JP2009227868A - Resin composition and film - Google Patents

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宰輔 渡辺
Masataka Yoshizawa
昌孝 芳沢
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To adjust a Rth (retardation in the thickness direction) value of an unoriented norbornene compound addition polymer film and to materialize the various Re (retardation) or Rth values only by uniaxial orientation of the film. <P>SOLUTION: A resin composition comprises the norbornene compound addition polymer (A) having the repeating unit shown by general formula (1) (wherein R<SP>1</SP>, R<SP>2</SP>, R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>are each a hydrogen atom or a functional substituent independently) and a vinyl polymer (B) having a hydroxyl group. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂組成物、これを用いたフィルム(特に位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルム等の各種機能フィルム、偏光板保護フィルム)に関する。   The present invention relates to a resin composition and a film using the resin composition (in particular, various functional films such as a retardation film, a viewing angle widening film, an antireflection film used for a plasma display, and a polarizing plate protective film).

ノルボルネン系化合物がビニル重合したノルボルネン系付加重合体(以下ノルボルネン系重合体ともいう)のフィルムは、その特異な構造から、未延伸状態(延伸を行わない)で厚み方向のレターデーション(Rth)が高いという特徴を有する(例えば、特許文献1参照)。これを一軸延伸すると、レターデーション(Re)が発現し、VA方式(ヴァーティカルアラインメント)の液晶表示装置に適用可能な領域のRe、Rthを発現できる(例えば、特許文献2参照)。   A film of norbornene-based addition polymer (hereinafter also referred to as norbornene-based polymer) obtained by vinyl polymerization of norbornene-based compound has a thickness direction retardation (Rth) in an unstretched state (not stretched) due to its unique structure. It has the characteristic that it is high (for example, refer patent document 1). When this is uniaxially stretched, retardation (Re) is developed, and Re and Rth in a region applicable to a VA (vertical alignment) liquid crystal display device can be developed (for example, see Patent Document 2).

一方、ディスプレイによって固有のRe、Rthの値がもとめられている。上記のようにノルボルネン系重合体フィルムを一軸延伸すると、目的のReに到達させることは可能であるが、この場合Rthは自動的に決まった値となってしまう。すなわち、Re、Rthは、目標領域に近づけることは可能であるが、必ずしも各ディスプレイに適した固有の値にならないことがある。   On the other hand, specific Re and Rth values are determined by the display. When the norbornene-based polymer film is uniaxially stretched as described above, it is possible to reach the target Re, but in this case, Rth automatically becomes a predetermined value. That is, Re and Rth can be close to the target area, but may not necessarily be unique values suitable for each display.

したがって、未延伸のノルボルネン系付加重合体フィルムのRthの値を調整し、一軸延伸のみで種々のRe、Rthを発現させることが好ましいが、そのような技術は知られていない。   Therefore, it is preferable to adjust the Rth value of the unstretched norbornene-based addition polymer film and to express various Re and Rth only by uniaxial stretching, but such a technique is not known.

ノルボルネン系開環重合水素添加体にビニル系重合体を添加し、フィルムの波長分散性を変動させる技術が知られている(例えば、特許文献3参照)。しかしながら、この技術では波長分散性を発現させるために、フィルムの100%程度の高倍率延伸が必須である。すなわち、未延伸もしくは低倍率延伸(30%程度まで)のフィルムでは、この特許文献におけるビニル系重合体の添加の効果はきわめて小さいといえる。さらに、この特許文献には、環状オレフィン系重合体としてノルボルネン系付加重合体については言及されていない。
特表2005−539275号公報 特表2007−534010号公報 国際公開第06/070820号パンフレット
A technique is known in which a vinyl polymer is added to a norbornene-based ring-opening polymerization hydrogenated product to change the wavelength dispersion of the film (see, for example, Patent Document 3). However, in this technique, it is essential to stretch the film at a high magnification of about 100% in order to develop wavelength dispersion. That is, it can be said that the effect of the addition of the vinyl polymer in this patent document is very small in an unstretched film or a low magnification stretched film (up to about 30%). Further, this patent document does not mention a norbornene addition polymer as a cyclic olefin polymer.
JP 2005-539275 A Special table 2007-534010 gazette International Publication No. 06/070820 Pamphlet

本発明の課題は、未延伸のノルボルネン系付加重合体フィルムのRthの値を調整することであり、一軸延伸のみで、Re、Rthを種々の値に発現させることにある。すなわち、ノルボルネン系重合体のRe、Rthの値を簡便にかつ自在にコントロールすることにある。   An object of the present invention is to adjust the value of Rth of an unstretched norbornene-based addition polymer film, and to provide Re and Rth to various values only by uniaxial stretching. That is, it is to easily and freely control the values of Re and Rth of the norbornene polymer.

本発明者は、ノルボルネン系重合体に有機物を添加することで、もとのノルボルネン系重合体フィルムよりRthを低減させることを試み、その有機物を種々検討した。その結果、一定の分子量を有し、水酸基を有する樹脂が、ノルボルネン系重合体に相溶し、これが透明なフィルムを与え、Rthが低減できることを見出し、本発明に至った。   The present inventor attempted to reduce Rth from the original norbornene polymer film by adding an organic material to the norbornene polymer, and examined the organic material in various ways. As a result, it has been found that a resin having a certain molecular weight and having a hydroxyl group is compatible with the norbornene-based polymer, which gives a transparent film, and Rth can be reduced, leading to the present invention.

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
1. 下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するノルボルネン系重合体(A)とヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)とを含有する樹脂組成物。
Means for solving the above problems are as follows.
1. A resin composition comprising a norbornene polymer (A) having a repeating unit represented by the following general formula (1) and a vinyl polymer (B) having a hydroxyl group.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(一般式(1)中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子または−(CH2m−OC(O)−R’’、−(CH2m−OH、−(CH2m−C(O)−OH、−(CH2m−C(O)OR’’、−(CH2m−OR’’、−(CH2m−OC(O)OR’’、−(CH2m−C(O)R’’、−(CH2m−O−(CH2m−OHよりなる群から選ばれる官能性置換基であり、ここでmは独立に0〜10であり、R’’は直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、R1とR4はそれらが結合している環員炭素原子と一緒になって無水物もしくはジカルボキシイミド基を形成することができる。ただし、R1〜R4の少なくとも1つは官能性置換基である。)
2. 前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)が、下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有する重合体である上記1に記載の樹脂組成物。
(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or — (CH 2 ) m —OC (O) —R ″, — (CH 2 ) m. -OH, - (CH 2) m -C (O) -OH, - (CH 2) m -C (O) OR '', - (CH 2) m -OR '', - (CH 2) m - A functional substituent selected from the group consisting of OC (O) OR ″, — (CH 2 ) m —C (O) R ″, — (CH 2 ) m —O— (CH 2 ) m —OH; Wherein m is independently 0 to 10, R ″ represents a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 1 and R 4 are bonded to each other. Together with the ring carbon atoms can form an anhydride or dicarboximide group, provided that at least one of R 1 to R 4 is a functional substituent.)
2. 2. The resin composition according to 1 above, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group is a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (2).

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(一般式(2)中、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を表し、nは0または正の整数である。)
3. 前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)が、さらに下記一般式(3)および(4)より選ばれる少なくとも一種類の繰り返し単位を有する重合体である上記2に記載の樹脂組成物。
(In General Formula (2), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom, which may have a linking group, An unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; or a polar group, and n is 0 or a positive integer.)
3. 3. The resin composition as described in 2 above, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group is a polymer further having at least one repeating unit selected from the following general formulas (3) and (4).

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(一般式(3)および(4)中、R4〜R7は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を表し、R5は全て同一の原子または基であっても、互いに異なる原子または基であってもよい。)
4. 前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)が、下記一般式(5)の各繰り返し単位を有する重合体である上記3に記載の樹脂組成物。
(In General Formulas (3) and (4), R 4 to R 7 may each independently have a linking group containing a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; or a polar group, and all R 5 s may be the same atom or group or different from each other.
4). 4. The resin composition according to 3 above, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group is a polymer having each repeating unit of the following general formula (5).

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(一般式(5)中、R1〜R7は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を表し、R5は全て同一の原子または基であっても、互いに異なる原子または基であってもよく、nは0または正の整数であり、x、yおよびzは、x+y+z=100モル%とした場合の各繰り返し単位のモル比を示し、1<x<20、かつ、40<y<99を満たす。)
5. 前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)の重量平均分子量が1000〜50000、数平均分子量が500〜25000である上記1〜4のいずれかに記載の樹脂組成物。
6. 前記一般式(5)におけるR7がCOOR’’(R’’は炭素数1〜4のアルキル基)である上記4または5に記載の樹脂組成物。
7. 前記ノルボルネン系重合体(A)が一般式(1)で表される繰り返し単位を50〜100モル%含有する上記1〜6のいずれかに記載の樹脂組成物。
8. 前記一般式(1)のR1、R2、R3、R4のうち一つが−CH2−OC(O)−R’’(R’’は前記と同様)または−C(O)OR’’(R’’は前記と同様)であり、残り3つが水素原子である上記1〜7のいずれかに記載の樹脂組成物。
9. 前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)とノルボルネン系重合体(A)の質量混合比(A/B)が99/1〜50/50である上記1〜8のいずれかに記載の樹脂組成物。
10. 上記1〜9のいずれかに記載の樹脂組成物からなるフィルム。
(In the general formula (5), R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom, which may have a linking group, An unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; or a polar group, and all R 5 s may be the same or different from each other, and n may be 0 or positive X, y and z represent the molar ratio of each repeating unit when x + y + z = 100 mol%, and 1 <x <20 and 40 <y <99 are satisfied.)
5. The resin composition according to any one of 1 to 4 above, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group has a weight average molecular weight of 1000 to 50000 and a number average molecular weight of 500 to 25000.
6). 6. The resin composition according to 4 or 5 above, wherein R 7 in the general formula (5) is COOR ″ (R ″ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms).
7). 7. The resin composition according to any one of 1 to 6 above, wherein the norbornene polymer (A) contains 50 to 100 mol% of a repeating unit represented by the general formula (1).
8). One of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) is —CH 2 —OC (O) —R ″ (R ″ is the same as described above) or —C (O) OR. 8. The resin composition according to any one of 1 to 7 above, wherein R is the same as described above, and the remaining three are hydrogen atoms.
9. The resin according to any one of 1 to 8 above, wherein a mass mixing ratio (A / B) of the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group and the norbornene polymer (A) is 99/1 to 50/50. Composition.
10. The film which consists of a resin composition in any one of said 1-9.

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

[ノルボルネン系重合体(A)]
本発明において、ノルボルネン系重合体とは、1種類のノルボルネン系化合物が付加重合した単独重合体もしくは2種類以上のノルボルネン系化合物が付加重合した共重合体のことと定義する。
[Norbornene polymer (A)]
In the present invention, the norbornene polymer is defined as a homopolymer obtained by addition polymerization of one kind of norbornene compound or a copolymer obtained by addition polymerization of two or more kinds of norbornene compounds.

本発明におけるノルボルネン系重合体(A)は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する。   The norbornene polymer (A) in the present invention has a repeating unit represented by the following general formula (1).

Figure 2009227868
Figure 2009227868

一般式(1)中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子または−(CH2m−OC(O)−R’’、−(CH2m−OH、−(CH2m−C(O)−OH、−(CH2m−C(O)OR’’、−(CH2m−OR’’、−(CH2m−OC(O)OR’’、−(CH2m−C(O)R’’、−(CH2m−O−(CH2m−OHよりなる群から選ばれる官能性置換基であり、ここでmは独立に0〜10であり、R’’は直鎖状または分岐鎖状(C1〜C10)アルキルを表し、R1とR4はそれらが結合している環員炭素原子と一緒になって無水物もしくはジカルボキシイミド基を形成することができる。ただしR1〜R4の少なくとも1つは官能性置換基である。 In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or — (CH 2 ) m —OC (O) —R ″, — (CH 2 ) m —. OH, — (CH 2 ) m —C (O) —OH, — (CH 2 ) m —C (O) OR ″, — (CH 2 ) m —OR ″, — (CH 2 ) m —OC A functional substituent selected from the group consisting of (O) OR ″, — (CH 2 ) m —C (O) R ″, — (CH 2 ) m —O— (CH 2 ) m —OH Where m is independently 0-10, R ″ represents linear or branched (C 1 -C 10 ) alkyl, and R 1 and R 4 are the ring member carbons to which they are attached. Together with the atoms, an anhydride or dicarboximide group can be formed. However, at least one of R 1 to R 4 is a functional substituent.

前記一般式(1)で表される繰り返し単位を得るためのモノマーは、シクロペンタジエンと対応するオレフィンとのディールスアルダー反応で得ることができる。したがって、対応するオレフィンの汎用性の観点から、官能性置換基は、−(CH2m−OC(O)−R’’、−(CH2m−OH、−(CH2m−C(O)−OH、−(CH2m−C(O)OR’’、−(CH2m−OR’’が好ましい。さらに、モノマーの重合成の観点から、−(CH2m−OC(O)−R’’、−(CH2m−C(O)OR’’、−(CH2m−OR’’がさらに好ましく、−(CH2m−OC(O)−R’’、−(CH2m−C(O)OR’’がもっとも好ましい。 The monomer for obtaining the repeating unit represented by the general formula (1) can be obtained by Diels-Alder reaction between cyclopentadiene and the corresponding olefin. Therefore, from the viewpoint of the versatility of the corresponding olefin, the functional substituents are — (CH 2 ) m —OC (O) —R ″, — (CH 2 ) m —OH, — (CH 2 ) m —. C (O) —OH, — (CH 2 ) m —C (O) OR ″, and — (CH 2 ) m —OR ″ are preferred. Furthermore, from the viewpoint of monomer polysynthesis, — (CH 2 ) m —OC (O) —R ″, — (CH 2 ) m —C (O) OR ″, — (CH 2 ) m —OR ′ ′ Is more preferable, and — (CH 2 ) m —OC (O) —R ″ and — (CH 2 ) m —C (O) OR ″ are most preferable.

mおよびR’’は、フィルムの光弾性を小さくする観点から、その炭素数が小さいことが好ましいが、重合体のガラス転移点を下げる観点からは炭素数が大きいことが好ましい。双方の点を考慮すると、R’’は、炭素数1〜6であるのが好ましく、1〜3であることがさらに好ましく、1〜2であることがもっとも好ましい。mは、1〜5が好ましく、1〜3がさらに好ましく、1〜2がもっとも好ましい。   m and R ″ preferably have a small carbon number from the viewpoint of reducing the photoelasticity of the film, but are preferably large from the viewpoint of lowering the glass transition point of the polymer. Considering both points, R ″ preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3, and most preferably 1 or 2. m is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and most preferably 1 to 2.

