JP4927338B2 - STAGE DEVICE, GANTRY TYPE STAGE DEVICE, AND STAGE DEVICE CONTROL METHOD - Google Patents
STAGE DEVICE, GANTRY TYPE STAGE DEVICE, AND STAGE DEVICE CONTROL METHOD Download PDFInfo
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Description
本発明はテーブルの上方に横架されたビームがテーブル上面と平行となるように調整されるステージ装置及びガントリ型ステージ装置及びステージ装置の制御方法に関する。 The present invention relates to a stage device, a gantry-type stage device, and a method for controlling the stage device that are adjusted so that a beam horizontally placed above a table is parallel to the upper surface of the table.
例えば、ガントリ型ステージ装置と呼ばれるステージ装置では、基板が載置されるテーブルの上方にビームが横架されており、テーブルまたはビームの何れか一方をY方向(水平方向)に移動させて所定の作業(加工や検査など)を行うように構成されている(例えば、特許文献1参照)。 For example, in a stage apparatus called a gantry type stage apparatus, a beam is laid horizontally above a table on which a substrate is placed, and either one of the table or the beam is moved in the Y direction (horizontal direction) to obtain a predetermined value. It is configured to perform work (processing, inspection, etc.) (see, for example, Patent Document 1).
この種のステージ装置では、ビームに各種加工用治具や検査用ユニットなどを取り付けており、テーブルに載置された基板に対する加工や検査を行うように動作制御される。そして、テーブルに対するビームの高さ位置は、ビームの両端を昇降可能に支持する昇降機構によって調整される。
上記従来のステージ装置では、ビームの両端部がボールねじ機構を介して昇降可能に支持される構成であるため、例えば、基板の大型化に伴ってビームの全長が長くなると、ボールねじ機構にかかる荷重も増大することになり、ボールねじ機構だけでは高精度に位置決めすることが難しい。 In the conventional stage apparatus, since both ends of the beam are supported so as to be movable up and down via the ball screw mechanism, for example, when the total length of the beam becomes longer as the substrate becomes larger, the ball screw mechanism is applied. The load also increases, and it is difficult to position with high accuracy only by the ball screw mechanism.
また、基板の面積が大きくなるのに対応してテーブルも大型化するため、テーブル上面の平面度を高精度に加工することが難しく、基板搬送方向と直交するX方向の微小な傾きがテーブル表面に発生した場合、ビームがテーブル上面に対して平行になるように高さ調整を行う際に大きな荷重がかかると、ボールねじ機構の構造上の精度的ばらつきによってビームの平行度を正確に保つことが難しい。 In addition, since the table becomes larger as the area of the substrate increases, it is difficult to process the flatness of the table top surface with high accuracy, and a slight inclination in the X direction perpendicular to the substrate transport direction causes the table surface If a large load is applied when the height is adjusted so that the beam is parallel to the top surface of the table, the accuracy of the parallelism of the beam will be maintained due to variations in the structure of the ball screw mechanism. Is difficult.
そこで、本発明は上記課題を解決したステージ装置及びガントリ型ステージ装置及びステージ装置の制御方法を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a stage apparatus, a gantry type stage apparatus, and a control method for the stage apparatus that have solved the above problems.
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。 In order to solve the above problems, the present invention has the following means.
請求項1の発明は、テーブルと、該テーブルの上方に横架されたビームを有するガントリ部と、を有するガントリ型ステージ装置において、前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整する一対のZ軸調整機構を前記ガントリ部に設け、前記一対のZ軸調整機構は、該ビームの両端部が前記一対のZ軸駆動機構によりZ軸方向に移動するのに伴って前記ビームの両端部が上下方向に回動するように回動可能に支持する一対の回動支持部と、前記ビームの両端部がZ軸方向に移動するのに伴って前記ビームの両端部が上下方向に回動する際に、前記一対の回動支持部のうち何れか一方が前記ビームの延在方向にスライドするように当該一方の回動支持部をスライド可能に支持するスライド部と、を有し、前記ビームと前記テーブル上面との距離を検出する一対の検出手段と、該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記一対のZ軸駆動機構を駆動させる制御手段と、前記一対の検出手段により前記テーブルのY軸方向に対する各Y方向位置での前記ビームと前記テーブル上面とのZ軸方向の距離を計測した際、当該Z軸方向の計測値を記憶する記憶手段と、を備え、前記制御手段は、前記テーブルを水平方向に移動させながら前記記憶手段に記憶されたZ軸方向の計測値に基づき前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端部の高さ位置を制御することを特徴とする。
The invention according to claim 1 is a gantry type stage device having a table and a gantry section having a beam horizontally mounted above the table, wherein both ends of the beam are arranged so that the beam is parallel to the upper surface of the table. A pair of Z-axis adjustment mechanisms for adjusting the height position are provided in the gantry, and the pair of Z-axis adjustment mechanisms are arranged so that both ends of the beam are moved in the Z-axis direction by the pair of Z-axis drive mechanisms. Accordingly, a pair of rotation support portions that rotatably support the both ends of the beam so as to rotate in the vertical direction, and both ends of the beam as the both ends of the beam move in the Z-axis direction. A sliding portion that slidably supports one of the pair of rotation support portions so that one of the pair of rotation support portions slides in the beam extending direction when the portion rotates in the vertical direction. And having A pair of detection means for detecting a distance serial beam and said table top, and a control means for driving the pair of Z-axis driving mechanism so that the detected value by the pair of detecting means are equal, the pair of detecting means Storage means for storing a measurement value in the Z-axis direction when measuring the distance in the Z-axis direction between the beam and the upper surface of the table at each Y-direction position with respect to the Y-axis direction of the table, The control means moves the table in the horizontal direction and sets the height positions of both ends of the beam so that the beam is parallel to the upper surface of the table based on the measured value in the Z-axis direction stored in the storage means. It is characterized by controlling.
