JP4892817B2 - Insulating resin layer, insulating resin layer with carrier, and multilayer printed wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、絶縁樹脂層、キャリア付き絶縁樹脂層および多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to an insulating resin layer, an insulating resin layer with a carrier, and a multilayer printed wiring board.

近年の電子機器の大容量化、高速化、高密度化、そして小型化が進むにつれ、複数の機能を持つ部品を一つのパッケージ基板に表面実装する方法が多く用いられている。
しかし、パッケージ基板表面に部品を実装する手法は、2次元方向のスペースのみのため基板の面積を搭載する部品の面積よりも小さくすることに制約があり、パッケージ基板の小型化、高密度化に限界があった。
As the capacity, speed, density, and miniaturization of electronic devices in recent years have progressed, a method of surface-mounting a component having a plurality of functions on a single package substrate is often used.
However, the method of mounting components on the surface of the package substrate is limited to making the area of the substrate smaller than the area of the component to be mounted because of the space in the two-dimensional direction. There was a limit.

そこで、各部品をパッケージ基板の表面のみならず、基板の内部に内蔵し3次元的に配置することでパッケージ基板の小型化、高密度化を実現する方法が考案されている。   In view of this, a method has been devised in which each component is incorporated not only on the surface of the package substrate but also inside the substrate and arranged three-dimensionally to reduce the size and density of the package substrate.

このように部品を内蔵する形態の基板においては、部品の高周波化に伴い、信号伝搬速度の高速化が必要とされており、これを実現するために低誘電率、低誘電正接、低吸水率といった特性を有する絶縁樹脂層が必要とされる。   In a board with a built-in component, it is necessary to increase the signal propagation speed as the frequency of the component increases. To achieve this, a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, and a low water absorption rate are required. An insulating resin layer having such characteristics is required.

このような目的は下記の本発明(1)〜(5)によって達成される。
(1)多層プリント配線板に用いられる絶縁樹脂層であって、前記絶縁樹脂層は、ベンゾシクロブテン樹脂及び/又はそのプレポリマーと無機充填材とを含み、比誘電率が3.2以下である第1の層と、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーと無機充填材とを含み、線膨張係数が40ppm/℃以下である第2の層とからなり、第1の層を形成する樹脂組成物は、ベンゾシクロブテン樹脂及び/又はそのプレポリマーを第1の層を形成する樹脂組成物中の固形分全体に対して30〜90重量%含み、第2の層を形成する樹脂組成物は、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを第2の層を形成する樹脂組成物中の固形分全体に対して10〜50重量%含み、かつそれぞれ少なくとも一層以上積層され、前記ベンゾシクロブテン樹脂の数平均分子量は3000〜1,000,000であることを特徴とする絶縁樹脂層。
(2)前記第1の層は、吸水率が0.8重量%以下である上記(1)に記載の絶縁樹脂層。
(3)上記(1)又は(2)に記載の絶縁樹脂層と、その少なくとも片面に接合されたキャリアとから構成されることを特徴とするキャリア付き絶縁樹脂層。
(4)上記(1)又は(2)に記載の絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント配線板。
(5)上記(3)に記載のキャリア付き絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント配線板。
Such an object is achieved by the following present inventions (1) to (5).
(1) An insulating resin layer used for a multilayer printed wiring board, wherein the insulating resin layer includes a benzocyclobutene resin and / or a prepolymer thereof and an inorganic filler, and has a relative dielectric constant of 3.2 or less . A resin composition comprising a certain first layer and a second layer containing a cyanate resin and / or a prepolymer thereof and an inorganic filler and having a linear expansion coefficient of 40 ppm / ° C. or less , and forming the first layer The product contains 30 to 90% by weight of the benzocyclobutene resin and / or its prepolymer with respect to the total solid content in the resin composition forming the first layer, and the resin composition forming the second layer is comprises 10 to 50% by weight relative to the total solid content of the resin composition forming the second layer of the cyanate resin and / or a prepolymer thereof, and laminated on at least one layer respectively, wherein the benzocyclobutene resin Insulating resin layer, wherein the number-average molecular weight is 3000~1,000,000.
(2) The insulating resin layer according to (1), wherein the first layer has a water absorption rate of 0.8% by weight or less.
(3) An insulating resin layer with a carrier comprising the insulating resin layer according to (1) or (2) above and a carrier bonded to at least one surface thereof.
(4) A multilayer printed wiring board obtained by laminating the insulating resin layer according to (1) or (2) above on at least one surface of an inner layer circuit board, and heating and pressing.
(5) A multilayer printed wiring board obtained by laminating the insulating resin layer with a carrier as described in (3) above on at least one surface of an inner layer circuit board, and heating and pressing.

冷熱サイクル時に発生するクラックを防止するためには低線膨張、高引張り強度といった機械的強度が求められる。これらの機械的強度を得るためには、例えば無機フィラーを高充填した樹脂組成物を用いる方法がある(例えば、特許文献2参照。)。無機フィラーを高充填した樹脂組成物を用いると、低線膨張化でき、かつ引張り強度を高めることができるため、冷熱サイクル時の応力が緩和されクラックの発生を防ぐことができる。
しかし、樹脂に無機フィラーを高充填すると誘電率が高くなり、高周波用途で重要とされる信号伝搬速度に影響が生じる。
Mechanical strength such as low linear expansion and high tensile strength is required to prevent cracks generated during the cooling and heating cycle. In order to obtain these mechanical strengths, for example, there is a method using a resin composition highly filled with an inorganic filler (see, for example, Patent Document 2). When a resin composition highly filled with an inorganic filler is used, the linear expansion can be reduced and the tensile strength can be increased. Therefore, the stress during the cooling and heating cycle is relieved and the occurrence of cracks can be prevented.
However, when the resin is highly filled with an inorganic filler, the dielectric constant increases, which affects the signal propagation speed, which is important for high frequency applications.

また、線膨張係数が低く機械的強度に優れた樹脂として、シアネート樹脂が用いられる。シアネート樹脂はその硬化反応によってトリアジン環を形成する。トリアジン環はその骨格構造から剛直であるため、熱時の体積変化が小さく機械的強度に優れる。
しかし、トリアジン環は環中の窒素原子に孤立電子対が存在するため、吸水率が高く、また酸性条件下、特に高温多湿の条件下では高周波用途で重要とされる比誘電率や誘電正接の悪化が懸念される。
Further, cyanate resin is used as a resin having a low linear expansion coefficient and excellent mechanical strength. The cyanate resin forms a triazine ring by its curing reaction. Since the triazine ring is rigid due to its skeletal structure, the volume change upon heating is small and the mechanical strength is excellent.
However, the triazine ring has a high water absorption rate due to the presence of a lone pair of electrons in the nitrogen atom in the ring, and also has a relative dielectric constant and dielectric loss tangent that are important in high frequency applications under acidic conditions, particularly high-temperature and high-humidity conditions. There is concern about deterioration.

このように、パッケージ基板の小型化、高密度化に対応し、搭載部品を内蔵した多層プリント配線板に用いることができ、充分な機械的特性と誘電特性とを有する絶縁樹脂層材料が求められていた。   As described above, there is a need for an insulating resin layer material that can be used for a multilayer printed wiring board with built-in components and that has sufficient mechanical characteristics and dielectric characteristics in response to miniaturization and high density of package substrates. It was.

特開2000−21872号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-21872 特開平11−220262号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-220262

本発明は、機械的強度が強く、かつ誘電特性に優れた絶縁樹脂層、キャリア付き絶縁樹脂層、及び、これらを用いた多層プリント配線板を提供するものである。   The present invention provides an insulating resin layer having high mechanical strength and excellent dielectric characteristics, an insulating resin layer with a carrier, and a multilayer printed wiring board using these.

