JP4896053B2 - Wafer storage container - Google Patents
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Description
本発明はシリコン半導体や化合物半導体などからなるウェハを収納するためのウェハ収納容器であるウェハ洗浄容器、ウェハ保管容器、ウェハ工程内容器あるいはウェハ出荷容器に関する。 The present invention relates to a wafer cleaning container, a wafer storage container, a wafer in-process container, or a wafer shipping container, which is a wafer storage container for storing a wafer made of a silicon semiconductor or a compound semiconductor.
従来、シリコン半導体や化合物半導体などからなるウェハを収納するためのウェハ収納容器としては、ウェハを一括して洗浄するときに用いるウェハ洗浄容器、加工中または加工済みウェハを一時保管するためのウェハ保管容器、クリーンルーム内のウェハプロセスのため工程内搬送に用いるウェハ工程内容器、さらにはウェハを工場間で搬送するウェハ出荷容器などが良く知られていた。 Conventionally, as wafer storage containers for storing wafers made of silicon semiconductors, compound semiconductors, etc., wafer cleaning containers used for batch cleaning of wafers, wafer storage for temporarily storing processed or processed wafers Containers, wafer process containers used for in-process conveyance for wafer processes in a clean room, and wafer shipping containers for conveying wafers between factories are well known.
これらのウェハを収納するウェハ収納容器に対しては、表面に形成されている素子の破壊や不純物粒子の発生を最小限に抑えるために、ウェハの周縁部のみを保持するような工夫がなされてきた。 In order to minimize the destruction of the elements formed on the surface and the generation of impurity particles, a device for holding only the peripheral edge of the wafer has been made to the wafer storage container for storing these wafers. It was.
例えば、ウェハを多段にかつ等間隔に支持するための多数のリブ片を多段に配設して支持用リブを構成したウェハ収納容器が開示されている(特許文献1と特許文献2)。図6に特許文献1と2に示された支持用リブの構成を示す。図6に示すように、従来のウェハ収納容器においては、収納容器本体100の内側面に沿って多数のリブ片101が形成されており、その結果ウェハの周縁部のみを支持してウェハを収納できるようになっている。
近年では素子の収率を向上させるために300mmの大口径ウェハが量産投入されたり、さらには次世代ウェハとしてさらに大口径の450mmウェハが検討されたりするようになった。また、素子の小型化・薄型化に伴い化合物半導体においてはウェハの薄型化が進展するようになった。そのため、従来の方法を用いて周縁部を支持するウェハ収納容器では、ウェハの自重によるタワミが大きくなり、多数枚のウェハを効率良く収納することが困難になってきた。 In recent years, large-diameter 300 mm wafers have been introduced to improve the yield of devices, and 450 mm wafers with larger diameters have been studied as next-generation wafers. In addition, with the miniaturization and thinning of elements, the thinning of wafers has progressed in compound semiconductors. For this reason, in a wafer storage container that supports the peripheral edge using a conventional method, the deflection due to the weight of the wafer becomes large, and it has become difficult to efficiently store a large number of wafers.
そのため、簡便かつ安価な方法で、従来以上に広い間隔でウェハ周縁部を保持したり、ウェハの裏面を保持したりして、ウェハのタワミを最小限に抑えて効率良く収納することができるウェハ収納容器を提供する必要性が生じてきた。
すなわち、従来のウェハ収納容器は、300mm以上の大口径ウェハや0.3mm以下の薄型ウェハなどのタワミを最小限に抑えて、多数枚のウェハを効率良く収納することができないという課題を有していた。
Therefore, a wafer that can be stored efficiently by minimizing wafer wrinkles by holding the wafer peripheral edge at a wider interval than before or holding the back surface of the wafer by a simple and inexpensive method. A need has arisen to provide a storage container.
That is, the conventional wafer storage container has a problem that it cannot efficiently store a large number of wafers by minimizing the wrinkles of a large diameter wafer of 300 mm or more and a thin wafer of 0.3 mm or less. It was.
本発明のウェハ収納容器は、少なくとも1つの容器開口を有する収納容器本体と、前記収納容器本体内部に設けられたウェハ支持構造を有するウェハ収納容器であって、前記ウェハ支持構造は、当該ウェハ支持構造を前記収納容器本体に取り付けて固定する固定部と、前記固定部を中央にして連結され開閉自在に構成された一対のウェハ支持体とからなり、前記一対のウェハ支持体には当該ウェハ支持体を閉じることによってウェハの端部を挿入して支持・固定するスリット状開口が互いに対向して等間隔に形成されており、前記固定部は当該固定部を前記収納容器本体に取り付けるための固定部側取り付け部を有しており、前記収納容器本体の内面には前記固定部を取り付ける収納容器側取り付け部が設けられている構造とした。これによって、前記スリット状開口の長さを変えるだけで任意に広い周縁位置で前記ウェハを保持することが可能となり、ウェハのタワミを最小に抑えてスリット状開口の数に対応する任意の枚数のウェハを収納することが可能となり上記課題を解決することができた。 The wafer storage container of the present invention is a wafer storage container having a storage container main body having at least one container opening and a wafer support structure provided inside the storage container main body, wherein the wafer support structure includes the wafer support A fixed portion for attaching and fixing the structure to the storage container main body, and a pair of wafer supports connected with the fixed portion at the center and configured to be openable and closable. Slit-like openings for inserting and supporting and fixing the edge of the wafer by closing the body are formed at equal intervals facing each other, and the fixing part is a fixing for attaching the fixing part to the storage container body It has a structure in which a part-side attachment part is provided, and a storage container side attachment part for attaching the fixing part is provided on the inner surface of the storage container body. This makes it possible to hold the wafer at an arbitrarily wide peripheral position simply by changing the length of the slit-shaped openings, and minimizes the amount of wafer wrinkles to an arbitrary number corresponding to the number of slit-shaped openings. The wafer can be accommodated and the above-mentioned problems can be solved.