請求項2の発明は、テーブルを水平方向に移動させる工程と、前記テーブルを水平方向に移動させながら前記テーブルの上方に対向するように設けられたビームと前記テーブルとの距離を計測し、各Y方向位置での計測結果を記憶する工程と、前記テーブルを水平方向に移動させながら前記計測結果に基づいて一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整すると共に、前記ビームの両端部が上下方向に回動する際に、前記ビームの両端部のうち何れか一方が前記ビームの延在方向にスライドする工程と、を有することを特徴とする。The invention of claim 2 measures the distance between the step of moving the table in the horizontal direction, the beam provided so as to face the upper side of the table while moving the table in the horizontal direction, and the table. The step of storing the measurement result at the position in the Y direction and the beam parallel to the upper surface of the table so that the detection values by the pair of detection means are equal based on the measurement result while moving the table in the horizontal direction. Adjusting the height positions of both ends of the beam as described above, and sliding either of the both ends of the beam in the extending direction of the beam when the both ends of the beam rotate in the vertical direction. It is characterized by having.
本発明によれば、一対の回動支持部によりビームの両端部が一対のZ軸駆動機構によりZ軸方向に移動するのに伴ってビームの両端部が上下方向に回動するように回動可能に支持すると共に、ビームの両端部がZ軸方向に移動するのに伴ってビームの両端部が上下方向に回動する際に、一対の回動支持部のうち何れか一方がビームの延在方向にスライドするように当該一方の回動支持部をスライド可能に支持するため、Z軸駆動機構によりビームの高さ位置を調整してテーブル上面に対するビームの平行度を正確に保つように調整することが可能になり、特にテーブルの大型化に伴うテーブル平面度の微小な傾きにもビームの高さ位置を微調整してテーブル上面に対するビームの平行度を高精度に維持することができる。 According to the present invention, the both ends of the beam are rotated by the pair of rotation support portions so that the both ends of the beam are rotated in the vertical direction as the pair of Z-axis driving mechanisms are moved in the Z-axis direction. When both ends of the beam rotate in the vertical direction as the both ends of the beam move in the Z-axis direction, either one of the pair of rotation support portions can extend the beam. In order to slidably support the one rotation support portion so as to slide in the present direction, the height of the beam is adjusted by the Z-axis drive mechanism so that the parallelism of the beam with respect to the table upper surface is accurately maintained. In particular, it is possible to finely adjust the height position of the beam even with a slight inclination of the table flatness accompanying the increase in the size of the table, so that the parallelism of the beam with respect to the upper surface of the table can be maintained with high accuracy.
また、本発明によれば、ビームの荷重を支えるシリンダと、シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有するため、ビームの荷重が増大してもZ軸駆動機構の負担を軽減して荷重増大による精度的なばらつきをなくすことができる。 In addition, according to the present invention, since the cylinder for supporting the beam load and the pressure adjusting means for keeping the pressure in the cylinder constant are provided, the load on the Z-axis drive mechanism is reduced even if the beam load increases. Accurate variations due to increased load can be eliminated.
また、本発明によれば、テーブルを水平方向に移動させる水平方向駆動手段を有するため、ビームを移動させるよりもテーブル上に載置された基板とビームとの平行度をより精密に確保することができる。 In addition, according to the present invention, since the horizontal driving means for moving the table in the horizontal direction is provided, the parallelism between the substrate placed on the table and the beam can be ensured more precisely than when the beam is moved. Can do.
また、本発明によれば、一対のZ軸駆動機構がボールねじ機構を介してビームを昇降させるため、テーブル上面に対するビームの平行度を精密に調整することが可能になり、且つボールねじ機構にビームの全ての荷重が作用しないように構成してあり、ボールねじ機構により構造的なばらつきがビームの平行度に影響しないようにできる。 Further, according to the present invention, since the pair of Z-axis drive mechanisms raise and lower the beam via the ball screw mechanism, the parallelism of the beam with respect to the table upper surface can be precisely adjusted, and the ball screw mechanism All the loads of the beam are not applied, and the ball screw mechanism can prevent structural variations from affecting the parallelism of the beam.