このような目的は下記の本発明(1)〜()によって達成される。
(1)多層プリント配線板に用いられる絶縁樹脂層であって、前記絶縁樹脂層は、ベンゾシクロブテン樹脂及び/又はそのプレポリマーを含むものである第1の層と、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを含むものである第2の層とからなり、それぞれ少なくとも一層以上積層され、前記ベンゾシクロブテン樹脂の数平均分子量は3000〜1,000,000であることを特徴とする絶縁樹脂層。
(2)前記第1の層は、吸水率が0.8重量%以下である上記(1)に記載の絶縁樹脂層。
(3)上記(1)又は(2)に記載の絶縁樹脂層と、その少なくとも片面に接合されたキャリアとから構成されることを特徴とするキャリア付き絶縁樹脂層。
(4)上記(1)又は(2)に記載の絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント配線板。
(5)上記(3)に記載のキャリア付き絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント配線板。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to ( 5 ) below.
(1) An insulating resin layer used for a multilayer printed wiring board, wherein the insulating resin layer includes a first layer containing a benzocyclobutene resin and / or a prepolymer thereof , a cyanate resin and / or the same consists of a second layer are those comprising a prepolymer, laminated on at least one layer respectively, the insulating resin layer has a number average molecular weight, wherein 3000~1,000,000 der Rukoto of the benzocyclobutene resin .
(2) The insulating resin layer according to (1), wherein the first layer has a water absorption rate of 0.8% by weight or less.
(3) An insulating resin layer with a carrier comprising the insulating resin layer according to (1) or (2 ) above and a carrier bonded to at least one surface thereof.
(4) A multilayer printed wiring board obtained by laminating the insulating resin layer according to (1) or (2 ) above on at least one surface of an inner layer circuit board, and heating and pressing.
(5) A multilayer printed wiring board obtained by laminating the insulating resin layer with a carrier as described in (3 ) above on at least one surface of an inner layer circuit board, and heating and pressing.

本発明は、誘電特性に優れた樹脂層と機械的特性に優れた樹脂層とのそれぞれ少なくとも1層以上からなる絶縁樹脂層、キャリア付き絶縁樹脂層、及び、これらを用いた多層プリント配線板であり、従来のものと比較して高周波回路周辺の誘電特性を損なうことなく部品周辺の機械的強度を向上させた多層プリント配線板を製造することができるものである。   The present invention relates to an insulating resin layer composed of at least one of a resin layer having excellent dielectric properties and a resin layer having excellent mechanical properties, an insulating resin layer with a carrier, and a multilayer printed wiring board using them. Thus, it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board with improved mechanical strength around the component without impairing the dielectric characteristics around the high frequency circuit as compared with the conventional one.

以下、本発明の絶縁樹脂層、キャリア付き絶縁樹脂層、及び多層プリント配線板について説明する。
本発明の絶縁樹脂層は、比誘電率が3.2以下である第1の層と、線膨張係数が40ppm以下である第2の層とからなり、それぞれ少なくとも一層以上積層されてなることを特徴とする。
また、本発明のキャリア付き絶縁樹脂層は、上記本発明の絶縁樹脂層と、その少なくとも片面に接合されたキャリアとから構成されることを特徴とする。
そして、本発明の多層プリント配線板は、上記本発明の絶縁樹脂層又はキャリア付き絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする。
Hereinafter, the insulating resin layer, the insulating resin layer with carrier, and the multilayer printed wiring board of the present invention will be described.
The insulating resin layer of the present invention comprises a first layer having a relative dielectric constant of 3.2 or less and a second layer having a linear expansion coefficient of 40 ppm or less, and each layer is laminated at least one layer. Features.
Moreover, the insulating resin layer with a carrier of the present invention is composed of the insulating resin layer of the present invention and a carrier bonded to at least one surface thereof.
The multilayer printed wiring board of the present invention is characterized in that the insulating resin layer of the present invention or the insulating resin layer with a carrier is laminated on at least one surface of the inner circuit board, and heated and pressed.

まず、本発明の絶縁樹脂層について説明する。
本発明の絶縁樹脂層において、第1の層は、比誘電率が3.2以下である。また、第1の層の吸水率としては特に限定されないが、0.8重量%以下であることが好ましい。これにより、特に高温多湿の条件下においても、高周波回路において重要とされる比誘電率、誘電正接を低くすることができるとともに、接続信頼性の低下を抑制できる。
First, the insulating resin layer of the present invention will be described.
In the insulating resin layer of the present invention, the first layer has a relative dielectric constant of 3.2 or less. The water absorption rate of the first layer is not particularly limited, but is preferably 0.8% by weight or less. As a result, the relative permittivity and dielectric loss tangent, which are important in a high-frequency circuit, can be lowered even under high-temperature and high-humidity conditions, and a decrease in connection reliability can be suppressed.

このような第1の層を形成できる樹脂組成物としては特に限定されないが、ベンゾシク
ロブテン樹脂及び/又はそのプレポリマーを含むものであることが好ましい。
Although it does not specifically limit as a resin composition which can form such a 1st layer, It is preferable that it contains a benzocyclobutene resin and / or its prepolymer.

本発明で使用されるベンゾシクロブテン樹脂は、特に限定されるものではなく、シクロブテン骨格を含む樹脂であればよい。これらの中でも、下記一般式(I)で表されるベンゾシクロブテン樹脂を含むことが好ましい。これにより、ガラス転移温度を高くでき、硬化後の樹脂特性を向上させることができる。   The benzocyclobutene resin used in the present invention is not particularly limited as long as it contains a cyclobutene skeleton. Among these, it is preferable to include a benzocyclobutene resin represented by the following general formula (I). Thereby, a glass transition temperature can be made high and the resin characteristic after hardening can be improved.

Figure 0004892817
Figure 0004892817

ベンゾシクロブテン樹脂は硬化反応によって水酸基などの分極率の大きな官能基が生じることがないため、誘電特性が非常に優れており、かつ、吸水率が低い。更に、剛直な化学構造を有するため耐熱性に優れている。   Since the benzocyclobutene resin does not generate a functional group having a large polarizability such as a hydroxyl group by a curing reaction, the dielectric property is very excellent and the water absorption is low. Furthermore, since it has a rigid chemical structure, it has excellent heat resistance.

また、上記一般式(I)を有するベンゾシクロブテン樹脂をBステージ化したもの(プレポリマー)も、成形性、流動性を調整するために好ましく使用され、本発明に含まれるものである。Bステージ化は通常、ベンゾシクロブテン樹脂を加熱溶融することにより行われる。ここで、Bステージ化したベンゾシクロブテン樹脂とは、例えば数平均分子量3000〜1,000,000のものをいう。数平均分子量は、例えばGPCを用いて測定することができる。   Further, a B-staged benzocyclobutene resin having the above general formula (I) (prepolymer) is also preferably used for adjusting moldability and fluidity, and is included in the present invention. B-staging is usually performed by heating and melting a benzocyclobutene resin. Here, the B-staged benzocyclobutene resin is, for example, one having a number average molecular weight of 3000 to 1,000,000. The number average molecular weight can be measured using, for example, GPC.

第1の層を形成する樹脂組成物においてベンゾシクロブテン樹脂を用いる場合、樹脂組成物中におけるベンゾシクロブテン樹脂の含有量は特に限定されないが、樹脂組成物中の固形分全体に対して20〜95重量%が好ましく、特に30〜90重量%が好ましい。含有量が上記下限値未満では比誘電率、誘電正接等の誘電特性を向上させる効果が充分でない場合があり、上記上限値を越えると機械的強度が低下する場合がある。   In the case where a benzocyclobutene resin is used in the resin composition forming the first layer, the content of the benzocyclobutene resin in the resin composition is not particularly limited, but it is 20 to the total solid content in the resin composition. 95 weight% is preferable, and 30 to 90 weight% is especially preferable. If the content is less than the above lower limit, the effect of improving the dielectric properties such as relative permittivity and dielectric loss tangent may not be sufficient, and if the content exceeds the upper limit, the mechanical strength may be lowered.

本発明の絶縁樹脂層において、第2の層は、線膨張係数が40ppm以下である。また、第2の層の引張り強度としては特に限定されないが、80MPa以上であることが好ましい。これにより、冷熱サイクル負荷を付与した際に生じる力学的歪みを緩和し、チップや銅配線といった金属付近の樹脂で発生するクラックを抑制することにより熱時信頼性を高めることができる。   In the insulating resin layer of the present invention, the second layer has a linear expansion coefficient of 40 ppm or less. Further, the tensile strength of the second layer is not particularly limited, but is preferably 80 MPa or more. As a result, the mechanical strain generated when a thermal cycle load is applied can be alleviated, and the thermal reliability can be improved by suppressing cracks generated in a resin near the metal such as a chip or a copper wiring.