上記ウェハ支持体は複数のサブ支持体に分割されており、前記サブ支持体には上記スリット状開口が少なくとも1つ形成されており、前記サブ支持体は上記固定部との連結部で各々独立に開閉自在となるように構成した。あるいはまた、前記ウェハ支持体は弾性材料からなる複数のサブ支持体に分割されており、前記サブ支持体には上記スリット状開口が少なくとも1つ形成されており、前記サブ支持体は各々独立に弾性的に変形して開閉自在となるように構成した。この結果、個々のウェハの収納と取り出しを1枚ずつ容易に行うことができるようになった。 The wafer support is divided into a plurality of sub-supports, and at least one slit-like opening is formed in the sub-support, and each of the sub-supports is independent at a connecting portion with the fixing portion. It can be opened and closed freely. Alternatively, the wafer support is divided into a plurality of sub-supports made of an elastic material, and at least one slit-like opening is formed in the sub-support, and each of the sub-supports is independent of each other. It was configured to be elastically deformable and openable. As a result, each wafer can be easily stored and taken out one by one.
上記ウェハ支持体は所定の開位置または閉位置またはその両方で開き角度を保持できるように構成した。これには例えば、前記ウェハ支持体を開いた位置を固定するための開ストッパを有した構造にした。具体的には、上記固定部と上記ウェハ支持体はヒンジで連結し、前記固定部の前記ウェハ支持体側には弾性的ひっかけ部を形成し、前記ウェハ支持体が開状態のとき当該ウェハ支持体における固定部側近接端部が前記弾性的ひっかけ部にひっかけて固定し、この状態で前記ウェハ支持体を閉じようとするときは前記弾性的ひっかけ部が変形して前記固定部側近接端部が外れる構造とした。さらにまた、前記収納容器本体に、前記ウェハ支持体を閉じて前記ウェハを支持・固定する位置を固定するための閉ストッパを形成した。このようにすることによって、前記ウェハ支持体の開閉を確実に行うことができるようになった。
The wafer support was configured to maintain an opening angle at a predetermined open position, a closed position, or both. For example, a structure having an open stopper for fixing the position where the wafer support is opened is used. Specifically, the fixed part and the wafer support are connected by a hinge, an elastic hook part is formed on the wafer support side of the fixed part, and the wafer support is opened when the wafer support is open. When the wafer support is to be closed in this state, the fixed portion side adjacent end portion is deformed by the fixed portion side adjacent end portion so that the fixed portion side adjacent end portion is deformed. Detachable structure. Furthermore, a closing stopper for closing the wafer support and fixing the position for supporting and fixing the wafer is formed in the storage container body. In this way, the wafer support can be reliably opened and closed.
さらに、上記スリット状開口の平面形状はウェハ面方向に略平行な二辺からなる上下辺と、当該二辺と鈍角で交わる二辺で形成される一対の側辺、または長軸側の半楕円で形成される一対の側辺とから形成される形状とした。そして、前記スリット状開口の側辺を形成する二辺が交わって形成する頂角は、鋭角となるようにした。このようにすることによって、前記ウェハを前記スリット状開口に挿入したときに脱落することなく安定してウェハを保持することが可能となった。 Furthermore, the planar shape of the slit-shaped opening is a pair of side sides formed by two sides that intersect with the two sides at an obtuse angle, or a semi-ellipse on the long axis side. It was set as the shape formed from a pair of side edge formed by. The apex angle formed by the intersection of the two sides forming the side of the slit-shaped opening is an acute angle. By doing so, it becomes possible to hold the wafer stably without dropping when the wafer is inserted into the slit-shaped opening.
そして、上記スリット状開口を構成する上下辺の各々は上記ウェハの最近接表面から0.5〜24mm離間して形成した。このようにすることで、前記ウェハを前記スリット状開口に挿入して保持したときに、前記ウェハの自重によるタワミや、外部衝撃によるタワミが発生しても前記ウェハの表面および裏面が前記上下辺に当って損傷を受けたり、汚染されたりすることがなくなった。 Each of the upper and lower sides constituting the slit-shaped opening was formed at a distance of 0.5 to 24 mm from the closest surface of the wafer. In this way, when the wafer is inserted and held in the slit-shaped opening, the top and bottom sides of the wafer are not affected by the weight of the wafer due to its own weight or due to external impact. No longer gets damaged or contaminated.
特に、上記スリット状開口を構成する上下辺における下辺の少なくとも一か所を凸状戴置部を形成することにより、上記ウェハの裏面を最小面積で支持することが可能とすることができ、よりタワミの少ないウェハ支持を可能とすることができた。 In particular, by forming a convex placement portion at least one of the lower sides of the upper and lower sides constituting the slit-shaped opening, it is possible to support the back surface of the wafer with a minimum area, more It was possible to support the wafer with less wrinkles.
さらにまた、上記収納容器本体と、前記収納容器本体の上記容器開口を塞ぐ蓋体と、当該蓋体と前記収納容器本体との間にあって前記容器開口を前記蓋体で塞いだときに当該収納容器本体の内部を外部環境から気密に保持するシールを少なくとも有する構造とすることにより、外部環境からの粒子等による汚染を回避したウェハ収納を可能とした。 Furthermore, the storage container body, the lid for closing the container opening of the storage container body, and the storage container when the container opening is closed by the lid body between the lid and the storage container body. By adopting a structure having at least a seal that keeps the inside of the main body airtight from the outside environment, it is possible to store the wafer while avoiding contamination by particles and the like from the outside environment.
以上説明したように、本発明のウェハ収納容器は、収納容器本体内部に取り付けられたウェハ支持構造に形成された開閉自在なウェハ支持体を閉じて、そのウェハ支持体に形成されたスリット状開口に収納するウェハの周縁部を挿入してこのウェハを挟持することで、300mmを超える大口径のウェハや、0.3mmよりも薄いウェハであっても、そのタワミを最小限に抑えて安全に効率良く収納することが可能となるという効果を有する。 As described above, the wafer storage container of the present invention closes the openable / closable wafer support formed in the wafer support structure attached to the inside of the storage container main body, and forms the slit-shaped opening formed in the wafer support. By inserting the peripheral edge of the wafer to be stored in and holding this wafer, even a wafer with a large diameter exceeding 300 mm or a wafer thinner than 0.3 mm can be safely kept to a minimum. It has an effect that it can be efficiently stored.