また、本発明によれば、ビームがテーブル上面と平行となるようにビームの両端高さ位置を調整する一対のZ軸調整機構をガントリ部に設け、一対のZ軸調整機構は、ビームの両端部が一対のZ軸駆動機構によりZ軸方向に移動するのに伴ってビームの両端部が上下方向に回動するように回動可能に支持する一対の回動支持部と、ビームの両端部がZ軸方向に移動するのに伴ってビームの両端部が上下方向に回動する際に、一対の回動支持部のうち何れか一方がビームの延在方向にスライドするように当該一方の回動支持部をスライド可能に支持するスライド部とを有するため、テーブル上面に対するビームの平行度を正確に保つように調整することが可能になり、特にテーブルの大型化に伴うテーブル平面度の微小な傾きにもビームの高さ位置を微調整してテーブル上面に対するビームの平行度を高精度に維持することができる。 In addition, according to the present invention, the pair of Z-axis adjustment mechanisms that adjust the height positions of both ends of the beam so that the beam is parallel to the table top surface are provided in the gantry section, and the pair of Z-axis adjustment mechanisms are provided at both ends of the beam. A pair of rotation support portions that rotatably support the beam so that both ends of the beam rotate in the vertical direction as the portion moves in the Z-axis direction by the pair of Z-axis drive mechanisms, and both ends of the beam As both ends of the beam pivot in the vertical direction as the beam moves in the Z-axis direction, either one of the pair of pivot support portions slides in the beam extending direction. It has a slide part that slidably supports the rotation support part, so that it can be adjusted so that the parallelism of the beam with respect to the table upper surface is accurately maintained. The height of the beam It is possible to maintain the parallelism of the beam relative to the table top with high precision fine adjustment of the location.
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は本発明になるステージ装置の一実施例を示す正面図である。図2はステージ装置の側面図である。図1及び図2に示されるように、ステージ装置10は、ワークとしての基板(図中、破線で示す)11を水平方向に移動させるガントリ型と呼ばれているステージ装置であり、基礎に固定されたベース12と、ベース12上にY方向に移動可能に設けられたテーブル14と、ベース12上に固定された門型のガントリ部16と、テーブル14のY方向への移動制御及びガントリ部16のZ方向の高さ調整制御を行う制御装置(制御手段)17とを有する。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a stage apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a side view of the stage apparatus. As shown in FIGS. 1 and 2, the
テーブル14は、上面が基板11を載置される載置面となっている。また、テーブル14は、上面に基板11を真空吸着するための小孔(図示せず)が多数設けられており、真空ポンプによって基板11との隙間の空気を小孔から吸引して基板11を水平状態にチャッキングするように構成されている。
The table 14 has a top surface on which the
ガントリ部16は、テーブル14の上方に横架されたビーム18と、ビーム18の両端部を支持する一対のZ軸駆動機構20とを有する。また、ビーム18には、テーブル14との距離(Z方向の高さ位置)を計測する一対のZ方向センサ(検出手段)21A,21Bが設けられている。一対のZ方向センサ21A,21Bは、テーブル14の上面のうち基板11が載置される載置領域の外側に形成された余白領域に対向するX方向位置に取り付けられている。
The
このZ方向センサ21A,21Bとしては、例えば、レーザ光を照射して距離を計測する方式のセンサがある。そして、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測された値が等しくなるようにZ軸駆動機構20を駆動させることによりビーム18がテーブル14の上面と平行状態になる。尚、Z軸駆動機構20の詳細については、後述する。
As the
ベース12とテーブル14との間には、テーブル14を水平方向(Y方向)に移動させるためのY軸駆動機構22が設けられている。このY軸駆動機構22は、Y方向に延在する一対のY方向ガイド24と、X方向を規制するX方向ガイド26と、Y方向リニアモータ(水平方向駆動手段)28と、テーブル14を支持する支持部材30とを有する。
A Y-
支持部材30は、ベース12に対向するように設けられた平板状の可動ベース32と、可動ベース32の上面に起立してテーブル14を支持する支柱34を有する。従って、テーブル14は、Y方向リニアモータ28に駆動される可動ベース32と共に、Y方向へ移動する。Y方向リニアモータ28は、X方向ガイド26の上面凹部に固定されたマグネットヨークユニット36と、可動ベース32の下面に取り付けられ、マグネットヨークユニット36に挿入されたコイルユニット38とから構成されたムービングコイル(MC)型リニアモータである。
The
また、可動ベース32の下面には、Y方向ガイド24に対して圧縮空気を噴出させるY方向静圧パッド40と、X方向ガイド26の左右側面に対して圧縮空気を噴出させるX方向静圧パッド42とが設けられている。そのため、可動ベース32は、Y方向静圧パッド40、X方向静圧パッド42からの空気層によってY方向ガイド24及びX方向ガイド26に対して非接触且つ低摩擦で移動するように支持される。
Further, on the lower surface of the
また、Y方向ガイド24あるいはその近傍には、テーブル14のY方向移動位置を計測するY方向リニアスケール(図示せず)が設けられている。このY方向リニアスケールによりテーブル14が初期位置(Y方向基準位置)からどの位置まで移動かを正確に検出することができる。
A Y-direction linear scale (not shown) for measuring the Y-direction movement position of the table 14 is provided at or near the Y-
