at high speed or reading the X and Y line mask memory data and the status memory data at high speed, it is difficult to read the X and Y simultaneously. Was a problem. For example, in the configuration of FIG. 16, there is an advantage that the number of lines can be secured up to the maximum physical depth of the status memory / mask memory. When executing access, there is a problem that high speed operation cannot be performed because two accesses of X and Y are required for the same memory.

本発明はかかる課題を解決するためになされたもので、メモリ試験装置についてフェイル情報を格納するステータスメモリ、マスクメモリに関し、X、Yフェイルライン数のサーチ領域の設計自由度を確保すると共に、各メモリへのアクセスやステータスメモリ−マスクメモリ間の情報のコピーや各々の読出しが高速かつ効率的に実行できる半導体メモリ試験装置を提供することを目的とする。  The present invention has been made to solve such a problem, and relates to a status memory and a mask memory for storing fail information for a memory test apparatus, and assures design freedom of search areas for the number of X and Y fail lines, It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory test apparatus capable of executing memory access, copying of information between a status memory and a mask memory, and reading of each memory at high speed and efficiently.

本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、請求項1に記載の発明は、メモリ試験時の不良セルをロウライン及びカラムラインの2方向について計数して、計数結果から不良ラインの判定を行う半導体メモリ試験装置において、前記ロウラインについての不良ライン情報が記憶された第1のステータス領域と、前記カラムラインについて計数不要のラインの情報が記憶された第1のマスク領域とが、前記第1のステータス領域が先でかつアドレスが連続するように配置された第1の記憶手段と、前記ロウラインについて計数不要のラインの情報が記憶された第2のマスク領域と、前記カラムラインについての不良ライン情報が記憶された第2のステータス領域とが、前記第2のマスク領域が先でかつアドレスが連続するように配置された第2の記憶手段と、前記第2の記憶手段の読出し端子からの出力データを前記第1の記憶手段の書き込み端子に入力する第1の転送手段と、前記第1の記憶手段の読出し端子からの出力データを前記第2の記憶手段の書き込み端子に入力する第2の転送手段とを具備する事を特徴とする半導体メモリ試験装置である。 The present invention has been made to solve the above problems, and the invention according to claim 1 counts defective cells at the time of a memory test in two directions of a row line and a column line, and determines a defective line from the counting result. In the semiconductor memory testing apparatus that performs the determination, the first status area in which the defective line information for the row line is stored and the first mask area in which the information of the line that does not need to be counted for the column line are stored. A first storage means arranged so that the first status area is first and addresses are continuous; a second mask area in which information of lines not requiring counting for the row line is stored; and a column line Arranged so that the second mask area is first and the address is continuous with the second status area in which defective line information is stored Second storage means, first transfer means for inputting output data from a read terminal of the second storage means to a write terminal of the first storage means, and reading of the first storage means A semiconductor memory test apparatus comprising: second transfer means for inputting output data from a terminal to a write terminal of the second storage means .

本発明によれば、各メモリへのアクセスやステータスメモリ−マスクメモリ間の情報のコピーや各々の読出しが高速かつ効率的に実行できる。  According to the present invention, access to each memory, copying of information between the status memory and the mask memory, and reading of each can be performed at high speed and efficiently.

また、ステータスメモリ、マスクメモリといった2種類のメモリ内容のクリアを、アドレスカウンタのインクリメントと選択器により個別ないし一括で高速で簡便に行える。  In addition, the contents of two types of memory such as a status memory and a mask memory can be cleared individually and collectively at high speed and easily by incrementing an address counter and a selector.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図1は本実施形態による半導体メモリ試験装置の構成を示す構成図である。本実施形態による半導体メモリ試験装置は、デュアルポートメモリM1、M2と、選択器DATSEL1、ADRSEL1、DATSEL2、ADRSEL2、SELと、NOR素子Rと、AND素子Aとから構成されている。信号WDATA1、WDATA2は、デュアルポートメモリM1、M2への書き込み信号である。信号LINEは、デュアルポートメモリM1、M2のライン番号指定のための信号である。  Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram showing the configuration of the semiconductor memory test apparatus according to the present embodiment. The semiconductor memory test apparatus according to the present embodiment includes dual port memories M1 and M2, selectors DATSEL1, ADRSEL1, DATSEL2, ADRSEL2, and SEL, a NOR element R, and an AND element A. Signals WDATA1 and WDATA2 are write signals to the dual port memories M1 and M2. The signal LINE is a signal for designating line numbers of the dual port memories M1 and M2.

