JP4925759B2 - Norbornene polymer, film, polarizing plate and liquid crystal display device using norbornene polymer - Google Patents

Norbornene polymer, film, polarizing plate and liquid crystal display device using norbornene polymer Download PDF

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本発明は、ノルボルネン系重合体、ノルボルネン系重合体を用いた光学フィルム(特に位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルム等の各種機能フィルム、偏光板保護フィルム)、偏光板、液晶表示装置に関するものである。   The present invention relates to norbornene-based polymers, optical films using norbornene-based polymers (particularly various functional films such as retardation films, viewing angle widening films, antireflection films used in plasma displays, polarizing plate protective films), polarizing films The present invention relates to a plate and a liquid crystal display device.

ノルボルネン系化合物がビニル重合したノルボルネン系付加重合体(以下ノルボルネン系重合体とする)のフィルムは、厚み方向のレターデーション(Rth)が高いという特徴を有することから、ネガティブCプレートに適用可能である(特許文献1)。さらに、これを延伸加工することよって、ノルボルネン系重合体の主鎖が延伸方向に並び、レターデーション(Re)を発現し、ネガティブ2軸位相差板に適用ができる。すなわち、ノルボルネン系重合体のフィルムは、高いRe,Rthを有する位相差フィルムとして有望である。特に、VA方式(ヴァーティカルアラインメント)の液晶表示装置の位相差フィルムとして好ましい値をとりうる。 A film of a norbornene-based addition polymer obtained by vinyl polymerization of a norbornene-based compound (hereinafter referred to as a norbornene-based polymer) is characterized by a high thickness direction retardation (Rth), and thus can be applied to a negative C plate. (Patent Document 1). Furthermore, by stretching this, the main chain of the norbornene-based polymer is aligned in the stretching direction and expresses retardation (Re), and can be applied to a negative biaxial retardation plate. That is, the norbornene-based polymer film is promising as a retardation film having high Re and Rth. In particular, a preferable value can be taken as a retardation film of a VA (vertical alignment) liquid crystal display device.

一方、近年の液晶表示装置の位相差フィルムは、ある波長における特定のRe,Rthの値のみならず、可視光領域(400nm〜700nm)の波長においてRe、Rthの値が連続的に異なる特性(波長分散)が要求されている。例えばヴァーティカルアラインメント(VA)方式の液晶表示装置の位相差フィルムは、波長が長くなるほどReの値が大きくなる逆波長分散特性が求められている。例えば、波長450nm、590nm、630nmにおけるReをRe450、Re590、Re630、とすると、Re450<Re590<Re630であることが求められる。 On the other hand, retardation films of liquid crystal display devices in recent years have characteristics in which Re and Rth values are continuously different not only at specific Re and Rth values at a certain wavelength, but also at wavelengths in the visible light region (400 nm to 700 nm) ( Chromatic dispersion) is required. For example, a retardation film of a vertical alignment (VA) liquid crystal display device is required to have reverse wavelength dispersion characteristics in which the Re value increases as the wavelength increases. For example, when Re at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm is Re 450 , Re 590 , and Re 630 , it is required that Re 450 <Re 590 <Re 630 .

一般に、波長分散を変動させるには、吸収波長の長い成分を導入することが有効であるが、これまでのところ特許文献2に、フェニル基を導入した重合体が記載されているにすぎない。 In general, it is effective to introduce a component having a long absorption wavelength in order to fluctuate the wavelength dispersion. However, Patent Document 2 only describes a polymer having a phenyl group introduced so far.

国際公開WO2004/049011号パンフレットInternational Publication WO2004 / 049011 Pamphlet 国際公開WO2004/007587号パンフレットInternational Publication WO2004 / 007587 Pamphlet

本発明者が行った検討では、前述のフェニル基を含有するノルボルネン系重合体フィルムの波長分散性に向上が見られるものの、その程度は小さく、液晶表示装置の色見を向上させるには不十分であることが判明した。したがって、波長分散の程度を大きくできるノルボルネン系重合体フィルムが望まれている。 In the study conducted by the present inventors, although the wavelength dispersibility of the above-mentioned norbornene polymer film containing a phenyl group is improved, the degree is small and insufficient to improve the color appearance of the liquid crystal display device. It turned out to be. Therefore, a norbornene-based polymer film that can increase the degree of wavelength dispersion is desired.

本発明者は、上記の課題を解決すべく、吸収波長のさらに長い芳香族化合物成分を導入することが、本発明の課題に対して効果があると考えた。そして、驚くべきことに、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の水素離脱体をノルボルネン系重合体中に導入すると、フィルムの複屈折の波長分散特性を劇的に向上できることを見出した。また、この芳香族化合物の水素離脱体の立体化学が波長分散の正負(順波長または逆波長)の鍵となることを見出した。すなわち、ノルボルネンユニットに芳香族化合物成分をエキソ連結させることで、複屈折の波長分散特性が逆波長分散特性になることを見出し、本発明に至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor considered that introducing an aromatic compound component having a longer absorption wavelength is effective for the problems of the present invention. Surprisingly, when an aromatic compound hydrogen-releasing product having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 is introduced into the norbornene-based polymer. The present inventors have found that the wavelength dispersion characteristics of the birefringence of the film can be dramatically improved. Further, the present inventors have found that the stereochemistry of the hydrogen-leaved product of this aromatic compound is the key to the positive / negative (forward wavelength or reverse wavelength) of wavelength dispersion. That is, the inventors have found that the chromatic dispersion characteristic of birefringence becomes the reverse chromatic dispersion characteristic by exo-linking an aromatic compound component to the norbornene unit, resulting in the present invention.

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
(1)300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基を、少なくとも一つ有するノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位を少なくとも1種、含有することを特徴とするノルボルネン系重合体。
(2)前記ノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位が下記一般式(I)で表される(1)に記載のノルボルネン系重合体。
(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基であり、少なくとも1つは前記水素離脱体を含む置換基である。)
(3)前記R1、R2、R3およびR4のうち、前記水素離脱体を含む置換基以外の置換基が、それぞれ、水素原子またはアルキル基である(2)に記載のノルボルネン重合体。
(4)前記R1、R2、R3およびR4のうち、1つまたは2つが、前記水素離脱体を含む置換基である(2)に記載のノルボルネン系重合体。
(5)前記水素離脱体を含む置換基が、エキソ連結で置換された(1)〜(4)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(6)前記300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物が2〜4環式芳香族化合物である(1)〜(5)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(7)さらに下記一般式(II)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含む(1)〜(6)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(式中、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、−L−O−CO−R9(Lは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基であり、R9は炭素数1〜10のアルキル基である。)であり、少なくとも一つは−L−O−CO−R9である。)
(8)前記R9が炭素数1〜5のアルキル基である(7)に記載のノルボルネン系重合体。
(9)一般式(I)で表される繰り返し単位を重合組成比率で3〜50%含む、(2)〜(8)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(10)一般式(I)で表される繰り返し単位および一般式(II)で表される繰り返し単位のみから形成される(8)または(9)に記載のノルボルネン系重合体。
(11)(1)〜(10)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体を含むことを特徴とするフィルム。
(12)波長450nmにおける面内レターデーションRe450と波長630nmにおける面内レターデーションRe630の差ΔRe=Re630−Re450が、10nm≦ΔRe≦100nmを満足する(11)に記載のフィルム。
(13)波長590nmにおける面内レターデーションRe590が、30nm≦Re590≦200nmを満足する(11)または(12)に記載のフィルム。
(14)偏光膜と、(11)〜(13)のいずれか1項に記載のフィルムを有することを特徴とする偏光板。
(15)(14)に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
Means for solving the above problems are as follows.
(1) Substitution including a hydrogen detachment of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ] A norbornene-based polymer comprising at least one repeating unit derived from a norbornene-based compound having at least one group.
(2) The norbornene polymer according to (1), wherein the repeating unit derived from the norbornene compound is represented by the following general formula (I).
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or 300 nm to 400 nm) A substituent containing a hydrogen-elimination product of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000, at least one of the substituents containing the hydrogen-elimination product is there.)
(3) The norbornene polymer according to (2), wherein among R 1 , R 2 , R 3, and R 4 , substituents other than the substituent containing the hydrogen-eliminating body are each a hydrogen atom or an alkyl group. .
(4) The norbornene-based polymer according to (2), wherein one or two of R 1 , R 2 , R 3, and R 4 is a substituent containing the hydrogen detachment product.
(5) The norbornene-based polymer according to any one of (1) to (4), wherein a substituent containing the hydrogen-eliminating substance is substituted with an exo linkage.
(6) The aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and having a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 is a 2 to 4 cyclic aromatic compound (1) to (5 The norbornene-based polymer according to any one of 1).
(7) The norbornene-based polymer according to any one of (1) to (6), further including at least one repeating unit represented by the following general formula (II).
(Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or —L— O—CO—R 9 (L is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 9 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), at least one of which is —L—O—. CO-R 9 )
(8) The norbornene polymer according to (7), wherein R 9 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
(9) The norbornene-based polymer according to any one of (2) to (8), comprising 3 to 50% of a repeating unit represented by the general formula (I) in a polymerization composition ratio.
(10) The norbornene-based polymer according to (8) or (9), which is formed only from the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II).
(11) A film comprising the norbornene polymer according to any one of (1) to (10).
(12) The film according to (11), wherein the difference ΔRe = Re 630 −Re 450 between the in-plane retardation Re 450 at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re 630 at a wavelength of 630 nm satisfies 10 nm ≦ ΔRe ≦ 100 nm.
(13) The film according to (11) or (12), wherein the in-plane retardation Re 590 at a wavelength of 590 nm satisfies 30 nm ≦ Re 590 ≦ 200 nm.
(14) A polarizing plate comprising a polarizing film and the film described in any one of (11) to (13).
(15) A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to (14).

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

[ノルボルネン系重合体]
本発明におけるノルボルネン系重合体とは、1種類のノルボルネン系化合物が付加重合した単独重合体もしくは2種類以上のノルボルネン系化合物が付加重合した共重合体である。
[Norbornene polymer]
The norbornene polymer in the present invention is a homopolymer obtained by addition polymerization of one kind of norbornene compound or a copolymer obtained by addition polymerization of two or more kinds of norbornene compounds.

本発明におけるノルボルネン系重合体は、複屈折の波長分散特性を効果的に変動させるために、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基(以下、単に「水素脱離体を含む置換基」ということがある)を含有する。ノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位あたりの前記水素脱離体を含む置換基の置換数は特に制限されず、合成上、好ましくは1または2であり、より好ましくは1である。また、本発明のノルボルネン系重合体中、重合体を構成する前記水素脱離体を含む置換基を有するノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位は、複数種含んでもよく、また、その種類の数は特に制限されず、例えば、1種類のものも好適に使用することができる。 The norbornene-based polymer in the present invention has a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm in order to effectively change the wavelength dispersion characteristic of birefringence, and the molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength is 10 to 100,000. It contains a substituent containing a hydrogen eliminator of an aromatic compound (hereinafter sometimes simply referred to as “substituent containing a hydrogen eliminator”). The number of substituents including the hydrogen eliminator per repeating unit derived from a norbornene-based compound is not particularly limited, and is preferably 1 or 2 and more preferably 1 in terms of synthesis. In the norbornene polymer of the present invention, the repeating unit derived from a norbornene compound having a substituent containing the hydrogen eliminator constituting the polymer may include a plurality of types, and the number of types is particularly For example, one type can also be used suitably.

重合体の主鎖は炭化水素で構成されるため、吸収は300nm以下である。側鎖にカルボニル基等の置換基を有するノルボルネン系重合体でも、カルボニル基の吸収は300nm以下である。 Since the main chain of the polymer is composed of hydrocarbons, the absorption is 300 nm or less. Even in a norbornene polymer having a substituent such as a carbonyl group in the side chain, the absorption of the carbonyl group is 300 nm or less.

本明細書における、極大吸収波長とは、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物をメチレンクロライドで適当な濃度で溶解させ(不溶の場合はヘキサンやヘプタンなどで溶解させる)、その吸収波長を通常のUV測定器で25℃で測定したときの吸収ピークの極大点をいう。モル吸光係数の単位は、[mol-1dm3cm-1]であるが、以下断りがない限り、モル吸光係数の単位はこれに規定される。極大吸収波長は必ずしも最大吸収波長でない。極大点は複数存在することがある。 In this specification, the maximum absorption wavelength is an aromatic having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ]. This refers to the maximum point of the absorption peak when the compound is dissolved in methylene chloride at an appropriate concentration (if insoluble, it is dissolved with hexane, heptane, etc.), and the absorption wavelength is measured at 25 ° C. with a normal UV measuring instrument. The unit of the molar extinction coefficient is [mol −1 dm 3 cm −1 ], but unless otherwise specified, the unit of the molar extinction coefficient is defined in this. The maximum absorption wavelength is not necessarily the maximum absorption wavelength. There may be multiple local maxima.

300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物は、300〜400nmに極大吸収波長を少なくとも一つ有するが、極大吸収波長のピークが300nm以下で、そのすそが300nm以上にかかる化合物は、これに該当しない。従って、ベンゼン、アセトキシベンゼン、メトキシベンゼン、フェノール、スチレンなどは、当該芳香族化合物ではない。 An aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 has at least one maximum absorption wavelength at 300 to 400 nm. A compound having a peak of 300 nm or less and a tail of 300 nm or more does not correspond to this. Therefore, benzene, acetoxybenzene, methoxybenzene, phenol, styrene and the like are not the aromatic compounds.

