JP4886909B1 - Wafer holder - Google Patents
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Abstract
【課題】ウェーハ保持具からウェーハを取り外す際にウェーハが破損されることがなく、特性試験の実施コストが低く、高温における特性試験を可能とし、ウェーハ面に垂直に力が働いても保持具からウェーハが外れたり破損したりすることがなく、ウェーハを容易に特性試験の実施装置の載荷ステージ面に平坦に装着させることが可能であるウェーハ保持具を提供する。
【解決手段】リング状に周辺部を残し中空部が設けられた保持フレーム10の中空部をふさぐように金属シート12がこの保持フレーム10に固定され、この金属シート12には、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域14が形成されている。この穿孔領域14の一部または全部を覆うようにウェーハ30を配置させることが可能とされていて、金属シート12上に配置されたウェーハ30をこの金属シート12に対して動かないように固定する耐熱性素材で形成されたウェーハ固定機構20を備えている。
【選択図】図1The wafer is not damaged when the wafer is removed from the wafer holder, the cost of performing the characteristic test is low, the characteristic test can be performed at a high temperature, and the holder can be operated even if force is applied perpendicularly to the wafer surface. Provided is a wafer holder capable of easily mounting a wafer on a loading stage surface of an apparatus for performing a characteristic test without causing the wafer to be detached or damaged.
A metal sheet (12) is fixed to the holding frame (10) so as to close a hollow portion of the holding frame (10) that is provided with a hollow portion while leaving a peripheral portion in a ring shape. A perforated region 14 with a hole is formed. The wafer 30 can be disposed so as to cover a part or all of the perforated region 14, and the wafer 30 disposed on the metal sheet 12 is fixed so as not to move with respect to the metal sheet 12. A wafer fixing mechanism 20 formed of a heat resistant material is provided.
[Selection] Figure 1
Description
この発明は、電子デバイス・光学デバイス等が形成された半導体ウェーハ等のウェーハの特性試験工程において、このウェーハを保持して搬送する保持具に関する。 The present invention relates to a holder for holding and transporting a wafer in a characteristic test process of a wafer such as a semiconductor wafer on which electronic devices, optical devices, and the like are formed.
同一形状の複数の電子デバイスあるいは光学デバイスが2次元的に配置されて形成されたウェーハは、これらデバイスを個片化するためのダイシング工程の前に、これらデバイスの電気的あるいは光学的特性をテストする特性試験が実施され、良品デバイスと不良品デバイスとを識別する作業が実施される。そして、デバイスの電気的特性試験装置あるいは電気的特性試験方法が幾つか開示されている(例えば、特許文献1〜4参照)。デバイスの光学的特性試験についても同様の装置及び方法を用いて行われる。 Wafers formed by two-dimensionally arranging multiple electronic or optical devices of the same shape are tested for their electrical or optical characteristics prior to the dicing process to separate these devices. A characteristic test is performed, and an operation for identifying a non-defective device and a defective device is performed. Several device electrical characteristic test apparatuses or electrical characteristic test methods have been disclosed (see, for example, Patent Documents 1 to 4). The optical characteristics of the device are also tested using the same apparatus and method.
従来は、ウェーハ単体を吸着アーム等の治具に載せて、特性試験装置の載荷ステージに装着する手法がとられていた。このような手法をとることが可能であった理由は、ウェーハが十分な厚みをもっており、吸着アーム等の治具によって扱っても破損する可能性が低い十分な強度を有していたからである。 Conventionally, a method has been used in which a single wafer is mounted on a jig such as a suction arm and mounted on a loading stage of a characteristic test apparatus. The reason why such a technique can be taken is that the wafer has a sufficient thickness and has a sufficient strength that is unlikely to break even when handled by a jig such as a suction arm.
しかしながら、最近はウェーハを薄くすることが要請されるようになってきている。 However, recently, it has been demanded to make the wafer thinner.
ウェーハを薄くすることが要請されるようになった背景には、ウェーハを薄くすることによって電子デバイスあるいは光学デバイスの特性の向上が図られることが広く認識されるようになったことが挙げられる。また、個片化されたデバイスをカード等に埋め込んでモジュール化しても、埋め込んだ部分がカードの他の部分とその厚みがほとんど変わらないように、このデバイスを作り込むことが要請されていることも背景にある。さらに、ウェーハを薄くすることによって、デバイスから発熱する熱をこのウェーハを通してウェーハ外部に放散させるのに効果的となることもウェーハが薄く加工されるようになった背景である。 One reason for the demand for thin wafers is that it has been widely recognized that thin wafers can improve the characteristics of electronic or optical devices. In addition, even if an individual device is embedded in a card or the like to be modularized, it is required to make this device so that the embedded portion hardly changes in thickness from the other portions of the card. Is also in the background. In addition, the thinning of the wafer is effective in dissipating the heat generated from the device through the wafer to the outside of the wafer.