図1ではクロック信号については記載を省略している。これは、非同期・同期メモリを限定するものではない。本実施形態による半導体メモリ試験装置は被試験メモリをロウライン(X方向)及びカラムライン(Y方向)の2方向についてライン単位で判定する。デュアルポートメモリM1はX方向のマスクメモリ(X)とY方向のステータスメモリ(Y)とから構成されている。デュアルポートメモリM2はマスクメモリ(Y)とステータスメモリ(X)とから構成されている。デュアルポートメモリM1、M2はデータ のリード動作は常時書き込み可能である。また、デュアルポートメモリM1、M2はライトリクエスト信号が入力されるとライトデータが書き込み可能となる。 In FIG. 1, the description of the clock signal is omitted. This does not limit the asynchronous / synchronous memory. The semiconductor memory test apparatus according to the present embodiment determines a memory under test in line units in two directions of a row line (X direction) and a column line (Y direction) . The dual port memory M1 includes an X-direction mask memory (X) and a Y-direction status memory (Y). The dual port memory M2 includes a mask memory (Y) and a status memory (X). The dual port memories M1 and M2 can always write data. The dual port memories M1 and M2 can write data when a write request signal is input.

デュアルポートメモリM1内は、マスクメモリ(X)、ステータスメモリ(Y)の順に配置されている。デュアルポートメモリM2内は、ステータスメモリ(X)、マスクメモリ(Y)の順に配置されている。ライン番号とは、X方向、Y方向のサーチ結果のメモリ(デュアルポートメモリ内のマスクメモリとステータスメモリ)を一連のラインとみなした時のライン数である。尚、リードリクエスト信号を持つメモリを使用することも可能である。各選択器はデュアルポートメモリM1、M2の各々、もしくはその両方への信号経路を選択する事ができる。  In the dual port memory M1, mask memory (X) and status memory (Y) are arranged in this order. In the dual port memory M2, the status memory (X) and the mask memory (Y) are arranged in this order. The line number is the number of lines when the search result memory (mask memory and status memory in the dual port memory) in the X and Y directions is regarded as a series of lines. It is also possible to use a memory having a read request signal. Each selector can select a signal path to each or both of the dual port memories M1, M2.

信号XMADRはデュアルポートメモリM1のマスクメモリ(X)の読出しラインアドレスである。また、信号YMADRはデュアルポートメモリM2のマスクメモリ(Y)の読出しラインアドレスである。信号WDATA1、WDATA2はそれぞれデュアルポートメモリM1、M2への書き込みデータ信号である。  The signal XMADR is a read line address of the mask memory (X) of the dual port memory M1. The signal YMADR is a read line address of the mask memory (Y) of the dual port memory M2. Signals WDATA1 and WDATA2 are write data signals to the dual port memories M1 and M2, respectively.

信号XLNUMは、X、Y境界ラインの本数を指定するためのXのライン数に関する設定の信号である。信号WREQは、各メモリへのライトデータを書き込み可能にするためのメモリライトリクエスト信号である。信号Status/Maskは、ステータスメモリ/マスクメモリの選択の切り替え用信号であり、「H」の時はステータスメモリが選択され、「L」の時はマスクメモリが選択される。信号Copy/Normalはステータスメモリのコピー動作/通常動作の切り替え用信号であり、「H」の時はコピー動作が選択され、「L」の時は通常動作が選択される。  The signal XLNUM is a setting signal related to the number of X lines for designating the number of X and Y boundary lines. The signal WREQ is a memory write request signal for enabling writing of write data to each memory. The signal Status / Mask is a status memory / mask memory selection switching signal. When it is “H”, the status memory is selected, and when it is “L”, the mask memory is selected. The signal Copy / Normal is a signal for switching the copy operation / normal operation of the status memory. When it is “H”, the copy operation is selected, and when it is “L”, the normal operation is selected.

信号ASEL1、ASEL2はそれぞれデュアルポートメモリM1、M2のアドレスセレクト信号である。信号DSEL1、DSEL2はそれぞれデュアルポートメモリM1、M2のデータセレクト信号である。信号WREN1、WREN2はそれぞれデュアルポートメモリM1、M2のメモリのライトイネーブル信号である。  Signals ASEL1 and ASEL2 are address select signals for the dual port memories M1 and M2, respectively. Signals DSEL1 and DSEL2 are data select signals for the dual port memories M1 and M2, respectively. Signals WREN1 and WREN2 are memory enable signals for the dual port memories M1 and M2, respectively.

デュアルポートメモリM1は、リードアドレス信号RADR1、リードデータ信号RDAT1、ライトアドレス信号WADR1、ライトデータ信号WDAT1、ライトイネーブル信号WREN1の信号をそれぞれ入出力するためのリードアドレス端子RADRE1、リードデータ端子RDATA1、ライトアドレス端子WADRE1、ライトデータ端子WDATA1、ライトイネーブル端子WEN1の各端子を有している。  The dual port memory M1 includes a read address signal RADR1, a read data signal RDAT1, a write address signal WADR1, a write data signal WDAT1, a write enable signal WREN1, and a read address terminal RADRE1, a read data terminal RDATA1, and a write data signal. Each terminal has an address terminal WADRE1, a write data terminal WDATA1, and a write enable terminal WEN1.