このような第2の層を形成できる樹脂組成物としては特に限定されないが、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを含むものであることが好ましい。   Although it does not specifically limit as a resin composition which can form such a 2nd layer, It is preferable that it contains cyanate resin and / or its prepolymer.

シアネート樹脂は、特に限定されるものではなく、シアネート基を有する樹脂であればよい。これらの中でも下記一般式(II)で表されるノボラックシアネート樹脂を含むことが好ましい。これにより、ガラス転移温度を高くでき、硬化後の機械的強度や難燃性をより向上させることができる。   The cyanate resin is not particularly limited, and may be a resin having a cyanate group. Among these, it is preferable to contain novolak cyanate resin represented by the following general formula (II). Thereby, a glass transition temperature can be made high and the mechanical strength and flame retardance after hardening can be improved more.

Figure 0004892817
Figure 0004892817

シアネート樹脂は硬化反応によってトリアジン環を形成し、その剛直な骨格構造により耐熱性に優れ、また熱時の体積変化が小さく機械的強度に優れる。   The cyanate resin forms a triazine ring by a curing reaction, and is excellent in heat resistance due to its rigid skeleton structure, and has a small volume change during heat and excellent mechanical strength.

上記一般式(II)で示されるノボラック型シアネート樹脂の数平均分子量は特に限定されないが、250〜900が好ましく、特に300〜600が好ましい。ノボラック型シアネート樹脂の数平均分子量が上記下限値未満であると機械的強度が低下する場合があり、上記上限値を超えると樹脂組成物の硬化速度が速いため保存性が低下する場合がある。
上記ノボラック型シアネート樹脂は、例えば任意のノボラック型フェノール樹脂と塩化シアン、臭化シアン等のハロゲン化シアン化合物とを反応させることで得ることができる。
The number average molecular weight of the novolak cyanate resin represented by the general formula (II) is not particularly limited, but is preferably 250 to 900, and particularly preferably 300 to 600. When the number average molecular weight of the novolak-type cyanate resin is less than the above lower limit value, the mechanical strength may be lowered, and when the upper limit value is exceeded, the curing rate of the resin composition is high, and the storability may be lowered.
The novolac type cyanate resin can be obtained, for example, by reacting an arbitrary novolac type phenol resin with a halogenated cyanide compound such as cyanogen chloride or cyanogen bromide.

第2の層を形成する樹脂組成物においてシアネート樹脂を用いる場合、樹脂組成物中におけるシアネート樹脂の含有量は特に限定されないが、樹脂組成物中の固形分全体の5〜60重量%が好ましく、特に10〜50重量%が好ましい。含有量が上記下限値未満では機械的強度を向上させる効果が低下する場合があり、上記上限値を越えると吸水率が高くなり、高周波領域での誘電特性が低下する場合がある。   When the cyanate resin is used in the resin composition forming the second layer, the content of the cyanate resin in the resin composition is not particularly limited, but is preferably 5 to 60% by weight of the total solid content in the resin composition, 10 to 50 weight% is especially preferable. If the content is less than the lower limit, the effect of improving the mechanical strength may be reduced. If the content exceeds the upper limit, the water absorption is increased, and the dielectric properties in the high frequency region may be reduced.

なお、本発明において比誘電率、吸水率、線膨張係数、及び引張り強度は、それぞれ、下記の条件により測定されたものである。
(1)比誘電率:JIS C 6481に準拠して、A状態の条件で測定した。
(2)吸水率:JIS C 6481に準拠して、E−24/50+D−24/23の条件で測定した。
(3)線膨張係数:R10℃、35℃〜85℃の間で測定した。
(4)引張り強度:引張モードで荷重フルスケール20kgf、速度5mm/min.の条件で測定した。
In the present invention, the relative dielectric constant, water absorption, linear expansion coefficient, and tensile strength are measured under the following conditions.
(1) Relative permittivity: Measured under the condition of A state according to JIS C 6481.
(2) Water absorption: Measured under the conditions of E-24 / 50 + D-24 / 23 according to JIS C 6481.
(3) Linear expansion coefficient: R10 ° C, measured between 35 ° C and 85 ° C.
(4) Tensile strength: in load mode, load full scale 20kgf, speed 5mm / min. It measured on condition of this.

本発明の絶縁樹脂層において、上記第1の層及び第2の層を形成する樹脂組成物は、それぞれ、硬化剤を含有することができる。   In the insulating resin layer of the present invention, each of the resin compositions forming the first layer and the second layer can contain a curing agent.

第1の層を形成する樹脂組成物で用いられる硬化剤としては特に限定されないが、ベンゾシクロブテン樹脂を用いた場合、その硬化剤あるいは硬化剤と同等の作用をもつ化合物としては、例えばトリアリルイソシアヌレート、ポリブタジエンゴム、SBR、NBR、ABS等のオレフィンの官能基を有する化合物、アクリル酸エステル等のアクリルの官能基を有する化合物、MMA等のメタクリルの官能基を有する化合物、1,2―ビス(アジドベンジル)エチレン等のアジド基を有する化合物などを挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent used with the resin composition which forms a 1st layer, When using a benzocyclobutene resin, as a compound which has an effect | action equivalent to the hardening | curing agent or a hardening | curing agent, for example, triallyl Isocyanurate, polybutadiene rubber, compounds having an olefin functional group such as SBR, NBR, ABS, compounds having an acrylic functional group such as acrylate ester, compounds having a methacrylic functional group such as MMA, 1,2-bis (Azidobenzyl) A compound having an azide group such as ethylene can be mentioned.

また、第2の層を形成する樹脂組成物で用いられる硬化剤としては特に限定されないが、シアネート樹脂を用いた場合、その硬化剤あるいは硬化剤と同等の作用をもつ化合物としては、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロ岸メチルイミダゾールなどのイミダゾール化合物のほか、トリス(アセチルアセトナト)コバルト(III)、ノボラック型フェノール樹脂などが挙げられる。   Further, the curing agent used in the resin composition for forming the second layer is not particularly limited, but when a cyanate resin is used, as the curing agent or a compound having an action equivalent to that of the curing agent, 2-phenyl Imidazole compounds such as -4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydrobank methylimidazole In addition, tris (acetylacetonato) cobalt (III), novolac type phenol resin and the like can be mentioned.

硬化剤の配合量としては特に限定されないが、第1の層を形成する樹脂組成物でベンゾシクロブテン樹脂を用いる場合は、ベンゾシクロブテン樹脂に対して0.1〜5重量%とすることが好ましく、特に好ましくは1〜4重量%である。
また、第2の層を形成する樹脂組成物でシアネート樹脂を用いる場合は、例えばイミダゾール化合物ではシアネート樹脂に対して0.01〜1重量%とすることが好ましく、特に好ましくは0.02〜0.8重量%である。また、ノボラック型フェノール樹脂ではシアネート樹脂に対して1〜10重量%とすることが好ましく、特に好ましくは2〜8重量%である。
The blending amount of the curing agent is not particularly limited, but when a benzocyclobutene resin is used in the resin composition forming the first layer, it may be 0.1 to 5% by weight with respect to the benzocyclobutene resin. The amount is particularly preferably 1 to 4% by weight.
Moreover, when using cyanate resin with the resin composition which forms a 2nd layer, it is preferable to set it as 0.01 to 1 weight% with respect to cyanate resin, for example with an imidazole compound, Most preferably, it is 0.02 to 0 .8% by weight. Moreover, in a novolak-type phenol resin, it is preferable to set it as 1-10 weight% with respect to cyanate resin, Most preferably, it is 2-8 weight%.

第1の層を形成する樹脂組成物において、硬化剤の配合量が上記下限値未満であると、多層プリント配線板を製造する際、加熱加圧成形時のフローが大きくなり、絶縁樹脂層の平滑性が低下する場合がある。また、上記上限値を超えると多層プリント配線板に成形不良を生じる場合がある。
第2の層を形成する樹脂組成物において、硬化剤の配合量が上記下限値未満であると、加熱加圧成形時のフローが大きくなって絶縁層厚さにバラツキが生じたり、あるいは加熱加圧成形時に多層プリント配線板が滑りやすくなったりする場合がある。また、上記上限値を超えると多層プリント配線板に成形不良を生じる場合がある。
In the resin composition forming the first layer, when the amount of the curing agent is less than the lower limit, when producing a multilayer printed wiring board, the flow at the time of heat and pressure molding becomes large, and the insulating resin layer Smoothness may be reduced. Moreover, when the said upper limit is exceeded, a shaping | molding defect may arise in a multilayer printed wiring board.
In the resin composition forming the second layer, if the blending amount of the curing agent is less than the above lower limit value, the flow at the time of heat and pressure molding increases, resulting in variations in the insulating layer thickness, or by heating. The multilayer printed wiring board may become slippery during pressure forming. Moreover, when the said upper limit is exceeded, a shaping | molding defect may arise in a multilayer printed wiring board.