なお、300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物は300nm〜400nmに極大吸収波長を有するが、この範囲外にも極大波長吸収を有してもよい。しかし、400nm以上に極大吸収波長を有する場合、ノルボルネン系重合体が黄色を帯びてフィルムが着色しやすい傾向にあるため、400nm以上に極大吸収波長はないことが好ましい。 In addition, although the aromatic compound which has a maximum absorption wavelength in 300 nm-400 nm has a maximum absorption wavelength in 300 nm-400 nm, you may have maximum wavelength absorption out of this range. However, when the maximum absorption wavelength is 400 nm or more, the norbornene-based polymer tends to be yellow and the film tends to be colored. Therefore, it is preferable that there is no maximum absorption wavelength at 400 nm or more.

300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物のモル吸光係数が大きいほど、複屈折の波長分散特性を変動させる効果は大きい傾向にある。本発明に係る300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物は、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000であるが、モル吸光係数が100以上であると、その効果が顕著である。したがって、本発明に係る300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物は、好ましくは100〜100,000のモル吸光係数を有し、より好ましくは120〜100,000のモル吸光係数を有し、さらに好ましくは、130〜100,000のモル吸光係数を有する。 As the molar extinction coefficient of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm is larger, the effect of changing the wavelength dispersion characteristic of birefringence tends to be larger. The aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm according to the present invention has a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000, but the effect is remarkable when the molar extinction coefficient is 100 or more. It is. Therefore, the aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm according to the present invention preferably has a molar extinction coefficient of 100 to 100,000, and more preferably has a molar extinction coefficient of 120 to 100,000. More preferably, it has a molar extinction coefficient of 130 to 100,000.

300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の具体例として、以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 include the following compounds, but the present invention is not limited thereto. .

これら中でも、2〜4環式芳香族化合物(例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレン、クリセン等)は、300nm〜400nmにモル吸光係数が100〜10,000の極大吸収波長を有し、400nm以上に吸収を有さないことから好ましい。 Among these, 2 to 4 cyclic aromatic compounds (for example, naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, chrysene, etc.) have a maximum absorption wavelength of 300 to 400 nm and a molar absorption coefficient of 100 to 10,000, and 400 nm or more. Is preferable because it has no absorption.

本発明のノルボルネン系重合体は、300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物の水素離脱体を含有する。水素離脱体の形式は、1水素離脱体と2水素離脱体の2種類がとりうるが、本発明では1水素離脱体であることが好ましい。1水素離脱体がノルボルネン系重合体の側鎖として存在するとき、直接連結する方式とスペーサーを介して連結する方式がある。スペーサーを介して連結すると、芳香環の状態がランダムとなり、その重合体のフィルムの複屈折波長分散をコントロールの観点からは好ましくない。従って、スペーサーは短いほうが好ましい。一方、直接連結すると芳香環の状態がよりリジッドとなり、その重合体フィルムの複屈折波長分散コントロールの観点から好ましい。 The norbornene-based polymer of the present invention contains an aromatic compound hydrogen detachment having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm. There are two types of hydrogen detachment bodies, ie, 1 hydrogen detachment body and 2 hydrogen detachment body. In the present invention, 1 hydrogen detachment body is preferable. 1 When a hydrogen-eliminating substance exists as a side chain of a norbornene-based polymer, there are a direct connection method and a connection method via a spacer. When connected via a spacer, the state of the aromatic ring becomes random, and the birefringence wavelength dispersion of the polymer film is not preferable from the viewpoint of control. Therefore, it is preferable that the spacer is short. On the other hand, when directly connected, the state of the aromatic ring becomes more rigid, which is preferable from the viewpoint of birefringence wavelength dispersion control of the polymer film.

本発明に係るノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を好適に挙げることができる。
一般式(I)
(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基であり、少なくとも1つは該水素離脱体を含む置換基である。)
Preferred examples of the repeating unit derived from the norbornene compound according to the present invention include repeating units represented by the following general formula (I).
Formula (I)
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or 300 nm to 400 nm, respectively. Having a maximum absorption wavelength, and having a molar absorption coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000, a substituent containing a hydrogen-elimination product of an aromatic compound, at least one of the substituents containing the hydrogen-elimination product .)

1、R2、R3およびR4のうち、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基以外の基は、好ましくは、それぞれ、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または、炭素数6〜20のアリール基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基であり、さらに好ましくは、水素原子またはフェニル基、最も好ましくは水素原子である。置換数としては、本発明の効果を得る上では、300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基が多く置換されていたほうがよいが、合成上、300nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基が1つまたは2つであることが好ましく、1つであることがより好ましい。例えば、好ましくは、1つが水素原子であり、残りの2つが水素原子またはフェニル基の場合であり、より好ましくはいずれも水素原子の場合である。 R 1 , R 2 , R 3, and R 4 include aromatic hydrogen desorbents having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000. The group other than the substituent is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It is an alkyl group or a phenyl group, more preferably a hydrogen atom or a phenyl group, and most preferably a hydrogen atom. As the number of substitutions, in order to obtain the effect of the present invention, it is better that many substituents containing a hydrogen-elimination product of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm are substituted. It is preferable that the number of substituents containing a hydrogen-elimination product of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength is one or two, and more preferably one. For example, preferably, one is a hydrogen atom and the remaining two are a hydrogen atom or a phenyl group, more preferably both are hydrogen atoms.

1、R2、R3およびR4のうち少なくとも1つは、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基(以下、「置換基A」ということがある)であり、置換基Aとしては、前記と同義であり、好適範囲も同義である。即ち、300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000である芳香族化合物の好適範囲、モル吸光係数の好適範囲、また、その芳香族化合物の水素離脱体とノルボルナンとの連結方式(直接連結する方式およびスペーサーを介して連結する方式)に関する好適形態等も同義である。 At least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000. The substituent includes a leaving body (hereinafter sometimes referred to as “substituent A”), and the substituent A has the same meaning as described above, and the preferred range is also the same. That is, a preferred range of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000, a preferred range of the molar extinction coefficient, and the aromatic compound A preferred embodiment and the like relating to a connection method (a direct connection method and a connection method via a spacer) between the hydrogen desorber and norbornane are also synonymous.

一般式(I)において、置換基Aはエキソ(exo)連結であることが好ましい。エキソ連結であると、置換基Aの芳香環が主鎖方向に直交する状態となり、これを含むノルボルネン系重合体フィルムの逆波長分散が効果的に発現する(特に水素離脱体とノルボルナンとの連結方式が直接連結する方式であるときに効果は顕著である)。したがって、一般式(I)で表される繰り返し単位の50%〜100%がエキソ連結であることが好ましく、70〜100%がエキソ連結であることがより好ましく、100%がエキソ連結であることがさらに好ましい。 In the general formula (I), the substituent A is preferably an exo linkage. In the case of exo-linking, the aromatic ring of the substituent A is in a state orthogonal to the main chain direction, and the reverse wavelength dispersion of the norbornene-based polymer film containing the aromatic ring is effectively exhibited (particularly, the connection between the hydrogen-eliminating substance and norbornane). The effect is significant when the method is a direct connection method). Accordingly, 50% to 100% of the repeating units represented by the general formula (I) are preferably exo-linked, more preferably 70 to 100% are exo-linked, and 100% are exo-linked. Is more preferable.

置換基Aを含有するノルボルネン系化合物は、シクロペンタジエンと相当するオレフィンとのディールスアルダー反応で得ることができる。一方、ノルボルナジエンとA−X(Aのハロゲン化物)をパラジウム触媒の存在下カップリングさせ、エキソ体を合成することができる。
The norbornene-based compound containing the substituent A can be obtained by a Diels-Alder reaction between cyclopentadiene and the corresponding olefin. On the other hand, norbornadiene and AX (A halide) can be coupled in the presence of a palladium catalyst to synthesize an exo form.

一般式(I)で表される繰り返し単位の具体例を以下に挙げるが、本発明は、これに限定されない。
Specific examples of the repeating unit represented by the general formula (I) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

一般式(I)で表される繰り返し単位を含むノルボルネン系重合体は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、他のノルボルネン系化合物を含んでいてもよい。なお、本発明のノルボルネン系重合体における一般式(I)で表される繰り返し単位の含量は、置換基Aの種類等に応じて、一般式(I)で表される繰り返し単位の重合組成比率が、0%より大きく100%以下の範囲で適宜調整でき、0より大きく80%以下が好ましく、0より大きく60%以下がより好ましく、3〜50%であることがさらに好ましく、3〜40%が特に好ましい。一般式(I)で表される繰り返し単位の含量が少ないと、本発明のノルボルネン系重合体の複屈折波長分散コントロールの効果が小さくなる傾向にあり、大きいと効果が大きくなる傾向にある。   The norbornene-based polymer containing the repeating unit represented by the general formula (I) may contain other norbornene-based compounds without departing from the gist of the present invention. In addition, the content of the repeating unit represented by the general formula (I) in the norbornene-based polymer of the present invention is a polymerization composition ratio of the repeating unit represented by the general formula (I) according to the type of the substituent A and the like. However, it can be suitably adjusted in the range of more than 0% and not more than 100%, preferably more than 0 and not more than 80%, more preferably more than 0 and not more than 60%, further preferably 3 to 50%, more preferably 3 to 40%. Is particularly preferred. When the content of the repeating unit represented by formula (I) is small, the effect of controlling the birefringence wavelength dispersion of the norbornene polymer of the present invention tends to be small, and when the content is large, the effect tends to be large.

また、一般式(I)で表される繰り返し単位は、剛直な芳香環を有することから、その重合体は溶解性が低い、ガラス転移点が高すぎるなどフィルム作製において不利な点がある。これらの問題点を解消するため、極性基を含有するノルボルネン系化合物を少なくとも1種類と共重合させることが好ましい。極性基を含有するノルボルネン系重合体の共重合成分として、一般式(III)で表される繰り返し単位が挙げられる。
一般式(III)
Further, since the repeating unit represented by the general formula (I) has a rigid aromatic ring, the polymer has disadvantages in film production such as low solubility and too high glass transition point. In order to eliminate these problems, it is preferable to copolymerize at least one norbornene-based compound containing a polar group. Examples of the copolymer component of the norbornene-based polymer containing a polar group include a repeating unit represented by the general formula (III).
Formula (III)

式中、w、x、y、zは、それぞれ、水素、アルキル基、アリール基、ハロゲン、(CH2nOH、(CH2nCOOH、(CH2nCOOR'、(CH2nOR'、(CH2nOCOR'、(CH2nOCOOR'、(CH2nOR'、(CH2nO(CH2nOHを表し、w、x、y、zのうちの少なくともひとつは、(CH2nOH、(CH2nCOOH、(CH2nCOOR'、(CH2nOR'、(CH2nOCOR'、(CH2nOCOOR'、(CH2nOR'、(CH2nO(CH2nOHを表し、nは0〜10の整数であり、R'は炭素数1〜10のアルキル基を表す;mは0または1を表す。 In the formula, w, x, y, and z are hydrogen, alkyl group, aryl group, halogen, (CH 2 ) n OH, (CH 2 ) n COOH, (CH 2 ) n COOR ′, and (CH 2 ), respectively. n OR ′, (CH 2 ) n OCOR ′, (CH 2 ) n OCOOR ′, (CH 2 ) n OR ′, (CH 2 ) n O (CH 2 ) n OH, w, x, y, z At least one of (CH 2 ) n OH, (CH 2 ) n COOH, (CH 2 ) n COOR ′, (CH 2 ) n OR ′, (CH 2 ) n OCOR ′, (CH 2 ) n OCOOR ', (CH 2) n OR', represent (CH 2) n O (CH 2) n OH, n is an integer of 0, R 'represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m represents 0 or 1;

このモノマーは、シクロペンタジエンと対応するオレフィンとのディールスアルダー反応でm=0のモノマーを得ることができる。さらにこれをシクロペンタジエンと反応させることで、m=1のモノマーを得ることができる。
As for this monomer, a monomer with m = 0 can be obtained by Diels-Alder reaction of cyclopentadiene and the corresponding olefin. Furthermore, the monomer of m = 1 can be obtained by making this react with a cyclopentadiene.

一般式(III)で表される繰り返し単位の具体例を以下にしめすが、本発明は、これに限定されない。
Specific examples of the repeating unit represented by formula (III) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

mはガラス転移点を下げる観点から、m=0が好ましい。中でも後述する一般式(II)にて表される繰り返し単位を好適に挙げることができる。
特に、本発明のノルボルネン系重合体は、一般式(I)で表される繰り返し単位と、後述する一般式(II)で表される繰り返し単位のみからなることが好ましい。この場合の「のみ」とは、一般式(I)で表される繰り返し単位および一般式(II)で表される繰り返し単位以外の成分を全く含まない場合のほか、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、他の成分を含んでいてもよい。例えば、これらの繰り返し単位を構成するモノマーおよび重合に通常用いられる添加剤等の反応残存物が含まれていてもよい。なお、その際の、上記一般式(I)で表される繰り返し単位の重合組成比率の好適範囲は、上記と同様に、適宜、調整でき、0より大きく80%以下が好ましく、0より大きく60%以下がより好ましく、3〜50%であることがさらに好ましく、3〜40%が特に好ましい。
From the viewpoint of lowering the glass transition point, m is preferably m = 0. Among them, a repeating unit represented by the general formula (II) described later can be preferably exemplified.
In particular, the norbornene-based polymer of the present invention preferably comprises only a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the general formula (II) described later. “Only” in this case does not depart from the gist of the present invention except that it contains no components other than the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II). Other components may be included within the range. For example, reaction residues such as monomers constituting these repeating units and additives usually used in polymerization may be contained. In addition, the suitable range of the polymerization composition ratio of the repeating unit represented by the general formula (I) at that time can be appropriately adjusted in the same manner as described above, and is preferably greater than 0 and 80% or less, preferably greater than 0 and 60 % Or less is more preferable, 3 to 50% is more preferable, and 3 to 40% is particularly preferable.

