JP4923882B2 - Photoresist supply apparatus and photoresist supply method - Google Patents
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Description
本発明は、フォトレジスト供給装置に関するものであり、詳しくは、半導体や液晶デバイスの製造に使用されるフォトレジスト塗布装置に対し、所定濃度のフォトレジストをオンサイトで調製して供給するフォトレジスト供給装置およびフォトレジスト供給方法に関するものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist supply apparatus, and more specifically, a photoresist supply that prepares and supplies a predetermined concentration of photoresist on-site to a photoresist coating apparatus used for manufacturing semiconductors and liquid crystal devices. The present invention relates to an apparatus and a photoresist supply method.
フォトリソグラフィにより半導体や液晶基板を製造する場合、先ずフォトレジスト塗布装置によりガラス基板などにフォトレジストを塗布するが、フォトレジスト塗布装置へ供給されるフォトレジストとしては、可搬式容器で搬入された所定濃度の調製済みフォトレジストが使用されている。斯かるフォトレジストは、窒素で加圧することにより、可搬式容器内の内袋からフォトレジスト供給装置の貯槽に移し替えられた後、同様に窒素で加圧することにより、フォトレジスト塗布装置へ供給される。
ところで、上記のフォトレジスト塗布装置においては、昨今、デバイスの大型化、量産化に伴い、大量のフォトレジストを消費する傾向にあり、調製済みフォトレジストの使用がコスト低減の障害になっている。すなわち、調製済みのフォトレジストを使用した場合、それ自体高価であり、しかも、受入れ時の容器の交換頻度に応じて、その労力と手間が増大する。更に、受入れ後の容器の処理費用も増大する。 By the way, in the above-mentioned photoresist coating apparatus, there is a tendency to consume a large amount of photoresist with the recent increase in device size and mass production, and the use of the prepared photoresist has become an obstacle to cost reduction. That is, when a prepared photoresist is used, it is expensive per se, and the labor and labor increase depending on the exchange frequency of the container at the time of acceptance. Furthermore, the processing cost of the container after receiving increases.
そこで、フォトレジスト塗布装置の近傍に高濃度のフォトレジストを供給し、これをシンナーで希釈し、所定濃度のフォトレジストをオンサイトで調製することが考えられる。しかしながら、以下の様な理由により、フォトレジストのオンサイトでの調製が行われていないのが実情である。 Therefore, it is conceivable to supply a high concentration photoresist in the vicinity of the photoresist coating apparatus, dilute it with thinner, and prepare a photoresist with a predetermined concentration on-site. However, the fact is that the on-site preparation of the photoresist has not been performed for the following reasons.
すなわち、フォトレジストの濃度は、濃度計を使用して極めて高精度に調節しなければならない反面、濃度計（センサー）は、一旦高濃度のフォトレジストに接触すると、それがセンサー表面に付着するため、その後の濃度変化を正確に測定できなくなると言う問題がある。換言すれば、濃度測定を行いながら高濃度のフォトレジストを希釈しようとすると、濃度計がフォトレジストの濃度変化に追従できず、結局、必要とされる濃度のフォトレジストを正確に調製できない。 In other words, the concentration of the photoresist must be adjusted with extremely high accuracy using a densitometer. However, once the concentration meter (sensor) comes into contact with the high concentration photoresist, it adheres to the sensor surface. Then, there is a problem that it becomes impossible to accurately measure the subsequent concentration change. In other words, when attempting to dilute a high-concentration photoresist while performing concentration measurement, the densitometer cannot follow the change in the concentration of the photoresist, and eventually the photoresist having the required concentration cannot be accurately prepared.
本発明は、上記の様な実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、正確に濃度調節されたフォトレジストをオンサイトで調製でき、フォトレジスト塗布装置へのフォトレジストの供給コストを一層低減し得るフォトレジスト供給装置、ならびに、フォトレジスト塗布装置へより低コストでフォトレジストを供給できるフォトレジスト供給方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and its purpose is to be able to prepare an on-site photoresist whose concentration is accurately adjusted, and to further increase the cost of supplying the photoresist to the photoresist coating apparatus. An object of the present invention is to provide a photoresist supply apparatus that can reduce the amount of photoresist and a photoresist supply method that can supply photoresist to a photoresist coating apparatus at a lower cost.
上記の課題を解決するため、本発明においては、調製容器において所定濃度のフォトレジストを調製するに当たり、最初に希釈用のシンナーを調製容器に供給し、次いで、当該シンナー中のフォトレジスト濃度を漸次高める様に、高濃度のフォトレジストを調製容器に供給し、所定濃度のフォトレジストを調製する。その際、フォトレジスト塗布装置へ至るフォトレジスト供給ラインから分岐して調製容器に戻る循環流路を使用し、調製容器内のシンナー及びフォトレジストを循環混合しながら、循環流路において濃度計によりシンナー中のフォトレジスト濃度を測定し、原液供給ラインから調製容器への高濃度のフォトレジストの供給量を濃度計に基づいて制御する様にした。これにより、高濃度のフォトレジストが濃度計に直接接触するのを防止し、逐次変化するフォトレジストの濃度を正確に検出する様にした。 In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, in preparing a photoresist having a predetermined concentration in a preparation container, a thinner for dilution is first supplied to the preparation container, and then the photoresist concentration in the thinner is gradually increased. In order to increase the concentration, a high concentration photoresist is supplied to the preparation container to prepare a predetermined concentration photoresist. At that time, a circulation flow path branched from the photoresist supply line to the photoresist coating apparatus and returned to the preparation container is used, and the thinner and the photoresist in the preparation container are circulated and mixed, and a thinner is measured by a concentration meter in the circulation flow path. The concentration of the photoresist was measured, and the amount of high-concentration photoresist supplied from the stock solution supply line to the preparation container was controlled based on the densitometer. As a result, the high concentration photoresist is prevented from coming into direct contact with the densitometer, and the successively changing concentration of the photoresist is accurately detected.
すなわち、本発明は２つの要旨から成り、その第１の要旨は、高濃度のフォトレジストを所定濃度に希釈してフォトレジスト塗布装置へ供給するフォトレジスト供給装置であって、所定濃度のフォトレジストを調製する調製容器と、当該調製容器へ高濃度のフォトレジストを供給する原液供給ラインと、前記調製容器へ希釈用のシンナーを供給するシンナー供給流路と、前記調製容器からフォトレジスト塗布装置へ所定濃度のフォトレジストを供給するフォトレジスト供給ラインと、当該フォトレジスト供給ラインから前記調製容器にフォトレジストを戻す混合用の循環流路と、当該循環流路に付設され且つフォトレジスト濃度を測定する濃度計とを備え、かつ、前記シンナー供給流路は、前記循環流路に接続され、前記濃度計は、前記循環流路において前記シンナー供給流路の接続部よりも下流側に配置されており、予めシンナーが供給された前記調製容器への高濃度のフォトレジストの供給量を前記濃度計に基づいて制御可能に構成されていることを特徴とするフォトレジスト供給装置に存する。 That is, the present invention comprises two gist, the first gist of which is a photoresist supply device for diluting a high concentration photoresist to a predetermined concentration and supplying the photoresist to a photoresist coating apparatus, which has a predetermined concentration photoresist. A preparation container for preparing a liquid, a stock solution supply line for supplying a high-concentration photoresist to the preparation container, a thinner supply channel for supplying thinner for dilution to the preparation container, and the preparation container to the photoresist coating apparatus A photoresist supply line for supplying a predetermined concentration of photoresist, a circulation path for mixing for returning the photoresist from the photoresist supply line to the preparation container, and a photoresist density attached to the circulation path and measuring the photoresist concentration and a densitometer, and the thinner supply passage is connected to the circulation flow path, said densitometer, the circulation Than the connection portion of the thinner supply passage in the road is located on the downstream side, controllably configured based on the supply amount of the high concentration of the photoresist to advance thinner supplied the preparation vessel to said densitometer It exists in the photoresist supply apparatus characterized by the above-mentioned.