薄く加工されることによって吸着アーム等の治具によっては扱えない強度となったウェーハを、特性試験を実施する装置の載荷ステージに装着するために搬送するのに利用されるウェーハ保持具として、電子部品保持具が開示されている(特許文献5参照)。この電子部品保持具を用いる場合、表面下向きの電子部品(ウェーハ)を隙間を介して包囲するよう保持フレームを表面下向きに配置する。次に、電子部品の裏面周縁部に保持層の露出口の周縁部を粘着テープを用いて粘着するとともに、保持フレームの裏面に保持層を粘着する。そして、保持フレームを表裏逆にして表面上向きとした後、保持層の表面に電子部品を包囲する抑え層を貼り付けてその周縁部を電子部品の表面周縁部に干渉させ、保持層と抑え層とに電子部品の周縁部を挟み持たせる。 As a wafer holder used to transport wafers that have become thin enough to be handled by jigs such as suction arms, so that they can be mounted on the loading stage of equipment that performs characteristic tests, A component holder is disclosed (see Patent Document 5). When this electronic component holder is used, the holding frame is arranged downward on the surface so as to surround the electronic component (wafer) facing down on the surface via a gap. Next, the peripheral part of the exposure port of the holding layer is adhered to the back surface peripheral part of the electronic component using an adhesive tape, and the holding layer is adhered to the back surface of the holding frame. Then, after holding the holding frame upside down and facing the surface upward, a holding layer that surrounds the electronic component is attached to the surface of the holding layer, and its peripheral portion interferes with the surface peripheral portion of the electronic component. And sandwiching the peripheral edge of the electronic component.
しかしながら、特許文献5に開示されている電子部品保持具を使って、ウェーハを特性試験の実施装置の載荷ステージに搬送する方法は、ウェーハの周縁部を固定する粘着テープからウェーハを剥がす際にウェーハが破損する可能性がある。 However, the method of transporting the wafer to the loading stage of the apparatus for carrying out the characteristic test using the electronic component holder disclosed in Patent Document 5 is the method of peeling the wafer from the adhesive tape that fixes the peripheral edge of the wafer. May be damaged.
また、粘着テープは消耗品であるので、特性試験のたびに新たな粘着テープを使う必要があり、特性試験の実施のたびに新たなコストが発生する。 Further, since the adhesive tape is a consumable item, it is necessary to use a new adhesive tape every time the characteristic test is performed, and a new cost is generated each time the characteristic test is performed.
また、粘着テープは耐熱温度が低いので、特性試験の対象とするウェーハを120℃程度以上の高温に設定して実施する特性試験が行えない。 In addition, since the heat-resistant temperature of the adhesive tape is low, it is impossible to perform a characteristic test in which the wafer to be subjected to the characteristic test is set to a high temperature of about 120 ° C. or higher.
さらに、特許文献5に開示されている電子部品保持具による保持は、ウェーハ面に垂直に働く力に弱く、このような力が働くとウェーハが電子部品保持具から外れる、あるいはウェーハが破損する可能性がある。 Furthermore, the holding by the electronic component holder disclosed in Patent Document 5 is weak to the force acting perpendicular to the wafer surface, and if such force is applied, the wafer may be detached from the electronic component holder or the wafer may be damaged. There is sex.
その他、特許文献5に開示されている電子部品保持具によって保持されたウェーハを、特性試験を実施する装置の載荷ステージにそのまま装着すると、ウェーハの裏面が載荷ステージ面から粘着テープの厚みだけ浮いた状態となるので、ウェーハを特性試験の実施装置の載荷ステージに平坦に設置するには特別の工夫が必要となる。 In addition, when the wafer held by the electronic component holder disclosed in Patent Document 5 is directly mounted on the loading stage of the apparatus for performing the characteristic test, the back surface of the wafer is lifted from the loading stage surface by the thickness of the adhesive tape. Therefore, special measures are required to place the wafer flat on the loading stage of the apparatus for performing the characteristic test.
この出願の発明者は、ウェーハを、上述の粘着テープで構成される保持層及び抑え層によって挟んで固定する代わりに、保持層として機能する金属シートを用いることに思い至った。この金属シートに、複数の細かな孔を開けられた穿孔領域を形成し、ウェーハ特性試験装置の載荷ステージにウェーハを固定する際に、この孔を通してウェーハを吸引し載荷ステージに固定する構成とすれば、薄く加工され機械的強度が弱くなったウェーハの保持具として、上述した課題が解決されるものと確信した。 The inventor of this application came up with the idea of using a metal sheet functioning as a holding layer instead of sandwiching and fixing the wafer between the holding layer and the holding layer made of the above-mentioned adhesive tape. In this metal sheet, a perforated region having a plurality of fine holes is formed, and when the wafer is fixed to the loading stage of the wafer characteristic test apparatus, the wafer is sucked through the hole and fixed to the loading stage. For example, it was convinced that the above-mentioned problems could be solved as a wafer holder that was thinned and mechanical strength was weakened.
したがって、この発明の目的は、薄く加工されたウェーハを容易に特性試験の実施装置の載荷ステージ面に平坦に装着させることが可能であるウェーハ保持具を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a wafer holder capable of easily mounting a thinly processed wafer on a loading stage surface of an apparatus for performing characteristic tests.
そこで、この発明の要旨によれば、以下の構成のウェーハ保持具が提供される。 Therefore, according to the gist of the present invention, a wafer holder having the following configuration is provided.
この発明のウェーハ保持具は、保持フレームと、金属シートと、ウェーハ固定機構を備えている。保持フレームは、リング状に周辺部を残し中空部が設けられており、この中空部をふさぐように金属シートが固定されている。この金属シートには、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域が形成されており、この穿孔領域の一部または全部を覆うようにウェーハを配置させることが可能とされている。そして、金属シート上に配置されたウェーハを、ウェーハ固定機構でこの金属シートに固定する。このウェーハ固定機構は、耐熱性素材で形成するのが好適である。 The wafer holder of the present invention includes a holding frame, a metal sheet, and a wafer fixing mechanism. The holding frame is provided with a hollow portion leaving a peripheral portion in a ring shape, and a metal sheet is fixed so as to block the hollow portion. The metal sheet has a perforated region in which a plurality of fine holes are formed, and a wafer can be arranged so as to cover a part or all of the perforated region. And the wafer arrange | positioned on a metal sheet is fixed to this metal sheet with a wafer fixing mechanism. The wafer fixing mechanism is preferably formed of a heat resistant material.
