JP4859780B2 - セメントキルン抽気ガスの処理システム及び処理方法 - Google Patents

セメントキルン抽気ガスの処理システム及び処理方法 Download PDF

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Description

本発明は、セメントキルン抽気ガスの処理システム及び処理方法に関し、特に、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気して、塩素、硫黄分及び残留性有機汚染物質等を除去するための処理システム等に関する。
従来、セメント製造設備におけるプレヒーターの閉塞等の問題を引き起こす原因となる塩素、硫黄、アルカリ等の中で、塩素が特に問題となることに着目し、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気して塩素を除去する塩素バイパス設備が用いられている。この塩素バイパス設備では、燃焼ガスを抽気した後に、抽気した燃焼ガスから塩素を含むダストを分離するが、ダストを分離した後の抽気ガスには、相当量の硫黄酸化物が気体状態で含まれるため、塩素バイパス排気をそのまま大気に放出することはできない。
そこで、特許文献1に記載のように、セメントキルンの入口フード付近より抽気した抽気ガスを湿式集塵装置で湿式集塵することにより、抽気ガス中の硫黄分を脱硫する脱硫方法が提案されている。この方法では、抽気ガス中の微粉ダストに含まれる生石灰(CaO)を、湿式集塵装置内の水と反応させて消石灰(Ca(OH)2)を生成するとともに、その消石灰と、抽気ガス中の二酸化硫黄(SO2)とを反応させて石膏を生成する。その後、生成した石膏を回収してセメントキルン系外に排出し、これによって、抽気ガス中の硫黄分を除去している。
特開2004−002143号公報
しかし、特許文献1に記載の脱硫方法によれば、抽気ガス中の硫黄分を除去することができるものの、今後、セメント製造工場に持ち込まれる廃棄物の量の増加に伴い、セメントキルンの燃焼排ガスに残留性有機汚染物質、例えば、ダイオキシン類(PCDD、PCDF、co−PCB)、ポリ塩化ビフェニル(PCBs)等が含まれる虞があり、これらは、脱硫剤の使用や水洗処理によって、抽気ガス中の硫黄分を除去すると、脱硫処理後の廃材、廃液中に混入し、その結果、廃材等の処理が困難となったり、そのための処理設備が必要になるなどの弊害を招く。
そこで、本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みてなされたものであって、抽気ガス中の硫黄分を除去することができるとともに、残留性有機汚染物質を効率良く除去することが可能なセメントキルン抽気ガスの処理システム及び処理方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、セメントキルン抽気ガスの処理システムであって、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気する抽気手段と、該抽気手段で抽気した抽気ガスに対して、残留性有機汚染物質を処理する処理剤を添加する添加手段と、前記処理剤が添加された抽気ガスのダストを湿式集塵する湿式集塵手段とを備えることを特徴とする。尚、残留性有機汚染物質とは、ダイオキシン類(PCDD、PCDF、co−PCB)、ポリ塩化ビフェニル(PCBs)等をいう。
そして、本発明によれば、抽気手段により抽気した抽気ガスに対して、残留性有機汚染物質を処理するための処理剤を添加し、その後、処理剤を添加した抽気ガスを湿式集塵するため、抽気ガス中の硫黄分を石膏として抽出すると同時に、抽気ガス中の残留性有機汚染物質を除去することができる。また、硫黄分を除去するための設備として従前から湿式集塵機を用いていた場合には、その集塵機を利用することができるため、設備コストの増大を最小限に抑えることが可能になる。さらに、抽気ガス中のダストがスラリー化される前に、残留性有機汚染物質と処理剤とを接触させるため、それらの接触性を高めることができ、残留性有機汚染物質を効率良く除去することが可能になる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理システムにおいて、前記添加手段が、前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、残留性有機汚染物質を吸着する吸着剤を添加することができる。