(式中、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、−L−O−CO−R9(Lは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基であり、R9は炭素数1〜10のアルキル基である。)であり、少なくとも一つは−L−O−CO−R9である。) (Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or —L— O—CO—R 9 (L is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 9 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), at least one of which is —L—O—. CO-R 9 )

5、R6、R7およびR8のうち、−L−O−CO−R9以外の置換基としては、それぞれ、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、アルキル基または水素原子がより好ましく、水素原子が更に好ましい。
Lは、単結合または炭素数1〜5のアルキレン基が好ましく、単結合または炭素数1もしくは2のアルキレン基がより好ましく、単結合またはメチレン基がさらに好ましい。
Of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 , the substituent other than —L—O—CO—R 9 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. A group or a hydrogen atom is more preferred, and a hydrogen atom is still more preferred.
L is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a single bond or an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, and even more preferably a single bond or a methylene group.

9は、フィルムの光弾性を小さくする観点から、その炭素数が小さいことが好ましいが、重合体のガラス転移点を下げる観点からは炭素数が大きいことが好ましい。双方の点を考慮すると、R9は、炭素数1〜6であるのが好ましく、炭素数3〜5であることがより好ましく、プロピル基、ブチル基、ペンチル基であるのがさらに好ましい。なお、R5、R6、R7およびR8のうち、−L−O−CO−R9の置換数は、合成上、好ましくは1または2であり、より好ましくは1である。その場合の他の置換基は、上記と同様のものを好適に挙げることができる。 R 9 preferably has a small carbon number from the viewpoint of reducing the photoelasticity of the film, but is preferably large from the viewpoint of lowering the glass transition point of the polymer. Considering both points, R 9 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 3 to 5 carbon atoms, and still more preferably a propyl group, a butyl group, or a pentyl group. In addition, among R 5 , R 6 , R 7 and R 8 , the number of substitution of —L—O—CO—R 9 is preferably 1 or 2 and more preferably 1 in terms of synthesis. As other substituents in that case, the same ones as described above can be preferably exemplified.

−L−O−CO−R9(アシルオキシメチル基)含有のノルボルネン重合体のユニットにおける立体化学は、特に規定はされない。しかし、一般に原料モノマーの立体化学はエンド/エキソ≒80/20であり、これを用いることで、エンドリッチとなることが一般である。 The stereochemistry in the unit of norbornene polymer containing —L—O—CO—R 9 (acyloxymethyl group) is not particularly defined. However, in general, the stereochemistry of the raw material monomer is endo / exo≈80 / 20, and by using this, it is generally end rich.

一般式(II)で表される繰り返し単位は、例えば、下記のようなアシルオキシメチル含有のノルボルネン系化合物の重合により得られ、該アシルオキシメチル含有のノルボルネン系化合物は、シクロペンタジエンと相当するアリル化合物とのディールスアルダー反応で得ることができる。
The repeating unit represented by the general formula (II) is obtained, for example, by polymerization of an acyloxymethyl-containing norbornene compound as described below, and the acyloxymethyl-containing norbornene compound includes cyclopentadiene and a corresponding allyl compound. Can be obtained by the Diels-Alder reaction.

以下に、一般式(I)で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を含むノルボルネン系重合体の好ましい化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Examples of preferred norbornene-based polymers containing the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II) are shown below, but the present invention is not limited thereto. Absent.

本発明のノルボルネン系重合体は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエションクロマトグラムで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量が10,000〜1,000,000であるのが好ましく、50,000〜500,000であるのがより好ましい。また、ポリスチレン換算の重量平均分子量は15,000〜1,500,000が好ましく、70,000〜700,000がより好ましい。ポリスチレン換算の数平均分子量を10,000以上、重量平均分子量を15,000以上であると、破壊強度がより好ましい傾向にあり、ポリスチレン換算の数平均分子量を1,000,000以下、重量平均分子量を1,500,000以下とすると、シートとしての成形加工性が向上する傾向にあり、またキャストフィルム等とするときに溶液粘度が低くなり、扱いやすい傾向にある。分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜5.0が好ましく、1.1〜4.0がより好ましく、1.1〜3.5がさらに好ましい。ノルボルネン系重合体の分子量分布を上記のような範囲にすることにより、ノルボルネン系重合体溶液(ドープ)が均一になりやすく、良好なフィルムが作製しやすくなる。 The norbornene polymer of the present invention preferably has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 10,000 to 1,000,000 as measured by gel permeation chromatogram using tetrahydrofuran as a solvent, and is preferably 50,000. More preferably, it is ˜500,000. The weight average molecular weight in terms of polystyrene is preferably 15,000 to 1,500,000, more preferably 70,000 to 700,000. When the number average molecular weight in terms of polystyrene is 10,000 or more and the weight average molecular weight is 15,000 or more, the fracture strength tends to be more preferable, the number average molecular weight in terms of polystyrene is 1,000,000 or less, and the weight average molecular weight. If it is 1,500,000 or less, the molding processability as a sheet tends to be improved, and the solution viscosity tends to be low when it is used as a cast film or the like, and it tends to be easy to handle. The molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.1 to 4.0, and still more preferably 1.1 to 3.5. By setting the molecular weight distribution of the norbornene-based polymer within the above range, the norbornene-based polymer solution (dope) is likely to be uniform, and a good film can be easily produced.

本発明のノルボルネン系重合体は、前記の手法で得られたモノマーを用い、以下の重合方法で得ることができる。 The norbornene-based polymer of the present invention can be obtained by the following polymerization method using the monomer obtained by the above method.

重合触媒として[Pd(CH3CN)4][BF42、ジ−μ−クロロ−ビス−(6−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−エンド−5σ,2π)−Pd(以下、「I」と略す)とメチルアルモキサン(MAO)、IとAgBF4、IとAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgBF4、[(η3−クロチル)Pd(シクロオクタジエン)][PF6]、[(η3−アリル)Pd(η5−シクロペンタジエニル)]2とトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートもしくはトリチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、パラジウムビスアセチルアセトナートとトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η3−アリル)PdCl]2とトリシクロヘキシルホスフィンとトリブチルアリルスズもしくはアリルマグネシウムクロライドとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η5−シクロペンタジエニル)Ni(メチル)(トリフェニルホスフィン)]とトリスペンタフルオロフェニルボラン、[(η3−クロチル)Ni(シクロオクタジエン)][B((CF32644]、[NiBr(NPMe3)]4とMAO、Ni(オクトエート)2とMAO、Ni(オクトエート)2とB(C653とAlEt3、Ni(オクトエート)2と[ph3C][B(C654]とAli−Bu3、Co(ネオデカノエート)とMAO等の周期律表8族のNi、Pd、Co等のカチオン錯体またはカチオン錯体を形成する触媒を用いて、溶媒中で20〜150℃の範囲で、モノマーを単独もしくは共重合することにより得られる。
モノマーははじめから反応容器に入れておき反応させることも、徐々にモノマーをフィードしていく手法も採用できる。
溶媒としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン等の脂環式炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ジクロロメタン、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールジメチルエーテル、ニトロメタン等の極性溶媒;から選択することができる。
また、他の合成方法として、Macromolecules、1996年、29巻、2755ページ、Macromolecules、2002年、35巻、8969ページ、国際特許公開WO2004/7564号パンフレットに記載の方法も好適に用いられる。
[Pd (CH 3 CN) 4 ] [BF 4 ] 2 , di-μ-chloro-bis- (6-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene-endo-5σ, 2π) as a polymerization catalyst -Pd (hereinafter abbreviated as "I") and methylalumoxane (MAO), I and AgBF 4 , I and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and AgBF 4 , [(η 3 -crotyl) Pd (cyclooctadiene)] [PF 6 ], [(η 3 -allyl) Pd (η 5 -cyclopentadienyl)] 2 and tricyclohexylphosphine Dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate or trityltetrakispentafluorophenylborate, palladium bisacetylacetonate, tricyclohexylphosphine and dimethyla Nilinium tetrakispentafluorophenylborate, [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and tricyclohexylphosphine and tributylallyltin or allylmagnesium chloride and dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate, [(η 5 -cyclopentadienyl) Ni (methyl) (triphenylphosphine)] and trispentafluorophenylborane, [(η 3 -crotyl) Ni (cyclooctadiene)] [B ((CF 3 ) 2 C 6 H 4 ) 4 ], [NiBr ( NPMe 3 )] 4 and MAO, Ni (Octoate) 2 and MAO, Ni (Octoate) 2 and B (C 6 F 5 ) 3 and AlEt 3 , Ni (Octoate) 2 and [ph 3 C] [B (C 6 F 5) 4] and Ali-Bu 3, Co (neodecanoate) and the periodic table of the MAO such as 8 Of Ni, Pd, using a catalyst to form a cationic complex or cation complex such as Co, in a range of 20 to 150 ° C. in a solvent obtained by alone or copolymerizing a monomer.
The monomer can be allowed to react in the reaction vessel from the beginning, or a method of gradually feeding the monomer can be employed.
Solvents include cycloaliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, cyclopentane and methylcyclopentane; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene and xylene; dichloromethane Halogenated hydrocarbon solvents such as 1,2-dichloroethylene and chlorobenzene; polar solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol dimethyl ether and nitromethane.
As another synthesis method, the method described in Macromolecules, 1996, 29, 2755, Macromolecules, 2002, 35, 8969, International Patent Publication WO 2004/7564 is also preferably used.

[ノルボルネン系重合体フィルム]
本発明のノルボルネン系重合体のフィルムは、本発明のノルボルネン系重合体をフィルムに含有するものをいう。
[Norbornene polymer film]
The norbornene polymer film of the present invention refers to a film containing the norbornene polymer of the present invention.

[ノルボルネン系重合体フィルムの用途]
本発明のノルボルネン系重合体は、フィルムの材料として有用である。特に、該重合体を用いて作製されたフィルムは、液晶表示素子の基板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム、液晶バックライト、液晶パネル、OHP用フィルム、透明導電性フィルム等をはじめとする光学用途のフィルムに適する。また、前記一般式(I)で表されるノルボルネン系重合体は、光ディスク、光ファイバー、レンズ、プリズム等の光学材料、電子部品さらに医療機器、容器等に好適に用いられる。
[Use of norbornene polymer film]
The norbornene-based polymer of the present invention is useful as a film material. In particular, films prepared using the polymer include substrates for liquid crystal display elements, light guide plates, polarizing films, retardation films, liquid crystal backlights, liquid crystal panels, OHP films, transparent conductive films, and the like. Suitable for optical use film. The norbornene-based polymer represented by the general formula (I) is suitably used for optical materials such as optical discs, optical fibers, lenses, and prisms, electronic components, medical devices, containers, and the like.

[ノルボルネン系重合体フィルム製造方法]
本発明のフィルムは、一般式(I)で表される繰り返し単位を含むノルボルネン系重合体を含有し、該重合体を原料として製膜することで作製することができる。製膜は、熱溶融製膜の方法と溶液製膜の方法があり、いずれも適応可能であるが、本発明においては面状の優れたフィルムを得ることのできる溶液製膜方法を用いることが好ましい。以下に溶液製膜方法について記述する。
[Method for producing norbornene polymer film]
The film of this invention contains the norbornene-type polymer containing the repeating unit represented by general formula (I), and can be produced by forming into a film from this polymer. There are two methods for film formation: hot melt film formation and solution film formation, and both are applicable, but in the present invention, a solution film formation method capable of obtaining an excellent surface film is used. preferable. The solution casting method is described below.

(溶液製膜方法)
(ドープの調製)
まず、製膜に用いる前記重合体の溶液(ドープ)を調製する。ドープの調製に用いられる有機溶剤については、溶解、流延、製膜でき、その目的が達成できる限りは、特に限定されない。例えばジクロロメタン、クロロホルムに代表される塩素系溶剤、炭素数が3〜12の鎖状炭化水素(ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなど)、環状炭化水素(シクロペンタン、シクロヘキサン、デカリンなど)、芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、エステル(エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートなど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンなど)、エーテル(ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなど)から選ばれる溶剤が好ましい。2種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノールおよび2−ブトキシエタノールが挙げられる。有機溶剤の好ましい沸点は35℃〜200℃以下である。前記溶液の調製に用いる溶剤は、乾燥性、粘度等の溶液物性調節のために2種以上の溶剤を混合して用いることができ、さらに、混合溶媒で溶解する限りは、貧溶媒を添加することも可能である。
(Solution casting method)
(Preparation of dope)
First, a solution (dope) of the polymer used for film formation is prepared. The organic solvent used for the preparation of the dope is not particularly limited as long as it can be dissolved, cast, and formed into a film, and the purpose can be achieved. For example, chlorinated solvents such as dichloromethane and chloroform, chain hydrocarbons having 3 to 12 carbon atoms (hexane, octane, isooctane, decane, etc.), cyclic hydrocarbons (cyclopentane, cyclohexane, decalin, etc.), aromatic carbonization Hydrogen (benzene, toluene, xylene, etc.), ester (ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, pentyl acetate, etc.), ketone (acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone) , Cyclohexanone and methylcyclohexanone), ether (diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, Preferably the solvent selected from over like Le and phenetole). Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol. The preferable boiling point of the organic solvent is 35 ° C to 200 ° C. The solvent used for the preparation of the solution can be used by mixing two or more kinds of solvents in order to adjust the solution properties such as drying property and viscosity. Further, as long as the solvent is dissolved in the mixed solvent, a poor solvent is added. It is also possible.