以下に本発明のウェハ収納容器について図面を参照しながら説明する。 The wafer container of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は本発明のウェハ収納容器に係わる1実施形態の構成を示す模式的斜視透視図である。図1において、1は収納容器本体、2は容器開口、3はウェハ支持構造、4は固定部、5aと5bは連結部、6aと6bはウェハ支持体、7aと7bはスリット状開口、8は固定部側取り付け部、9は収納容器側取り付け部である。 FIG. 1 is a schematic perspective perspective view showing the configuration of one embodiment of the wafer storage container of the present invention. In FIG. 1, 1 is a storage container body, 2 is a container opening, 3 is a wafer support structure, 4 is a fixing part, 5a and 5b are connecting parts, 6a and 6b are wafer supports, 7a and 7b are slit-like openings, 8 Is a fixing part side attaching part, and 9 is a storage container side attaching part.
図1に示したウェハ収納容器は1枚のウェハを収納して用いるためのものである。図1において示される収納容器本体は、図を見やすくするために収納容器本体1が破線で描画されている。
The wafer storage container shown in FIG. 1 is for storing and using one wafer. In the storage container main body shown in FIG. 1, the storage container
収納容器本体1は図面手前側に容器開口2を有しており、ウェハの洗浄や一時保管に用いられる収納容器である。そのため、収納容器本体1はポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリエーテルエーテルケトンあるいはフッ素樹脂などの耐薬品性の大きな高分子材料で形成される場合が多い。
The
ウェハ支持構造3は、固定部4とウェハ支持体6a、6bが連結部5a、5bで連結された構造を有している。この連結部5a、5bは、ウェハ支持体6a、6bが連結部5a、5bで開閉自在となるように、一体型ヒンジ構造となっていてもよいし、固定部4にウェハ支持体6a、6bをはめ込んで形成されたヒンジ構造となっていてもよい。また、後述するように、ウェハ支持体6a、6bが弾性的に変形して開閉可能な場合は、連結部5a、5bはウェハ支持体6a、6bを固定部4に固定して連結してもよい。
The
固定部4には固定部側取り付け部8が形成されており、収納容器本体1の内面に設けられた収納容器側取り付け部9と協働して固定部4を収納容器本体1の内部に固定して取り付けられるようになっている。本実施形態では、固定部側取り付け部8は4つの開口で形成されており、収納容器側取り付け部9は固定部側取り付け部8に挿入されて係合するひっかけ構造となっている。言うまでもなく、例えば固定部側取り付け部8を嵌合穴とし収納容器側取り付け部9をその嵌合穴に圧入して取り付けるなどの、この実施形態以外の固定方法を用いても良い。また、固定部側取り付け部8と収納容器側取り付け部9の数は、図1に示した4箇所である必要はなく、両者が充分な機械的強度を保持して取り付けられる数およびその配置関係であればこれ以外の数量でも問題はない。
The
ウェハ支持体6a、6bには一対のスリット状開口7aと7bが対向して形成されている。この開口7a、7bは細長いスリット状の形状をしており、図示していないウェハの周縁部を挿入してウェハ支持体7a、7bを閉じることによってウェハを支持固定する機能を有している。このスリット状開口7a、7bにウェハを挿入して支持するために、ウェハ支持体6a、6bはウェハを損傷せず滑らかに出し入れすることができるように、滑り性に優れた柔らかい材料で構成するのが望ましい。このウェハ支持体6a、6bを構成する材料としては、収納容器と同じ高分子材料であるポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリエーテルエーテルケトンあるいはフッ素樹脂に加えて、ポリエチレン、ポリエチレンエラストマー、ポリオレフィンエラストマーなどを用いることができる。
A pair of slit-
図7は本発明のウェハ収納容器におけるウェハ支持体に形成されたスリット状開口の位置に関する説明図であり、図7(a)はスリット状開口位置が収納容器本体の容器開口に近い場合、図7(b)はスリット状開口位置が収納容器本体の容器開口から遠い場合を示している。図7(a)と(b)において、2は容器開口、3はウェハ支持構造、7aと7bはスリット状開口、14はウェハである。図7(a)に示すように、スリット状開口7a、7bが容器開口2に近い場合は、ウェハ14の容器開口2側の一部が容器開口2からはみだして図示しない蓋体と干渉する場合が生じる。図7(b)に示すように、スリット状開口7a、7bが容器開口2から遠い場合は、ウェハ14の容器開口2側の一部が容器開口2からはみだすことなく図示しない蓋体と干渉することはない。このどちらの場合においても、スリット状開口7a、7bの長さが同じ場合はこれらがウェハ14を支持する位置はおおよそ同じ位置で安定して支持することが可能となる。
FIG. 7 is an explanatory diagram regarding the position of the slit-shaped opening formed in the wafer support in the wafer storage container of the present invention. FIG. 7A is a diagram when the slit-shaped opening position is close to the container opening of the storage container body. 7 (b) shows a case where the slit-like opening position is far from the container opening of the storage container body. 7A and 7B, 2 is a container opening, 3 is a wafer support structure, 7a and 7b are slit-shaped openings, and 14 is a wafer. As shown in FIG. 7A, when the slit-
図1に示す実施形態においては、ウェハを1枚しか収納することはできないが、ウェハ支持体6a、6bにスリット状開口7a、7bを複数対形成することによって、複数のウェハを収納することが可能となる。図5に複数のウェハを収納可能な本発明のウェハ収納容器に関わる他の実施形態を示す。
In the embodiment shown in FIG. 1, only one wafer can be accommodated, but a plurality of wafers can be accommodated by forming a plurality of pairs of slit-
図5は本発明のウェハ収納容器に係わる他の実施形態を示す斜視図であり、1は収納容器本体、2は容器開口、3はウェハ支持構造、12は蓋体、13はシールである。図5に示すウェハ収納容器は、複数枚のウェハを収納容器本体1の内部に収納して、シール13を介して蓋体12で収納容器本体1の容器開口2を気密に塞ぐことによって、収納されたウェハを外部環境から気密に隔離して収納することが可能なミニエンバイロメントを構成できるようになっている。このようなウェハ収納容器としては、ウェハを工場間で輸送するために用いられるウェハ出荷容器やウェハをクリーンルーム工程内で搬送するために用いられるウェハ工程内容器が良く知られている。
