JP4924377B2 - LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE - Google Patents

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本発明は、発光装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a light emitting device and an electronic apparatus.

近年、基板上に有機EL素子(有機エレクトロルミネッセンス素子)等の発光素子を備えた発光装置が、表示装置や電子写真方式の画像形成装置の露光装置等として広く利用されている。   In recent years, a light emitting device including a light emitting element such as an organic EL element (organic electroluminescence element) on a substrate has been widely used as an exposure device for a display device or an electrophotographic image forming apparatus.

かかる発光装置には長期間の発光に耐える耐久性が求められるが、有機EL素子の発光特性を劣化させる原因の一つとして、ダークスポットの発生が上げられる。ダークスポットは、有機EL素子の構成部品の表面に付着している水分や有機EL素子内に侵入した水分(湿気)や酸素等の雰囲気ガスが、透明電極と発光層(有機層)と背面電極とを順次積層して形成される積層体内に背面電極表面の欠陥等から侵入し、有機層と背面電極との間に乖離を生じさせることで発生する。   Such a light emitting device is required to have durability to withstand light emission for a long period of time. As one of the causes for deteriorating the light emission characteristics of the organic EL element, generation of dark spots is raised. A dark spot is formed by a transparent electrode, a light emitting layer (organic layer), and a back electrode when moisture adhering to the surface of a component part of the organic EL element or moisture (humidity) or oxygen gas entering the organic EL element Is caused by intrusion from a defect or the like on the surface of the back electrode into a laminate formed by sequentially laminating and separating the organic layer and the back electrode.

このような発光装置では、有機EL素子の信頼性向上や長寿命化を図るため、有機EL素子を構成する発光層や各電極を雰囲気ガスから確実に遮断することが重要とされている。この目的から、有機EL素子部を形成した基板(透明基板)と封止部材とを接着剤を介して一体化することにより、これらの間に封止した有機EL素子を雰囲気ガス等から保護する技術が知られている。水分の侵入をできるだけ抑え、発光素子の劣化を防ぐ(封止性能)には、接着剤の幅(シールエリア)が広い方が有利であり、封止性能は接着剤の幅に比例して高くなることが知られている。   In such a light emitting device, in order to improve the reliability and extend the life of the organic EL element, it is important that the light emitting layer and each electrode constituting the organic EL element are surely shielded from the atmospheric gas. For this purpose, the substrate (transparent substrate) on which the organic EL element portion is formed and the sealing member are integrated via an adhesive to protect the organic EL element sealed between them from atmospheric gas or the like. Technology is known. A wider adhesive width (seal area) is more advantageous for preventing moisture from entering as much as possible and preventing deterioration of the light-emitting element (sealing performance), and the sealing performance increases in proportion to the adhesive width. It is known to be.

例えば、特許文献1に開示されるような、ガラス材料からなる透光性の基板上に、陽極となるITO等の透明電極と、有機化合物からなる少なくとも発光層を有する有機層と、陰極となるアルミニウム(Al)等の非透光性の背面電極とを順次積層して積層体を形成し、この積層体を覆うガラス材料からなる凹部形状の封止部材を基板上に接着剤を介して気密的に配設し、封止部材の積層体と対向する面に、化学的に水分を吸着すると共に吸着しても固体状態を維持する化合物により形成される吸湿剤を配設する発光装置が知られている。   For example, on a translucent substrate made of a glass material as disclosed in Patent Document 1, a transparent electrode such as ITO, which becomes an anode, an organic layer having at least a light emitting layer made of an organic compound, and a cathode A laminated body is formed by sequentially laminating a non-translucent back electrode such as aluminum (Al), and a concave sealing member made of a glass material covering the laminated body is hermetically sealed on the substrate via an adhesive. A light-emitting device is known in which a moisture absorbent formed by a compound that chemically adsorbs moisture and maintains a solid state even when adsorbed is disposed on a surface facing the laminate of sealing members. It has been.

特開2002−8855号公報JP 2002-8855 A

ところが、図15に示すように、近年、携帯電話の表示パネルに代表されるように、額縁領域300(発光素子303の配設面の領域である表示領域302の外周の領域)ができるだけ狭いことが要求されている。しかし、狭額縁化するためには封止部材304を配設するシール領域306を狭くする必要があり、シール領域306を狭くすると封止性能を損なうことになり、狭額縁化と封止性能確保の両立が難しい。又、封止部材304には、封止基板308と基板310の間隙312を一定に保つため、ギャップ材(シリカ、プラスチック等)314が入っている。更に、防湿性を高めるため、或いは封止部材304の弾性率を制御することで作業性を高めるために、フィラー(シリカ等)316が入っている。これにより、封止基板308と基板310を張り合わせるとき圧力を加えるが、配線320が複数積層される多層配線領域322に封止部材304が被った場合には、ギャップ材314やフィラー316により配線320間で、リークやショートが発生する場合がある。又、スイッチング素子324が配設されるスイッチング素子領域326に封止部材304が被った場合には、スイッチング素子324が機能しなくなったり、特性が悪くなったりする場合がある。そのため、シール領域306は表示領域302、多層配線領域322、及びスイッチング素子領域326と重ねず、別々に配置する必要がある。   However, as shown in FIG. 15, in recent years, as represented by a display panel of a mobile phone, the frame region 300 (region on the outer periphery of the display region 302, which is a region where the light emitting element 303 is disposed) is as narrow as possible. Is required. However, in order to narrow the frame, it is necessary to narrow the sealing region 306 in which the sealing member 304 is disposed. If the sealing region 306 is narrowed, the sealing performance is impaired, and the narrowing of the frame and the sealing performance are ensured. It is difficult to achieve both. The sealing member 304 contains a gap material (silica, plastic, etc.) 314 to keep the gap 312 between the sealing substrate 308 and the substrate 310 constant. Further, a filler (silica or the like) 316 is contained in order to improve moisture resistance or to improve workability by controlling the elastic modulus of the sealing member 304. As a result, pressure is applied when the sealing substrate 308 and the substrate 310 are bonded to each other, but when the sealing member 304 covers the multilayer wiring region 322 in which a plurality of wirings 320 are stacked, wiring is performed by the gap material 314 and the filler 316. A leak or a short circuit may occur between 320. In addition, when the sealing member 304 covers the switching element region 326 in which the switching element 324 is disposed, the switching element 324 may not function or the characteristics may deteriorate. Therefore, the seal region 306 needs to be arranged separately without overlapping the display region 302, the multilayer wiring region 322, and the switching element region 326.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
本発明の発光装置は、少なくとも発光層を含む発光素子と、前記発光素子を駆動するためのスイッチング素子と、少なくとも前記発光素子と前記スイッチング素子とを接続する積層された配線と、前記発光素子と前記スイッチング素子と前記積層された配線とを配設する基板と、前記基板上に複数の封止部材を介し配設され、前記発光素子を覆う封止基板と、を含み、前記複数の封止部材は、第1及び第2の封止部材を含み、前記第1の封止部材は、前記発光素子の外周を取り囲み、前記発光素子、前記スイッチング素子、及び前記積層された配線が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設され、前記第2の封止部材は、前記第1の封止部材の外周を取り囲んでおり、前記第1の封止部材は、第1の粒状物を含み、前記第2の封止部材は、第2の粒状物を含み、前記第1の粒状物の体積は、前記第2の粒状物の体積より小さいことを特徴とする。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
The light emitting device of the present invention includes a light emitting element including at least a light emitting layer, a switching element for driving the light emitting element, a stacked wiring connecting at least the light emitting element and the switching element, and the light emitting element. A substrate on which the switching element and the stacked wiring are disposed; and a sealing substrate disposed on the substrate via a plurality of sealing members and covering the light emitting element, the plurality of sealings The member includes a first sealing member and a second sealing member. The first sealing member surrounds an outer periphery of the light emitting element, and the light emitting element, the switching element, and the stacked wiring are disposed. The second sealing member surrounds the outer periphery of the first sealing member, and the first sealing member surrounds the first sealing member. The sealing member is the first grain Include things, the second sealing member comprises a second granulate, the volume of the first granules, and is smaller than the volume of said second granulate.

[適用例1]少なくとも発光層を含む発光素子と、前記発光素子を駆動するためのスイッチング素子と、少なくとも前記発光素子と前記スイッチング素子とを接続する積層された配線と、前記発光素子と前記スイッチング素子と前記積層された配線とを配設する基板と、前記基板上に複数の封止部材を介し配設され、前記発光素子を覆う封止基板と、を含み、前記複数の封止部材は、第1及び第2の封止部材を含み、前記第1の封止部材は、前記発光素子の外周を取り囲み、前記発光素子、前記スイッチング素子、及び前記積層された配線が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設され、前記第2の封止部材は、前記第1の封止部材の外周を取り囲んでいることを特徴とする発光装置。   Application Example 1 A light emitting element including at least a light emitting layer, a switching element for driving the light emitting element, a stacked wiring connecting at least the light emitting element and the switching element, the light emitting element and the switching A substrate on which an element and the laminated wiring are disposed, and a sealing substrate that is disposed on the substrate via a plurality of sealing members and covers the light emitting element, and the plurality of sealing members includes The first sealing member surrounds the outer periphery of the light emitting element, and each of the light emitting element, the switching element, and the stacked wiring is disposed. A light emitting device, wherein the second sealing member is disposed so as to overlap with at least a part of the mounting surface, and the second sealing member surrounds an outer periphery of the first sealing member. .

これによれば、第1の封止部材を発光素子、スイッチング素子、及び積層された配線が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設することができ、従来と比べると接着剤幅を同じにした場合には、額縁幅を小さくすることができるので、小型化が可能な発光装置が提供できる。又、従来と額縁幅を同じにした場合には、シール幅を大きくすることができるので、封止性能向上により素子の劣化防止が可能となり長寿命化した発光装置が提供できる。更に、狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した発光装置が提供できる。   According to this, the first sealing member is arranged so as to overlap with at least a part of the arrangement surface of each arrangement surface on which the light emitting element, the switching element, and the laminated wiring are arranged. When the adhesive width is the same as that in the conventional case, the frame width can be reduced, so that a light-emitting device that can be reduced in size can be provided. In addition, when the frame width is the same as the conventional one, the seal width can be increased, so that the deterioration of the element can be prevented by improving the sealing performance, and a light-emitting device with a long life can be provided. Furthermore, high sealing performance can be obtained even with a narrow frame, and a light emitting device that is small and has a long life can be provided.

[適用例2]上記発光装置であって、前記第2の封止部材は、粒状物を含み、前記第1の封止部材は、粒状物を含まないことを特徴とする発光装置。   Application Example 2 In the above light-emitting device, the second sealing member includes a granular material, and the first sealing member does not include a granular material.