デュアルポートメモリM2は、リードアドレス信号RADR2、リードデータ信号RDAT2、ライトアドレス信号WADR2、ライトデータ信号WDAT2、ライトイネーブル信号WREN2の信号をそれぞれ入出力するためのリードアドレス端子RADRE2、リードデータ端子RDATA2、ライトアドレス端子WADRE2、ライトデータ端子WDATA2、ライトイネーブル端子WEN2の各端子を有している。  The dual port memory M2 has a read address signal RADR2, a read data signal RDAT2, a write address signal WADR2, a write data signal WDAT2, a read enable signal WREN2, and a read address terminal RADRE2, a read data terminal RDATA2, and a write data Each terminal has an address terminal WADRE2, a write data terminal WDATA2, and a write enable terminal WEN2.

信号WDATA1は選択器DATSEL1の端子Aに接続されている。選択器DATSEL1の端子BはデュアルポートメモリM2のリードデータ端子RDATA2に接続されていて、選択器DATSEL1の端子YはデュアルポートメモリM1のライトデータ端子WDATA1に接続されている。また、選択器DATSEL1の端子Sは選択器SELの出力端子DSEL1に接続されている。  The signal WDATA1 is connected to the terminal A of the selector DATSEL1. The terminal B of the selector DATSEL1 is connected to the read data terminal RDATA2 of the dual port memory M2, and the terminal Y of the selector DATSEL1 is connected to the write data terminal WDATA1 of the dual port memory M1. The terminal S of the selector DATSEL1 is connected to the output terminal DSEL1 of the selector SEL.

選択器ADRSEL1の端子Aには、信号XMADRが入力されている。選択器ADRSEL1の端子Bには、信号WADR1が入力されていると共に同端子はデュアルポートメモリM1のライトアドレス端子WADRE1に接続されている。選択器ADRSEL1の端子YはデュアルポートメモリM1のリードアドレス端子RADRE1に接続されている。また、選択器ADRSEL1の端子Sは選択器SELの出力端子ASEL1に接続されている。 The signal XMADR is input to the terminal A of the selector ADRSEL1. The signal WADR1 is input to the terminal B of the selector ADRSEL1, and the terminal is connected to the write address terminal WADRE1 of the dual port memory M1. The terminal Y of the selector ADRSEL1 is connected to the read address terminal RADRE1 of the dual port memory M1. The terminal S of the selector ADRSEL1 is connected to the output terminal ASEL1 of the selector SEL.

信号WDATA2は選択器DATSEL2の端子Aに接続されている。選択器DATSEL2の端子BはデュアルポートメモリM1のリードデータ端子RDATA1に接続されていて、選択器DATSEL2の端子YはデュアルポートメモリM2のライトデータ端子WDATAに接続されている。また、選択器DATSEL2の端子Sは選択器SELの出力端子DSEL2に接続されている。  The signal WDATA2 is connected to the terminal A of the selector DATSEL2. The terminal B of the selector DATSEL2 is connected to the read data terminal RDATA1 of the dual port memory M1, and the terminal Y of the selector DATSEL2 is connected to the write data terminal WDATA of the dual port memory M2. Further, the terminal S of the selector DATSEL2 is connected to the output terminal DSEL2 of the selector SEL.

選択器ADRSEL2の端子Aには、信号YMADRが入力されている。選択器ADRSEL2の端子Bには、信号WADR2が入力されていると共に同端子はデュアルポートメモリM2のライトアドレス端子WADRE2に接続されている。選択器ADRSEL2の端子YはデュアルポートメモリM2のリードアドレス端子RADRE2に接続されている。また、選択器ADRSEL2の端子Sは選択器SELの出力端子ASEL2に接続されている。 The signal YMADR is input to the terminal A of the selector ADRSEL2. The signal WADR2 is input to the terminal B of the selector ADRSEL2, and the terminal is connected to the write address terminal WADRE2 of the dual port memory M2. The terminal Y of the selector ADRSEL2 is connected to the read address terminal RADRE2 of the dual port memory M2. The terminal S of the selector ADRSEL2 is connected to the output terminal ASEL2 of the selector SEL.

選択器SELのライトイネーブル信号WREN1の出力端子はデュアルポートメモリM1のライトイネーブル端子WEN1に接続されており、ライトイネーブル信号WREN2の出力端子はデュアルポートメモリM2のライトイネーブル端子WEN1に接続されている。また、信号XMADR、YMADR、WADR1、WADR2、XLNUM、WREQ、Status/Mask、Copy/Normalはそれぞれ選択器SELに入力されている。  The output terminal of the write enable signal WREN1 of the selector SEL is connected to the write enable terminal WEN1 of the dual port memory M1, and the output terminal of the write enable signal WREN2 is connected to the write enable terminal WEN1 of the dual port memory M2. The signals XMADR, YMADR, WADR1, WADR2, XLNUM, WREQ, Status / Mask, and Copy / Normal are input to the selector SEL.

デュアルポートメモリM1のリードデータ端子RDATA1とデュアルポートメモリM2のリードデータ端子RDATA1とはNOR素子Rに入力され、NOR素子Rの出力信号は、信号FailDataと共にAND素子Aに入力される。AND素子AからはX/Yのマスクデータが出力される。 The read data terminal RDATA1 of the dual port memory M1 and the read data terminal RDATA1 of the dual port memory M2 are input to the NOR element R, and the output signal of the NOR element R is input to the AND element A together with the signal FailData. The AND element A outputs X / Y mask data.