FIG. 5 is a perspective view showing another embodiment of the wafer storage container according to the present invention, wherein 1 is a storage container body, 2 is a container opening, 3 is a wafer support structure, 12 is a lid, and 13 is a seal. The wafer storage container shown in FIG. 5 stores a plurality of wafers inside the storage container
図5に示すウェハ収納容器に用いられているウェハ支持構造3は複数のスリット状開口を有するウェハ支持体を有しているために、複数のウェハを収納することができる。図5に示されている実施形態では13枚のウェハを収納できる構成が示されているが、収納できるウェハの枚数は、2枚、6枚、11枚、25枚あるいはそれ以外の枚数であってもよい。
Since the
これらのウェハ収納容器における収納容器1や蓋体12を構成する材料としては、不純物ガス発生が少ない高純度なポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、およびフッ素樹脂などの高分子材料が用いられる。特に、ウェハ工程内容器では前記高分子材料にカーボンファイバーやカーボンパウダーあるいはカーボンナノチューブなどの導電性フィラーを混合して非帯電性または導電性を付与したものを用いるのが一般的である。もちろん、ウェハ工程内容器として用いる場合は、ウェハ支持構造3に用いる材料として、ポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、ポリエチレン、ポリエチレンエラストマー、ポリオレフィンエラストマーなどの高分子材料にカーボンファイバーやカーボンパウダーあるいはカーボンナノチューブなどの導電性フィラーを混合して非帯電性または導電性を付与したものを用いるのが望ましい。
As materials constituting the
次に、図5に示したような複数のウェハを支持することが可能なウェハ支持構造について説明する。図2は本発明のウェハ収納容器に用いたウェハ支持構造の1実施例を示した模式的斜視図である。図2において、図1と同様の作用を有する要素には同一の符号を付し、その説明を省略した。 Next, a wafer support structure capable of supporting a plurality of wafers as shown in FIG. 5 will be described. FIG. 2 is a schematic perspective view showing one embodiment of the wafer support structure used in the wafer storage container of the present invention. In FIG. 2, elements having the same functions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
図2に示すウェハ支持構造3が図1に示すウェハ支持構造と異なっている点は、ウェハ支持体6aと6bには複数対のスリット状開口7a、7bが形成されている点である。ウェハ支持体6aに形成されているスリット状開口7aとウェハ支持体6bに形成されている開口7bとは互いに1対1に対向して形成されており、これらウェハ支持体6aと6bとを互いに閉じるときに、これら対向したスリット状開口7a、7bには1枚のウェハの周縁部が両側から挿入され挟持されてそのウェハを保持する。
The
図2において、スリット支持体6aと6bは連結部5aと5bで固定部4に連結されている。この連結部5a、5bは、ウェハ支持体6a、6bが連結部5a、5bで開閉自在となるように一体型ヒンジ構造となっているか、固定部4にウェハ支持体6a、6bをはめ込んで形成されたヒンジ構造となっている。したがって、図2に示すウェハ支持体6a、6bは連結部5a、5bで自在に開閉することができる。
In FIG. 2, the slit supports 6a and 6b are connected to the
図2に示す実施形態では、片側1枚のウェハ支持体6aおよび6bに複数のスリット状開口7aおよび7bが形成されているために、ウェハの挿入または取り出し操作は処理したいウェハ全てに対して同時に行う。すなわち、支持体6aおよび6bが開いた状態にしておき、複数のウェハを同時に戴置ハンドで掴んだ状態で、全てのウェハの周縁部が各開口7aおよび7bに挿入可能な位置にこれらウェハを移動させ、その後ウェハ支持体6aと6bを同時に閉じて複数のウェハを同時に挟持して支持および保持し、その後戴置ハンドを抜き出して行う。一方、ウェハを容器から取り出すときは、全てのウェハを戴置ハンドで同時に掴み、その後ウェハ支持体6aと6bを開いて全てのウェハの周縁部をスリット状開口7aと7bから抜き取ってから、戴置ハンドを引き抜いて全てのウェハを同時に取り出す。このようにして、図2に示したウェハ支持構造3は、ウェハの同時出し入れという操作に適したものとなっている。
In the embodiment shown in FIG. 2, since a plurality of slit-
しかしながら、図2に示したように全てのウェハを同時にウェハ収納容器に出し入れする場合は限られており、多くの場合はウェハを1枚ずつ出し入れする(図2に示した本発明のウェハ支持構造においても個別に動作する戴置ハンドを用いる場合には、ウェハを1枚ずつ出し入れすることが可能であるが、戴置ハンドの構造が複雑になるなどの問題点がある)。そこで、複数枚のウェハを収納可能なウェハ収納容器に用いられるウェハ支持構造において、ウェハを1枚ずつ出し入れ可能なものの実施形態について説明する。 However, as shown in FIG. 2, there are limited cases in which all the wafers are taken in and out at the same time, and in many cases, the wafers are taken in and out one by one (the wafer support structure of the present invention shown in FIG. 2). However, in the case of using a mounting hand that operates individually, the wafers can be taken in and out one by one, but there is a problem that the structure of the mounting hand is complicated). Therefore, an embodiment of a wafer support structure used for a wafer storage container capable of storing a plurality of wafers, in which wafers can be taken in and out one by one, will be described.
図3は本発明のウェハ収納容器に用いたウェハ支持構造の1実施例を示した模式的斜視図である。図3において、10aと10bはサブ支持体である。なお、図1と同様の作用を有する要素には同一の符号を付し、その説明を省略した。 FIG. 3 is a schematic perspective view showing one embodiment of the wafer support structure used in the wafer storage container of the present invention. In FIG. 3, 10a and 10b are sub-supports. In addition, the same code | symbol was attached | subjected to the element which has the effect | action similar to FIG. 1, and the description was abbreviate | omitted.