好ましい貧溶媒は適宜選択することができる。良溶媒として塩素系有機溶剤を使用する場合は、アルコール類を好適に使用することができる。アルコール類としては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。また、アルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールなども挙げられる。貧溶媒の中でも特に1価のアルコール類は、剥離抵抗低減効果があり、好ましく使用することができる。選択する良溶剤によって特に好ましいアルコール類は変化するが、乾燥負荷を考慮すると、沸点が120℃以下のアルコールが好ましく、炭素数1〜6の1価アルコールがさらに好ましく、炭素数1〜4のアルコールが特に好ましく使用することができる。   A preferred poor solvent can be appropriately selected. When a chlorinated organic solvent is used as the good solvent, alcohols can be preferably used. Alcohols may preferably be linear, branched or cyclic, and among them, saturated aliphatic hydrocarbons are preferred. The hydroxyl group of the alcohol may be any of primary to tertiary. As the alcohol, fluorine-based alcohol is also used. Examples thereof include 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol and the like. Among the poor solvents, particularly monovalent alcohols have an effect of reducing the peeling resistance and can be preferably used. Particularly preferred alcohols vary depending on the good solvent to be selected, but considering the drying load, alcohols having a boiling point of 120 ° C. or lower are preferable, monohydric alcohols having 1 to 6 carbon atoms are more preferable, and alcohols having 1 to 4 carbon atoms Can be particularly preferably used.

ドープを調製する上で特に好ましい混合溶剤は、ジクロロメタンを主溶剤とし、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールまたはブタノールから選ばれる1種以上のアルコール類を貧溶媒にする組み合わせである。   A particularly preferred mixed solvent for preparing the dope is a combination in which dichloromethane is the main solvent and at least one alcohol selected from methanol, ethanol, propanol, isopropanol, or butanol is a poor solvent.

前記ドープの調製については、室温攪拌溶解による方法、室温で攪拌して重合体を膨潤させた後、−20℃〜−100℃まで冷却し、再度20℃〜100℃に加熱して溶解する冷却溶解法、密閉容器中で主溶剤の沸点以上の温度にして溶解する高温溶解方法、さらには溶剤の臨界点まで高温高圧にして溶解する方法などがある。ドープの粘度は25℃で1〜500Pa・sの範囲であることが好ましく、5〜200Pa・sの範囲であることがさらに好ましい。   For the preparation of the dope, a method of stirring and dissolving at room temperature, and stirring the polymer at room temperature to swell the polymer, cooling to -20 ° C to -100 ° C, and cooling to 20 ° C to 100 ° C again to dissolve. There are a dissolution method, a high-temperature dissolution method that dissolves at a temperature equal to or higher than the boiling point of the main solvent in a closed container, and a method that dissolves at a high temperature and high pressure up to the critical point of the solvent. The viscosity of the dope is preferably in the range of 1 to 500 Pa · s at 25 ° C., more preferably in the range of 5 to 200 Pa · s.

溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、5Pa・s〜1000Pa・sの範囲に調製されることが好ましく、15Pa・s〜500Pa・sの範囲がより好ましく、30Pa・s〜200Pa・sの範囲がさらに好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−5〜70℃であり、より好ましくは−5〜35℃である。   Prior to casting, it is preferable to filter off foreign matters such as undissolved matter, dust, and impurities using a suitable filter medium such as a wire mesh or flannel. The viscosity immediately before film formation may be in a range that allows casting during film formation, and is preferably adjusted to a range of 5 Pa · s to 1000 Pa · s, more preferably in a range of 15 Pa · s to 500 Pa · s. The range of 30 Pa · s to 200 Pa · s is more preferable. In addition, although the temperature at this time will not be specifically limited if it is the temperature at the time of the casting, Preferably it is -5-70 degreeC, More preferably, it is -5-35 degreeC.

(添加剤)
本発明のフィルムは、前記重合体以外の添加剤を含有していてもよく、かかる添加剤は、フィルムを作製する工程のいずれの段階で添加されてもよい。添加剤は、用途に応じて選択することができ、例えば、劣化防止剤、紫外線防止剤、レターデーション(光学異方性)調節剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤、など)などが挙げられる。これらの添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。添加する時期は溶液流延法によるフィルム作製の場合、ドープ調製工程中のいずれかの時期に添加してもよいし、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。溶融法によるフィルム作製の場合、樹脂ペレット作製時に添加していてもよいし、フィルム作製時に混練してもよい。各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。
(Additive)
The film of the present invention may contain additives other than the polymer, and such additives may be added at any stage of the process for producing the film. Additives can be selected depending on the application, such as deterioration inhibitors, UV inhibitors, retardation (optical anisotropy) regulators, fine particles, peeling accelerators, infrared absorbers, etc. Can be mentioned. These additives may be solid or oily. In the case of film production by the solution casting method, the addition time may be added at any time during the dope preparation process, or an additive is added to the final preparation process of the dope preparation process. You may go. In the case of film production by the melting method, it may be added at the time of resin pellet production, or may be kneaded at the time of film production. The amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested. Moreover, when a film is formed from a multilayer, the kind and addition amount of the additive of each layer may differ.

フィルム劣化防止の観点から、劣化(酸化)防止剤が好ましく用いられる。例えば、2,6−ジ−tert−ブチル,4−メチルフェノール、4,4’−チオビス−(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス(4−メトキシ−3,5−ジフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。酸化防止剤の添加量は、重合体100質量部に対して、0.05〜5.0質量部を添加する。   From the viewpoint of preventing film deterioration, a deterioration (oxidation) inhibitor is preferably used. For example, 2,6-di-tert-butyl, 4-methylphenol, 4,4′-thiobis- (6-tert-butyl-3-methylphenol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5- Phenolic or hydroquinone antioxidants such as di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate can be added. Furthermore, phosphorus antioxidants such as tris (4-methoxy-3,5-diphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite It is preferable to The addition amount of the antioxidant is 0.05 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、ノルボルネン系重合体に対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmがさらに好ましい。   From the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal, an ultraviolet absorber is preferably used. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties. Specific examples of the ultraviolet absorber preferably used in the present invention include, for example, hindered phenol compounds, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salts Compound etc. are mentioned. The addition amount of these ultraviolet light inhibitors is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the norbornene polymer.

フィルム面のすべり性を改良するためには、微粒子(マット剤)が好ましく用いられる。これを用いることで、フィルム表面に凹凸を付与し、すなわちフィルム表面の粗さを増加させることで(マット化)、フィルム同士のブロッキングを減少させることができる。フィルム中、またはフィルムの少なくとも片方の面上に微粒子が存在することにより、偏光板加工時の偏光子とフィルム間の密着性が著しく向上する。本発明に使用するマット剤は、無機微粒子であれば、例えば、平均粒子サイズ0.05μm〜0.5μmの微粒子であり、好ましくは0.08μm〜0.3μm、より好ましくは0.1μm〜0.25μmである。微粒子は、無機化合物としては二酸化ケイ素、シリコーンおよび二酸化チタンが好ましく、高分子化合物としてはフッ素樹脂、ナイロン、ポリプロピレンおよび塩素化ポリエーテルが好ましく、二酸化ケイ素がより好ましく、有機物により表面処理されている二酸化ケイ素がさらに好ましい。   In order to improve the slipperiness of the film surface, fine particles (mat agent) are preferably used. By using this, unevenness is imparted to the film surface, that is, by increasing the roughness of the film surface (matization), the blocking between the films can be reduced. The presence of fine particles in the film or on at least one surface of the film significantly improves the adhesion between the polarizer and the film during polarizing plate processing. The matting agent used in the present invention is inorganic fine particles, for example, fine particles having an average particle size of 0.05 μm to 0.5 μm, preferably 0.08 μm to 0.3 μm, more preferably 0.1 μm to 0 μm. .25 μm. In the fine particles, silicon dioxide, silicone and titanium dioxide are preferable as the inorganic compound, fluororesin, nylon, polypropylene and chlorinated polyether are preferable as the polymer compound, silicon dioxide is more preferable, and surface treatment with organic matter is performed. Silicon is more preferred.

フィルムの剥離抵抗を小さくするため、剥離促進剤が好ましく用いられる。好ましい剥離剤としては燐酸エステル系の界面活性剤、カルボン酸あるいはカルボン酸塩系の界面活性剤、スルホン酸またはスルホン酸塩系の界面活性剤、硫酸エステル系の界面活性剤が効果的である。また上記界面活性剤の炭化水素鎖に結合している水素原子の一部をフッ素原子に置換したフッ素系界面活性剤も有効である。剥離剤の添加量はノルボルネン系重合体に対して0.05〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましく、0.1〜0.5質量%がさらに好ましい。   In order to reduce the peeling resistance of the film, a peeling accelerator is preferably used. As preferred release agents, phosphate ester surfactants, carboxylic acid or carboxylate surfactants, sulfonic acid or sulfonate surfactants, and sulfate ester surfactants are effective. A fluorine-based surfactant in which part of the hydrogen atoms bonded to the hydrocarbon chain of the surfactant is substituted with fluorine atoms is also effective. The addition amount of the release agent is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and further preferably 0.1 to 0.5% by mass with respect to the norbornene-based polymer.

(フィルム製造)
本発明のフィルムを製造する方法および設備は、公知のセルローストリアセテートフィルム製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置が好ましく用いられる。溶解機(釜)から調製されたドープを貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。
(Film production)
For the method and equipment for producing the film of the present invention, the same solution casting film forming method and solution casting film forming apparatus as those used for producing a known cellulose triacetate film are preferably used. The dope prepared from the dissolving machine (kettle) is temporarily stored in a storage kettle, and the foam contained in the dope is defoamed for final preparation.

特開2000−301555号、特開2000−301558号、特開平7−032391号、特開平3−193316号、特開平5−086212号、特開昭62−037113号、特開平2−276607号、特開昭55−014201号、特開平2−111511号、および特開平2−208650号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では好ましく採用することができる。   JP 2000-301555, JP 2000-301558, JP 7-032391, JP 3-193316, JP 5-086212, JP 62-037113, JP 2-276607, The cellulose acylate film forming techniques described in JP-A-55-014201, JP-A-2-111511, and JP-A-2-208650 can be preferably employed in the present invention.

(重層流延)
ドープを、金属支持体としての平滑なバンド上またはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数のドープを流延してもよい。重層流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の1〜50%の厚さであり、より好ましくは2〜30%の厚さである。
(Multilayer casting)
The dope may be cast as a single layer liquid on a smooth band or drum as a metal support, or a plurality of dopes of two or more layers may be cast. In the case of multilayer casting, the inner and outer thicknesses are not particularly limited, but preferably the outer thickness is 1 to 50% of the total film thickness, and more preferably 2 to 30%.

(流延)
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、または逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。流延に用いられるドープの温度は、−10〜55℃が好ましく、25〜50℃がさらに好ましい。その場合、工程のすべてが同一でもよく、工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であることが好ましい。
(Casting)
As a solution casting method, a method in which the prepared dope is uniformly extruded from a pressure die onto a metal support, and a method using a doctor blade in which the dope once cast on the metal support is adjusted with a blade is used. Alternatively, there is a method using a reverse roll coater that adjusts with a reverse rotating roll, and a method using a pressure die is preferable. The temperature of the dope used for casting is preferably −10 to 55 ° C., more preferably 25 to 50 ° C. In that case, all of the steps may be the same or different at various points in the step. When they are different, it is preferable that the temperature is a desired temperature immediately before casting.

(乾燥)
フィルムの製造における金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体(例えば、ドラムまたはバンド)の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラムまたはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラムまたはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より1〜10℃低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
(Dry)
Drying of the dope on the metal support in the production of the film is generally accomplished by applying hot air from the surface side of the metal support (eg, drum or band), that is, the surface of the web on the metal support, drum or A method of applying hot air from the back side of the band, contacting the temperature controlled liquid from the back side opposite the dope casting surface of the band or drum, and heating the drum or band by heat transfer to control the surface temperature Although there are methods, the back surface liquid heat transfer method is preferable. The surface temperature of the metal support before casting may be any number as long as it is not higher than the boiling point of the solvent used for the dope. However, in order to promote drying and to lose fluidity on the metal support, the temperature should be set to 1 to 10 ° C. lower than the boiling point of the lowest boiling solvent. Is preferred. This is not the case when the casting dope is cooled and peeled off without drying.

(剥離)
生乾きのフィルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗(剥離荷重)が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フィルムの剥離荷重をフィルム剥離幅1cmあたり0.25N以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは0.2N/cm以下、さらに好ましくは0.15N以下、特に好ましくは0.10N以下である。剥離荷重0.2N/cm以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。剥離時の好ましい残留揮発分濃度は5〜60質量%である。10〜50質量%がさらに好ましく、20〜40質量%が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断したり伸びたりしてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。
(Peeling)
When peeling a dry film from a metal support, if the peeling resistance (peeling load) is large, the film is irregularly stretched in the film forming direction, resulting in uneven optical anisotropy. In particular, when the peeling load is large, a portion stretched stepwise in the film forming direction and a portion unstretched are alternately generated, resulting in a distribution in retardation. When loaded in a liquid crystal display device, the line or strip becomes uneven. In order not to cause such a problem, it is preferable to set the peeling load of the film to 0.25 N or less per 1 cm of the film peeling width. The peeling load is more preferably 0.2 N / cm or less, further preferably 0.15 N or less, and particularly preferably 0.10 N or less. When the peeling load is 0.2 N / cm or less, even in a liquid crystal display device in which unevenness is likely to appear, no unevenness due to peeling is observed at all, which is particularly preferable. As a method of reducing the peeling load, there are a method of adding a release agent as described above and a method of selecting a solvent composition to be used. The preferable residual volatile content concentration at the time of peeling is 5 to 60% by mass. 10-50 mass% is further more preferable, and 20-40 mass% is especially preferable. Peeling with a high volatile content is preferable because the drying rate can be increased and the productivity is improved. On the other hand, when the volatile content is high, the strength and elasticity of the film are small, and the film is cut or stretched against the peeling force. Further, the self-holding force after peeling is poor, and deformation, wrinkles and nicks are likely to occur. It also causes distribution in the retardation.