官能性置換基の立体化学は、エンドエキソの二種類あるが、これは単一もしくは混合物で用いてもよい。上記のディールスアルダー反応では、エンド体が主生成物の混合物となることが一般であり、これをそのまま用いてもよい。   There are two types of stereochemistry of functional substituents, endoexo, which may be used alone or in a mixture. In the Diels-Alder reaction described above, it is common that the end body is a mixture of main products, and this may be used as it is.

一般式(1)で表される繰り返し単位の具体例を以下に示すが、本発明は、これに限定されない。   Specific examples of the repeating unit represented by the general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

ノルボルネン系重合体(A)は、一般式(1)の骨格を含むが、これ以外のノルボルネン系化合物を1種類以上含んでもよい。この場合、一般式(1)の骨格を50〜100モル%含むことが好ましく、60〜100モル%含むことがさらに好ましく、80〜100モル%含むことが最も好ましい。   The norbornene polymer (A) includes the skeleton of the general formula (1), but may include one or more other norbornene compounds. In this case, the skeleton of the general formula (1) is preferably contained in an amount of 50 to 100 mol%, more preferably 60 to 100 mol%, and most preferably 80 to 100 mol%.

以下に、本発明のノルボルネン系重合体(A)の好ましい化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、()の右上の数値は、共重合の比率を示す。   Although the preferable compound of the norbornene-type polymer (A) of this invention is illustrated below, this invention is not limited to these. In addition, the numerical value of the upper right of () shows the ratio of copolymerization.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

本発明のノルボルネン系重合体(A)は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量が10,000〜1,000,000であるのが好ましく、50,000〜500,000であるのがより好ましい。また、ポリスチレン換算の重量平均分子量は15,000〜1,500,000が好ましく、70,000〜700,000がより好ましい。ポリスチレン換算の数平均分子量が10,000以上、重量平均分子量が15,000以上であると、破壊強度がより好ましい傾向にあり、ポリスチレン換算の数平均分子量が1,000,000以下、重量平均分子量が1,500,000以下であると、シートとしての成形加工性が向上する傾向にあり、またキャストフィルム等とするときに溶液粘度が低くなり、扱いやすい傾向にある。分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜5.0が好ましく、1.1〜4.0がより好ましく、1.1〜3.5がさらに好ましい。ノルボルネン系重合体の分子量分布を上記のような範囲にすることにより、ノルボルネン系重合体溶液(ドープ)が均一になりやすく、良好なフィルムが作製しやすくなる。   The norbornene-based polymer (A) of the present invention preferably has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 10,000 to 1,000,000 as measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent. It is more preferable that it is 1,000-500,000. The weight average molecular weight in terms of polystyrene is preferably 15,000 to 1,500,000, more preferably 70,000 to 700,000. When the number average molecular weight in terms of polystyrene is 10,000 or more and the weight average molecular weight is 15,000 or more, the fracture strength tends to be more preferable, the number average molecular weight in terms of polystyrene is 1,000,000 or less, and the weight average molecular weight. If it is 1,500,000 or less, the molding processability as a sheet tends to be improved, and when it is used as a cast film or the like, the solution viscosity becomes low and tends to be easy to handle. The molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.1 to 4.0, and still more preferably 1.1 to 3.5. By setting the molecular weight distribution of the norbornene-based polymer within the above range, the norbornene-based polymer solution (dope) is likely to be uniform, and a good film can be easily produced.

本発明のノルボルネン系重合体(A)は、一般式(1)に相当するモノマーと必要に応じてその他のノルボルネン系モノマーを用いて、以下の重合方法で得ることができる。   The norbornene polymer (A) of the present invention can be obtained by the following polymerization method using a monomer corresponding to the general formula (1) and, if necessary, other norbornene monomers.

重合触媒として[Pd(CH3CN)4][BF42、ジ−μ−クロロ−ビス−(6−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−エンド−5σ,2π)−Pd(以下、「I」と略す)とメチルアルモキサン(MAO)、IとAgBF4、IとAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgBF4、[(η3−クロチル)Pd(シクロオクタジエン)][PF6]、[(η3−アリル)Pd(η5−シクロペンタジエニル)]2とトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートもしくはトリチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、パラジウムビスアセチルアセトナートとトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、酢酸パラジウムとトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η3−アリル)PdCl]2とトリシクロヘキシルホスフィンとトリブチルアリルスズもしくはアリルマグネシウムクロライドとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η5−シクロペンタジエニル)Ni(メチル)(トリフェニルホスフィン)]とトリスペンタフルオロフェニルボラン、[(η3−クロチル)Ni(シクロオクタジエン)][B((CF32644]、[NiBr(NPMe3)]4とMAO、Ni(オクトエート)2とMAO、Ni(オクトエート)2とB(C653とAlEt3、Ni(オクトエート)2と[Ph3C][B(C654]とAli−Bu3、Co(ネオデカノエート)とMAO等の周期律表8族のNi、Pd、Co等のカチオン錯体またはカチオン錯体を形成する触媒を用いて、溶媒中で20〜150℃の範囲で、モノマーを単独もしくは共重合することにより得られる。
モノマーははじめから反応容器に入れておき反応させることも、徐々にモノマーをフィードしていく手法も採用できる。
溶媒としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン等の脂環式炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ジクロロメタン、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールジメチルエーテル、ニトロメタン等の極性溶媒;から選択することができる。
また、他の合成方法として、Macromolecules、1996年、29巻、2755ページ、Macromolecules、2002年、35巻、8969ページ、国際特許公開第04/007564号、国際特許公開第04/050726号、国際特許公開第06/004376号、国際特許公開06/031067号、国際特許公開第06/013759号、国際特許公開第06/046611号の各パンフレットに記載の方法も好適に用いられる。
[Pd (CH 3 CN) 4 ] [BF 4 ] 2 , di-μ-chloro-bis- (6-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene-endo-5σ, 2π) as a polymerization catalyst -Pd (hereinafter abbreviated as "I") and methylalumoxane (MAO), I and AgBF 4 , I and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and AgBF 4 , [(η 3 -crotyl) Pd (cyclooctadiene)] [PF 6 ], [(η 3 -allyl) Pd (η 5 -cyclopentadienyl)] 2 and tricyclohexylphosphine Dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate or trityltetrakispentafluorophenylborate, palladium bisacetylacetonate, tricyclohexylphosphine and dimethyla Nilinium tetrakispentafluorophenylborate, palladium acetate and tricyclohexylphosphine and dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate, [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and tricyclohexylphosphine and tributylallyltin or allylmagnesium chloride and dimethylanilinium Tetrakispentafluorophenylborate, [(η 5 -cyclopentadienyl) Ni (methyl) (triphenylphosphine)] and trispentafluorophenylborane, [(η 3 -crotyl) Ni (cyclooctadiene)] [B ( (CF 3 ) 2 C 6 H 4 ) 4 ], [NiBr (NPMe 3 )] 4 and MAO, Ni (octoate) 2 and MAO, Ni (octoate) 2 and B (C 6 F 5 ) 3 and AlEt 3 , Ni (Oct Ate) 2 and [Ph 3 C] [B (C 6 F 5 ) 4 ], Ali-Bu 3 , Co (neodecanoate) and a cation complex or cation of Ni, Pd, Co or the like of Group 8 of the periodic table such as MAO It is obtained by homopolymerizing or copolymerizing monomers in a solvent at a temperature of 20 to 150 ° C. using a catalyst for forming a complex.
The monomer can be allowed to react in the reaction vessel from the beginning, or a method of gradually feeding the monomer can be employed.
Solvents include cycloaliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, cyclopentane and methylcyclopentane; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene and xylene; dichloromethane Halogenated hydrocarbon solvents such as 1,2-dichloroethylene and chlorobenzene; polar solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol dimethyl ether and nitromethane.
Other synthesis methods include Macromolecules, 1996, 29, 2755, Macromolecules, 2002, 35, 8969, International Patent Publication No. 04/007564, International Patent Publication No. 04/050726, International Patent The methods described in the pamphlets of Publication No. 06/004376, International Patent Publication No. 06/031067, International Patent Publication No. 06/013759, and International Patent Publication No. 06/046611 are also preferably used.

また、以上の重合法で得られたノルボルネン系重合体を、さらに高分子反応で変換することもできる。   Further, the norbornene-based polymer obtained by the above polymerization method can be further converted by a polymer reaction.

[ヒドロキシル基を含有するビニル系重合体(B)]
本発明に用いられるヒドロキシル基を含有するビニル系重合体(B)は、下記一般式(2)で表される構造単位を有する重合体であり、さらに下記一般式(3)および一般式(4)から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する共重合体であることが好ましい。
[Vinyl polymer containing hydroxyl group (B)]
The vinyl polymer (B) containing a hydroxyl group used in the present invention is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (2). Further, the following general formulas (3) and (4) A copolymer having at least one structural unit selected from:

Figure 2009227868
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式中、R1〜R7は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を示す。R5は全て同一の原子または基であっても、個々異なる原子または基であってもよい。nは0または正の整数である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。
In the formula, each of R 1 to R 7 independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted carbon atom which may have a linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom. A hydrocarbon group of 1 to 30; or a polar group. R 5 may all be the same atom or group, or may be different atoms or groups. n is 0 or a positive integer.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

炭素原子数1〜30の炭化水素基としては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロへキシル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基;エチリデン基、プロピリデン基等のアルキリデン基;フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基;式:−(CH2)m−R’(式中、R’は前記シクロアルキル基または前記アリール基であり、mは1〜10の整数である)で表される基、例えば、ベンジル基、2−フェニルエチル基等のアラルキル基等;等が挙げられる。これらの基中の炭素原子に結合した水素原子は、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子;フェニルスルホニル基;シアノ基等で置換されていてもよい。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, and propyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; vinyl group, allyl group, propenyl group, and the like. An alkylidene group such as an ethylidene group or a propylidene group; an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group or an anthracenyl group; a formula: — (CH 2 ) m —R ′ (wherein R ′ represents the cycloalkyl group or The aryl group and m is an integer of 1 to 10, for example, an aralkyl group such as a benzyl group and a 2-phenylethyl group; and the like. A hydrogen atom bonded to a carbon atom in these groups may be substituted with, for example, a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine; a phenylsulfonyl group; a cyano group or the like.

また、上記の置換または非置換の炭化水素基は直接環構造に結合していてもよいし、あるいは連結基(linkagc)を介して結合していてもよい。連結基としては、たとえば、炭素原子数1〜10の2価の炭化水素基(たとえば、−(CH2)m−(式中、mは1〜10の整数)で表されるアルキレン基);酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはケイ素原子を含む連結基(たとえば、カルボニル基(−CO−)、カルボニルオキシ基(−COO−)、オキシカルボニル基(−O(CO)−)、スルホニル基(−SO2−)、スルホニルオキシ基(−SO2O−)、オキシスルホニル基(−OSO2−)、エーテル結合(−O−)、チオエーテル結合(−S−)、イミノ基(−NH−)、アミド結合(−NHCO−、−CONH−)、式:−Si(R)2−、式:−Si(OR)2O−、式:−OSi(R)2−、または式:−OSi(OR)2−(前記各式中、Rは炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、好ましくは、メチル基、エチル基等のアルキル基である)で表されるケイ素原子を含む結合等が挙げられ、これらを複数含む連結基であってもよい。 In addition, the substituted or unsubstituted hydrocarbon group may be directly bonded to the ring structure, or may be bonded via a linking group (linkagc). As the linking group, for example, a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms (for example, an alkylene group represented by — (CH 2 ) m — (wherein m is an integer of 1 to 10)); A linking group containing an oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or silicon atom (for example, a carbonyl group (—CO—), a carbonyloxy group (—COO—), an oxycarbonyl group (—O (CO) —), a sulfonyl group ( —SO 2 —), sulfonyloxy group (—SO 2 O—), oxysulfonyl group (—OSO 2 —), ether bond (—O—), thioether bond (—S—), imino group (—NH—) Amide bond (—NHCO—, —CONH—), formula: —Si (R) 2 —, formula: —Si (OR) 2 O—, formula: —OSi (R) 2 —, or formula: —OSi ( OR) 2 - (in each of the formulas above, R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms Preferably methyl, bond or the like containing silicon atoms, represented by a is) alkyl group such as ethyl group and the like, or may be a linking group containing a plurality of these.