ここで、ガントリ部16の構成について説明する。図1及び図2に示されるように、ガントリ部16は、テーブル14の左右両側に位置するようにベース12上に固定された一対の支持部材44と、支持部材44上に支持されたZ軸駆動機構20と、Z軸駆動機構20に対してビーム18の両端部を回動可能に支持する一対の回動支持部46と、一方の回動支持部46をX方向にスライド可能に支持するスライド部48と、ビーム18の両端部の荷重を支える一対のエアシリンダ50とを有する。
Here, the configuration of the
エアシリンダ50は、Z軸駆動機構20の側面に固定されたシリンダ本体52と、シリンダ本体52より上方に突出するピストンロッド54とを有し、圧力制御部56によりシリンダ本体52の内部の圧力が所定圧力に保たれるように制御されている。また、エアシリンダ50は、ピストンロッド54の上端がビーム18に結合されており、ビーム18の荷重をシリンダ本体52の空気圧により支持するように構成されている。圧力制御部(圧力調整手段)56は、ピストンロッド54に作用する負荷(荷重)に応じた圧力となるようにシリンダ本体52の空気圧を制御しており、例えば、ビーム18に取り付けられた各種加工用治具や検査用ユニットによる荷重増大に対応してシリンダ本体52の空気圧を増大させることによりビーム18の高さ位置を一定に保つように圧力制御を行う。
The
図3はZ軸駆動機構20の内部構造を正面からみた縦断面図である。図4はZ軸駆動機構20の内部構造を側面からみた縦断面図である。図3及び図4に示されるように、Z軸駆動機構20は、支持部材44上に固定されたZ軸ベース60と、Z軸ベース60に中心線に沿うように装架されたボールねじ62と、ボールねじ62に螺合されたナット64と、ボールねじ62に回転駆動力を付与するZ軸駆動モータ66と、ビーム18の背面に結合されるZ軸テーブル68と、Z軸テーブル68の昇降動作をガイドする一対のZ軸リニアガイド70とを有する。Z軸ベース60は、側方からみるとコ字状に形成されており、垂直方向(Z方向)に起立する起立部60aと、起立部60aの上端より水平方向に突出する上部60bと、起立部60aの下端より水平方向に突出し支持部材44上に固定される下部60cとを有する。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the internal structure of the Z-
ボールねじ62は、上下方向(Z軸方向)に延在した状態でZ軸ベース60の起立部60aに設けられた一対のボールねじサポート72により回転可能に軸承されており、上端にはカップリング74が連結されている。Z軸駆動モータ66は、下方(Z軸方向)に延在する回転軸76を有し、Z軸ベース60の上部60bに垂直状態に取り付けられている。また、Z軸駆動モータ66に駆動された回転軸76の回転は、カップリング74を介してボールねじ62に伝達される。
The ball screw 62 is rotatably supported by a pair of ball screw supports 72 provided on an
ボールねじ62に螺合されたナット64は、Z軸テーブル68に結合されており、ボールねじ62の回転方向によって昇降する。また、Z軸テーブル68の背面には、Z軸リニアガイド70を摺動するリニアブロック78に結合されており、Z軸テーブル68はナット64がボールねじ62の回転と共に昇降する際にZ軸リニアガイド70にガイドされる。
The
さらに、一対のZ軸テーブル68の前面には、ビーム18が結合されている。よって、ビーム18は、上記Z軸駆動機構20により上下方向に駆動されるZ軸テーブル68の昇降位置によってZ軸方向の位置が変化し、Z軸テーブル68に設けられたリニアスケール(図示せず)によりテーブル14の上面(またはテーブル14に載置された基板11)に対する離間距離が一定となるように高さ位置が調整される。
Further, the
尚、回転軸76の回転角は、ビーム18のZ方向の移動距離に比例するため、上記のようにZ軸テーブル68にリニアスケールを設けず、回転軸76の回転角を検出する回転角検出センサ(図示せず)をZ軸駆動モータ66に内蔵させ、回転角を制御することによりビーム18の高さ位置を正確に調整することも可能である。
The rotation angle rotation angle of the
ここで、上記ビーム18の両端部と一対のZ軸駆動機構20との間を連結する回動支持部46、スライド部48の構造について説明する。図5は回動支持部46、スライド部48を正面図である。図6は図5中A−A線に沿う回動支持部46、スライド部48の縦断面図である。尚、本実施例では、ビーム18の右端が回動支持部46、スライド部48に連結され、ビーム18の左端が回動支持部46に連結されている。すなわち、スライド部48は、ビーム18の両端のうち何れか一方(本実施例では、右端)のみに設けられている。
Here, the structure of the
図5及び図6に示されるように、ビーム18の端部には、回動支持部46のロータリテーブル80が設けられ、このロータリテーブル80の内周にはロータリベアリング82が回転可能に嵌合されている。そして、ロータリベアリング82の内周には、軸84が貫通されており、軸84に対してビーム18の端部が回動可能に支持されている。また、ロータリベアリング82より前方に突出した軸84の端部は、ロータリベアリング82の内輪の側面を覆う円形のカバー86が設けられている。また、ビーム18の前面には、ロータリベアリング82の外輪の側面を覆うリング状のカバー88が取り付けられている。
As shown in FIGS. 5 and 6, a rotary table 80 of the
軸84の基端は、X方向に摺動するスライダ90と一体的に設けられている。スライダ90は、右側からみると、断面形状がコ字状に形成されており、Z軸テーブル68に対向する垂直板90aと、垂直板90aの上下端部から後方に曲げられた摺動部90b、90cとを有する。そして、Z軸テーブル68の前面には、スライダベース92が固定され、且つスライダベース92の端部には、摺動部90b、90cをX方向に摺動可能に支持するクロスローラガイド94が設けられている。
The base end of the
従って、ビーム18の右端は、ロータリベアリング82と軸84により回動可能に支持され、且つスライダ90とクロスローラガイド94によりX方向にスライド可能に支持されている。尚、ビーム18の左端は、図示していないが上記ロータリベアリング82と軸84により回動可能に支持されている。
Accordingly, the right end of the
このように、ビーム18は、両端が回動可能に支持され、ビーム18の一端がスライド可能に支持されているため、一対のZ軸駆動機構20により両端の高さ位置が調整される際にZ軸駆動機構20に対して回動できると共に、回動支持部46のX方向の位置ずれがスライド部48の摺動動作により吸収される。
Thus, since both ends of the
本実施例の制御装置17では、Z方向センサ21A,21Bの検出結果に基づき第1の制御方法(記憶式ならい制御)と第2の制御方法(リアルタイム制御)の何れかを実行するように設定されている。第1の制御方法(記憶式ならい制御)では、基板11をテーブル14に載置し、予めZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値を記憶させる。そして、実際の制御動作を行なうときには、記憶された高さ計測値に基づきビーム18がテーブル14上面と平行となるようにビーム18の両端高さ位置を制御する。
The
また、第2の制御方法(リアルタイム制御)では、テーブル14に基板11を載置した状態でZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この検出された計測値に基づきビーム18がテーブル14上面と平行となるようにビーム18の両端高さ位置を制御する。
In the second control method (real-time control), the height position of the table 14 in the Y-axis direction is measured by the
