JP2008031319A - Norbornene polymer, film, polarizing plate and liquid crystal display - Google Patents

Norbornene polymer, film, polarizing plate and liquid crystal display Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a norbornene polymer film whose retardation has reverse wavelength dispersion characteristics. <P>SOLUTION: The film is comprised of a norbornene polymer containing a recurring unit represented by general formula (I). In the formula, R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group; L and L' are each a bivalent linking group or a single bond; and A and A' are each an aromatic group. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ノルボルネン系重合体、これを用いたフィルム(特に位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルム等の各種機能フィルム、偏光板保護膜)、偏光板、液晶表示装置、ノルボルネン系重合体に関するものである。 The present invention relates to norbornene-based polymers, films using the same (in particular, various functional films such as retardation films, viewing angle widening films, antireflection films used in plasma displays, polarizing plate protective films), polarizing plates, liquid crystal displays The apparatus relates to a norbornene polymer.

ノルボルネン系化合物がビニル重合したノルボルネン系付加重合体(以下ノルボルネン系重合体とする)のフィルムは、厚み方向のレターデーション(Rth)が高いという特徴を有することから、ネガティブCプレートに適用可能である(特許文献1)。さらに、これを延伸加工することよって、ノルボルネン系重合体の主鎖が延伸方向に並び、レターデーション(Re)を発現し、ネガティブ2軸位相差板に適用ができる。すなわち、ノルボルネン系重合体のフィルムは、高いRe、Rthを有する位相差フィルムとして有望である。特に、VA方式(ヴァーティカルアラインメント)の液晶表示装置の位相差フィルムとして好ましい値をとりうる。 A film of a norbornene-based addition polymer (hereinafter referred to as a norbornene-based polymer) obtained by vinyl polymerization of a norbornene-based compound is characterized by high retardation (Rth) in the thickness direction, and thus can be applied to a negative C plate. (Patent Document 1). Furthermore, by stretching this, the main chain of the norbornene-based polymer is aligned in the stretching direction and expresses retardation (Re), and can be applied to a negative biaxial retardation plate. That is, a film of a norbornene polymer is promising as a retardation film having high Re and Rth. In particular, a preferable value can be taken as a retardation film of a VA (vertical alignment) liquid crystal display device.

一方、近年の液晶表示装置の位相差フィルムは、ある波長における特定のRe、Rthの値のみならず、可視光領域(400nm〜700nm)の波長においてRe、Rthの値が連続的に異なる特性(波長分散)が要求されている。例えばヴァーティカルアラインメント(VA)方式の液晶表示装置の位相差フィルムは、波長が長くなるほどReの値が大きくなる逆波長分散特性が求められている。例えば、波長450nm、590nm、630nmにおけるReをRe450、Re590、Re630、とすると、Re450<Re590<Re630であることが求められる。 On the other hand, a retardation film of a liquid crystal display device in recent years has characteristics in which values of Re and Rth are continuously different not only at specific Re and Rth values at a certain wavelength but also at wavelengths in the visible light region (400 nm to 700 nm) ( Chromatic dispersion) is required. For example, a retardation film of a vertical alignment (VA) liquid crystal display device is required to have reverse wavelength dispersion characteristics in which the Re value increases as the wavelength increases. For example, when Re at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 630 nm is Re 450 , Re 590 , and Re 630 , it is required that Re 450 <Re 590 <Re 630 .

一般に、波長分散を変動させるには、吸収波長の長い成分を導入することが有効であるが、これまでのところ特許文献2に、フェニル基を導入した重合体が記載されているにすぎない。 In general, it is effective to introduce a component having a long absorption wavelength in order to fluctuate the chromatic dispersion. To date, Patent Document 2 describes only a polymer having a phenyl group introduced therein.

国際公開WO2004/049011号パンフレットInternational Publication WO2004 / 049011 Pamphlet 国際公開WO2004/007587号パンフレットInternational Publication WO2004 / 007587 Pamphlet

本発明者が行った検討では、前述のフェニル基を含有するノルボルネン系重合体フィルムの波長分散性に向上が見られるものの、その程度は小さく、液晶表示装置の色見を向上させるには不十分であることが判明した。したがって、波長分散の程度を大きくできるノルボルネン系重合体フィルムが望まれている。 In the study conducted by the present inventors, although the wavelength dispersibility of the above-described norbornene-based polymer film containing a phenyl group is improved, the degree is small and insufficient to improve the color appearance of the liquid crystal display device. It turned out to be. Therefore, a norbornene-based polymer film that can increase the degree of wavelength dispersion is desired.

本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、芳香族基を二つ有するノルボルネンユニットを含有するノルボルネン系重合体のフィルムのReの波長分散特性が逆分散でかつその程度が大きくなることを見出した。さらに、芳香族基が、極大吸収波長が270〜400nmを有し、該極大吸収波長のモル吸光係数が10〜100000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物の1水素脱離体である場合、この分散特性が特に大きくなることを見出し、本発明に至った。本発明のノルボルネン系重合体フィルムを組み込むことで、品質の高い偏光板と液晶表示装置が得られることを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the wavelength dispersion characteristic of Re in the norbornene polymer film containing the norbornene unit having two aromatic groups is reverse dispersion and the degree thereof is large. I found out that Further, the aromatic group has a maximum absorption wavelength of 270 to 400 nm, and the molar absorption coefficient of the maximum absorption wavelength is 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ]. In the case of a body, the present inventors have found that this dispersion characteristic is particularly large and have reached the present invention. It has been found that a high-quality polarizing plate and a liquid crystal display device can be obtained by incorporating the norbornene polymer film of the present invention.

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
(1)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含むことを特徴するノルボルネン系重合体。

Figure 2008031319
(式中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有してもよいアリール基であり、LおよびL'は、それぞれ、二価の連結基または単結合であり、AおよびA'はそれぞれ、芳香族基である。)
(2)前記LおよびL'が、それぞれ、単結合、カルボニル基またはアセチレン基である(1)に記載のノルボルネン系重合体。
(3)前記Aおよび/またはA’が、270nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長のモル吸光係数が10〜100000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物の1水素離脱体である(1)または(2)に記載のノルボルネン系重合体。
(4)前記芳香族化合物が、2〜4環式芳香族化合物である(3)に記載のノルボルネン系重合体。
(5)前記L-AおよびL'-A'が、いずれもエキソ連結である(1)〜(4)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(6)さらに下記一般式(II)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含む(1)〜(5)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
Figure 2008031319
(式中、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、−L’’−O−CO−R9(L’’は二価の連結基または単結合であり、R9はアルキル基である)であり、R5、R6、R7およびR8の少なくとも一つは−L’’−O−CO−R9である。)
(7)前記R5、R6、R7およびR8のうち3つがそれぞれ、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基である(6)に記載のノルボルネン系重合体。
(8)前記L'' が単結合またはアルキレン基である(6)または(7)に記載のノルボルネン系重合体。
(9)前記R9が炭素数1〜5のアルキル基である(6)〜(8)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(10)一般式(I)で表される繰り返し単位および一般式(II)で表される繰り返し単位のみから形成された(6)〜(9)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(11)一般式(I)で表される繰り返し単位の重合組成比率が0%より多く80%未満である(1)〜(10)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
(12)(1)〜(11)のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体を含む、フィルム。
(13)波長450nmにおける面内レターデーションRe450と波長630nmにおける面内レターデーションRe630の差ΔRe=Re630−Re450が、10nm≦ΔRe≦100nmを満足する(12)に記載のフィルム。
(14)波長590nmにおける面内レターデーションRe590が、30nm≦Re590≦200nmを満足する(12)または(13)に記載のフィルム。
(15)偏光膜と、(12)〜(14)のいずれか1項に記載のフィルムを有することを特徴とする偏光板。
(16)(15)に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。 Means for solving the above problems are as follows.
(1) A norbornene-based polymer comprising at least one repeating unit represented by the following general formula (I).
Figure 2008031319
(In the formula, R 1 and R 2 are each a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and L and L ′ are each A divalent linking group or a single bond, and A and A ′ are each an aromatic group.)
(2) The norbornene polymer according to (1), wherein L and L ′ are each a single bond, a carbonyl group, or an acetylene group.
(3) Aromatic compounds in which A and / or A ′ has a maximum absorption wavelength at 270 nm to 400 nm, and the molar absorption coefficient of the maximum absorption wavelength is 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ]. The norbornene-based polymer according to (1) or (2), wherein
(4) The norbornene-based polymer according to (3), wherein the aromatic compound is a 2-4 cyclic aromatic compound.
(5) The norbornene-based polymer according to any one of (1) to (4), wherein both L-A and L′-A ′ are exo-linked.
(6) The norbornene polymer according to any one of (1) to (5), further comprising at least one repeating unit represented by the following general formula (II).
Figure 2008031319
(Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or —L ′. '-O-CO-R 9 (L ″ is a divalent linking group or a single bond, R 9 is an alkyl group), and is at least one of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 . is -L '' - is a O-CO-R 9).
(7) The norbornene polymer according to (6), wherein three of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
(8) The norbornene polymer according to (6) or (7), wherein L ″ is a single bond or an alkylene group.
(9) The norbornene polymer according to any one of (6) to (8), wherein R 9 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
(10) The norbornene-based polymer according to any one of (6) to (9), which is formed from only the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II). .
(11) The norbornene polymer according to any one of (1) to (10), wherein the polymerization composition ratio of the repeating unit represented by the general formula (I) is more than 0% and less than 80%.
(12) A film comprising the norbornene polymer according to any one of (1) to (11).
(13) The film according to (12), wherein the difference ΔRe = Re 630 −Re 450 between the in-plane retardation Re 450 at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re 630 at a wavelength of 630 nm satisfies 10 nm ≦ ΔRe ≦ 100 nm.
(14) The film according to (12) or (13), wherein the in-plane retardation Re 590 at a wavelength of 590 nm satisfies 30 nm ≦ Re 590 ≦ 200 nm.
(15) A polarizing plate comprising a polarizing film and the film described in any one of (12) to (14).
(16) A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to (15).

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

[ノルボルネン系重合体]
本発明のノルボルネン系重合体は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする。なお、本発明におけるノルボルネン系重合体とは、ノルボルネン系化合物が重合した単独重合体または共重合体である。下記一般式(I)で表される繰り返し単位は、1種または複数種でもよく、後述するように他の繰り返し単位を含んでもよい。
[Norbornene polymer]
The norbornene-based polymer of the present invention includes a repeating unit represented by the following general formula (I). The norbornene polymer in the present invention is a homopolymer or copolymer obtained by polymerizing a norbornene compound. 1 type or multiple types may be sufficient as the repeating unit represented by the following general formula (I), and other repeating units may be included so that it may mention later.

Figure 2008031319
Figure 2008031319

一般式(I)中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有してもよいアリール基であり、該置換基は特に制限されるものでない。R1およびR2は、それぞれ、好ましくは、水素原子またはアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。 In general formula (I), R 1 and R 2 are each a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. There is no particular limitation. R 1 and R 2 are each preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

一般式(I)中、LおよびL'は、それぞれ、二価の連結基または単結合を表し、同一であっても異なってもよい。二価の連結基としては、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5、特に好ましくは炭素数1〜3であり、例えばメチレン基(−CH2−)、エチレン基(−CH2CH2−)、トリメチレン基(−CH2CH2CH2−)、などが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニレン基(−C64−)、ナフチレン基(−C106−)などが挙げられる。)、オキシアルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばオキシメチレン基(−OCH2−)、オキシエチレン基(−OCH2CH2−)、などが挙げられる。)、オキシアリーレン基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばオキシフェニレン基(−OC64−)、オキシナフチレン基(−OC106−)などが挙げられる。)、オキシカルボニル基(−OCO−)、イミノカルボニル基(−CONH−)、カルボニル基(−CO−)、アセチレン基(−CC−)、ウレイレン基(−NHCONH−)、硫黄原子や酸素原子などヘテロ原子、アミノ基(−NRa−:Raは置換基を表す)などが挙げられる。これらの連結基を二個以上組み合わせてもよい。さらに、これらの連結基は置換基で置換されてもよい。
LおよびL'は、側鎖はできるだけ短いほうが光弾性が小さくなり、フィルムにとって好ましいことから、単結合または原子数3以下の連結基が好ましく、単結合、カルボニル基、または、アセチレン基がより好ましく、単結合であることがさらに好ましい。
なお、L−AおよびL'−A'は同じ立体構造であると芳香環どうしのスタッキング効果が高いことから、exo,exoまたはendo,endoであることが好ましく、exo,exoが好ましい。
In general formula (I), L and L ′ each represent a divalent linking group or a single bond, and may be the same or different. Examples of the divalent linking group include an alkylene group (preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms. For example, a methylene group (—CH 2 —), ethylene Group (—CH 2 CH 2 —), trimethylene group (—CH 2 CH 2 CH 2 —) and the like, an arylene group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, Particularly preferably, it has 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group (—C 6 H 4 —), a naphthylene group (—C 10 H 6 —), and the like, and an oxyalkylene group (preferably 1 to 1 carbon atom). 20, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, oxymethylene group (-OCH 2 -), an oxyethylene group (-OCH 2 CH 2 -), and the like. ), Oxy ants A -lene group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as an oxyphenylene group (—OC 6 H 4 —), an oxynaphthylene group (—OC 10 H 6 -. where), etc.), an oxycarbonyl group (-OCO-), imino group (-CONH-), carbonyl group (-CO-), an acetylene group (-CC-), ureylene groups (-NHCONH -), A hetero atom such as a sulfur atom or an oxygen atom, and an amino group (-NR a- : R a represents a substituent). Two or more of these linking groups may be combined. Furthermore, these linking groups may be substituted with a substituent.
L and L ′ are preferably a single bond or a linking group having 3 or less atoms, more preferably a single bond, a carbonyl group, or an acetylene group, since the side chain as short as possible has a smaller photoelasticity and is preferable for the film. More preferably, it is a single bond.
Note that LA and L′-A ′ are preferably exo, exo or endo, endo, and more preferably exo, exo, since the same three-dimensional structure has a high stacking effect between aromatic rings.