本発明の絶縁樹脂層を形成する樹脂組成物においては、第1の層、第2の層とも、無機充填材を用いることができる。
ここで用いられる無機充填材としては特に限定されないが、例えば、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素等の窒化物、タルク、焼成クレー、未焼成クレー、マイカ、ガラス等のケイ酸塩、酸化チタン、アルミナ、シリカ、溶融シリカ等の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ハイドロタルサイト等の炭酸塩、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化物、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム等の硫酸塩または亜硫酸塩、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム等のホウ酸塩等を挙げることができる。
In the resin composition forming the insulating resin layer of the present invention, an inorganic filler can be used for both the first layer and the second layer.
The inorganic filler used here is not particularly limited, but for example, nitrides such as aluminum nitride, boron nitride, and silicon nitride, talc, fired clay, unfired clay, mica, silicates such as glass, titanium oxide, Oxides such as alumina, silica and fused silica, carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate and hydrotalcite, hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and calcium hydroxide, barium sulfate, calcium sulfate and calcium sulfite And borates such as zinc borate, barium metaborate, aluminum borate, calcium borate, sodium borate and the like.

これらの中でも低熱膨張で絶縁信頼性の高いシリカが好ましい。さらには球状シリカが
好ましく、球状溶融シリカが特に好ましい。これにより、樹脂組成物中における無機充填材の配合量を多くでき、絶縁樹脂層を特に低熱膨張化させることができる。また、球状シリカを用いることにより樹脂組成物の溶融粘度を低く維持することができるので、多層プリント配線板を製造する際の内層回路基板の凹凸を埋める成形性を向上させることができる。
Among these, silica with low thermal expansion and high insulation reliability is preferable. Furthermore, spherical silica is preferable, and spherical fused silica is particularly preferable. Thereby, the compounding quantity of the inorganic filler in a resin composition can be increased, and an insulating resin layer can be made especially low thermal expansion. Moreover, since the melt viscosity of the resin composition can be kept low by using spherical silica, it is possible to improve the moldability for filling the irregularities of the inner circuit board when manufacturing the multilayer printed wiring board.

上記無機充填材の粒度としては特に限定されないが、平均粒径が0.01〜5μmであることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜2μmである。平均粒径が上記下限値未満であると、樹脂組成物ワニスを調製した場合に粘度が高くなることがある。また、上記上限値を超えると、樹脂組成物ワニス中で無機充填材の沈降等が起こりやすく、いずれの場合も作業性が低下する場合がある。   Although it does not specifically limit as a particle size of the said inorganic filler, It is preferable that an average particle diameter is 0.01-5 micrometers, More preferably, it is 0.2-2 micrometers. When the average particle size is less than the above lower limit, the viscosity may increase when a resin composition varnish is prepared. Moreover, when the said upper limit is exceeded, sedimentation etc. of an inorganic filler will occur easily in a resin composition varnish, and workability | operativity may fall in any case.

本発明の絶縁樹脂層に用いられる樹脂組成物には、以上に説明した成分のほか、本発明の目的に反しない範囲において、これ以外の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、難燃剤、硬化促進剤、カップリング剤、その他の成分を添加することができる。   In addition to the components described above, the resin composition used in the insulating resin layer of the present invention is not limited to the purpose of the present invention, but other thermosetting resins, thermoplastic resins, flame retardants, and curing accelerators. Agents, coupling agents, and other components can be added.

本発明の絶縁樹脂層は、このような樹脂組成物で構成される第1の層と第2の層とを有するものである。これにより、多層プリント配線板製造時に、内層回路や搭載部品などの凹凸の埋め込み性と絶縁層厚さの維持、平滑化を両立できる。   The insulating resin layer of the present invention has a first layer and a second layer composed of such a resin composition. Thereby, at the time of manufacturing a multilayer printed wiring board, it is possible to achieve both the embedding property of the unevenness of the inner layer circuit and the mounted component, the maintenance of the insulating layer thickness, and smoothing.

本発明の絶縁シートにおいて、第1の層、第2の層の厚みは特に限定されないが、第1の層は10〜50μm、第2の層は10〜100μmであることが好ましい。また、絶縁シート全体の厚みとしては特に限定されないが、20〜100μmとすることが好ましい。   In the insulating sheet of the present invention, the thicknesses of the first layer and the second layer are not particularly limited, but the first layer is preferably 10 to 50 μm, and the second layer is preferably 10 to 100 μm. Moreover, although it does not specifically limit as thickness of the whole insulating sheet, It is preferable to set it as 20-100 micrometers.

本発明の絶縁樹脂層は、以上に説明した第1の層と第2の層とからなり、それぞれ1層以上積層されているものである。
本発明の絶縁樹脂層の構成としては特に限定されないが、例えば、第1の層と第2の層とを1層ずつ接合して本発明の絶縁樹脂層とすることができる。また、第1の層及び/又は第2の層を、2層以上接合して、本発明の絶縁樹脂層とすることもできる。
The insulating resin layer of the present invention is composed of the first layer and the second layer described above, and one or more layers are laminated.
Although it does not specifically limit as a structure of the insulating resin layer of this invention, For example, the 1st layer and the 2nd layer can be joined one layer at a time, and it can be set as the insulating resin layer of this invention. Further, two or more of the first layer and / or the second layer may be bonded to form the insulating resin layer of the present invention.

次に、本発明のキャリア付き絶縁樹脂層について説明する。
本発明のキャリア付き絶縁樹脂層は、以上に説明した本発明の絶縁樹脂層と、その少なくとも片面に接合されたキャリアとから構成されるものである。
Next, the insulating resin layer with a carrier of the present invention will be described.
The insulating resin layer with a carrier of the present invention is composed of the above-described insulating resin layer of the present invention and a carrier bonded to at least one surface thereof.

上記キャリアとしては特に限定されないが、例えば、銅または銅系合金、アルミまたはアルミ系合金等で構成される金属箔、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂等で構成される樹脂フィルム等が挙げられる。   The carrier is not particularly limited, but for example, a metal foil composed of copper or a copper alloy, aluminum or an aluminum alloy, a fluorine resin, a polyimide resin, a polybutylene terephthalate, or a polyester resin such as polyethylene terephthalate. Resin film and the like.

本発明のキャリア付き絶縁樹脂層において、キャリアと絶縁樹脂層との位置関係は特に限定されないが、例えば、絶縁樹脂層が上記第1の層と第2の層とのそれぞれ1層ずつから構成されるものである場合は、第1の層は、キャリアと接合する側に形成されることが好ましい。そして第2の層は、第1の層の上記キャリアと接合した側と反対側に形成されることが好ましい。
これにより、本発明のキャリア付き絶縁樹脂層を用いて多層プリント配線板を製造する際に、内層回路板側あるいは部品を搭載した内層回路板側にキャリア付き絶縁樹脂層の絶縁樹脂層側が接合するようにキャリア付き絶縁樹脂層を積層して、これを加熱加圧成形することで、第1の層による絶縁層厚さの維持・平滑化と、第2の層による内層回路や搭載部品などの凹凸の良好な埋め込み性を両立することができる。
このほか、上記第1の層及び/又は第2の層を、2層以上用いてキャリアと接合して、本発明のキャリア付き絶縁樹脂層とすることもできる。
In the insulating resin layer with a carrier of the present invention, the positional relationship between the carrier and the insulating resin layer is not particularly limited. For example, the insulating resin layer is composed of one layer each of the first layer and the second layer. In the case where the first layer is formed, the first layer is preferably formed on the side to be bonded to the carrier. And it is preferable that a 2nd layer is formed in the opposite side to the side joined to the said carrier of a 1st layer.
Thereby, when manufacturing a multilayer printed wiring board using the insulating resin layer with a carrier of the present invention, the insulating resin layer side of the insulating resin layer with a carrier is bonded to the inner layer circuit board side or the inner layer circuit board side on which components are mounted. In this way, the insulating resin layer with a carrier is laminated, and this is heated and pressed to maintain and smooth the insulating layer thickness by the first layer, and the inner layer circuit and mounted components by the second layer, etc. It is possible to achieve both good embedding and unevenness.
In addition, it is also possible to use the first layer and / or the second layer to join the carrier using two or more layers to form the insulating resin layer with a carrier of the present invention.