ここで、上記制御装置17が実行する第1の制御方法の制御処理について図7及び図8を参照して説明する。図7に示されるように、制御装置17は、ステップS11(以下「ステップ」を省略する)でY方向リニアモータ28のコイルユニット38に電圧を印加してテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。
Here, the control process of the first control method executed by the
次のS12では、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。続いて、S13に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA,HBをメモリ(図示せず)に記憶する。尚、このメモリは、テーブル14のY方向位置に対応するビーム18とテーブル14との距離の計測値(Z方向計測データHA,HB)を格納するデータベースを有する。
In the next S12, the distances (the height position of the
次のS14では、テーブル14がY方向の終端位置まで移動完了したか否かをチェックする。S14において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、上記S11に戻り、テーブル14のY方向への移動及び一対のZ方向センサ21A,21Bによるテーブル14上面との距離を計測する。
In next S14, it is checked whether or not the table 14 has been moved to the end position in the Y direction. In S14, when the table 14 has not reached the end position in the Y direction, the process returns to S11, and the table 14 is moved in the Y direction and the distance from the upper surface of the table 14 by the pair of
また、上記S14において、テーブル14がY方向の終端位置まで移動完了したときは、S15に進み、テーブル14を初期位置に戻す。次のS16では、搬入装置(図示せず)により基板11をテーブル14の上面に搬入する。続いて、S17に進み、基板11をテーブル14上に真空吸着する。
In S14, when the movement of the table 14 to the end position in the Y direction is completed, the process proceeds to S15, and the table 14 is returned to the initial position. In next S <b> 16, the
S18では、Y方向リニアモータ28によりテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。そして、図8に示すS19では、Y方向リニアスケールにより計測されたビーム18に対するテーブル14のY方向位置を読み込む。続いて、S20に進み、メモリに記憶された当該Y方向位置におけるZ方向計測データHA,HBに基づいてHA=H、HB=HとなるようにZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の両端高さ位置を修正し、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18を平行にする。
In S18, the Y-direction
次のS21では、テーブル14がY方向の終端位置に達したか否かをチェックする。上記S21において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、前述したS18に戻り、S18〜S21の制御処理を再度実行する。また、S21において、テーブル14がY方向の終端位置に達した場合には、S22に進み、テーブル14上の基板11を搬出装置(図示せず)により搬出する。その後、S23に進み、停止スイッチ(図示せず)がオンに操作されたか否かをチェックする。S23において、停止スイッチ(図示せず)がオフのときは、上記S15に戻り、S15以降の処理を繰り返す。また、S23において、停止スイッチ(図示せず)がオンに操作されたときは、ステージ装置10を停止状態にして今回の制御処理を終了する。
In the next S21, it is checked whether or not the table 14 has reached the end position in the Y direction. In S21, if the table 14 has not reached the end position in the Y direction, the process returns to S18 described above, and the control processes of S18 to S21 are executed again. In S21, when the table 14 reaches the end position in the Y direction, the process proceeds to S22, and the
このように、第1の制御方法では、予めZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値を記憶させてあるので、実際の作業工程のときには、Y方向位置に対応する計測値を読み込むことにより、テーブル14の上面に対してビーム18の両端高さ位置を修正して平行とすることが可能となる。そのため、ビーム18を常に規定高さ位置でテーブル14の上面と平行状態に保つことができるので、基板11に対する加工や検査を精密に行うことが可能になる。
As described above, in the first control method, the height position of the table 14 with respect to the Y-axis direction is measured in advance by the
ここで、上記制御装置17が実行する第2の制御方法の制御処理について図9及び図10を参照して説明する。図9に示されるように、制御装置17は、S31で、テーブル14を初期位置に戻す。次のS32では、搬入装置(図示せず)により基板11をテーブル14の上面に搬入する。続いて、S33に進み、基板11をテーブル14上に真空吸着する。
Here, the control process of the second control method executed by the
次のS34では、Y方向リニアモータ28によりテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。そして、図10に示すS35では、Y方向リニアスケールにより計測されたビーム18に対するテーブル14のY方向位置を読み込む。続いて、S36に進み、メモリに記憶された当該Y方向位置におけるZ方向計測データHA,HBを読み込む。
In the next S34, the Y-direction
次のS37では、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA,HBが共に予め設定された基準高さHと等しいか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行であり、且つビーム18とテーブル14との距離が規定値であると判断し、S38〜S46の処理を省略して後述するS47に移行する。