AおよびA'は、それぞれ、芳香族基を表し、例えば、芳香族化合物の1水素離脱体の形態があげられる。1水素離脱体としては、ベンゼン、ペンタレン、ナフタレン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、インダセン、アセナフチレン、フェナンスレン、アントラセン、フルオラセン、アセフェナンスリレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、プライアデン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセン、テトラフェニレン、ヘキサフェン、ヘキサセン、ルビセン、コロネン、トリナフチレン、ヘプタフェン、ヘプタセン、ピラセン、オバレン等の単環式もしくは縮合炭化水素化合物;チオフェン、チアンスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、クサンセン、フェノクサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミヂン、ピリダジン、インドリジン、イソインドール、インドール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノィン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、ベータカルボリン、フェナンチリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロィン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン等のヘテロ環化合物、およびこれらの置換基を有するものが挙げられる。 A and A ′ each represent an aromatic group, and examples thereof include a form of a 1-hydrogen leaving body of an aromatic compound. 1 As the hydrogen-eliminating substance, benzene, pentalene, naphthalene, azulene, heptalene, biphenylene, indacene, acenaphthylene, phenanthrene, anthracene, fluoracene, acephenanthrylene, triphenylene, pyrene, chrysene, naphthacene, priadene, picene, perylene, pentaphen, Monocyclic or condensed hydrocarbon compounds such as pentacene, tetraphenylene, hexaphene, hexacene, rubicene, coronene, trinaphthylene, heptaphene, heptacene, pyracene, obalene; thiophene, thianthrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxati In, pyrrole, imidazole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyridine, pyrazine, pyrimidin, pyridazine, Ndridine, isoindole, indole, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, sinoline, pteridine, carbazole, beta carboline, phenanthridine, acridine, perimidine, phenanthrine, phenazine, phenolsazine, phenothiazine, furanazine And those having these substituents.

さらに、AおよびA'は、好ましくは少なくとも一方が、より好ましくは両方が、270〜400nm極大吸収波長を有し、該極大吸収波長のモル吸光係数が10〜100000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物の1水素離脱体が好ましい。より好ましくは、300〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物の1水素離脱体である。吸収波長が270nm以上の芳香族化合物の1水素離脱体を用いると波長分散特性の効果が高く、吸収波長を400nm以下とすると、フィルムが黄色味を帯びにくい傾向にあるため好ましい。
本明細書における、極大吸収波長とは、270nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長におけるモル吸光係数が10〜100,000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物をメチレンクロライドで適当な濃度で溶解させ(不溶の場合はヘキサンやヘプタンなどで溶解させる)、その吸収波長を通常のUV測定器で25℃で測定したときの吸収ピークの極大点をいう。モル吸光係数の単位は、[mol-1dm3cm-1]であるが、以下断りがない限り、モル吸光係数の単位はこれに規定される。極大吸収波長は必ずしも最大吸収波長でない。極大点は複数存在することがある。
また、270nm〜400nmに極大吸収波長を有する芳香族化合物の該極大吸収波長におけるモル吸光係数は、好ましくは100〜100,000し、より好ましくは120〜100,000、さらに好ましくは、130〜100,000である。
また、AおよびA'は、芳香族基の中でも、2〜4環式芳香族化合物の1水素離脱体であることが好ましく、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレンの1水素離脱体であることがさらに好ましい。
Further, A and A ′ are preferably at least one, more preferably both have a maximum absorption wavelength of 270 to 400 nm, and the molar absorption coefficient of the maximum absorption wavelength is 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −. 1 ] A hydrogen-desorbed product of an aromatic compound is preferred. More preferably, it is a 1 hydrogen leaving body of an aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 300 to 400 nm. It is preferable to use an aromatic compound having a hydrogen absorption of 270 nm or longer, which has a wavelength dispersion characteristic, and an absorption wavelength of 400 nm or less tends to be less yellowish.
In the present specification, the maximum absorption wavelength is an aromatic having a maximum absorption wavelength at 270 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient at the maximum absorption wavelength of 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ]. This refers to the maximum point of the absorption peak when the compound is dissolved in methylene chloride at an appropriate concentration (if insoluble, it is dissolved with hexane, heptane, etc.), and the absorption wavelength is measured at 25 ° C. with a normal UV measuring instrument. The unit of the molar extinction coefficient is [mol −1 dm 3 cm −1 ], but unless otherwise specified, the unit of the molar extinction coefficient is defined in this. The maximum absorption wavelength is not necessarily the maximum absorption wavelength. There may be multiple local maxima.
The molar extinction coefficient of the aromatic compound having a maximum absorption wavelength at 270 nm to 400 nm is preferably 100 to 100,000, more preferably 120 to 100,000, and still more preferably 130 to 100. , 000.
In addition, A and A ′ are preferably 1-hydrogen leaving bodies of 2 to 4 cyclic aromatic compounds among aromatic groups, and more preferably 1-hydrogen leaving bodies of naphthalene, anthracene, phenanthrene, and pyrene. preferable.

本願発明のノルボルネン系重合体は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、他の繰り返し単位を含んでいてもよい。他の繰り返し単位を含んでいる場合、一般式(I)で表される繰り返し単位の重合組成比率が0%より多く80%未満であることが好ましく、0%より多く60%未満であることがより好ましく、5%〜40%であることがさらに好ましい。
本発明のノルボルネン系重合体としては、特に、一般式(I)で表される繰り返し単位と、後述する一般式(II)で表される繰り返し単位のみからなることが好ましい。この場合の「のみ」とは、一般式(I)で表される繰り返し単位および一般式(II)で表される繰り返し単位以外の成分を全く含まない場合のほか、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、他の成分を含んでいてもよい。例えば、これらの繰り返し単位を構成するモノマーおよび重合に通常用いられる添加剤等の反応残存物が含まれていてもよい。
80%未満とすることにより、ノルボルネン系重合体の疎水性が高くなりすぎず、溶媒に対する溶解性が向上する傾向にあり、およびフィルムの透湿度が小さくなる傾向がある。一方、5%以上とすることにより、ノルボルネン系重合体が親水性となる傾向にあり、透湿度が高くなる傾向がある。このように一般式(I)で表される繰り返し単位の含量を調整することで、適当な溶解性と透湿度のフィルムを作製することができる。特に、上記範囲とすると、液晶表示装置用のフィルムとして、水溶性の偏光子を貼り付けるため、適度な透水性を有することができ好ましい。
The norbornene-based polymer of the present invention may contain other repeating units without departing from the spirit of the present invention. When other repeating units are contained, the polymerization composition ratio of the repeating units represented by the general formula (I) is preferably more than 0% and less than 80%, more preferably more than 0% and less than 60%. More preferably, it is 5 to 40%.
In particular, the norbornene-based polymer of the present invention preferably comprises only a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the general formula (II) described later. “Only” in this case does not depart from the gist of the present invention except that it contains no components other than the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II). Other components may be included within the range. For example, reaction residues such as monomers constituting these repeating units and additives usually used in polymerization may be contained.
By making it less than 80%, the hydrophobicity of the norbornene polymer does not become too high, the solubility in a solvent tends to improve, and the moisture permeability of the film tends to decrease. On the other hand, when the content is 5% or more, the norbornene-based polymer tends to be hydrophilic and moisture permeability tends to increase. Thus, by adjusting the content of the repeating unit represented by the general formula (I), a film having appropriate solubility and moisture permeability can be produced. In particular, the above range is preferable because a water-soluble polarizer is attached as a film for a liquid crystal display device, so that it can have appropriate water permeability.

このような他の繰り返し単位としては、ノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位が好ましく、下記一般式(II)で表される繰り返し単位がより好ましい。 As such another repeating unit, a repeating unit derived from a norbornene compound is preferable, and a repeating unit represented by the following general formula (II) is more preferable.

Figure 2008031319
(式中、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、−L’’−O−CO−R9(L’’は二価の連結基または単結合であり、R9はアルキル基である)であり、R5、R6、R7およびR8の少なくとも一つは−L’’−O−CO−R9である。)
Figure 2008031319
(Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or —L ′. '-O-CO-R 9 (L ″ is a divalent linking group or a single bond, R 9 is an alkyl group), and is at least one of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 . is -L '' - is a O-CO-R 9).

5、R6、R7およびR8のうち−L’’−O−CO−R9以外のものは、それぞれ、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましく、水素原子が更に好ましい。特に、R5、R6、R7およびR8のうち3つがそれぞれ、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
5、R6、R7およびR8のうち−L’’−O−CO−R9の置換基数は好ましくは、1または2であり、より好ましくは1である。R9は、炭素数6以下のアルキル基であることが好ましい。R9に含まれる炭素数が少ないほど、フィルムの光弾性が小さくなる傾向があるので好ましい。よって、R9は、炭素数5以下のアルキル基が好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基がさらに好ましい。
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 other than -L ''-O-CO-R 9 are each preferably a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, Or an alkyl group is more preferable, and a hydrogen atom is still more preferable. In particular, it is preferable that three of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
Among R 5 , R 6 , R 7 and R 8 , the number of substituents of —L ″ —O—CO—R 9 is preferably 1 or 2, and more preferably 1. R 9 is preferably an alkyl group having 6 or less carbon atoms. The smaller the number of carbon atoms contained in R 9 , the better because the photoelasticity of the film tends to be small. Therefore, R 9 is preferably an alkyl group having 5 or less carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or a pentyl group is more preferable.

L''は、二価の連結基または単結合を表す。二価の連結基としては、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5、特に好ましくは炭素数1〜3であり、例えばメチレン基(−CH2−)、エチレン基(−CH2CH2−)、トリメチレン基(−CH2CH2CH2−)、などが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニレン基(−C64−)、ナフチレン基(−C106−)などが挙げられる。)、オキシアルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばオキシメチレン基(−OCH2−)、オキシエチレン基(−OCH2CH2−)、などが挙げられる。)、オキシアリーレン基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばオキシフェニレン基(−OC64−)、オキシナフチレン基(−OC106−)などが挙げられる。)、オキシカルボニル基(−OCO−)、イミノカルボニル基(−CONH−)、カルボニル基(−CO−)、アセチレン基(−CC−)、ウレイレン基(−NHCONH−)、硫黄原子や酸素原子などヘテロ原子、アミノ基(−NRa−:Raは置換基を表す)などが挙げられる。これらの連結基を二個以上組み合わせてもよい。さらに、これらの連結基は置換基で置換されてもよい。
L''は、単結合またはアルキレン基であるのが好ましく、単結合または炭素数3以下のアルキレン基がより好ましく、単結合またはメチレン基がさらに好ましい。
L ″ represents a divalent linking group or a single bond. Examples of the divalent linking group include an alkylene group (preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms. For example, a methylene group (—CH 2 —), ethylene Group (—CH 2 CH 2 —), trimethylene group (—CH 2 CH 2 CH 2 —) and the like, an arylene group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, Particularly preferably, it has 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group (—C 6 H 4 —), a naphthylene group (—C 10 H 6 —), and the like, and an oxyalkylene group (preferably 1 to 1 carbon atom). 20, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, oxymethylene group (-OCH 2 -), an oxyethylene group (-OCH 2 CH 2 -), and the like. ), Oxy ants A -lene group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as an oxyphenylene group (—OC 6 H 4 —), an oxynaphthylene group (—OC 10 H 6 -. where), etc.), an oxycarbonyl group (-OCO-), imino group (-CONH-), carbonyl group (-CO-), an acetylene group (-CC-), ureylene groups (-NHCONH -), A hetero atom such as a sulfur atom or an oxygen atom, and an amino group (-NR a- : R a represents a substituent). Two or more of these linking groups may be combined. Furthermore, these linking groups may be substituted with a substituent.
L ″ is preferably a single bond or an alkylene group, more preferably a single bond or an alkylene group having 3 or less carbon atoms, and even more preferably a single bond or a methylene group.