本発明の絶縁樹脂層及びキャリア付き絶縁樹脂層の製造方法としては特に限定されないが、上記第1の層及び第2の層を形成する樹脂組成物をそれぞれ溶剤に溶解した樹脂ワニスとし、通常の塗工装置を用いて、これをキャリアに塗工、あるいは所定の順序で順次塗工することにより形成することができる。樹脂組成物を樹脂ワニスの形態で用いることにより塗工性が良好になり、平滑性及び厚み精度の高い絶縁樹脂層を得ることができる。
例えば、キャリア上に第1の層の樹脂ワニスを塗工して所定の温度(例えば80〜200℃)で乾燥して、溶剤を実質的に除去して製膜することで第1の層を形成した後、さらに、第2の層の樹脂ワニスを塗工し同様に製膜することで第2の層を形成する。このような方法により、キャリア付き絶縁樹脂層を得ることができる。得られたキャリア付き絶縁樹脂層はそのまま用いることもできるし、キャリアを剥離して絶縁樹脂層として用いることもできる。
Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the insulating resin layer of this invention, and the insulating resin layer with a carrier, The resin composition which forms the said 1st layer and the 2nd layer is made into the resin varnish which melt | dissolved in the solvent, respectively, It can be formed by coating this on a carrier using a coating apparatus, or sequentially coating in a predetermined order. By using the resin composition in the form of a resin varnish, the coating property is improved, and an insulating resin layer having high smoothness and high thickness accuracy can be obtained.
For example, the first layer of resin varnish is coated on a carrier, dried at a predetermined temperature (for example, 80 to 200 ° C.), and the first layer is formed by substantially removing the solvent to form a film. After the formation, the second layer is formed by coating the resin varnish of the second layer and forming the film in the same manner. By such a method, an insulating resin layer with a carrier can be obtained. The obtained insulating resin layer with a carrier can be used as it is, or the carrier can be peeled off and used as an insulating resin layer.

上記第1の層及び第2の層の樹脂ワニスを調製する際に用いられる溶剤は、樹脂組成物に対して良好な溶解性を示すことが望ましいが、悪影響を及ぼさない範囲で貧溶媒を使用しても構わない。
ベンゾシクロブテン樹脂の良溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキサノン等、またシアネート樹脂の良溶媒としては、MEK、MIBK、シクロヘキサノン等が挙げられる。
The solvent used when preparing the resin varnishes of the first layer and the second layer is desirably good solubility in the resin composition, but a poor solvent is used as long as it does not have an adverse effect. It doesn't matter.
Examples of good solvents for benzocyclobutene resins include toluene, xylene, mesitylene, cyclohexanone, and examples of good solvents for cyanate resins include MEK, MIBK, and cyclohexanone.

次に、本発明の多層プリント配線板について説明する。
本発明の多層プリント配線板は、上記で得られた本発明の絶縁樹脂層、あるいは、キャリア付き絶縁樹脂層を、内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱加圧成形して得ることができる。
本発明の多層プリント配線板を製造する方法としては特に限定されないが、例えば、2種類の層からなり予め一体化された絶縁樹脂層を内層回路板に重ね合わせて加熱加圧成形する方法のほか、第1の層及び第2の層を1層ずつあるいは2層以上ラミネート等の方法により内層回路板に仮圧着した後、加熱加圧成形する方法によっても製造することができる。
Next, the multilayer printed wiring board of the present invention will be described.
The multilayer printed wiring board of the present invention can be obtained by heating and press-molding the insulating resin layer of the present invention obtained above or the insulating resin layer with carrier on one or both sides of the inner circuit board. it can.
The method for producing the multilayer printed wiring board of the present invention is not particularly limited. For example, in addition to the method of heating and press-molding by superposing an insulating resin layer composed of two types of layers on the inner circuit board in advance. The first layer and the second layer can also be produced by a method in which the first layer and the second layer are temporarily pressure-bonded to the inner layer circuit board by a method such as laminating one layer or two or more layers, followed by heating and pressing.

なお、本発明の多層プリント配線板を製造する場合には、内層回路板側あるいは部品を搭載した内層回路板側に上記第2の層、その反対側に第1の層あるいは第1の層を含む複数の層が位置するように、絶縁樹脂層を重ね合わせて、これを加熱加圧成形することが好ましい。
これにより、第1の層により絶縁層厚さの維持、平滑化ができるとともに、第2の層により内層回路や部品などの凹凸の良好な埋め込み性を付与することができる。
多層プリント配線板を製造する場合に、加熱する温度は特に限定されないが、140〜240℃が好ましい。また、加圧する圧力は特に限定されないが、1〜4MPaが好ましい。
When the multilayer printed wiring board of the present invention is manufactured, the second layer is provided on the inner circuit board side or the inner circuit board side on which the components are mounted, and the first layer or the first layer is provided on the opposite side. It is preferable to stack the insulating resin layers so that a plurality of layers including them are positioned and to heat and press mold them.
Accordingly, the thickness of the insulating layer can be maintained and smoothed by the first layer, and the embedding property of the unevenness of the inner layer circuit or the component can be imparted by the second layer.
When manufacturing a multilayer printed wiring board, the temperature to heat is although it does not specifically limit, 140-240 degreeC is preferable. Moreover, although the pressure to pressurize is not specifically limited, 1-4 MPa is preferable.

本発明の多層プリント配線板は、本発明の絶縁樹脂層を用いることで、冷熱サイクル負荷が作用した場合に生じる力学的歪みを緩和し、チップや銅配線といった金属付近の樹脂で発生するクラックを抑制することにより、高周波特性を損なうことなく熱時信頼性を高めることができる。
これにより、部品を基板の内部に内蔵し、3次元的に構造配置することができ、基板の小型化、高密度化を実現することを可能にするものである。
The multilayer printed wiring board of the present invention uses the insulating resin layer of the present invention to alleviate mechanical distortion that occurs when a thermal cycle load is applied, and to generate cracks that occur in resins near the metal such as chips and copper wiring. By suppressing the thermal reliability, it is possible to improve the thermal reliability without impairing the high frequency characteristics.
As a result, the components can be built in the substrate, and the components can be three-dimensionally arranged, thereby making it possible to reduce the size and increase the density of the substrate.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention, the present invention is not limited to this.

[実施例1]
1.樹脂ワニスの調製
(1)第1の層用樹脂ワニスの調製
樹脂組成物固形分全体に対して、ベンゾシクロブテン樹脂として、ジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテン(Bステージ化したもの、数平均分子量140,000、ダウケミカル社製「サイクロテンXUR」)55重量%、熱可塑性エラストマーとしてエポキシ化SBR樹脂(数平均分子量100,000、ダイセル化学工業社製「エポフレンドCT−310」)5重量%、硬化剤として1,2―ビス(アジドベンジル)エチレン2重量%をメシチレンに溶解し、さらに無機充填材として、シリカ(アドマテックス社製「SO−25H」、平均粒子径0.6μm、最大粒子径5μm)38重量%を加えて分散させ、不揮発分濃度50重量%になるように第1の層用樹脂ワニスを調製した。
[Example 1]
1. Preparation of resin varnish (1) Preparation of first layer resin varnish Divinylsiloxane-bisbenzocyclobutene (B-staged, number average molecular weight 140) as the benzocyclobutene resin with respect to the entire solid content of the resin composition , 000, 55% by weight of “Cycloten XUR” manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., 5% by weight of epoxidized SBR resin (number average molecular weight 100,000, “Epofriend CT-310” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) as a thermoplastic elastomer, As a curing agent, 2% by weight of 1,2-bis (azidobenzyl) ethylene is dissolved in mesitylene, and further, silica (“Ad-25T” “SO-25H”, average particle size 0.6 μm, maximum particle size) as an inorganic filler. 5 μm) 38% by weight is added and dispersed to prepare a resin varnish for the first layer so that the nonvolatile content concentration is 50% by weight. It was.