また、穿孔領域は、金属シートの複数部分に分離させて設けるのがよい。 The perforated region is preferably provided separately in a plurality of portions of the metal sheet.
ウェーハ固定機構は、ウェーハ外形基準アダプタープレートと、アダプタープレート押えカバープレートと、カバープレート止め具及びビスとを備えるのがよい。そして、ウェーハの周縁部を、ウェーハ外形基準アダプタープレートの中空部の内側周縁部と金属シートとで挟んだ上で、ウェーハ外形基準アダプタープレート上にアダプタープレート押えカバープレートを積み重ね、アダプタープレート押えカバープレートを保持フレームにカバープレート止め具及びビスを用いて固定して、ウェーハが金属シートに固定される構成とするのがよい。 The wafer fixing mechanism may include a wafer outer shape reference adapter plate, an adapter plate pressing cover plate, a cover plate stopper, and a screw. Then, the peripheral edge of the wafer is sandwiched between the inner peripheral edge of the hollow portion of the wafer external reference adapter plate and the metal sheet, and the adapter plate presser cover plate is stacked on the wafer external reference adapter plate, and the adapter plate presser cover plate is stacked. It is preferable to fix the wafer to the holding frame using a cover plate stopper and a screw so that the wafer is fixed to the metal sheet.
あるいは、強磁性金属材で金属シートを形成し、磁性を帯びた強磁性体材料を用いてアダプタープレート押えカバープレートを形成するのがよい。そして、ウェーハの周縁部をウェーハ外形基準アダプタープレートの中空部の内側周縁部と金属シートとで挟んだ上で、ウェーハ外形基準アダプタープレート上にアダプタープレート押えカバープレートを積み重ね、アダプタープレート押えカバープレートを金属シートに磁気によって吸着させることによって、ウェーハが金属シートに対して動かないように固定される構成とするのがよい。 Or it is good to form a metal sheet with a ferromagnetic metal material, and to form an adapter plate pressing cover plate using the ferromagnetic material which has magnetism. Then, the peripheral edge of the wafer is sandwiched between the inner peripheral edge of the hollow portion of the wafer external reference adapter plate and the metal sheet, and the adapter plate presser cover plate is stacked on the wafer external reference adapter plate. It is preferable that the wafer is fixed so as not to move relative to the metal sheet by being attracted to the metal sheet by magnetism.
また、あるいは、搬送ロボットなどにより搬送時の状態が常に水平を確保できる場合は、耐熱性薄厚シリコンゴムシート等の材料を用いてアダプタープレート押えカバープレートを形成するのがよい。そして、ウェーハの周縁部をウェーハ外形基準アダプタープレートの中空部の内側周縁部と金属シートとで挟んだ上で、ウェーハ外形基準アダプタープレート上にアダプタープレート押えカバープレートを積み重ね、アダプタープレート押えカバープレートを金属シートに自重および弱い自己粘着性によって、ウェーハが金属シートに対して動かないように固定される構成とするのがよい。 Alternatively, when the transport state can always be kept horizontal by a transport robot or the like, the adapter plate presser cover plate is preferably formed using a material such as a heat-resistant thin silicon rubber sheet. Then, the peripheral edge of the wafer is sandwiched between the inner peripheral edge of the hollow portion of the wafer external reference adapter plate and the metal sheet, and the adapter plate presser cover plate is stacked on the wafer external reference adapter plate. It is preferable that the wafer be fixed so that the wafer does not move relative to the metal sheet due to its own weight and weak self-adhesiveness.
ウェーハ外形基準アダプタープレートとアダプタープレート押えカバープレートは、それぞれリング状に周辺部を残し中空部が設けられている。 Each of the wafer outer shape reference adapter plate and the adapter plate presser cover plate is provided with a hollow portion in a ring shape leaving a peripheral portion.
この発明のウェーハ保持具によれば、保持フレームの中空部をふさぐように金属シートが固定され、この金属シート上にウェーハが配置されるので、ウェーハ面に垂直に力が働いてもウェーハ保持具からウェーハが外れたり破損したりすることがない。 According to the wafer holder of the present invention, the metal sheet is fixed so as to block the hollow portion of the holding frame, and the wafer is disposed on the metal sheet. Therefore, even if a force is applied perpendicularly to the wafer surface, the wafer holder The wafer will not come off or be damaged.
また、ウェーハを支える保持層が金属シートで形成されており、金属シート上に配置されたウェーハを固定するウェーハ固定機構を耐熱性素材で形成すれば、高温における特性試験においても使用可能である。 Further, if the holding layer for supporting the wafer is formed of a metal sheet and a wafer fixing mechanism for fixing the wafer arranged on the metal sheet is formed of a heat-resistant material, it can be used in a characteristic test at a high temperature.
また、金属シートに複数の細かな孔が開けられた穿孔領域が形成されており、この穿孔領域の一部または全部を覆うようにウェーハを配置させる構成となっているので、ウェーハを粘着物質で固定するのではなく直接載せるだけである。そのため、ウェーハ保持具からウェーハを取り外す際にウェーハが破損される危険性が少ない。 In addition, the metal sheet has a perforated region in which a plurality of fine holes are formed, and the wafer is arranged so as to cover a part or all of the perforated region. Simply place it directly, not fix it. Therefore, there is little risk that the wafer is damaged when the wafer is removed from the wafer holder.