図3に示すウェハ支持構造3が図2に示すウェハ支持構造と異なっている点は、ウェハ支持体6aおよび6bが各々サブ支持体10aおよび10bに分割されており、サブ支持体10aおよび10bの各々に対してスリット状開口7aおよび7bが形成されている点である。このようにウェハ支持体6a、6bをサブ支持体10a、10bに分割して、その各々にスリット状開口7a、7bを形成することによって、これらサブ支持体10a、10bを各々独立に開閉させることが可能となり、その結果、任意のサブ支持体10a、10bにウェハを1枚ずつ独立に出し入れすることが可能となる。
The
次に、図2と図3に示したウェハ支持体を用いた場合にウェハを出し入れするときの、ウェハ支持体の動作を説明する。図8は本発明のウェハ収納容器にウェハを入れる方法を示した説明図であり、図8(a)は初期状態を示した図であり、図8(b)はウェハ支持体を開いた状態を示した図であり、図8(c)はウェハを容器に入れた状態を示した図であり、図8(d)はウェハを入れ終わった状態を示した図である。図8において14はウェハである。なお、図8において、図2と図3と同じ作用を有する要素には同一の符号を付し、その説明を省略した。
Next, the operation of the wafer support when the wafer is taken in and out when the wafer support shown in FIGS. 2 and 3 is used will be described. FIG. 8 is an explanatory view showing a method of putting a wafer into the wafer storage container of the present invention, FIG. 8 (a) is a view showing an initial state, and FIG. 8 (b) is a state in which the wafer support is opened. FIG. 8C is a view showing a state in which a wafer is put in a container, and FIG. 8D is a view showing a state in which the wafer has been put in. In FIG. 8,
図8(a)に示す初期状態においては、ウェハ支持体6aと6b(サブ支持体10a、10b)は閉じた状態にある。このとき連結部5a、5bはヒンジで構成されており、ウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)は連結部5a、5bを回転中心として図8(b)の矢印で示される方向に開くことができる。次に、図8(c)で示されるようにウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)を開いた状態でスリット状開口7a、7bと同じ高さ位置にウェハ14を入れ、図8(d)のようにウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)を閉じるとウェハ14の周縁部の一部がスリット状開口7a、7bに挿入され、さらにウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)を閉じることによってウェハ14はスリット状開口7a、7bの両端部分で挟持されて支持・保持される。
In the initial state shown in FIG. 8A, the wafer supports 6a and 6b (sub-supports 10a and 10b) are in a closed state. At this time, the connecting
図10はスリット状開口の端部で保持されているウェハ14の状態を模式的に示した断面図であり、6(6a、6b)はウェハ支持体、7(7a、7b)はスリット状開口、14はウェハ、15はウェハ表面、16はウェハ裏面、17はウェハベベル面、18はウェハ端面である。
FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing the state of the
図10に示されるように、ウェハ14はその周縁部をスリット状開口7に挿入されると同時にウェハ支持体6で挟持されることによって、上下のウェハベベル17がスリット状開口7の端部で押し付けられて支持および保持される。このとき支持および保持されるウェハベベル17の領域はウェハ支持体6の厚み程度の小さな面積領域である。また、支持および保持されるときのウェハベベル17に印加される力は、V溝で押し付けて保持する場合と同程度に均一である。
As shown in FIG. 10, the upper and lower wafer bevels 17 are pressed at the ends of the slit-shaped
一方、図8からも分かるように、図10のウェハベベル17が押え付けられる位置は、スリット状開口7を円形ウェハ17の弦とみなすと、その弦の中心角として90度近傍とすることができる。すなわち、ウェハ14の全周をほぼ4等分できる程度の広い角度分布で支持および保持することが可能となるため、保持されるウェハのタワミを最小にすることが可能となる。
On the other hand, as can be seen from FIG. 8, the position where the
図4は本発明のウェハ収納容器に用いたウェハ支持構造に係る他の実施形態を示す斜視図である。図4において、11aと11bは固定連結部である。なお、図4では、図3と同様の作用を有する要素には同一の符号を付しその説明を省略した。 FIG. 4 is a perspective view showing another embodiment of the wafer support structure used in the wafer storage container of the present invention. In FIG. 4, 11a and 11b are fixed connection parts. In FIG. 4, elements having the same functions as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図4に示したウェハ支持構造3が図3に示したウェハ支持構造3と異なっている点は、ウェハ支持体6a、6bをサブ支持体10a、10bに分割する切り込みが連結部11a、11bにまで達しておらず、また固定連結部11a、11bは開閉自在なヒンジ構造を持っておらず固定して連結ざれていることである。
The
サブ支持体10a、10bすなわちウェハ支持体6a、6bは弾性的に変形可能な材料で形成されている。このような材料としては、ポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、あるいはポリエチレンなどの高分子材料や、ステンレス鋼やリン青銅などのバネ性を持った金属材料の表面を前記高分子材料やポリエチレンエラストマーあるいはオレフィンエラストマーなどで被覆した構造のもので形成することができる。 The sub-supports 10a and 10b, that is, the wafer supports 6a and 6b are made of an elastically deformable material. Examples of such materials include polymer materials such as polypropylene, polybutylene terephthalate, polybutylene naphthalate, polyether ether ketone, fluororesin, and polyethylene, and metal materials having spring properties such as stainless steel and phosphor bronze. The surface can be formed with a structure in which the surface is coated with the polymer material, polyethylene elastomer or olefin elastomer.