(2)第2の層用樹脂ワニスの調製
樹脂組成物固形分全体に対して、シアネート樹脂として、ノボラック型シアネート樹脂(重量平均分子量560、ロンザ・ジャパン社製「PT−60」)33重量%、ノボラック型シアネート樹脂(重量平均分子量380、ロンザ・ジャパン社製「PT−30」)10重量%、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂(重量平均分子量6,000、ジャパンエポキシレジン社製「エピコート4010P」)15重量%、ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト社製「HF−3」)2重量%をメチルエチルケトンに溶解し、さらに無機充填材として、シリカ(アドマテックス社製「SO−25H」、平均粒子径0.6μm、最大粒子径5μm)40重量%を加えて分散させ、不揮発分濃度50重量%になるように第2の層用ワニスを調製した。
(2) Preparation of resin varnish for second layer 33% by weight of novolak cyanate resin (weight average molecular weight 560, “PT-60” manufactured by Lonza Japan) as a cyanate resin, based on the entire solid content of the resin composition , 10% by weight of novolak type cyanate resin (weight average molecular weight 380, “PT-30” manufactured by Lonza Japan), bisphenol F type phenoxy resin (weight average molecular weight 6,000, “Epicoat 4010P” manufactured by Japan Epoxy Resin) 15 % By weight, 2% by weight of novolak type phenolic resin (“HF-3” manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) dissolved in methyl ethyl ketone, and silica (“SO-25H” manufactured by Admatechs Co., Ltd.) with an average particle size of 0. (6 μm, maximum particle size 5 μm) is added and dispersed by adding 40% by weight to a non-volatile content of 50% by weight. A second layer varnish was prepared as described above.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に、上記第1の層用樹脂ワニスを厚さ40μmで塗工し、150℃の乾燥炉で10分間、170℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ20μmの第1の層を形成した。
続いて、第2の層用樹脂ワニスを用いて同様にワニスを厚さ120μmで塗工し、110℃の乾燥炉で10分間、150℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ60μmの第2の層を形成することにより、絶縁樹脂層の合計厚さ80μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Production of Insulating Resin Layer with Carrier A copper foil (thickness: 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) was coated with the first layer resin varnish at a thickness of 40 μm, and the temperature was maintained at 170 ° C. for 10 minutes in a 150 ° C. drying oven. Were dried for 10 minutes in a drying oven to form a first layer having a thickness of 20 μm.
Subsequently, the second layer resin varnish was applied in the same manner at a thickness of 120 μm, dried in a drying furnace at 110 ° C. for 10 minutes, and dried in a drying furnace at 150 ° C. for 10 minutes, and a 60 μm thick first varnish was applied. By forming two layers, an insulating resin layer with a carrier having a total thickness of 80 μm of the insulating resin layer was produced.

3.多層プリント配線板の作製
銅箔厚18μm、線幅及び線間幅:L/S=50/50の両面銅張多層プリント配線板をコア(サイズ:縦4cm、横4cm、厚さ0.6mm)として、その片面にチップ(サイズ:縦5mm、横5mm、厚さ0.06mm)を1個配置し、その両面に、各々上記キャリア付き絶縁樹脂層の絶縁樹脂層側を積層し、これを170℃1時間、200℃2時間で加熱加圧接着し、熱硬化させることにより多層プリント配線板を作製した。
3. Fabrication of multilayer printed wiring board Double-sided copper-clad multilayer printed wiring board having a copper foil thickness of 18 μm, line width and line width: L / S = 50/50 (size: length 4 cm, width 4 cm, thickness 0.6 mm) As described above, one chip (size: 5 mm long, 5 mm wide, 0.06 mm thick) is arranged on one side, and the insulating resin layer side of the insulating resin layer with the carrier is laminated on both sides, and 170 chips are formed. A multilayer printed wiring board was produced by heat-pressure bonding at 200 ° C. for 2 hours at 200 ° C. and thermosetting.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に上記第1の層用樹脂ワニスを厚さ40μmで塗工し、150℃の乾燥炉で10分間、170℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ20μmの絶縁樹脂層を有する評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層)を作製した。
同様に、銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に第2の層用ワニスを厚さ120μmで塗工し、110℃の乾燥炉で10分間、150℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ60μmの絶縁樹脂層を有する評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第2の層)を作
製した。
4). Preparation of Insulating Resin Layer with Carrier for Evaluation The first layer resin varnish was applied to a copper foil (thickness: 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) at a thickness of 40 μm, and then dried in a drying oven at 150 ° C. for 10 minutes, 170 An insulating resin layer with a carrier for evaluation (first layer) having an insulating resin layer having a thickness of 20 μm was produced by drying in a drying oven at 0 ° C. for 10 minutes.
Similarly, a varnish for the second layer is applied to a copper foil (thickness 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) at a thickness of 120 μm and dried in a drying furnace at 110 ° C. for 10 minutes and in a drying furnace at 150 ° C. for 10 minutes. Thus, an insulating resin layer with an evaluation carrier (second layer) having an insulating resin layer having a thickness of 60 μm was produced.

[実施例2]
1.樹脂ワニスの調製
樹脂ワニスの配合割合を下記のようにした以外は、実施例1と同様にして、第1の層用樹脂ワニス、第2の層用樹脂ワニスを調製した。
第1の層用樹脂ワニスとして、ジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテン樹脂(サイクロテンXUR)を45重量%、エポキシ化SBR樹脂(エポフレンドA1005)を15重量%、1,2―ビス(アジドベンジル)エチレンを2重量%、シリカ(SO−25H)を38重量%とした。
第2の層用樹脂ワニスとして、ノボラック型シアネート樹脂(PT−60)を30重量%、ノボラック型シアネート樹脂(PT−30)を23重量%、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂(エピコート4010P)を15重量%、ノボラック型フェノール樹脂(HF−3)を2重量%、シリカ(SO−25H)を30重量%とした。
[Example 2]
1. Preparation of Resin Varnish A first layer resin varnish and a second layer resin varnish were prepared in the same manner as in Example 1 except that the blending ratio of the resin varnish was as follows.
As resin varnish for the first layer, 45% by weight of divinylsiloxane-bisbenzocyclobutene resin (cycloten XUR), 15% by weight of epoxidized SBR resin (Epofriend A1005), 1,2-bis (azidobenzyl) Ethylene was 2% by weight and silica (SO-25H) was 38% by weight.
As the resin varnish for the second layer, 30% by weight of novolak type cyanate resin (PT-60), 23% by weight of novolak type cyanate resin (PT-30), and 15% by weight of bisphenol F type phenoxy resin (Epicoat 4010P) The novolac type phenolic resin (HF-3) was 2% by weight and the silica (SO-25H) was 30% by weight.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られた第1の層用樹脂ワニス、および、第2の層用樹脂ワニスを用いた以外は、実施例1と同様にして絶縁樹脂層の合計厚さ80μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Production of Insulating Resin Layer with Carrier The total thickness of the insulating resin layer is 80 μm in the same manner as in Example 1 except that the first layer resin varnish and the second layer resin varnish obtained above are used. An insulating resin layer with a carrier was prepared.

3.多層プリント配線板の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた以外は、実施例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
3. Production of multilayer printed wiring board A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin layer with carrier obtained above was used.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られた第1の層用樹脂ワニス、および、第2の層用樹脂ワニスを用いた以外は、実施例1と同様にして評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層、第2の層)を作製した。
4). Preparation of insulating resin layer with carrier for evaluation Insulating resin with carrier for evaluation in the same manner as in Example 1 except that the first layer resin varnish and the second layer resin varnish obtained above were used. Layers (first layer, second layer) were produced.