(延伸)
前記溶液製膜法にて作製したフィルムを、さらに延伸処理する場合は、剥離のすぐ後の未だフィルム中に溶剤が十分に残留している状態で行うのが好ましい。延伸の目的は、(1)しわや変形のない平面性に優れたフィルムを得るためおよび、(2)フィルムの面内レターデーションを大きくするために行う。(1)の目的で延伸を行うときは、比較的高い温度で延伸を行い、延伸倍率も1%からせいぜい10%までの低倍率の延伸を行う。2〜5%の延伸が特に好ましい。(1)と(2)の両方の目的、あるいは(2)だけの目的で延伸する場合は、比較的低い温度で、延伸倍率も5〜150%で延伸する。
(Stretching)
When the film produced by the solution casting method is further stretched, it is preferably carried out in a state where the solvent still remains in the film immediately after peeling. The purpose of stretching is (1) to obtain a film having excellent flatness without wrinkles and deformation, and (2) to increase the in-plane retardation of the film. When stretching is performed for the purpose of (1), stretching is performed at a relatively high temperature, and stretching is performed at a low magnification from 1% to 10% at most. A stretch of 2-5% is particularly preferred. When stretching for the purposes of both (1) and (2) or only for the purpose of (2), the film is stretched at a relatively low temperature and a stretch ratio of 5 to 150%.

フィルムの延伸は、縦または横だけの一軸延伸でもよく、また、同時または逐次2軸延伸でもよい。VA液晶セルやOCB(Optically Compensatory Bend)液晶セル用位相差フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。   The stretching of the film may be uniaxial stretching only in the longitudinal or lateral direction, or may be simultaneous or sequential biaxial stretching. The birefringence of the retardation film for a VA liquid crystal cell or OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal cell is preferably such that the refractive index in the width direction is larger than the refractive index in the length direction. Therefore, it is preferable to stretch more in the width direction.

本発明のでき上がり(乾燥後)のフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常20〜500μmの範囲であり、30〜150μmの範囲が好ましく、特に液晶表示装置用には40〜110μmであることが好ましい。   The thickness of the finished film (after drying) of the present invention varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 20 to 500 μm, preferably in the range of 30 to 150 μm, particularly 40 to 110 μm for liquid crystal display devices. It is preferable.

[フィルムの特性]
本発明のフィルムは、波長450nmにおける面内レターデーションRe450と波長630nmにおける面内レターデーションRe630の差ΔRe=Re630−Re450が、10nm≦ΔRe≦100nmを満足することが好ましく、10nm≦ΔRe≦80nmであることがより好ましく、10nm≦ΔRe≦60nmであることがもっとも好ましい。
本発明のフィルムの好ましい光学特性は、フィルムの用途により異なる。以下に、フィルムの厚みを80μmとして換算した、面内レターデーション(Re)および厚さ方向レターデーション(Rth)の、各用途における好ましい範囲を示す。
[Characteristics of film]
In the film of the present invention, the difference ΔRe = Re 630 −Re 450 between the in-plane retardation Re 450 at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re 630 at a wavelength of 630 nm preferably satisfies 10 nm ≦ ΔRe ≦ 100 nm. ΔRe ≦ 80 nm is more preferable, and 10 nm ≦ ΔRe ≦ 60 nm is most preferable.
The preferred optical properties of the film of the present invention vary depending on the application of the film. Below, the preferable range in each use of in-plane retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) which converted the thickness of the film into 80 micrometers is shown.

偏光板保護膜として使用する場合:Reは、0nm≦Re≦5nmが好ましく、0nm≦Re≦3nmがさらに好ましい。Rthは、0nm≦Rth≦50nmが好ましく、0nm≦Rth≦35nmがさらに好ましく、0nm≦Rth≦10nmが特に好ましい。   When used as a polarizing plate protective film: Re is preferably 0 nm ≦ Re ≦ 5 nm, and more preferably 0 nm ≦ Re ≦ 3 nm. Rth is preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 50 nm, more preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 35 nm, and particularly preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 10 nm.

位相差フィルムとして使用する場合:位相差フィルムの種類によってReやRthの範囲は異なり、多様なニーズがあるが、0nm≦Re≦100nm、0nm≦Rth≦400nmであることが好ましい。TNモードなら0nm≦Re≦20nm、40nm≦Rth≦80nm、VAモードなら20nm≦Re≦80nm、80nm≦Rth≦400nmがより好ましく、特にVAモードで好ましい範囲は、30nm≦Re≦75nm、120nm≦Rth≦250nmであり、一枚の位相差膜で補償する場合は、50nm≦Re≦75nm、180nm≦Rth≦250nm、2枚の位相差膜で補償する場合は、30nm≦Re≦50nm、80nm≦Rth≦140nmである。これらはVAモードの補償膜として黒表示時のカラーシフト、コントラストの視野角依存性の点で好ましい態様である。   When used as a retardation film: The range of Re and Rth varies depending on the type of retardation film and there are various needs, but 0 nm ≦ Re ≦ 100 nm and 0 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are preferable. In the TN mode, 0 nm ≦ Re ≦ 20 nm, 40 nm ≦ Rth ≦ 80 nm, and in the VA mode, 20 nm ≦ Re ≦ 80 nm and 80 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are more preferable. In particular, the preferable range in the VA mode is 30 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 120 nm ≦ Rth. ≦ 250 nm, when compensating with one retardation film, 50 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 180 nm ≦ Rth ≦ 250 nm, when compensating with two retardation films, 30 nm ≦ Re ≦ 50 nm, 80 nm ≦ Rth ≦ 140 nm. These are preferred embodiments as a VA mode compensation film in terms of color shift at the time of black display and the viewing angle dependency of contrast.

本発明のフィルムは、共重合比率、添加剤の種類および添加量、延伸倍率、剥離時の残留揮発分などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。   The film of the present invention can achieve desired optical characteristics by appropriately adjusting process conditions such as copolymerization ratio, additive type and amount, stretch ratio, residual volatile content at the time of peeling.

本明細書において、Re(λ)、Rth(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Re(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。 In this specification, Re (λ) and Rth (λ) represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at a wavelength λ, respectively. Re (λ) is measured by making light with a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments).

測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
When the film to be measured is represented by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is Re (λ), with the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) as the tilt axis (rotating axis) (if there is no slow axis, any in-plane The light is incident at a wavelength of λ nm from the inclined direction in steps of 10 degrees from the normal direction to 50 degrees on one side with respect to the film normal direction of the rotation axis of KOBRA 21ADH or WR calculates based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value.

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の式(1)および式(2)よりRthを算出することもできる。
注記:
上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
式(1)におけるnxは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnxおよびnyに直交する方向の屈折率を表す。
Rth=((nx+ny)/2 − nz) x d --- 式(2)
測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−50度から+50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する: セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHまたはWRはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx、ny、nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)がさらに算出される。
In the above case, in the case of a film having a direction in which the retardation value is zero at a certain tilt angle with the in-plane slow axis from the normal direction as the rotation axis, retardation at a tilt angle larger than the tilt angle. The value is calculated by KOBRA 21ADH or WR after changing the sign to negative.
In addition, the retardation value is measured from the two inclined directions, with the slow axis as the tilt axis (rotation axis) (in the absence of the slow axis, the arbitrary direction in the film plane is the rotation axis), Based on the value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value, Rth can also be calculated from the following equations (1) and (2).
Note:
The above Re (θ) represents a retardation value in a direction inclined by an angle θ from the normal direction.
In formula (1), nx represents the refractive index in the slow axis direction in the plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to nx in the plane, and nz represents the refractive index in the direction perpendicular to nx and ny. .
Rth = ((nx + ny) / 2-nz) x d --- Formula (2)
In the case where the film to be measured cannot be expressed by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, that is, a film having no so-called optic axis, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is from -50 ° to + 50 ° with respect to the normal direction of the film, with Re (λ) as the slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) in the plane and the tilt axis (rotation axis). In each of the 10 degree steps, light of wavelength λ nm is incident from each inclined direction and measured at 11 points. Based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value, KOBRA 21ADH or Calculated by WR.
In the above measurement, as the assumed value of the average refractive index, the values in the polymer handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and catalogs of various optical films can be used. Those whose average refractive index is not known can be measured with an Abbe refractometer. The average refractive index values of the main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), Polystyrene (1.59). By inputting these assumed values of average refractive index and film thickness, KOBRA 21ADH or WR calculates nx, ny, and nz. Nz = (nx−nz) / (nx−ny) is further calculated from the calculated nx, ny, and nz.

また、本発明のフィルムを偏光板の保護膜として用いる場合は、光弾性の値が0.5×10-13〜9.0×10-13[cm2/dyn]であり、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)が180〜435[g/cm224h]であるのが好ましい。光弾性の値は、0.5×10-13〜7.0×10-13[cm2/dyn]であるのがより好ましく、0.5×10-13〜5.0×10-13[cm2/dyn]であるのがさらに好ましい。また、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)は、180〜400[g/cm224h]であるのがより好ましく、180〜350[g/cm224h]であるのがさらに好ましい。本発明のフィルムが上記特性を有すると、偏光板の保護膜として用いた場合に、湿度の影響による性能の低下を軽減することができる。 In the case of using the film of the present invention as a protective film for polarizing plate, the value of the photoelastic is 0.5 × 10 -13 ~9.0 × 10 -13 [cm 2 / dyn], moisture permeability values However, it is preferable that the value (converted assuming the thickness of the film as 80 μm) is 180 to 435 [g / cm 2 24 h]. The value of photoelasticity is more preferably 0.5 × 10 −13 to 7.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn], and 0.5 × 10 −13 to 5.0 × 10 −13 [ More preferably, it is cm 2 / dyn]. In addition, the value of moisture permeability (however, the value obtained by converting the film thickness to 80 μm) is more preferably 180 to 400 [g / cm 2 24h], and 180 to 350 [g / cm 2 24h]. Is more preferable. When the film of the present invention has the above-described properties, when it is used as a protective film for a polarizing plate, it is possible to reduce a decrease in performance due to the influence of humidity.

[偏光板]
本発明の偏光板は、本発明のフィルムと偏光子とを少なくとも有する。通常、偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の保護膜を有する。両方または一方の保護膜として、本発明のフィルムを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルム等を用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、フィルムは後述の如き表面処理を行い、しかる後にフィルム処理面と偏光子を接着剤を用いて貼り合わせる。使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス、ゼラチン等が挙げられる。偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。本発明のフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸とフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention has at least the film of the present invention and a polarizer. Usually, a polarizing plate has a polarizer and two protective films disposed on both sides thereof. The film of the present invention can be used as both or one protective film. A normal cellulose acetate film or the like may be used for the other protective film. Examples of the polarizer include an iodine polarizer, a dye polarizer using a dichroic dye, and a polyene polarizer. The iodine polarizer and the dye polarizer are generally produced using a polyvinyl alcohol film. When the film of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the film is subjected to a surface treatment as described later, and then the film-treated surface and a polarizer are bonded together using an adhesive. Examples of the adhesive used include polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, vinyl latexes such as butyl acrylate, and gelatin. The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film that protects both surfaces of the polarizer, and is further constructed by laminating a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the opposite surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate. The film is preferably bonded so that the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the film coincide with each other.

(フィルムの表面処理)
本発明では、偏光子と保護膜との接着性を改良するため、フィルムの表面を表面処理することが好ましい。表面処理については、接着性を改善できる限りいかなる方法を利用してもよいが、好ましい表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理および火炎処理が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことである。本発明では大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。その他、グロー放電処理の詳細については、米国特許第3462335号、米国特許第3761299号、米国特許第4072769号および英国特許第891469号明細書に記載されている。放電雰囲気ガス組成を放電開始後にポリエステル支持体自身が放電処理を受けることにより容器内に発生する気体種のみにした特表昭59−556430号公報に記載された方法も用いられる。また真空グロー放電処理する際に、フィルムの表面温度を80℃〜180℃にして放電処理を行う特公昭60−16614号公報に記載された方法も適用できる。
(Film surface treatment)
In the present invention, the surface of the film is preferably surface-treated in order to improve the adhesion between the polarizer and the protective film. As for the surface treatment, any method may be used as long as the adhesiveness can be improved. Preferred examples of the surface treatment include glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, and flame treatment. The glow discharge treatment here refers to so-called low temperature plasma that occurs under low pressure gas. In the present invention, plasma treatment under atmospheric pressure is also preferable. In addition, the details of the glow discharge treatment are described in US Pat. No. 3,462,335, US Pat. No. 3,761,299, US Pat. No. 4,072,769, and British Patent No. 891469. A method described in JP-A-59-556430 in which the discharge atmosphere gas composition is changed to only the gas species generated in the container by subjecting the polyester support itself to a discharge treatment after the start of discharge is also used. In addition, the method described in Japanese Patent Publication No. 60-16614, in which the surface temperature of the film is set to 80 ° C. to 180 ° C. when performing the vacuum glow discharge treatment, can also be applied.