本発明のノルボルネン系重合体は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエションクロマトグラムで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が10,000〜1,000,000であるのが好ましく、50,000〜500,000であるのがより好ましい。また、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は15,000〜1,500,000が好ましく、70,000〜700,000がより好ましい。
ポリスチレン換算の数平均分子量を10,000以上、重量平均分子量を15,000以上であると、破壊強度がより好ましい傾向にあり、ポリスチレン換算の数平均分子量を1,000,000以下、重量平均分子量を1,500,000以下とすると、シートとしての成形加工性が向上する傾向にあり、またキャストフィルム等とするときに溶液粘度が低くなり、扱いやすい傾向にある。分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜5.0が好ましく、1.1〜4.0がより好ましく、1.1〜3.5がさらに好ましい。ノルボルネン系重合体の分子量分布を上記のような範囲にすることにより、ノルボルネン系重合体溶液(ドープ)が均一になりやすく、良好なフィルムが作製しやすくなる。
The norbornene polymer of the present invention preferably has a polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) of 10,000 to 1,000,000 as measured by gel permeation chromatogram using tetrahydrofuran as a solvent. More preferably, it is 50,000-500,000. Moreover, 15,000-1,500,000 are preferable and, as for the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion, 70,000-700,000 are more preferable.
When the number average molecular weight in terms of polystyrene is 10,000 or more and the weight average molecular weight is 15,000 or more, the fracture strength tends to be more preferable, the number average molecular weight in terms of polystyrene is 1,000,000 or less, and the weight average molecular weight. If it is 1,500,000 or less, the molding processability as a sheet tends to be improved, and the solution viscosity tends to be low when used as a cast film or the like, and tends to be handled easily. The molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.1 to 4.0, and still more preferably 1.1 to 3.5. By setting the molecular weight distribution of the norbornene-based polymer within the above range, the norbornene-based polymer solution (dope) is likely to be uniform, and a good film can be easily produced.

本発明のノルボルネン系重合体は、以下の製造方法で得ることができる。[Pd(CH3CN)4][BF42、ジ−μ−クロロ−ビス−(6−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−エンド−5σ,2π)−Pd(以下、「I」と略す)とメチルアルモキサン(MAO)、IとAgBF4、IとAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgBF4、[(η3−クロチル)Pd(シクロオクタジエン)][PF6]、[(η3−アリル)Pd(η5−シクロペンタジエニル)]2とトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートもしくはトリチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、パラジウムビスアセチルアセトナートとトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η3−アリル)PdCl]2とトリシクロヘキシルホスフィンとトリブチルアリルスズもしくはアリルマグネシウムクロライドとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η5−シクロペンタジエニル)Ni(メチル)(トリフェニルホスフィン)]とトリスペンタフルオロフェニルボラン、[(η3−クロチル)Ni(シクロオクタジエン)][B((CF32644]、[NiBr(NPMe3)]4とMAO、Ni(オクトエート)2とMAO、Ni(オクトエート)2とB(C653とAlEt3、Ni(オクトエート)2と[ph3C][B(C654]とAli−Bu3、Co(ネオデカノエート)とMAO等の周期律表8族のNi、Pd、Co等のカチオン錯体またはカチオン錯体を形成する触媒を用いて、溶媒中で20〜150℃の範囲で、モノマーを単独もしくは共重合することにより得ることができる。溶媒としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン等の脂環式炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ジクロロメタン、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールジメチルエーテル、ニトロメタン等の極性溶媒;から選択することができる。また、他の合成方法として、マクロモレキュールス(Macromolecules)、1996年、29巻、2755ページ、マクロモレキュールス(Macromolecules)、2002年、35巻、8969ページ、国際特許公開WO2004/7564号パンフレットに記載の方法も好適に用いられる。 The norbornene-based polymer of the present invention can be obtained by the following production method. [Pd (CH 3 CN) 4 ] [BF 4 ] 2 , di-μ-chloro-bis- (6-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene-endo-5σ, 2π) -Pd ( Hereinafter abbreviated as “I”) and methylalumoxane (MAO), I and AgBF 4 , I and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 And AgBF 4 , [(η 3 -crotyl) Pd (cyclooctadiene)] [PF 6 ], [(η 3 -allyl) Pd (η 5 -cyclopentadienyl)] 2 , tricyclohexylphosphine and dimethylanilinium Tetrakispentafluorophenylborate or trityltetrakispentafluorophenylborate, palladium bisacetylacetonate, tricyclohexylphosphine and dimethylanilinium teto Lakispentafluorophenylborate, [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and tricyclohexylphosphine and tributylallyltin or allylmagnesium chloride and dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate, [(η 5 -cyclopentadienyl) Ni ( Methyl) (triphenylphosphine)] and trispentafluorophenylborane, [(η 3 -crotyl) Ni (cyclooctadiene)] [B ((CF 3 ) 2 C 6 H 4 ) 4 ], [NiBr (NPMe 3 )] 4 and MAO, Ni (Octoate) 2 and MAO, Ni (Octoate) 2 and B (C 6 F 5 ) 3 and AlEt 3 , Ni (Octoate) 2 and [ph 3 C] [B (C 6 F 5 ) 4] and Ali-Bu 3, Co (neodecanoate) and the periodic table group 8 of Ni MAO like, Pd Using a catalyst to form a cationic complex or cation complex such as Co, in a range of 20 to 150 ° C. in a solvent, monomers can be obtained by either alone or copolymerization. Solvents include cycloaliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, cyclopentane and methylcyclopentane; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene and xylene; dichloromethane Halogenated hydrocarbon solvents such as 1,2-dichloroethylene and chlorobenzene; polar solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol dimethyl ether and nitromethane. As other synthesis methods, Macromolecules, 1996, 29, 2755, Macromolecules, 2002, 35, 8969, International Patent Publication No. WO2004 / 7564 The method described in 1 is also preferably used.

一般式(I)および/または(II)で表される繰り返し単位を構成するモノマーは以下のようにして、一般的に合成できる。対応するオレフィンとシクロペンタジエン(ジシクロペンタジエンを熱分解して得られる)のディールスアルダー反応(Path1)またはノルボルナジエンにアリール基を導入する手法(シンセシス1998年1249ページ、テトラヘドロン1989年45巻5263ページなどを参照)(Path2;L=L’=単結合、A=A ’=C65が例示)によって、ノルボルネン系化合物Iを得る。対応するオレフィンとシクロペンタジエン(ジシクロペンタジエンを熱分解して得られる)のディールスアルダー反応によって(Path3)、ノルボルネン系化合物IIを得る。これらを前記の重合方法によって、単独重合体もしくは共重合体を得ることができる。一般式(I)で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位の組成比率(xと100−x)は、適宜混合比率をかえることで調整できる。なお、ノルボルネン系化合物Iと2つ以上の他のノルボルネン系化合物を共重合してもよい。 The monomer constituting the repeating unit represented by the general formula (I) and / or (II) can be generally synthesized as follows. The Diels-Alder reaction (Path 1) of the corresponding olefin and cyclopentadiene (obtained by thermal decomposition of dicyclopentadiene) or a method of introducing an aryl group into norbornadiene (Synthesis 1998, 1249, Tetrahedron 1989, 45, 5263, etc. (Path 2; L = L ′ = single bond, A = A ′ = C 6 H 5 is exemplified) to obtain a norbornene-based compound I. A norbornene compound II is obtained by Diels-Alder reaction of the corresponding olefin and cyclopentadiene (obtained by thermally decomposing dicyclopentadiene) (Path 3). A homopolymer or a copolymer can be obtained by the above-described polymerization method. The composition ratio (x and 100-x) of the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II) can be adjusted by appropriately changing the mixing ratio. The norbornene compound I may be copolymerized with two or more other norbornene compounds.

Figure 2008031319
Figure 2008031319

本発明におけるノルボルネン系重合体の単独重合体の例を以下に示すが、これに限定されない。

Figure 2008031319
Examples of the norbornene polymer homopolymer in the present invention are shown below, but are not limited thereto.
Figure 2008031319

本発明におけるノルボルネン系重合体の共重合体の例を以下に示すが、これに限定されない。なお、「X」、「100−X」は共重合組成比率を表し、Xの範囲としては、0<X<80が好ましく、0<X<60がより好ましく、5<X<40であることがさらに好ましい。

Figure 2008031319
Examples of the norbornene-based copolymer in the present invention are shown below, but are not limited thereto. “X” and “100-X” represent copolymer composition ratios, and the range of X is preferably 0 <X <80, more preferably 0 <X <60, and 5 <X <40. Is more preferable.
Figure 2008031319

[ノルボルネン系重合体フィルム]
本発明のノルボルネン系重合体は、フィルムの材料として有用である。特に、該重合体を用いて作製されたフィルムは、液晶表示装置の基板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム、液晶バックライト、液晶パネル、OHP用フィルム、透明導電性フィルム等をはじめとする光学用途のフィルムに適する。また、前記一般式(I)で表されるノルボルネン系重合体は、光ディスク、光ファイバー、レンズ、プリズム等の光学材料、電子部品さらに医療機器、容器等に好適に用いられる。
[Norbornene polymer film]
The norbornene-based polymer of the present invention is useful as a film material. In particular, films prepared using the polymer include substrates of liquid crystal display devices, light guide plates, polarizing films, retardation films, liquid crystal backlights, liquid crystal panels, OHP films, transparent conductive films, and the like. Suitable for optical use film. The norbornene-based polymer represented by the general formula (I) is suitably used for optical materials such as optical discs, optical fibers, lenses, and prisms, electronic components, medical devices, containers, and the like.

[ノルボルネン系重合体フィルム製造方法]
本発明のフィルムは、前記一般式(I)で表される繰り返し単位を含むノルボルネン系重合体を含有し、該重合体を原料として製膜することで作製することができる。製膜は、熱溶融製膜の方法と溶液製膜の方法があり、いずれも適応可能であるが、本発明においては面状の優れたフィルムを得ることのできる溶液製膜方法を用いることが好ましい。以下に溶液製膜方法について記述する。
[Method for producing norbornene polymer film]
The film of this invention contains the norbornene-type polymer containing the repeating unit represented by the said general formula (I), and can be produced by forming into a film from this polymer. There are two methods for film formation: hot melt film formation and solution film formation, and both are applicable, but in the present invention, a solution film formation method capable of obtaining an excellent surface film is used. preferable. The solution casting method is described below.

(溶液製膜方法)
(ドープの調製)
まず、製膜に用いる前記重合体の溶液(ドープ)を調製する。ドープの調製に用いられる有機溶剤については、溶解、流延、製膜でき、その目的が達成できる限りは、特に限定されない。例えばジクロロメタン、クロロホルムに代表される塩素系溶剤、炭素数が3〜12の鎖状炭化水素(ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなど)、環状炭化水素(シクロペンタン、シクロヘキサン、デカリンなど)、芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、エステル(エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートなど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンなど)、エーテル(ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなど)から選ばれる溶剤が好ましい。2種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノールおよび2−ブトキシエタノールが挙げられる。有機溶剤の好ましい沸点は35℃〜200℃以下である。前記溶液の調製に用いる溶剤は、乾燥性、粘度等の溶液物性調節のために2種以上の溶剤を混合して用いることができ、さらに、混合溶媒で溶解する限りは、貧溶媒を添加することも可能である。
(Solution casting method)
(Preparation of dope)
First, a solution (dope) of the polymer used for film formation is prepared. The organic solvent used for the preparation of the dope is not particularly limited as long as it can be dissolved, cast, and formed into a film, and the purpose can be achieved. For example, chlorinated solvents such as dichloromethane and chloroform, chain hydrocarbons having 3 to 12 carbon atoms (hexane, octane, isooctane, decane, etc.), cyclic hydrocarbons (cyclopentane, cyclohexane, decalin, etc.), aromatic carbonization Hydrogen (benzene, toluene, xylene, etc.), ester (ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, pentyl acetate, etc.), ketone (acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone) , Cyclohexanone and methylcyclohexanone), ether (diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, Preferably the solvent selected from over like Le and phenetole). Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol. The preferable boiling point of the organic solvent is 35 ° C to 200 ° C. The solvent used for the preparation of the solution can be used by mixing two or more kinds of solvents in order to adjust the solution properties such as drying property and viscosity. Further, as long as the solvent is dissolved in the mixed solvent, a poor solvent is added. It is also possible.