また、本発明の第２の要旨は、上記のフォトレジスト供給装置を使用してフォトレジスト塗布装置へフォトレジストを供給する方法であって、調製容器において所定濃度のフォトレジストを調製するに当たり、シンナー供給流路から前記調製容器へシンナーを供給した後、フォトレジスト供給ライン及び循環流路を使用して前記調製容器のシンナーを循環させ且つ濃度計でシンナー中のフォトレジスト濃度を測定しながら、原液供給ラインから前記調製容器への高濃度のフォトレジストの供給量を制御することを特徴とするフォトレジスト供給方法に存する。 The second gist of the present invention is a method of supplying a photoresist to a photoresist coating apparatus using the above-described photoresist supply apparatus, and in preparing a predetermined concentration of photoresist in a preparation container, a thinner is provided. After supplying the thinner from the supply channel to the preparation container, the thinner of the preparation container is circulated using the photoresist supply line and the circulation channel, and the concentration of the photoresist in the thinner is measured with a densitometer. The present invention resides in a photoresist supply method characterized by controlling a supply amount of a high concentration photoresist from a supply line to the preparation container.
本発明によれば、シンナー供給流路から調製容器へ希釈用のシンナーを供給し、フォトレジスト供給ラインと混合用の循環流路とを使用して調製容器のシンナーを循環させ、循環流路に付設された濃度計によりシンナー中のフォトレジスト濃度を測定しながら、原液供給ラインから調製容器への高濃度のフォトレジストの供給量を濃度計に基づいて制御することにより、高濃度のフォトレジストが濃度計に直接接触するのを防止でき、逐次変化するフォトレジストの濃度を正確に測定できるため、高精度に濃度調節されたフォトレジストを調製容器において調製でき、これをフォトレジスト塗布装置へ供給することが出来る。その結果、可搬式容器による受入れ量を減らすことが出来、フォトレジストの供給コストを一層低減することが出来る。 According to the present invention, the thinner for dilution is supplied from the thinner supply channel to the preparation vessel, and the thinner in the preparation vessel is circulated using the photoresist supply line and the circulation channel for mixing. By controlling the amount of high-concentration photoresist supplied from the stock solution supply line to the preparation container based on the densitometer while measuring the photoresist concentration in the thinner using the attached densitometer, Since it is possible to prevent direct contact with the densitometer and to accurately measure the concentration of the photoresist that changes successively, it is possible to prepare a photoresist whose concentration is adjusted with high accuracy in a preparation container, and supply this to a photoresist coating apparatus. I can do it. As a result, the amount received by the portable container can be reduced, and the supply cost of the photoresist can be further reduced.
本発明に係るフォトレジスト供給装置の一実施形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明に係るフォトレジスト供給装置の主要部の構成例を示す系統図である。図２は、本発明に係るフォトレジスト供給装置の使用例を示すフロー図であり、フォトレジスト塗布装置に対するフォトレジスト及びシンナーの供給システムの例を示す図である。なお、以下の説明においては、フォトレジスト供給装置を「供給装置」と略記する。 An embodiment of a photoresist supply apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a system diagram showing a configuration example of a main part of a photoresist supply apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a flowchart showing an example of use of the photoresist supply apparatus according to the present invention, and is a diagram showing an example of a photoresist and thinner supply system for the photoresist coating apparatus. In the following description, the photoresist supply device is abbreviated as “supply device”.
本発明の供給装置は、図１に符号（１Ａ）で示す様に、使用濃度よりも高濃度のフォトレジストを所定の使用濃度に希釈し、これをフォトレジスト塗布装置（９）（図２参照）へバッチ方式で供給する装置である。本発明の供給装置（１Ａ）は、所定濃度のフォトレジストを調製する調製容器（３）と、複数（例えば２基）の可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）から調製容器（３）へ高濃度のフォトレジストを供給する原液供給ライン（２）と、調製容器（３）へ希釈用のシンナーを供給するシンナー供給流路（６）と、調製容器（３）からフォトレジスト塗布装置（９）（図２参照）へ所定濃度のフォトレジストを供給するフォトレジスト供給ライン（４）と、当該フォトレジスト供給ラインから調製容器（３）にフォトレジストを戻す混合用の循環流路（５）と、循環流路（５）に付設され且つフォトレジストの濃度を測定する濃度計（７）とを備えている。 The supply apparatus of the present invention dilutes a photoresist having a concentration higher than the use concentration to a predetermined use concentration as indicated by reference numeral (1A) in FIG. 1, and this is diluted with a photoresist coating apparatus (9) (see FIG. 2). ) In a batch system. The supply device (1A) of the present invention includes a preparation container (3) for preparing a photoresist having a predetermined concentration, and a plurality (for example, two) of portable containers (1a) and (1b) to a preparation container (3). A stock solution supply line (2) for supplying a photoresist having a concentration, a thinner supply channel (6) for supplying thinner for dilution to the preparation container (3), and a photoresist coating device (9) from the preparation container (3) A photoresist supply line (4) for supplying a predetermined concentration of photoresist to (see FIG. 2), a mixing circulation channel (5) for returning the photoresist from the photoresist supply line to the preparation container (3), And a densitometer (7) attached to the circulation channel (5) and measuring the concentration of the photoresist.
フォトレジストとしては、基板の露光された部分が現像液によって可溶となる各種のポジ型フォトレジスト、および、露光されなかった部分が現像液で溶解する各種のネガ型フォトレジストが挙げられる。本発明において、調製容器（３）に受け入れる高濃度のフォトレジスト（原液）の樹脂濃度は、通常、３０〜４０％である。 Examples of the photoresist include various positive photoresists in which the exposed portion of the substrate is soluble by the developer, and various negative photoresists in which the unexposed portion is dissolved by the developer. In the present invention, the resin concentration of the high-concentration photoresist (stock solution) received in the preparation container (3) is usually 30 to 40%.
可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）は、上記の高濃度のフォトレジストを搬送するための流通容器であり、その構造自体は周知である。可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）には、フォトレジストの変質を防止するため、フォトレジストと共に窒素などの不活性ガスが封入されている。可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）としては、フォトレジストを取り出すのに必要な圧力を窒素などの不活性ガスにより加えることの出来る容器、具体的には常用圧力１０ＫＰａ程度の樹脂製密閉容器が使用される。通常、可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）の内容積は、２０〜２００リットル程度である。 The portable containers (1a) and (1b) are distribution containers for transporting the above-described high-concentration photoresist, and the structure itself is well known. In the portable containers (1a) and (1b), an inert gas such as nitrogen is enclosed together with the photoresist in order to prevent alteration of the photoresist. As the portable containers (1a) and (1b), a container to which a pressure necessary for taking out the photoresist can be applied by an inert gas such as nitrogen, specifically, a resin sealed container having a normal pressure of about 10 KPa is used. used. Usually, the internal volume of the portable containers (1a) and (1b) is about 20 to 200 liters.