図4に示したウェハ支持構造を用いた本発明のウェハ収納容器にウェハを出し入れする方法について説明する。図9は、本発明のウェハ収納容器にウェハを入れる方法を示した説明図であり、図9(a)は初期状態を示した図であり、図9(b)はウェハ支持体を開いた状態を示した図であり、図9(c)はウェハを容器に入れた状態を示した図であり、図9(d)はウェハを入れ終わった状態を示した図である。なお、図9において、図8と同じ作用を有する要素には同一の符号を付しその説明を省略した。 A method for loading / unloading a wafer into / from the wafer storage container of the present invention using the wafer support structure shown in FIG. 4 will be described. FIG. 9 is an explanatory view showing a method of putting a wafer into the wafer storage container of the present invention, FIG. 9 (a) is a view showing an initial state, and FIG. 9 (b) is a view showing that the wafer support is opened. FIG. 9C is a diagram showing a state in which a wafer is placed in a container, and FIG. 9D is a diagram showing a state in which the wafer has been placed. In FIG. 9, elements having the same functions as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
図9(a)に示す初期状態においては、ウェハ支持体6aと6b(サブ支持体10a、10b)は閉じた状態にある。このとき連結部11a、11bは固定して構成されている。ウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)は弾性的に上記の変形可能な材料で形成されているために、図9(b)の矢印で示される方向に変形して開くことができる。この変形はウェハ支持体6a、6bが形成されている切り込みの根元まで連続的に発生する。次に、図9(c)で示されるようにウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)を開いた状態でスリット状開口7a、7bと同じ高さ位置にウェハ14を入れ、図9(d)のようにウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)にかける外力を解除して矢印の方向に閉じるとウェハ14の周縁部の一部がスリット状開口7a、7bに挿入され、さらにウェハ支持体6a、6b(サブ支持体10a、10b)を閉じることによってウェハ14はスリット状開口7a、7bの両端部分で挟持されて支持・保持される。
In the initial state shown in FIG. 9A, the wafer supports 6a and 6b (sub-supports 10a and 10b) are in a closed state. At this time, the connecting
図3や図9に示す実施形態におけるウェハ14の保持状態も図10に示したものと同様となる。
The holding state of the
次に、ウェハ支持体6aと6bに形成されているスリット状開口7a、7bの開口形状について説明する。図11は本発明のウェハ収納容器に形成されているスリット状開口形状の基本構成を示した模式図で、図11(a)は第一の形状を示した模式図であり、図11(b)は第二の形状を示した模式図である。図11において、7はスリット状開口、19は上下辺、19aは上辺、19bは下辺、20は第一側辺、20aは第一側辺上辺、20bは第一側辺下辺、21は第二側辺、21aは第二側辺上辺、21bは第二側辺下辺である。
Next, the opening shape of the slit-
図11(a)に示すスリット状開口の第一の形状は、開口全周が直線で形成されている。すなわち、ウェハの径方向に平行な上辺19aと下辺19bとで形成される上下辺19、第一側辺上辺20aと第一側辺下辺20bとで形成される第一側辺20、および第二側辺上辺21aと第二側辺下辺21bとで形成される第二側辺21とで囲繞された領域が開口となって形成されている。第一側辺上辺20aと第一側辺下辺20bとはスリット状開口7の頂角が鋭角になるように互いに交わっている。また、第二側辺上辺21aと第二側辺下辺21bとはスリット状開口7の頂角が鋭角になるように互いに交わっている。
これら第一側辺20および第二側辺21が形成する頂角が鈍角となると図10に示したウェハべベル面17に対する押圧力が小さくなるため、安定してウェハを保持することができなくなってしまう。
In the first shape of the slit-shaped opening shown in FIG. 11A, the entire circumference of the opening is formed in a straight line. That is, the upper and
When the apex angle formed by the
また、第一側辺上辺20aと第二側辺上辺21aは上辺19aに対して鈍角で交わってスリット状開口7を形成している。さらに、第一側辺下辺20bと第二側辺下辺21bは下辺19bに対して鈍角で交わってスリット状開口7を形成している。これらの交わり角が鋭角になると、第一側辺20と第二側辺21が形成する頂角は180度以上となってしまい、ウェハを全く支持および保持できなくなってしまう。
The first side
一方、図11(b)に示すスリット状開口の第二の形状は、ウェハの径方向に平行な二直線と一対の長軸側の半楕円で形成されている。ここで、長軸側の半楕円とは、楕円長軸の半分と短軸とで構成される楕円の半領域のことを意味している。この場合も半楕円と上下辺との交点は鈍角で交じっている。また、この場合に、ウェハをしっかりと支持および保持するためには、前記半楕円の楕円率はより小さな値の方がよい。具体的には2/3程度以下であることが望ましい。 On the other hand, the second shape of the slit-shaped opening shown in FIG. 11B is formed by two straight lines parallel to the radial direction of the wafer and a pair of semi-ellipses on the long axis side. Here, the semi-ellipse on the long axis side means a half area of the ellipse composed of the half of the ellipse long axis and the short axis. In this case as well, the intersection of the semi-ellipse and the upper and lower sides intersects at an obtuse angle. Further, in this case, in order to firmly support and hold the wafer, the ellipticity of the semi-ellipse is preferably a smaller value. Specifically, it is desirable to be about 2/3 or less.
次に、スリット状開口の形状に関してより詳細な説明をする。図12は本発明のウェハ収納容器に形成されているスリット状開口の種々の代表的な形状を示した説明図であり、図12(a)は第一詳細形状を示した説明図であり、図12(b)は第二詳細形状を示した説明図であり、図12(c)は第三詳細形状を示した説明図であり、図12(d)は第四詳細形状を示した説明図である。図12において、22は突状載置部である。なお、図12において、図10および図11と同様の作用を有する要素には同一の符号を付しその説明を省略した。なお、図12では、図11(b)で示した第二の形状のスリット状開口を基本としたときの種々の代表形状を示したものであるが、図11(a)で示した第一の形状を基本としても本質的に変わることはない。
Next, a more detailed description will be given regarding the shape of the slit opening. FIG. 12 is an explanatory view showing various representative shapes of slit-like openings formed in the wafer storage container of the present invention, and FIG. 12 (a) is an explanatory view showing a first detailed shape, 12B is an explanatory view showing the second detailed shape, FIG. 12C is an explanatory view showing the third detailed shape, and FIG. 12D is an explanatory view showing the fourth detailed shape. FIG. In FIG. 12,
まず、図12(a)の第一詳細形状は図11(b)に示した第二の形状と同等であり、図10に示されるようにスリット状開口7の半楕円部分でウェハべベル面が押えられることによってウェハを支持および保持する。この第一詳細形状は、ウェハ14の表面と上辺19aとの距離、およびウェハ14の裏面と下辺19bとの距離を最小に保つことが可能であり、収納時のウェハピッチを最小にすることが可能な形状である。このとき、ウェハ14の表面と上辺19aとの距離、およびウェハ14の裏面と下辺19bとの距離をおよそ0.5mm程度に狭くしても、開口の長さにも依存するがスリット状開口7の両端でのタワミ量は最大でも0.5mm以下に押えることができるため、特にウェハ工程内容器のように外部から加わる機械的衝撃力が小さな環境で用いる場合は、ウェハ収納時のピッチを7mm程度に狭くすることが可能となる。