好ましい貧溶媒は適宜選択することができる。良溶媒として塩素系有機溶剤を使用する場合は、アルコール類を好適に使用することができる。アルコール類としては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。また、アルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールなども挙げられる。貧溶媒の中でも特に1価のアルコール類は、剥離抵抗低減効果があり、好ましく使用することができる。選択する良溶剤によって特に好ましいアルコール類は変化するが、乾燥負荷を考慮すると、沸点が120℃以下のアルコールが好ましく、炭素数1〜6の1価アルコールがさらに好ましく、炭素数1〜4のアルコールが特に好ましく使用することができる。   A preferred poor solvent can be appropriately selected. When a chlorinated organic solvent is used as the good solvent, alcohols can be preferably used. Alcohols may preferably be linear, branched or cyclic, and among them, saturated aliphatic hydrocarbons are preferred. The hydroxyl group of the alcohol may be any of primary to tertiary. As the alcohol, fluorine-based alcohol is also used. Examples thereof include 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol and the like. Among the poor solvents, particularly monovalent alcohols have an effect of reducing the peeling resistance and can be preferably used. Particularly preferred alcohols vary depending on the good solvent to be selected, but considering the drying load, alcohols having a boiling point of 120 ° C. or lower are preferable, monohydric alcohols having 1 to 6 carbon atoms are more preferable, and alcohols having 1 to 4 carbon atoms Can be particularly preferably used.

ドープを調製する上で特に好ましい混合溶剤は、ジクロロメタンを主溶剤とし、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールまたはブタノールから選ばれる1種以上のアルコール類を貧溶媒にする組み合わせである。   A particularly preferred mixed solvent for preparing the dope is a combination in which dichloromethane is the main solvent and at least one alcohol selected from methanol, ethanol, propanol, isopropanol, or butanol is a poor solvent.

前記ドープの調製については、室温攪拌溶解による方法、室温で攪拌して重合体を膨潤させた後、−20℃〜−100℃まで冷却し、再度20℃〜100℃に加熱して溶解する冷却溶解法、密閉容器中で主溶剤の沸点以上の温度にして溶解する高温溶解方法、さらには溶剤の臨界点まで高温高圧にして溶解する方法などがある。ドープの粘度は25℃で1〜500Pa・sの範囲であることが好ましく、5〜200Pa・sの範囲であることがさらに好ましい。   For the preparation of the dope, a method by stirring and dissolving at room temperature, after stirring the polymer at room temperature to swell the polymer, cooling to −20 ° C. to −100 ° C., and cooling again to 20 ° C. to 100 ° C. to dissolve There are a dissolution method, a high-temperature dissolution method that dissolves at a temperature equal to or higher than the boiling point of the main solvent in a closed container, and a method that dissolves at a high temperature and high pressure up to the critical point of the solvent. The viscosity of the dope is preferably in the range of 1 to 500 Pa · s at 25 ° C., more preferably in the range of 5 to 200 Pa · s.

溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、5Pa・s〜1000Pa・sの範囲に調製されることが好ましく、15Pa・s〜500Pa・sの範囲がより好ましく、30Pa・s〜200Pa・sの範囲がさらに好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−5〜70℃であり、より好ましくは−5〜35℃である。   Prior to casting, it is preferable to filter off foreign matters such as undissolved matter, dust, and impurities using a suitable filter medium such as a wire mesh or flannel. The viscosity immediately before film formation may be in a range that allows casting during film formation, and is preferably adjusted to a range of 5 Pa · s to 1000 Pa · s, more preferably in a range of 15 Pa · s to 500 Pa · s. The range of 30 Pa · s to 200 Pa · s is more preferable. In addition, although the temperature at this time will not be specifically limited if it is the temperature at the time of the casting, Preferably it is -5-70 degreeC, More preferably, it is -5-35 degreeC.

(添加剤)
本発明のフィルムは、前記重合体以外の添加剤を含有していてもよく、かかる添加剤は、フィルムを作製する工程のいずれの段階で添加されてもよい。添加剤は、用途に応じて選択することができ、例えば、劣化防止剤、紫外線防止剤、レターデーション(光学異方性)調節剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤、など)などが挙げられる。これらの添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。添加する時期は溶液流延法によるフィルム作製の場合、ドープ調製工程中のいずれかの時期に添加してもよいし、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。溶融法によるフィルム作製の場合、樹脂ペレット作製時に添加していてもよいし、フィルム作製時に混練してもよい。各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。
(Additive)
The film of the present invention may contain additives other than the polymer, and such additives may be added at any stage of the process for producing the film. Additives can be selected depending on the application, such as deterioration inhibitors, UV inhibitors, retardation (optical anisotropy) regulators, fine particles, peeling accelerators, infrared absorbers, etc. Can be mentioned. These additives may be solid or oily. In the case of film production by the solution casting method, the addition time may be added at any time during the dope preparation process, or an additive is added to the final preparation process of the dope preparation process. You may go. In the case of film production by the melting method, it may be added at the time of resin pellet production, or may be kneaded at the time of film production. The amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested. Moreover, when a film is formed from a multilayer, the kind and addition amount of the additive of each layer may differ.

フィルム劣化防止の観点から、劣化(酸化)防止剤が好ましく用いられる。例えば、2,6−ジ−tert−ブチル,4−メチルフェノール、4,4’−チオビス−(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス(4−メトキシ−3,5−ジフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。酸化防止剤の添加量は、重合体100質量部に対して、0.05〜5.0質量部を添加する。   From the viewpoint of preventing film deterioration, a deterioration (oxidation) inhibitor is preferably used. For example, 2,6-di-tert-butyl, 4-methylphenol, 4,4′-thiobis- (6-tert-butyl-3-methylphenol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5- Phenolic or hydroquinone antioxidants such as di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate can be added. Furthermore, phosphorus antioxidants such as tris (4-methoxy-3,5-diphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite It is preferable to The addition amount of the antioxidant is 0.05 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、ノルボルネン系重合体に対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmがさらに好ましい。   From the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal, an ultraviolet absorber is preferably used. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties. Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, hindered phenol compounds, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salts Compounds and the like. The addition amount of these ultraviolet light inhibitors is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the norbornene polymer.

フィルム面のすべり性を改良するためには、微粒子(マット剤)が好ましく用いられる。これを用いることで、フィルム表面に凹凸を付与し、すなわちフィルム表面の粗さを増加させることで(マット化)、フィルム同士のブロッキングを減少させることができる。フィルム中、またはフィルムの少なくとも片方の面上に微粒子が存在することにより、偏光板加工時の偏光子とフィルム間の密着性が著しく向上する。本発明に使用するマット剤は、無機微粒子であれば、例えば、平均粒子サイズ0.05μm〜0.5μmの微粒子であり、好ましくは0.08μm〜0.3μm、より好ましくは0.1μm〜0.25μmである。微粒子は、無機化合物としては二酸化ケイ素、シリコーンおよび二酸化チタンが好ましく、高分子化合物としてはフッ素樹脂、ナイロン、ポリプロピレンおよび塩素化ポリエーテルが好ましく、二酸化ケイ素がより好ましく、有機物により表面処理されている二酸化ケイ素がさらに好ましい。   In order to improve the slipperiness of the film surface, fine particles (mat agent) are preferably used. By using this, unevenness is imparted to the film surface, that is, by increasing the roughness of the film surface (matization), the blocking between the films can be reduced. The presence of fine particles in the film or on at least one surface of the film significantly improves the adhesion between the polarizer and the film during polarizing plate processing. The matting agent used in the present invention is inorganic fine particles, for example, fine particles having an average particle size of 0.05 μm to 0.5 μm, preferably 0.08 μm to 0.3 μm, more preferably 0.1 μm to 0 μm. .25 μm. In the fine particles, silicon dioxide, silicone and titanium dioxide are preferable as the inorganic compound, fluorine resin, nylon, polypropylene and chlorinated polyether are preferable as the polymer compound, silicon dioxide is more preferable, and surface treatment with organic matter is performed. Silicon is more preferred.

フィルムの剥離抵抗を小さくするため、剥離促進剤が好ましく用いられる。好ましい剥離剤としては燐酸エステル系の界面活性剤、カルボン酸あるいはカルボン酸塩系の界面活性剤、スルホン酸またはスルホン酸塩系の界面活性剤、硫酸エステル系の界面活性剤が効果的である。また上記界面活性剤の炭化水素鎖に結合している水素原子の一部をフッ素原子に置換したフッ素系界面活性剤も有効である。剥離剤の添加量はノルボルネン系重合体に対して0.05〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましく、0.1〜0.5質量%がさらに好ましい。   In order to reduce the peeling resistance of the film, a peeling accelerator is preferably used. As preferred release agents, phosphate ester surfactants, carboxylic acid or carboxylate surfactants, sulfonic acid or sulfonate surfactants, and sulfate ester surfactants are effective. A fluorine-based surfactant in which part of the hydrogen atoms bonded to the hydrocarbon chain of the surfactant is substituted with fluorine atoms is also effective. The addition amount of the release agent is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and further preferably 0.1 to 0.5% by mass with respect to the norbornene-based polymer.

(フィルム製造)
本発明のフィルムを製造する方法および設備は、公知のセルローストリアセテートフィルム製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置が好ましく用いられる。溶解機(釜)から調製されたドープを貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。
(Film production)
For the method and equipment for producing the film of the present invention, the same solution casting film forming method and solution casting film forming apparatus as those used for producing a known cellulose triacetate film are preferably used. The dope prepared from the dissolving machine (kettle) is temporarily stored in a storage kettle, and the foam contained in the dope is defoamed for final preparation.

特開2000−301555号、特開2000−301558号、特開平7−032391号、特開平3−193316号、特開平5−086212号、特開昭62−037113号、特開平2−276607号、特開昭55−014201号、特開平2−111511号、および特開平2−208650号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では好ましく採用することができる。   JP 2000-301555, JP 2000-301558, JP 7-032391, JP 3-193316, JP 5-086212, JP 62-037113, JP 2-276607, The cellulose acylate film forming techniques described in JP-A-55-014201, JP-A-2-111511, and JP-A-2-208650 can be preferably used in the present invention.

(重層流延)
ドープを、金属支持体としての平滑なバンド上またはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数のドープを流延してもよい。重層流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の1〜50%の厚さであり、より好ましくは2〜30%の厚さである。
(Multilayer casting)
The dope may be cast as a single layer liquid on a smooth band or drum as a metal support, or a plurality of dopes of two or more layers may be cast. In the case of multilayer casting, the inner and outer thicknesses are not particularly limited, but preferably the outer thickness is 1 to 50% of the total film thickness, and more preferably 2 to 30%.

(流延)
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、または逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。流延に用いられるドープの温度は、−10〜55℃が好ましく、25〜50℃がさらに好ましい。その場合、工程のすべてが同一でもよく、工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であることが好ましい。
(Casting)
As a solution casting method, a method in which the prepared dope is uniformly extruded from a pressure die onto a metal support, and a method using a doctor blade in which the dope once cast on the metal support is adjusted with a blade is used. Alternatively, there is a method using a reverse roll coater that adjusts with a reverse rotating roll, and a method using a pressure die is preferable. The temperature of the dope used for casting is preferably −10 to 55 ° C., more preferably 25 to 50 ° C. In that case, all of the steps may be the same or different at various points in the step. When they are different, it is preferable that the temperature is a desired temperature immediately before casting.

(乾燥)
フィルムの製造における金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体(例えば、ドラムまたはバンド)の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラムまたはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラムまたはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より1〜10℃低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
(Dry)
Drying of the dope on the metal support in the production of the film is generally accomplished by applying hot air from the surface side of the metal support (eg, drum or band), that is, the surface of the web on the metal support, drum or A method of applying hot air from the back side of the band, contacting the temperature controlled liquid from the back side opposite the dope casting surface of the band or drum, and heating the drum or band by heat transfer to control the surface temperature Although there are methods, the back surface liquid heat transfer method is preferable. The surface temperature of the metal support before casting may be any number as long as it is not higher than the boiling point of the solvent used for the dope. However, in order to promote drying and to lose fluidity on the metal support, the temperature should be set to 1 to 10 ° C. lower than the boiling point of the lowest boiling solvent. Is preferred. This is not the case when the casting dope is cooled and peeled off without drying.

(剥離)
生乾きのフィルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗(剥離荷重)が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フィルムの剥離荷重をフィルム剥離幅1cmあたり0.25N以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは0.2N/cm以下、さらに好ましくは0.15N以下、特に好ましくは0.10N以下である。剥離荷重0.2N/cm以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。剥離時の好ましい残留揮発分濃度は5〜60質量%である。10〜50質量%がさらに好ましく、20〜40質量%が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断したり伸びたりしてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。
(Peeling)
When peeling a raw dry film from a metal support, if the peeling resistance (peeling load) is large, the film is irregularly stretched in the film forming direction, resulting in uneven optical anisotropy. In particular, when the peeling load is large, a portion stretched stepwise in the film forming direction and a portion unstretched are alternately generated, resulting in a distribution in retardation. When loaded in a liquid crystal display device, the line or strip becomes uneven. In order not to cause such a problem, it is preferable to set the peeling load of the film to 0.25 N or less per 1 cm of the film peeling width. The peeling load is more preferably 0.2 N / cm or less, further preferably 0.15 N or less, and particularly preferably 0.10 N or less. When the peeling load is 0.2 N / cm or less, even in a liquid crystal display device in which unevenness is likely to appear, no unevenness due to peeling is observed, which is particularly preferable. As a method for reducing the peeling load, there are a method of adding a release agent as described above and a method of selecting a solvent composition to be used. The preferable residual volatile content at the time of peeling is 5 to 60% by mass. 10-50 mass% is further more preferable, and 20-40 mass% is especially preferable. Peeling with a high volatile content is preferable because the drying rate can be increased and the productivity is improved. On the other hand, when the volatile content is high, the strength and elasticity of the film are small, and the film is cut or stretched against the peeling force. Further, the self-holding force after peeling is poor, and deformation, wrinkles and nicks are likely to occur. It also causes distribution in the retardation.