可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）の上端部には、加圧用の窒素を容器内に供給するためのガス供給口と、容器底部近傍まで伸びるサイホン管を備えたフォトレジスト取出口とが設けられている。すなわち、可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）は、各々、後述する原液供給ライン（２）の取出流路（２１ａ）、取出流路（２１ｂ）の各基端にフレキシブルホースを介してフォトレジスト取出口が接続され、取出流路（２１ａ）及び取出流路（２１ｂ）に各対応する窒素供給流路（２０ａ）、（２０ｂ）にフレキシブルホースを介してガス導入口が接続される様に構成されている。 At the upper end of the portable containers (1a) and (1b), there are provided a gas supply port for supplying pressurized nitrogen into the container and a photoresist outlet having a siphon tube extending to the vicinity of the bottom of the container. It has been. That is, each of the portable containers (1a) and (1b) is a photoresist via a flexible hose at each base end of an extraction flow path (21a) and an extraction flow path (21b) of a stock solution supply line (2) described later. The outlet is connected, and the gas inlet is connected to the nitrogen supply passages (20a) and (20b) corresponding to the extraction passage (21a) and the extraction passage (21b) via a flexible hose. Has been.
なお、図示しないが、後述する原液供給ライン（２）の近傍には、上記の可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）からフォトレジストを受け入れる際、可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）に上記の窒素を供給するため、また、後述する調製容器（３）からフォトレジストをフォトレジスト塗布装置（９）側へ供給する際、調製容器（３）に保圧用の窒素を供給するため、窒素容器の集合装置または貯槽、減圧調整器、バッファタンク等から成る窒素供給装置が設けられている。斯かる窒素供給装置は、窒素供給流路（２０ａ）、（２０ｂ）を通じて可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）に押出用の窒素を供給し、また、窒素供給排出流路（３０）を通じて調製容器（３）に圧力保持用の窒素を供給する様になされている。 Although not shown, in the vicinity of the stock solution supply line (2) to be described later, when receiving the photoresist from the portable containers (1a) and (1b), the portable containers (1a) and (1b) In order to supply nitrogen, and when supplying photoresist from the preparation container (3) described later to the photoresist coating apparatus (9) side, nitrogen container is used to supply holding pressure nitrogen to the preparation container (3). And a nitrogen supply device comprising a storage tank, a storage tank, a decompression regulator, a buffer tank, and the like. Such a nitrogen supply device supplies nitrogen for extrusion to the portable containers (1a) and (1b) through the nitrogen supply channels (20a) and (20b), and is prepared through the nitrogen supply / discharge channel (30). Nitrogen for maintaining pressure is supplied to the container (3).
本発明の供給装置（１Ａ）は、上記の可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）での搬入に応じて逐次フォトレジストを受け入れるため、前述の様に、基端に可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）が接続され且つ当該可搬式容器から調製容器（３）へ至る原液供給ライン（２）を備えている。 Since the supply device (1A) of the present invention sequentially receives the photoresist according to the carry-in in the portable containers (1a) and (1b), as described above, the portable container (1a), (1b) is connected, and a stock solution supply line (2) from the portable container to the preparation container (3) is provided.
原液供給ライン（２）は、可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）を切り替えてフォトレジストを連続して調製容器（３）へ供給するため、通常、それぞれ取出弁（２２ａ）、（２２ｂ）が介装された上記の様な少なくとも２つの系統の取出流路（２１ａ）、（２１ｂ）を有し、これらの取出流路の下流側には、取出流路（２１ａ）、（２１ｂ）を集約する共通の取出流路（２３）が設けられる。また、取出流路（２３）の下流側には、保守管理を円滑に行うため、２つの系統でポンプ（２ａ）、（２ｂ）が配置されている。 Since the undiluted solution supply line (2) switches the portable containers (1a) and (1b) and continuously supplies the photoresist to the preparation container (3), the take-out valves (22a) and (22b) are usually provided respectively. There are at least two systems of extraction channels (21a) and (21b) interposed as described above, and the extraction channels (21a) and (21b) are aggregated downstream of these extraction channels. Common extraction flow path (23) is provided. Further, in order to perform maintenance management smoothly, pumps (2a) and (2b) are arranged in two systems on the downstream side of the take-out flow path (23).
すなわち、取出流路（２３）の下流側には、当該取出流路から分岐する分岐流路（２４ａ）、（２４ｂ）と、これら分岐流路にそれぞれ配置されたポンプ（２ａ）、（２ｂ）と、これらポンプの吸入側および吐出側にそれぞれ介装されたポンプ元弁（２５ａ）、（２５ｂ）、ポンプ吐出弁（２７ａ）、（２７ｂ）と、分岐流路（２４ａ）、（２４ｂ）のポンプ吐出側を集約し且つ調製容器（３）へ至る調製容器導入流路（２８）と、当該調製容器導入流路に介装された逆止弁（２９ａ）、容器導入弁（２９ｂ）とが設けられている。 That is, on the downstream side of the extraction flow path (23), the branch flow paths (24a) and (24b) branched from the extraction flow path, and the pumps (2a) and (2b) respectively disposed in these branch flow paths. And pump main valves (25a), (25b), pump discharge valves (27a), (27b), and branch flow paths (24a), (24b) respectively provided on the suction side and the discharge side of these pumps. A preparation container introduction flow path (28) that consolidates the pump discharge side and reaches the preparation container (3), and a check valve (29a) and a container introduction valve (29b) interposed in the preparation container introduction flow path Is provided.
上記の様に、２系統のポンプ（２ａ）、（２ｂ）を配置することにより、常に一方のポンプ（２ａ）（又は（２ｂ））を使用してフォトレジストを受け入れることが出来るため、装置を停止することなく、他方のポンプ（２ｂ）（又は（２ａ））に洗浄や整備を施すことが出来る。なお、ポンプ（２ａ）、（２ｂ）としては、例えば、日本ピラー工業（株）製の低脈圧ベローズポンプ「ＰＳ−１０ＭＡ」（商品名）等の送液ポンプが使用される。 Since the two pumps (2a) and (2b) are arranged as described above, the photoresist can be received using one of the pumps (2a) (or (2b)) at all times. The other pump (2b) (or (2a)) can be cleaned and serviced without stopping. As the pumps (2a) and (2b), for example, a liquid feed pump such as a low pulse pressure bellows pump “PS-10MA” (trade name) manufactured by Nippon Pillar Industries Co., Ltd. is used.
調製容器（３）は、供給されたフォトレジストの濃度調節を行い、所定濃度のフォトレジストを必要に応じてフォトレジスト塗布装置（９）へ、通常は当該フォトレジスト塗布装置に付設されたバッファタンク（図示省略）へ供給する供給容器であり、可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）と同等の加圧に耐え得る構造を備えている。調製容器（３）は、気泡の混入を出来る限り防止するため、その上端部から底部近傍に至るサイホン管を内部に備えており、斯かるサイホン管には、上記の調製容器導入流路（２８）の他端が接続されている。 The preparation container (3) adjusts the concentration of the supplied photoresist, and applies a predetermined concentration of photoresist to the photoresist coating device (9) as necessary, usually in a buffer tank attached to the photoresist coating device. It is a supply container supplied to (not shown) and has a structure capable of withstanding the same pressure as the portable containers (1a) and (1b). The preparation container (3) includes a siphon tube extending from the upper end portion to the vicinity of the bottom portion in order to prevent air bubbles from being mixed as much as possible. ) Is connected to the other end.