上記の置換または非置換の炭化水素基が上記連結基を介して環構造に結合している場合の構造としては、例えば、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、トリオルガノシリル基、トリオルガノシロキシ基等が挙げられる。
更に具体的には、上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ;アシル基としては、例えば、アセチル基、ベンゾイル基等が挙げられ;アルキルカルボニルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等が挙げられ;アリールカルボニルオキシ基としては、例えば、ベンゾイルオキシ基等が挙げられ;アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ;アリーロキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ;トリオルガノシロキシ基としては、例えば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等のトリアルキルシロキシ基や、トリメトキシシロキシ基、トリエトキシシロキシ基等のトリアルコキシシロキシ基が挙げられ;トリオルガノシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等のトリアルキルシリル基やトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等のトリアルコキシシリル基等が挙げられる。
Examples of the structure in which the substituted or unsubstituted hydrocarbon group is bonded to the ring structure through the linking group include, for example, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylcarbonyloxy Group, arylcarbonyloxy group, triorganosilyl group, triorganosiloxy group and the like.
More specifically, examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group; examples of the acyl group include an acetyl group and a benzoyl group; examples of the alkylcarbonyloxy group include: An acetoxy group, a propionyloxy group, and the like; examples of the arylcarbonyloxy group include a benzoyloxy group; examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and the like; Examples of the carbonyl group include a phenoxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, a fluorenyloxycarbonyl group, a biphenylyloxycarbonyl group, and the like; examples of the triorganosiloxy group include a trimethylsiloxy group and a triethylsiloxy group. And trialkoxysiloxy groups such as trimethoxysiloxy group and triethoxysiloxy group; examples of the triorganosilyl group include trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group and triethylsilyl group; Examples include trialkoxysilyl groups such as silyl groups and triethoxysilyl groups.

Figure 2009227868
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次に、極性基としては、例えば、水酸基;シアノ基;アミド基;イミノ基(=NH);第1級アミノ基(−NH2)等のアミノ基;スルホン酸基(−SO3H);スルフィノ基(−SO2H);カルボキシル基(−COOH)等が挙げられる。
ビニル系重合体(B)は、下記一般式(5)で表される各繰り返し単位を有する重合体であることが好ましい。
Next, examples of the polar group include a hydroxyl group; a cyano group; an amide group; an imino group (═NH); an amino group such as a primary amino group (—NH 2 ); a sulfonic acid group (—SO 3 H); And sulfino group (—SO 2 H); carboxyl group (—COOH) and the like.
The vinyl polymer (B) is preferably a polymer having each repeating unit represented by the following general formula (5).

式中、R1〜R7およびnは、上記一般式(2)〜(4)中のR1〜R7のおよびnの定義と同義である。
x、yおよびzは、x+y+z=100モル%とした場合の各繰り返し単位のモル比を示し、好ましくは1<x<20、かつ、40<y<99を満たす。
また、0≦n<4であり、かつR1〜R4が水素原子またはメチル基であることがさらに好ましく、特にR1がメチル基、R2〜R4が水素原子であることが好ましい。
Wherein, R 1 to R 7 and n are the same as those defined and n R 1 to R 7 in the general formula (2) to (4).
x, y, and z represent the molar ratio of each repeating unit when x + y + z = 100 mol%, and preferably 1 <x <20 and 40 <y <99.
Further, 0 ≦ n <4, and R 1 to R 4 are more preferably a hydrogen atom or a methyl group, particularly preferably R 1 is a methyl group and R 2 to R 4 are hydrogen atoms.

このようなビニル系重合体(B)は、上記一般式(2)で表される構造単位となりうるヒドロキシ(メタ)アクリレート単量体と、上記一般式(3)で表される構造単位となりうる芳香族ビニル系単量体と、上記一般式(4)で表される構造単位となりうるビニル系単量体とを共重合させることにより得ることができる。   Such vinyl polymer (B) can be a hydroxy (meth) acrylate monomer that can be a structural unit represented by the general formula (2) and a structural unit represented by the general formula (3). It can be obtained by copolymerizing an aromatic vinyl monomer and a vinyl monomer that can be a structural unit represented by the general formula (4).

<ヒドロキシ(メタ)アクリレート単量体>
一般式(2)で表される構造単位となりうるヒドロキシ(メタ)アクリレート単量体としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアクリレート、2−ヒドロキシ−n−プロピルアクリレート、3−ヒドロキシ−n−プロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、グリセリンモノアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−1−メチルエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−n−プロピルメタクリレート、3−ヒドロキシ−n−プロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、グリセリンモノメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレートを用いると、前記環状オレフィン系樹脂と良好な相溶性を示すビニル系重合体が得られる点で好ましい。
<Hydroxy (meth) acrylate monomer>
Examples of the hydroxy (meth) acrylate monomer that can be the structural unit represented by the general formula (2) include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxy-1-methylethyl acrylate, 2-hydroxy-n-propyl acrylate, 3 -Hydroxy-n-propyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, glycerin monoacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy-1-methylethyl methacrylate, 2-hydroxy-n-propyl methacrylate, 3-hydroxy-n-propyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy Butyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, and glycerin monomethacrylate. Among these, 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate are preferable in that a vinyl polymer having good compatibility with the cyclic olefin resin can be obtained.

<芳香族ビニル系単量体>
上記一般式(3)で表される構造単位となりうる芳香族ビニル系単量体としては、スチレン;α−メチルスチレン;p−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−メチルスチレンなどのアルキル置換スチレン類;4−クロロスチレン、4−ブロモスチレンなどのハロゲン置換スチレン類;クロロメチルスチレン;p−ヒドロキシスチレン、イソプロペニルフェノール、2−メチル−4−ヒドロキシスチレン、3,4−ジヒドロキシスチレンなどのヒドロキシスチレン類;ビニルベンジルアルコール類;p−メトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン、m−t−ブトキシスチレンなどのアルコキシ置換スチレン類;3−ビニル安息香酸、4−ビニル安息香酸などのビニル安息香酸類;メチル4−ビニルベンゾエート、エチル4−ビニルベンゾエートなどのビニル安息香酸エステル類;4−ビニルベンジルアセテート;4−アセトキシスチレン;p−スルホンアミドスチレンなどのアミドスチレン類;3−アミノスチレン、4−アミノスチレン、2−イソプロペニルアニリン、ビニルベンジルジメチルアミンなどのアミノスチレン類;3−ニトロスチレン、4−ニトロスチレンなどのニトロスチレン類;3−シアノスチレン、4−シアノスチレンなどのシアノスチレン類;ビニルフェニルアセトニトリル;4−ビニルビフェニル、3−ビニルビフェニル、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、9−ビニルフルオレン、2−ビニルフルオレン、9−ビニルアントラセンなどのビニル多環芳香族化合物;1,1−ジフェニルエチレンなどが挙げられる。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
<Aromatic vinyl monomer>
Examples of the aromatic vinyl monomer that can be the structural unit represented by the general formula (3) include styrene; α-methylstyrene; alkyl-substituted styrene such as p-methylstyrene, m-methylstyrene, and o-methylstyrene. Halogen substituted styrenes such as 4-chlorostyrene and 4-bromostyrene; chloromethylstyrene; hydroxystyrenes such as p-hydroxystyrene, isopropenylphenol, 2-methyl-4-hydroxystyrene, and 3,4-dihydroxystyrene Vinyl benzyl alcohols; alkoxy-substituted styrenes such as p-methoxystyrene, pt-butoxystyrene, and mt-butoxystyrene; vinylbenzoic acids such as 3-vinylbenzoic acid and 4-vinylbenzoic acid; methyl 4-vinylbenzoate, ethyl 4-vinylbenzene Vinyl benzoates such as zoate; 4-vinylbenzyl acetate; 4-acetoxystyrene; amide styrenes such as p-sulfonamidostyrene; 3-aminostyrene, 4-aminostyrene, 2-isopropenylaniline, vinylbenzyldimethyl Aminostyrenes such as amines; nitrostyrenes such as 3-nitrostyrene and 4-nitrostyrene; cyanostyrenes such as 3-cyanostyrene and 4-cyanostyrene; vinylphenylacetonitrile; 4-vinylbiphenyl, 3-vinylbiphenyl , 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 9-vinylfluorene, 2-vinylfluorene, vinyl polycyclic aromatic compounds such as 9-vinylanthracene; 1,1-diphenylethylene and the like. Of these, styrene and α-methylstyrene are preferred because they are easily available industrially and are inexpensive.

<ビニル系単量体>
上記一般式(4)で表される構造単位となりうるビニル系単量体としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル類;メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレートなどの脂肪族アルキルアクリレート類;ベンジルアクリレート;フェニルアクリレートなどの芳香族アクリレート類;メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレートなどの脂肪族アルキルメタクリレート類;ベンジルメタクリレート;フェニルメタクリレートなどの芳香族メタクリレート類;アクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−イソブトキシメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミドなどのアクリルアミド類;メタクリルアミド、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチルなどのメタクリルアミド類;メタクリル酸グリシジル;メタクリル酸テトラヒドロフルフリル;アクロレイン;メタクロレイン;2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジンなどのビニルピリジン類などが挙げられる。
特に、一般式(4)中のR7がCOOR’’( R’’は炭素数が1〜4のアルキル基)であることが好ましい。
<Vinyl monomer>
Examples of vinyl monomers that can be the structural unit represented by the general formula (4) include vinyl cyanides such as acrylonitrile and methacrylonitrile; methyl acrylate, ethyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, Aliphatic alkyl acrylates such as dicyclopentanyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate; benzyl acrylate; aromatic acrylates such as phenyl acrylate; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, cyclohex Aliphatic alkyl methacrylates such as xyl methacrylate and dicyclopentanyl acrylate; benzyl methacrylate; aromatic methacrylates such as phenyl methacrylate Acrylamides such as acrylamide, N-isopropylacrylamide, N-isobutoxymethylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide; methacrylamides such as methacrylamide, diethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate Glycidyl methacrylate; tetrahydrofurfuryl methacrylate; acrolein; methacrolein; vinylpyridines such as 2-vinylpyridine and 4-vinylpyridine;
In particular, it is preferable that R 7 in the general formula (4) is COOR ″ (R ″ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms).

<ラジカル重合開始剤>
本発明に用いられるビニル系重合体(B)をラジカル重合で合成する場合、フリーラジカルを発生する公知の有機過酸化物、またはアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができる。
有機過酸化物としては、
ジアセチルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジイソブチロイルパーオキサイド、ジ(2,4−ジクロロベンゾイル)パーオキサイド、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、ジオクタノイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジステアロイルパーオキサイド、ビス[4−(m−トルオイル)ベンゾイル]パーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類;
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類;
過酸化水素、t−ブチルハイドロパーオキサイド、α−クメンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、t−へキシルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類;
ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウリルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3などのジアルキルパーオキサイド類;
t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシマレエート、t−ブチルパーオキシ3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、α,α’−ビス(ネオデカノイルパーオキシ)ジイソプルピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオドデカノエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ビス(t−ブチルパーオキシ)イソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシm−トルオイルベンゾエート、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどのパーオキシエステル類;
1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、n−ブチル4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)ピバレート、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパンなどのパーオキシケタール類;
t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシアリルモノカーボネートなどのパーオキシモノカーボネート類;
ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロへキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類;
その他、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドなどが挙げられるが、本発明に用いられる有機過酸化物はこれらの例示化合物に限定されるものではない。
<Radical polymerization initiator>
When the vinyl polymer (B) used in the present invention is synthesized by radical polymerization, a known organic peroxide that generates free radicals or an azobis radical polymerization initiator can be used.
As organic peroxide,
Diacetyl peroxide, dibenzoyl peroxide, diisobutyroyl peroxide, di (2,4-dichlorobenzoyl) peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dioctanoyl peroxide, dilauroyl Diacyl peroxides such as peroxide, distearoyl peroxide, bis [4- (m-toluoyl) benzoyl] peroxide;
Ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide;
Hydrogen peroxide, t-butyl hydroperoxide, α-cumene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, t-hexyl Hydroperoxides such as hydroperoxide;
Di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, dilauryl peroxide, α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxide Dialkyl peroxides such as oxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3;
t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxypivalate, t-hexyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy 2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2 , 5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy 2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy 2-ethylhexanoate, t-butylperoxy 2 -Ethyl hexanoate, t-butyl peroxyisobutyrate, t-butyl peroxy maleate, t-butyl peroxy 3,5,5-trimethyl hexanoate, t-butyl peroxy laurate, 2,5 -Dimethyl-2,5-bis (m-toluoylperoxy) hexane, α, α'-bis (neodecanoylpa Oxy) diisopropylpropylbenzene, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate, t -Hexyl peroxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxybenzoate, t-hexylperoxybenzoate, bis (t-butylperoxy) isophthalate, 2,5-dimethyl- Peroxyesters such as 2,5-bis (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxy m-toluoyl benzoate, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone;
1,1-bis (t-hexylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3 , 5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, n -Peroxyketals such as butyl 4,4-bis (t-butylperoxy) pivalate, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane;
Peroxymonocarbonates such as t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy 2-ethylhexyl monocarbonate, t-butylperoxyallyl monocarbonate;
Di-sec-butyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydi Peroxydicarbonates such as carbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-methoxybutyl peroxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate;
In addition, although t-butyl trimethylsilyl peroxide etc. are mentioned, the organic peroxide used for this invention is not limited to these exemplary compounds.

これらの有機過酸化物のうち、多官能性のパーオキシケタールが容易に高分子量の重合体を得ることができる点で好ましい。特に、4官能性の2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパンが好ましい。
アゾビス系ラジカル重合開始剤としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−[2−(1−ヒドロキシブチル)]プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジハイドロクロライド、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジハイドロクロライド、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジサルフェート・ジハイドレート、2,2’−アゾビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]ジハイドロクロライド、2,2’−アゾビス[2−{1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル}プロパン]ジハイドロクロライド、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジハイドロクロライド、2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチル−プロピオンアミジン]、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドキシム)、ジメチル2,2’−アゾビスブチレート、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタノイックアシッド)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)などが挙げられるが、本発明に用いられるアゾビス系ラジカル重合開始剤はこれらの例示化合物に限定されるものではない。これらのアゾビス系ラジカル重合開始剤のうち、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)は高分子量の重合体を得ることができる点で特に好ましい。
Of these organic peroxides, polyfunctional peroxyketals are preferred in that a high molecular weight polymer can be easily obtained. In particular, tetrafunctional 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane is preferred.
As the azobis radical polymerization initiator, 2,2′-azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2 '-Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2- (carbamoylazo) isobuty Ronitrile, 2,2′-azobis [2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide], 2,2′-azobis [2-methyl-N- [ 2- (1-hydroxybutyl)] propionamide], 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propionamide], 2,2′-azobis [N- (2- Propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2 ′ -Azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2, 2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] disulfate dihydrate, 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] Dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- {1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl} propane] dihydrochloride 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′-azobis [N- (2 -Carboxyethyl) -2-methyl-propionamidine], 2,2'-azobis (2-methylpropionamidoxime), dimethyl 2,2'-azobisbutyrate, 4,4'-azobis (4-cyanopentano) Ic acid), 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane) and the like, but the azobis radical polymerization initiator used in the present invention is not limited to these exemplified compounds. Among these azobis-based radical polymerization initiators, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1- (Carbonitrile) is particularly preferred in that a high molecular weight polymer can be obtained.