図2は、デュアルポートメモリM1、M2の内部構成の一例を示す構成図である。図2のように、2つのメモリの構成で、それぞれマスクメモリ(X)/ステータスメモリ(Y)とステータスメモリ(X)/マスクメモリ(Y)である。このように、デュアルポートメモリ内はマスクメモリ/ステータスメモリが入れ子の構成をとっている。マスクメモリ(X)/ステータスメモリ(Y)は、マスクライン(X)領域とステータスライン(Y)領域とから構成され、ステータスメモリ(X)/マスクメモリ(Y)は、ステータスライン(X)領域とマスクライン(Y)領域とから構成されている。  FIG. 2 is a configuration diagram showing an example of the internal configuration of the dual port memories M1 and M2. As shown in FIG. 2, in the configuration of two memories, a mask memory (X) / status memory (Y) and a status memory (X) / mask memory (Y), respectively. As described above, the mask memory / status memory is nested in the dual port memory. The mask memory (X) / status memory (Y) includes a mask line (X) area and a status line (Y) area, and the status memory (X) / mask memory (Y) is a status line (X) area. And a mask line (Y) region.

各メモリは深さ方向(図2の縦方向)に最大限使用可能で、図2の例では最大(m+1)+(n+1)本のラインまでについて任意のm、nの値を選択できる。また、マスクメモリ・ステータスメモリは2つのデュアルポートメモリで同時に読出し可能である。  Each memory can be used to the maximum in the depth direction (vertical direction in FIG. 2), and in the example of FIG. 2, arbitrary values of m and n can be selected for up to (m + 1) + (n + 1) lines. The mask memory and status memory can be read simultaneously by two dual port memories.

図3は本実施形態にかかる半導体メモリ試験装置の前段に配置されるマスクメモリアドレス変換回路の一例である。また、図4は、このマスクメモリアドレスのアドレス対応関係を示す図である。また、図5はXYのアドレスとライン番号とのアドレス対応関係をグラフ表示した図である。図3のマスクメモリアドレス変換回路は、X、YアドレスXA、YAと、X領域のスタートアドレスXSAと、X、Y領域のエンドアドレスXEA、YEAとがそれぞれ入力され、X、YラインのマスクアドレスXMADR、YMADRと、Xのライン数XLNUMとが出力される。  FIG. 3 is an example of a mask memory address conversion circuit arranged in the previous stage of the semiconductor memory test apparatus according to the present embodiment. FIG. 4 is a diagram showing the address correspondence relationship of this mask memory address. FIG. 5 is a graph showing the address correspondence between XY addresses and line numbers. The mask memory address conversion circuit shown in FIG. 3 receives the X and Y addresses XA and YA, the X area start address XSA, and the X and Y area end addresses XEA and YEA, respectively, and the X and Y line mask addresses. XMADR, YMADR, and the number of X lines XLNUM are output.

図4では、X領域のスタートアドレスXSAと、Y領域のスタートアドレスYSAと、X領域のエンドアドレスXEAと、Y領域のエンドアドレスYEAと、XアドレスXAと、YアドレスYAとが記載されている。ここで、X、YラインのマスクアドレスXMADR、YMADRは下式(1)、(2)でそれぞれ示される。
XMADR = XA−XSA …(1)
YMADR = YA−YSA+(XEA−XSA+1)
= YA−YSA+XLNUM …(2)
図5は、マスクメモリ(X)/ステータスメモリ(Y)とステータスメモリ(X)/マスクメモリ(Y)がそれぞれ示されている。ここで、ライン番号によるマスクメモリ(X)/ステータスメモリ(Y)の各領域の判定もしくはステータスメモリ(X)/マスクメモリ(Y)の各領域の判定にはXのライン数XLNUMが用いられる。
In FIG. 4, the start address XSA of the X area, the start address YSA of the Y area, the end address XEA of the X area, the end address YEA of the Y area, the X address XA, and the Y address YA are described. . Here, the mask addresses XMADR and YMADR for the X and Y lines are expressed by the following equations (1) and (2), respectively.
XMADR = XA-XSA (1)
YMADR = YA-YSA + (XEA-XSA + 1)
= YA-YSA + XLNUM (2)
FIG. 5 shows a mask memory (X) / status memory (Y) and a status memory (X) / mask memory (Y), respectively. Here, the line number XLNUM of X is used for determining each area of the mask memory (X) / status memory (Y) by line number or determining each area of the status memory (X) / mask memory (Y).