First, the first detailed shape of FIG. 12 (a) is equivalent to the second shape shown in FIG. 11 (b), and the wafer bevel surface at the semi-elliptical portion of the slit-shaped
図12(b)に示した第二詳細形状は、図12(a)に示した第一詳細形状におけるスリット状開口7の上辺19aをウェハ14の表面から遠ざけて形成したものである。ウェハ出荷容器など輸送時の外部衝撃力が大きな用途においては、その外部衝撃によってウェハ14が弾性的に大きく撓んでしまう場合がある。そのタワミは、100Gの外部衝撃力がウェハ14に作用した場合、最大で18〜23mm程度となる。その衝撃力でウェハ14が変形してその表面がスリット状開口7の上辺19aに当たり損傷を受けないように、ウェハ14の表面と上辺19aとの間隔を最大で25mm程度離間させて形成している。この場合は、外部衝撃によってはウェハ14の裏面は下辺19bに当ってしまうことが課題となる。
The second detailed shape shown in FIG. 12B is formed by keeping the
図12(c)の第三詳細形状は、図12(b)の第二詳細形状の下辺をも最大で25mm程度離間させて形成したものである。このようにすることで、例え100Gの外部衝撃力がウェハ14に作用したとしても、ウェハ14の表面と裏面の両方ともスリット状開口7に当って損傷を受けることがなくなる。
The third detailed shape of FIG. 12C is formed by separating the lower side of the second detailed shape of FIG. By doing so, even if an external impact force of 100 G acts on the
図12(d)に示した第四詳細形状は、特に450mmウェハなどの超大口径ウェハ用の工程内容器などに用いられるものであって、最初からウェハ14の裏面を突状載置部22で支持した状態で、ウェハ14の周縁部(ウェハべベル面)を保持している。このようにすることで、ウェハ14のタワミを最小に抑えることが可能となる。このウェハ14のタワミが最小になるスリット状開口7の最適長さがあることは言うまでもない。また、この第四詳細形状においては、上辺19aとウェハ14の表面との距離を空けて、表面の損傷生じないようになっている。450mmウェハ工程内容器として用いる場合に、工程内で発生する加速度は最大でも4G程度であり、このとき必要なウェハ表面とスリット状開口7の上辺19aとの間隙は1mm程度以下でよい。このようにすることによって、450mmという超大口径ウェハであっても、ウェハ収納容器への収納ピッチを従来の300mmウェハ収納容器の収納ピッチと同程度の10mmとすることが可能となる。
The fourth detailed shape shown in FIG. 12 (d) is used particularly for an in-process container for a super-large diameter wafer such as a 450 mm wafer, and the back surface of the
以上説明してきたウェハ支持体は、所定の開位置または閉位置またはその両方で開き角度を保持できるように構成されていることが望ましい。それは、ウェハ支持体を確実に開位置や閉位置で固定することによって、ウェハ収納容器から安全にウェハを出し入れすることができるようにするためである。特に、図4や図9で説明したようなウェハ支持体においては、少なくともウェハ支持体またはサブ支持体が開位置で開き角の保持ができるようになっていないと、ウェハ支持体が弾性的にもとの位置に戻ってしまうためにウェハの収納が困難になってしまう。もちろん、ウェハを出し入れするためのロボットハンドによってウェハ支持体の開位置や閉位置の開き角を保持することも可能である。 The wafer support described above is preferably configured to maintain an opening angle at a predetermined open position, a closed position, or both. This is because the wafer support can be securely inserted and removed from the wafer container by securely fixing the wafer support in the open position or the closed position. In particular, in the wafer support as described with reference to FIGS. 4 and 9, if at least the wafer support or the sub-support can not hold the open angle in the open position, the wafer support is elastically elastic. Since it returns to the original position, it becomes difficult to store the wafer. Of course, it is also possible to hold the open position of the wafer support and the open angle of the closed position by a robot hand for taking in and out the wafer.
このようにウェハ支持体の開位置や閉位置の開き角を保持するために、ウェハ支持体が所定の角度になったときにその場所で固定されるように開ストッパや閉ストッパを設けることが望ましい。 Thus, in order to maintain the opening angle of the wafer support in the open position or the closed position, an open stopper or a close stopper may be provided so that the wafer support is fixed at that position when the wafer support is at a predetermined angle. desirable.
図13は本発明のウェハ収納容器における連結部に形成された開ストッパの作用を説明するための説明図であり、図13(a)はウェハ支持体が開いているときを示す説明図、図13(b)はウェハ支持体が閉じているときを示す説明図である。図13において、4は固定部、6aはウェハ支持体、23は弾性的ひっかけ部、24は固定部側近接端部、25はヒンジである。図13において、ウェハ支持体6aは固定部4とヒンジ25で連結されており開閉自在となっている。一方、固定部4のウェハ支持体6a側には弾性的ひっかけ部23が形成されている。図13(a)では、ウェハ支持体6aの固定部側近接端部24が固定部4の弾性的ひっかけ部23にひっかかって固定されている。ウェハ支持体6aが開いて図13(a)で示される位置にくると弾性的ひっかけ部23が変形してウェハ支持体6aの固定部側近接端部24がひっかかるようになっている。
FIG. 13 is an explanatory view for explaining the action of the opening stopper formed at the connecting portion in the wafer storage container of the present invention, and FIG. 13 (a) is an explanatory view showing when the wafer support is open, FIG. 13 (b) is an explanatory view showing a state in which the wafer support is closed. In FIG. 13, 4 is a fixing part, 6a is a wafer support, 23 is an elastic hook part, 24 is a fixing part side proximal end part, and 25 is a hinge. In FIG. 13, the
一方、ウェハ支持体6aが閉じると図13(b)に示すように弾性的ひっかけ部23は変形してウェハ支持体6aの固定部側近接端部24がはずれてウェハ支持体6aはヒンジ25の回りに自在に開閉できるようになる。このようにして、図13に示す連結部においては、ウェハ支持体6aが開いた所定の角度位置で固定され、それ以外の角度位置では開閉自在になるようにされている。
On the other hand, when the
図14は本発明のウェハ収納容器における開ストッパと閉ストッパの作用を説明するための説明図であり、図14(a)はウェハ支持体が閉じているときを示す説明図、図14(b)はウェハ支持体が開いているときを示す説明図である。図14において、4は固定部、5aと5bは連結部、6aと6bはウェハ支持体、26aと26bは閉ストッパ、27aと27bは開ストッパである。 FIG. 14 is an explanatory view for explaining the action of the opening stopper and the closing stopper in the wafer storage container of the present invention. FIG. 14 (a) is an explanatory view showing the wafer support being closed, and FIG. ) Is an explanatory view showing a state in which the wafer support is open. In FIG. 14, 4 is a fixing part, 5a and 5b are connecting parts, 6a and 6b are wafer supports, 26a and 26b are closing stoppers, and 27a and 27b are opening stoppers.
