JP4920667B2 - 基板処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、基板処理装置に係り、より詳細には、ロードロックチャンバーに形成されるゲートバルブの位置及びそれによる基板移送ロボットの配置を最適化することによって装備のフットプリントを縮小させることができるクラスタータイプの基板処理装置に関する。
一般に、半導体工程や平板表示素子を製造する過程において、プラズマ処理装置でウエハまたはガラス(以下、“基板”という。)に所定の処理が施される。平板表示素子を製造するプラズマ処理装置の代表には、内部に搬送ロボットが備えられた搬送チャンバーを中心に、複数個の工程チャンバーとロードロックチャンバーが備えられるクラスタータイプがある。
図1を参照してクラスタータイプの基板処理装置について説明する。同図の処理装置100は、2個のクラスターが組み合わされたもので、第1搬送チャンバー110を中心に、第1ロードロックチャンバー111及び第1工程チャンバー112,113,114が備えられてなる第1クラスターと、第2搬送チャンバー120を中心に、第2ロードロックチャンバー121及び第2工程チャンバー122,123,124が備えられてなる第2クラスターと、を含む。
また、基板の積載されるカセット140が備えられ、カセット140からロードロックチャンバー111,121へと、またはロードロックチャンバー111,121からカセット140へと基板を搬送する基板移送ロボット130が備えられる。ここで、基板移送ロボット130は、搬送チャンバー110,120の内部に備えられる真空ロボット(図示せず)と違い、大気圧状態で作動するロボットのことを意味する。
一方、第1ロードロックチャンバー111と第2ロードロックチャンバー121には、基板移送ロボット130を用いて基板を出入させるように第1ゲートバルブ111aと第2ゲートバルブ121aが備えられるが、これら第1ゲートバルブと第2ゲートバルブはお互い平行に設置されている。
また、基板移送ロボット130は、カセット130とロードロックチャンバー111,121との間で基板の交換を行う役割を果たす。ここで、カセット140と基板移送ロボット130とゲートバルブ111a,121aとロードロックチャンバー111,121は一列に配置されていることがわかる。したがって、基板移送ロボット130は、基板の交換を行うために180゜回転運動することとなる。
特開2004−311934
しかしながら、かかる従来の基板処理装置は、配置特性の上、死角空間151,152,153,154,155,156が多くできるという問題点がある。図1では、第1及び第2ロードロックチャンバー間の空間151と、第1及び第2工程チャンバー間の空間152はメンテナンスのための空間として活用できるが、その他の空間153,154,155,156は工程やメンテナンスなどにも全く活用できない無駄な空間となり、結果として装備のフットプリントを増加させる原因となってしまう。
また、図2は、従来の他の基板処理装置200を示す図である。これは、各クラスターに2個の工程チャンバーが備えられる以外は、図1の基板処理装置と略同様に構成される。図2に示す実施例においても死角空間251,252,253,254が依然として存在し、図1におけると同一の問題点が生じる。
したがって、本発明の目的は、ロードロックチャンバーに形成されるゲートバルブの位置及びそれによる基板移送ロボットの配置を最適化し、装備のフットプリントを縮小させることができる基板処理装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、以下の詳細な説明と添付の図面からより明確になる。
上記の目的を達成するための本発明に係る基板処理装置は、第1搬送チャンバーと、該第1搬送チャンバーの側部に配置される第1ロードロックチャンバー及び第1工程チャンバーとからなる第1クラスターと;第2搬送チャンバーと、該第2搬送チャンバーの側部に配置される第2ロードロックチャンバー及び第2工程チャンバーとからなる第2クラスターと;基板の積載されるカセットと;第1ロードロックチャンバー及び第2ロードロックチャンバーとカセットとの間で基板を交換する基板移送ロボットと;を含んでなり、第1ロードロックチャンバーと第2ロードロックチャンバーのそれぞれの一側には、基板移送ロボットを用いて基板を出入させるように第1ゲートバルブと第2ゲートバルブが備えられ、これら第1ゲートバルブと第2ゲートバルブは相対向して設置される。
特に、前記基板移送ロボットは、前記第1ゲートバルブ及び第2ゲートバルブ間の空間で水平移動自在に設置され、前記基板移送ロボット及びカセットと、前記基板移送ロボット及びロードロックチャンバーとがなす交角が直角となるように配置されることが好ましい。
また第1クラスターまたは第2クラスターはそれぞれ、搬送チャンバーを中心に3個または2個の工程チャンバーが備えられることが好ましい。
本発明によると、ロードロックチャンバーに形成されるゲートバルブの位置及びそれによる基板移送ロボットの配置を最適化することによって装備のフットプリント(footprint)を縮小させることが可能になる。