(延伸)
前記溶液製膜法にて作製したフィルムを、さらに延伸処理する場合は、剥離のすぐ後の未だフィルム中に溶剤が十分に残留している状態で行うのが好ましい。延伸の目的は、(1)しわや変形のない平面性に優れたフィルムを得るためおよび、(2)フィルムの面内レターデーションを大きくするために行う。(1)の目的で延伸を行うときは、比較的高い温度で延伸を行い、延伸倍率も1%からせいぜい10%までの低倍率の延伸を行う。2〜5%の延伸が特に好ましい。(1)と(2)の両方の目的、あるいは(2)だけの目的で延伸する場合は、比較的低い温度で、延伸倍率も5〜150%で延伸する。
(Stretching)
When the film produced by the solution casting method is further stretched, it is preferably carried out in a state where the solvent still remains in the film immediately after peeling. The purpose of stretching is (1) to obtain a film having excellent flatness without wrinkles and deformation, and (2) to increase the in-plane retardation of the film. When stretching is performed for the purpose of (1), stretching is performed at a relatively high temperature, and stretching is performed at a low magnification from 1% to 10% at most. A stretch of 2-5% is particularly preferred. When stretching for the purposes of both (1) and (2) or only for the purpose of (2), the film is stretched at a relatively low temperature and a stretch ratio of 5 to 150%.

フィルムの延伸は、縦または横だけの一軸延伸でもよく、また、同時または逐次2軸延伸でもよい。VA液晶セルやOCB(Optically Compensatory Bend)液晶セル用位相差フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。   The stretching of the film may be uniaxial stretching only in the longitudinal or lateral direction, or may be simultaneous or sequential biaxial stretching. The birefringence of the retardation film for a VA liquid crystal cell or OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal cell is preferably such that the refractive index in the width direction is larger than the refractive index in the length direction. Therefore, it is preferable to stretch more in the width direction.

本発明のでき上がり(乾燥後)のフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常20〜500μmの範囲であり、30〜150μmの範囲が好ましく、特に液晶表示装置用には40〜110μmであることが好ましい。   The thickness of the finished film (after drying) of the present invention varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 20 to 500 μm, preferably in the range of 30 to 150 μm, particularly 40 to 110 μm for liquid crystal display devices. It is preferable.

[フィルムの特性]
本発明のフィルムは、波長450nmにおける面内レターデーションRe450と波長630nmにおける面内レターデーションRe630の差ΔRe=Re630−Re450が、10nm≦ΔRe≦100nmを満足することが好ましく、10nm≦ΔRe≦80nmであることがより好ましく、10nm≦ΔRe≦60nmであることが最も好ましい。
本発明のフィルムの好ましい光学特性は、フィルムの用途により異なる。以下に、フィルムの厚みを80μmとして換算した、面内レターデーション(Re)および厚さ方向レターデーション(Rth)の、各用途における好ましい範囲を示す。
[Characteristics of film]
In the film of the present invention, the difference ΔRe = Re 630 −Re 450 between the in-plane retardation Re 450 at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re 630 at a wavelength of 630 nm preferably satisfies 10 nm ≦ ΔRe ≦ 100 nm. ΔRe ≦ 80 nm is more preferable, and 10 nm ≦ ΔRe ≦ 60 nm is most preferable.
The preferred optical properties of the film of the present invention vary depending on the application of the film. Below, the preferable range in each use of in-plane retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) which converted the thickness of the film into 80 micrometers is shown.

偏光板保護膜として使用する場合:Reは、0nm≦Re≦5nmが好ましく、0nm≦Re≦3nmがさらに好ましい。Rthは、0nm≦Rth≦50nmが好ましく、0nm≦Rth≦35nmがさらに好ましく、0nm≦Rth≦10nmが特に好ましい。   When used as a polarizing plate protective film: Re is preferably 0 nm ≦ Re ≦ 5 nm, more preferably 0 nm ≦ Re ≦ 3 nm. Rth is preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 50 nm, more preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 35 nm, and particularly preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 10 nm.

位相差フィルムとして使用する場合:位相差フィルムの種類によってReやRthの範囲は異なり、多様なニーズがあるが、0nm≦Re≦100nm、0nm≦Rth≦400nmであることが好ましい。TNモードなら0nm≦Re≦20nm、40nm≦Rth≦80nm、VAモードなら20nm≦Re≦80nm、80nm≦Rth≦400nmがより好ましく、特にVAモードで好ましい範囲は、30nm≦Re≦75nm、120nm≦Rth≦250nmであり、一枚の位相差膜で補償する場合は、50nm≦Re≦75nm、180nm≦Rth≦250nm、2枚の位相差膜で補償する場合は、30nm≦Re≦50nm、80nm≦Rth≦140nmである。これらはVAモードの補償膜として黒表示時のカラーシフト、コントラストの視野角依存性の点で好ましい態様である。   When used as a retardation film: The range of Re and Rth varies depending on the type of retardation film and there are various needs, but 0 nm ≦ Re ≦ 100 nm and 0 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are preferable. In the TN mode, 0 nm ≦ Re ≦ 20 nm, 40 nm ≦ Rth ≦ 80 nm, and in the VA mode, 20 nm ≦ Re ≦ 80 nm and 80 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are more preferable. In particular, the preferable range in the VA mode is 30 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 120 nm ≦ Rth. ≦ 250 nm, when compensating with one retardation film, 50 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 180 nm ≦ Rth ≦ 250 nm, when compensating with two retardation films, 30 nm ≦ Re ≦ 50 nm, 80 nm ≦ Rth ≦ 140 nm. These are preferred embodiments as a VA mode compensation film in terms of color shift at the time of black display and the viewing angle dependency of contrast.

本発明のフィルムは、共重合比率、添加剤の種類および添加量、延伸倍率、剥離時の残留揮発分などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。   The film of the present invention can achieve desired optical characteristics by appropriately adjusting process conditions such as copolymerization ratio, additive type and amount, stretch ratio, residual volatile content at the time of peeling.

本明細書において、Re(λ)、Rth(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Re(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。 In this specification, Re (λ) and Rth (λ) represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at a wavelength λ, respectively. Re (λ) is measured by making light with a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments).

測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
When the film to be measured is represented by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is Re (λ), with the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) as the tilt axis (rotating axis) (if there is no slow axis, any in-plane The light of wavelength λ nm is incident from each of the inclined directions in steps of 10 degrees from the normal direction to 50 degrees on one side with respect to the film normal direction (with the direction of the rotation axis as the rotation axis). KOBRA 21ADH or WR calculates based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value.

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の式(1)および式(2)よりRthを算出することもできる。

Figure 2008031319
注記:
上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
式(1)におけるnxは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnxおよびnyに直交する方向の屈折率を表す。
Rth=((nx+ny)/2 − nz) x d --- 式(2)
測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−50度から+50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する: セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHまたはWRはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx、ny、nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)がさらに算出される。 In the above case, in the case of a film having a direction in which the retardation value is zero at a certain tilt angle with the in-plane slow axis from the normal direction as the rotation axis, retardation at a tilt angle larger than the tilt angle. The value is calculated by KOBRA 21ADH or WR after changing the sign to negative.
In addition, the retardation value is measured from the two inclined directions, with the slow axis as the tilt axis (rotation axis) (in the absence of the slow axis, the arbitrary direction in the film plane is the rotation axis), Based on the value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value, Rth can also be calculated from the following equations (1) and (2).
Figure 2008031319
Note:
The above Re (θ) represents a retardation value in a direction inclined by an angle θ from the normal direction.
In formula (1), nx represents the refractive index in the slow axis direction in the plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to nx in the plane, and nz represents the refractive index in the direction perpendicular to nx and ny. .
Rth = ((nx + ny) / 2-nz) x d --- Formula (2)
In the case where the film to be measured cannot be expressed by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, that is, a film having no so-called optic axis, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is from -50 ° to + 50 ° with respect to the normal direction of the film, with Re (λ) as the slow axis (indicated by KOBRA 21ADH or WR) in the plane and the tilt axis (rotation axis). In each of the 10 degree steps, light of wavelength λ nm is incident from each inclined direction and measured at 11 points. Based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value, KOBRA 21ADH or Calculated by WR.
In the above measurement, as the assumed value of the average refractive index, the values in the polymer handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and catalogs of various optical films can be used. Those whose average refractive index is not known can be measured with an Abbe refractometer. The average refractive index values of the main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), Polystyrene (1.59). By inputting these assumed values of average refractive index and film thickness, KOBRA 21ADH or WR calculates nx, ny, and nz. Nz = (nx−nz) / (nx−ny) is further calculated from the calculated nx, ny, and nz.

また、本発明のフィルムを偏光板の保護膜として用いる場合は、光弾性の値が0.5×10-13〜9.0×10-13[cm2/dyn]であり、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)が180〜435[g/cm224h]であるのが好ましい。光弾性の値は、0.5×10-13〜7.0×10-13[cm2/dyn]であるのがより好ましく、0.5×10-13〜5.0×10-13[cm2/dyn]であるのがさらに好ましい。また、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)は、180〜400[g/cm224h]であるのがより好ましく、180〜350[g/cm224h]であるのがさらに好ましい。本発明のフィルムが上記特性を有すると、偏光板の保護膜として用いた場合に、湿度の影響による性能の低下を軽減することができる。 In the case of using the film of the present invention as a protective film for polarizing plate, the value of the photoelastic is 0.5 × 10 -13 ~9.0 × 10 -13 [cm 2 / dyn], moisture permeability values However, it is preferable that the value (converted assuming the thickness of the film as 80 μm) is 180 to 435 [g / cm 2 24 h]. The value of photoelasticity is more preferably 0.5 × 10 −13 to 7.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn], and 0.5 × 10 −13 to 5.0 × 10 −13 [ More preferably, it is cm 2 / dyn]. In addition, the value of moisture permeability (however, the value obtained by converting the film thickness to 80 μm) is more preferably 180 to 400 [g / cm 2 24h], and 180 to 350 [g / cm 2 24h]. Is more preferable. When the film of the present invention has the above-described properties, when it is used as a protective film for a polarizing plate, it is possible to reduce a decrease in performance due to the influence of humidity.

[偏光板]
本発明の偏光板は、本発明のフィルムと偏光子とを少なくとも有する。通常、偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の保護膜を有する。両方または一方の保護膜として、本発明のフィルムを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルム等を用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、フィルムは後述の如き表面処理を行い、しかる後にフィルム処理面と偏光子を接着剤を用いて貼り合わせる。使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス、ゼラチン等が挙げられる。偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。本発明のフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸とフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention has at least the film of the present invention and a polarizer. Usually, a polarizing plate has a polarizer and two protective films disposed on both sides thereof. The film of the present invention can be used as both or one protective film. A normal cellulose acetate film or the like may be used for the other protective film. Examples of the polarizer include an iodine polarizer, a dye polarizer using a dichroic dye, and a polyene polarizer. The iodine polarizer and the dye polarizer are generally produced using a polyvinyl alcohol film. When the film of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the film is subjected to a surface treatment as described later, and then the film-treated surface and a polarizer are bonded together using an adhesive. Examples of the adhesive used include polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, vinyl latexes such as butyl acrylate, and gelatin. The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film that protects both surfaces of the polarizer, and is further constructed by laminating a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the opposite surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate. The film is preferably bonded so that the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the film coincide with each other.

(フィルムの表面処理)
本発明では、偏光子と保護膜との接着性を改良するため、フィルムの表面を表面処理することが好ましい。表面処理については、接着性を改善できる限りいかなる方法を利用してもよいが、好ましい表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理および火炎処理が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことである。本発明では大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。その他、グロー放電処理の詳細については、米国特許第3462335号、米国特許第3761299号、米国特許第4072769号および英国特許第891469号明細書に記載されている。放電雰囲気ガス組成を放電開始後にポリエステル支持体自身が放電処理を受けることにより容器内に発生する気体種のみにした特表昭59−556430号公報に記載された方法も用いられる。また真空グロー放電処理する際に、フィルムの表面温度を80℃〜180℃にして放電処理を行う特公昭60−16614号公報に記載された方法も適用できる。
(Film surface treatment)
In the present invention, the surface of the film is preferably surface-treated in order to improve the adhesion between the polarizer and the protective film. As for the surface treatment, any method may be used as long as the adhesiveness can be improved. Preferred examples of the surface treatment include glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, and flame treatment. The glow discharge treatment here refers to so-called low temperature plasma that occurs under low pressure gas. In the present invention, plasma treatment under atmospheric pressure is also preferable. In addition, the details of the glow discharge treatment are described in US Pat. No. 3,462,335, US Pat. No. 3,761,299, US Pat. No. 4,072,769, and British Patent No. 891469. A method described in JP-A-59-556430 in which the discharge atmosphere gas composition is changed to only the gas species generated in the container by subjecting the polyester support itself to a discharge treatment after the start of discharge is also used. In addition, the method described in Japanese Patent Publication No. 60-16614, in which the surface temperature of the film is set to 80 ° C. to 180 ° C. when performing the vacuum glow discharge treatment, can also be applied.