さらに、ウェーハ裏面の周縁部に保持層の露出口の周縁部を粘着する構成とする代わりに、この発明のウェーハ保持具は、金属シートを利用して複数の細かな孔が開けられた穿孔領域の一部または全部を覆うようにウェーハを配置させる構成とされているので、ウェーハを特性試験の実施装置の載荷ステージ面に装着した際、ウェーハの裏面載荷ステージ面から浮いた状態とならず、ウェーハを容易に特性試験の実施装置の載荷ステージ面に平坦に装着させることが可能である。 Furthermore, instead of adopting a configuration in which the peripheral portion of the exposure opening of the holding layer is adhered to the peripheral portion of the back surface of the wafer, the wafer holder of the present invention is a perforated region in which a plurality of fine holes are formed using a metal sheet. Since the wafer is arranged so as to cover a part or all of the wafer, when the wafer is mounted on the loading stage surface of the apparatus for performing the characteristic test, it does not float from the back loading stage surface of the wafer, The wafer can be easily mounted flat on the loading stage surface of the apparatus for performing the characteristic test.
その上、金属シートを特性試験のたびに新たな金属シートと交換する必要はなく汎用的に使えるので、特性試験回数を繰り返しても新たなコストが発生することはなく、経済性に優れるという効果が得られる。 In addition, it is not necessary to replace the metal sheet with a new metal sheet for each characteristic test, so it can be used universally, so there is no new cost even if the number of characteristic tests is repeated, and it is economically effective. Is obtained.
穿孔領域を、金属シートに分離して複数箇所に設けることによって、ウェーハの外形の大きさ及び形状に対応させて、このウェーハで前記穿孔領域を適宜覆ってウェーハを配置させることが可能となる。 By providing the perforated area at a plurality of locations by separating the perforated area into the metal sheet, the wafer can be disposed by appropriately covering the perforated area with this wafer in accordance with the size and shape of the outer shape of the wafer.
以下、図1〜図4を参照してこの発明の実施形態につき説明する。図1〜図4は、この発明に係る一構成例を図示するものであり、この発明が理解できる程度に各構成要素の配置関係などを概略的に示しているに過ぎず、この発明を図示例に限定するものではない。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIGS. 1 to 4 show an example of the configuration according to the present invention, and only schematically show the arrangement relationship of each component to the extent that the present invention can be understood. It is not limited to the examples shown.
電子デバイス・光学デバイス等が形成された半導体ウェーハ等のウェーハのダイシング工程の前に、これらデバイスの特性試験が実施される。ウェーハが薄く加工されると、吸着アーム等の治具で直接挟んで搬送させることができない強度になる。この発明のウェーハ保持具は、このようなウェーハを特性試験装置の載荷ステージに装着するための搬送の際に使われる。 Prior to the dicing process of a wafer such as a semiconductor wafer on which electronic devices, optical devices, and the like are formed, a characteristic test of these devices is performed. When the wafer is thinly processed, the strength is such that it cannot be directly held by a jig such as a suction arm. The wafer holder according to the present invention is used for transport for mounting such a wafer on a loading stage of a characteristic test apparatus.
ここで扱われるウェーハは、例えば、直径が200 mmのシリコンウェーハであって、厚みが100μm以下、場合によっては20μm以下までバックグラインドなどの方法で薄型化されているウェーハである。 The wafer handled here is, for example, a silicon wafer having a diameter of 200 mm, and is thinned by a method such as back grinding to a thickness of 100 μm or less, and in some cases, 20 μm or less.
特性試験の実施対象とされるウェーハは、ウェーハ保持具で搬送され、ウェーハ特性試験装置の載荷ステージに吸着固定される。ウェーハの電気的特性試験においては、電子デバイスが形成されているウェーハの表面から裏面に電流を流すことが必要とされることがある。この場合、ウェーハの表面に形成されている特性試験の対象である任意の電子デバイスの電極に針状プローブ電極を接触させ、この針状プローブ電極から電圧を印加して、ウェーハの表面(電子デバイスの電極)から裏面に電流を流す。 A wafer to be subjected to a characteristic test is transported by a wafer holder, and is sucked and fixed to a loading stage of the wafer characteristic test apparatus. In the electrical characteristic test of a wafer, it may be necessary to pass a current from the front surface to the back surface of the wafer on which the electronic device is formed. In this case, a needle-like probe electrode is brought into contact with an electrode of an arbitrary electronic device that is an object of a characteristic test formed on the surface of the wafer, and a voltage is applied from the needle-like probe electrode to Current) from the electrode to the back.
ウェーハの表面から裏面に電流を流すためには、ウェーハ特性試験装置の載荷ステージの面とウェーハの裏面とが電気的に導通されている必要がある。このため、この発明のウェーハ保持具にあっては、以下に説明するように、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域が形成された金属シートでウェーハを保持する構成になっている。この構成により、ウェーハを穿孔領域の孔を介して特性試験装置の載荷ステージに吸着固定することが可能となる。さらに金属シートは導電性であるので、載荷ステージの面とウェーハの裏面とが電気的に導通された状態が実現される。 In order to pass a current from the front surface to the back surface of the wafer, the surface of the loading stage of the wafer characteristic test apparatus and the back surface of the wafer need to be electrically connected. For this reason, in the wafer holder of the present invention, as described below, the wafer is held by a metal sheet in which a perforated region in which a plurality of fine holes are formed is formed. With this configuration, the wafer can be adsorbed and fixed to the loading stage of the characteristic test apparatus through the hole in the perforation region. Furthermore, since the metal sheet is conductive, a state where the surface of the loading stage and the back surface of the wafer are electrically connected is realized.