[実施例3]
1.樹脂ワニスの調製
実施例1と同様にして、第1の層用樹脂ワニス、第2の層用樹脂ワニスを調製した。
[Example 3]
1. Preparation of resin varnish In the same manner as in Example 1, a first layer resin varnish and a second layer resin varnish were prepared.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に、上記第1の層用ワニスを厚さ20μmで塗工し、150℃の乾燥炉で10分間、170℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ10μmの第1の層を形成した。
続いて、第2の層用ワニスを用いて同様にワニスを厚さ180μmで塗工し、110℃の乾燥炉で10分間、150℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ90μmの第2の層を形成することにより、絶縁樹脂層の合計厚さ100μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Preparation of Insulating Resin Layer with Carrier A copper foil (thickness: 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) was coated with the first layer varnish at a thickness of 20 μm, and was dried at 150 ° C. for 10 minutes at 170 ° C. The film was dried in a drying furnace for 10 minutes to form a first layer having a thickness of 10 μm.
Subsequently, using the second layer varnish, the varnish was similarly applied at a thickness of 180 μm, dried in a drying furnace at 110 ° C. for 10 minutes, and dried in a drying furnace at 150 ° C. for 10 minutes, and a second 90 μm thick second. By forming this layer, an insulating resin layer with a carrier having a total thickness of 100 μm of the insulating resin layer was produced.

3.多層プリント配線板の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた以外は、実施例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
3. Production of multilayer printed wiring board A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin layer with carrier obtained above was used.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に上記第1の層用樹脂ワニスを厚さ20μmで塗工し、150℃の乾燥炉で10分間、170℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ10μmの評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層)を作製した。
同様に、銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に第2の層用ワニスを厚さ180μmで塗工し、110℃の乾燥炉で10分間、150℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ90μmの評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第2の層)を作製した。
4). Preparation of Insulating Resin Layer with Carrier for Evaluation The first layer resin varnish was applied to a copper foil (thickness 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) at a thickness of 20 μm, and then dried in a drying oven at 150 ° C. for 10 minutes, 170 An insulating resin layer (first layer) with a carrier for evaluation having a thickness of 10 μm was produced by drying for 10 minutes in a drying oven at 1 ° C.
Similarly, a varnish for the second layer is applied to a copper foil (thickness: 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) at a thickness of 180 μm and dried in a drying furnace at 110 ° C. for 10 minutes and in a drying furnace at 150 ° C. for 10 minutes. Thus, an insulating resin layer with an evaluation carrier (second layer) having a thickness of 90 μm was produced.

[実施例4]
1.樹脂ワニスの調製
樹脂ワニスの配合割合を下記のようにした以外は、実施例1と同様にして、第1の層用樹脂ワニス、第2の層用樹脂ワニスを調製した。
第1の層用樹脂ワニスとして、ジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテン樹脂(サイクロテンXUR)を65重量%、エポキシ化SBR樹脂(エポフレンドA1005)を5重量%、1,2―ビス(アジドベンジル)エチレンを2重量%、シリカ(SO−25H)を28重量%とした。
第2の層用樹脂ワニスとして、ノボラック型シアネート樹脂(PT−60)を23重量%、ノボラック型シアネート樹脂(PT−30)を10重量%、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂(エピコート4010P)を25重量%、ノボラック型フェノール樹脂(HF−3)を2重量%、シリカ(SO−25H)を40重量%とした。
[Example 4]
1. Preparation of Resin Varnish A first layer resin varnish and a second layer resin varnish were prepared in the same manner as in Example 1 except that the blending ratio of the resin varnish was as follows.
As a resin varnish for the first layer, 65% by weight of divinylsiloxane-bisbenzocyclobutene resin (cycloten XUR), 5% by weight of epoxidized SBR resin (Epofriend A1005), 1,2-bis (azidobenzyl) Ethylene was 2 wt% and silica (SO-25H) was 28 wt%.
As the resin varnish for the second layer, 23% by weight of novolak type cyanate resin (PT-60), 10% by weight of novolak type cyanate resin (PT-30), and 25% by weight of bisphenol F type phenoxy resin (Epicoat 4010P) The novolak type phenol resin (HF-3) was 2% by weight and the silica (SO-25H) was 40% by weight.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られた第1の層用樹脂ワニス、および、第2の層用樹脂ワニスを用いた以外は、実施例1と同様にして絶縁樹脂層の合計厚さ80μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Production of Insulating Resin Layer with Carrier The total thickness of the insulating resin layer is 80 μm in the same manner as in Example 1 except that the first layer resin varnish and the second layer resin varnish obtained above are used. An insulating resin layer with a carrier was prepared.

3.多層プリント配線板の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた以外は、実施例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
3. Production of multilayer printed wiring board A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin layer with carrier obtained above was used.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られた第1の層用樹脂ワニス、および、第2の層用樹脂ワニスを用いた以外は、実施例1と同様にして評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層、第2の層)を作製した。
4). Preparation of insulating resin layer with carrier for evaluation Insulating resin with carrier for evaluation in the same manner as in Example 1 except that the first layer resin varnish and the second layer resin varnish obtained above were used. Layers (first layer, second layer) were produced.

[実施例5]
1.樹脂ワニスの調製
実施例4と同様にして、第1の層用樹脂ワニス、第2の層用樹脂ワニスを調製した。
[Example 5]
1. Preparation of Resin Varnish A first layer resin varnish and a second layer resin varnish were prepared in the same manner as in Example 4.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られた第1の層用樹脂ワニス、および、第2の層用樹脂ワニスを用いた以外は、実施例3と同様にして絶縁樹脂層の合計厚さ100μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Production of Insulating Resin Layer with Carrier The total thickness of the insulating resin layer was 100 μm in the same manner as in Example 3 except that the first layer resin varnish and the second layer resin varnish obtained above were used. An insulating resin layer with a carrier was prepared.

3.多層プリント配線板の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた以外は、実施例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
3. Production of multilayer printed wiring board A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin layer with carrier obtained above was used.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られた第1の層用樹脂ワニス、および、第2の層用樹脂ワニスを用いた以外は、実施例3と同様にして評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層、第2の層)を作製した。
4). Production of insulating resin layer with carrier for evaluation Insulating resin with carrier for evaluation in the same manner as in Example 3 except that the resin varnish for the first layer and the resin varnish for the second layer obtained above were used. Layers (first layer, second layer) were produced.

[比較例1]
1.樹脂ワニスの調製
実施例1で調製した第1の層用樹脂ワニスを用いた。
[Comparative Example 1]
1. Preparation of Resin Varnish The first layer resin varnish prepared in Example 1 was used.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に、上記樹脂ワニスを厚さ160μmで塗工し、150℃の乾燥炉で10分間、170℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ80μmの樹脂層を形成することにより、絶縁樹脂層の厚さ80μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Preparation of Insulating Resin Layer with Carrier A copper foil (thickness: 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) was coated with the above resin varnish at a thickness of 160 μm, 10 minutes in a drying furnace at 150 ° C., 10 minutes in a drying furnace at 170 ° C. An insulating resin layer with a carrier with a thickness of 80 μm was prepared by drying for a minute and forming a resin layer with a thickness of 80 μm.

3.多層プリント配線板の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた以外は、実施例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
3. Production of multilayer printed wiring board A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin layer with carrier obtained above was used.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた。
4). Production of insulating resin layer with carrier for evaluation The insulating resin layer with carrier obtained above was used.

[比較例2]
1.樹脂ワニスの調製
実施例1で調製した第2の層用樹脂ワニスを用いた。
[Comparative Example 2]
1. Preparation of Resin Varnish The second layer resin varnish prepared in Example 1 was used.

2.キャリア付き絶縁樹脂層の作製
銅箔(厚さ18μm、古河サーキットフォイル社製)に、上記樹脂ワニスを厚さ160μmで塗工し、110℃の乾燥炉で10分間、150℃の乾燥炉で10分間乾燥させ、厚さ80μmの樹脂層を形成することにより、絶縁樹脂層の厚さ80μmのキャリア付き絶縁樹脂層を作製した。
2. Preparation of Insulating Resin Layer with Carrier A copper foil (thickness: 18 μm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) was coated with the resin varnish at a thickness of 160 μm, 10 minutes in a 110 ° C. drying oven, 10 minutes in a 150 ° C. drying oven. An insulating resin layer with a carrier with a thickness of 80 μm was prepared by drying for a minute and forming a resin layer with a thickness of 80 μm.

3.多層プリント配線板の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた以外は、実施例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
3. Production of multilayer printed wiring board A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin layer with carrier obtained above was used.

4.評価用キャリア付き絶縁樹脂層の作製
上記で得られたキャリア付き絶縁樹脂層を用いた。
4). Production of insulating resin layer with carrier for evaluation The insulating resin layer with carrier obtained above was used.