これによれば、第1の封止部材による発光素子、スイッチング素子、及び積層された配線の破損を効果的に防止することが容易になる。又、第2の封止部材により基板と封止基板とのギャップを効果的に設定することが容易になる。   According to this, it becomes easy to prevent effectively the damage of the light emitting element by the 1st sealing member, the switching element, and the laminated wiring. Moreover, it becomes easy to set the gap between the substrate and the sealing substrate effectively by the second sealing member.

[適用例3]上記発光装置であって、前記第1の封止部材は、第1の粒状物を含み、前記第2の封止部材は、第2の粒状物を含み、前記第1の粒状物の体積は、前記第2の粒状物の体積より小さいことを特徴とする発光装置。   Application Example 3 In the light emitting device, the first sealing member includes a first granular material, the second sealing member includes a second granular material, and the first The volume of a granular material is smaller than the volume of said 2nd granular material, The light-emitting device characterized by the above-mentioned.

これによれば、第1の封止部材による発光素子、スイッチング素子、及び積層された配線の破損を効果的に防止することが容易になる。又、第2の封止部材により基板と封止基板とのギャップを効果的に設定することが容易になる。   According to this, it becomes easy to prevent effectively the damage of the light emitting element by the 1st sealing member, the switching element, and the laminated wiring. Moreover, it becomes easy to set the gap between the substrate and the sealing substrate effectively by the second sealing member.

[適用例4]上記のいずれかに記載の発光装置と、前記発光装置を制御するための制御部と、を含むことを特徴とする電子機器。   Application Example 4 An electronic apparatus including the light-emitting device according to any one of the above and a control unit for controlling the light-emitting device.

これによれば、上記のいずれかに記載の発光装置を用いることにより、小型で長寿命化した電子機器が提供できる。   According to this, by using any of the light-emitting devices described above, it is possible to provide a small and long-life electronic device.

本実施形態について図面を参照して以下に説明する。尚、説明に用いた各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。   This embodiment will be described below with reference to the drawings. In each of the drawings used for the description, the scale of each layer and each member is different in order to make each layer and each member recognizable on the drawing.

(第1の実施形態)
(有機EL装置)
図1(A)は、第1の実施形態に係る発光装置としての有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)10の平面構成図であり、図1(B)は、図1(A)のI−I線に沿う断面構成図である。
本実施形態に係る有機EL装置10は、図1(A)及び図1(B)に示すように、基板12と、基板12上に設けられた発光素子14と、発光素子14を挟持して基板12と対向する封止基板16と、を主体としてなる。基板12上には、発光素子14の他に、発光素子14を駆動するためのスイッチング素子(薄膜トランジスタ)18と、少なくとも発光素子14とスイッチング素子18とを接続する積層された配線20と、発光素子14とスイッチング素子18と積層された配線20とを覆っている層間絶縁層22と、が設けられている。基板12と封止基板16との間には、上記の他に、発光素子14と対向して設けられた吸着剤24と、発光素子14を取り囲んで設けられた第1の封止部材26と、第1の封止部材26を取り囲んで設けられた第2の封止部材28と、が設けられている。尚、図1(A)では図面を見易くするために封止基板16の図示を省略している。
(First embodiment)
(Organic EL device)
FIG. 1A is a plan configuration diagram of an organic EL device (organic electroluminescence device) 10 as a light emitting device according to the first embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line I- of FIG. It is a section lineblock diagram which meets an I line.
As shown in FIGS. 1A and 1B, the organic EL device 10 according to the present embodiment sandwiches the light emitting element 14 between the substrate 12, the light emitting element 14 provided on the substrate 12, and the substrate 12. Mainly a sealing substrate 16 facing the substrate 12. On the substrate 12, in addition to the light emitting element 14, a switching element (thin film transistor) 18 for driving the light emitting element 14, a stacked wiring 20 connecting at least the light emitting element 14 and the switching element 18, and the light emitting element 14 and the switching element 18 and an interlayer insulating layer 22 covering the laminated wiring 20 are provided. In addition to the above, between the substrate 12 and the sealing substrate 16, an adsorbent 24 provided facing the light emitting element 14, and a first sealing member 26 provided surrounding the light emitting element 14, And a second sealing member 28 provided so as to surround the first sealing member 26. In FIG. 1A, the sealing substrate 16 is not shown for easy viewing of the drawing.

本実施形態の有機EL装置10は、発光素子14からの発光を基板12側から装置外部に取り出す形態(ボトムエミッション型)、封止基板16側から取り出す形態(トップエミッション型)のいずれも採用することができる。ボトムエミッション型とする場合には、基板12は、光を透過可能な透明或いは半透明材料、例えば、透明なガラス、石英、サファイア、或いはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトン等の透明な合成樹脂等を用いて形成される。トップエミッション型の場合には、層間絶縁層22、吸着剤24、及び封止基板16について透明ないし透光性の材質が用いられる。   The organic EL device 10 according to the present embodiment employs either a form in which light emitted from the light emitting element 14 is extracted from the substrate 12 side to the outside (bottom emission type) or a form in which the light emission is extracted from the sealing substrate 16 side (top emission type). be able to. In the case of the bottom emission type, the substrate 12 is made of a transparent or translucent material that can transmit light, for example, transparent glass, quartz, sapphire, or a transparent synthetic material such as polyester, polyacrylate, polycarbonate, or polyetherketone. It is formed using a resin or the like. In the case of the top emission type, a transparent or translucent material is used for the interlayer insulating layer 22, the adsorbent 24, and the sealing substrate 16.

図2は、第1の実施形態に係る発光装置としての有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)10の一部拡大した断面構成図である。図2に示すように、有機EL装置10は、表示領域30、額縁領域32、多層配線領域34、スイッチング素子領域36、及びシール領域38を有している。   FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional configuration diagram of an organic EL device (organic electroluminescence device) 10 as a light emitting device according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the organic EL device 10 includes a display area 30, a frame area 32, a multilayer wiring area 34, a switching element area 36, and a seal area 38.

表示領域30は、基板12上に配設された発光素子14の配設面の領域である。額縁領域32は、基板12上の表示領域30の外周の領域である。多層配線領域34は、基板12上に配設積層された配線20の配設面の領域である。スイッチング素子領域36は、基板12上に配設されたスイッチング素子18の配設面の領域である。シール領域38は、基板12上に配設された第1及び第2の封止部材26,28の配設面の領域である。   The display area 30 is an area of the arrangement surface of the light emitting elements 14 arranged on the substrate 12. The frame area 32 is an outer peripheral area of the display area 30 on the substrate 12. The multilayer wiring region 34 is a region on the arrangement surface of the wiring 20 arranged and laminated on the substrate 12. The switching element region 36 is a region on the surface where the switching element 18 disposed on the substrate 12 is disposed. The seal area 38 is an area of the arrangement surface of the first and second sealing members 26 and 28 arranged on the substrate 12.

シール領域38に配設される第1の封止部材26は、発光素子14の外周を取り囲むように配設されている。又、第1の封止部材26は、発光素子14、スイッチング素子18、及び積層された配線20が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設されている。言い換えると、シール領域38は、表示領域30、多層配線領域34、及びスイッチング素子領域36の少なくとも一部とオーバーラップするように配設されている。又、第2の封止部材28は、第1の封止部材26の外周を取り囲むように配設されている。   The first sealing member 26 disposed in the seal region 38 is disposed so as to surround the outer periphery of the light emitting element 14. Further, the first sealing member 26 is disposed so as to overlap with at least a part of the disposed surfaces on which the light emitting element 14, the switching element 18, and the stacked wiring 20 are disposed. Has been. In other words, the seal region 38 is disposed so as to overlap at least part of the display region 30, the multilayer wiring region 34, and the switching element region 36. The second sealing member 28 is disposed so as to surround the outer periphery of the first sealing member 26.

図1に戻り、封止基板16は、基板12上に複数の封止部材を介し配設され、発光素子14を覆っている。封止基板16は、第1の封止部材26と、第1の封止部材26の外周を取り囲むように設けられた第2の封止部材28と、を介して基板12に接着され発光素子14を封止している。封止基板16としては、発光素子14を良好に保護できる機能を有していればよく、例えばガラスや石英、合成樹脂、或いは金属等水分透過率の小さい材料を用いることができる。ガラスとしては、例えばソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等を用いることができる。合成樹脂としては、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトン等の透明な合成樹脂等を用いることができる。金属としては、アルミニウムやステンレス等を用いることができる。封止基板16としてガラス基板を用い、発光素子14を覆うことにより、発光素子14への水分(湿気)や酸素等の浸入を良好に防止することができる。   Returning to FIG. 1, the sealing substrate 16 is disposed on the substrate 12 via a plurality of sealing members, and covers the light emitting element 14. The sealing substrate 16 is bonded to the substrate 12 via the first sealing member 26 and the second sealing member 28 provided so as to surround the outer periphery of the first sealing member 26, and the light emitting element 14 is sealed. The sealing substrate 16 only needs to have a function capable of satisfactorily protecting the light emitting element 14. For example, a material having a low moisture permeability such as glass, quartz, synthetic resin, or metal can be used. As the glass, for example, soda lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, silica glass and the like can be used. As the synthetic resin, transparent synthetic resins such as polyolefin, polyester, polyacrylate, polycarbonate, polyether ketone, and the like can be used. As the metal, aluminum, stainless steel, or the like can be used. By using a glass substrate as the sealing substrate 16 and covering the light emitting element 14, it is possible to satisfactorily prevent moisture (humidity), oxygen, or the like from entering the light emitting element 14.

発光素子14は、基板12上に電気光学的物質としての有機発光層を含む有機機能層を第1の電極と第2の電極としての2枚の電極膜により挟持した有機EL素子であり、例えば図3に示すように、陽極40と、正孔輸送層42と、発光層44と、陰極46と、を積層した構造を備えている。発光素子14は、有機EL装置10の用途に応じて種々の態様に構成され、例えば、照明用途であれば発光素子14は平面形状に形成される。又、電子機器の表示手段としての用途であれば複数の発光素子14が平面視略マトリクス状に配列される。更に、プリンタの露光手段としての用途であれば、複数の発光素子14が一列又は複数列に配列された形態となる。   The light-emitting element 14 is an organic EL element in which an organic functional layer including an organic light-emitting layer as an electro-optical material is sandwiched between two electrode films as a first electrode and a second electrode on a substrate 12. As shown in FIG. 3, a structure in which an anode 40, a hole transport layer 42, a light emitting layer 44, and a cathode 46 are laminated is provided. The light emitting element 14 is configured in various modes depending on the application of the organic EL device 10. For example, the light emitting element 14 is formed in a planar shape for lighting applications. In the case of use as a display means of an electronic device, a plurality of light emitting elements 14 are arranged in a substantially matrix shape in plan view. Furthermore, if it is the use as an exposure means of a printer, it will become the form with which the several light emitting element 14 was arranged in 1 row or multiple rows.

