JP4852531B2 - セルロースパルプの希釈方法及び希釈装置 - Google Patents

Description

本発明は大きな細片に合体化された脱水、圧縮済みのセルロースパルプの希釈方法であって、脱水したセルロースパルプは20％以上、好ましくは25％以上、より好ましくは30％以上の第１の稠度を維持し、これによってセルロースパルプを、脱水後に又は脱水と組合せて微細に分割したパルプに破砕する、セルロースパルプの希釈方法並びに脱水装置（7，80）からの脱水したセルロースパルプの希釈用装置であって、脱水装置に4〜12％の範囲の初期稠度のパルプを供給し、脱水後のセルロースパルプは20％以上、好ましくは25％以上、より好ましくは30％以上の稠度を維持し、これによってセルロースパルプを破砕（fragmentation）装置（8，8b）に供給して微細に分割したパルプに砕片化する、セルロースパルプの希釈用装置に関する。

漂白系列におけるセルロースパルプの漂白及び脱リグニンの何れか１つと組合せて、該パルプは種々の処理工程間を進行し、そこで該パルプは種々の処理薬剤の漂白又は脱リグニン作用を受ける。該処理は典型的にはアルカリ処理工程と酸性処理工程との間で交互し、該工程では典型的な処理配列はECF型（元素態塩素無含有、Cl、その際二酸化塩素は用い得る）の配列例えばO−D−E−D−E−D、O−D−POあるいはTCF型（完全に塩素無含有）の配列例えばO−Z−E−Pであり得る。他の漂白工程例えばPa工程及びH工程も用い得る。

該処理工程は中位稠度（8〜16％）で又は高い稠度（≧20〜30％）で行ない得るが、各々の処理工程後には分解生成物及び処理工程中に沈澱したリグニンを洗い出し、流体の残留フラクションを最低限にまで低下させるのがとても重要である。何故ならばさもないと次後の処理工程についてpH調節用薬剤の必要量が増大し、沈澱したリグニン及び別の分解生成物が運搬されるからであり、次後の工程は一般に完全に異なるpHで行なわれるからである。

脱水すべきパルプ懸濁物に部分的に（典型的にはドラムの20％〜40％）浸漬される脱水ドラム付きの簡単な真空濾過器を、漂白工程又は脱リグニン工程後の或る旧式の洗浄工程では用いた。これらの真空濾過器においては、パルプのベッドがドラム内部の負圧の影響によりドラムの外表面に対して自発的に形成され、パルプベッドはドラムの回転によりパルプ懸濁物から引上げられ、下方に移動しているドラムの側面上でスクレーパーで掻き取られる。達成される脱水の程度が制限されることにより、脱水されたパルプベッドについては、8〜14％より高い稠度は一般に決して達成されず、掻き取られた脱水済みパルプは次後の収集容器で再び低稠度のスラリーに容易に形成できる。ここで用いた技術は低度の脱水続いてのより清浄な濾液と共にスラリーの形成であり、これは一連の真空濾過器で行なって所要の洗浄効果を達成する。この理由のため、次後の処理段階前に脱水済みのパルプが再びより清浄な濾液と共にスラリーに形成される前に出来るだけ高度の脱水を達成するように試みる。

漂白系列において市場で支配的な洗浄機は慣用の脱水プレス又は増粘プレスであり、その際パルプは脱水ドラムの少なくとも１つの外表面に施用され、次後にドラム間のニップを進行し、ニップ後には20〜30％又はそれ以上の稠度を得る。実際の上限は35〜40％に在り、その際高度の乾燥は繊維の強度特性にマイナスに作用することなしには達成し得ない。この型の代表的な洗浄プレスは米国特許第6,521,094号に記載されている。

洗浄器のニップから給送されるセルロースパルプの脱水したマットは、高度の脱水により先ず細断しなければならず、この細断はシュレッダーのスクリューで行なう。

シュレッダースクリューの目的は専ら、脱水したセルロースパルプのマットを破断し且つ次の処理工程にポンプ輸送し得る稠度にセルロースパルプを再希釈する装置に破断パルプを前進供給するものであった。