この構成によれば、吸着剤に残留性有機汚染物質を吸着させ、その後、残留性有機汚染物質を吸着した吸着剤を湿式集塵手段で抽気ガスから分離することにより、抽気ガス中の残留性有機汚染物質を容易に除去することができる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理システムにおいて、前記添加手段が、前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、残留性有機汚染物質を溶解する溶媒を添加することができる。残留性有機汚染物質を溶解した液は、液滴径が大きいため、例えば、湿式集塵機を構成する循環液相内で自由落下し、大部分が液槽内を通過する抽気ガスと分離される。また、液滴径が小さく、循環液相内に自由落下しなかった部分については、後段のミスト分離装置(ミストセパレーター、ミストキャッチャー、デミスター)等で抽気ガスと分離することで、抽気ガス中の残留性有機汚染物質を容易に除去することができる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理システムにおいて、前記添加手段に、前記抽気手段で抽気した抽気ガスに対して、前記処理剤を噴霧する噴霧手段を設けることができる。これによって、抽気ガスの全体に満遍なく処理剤を添加することができ、残留性有機汚染物質の除去効率を向上させることが可能になる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理システムにおいて、前記湿式集塵手段で集塵されたダストを、硫黄を含む物質と、残留性有機汚染物質を含む物質とに分別する分別手段を設けることができる。これによって、硫黄と、残留性有機汚染物質とを分別して回収することができ、処理し易い状態で有害物質を回収することが可能になる。
また、本発明は、セメントキルン抽気ガスの処理方法において、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、該抽気した抽気ガスに対して、残留性有機汚染物質を処理する処理剤を添加し、該処理剤が添加された抽気ガスのダストを湿式集塵することを特徴とする。本発明によれば、上記発明と同様に、抽気ガス中の硫黄分を除去することができるとともに、残留性有機汚染物質を効率良く除去することが可能になる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理方法において、前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、活性炭、活性コークス、石炭、石炭灰、活性炭、高炉灰及び未燃カーボンを含む灰からなる群より選ばれる一以上を添加し、残留性有機汚染物質を吸着することができる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理方法において、前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、水に難溶性の有機溶媒(芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類)を用いることもでき、オクタノール、ジクロロメタン、ヘキサン、トルエン、キシレンからなる群より選ばれる一以上を添加することができる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理方法において、前記抽気した抽気ガスに対して、前記処理剤を噴霧することができ、これによって、抽気ガスの全体に満遍なく処理剤を添加することができ、残留性有機汚染物質の除去効率を向上させることが可能になる。
前記セメントキルン抽気ガスの処理方法において、前記湿式集塵したダストを、硫黄を含む物質と、残留性有機汚染物質を含む物質とに分別することができ、硫黄と、残留性有機汚染物質とを分別して回収することで、処理し易い状態で有害物質を回収することが可能になる。
以上のように、本発明によれば、抽気ガス中の硫黄分を除去することができるとともに、残留性有機汚染物質を効率良く除去することが可能になる。
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明にかかるセメントキルン抽気ガスの処理システムの一実施の形態を示し、この処理システム1は、大別して、ガス抽気部2と、ガス処理部3と、分別処理部4とから構成される。