図1に戻り、層間絶縁層22は、無機絶縁材料の薄膜であり、発光素子14に対して水分等が浸入するのを抑制する機能を有する。層間絶縁層22を形成するための形成材料としては、酸窒化珪素(SiON)、二酸化珪素(SiO2)、窒化珪素(SiN)等を挙げることができる。 Returning to FIG. 1, the interlayer insulating layer 22 is a thin film of an inorganic insulating material, and has a function of suppressing moisture and the like from entering the light emitting element 14. Examples of the material for forming the interlayer insulating layer 22 include silicon oxynitride (SiON), silicon dioxide (SiO 2 ), and silicon nitride (SiN).

吸着剤24は、封止基板16に設けられている。平面視略矩形状に形成された層間絶縁層22と対向して平面視略矩形状に吸着剤24が設けられている。尚、本実施形態では、吸着剤24は平面視略矩形形状に形成しているが、例えば、発光素子14や層間絶縁層22等の形状に応じた枠に形成してもよいし、発光素子14を囲んだ任意の枠に形成してもよい。本実施形態の場合、図1(B)に示すように、吸着剤24はその対向する層間絶縁層22と間隙48が設けられ、更に当該吸着剤24を挟持する基板12及び封止基板16の封止基板16に当接して配置されている。すなわち、吸着剤24は所定の平面形状と断面形状とを保持し得るものであることが好ましく、例えば、水分(湿気)や酸素等の吸着作用を奏する吸着材料(脱水材及び脱酸素剤)を、樹脂やワックス、油脂等のバインダ中に分散させたものを用いることで、吸着剤に良好な成形性を付与することができる。   The adsorbent 24 is provided on the sealing substrate 16. An adsorbent 24 is provided in a substantially rectangular shape in plan view so as to face the interlayer insulating layer 22 formed in a substantially rectangular shape in plan view. In the present embodiment, the adsorbent 24 is formed in a substantially rectangular shape in plan view. However, for example, the adsorbent 24 may be formed in a frame corresponding to the shape of the light emitting element 14, the interlayer insulating layer 22, or the like. You may form in the arbitrary frames surrounding 14. In the case of the present embodiment, as shown in FIG. 1B, the adsorbent 24 is provided with an interlayer insulating layer 22 and a gap 48 facing each other, and further, the adsorbent 24 is sandwiched between the substrate 12 and the sealing substrate 16. It is disposed in contact with the sealing substrate 16. That is, it is preferable that the adsorbent 24 can maintain a predetermined planar shape and cross-sectional shape. For example, an adsorbing material (dehydrating material and oxygen scavenger) that exhibits an adsorbing action such as moisture (humidity) or oxygen is used. Favorable moldability can be imparted to the adsorbent by using a material dispersed in a binder such as resin, wax, oil or fat.

上記吸着材料としては、バインダを構成する有機化合物と反応しにくいものが用いられ、例えば水素化カルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウム、水素化アルミニウムリチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム等を挙げることができる。   As the adsorbing material, a material that does not easily react with the organic compound constituting the binder is used. For example, calcium hydride, strontium hydride, barium hydride, lithium aluminum hydride, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide. And magnesium oxide.

バインダとしては、樹脂、ワックス、油脂等を用いることができ、具体例を挙げるならば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等の樹脂材料、パラフィンワックス、マイクロリスタリンワックス等の石油系ワックス、植物系ワックス、動物系ワックス、鉱物系ワックス、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂肪族アミン等を挙げることができる。   As the binder, resins, waxes, fats and oils can be used. To give specific examples, resin materials such as polyethylene resins and polypropylene resins, petroleum waxes such as paraffin wax and microlistin wax, plant waxes, Examples thereof include animal waxes, mineral waxes, fatty acids, fatty acid esters, fatty acid amides and aliphatic amines.

尚、吸着剤24についてバインダと吸着材料との混合材料を用いない場合には、基板12と封止基板16との間の間隙48を含む封止空間において所望の吸着機能を有していれば、吸着材料に上記のような限定は無く種々のものを用いることが可能である。例えば、シリカゲル、ゼオライト、活性炭、酸化カルシウム、酸化ゲルマニウム、五酸化リン、塩化カルシウム等を単独又は複数で用いることができる。又、このような間隙48が設けられていれば、第1の封止部材26を通過して水分(湿気)や酸素等が間隙48に侵入した場合にも、間隙48に水分(湿気)や酸素等が拡散し、吸着剤24への負荷をその周面で均一化することができる。従って係る構成によれば、良好な吸着効果を長期間に渡り得ることができ、有機EL装置の信頼性、耐久性を向上させることができる。   When the adsorbent 24 does not use a mixed material of a binder and an adsorbing material, the adsorbent 24 has a desired adsorbing function in the sealing space including the gap 48 between the substrate 12 and the sealing substrate 16. The adsorbing material is not limited as described above, and various materials can be used. For example, silica gel, zeolite, activated carbon, calcium oxide, germanium oxide, phosphorus pentoxide, calcium chloride, or the like can be used alone or in combination. Further, if such a gap 48 is provided, even when moisture (humidity), oxygen, or the like enters the gap 48 through the first sealing member 26, moisture (humidity) or Oxygen or the like diffuses and the load on the adsorbent 24 can be made uniform on the peripheral surface. Therefore, according to such a configuration, a good adsorption effect can be obtained over a long period of time, and the reliability and durability of the organic EL device can be improved.

第1の封止部材26は、封止基板16に設けられている。第1の封止部材26は、発光素子14の外周を取り囲む平面視矩形枠状に形成され、基板12と封止基板16との間に挟持されている。本実施形態の場合、第1の封止部材26は、基板12と封止基板16とを接着する接着剤としても機能する。第1の封止部材26を形成するための材料としては、安定した接着強度を維持することができ、気密性が良好なものであれば特に限定されず用いることができる。例えば、紫外光(UV)の照射により硬化する光硬化性エポキシ樹脂が用いられ、エポキシ、ビニルエーテル等のカチオン系材料の他にも、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート等のアクリレート、ウレタンポリエステル等のラジカル系材料を用いることができる。   The first sealing member 26 is provided on the sealing substrate 16. The first sealing member 26 is formed in a rectangular frame shape in plan view that surrounds the outer periphery of the light emitting element 14, and is sandwiched between the substrate 12 and the sealing substrate 16. In the case of the present embodiment, the first sealing member 26 also functions as an adhesive that bonds the substrate 12 and the sealing substrate 16 together. A material for forming the first sealing member 26 is not particularly limited as long as it can maintain stable adhesive strength and has good airtightness. For example, a photo-curable epoxy resin that is cured by irradiation with ultraviolet light (UV) is used. In addition to cationic materials such as epoxy and vinyl ether, radical materials such as acrylates such as ester acrylate and urethane acrylate, and urethane polyester Can be used.

第1の封止部材26は、弾性率の小さい材料を用いて形成することが好ましく、後述する第2の封止部材28より弾性率の小さい材料を用いて形成することが好ましい。第2の封止部材28より小さい弾性率としておくことで、封止基板16が第2の封止部材28により支持される構造とすることができるので、形成が容易になる。   The first sealing member 26 is preferably formed using a material having a low elastic modulus, and is preferably formed using a material having a lower elastic modulus than the second sealing member 28 described later. By setting the elastic modulus smaller than that of the second sealing member 28, the sealing substrate 16 can be supported by the second sealing member 28, so that the formation becomes easy.

又、第1の封止部材26は、その内部に基板12と封止基板16とを所定間隔に離間する粒状物(スペーサ等のギャップ材)50が混入されていない構成である。このような構成とすることで、封止基板16を被着する際の押圧力により発光素子14、スイッチング素子18及び積層された配線20が破損するのを防止することができる。尚、第1の封止部材26は、その内部に防湿性を高めるため、或いは第1の封止部材26の弾性率を制御することで作業性を高めるために、フィラー(シリカ等)52が混入された構成としてもよい。   Further, the first sealing member 26 has a configuration in which a granular material (gap material such as a spacer) 50 that separates the substrate 12 and the sealing substrate 16 at a predetermined interval is not mixed therein. With such a configuration, it is possible to prevent the light emitting element 14, the switching element 18, and the stacked wiring 20 from being damaged by the pressing force when the sealing substrate 16 is attached. The first sealing member 26 is provided with a filler (silica or the like) 52 in order to improve moisture resistance inside or to improve workability by controlling the elastic modulus of the first sealing member 26. It is good also as a mixed structure.

第2の封止部材28は、封止基板16に設けられている。第2の封止部材28は、第1の封止部材26の外周を取り囲む平面視矩形枠状に形成され、基板12と封止基板16との間に挟持されている。本実施形態の場合、第2の封止部材28は、基板12と封止基板16とを接着する接着剤としても機能する。第2の封止部材28の形成材料としては、第1の封止部材26と同様に安定した接着強度を維持することができ、気密性が良好なものであれば特に限定されないが、例えば熱硬化性樹脂材料を用いることができる。第2の封止部材28を形成する材料としては、紫外光(UV)の照射により硬化する光硬化性エポキシ樹脂等を用いることもできる。   The second sealing member 28 is provided on the sealing substrate 16. The second sealing member 28 is formed in a rectangular frame shape that surrounds the outer periphery of the first sealing member 26 and is sandwiched between the substrate 12 and the sealing substrate 16. In the case of this embodiment, the second sealing member 28 also functions as an adhesive that bonds the substrate 12 and the sealing substrate 16 together. The material for forming the second sealing member 28 is not particularly limited as long as it can maintain a stable adhesive strength as in the case of the first sealing member 26 and has good airtightness. A curable resin material can be used. As a material for forming the second sealing member 28, a photo-curable epoxy resin that is cured by irradiation with ultraviolet light (UV) can be used.

第2の封止部材28は、第1の封止部材26に比して水分(湿気)や酸素等の透過率の低い材料を用いて形成することが好ましい。このように装置の最外周部で水分(湿気)や酸素等の透過率の低い材料で遮断する構成とすることで、内側に配された吸着剤24への水分(湿気)や酸素等の到達量を低減することができ、発光素子14に達する水分量を低減すると共に、水分(湿気)や酸素等が発光素子14に達するまでの時間を延ばすことができ、発光素子14の長寿命化を実現することができる。   The second sealing member 28 is preferably formed using a material having a low transmittance such as moisture (humidity) or oxygen as compared with the first sealing member 26. In this way, by having a configuration in which the outermost peripheral portion of the apparatus is blocked by a material having low permeability such as moisture (humidity) and oxygen, the arrival of moisture (humidity) and oxygen etc. to the adsorbent 24 arranged on the inner side. The amount of moisture that reaches the light-emitting element 14 can be reduced, and the time until moisture (humidity), oxygen, or the like reaches the light-emitting element 14 can be extended. Can be realized.