かくして再希釈はpHの調節と組合せて行なうのが好ましく、アルカリ洗浄後には次後の酸性処理工程前に、強力な酸性化剤の添加又は次後の処理工程からの酸性戻り水／濾液の添加を通常伴なう。これらの酸性条件は、先のアルカリ洗浄並びに組合せたシュレッダースクリューとは十分に分離して一般に保持される希釈を伴なう。何故ならば、アルカリ洗浄は、酸性条件に耐性の機械を洗浄するのに通常必要とされる材料よりも簡単な材料から構成できるからである。酸性条件は酸に耐え得る材料を必要とし、この材料は別の材料よりも有意な程に高価である。

シュレッダースクリューからの出口でのパルプはきわめて高度の乾燥、20〜30％又はそれ以上の稠度を有し、これは再希釈がシュレッダースクリュー後に設けた少なくとも１個の別個の希釈スクリューで全ての取付けた装置で行なわれることを意味し、その際、次後の処理段階への前進ポンプ輸送を可能とする適当な均質稠度を達成するために希釈スクリューからの強力な攪拌中に希釈流体を添加する。希釈スクリュー後に達成した希釈済みパルプを、底部にポンプを設けた立て管（stand pipe）に供給する。

洗浄のための第２の別法は脱水用スクリューを用いることであり、その際セルロースパルプを先ず希釈し、続いて20〜30％をかなり越える程度の乾燥まで脱水スクリュー（シューン（Thune）タイプ又はスードル（Sudor）プレスタイプ）で脱水する。この様にして、「希釈による洗浄」（wash-by-dilution）として知られる方法が達成される。この場合にはまた緻密化した且つ十分に合体化した脱水済みパルプが脱水用スクリューからの出口で得られる。この場合にはまた脱水用スクリュー後に、希釈スクリューからの強力な攪拌中に希釈流体を添加しながら再希釈を用いている。

脱水プレス又は脱水スクリュー後のきわめて高稠度のパルプは、希釈スクリューからの強力な攪拌の影響下で希釈が生起しない限りは均質な中位稠度への希釈は達成し得ないという考えを生じた。20〜30％又はそれ以上のパルプの稠度は乾燥且つ緻密化したパルプとして経験される。中位稠度のパルプは非常に緻密であるので、パルプが稠度範囲の上部にある時はこのパルプ上を正に歩行できる程であると比較のために言及し得る。

然しながら、この位置での希釈スクリューの使用は、エネルギーの必要量を増大し、投資経費を増大し、保守の必要性を上昇させ、パルプの強度特性にマイナスの影響を有するパルプの別段の機械的処理を伴なう。

本発明は、前記の欠点を除去するのに意図され、パルプが20〜30％又はそれ以上のきわめて高稠度を得るのに脱水されたとしても、パルプベッドが適当な寸法の小さな粒状物に細断されたという条件で且つ希釈流体を自由降下性の粒状化パルプの流れ上に均一に添加するという条件では機械的な攪拌は希釈中に全く必要としないという驚くべき洞察に基づく。

粒状化したパルプはその高稠度にも拘らずスポンジの特性を証明し、且つ希釈流体を自由降下する密に充填されていない粒状化パルプの流れに均一に添加するものであるならば、パルプを次後にポンプ輸送でき又は次の漂白段階又は処理段階に前進導通し得るほどに十分適当であるパルプの主要な均質化希釈が行なわれる場合であることが驚くべきことには判明した。

所要量の流体をそそいで粒状化した且つ圧縮されていないパルプを有する容器中に所要の稠度を得るのに30〜35％付近の稠度を有する少量の十分に粒状化したパルプで実験室の実験では十分であり、全く機械的攪拌なしに流体の添加後に完全な混合物は均一な稠度に均質化された。粒状化したパルプを観察すると粒状物同志の間には空所があり、流体は完全な容積の粒状物を通って粒状物の間を迅速に浸透しその後に粒状物はスポンジとして流体を吸収することを示した。