ガス抽気部2は、セメントキルン5の窯尻から最下段サイクロン(不図示)に至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部を抽気するための設備である。このガス抽気部2は、燃焼ガスを抽気するプローブ6と、プローブ6内に冷風を供給して抽気ガスG1を急冷する冷却ファン7と、抽気ガスG1に含まれるダスト中の粗粉Dを分離する分級機としてのサイクロン10等から構成される。
ガス処理部3は、抽気ガス中の有害物質を除去するための設備である。このガス処理部3は、噴霧機11と、サイクロン10から排出される排ガスG2中のダストを湿式集塵する湿式集塵機12と、湿式集塵機12からの排ガスG3を系外に放出するための排気ファン18等から構成される。
噴霧機11は、粗粉ダストDが除去された排ガスG2に対して、ダイオキシン類(PCDD、PCDF、co−PCB)、ポリ塩化ビフェニル(PCBs)等の残留性有機汚染物質を除去する除去剤(以下、適宜「有害物質除去剤」という)等を添加するために備えられる。この噴霧機11は、サイクロン10と湿式集塵機12との間に配置され、その噴霧口は、サイクロン10の排気口から延びる管路10aに連結される。
噴霧する有害物質除去剤としては、活性炭を用いることができ、活性炭を排ガスG2に噴霧した場合には、活性炭が吸着剤として作用し、排ガスG2中に存在する残留性有機汚染物質を吸着除去することができる。尚、有害物質除去剤としては、活性炭以外にも、活性コークス、石炭、石炭灰、高炉灰及び未燃カーボンを含む灰等を用いることができる。
湿式集塵機12は、排ガスG2中のダストを捕集して、排ガスG2から塩素、硫黄及び残留性有機汚染物質を除去するために備えられる。この湿式集塵機12は、ミキシングスクラバー13と、循環液槽14と、洗浄塔15とから構成され、ミキシングスクラバー13と循環液槽14との間には、スラリーを循環させるためのポンプ14aが設けられる。また、循環スラリーのpHを調整するための硫酸を循環液槽14に供給するため、硫酸貯槽16、ポンプ16a、消石灰スラリー貯槽17及びポンプ17aが配置される。
湿式集塵機12で生成されるダストスラリーS1には、微粉中の生石灰(CaO)が水と反応して生じた消石灰(Ca(OH)2)が存在し、そのため、排ガスG2中に存在する硫黄分(SO2)は、消石灰と以下のように反応する。
SO2+Ca(OH)2→CaSO3・1/2H2O+1/2H2
CaSO3・1/2H2O+1/2O2+3/2H2O→CaSO4・2H2
これにより、排ガスG2中の硫黄分が分解処理され、石膏(CaSO4・2H2O)が生成される。こうして生成された石膏は、残留性有機汚染物質を吸着した活性炭とともに、ダストスラリーS1として、分別処理部4に供給される。
分別処理部4は、ダストリラリーS1中のダストを石膏と活性炭とに分別するための設備である。この分別処理部4は、ダストスラリーS1を供給して撹拌するスラリータンク22と、スラリータンク22から排出されたスラリーS2に剪断力を付与して活性炭の表面の改質等を行う表面改質機27と、スラリーS2に起泡剤を加えて気泡を発生させる調整槽23と、活性炭を気泡に付着させ、浮上させて分離する浮選機24と、浮選機24からのテーリングを固液分離してケークを生成し、石膏を回収する固液分離器25と、浮選機24からのフロスを固液分離して活性炭を回収するフィルタプレス26等から構成される。尚、懸濁液体の比重との関連で、浮選機24のフロス側に石膏を回収することもできる。また、石膏の結晶を成長させて物理分級し、回収してもよい。
次に、上記処理システム1の動作について、図1を参照しながら説明する。
セメントキルン5の窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部をプローブ6によって抽気すると同時に、冷却ファン7からの冷風によって、塩素化合物の融点である600〜700℃以下にまで急冷する。次いで、サイクロン10において、プローブ6から排気される抽気ガスG1を、粗粉Dと、微粉を含むガスG2とに分離し、粗粉Dをセメントキルン系に戻す。