又、第2の封止部材28は、第1の封止部材26と異なりその内部に基板12と封止基板16とを所定間隔に離間する粒状物50が混入された構成である。このような構成とすることで、封止基板16を被着する際の押圧力により発光素子14が破損するのを防止することができる。尚、第2の封止部材28は、第1の封止部材26と同様にその内部にフィラー52が混入された構成としてもよい。   Further, unlike the first sealing member 26, the second sealing member 28 has a configuration in which a granular material 50 that separates the substrate 12 and the sealing substrate 16 at a predetermined interval is mixed. With such a configuration, it is possible to prevent the light emitting element 14 from being damaged by the pressing force when the sealing substrate 16 is attached. Note that the second sealing member 28 may have a configuration in which a filler 52 is mixed therein as in the first sealing member 26.

以上説明したように、本実施形態の有機EL装置10は、第1及び第2の封止部材26,28の二重封止構造によって、発光素子14に対する良好な封止性能を実現することができる。これにより、第1の封止部材26を発光素子14、スイッチング素子18、及び積層された配線20が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設することができ、従来と比べると接着剤幅を同じにした場合には、額縁幅を小さくすることができるので、小型化が可能な有機EL装置が提供できる。又、従来と額縁幅を同じにした場合には、シール幅を大きくすることができるので、封止性能向上により素子の劣化防止が可能となり長寿命化した有機EL装置が提供できる。更に、狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した有機EL装置が提供できる。   As described above, the organic EL device 10 of the present embodiment can achieve good sealing performance with respect to the light emitting element 14 by the double sealing structure of the first and second sealing members 26 and 28. it can. Thus, the first sealing member 26 is disposed so as to overlap with at least a part of the disposed surfaces on which the light emitting element 14, the switching element 18, and the stacked wiring 20 are disposed. In contrast, when the adhesive width is made the same as in the conventional case, the frame width can be reduced, so that an organic EL device that can be miniaturized can be provided. In addition, when the frame width is the same as the conventional frame width, the seal width can be increased, so that the deterioration of the element can be prevented by improving the sealing performance, and an organic EL device having a long life can be provided. Furthermore, high sealing performance can be obtained even with a narrow frame, and a small and long-life organic EL device can be provided.

(有機EL装置の製造方法)
次に、上述した構成を有する有機EL装置10を製造する方法について、図3〜図6に示す模式図を参照しながら説明する。図4〜図6において、(A)図は各工程における平面工程図、(B)図は(A)図の各断面線に沿う位置に対応する断面工程図である。尚、図6(A)では図面を見易くするために封止基板16の図示を省略している。
(Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing the organic EL device 10 having the above-described configuration will be described with reference to schematic diagrams shown in FIGS. 4A to 6B, FIG. 4A is a plan process diagram in each process, and FIG. 4B is a sectional process diagram corresponding to a position along each sectional line in FIG. In FIG. 6A, the sealing substrate 16 is not shown for easy viewing of the drawing.

先ず、図3に示すように、基板12上に発光素子14を形成する。図3には示していないが、発光素子14が形成される基板12上には、既に発光素子14を駆動制御するスイッチング素子18(図4(B)参照)等が形成されているものとする。
発光素子14は、基板12上の所定領域に、陽極40と、正孔輸送層42と、発光層44と、陰極46と、を順次積層することで形成できる。このような積層構造を具備した発光素子14は、スイッチング素子18から駆動信号を供給されると、陽極40と陰極46との間に電流が流れて発光層44が発光し、ボトムエミッション型の場合には、透明な基板12の外面側に光が射出される。
First, as shown in FIG. 3, the light emitting element 14 is formed on the substrate 12. Although not shown in FIG. 3, a switching element 18 (see FIG. 4B) for driving and controlling the light emitting element 14 is already formed on the substrate 12 on which the light emitting element 14 is formed. .
The light emitting element 14 can be formed by sequentially laminating the anode 40, the hole transport layer 42, the light emitting layer 44, and the cathode 46 in a predetermined region on the substrate 12. When the light emitting element 14 having such a laminated structure is supplied with a drive signal from the switching element 18, a current flows between the anode 40 and the cathode 46 and the light emitting layer 44 emits light. The light is emitted to the outer surface side of the transparent substrate 12.

図3に示す積層構造において、陽極40は図示しないスイッチング素子18に接続され、スイッチング素子18から印加された電圧によって正孔を正孔輸送層42に注入するものであり、その形成材料には、例えば、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)等の透明導電材料、或いはアルミニウムや銀等の金属材料を用いることができる。   In the laminated structure shown in FIG. 3, the anode 40 is connected to a switching element 18 (not shown), and holes are injected into the hole transport layer 42 by a voltage applied from the switching element 18. For example, a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or a metal material such as aluminum or silver can be used.

正孔輸送層42は、陽極40の正孔を発光層44に輸送・注入するためのものであり、公知の材料を用いることができる。例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等を用いることができる。更に具体的には、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)等を用いることができる。   The hole transport layer 42 is for transporting and injecting holes of the anode 40 to the light emitting layer 44, and a known material can be used. For example, polythiophene, polyaniline, polypyrrole, or the like can be used. More specifically, 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like can be used.

発光層44は、正孔輸送層42から注入される正孔と、陰極46から注入される電子との再結合により発光する層である。発光層44を形成する材料としては、蛍光或いは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。例えば、ポリフルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)等のポリシラン系等を用いることができる。   The light emitting layer 44 is a layer that emits light by recombination of holes injected from the hole transport layer 42 and electrons injected from the cathode 46. As a material for forming the light emitting layer 44, a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence can be used. For example, polyfluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinylcarbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethylphenylsilane (PMPS) Polysilanes such as those can be used.

又、発光層44と陰極46との間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層を設けることで陰極46から発光層44への電子の注入効率を向上させることができる。電子輸送層の形成材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体等を用いることができる。   Further, an electron transport layer may be provided between the light emitting layer 44 and the cathode 46. By providing the electron transport layer, the injection efficiency of electrons from the cathode 46 to the light emitting layer 44 can be improved. As the material for forming the electron transport layer, oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane and its derivatives, benzoquinone and its derivatives, naphthoquinone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane and its derivatives, fluorenone derivatives, Diphenyldicyanoethylene and derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, metal complexes of 8-hydroxyquinoline and derivatives thereof, and the like can be used.

陰極46は、発光層44へ効率的に電子注入を行うことができる仕事関数の低い金属、例えば、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、金(Au)、銀(Ag)、又はカルシウム(Ca)等の金属材料から形成され、かかる金属膜にITO等の透明導電膜を積層した構造であってもよい。   The cathode 46 is a metal having a low work function that can efficiently inject electrons into the light emitting layer 44, such as aluminum (Al), magnesium (Mg), gold (Au), silver (Ag), or calcium (Ca). And a structure in which a transparent conductive film such as ITO is laminated on the metal film.

発光素子14を構成する上記各層を設けるに際しては、例えば、フォトリソグラフィ法や液滴吐出法等、公知のパターニング手法を用いることができ、これにより基板12上の所定領域に各層を積層してなる構造の発光素子14を設けることができる。
金属材料や透明導電材料からなる陽極40、陰極46の形成には、スパッタ法や真空蒸着法と、フォトリソグラフィ法と、を好適に用いることができ、又、高分子材料からなる正孔輸送層42及び発光層44の形成には、液滴吐出法を好適に用いることができる。
In providing each of the layers constituting the light-emitting element 14, a known patterning method such as a photolithography method or a droplet discharge method can be used, and each layer is laminated in a predetermined region on the substrate 12. A light-emitting element 14 having a structure can be provided.
For the formation of the anode 40 and the cathode 46 made of a metal material or a transparent conductive material, a sputtering method, a vacuum evaporation method, and a photolithography method can be suitably used, and a hole transport layer made of a polymer material For the formation of 42 and the light emitting layer 44, a droplet discharge method can be suitably used.

液滴吐出法とは、形成しようとする機能層の形成材料を液状体にし、その液状体をディスペンサやインクジェット装置等の液滴吐出装置を用いて定量的に吐出することによって、所望領域に前記形成材料を塗布する方法である。具体的には、液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)に設けられたノズルと基板12とを対向させた状態でノズルと基板12とを相対移動させつつ、ノズルから1滴あたりの液量が制御された液状体の液滴を吐出することによって、基板12上に液状体による所望形状の膜パターンを形成する技術である。   The droplet discharge method is a method in which a material for forming a functional layer to be formed is made into a liquid material, and the liquid material is quantitatively discharged using a droplet discharge device such as a dispenser or an ink jet device, so that This is a method of applying a forming material. Specifically, the amount of liquid per droplet is controlled from the nozzle while relatively moving the nozzle and the substrate 12 with the nozzle provided in the droplet discharge head (inkjet head) and the substrate 12 facing each other. In this technique, a film pattern having a desired shape is formed on the substrate 12 by discharging liquid droplets.

正孔輸送層42や発光層44を液滴吐出法を用いて成膜することにより、製造コストを低減することができる。すなわち、液滴吐出法では、基板12上の所望の局所領域に材料を配置することが可能であるから、フォトリソグラフィ法等に比べて膜形成のプロセスが簡素であると共に使用材料に無駄が少ない。   By forming the hole transport layer 42 and the light emitting layer 44 by using a droplet discharge method, the manufacturing cost can be reduced. That is, in the droplet discharge method, since a material can be disposed in a desired local region on the substrate 12, the film formation process is simple and the use material is less wasteful than the photolithography method or the like. .

発光素子14を基板12上に形成したならば、次に、図4に示すように、所定の手法によって、発光素子14、スイッチング素子18及び積層された配線20に層間絶縁層22を被覆する。本実施形態においては、層間絶縁層22は、イオンプレーティング法、或いはスパッタ法等の成膜法を用いて発光素子14の表面に被覆される。これにより、発光素子14を覆うように、発光素子14の表面に層間絶縁層22が接続される。発光素子14の表面に所定の厚さを有する層間絶縁層22が被覆されることにより、有機EL装置10の製造工程中においても、発光素子14と水分等との接触を防止でき、発光素子14は良好に封止される。   After the light emitting element 14 is formed on the substrate 12, next, as shown in FIG. 4, the light emitting element 14, the switching element 18 and the laminated wiring 20 are covered with an interlayer insulating layer 22 by a predetermined method. In the present embodiment, the interlayer insulating layer 22 is coated on the surface of the light emitting element 14 by using a film forming method such as an ion plating method or a sputtering method. Accordingly, the interlayer insulating layer 22 is connected to the surface of the light emitting element 14 so as to cover the light emitting element 14. By covering the surface of the light emitting element 14 with the interlayer insulating layer 22 having a predetermined thickness, it is possible to prevent the light emitting element 14 from contacting moisture or the like even during the manufacturing process of the organic EL device 10. Is well sealed.