<触媒>
上記ヒドロキシ(メタ)アクリレート単量体と、必要に応じて上記芳香族ビニル系単量体および/または上記ビニル系単量体との共重合反応には、触媒を用いてもよい。この触媒は、特に限定されず、たとえば、公知のアニオン重合触媒、配位アニオン重合触媒、カチオン重合触媒などが挙げられる。
<Catalyst>
A catalyst may be used for the copolymerization reaction between the hydroxy (meth) acrylate monomer and, if necessary, the aromatic vinyl monomer and / or the vinyl monomer. This catalyst is not particularly limited, and examples thereof include known anion polymerization catalysts, coordination anion polymerization catalysts, and cation polymerization catalysts.

<ビニル系重合体(B)>
本発明に用いられるビニル系重合体(B)は、上記重合開始剤や触媒の存在下で、上記ヒドロキシ(メタ)アクリレート単量体と、上記芳香族ビニル系単量体と、上記ビニル系単量体とを、塊状重合法、溶液重合法、沈殿重合法、乳化重合法、懸濁重合法または塊状−懸濁重合法などの従来公知の方法で重合させることによって得られる。
<Vinyl polymer (B)>
The vinyl polymer (B) used in the present invention comprises the hydroxy (meth) acrylate monomer, the aromatic vinyl monomer, and the vinyl monomer in the presence of the polymerization initiator and catalyst. It is obtained by polymerizing the polymer with a conventionally known method such as a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a precipitation polymerization method, an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method or a bulk-suspension polymerization method.

このようにして得られるビニル系重合体(B)において、上記一般式(2)で表される構造単位と、上記一般式(3)で表される構造単位と、上記一般式(4)で表される構造単位は、これらの合計100モル%に対して、上記一般式(2)で表される構造単位の割合(上記一般式(5)におけるxに相当する)が1モル%を超えて20モル%以下、好ましくは2〜10モル%、上記一般式(3)で表される構造単位の割合(上記一般式(5)におけるyに相当する)が80モル%を超えて99モル%未満、好ましくは90〜98モル%の割合で含まれることが望ましい。上記一般式(5)で表される構造単位の割合が上記範囲にあると、環状オレフィン系重合体(A)とビニル系重合体(B)とが良好に相溶するとともに、得られる熱可塑性樹脂組成物や光学フィルムは、優れた低複屈折性を示し、耐侯性、耐熱性が向上する。   In the vinyl polymer (B) thus obtained, the structural unit represented by the general formula (2), the structural unit represented by the general formula (3), and the general formula (4) In the structural unit represented, the proportion of the structural unit represented by the above general formula (2) (corresponding to x in the above general formula (5)) exceeds 1 mol% with respect to 100 mol% in total. 20 mol% or less, preferably 2 to 10 mol%, and the proportion of the structural unit represented by the general formula (3) (corresponding to y in the general formula (5)) exceeds 80 mol% and is 99 mol. %, Preferably 90 to 98 mol%. When the proportion of the structural unit represented by the general formula (5) is in the above range, the cyclic olefin polymer (A) and the vinyl polymer (B) are compatible with each other, and the resulting thermoplasticity is obtained. Resin compositions and optical films exhibit excellent low birefringence and improved weather resistance and heat resistance.

上記ビニル系重合体(B)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が、通常500〜500,000、好ましくは500〜25,000、さらに好ましくは9,000〜15,000であり、重量平均分子量(Mw)は、通常1,000〜800,000、好ましくは1,000〜50,000、さらに好ましくは19,000〜30,000であることが望ましい。   The vinyl polymer (B) has a polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) of usually 500 to 500,000, preferably 500 to 25,000, more preferably. Is 9,000 to 15,000, and the weight average molecular weight (Mw) is usually 1,000 to 800,000, preferably 1,000 to 50,000, more preferably 19,000 to 30,000. It is desirable.

分子量が小さすぎると、得られる成形品やフィルムの強度が低くなることがある。分子量が大きすぎると、溶液粘度が高くなりすぎて本発明に係る熱可塑性樹脂組成物の生産性や加工性が悪化することがある。
また、上記ビニル系重合体(B)の分子量分布(Mw/Mn)は、通常1.0〜10、好ましくは1.2〜5、さらに好ましくは1.2〜3であることが望ましい。
If the molecular weight is too small, the strength of the resulting molded product or film may be lowered. When the molecular weight is too large, the solution viscosity becomes too high, and the productivity and processability of the thermoplastic resin composition according to the present invention may be deteriorated.
The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the vinyl polymer (B) is usually 1.0 to 10, preferably 1.2 to 5, and more preferably 1.2 to 3.

[樹脂組成物]
本発明の樹脂組成物は、少なくとも一種類の上記ノルボルネン系重合体と少なくとも一種類の上記ビニル重合体を含むものである。
前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)とノルボルネン系重合体(A)の質量混合比(A/B)が99/1〜50/50であることが好ましい。
混合比が上記範囲にあると、低複屈折性を有し、耐侯性、耐熱性に優れた熱可塑性樹脂組成物や光学フィルムを得ることができる。ビニル系重合体(B)の配合量が上記下限未満になると、得られる熱可塑性樹脂組成物や光学フィルムの複屈折値が十分に小さくならないことがある。また、ビニル系重合体(B)の配合量が上記上限を超えると、得られる熱可塑性樹脂組成物や光学フィルムの耐熱性が低下したり、光学フィルムの透明性が低下したりすることがある。
[Resin composition]
The resin composition of the present invention contains at least one kind of the norbornene polymer and at least one kind of the vinyl polymer.
The mass mixing ratio (A / B) of the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group and the norbornene polymer (A) is preferably 99/1 to 50/50.
When the mixing ratio is in the above range, a thermoplastic resin composition or an optical film having low birefringence and excellent weather resistance and heat resistance can be obtained. When the blending amount of the vinyl polymer (B) is less than the lower limit, the birefringence value of the resulting thermoplastic resin composition or optical film may not be sufficiently small. Moreover, when the compounding quantity of a vinyl type polymer (B) exceeds the said upper limit, the heat resistance of the obtained thermoplastic resin composition and an optical film may fall, or the transparency of an optical film may fall. .

本発明の樹脂組成物は、上記ビニル系重合体(B)とノルボルネン系重合体(A)の質量混合比(B/A)が、50/50〜5/95であることがより好ましく、40/60〜20/80であることがさらに好ましい。このような熱可塑性樹脂組成物を用いると、優れた位相差発現性を有する位相差フィルムを得ることができる。   In the resin composition of the present invention, the mass mixing ratio (B / A) of the vinyl polymer (B) and the norbornene polymer (A) is more preferably 50/50 to 5/95. More preferably, it is / 60-20 / 80. When such a thermoplastic resin composition is used, a retardation film having excellent retardation can be obtained.

[樹脂組成物フィルム]
本発明の樹脂組成物フィルムは、本発明の樹脂組成物をフィルムに含有するものをいう。
[Resin composition film]
The resin composition film of the present invention refers to a film containing the resin composition of the present invention.

[樹脂組成物フィルムの用途]
本発明の樹脂組成物は、フィルムの材料として有用である。特に、該重合体を用いて作製されたフィルムは、液晶表示素子の基板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム、液晶バックライト、液晶パネル、OHP用フィルム、透明導電性フィルム等をはじめとする光学用途のフィルムに適する。また、前記一般式(I)で表されるノルボルネン系重合体は、光ディスク、光ファイバー、レンズ、プリズム等の光学材料、電子部品さらに医療機器、容器等に好適に用いられる。
[Use of resin composition film]
The resin composition of the present invention is useful as a film material. In particular, films prepared using the polymer include substrates for liquid crystal display elements, light guide plates, polarizing films, retardation films, liquid crystal backlights, liquid crystal panels, OHP films, transparent conductive films, and the like. Suitable for optical use film. The norbornene-based polymer represented by the general formula (I) is suitably used for optical materials such as optical discs, optical fibers, lenses, and prisms, electronic components, medical devices, containers, and the like.

[樹脂組成物フィルム製造方法]
本発明のフィルムは、本発明の樹脂組成物を含有し、該重合体を原料として製膜することで作製することができる。製膜は、熱溶融製膜の方法と溶液製膜の方法があり、いずれも適応可能であるが、本発明においては面状の優れたフィルムを得ることのできる溶液製膜方法を用いることが好ましい。以下に溶液製膜方法について記述する。
[Method for producing resin composition film]
The film of the present invention contains the resin composition of the present invention and can be produced by forming a film using the polymer as a raw material. There are two methods for film formation: hot melt film formation and solution film formation, and both are applicable, but in the present invention, a solution film formation method capable of obtaining an excellent surface film is used. preferable. The solution casting method is described below.

(ドープの調製)
まず、製膜に用いる前記重合体の溶液(ドープ)を調製する。ドープの調製に用いられる有機溶剤については、溶解、流延、製膜でき、その目的が達成できる限りは、特に限定されない。例えばジクロロメタン、クロロホルムに代表される塩素系溶剤、炭素数が3〜12の鎖状炭化水素(ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなど)、環状炭化水素(シクロペンタン、シクロヘキサン、デカリンなど)、芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、エステル(エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートなど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンなど)、エーテル(ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなど)から選ばれる溶剤が好ましい。2種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノールおよび2−ブトキシエタノールが挙げられる。有機溶剤の好ましい沸点は35℃〜200℃以下である。前記溶液の調製に用いる溶剤は、乾燥性、粘度等の溶液物性調節のために2種以上の溶剤を混合して用いることができ、さらに、混合溶媒で溶解する限りは、貧溶媒を添加することも可能である。
(Preparation of dope)
First, a solution (dope) of the polymer used for film formation is prepared. The organic solvent used for the preparation of the dope is not particularly limited as long as it can be dissolved, cast, and formed into a film, and the purpose can be achieved. For example, chlorinated solvents such as dichloromethane and chloroform, chain hydrocarbons having 3 to 12 carbon atoms (hexane, octane, isooctane, decane, etc.), cyclic hydrocarbons (cyclopentane, cyclohexane, decalin, etc.), aromatic carbonization Hydrogen (benzene, toluene, xylene, etc.), ester (ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, pentyl acetate, etc.), ketone (acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone) , Cyclohexanone and methylcyclohexanone), ether (diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, Preferably the solvent selected from over like Le and phenetole). Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol. The preferable boiling point of the organic solvent is 35 ° C to 200 ° C. The solvent used for the preparation of the solution can be used by mixing two or more kinds of solvents in order to adjust the solution properties such as drying property and viscosity. Further, as long as the solvent is dissolved in the mixed solvent, a poor solvent is added. It is also possible.

好ましい貧溶媒は適宜選択することができる。良溶媒として塩素系有機溶剤を使用する場合は、アルコール類を好適に使用することができる。アルコール類としては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。また、アルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールなども挙げられる。貧溶媒の中でも特に1価のアルコール類は、剥離抵抗低減効果があり、好ましく使用することができる。選択する良溶剤によって特に好ましいアルコール類は変化するが、乾燥負荷を考慮すると、沸点が120℃以下のアルコールが好ましく、炭素数1〜6の1価アルコールがさらに好ましく、炭素数1〜4のアルコールが特に好ましく使用することができる。   A preferred poor solvent can be appropriately selected. When a chlorinated organic solvent is used as the good solvent, alcohols can be preferably used. The alcohols may preferably be linear, branched or cyclic, and among them, saturated aliphatic hydrocarbons are preferable. The hydroxyl group of the alcohol may be any of primary to tertiary. As the alcohol, fluorine-based alcohol is also used. Examples thereof include 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol and the like. Among the poor solvents, particularly monovalent alcohols have an effect of reducing the peeling resistance and can be preferably used. Particularly preferred alcohols vary depending on the good solvent to be selected, but considering the drying load, alcohols having a boiling point of 120 ° C. or lower are preferable, monohydric alcohols having 1 to 6 carbon atoms are more preferable, and alcohols having 1 to 4 carbon atoms Can be particularly preferably used.

ドープを調製する上で特に好ましい混合溶剤は、ジクロロメタンを主溶剤とし、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールまたはブタノールから選ばれる1種以上のアルコール類を貧溶媒にする組み合わせである。   A particularly preferred mixed solvent for preparing the dope is a combination in which dichloromethane is the main solvent and at least one alcohol selected from methanol, ethanol, propanol, isopropanol, or butanol is a poor solvent.

前記ドープの調製については、室温攪拌溶解による方法、室温で攪拌して重合体を膨潤させた後、−20℃〜−100℃まで冷却し、再度20℃〜100℃に加熱して溶解する冷却溶解法、密閉容器中で主溶剤の沸点以上の温度にして溶解する高温溶解方法、さらには溶剤の臨界点まで高温高圧にして溶解する方法などがある。ドープの粘度は25℃で1〜500Pa・sの範囲であることが好ましく、5〜200Pa・sの範囲であることがさらに好ましい。   For the preparation of the dope, a method of stirring and dissolving at room temperature, and stirring the polymer at room temperature to swell the polymer, cooling to -20 ° C to -100 ° C, and cooling to 20 ° C to 100 ° C again to dissolve. There are a dissolution method, a high-temperature dissolution method that dissolves at a temperature equal to or higher than the boiling point of the main solvent in a closed container, and a method that dissolves at a high temperature and high pressure up to the critical point of the solvent. The viscosity of the dope is preferably in the range of 1 to 500 Pa · s at 25 ° C., more preferably in the range of 5 to 200 Pa · s.

溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、5Pa・s〜1000Pa・sの範囲に調製されることが好ましく、15Pa・s〜500Pa・sの範囲がより好ましく、30Pa・s〜200Pa・sの範囲がさらに好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−5〜70℃であり、より好ましくは−5〜35℃である。   Prior to casting, it is preferable to filter off foreign matters such as undissolved matter, dust, and impurities using a suitable filter medium such as a wire mesh or flannel. The viscosity immediately before film formation may be in a range that allows casting during film formation, and is preferably adjusted to a range of 5 Pa · s to 1000 Pa · s, more preferably in a range of 15 Pa · s to 500 Pa · s. The range of 30 Pa · s to 200 Pa · s is more preferable. In addition, although the temperature at this time will not be specifically limited if it is the temperature at the time of the casting, Preferably it is -5-70 degreeC, More preferably, it is -5-35 degreeC.

(添加剤)
本発明のフィルムは、前記組成物以外の添加剤を含有していてもよく、かかる添加剤は、フィルムを作製する工程のいずれの段階で添加されてもよい。添加剤は、用途に応じて選択することができ、例えば、劣化防止剤、紫外線防止剤、レターデーション(光学異方性)調節剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤、など)などが挙げられる。これらの添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。添加する時期は溶液流延法によるフィルム作製の場合、ドープ調製工程中のいずれかの時期に添加してもよいし、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。溶融法によるフィルム作製の場合、樹脂ペレット作製時に添加していてもよいし、フィルム作製時に混練してもよい。各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。
(Additive)
The film of this invention may contain additives other than the said composition, and such an additive may be added in any step of the process of producing a film. Additives can be selected depending on the application, such as deterioration inhibitors, UV inhibitors, retardation (optical anisotropy) regulators, fine particles, peeling accelerators, infrared absorbers, etc. Can be mentioned. These additives may be solid or oily. In the case of film production by the solution casting method, the addition time may be added at any time during the dope preparation process, or an additive is added to the final preparation process of the dope preparation process. You may go. In the case of film production by the melting method, it may be added at the time of resin pellet production, or may be kneaded at the time of film production. The amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested. Moreover, when a film is formed from a multilayer, the kind and addition amount of the additive of each layer may differ.

フィルム劣化防止の観点から、劣化(酸化)防止剤が好ましく用いられる。例えば、2,6−ジ−tert−ブチル、4−メチルフェノール、4,4’−チオビス−(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス(4−メトキシ−3,5−ジフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤を添加することが好ましい。酸化防止剤は、重合体100質量部に対して、0.05〜5.0質量部を添加する。   From the viewpoint of preventing film deterioration, a deterioration (oxidation) inhibitor is preferably used. For example, 2,6-di-tert-butyl, 4-methylphenol, 4,4′-thiobis- (6-tert-butyl-3-methylphenol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5- Phenolic or hydroquinone antioxidants such as di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate can be added. Furthermore, phosphorus antioxidants such as tris (4-methoxy-3,5-diphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite Is preferably added. The antioxidant is added in an amount of 0.05 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、ノルボルネン系重合体に対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmがさらに好ましい。   From the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal, an ultraviolet absorber is preferably used. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having a small absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties. Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, hindered phenol compounds, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salts Compound etc. are mentioned. The addition amount of these ultraviolet light inhibitors is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the norbornene polymer.

フィルム面のすべり性を改良するためには、微粒子(マット剤)が好ましく用いられる。これを用いることで、フィルム表面に凹凸を付与し、すなわちフィルム表面の粗さを増加させることで(マット化)、フィルム同士のブロッキングを減少させることができる。フィルム中、またはフィルムの少なくとも片方の面上に微粒子が存在することにより、偏光板加工時の偏光子とフィルム間の密着性が著しく向上する。本発明に使用するマット剤は、無機微粒子であれば、例えば、平均粒子サイズ0.05μm〜0.5μmの微粒子であり、好ましくは0.08μm〜0.3μm、より好ましくは0.1μm〜0.25μmである。微粒子は、無機化合物としては二酸化ケイ素、シリコーンおよび二酸化チタンが好ましく、高分子化合物としてはフッ素樹脂、ナイロン、ポリプロピレンおよび塩素化ポリエーテルが好ましく、二酸化ケイ素がより好ましく、有機物により表面処理されている二酸化ケイ素がさらに好ましい。   In order to improve the slipperiness of the film surface, fine particles (mat agent) are preferably used. By using this, unevenness is imparted to the film surface, that is, by increasing the roughness of the film surface (matization), the blocking between the films can be reduced. The presence of fine particles in the film or on at least one surface of the film significantly improves the adhesion between the polarizer and the film during polarizing plate processing. The matting agent used in the present invention is inorganic fine particles, for example, fine particles having an average particle size of 0.05 μm to 0.5 μm, preferably 0.08 μm to 0.3 μm, more preferably 0.1 μm to 0 μm. .25 μm. In the fine particles, silicon dioxide, silicone and titanium dioxide are preferable as the inorganic compound, fluororesin, nylon, polypropylene and chlorinated polyether are preferable as the polymer compound, silicon dioxide is more preferable, and surface treatment with organic matter is performed. Silicon is more preferred.

フィルムの剥離抵抗を小さくするため、剥離促進剤が好ましく用いられる。好ましい剥離剤としては燐酸エステル系の界面活性剤、カルボン酸あるいはカルボン酸塩系の界面活性剤、スルホン酸またはスルホン酸塩系の界面活性剤、硫酸エステル系の界面活性剤が効果的である。また上記界面活性剤の炭化水素鎖に結合している水素原子の一部をフッ素原子に置換したフッ素系界面活性剤も有効である。剥離剤の添加量はノルボルネン系重合体に対して0.05〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましく、0.1〜0.5質量%がさらに好ましい。   In order to reduce the peeling resistance of the film, a peeling accelerator is preferably used. As preferred release agents, phosphate ester surfactants, carboxylic acid or carboxylate surfactants, sulfonic acid or sulfonate surfactants, and sulfate ester surfactants are effective. A fluorine-based surfactant in which part of the hydrogen atoms bonded to the hydrocarbon chain of the surfactant is substituted with fluorine atoms is also effective. The addition amount of the release agent is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and further preferably 0.1 to 0.5% by mass with respect to the norbornene-based polymer.

フィルムの光学性能、例えば、Re、Rth、波長分散性などをコントロールするため、各種の添加剤が好ましく用いられる。これは分子量1000以下の低分子化合物や、分子量1000〜10000程度のオリゴマー化合物、分子量10000以上のポリマー化合物があげられる。   Various additives are preferably used in order to control the optical performance of the film, such as Re, Rth, and wavelength dispersion. This includes a low molecular compound having a molecular weight of 1000 or less, an oligomer compound having a molecular weight of about 1000 to 10,000, and a polymer compound having a molecular weight of 10,000 or more.

(フィルム製造)
本発明のフィルムを製造する方法および設備は、公知のセルローストリアセテートフィルム製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置が好ましく用いられる。溶解機(釜)から調製されたドープを貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。
(Film production)
For the method and equipment for producing the film of the present invention, the same solution casting film forming method and solution casting film forming apparatus as those used for producing a known cellulose triacetate film are preferably used. The dope prepared from the dissolving machine (kettle) is temporarily stored in a storage kettle, and the foam contained in the dope is defoamed for final preparation.

特開2000−301555号、特開2000−301558号、特開平7−032391号、特開平3−193316号、特開平5−086212号、特開昭62−037113号、特開平2−276607号、特開昭55−014201号、特開平2−111511号、および特開平2−208650号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では好ましく採用することができる。   JP 2000-301555, JP 2000-301558, JP 7-032391, JP 3-193316, JP 5-086212, JP 62-037113, JP 2-276607, The cellulose acylate film forming techniques described in JP-A-55-014201, JP-A-2-111511, and JP-A-2-208650 can be preferably employed in the present invention.

(重層流延)
ドープを、金属支持体としての平滑なバンド上またはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数のドープを流延してもよい。重層流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の1〜50%の厚さであり、より好ましくは2〜30%の厚さである。
(Multilayer casting)
The dope may be cast as a single layer liquid on a smooth band or drum as a metal support, or a plurality of dopes of two or more layers may be cast. In the case of multilayer casting, the inner and outer thicknesses are not particularly limited, but preferably the outer thickness is 1 to 50% of the total film thickness, and more preferably 2 to 30%.

(流延)
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、または逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。流延に用いられるドープの温度は、−10〜55℃が好ましく、25〜50℃がさらに好ましい。その場合、工程のすべてが同一でもよく、工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であることが好ましい。
(Casting)
As a solution casting method, a method in which the prepared dope is uniformly extruded from a pressure die onto a metal support, and a method using a doctor blade in which the dope once cast on the metal support is adjusted with a blade is used. Alternatively, there is a method using a reverse roll coater that adjusts with a reverse rotating roll, and a method using a pressure die is preferable. The temperature of the dope used for casting is preferably −10 to 55 ° C., more preferably 25 to 50 ° C. In that case, all of the steps may be the same or different at various points in the step. When they are different, it is preferable that the temperature is a desired temperature immediately before casting.

(乾燥)
フィルムの製造における金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体(例えば、ドラムまたはバンド)の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラムまたはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラムまたはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし、乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より1〜10℃低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
(Dry)
Drying of the dope on the metal support in the production of the film is generally accomplished by applying hot air from the surface side of the metal support (eg, drum or band), that is, the surface of the web on the metal support, drum or A method of applying hot air from the back side of the band, contacting the temperature controlled liquid from the back side opposite the dope casting surface of the band or drum, and heating the drum or band by heat transfer to control the surface temperature Although there are methods, the back surface liquid heat transfer method is preferable. The surface temperature of the metal support before casting may be any number as long as it is not higher than the boiling point of the solvent used for the dope. However, in order to promote drying and to lose fluidity on the metal support, the temperature is set to 1 to 10 ° C. lower than the boiling point of the lowest boiling solvent among the solvents used. It is preferable. This is not the case when the casting dope is cooled and peeled off without drying.

(剥離)
生乾きのフィルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗(剥離荷重)が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。
(Peeling)
When peeling a raw dry film from a metal support, if the peeling resistance (peeling load) is large, the film is irregularly stretched in the film forming direction, resulting in uneven optical anisotropy. In particular, when the peeling load is large, a portion stretched stepwise in the film forming direction and a portion unstretched are alternately generated, resulting in a distribution in retardation. When loaded in a liquid crystal display device, the line or strip becomes uneven.

フィルムの剥離荷重は、フィルムを製造する前に、簡易的に以下のテストで予測することができる。すなわち、作製したドープをアプリケーターを用いて、流延製膜し、一定の時間を経過させ(剥離開始時間)、溶媒を蒸発させてSUS板上にフィルムを形成した後、一定幅のウェブを一定速度でフィルムをSUS板から垂直に剥ぎ取る際の荷重をロードセルで測定する。得られた最大の剥ぎ取り荷重を求め、剥取荷重[gf/cm]で表し、その値を比較するものである。   The film peeling load can be easily predicted by the following test before the film is produced. That is, the produced dope is cast and formed using an applicator, a certain time elapses (peeling start time), the solvent is evaporated to form a film on the SUS plate, and then a web with a certain width is constant. The load when the film is peeled vertically from the SUS plate at a speed is measured with a load cell. The maximum stripping load obtained is determined, expressed as stripping load [gf / cm], and the values are compared.

同じポリマー素材を用いる場合、剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。剥離時の好ましい残留揮発分濃度は5〜60質量%である。10〜50質量%がさらに好ましく、20〜40質量%が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断したり伸びたりしてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。   In the case of using the same polymer material, as a method for reducing the peeling load, there are a method of adding a release agent as described above and a method of selecting a solvent composition to be used. The preferable residual volatile content concentration at the time of peeling is 5 to 60% by mass. 10-50 mass% is further more preferable, and 20-40 mass% is especially preferable. Peeling with a high volatile content is preferable because the drying rate can be increased and productivity is improved. On the other hand, when the volatile content is high, the strength and elasticity of the film are small, and the film is cut or stretched against the peeling force. Further, the self-holding force after peeling is poor, and deformation, wrinkles and nicks are likely to occur. It also causes distribution in the retardation.

(延伸)
前記溶液製膜法にて作製したフィルムを、さらに延伸処理する場合は、剥離のすぐ後の未だフィルム中に溶剤が十分に残留している状態で行うのが好ましい。延伸の目的は、(1)しわや変形のない平面性に優れたフィルムを得るためおよび、(2)フィルムの面内レターデーションを大きくするために行う。(1)の目的で延伸を行うときは、比較的高い温度で延伸を行い、延伸倍率も1%からせいぜい10%までの低倍率の延伸を行う。2〜5%の延伸が特に好ましい。(1)と(2)の両方の目的、あるいは(2)だけの目的で延伸する場合は、比較的低い温度で、延伸倍率も5〜150%で延伸する。
(Stretching)
When the film produced by the solution casting method is further stretched, it is preferably carried out in a state where the solvent still remains in the film immediately after peeling. The purpose of stretching is (1) to obtain a film having excellent flatness without wrinkles and deformation, and (2) to increase the in-plane retardation of the film. When stretching is performed for the purpose of (1), stretching is performed at a relatively high temperature, and stretching is performed at a low magnification from 1% to 10% at most. A stretch of 2-5% is particularly preferred. When stretching for the purposes of both (1) and (2) or only for the purpose of (2), the film is stretched at a relatively low temperature and a stretch ratio of 5 to 150%.