表面処理の程度については、表面処理の種類によって好ましい範囲も異なるが、表面処理の結果、表面処理を施された保護膜の表面の純水との接触角が、50°未満となるのが好ましい。前記接触角は、25°以上45°未満であるのがより好ましい。保護膜表面の純水との接触角が上記範囲にあると、保護膜と偏光膜との接着強度が良好となる。   As for the degree of surface treatment, the preferred range varies depending on the type of surface treatment, but as a result of the surface treatment, the contact angle with the pure water on the surface of the protective film subjected to the surface treatment is preferably less than 50 °. . The contact angle is more preferably 25 ° or more and less than 45 °. When the contact angle with the pure water on the surface of the protective film is in the above range, the adhesive strength between the protective film and the polarizing film becomes good.

(接着剤)
ポリビニルアルコールからなる偏光子と、表面処理された本発明のフィルムとを貼合する際には、水溶性ポリマーを含有する接着剤を用いることが好ましい。前記接着剤に好ましく使用される水溶性ポリマーとしては、N−ビニルピロリドン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリル酸β−ヒドロキシエチル、メタクリル酸β−ヒドロキシエチル、ビニルアルコール、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ビニルイミダゾールなどエチレン性不飽和モノマーを構成要素として有する単独重合体もしくは重合体、またポリオキシエチレン、ボリオキシプロピレン、ポリ−2−メチルオキサゾリン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースゼラチン、などが挙げられる。本発明では、この中でもPVAおよびゼラチンが好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に0.01〜5μmが好ましく、0.05〜3μmがより好ましい。
(adhesive)
When laminating a polarizer made of polyvinyl alcohol and the surface-treated film of the present invention, it is preferable to use an adhesive containing a water-soluble polymer. Water-soluble polymers preferably used for the adhesive include N-vinyl pyrrolidone, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, β-hydroxyethyl acrylate, β-hydroxyethyl methacrylate, vinyl alcohol, methyl vinyl ether, vinyl acetate. , Acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, vinyl imidazole, etc., homopolymers or polymers having ethylenically unsaturated monomers as constituents, polyoxyethylene, polyoxypropylene, poly-2-methyloxazoline, methylcellulose, hydroxyethylcellulose , Hydroxypropylcellulose gelatin, and the like. Of these, PVA and gelatin are preferred in the present invention. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 5 μm after drying, and more preferably 0.05 to 3 μm.

(反射防止層)
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される保護膜には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。特に、本発明では保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層または保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。
(Antireflection layer)
It is preferable to provide a functional film such as an antireflection layer on the protective film disposed on the opposite side of the polarizing plate from the liquid crystal cell. In particular, in the present invention, at least a light scattering layer and a low refractive index layer are laminated in this order on the protective film, or an intermediate refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are arranged in this order on the protective film. A laminated antireflection layer is preferably used.

(光散乱層)
光散乱層は、表面散乱および/または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生および脆性の悪化抑制の観点から、1〜10μmが好ましく、1.2〜6μmがより好ましい。
(Light scattering layer)
The light scattering layer is formed for the purpose of contributing to the film light diffusibility due to surface scattering and / or internal scattering and hard coat properties for improving the scratch resistance of the film. Therefore, it is formed including a binder for imparting hard coat properties, matte particles for imparting light diffusibility, and inorganic fillers for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength as necessary. The The thickness of the light scattering layer is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1.2 to 6 μm, from the viewpoint of imparting hard coat properties and from the viewpoint of curling and suppressing deterioration of brittleness.

(反射防止層の他の層)
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(Other layers of antireflection layer)
Further, a hard coat layer, a forward scattering layer, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、支持体の表面に設ける。特に、支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および/または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is provided on the surface of the support in order to impart physical strength to the protective film provided with the antireflection layer. In particular, it is preferably provided between the support and the high refractive index layer. The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a light and / or heat curable compound. The curable functional group is preferably a photopolymerizable functional group, and the hydrolyzable functional group-containing organometallic compound is preferably an organic alkoxysilyl compound.

(帯電防止層)
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が10-8(Ωcm-3)以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により10-8(Ωcm-3)の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。
(Antistatic layer)
In the case of providing an antistatic layer, it is preferable to impart conductivity with a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ) or less. The use of hygroscopic substances, water-soluble inorganic salts, certain surfactants, cationic polymers, anionic polymers, colloidal silica, etc. can give a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ). There is a problem that dependency is large, and sufficient conductivity cannot be secured at low humidity. Therefore, a metal oxide is preferable as the conductive layer material.

[液晶表示装置]
本発明のフィルム、該フィルムからなる位相差フィルム、該フィルムを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)およびHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。このうち、OCBモードまたはVAモードに好ましく用いることができる。
[Liquid Crystal Display]
The film of the present invention, a retardation film comprising the film, and a polarizing plate using the film can be used for liquid crystal cells and liquid crystal display devices in various display modes. TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal, AFLC) Various display modes such as HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. Of these, the OCB mode or the VA mode can be preferably used.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。ただし、実施例7及び実施例17は参考例である。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below. However, Example 7 and Example 17 are reference examples.

[ノルボルネン系化合物]
本発明で用いるノルボルネン重合体の原料のノルボルネン化合物の中で、5−ノルボルネン−2−イルアセテート(NBOCOCH3)はアルドリッチ社から、ノルボルネンカルボン酸メチルエステル(NBCOOCH3)は東京化成社から購入できる。それぞれ、ガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、NBOCOCH3は純度99.0%、endo/exo比率78/22、NBCOOCH3は純度98.5%、endo/exo比率49/51であった。その他のノルボルネン系化合物は、以下の合成例のように製造した。
[Norbornene compounds]
Among the norbornene compounds as the raw materials for the norbornene polymer used in the present invention, 5-norbornene-2-yl acetate (NBOCOCH 3 ) can be purchased from Aldrich, and norbornene carboxylic acid methyl ester (NBCOOCH 3 ) can be purchased from Tokyo Chemical Industry. When the peak purity was measured by gas chromatography, NBOCOCH 3 had a purity of 99.0%, an endo / exo ratio of 78/22, NBCOOCH 3 had a purity of 98.5%, and an endo / exo ratio of 49/51. It was. Other norbornene compounds were produced as in the following synthesis examples.

合成例1 5−アセトキシメチル−2−ノルボルネン(NBCH2OCOCH3)の合成
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)1094g、酢酸アリル(和光純薬社製)1772gとヒドロキノン(和光純薬社製)1gをオートクレーブに仕込み、空隙を窒素置換した。密閉系で内温180℃で9時間攪拌した(回転速度=300rpm)。反応混合物をろ過し、揮発成分をエバポレーションした。残存物を精密蒸留(カラム長さ=120cm、カラム充填物=Propak、還流比=10/1、圧力=10mmHg、トップ温度=89℃)に付して、無色透明なNBCH2OCH3を得た。ガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度99.9%、endo/exo比率83/17であった。
Synthesis Example 1 Synthesis of 5-acetoxymethyl-2-norbornene (NBCH 2 OCOCH 3 ) 1094 g of dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 1772 g of allyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and hydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1 g was charged into an autoclave, and the air gap was replaced with nitrogen. The mixture was stirred for 9 hours at an internal temperature of 180 ° C. in a closed system (rotational speed = 300 rpm). The reaction mixture was filtered and the volatile components were evaporated. The residue was subjected to precision distillation (column length = 120 cm, column packing = Propak, reflux ratio = 10/1, pressure = 10 mmHg, top temperature = 89 ° C.) to obtain colorless and transparent NBCH 2 OCH 3 . . When the peak purity was measured by gas chromatography, the purity was 99.9% and the endo / exo ratio was 83/17.

合成例2 5−ブチルオキシメチル−2−ノルボルネン(NBCH2OCOC37)の合成
合成例1において酢酸アリルを酪酸アリル(アルドリッチ社製)とする以外は、合成例1と同様に行い、無色透明なNBCH2OCOC37を得た。ガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度99.1%、endo/exo比率80/20であった。
Synthesis Example 2 Synthesis of 5-butyloxymethyl-2-norbornene (NBCH 2 OCOC 3 H 7 ) The same procedure as in Synthesis Example 1 was conducted except that allyl acetate was changed to allyl butyrate (manufactured by Aldrich). Clear NBCH 2 OCOC 3 H 7 was obtained. When the peak purity was measured by gas chromatography, the purity was 99.1% and the endo / exo ratio was 80/20.

合成例3 5−ヘキシルオキシメチル−2−ノルボルネン(NBCH2OCOC511)合成
合成例1において酢酸アリルをヘキサン酸アリル(和光純薬社製)とする以外は、合成例1と同様に行い、無色透明なNBCH2OCOC511を得た。ガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度99.0%、endo/exo比率79/21であった。
Synthesis Example 3 5-Hexyloxymethyl-2-norbornene (NBCH 2 OCOC 5 H 11 ) Synthesis Example 1 was repeated except that allyl acetate was changed to allyl hexanoate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in Synthesis Example 1. A colorless and transparent NBCH 2 OCOC 5 H 11 was obtained. When the peak purity was measured by gas chromatography, the purity was 99.0% and the endo / exo ratio was 79/21.

合成例4 endoリッチ−フェニルノルボルネン(endorich-PhNB)の合成
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)674.0g、スチレン(和光純薬社製)508.0gとヒドロキノン(和光純薬社製)1gをオートクレーブに仕込み、空隙を窒素置換した。密閉系で内温180℃で8時間攪拌した(回転速度=300rpm)。反応混合物をフラッシュ蒸留し、残存シクロペンタジエン、スチレン、重合物を除去し、租PhNBを得た。これを精密蒸留に付して、無色透明なendorich-PhNBを得た。得られた無色透明な液体をガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度98.5%、endo/exo比率78/22であった。
Synthesis Example 4 Synthesis of endo-rich-phenylnorbornene (endorich-PhNB) 674.0 g of dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 508.0 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1 g of hydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Was charged into an autoclave and the air gap was replaced with nitrogen. The mixture was stirred for 8 hours at an internal temperature of 180 ° C. in a closed system (rotational speed = 300 rpm). The reaction mixture was flash-distilled to remove residual cyclopentadiene, styrene, and polymer, thereby obtaining a preferential PhNB. This was subjected to precision distillation to obtain colorless and transparent endorich-PhNB. The obtained colorless and transparent liquid was subjected to gas chromatography to measure the peak purity. As a result, the purity was 98.5% and the endo / exo ratio was 78/22.

合成例5 exo−フェニルノルボルネン(exo-PhNB)の合成
ヨードベンゼン(和光純薬社製)100.0g、ノルボルナジエン(東京化成社製)200mL、ジメチルホルムアミド200mL、トリエチルアミン(和光純薬社製)225mL、ギ酸(純度99%、和光純薬社製)48mL、パラジウムジクロロビストリフェニルホスフィン(東京化成社製)3.4gを仕込み、内温50℃で3時間反応させた。これを酢酸エチル/水で分液抽出し、有機層をとりだした。硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、揮発分をエバポレーションした。残存物をカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンで留出させた。濃縮して得られた残存物を減圧蒸留(3mmHg/95℃)に付し、無色透明なexo-PhNBを得た。得られた無色透明な液体をガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度98.0%、endo/exo比率0/100であった。
Synthesis Example 5 Synthesis of exo-phenylnorbornene (exo-PhNB) 100.0 g of iodobenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 200 mL of norbornadiene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 200 mL of dimethylformamide, 225 mL of triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 48 ml of formic acid (purity 99%, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 3.4 g of palladium dichlorobistriphenylphosphine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were charged and reacted at an internal temperature of 50 ° C. for 3 hours. This was separated and extracted with ethyl acetate / water, and the organic layer was taken out. Dried over magnesium sulfate, filtered and evaporated volatiles. The residue was subjected to column chromatography and distilled with hexane. The residue obtained by concentration was subjected to vacuum distillation (3 mmHg / 95 ° C.) to obtain colorless and transparent exo-PhNB. The obtained colorless and transparent liquid was subjected to gas chromatography to measure its peak purity. As a result, the purity was 98.0%, and the endo / exo ratio was 0/100.

合成例6 exo−1−ナフチルノルボルネン(exo-1−NaphNB)の合成
1−ヨードナフタレン(アルドリッチ社製)123.0g、ジメチホルムアミド(和光純薬社製)200mL、ノルボルナジエン(東京化成社製)170mL、トリエチルアミン(和光純薬社製)270mL、ギ酸(99%、和光純薬社製)58mLとパラジウムジクロロビストリフェニルホスフィン(東京化成社製)5.16gを仕込み、60℃で3時間攪拌した。反応液を酢酸エチル/水で抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。これをろ過、エバポレーションした。残存物をカラムクロマトグラフィーに付し(展開溶媒:ヘキサン)、得られた溶液をエバポレーションした。これを減圧蒸留した(3mmHg/150〜155℃)。得られた無色透明な液exo-1−NaphNB体をガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度99.0%、endo/exo比率0/100であった。
Synthesis Example 6 Synthesis of exo-1-naphthylnorbornene (exo-1-NaphNB) 1-iodonaphthalene (manufactured by Aldrich) 123.0 g, dimethylformamide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 200 mL, norbornadiene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 170 mL Then, 270 mL of triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 58 mL of formic acid (99%, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 5.16 g of palladium dichlorobistriphenylphosphine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were charged and stirred at 60 ° C. for 3 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate / water, and the organic layer was dried over magnesium sulfate. This was filtered and evaporated. The residue was subjected to column chromatography (developing solvent: hexane), and the resulting solution was evaporated. This was distilled under reduced pressure (3 mmHg / 150-155 ° C.). The obtained colorless and transparent liquid exo-1-NaphNB was subjected to gas chromatography and its peak purity was measured. The purity was 99.0% and the endo / exo ratio was 0/100.