次に、図5に示すように、発光素子14が配設された側の基板面周縁に沿って平面視矩形枠状の第1及び第2の封止部材26,28を形成する。例えば、ディスペンサやインクジェット装置を用いて、エポキシ樹脂等の樹脂材料を図示の平面形状に塗布する。このとき、第2の封止部材28の前記樹脂材料には、基板12と封止基板16との間隔を調整するためのスペーサ(粒状物50)を混入されたものを用いる。スペーサとしてはガラスビーズ、樹脂ビーズ等を用いることができる。又、第1の封止部材26の前記樹脂材料には、基板12と封止基板16との間隔を調整するためのスペーサ(粒状物50)を混入されたものを用いない。尚、各製造工程は、発光素子14の劣化を防ぐために窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。   Next, as shown in FIG. 5, first and second sealing members 26 and 28 having a rectangular frame shape in plan view are formed along the periphery of the substrate surface on the side where the light emitting element 14 is disposed. For example, a resin material such as an epoxy resin is applied to the illustrated planar shape using a dispenser or an inkjet device. At this time, as the resin material of the second sealing member 28, a material mixed with a spacer (granular material 50) for adjusting the distance between the substrate 12 and the sealing substrate 16 is used. As the spacer, glass beads, resin beads, or the like can be used. Further, as the resin material of the first sealing member 26, a material mixed with a spacer (granular material 50) for adjusting the distance between the substrate 12 and the sealing substrate 16 is not used. In addition, it is preferable to perform each manufacturing process in inert gas atmosphere, such as nitrogen gas and argon gas, in order to prevent deterioration of the light emitting element 14. FIG.

基板12上に配置した前記樹脂材料は、後段の工程で封止基板16を配置したとき、封止基板16に密着して封止性を得られるものであることが好ましい。そのため、以降の工程では封止基板16に対し接着可能な状態に保持されるが、基板12上に配置した後、接着性を損なわない程度の硬化(仮硬化)を行ってもよい。仮硬化を行うことで第1及び第2の封止部材26,28を構成する樹脂材料の粘度を高め、基板12上にて形状を良好に保持することができるので、第1及び第2の封止部材26,28の形状不良による歩留まり低下を防止でき、又後続の工程における基板のハンドリング性も向上させることができる。   It is preferable that the resin material disposed on the substrate 12 is capable of obtaining a sealing property by being in close contact with the sealing substrate 16 when the sealing substrate 16 is disposed in a subsequent process. For this reason, in the subsequent steps, it is held in a state where it can be adhered to the sealing substrate 16, but after being placed on the substrate 12, curing (temporary curing) may be performed to such an extent that adhesion is not impaired. By performing temporary curing, the viscosity of the resin material constituting the first and second sealing members 26 and 28 can be increased, and the shape can be satisfactorily retained on the substrate 12. It is possible to prevent a decrease in yield due to a defective shape of the sealing members 26 and 28, and it is possible to improve the handleability of the substrate in the subsequent process.

次に、図6に示すように、第1の封止部材26の内側の封止基板16上に、層間絶縁層22と対向する平面視略矩形状に乾燥剤形成材料を配置して、吸着剤24を形成する。乾燥剤形成材料としては、先の記載のように、吸着材料とバインダとを混合してなるものを用いることが好ましい。このような乾燥剤形成材料を、ディスペンサやインクジェット装置を用いて塗布することで、図6に示すような平面形状の吸着剤24を容易に形成することができる。   Next, as shown in FIG. 6, a desiccant forming material is arranged in a substantially rectangular shape in plan view opposite to the interlayer insulating layer 22 on the sealing substrate 16 inside the first sealing member 26 and adsorbed. Agent 24 is formed. As the desiccant forming material, it is preferable to use a material obtained by mixing an adsorbing material and a binder as described above. By applying such a desiccant forming material using a dispenser or an ink jet apparatus, a planar adsorbent 24 as shown in FIG. 6 can be easily formed.

上記乾燥剤形成材料は、封止基板16上に配置する際の粘度を20Pa・s以上とすることが好ましい。このような比較的高粘度の材料を配置することで、封止基板16上に配置した後の乾燥剤形成材料の形状を良好に保持することができる。又、乾燥剤形成材料は、後段の工程で吸着剤24に囲まれる領域に配置される、第1の封止部材26を形成するための樹脂材料より大きい粘度を有するものであることが好ましい。   The desiccant-forming material preferably has a viscosity of 20 Pa · s or more when disposed on the sealing substrate 16. By disposing such a relatively high-viscosity material, the shape of the desiccant-forming material after being disposed on the sealing substrate 16 can be favorably maintained. The desiccant-forming material preferably has a viscosity higher than that of the resin material for forming the first sealing member 26, which is disposed in a region surrounded by the adsorbent 24 in a subsequent step.

又、乾燥剤形成材料を封止基板16上に塗布した後、先の第1及び第2の封止部材26,28を形成する工程と同様に乾燥剤形成材料の仮硬化を行ってもよい。仮硬化を行うことで、乾燥剤形成材料が経時的に封止基板16上で過度に濡れ広がることを防止することができ、有機EL装置の歩留まり向上、基板のハンドリング性の向上に寄与する。   In addition, after applying the desiccant forming material on the sealing substrate 16, the desiccant forming material may be temporarily cured in the same manner as in the step of forming the first and second sealing members 26 and 28. . By performing temporary curing, it is possible to prevent the desiccant-forming material from being excessively wet and spread on the sealing substrate 16 over time, which contributes to an improvement in the yield of the organic EL device and an improvement in the handling properties of the substrate.

本実施形態において、吸着剤24は、層間絶縁層22との間に間隙48(図1(B)参照)を有する位置に配置されるようになっている。このような間隙48を形成しておくことで、封止基板16を基板12上に被着した際の緩衝領域として間隙48を利用することができ、又封止基板16の被着後にも間隙48が保持されるようにしておけば、第1の封止部材26を通過して装置内部に侵入した水分や酸素等を保持する領域としても機能させることができ、層間絶縁層22より内側への水分等の侵入を緩和することができる。   In the present embodiment, the adsorbent 24 is arranged at a position having a gap 48 (see FIG. 1B) between the adsorbent 24 and the interlayer insulating layer 22. By forming such a gap 48, the gap 48 can be used as a buffer region when the sealing substrate 16 is deposited on the substrate 12, and also after the sealing substrate 16 is deposited. If 48 is held, it can also function as a region for holding moisture, oxygen, etc. that have passed through the first sealing member 26 and entered the inside of the device, and it is inward from the interlayer insulating layer 22. Intrusion of moisture and the like can be mitigated.

そして、封止基板16上に吸着剤24が形成された後、基板12上に封止基板16が被着される(図1参照)。本実施形態の有機EL装置10の製造工程では、この封止基板16を配置する工程は、封止基板16と第1の封止部材26との間に気泡等が混入するのを防止するため、減圧環境下で実施され、封止基板16を被着した後に大気圧下に戻すことで、大気圧により封止基板16を発光素子14側へ押しつけるようになっている。その後、第1の封止部材26を形成するための樹脂材料として熱硬化性樹脂材料が用いられている場合には、所定の熱が基板12上の樹脂材料に付与される。
以上の工程により、樹脂材料を硬化させて第1及び第2の封止部材26,28を形成し、第1及び第2の封止部材26,28を介して封止基板16が接着された有機EL装置10を製造することができる。
Then, after the adsorbent 24 is formed on the sealing substrate 16, the sealing substrate 16 is attached onto the substrate 12 (see FIG. 1). In the manufacturing process of the organic EL device 10 of the present embodiment, the step of arranging the sealing substrate 16 is to prevent bubbles and the like from being mixed between the sealing substrate 16 and the first sealing member 26. The process is performed under a reduced pressure environment, and the sealing substrate 16 is applied to the light emitting element 14 side by atmospheric pressure by returning to atmospheric pressure after the sealing substrate 16 is deposited. Thereafter, when a thermosetting resin material is used as the resin material for forming the first sealing member 26, predetermined heat is applied to the resin material on the substrate 12.
Through the above steps, the resin material is cured to form the first and second sealing members 26 and 28, and the sealing substrate 16 is bonded via the first and second sealing members 26 and 28. The organic EL device 10 can be manufactured.

本実施形態では、上記樹脂材料を基板12上に配置した際、基板12上に既設の吸着剤24が、基板12上で樹脂材料が広がる領域を規定するようになっており、樹脂材料が必要以上に広がることで第1の封止部材26の層厚が設計値よりも薄くなってしまうのを防止することができ、又封止基板16と第1の封止部材26との間に空隙が生じるのを防止することができる。   In this embodiment, when the resin material is arranged on the substrate 12, the existing adsorbent 24 on the substrate 12 defines a region where the resin material spreads on the substrate 12, and the resin material is necessary. It is possible to prevent the layer thickness of the first sealing member 26 from becoming thinner than the design value by spreading as described above, and there is no gap between the sealing substrate 16 and the first sealing member 26. Can be prevented from occurring.

以上説明したように、本実施形態の製造方法によれば、発光素子14上に層間絶縁層22を設けた後に樹脂材料や乾燥剤形成材料の配置を行うようになっているので、封止工程中に樹脂材料や乾燥剤形成材料に含まれる溶剤等が発光素子14と接触して発光素子14を劣化させるのを防止でき、高歩留まりで有機EL装置10を製造することができる。   As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, since the resin material and the desiccant forming material are arranged after the interlayer insulating layer 22 is provided on the light emitting element 14, the sealing step It is possible to prevent the light emitting element 14 from deteriorating due to the solvent contained in the resin material or the desiccant forming material in contact with the light emitting element 14, and the organic EL device 10 can be manufactured with a high yield.

(第2の実施形態)
続いて、第2の実施形態について説明する。本実施形態は、第1及び第2の封止部材に混入するそれぞれの粒状物の大きさが上記の実施形態と異なり、その他の点は上記の実施形態と同様である。
(Second Embodiment)
Next, the second embodiment will be described. This embodiment is different from the above embodiment in the size of each granular material mixed in the first and second sealing members, and the other points are the same as the above embodiment.