フィルムの延伸は、縦または横だけの一軸延伸でもよく、また、同時または逐次2軸延伸でもよい。VA液晶セルやOCB(Optically Compensatory Bend)液晶セル用位相差フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。   The stretching of the film may be uniaxial stretching only in the longitudinal or lateral direction, or may be simultaneous or sequential biaxial stretching. The birefringence of the retardation film for a VA liquid crystal cell or OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal cell is preferably such that the refractive index in the width direction is larger than the refractive index in the length direction. Therefore, it is preferable to stretch more in the width direction.

本発明のでき上がり(乾燥後)のフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常20〜500μmの範囲であり、30〜150μmの範囲が好ましく、特に液晶表示装置用には40〜110μmであることが好ましい。   The thickness of the finished film (after drying) of the present invention varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 20 to 500 μm, preferably in the range of 30 to 150 μm, particularly 40 to 110 μm for liquid crystal display devices. It is preferable.

[フィルムの特性]
本発明のフィルムは、波長450nmにおける面内レターデーションRe450と波長630nmにおける面内レターデーションRe630の差ΔRe=Re630−Re450が、10nm≦ΔRe≦100nmを満足することが好ましく、10nm≦ΔRe≦80nmであることがより好ましく、10nm≦ΔRe≦60nmであることがもっとも好ましい。
本発明のフィルムの好ましい光学特性は、フィルムの用途により異なる。以下に、フィルムの厚みを80μmとして換算した、面内レターデーション(Re)および厚さ方向レターデーション(Rth)の、各用途における好ましい範囲を示す。
[Characteristics of film]
In the film of the present invention, the difference ΔRe = Re 630 −Re 450 between the in-plane retardation Re 450 at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re 630 at a wavelength of 630 nm preferably satisfies 10 nm ≦ ΔRe ≦ 100 nm. ΔRe ≦ 80 nm is more preferable, and 10 nm ≦ ΔRe ≦ 60 nm is most preferable.
The preferred optical properties of the film of the present invention vary depending on the application of the film. Below, the preferable range in each use of in-plane retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) which converted the thickness of the film into 80 micrometers is shown.

偏光板保護膜として使用する場合:Reは、0nm≦Re≦5nmが好ましく、0nm≦Re≦3nmがさらに好ましい。Rthは、0nm≦Rth≦50nmが好ましく、0nm≦Rth≦35nmがさらに好ましく、0nm≦Rth≦10nmが特に好ましい。   When used as a polarizing plate protective film: Re is preferably 0 nm ≦ Re ≦ 5 nm, and more preferably 0 nm ≦ Re ≦ 3 nm. Rth is preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 50 nm, more preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 35 nm, and particularly preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 10 nm.

位相差フィルムとして使用する場合:位相差フィルムの種類によってReやRthの範囲は異なり、多様なニーズがあるが、0nm≦Re≦100nm、0nm≦Rth≦400nmであることが好ましい。TNモードなら0nm≦Re≦20nm、40nm≦Rth≦80nm、VAモードなら20nm≦Re≦80nm、80nm≦Rth≦400nmがより好ましく、特にVAモードで好ましい範囲は、30nm≦Re≦75nm、120nm≦Rth≦250nmであり、一枚の位相差膜で補償する場合は、50nm≦Re≦75nm、180nm≦Rth≦250nm、2枚の位相差膜で補償する場合は、30nm≦Re≦50nm、80nm≦Rth≦140nmである。これらはVAモードの補償膜として黒表示時のカラーシフト、コントラストの視野角依存性の点で好ましい態様である。   When used as a retardation film: The range of Re and Rth varies depending on the type of retardation film and there are various needs, but 0 nm ≦ Re ≦ 100 nm and 0 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are preferable. In the TN mode, 0 nm ≦ Re ≦ 20 nm, 40 nm ≦ Rth ≦ 80 nm, and in the VA mode, 20 nm ≦ Re ≦ 80 nm and 80 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are more preferable. In particular, the preferable range in the VA mode is 30 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 120 nm ≦ Rth. ≦ 250 nm, when compensating with one retardation film, 50 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 180 nm ≦ Rth ≦ 250 nm, when compensating with two retardation films, 30 nm ≦ Re ≦ 50 nm, 80 nm ≦ Rth ≦ 140 nm. These are preferred embodiments as a VA mode compensation film in terms of color shift at the time of black display and the viewing angle dependency of contrast.

本発明のフィルムは、共重合比率、添加剤の種類および添加量、延伸倍率、剥離時の残留揮発分などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。   The film of the present invention can achieve desired optical characteristics by appropriately adjusting process conditions such as copolymerization ratio, additive type and amount, stretch ratio, residual volatile content at the time of peeling.

本明細書において、Re(λ)、Rth(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Re(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λnmの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定するかできる。   In this specification, Re (λ) and Rth (λ) represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at a wavelength λ, respectively. Re (λ) is measured by making light having a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments). In selecting the measurement wavelength λnm, the wavelength selection filter can be exchanged manually, or the measurement value can be converted by a program or the like.

測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
When the film to be measured is represented by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is Re (λ), and the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) is the tilt axis (rotary axis) (if there is no slow axis, any in-plane film The light of wavelength λ nm is incident from each of the inclined directions in steps of 10 degrees from the normal direction to 50 degrees on one side with respect to the film normal direction (with the direction of the rotation axis as the rotation axis). KOBRA 21ADH or WR is calculated based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value.

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の式(1)および式(2)よりRthを算出することもできる。
In the above case, in the case of a film having a direction in which the retardation value is zero at a certain tilt angle with the in-plane slow axis from the normal direction as the rotation axis, retardation at a tilt angle larger than the tilt angle. The value is calculated by KOBRA 21ADH or WR after changing its sign to negative.
In addition, the retardation value is measured from the two inclined directions, with the slow axis as the tilt axis (rotation axis) (in the absence of the slow axis, the arbitrary direction in the film plane is the rotation axis), Based on the value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value, Rth can also be calculated from the following equations (1) and (2).

Figure 2009227868
Figure 2009227868

式(1)のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
式(1)におけるnxは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnxおよびnyに直交する方向の屈折率を表す。dは膜厚である。
Re (θ) in the formula (1) represents a retardation value in a direction inclined by an angle θ from the normal direction.
In formula (1), nx represents the refractive index in the slow axis direction in the plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to nx in the plane, and nz represents the refractive index in the direction perpendicular to nx and ny. . d is the film thickness.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−50度から+50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折率計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する: セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHまたはWRはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx、ny、nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)がさらに算出される。
In the case where the film to be measured cannot be expressed by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, that is, a film having no so-called optic axis, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is from −50 degrees to +50 degrees with respect to the normal direction of the film, with Re (λ) as the slow axis (indicated by KOBRA 21ADH or WR) as the tilt axis (rotation axis). The light of wavelength λ nm is incident from each inclined direction in 10 degree steps and measured at 11 points. Based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value, KOBRA 21ADH or WR is calculated.
In the above measurement, as the assumed value of the average refractive index, the values in the polymer handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and catalogs of various optical films can be used. Those whose average refractive index is not known can be measured with an Abbe refractometer. The average refractive index values of the main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), Polystyrene (1.59). By inputting these assumed values of average refractive index and film thickness, KOBRA 21ADH or WR calculates nx, ny, and nz. Nz = (nx−nz) / (nx−ny) is further calculated from the calculated nx, ny, and nz.

また、本発明のフィルムを偏光板の保護膜として用いる場合は、光弾性の値が0.5×10-13〜9.0×10-13[cm2/dyn]であり、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)が180〜435[g/cm224h]であるのが好ましい。光弾性の値は、0.5×10-13〜7.0×10-13[cm2/dyn]であるのがより好ましく、0.5×10-13〜5.0×10-13[cm2/dyn]であるのがさらに好ましい。また、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)は、180〜400[g/cm224h]であるのがより好ましく、180〜350[g/cm224h]であるのがさらに好ましい。本発明のフィルムが上記特性を有すると、偏光板の保護膜として用いた場合に、湿度の影響による性能の低下を軽減することができる。 In the case of using the film of the present invention as a protective film for polarizing plate, the value of the photoelastic is 0.5 × 10 -13 ~9.0 × 10 -13 [cm 2 / dyn], moisture permeability values However, it is preferable that the value (converted assuming the thickness of the film as 80 μm) is 180 to 435 [g / cm 2 24 h]. The value of photoelasticity is more preferably 0.5 × 10 −13 to 7.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn], and 0.5 × 10 −13 to 5.0 × 10 −13 [ More preferably, it is cm 2 / dyn]. In addition, the value of moisture permeability (however, the value obtained by converting the film thickness to 80 μm) is more preferably 180 to 400 [g / cm 2 24h], and 180 to 350 [g / cm 2 24h]. Is more preferable. When the film of the present invention has the above-described properties, when it is used as a protective film for a polarizing plate, it is possible to reduce a decrease in performance due to the influence of humidity.

[偏光板]
本発明のフィルムは偏光板に応用することができる。偏光板は、本発明のフィルムと偏光子とを用いて作製できる。通常、偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の保護膜を有する。本発明のフィルムは両方または一方の保護膜として用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルム等を用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、フィルムは後述の如き表面処理を行い、しかる後にフィルム処理面と偏光子を接着剤を用いて貼り合わせる。使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス、ゼラチン等が挙げられる。偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。本発明のフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸とフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。
[Polarizer]
The film of the present invention can be applied to a polarizing plate. A polarizing plate can be produced using the film of the present invention and a polarizer. Usually, a polarizing plate has a polarizer and two protective films disposed on both sides thereof. The film of the present invention can be used as both or one protective film. A normal cellulose acetate film or the like may be used for the other protective film. Examples of the polarizer include an iodine polarizer, a dye polarizer using a dichroic dye, and a polyene polarizer. The iodine polarizer and the dye polarizer are generally produced using a polyvinyl alcohol film. When the film of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the film is subjected to a surface treatment as described later, and then the film-treated surface and a polarizer are bonded together using an adhesive. Examples of the adhesive used include polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, vinyl latexes such as butyl acrylate, and gelatin. The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film that protects both surfaces of the polarizer, and is further constructed by laminating a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the opposite surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate. The film is preferably bonded so that the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the film coincide with each other.

(フィルムの表面処理)
偏光子と保護膜との接着性を改良するため、フィルムの表面を表面処理することが好ましい。表面処理については、接着性を改善できる限りいかなる方法を利用してもよいが、好ましい表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理および火炎処理が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことである。本発明では大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。その他、グロー放電処理の詳細については、米国特許第3462335号、米国特許第3761299号、米国特許第4072769号および英国特許第891469号明細書に記載されている。放電雰囲気ガス組成を放電開始後にポリエステル支持体自身が放電処理を受けることにより容器内に発生する気体種のみにした特表昭59−556430号公報に記載された方法も用いられる。また真空グロー放電処理する際に、フィルムの表面温度を80℃〜180℃にして放電処理を行う特公昭60−16614号公報に記載された方法も適用できる。
(Film surface treatment)
In order to improve the adhesion between the polarizer and the protective film, the surface of the film is preferably surface-treated. As for the surface treatment, any method may be used as long as the adhesiveness can be improved. Preferred examples of the surface treatment include glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, and flame treatment. The glow discharge treatment here refers to so-called low temperature plasma that occurs under low pressure gas. In the present invention, plasma treatment under atmospheric pressure is also preferable. In addition, the details of the glow discharge treatment are described in US Pat. No. 3,462,335, US Pat. No. 3,761,299, US Pat. No. 4,072,769, and British Patent No. 891469. A method described in Japanese Patent Publication No. 59-556430 is also used in which the gas composition generated in the vessel is made only when the polyester support itself undergoes a discharge treatment after the discharge starts. In addition, the method described in Japanese Patent Publication No. 60-16614, in which the surface temperature of the film is set to 80 ° C. to 180 ° C. when performing the vacuum glow discharge treatment, can also be applied.

表面処理の程度については、表面処理の種類によって好ましい範囲も異なるが、表面処理の結果、表面処理を施された保護膜の表面の純水との接触角が、50°未満となるのが好ましい。前記接触角は、25°以上45°未満であるのがより好ましい。保護膜表面の純水との接触角が上記範囲にあると、保護膜と偏光膜との接着強度が良好となる。   As for the degree of surface treatment, the preferred range varies depending on the type of surface treatment, but as a result of the surface treatment, the contact angle with the pure water on the surface of the protective film subjected to the surface treatment is preferably less than 50 °. . The contact angle is more preferably 25 ° or more and less than 45 °. When the contact angle with the pure water on the surface of the protective film is in the above range, the adhesive strength between the protective film and the polarizing film becomes good.

(接着剤)
ポリビニルアルコールからなる偏光子と、表面処理された本発明のフィルムとを貼合する際には、水溶性ポリマーを含有する接着剤を用いることが好ましい。前記接着剤に好ましく使用される水溶性ポリマーとしては、N−ビニルピロリドン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリル酸β−ヒドロキシエチル、メタクリル酸β−ヒドロキシエチル、ビニルアルコール、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ビニルイミダゾールなどエチレン性不飽和モノマーを構成要素として有する単独重合体もしくは重合体、またポリオキシエチレン、ボリオキシプロピレン、ポリ−2−メチルオキサゾリン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチンなどが挙げられる。本発明では、この中でもPVAおよびゼラチンが好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に0.01〜5μmが好ましく、0.05〜3μmがより好ましい。
(adhesive)
When laminating a polarizer made of polyvinyl alcohol and the surface-treated film of the present invention, it is preferable to use an adhesive containing a water-soluble polymer. Water-soluble polymers preferably used for the adhesive include N-vinyl pyrrolidone, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, β-hydroxyethyl acrylate, β-hydroxyethyl methacrylate, vinyl alcohol, methyl vinyl ether, vinyl acetate. , Acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, vinyl imidazole, etc., homopolymers or polymers having ethylenically unsaturated monomers as constituents, polyoxyethylene, polyoxypropylene, poly-2-methyloxazoline, methylcellulose, hydroxyethylcellulose , Hydroxypropylcellulose, gelatin and the like. Of these, PVA and gelatin are preferred in the present invention. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 5 μm after drying, and more preferably 0.05 to 3 μm.