図1〜4を参照して、この発明の実施形態のウェーハ保持具の構成について説明する。図1に示すように、この実施形態のウェーハ保持具は、保持フレーム10、金属シート12、及びウェーハ固定機構20を備えて構成される。保持フレーム10は、リング状に周辺部を残し中空部が設けられている。金属シート12は、保持フレーム10の中空部をふさぐように保持フレーム10に固定されている。 With reference to FIGS. 1-4, the structure of the wafer holder of embodiment of this invention is demonstrated. As shown in FIG. 1, the wafer holder of this embodiment includes a holding frame 10, a metal sheet 12, and a wafer fixing mechanism 20. The holding frame 10 is provided with a hollow portion in a ring shape leaving a peripheral portion. The metal sheet 12 is fixed to the holding frame 10 so as to block the hollow portion of the holding frame 10.
金属シート12は、シム材と呼ばれる金属シートを用いて形成するのが好適である。そして、金属シート12を保持フレーム10に固定するには溶接等の技術を用いることができる。 The metal sheet 12 is preferably formed using a metal sheet called a shim material. A technique such as welding can be used to fix the metal sheet 12 to the holding frame 10.
シム材は、金属シート12に用いるには十分な厚み均一性及び平坦性を有している。またステンレス系のシム材は錆が付着しにくいという特徴と、表面の電気伝導度を大きく確保することを目的に金メッキ等の処理をすることができるので、電気的特性試験の対象とされるウェーハの保持具としては適した素材である。 The shim material has sufficient thickness uniformity and flatness to be used for the metal sheet 12. In addition, stainless steel shim materials are resistant to rust and can be treated with gold plating for the purpose of ensuring a large electrical conductivity on the surface. It is a suitable material for the holder.
金属シート12には、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域14が形成されている。この穿孔領域14の一部または全部を覆うようにウェーハ30を配置させることが可能とされている。シム材で形成される金属シート12に、上述の穿孔領域14を形成するには、例えば、エッチング技術等を適宜利用すればよい。そして、ウェーハ固定機構20は、金属シート12上に配置されたウェーハ30を、この金属シート12に対して動かないように固定できる。例えば、120℃以上の高温に設定して実施される特性試験を行うために、ウェーハ固定機構20は、金属等の耐熱性素材で形成するのがよい。 The metal sheet 12 has a perforated region 14 in which a plurality of fine holes are formed. The wafer 30 can be arranged so as to cover a part or all of the perforated region 14. In order to form the above-described perforated region 14 in the metal sheet 12 formed of a shim material, for example, an etching technique or the like may be used as appropriate. The wafer fixing mechanism 20 can fix the wafer 30 disposed on the metal sheet 12 so as not to move with respect to the metal sheet 12. For example, in order to perform a characteristic test performed at a high temperature of 120 ° C. or higher, the wafer fixing mechanism 20 is preferably formed of a heat resistant material such as metal.
ウェーハ固定機構20は、ウェーハ外形基準アダプタープレート16と、このプレートを押えて固定するアダプタープレート押えカバープレート18とを備えている。そして、ウェーハ30の周縁部を、ウェーハ外形基準アダプタープレート16の中空部の内側周縁部と金属シート12とで挟んだ上で、ウェーハ外形基準アダプタープレート16上にアダプタープレート押えカバープレート18を積み重ねる。その上で、このアダプタープレート押えカバープレート18を保持フレーム10に固定する。この結果、ウェーハ30が金属シート12に対して動かないように固定される。 The wafer fixing mechanism 20 includes a wafer outer shape reference adapter plate 16 and an adapter plate presser cover plate 18 that presses and fixes the plate. Then, the peripheral edge of the wafer 30 is sandwiched between the inner peripheral edge of the hollow portion of the wafer external reference adapter plate 16 and the metal sheet 12, and the adapter plate presser cover plate 18 is stacked on the wafer external reference adapter plate 16. Then, the adapter plate presser cover plate 18 is fixed to the holding frame 10. As a result, the wafer 30 is fixed so as not to move with respect to the metal sheet 12.
ウェーハ固定機構20を、ウェーハ外形基準アダプタープレート16を備えて構成することによって、ウェーハ30の外形形状の相違にかかわらず、ウェーハ30を保持フレーム10に固定することが容易となる。 By configuring the wafer fixing mechanism 20 with the wafer outer reference adapter plate 16, it becomes easy to fix the wafer 30 to the holding frame 10 regardless of the difference in the outer shape of the wafer 30.
図2に示すように、穿孔領域14は、金属シート12の複数部分(穿孔領域14-1及び穿孔領域14-2)に分離させて設けることもできる。このように穿孔領域を複数部分に分離させて設けることによって、外形の大きさ及び形状が異なる様々なウェーハを固定して搬送することができる。 As shown in FIG. 2, the perforated region 14 can be provided separately in a plurality of portions (the perforated region 14-1 and the perforated region 14-2) of the metal sheet 12. Thus, by providing the perforated region separately in a plurality of portions, various wafers having different outer sizes and shapes can be fixed and transported.
図3及び図4(A)、図4(B)を参照して、ウェーハ固定機構20によって、ウェーハ30を金属シート12に対して固定する方法について説明する。また、ウェーハ30の特性試験工程の実施の形態について説明する。 A method for fixing the wafer 30 to the metal sheet 12 by the wafer fixing mechanism 20 will be described with reference to FIGS. 3, 4A, and 4B. An embodiment of the characteristic test process for the wafer 30 will be described.