また、調製容器（３）の上端には、高濃度のフォトレジストを受け入れる際、および、調製されたフォトレジストをフォトレジスト塗布装置（９）側へ送り出す際に容器内の圧力を一定に保持するため、前述の窒素供給排出流路（３０）が接続されている。そして、高濃度のフォトレジストを受け入れる際は、前述の窒素供給装置に余剰の窒素を回収し、また、調製されたフォトレジストを送り出す際は、前述の窒素供給装置から加圧用の窒素が供給される様にになされている。なお、通常、調製容器（３）の内容積は５０〜２００リットル程度に設計される。 Further, the pressure inside the container is kept constant at the upper end of the preparation container (3) when a high-concentration photoresist is received and when the prepared photoresist is sent to the photoresist coating apparatus (9) side. Therefore, the aforementioned nitrogen supply / discharge channel (30) is connected. When accepting a high-concentration photoresist, excess nitrogen is recovered to the above-described nitrogen supply device, and when sending out the prepared photoresist, pressurization nitrogen is supplied from the above-described nitrogen supply device. It is made like Usually, the internal volume of the preparation container (3) is designed to be about 50 to 200 liters.
調製容器（３）の底部には、調製された所定濃度のフォトレジストをフォトレジスト塗布装置（９）側へ供給する上記のフォトレジスト供給ライン（４）が接続されている。フォトレジスト供給ライン（４）においては、原液供給ライン（２）と同様に、保守管理を円滑に行う観点から、２つの系統のポンプ（２ａ）、（２ｂ）が配置されている。 Connected to the bottom of the preparation container (3) is the above-described photoresist supply line (4) for supplying the prepared photoresist having a predetermined concentration to the photoresist coating apparatus (9) side. In the photoresist supply line (4), similarly to the stock solution supply line (2), two systems of pumps (2a) and (2b) are arranged from the viewpoint of smooth maintenance management.
すなわち、フォトレジスト供給ライン（４）は、調製容器（３）の底部に設けられた取出流路（４１）と、当該取出流路から分岐する分岐流路（４２ａ）、（４２ｂ）と、これら分岐流路にそれぞれ配置されたポンプ（４ａ）、（４ｂ）と、これらポンプの吸入側および吐出側にそれぞれ介装されたポンプ元弁（４３ａ）、（４３ｂ）、ポンプ吐出弁（４５ａ）、（４５ｂ）と、分岐流路（４２ａ）、（４２ｂ）のポンプ吐出側を集約する送出し流路（４６）と、当該送出し流路に介装されたフィルター（４７）と、送出し流路（４６）からフォトレジスト塗布装置（９）側へ伸長されたフォトレジスト供給流路（４８）と、当該フォトレジスト供給流路に介装された供給元弁（４９）とから構成されている。 That is, the photoresist supply line (4) includes an extraction channel (41) provided at the bottom of the preparation container (3), branch channels (42a) and (42b) branched from the extraction channel, and these Pumps (4a) and (4b) disposed in the branch flow paths, and pump original valves (43a) and (43b), pump discharge valves (45a) interposed on the suction side and discharge side of these pumps, (45b), a delivery flow path (46) that consolidates the pump discharge sides of the branch flow paths (42a) and (42b), a filter (47) interposed in the delivery flow path, and a delivery flow A photoresist supply channel (48) extended from the path (46) to the photoresist coating device (9) side, and a supply source valve (49) interposed in the photoresist supply channel. .
上記の様に、２系統のポンプ（４ａ）、（４ｂ）を配置することにより、常に一方のポンプ（４ａ）（又は（４ｂ））を使用してフォトレジストをフォトレジスト塗布装置（９）側へ供給することが出来るため、装置を停止することなく、他方のポンプ（４ｂ）（又は（４ａ））に洗浄や整備を施すことが出来る。なお、ポンプ（４ａ）、（４ｂ）としては、前述のポンプ（２ａ）、（２ｂ）と同様の送液ポンプが使用される。また、フィルター（４７）は、樹脂多孔質材料から成るフィルターであり、異物や凝集物、微細気泡を除去するために設けられている。 As described above, by arranging the two pumps (4a) and (4b), the photoresist is applied to the photoresist coating apparatus (9) side by always using one pump (4a) (or (4b)). Therefore, the other pump (4b) (or (4a)) can be cleaned and maintained without stopping the apparatus. In addition, as the pumps (4a) and (4b), liquid feed pumps similar to the above-described pumps (2a) and (2b) are used. The filter (47) is a filter made of a porous resin material, and is provided to remove foreign substances, aggregates, and fine bubbles.
本発明の供給装置（１Ａ）においては、上記のフォトレジスト供給ライン（４）から調製容器（３）にフォトレジストを戻す混合用の循環流路（５）と、当該循環流路に希釈用のシンナーを供給するシンナー供給流路（６）とが設けられており、後述する様に、調製容器（３）に最初に収容されるシンナーを循環流路（５）によって循環させながら、調製容器（３）中のフォトレジスト濃度を次第に高める様に構成されている。 In the supply device (1A) of the present invention, the mixing circulation channel (5) for returning the photoresist from the photoresist supply line (4) to the preparation container (3), and the circulation channel for dilution. A thinner supply channel (6) for supplying thinner is provided. As will be described later, while the thinner initially accommodated in the preparation vessel (3) is circulated through the circulation channel (5), the preparation vessel ( 3) It is configured so as to gradually increase the photoresist concentration.
循環流路（５）は、フォトレジスト供給ライン（４）の上記の送出し流路（４６）から分岐し、調製容器（３）の底部まで伸長されている。循環流路（５）の先端を調製容器（３）の底部に接続し、調製容器（３）の底部から取り出した調製中のフォトレジストを再び調製容器（３）の底部に戻すことにより、気泡の混入を防止することが出来る。また、調製容器（３）のフォトレジストの循環混合と、フォトレジスト塗布装置（９）へのフォトレジストの供給とを切り替えるため、循環流路（５）の基端部には、循環流路元弁（５１）が介装されている。 The circulation channel (5) branches off from the delivery channel (46) of the photoresist supply line (4) and extends to the bottom of the preparation container (3). By connecting the tip of the circulation channel (5) to the bottom of the preparation container (3) and returning the photoresist being prepared taken out from the bottom of the preparation container (3) to the bottom of the preparation container (3) again, Can be prevented. In addition, in order to switch between the circulation mixing of the photoresist in the preparation container (3) and the supply of the photoresist to the photoresist coating apparatus (9), the base end of the circulation channel (5) A valve (51) is interposed.
シンナー供給流路（６）は、シンナー供給弁（６１）を介して循環流路（５）の循環流路元弁（５１）よりも下流側に接続されている。シンナー供給流路（６）は、通常、フォトレジスト塗布装置（９）においてフォトレジスト塗布後に基板から不要なフォトレジストを除去するためのシンナー供給装置から伸長されている。特に図示しないが、斯かるシンナー供給装置は、シンナー容器からポンプによってシンナーを吸い上げてこれをフォトレジスト塗布装置（９）へ供給する装置である。上記のシンナー供給流路（６）としては、後述するシンナーリサイクル供給装置（８）（図２参照）から伸長された抜取流路（８６）、（８７）を利用することも出来る。 The thinner supply channel (6) is connected to the downstream side of the circulation channel original valve (51) of the circulation channel (5) via the thinner supply valve (61). The thinner supply channel (6) is usually extended from a thinner supply device for removing unnecessary photoresist from the substrate after the photoresist application in the photoresist coating device (9). Although not particularly illustrated, such a thinner supply device is a device that sucks the thinner from the thinner container by a pump and supplies it to the photoresist coating device (9). As said thinner supply flow path (6), the extraction flow paths (86) and (87) extended from the thinner recycling supply apparatus (8) (refer FIG. 2) mentioned later can also be utilized.