(反射防止層)
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される保護膜には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。特に、本発明では保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層または保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。
(Antireflection layer)
It is preferable to provide a functional film such as an antireflection layer on the protective film disposed on the opposite side of the polarizing plate from the liquid crystal cell. In particular, in the present invention, at least a light scattering layer and a low refractive index layer are laminated in this order on the protective film, or an intermediate refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are arranged in this order on the protective film. A laminated antireflection layer is preferably used.

(光散乱層)
光散乱層は、表面散乱および/または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生および脆性の悪化抑制の観点から、1〜10μmが好ましく、1.2〜6μmがより好ましい。
(Light scattering layer)
The light scattering layer is formed for the purpose of contributing to the film light diffusibility due to surface scattering and / or internal scattering, and hard coat properties for improving the scratch resistance of the film. Therefore, it is formed to contain a binder for imparting hard coat properties, matte particles for imparting light diffusibility, and inorganic fillers for increasing the refractive index, preventing cross-linking shrinkage, and increasing the strength as necessary. The The thickness of the light scattering layer is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1.2 to 6 μm, from the viewpoint of imparting hard coat properties and from the viewpoint of curling and suppressing deterioration of brittleness.

(反射防止層の他の層)
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(Other layers of antireflection layer)
Further, a hard coat layer, a forward scattering layer, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、支持体の表面に設ける。特に、支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および/または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is provided on the surface of the support in order to impart physical strength to the protective film provided with the antireflection layer. In particular, it is preferably provided between the support and the high refractive index layer. The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a light and / or heat curable compound. As the curable functional group, a photopolymerizable functional group is preferable, and the organometallic compound containing a hydrolyzable functional group is preferably an organic alkoxysilyl compound.

(帯電防止層)
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が10-8(Ωcm-3)以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により10-8(Ωcm-3)の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。
(Antistatic layer)
In the case of providing an antistatic layer, it is preferable to impart conductivity with a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ) or less. The use of hygroscopic substances, water-soluble inorganic salts, certain surfactants, cationic polymers, anionic polymers, colloidal silica, etc. can give a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ). There is a problem that dependency is large, and sufficient conductivity cannot be secured at low humidity. Therefore, a metal oxide is preferable as the conductive layer material.

[液晶表示装置]
本発明のフィルム、該フィルムからなる位相差フィルム、該フィルムを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)およびHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。このうち、OCBモードまたはVAモードに好ましく用いることができる。
[Liquid Crystal Display]
The film of the present invention, a retardation film comprising the film, and a polarizing plate using the film can be used for liquid crystal cells and liquid crystal display devices in various display modes. TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystals), AFLC (Anti-Ferroelectric Liquid Crystals), OCB (Optically Charged TNS). Various display modes such as HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. Of these, the OCB mode or the VA mode can be preferably used.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

以下の実施例、比較例において、各種測定、製膜およびフィルム評価は以下のように行った。
(1)分子量および分子量分布:ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC、東ソー株式会社製、商品名:HLC−8020/カラム4本:東ソー株式会社製、商品名:TSKguardcolumn SuperHZ−H、TSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ2000)を用い、テトラヒドロフラン(THF)溶媒を用い、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)を求めた。なお、Mnは数平均分子量を表す。
(2)重合体分子構造:超伝導核磁気共鳴吸収装置(NMR、Bruker社製、商品名:AVANCE400)を用い、重メチレンクロライド中で1HNMRもしくは13CNMRを測定した。
(3)製膜:ノルボルネン系重合体とビニル重合体組成物を、以下の組成で混合した。
ノルボルネン系重合体/ビニル系重合体(質量比率は表1参照) 100質量部
メチレンクロライド/メタノール(質量比率92/8) 320質量部
これを加圧ろ過した。得られたドープをA3大の疎水性ガラス板上でアプリケーターを用いて、流延製膜した。これを25℃密閉系で1分間乾燥し、続いて40℃の送風乾燥機中で15分間乾燥した。ガラス板からフィルムを剥ぎ取り、ステンレス製の枠に挟み、これを100℃の乾燥機中で30分間、133℃の乾燥機中で30分間乾燥を行い、フィルムを得た。
(4)フィルムの厚み測定:デジタルマイクロメーターで任意の部分を3点測定し、平均値をとった。
(5)ヘイズ測定:フィルムを25℃60%RHでヘイズメーター(HGM−2DP、スガ試験機)でJIS K−6714に従って測定した。
(6)Re、Rth測定: KOBRA 21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて波長590nmで、前述の手法によって測定した。得られた値を、80μmの厚みのRe、Rthとして換算した。
In the following Examples and Comparative Examples, various measurements, film formation and film evaluation were performed as follows.
(1) Molecular weight and molecular weight distribution: Gel permeation chromatography (GPC, manufactured by Tosoh Corporation, trade name: HLC-8020 / four columns: manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSKguardcolumn SuperHZ-H, TSKgel SuperHZM-H, The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) in terms of polystyrene were determined using tetrahydrofuran (THF) solvent using TSKgel SuperHZ4000 and TSKgel SuperHZ2000). Mn represents the number average molecular weight.
(2) Polymer molecular structure: 1HNMR or 13CNMR was measured in deuterated methylene chloride using a superconducting nuclear magnetic resonance absorber (NMR, manufactured by Bruker, trade name: AVANCE400).
(3) Film formation: A norbornene polymer and a vinyl polymer composition were mixed in the following composition.
Norbornene polymer / vinyl polymer (see Table 1 for mass ratio) 100 parts by mass Methylene chloride / methanol (mass ratio 92/8) 320 parts by mass This was filtered under pressure. The obtained dope was cast on an A3 large hydrophobic glass plate using an applicator. This was dried in a 25 ° C. closed system for 1 minute, followed by drying in a blow dryer at 40 ° C. for 15 minutes. The film was peeled off from the glass plate and sandwiched between stainless steel frames, which were dried in a dryer at 100 ° C. for 30 minutes and in a dryer at 133 ° C. for 30 minutes to obtain a film.
(4) Film thickness measurement: An arbitrary portion was measured at three points with a digital micrometer, and an average value was taken.
(5) Haze measurement: The film was measured according to JIS K-6714 with a haze meter (HGM-2DP, Suga Test Instruments) at 25 ° C. and 60% RH.
(6) Re, Rth measurement: It measured by the above-mentioned method at wavelength 590nm using KOBRA 21ADH (made by Oji Scientific Instruments). The obtained values were converted as Re and Rth having a thickness of 80 μm.

[ノルボルネン系モノマーの合成]
(合成例1:M−1の合成)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)572g、酢酸アリル(和光純薬社製)1309gとヒドロキノン(和光純薬社製)1gをオートクレーブに仕込み、空隙を窒素置換した。密閉系で内温270℃で3時間攪拌した(回転速度=300rpm)。反応混合物をろ過し、揮発成分をエバポレーションした。残存物を単蒸留に付して、無色透明なM−1を得た。ガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度98.7%、endo/exo比率59/41であった。
[Synthesis of norbornene monomers]
(Synthesis Example 1: Synthesis of M-1)
572 g of dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 1309 g of allyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1 g of hydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged into the autoclave, and the air gap was replaced with nitrogen. The mixture was stirred for 3 hours at an internal temperature of 270 ° C. in a closed system (rotational speed = 300 rpm). The reaction mixture was filtered and the volatile components were evaporated. The residue was subjected to simple distillation to obtain colorless and transparent M-1. When the peak purity was measured by gas chromatography, the purity was 98.7% and the endo / exo ratio was 59/41.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

[ノルボルネン系重合体(A)の合成]
(A−1の合成)
332.1gのM−1を反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセチルアセトナート(東京化成社製)85.5mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)88.5mgをトルエン10mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)454mgを添加した。さらにトルエン1325mLを添加した。この溶液を95℃で6時間攪拌した。トルエンを2.8L添加し、攪拌しながらメタノール10Lを3時間かけて滴下した。得られた沈殿物をろ過した。これをメタノール中で洗い、再び吸引ろ過した。120℃で6時間真空乾燥を行った。白色固体のA−1 314gを得た。分子量を測定した結果、Mw=308200、Mn=106000であった。
[Synthesis of norbornene polymer (A)]
(Synthesis of A-1)
332.1 g of M-1 was charged to the reaction vessel. Next, a solution obtained by reacting 85.5 mg of palladium bisacetylacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 88.5 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co., Ltd.) with 10 mL of toluene was added. Subsequently, 454 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenyl borate (manufactured by Strem) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. Further, 1325 mL of toluene was added. The solution was stirred at 95 ° C. for 6 hours. 2.8 L of toluene was added, and 10 L of methanol was added dropwise over 3 hours while stirring. The resulting precipitate was filtered. This was washed in methanol and suction filtered again. Vacuum drying was performed at 120 ° C. for 6 hours. 314 g of A-1 as a white solid was obtained. As a result of measuring molecular weight, it was Mw = 308200 and Mn = 106000.

(A−2の合成)
798.6gのノルボルネンカルボン酸メチル(M−2:東京化成社製を単蒸留した;ガスクロマトグラフィーでの純度98.9%、endo/exo比率50/50)を反応容器に仕込んだ。次いでパラジウムビスアセチルアセトナート(東京化成社製)318mgとトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)296mgをトルエン10mLで反応させた溶液を加えた。続いて塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)1700mgを添加した。さらにトルエン800mLを添加した。この溶液を95℃で6時間攪拌した。トルエンを2L添加し、攪拌しながらメタノール5Lを3時間かけて滴下した。得られた沈殿物をろ過した。これをメタノール中で洗い、再び吸引ろ過した。120℃で6時間真空乾燥を行った。白色固体のA−2 630gを得た。分子量を測定した結果、Mw=123400、Mn=53200であった
(Synthesis of A-2)
798.6 g of methyl norbornenecarboxylate (M-2: simply distilled from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .; purity 98.9% by gas chromatography, endo / exo ratio 50/50) was charged into a reaction vessel. Next, a solution obtained by reacting 318 mg of palladium bisacetylacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 296 mg of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) with 10 mL of toluene was added. Subsequently, 1700 mg of dimethylanilinium tetrakispentafluorophenyl borate (manufactured by Strem) dissolved in 5 mL of methylene chloride was added. Furthermore, 800 mL of toluene was added. The solution was stirred at 95 ° C. for 6 hours. 2 L of toluene was added, and 5 L of methanol was added dropwise over 3 hours while stirring. The resulting precipitate was filtered. This was washed in methanol and suction filtered again. Vacuum drying was performed at 120 ° C. for 6 hours. 630 g of white solid A-2 was obtained. As a result of measuring molecular weight, it was Mw = 123400 and Mn = 53200.

(A−3の合成)
166.1gのM−1と152.2gのM−2を反応容器に仕込んだ。実施例1と同様に触媒を仕込み、白色固体のA−3を得た。分子量を測定した結果、Mw=185600、Mn=76400であった。
(Synthesis of A-3)
166.1 g M-1 and 152.2 g M-2 were charged to the reaction vessel. A catalyst was charged in the same manner as in Example 1 to obtain a white solid A-3. As a result of measuring molecular weight, it was Mw = 185600 and Mn = 76400.

上記のA−3を13CNMRを測定した。172ppmに現れるアセチル基のピークと175ppmに現れるメチルエステル基のピークの積分値の比較より、アセチル基とメチルエステル基の比率は、60/40と算出した。 The above A-3 was measured by 13 CNMR. From the comparison of the integrated value of the peak of acetyl group appearing at 172 ppm and the peak of methyl ester group appearing at 175 ppm, the ratio of acetyl group to methyl ester group was calculated as 60/40.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