In the next S37, it is checked whether or not the Z direction measurement data H A and H B measured by the pair of
また、S37において、HA=H、HB=Hでない場合は、S38に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA>Hか否かをチェックする。このS38において、HA>Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18の左端が上がった状態に傾いているため、S39に進み、左側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の左端をZ方向差分(HA−H)だけ下げる。
In S37, if H A = H and H B = H are not satisfied, the process proceeds to S38, in which it is checked whether or not the Z direction measurement data H A > H measured by the pair of
次のS40では、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。
In the next S40, a pair of Z-
また、上記S38において、HA>Hでない場合は、S41に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA<Hか否かをチェックする。S41において、HA<Hである場合は、ビーム18の左端が下がった状態に傾いているので、S42に進み、左側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の左端をZ方向差分(HA−H)だけ上げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。
In S38, if H A > H is not satisfied, the process proceeds to S41 to check whether or not the Z direction measurement data H A <H measured by the pair of
また、上記S41において、HA<Hでない場合は、S43に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHB>Hか否かをチェックする。このS43において、HB>Hである場合は、ビーム18の右端が上がった状態に傾いているので、S44に進み、右側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の右端をZ方向差分(HB−H)だけ下げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。S37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。
If H A <H is not satisfied in S41, the process proceeds to S43 to check whether or not the Z direction measurement data H B > H measured by the pair of
また、上記S43において、HB>Hでない場合は、S45進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHB<Hか否かをチェックする。このS45において、HB<Hである場合は、ビーム18の右端が下がった状態に傾いているので、S46に進み、右側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の右端をZ方向差分(HB−H)だけ上げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。
In S43, if H B > H is not satisfied, the process proceeds to S45, and it is checked whether or not the Z direction measurement data H B <H measured by the pair of
上記S39,S42,S44,S46では、Z軸駆動モータ66を駆動させてビーム18の高さ位置を調整する際、ビーム18の荷重が、エアシリンダ50により支えられているので、Z軸駆動モータ66及びボールねじ62の負担が小さくなっており、ビーム18の高さ調整を容易且つスムーズに行える。
In S39, S42, S44, and S46, when the height position of the
また、上記S45において、HB<Hでない場合は、ビーム18がテーブル14に対して平行であるとしてS47に進み、テーブル14がY方向の終端位置に達したか否かをチェックする。上記S47において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、前述したS34に戻り、S34以降の処理を再度実行する。また、S47において、テーブル14がY方向の終端位置に達した場合には、S48に進み、テーブル14上の基板11を搬出装置(図示せず)により搬出する。その後、S49に進み、停止スイッチ(図示せず)がオンに操作されたか否かをチェックする。このS49において、停止スイッチ(図示せず)がオフのときは、上記S31に戻り、S31以降の処理を繰り返す。また、S49において、停止スイッチ(図示せず)がオンに操作されたときは、ステージ装置10を停止状態にして今回の制御処理を終了する。
If H B <H is not satisfied in S45, the process proceeds to S47 assuming that the
このように、第2の制御方法では、実際の作業工程のときにテーブル14をY方向に移動させると共にZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値に基づきテーブル14の上面に対してビーム18の両端高さ位置を修正して平行とすることが可能となる。そのため、ビーム18を常に規定高さ位置でテーブル14の上面と平行状態に保つことができるので、基板11に対する加工や検査を精密に行うことが可能になる。
As described above, in the second control method, the table 14 is moved in the Y direction during the actual work process, and the height position of the table 14 in the Y axis direction is measured by the
上記実施例では、Y方向リニアモータ28がテーブル14をY方向に移動させる構成を一例として挙げたが、これに限らず、ガントリ部16をY方向に移動させる構成のステージ装置にも本発明を適用できるのは、勿論である。
In the above embodiment, the configuration in which the Y-direction
また、上記実施例では、Z軸駆動機構20にボールねじを用いた構成を一例として挙げたが、これに限らず、ボールねじ以外の伝達機構を用いても良いのは勿論である。
In the above embodiment, the configuration using the ball screw as the Z-
また、上記実施例では、ビーム18の両端近傍に一対のZ方向センサ21A,21Bを設けた構成を一例として挙げたが、これに限らず、3個以上のZ方向センサ21A,21Bを設け、各センサにより計測された値からテーブル上面の微小な傾きを演算するようにしても良い。