本発明においては、調製容器（３）のフォトレジストの濃度を正確に測定し、シンナーと高濃度のフォトレジストとの混合量を制御するため、フォトレジストの濃度を測定する濃度計（７）が循環流路（５）に付設されている。すなわち、本発明の供給装置（１Ａ）においては、循環流路（５）を循環するフォトレジストの濃度を測定する様になされている。そして、上記の濃度計（７）は、循環流路（５）においてシンナー供給流路（６）の接続部よりも下流側に配置されているのが好ましい。これにより、濃度計（７）のセンサー表面を希釈用シンナーに晒すことが出来るため、濃度計（７）の測定精度を維持することが出来る。 In the present invention, the concentration meter (7) for measuring the concentration of the photoresist is used to accurately measure the concentration of the photoresist in the preparation container (3) and to control the amount of the mixture of the thinner and the high concentration photoresist. It is attached to the circulation channel (5). That is, in the supply device (1A) of the present invention, the concentration of the photoresist circulating in the circulation channel (5) is measured. And it is preferable that said densitometer (7) is arrange | positioned downstream from the connection part of the thinner supply flow path (6) in a circulation flow path (5). Thereby, since the sensor surface of the densitometer (7) can be exposed to the thinner for dilution, the measurement accuracy of the densitometer (7) can be maintained.
濃度計（７）としては、フォトレジストの樹脂濃度を測定し得る限り、各種の測定器を使用できる。例えば、濃度計（７）としては、フォトレジストの温度およびフォトレジストおける超音波伝播速度を測定し、予め作成された所定温度および所定濃度における超音波伝播速度の関係に基づいて樹脂濃度を検出する超音波方式の濃度計が使用される。斯かる濃度計は、溶液の温度が一定ならば、濃度に応じて液中の超音波の伝播速度が一義的に特定されると言う原理に基づくものであり、主に、超音波変換器、超音波発信器、電磁導電率変換器、電磁導電率発信器および所定の演算を行うマイクロプロセッサーから構成されている。上記の様な濃度計としては、例えば、富士工業（株）製の商品名「ＦＵＤ−１ ＭＯＤＥＬ−８２」として知られる液体用超音波濃度計が挙げられる。 As the densitometer (7), various measuring instruments can be used as long as the resin concentration of the photoresist can be measured. For example, the densitometer (7) measures the temperature of the photoresist and the ultrasonic propagation velocity in the photoresist, and detects the resin concentration based on the relationship between the ultrasonic propagation velocity at a predetermined temperature and a predetermined concentration. An ultrasonic densitometer is used. Such a densitometer is based on the principle that if the temperature of the solution is constant, the propagation speed of the ultrasonic wave in the liquid is uniquely specified according to the concentration, mainly the ultrasonic transducer, It is composed of an ultrasonic transmitter, an electromagnetic conductivity converter, an electromagnetic conductivity transmitter, and a microprocessor for performing a predetermined calculation. Examples of the concentration meter as described above include an ultrasonic concentration meter for liquid known as a trade name “FUD-1 MODEL-82” manufactured by Fuji Kogyo Co., Ltd.
本発明の供給装置（１Ａ）においては、予め所定のプログラムが書き込まれた制御装置（図示省略）が使用され、斯かる制御装置による弁の開閉操作により、シンナー供給流路（６）からの希釈用シンナーの供給、可搬式容器（１ａ）、（１ｂ）からの高濃度のフォトレジストの供給、所定濃度のフォトレジストの調製、および、フォトレジスト塗布装置（９）へのフォトレジストの供給を自動的に行う様になされている。そして、上記のフォトレジストの調製においては、予めシンナーが供給された調製容器（３）への高濃度のフォトレジストの供給量を上記の濃度計（７）に基づいて制御可能に構成されている。 In the supply device (1A) of the present invention, a control device (not shown) in which a predetermined program is written in advance is used, and dilution from the thinner supply flow path (6) is performed by opening and closing the valve by the control device. Automatic supply of thinner, supply of high-concentration photoresist from portable containers (1a) and (1b), preparation of a predetermined concentration of photoresist, and supply of photoresist to photoresist coating apparatus (9) It is made to do it automatically. And in preparation of said photoresist, it is comprised so that control of the supply amount of the high concentration photoresist to the preparation container (3) supplied with the thinner beforehand based on said densitometer (7). .
次に、本発明の供給装置（１Ａ）におけるフォトレジストの調製およびフォトレジスト塗布装置（９）へのフォトレジストの供給方法について説明する。フォトレジスト塗布装置（９）にフォトレジストを供給するに当たり、先ず、フォトレジスト塗布装置（９）で必要とされる所定濃度（目標濃度）のフォトレジストを調製する。フォトレジストの調製においては、最初に、シンナー供給弁（６１）を開放し、シンナー供給流路（６）、循環流路（５）を通じて調製容器（３）へ一定量のシンナーを供給する。シンナーの供給量は、調製容器（３）において受け入れる高濃度のフォトレジストを目標濃度に希釈するのに必要な予め計算された量とされる。 Next, the preparation of the photoresist in the supply apparatus (1A) of the present invention and the method of supplying the photoresist to the photoresist coating apparatus (9) will be described. In supplying the photoresist to the photoresist coating apparatus (9), first, a photoresist having a predetermined concentration (target concentration) required by the photoresist coating apparatus (9) is prepared. In the preparation of the photoresist, first, the thinner supply valve (61) is opened, and a certain amount of thinner is supplied to the preparation container (3) through the thinner supply channel (6) and the circulation channel (5). The supply amount of the thinner is a pre-calculated amount necessary for diluting the high concentration photoresist received in the preparation container (3) to the target concentration.
一定量のシンナーを調製容器（３）に供給した後は、フォトレジスト供給ライン（４）及び循環流路（５）を使用して調製容器（３）のシンナーを循環させる。すなわち、シンナー供給弁（６１）を閉止し、例えば、ポンプ元弁（４３ａ）、ポンプ吐出弁（４５ａ）を開放し且つ循環流路元弁（５１）を開放し、かつ、ポンプ元弁（４３ｂ）、ポンプ吐出弁（４５ｂ）を閉止した状態において、一方のポンプ（４ａ）を稼働させる。これにより、取出流路（４１）、分岐流路（４２ａ）、送出し流路（４６）及び循環流路（５）を通じて、調製容器（３）のシンナーを循環させる。同時に、濃度計（７）を作動させ、濃度測定を開始する。なお、フォトレジスト供給流路（４８）の供給元弁（４９）は閉止しておく。 After supplying a certain amount of thinner to the preparation container (3), the thinner in the preparation container (3) is circulated using the photoresist supply line (4) and the circulation channel (5). That is, the thinner supply valve (61) is closed, for example, the pump main valve (43a), the pump discharge valve (45a) is opened, the circulation flow path main valve (51) is opened, and the pump main valve (43b ), One pump (4a) is operated in a state where the pump discharge valve (45b) is closed. Thereby, the thinner of the preparation container (3) is circulated through the extraction channel (41), the branch channel (42a), the delivery channel (46), and the circulation channel (5). At the same time, the densitometer (7) is activated to start the concentration measurement. The supply source valve (49) of the photoresist supply channel (48) is closed.