次に、本発明の実施形態にかかる半導体メモリ試験装置の動作について説明する。第1にマスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)からのデータの読出し時の動作内容を示す。ここで、入力の信号WREQ、Status/Mask、Copy/Normalはすべて「L」に設定されている。信号XMADR、YMADRでそれぞれマスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)の読出しラインアドレスが入力され、選択器ADRSEL1、ADRSEL2の端子Aにそれぞれ入力される。選択器ADRSEL1、ADRSEL2では端子に経路選択がなされ、端子YからデュアルポートメモリM1、M2のリードアドレス端子RADRE1、RADRE2に入力される。 Next, the operation of the semiconductor memory test apparatus according to the embodiment of the present invention will be described. First, the operation contents at the time of reading data from the mask memory (X) and the mask memory (Y) are shown. Here, the input signals WREQ, Status / Mask, and Copy / Normal are all set to “L”. The read line addresses of the mask memory (X) and the mask memory (Y) are input by signals XMADR and YMADR, respectively, and input to the terminals A of the selectors ADRSEL1 and ADRSEL2, respectively. In the selectors ADRSEL1 and ADRSEL2, a path is selected for the terminal A , and the signal is input from the terminal Y to the read address terminals RADRE1 and RADRE2 of the dual port memories M1 and M2.

デュアルポートメモリM1、M2では対応するアドレスのマスクメモリのデータがそれぞれリードデータ端子RDATA1、RDATA2から信号RDAT1、RDAT2として読み出される。このとき、信号RDAT1、RDAT2のNOR出力と、サーチ時の外部からの信号FailDataとのAND出力がマスク後のフェイル情報として出力される。  In the dual port memories M1 and M2, the data in the mask memory at the corresponding address is read as signals RDAT1 and RDAT2 from the read data terminals RDATA1 and RDATA2, respectively. At this time, an AND output of the NOR outputs of the signals RDAT1 and RDAT2 and the signal FailData from the outside at the time of search is output as fail information after masking.

図6は、マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)からのデータの読出し時の各信号のタイミングチャートである。図6の例は各デュアルポートメモリのレイテンシが1の場合のものである。図6のように信号WREN1、WREN2については「L」のままで、クロック信号CLKに同期した形でリードアドレスの信号RADR1、RADR2が入力され、1クロック遅れてリードデータの信号RDAT1、RDAT2が読み出されている。  FIG. 6 is a timing chart of signals at the time of reading data from the mask memory (X) and the mask memory (Y). The example of FIG. 6 is for the case where the latency of each dual port memory is 1. As shown in FIG. 6, the signals WREN1 and WREN2 remain “L”, read address signals RADR1 and RADR2 are input in synchronization with the clock signal CLK, and read data signals RDAT1 and RDAT2 are read one clock later. Has been issued.

次に、マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)へのデータの書き込み時の動作内容を示す。ここで、入力の信号Status/Mask、Copy/Normalは「L」に設定されている。信号WREQはデータ書き込み時に「H」になる。図1では、マスクメモリ(X)書き込み時にはライトイネーブル信号WREN1が、またマスクメモリ(Y)書き込み時にはライトイネーブル信号WREN2がアクティブになり、それぞれデュアルポートメモリM1、M2のライトイネーブル端子WEN1、WEN2に入力される。  Next, operation contents at the time of writing data to the mask memory (X) and the mask memory (Y) will be described. Here, the input signals Status / Mask and Copy / Normal are set to “L”. The signal WREQ becomes “H” when data is written. In FIG. 1, the write enable signal WREN1 becomes active when writing to the mask memory (X), and the write enable signal WREN2 becomes active when writing to the mask memory (Y), and is input to the write enable terminals WEN1 and WEN2 of the dual port memories M1 and M2, respectively. Is done.

信号LINEからは、マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)のライン番号が入力されデュアルポートメモリM1、M2のライトアドレス端子WADRE1、WADRE2にそれぞれ入力される。また、信号WDATA1、WDATA2が選択器DATSEL1、DATSEL2の端子Aに入力され、選択器DATSEL1、DATSEL2内で端子Yに経路選択される。ここで選択器DATSEL1、DATSEL2から、ライトデータがそれぞれデュアルポートメモリM1、M2のライトデータ端子WDATA1、WDATA2に入力される。デュアルポートメモリM1、M2では対応するライン番号のアドレスに入力データが書き込まれる。また、ステータスメモリに書き込まれる場合についても、信号LINE、WREN1、WREN2及び選択器の経路設定が異なる以外は同様の動作を行う。  From the signal LINE, the line numbers of the mask memory (X) and the mask memory (Y) are input and input to the write address terminals WADRE1 and WADRE2 of the dual port memories M1 and M2, respectively. The signals WDATA1 and WDATA2 are input to the terminals A of the selectors DATSEL1 and DATSEL2, and are routed to the terminal Y in the selectors DATSEL1 and DATSEL2. Here, the write data is input from the selectors DATSEL1 and DATSEL2 to the write data terminals WDATA1 and WDATA2 of the dual port memories M1 and M2, respectively. In the dual port memories M1 and M2, input data is written to the address of the corresponding line number. Also, when writing to the status memory, the same operation is performed except that the signal LINE, WREN1, WREN2 and the selector path setting are different.