Moreover, in the said Example, although the structure which provided a pair of
また、上記実施例では、図7に示すS12〜S15でテーブル上面の微小な傾きを計測し、基板11がテーブル14に載置された状態ではテーブル上面に対するビーム18の傾きを修正する処理を行ったが、これに限らず、基板11がテーブル14に載置される度にテーブル14に対するビーム18の傾きを計測するようにしても良い。
Further, in the above embodiment, a minute inclination of the table upper surface is measured in S12 to S15 shown in FIG. 7, and the process of correcting the inclination of the
また、上記実施例では、図8に示すS22において、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=HBか否かをチェックしたが、これに限らず、例えば、予め設定された高さ位置をしきい値としてZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データと比較し、ビーム18の両端の高さ位置を個別に調整する方法を用いても良い。
In the above embodiment, step S22 shown in FIG. 8, a pair of Z-
10 ステージ装置
11 基板
12 ベース
14 テーブル
16 ガントリ部
17 制御装置
18 ビーム
20 Z軸駆動機構
21A,21B Z方向センサ
22 Y軸駆動機構
24 Y方向ガイド24
26 X方向ガイド
28 Y方向リニアモータ
30 支持部材
36 マグネットヨークユニット
38 コイルユニット
46 回動支持部
48 スライド部
50 エアシリンダ
56 圧力制御部
60 Z軸ベース
62 ボールねじ
64 ナット
66 Z軸駆動モータ
68 Z軸テーブル
70 Z軸リニアガイド
82 ロータリベアリング
90 スライダ
92 スライダベース
94 クロスローラガイド
DESCRIPTION OF
26 X-direction guide 28 Y-direction
Claims (2)
該テーブルの上方に横架されたビームを有するガントリ部と、
を有するガントリ型ステージ装置において、
前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整する一対のZ軸調整機構を前記ガントリ部に設け、
前記一対のZ軸調整機構は、
該ビームの両端部が前記一対のZ軸駆動機構によりZ軸方向に移動するのに伴って前記ビームの両端部が上下方向に回動するように回動可能に支持する一対の回動支持部と、
前記ビームの両端部がZ軸方向に移動するのに伴って前記ビームの両端部が上下方向に回動する際に、前記一対の回動支持部のうち何れか一方が前記ビームの延在方向にスライドするように当該一方の回動支持部をスライド可能に支持するスライド部と、を有し、
前記ビームと前記テーブル上面との距離を検出する一対の検出手段と、
該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記一対のZ軸駆動機構を駆動させる制御手段と、
前記一対の検出手段により前記テーブルのY軸方向に対する各Y方向位置での前記ビームと前記テーブル上面とのZ軸方向の距離を計測した際、当該Z軸方向の計測値を記憶する記憶手段と、を備え、
前記制御手段は、前記テーブルを水平方向に移動させながら前記記憶手段に記憶されたZ軸方向の計測値に基づき前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端部の高さ位置を制御することを特徴とするガントリ型ステージ装置。 Table,
A gantry section having a beam horizontally placed above the table;
In a gantry type stage apparatus having
A pair of Z-axis adjustment mechanisms for adjusting the height positions of both ends of the beam so that the beam is parallel to the upper surface of the table are provided in the gantry unit,
The pair of Z-axis adjustment mechanisms are:
A pair of rotation support portions that rotatably support the both end portions of the beam so that the both end portions of the beam rotate in the vertical direction as the both end portions of the beam move in the Z-axis direction by the pair of Z-axis drive mechanisms. When,
When both end portions of the beam rotate in the vertical direction as both end portions of the beam move in the Z-axis direction, one of the pair of rotation support portions is the extending direction of the beam. A sliding portion that slidably supports the one rotation support portion so as to slide
A pair of detection means for detecting a distance between the beam and the upper surface of the table;
Control means for driving the pair of Z-axis drive mechanisms so that the detection values by the pair of detection means are equal;
Storage means for storing a measurement value in the Z-axis direction when measuring the distance in the Z-axis direction between the beam and the table upper surface at each Y-direction position with respect to the Y-axis direction of the table by the pair of detection means; With
The control means is configured to move the table in the horizontal direction and based on the measured values in the Z-axis direction stored in the storage means, the height positions of both ends of the beam so that the beam is parallel to the upper surface of the table. A gantry-type stage device characterized by controlling the angle.