次いで、原液供給ライン（２）から調製容器（３）へ高濃度のフォトレジスト（原液）を供給する。高濃度のフォトレジストの供給においては、例えば、取出弁（２２ａ）、ポンプ元弁（２５ａ）、ポンプ吐出弁（２７ａ）及び容器導入弁（２９ｂ）を開放し、かつ、取出弁（２２ｂ）、ポンプ元弁（２５ｂ）及びポンプ吐出弁（２７ｂ）を閉止した状態において、窒素供給装置から窒素供給流路（２０ａ）を通じて可搬式容器（１ａ）に窒素を供給しながら、一方のポンプ（２ａ）を稼働させる。これにより、取出流路（２１ａ）、取出流路（２３）、分岐流路（２４ａ）及び調製容器導入流路（２８）を通じて、可搬式容器（１ａ）から調製容器（３）に高濃度のフォトレジストを供給する。 Next, a high concentration photoresist (stock solution) is supplied from the stock solution supply line (2) to the preparation container (3). In the supply of the high-concentration photoresist, for example, the extraction valve (22a), the pump main valve (25a), the pump discharge valve (27a) and the container introduction valve (29b) are opened, and the extraction valve (22b), One pump (2a) while supplying nitrogen to the portable container (1a) from the nitrogen supply device through the nitrogen supply flow path (20a) in a state where the pump main valve (25b) and the pump discharge valve (27b) are closed. To operate. Accordingly, a high concentration is transferred from the portable container (1a) to the preparation container (3) through the extraction flow path (21a), the extraction flow path (23), the branch flow path (24a), and the preparation container introduction flow path (28). Supply photoresist.
なお、可搬式容器（１ａ）と可搬式容器（１ｂ）を切り替えて、可搬式容器（１ｂ）からフォトレジストを受入れる場合は、上記の取出弁（２２ａ）と取出弁（２２ｂ）の開閉操作を切り替え、窒素供給流路（２０ｂ）を通じて他方の可搬式容器（１ｂ）に窒素を供給する。 In addition, when switching a portable container (1a) and a portable container (1b) and receiving a photoresist from a portable container (1b), opening / closing operation | movement of said extraction valve (22a) and an extraction valve (22b) is carried out. The nitrogen is supplied to the other portable container (1b) through the nitrogen supply channel (20b).
上記の様に高濃度のフォトレジストを供給すると、調製容器（３）においては、先に収容されたシンナー中にフォトレジストが溶解し、シンナー中のフォトレジスト濃度が次第に上昇する。一方、前述の様に、原液供給ライン（２）及び循環流路を使用して調製容器のシンナーを循環させているため、循環流路（５）のフォトレジスト濃度を濃度計（７）で測定することにより、調製容器（３）内のシンナー中のフォトレジスト濃度、すなわち、調製容器（３）で調製されるフォトレジストの濃度を測定することが出来る。 When a high-concentration photoresist is supplied as described above, in the preparation container (3), the photoresist dissolves in the thinner previously contained, and the photoresist concentration in the thinner gradually increases. On the other hand, as described above, since the thinner of the preparation container is circulated using the stock solution supply line (2) and the circulation channel, the photoresist concentration in the circulation channel (5) is measured by the densitometer (7). By doing so, the concentration of the photoresist in the thinner in the preparation container (3), that is, the concentration of the photoresist prepared in the preparation container (3) can be measured.
そこで、本発明においては、循環流路（５）の濃度計（７）でシンナー中のフォトレジスト濃度を測定しながら、原液供給ライン（２）から調製容器（３）への高濃度のフォトレジストの供給量を制御する。すなわち、制御装置は、予め書き込まれたプログラムに従い、濃度計（７）で測定されたフォトレジスト濃度が目標濃度に到達した場合、ポンプ（２ａ）を停止し、取出弁（２２ａ）、容器導入弁（２９ｂ）を閉止する。 Therefore, in the present invention, while measuring the photoresist concentration in the thinner with the densitometer (7) in the circulation channel (5), the high-concentration photoresist from the stock solution supply line (2) to the preparation container (3). Control the amount of supply. That is, when the photoresist concentration measured by the densitometer (7) reaches the target concentration in accordance with a program written in advance, the control device stops the pump (2a), removes the extraction valve (22a), and the container introduction valve. (29b) is closed.
なお、本発明の供給装置（１Ａ）においては、正確に目標濃度のフォトレジストを調製するため、調製容器（３）内のフォトレジスト（循環流路（５）のフォトレジスト））の濃度が目標濃度を超えた場合には、再度、シンナー供給流路（６）のシンナー供給弁（６１）を開閉し、希釈用のシンナーを追加供給する様に構成されてもよい。 In the supply apparatus (1A) of the present invention, the concentration of the photoresist in the preparation container (3) (the photoresist in the circulation channel (5))) is the target in order to accurately prepare the photoresist with the target concentration. When the concentration is exceeded, the thinner supply valve (61) of the thinner supply flow path (6) may be opened and closed again to supply thinner for dilution.
濃度計（７）に基づいて調製容器（３）内のフォトレジストの濃度を目標濃度に調節する方法としては、濃度計（７）で連続的に濃度測定しながら、調製容器（３）のシンナー（又は低濃度のフォトレジスト）に高濃度のフォトレジストを添加して徐々に目標濃度に近づける方法、あるいは、濃度計（７）で間欠的に濃度測定しながら、調製容器（３）のシンナー（又は低濃度のフォトレジスト）を目標濃度にするための高濃度のフォトレジストの必要量を演算し、斯かる必要量の例えば９０〜９８％に相当する量を添加する操作を複数回繰り返すことにより、漸次目標濃度に近づける方法などが挙げられる。 As a method of adjusting the concentration of the photoresist in the preparation container (3) to the target concentration based on the densitometer (7), the thinner of the preparation container (3) is measured while continuously measuring the concentration with the densitometer (7). A method of adding a high-concentration photoresist to (or a low-concentration photoresist) and gradually approaching the target concentration, or measuring the concentration intermittently with a densitometer (7), Or by calculating the required amount of high-density photoresist for setting the target concentration to a target concentration and repeating the operation of adding an amount corresponding to, for example, 90 to 98% of the required amount a plurality of times. And a method of gradually approaching the target density.