[ビニル系重合体(B)の合成]
(B−1の合成)
スチレン(和光純薬社製)106.8g、n-ブチルアクリレート(和光純薬社製)58.0g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(和光純薬社製)28.4g、メチルエチルケトン(和光純薬社製))132.1gのモノマー混合溶液の32%を反応容器に仕込み、65℃130rpmで攪拌した。残りのモノマー混合溶液と2,2‘−アゾビス2,4−ジメチルバレロニトリル(V−65:和光純薬社製)2.1gの混合溶液を1時間かけて滴下した。2時間撹拌し、V−65 2.1gとメチルエチルケトン21.0gの混合溶液を3時間かけて滴下し、2時間撹拌した。65℃から70℃に昇温したのち、2時間撹拌した。内容物をメタノールに再沈殿し、乾燥させ、B−1を得た。GPC測定の結果、Mw=25000、Mn=13500であった。13CNMR測定でカルボニル炭素のピークの積分比を比較したところ、n-ブチルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、68/32であった。さらに、1HNMRで7ppm付近(フェニル基)のピークの積分値と0.5〜4.5ppmのピークの積分値を比較し、13CNMRの結果を合わせて3ユニットの組成をもとめた。その結果、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン/n-ブチルアクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、13/60/27であった。
[Synthesis of vinyl polymer (B)]
(Synthesis of B-1)
Styrene (Wako Pure Chemical Industries) 106.8 g, n-butyl acrylate (Wako Pure Chemical Industries) 58.0 g, 2-hydroxyethyl methacrylate (Wako Pure Chemical Industries) 28.4 g, methyl ethyl ketone (Wako Pure Chemical Industries )) 32% of the 132.1 g monomer mixed solution was charged into a reaction vessel and stirred at 65 ° C. and 130 rpm. A mixed solution of the remaining monomer mixed solution and 2.1 g of 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile (V-65: manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise over 1 hour. The mixture was stirred for 2 hours, and a mixed solution of 2.1 g of V-65 and 21.0 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 3 hours, followed by stirring for 2 hours. After raising the temperature from 65 ° C. to 70 ° C., the mixture was stirred for 2 hours. The contents were reprecipitated in methanol and dried to obtain B-1. As a result of the GPC measurement, Mw = 25000 and Mn = 1300. When the integral ratio of the carbonyl carbon peak was compared by 13C NMR measurement, the molar ratio of the repeating unit derived from n-butyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate was 68/32. Furthermore, the integrated value of the peak in the vicinity of 7 ppm (phenyl group) and the integrated value of the peak at 0.5 to 4.5 ppm were compared by 1HNMR, and the result of 13CNMR was combined to determine the composition of 3 units. As a result, the molar ratio of the repeating unit derived from 2-hydroxyethyl methacrylate / styrene / n-butyl acrylate was 13/60/27.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(B−2の合成)
モノマー3種類の混合溶液組成を、スチレン(和光純薬社製)96.8g、n-ブチルアクリレート(和光純薬社製)63.0g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(和光純薬社製)33.4g、として、B−1と同様に操作を行い、B−2を得た。Mw=26400、Mn=13500であった。前記と同様に1HNMRと13CNMR測定より、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン/n-ブチルアクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、15/55/30であった。
(Synthesis of B-2)
The composition of the mixed solution of the three types of monomers was 96.8 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 63.0 g of n-butyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 33. As for 4g, the same operation as B-1 was performed to obtain B-2. Mw = 26400 and Mn = 13500. As described above, the molar ratio of the repeating unit derived from 2-hydroxyethyl methacrylate / styrene / n-butyl acrylate was 15/55/30 from 1HNMR and 13CNMR measurements.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(B-3の合成)
モノマー3種類の混合溶液組成を、スチレン(和光純薬社製)116.8g、n-ブチルアクリレート(和光純薬社製)53.0g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(和光純薬社製)23.4g、として、B−1と同様に操作を行い、B−3を得た。Mw=28900、Mn=14500であった。前記と同様に1HNMRと13CNMR測定より、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン/n-ブチルアクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、11/65/24であった。
(Synthesis of B-3)
The composition of the mixed solution of the three types of monomers was 116.8 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 53.0 g of n-butyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 23. As 4g, the same operation as B-1 was performed to obtain B-3. Mw = 28900 and Mn = 14500. The molar ratio of the repeating unit derived from 2-hydroxyethyl methacrylate / styrene / n-butyl acrylate was 11/65/24 from 1HNMR and 13CNMR measurements as described above.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(B−4の合成)
モノマー3種類の混合溶液組成を、スチレン(和光純薬社製)106.8g、エチルアクリレート(和光純薬社製)45.3g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(和光純薬社製)23.4g、として、B−1と同様に操作を行い、B−4を得た。Mw=24500、Mn=12100であった。前記と同様に1HNMRと13CNMR測定より、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン/エチルアクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、11/62/27であった。
(Synthesis of B-4)
The mixed solution composition of the three types of monomers was 106.8 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 45.3 g of ethyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 23.4 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), As described above, the same operation as in B-1 was performed to obtain B-4. Mw = 24500 and Mn = 1100. As described above, the molar ratio of the repeating unit derived from 2-hydroxyethyl methacrylate / styrene / ethyl acrylate was 11/62/27 from 1HNMR and 13CNMR measurements.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(B-5の合成)
モノマー3種類の混合溶液組成を、スチレン(和光純薬社製)106.8g、メチルアクリレート(和光純薬社製)38.7g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(和光純薬社製)25.5g、として、B−1と同様に操作を行い、B−5を得た。Mw=23200、Mn=10400であった。前記と同様に1HNMRと13CNMR測定より、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン/メチルアクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、12/61/27であった。
(Synthesis of B-5)
The mixed solution composition of three types of monomers was 106.8 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 38.7 g of methyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 25.5 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), As described above, the same operation as in B-1 was performed to obtain B-5. Mw = 23200 and Mn = 10400. As described above, the molar ratio of the repeating unit derived from 2-hydroxyethyl methacrylate / styrene / methyl acrylate was 12/61/27 from 1HNMR and 13CNMR measurements.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(B−6の合成)
モノマー3種類の混合溶液組成を、スチレン(和光純薬社製)106.8g、n-ブチルアクリレート(和光純薬社製)58.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート(和光純薬社製)25.5g、として、B−1と同様に操作を行い、B−6を得た。Mw=21300、Mn=10000であった。前記と同様に1HNMRと13CNMR測定より、2−ヒドロキシエチルアクリレート/スチレン/n-ブチルアクリレートに由来する繰り返し単位のモル比率は、11/62/27であった。
(Synthesis of B-6)
The composition of the mixed solution of the three types of monomers was 106.8 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 58.0 g of n-butyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 25. As in 5 g, the same operation as in B-1 was performed to obtain B-6. Mw = 21300 and Mn = 10000. The molar ratio of the repeating unit derived from 2-hydroxyethyl acrylate / styrene / n-butyl acrylate was 11/62/27 from 1HNMR and 13CNMR measurements as described above.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

(B-7の合成)
モノマー3種類の混合溶液組成を、スチレン(和光純薬社製)106.8g、アクリロニトリル(和光純薬社製)23.9g、2−ヒドロキシエチルアクリレート(和光純薬社製)25.5g、として、B−1と同様に操作を行い、B−7を得た。Mw=19800、Mn=9500であった。13CNMRのインバースゲートデカップリング法(ディレイタイム10秒、積算3000回)による定量測定の結果、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン/アクリロニトリルに由来する繰り返し単位のモル比率は、10/62/28であった。
(Synthesis of B-7)
The composition of the mixed solution of the three types of monomers is 106.8 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 23.9 g of acrylonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and 25.5 g of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). , B-1 was performed to obtain B-7. Mw = 19800 and Mn = 9500. As a result of quantitative measurement by an inverse gate decoupling method of 13C NMR (delay time 10 seconds, integration 3000 times), the molar ratio of repeating units derived from 2-hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylonitrile was 10/62/28. .

Figure 2009227868
Figure 2009227868

[ドープ調製及びフィルム作製]
(実施例1〜15)
上記で得られたノルボルネン系重合体(A)とビニル系重合体(B)を前述の手法で、表1の組み合わせと混合比で、混合した。これを前述の手法で製膜した。ヘイズ、Rthを前述の手法で測定した。結果を表1に示す。
[Dope preparation and film production]
(Examples 1 to 15)
The norbornene polymer (A) and the vinyl polymer (B) obtained above were mixed by the above-described method at the combinations and mixing ratios shown in Table 1. This was formed into a film by the above-mentioned method. Haze and Rth were measured by the method described above. The results are shown in Table 1.

(比較例1〜3)
ビニル系重合体(B)を添加せずに、A−1、A−2、A−3のみで実施例1と同様にドープ作製、製膜を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Examples 1-3)
Dope preparation and film formation were performed in the same manner as in Example 1 using only A-1, A-2, and A-3 without adding the vinyl polymer (B). The results are shown in Table 1.

(比較例4)
ビニル系重合体(B)のかわりにポリスチレン(C−1:アルドリッチ社製、Mw=13000)を用いて、実施例1と同様にドープ作製、製膜を行ったが、フィルムは白化し、評価はできなかった。
(Comparative Example 4)
Dope preparation and film formation were performed in the same manner as in Example 1 using polystyrene (C-1: Aldrich, Mw = 13000) instead of the vinyl polymer (B), but the film was whitened and evaluated. I couldn't.

(比較例5)
ビニル系重合体(B)のかわりにポリ(スチレン-コ-アクリロニトリル)(C−2:アルドリッチ社製:Mw=165000、スチレン/アクリロニトリルに由来する繰り返し単位のモル比率は、75/25)を用いて、実施例1と同様にドープ作製、製膜を行ったが、フィルムは白化し、評価はできなかった。
(Comparative Example 5)
Instead of the vinyl polymer (B), poly (styrene-co-acrylonitrile) (C-2: manufactured by Aldrich: Mw = 165000, the molar ratio of repeating units derived from styrene / acrylonitrile is 75/25) Then, the dope was produced and formed in the same manner as in Example 1, but the film was whitened and could not be evaluated.

(比較例6)
スチレン、n-ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレートからなるB−1と同じモル比率の混合物(C−3)を重合させずにそのままA−1に混合した。実施例1と同様にドープ作製、製膜を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 6)
A mixture (C-3) composed of styrene, n-butyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate and having the same molar ratio as B-1 was directly mixed with A-1 without polymerization. Dope preparation and film formation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2009227868
Figure 2009227868

表1より、本発明の樹脂組成物のフィルムは、ヘイズが小さく、もとのノルボルネン系重合体フィルム(比較例1〜3)のRthを低減することができる。すなわち、種々の値にコントロールできる。一方、本発明外のフィルムでは、白化するもしくはRthが低減しない結果であった。   From Table 1, the film of the resin composition of the present invention has a small haze and can reduce Rth of the original norbornene-based polymer film (Comparative Examples 1 to 3). That is, it can be controlled to various values. On the other hand, the film outside the present invention was whitened or Rth was not reduced.

Claims (10)

下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するノルボルネン系重合体(A)とヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)とを含有する樹脂組成物。
Figure 2009227868
(一般式(1)中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子または−(CH2m−OC(O)−R’’、−(CH2m−OH、−(CH2m−C(O)−OH、−(CH2m−C(O)OR’’、−(CH2m−OR’’、−(CH2m−OC(O)OR’’、−(CH2m−C(O)R’’、−(CH2m−O−(CH2m−OHよりなる群から選ばれる官能性置換基であり、ここでmは独立に0〜10であり、R’’は直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、R1とR4はそれらが結合している環員炭素原子と一緒になって無水物もしくはジカルボキシイミド基を形成することができる。ただし、R1〜R4の少なくとも1つは官能性置換基である。)
A resin composition comprising a norbornene polymer (A) having a repeating unit represented by the following general formula (1) and a vinyl polymer (B) having a hydroxyl group.
Figure 2009227868
(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or — (CH 2 ) m —OC (O) —R ″, — (CH 2 ) m. -OH, - (CH 2) m -C (O) -OH, - (CH 2) m -C (O) OR '', - (CH 2) m -OR '', - (CH 2) m - A functional substituent selected from the group consisting of OC (O) OR ″, — (CH 2 ) m —C (O) R ″, — (CH 2 ) m —O— (CH 2 ) m —OH; Wherein m is independently 0 to 10, R ″ represents a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 1 and R 4 are bonded to each other. Together with the ring carbon atoms can form an anhydride or dicarboximide group, provided that at least one of R 1 to R 4 is a functional substituent.)
前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)が、下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有する重合体である請求項1に記載の樹脂組成物。
Figure 2009227868
(一般式(2)中、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を表し、nは0または正の整数である。)
The resin composition according to claim 1, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group is a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (2).
Figure 2009227868
(In General Formula (2), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom, which may have a linking group, An unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; or a polar group, and n is 0 or a positive integer.)
前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)が、さらに下記一般式(3)および(4)より選ばれる少なくとも一種類の繰り返し単位を有する重合体である請求項2に記載の樹脂組成物。
Figure 2009227868
(一般式(3)および(4)中、R4〜R7は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を表し、R5は全て同一の原子または基であっても、互いに異なる原子または基であってもよい。)
The resin composition according to claim 2, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group is a polymer further having at least one repeating unit selected from the following general formulas (3) and (4).
Figure 2009227868
(In General Formulas (3) and (4), R 4 to R 7 may each independently have a linking group containing a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; or a polar group, and all R 5 s may be the same atom or group or different from each other.
前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)が、下記一般式(5)の各繰り返し単位を有する重合体である請求項3に記載の樹脂組成物。
Figure 2009227868
(一般式(5)中、R1〜R7は、それぞれ独立に、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基;または極性基を表し、R5は全て同一の原子または基であっても、互いに異なる原子または基であってもよく、nは0または正の整数であり、x、yおよびzは、x+y+z=100モル%とした場合の各繰り返し単位のモル比を示し、1<x<20、かつ、40<y<99を満たす。)
The resin composition according to claim 3, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group is a polymer having each repeating unit of the following general formula (5).
Figure 2009227868
(In the general formula (5), R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom, which may have a linking group, An unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; or a polar group, and all R 5 s may be the same or different from each other, and n may be 0 or positive X, y and z represent the molar ratio of each repeating unit when x + y + z = 100 mol%, and 1 <x <20 and 40 <y <99 are satisfied.)
前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)の重量平均分子量が1000〜50000、数平均分子量が500〜25000である請求項1〜4のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the vinyl polymer (B) having a hydroxyl group has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 and a number average molecular weight of 500 to 25,000. 前記一般式(5)におけるR7がCOOR’’(R’’は炭素数1〜4のアルキル基)である請求項4または5に記載の樹脂組成物。 6. The resin composition according to claim 4, wherein R 7 in the general formula (5) is COOR ″ (R ″ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). 前記ノルボルネン系重合体(A)が一般式(1)で表される繰り返し単位を50〜100モル%含有する請求項1〜6のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the norbornene polymer (A) contains 50 to 100 mol% of a repeating unit represented by the general formula (1). 前記一般式(1)のR1、R2、R3、R4のうち一つが−CH2−OC(O)−R’’(R’’は前記と同様)または−C(O)OR’’(R’’は前記と同様)であり、残り3つが水素原子である請求項1〜7のいずれかに記載の樹脂組成物。 One of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) is —CH 2 —OC (O) —R ″ (R ″ is the same as described above) or —C (O) OR. The resin composition according to claim 1, wherein R is the same as above, and the remaining three are hydrogen atoms. 前記ヒドロキシル基を有するビニル系重合体(B)とノルボルネン系重合体(A)の質量混合比(A/B)が99/1〜50/50である請求項1〜8のいずれかに記載の樹脂組成物。   The mass mixing ratio (A / B) of the vinyl polymer (B) having the hydroxyl group and the norbornene polymer (A) is 99/1 to 50/50, according to any one of claims 1 to 8. Resin composition. 請求項1〜9のいずれかに記載の樹脂組成物からなるフィルム。   The film which consists of a resin composition in any one of Claims 1-9.
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