図7は、マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)データの書き込み時の各信号のタイミングチャートである。図7の例は各デュアルポートメモリのレイテンシが1の場合のものである。図7のように信号WREN1、WREN2が「H」になったタイミングで入力されたライトアドレス信号WADR1、WADR2、ライトデータ信号WDAT1、WDAT2が、1クロック遅れてそれぞれデュアルポートメモリM1、M2に格納される。  FIG. 7 is a timing chart of signals at the time of writing the mask memory (X) and mask memory (Y) data. The example of FIG. 7 is for the case where the latency of each dual port memory is 1. As shown in FIG. 7, the write address signals WADR1 and WADR2 and the write data signals WDAT1 and WDAT2 inputted at the timing when the signals WREN1 and WREN2 become “H” are respectively stored in the dual port memories M1 and M2 with a delay of one clock. The

次に、ステータスメモリからマスクメモリへのデータコピー時のステータスメモリ読み出しの動作内容を示す。ここで、入力の信号Status/Mask、Copy/Normalは「H」に設定されている。信号WREQはデータ書き込み時に「H」になる。図1では、信号LINEで読み出すステータスメモリのアドレスが入力され、ステータスメモリ(X)を読み出す時は選択器ADRSELの端子Bに、ステータスメモリ(Y)を読み出す時は選択器ADRSELの端子Bに入力される。 Next, the operation contents of reading the status memory when copying data from the status memory to the mask memory are shown. Here, the input signals Status / Mask and Copy / Normal are set to “H”. The signal WREQ becomes “H” when data is written. In FIG. 1, the address of the status memory read by the signal LINE is input. When reading the status memory (X), the terminal B of the selector ADRSEL 2 is read. When reading the status memory (Y), the terminal B of the selector ADRSEL 1 is read. Is input.

信号ASEL2、ASEL1がアクティブになることで選択器ADRSEL2、ADRSEL1が端子に経路選択され端子Yから、リードアドレスがデュアルポートメモリM1、M2のリードアドレス端子RADRE2、RADRE1に入力される。デュアルポートメモリM1、M2では対応するアドレスのステータスメモリのデータがそれぞれリードデータ端子RDATA1、RDATA2から信号RDAT1、RDAT2として読み出される。 Signal ASEL2, ASEL1 selector by becomes active ADRSEL2, ADRSEL1 is routed to terminal B, and terminal Y, the input read address to the read address terminal RADRE2, RADRE1 the dual port memory M1, M2. In the dual port memories M1 and M2, the data in the status memory at the corresponding addresses are read as signals RDAT1 and RDAT2 from the read data terminals RDATA1 and RDATA2, respectively.

次に、ステータスメモリからマスクメモリへのデータコピー時のマスクメモリ書き込みの動作内容を示す。信号DSEL2、DSEL1がアクティブになることで選択器DATSEL2、DATSEL1が端子から端子に経路選択される。ここで読み出された信号RDAT1、RDAT2はデュアルポートメモリM2、M1のライトデータ端子WDATA2、WDATA1にそれぞれ入力される。また、信号LINEから書き込み先のアドレスがデュアルポートメモリM2、M1のライトアドレス端子WADRE2、WADRE1に入力される。デュアルポートメモリM2、M1のデータ書き込みタイミングで信号WREN2、WREN1がそれぞれアクティブになる。 Next, operation contents of mask memory writing at the time of copying data from the status memory to the mask memory will be described. When the signals DSEL2 and DSEL1 are activated, the selectors DATSEL2 and DATSEL1 are routed from the terminal A to the terminal B. The signals RDAT1 and RDAT2 read here are input to the write data terminals WDATA2 and WDATA1 of the dual port memories M2 and M1, respectively. Further, the write destination address is input from the signal LINE to the write address terminals WADRE2 and WADRE1 of the dual port memories M2 and M1. The signals WREN2 and WREN1 become active at the data write timing of the dual port memories M2 and M1, respectively.

図8は、ステータスメモリからマスクメモリへのデータコピー時の各信号のタイミングチャートである。図8の例は各デュアルポートメモリのレイテンシが1の場合のものである。図8のようにリードアドレス信号RADR1、RADR2が入力された1クロック後にリードデータ信号RDAT1、RDAT2が読み出され、読み出されたものと同一タイミングで、信号WREN1、WREN2が「H」に、またライトアドレス信号WADR2、WADR1、ライトデータ信号WDAT2、WDAT1が出力された後、1クロック遅れてライトデータ信号WDAT2、WDAT1がそれぞれデュアルポートメモリM2、M1のマスクメモリに格納される。  FIG. 8 is a timing chart of each signal when copying data from the status memory to the mask memory. The example of FIG. 8 is for the case where the latency of each dual port memory is 1. As shown in FIG. 8, the read data signals RDAT1 and RDAT2 are read one clock after the read address signals RADR1 and RADR2 are input, and the signals WREN1 and WREN2 are set to “H” at the same timing as the read data signals. After the write address signals WADR2 and WADR1 and the write data signals WDAT2 and WDAT1 are output, the write data signals WDAT2 and WDAT1 are stored in the mask memories of the dual port memories M2 and M1, respectively, one clock later.