合成例7 exo−1−ピレニルノルボルネン(exo-PyrNB)の合成
1−ブロモピレン(東京化成社製)102.1g、ジメチホルムアミド(和光純薬社製)180mL、ノルボルナジエン(東京化成社製)112mL、トリエチルアミン(和光純薬社製)180mL、ギ酸(99%、和光純薬社製)40mLとパラジウムジクロロビストリフェニルホスフィン(東京化成社製)3.0gを仕込み、80℃で4時間攪拌した。反応液を酢酸エチル/水で抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。これをろ過、エバポレーションした。残存物をカラムクロマトグラフィーに付し(展開溶媒:ヘキサン)、目的物を含有する留分を濃縮し、再結晶させた。白色結晶のexo-PyrNBを得た。
Synthesis Example 7 Synthesis of exo-1-pyrenylnorbornene (exo-PyrNB) 1-bromopyrene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 102.1 g, dimethyformamide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 180 ml, norbornadiene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 112 ml, 180 mL of triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 40 mL of formic acid (99%, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 3.0 g of palladium dichlorobistriphenylphosphine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were charged and stirred at 80 ° C. for 4 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate / water, and the organic layer was dried over magnesium sulfate. This was filtered and evaporated. The residue was subjected to column chromatography (developing solvent: hexane), and the fraction containing the target product was concentrated and recrystallized. White crystalline exo-PyrNB was obtained.

[ノルボルネン系重合体の合成]
実施例1 P−1の合成
45mLの精製トルエンと36.0gのNBCH2OCOC511と7.9gのexo-NaphNBを反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセトルアセトナート(東京化成社製)12.4mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)11.3mgをトルエン5mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)61mgを添加した。この溶液を90℃で6時間攪拌した。得られた溶液をメタノール中で再沈殿させ、白色固体のP−1を得た。これを110℃で6時間真空乾燥した。
[Synthesis of norbornene polymers]
Example 1 Synthesis of P-1 45 mL of purified toluene, 36.0 g of NBCH 2 OCOC 5 H 11 and 7.9 g of exo-NaphNB were charged into a reaction vessel. Subsequently, a solution obtained by reacting 12.4 mg of palladium bisacetoacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 11.3 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 5 mL of toluene was added. Subsequently, 61 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenyl borate (manufactured by Strem Co.) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. The solution was stirred at 90 ° C. for 6 hours. The obtained solution was reprecipitated in methanol to obtain P-1 as a white solid. This was vacuum-dried at 110 ° C. for 6 hours.

上記のP−1を重ジクロロメタンに溶解させ、1HNMRを測定した。6.5〜8.5ppmに現われるピーク(ナフチル基の水素)の積分値と3.0〜4.5ppmに現われるピーク(アセトキシ基に結合したメチレン水素)の積分値の比較より、共重合比率は、73/27であった。
The above P-1 was dissolved in deuterated dichloromethane, and 1 HNMR was measured. From the comparison of the integrated value of the peak (hydrogen of naphthyl group) appearing at 6.5 to 8.5 ppm and the integrated value of the peak (methylene hydrogen bonded to an acetoxy group) appearing at 3.0 to 4.5 ppm, the copolymerization ratio is 73/27.

得られた重合体をテトラヒドロフランに溶解させ、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)による分子量を測定した。ポリスチレン換算で重量平均分子量(Mw)は504800、数平均分子量は104800であった。 The obtained polymer was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC). In terms of polystyrene, the weight average molecular weight (Mw) was 504800, and the number average molecular weight was 104800.

実施例2 P−2の合成
200mLの精製トルエンと31.2gのNBCH2OCOC511と11.8gのexo-NaphNBを反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセトルアセトナート(東京化成社製)6.6mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)5.9mgをトルエン5mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)49mgを添加した。この溶液を90℃で6時間攪拌した。得られた溶液をメタノール中で再沈殿させ、白色固体P−2を得た。これを110℃で6時間真空乾燥した。
Example 2 Synthesis of P-2 200 mL of purified toluene, 31.2 g of NBCH 2 OCOC 5 H 11 and 11.8 g of exo-NaphNB were charged into a reaction vessel. Next, a solution obtained by reacting 6.6 mg of palladium bisacetoacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 5.9 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 5 mL of toluene was added. Subsequently, 49 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate (manufactured by Strem Co.) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. The solution was stirred at 90 ° C. for 6 hours. The obtained solution was reprecipitated in methanol to obtain a white solid P-2. This was vacuum-dried at 110 ° C. for 6 hours.

前述と同様に、1HNMRを測定したところ、共重合比率は、36/64であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは450300、Mnは103100であった。
As described above, when 1 HNMR was measured, the copolymerization ratio was 36/64. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 450300 and Mn was 103100 in terms of polystyrene.

実施例3 P−3
実施例1においてNBCH2OCOC511の代わりに等モル量のNBCH2OCOC37を用い、同様の合成を行い、P−2を得た。この共重合比率は、25/75であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは473400、Mnは113400であった。
Example 3 P-3
In Example 1, the same synthesis was carried out using NBCH 2 OCOC 3 H 7 in an equimolar amount instead of NBCH 2 OCOC 5 H 11 to obtain P-2. The copolymerization ratio was 25/75. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 473400 and Mn was 113400 in terms of polystyrene.

実施例4 P−4の合成
実施例1においてNBCH2OCOC511の代わりに等モル量のNBCH2OCOCH3を用い、同様の合成を行い、P−4を得た。この共重合比率は、24/76であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは540500、Mnは132400であった。
Example 4 Synthesis of P-4 A similar synthesis was performed using an equimolar amount of NBCH 2 OCOCH 3 instead of NBCH 2 OCOC 5 H 11 in Example 1, to obtain P-4. The copolymerization ratio was 24/76. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 540500 and Mn was 132400 in terms of polystyrene.

実施例5 P−5の合成
実施例1においてNBCH2OCOC511の代わりに等モル量のNBCOOCH3を用い、同様の合成を行い、P−5を得た。この共重合比率は、45/55であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは200300、Mnは52100であった。
Example 5 Synthesis of P-5 The same synthesis was performed in Example 1 using an equimolar amount of NBCOOCH 3 instead of NBCH 2 OCOC 5 H 11 to obtain P-5. The copolymerization ratio was 45/55. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 200300 and Mn was 52100 in terms of polystyrene.

実施例6 P−6の合成
実施例1においてNBCH2OCOC511の代わりに等モル量のNBOCOCH3を用い、同様の合成を行い、P−6を得た。この共重合比率は、45/55であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは227500、Mnは83100であった。
Example 6 Synthesis of P-6 P-6 was obtained in the same manner as in Example 1, except that an equimolar amount of NBOCOCH 3 was used instead of NBCH 2 OCOC 5 H 11 . The copolymerization ratio was 45/55. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 227500 and Mn was 83100 in terms of polystyrene.

実施例7 P−7の合成
200mLの精製トルエンと51.8gのexo-NaphNBと1−オクテン(和光純薬社製)11.2gを反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセトルアセトナート(東京化成社製)2mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)2mgをトルエン5mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)30mgを添加した。この溶液を90℃で4時間攪拌した。得られた溶液をメタノール中で再沈殿させ、白色固体のP−7を得た。これを110℃で6時間真空乾燥した。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは340500、Mnは793000であった。
Example 7 Synthesis of P-7 200 mL of purified toluene, 51.8 g of exo-NaphNB and 11.2 g of 1-octene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged into a reaction vessel. Next, a solution obtained by reacting 2 mg of palladium bisacetoacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 2 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 5 mL of toluene was added. Subsequently, 30 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate (manufactured by Strem Co.) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. The solution was stirred at 90 ° C. for 4 hours. The obtained solution was reprecipitated in methanol to obtain white solid P-7. This was vacuum-dried at 110 ° C. for 6 hours. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 340500 and Mn was 793000 in terms of polystyrene.

実施例8 P−8の合成
80mLの精製トルエンと35.1gのNBCH2OCOC511と2.3gのexo-PyrNBを反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセトルアセトナート(東京化成社製)10.5mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)9.5mgをトルエン5mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)60mgを添加した。この溶液を90℃で6時間攪拌した。得られた溶液をメタノール中で再沈殿させ、白色固体P−8を得た。これを110℃で6時間真空乾燥した。
Example 8 Synthesis of P-8 80 mL of purified toluene, 35.1 g of NBCH 2 OCOC 5 H 11 and 2.3 g of exo-PyrNB were charged into a reaction vessel. Next, a solution obtained by reacting 10.5 mg of palladium bisacetolacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 9.5 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 5 mL of toluene was added. Subsequently, 60 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenyl borate (manufactured by Strem) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. The solution was stirred at 90 ° C. for 6 hours. The obtained solution was reprecipitated in methanol to obtain a white solid P-8. This was vacuum-dried at 110 ° C. for 6 hours.

前述と同様に、1HNMRを測定したところ、共重合比率は、95/5であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは490200、Mnは110500であった。
As described above, when 1 HNMR was measured, the copolymerization ratio was 95/5. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 490200 and Mn was 110500 in terms of polystyrene.

実施例9 P−9の合成
80mLの精製トルエンと35.2gのNBCH2OCOC511と7.0gのexo-PyrNBを反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセトルアセトナート(東京化成社製)10.7mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)10.3mgをトルエン5mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)60mgを添加した。この溶液を90℃で6時間攪拌した。得られた溶液をメタノール中で再沈殿させ、白色固体P−9を得た。これを110℃で6時間真空乾燥した。
Example 9 Synthesis of P-9 80 mL of purified toluene, 35.2 g of NBCH 2 OCOC 5 H 11 and 7.0 g of exo-PyrNB were charged into a reaction vessel. Subsequently, a solution obtained by reacting 10.7 mg of palladium bisacetoacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 10.3 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 5 mL of toluene was added. Subsequently, 60 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenyl borate (manufactured by Strem) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. The solution was stirred at 90 ° C. for 6 hours. The obtained solution was reprecipitated in methanol to obtain a white solid P-9. This was vacuum-dried at 110 ° C. for 6 hours.

前述と同様に、1HNMRを測定したところ、共重合比率は、84/16であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは520300、Mnは122000であった。
As described above, 1 HNMR was measured, and the copolymerization ratio was 84/16. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 520300 and Mn was 122000 in terms of polystyrene.

実施例10 P−10の合成
実施例9においてNBCH2OCOC511の代わりに等モル量のNBCH2OCOCH3を用い、同様の合成を行い、P−10を得た。この共重合比率は、15/85であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは493400、Mnは74500であった。
Example 10 Synthesis of P-10 The same synthesis was performed in Example 9 by using an equimolar amount of NBCH 2 OCOCH 3 instead of NBCH 2 OCOC 5 H 11 to obtain P-10. The copolymerization ratio was 15/85. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 493400 and Mn was 74500 in terms of polystyrene.

比較例1 PC−1の合成
60mLの精製トルエンと26.9gのNBCH2OCOC511と6.9gのendorcih-NBPhを反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセトルアセトナート(東京化成社製)7.1mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)7.6mgをトルエン10mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)49mgを添加した。この溶液を90℃で6時間攪拌した。なお、反応が進行すると溶液の粘度が上昇したので、トルエンを適宜加えた。得られた溶液をメタノール中で再沈殿させ、白色固体を得た。これを110℃で6時間真空乾燥した。
Comparative Example 1 Synthesis of PC-1 60 mL of purified toluene, 26.9 g of NBCH 2 OCOC 5 H 11 and 6.9 g of endorcih-NBPh were charged into a reaction vessel. Subsequently, a solution obtained by reacting 7.1 mg of palladium bisacetoacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 7.6 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 10 mL of toluene was added. Subsequently, 49 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate (manufactured by Strem Co.) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. The solution was stirred at 90 ° C. for 6 hours. Since the viscosity of the solution increased as the reaction proceeded, toluene was added as appropriate. The resulting solution was reprecipitated in methanol to give a white solid. This was vacuum-dried at 110 ° C. for 6 hours.

前述と同様に、1HNMRを測定したところ、共重合比率は、27/73であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは492500、Mnは108400であった。
As described above, when 1 HNMR was measured, the copolymerization ratio was 27/73. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 492,500 and Mn was 108400 in terms of polystyrene.

比較例2 PC−2の合成
比較例1においてendorcih-NBPhの代わりに等モル量のexo-NBPhを用い、同様の合成を行い、PC−2を得た。この共重合比率は、27/73であった。GPCによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算でMwは118900、Mnは523100であった。
Comparative Example 2 Synthesis of PC-2 In Comparative Example 1, the same synthesis was performed using equimolar amount of exo-NBPh instead of endorcih-NBPh to obtain PC-2. This copolymerization ratio was 27/73. When the molecular weight was measured by GPC, Mw was 118900 and Mn was 523100 in terms of polystyrene.

上記P−1〜10とPC−1〜2には、ベンゼン、ナフタレン、ピレンの1水素離脱体が長波成分として用いられている。これらベンゼン、ナフタレン、ピレンのメチレンクロライド溶液10mg/Lを調整し、島津製作所社製のUV測定機UV-2550で、25℃で測定した。ベンゼンは300nm以上の波長では極大吸収は検出されなかった。一方、ナフタレンとピレンは300nm〜400nmに極大吸収波長が検出された。ピレンは4箇所の極大吸収波長が検出された。主な極大吸収波長とモル吸光係数を下の表に示す。
In the above P-1 to 10 and PC-1 to PC-2, a 1-hydrogen leaving body of benzene, naphthalene and pyrene is used as a long wave component. A methylene chloride solution of 10 mg / L of benzene, naphthalene and pyrene was prepared and measured at 25 ° C. with a UV measuring machine UV-2550 manufactured by Shimadzu Corporation. The maximum absorption of benzene was not detected at a wavelength of 300 nm or more. On the other hand, the maximum absorption wavelength of naphthalene and pyrene was detected at 300 nm to 400 nm. Four maximum absorption wavelengths were detected for pyrene. The main maximum absorption wavelength and molar extinction coefficient are shown in the table below.