図14(a)に示すようにウェハ支持体が閉じているときは、ウェハ支持体6a、6bの端部は閉ストッパ26a、26bの止め溝に係合されて固定されている。そのため、ウェハ支持体6a、6bがこの閉ストッパから外れるような大きな外力が作用しない限り、ウェハを安定して支持・固定することができる。
As shown in FIG. 14A, when the wafer support is closed, the end portions of the wafer supports 6a and 6b are engaged with and fixed to the stop grooves of the
次に、閉ストッパ26a、26bから強制的にウェハ支持体6a、6bを外して、連結部5a、5bに設けられたヒンジを中心にしてウェハ支持体6a、6bを開き、その端部を開ストッパ27aに係合させて固定した状態を示したのが図14(b)である。このように、ウェハ支持体6a、6bの端部を開ストッパ27a、27bに固定することによって、図示しないロボットハンドで図示しないウェハを取り出す操作を行っている動作中に、外部からの何らかの影響を受けてウェハ支持体6aまたは6bが取り出し操作に干渉するような事故を起こすことはなくなる。
Next, the wafer supports 6a and 6b are forcibly removed from the
図14に示されている閉ストッパ26a、26bや開ストッパ27a、27bは、図示しない収納容器本体の開口部近傍に取り付けられている。しかし、ウェハ支持体26a、26bの閉ストッパ26a、26bや開ストッパ27a、27bへの係合部が、収納容器本体のより内部に設けられている場合は、これら閉ストッパや開ストッパをそれに対応させて収納容器本体の内部に取り付けても構わない。
The
これら閉ストッパや開ストッパは、ウェハ支持体と確実に係合できるようにウェハ支持体を形成する材料との摩擦係数や弾性力や硬度に関する最適化を行って選定された高分子材料を用いるのが望ましい。 These closed stoppers and open stoppers use polymer materials selected by optimizing the friction coefficient, elastic force and hardness with the material forming the wafer support so that they can be reliably engaged with the wafer support. Is desirable.
以上説明したように、本発明のウェハ収納容器は、少なくとも1つの容器開口を有する収納容器本体と、前記収納容器本体内部に設けられたウェハ支持構造を有するウェハ収納容器であって、前記ウェハ支持構造は、当該ウェハ支持構造を前記収納容器本体に取り付けて固定する固定部と、前記固定部を中央にして連結され開閉自在に構成された一対のウェハ支持体とからなり、前記一対のウェハ支持体には当該ウェハ支持体を閉じることによってウェハの端部を挿入して支持・固定するスリット状開口が互いに対向して等間隔に形成されており、前記固定部は当該固定部を前記収納容器本体に取り付けるための固定部側取り付け部を有しており、前記収納容器本体の内面には前記固定部を取り付ける収納容器側取り付け部が設けられている構造とした。これによって、300mmを超える大口径ウェハや0.3mm程度以下の薄いウェハを、これらのタワミを最小限に抑えて安全に収納することが可能となった。 As described above, the wafer storage container of the present invention is a wafer storage container having a storage container body having at least one container opening and a wafer support structure provided inside the storage container body, the wafer support container having the wafer support structure. The structure includes a fixing portion that attaches and fixes the wafer support structure to the storage container main body, and a pair of wafer supports that are connected with the fixing portion at the center and configured to be openable and closable. In the body, slit-like openings for inserting and supporting and fixing the end of the wafer by closing the wafer support are formed at equal intervals so as to face each other, and the fixing part is connected to the storage container. There is a fixed portion side mounting portion for mounting to the main body, and a storage container side mounting portion for mounting the fixed portion is provided on the inner surface of the storage container main body. It was the elephant. As a result, it becomes possible to safely store large-diameter wafers exceeding 300 mm and thin wafers of about 0.3 mm or less while minimizing these wrinkles.
本発明は、半導体ウエハを搬送あるいは保管するために用いられるウエハ収納容器を使用する半導体産業に適用できる。 The present invention can be applied to the semiconductor industry using a wafer container used for transporting or storing semiconductor wafers.
1・・・収納容器本体、2・・・容器開口、3・・・ウェハ支持構造、4・・・固定部、5a、5b・・・連結部、6、6a、6b・・・ウェハ支持体、
7、7a、7b・・・スリット状開口、10a、10b・・・サブ支持体、
12・・・蓋体、13・・・シール、14・・・ウェハ
DESCRIPTION OF
7, 7a, 7b ... slit-like openings, 10a, 10b ... sub-supports,
12 ... Lid, 13 ... Seal, 14 ... Wafer
Claims (4)
前記ウェハ支持構造は、
当該ウェハ支持構造を前記収納容器本体に取り付けて固定する固定部と、
前記固定部を中央にして連結され開閉自在に構成された一対のウェハ支持体とからなり、
前記一対のウェハ支持体には当該ウェハ支持体を閉じることによってウェハの端部を挿入して支持・固定するスリット状開口が互いに対向して等間隔に形成されており、
前記固定部は、当該固定部を前記収納容器本体に取り付けるための固定部側取り付け部を有しており、
前記収納容器本体の内面には、前記固定部を取り付ける収納容器側取り付け部が設けられていることを特徴とするウェハ収納容器。 A storage container body having at least one container opening; and a wafer storage container having a wafer support structure provided inside the storage container body,
The wafer support structure is
A fixing portion for attaching and fixing the wafer support structure to the storage container body;
It consists of a pair of wafer supports configured to be openable and closable connected with the fixed part at the center,
In the pair of wafer supports, slit-like openings for inserting and supporting and fixing the end of the wafer by closing the wafer support are formed at equal intervals so as to face each other.
The fixing part has a fixing part side attaching part for attaching the fixing part to the storage container body,
A wafer storage container, wherein an inner surface of the storage container main body is provided with a storage container side mounting portion for mounting the fixing portion.
The fixed part and the wafer support are connected by a hinge, and an elastic hook part is formed on the wafer support side of the fixed part. When the wafer support is in an open state, the wafer support A structure in which the fixed portion side adjacent end portion is caught and fixed to the elastic hook portion, and when the wafer support is to be closed in this state, the elastic hook portion is deformed and the fixed portion side adjacent end portion is detached. 4. The device according to claim 1 , wherein the wafer support is configured to maintain an opening angle at a predetermined open position, a closed position, or both. 5. Wafer storage container.
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