また、図9〜図11に示すように、メモリ内容の消去に関しては、本実施形態の半導体メモリ試験装置でライトデータをゼロ固定したままでアドレスをインクリメントすることにより、ステータスメモリ・マスクメモリを一括あるいは個別にクリアできる。これによりメモリ消去が高速に実行できる。  Further, as shown in FIGS. 9 to 11, regarding the erasure of the memory contents, the status memory and the mask memory are collectively set by incrementing the address while the write data is fixed at zero in the semiconductor memory test apparatus of the present embodiment. Or it can be cleared individually. As a result, the memory can be erased at high speed.

このように、デュアルポートメモリ内のステータスメモリ・マスクメモリを入れ子構造にしたことにより下記の効果が得られる。選択器により、書き込み対象となる複数のメモリへライトデータを切替え、同メモリへのライトリクエスト信号を同時にイネーブルにすることで、マスクメモリ・ステータスメモリのいずれのメモリへも同時に書き込みアクセスが可能になる。さらに、例えば被試験メモリのサーチ領域のX方向のセルが拡大し、Y方向のセルが縮小したときにはX方向のステータスメモリ・マスクメモリを拡大し、Y方向のステータスメモリ・マスクメモリを縮小する等、XYのサーチ領域の状況に応じてステータスメモリ・マスクメモリを適当な大きさに変更することができる。これにより、メモリ試験時のXYのサーチ領域が限定されず、かつメモリの最大領域までステータス・マスクメモリを過不足なく使用する事ができる。  Thus, the following effects can be obtained by nesting the status memory and mask memory in the dual port memory. By switching write data to multiple memories to be written by the selector and simultaneously enabling write request signals to the same memory, it becomes possible to simultaneously write to any of the mask memory and status memory. . Further, for example, when a cell in the X direction in the search area of the memory under test is expanded and a cell in the Y direction is reduced, the status memory / mask memory in the X direction is expanded, and the status memory / mask memory in the Y direction is reduced. The status memory / mask memory can be changed to an appropriate size in accordance with the situation of the XY search area. Thus, the XY search area at the time of the memory test is not limited, and the status mask memory can be used up to the maximum area of the memory.

図12は、本実施形態にかかる半導体メモリ試験装置の変形例の構成を示す構成図である。図12の半導体メモリ試験装置は、書き込みアドレスを汎用化した時の例である。図1に記載の半導体メモリ試験装置からの変更点は次のようなことである。信号WADR1及びXMADRが選択器SELに入力され信号ASEL1が出力されると共に、信号WADR1が選択器ADRSEL1を介しデュアルポートメモリM1のリードアドレス端子RADRに入力される。また、それとは別個に信号WADR2及びYMADRが選択器SELに入力され信号ASEL2が出力されると共に、信号WADR2が選択器ADRSEL2を介しデュアルポートメモリM2のリードアドレス端子RADRに入力される。  FIG. 12 is a configuration diagram showing a configuration of a modified example of the semiconductor memory test apparatus according to the present embodiment. The semiconductor memory test apparatus of FIG. 12 is an example when the write address is generalized. The changes from the semiconductor memory test apparatus shown in FIG. 1 are as follows. The signals WADR1 and XMADR are input to the selector SEL and the signal ASEL1 is output, and the signal WADR1 is input to the read address terminal RADR of the dual port memory M1 via the selector ADRSEL1. Separately, the signals WADR2 and YMADR are input to the selector SEL and the signal ASEL2 is output, and the signal WADR2 is input to the read address terminal RADR of the dual port memory M2 via the selector ADRSEL2.

よって、ステータス/マスクメモリのライン番号の信号がデュアルポートメモリM1、M2毎に設定できるようになる。図12の半導体メモリ試験装置の動作については、デュアルポートメモリM1、M2のマスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)の読出しラインアドレスである信号XMADR、YMADRをそれぞれ入力する以外は上記の図1の実施形態と同様である。  Therefore, the signal of the line number of the status / mask memory can be set for each of the dual port memories M1 and M2. The operation of the semiconductor memory test apparatus of FIG. 12 is the same as that of FIG. 1 except that the signals XMADR and YMADR which are read line addresses of the mask memory (X) and the mask memory (Y) of the dual port memories M1 and M2 are input, respectively. This is the same as the embodiment.

尚、X、Yアドレスのように2次元のパラメータを有し、かつ2つの情報をメモリに格納して利用するようなケースでは、本構成のように2次元のパラメータと機能種類との関係をもつメモリを構成することで、2つのパラメータについてアクセスの同時性や独立性を保ちつつメモリの容量を無駄なく使用する事が可能である。これにより、コスト低減や高速化などが可能であり、半導体試験装置などについて同様の構成により応用することが可能である。  In the case of having two-dimensional parameters such as X and Y addresses and storing and using two pieces of information in a memory, the relationship between the two-dimensional parameters and the function types is as shown in this configuration. By configuring the memory, it is possible to use the memory capacity without waste while maintaining the simultaneity and independence of access for the two parameters. Thereby, cost reduction and speeding-up can be achieved, and it is possible to apply a semiconductor test apparatus or the like with a similar configuration.