表面処理の程度については、表面処理の種類によって好ましい範囲も異なるが、表面処理の結果、表面処理を施された保護膜の表面の純水との接触角が、50°未満となるのが好ましい。前記接触角は、25°以上45°未満であるのがより好ましい。保護膜表面の純水との接触角が上記範囲にあると、保護膜と偏光膜との接着強度が良好となる。   As for the degree of surface treatment, the preferred range varies depending on the type of surface treatment, but as a result of the surface treatment, the contact angle with the pure water on the surface of the protective film subjected to the surface treatment is preferably less than 50 °. . The contact angle is more preferably 25 ° or more and less than 45 °. When the contact angle with the pure water on the surface of the protective film is in the above range, the adhesive strength between the protective film and the polarizing film becomes good.

(接着剤)
ポリビニルアルコールからなる偏光子と、表面処理された本発明のフィルムとを貼合する際には、水溶性ポリマーを含有する接着剤を用いることが好ましい。前記接着剤に好ましく使用される水溶性ポリマーとしては、N−ビニルピロリドン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリル酸β−ヒドロキシエチル、メタクリル酸β−ヒドロキシエチル、ビニルアルコール、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ビニルイミダゾールなどエチレン性不飽和モノマーを構成要素として有する単独重合体もしくは重合体、またポリオキシエチレン、ボリオキシプロピレン、ポリ−2−メチルオキサゾリン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースゼラチン、などが挙げられる。本発明では、この中でもPVAおよびゼラチンが好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に0.01〜5μmが好ましく、0.05〜3μmがより好ましい。
(adhesive)
When laminating a polarizer made of polyvinyl alcohol and the surface-treated film of the present invention, it is preferable to use an adhesive containing a water-soluble polymer. Water-soluble polymers preferably used for the adhesive include N-vinyl pyrrolidone, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, β-hydroxyethyl acrylate, β-hydroxyethyl methacrylate, vinyl alcohol, methyl vinyl ether, vinyl acetate. , Acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, vinyl imidazole, etc., homopolymers or polymers having ethylenically unsaturated monomers as constituents, polyoxyethylene, polyoxypropylene, poly-2-methyloxazoline, methylcellulose, hydroxyethylcellulose , Hydroxypropylcellulose gelatin, and the like. Of these, PVA and gelatin are preferred in the present invention. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 5 μm after drying, and more preferably 0.05 to 3 μm.

(反射防止層)
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される保護膜には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。特に、本発明では保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層または保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。
(Antireflection layer)
It is preferable to provide a functional film such as an antireflection layer on the protective film disposed on the opposite side of the polarizing plate from the liquid crystal cell. In particular, in the present invention, at least a light scattering layer and a low refractive index layer are laminated in this order on the protective film, or an intermediate refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are arranged in this order on the protective film. A laminated antireflection layer is preferably used.

(光散乱層)
光散乱層は、表面散乱および/または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生および脆性の悪化抑制の観点から、1〜10μmが好ましく、1.2〜6μmがより好ましい。
(Light scattering layer)
The light scattering layer is formed for the purpose of contributing to the film light diffusibility due to surface scattering and / or internal scattering and hard coat properties for improving the scratch resistance of the film. Therefore, it is formed including a binder for imparting hard coat properties, matte particles for imparting light diffusibility, and inorganic fillers for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength as necessary. The The thickness of the light scattering layer is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1.2 to 6 μm, from the viewpoint of imparting hard coat properties and from the viewpoint of curling and suppressing deterioration of brittleness.

(反射防止層の他の層)
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(Other layers of antireflection layer)
Further, a hard coat layer, a forward scattering layer, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、支持体の表面に設ける。特に、支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および/または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is provided on the surface of the support in order to impart physical strength to the protective film provided with the antireflection layer. In particular, it is preferably provided between the support and the high refractive index layer. The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a light and / or heat curable compound. As the curable functional group, a photopolymerizable functional group is preferable, and the organometallic compound containing a hydrolyzable functional group is preferably an organic alkoxysilyl compound.

(帯電防止層)
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が10-8(Ωcm-3)以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により10-8(Ωcm-3)の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。
(Antistatic layer)
In the case of providing an antistatic layer, it is preferable to impart conductivity with a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ) or less. The use of hygroscopic substances, water-soluble inorganic salts, certain surfactants, cationic polymers, anionic polymers, colloidal silica, etc. can give a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ). There is a problem that dependency is large, and sufficient conductivity cannot be secured at low humidity. Therefore, a metal oxide is preferable as the conductive layer material.

[液晶表示装置]
本発明のフィルム、該フィルムからなる位相差フィルム、該フィルムを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)およびHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。このうち、OCBモードまたはVAモードに好ましく用いることができる。
[Liquid Crystal Display]
The film of the present invention, a retardation film comprising the film, and a polarizing plate using the film can be used for liquid crystal cells and liquid crystal display devices in various display modes. TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal, AFLC) Various display modes such as HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. Of these, the OCB mode or the VA mode can be preferably used.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

本発明で用いるノルボルネン重合体の原料のうち、5−ノルボルネン−2−イルアセテート(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルアセテート)(NBOAc)は、アルドリッチ社から購入できる。その他のノルボルネン系化合物は、以下の合成例のように製造した。   Among the norbornene polymer raw materials used in the present invention, 5-norbornen-2-yl acetate (bicyclo [2.2.1] hept-5-en-2-yl acetate) (NBOAc) can be purchased from Aldrich. . Other norbornene compounds were produced as in the following synthesis examples.

(合成例1:exo,exo−ジフェニルノルボルネンの合成)
ノルボルナジエン(東京化成社製)53.9g、ブロモベンゼン(和光純薬社製)205.3g、ナトリウムテトラフェニルボレート(アルドリッチ社製)160.4g、アニソール(和光純薬社製)400mL、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(アルドリッチ社製)3.7gをフラスコ内に仕込み、5時間100℃で攪拌した。得られた混合物をろ過し、ろ液を酢酸エチル/水で分液抽出した。これをエバポレーションし、酢酸エチル、ブロモベンゼン、アニソール等の揮発分を除いた。残存物をカラムクロマトグラフィーに付し(エルーエント:ヘキサン)、これを濃縮し、ヘキサン中に溶解した溶液を−30℃で再結晶したところ、exo,exo−ジフェニルノルボルネン(DiPhNB)113gを得た。
(Synthesis Example 1: Synthesis of exo, exo-diphenylnorbornene)
Norbornadiene (Tokyo Kasei) 53.9 g, Bromobenzene (Wako Pure Chemical) 205.3 g, Sodium tetraphenyl borate (Aldrich) 160.4 g, Anisole (Wako Pure Chemical) 400 mL, Tetrakis triphenyl 3.7 g of phosphine palladium (manufactured by Aldrich) was charged into the flask and stirred at 100 ° C. for 5 hours. The obtained mixture was filtered, and the filtrate was subjected to liquid separation extraction with ethyl acetate / water. This was evaporated to remove volatile components such as ethyl acetate, bromobenzene and anisole. The residue was subjected to column chromatography (Eluent: hexane), concentrated, and a solution dissolved in hexane was recrystallized at −30 ° C. to obtain 113 g of exo, exo-diphenylnorbornene (DiPhNB).

(合成例2:exo,exo−(フェニル)(ピレニル)ノルボルネンの合成)
合成例1において、ブロモベンゼンのかわりにブロモピレン(和光純薬社製)を等モル量仕込み、同様の合成法でexo,exo−(フェニル)(ピレニル)ノルボルネン(PhPyrNB)を得た。
(Synthesis Example 2: Synthesis of exo, exo- (phenyl) (pyrenyl) norbornene)
In Synthesis Example 1, bromopyrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added in an equimolar amount instead of bromobenzene, and exo, exo- (phenyl) (pyrenyl) norbornene (PhPyrNB) was obtained by the same synthesis method.

(合成例3:exo,exo−(フェニル)(1−ナフチル)ノルボルネンの合成)
合成例1において、ブロモベンゼンのかわりに1−ブロモナフタレン(アルドリッチ社製)を等モル量仕込み、同様の合成法でexo,exo−(フェニル)(1−ナフチル)ノルボルネン(PhNaphNB)を得た。
(Synthesis Example 3: Synthesis of exo, exo- (phenyl) (1-naphthyl) norbornene)
In Synthesis Example 1, 1-bromonaphthalene (manufactured by Aldrich) was charged in an equimolar amount instead of bromobenzene, and exo, exo- (phenyl) (1-naphthyl) norbornene (PhNaphNB) was obtained by the same synthesis method.

(合成例4:exo,exo−ジベンゾイルノルボルネンの合成)
ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート20g、ノルボルナジエン(東京化成社製)10g、ジメチルホルムアミド(和光純薬社製)50mL、酢酸パラジウム(アルドリッチ社製)3gを仕込み、一酸化炭素(住友精化製)をバブリングした。これにソディウムテトラフェニルボレート(アルドリッチ社製)20gをジメチルホルムアミド100mLに溶かした溶液を滴下した。滴下終了後室温で2時間反応させた。窒素をバブリングし、残存一酸化炭素を除去した。残存物を酢酸エチル/水で分液抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、これをろ過した。エバポレーションで濃縮し、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーに付した。これを再結晶したところ、白色結晶のexo,exo−ジベンゾイルノルボルネン(Di(Bzy)NB)を得た。
(Synthesis Example 4: Synthesis of exo, exo-dibenzoylnorbornene)
20 g of diphenyliodonium tetrafluoroborate, 10 g of norbornadiene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 50 mL of dimethylformamide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 3 g of palladium acetate (manufactured by Aldrich) were charged, and carbon monoxide (manufactured by Sumitomo Seika) was bubbled. . A solution prepared by dissolving 20 g of sodium tetraphenylborate (manufactured by Aldrich) in 100 mL of dimethylformamide was added dropwise thereto. After completion of dropping, the reaction was allowed to proceed at room temperature for 2 hours. Nitrogen was bubbled to remove residual carbon monoxide. The residue was separated and extracted with ethyl acetate / water, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and this was filtered. After concentration by evaporation, the resulting crude product was subjected to column chromatography. When this was recrystallized, exo, exo-dibenzoylnorbornene (Di (Bzy) NB) as white crystals was obtained.

(合成例5:exo,exo−(フェニル)(フェニルエチニル)ノルボルネンの合成)
ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート20g、ノルボルナジエン10g、ジメチルホルムアミド50mL、酢酸パラジウム3gを仕込んだ。これにフェニルアセチレン5.6gをジメチルホルムアミド10mLに溶かした溶液を滴下した。滴下終了後室温で2時間反応させた。これをフッカカリウム飽和水溶液でクエンチ(quench)し、酢酸エチル/水で分液抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、これをろ過した。エバポレーションで濃縮し、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーに付した。これを再結晶したところ、白色結晶のexo,exo−(フェニル)(フェニルエチニル)ノルボルネン(Ph(PhEthynyl)NB)を得た。
(Synthesis Example 5: Synthesis of exo, exo- (phenyl) (phenylethynyl) norbornene)
20 g of diphenyliodonium tetrafluoroborate, 10 g of norbornadiene, 50 mL of dimethylformamide, and 3 g of palladium acetate were charged. A solution prepared by dissolving 5.6 g of phenylacetylene in 10 mL of dimethylformamide was added dropwise thereto. After completion of dropping, the reaction was allowed to proceed at room temperature for 2 hours. This was quenched with a saturated aqueous solution of potassium fucca, separated and extracted with ethyl acetate / water, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and filtered. After concentration by evaporation, the resulting crude product was subjected to column chromatography. When this was recrystallized, white crystals of exo, exo- (phenyl) (phenylethynyl) norbornene (Ph (PhEthynyl) NB) were obtained.