前記テーブルを水平方向に移動させながら前記テーブルの上方に対向するように設けられたビームと前記テーブルとの距離を計測し、各Y方向位置での計測結果を記憶する工程と、 Measuring the distance between the table and the beam provided to face the upper side of the table while moving the table in the horizontal direction, and storing the measurement results at each Y-direction position;
前記テーブルを水平方向に移動させながら前記計測結果に基づいて一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整すると共に、前記ビームの両端部が上下方向に回動する際に、前記ビームの両端部のうち何れか一方が前記ビームの延在方向にスライドする工程と、を有することを特徴とするステージ装置の制御方法。 While moving the table in the horizontal direction, the height positions of both ends of the beam are adjusted so that the beam is parallel to the upper surface of the table so that the detection values by a pair of detection means are equal based on the measurement result. And a step of sliding either of the both ends of the beam in the extending direction of the beam when the both ends of the beam rotate in the vertical direction. Method.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104368992B (en) * | 2014-11-07 | 2016-08-31 | 武汉法利普纳泽切割系统有限公司 | Altitude simulation foot device in real time |
CN104965167A (en) * | 2015-07-21 | 2015-10-07 | 深圳市汉匠自动化科技有限公司 | Automatic circuit board detection device |
CN107971926B (en) * | 2017-11-16 | 2024-02-02 | 广东东箭汽车科技股份有限公司 | Workpiece clamping device and workpiece clamping system |
CN108838669B (en) * | 2018-08-28 | 2023-05-02 | 江苏帅兢科技有限公司 | Adjusting device of portal frame of engraving and milling machine |
KR102178139B1 (en) * | 2019-04-15 | 2020-11-12 | 주식회사 트임 | Gantry Apparatus for Process of Plate Pressure Laminating Glass Plate |
KR102411860B1 (en) * | 2019-09-27 | 2022-06-23 | 가부시키가이샤 도교 세이미쓰 | Dicing apparatus and method |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5253492A (en) * | 1975-10-23 | 1977-04-30 | Keibuibii Ikuitsupumento Corp | Sighting device for fluiding gases |
JPS62153024A (en) * | 1985-12-27 | 1987-07-08 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | Pulverized substance transport device |
FR2603217B1 (en) * | 1986-08-28 | 1990-12-28 | Primat Didier | METHOD FOR MANUFACTURING A BIDIRECTIONAL SUPPORT AND GUIDANCE CONDUCTOR. |
CN1012348B (en) * | 1986-12-28 | 1991-04-17 | 湖南省岳阳机床厂 | Method and equipment for peripheral grinding guide track of machine-tool with frame planer |
JPH02160440A (en) * | 1988-12-12 | 1990-06-20 | Honda Motor Co Ltd | Machine tool |
CN2101545U (en) * | 1991-10-23 | 1992-04-15 | 北京市电加工研究所 | Precise electric spark machine tool for large circular workpiece |
JPH0671533A (en) * | 1992-08-26 | 1994-03-15 | Kikukawa Tekkosho:Kk | Machining center |
JP2952166B2 (en) * | 1994-09-16 | 1999-09-20 | 株式会社三協精機製作所 | Portal drive |
JPH08229759A (en) * | 1995-02-24 | 1996-09-10 | Canon Inc | Positioning device, and device and method of manufacturing device |
JPH1094928A (en) * | 1996-09-24 | 1998-04-14 | Shin Nippon Koki Kk | Table transfer device for machine tool |
JP2000163130A (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Canon Inc | Self-weight compensating device |
JP2002154028A (en) * | 2000-11-20 | 2002-05-28 | Canon Inc | Moving stage mechanism for machining device |
JP3732763B2 (en) * | 2001-07-13 | 2006-01-11 | 住友重機械工業株式会社 | Stage equipment |
CN2535220Y (en) * | 2002-03-22 | 2003-02-12 | 山推工程机械股份有限公司 | Spray correcting press |
CN2644060Y (en) * | 2003-08-27 | 2004-09-29 | 江苏多棱数控机床股份有限公司 | Numerical controlled large milling machine of five shaft linkage |
JP2005331402A (en) | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Stage device |
-
2005
- 2005-02-21 JP JP2005044599A patent/JP4927338B2/en active Active
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