図7は、本実施形態に係る発光装置としての有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)54の一部拡大した断面構成図である。本実施形態に係る有機EL装置54は、図7に示すように、第1の封止部材26は、その内部に基板12と封止基板16とを所定間隔に離間する第1の粒状物(スペーサ等のギャップ材)56が混入された構成である。第2の封止部材28は、その内部に基板12と封止基板16とを所定間隔に離間する第2の粒状物(スペーサ等のギャップ材)58が混入された構成である。第1の粒状物56の体積は、第2の粒状物58の体積より小さいものが配設されている。このような構成とすることで、封止基板16を被着する際の押圧力によりスイッチング素子18、及び積層された配線20が破損するのを防止することができる。   FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional configuration diagram of an organic EL device (organic electroluminescence device) 54 as a light emitting device according to the present embodiment. As shown in FIG. 7, in the organic EL device 54 according to the present embodiment, the first sealing member 26 has a first granular material (with a predetermined interval between the substrate 12 and the sealing substrate 16). The gap material 56 such as a spacer) is mixed. The second sealing member 28 has a configuration in which a second granular material (gap material such as a spacer) 58 that separates the substrate 12 and the sealing substrate 16 at a predetermined interval is mixed therein. The volume of the first granular material 56 is smaller than the volume of the second granular material 58. With such a configuration, it is possible to prevent the switching element 18 and the stacked wiring 20 from being damaged by the pressing force when the sealing substrate 16 is attached.

(実施例)
(有機EL表示装置)
次に、図8〜図11を参照して、有機EL装置の一実施例である有機EL表示装置100について説明する。
図8は、本実施例に係る有機EL表示装置100の回路構成図であり、図9は、同表示装置の平面構成図である。図10は、同表示装置の画素102の平面構造を示す図であって、(A)図は画素102のうち主にTFT(薄膜トランジスタ)等の画素駆動部分を示す図であり、(B)図は画素間を区画するバンク(隔壁部材)等を示す図である。図11は、図10のXI−XI線に沿う断面構成図である。
(Example)
(Organic EL display device)
Next, an organic EL display device 100 that is an example of the organic EL device will be described with reference to FIGS.
FIG. 8 is a circuit configuration diagram of the organic EL display device 100 according to the present embodiment, and FIG. 9 is a plan configuration diagram of the display device. FIG. 10 is a diagram showing a planar structure of the pixel 102 of the display device, and FIG. 10A is a diagram mainly showing a pixel driving portion such as a TFT (thin film transistor) in the pixel 102, and FIG. FIG. 5 is a diagram showing banks (partition wall members) that partition pixels. 11 is a cross-sectional configuration diagram taken along line XI-XI in FIG.

図8に示す回路構成において、有機EL表示装置100は、複数の走査線104と、これら走査線104に対して交差する方向に延びる複数の信号線106と、これら信号線106に並列に延びる複数の共通給電線108と、がそれぞれ配線されたもので、走査線104及び信号線106の各交点に、画素102が設けられて構成されたものである。   In the circuit configuration illustrated in FIG. 8, the organic EL display device 100 includes a plurality of scanning lines 104, a plurality of signal lines 106 extending in a direction intersecting the scanning lines 104, and a plurality of signal lines 106 extending in parallel to the signal lines 106. The common power supply line 108 is wired, and a pixel 102 is provided at each intersection of the scanning line 104 and the signal line 106.

信号線106に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路110が設けられている。一方、走査線104に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路112が設けられている。画素102の各々には、走査線104を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング素子(薄膜トランジスタ)18と、このスイッチング素子18を介して信号線106から供給される画像信号を保持する保持容量CAPと、保持容量CAPによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用TFT116と、この駆動用TFT116を介して共通給電線108に電気的に接続したときに共通給電線108から駆動電流が流れ込む画素電極118と、この画素電極118と共通電極120との間に挟み込まれる発光部122と、が設けられている。画素電極118と、共通電極120と、発光部122と、によって構成される素子が有機EL素子(発光素子)である。   For the signal line 106, a data side driving circuit 110 including a shift register, a level shifter, a video line, an analog switch, and the like is provided. On the other hand, for the scanning line 104, a scanning side driving circuit 112 including a shift register, a level shifter, and the like is provided. Each pixel 102 has a switching element (thin film transistor) 18 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 104, and a holding for holding an image signal supplied from the signal line 106 via the switching element 18. The capacitor CAP, the driving TFT 116 to which the image signal held by the holding capacitor CAP is supplied to the gate electrode, and the common feeding line 108 are driven when electrically connected to the common feeding line 108 via the driving TFT 116. A pixel electrode 118 through which a current flows and a light emitting unit 122 sandwiched between the pixel electrode 118 and the common electrode 120 are provided. An element constituted by the pixel electrode 118, the common electrode 120, and the light emitting unit 122 is an organic EL element (light emitting element).

このような構成のもとに、走査線104が駆動されてスイッチング素子18がオンとなると、そのときの信号線106の電位が保持容量CAPに保持され、保持容量CAPの状態に応じて、駆動用TFT116のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT116のチャネルを介して共通給電線108から画素電極118に電流が流れ、更に発光部122を通じて共通電極120に電流が流れることにより、発光部122は、これを流れる電流量に応じて発光する。   Under such a configuration, when the scanning line 104 is driven and the switching element 18 is turned on, the potential of the signal line 106 at that time is held in the holding capacitor CAP, and is driven according to the state of the holding capacitor CAP. The on / off state of the TFT 116 is determined. Then, a current flows from the common power supply line 108 to the pixel electrode 118 through the channel of the driving TFT 116, and further a current flows to the common electrode 120 through the light emitting unit 122, so that the light emitting unit 122 corresponds to the amount of current flowing therethrough. Flashes.

次に、図9の平面構成に示すように、有機EL表示装置100は、矩形状の基板12の略中央部に、複数の画素102が平面視マトリクス状に配列された表示領域30を備えており、表示領域30を覆って吸着剤24が形成されている。表示領域30及び吸着剤24を取り囲んで平面視矩形枠状の第1の封止部材26が設けられており、第1の封止部材26を取り囲んで平面視矩形枠状の第2の封止部材28が設けられている。そして、封止基板16が、表示領域30、吸着剤24、第1の封止部材26、及び第2の封止部材28を平面的に覆うように配置されている。   Next, as shown in the planar configuration of FIG. 9, the organic EL display device 100 includes a display region 30 in which a plurality of pixels 102 are arranged in a matrix in a plan view at a substantially central portion of a rectangular substrate 12. The adsorbent 24 is formed so as to cover the display area 30. A first sealing member 26 having a rectangular frame shape in plan view is provided surrounding the display area 30 and the adsorbent 24, and a second sealing member having a rectangular frame shape in plan view surrounding the first sealing member 26. A member 28 is provided. And the sealing substrate 16 is arrange | positioned so that the display area 30, the adsorption agent 24, the 1st sealing member 26, and the 2nd sealing member 28 may be covered planarly.

すなわち、有機EL表示装置100は、先の実施形態の有機EL装置10と同様の基本構成を具備した表示装置であり、有機EL装置10の発光素子14に対応する有機EL素子を有する画素102を配列してなる表示領域30を、第1の封止部材26と第2の封止部材28とによって二重に封止する構成を具備したものとなっている。   That is, the organic EL display device 100 is a display device having a basic configuration similar to that of the organic EL device 10 of the previous embodiment, and includes a pixel 102 having an organic EL element corresponding to the light emitting element 14 of the organic EL device 10. The arrangement is such that the arrayed display region 30 is double sealed by the first sealing member 26 and the second sealing member 28.

又、吸着剤24と表示領域30との間には、間隙48(図1(B)参照)が設けられており、先の実施形態と同様、第1の封止部材26を通過して内部に侵入した水分等を拡散させ、吸着剤24への負荷をその周面で均一化し、吸着剤24の局所的な劣化を抑え、信頼性を向上させることができるようになっている。   Further, a gap 48 (see FIG. 1B) is provided between the adsorbent 24 and the display area 30, and, like the previous embodiment, passes through the first sealing member 26 and passes through the inside. It is possible to diffuse moisture and the like that have entered the surface, to uniformize the load on the adsorbent 24 on its peripheral surface, suppress local deterioration of the adsorbent 24, and improve reliability.

次に、図10(A)に示す画素102の平面構造をみると、画素102は、平面視略矩形状の画素電極118の四辺が、信号線106、共通給電線108、走査線104、及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。画素電極118の近傍にはスイッチング素子18と、駆動用TFT116とが設けられている。   Next, in the planar structure of the pixel 102 illustrated in FIG. 10A, the pixel 102 includes four sides of a pixel electrode 118 having a substantially rectangular shape in plan view, the signal line 106, the common power supply line 108, the scanning line 104, and The arrangement is surrounded by other pixel electrode scanning lines (not shown). A switching element 18 and a driving TFT 116 are provided in the vicinity of the pixel electrode 118.

スイッチング素子18は、矩形の島状の半導体層138を主体としてなるトップゲート型の薄膜トランジスタであり、半導体層138と交差する走査線104が、当該交差部分でスイッチング素子18のゲート電極となっている。又、半導体層138には、図示上下方向に延在する信号線106から走査線104に沿う方向に延びた分岐配線106AがコンタクトホールC1を介して電気的に接続されている。更に、半導体層138には、画素電極118の図示右側に配された平面視矩形状の中継電極140が、コンタクトホールC2を介して電気的に接続されている。   The switching element 18 is a top-gate thin film transistor mainly composed of a rectangular island-shaped semiconductor layer 138, and the scanning line 104 that intersects the semiconductor layer 138 serves as the gate electrode of the switching element 18 at the intersection. . A branch wiring 106A extending in the direction along the scanning line 104 from the signal line 106 extending in the vertical direction in the figure is electrically connected to the semiconductor layer 138 via a contact hole C1. Furthermore, a relay electrode 140 having a rectangular shape in plan view disposed on the right side of the pixel electrode 118 in the drawing is electrically connected to the semiconductor layer 138 through a contact hole C2.

駆動用TFT116は、矩形の島状の半導体層142を主体としてなるトップゲート型の薄膜トランジスタであり、ゲート電極144Gと、ソース電極146(電源線108の一部)と、ドレイン電極148と、を備えている。ドレイン電極148は、図示しないコンタクトホール(図11参照)を介して画素電極118と電気的に接続されている。ゲート電極144Gは、半導体層142と重なる位置から図示下側へ延びて保持容量CAPの電極150と一体に形成されている。更に、電極150は、図示下側へ延びており、それと平面的に重なって配置された中継電極140とコンタクトホールC3を介して電気的に接続されている。従って、中継電極140を介して駆動用TFT116のゲートと、スイッチング素子18のドレインと、が電気的に接続されている。   The driving TFT 116 is a top-gate thin film transistor mainly including a rectangular island-shaped semiconductor layer 142, and includes a gate electrode 144 G, a source electrode 146 (a part of the power supply line 108), and a drain electrode 148. ing. The drain electrode 148 is electrically connected to the pixel electrode 118 via a contact hole (not shown) (see FIG. 11). The gate electrode 144G extends downward from the position overlapping the semiconductor layer 142 and is formed integrally with the electrode 150 of the storage capacitor CAP. Further, the electrode 150 extends downward in the figure, and is electrically connected to the relay electrode 140 disposed so as to overlap with the electrode 150 via a contact hole C3. Therefore, the gate of the driving TFT 116 and the drain of the switching element 18 are electrically connected via the relay electrode 140.