上記の様な濃度調節により、調製容器（３）において所定濃度（目標濃度）、例えば濃度１０．０％に正確に濃度調節されたフォトレジストを調製できる。所定濃度のフォトレジストを調製した後は、これをフォトレジスト塗布装置（９）へ供給する。フォトレジスト塗布装置（９）へのフォトレジストの供給は、循環流路（５）の循環流路元弁（５１）を閉止し、供給元弁（４９）を開放してフォトレジスト供給流路（４８）を通じて行う。なお、調製されたフォトレジストは、通常、フォトレジスト塗布装置（９）に付設されたバッファタンク（図示省略）に一旦貯留され、斯かるバッファタンクから必要時にフォトレジスト塗布装置（９）へ供給される。 By adjusting the concentration as described above, a photoresist whose concentration is accurately adjusted to a predetermined concentration (target concentration), for example, a concentration of 10.0% in the preparation container (3) can be prepared. After preparing a photoresist with a predetermined concentration, it is supplied to a photoresist coating apparatus (9). Photoresist is supplied to the photoresist coating device (9) by closing the circulation flow source valve (51) of the circulation flow channel (5) and opening the supply valve (49) to open the photoresist supply flow channel (5). 48). The prepared photoresist is usually temporarily stored in a buffer tank (not shown) attached to the photoresist coating apparatus (9), and is supplied from the buffer tank to the photoresist coating apparatus (9) when necessary. The
上記の様に、本発明の供給装置（１Ａ）においては、調製容器（３）において所定濃度のフォトレジストを調製するに当たり、最初に希釈用のシンナーを調製容器（３）に供給し、次いで、当該シンナー中のフォトレジスト濃度を漸次高める様に、高濃度のフォトレジストを原液供給ライン（２）から調製容器（３）に供給し、所定濃度のフォトレジストを調製する。その際、フォトレジスト供給ライン（４）から分岐して調製容器（３）に戻る循環流路（５）を使用し、調製容器（３）内のシンナー及びフォトレジストを循環混合しながら、循環流路（５）において濃度計（７）によりフォトレジスト濃度を測定し、原液供給ライン（２）から調製容器（３）への高濃度のフォトレジストの供給量を濃度計（７）に基づいて制御する。 As described above, in the supply apparatus (1A) of the present invention, in preparing a predetermined concentration of photoresist in the preparation container (3), first, a thinner for dilution is supplied to the preparation container (3). A high concentration photoresist is supplied from the stock solution supply line (2) to the preparation container (3) so as to gradually increase the photoresist concentration in the thinner, thereby preparing a photoresist having a predetermined concentration. At that time, using the circulation flow path (5) branched from the photoresist supply line (4) and returning to the preparation container (3), the thinner and the photoresist in the preparation container (3) are circulated and mixed. In the path (5), the photoresist concentration is measured by the densitometer (7), and the supply amount of the high-density photoresist from the stock solution supply line (2) to the preparation container (3) is controlled based on the densitometer (7). To do.
従って、本発明の供給装置（１Ａ）においては、高濃度のフォトレジストが濃度計（７）に直接接触するのを防止でき、逐次変化するフォトレジストの濃度を常に正確に検出することが出来る。換言すれば、循環流路（５）の内部に露出する濃度計（７）のセンサー表面を高濃度のフォトレジスト（原液）に晒すことがなく、センサーの当初の感度を維持できる。その結果、本発明の供給装置（１Ａ）によれば、正確に濃度調節されたフォトレジストをオンサイトで調製することが出来、これにより、可搬式容器の交換頻度を低減でき、容器の処理費用も低減できるため、フォトレジスト塗布装置（９）へのフォトレジストの供給コストを一層低減することが出来る。 Therefore, in the supply apparatus (1A) of the present invention, it is possible to prevent the high-concentration photoresist from coming into direct contact with the densitometer (7), and it is possible to always detect the concentration of the successively changing photoresist accurately. In other words, the initial sensitivity of the sensor can be maintained without exposing the sensor surface of the densitometer (7) exposed inside the circulation channel (5) to a high-concentration photoresist (stock solution). As a result, according to the supply apparatus (1A) of the present invention, it is possible to prepare a photo-resist whose concentration is accurately adjusted on-site, thereby reducing the replacement frequency of the portable container, and the processing cost of the container. Therefore, the supply cost of the photoresist to the photoresist coating apparatus (9) can be further reduced.
また、上記の供給装置（１Ａ）を使用した本発明のフォトレジスト供給方法においては、調製容器（３）において所定濃度のフォトレジストを調製するに当たり、シンナー供給流路（６）から調製容器（３）へシンナーを供給した後、原液供給ライン（２）及び循環流路（５）を使用して調製容器（３）のシンナーを循環させ且つ濃度計（７）でシンナー中のフォトレジスト濃度を測定しながら、原液供給ライン（２）から調製容器（３）への高濃度のフォトレジストの供給量を制御する。従って、本発明のフォトレジスト供給方法によれば、前述の通り、正確に濃度調節されたフォトレジストをオンサイトで調製することが出来、フォトレジスト塗布装置（９）へのフォトレジストの供給コストを一層低減することが出来る。 In addition, in the photoresist supply method of the present invention using the above-described supply device (1A), when preparing a predetermined concentration of photoresist in the preparation container (3), the preparation container (3 After the thinner is supplied to), the thinner in the preparation container (3) is circulated using the stock solution supply line (2) and the circulation channel (5), and the concentration of the photoresist in the thinner is measured with the densitometer (7). Meanwhile, the amount of high-concentration photoresist supplied from the stock solution supply line (2) to the preparation container (3) is controlled. Therefore, according to the photoresist supply method of the present invention, as described above, it is possible to prepare an on-site photoresist whose concentration has been accurately adjusted, which reduces the cost of supplying the photoresist to the photoresist coating apparatus (9). Further reduction can be achieved.
更に、本発明によれば、バッチ毎に上記の様に濃度計（７）を使用して所定濃度のフォトレジストを調製容器（３）に調製するため、バッチ毎に濃度履歴を管理でき、フォトレジスト塗布装置（９）側のプロセスの変更や管理などに、フォトレジスト情報として利用することが出来る。 Furthermore, according to the present invention, since a predetermined concentration of photoresist is prepared in the preparation container (3) using the densitometer (7) as described above for each batch, the concentration history can be managed for each batch. It can be used as photoresist information for process change or management on the resist coating apparatus (9) side.
また、フォトレジスト塗布装置（９）では、基板の端部やコータ内部に付着した不要なフォトレジストを除去するために洗浄用のシンナーを使用するが、斯かるシンナーは、前述のシンナー供給装置の他、図２に示す様なシンナーリサイクル供給装置（８）によっても供給することが出来る。そこで、本発明においては、供給装置（１Ａ）にシンナーを供給するに当たり、図２に示す様なシンナーリサイクル供給装置（８）から得られるシンナーを利用してもよい。 Further, in the photoresist coating apparatus (9), a cleaning thinner is used to remove unnecessary photoresist adhering to the edge of the substrate or the coater. Such a thinner is the same as that of the above-described thinner supply apparatus. In addition, it can also be supplied by a thinner recycling supply device (8) as shown in FIG. Therefore, in the present invention, when the thinner is supplied to the supply device (1A), a thinner obtained from the thinner recycling supply device (8) as shown in FIG. 2 may be used.
図２に示すシンナーリサイクル供給装置（８）は、顔料や樹脂などの不純物が含まれる使用済みのシンナーをフォトレジスト塗布装置（９）から回収して精製し、これをフォトレジスト塗布装置（９）に再び供給する装置であり、シンナー供給機構（８Ａ）とシンナー精製機構（８Ｂ）とから主として構成されている。 The thinner recycling supply device (8) shown in FIG. 2 collects and refines used thinner containing impurities such as pigments and resins from the photoresist coating device (9), and purifies it. The apparatus is mainly composed of a thinner supply mechanism (8A) and a thinner purification mechanism (8B).
シンナー供給機構（８Ａ）は、フォトレジスト塗布装置（９）に供給すべきシンナーを貯留するシンナー供給貯槽およびポンプ等から成り、調製シンナー供給流路（８２）を通じてフォトレジスト塗布装置（９）へシンナーを供給する様に構成されている。上記のシンナー供給貯槽には、シンナー原液貯槽およびポンプにて構成された前述のシンナー供給装置からシンナー原液導入ライン（８１）を通じて新たなシンナー原液が送液され様になされている。 The thinner supply mechanism (8A) includes a thinner supply storage tank for storing thinner to be supplied to the photoresist coating apparatus (9) and a pump, and the thinner is supplied to the photoresist coating apparatus (9) through the prepared thinner supply flow path (82). It is comprised so that it may supply. In the above-described thinner supply storage tank, a new thinner stock solution is sent from the above-described thinner supply device constituted by a thinner stock solution storage tank and a pump through a thinner stock solution introduction line (81).