[評価]
実施例、比較例で得られた多層プリント配線板及び評価用キャリア付き絶縁樹脂層を用いて、特性評価を行った。結果を表1に示す。
[Evaluation]
Characteristic evaluation was performed using the multilayer printed wiring board obtained by the Example and the comparative example, and the insulating resin layer with the carrier for evaluation. The results are shown in Table 1.

Figure 0004892817
Figure 0004892817

評価は、以下の方法で行った。
1.絶縁樹脂層の評価
(1)比誘電率:評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層)及びキャリア付き絶縁樹脂層を用い、JIS C 6481に準拠して、A状態の条件で測定した。
(2)吸水率:評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第1の層、第2の層)及びキャリア付き絶縁樹脂層を用い、JIS C 6481に準拠して、E−24/50+D−24/23の条件で測定した。
(3)線膨張係数:評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第2の層)及びキャリア付き絶縁樹脂層を用い、R10℃、35℃〜85℃の間で測定した。
(4)引張り強度:評価用キャリア付き絶縁樹脂層(第2の層)及びキャリア付き絶縁樹脂層を用い、引張モードで荷重フルスケール20kgf、速度5mm/min.の条件で測定した。
Evaluation was performed by the following method.
1. Evaluation of Insulating Resin Layer (1) Relative Dielectric Constant: Measured under conditions of A state using JIS C 6481 in accordance with JIS C 6481 using an insulating resin layer with an evaluation carrier (first layer) and an insulating resin layer with a carrier.
(2) Water absorption: E-24 / 50 + D-24 / 23 in accordance with JIS C 6481 using an insulating resin layer with an evaluation carrier (first layer, second layer) and an insulating resin layer with a carrier. It measured on condition of this.
(3) Linear expansion coefficient: It measured between R10 degreeC and 35 degreeC-85 degreeC using the insulating resin layer (2nd layer) with a carrier for evaluation, and the insulating resin layer with a carrier.
(4) Tensile strength: Using an insulating resin layer with a carrier for evaluation (second layer) and an insulating resin layer with a carrier, a load full scale of 20 kgf and a speed of 5 mm / min. It measured on condition of this.

2.多層プリント配線板の評価
(1)冷熱サイクル試験
多層プリント配線板を−65℃の液槽に30分間浸漬後、125℃の液槽に30分間浸漬し、これを1サイクルとして1000サイクル行い、チップ周囲の樹脂層の断面を観察することによってクラックの発生の有無を確認した。
○:クラック発生なし
×:クラック発生あり
2. Evaluation of multilayer printed wiring board (1) Cooling cycle test The multilayer printed wiring board was immersed in a liquid bath at -65 ° C for 30 minutes and then immersed in a liquid bath at 125 ° C for 30 minutes. The presence or absence of cracks was confirmed by observing the cross section of the surrounding resin layer.
○: No crack occurrence ×: Crack occurrence

実施例1〜5は、比誘電率が3.2以下である第1の層と、常温での線膨張係数が40ppm/℃以下である第2の層とからなる本発明の絶縁樹脂層であり、機械的強度が強く、かつ誘電特性にも優れたものであった。また、この絶縁樹脂層を用いた本発明の多層プリント配線板は、熱時信頼性が高く、優れた厚み精度を有する絶縁樹脂層を形成することができた。
これに対して、比較例1は第1の層のみから形成した絶縁樹脂層であるが、機械的強度が低下し冷熱サイクル試験でクラックが発生した。比較例2は第2の層のみから形成した絶縁樹脂層であるが、吸水率が低下した。そして、これらを用いた多層プリント配線板は、接続信頼性の特性において劣るものとなった。
Examples 1 to 5 are insulating resin layers of the present invention comprising a first layer having a relative dielectric constant of 3.2 or less and a second layer having a linear expansion coefficient at room temperature of 40 ppm / ° C. or less. It had high mechanical strength and excellent dielectric properties. In addition, the multilayer printed wiring board of the present invention using this insulating resin layer has high reliability during heat, and an insulating resin layer having excellent thickness accuracy can be formed.
On the other hand, Comparative Example 1 was an insulating resin layer formed only from the first layer, but the mechanical strength was reduced and cracks were generated in the cooling / heating cycle test. Comparative Example 2 was an insulating resin layer formed only from the second layer, but the water absorption rate was reduced. And the multilayer printed wiring board using these became inferior in the characteristic of connection reliability.

本発明の絶縁樹脂層は、機械的強度が強く、かつ誘電特性に優れたものであり、従来のものと比較して高周波回路周辺の誘電特性を損なうことなく部品周辺の機械的強度を向上させた多層プリント配線板を製造することができる。従って本発明の絶縁樹脂層は、パッケージ基板の小型化、高密度化に対応し、搭載部品を内蔵した多層プリント配線板に好適に用いることができる、
そして、本発明の多層プリント配線板は、小型情報処理機器のプリント配線板など、小型化、高密度化、高性能化が要求される用途に特に好適に用いることができるものである。
The insulating resin layer of the present invention has high mechanical strength and excellent dielectric properties, and improves the mechanical strength around the components without impairing the dielectric properties around the high frequency circuit compared to the conventional one. A multilayer printed wiring board can be manufactured. Therefore, the insulating resin layer of the present invention can be suitably used for a multilayer printed wiring board having built-in components, corresponding to miniaturization and high density of the package substrate.
The multilayer printed wiring board of the present invention can be used particularly suitably for applications that require miniaturization, high density, and high performance, such as printed wiring boards for small information processing equipment.

Claims (5)

多層プリント配線板に用いられる絶縁樹脂層であって、前記絶縁樹脂層は、ベンゾシクロブテン樹脂及び/又はそのプレポリマーと無機充填材とを含み、比誘電率が3.2以下である第1の層と、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーと無機充填材とを含み、線膨張係数が40ppm/℃以下である第2の層とからなり、第1の層を形成する樹脂組成物は、ベンゾシクロブテン樹脂及び/又はそのプレポリマーを第1の層を形成する樹脂組成物中の固形分全体に対して30〜90重量%含み、第2の層を形成する樹脂組成物は、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを第2の層を形成する樹脂組成物中の固形分全体に対して10〜50重量%含み、かつそれぞれ少なくとも一層以上積層され、前記ベンゾシクロブテン樹脂の数平均分子量は3000〜1,000,000であることを特徴とする絶縁樹脂層。
An insulating resin layer used for a multilayer printed wiring board, wherein the insulating resin layer includes a benzocyclobutene resin and / or a prepolymer thereof and an inorganic filler, and has a relative dielectric constant of 3.2 or less . And a second layer having a coefficient of linear expansion of 40 ppm / ° C. or less , comprising a cyanate resin and / or a prepolymer thereof and an inorganic filler, and the resin composition forming the first layer is: The resin composition containing 30 to 90% by weight of the benzocyclobutene resin and / or its prepolymer with respect to the total solid content in the resin composition forming the first layer, and forming the second layer is a cyanate resin and / or a prepolymer containing 10 to 50% by weight relative to the total solid content of the resin composition forming the second layer, and laminated on at least one layer each, the number of the benzocyclobutene resin Rights Insulating resin layer, wherein the molecular weight is 3000~1,000,000.
前記第1の層は、吸水率が0.8重量%以下である請求項1に記載の絶縁樹脂層。 The insulating resin layer according to claim 1, wherein the first layer has a water absorption rate of 0.8% by weight or less. 請求項1又は2に記載の絶縁樹脂層と、その少なくとも片面に接合されたキャリアとから構成されることを特徴とするキャリア付き絶縁樹脂層。An insulating resin layer with a carrier comprising the insulating resin layer according to claim 1 and a carrier bonded to at least one surface thereof. 請求項1又は2に記載の絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント配線板。A multilayer printed wiring board obtained by laminating the insulating resin layer according to claim 1 or 2 on at least one surface of an inner layer circuit board, and heating and pressing. 請求項3に記載のキャリア付き絶縁樹脂層を、内層回路板の少なくとも片面に積層し、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント配線板。A multilayer printed wiring board, wherein the insulating resin layer with a carrier according to claim 3 is laminated on at least one side of an inner layer circuit board, and heated and pressurized.
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