その一方で、粗粉Dが除去された排ガスG2を管路10aに排出し、噴霧機11により、管路10a中の排ガスG2に対して、有害物質除去剤としての活性炭を噴霧する。次いで、活性炭が噴霧された排ガスG2を湿式集塵機12のミキシングスクラバー13に供給し、ミキシングスクラバー13と循環液槽14との間でスラリーを循環させながら、排ガスG2中の硫黄分をスラリーと接触させて石膏を生成する。そして、生成した石膏と、残留性有機汚染物質を吸着した活性炭とを捕集し、ダストスラリーS1としてスラリータンク22に供給する。同時に、洗浄塔15において、循環液槽14から排出される排ガスを洗浄し、排ガス中に残留する有害物質を除去する。洗浄塔15からの排ガスG3は、排気ファン18を介して大気に放出してもよいし、熱回収のためにセメント工程内に戻してもよい。
尚、ミキシングスクラバー13に供給される循環スラリーの流路におけるスケールトラブルを防止するためには、循環液槽14内の循環液のpHを4〜6前後に調整することが好ましい。そのため、循環液槽14内の循環液のpHが上昇し過ぎた場合には、サイクロン10の分級点を変化させて微粉中のCaO濃度を減少させるか、或いは、必要に応じて硫酸貯槽16に貯蔵される硫酸を循環液槽14に添加することが好ましい。
次に、スラリータンク22において、循環液槽14からのスラリーS1を撹拌した後、スラリータンク22から排出されたスラリーS1に表面改質機27によって剪断力を付与して活性炭の表面の改質等を行う。この表面改質は、活性炭の分離状態が悪い場合に行うものであって、表面改質によって浮選浮遊性を向上させることができる、次に、調整槽23において、スラリーS2と起泡剤とを混合する。そして、気泡剤が混合されたスラリーS2と空気とを浮選機24に供給し、浮選機24において、気泡を発生させ、その気泡に活性炭を付着させるとともに、活性炭が付着して浮上した気泡を除去する。
尚、活性炭等を用いた場合、残留性汚染物質に加え、硫黄分も吸着するが、ミキシングスクラバー13、循環液槽14で硫黄分は水溶液側に溶解し、G2(微粉+ガス)中に含まれる微粉中のカルシウム分や、消石灰スラリー貯槽17よりスラリーとして補給した消石灰との反応により、石膏として回収される。また、消石灰スラリーの投入ができない場合は、循環液槽14やスラリータンク22にカルシウム分として石灰石、消石灰、生石灰、セメント原料、仮焼したセメント原料等を追加することもできる。カルシウム分を調整しない場合は、残留性有機汚染物質が付着した部分と、石膏として析出した部分とを回収し、未反応の液中の硫黄分をそのままタンク28に移動させることもできる。
次に、フィルタプレス26において、浮選機24からのフロスを固液分離し、活性炭を回収する。回収された活性炭は、セメントキルン5において、燃料とともに燃焼させることで、活性炭に含まれる残留性有機汚染物質を完全に分解することができる。
同時に、固液分離器25において、浮選機24からのテーリングを固液分離してケークを生成し、その後、不図示の乾燥機等によってケークを乾燥して石膏を回収する。回収された石膏は、セメントミル等に投入してクリンカとともに粉砕し、セメントの一部として利用することができる。
固液分離器25及びフィルタプレス26からの排液は、タンク28に貯蔵し、廃水処理後放流したり、セメント粉砕ミル系に添加する。
以上のように、本実施の形態によれば、プローブ6により抽気した抽気ガスに対し、残留性有機汚染物質を吸着するための有害物質除去剤を添加し、その後、有害物質除去剤を添加した抽気ガスを湿式集塵するため、抽気ガス中の硫黄分を石膏として抽出すると同時に、抽気ガス中の残留性有機汚染物質を活性炭によって吸着除去することができる。また、塩素分や硫黄分を除去するための設備として従前から湿式集塵機を用いていた場合には、その集塵機を、残留性有機汚染物質を吸着した活性炭を抽気ガスから分離するための装置として利用することができるため、設備コストの増大を最小限に抑えることが可能になる。さらに、湿式集塵機12の前段で有害物質除去剤を添加し、抽気ガス中のダストがスラリー化される前に、残留性有機汚染物質と有害物質除去剤とを接触させるため、それらの接触性を高めることができ、残留性有機汚染物質を効率良く除去することが可能になる。