ウェーハ固定機構20は、ウェーハ外形基準アダプタープレート16と、このプレートを押えて固定するアダプタープレート押えカバープレート18とを備えている。そして、ウェーハ30の周縁部を、ウェーハ外形基準アダプタープレート16の中空部の内側周縁部沿ってはめ込んで位置合わせし、ウェーハ外形基準アダプタープレート16上にアダプタープレート押えカバープレート18を積み重ねる。その上で、このアダプタープレート押えカバープレート18を保持フレーム10にカバープレート止め具24及びビス26を用いて固定する。この結果、ウェーハ30が金属シート12とアダプタープレート押えカバープレート18とで挟まれ、ウェーハ30が金属シート12に対して動かないように固定される。 The wafer fixing mechanism 20 includes a wafer outer shape reference adapter plate 16 and an adapter plate presser cover plate 18 that presses and fixes the plate. Then, the peripheral portion of the wafer 30 is fitted and aligned along the inner peripheral portion of the hollow portion of the wafer external reference adapter plate 16, and the adapter plate presser cover plate 18 is stacked on the wafer external reference adapter plate 16. Then, the adapter plate presser cover plate 18 is fixed to the holding frame 10 using the cover plate stopper 24 and the screw 26. As a result, the wafer 30 is sandwiched between the metal sheet 12 and the adapter plate pressing cover plate 18, and the wafer 30 is fixed so as not to move with respect to the metal sheet 12.
ウェーハ30を金属シート12に対して固定するには、まず、ウェーハ30の周縁部をウェーハ外形基準アダプタープレート16の中空部の内側周縁部にはめ込んで位置あわせし、アダプタープレート押えカバープレート18を積み重ね金属シート12とアダプタープレート押えカバープレート18とで挟む。そして、アダプタープレート押えカバープレート18を、カバープレート止め具24で押さえ、ビス26をウェーハ特性試験装置の保持フレーム10の固定用雌ねじに固定することによって、ウェーハ30は、金属シート12とアダプタープレート押えカバープレート18とで挟まれて固定される。 In order to fix the wafer 30 to the metal sheet 12, first, the peripheral portion of the wafer 30 is fitted into the inner peripheral portion of the hollow portion of the wafer external reference adapter plate 16, and the adapter plate presser cover plate 18 is stacked. It is sandwiched between the metal sheet 12 and the adapter plate presser cover plate 18. Then, by holding the adapter plate holder cover plate 18 with the cover plate stopper 24 and fixing the screw 26 to the fixing female screw of the holding frame 10 of the wafer characteristic test apparatus, the wafer 30 is fixed to the metal sheet 12 and the adapter plate holder. It is sandwiched between the cover plate 18 and fixed.
ウェーハ外形基準アダプタープレート16には、ウェーハ30のオリエンテーションフラットの方向を確定させるためのノッチ合せ部22が設けられている。 The wafer external reference adapter plate 16 is provided with a notch aligning portion 22 for determining the orientation flat direction of the wafer 30.
特性試験の実施対象とされるウェーハ30は、この発明の実施形態のウェーハ保持具を使って搬送され、ウェーハ特性試験装置の載荷ステージ32の吸着面32s上に置かれる。ウェーハ30がこのようにウェーハ保持具に固定されて載荷ステージ32に置かれると、金属シート12の穿孔領域14の孔を介して、載荷ステージ32に設けられている吸引孔34によって吸引され、ウェーハ30はウェーハ保持具に固定された状態で、載荷ステージ32に吸着固定される。金属シート12は導電性であるので、載荷ステージの32の吸着面32sとウェーハ30の裏面30rとが電気的に導通された状態が実現される。 The wafer 30 to be subjected to the characteristic test is transferred using the wafer holder according to the embodiment of the present invention and placed on the suction surface 32s of the loading stage 32 of the wafer characteristic test apparatus. When the wafer 30 is fixed to the wafer holder and placed on the loading stage 32 in this manner, the wafer 30 is sucked by the suction holes 34 provided in the loading stage 32 through the holes in the perforated region 14 of the metal sheet 12, and the wafer 30 is fixed to the wafer holder and is fixed to the loading stage 32 by suction. Since the metal sheet 12 is conductive, a state in which the suction surface 32s of the loading stage 32 and the back surface 30r of the wafer 30 are electrically connected is realized.
ウェーハ30の表面30fは、覆うものがなくむき出しとなっているので、ウェーハ30の表面30fに形成されている特性試験の対象である任意の電子デバイスの電極に針状プローブ電極を接触させこの針状プローブ電極から電圧を印加することが可能である。 Since the surface 30f of the wafer 30 is uncovered and exposed, the needle-like probe electrode is brought into contact with the electrode of an arbitrary electronic device which is the object of the characteristic test formed on the surface 30f of the wafer 30. A voltage can be applied from the probe electrode.
ウェーハ30をウェーハ保持具に固定された状態で載荷ステージ32に吸着固定する際に、穿孔領域を構成する複数の細かな孔の直径が大きすぎると、吸着されるウェーハ30のこの孔の直上部分が吸引される力によってたわみが発生する。従って、この孔の直径には上限値がある。 When the wafer 30 is fixed to the loading stage 32 while being fixed to the wafer holder, if the diameter of a plurality of fine holes constituting the perforated region is too large, the portion directly above the hole of the wafer 30 to be adsorbed Deflection occurs due to the force that is sucked. Therefore, there is an upper limit for the diameter of the hole.