(実施例11)
(製膜とフィルムのRe測定)
重合体P−1 30gを塩化メチレン120gに溶解し、これを加圧ろ過した。得られたドープをA3大の疎水性ガラス板上でアプリケーターを用いて、流延製膜した。これを25℃密閉系で1分間乾燥し、続いて40℃の送風乾燥機中で15分間乾燥した。ガラス板からフィルムを剥ぎ取り、ステンレス製の枠に挟み、これを100℃の乾燥機中で30分間、133℃の乾燥機中で30分間乾燥を行い、透明なフィルムF−1を得た。
(Example 11)
(Film measurement and Re measurement of film)
30 g of polymer P-1 was dissolved in 120 g of methylene chloride, and this was filtered under pressure. The obtained dope was cast on an A3 large hydrophobic glass plate using an applicator. This was dried in a 25 ° C. closed system for 1 minute, followed by drying in a blow dryer at 40 ° C. for 15 minutes. The film was peeled off from the glass plate and sandwiched between stainless steel frames, which were dried in a dryer at 100 ° C. for 30 minutes and in a dryer at 133 ° C. for 30 minutes to obtain a transparent film F-1.

F−1の厚みは、デジタルマイクロメーターで任意の部分を3点測定し、その平均値をとった。波長450nm、590nm、630nmの正面レターデーションは25℃60%RHに調整された部屋で、前述の手法に基づき測定した。この値と実測の膜厚より80μmの換算値を求めた。膜厚80μm換算の未延伸フィルムの波長450nm、590nm、630nmにおける正面レターデーションをRe450、Re590、Re630、ΔRe=Re630−Re450とし、表2に結果を示す。 The thickness of F-1 was measured at an arbitrary portion with a digital micrometer at three points, and the average value was taken. Front retardation at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm was measured based on the above-described method in a room adjusted to 25 ° C. and 60% RH. A converted value of 80 μm was obtained from this value and the actually measured film thickness. The front retardation of the unstretched film converted into a film thickness of 80 μm at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm is Re 450 , Re 590 , Re 630 , ΔRe = Re 630 −Re 450, and the results are shown in Table 2.

(延伸フィルムの作製とRe測定)
F−1を縦5cm横5cmに裁断した。これを井元製作所製の自動延伸機を用いて、温度250℃において60%延伸を行い、延伸フィルムF−1'を得た。フィルムの厚みと波長450nm、590nm、630nmの正面レターデーションを測定し、この値と実測の膜厚より80μmの換算値を求めた。膜厚80μmの延伸フィルムの波長450nm、590nm、630nmにおける正面レターデーションRe450、Re590、Re630、ΔRe=Re630−Re450とし、表2に結果を示す。
(Production of stretched film and Re measurement)
F-1 was cut into 5 cm length and 5 cm width. This was stretched 60% at a temperature of 250 ° C. using an automatic stretching machine manufactured by Imoto Seisakusho to obtain a stretched film F-1 ′. The thickness of the film and the front retardation at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm were measured, and a converted value of 80 μm was determined from this value and the actually measured film thickness. Table 2 shows the results of the front retardation Re 450 , Re 590 , Re 630 , and ΔRe = Re 630 −Re 450 at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm of a stretched film having a thickness of 80 μm.

(実施例12〜20)
実施例11と同様に重合体P−2〜10よりフィルムを作製し、フィルムF−2〜10を得た。それぞれ膜厚と波長450nm、590nm、630nmの正面レターデーションを測定し、膜厚80μm換算の未延伸フィルムの波長450nm、590nm、630nmにおける正面レターデーションをRe450、Re590、Re630、ΔRe=Re630−Re450とし、表2に結果を示す。
(Examples 12 to 20)
A film was produced from the polymers P-2 to 10 in the same manner as in Example 11 to obtain films F-2 to 10. The film thickness and the front retardation at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm were measured, respectively, and the front retardation at the wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm of the unstretched film converted to a film thickness of 80 μm was Re 450 , Re 590 , Re 630 , ΔRe = Re The result is shown in Table 2 as 630- Re 450 .

フィルムF−2,3,4,5,6,8,9,10を延伸温度と延伸倍率を表2のようにして、延伸フィルムF−2',3',4',5',6',8',9',10'を得た。膜厚と波長450nm、590nm、630nmの正面レターデーションを測定し、膜厚80μm換算の未延伸フィルムの波長450nm、590nm、630nmにおける正面レターデーションをRe450、Re590、Re630、ΔRe=Re630−Re450とし、表2に結果を示す。 Films F-2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, and 10 were stretched at temperatures and stretch ratios as shown in Table 2, and stretched films F-2 ′, 3 ′, 4 ′, 5 ′, and 6 ′. , 8 ′, 9 ′, 10 ′. The film thickness and the front retardation at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm were measured, and the front retardation of the unstretched film converted into a film thickness of 80 μm at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm was Re 450 , Re 590 , Re 630 , ΔRe = Re 630 -Re 450, and Table 2 shows the results.

(比較例1〜2)
実施例11と同様に重合体PC−1〜2よりフィルムを作製し、フィルムFC−1〜2を得た。それぞれ膜厚と波長450nm、590nm、630nmの正面レターデーションを測定し、膜厚80μm換算の未延伸フィルムの波長450nm、590nm、630nmにおける正面レターデーションをRe450、Re590、Re630、ΔRe=Re630−Re450とし、表2に結果を示す。
(Comparative Examples 1-2)
A film was produced from the polymers PC-1 and PC-2 in the same manner as in Example 11 to obtain films FC-1 and FC-2. The film thickness and the front retardation at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm were measured, respectively, and the front retardation at the wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm of the unstretched film converted to a film thickness of 80 μm was Re 450 , Re 590 , Re 630 , ΔRe = Re The result is shown in Table 2 as 630- Re 450 .

フィルムFC−1、2を延伸温度と延伸倍率を表2のようにして、延伸フィルムFC−1'、1''、2'を得た。膜厚と波長450nm、590nm、630nmの正面レターデーションを測定し、膜厚80μm換算の未延伸フィルムの波長450nm、590nm、630nmにおける正面レターデーションをRe450、Re590、Re630、ΔRe=Re630−Re450とし、表2に結果を示す。 Films FC-1 and 2 were subjected to stretching temperatures and stretch ratios as shown in Table 2 to obtain stretched films FC-1 ′, 1 ″ and 2 ′. The film thickness and the front retardation at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm were measured, and the front retardation of the unstretched film converted into a film thickness of 80 μm at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm was Re 450 , Re 590 , Re 630 , ΔRe = Re 630 -Re 450, and Table 2 shows the results.

比較例1と2のように、吸収波長の短いベンゼンの1水素離脱体を有するノルボルネン重合体のフィルムのレターデーションの波長分散特性は、エンド/エキソの立体構造で正負を変えられるものの、その絶対値は小さい。一方、本発明のように、吸収波長が300nm〜400nmに極大吸収波長を有するナフタレンやピレンの1水素離脱体を有するノルボルネン重合体のフィルムのレターデーションの波長分散特性の絶対値は、より大きく発現することがわかる。   As in Comparative Examples 1 and 2, the wavelength dispersion characteristics of the retardation of the norbornene polymer film having a hydrogen absorption body of benzene having a short absorption wavelength can be changed between positive and negative by the endo / exo steric structure. The value is small. On the other hand, as in the present invention, the absolute value of the wavelength dispersion characteristic of the retardation of a norbornene polymer film having a hydrogen absorption body of naphthalene or pyrene having an absorption wavelength at a maximum absorption wavelength of 300 nm to 400 nm is more greatly expressed. I understand that

実施例21 偏光板の作製
上記作製したフィルムF−1'とセルロースアシレートフィルム(富士写真フイルム社製、フジTAC)を60℃の水酸化ナトリウム1.5N水溶液中で2分間浸漬した。この後、0.1Nの硫酸水溶液に30秒浸漬した後、水洗浴を通し、鹸化処理したF−1'とフジTACを得た。
Example 21 Production of Polarizing Plate The produced film F-1 ′ and a cellulose acylate film (Fuji Photo Film, Fuji TAC) were immersed in an aqueous 1.5N sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 2 minutes. Thereafter, it was immersed in a 0.1N aqueous sulfuric acid solution for 30 seconds, and then passed through a water-washing bath to obtain saponified F-1 ′ and Fuji TAC.

特開平2001−141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与えて、厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルム((株)クラレ製、9X75RS)を、長手方向に延伸し、偏光膜を得た。   According to Example 1 of JP 2001-141926 A, a peripheral speed difference is given between two pairs of nip rolls, and a 75 μm thick polyvinyl alcohol film (manufactured by Kuraray Co., Ltd., 9 × 75RS) is stretched in the longitudinal direction. A polarizing film was obtained.

このようにして得た偏光膜と、鹸化処理したF−1'を、PVA(クラレ社製、PVA−117H)3質量%水溶液を接着剤として、フィルムの長手方向が45゜となるように、「鹸化処理したF−1'/偏光膜/鹸化処理したフジTAC」の層構成で貼り合わせて偏光板Pol−1を作製した。   The polarizing film thus obtained and the saponified F-1 ′ were mixed with a 3% by mass aqueous solution of PVA (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-117H) as an adhesive so that the longitudinal direction of the film was 45 °. A polarizing plate Pol-1 was prepared by laminating with a layer structure of “saponified F-1 ′ / polarizing film / saponified FujiTAC”.

(実施例22:液晶表示装置の作製と評価)
VA型液晶セルを使用した26インチおよび40インチの液晶表示装置(シャープ(株)製)に液晶層を挟んで設置されている2対の偏光板のうち、観察者側の片面の偏光板を剥がし、粘着剤を用い、代わりに上記偏光板Pol−1を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸が直交するように配置して、液晶表示装置を作成した。得られた液晶表示装置が、黒表示状態で発生する光漏れと色ムラ、面内の均一性を観察した。本発明の偏光板Pol−1を組み込んだ液晶表示装置は色調変化が無く、非常に優れたものであった。
(Example 22: Production and evaluation of liquid crystal display device)
Among two pairs of polarizing plates installed with a liquid crystal layer sandwiched between 26-inch and 40-inch liquid crystal display devices (manufactured by Sharp Corporation) using VA type liquid crystal cells, a polarizing plate on one side on the viewer side is used. It peeled off and the said polarizing plate Pol-1 was affixed instead using the adhesive. A liquid crystal display device was prepared by arranging so that the transmission axis of the polarizing plate on the observer side and the transmission axis of the polarizing plate on the backlight side were orthogonal to each other. The obtained liquid crystal display device was observed for light leakage and color unevenness generated in the black display state, and in-plane uniformity. The liquid crystal display device incorporating the polarizing plate Pol-1 of the present invention was very excellent without any change in color tone.

Claims (9)

300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基を、少なくとも1つ有する下記一般式(I)で表されるノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位および下記一般式(II)で表される繰り返し単位のみから形成されることを特徴とするノルボルネン系重合体。
(式中、R 1 、R 2 、R 3 およびR 4 は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000[mol -1 dm 3 cm -1 ]である芳香族化合物の水素離脱体を含む置換基であり、少なくとも1つは前記水素離脱体を含む置換基である。)
(式中、R 5 、R 6 、R 7 およびR 8 は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、−L−O−CO−R 9 (Lは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基であり、R 9 は炭素数1〜5のアルキル基である。)であり、少なくとも一つは−L−O−CO−R 9 である。)
A substituent containing a hydrogen-leaved product of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ]; A norbornene-based polymer, which is formed only of a repeating unit derived from a norbornene-based compound represented by the following general formula (I) and at least one repeating unit represented by the following general formula (II) .
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or 300 nm to 400 nm) A substituent containing a hydrogen- leaved product of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ], and at least one Is a substituent containing the hydrogen-eliminating body.)
(Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or —L— O—CO—R 9 (L is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 9 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), at least one of which is —L—O—. CO-R 9 )
前記R1、R2、R3およびR4のうち、前記水素離脱体を含む置換基以外の置換基が、それぞれ、水素原子またはアルキル基である請求項に記載のノルボルネン重合体。 Wherein of R 1, R 2, R 3 and R 4, substituents other than the substituent containing hydrogen withdrawal member, respectively, norbornene polymer according to claim 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. 前記R1、R2、R3およびR4のうち、1つまたは2つが、前記水素離脱体を含む置換基である請求項に記載のノルボルネン系重合体。 Wherein R 1, one of R 2, R 3 and R 4, 1 or 2 but norbornene polymer according to claim 1, wherein the substituent containing hydrogen withdrawal member. 前記水素離脱体を含む置換基が、エキソ連結で置換された請求項1〜のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to any one of claims 1 to 3 , wherein a substituent containing the hydrogen-eliminating substance is substituted with an exo linkage. 前記300nm〜400nmに極大吸収波長を有し、極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000[mol -1 dm 3 cm -1 ]である芳香族化合物が2〜4環式芳香族化合物である請求項1〜のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ] is a 2 to 4 cyclic aromatic compound. The norbornene-based polymer according to any one of claims 1 to 4 . 一般式(I)で表される繰り返し単位を重合組成比率で3〜50%含む、請求項のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to any one of claims 1 to 5 , comprising 3 to 50% of a repeating unit represented by the general formula (I) in a polymerization composition ratio. 請求項1〜のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体を含むことを特徴とするフィルム。 A film comprising the norbornene-based polymer according to any one of claims 1 to 6 . 偏光膜と、請求項に記載のフィルムを有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising a polarizing film and the film according to claim 7 . 請求項に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 8 .
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