シンナー精製機構（８Ｂ）は、シンナー回収流路（８３）を通じてフォトレジスト塗布装置（９）から回収された使用済みシンナーを精製し、これを精製シンナー取出流路（８４）を通じて上記のシンナー供給貯槽に送液する機構である。斯かるシンナー精製機構（８Ｂ）は、回収液貯槽およびポンプと、回収されたシンナーから不純物を分離除去するセラミックス膜などの分離膜と、不純物が除去された精製シンナー中の不純物濃度を検出する濃度計とから構成されている。すなわち、シンナー精製機構（８Ｂ）においては、分離膜によって不純物を除去すると共に、分離回収された精製シンナー中の不純物濃度に応じて、回収液貯槽から上記のシンナー供給貯槽への精製シンナーの送液、および、シンナー供給装置から上記のシンナー供給貯槽へのシンナー原液の送液を制御可能になされている。 The thinner purifying mechanism (8B) purifies the used thinner recovered from the photoresist coating device (9) through the thinner recovery flow path (83), and supplies the thinner to the above-mentioned thinner supply reservoir through the purified thinner take-out flow path (84). It is a mechanism to send liquid to Such thinner refining mechanism (8B) has a recovery liquid storage tank and pump, a separation membrane such as a ceramic membrane for separating and removing impurities from the collected thinner, and a concentration for detecting the impurity concentration in the purified thinner from which impurities have been removed. It consists of a total. That is, in the thinner refining mechanism (8B), impurities are removed by the separation membrane, and the purified thinner is sent from the recovered liquid storage tank to the thinner supply storage tank according to the impurity concentration in the separated and recovered purified thinner. In addition, the supply of the thinner stock solution from the thinner supply device to the thinner supply storage tank can be controlled.
上記の様なシンナーリサイクル供給装置（８）は、シンナー精製機構（８Ｂ）において、回収された精製シンナーを一定温度に調節すると共に、超音波伝播速度、電磁導電率、吸光度などの物性値を測定する方式の濃度計で不純物濃度を測定し、シンナー供給機構（８Ａ）のシンナー供給貯槽においてシンナー中の不純物濃度が許容濃度以下となる様に、精製シンナーとシンナー原液を混合することにより、シンナーの再利用を図ることが出来る。なお、シンナー精製機構（８Ｂ）においては、分離膜で分離された不純物濃度の高いシンナーが廃液（濃縮液）流路（８５）を通じて系外に取り出される様に構成なされている。 The thinner recycle supply device (8) as described above adjusts the collected purified thinner to a constant temperature and measures physical properties such as ultrasonic wave propagation speed, electromagnetic conductivity, and absorbance in the thinner purification mechanism (8B). The concentration of the thinner is determined by mixing the purified thinner and the thinner stock solution so that the impurity concentration in the thinner is less than the allowable concentration in the thinner supply storage tank of the thinner supply mechanism (8A). Can be reused. The thinner refining mechanism (8B) is configured such that the thinner with a high impurity concentration separated by the separation membrane is taken out of the system through the waste liquid (concentrated liquid) flow path (85).
本発明においては、上記の様なシンナーリサイクル供給装置（８）のシンナー供給機構（８Ａ）において回収シンナーと新たなシンナー原液とから調製されたシンナーを使用することが出来る。すなわち、上記のシンナー供給機構（８Ａ）で得られたシンナーは、調製シンナー抜取流路（８６）を通じて循環流路（５）に供給してもよい。 In the present invention, the thinner prepared from the collected thinner and the new thinner stock solution can be used in the thinner supply mechanism (8A) of the thinner recycle supply device (8) as described above. That is, the thinner obtained by the thinner supply mechanism (8A) may be supplied to the circulation channel (5) through the prepared thinner extraction channel (86).
また、本発明の供給装置（１Ａ）において調製されるフォトレジストの濃度（樹脂濃度）は上記のシンナーリサイクル供給装置（８）で廃棄されるシンナー中の樹脂濃度よりも高濃度である。従って、本発明においては、上記のシンナーリサイクル供給装置（８）のシンナー精製機構（８Ｂ）において分離除去されたシンナー（濃縮液）を使用することも出来る。すなわち、シンナー精製機構（８Ｂ）で排出されたシンナー（濃縮液）は、上記の廃液流路（８５）から分岐する廃液（濃縮液）抜取流路（８７）を通じて循環流路（５）に供給してもよい。上記の様に、再生したシンナーを利用して所定濃度のフォトレジストを調製することにより、フォトレジストの調製コストを一層低減することが出来る。 The concentration of the photoresist (resin concentration) prepared in the supply apparatus (1A) of the present invention is higher than the resin concentration in the thinner discarded by the thinner recycling supply apparatus (8). Therefore, in the present invention, the thinner (concentrated liquid) separated and removed in the thinner refining mechanism (8B) of the thinner recycling supply device (8) can be used. That is, the thinner (concentrated liquid) discharged by the thinner purification mechanism (8B) is supplied to the circulation flow path (5) through the waste liquid (concentrated liquid) extraction flow path (87) branched from the waste liquid flow path (85). May be. As described above, the photoresist preparation cost can be further reduced by preparing a photoresist having a predetermined concentration using the regenerated thinner.
なお、図２に示す様に、本発明を既存のフォトリソグラフィシステムに適用する場合には、供給装置（１Ａ）のフォトレジスト供給流路（４８）に対し、既存の調製済フォトレジスト供給ライン（１Ｂ）、すなわち、予め所定濃度に調製されたフォトレジストを可搬式容器から取り出してこれをフォトレジスト塗布装置（９）へ供給する従来の供給ラインが繋ぎ込まれてもよい。上記の様に、フォトレジスト供給流路（４８）に従来の供給ラインを接続することにより、これをバックアップとして利用することが出来る。 As shown in FIG. 2, when the present invention is applied to an existing photolithography system, an existing prepared photoresist supply line (48) is connected to the photoresist supply channel (48) of the supply apparatus (1A). 1B), that is, a conventional supply line for taking out a photoresist prepared to a predetermined concentration from a portable container and supplying it to the photoresist coating apparatus (9) may be connected. As described above, by connecting a conventional supply line to the photoresist supply channel (48), this can be used as a backup.
１Ａ ：フォトレジスト供給装置
１Ｂ ：調製済フォトレジスト供給ライン
１ａ ：可搬式容器
１ｂ ：可搬式容器
２ ：原液供給ライン
２０ａ：窒素供給流路
２０ｂ：窒素供給流路
３ ：調製容器
３０ ：窒素供給排出流路
４ ：フォトレジスト供給ライン
５ ：循環流路
６ ：シンナー供給流路
７ ：濃度計
８ ：シンナーリサイクル供給装置
８Ａ ：シンナー供給機構
８Ｂ ：シンナー精製機構
８６ ：調製液抜取流路
８７ ：廃液（濃縮液）抜取流路
９ ：フォトレジスト塗布装置
1A: Photoresist supply device 1B: Prepared photoresist supply line 1a: Portable container 1b: Portable container 2: Stock solution supply line 20a: Nitrogen supply flow path 20b: Nitrogen supply flow path 3: Preparation container 30: Nitrogen supply discharge Flow path 4: Photoresist supply line 5: Circulation flow path 6: Thinner supply flow path 7: Densitometer 8: Thinner recycling supply apparatus 8A: Thinner supply mechanism 8B: Thinner purification mechanism 86: Preparation liquid extraction flow path 87: Waste liquid ( Concentrate) Extraction flow path 9: Photoresist coating device
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