例えば、ウェーハ30が厚み100μmのSiウェーハである場合、孔の直径を0.2 mm以上とするとウェーハ30に歪みが発生することが分かった。すなわち、実用上は、ウェーハ保持具によって搬送される対象となるウェーハは、厚み100μmのSiウェーハに相当する強度を有することが多いので、穴の直径を0.2 mm以下とするのが望ましい。 For example, when the wafer 30 is a Si wafer having a thickness of 100 μm, it has been found that if the hole diameter is 0.2 mm or more, the wafer 30 is distorted. That is, in practice, the wafer to be transferred by the wafer holder often has a strength corresponding to a Si wafer having a thickness of 100 μm, so that the hole diameter is desirably 0.2 mm or less.
いずれにしても、穿孔領域を構成する複数の細かな孔の直径は、特性試験装置の載荷ステージ32へのウェーハ30の吸引固定時にウェーハ30に歪みが発生しない大きさに設定するのが好ましい。また、この孔の直径が小さすぎると、ウェーハ30に働く吸引力が弱まるので好ましくない。これらの観点から、孔の直径はウェーハ30に歪みが発生しない最大の大きさに設定するのが好適である。 In any case, the diameters of the plurality of fine holes constituting the perforated region are preferably set to a size that does not cause distortion in the wafer 30 when the wafer 30 is sucked and fixed to the loading stage 32 of the characteristic test apparatus. Further, if the diameter of the hole is too small, the suction force acting on the wafer 30 is weakened, which is not preferable. From these viewpoints, it is preferable to set the diameter of the hole to the maximum size that does not cause distortion in the wafer 30.
ウェーハ固定機構20が、カバープレート止め具24及びビス26を備える構成を説明したが、強磁性金属材で金属シート12を形成し、磁性を帯びた強磁性体材料を用いてアダプタープレート押えカバープレート18を形成することもできる。このように構成すれば、アダプタープレート押えカバープレート18が金属シート12に磁気によって吸着され、ウェーハ30が金属シート12に対して固定される。 The configuration in which the wafer fixing mechanism 20 includes the cover plate stopper 24 and the screw 26 has been described. However, the metal sheet 12 is formed of a ferromagnetic metal material, and the adapter plate presser cover plate is formed using a ferromagnetic material with magnetism. 18 can also be formed. With this configuration, the adapter plate presser cover plate 18 is attracted to the metal sheet 12 by magnetism, and the wafer 30 is fixed to the metal sheet 12.
磁気によって固定される構成とすれば、カバープレート止め具24及びビス26を必要とせず、ウェーハ30を金属シート12から取り離して搬送する際、ビス26を緩める等の面倒な作業をする必要がなくなる。すなわち、ウェーハの固定が容易に行える上、アダプタープレート押えカバープレート18を金属シート12から剥がすように取り去さればウェーハ30を金属シート12から容易に取り外せる。 If the structure is fixed by magnetism, the cover plate stopper 24 and the screw 26 are not required, and it is necessary to perform troublesome work such as loosening the screw 26 when the wafer 30 is transported away from the metal sheet 12. Disappear. That is, the wafer can be easily fixed and the wafer 30 can be easily detached from the metal sheet 12 by removing the adapter plate presser cover plate 18 from the metal sheet 12.
また、磁性デバイスを測定する場合は、非磁性金属材で金属シート12を形成し、耐熱性薄厚シリコンゴムシート等の材料を用いてアダプタープレート押えカバープレート18を形成することもできる。アダプタープレート押えカバープレート18を金属シート12に自重および弱い自己粘着性で固定される構成とすれば、-50℃〜200℃程度の測定は可能であり、ウェーハの固定が容易に行える上、アダプタープレート押えカバープレート18を金属シート12から剥がすように取り去さればウェーハ30を金属シート12から容易に取り外せる。 When measuring a magnetic device, the metal sheet 12 can be formed of a nonmagnetic metal material, and the adapter plate presser cover plate 18 can be formed using a material such as a heat-resistant thin silicon rubber sheet. If the adapter plate presser cover plate 18 is fixed to the metal sheet 12 with its own weight and weak self-adhesiveness, measurements from -50 ° C to 200 ° C are possible, wafers can be easily fixed, and the adapter If the plate presser cover plate 18 is removed so as to be peeled off from the metal sheet 12, the wafer 30 can be easily removed from the metal sheet 12.
ウェーハ外形基準アダプタープレート16及びアダプタープレート押えカバープレート18が、ウェーハの電気的特性試験の実施に障害となる場合は、ウェーハ30が載荷ステージ32に吸着固定された状態にある間は、ウェーハ外形基準アダプタープレート16及びアダプタープレート押えカバープレート18の何れか一方あるいは両方を取り外してもよい。 If the wafer outer shape reference adapter plate 16 and the adapter plate presser cover plate 18 are obstructive to the electrical characteristic test of the wafer, the wafer outer shape reference is performed while the wafer 30 is in the state of being fixed to the loading stage 32. Either one or both of the adapter plate 16 and the adapter plate presser cover plate 18 may be removed.