以下、本発明に係る基板処理装置の好適な実施例について、添付の図3〜図5を参照しつつより詳細に説明する。本発明の実施例は様々な形態に変形可能であり、よって、本発明の範囲が下記の実施例に限定されることはない。下記の実施例は、本発明の属する技術分野における通常の知識を持つ者に、本発明をより詳細に説明するために提供されるものである。このため、図面に示す各要素の形状はより明らかな説明のために強調または誇張されることができる。
図3に示す基板処理装置300は、2個のクラスターが組み合わされたもので、第1搬送チャンバー310を中心に、第1ロードロックチャンバー311及び第1工程チャンバー312,313,314が備えられてなる第1クラスターと、第2搬送チャンバー320を中心に、第2ロードロックチャンバー321及び第2工程チャンバー322,323,324が備えられてなる第2クラスターと、を含む。
また、基板の積載されるカセット340が備えられ、このカセット340からロードロックチャンバー311,321へと、またはロードロックチャンバー311,321からカセット340へと基板を搬送する基板移送ユニット330が備えられる。基板移送ユニット330は、ハウジング332及び基板移送ロボット334を備え、第1及び第2ロードロックチャンバー311,321に基板をそれぞれ伝達する。ハウジング332は、ロードロックチャンバー311,321の間に位置し、ロードロックチャンバー311,321とそれぞれ連結され、基板移送ロボット334は、ハウジング332内に設置され、カセット340内に積載された基板を第1及び第2ロードロックチャンバー311,321にそれぞれ伝達する。
それに加えて、ハウジング332と第1及び第2ロードロックチャンバー311,321の間には、基板移送ロボット334を用いて基板を出入させるように第1ゲートバルブ311aと第2ゲートバルブ321aが設置され、第1ゲートバルブ311aと第2ゲートバルブ321aは相対向して設けられる。基板移送ロボット334は、ハウジング332内で第1及び第2ゲートバルブ311a,321a間を並進運動する。
上記のような構成により、図3に示すように、カセット340と基板移送ロボット334間の基板の移動方向と第1及び第2ロードロックチャンバー311、321と基板移送ロボット334間の基板の移動方向とは、略直角をなす。また、第1ロードロックチャンバー311及び基板移送ロボット334間の基板の移動方向と第1ロードロックチャンバー311及び第1搬送チャンバー310間の基板の移動方向、及び、第2ロードロックチャンバー321及び基板移送ロボット334間の基板の移動方向と第2ロードロックチャンバー321及び第2搬送チャンバー320間の基板の移動方向とはそれぞれ、略直角をなす。
言い換えると、基板移送ロボット334及びカセット340と、基板移送ロボット334及びロードロックチャンバー311,321とがなす交角は、直角となるように配置される。
このように構成された本実施例300は、図1に示す従来の基板処理装置100と対比すると、ロードロックチャンバー111,121間の死角空間151に該当する部分に基板移送ロボット334を設置して空間活用を極大化し、結果として装備のフットプリントを減少させている。もちろん、その他の死角空間352,353,354,355,356は、図1と同様に依然として残っている。
図4に示す実施例400は、各クラスターに2個の工程チャンバーが備えられる以外は、図3に示す実施例300と略同様に構成される。
すなわち、ロードロックチャンバー411,421の第1ゲートバルブ411aと第2ゲートバルブ421aが相対向して形成され、第1及び第2ロードロックチャンバー411,421間の死角空間に基板移送ロボット430が設置されることによって、空間活用を極大化するという点で類似している。したがって、基板移送ロボット430及びカセット440と、基板移送ロボット430及びロードロックチャンバー411,421とがなす交角が、直角となるように配置される。本実施例は工程チャンバーが2個で、図2に示す従来の装置と対比すると、死角空間451,452しか残らず、無駄な空間が著しく減ったことがわかる。第1工程チャンバー413と第2工程チャンバー422はハウジング432と略並んで配置され、第1工程チャンバー412と第2工程チャンバー423は、第1工程チャンバー413と第2工程チャンバー422の反対側にそれぞれ配置される。
図5に示す実施例500は、各クラスターに2個の工程チャンバーが備えられるという点が、図4に示す実施例400と同一である。
ただし、図4に示す実施例400は搬送チャンバー410,420を中心に2個の工程チャンバー(412,413)、(422,423)がそれぞれなす交角が180゜であるのに対し、図5に示す実施例500はそれが直角であるという点が異なる。
その他、ロードロックチャンバー511,521の第1ゲートバルブ511aと第2ゲートバルブ521aが相対向して形成され、第1及び第2ロードロックチャンバー511,521間の死角空間に基板移送ロボット530が設置されることによって空間活用を極大化するという点では類似している。したがって、基板移送ロボット530及びカセット540と、基板移送ロボット530及びロードロックチャンバー511,521とがなす交角は、直角となるように配置される。この場合にも、工程チャンバーが2個で、図2に示す従来の装置に対比すると、死角空間550しか残らず、無駄な空間が著しく減ったことがわかる。