尚、上記実施の形態においては、プローブ6により抽気された抽気ガスに対し、残留性有機汚染物質を吸着するための吸着剤を添加するが、吸着剤に代えて、残留性有機汚染物質を溶解する溶媒を添加してもよい。溶媒としては、水に難溶性の有機溶媒(芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類)であればよく、オクタノール、ジクロロメタン、ヘキサン、トルエン、キシレン等を用いることができ、この方法によっても、抽気ガス中の残留性有機汚染物質を効率良く除去することができる。この場合には、溶媒をミキシングスクラバー13又は循環液槽14から投入添加し、ミキシングスクラバー13で残留性有機汚染物質と反応(溶解)させる。また、上記溶媒は、溶媒が水より軽いか、重いかによって、固液分離器25又はフィルタプレス26のいずれかの排液に含まれることとなるため、固液分離器25及びフィルタプレス26からの排液をタンク28に貯蔵し、比重分離によって溶媒部のみを分離し、燃料として燃焼させる。溶媒部を分離した排液は、スラリータンク22に戻したり、廃水処理後放流したり、セメント粉砕ミル系に添加する。
本発明にかかるセメントキルン抽気ガスの処理システムの一実施の形態を示すフロー図である。
符号の説明
1 セメントキルン抽気ガスの処理システム
2 ガス抽気部
3 ガス処理部
4 分別処理部
5 セメントキルン
6 プローブ
7 冷却ファン
10 サイクロン
10a 管路
11 噴霧機
12 湿式集塵機
13 ミキシングスクラバー
14 循環液槽
14a ポンプ
15 洗浄塔
16 硫酸貯槽
16a ポンプ
17 消石灰スラリー貯槽
17a ポンプ
22 スラリータンク
23 調整槽
24 浮選機
25 固液分離器
26 フィルタプレス
27 表面改質機
28 タンク

Claims (10)

  1. セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気する抽気手段と、
    該抽気手段で抽気した抽気ガスに対して、残留性有機汚染物質を処理する処理剤を添加する添加手段と、
    前記処理剤が添加された抽気ガスのダストを湿式集塵する湿式集塵手段とを備えることを特徴とするセメントキルン抽気ガスの処理システム。
  2. 前記添加手段は、前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、残留性有機汚染物質を吸着する吸着剤を添加することを特徴とする請求項1に記載のセメントキルン抽気ガスの処理システム。
  3. 前記添加手段は、前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、残留性有機汚染物質を溶解する溶媒を添加することを特徴とする請求項1に記載のセメントキルン抽気ガスの処理システム。
  4. 前記添加手段は、前記抽気手段で抽気した抽気ガスに対して、前記処理剤を噴霧する噴霧手段を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のセメントキルン抽気ガスの処理システム。
  5. 前記湿式集塵手段で集塵されたダストを、硫黄を含む物質と、残留性有機汚染物質を含む物質とに分別する分別手段を備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のセメントキルン抽気ガスの処理システム。
  6. セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、
    該抽気した抽気ガスに対して、残留性有機汚染物質を処理する処理剤を添加し、
    該処理剤が添加された抽気ガスのダストを湿式集塵することを特徴とするセメントキルン抽気ガスの処理方法。
  7. 前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、活性炭、活性コークス、石炭、石炭灰、活性炭、高炉灰及び未燃カーボンを含む灰からなる群より選ばれる一以上を添加することを特徴とする請求項6に記載のセメントキルン抽気ガスの処理方法。
  8. 前記残留性有機汚染物質を処理するための処理剤として、オクタノール、ジクロロメタン、ヘキサン、トルエン、キシレンからなる群より選ばれる一以上を添加することを特徴とする請求項6に記載のセメントキルン抽気ガスの処理方法。
  9. 前記抽気した抽気ガスに対して、前記処理剤を噴霧することを特徴とする請求項6又は7に記載のセメントキルン抽気ガスの処理方法。
  10. 前記湿式集塵したダストを、硫黄を含む物質と、残留性有機汚染物質を含む物質とに分別することを特徴とする6乃至9のいずれかに記載のセメントキルン抽気ガスの処理方法。
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