低温または高温特性試験を実行するためにウェーハ30が低温または高温度状態に設定されると、ウェーハ30の熱膨張の大きさとウェーハ固定機構20を構成する素材の熱膨張の大きさとの間に差が生じる。しかしながら、この熱膨張の大きさの差によってウェーハ30の位置が変動しても、吸引による吸着固定の力はウェーハ30の位置をずらすことができないほど大きくないので、ウェーハ30の位置を適宜調整することによって、ウェーハの電気的特性試験が可能である最適位置にウェーハ30の位置を移動させて調整することは十分可能である。 When the wafer 30 is set to a low temperature or high temperature state in order to perform a low temperature or high temperature characteristic test, there is a difference between the thermal expansion of the wafer 30 and the thermal expansion of the material constituting the wafer fixing mechanism 20. Occurs. However, even if the position of the wafer 30 fluctuates due to this difference in thermal expansion, the suction fixing force by suction is not so great that the position of the wafer 30 cannot be shifted. Accordingly, it is sufficiently possible to adjust by moving the position of the wafer 30 to the optimum position where the electrical characteristic test of the wafer is possible.
なお、ウェーハ30として電子デバイス・光学デバイス等が形成された半導体ウェーハを保持することを前提にこの発明のウェーハ保持具の構成及び機能を説明したが、このウェーハ保持具が保持するウェーハとしては、デバイスが形成されたウェーハに限定されない。例えば、ダイシングされた電子デバイスをボンディングする際のスペーサー等として利用するため、サファイア結晶基板、ガラス基板等をダイシングして得られるダイスが必要とされる場合がある。このスペーサーとしてのダイスを加工する工程において、十分に薄いサファイア結晶基板、ガラス基板等をダイシング装置の載荷ステージに搬送する際にこの発明のウェーハ保持具を利用することも可能である。 In addition, although the structure and function of the wafer holder of this invention were demonstrated on the assumption that the semiconductor wafer in which the electronic device, the optical device, etc. were formed as the wafer 30, the wafer held by this wafer holder, It is not limited to the wafer on which the device is formed. For example, a dice obtained by dicing a sapphire crystal substrate, a glass substrate, or the like may be required for use as a spacer or the like when bonding a diced electronic device. In the process of processing the dice as the spacer, the wafer holder of the present invention can be used when a sufficiently thin sapphire crystal substrate, glass substrate or the like is transported to the loading stage of the dicing apparatus.
10:保持フレーム
12:金属シート
14:穿孔領域
16:ウェーハ外径基準アダプタープレート
18:アダプタープレート押えカバープレート
20:ウェーハ固定機構
22:ノッチ合せ部
24:カバープレート止め具
26:ビス
30:ウェーハ
32:載荷ステージ
34:吸引孔
10: Holding frame
12: Metal sheet
14: Perforated area
16: Wafer outer diameter reference adapter plate
18: Adapter plate presser cover plate
20: Wafer fixing mechanism
22: Notch alignment part
24: Cover plate stopper
26: Screw
30: Wafer
32: Loading stage
34: Suction hole
Claims (2)
該中空部をふさぐように該保持フレームに固定される、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域を有する金属シートと、
前記穿孔領域の一部または全部を覆うように前記金属シート上に配置されたウェーハを固定するウェーハ固定機構と
を備え、
前記金属シートは、シム材と呼ばれる金属シートを用いて形成され、前記穿孔領域に開けられた複数の微細な穴は、エッチング技術によって形成されており、
前記ウェーハ固定機構は、耐熱性素材で形成され、
リング状に周辺部を残し中空部が設けられたウェーハ外形基準アダプタープレートと、
該ウェーハ外形基準アダプタープレートを押えて固定する、リング状に周辺部を残し中空部が設けられたアダプタープレート押えカバープレートと、
前記アダプタープレート押えカバープレートを前記保持フレームに固定する、カバープレート止め具と
を備え、
前記ウェーハの周縁部を、前記ウェーハ外形基準アダプタープレートの中空部の内側周縁部と前記金属シートとで挟んだ上で、該ウェーハ外形基準アダプタープレート上に前記アダプタープレート押えカバープレートを積み重ね、該アダプタープレート押えカバープレートを前記保持フレームに前記カバープレート止め具を用いて固定して、前記ウェーハが当該金属シートに対して動かないように固定される
ことを特徴とするウェーハ保持具。 A holding frame provided with a hollow part leaving a peripheral part in a ring shape;
A metal sheet having a perforated region with a plurality of fine holes, which is fixed to the holding frame so as to block the hollow portion;
A wafer fixing mechanism for fixing a wafer disposed on the metal sheet so as to cover a part or all of the perforated region ,
The metal sheet is formed using a metal sheet called shim material, and a plurality of fine holes opened in the perforated region are formed by an etching technique ,
The wafer fixing mechanism is formed of a heat resistant material,
Wafer outline reference adapter plate in which a hollow part is provided leaving a peripheral part in a ring shape,
The wafer outer shape reference adapter plate is pressed and fixed, an adapter plate presser cover plate provided with a hollow portion leaving a peripheral portion in a ring shape,
A cover plate stopper for fixing the adapter plate presser cover plate to the holding frame;
With
The peripheral edge portion of the wafer is sandwiched between the inner peripheral edge portion of the hollow portion of the wafer outer shape reference adapter plate and the metal sheet, and the adapter plate presser cover plate is stacked on the wafer outer shape reference adapter plate. A wafer holder, wherein a plate holder cover plate is fixed to the holding frame using the cover plate stopper so that the wafer does not move relative to the metal sheet .
ことを特徴とする請求項1に記載のウェーハ保持具。 Corresponding to the size and shape of the wafer, the perforation region is provided by separating it into a plurality of portions of the metal sheet so that the wafer can be disposed by appropriately covering the perforation region with the wafer. The wafer holder according to claim 1 , wherein the wafer holder is provided.
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