従来技術による基板処理装置を概略的に示す図である。 従来技術による基板処理装置を概略的に示す図である。 本発明による基板処理装置の各実施例を示す図である。 本発明による基板処理装置の各実施例を示す図である。 本発明による基板処理装置の各実施例を示す図である。
符号の説明
310,410,510 第1搬送チャンバー
320,420,520 第2搬送チャンバー
311,411,511 第1ロードロックチャンバー
321,421,521 第2ロードロックチャンバー
330,430,530 基板移送ロボット
340,440,540 カセット















Claims (4)

  1. 真空内で基板を搬送するロボットを有する第1及び第2搬送チャンバーと、
    前記第1及び第2搬送チャンバーにそれぞれ連結され、前記第1及び第2搬送チャンバーとそれぞれ前記基板を取り交わす第1及び第2ロードロックチャンバーと、
    前記第1及び第2ロードロックチャンバー間に配置され、大気圧内で前記第1及び第2ロードロックチャンバーにそれぞれ連結されるハウジングと、前記ハウジング内に設置され、カセット内に積載された前記基板を前記第1及び第2ロードロックチャンバーにそれぞれ伝達する基板移送ロボットとを有する基板移送ユニットと、
    前記第1及び第2ロードロックチャンバーと前記ハウジングとの間にそれぞれ相対向して設置され、前記基板移送ロボットによって伝達された前記基板が出入する第1及び第2ゲートバルブと、を含み、
    前記基板移送ロボットが、前記第1ゲートバルブと第2ゲートバルブとの間で並進運動し、
    前記カセット及び前記基板移送ロボット間の前記基板の移動方向と、前記第1及び第2ロードロックチャンバー及び前記基板移送ロボット間の前記基板の移動方向とが、略直角をなすことを特徴とする基板処理装置。
  2. 前記第1ロードロックチャンバー及び前記基板移送ロボット間の前記基板の移動方向と前記第1ロードロックチャンバー及び第1搬送チャンバー間の前記基板の移動方向、及び、前記第2ロードロックチャンバー及び前記基板移送ロボット間の前記基板の移動方向と前記第2ロードロックチャンバー及び前記第2搬送チャンバー間の前記基板の移動方向とがそれぞれ、略直角をなすことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  3. 前記第1搬送チャンバーと連結された一つ以上の第1工程チャンバー及び前記第2搬送チャンバーと連結された一つ以上の第2工程チャンバーをさらに含み、
    一つの前記第1工程チャンバーと一つの前記第2工程チャンバーは、前記ハウジングと略並んで隣接して配置されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  4. 前記第1工程チャンバーが前記第1ロードロックチャンバーを基準に等間隔に配置され、前記第2工程チャンバーが前記第2ロードロックチャンバーを基準に等間隔に配置されることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
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JP6972852B2 (ja) * 2017-05-23 2021-11-24 東京エレクトロン株式会社 真空搬送モジュール及び基板処理装置
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US11581203B2 (en) * 2020-09-02 2023-02-14 Applied Materials, Inc. Systems for integrating load locks into a factory interface footprint space

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4048387B2 (ja) * 1997-09-10 2008-02-20 東京エレクトロン株式会社 ロードロック機構及び処理装置
KR100265287B1 (ko) * 1998-04-21 2000-10-02 윤종용 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템
JP2003086650A (ja) * 2002-07-12 2003-03-20 Hitachi Ltd 真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ラインおよび試料の真空処理方法
JP2004349503A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Tokyo Electron Ltd 被処理体の処理システム及び処理方法
JP4264423B2 (ja) * 2005-03-22 2009-05-20 三菱重工業株式会社 真空処理装置及び処理室増設方法
JP2007005435A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Rorze Corp 処理装置

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