(合成例6:5−アセトキシメチル−2−ノルボルネンの合成)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)1094g、酢酸アリル(和光純薬社製)1772gとヒドロキノン(和光純薬社製)1gをオートクレーブに仕込み、空隙を窒素置換した。密閉系で内温180℃で9時間攪拌した(回転速度=300rpm)。反応混合物をろ過し、揮発成分をエバポレーションした。残存物を精密蒸留(還流比=10/1、圧力=10mmHg、トップ温度=89℃)に付して、無色透明な5−アセトキシメチル−2−ノルボルネン(NBCH2OAc)1550gを得た。
(Synthesis Example 6: Synthesis of 5-acetoxymethyl-2-norbornene)
1094 g of dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 1772 g of allyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1 g of hydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged into the autoclave, and the air gap was replaced with nitrogen. The mixture was stirred for 9 hours at an internal temperature of 180 ° C. in a closed system (rotational speed = 300 rpm). The reaction mixture was filtered and the volatile components were evaporated. The residue was subjected to precision distillation (reflux ratio = 10/1, pressure = 10 mmHg, top temperature = 89 ° C.) to obtain 1550 g of colorless and transparent 5-acetoxymethyl-2-norbornene (NBCH 2 OAc).

(合成例7:5−ブチルオキシメチル−2−ノルボルネンの合成)
合成例6において酢酸アリルを酪酸アリル(アルドリッチ社製)に変えて、合成例6と同様の操作で、5−ブチルオキシメチル−2−ノルボルネン(NBCH2OCOC37)を得た。
(Synthesis Example 7: Synthesis of 5-butyloxymethyl-2-norbornene)
In Synthesis Example 6, 5-butyloxymethyl-2-norbornene (NBCH 2 OCOC 3 H 7 ) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6, except that allyl acetate was changed to allyl butyrate (Aldrich).

(合成例8)
精製トルエン1000mLと合成例1で合成した0.5molのexo,exo−DiPhNBを反応容器に仕込んだ。次いでトルエン10mLに溶解したアリルパラジウムクロライドダイマー(東京化成社製)0.0125mmolとトリシクロヘキシルフォスフィン(ストレム社製)0.025mmol、塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)0.05mmol、さらにトルエン10mLに溶解したアリルトリブチルスズ(アルドリッチ社製)0.030mmolを反応容器に投入した。加熱を開始し60℃で1時間攪拌した。なお、この間反応溶液の粘度の上昇とともに、トルエンを適宜追加した。1−ヘキセン(和光純薬社製)0.01molを滴下し、さらに1時間反応させた。得られた反応溶液を、過剰のメタノール中に投入し、重合物P−1を沈殿させた。沈殿を採取し、メタノールで洗浄した。得られた重合体を110℃で6時間真空乾燥した。
(Synthesis Example 8)
1000 mL of purified toluene and 0.5 mol of exo, exo-DiPhNB synthesized in Synthesis Example 1 were charged into a reaction vessel. Next, 0.0125 mmol of allyl palladium chloride dimer (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) and 0.025 mmol of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.) dissolved in 10 mL of toluene, dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate (Strem) dissolved in 5 mL of methylene chloride 0.05 mmol, and 0.030 mmol of allyltributyltin (Aldrich) dissolved in 10 mL of toluene was added to the reaction vessel. Heating was started and stirred at 60 ° C. for 1 hour. During this time, toluene was added as appropriate with an increase in the viscosity of the reaction solution. 0.01 mol of 1-hexene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and the mixture was further reacted for 1 hour. The obtained reaction solution was put into excess methanol to precipitate a polymer P-1. The precipitate was collected and washed with methanol. The resulting polymer was vacuum dried at 110 ° C. for 6 hours.

得られた重合体をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーミエーションクロマトグラフによる分子量を測定した。結果を表1に示す。   The obtained polymer was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography. The results are shown in Table 1.

(合成例9〜11)
合成例8で仕込みのexo,exo−DiPhNBを、合成例2で合成したexo,exo−PhPyrNB、合成例4で合成したexo,exo−Di(Bzy)NB、合成例5で合成したexo,exo−Ph(PhEthynyl)NBとする以外は、合成例8と同様に合成し、P−2〜4を得た。結果は、表1に示した。
(Synthesis Examples 9 to 11)
The exo, exo-DiPhNB charged in Synthesis Example 8 was synthesized from the exo, exo-PhPyrNB synthesized in Synthesis Example 2, the exo, exo-Di (Bzy) NB synthesized in Synthesis Example 4, and the exo, exo synthesized in Synthesis Example 5. Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 8 except that -Ph (PhEthynyl) NB was used, and P-2 to 4 were obtained. The results are shown in Table 1.

(合成例12)
精製トルエン100mLとNBCH2OAc0.5molを反応容器に仕込んだ。次いでトルエン10mLに溶解したアリルパラジウムクロライドダイマー(東京化成社製)0.05mmolとトリシクロヘキシルフォスフィン(ストレム社製)0.1mmol、塩化メチレン5mLに溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)0.2mmol、さらにトルエン10mLに溶解したアリルトリブチルスズ(アルドリッチ社製)0.15mmolを反応容器に投入した。加熱を開始し90℃に到達した時、トルエン20質量部に溶解したexo,exo−DiPhNB0.05molを10分かけて滴下した。この混合物を90〜100℃で6時間反応させた。なお、この間反応溶液の粘度の上昇とともに、トルエンを適宜追加した。1−ヘキセン(和光純薬社製)0.01molを滴下し、さらに1時間反応させた。得られた反応溶液を、過剰のメタノール中に投入し、重合物P−5を沈殿させた。沈殿を採取し、メタノールで洗浄した。得られた重合体を110℃で6時間真空乾燥した。
(Synthesis Example 12)
100 mL of purified toluene and 0.5 mol of NBCH 2 OAc were charged into the reaction vessel. Next, 0.05 mmol of allyl palladium chloride dimer (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) dissolved in 10 mL of toluene and 0.1 mmol of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.), dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate (Strem) dissolved in 5 mL of methylene chloride 0.2 mmol, and 0.15 mmol of allyltributyltin (Aldrich) dissolved in 10 mL of toluene was added to the reaction vessel. When heating was started and the temperature reached 90 ° C., 0.05 mol of exo, exo-DiPhNB dissolved in 20 parts by mass of toluene was added dropwise over 10 minutes. The mixture was reacted at 90-100 ° C. for 6 hours. During this time, toluene was added as appropriate with an increase in the viscosity of the reaction solution. 0.01 mol of 1-hexene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and the mixture was further reacted for 1 hour. The obtained reaction solution was poured into excess methanol to precipitate a polymer P-5. The precipitate was collected and washed with methanol. The resulting polymer was vacuum dried at 110 ° C. for 6 hours.

得られた重合体をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーミエーションクロマトグラフによる分子量を測定した。結果を表1に示した。   The obtained polymer was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography. The results are shown in Table 1.

重クロロホルムに溶解させ、1HNMRを測定した場合、3.2〜4.8ppmに現われるピーク(アセトキシ基に結合したメチレン水素)の積分値をA、7〜8ppmに現われるピーク(フェニル基の水素)の積分値をBとすると、表1の式中のxに関し、A:B=2(100−x):10xの関係式が成り立つ。これにしたがって、表1の式中のxの値を求めた。結果は、表1に示した。 When dissolved in deuterated chloroform and measured by 1 HNMR, the integrated value of the peak appearing at 3.2 to 4.8 ppm (methylene hydrogen bonded to the acetoxy group) is A, and the peak appearing at 7 to 8 ppm (hydrogen of the phenyl group) Assuming that the integral value of B is B, a relational expression of A: B = 2 (100−x): 10x holds for x in the expression of Table 1. According to this, the value of x in the formula of Table 1 was calculated. The results are shown in Table 1.

(合成例13)
合成例12でexo,exo−DiPhNBの量を増加させ、共重合比率の異なるP−6を合成した。分子量とxの値を同様に求めた。結果は、表1に示した。
(Synthesis Example 13)
In Synthesis Example 12, P-6 having different copolymerization ratios was synthesized by increasing the amount of exo, exo-DiPhNB. The molecular weight and the value of x were determined in the same manner. The results are shown in Table 1.

(合成例14)
合成例12でNBCH2OAcをNBCH2OCOC37として、P−7を合成した。分子量とXの値を同様に求めた。結果は、表1に示した。
(Synthesis Example 14)
In Synthesis Example 12, P-7 was synthesized using NBCH 2 OAc as NBCH 2 OCOC 3 H 7 . The molecular weight and X value were determined in the same manner. The results are shown in Table 1.

(合成例15)
合成例13で仕込みのNBCH2OAcをNBOAcとする以外は、合成例13と同様に合成し、P−8を得た。分子量を同様に求めた。重クロロホルムに溶解させ、1HNMRを測定した場合、4.3〜5.3ppmに現われるピーク(アセトキシ基に結合した炭素に結合した水素)の積分値をC、7〜8ppmに現われるピーク(フェニル基の水素)の積分値をDとすると、C:D=(100−x):10x の関係式が成り立つ。これに従い、xの値を求めた。結果を表1に示した。
(Synthesis Example 15)
P-8 was obtained by synthesizing in the same manner as in Synthesis Example 13 except that NBCH 2 OAc charged in Synthesis Example 13 was changed to NBOAc. The molecular weight was determined similarly. When dissolved in deuterated chloroform and measured by 1 HNMR, the integrated value of the peak appearing at 4.3 to 5.3 ppm (hydrogen bonded to carbon bonded to the acetoxy group) is C, and the peak appearing at 7 to 8 ppm (phenyl group) Assuming that the integral value of (hydrogen) is D, the relational expression C: D = (100−x): 10x is established. According to this, the value of x was obtained. The results are shown in Table 1.

(合成例16〜19)
合成例13で仕込みのexo,exo−DiPhNBをexo,exo−PhPyrNB、exo,exo−PhNaphNB、exo,exo−Di(Bzy)NB、exo,exo−Ph(PhEthynyl)NBとする以外は、合成例13と同様に合成し、P−9〜12を得た。分子量とxの値を上記と同様に、アセトキシ基に結合したメチレン水素の積分値と、フェニル基の水素の積分値の比により求めた。結果は、表1に示した。
(Synthesis Examples 16 to 19)
Synthesis example except that exo, exo-DiPhNB charged in Synthesis Example 13 is changed to exo, exo-PhPyrNB, exo, exo-PhNaphNB, exo, exo-Di (Bzy) NB, exo, exo-Ph (PhEthynyl) NB In the same manner as in Example 13, P-9 to 12 were obtained. Similarly to the above, the molecular weight and the value of x were determined by the ratio of the integral value of methylene hydrogen bonded to the acetoxy group and the integral value of hydrogen of the phenyl group. The results are shown in Table 1.

(合成例20)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)674.0g、スチレン(和光純薬社製)508.0gとヒドロキノン(和光純薬社製)1gをオートクレーブに仕込み、空隙を窒素置換した。密閉系で内温180℃で8時間攪拌した(回転速度=300rpm)。反応混合物をフラッシュ蒸留し、残存シクロペンタジエン、スチレン、重合物を除去し、租PhNBを得た。これを精密蒸留に付して、無色透明なendorich-PhNBを得た。得られた無色透明な液体をガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度98.5%、endo/exo比率78/22であった。
(Synthesis Example 20)
674.0 g of dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 508.0 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1 g of hydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged into the autoclave, and the air gap was replaced with nitrogen. The mixture was stirred for 8 hours at an internal temperature of 180 ° C. in a closed system (rotational speed = 300 rpm). The reaction mixture was flash-distilled to remove residual cyclopentadiene, styrene, and polymer, thereby obtaining a preferential PhNB. This was subjected to precision distillation to obtain colorless and transparent endorich-PhNB. The obtained colorless and transparent liquid was subjected to gas chromatography to measure the peak purity. As a result, the purity was 98.5% and the endo / exo ratio was 78/22.

(合成例21)
合成例6において酢酸アリルをヘキサン酸アリル(和光純薬社製)に変えて、合成例6と同様の操作で、5−ヘキシルオキシメチル−2−ノルボルネン(NBCH2OCOC511)を得た。
(Synthesis Example 21)
In Synthesis Example 6, 5-hexyloxymethyl-2-norbornene (NBCH 2 OCOC 5 H 11 ) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6 except that allyl acetate was changed to allyl hexanoate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). .

(合成例22)
合成例16においてNBCH2OAcをNBCH2OCOC511とする以外は、合成例16と同様に合成し、P−13を得た。分子量とxの値を上記と同様に、ヘキシルオキシ基に結合したメチレン水素の積分値と、芳香族領域の水素の積分値の比により求めた。結果は、表1に示した。
(Synthesis Example 22)
P-13 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 16 except that NBCH 2 OAc was changed to NBCH 2 OCOC 5 H 11 in Synthesis Example 16. Similarly to the above, the molecular weight and the value of x were determined by the ratio between the integral value of methylene hydrogen bonded to the hexyloxy group and the integral value of hydrogen in the aromatic region. The results are shown in Table 1.