又、図11に示す画素102の断面構造をみると、基板12上に、駆動用TFT116が設けられており、駆動用TFT116を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基板12上に、有機EL素子152が形成されている。有機EL素子152は、基板12上に立設されたバンク(無機バンク154及び有機バンク156)に囲まれる領域内に設けられた有機機能層(発光部)122を主体として構成され、この有機機能層122を、画素電極118と共通電極120との間に挟持した構成を備えている。ここで、図10(B)に示す平面構造をみると、有機バンク156は、画素電極118の形成領域に対応した平面視略矩形状の開口部158を有しており、この開口部158に先の有機機能層122が形成されるようになっている。   Further, when the cross-sectional structure of the pixel 102 shown in FIG. 11 is seen, a driving TFT 116 is provided on the substrate 12, and on the substrate 12 through a plurality of insulating films formed to cover the driving TFT 116. An organic EL element 152 is formed. The organic EL element 152 is mainly composed of an organic functional layer (light emitting part) 122 provided in a region surrounded by banks (inorganic banks 154 and organic banks 156) erected on the substrate 12, and this organic function A structure in which the layer 122 is sandwiched between the pixel electrode 118 and the common electrode 120 is provided. Here, in the planar structure shown in FIG. 10B, the organic bank 156 has an opening 158 having a substantially rectangular shape in plan view corresponding to the formation region of the pixel electrode 118. The previous organic functional layer 122 is formed.

図11に示すように、駆動用TFT116は、半導体層142に形成されたソース領域144A、ドレイン領域144B、及びチャネル領域144Cと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜160を介してチャネル領域144Cに対向するゲート電極144Gと、を主体として構成されている。半導体層142及びゲート絶縁膜160を覆う第1の層間絶縁膜162が形成されており、この第1の層間絶縁膜162を貫通して半導体層142に達するコンタクトホール164,166内に、それぞれドレイン電極148、ソース電極146が埋設され、各々の電極はドレイン領域144B及びソース領域144Aに導電接続されている。第1の層間絶縁膜162上には、第2の層間絶縁膜168が形成されており、この第2の層間絶縁膜168に貫設されたコンタクトホールに画素電極118の一部が埋設されている。そして画素電極118とドレイン電極148とが導電接続されることで、駆動用TFT116と画素電極118(有機EL素子152)とが電気的に接続されている。   As shown in FIG. 11, the driving TFT 116 includes a channel region 144C via a source region 144A, a drain region 144B, a channel region 144C formed in the semiconductor layer 142, and a gate insulating film 160 formed on the surface of the semiconductor layer. And a gate electrode 144G opposite to the main body. A first interlayer insulating film 162 that covers the semiconductor layer 142 and the gate insulating film 160 is formed, and drains are respectively formed in the contact holes 164 and 166 that penetrate the first interlayer insulating film 162 and reach the semiconductor layer 142. An electrode 148 and a source electrode 146 are embedded, and each electrode is conductively connected to the drain region 144B and the source region 144A. A second interlayer insulating film 168 is formed on the first interlayer insulating film 162, and a part of the pixel electrode 118 is embedded in a contact hole penetrating through the second interlayer insulating film 168. Yes. The pixel electrode 118 and the drain electrode 148 are conductively connected, so that the driving TFT 116 and the pixel electrode 118 (organic EL element 152) are electrically connected.

第2の層間絶縁膜168上には、無機絶縁材料からなる無機バンク(第1の隔壁層)154が形成されており、無機バンク154は、画素電極118の周縁部に一部乗り上げるように配置されている。無機バンク154上には、有機材料からなる有機バンク(第2の隔壁層)156が積層され、この有機EL装置における隔壁部材を成している。   An inorganic bank (first partition wall layer) 154 made of an inorganic insulating material is formed on the second interlayer insulating film 168, and the inorganic bank 154 is arranged so as to partially ride on the peripheral edge of the pixel electrode 118. Has been. On the inorganic bank 154, an organic bank (second partition layer) 156 made of an organic material is laminated to form a partition member in the organic EL device.

有機EL素子152は、画素電極118上に、正孔輸送層122Aと発光層122Bとを積層し、この発光層122Bと有機バンク156とを覆う共通電極120を形成することにより構成されている。すなわち、本実施例に係る有機EL素子152が、先の実施形態に係る発光素子14に対応するものであり、画素電極118、正孔輸送層122A、発光層122B、及び共通電極120は、それぞれ発光素子14の陽極40、正孔輸送層42、発光層44、及び陰極46に相当する構成要素である。
正孔輸送層122Aは、画素電極118の表面を覆って形成されており、その周縁部は、有機バンク156の下端側から画素電極118中央側に延出された無機バンク154の端縁部を覆っている。
The organic EL element 152 is configured by stacking a hole transport layer 122 </ b> A and a light emitting layer 122 </ b> B on the pixel electrode 118, and forming a common electrode 120 that covers the light emitting layer 122 </ b> B and the organic bank 156. That is, the organic EL element 152 according to this example corresponds to the light-emitting element 14 according to the previous embodiment, and the pixel electrode 118, the hole transport layer 122A, the light-emitting layer 122B, and the common electrode 120 are respectively The constituent elements correspond to the anode 40, the hole transport layer 42, the light emitting layer 44, and the cathode 46 of the light emitting element 14.
The hole transport layer 122 </ b> A is formed so as to cover the surface of the pixel electrode 118, and the peripheral edge thereof is the edge of the inorganic bank 154 extending from the lower end side of the organic bank 156 to the center side of the pixel electrode 118. Covering.

共通電極120上には、先の実施形態の層間絶縁層22に対応する層間絶縁層170が形成され、かかる層間絶縁層170を覆って吸着剤24が形成されている。   On the common electrode 120, an interlayer insulating layer 170 corresponding to the interlayer insulating layer 22 of the previous embodiment is formed, and an adsorbent 24 is formed so as to cover the interlayer insulating layer 170.

以上の構成を具備した有機EL表示装置100は、先の実施形態に係る有機EL装置10と同様に、吸着剤24と、第1及び第2の封止部材26,28と、を設けた構成とされている。これにより、第1の封止部材26と第2の封止部材28との二重封止構造によって有機EL素子152に対する良好な封止性能を実現で、狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した有機EL表示装置が提供できる。   Similar to the organic EL device 10 according to the previous embodiment, the organic EL display device 100 having the above configuration includes the adsorbent 24 and the first and second sealing members 26 and 28. It is said that. Thereby, a good sealing performance for the organic EL element 152 is realized by the double sealing structure of the first sealing member 26 and the second sealing member 28, and a high sealing performance can be obtained even in a narrow frame. An organic EL display device that is small and has a long life can be provided.

(光書き込みヘッド)
次に、他の実施例として、有機EL装置を用いた光書き込みヘッドについて図12及び図13を参照して説明する。
図12は、本実施例に係る光書き込みヘッド用途に好適な構成を具備した有機EL装置の平面構成図である。
(Optical writing head)
Next, as another embodiment, an optical writing head using an organic EL device will be described with reference to FIGS.
FIG. 12 is a plan configuration diagram of an organic EL device having a configuration suitable for the optical writing head application according to the present embodiment.

図12に示すように、有機EL装置172を構成する基板12上には、図示しない有機EL素子が配列形成された発光素子領域174が基板12の長さ方向に沿って長手に設けられており、発光素子領域174に沿って複数の駆動素子176が配列されている。詳細は省略しているが、発光素子領域174に設けられた各有機EL素子は、各駆動素子176から延びる接続配線178と電気的に接続され、駆動素子176から供給される電気信号により駆動されるようになっている。   As shown in FIG. 12, on the substrate 12 constituting the organic EL device 172, a light emitting element region 174 in which organic EL elements (not shown) are arrayed is provided in the longitudinal direction along the length direction of the substrate 12. A plurality of driving elements 176 are arranged along the light emitting element region 174. Although details are omitted, each organic EL element provided in the light emitting element region 174 is electrically connected to a connection wiring 178 extending from each driving element 176 and is driven by an electric signal supplied from the driving element 176. It has become so.

本実施例の有機EL装置172も、先の実施形態の有機EL装置10と同様の封止構造を具備したものとなっている。すなわち、発光素子領域174に設けられた有機EL素子の表面には図示しない保護層が形成され、発光素子領域174を覆って吸着剤24が形成されており、吸着剤24を取り囲む第1の封止部材26と、第1の封止部材26を取り囲む第2の封止部材28と、が形成されている。そして、吸着剤24、第1の封止部材26、及び第2の封止部材28を覆うようにして封止基板16が被着されている。   The organic EL device 172 of this example also has a sealing structure similar to that of the organic EL device 10 of the previous embodiment. That is, a protective layer (not shown) is formed on the surface of the organic EL element provided in the light emitting element region 174, and the adsorbent 24 is formed so as to cover the light emitting element region 174, and the first sealing surrounding the adsorbent 24. A stop member 26 and a second sealing member 28 surrounding the first sealing member 26 are formed. The sealing substrate 16 is attached so as to cover the adsorbent 24, the first sealing member 26, and the second sealing member 28.

上記構成を具備した有機EL装置172は、先の実施形態に係る有機EL装置10と同様に、吸着剤24と、第1及び第2の封止部材26,28と、を設けた構成とされている。これにより、第1の封止部材26と第2の封止部材28との二重封止構造によって発光素子領域174に対する良好な封止性能を実現で、狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した光書き込みヘッドが提供できる。   Similar to the organic EL device 10 according to the previous embodiment, the organic EL device 172 having the above configuration is configured to include the adsorbent 24 and the first and second sealing members 26 and 28. ing. Thereby, the double sealing structure of the first sealing member 26 and the second sealing member 28 realizes a good sealing performance for the light emitting element region 174, and a high sealing performance can be obtained even in a narrow frame. An optical writing head that is small and has a long life can be provided.