本発明の実施形態にかかる半導体メモリ試験装置の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the semiconductor memory test apparatus concerning embodiment of this invention. 本発明の実施形態にかかる半導体メモリ試験装置のデュアルメモリ内のメモリ構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the memory structure in the dual memory of the semiconductor memory test apparatus concerning embodiment of this invention. 本実施形態にかかる半導体メモリ試験装置の前段に配置されるマスクメモリアドレス変換回路の一例である。It is an example of a mask memory address conversion circuit arranged in the previous stage of the semiconductor memory test apparatus according to the present embodiment. マスクメモリアドレスのアドレス対応関係を示す図である。It is a figure which shows the address correspondence of a mask memory address. XYのアドレスとLine番号とのアドレス対応関係をグラフ表示した図である。It is the figure which displayed the address correspondence of XY address and Line number as a graph. マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)データの読出し時の各信号のタイミングチャートである。It is a timing chart of each signal at the time of reading of mask memory (X) and mask memory (Y) data. マスクメモリ(X)、マスクメモリ(Y)データの書き込み時の各信号のタイミングチャートである。It is a timing chart of each signal at the time of writing of mask memory (X) and mask memory (Y) data. ステータスメモリからマスクメモリへのデータコピー時の各信号のタイミングチャートである。It is a timing chart of each signal at the time of data copy from a status memory to a mask memory. マスクメモリのメモリ内容の消去時の動作内容を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement content at the time of the erasure | elimination of the memory content of a mask memory. ステータスメモリのメモリ内容の消去時の動作内容を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement content at the time of the erasure | elimination of the memory content of a status memory. マスクメモリ・ステータスメモリのメモリ内容の一括消去時の動作内容を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement content at the time of the batch erase of the memory content of a mask memory and a status memory. 本実施形態にかかる半導体メモリ試験装置の変形例の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the modification of the semiconductor memory test apparatus concerning this embodiment. ステータスメモリと被試験メモリのメモリサーチ領域との対応関係を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a correspondence relationship between a status memory and a memory search area of a memory under test. マスクメモリと被試験メモリのメモリサーチ領域との対応関係を示した図である。FIG. 4 is a diagram showing a correspondence relationship between a mask memory and a memory search area of a memory under test. 従来技術のステータスメモリ、マスクメモリをX、Yライン用に個別に用意した一例を示した図である。It is the figure which showed an example which prepared the status memory and mask memory of the prior art separately for X and Y lines. 従来技術のステータスメモリ、マスクメモリを1つのメモリに配置し、1/2の容量でXY各ラインのアドレスを分け合って確保した例を示す図である。It is a figure which shows the example which has arrange | positioned and secured the address of each XY line with the capacity | capacitance of 1/2, arrange | positioning the status memory and mask memory of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

M1、M2…デュアルポートメモリ、 DATSEL1、ADRSEL1、DATSEL2、ADRSEL2、SEL…選択器、 A…AND素子、 R…NOR素子   M1, M2 ... dual port memory, DATSEL1, ADSSEL1, DATSEL2, ADSSEL2, SEL ... selector, A ... AND element, R ... NOR element

Claims (1)

メモリ試験時の不良セルをロウライン及びカラムラインの2方向について計数して、計数結果から不良ラインの判定を行う半導体メモリ試験装置において、
前記ロウラインについての不良ライン情報が記憶された第1のステータス領域と、前記カラムラインについて計数不要のラインの情報が記憶された第1のマスク領域とが、前記第1のステータス領域が先でかつアドレスが連続するように配置された第1の記憶手段と、
前記ロウラインについて計数不要のラインの情報が記憶された第2のマスク領域と、前記カラムラインについての不良ライン情報が記憶された第2のステータス領域とが、前記第2のマスク領域が先でかつアドレスが連続するように配置された第2の記憶手段と、
前記第2の記憶手段の読出し端子からの出力データを前記第1の記憶手段の書き込み端子に入力する第1の転送手段と、
前記第1の記憶手段の読出し端子からの出力データを前記第2の記憶手段の書き込み端子に入力する第2の転送手段と
を具備する事を特徴とする半導体メモリ試験装置。
In a semiconductor memory testing apparatus that counts defective cells at the time of a memory test in two directions of a row line and a column line and determines a defective line from the counting result.
A first status area in which defective line information for the row line is stored, a first mask area in which information on a line that does not need to be counted for the column line is stored , and the first status area is first. First storage means arranged so that addresses are continuous ;
A second mask area in which information of lines not requiring counting for the row line is stored, a second status area in which defective line information for the column line is stored , and the second mask area is first. Second storage means arranged so that the addresses are continuous ;
First transfer means for inputting output data from a read terminal of the second storage means to a write terminal of the first storage means;
2. A semiconductor memory test apparatus comprising: second transfer means for inputting output data from a read terminal of the first storage means to a write terminal of the second storage means .
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