(合成例23)
合成例16においてPhPyrNBをendorich-PhNBとする以外は、合成例16と同様に合成し、A−1を得た。分子量とxの値を上記と同様に、アセトキシ基に結合したメチレン水素の積分値と、芳香族領域の水素の積分値の比により求めた。結果は、表1に示した。
(Synthesis Example 23)
A-1 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 16 except that PhPyrNB was changed to endorich-PhNB in Synthesis Example 16. Similarly to the above, the molecular weight and the value of x were determined by the ratio of the integral value of methylene hydrogen bonded to the acetoxy group and the integral value of hydrogen in the aromatic region. The results are shown in Table 1.

Figure 2008031319
Figure 2008031319

上記のノルボルネン重合体には、ベンゼン、ナフタレン、ピレンの1水素離脱体が長波成分として用いられている。これらベンゼン、ナフタレン、ピレンのメチレンクロライド溶液10mg/Lを調整し、島津製作所社製のUV測定機UV-2550で測定した。ベンゼンは300nm以上の波長では極大吸収は検出されなかった。一方、ナフタレンとピレンは300nm〜400nmに極大吸収波長が検出された。ピレンは複数の極大吸収波長が検出された。主な極大吸収波長とモル吸光係数を下の表に示す。

Figure 2008031319
In the above norbornene polymer, a hydrogen-desorbed product of benzene, naphthalene, or pyrene is used as a long wave component. A methylene chloride solution of 10 mg / L of benzene, naphthalene and pyrene was prepared and measured with a UV measuring device UV-2550 manufactured by Shimadzu Corporation. The maximum absorption of benzene was not detected at a wavelength of 300 nm or more. On the other hand, the maximum absorption wavelength of naphthalene and pyrene was detected at 300 nm to 400 nm. A plurality of maximum absorption wavelengths were detected for pyrene. The main maximum absorption wavelength and molar extinction coefficient are shown in the table below.
Figure 2008031319

[実施例1:重合体フィルムの作製とフィルム特性の測定]
(製膜)
上記で得られた重合体P−1の50gを塩化メチレン200gに溶解し、これを加圧ろ過した。得られたドープをA3大の疎水性ガラス板上でアプリケーターを用いて、流延製膜した。これを25℃密閉系で5分間乾燥し、続いて40℃の送風乾燥機中で10分間乾燥した。ガラス板からフィルムを剥ぎ取り、ステンレス製の枠に挟み、これを100℃の乾燥機中で30分間、133℃の乾燥機中で30分間乾燥を行い、透明なフィルムF−1を得た。同様にP−2〜13とA−1を製膜し、透明なフィルムF−2〜13とFA−1を得た。
[Example 1: Production of polymer film and measurement of film properties]
(Film formation)
50 g of the polymer P-1 obtained above was dissolved in 200 g of methylene chloride, and this was filtered under pressure. The obtained dope was cast on an A3 large hydrophobic glass plate using an applicator. This was dried for 5 minutes in a 25 ° C. closed system, and then dried for 10 minutes in a blast dryer at 40 ° C. The film was peeled off from the glass plate and sandwiched between stainless steel frames, which were dried in a dryer at 100 ° C. for 30 minutes and in a dryer at 133 ° C. for 30 minutes to obtain a transparent film F-1. Similarly, P-2 to 13 and A-1 were formed to obtain transparent films F-2 to 13 and FA-1.

(延伸)
F−5〜13とFA−1を縦5cm横5cmに裁断した。これを井元製作所製の自動二軸延伸機を用いて、温度230℃〜250℃において延伸を行い、延伸フィルムF−5'〜13’とFA−1'を得た。延伸温度と延伸倍率は表2のとおりである。
(Stretching)
F-5 to 13 and FA-1 were cut into 5 cm length and 5 cm width. This was stretched at a temperature of 230 ° C. to 250 ° C. using an automatic biaxial stretching machine manufactured by Imoto Seisakusho to obtain stretched films F-5 ′ to 13 ′ and FA-1 ′. The stretching temperature and the stretching ratio are as shown in Table 2.

(物性測定)
延伸フィルムの波長450nm〜750nmにおけるReを前述のように測定した。フィルムの厚みは、デジタルマイクロメーターで任意の部分を3点測定し、その平均値をとった。波長450nm、590nm、650nmにおける厚み80μmの換算Reを、Re450、Re590、Re630、とした。Reの波長分散特性をあらわす指標として、ΔRe=Re630−Re450を算出した。
(Physical property measurement)
Re of the stretched film at a wavelength of 450 nm to 750 nm was measured as described above. The thickness of the film was measured at three points on an arbitrary portion with a digital micrometer, and the average value was taken. The converted Re with a thickness of 80 μm at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 650 nm was Re 450 , Re 590 , and Re 630 . ΔRe = Re 630 −Re 450 was calculated as an index representing the wavelength dispersion characteristic of Re.

以上で作製したフィルムのRe590とΔRe=Re630−Re450の評価結果を表2にまとめた。 Table 2 summarizes the evaluation results of Re 590 and ΔRe = Re 630 −Re 450 of the film produced above.

Figure 2008031319
Figure 2008031319

表2の結果からわかるように、本発明のフィルムのReは逆波長分散特性を有する。その程度はナフタレン、ピレンのような長波成分を導入した重合体フィルムの方がその発現性は高い。一方、特許文献1に見られる比較例のフィルムA−1およびA−1'は順波長分散でその波長分散の程度は小さい。   As can be seen from the results in Table 2, Re of the film of the present invention has reverse wavelength dispersion characteristics. To that extent, the polymer film into which a long wave component such as naphthalene or pyrene is introduced is more highly expressed. On the other hand, the films A-1 and A-1 ′ of Comparative Examples found in Patent Document 1 are forward wavelength dispersion and the degree of wavelength dispersion is small.

[実施例2:偏光板の作製と評価]
上記作製したフィルムF−6'とセルロースアシレートフィルム(富士写真フィルム社製、フジTAC)を60℃の水酸化ナトリウム1.5N水溶液中で2分間浸漬した。この後、0.1Nの硫酸水溶液に30秒浸漬した後、水洗浴を通し、鹸化処理したF−6'とフジTACを得た。
[Example 2: Production and evaluation of polarizing plate]
The produced film F-6 ′ and a cellulose acylate film (Fuji Photo Film Co., Ltd., Fuji TAC) were immersed in an aqueous 1.5N sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 2 minutes. Thereafter, it was immersed in a 0.1N sulfuric acid aqueous solution for 30 seconds, and then passed through a water washing bath to obtain saponified F-6 ′ and Fuji TAC.

特開平2001−141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与えて、厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルム((株)クラレ社製、9X75RS)を、長手方向に延伸し、偏光膜を得た。   According to Example 1 of Japanese Patent Laid-Open No. 2001-141926, a peripheral speed difference is given between two pairs of nip rolls, and a 75 μm thick polyvinyl alcohol film (manufactured by Kuraray Co., Ltd., 9 × 75RS) is stretched in the longitudinal direction. A polarizing film was obtained.

このようにして得た偏光膜と、鹸化処理したF−6'を、ポリビニルアルコール(PVA)(クラレ社製、PVA−117H)3質量%水溶液を接着剤として、フィルムの長手方向が45゜となるように、「鹸化処理したF−6'/偏光膜/鹸化処理したフジTAC」の層構成で貼り合わせて偏光板Pol−1を作製した。   The polarizing film thus obtained and the saponified F-6 ′ were mixed with polyvinyl alcohol (PVA) (PVA-117H, 3% by weight) aqueous solution as an adhesive, and the longitudinal direction of the film was 45 °. Thus, a polarizing plate Pol-1 was prepared by laminating with a layer structure of “saponified F-6 ′ / polarizing film / saponified Fuji TAC”.

[実施例3:液晶表示装置の作製と評価]
VA型液晶セルを使用した26インチおよび40インチの液晶表示装置(シャープ(株)製)に液晶層を挟んで設置されている2対の偏光板のうち、観察者側の片面の偏光板を剥がし、粘着剤を用い、代わりに上記偏光板Pol−1を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸が直交するように配置して、液晶表示装置を作製した。得られた液晶表示装置の色ムラを観察した。本発明の偏光板Pol−1を組み込んだ液晶表示装置は色ムラが無く、非常に優れたものであった。
[Example 3: Production and evaluation of liquid crystal display device]
Among two pairs of polarizing plates installed with a liquid crystal layer sandwiched between 26-inch and 40-inch liquid crystal display devices (manufactured by Sharp Corporation) using VA type liquid crystal cells, a polarizing plate on one side on the viewer side is used. It peeled off and the said polarizing plate Pol-1 was affixed instead using the adhesive. A liquid crystal display device was manufactured by arranging the transmission axis of the polarizing plate on the viewer side and the transmission axis of the polarizing plate on the backlight side to be orthogonal to each other. Color unevenness of the obtained liquid crystal display device was observed. The liquid crystal display device incorporating the polarizing plate Pol-1 of the present invention had no color unevenness and was very excellent.

Claims (16)

下記一般式(I)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含むことを特徴するノルボルネン系重合体。
Figure 2008031319
(式中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有してもよいアリール基であり、LおよびL'は、それぞれ、二価の連結基または単結合であり、AおよびA'はそれぞれ、芳香族基である。)
A norbornene polymer comprising at least one repeating unit represented by the following general formula (I):
Figure 2008031319
(In the formula, R 1 and R 2 are each a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and L and L ′ are each A divalent linking group or a single bond, and A and A ′ are each an aromatic group.)
前記LおよびL'が、それぞれ、単結合、カルボニル基またはアセチレン基である請求項1に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to claim 1, wherein L and L 'are each a single bond, a carbonyl group, or an acetylene group. 前記Aおよび/またはA’が、270nm〜400nmに極大吸収波長を有し、該極大吸収波長のモル吸光係数が10〜100000[mol-1dm3cm-1]である芳香族化合物の1水素離脱体である請求項1または2に記載のノルボルネン系重合体。 1 hydrogen of an aromatic compound in which A and / or A ′ has a maximum absorption wavelength at 270 nm to 400 nm, and the molar absorption coefficient of the maximum absorption wavelength is 10 to 100,000 [mol −1 dm 3 cm −1 ] The norbornene-based polymer according to claim 1 or 2, which is a detached body. 前記芳香族化合物が、2〜4環式芳香族化合物である請求項3に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to claim 3, wherein the aromatic compound is a 2-4 cyclic aromatic compound. 前記L-AおよびL'-A'が、いずれもエキソ連結である請求項1〜4のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to any one of claims 1 to 4, wherein both L-A and L'-A 'are exo-linked. さらに下記一般式(II)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含む請求項1〜5のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。
Figure 2008031319
(式中、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、−L’’−O−CO−R9(L’’は二価の連結基または単結合であり、R9はアルキル基である)であり、R5、R6、R7およびR8の少なくとも一つは−L’’−O−CO−R9である。)
Furthermore, the norbornene-type polymer of any one of Claims 1-5 containing at least 1 sort (s) of the repeating unit represented by the following general formula (II).
Figure 2008031319
(Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or —L ′. '-O-CO-R 9 (L ″ is a divalent linking group or a single bond, R 9 is an alkyl group), and is at least one of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 . is -L '' - is a O-CO-R 9).
前記R5、R6、R7およびR8のうち3つがそれぞれ、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基である請求項6に記載のノルボルネン系重合体。 7. The norbornene polymer according to claim 6, wherein three of R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. 前記L'' が単結合またはアルキレン基である請求項6または7に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene polymer according to claim 6 or 7, wherein L '' is a single bond or an alkylene group. 前記R9が炭素数1〜5のアルキル基である請求項6〜8のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to any one of claims 6 to 8, wherein R 9 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. 一般式(I)で表される繰り返し単位および一般式(II)で表される繰り返し単位のみから形成された請求項6〜9のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to any one of claims 6 to 9, formed only from the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (II). 一般式(I)で表される繰り返し単位の重合組成比率が0%より多く80%未満である請求項1〜10のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体。 The norbornene-based polymer according to any one of claims 1 to 10, wherein a polymerization composition ratio of the repeating unit represented by the general formula (I) is more than 0% and less than 80%. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のノルボルネン系重合体を含む、フィルム。 The film containing the norbornene-type polymer of any one of Claims 1-11. 波長450nmにおける面内レターデーションRe450と波長630nmにおける面内レターデーションRe630の差ΔRe=Re630−Re450が、10nm≦ΔRe≦100nmを満足する請求項12に記載のフィルム。 The film according to claim 12, wherein a difference ΔRe = Re 630 −Re 450 between the in-plane retardation Re 450 at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re 630 at a wavelength of 630 nm satisfies 10 nm ≦ ΔRe ≦ 100 nm. 波長590nmにおける面内レターデーションRe590が、30nm≦Re590≦200nmを満足する請求項12または13に記載のフィルム。 14. The film according to claim 12, wherein the in-plane retardation Re 590 at a wavelength of 590 nm satisfies 30 nm ≦ Re 590 ≦ 200 nm. 偏光膜と、請求項12〜14のいずれか1項に記載のフィルムを有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising a polarizing film and the film according to claim 12. 請求項15に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 15.
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