図13は、上述の有機EL装置172を、電子写真方式プリンタの光書き込みヘッド(プリンタヘッド)に適用した場合の一例を示す図である。図13において、有機EL装置172の光射出方向(図示上方)には光学系190が設けられており、光学系190の上方には感光ドラム(感光体)192が設けられている。有機EL装置172は、光学系190に対して光を射出し、光学系190に入射した光は光学系190により集光されて感光ドラム192に入射する。本例では、発光素子14に対する良好な封止性能を実現することが可能であり、電子写真方式プリンタ全体の信頼性を向上することができる。   FIG. 13 is a diagram illustrating an example in which the above-described organic EL device 172 is applied to an optical writing head (printer head) of an electrophotographic printer. In FIG. 13, an optical system 190 is provided in the light emission direction (upward in the drawing) of the organic EL device 172, and a photosensitive drum (photosensitive member) 192 is provided above the optical system 190. The organic EL device 172 emits light to the optical system 190, and the light incident on the optical system 190 is collected by the optical system 190 and enters the photosensitive drum 192. In this example, good sealing performance for the light emitting element 14 can be realized, and the reliability of the entire electrophotographic printer can be improved.

(電子機器)
次に、上記実施例の有機EL表示装置100を備えた電子機器の例について説明する。
図14は、本実施例に係る携帯電話の一例を示した斜視図である。図14に示す携帯電話200は、上記実施例の有機EL表示装置100を用いた表示部202と、表示部202を制御するための制御部204と、操作ボタン部206と、受話部208と、送話部210と、を備えて構成されている。図14に示す電子機器は、上記実施例の有機EL表示装置100を備えているので、第1の封止部材26と第2の封止部材28との二重封止構造によって有機EL素子に対する良好な封止性能が図られ、狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した電子機器が提供できる。尚、本実施例に係る発光装置が適用される電子機器は携帯電話に限定されない。例えば、各種の電子機器における表示デバイスとして各実施例に係る発光装置を利用してもよい。このような電子機器としては、パーソナルコンピュータ、携帯型情報端末(PDA:Personal Digital Assistants)、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、プリンタ、スキャナ、複写機、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。
(Electronics)
Next, an example of an electronic apparatus provided with the organic EL display device 100 of the above embodiment will be described.
FIG. 14 is a perspective view showing an example of a mobile phone according to the present embodiment. A mobile phone 200 shown in FIG. 14 includes a display unit 202 using the organic EL display device 100 of the above embodiment, a control unit 204 for controlling the display unit 202, an operation button unit 206, a receiver unit 208, And a transmitter section 210. Since the electronic device shown in FIG. 14 includes the organic EL display device 100 of the above-described embodiment, the double sealing structure of the first sealing member 26 and the second sealing member 28 prevents the organic EL element. Good sealing performance is achieved, high sealing performance can be obtained even with a narrow frame, and a small and long-life electronic device can be provided. The electronic device to which the light emitting device according to this embodiment is applied is not limited to a mobile phone. For example, you may utilize the light-emitting device which concerns on each Example as a display device in various electronic devices. Such electronic devices include personal computers, personal digital assistants (PDAs), digital still cameras, televisions, video cameras, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, electronic paper, calculators, word processors, workstations. Video phones, POS terminals, printers, scanners, copiers, video players, devices equipped with touch panels, and the like.

第1の実施形態に係る有機EL装置の平面構成図及び断面構成図。The plane block diagram and cross-sectional block diagram of the organic electroluminescent apparatus which concern on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の一部拡大した断面構成図。1 is a partially enlarged cross-sectional configuration diagram of an organic EL device according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の製造工程を説明するための断面工程図。Sectional process drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の製造工程を説明するための平面工程図及び断面工程図。The plane process drawing and sectional process drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の製造工程を説明するための平面工程図及び断面工程図。The plane process drawing and sectional process drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の製造工程を説明するための平面工程図及び断面工程図。The plane process drawing and sectional process drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る有機EL装置の一部拡大した断面構成図。FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional configuration diagram of an organic EL device according to a second embodiment. 本実施例に係る有機EL表示装置の回路構成図。The circuit block diagram of the organic electroluminescence display which concerns on a present Example. 本実施例に係る有機EL表示装置の平面構成図。1 is a plan configuration diagram of an organic EL display device according to an embodiment. FIG. 本実施例に係る有機EL表示装置の1画素領域を示す平面構成図。1 is a plan configuration diagram showing one pixel region of an organic EL display device according to an embodiment. 本実施例に係る有機EL表示装置の1画素領域の断面構成図。1 is a cross-sectional configuration diagram of one pixel region of an organic EL display device according to an embodiment. 本実施例に係る光書き込みヘッド用有機EL装置の平面構成図。1 is a plan configuration diagram of an organic EL device for an optical writing head according to an embodiment. FIG. 本実施例に係る光書き込みヘッドの概略構成図。1 is a schematic configuration diagram of an optical writing head according to an embodiment. 本実施例に係る電子機器の一例を示す斜視構成図。FIG. 11 is a perspective configuration diagram illustrating an example of an electronic apparatus according to the embodiment. 従来の有機EL装置の一部拡大した断面構成図。The cross-sectional block diagram which expanded the conventional organic electroluminescent apparatus partially.

符号の説明Explanation of symbols

10…有機EL装置(発光装置) 12…基板 14…発光素子(積層体) 16…封止基板 18…スイッチング素子(薄膜トランジスタ) 20…配線 22…層間絶縁層 24…吸着剤 26…第1の封止部材 28…第2の封止部材 30…表示領域 32…額縁領域 34…多層配線領域 36…スイッチング素子領域 38…シール領域 40…陽極 42…正孔輸送層 44…発光層 46…陰極 48…間隙 50…粒状物 52…フィラー 54…有機EL装置(発光装置) 56…第1の粒状物 58…第2の粒状物 100…有機EL表示装置 102…画素 104…走査線 106…信号線 108…共通給電線(電源線) 110…データ側駆動回路 112…走査側駆動回路 116…駆動用TFT 118…画素電極 120…共通電極 122…発光部(有機機能層) 122A…正孔輸送層 122B…発光層 138…半導体層 140…中継電極 142…半導体層 144A…ソース領域 144B…ドレイン領域 144C…チャネル領域 144G…ゲート電極 146…ソース電極 148…ドレイン電極 150…電極 152…有機EL素子 154…無機バンク(第1の隔壁層) 156…有機バンク(第2の隔壁層) 158…開口部 160…ゲート絶縁膜 162…第1の層間絶縁膜 164,166…コンタクトホール 168…第2の層間絶縁膜 170…層間絶縁層 172…有機EL装置 174…発光素子領域 176…駆動素子 178…接続配線 190…光学系 192…感光ドラム(感光体) 200…携帯電話 202…表示部 204…制御部 206…操作ボタン部 208…受話部 210…送話部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Organic EL apparatus (light-emitting device) 12 ... Board | substrate 14 ... Light emitting element (laminated body) 16 ... Sealing board | substrate 18 ... Switching element (thin film transistor) 20 ... Wiring 22 ... Interlayer insulating layer 24 ... Adsorbent 26 ... First sealing Stop member 28 ... second sealing member 30 ... display region 32 ... frame region 34 ... multilayer wiring region 36 ... switching element region 38 ... seal region 40 ... anode 42 ... hole transport layer 44 ... light emitting layer 46 ... cathode 48 ... Gap 50 ... Particulate matter 52 ... Filler 54 ... Organic EL device (light emitting device) 56 ... First particulate matter 58 ... Second particulate matter 100 ... Organic EL display device 102 ... Pixel 104 ... Scanning line 106 ... Signal line 108 ... Common power supply line (power supply line) 110... Data side driving circuit 112... Scanning side driving circuit 116... Driving TFT 118. Electrode 122: Light emitting portion (organic functional layer) 122A ... Hole transport layer 122B ... Light emitting layer 138 ... Semiconductor layer 140 ... Relay electrode 142 ... Semiconductor layer 144A ... Source region 144B ... Drain region 144C ... Channel region 144G ... Gate electrode 146 ... Source electrode 148 ... Drain electrode 150 ... Electrode 152 ... Organic EL element 154 ... Inorganic bank (first partition layer) 156 ... Organic bank (second partition layer) 158 ... Opening 160 ... Gate insulating film 162 ... First Interlayer insulating films 164, 166 ... contact hole 168 ... second interlayer insulating film 170 ... interlayer insulating layer 172 ... organic EL device 174 ... light emitting element region 176 ... drive element 178 ... connection wiring 190 ... optical system 192 ... photosensitive drum (photosensitive) Body) 200 ... mobile phone 202 ... display unit 204 ... control Part 206 ... operation button section 208 ... the reception section 210 ... transmitter section.

Claims (2)

少なくとも発光層を含む発光素子と、
前記発光素子を駆動するためのスイッチング素子と、
少なくとも前記発光素子と前記スイッチング素子とを接続する積層された配線と、
前記発光素子と前記スイッチング素子と前記積層された配線とを配設する基板と、
前記基板上に複数の封止部材を介し配設され、前記発光素子を覆う封止基板と、
を含み、
前記複数の封止部材は、第1及び第2の封止部材を含み、
前記第1の封止部材は、前記発光素子の外周を取り囲み、前記発光素子、前記スイッチング素子、及び前記積層された配線が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設され、
前記第2の封止部材は、前記第1の封止部材の外周を取り囲んでおり、
前記第1の封止部材は、第1の粒状物を含み、
前記第2の封止部材は、第2の粒状物を含み、
前記第1の粒状物の体積は、前記第2の粒状物の体積より小さいことを特徴とする発光装置。
A light emitting device including at least a light emitting layer;
A switching element for driving the light emitting element;
Laminated wiring connecting at least the light emitting element and the switching element;
A substrate on which the light emitting element, the switching element and the laminated wiring are disposed;
A sealing substrate disposed on the substrate via a plurality of sealing members and covering the light emitting element;
Including
The plurality of sealing members include first and second sealing members,
The first sealing member surrounds an outer periphery of the light emitting element, and is over an arrangement surface of at least a part of each arrangement surface on which the light emitting element, the switching element, and the stacked wiring are arranged. Arranged to wrap,
The second sealing member surrounds an outer periphery of the first sealing member ;
The first sealing member includes a first granular material,
The second sealing member includes a second granular material,
The volume of the first granular material is smaller than the volume of the second granular material .
請求項に記載の発光装置と、
前記発光装置を制御するための制御部と、
を含むことを特徴とする電子機器。
A light emitting device according to claim 1 ;
A control unit for controlling the light emitting device;
An electronic device comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000306664A (en) * 1999-04-21 2000-11-02 Stanley Electric Co Ltd Organic el display device
JP2004103337A (en) * 2002-09-06 2004-04-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device and its manufacturing method
JP2004227792A (en) * 2003-01-20 2004-08-12 Renesas Technology Corp Organic electroluminescent display device
JP2006156150A (en) * 2004-11-30 2006-06-15 Nippon Seiki Co Ltd Organic el panel
JP2007073459A (en) * 2005-09-09 2007-03-22 Seiko Epson Corp Organic electroluminescence device, its manufacturing method and electronic equipment

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