この主として均質化したパルプは、次後のポンプでポンプ輸送されるのに十分に適当であり、その際二次的な又は補完的な均質化が行なわれ、これらの均質化は互いに、完全に希釈スクリューからの機械的な攪拌なしに次後の処理段階についてパルプの同じ程度の均質化が達成しえることを確保する。

本発明の主たる目的は、希釈スクリューを用いることなく且つ強力な機械的攪拌なしに20〜30％又はそれ以上の高稠度のパルプを再希釈するものであり、パルプ強度の減少を低減する。

別の目的は、希釈スクリューの操業が必要でない故に再希釈での処理装置用の操業経費及び保守経費を低減するものである。

尚別の目的は処理装置の投資経費を低減するものである。処理装置における操業経費と投資経費との両方の低減は同等な程度まで漂白したパルプを製造する経費の低減を伴ない、この節約は漂白系列で用いる多数の洗浄器によって増幅される。６個以上の洗浄器がO−D−E−D−E−D配列で包含され、かくして経費の低減は有意なものであり得る。

１個の希釈スクリューを操業するには大体50kWが専ら必要とされ、投資経費は大体SEK 500,000である（或る程度まで材料の要件に応じて決まり、即ち材料が耐酸性であるか又はそうでないかを必要とするかどうかに応じて決まる）。

O−D−E−D−E−D漂白系列における１年当りの操業経費は6*50kW*SEK 0.20（スウェーデンにおける作業員の代価）*24時間*350日（停止を除いての１年当りの操業日数）＝SEK 500,000 SEK／年であり；
投資経費は；6*SEK 500,000＝SEK 3,000,000である。

この投資経費は5％の利益率でSEK 150,000の年間経費に対応する。

要約すると、本発明の実施は１日当り1,000トンの処理能力を有する漂白系列で保守経費及び建設空間（骨組等）を含めてSEK 650,000〜1,000,000 SEKに近い年間総節約を伴なう。

更には工場の利用度は増大する。何故ならば各々がMTBF（破損間の平均時間）を有する、6個の洗浄器を除去し得るからである。

別の目的は洗浄器と次後のポンプ輸送との間の処理工程を除去するものであり、これはより小型にした工場と、工場の床面上の低い高さで洗浄器を配置する機会とを可能とする。洗浄器は通常床面よりも高い高さに配置され、パルプは種々の調整工程を通過する間に洗浄器で洗浄された後にパルプは下方に降下する。これらの調整工程の１つ（例えば希釈スクリュー）が不要となるならば、建設高さは低減できこれは次いで節約となる。

これらの目的を有することにより、本発明はセルロースパルプの希釈方法において、
（イ）セルロースパルプを破砕によって40mm以下、好ましくは30mm以下、より好ましくは20mm以下の最大寸法を有する通常分布の粒度にまで粒状化し、破砕中は第１の稠度に本質的に同等な稠度を維持し、
（ロ）破砕により微細に分割されたパルプを自由に降下する流れとして給送し、
（ハ）希釈流体を、自由に降下する破砕したパルプの流れと組合せて設けた多数の流体ジェット（62）を通して、自由に降下する破砕パルプに向かって加圧下に添加し、
（ニ）前記の流体ジェット（62）を通して添加した希釈流体の量はセルロースパルプの第２の稠度を8〜16％の中位稠度範囲で確立するものとし、
（ホ）この中位稠度8〜16％のセルロースパルプを次後の処理段階に前進供給し、
（ヘ）次後の処理段階に前進供給する前に8〜16％の中位稠度にまで下げた自由降下性パルプの希釈は、前記の流体ジェットを通して希釈流体の添加からの流体力学的作用の影響下で本質的に専ら行ない、セルロースパルプの破砕と、確立された希釈流体により希釈されたセルロースパルプの下方表面（Liq_LEV）との間では機械的な攪拌は行なわないことを特徴とする、脱水、圧縮済みセルロースパルプの希釈方法に在る。

また本発明は脱水セルロースパルプの希釈用装置において
（イ）セルロースパルプを、破砕装置（8，8b）での破砕により、40mm以下、好ましくは30mm以下、より好ましくは20mm以下の最大寸法を有する通常分布の粒度に粒状化し、
（ロ）微細に分割されたパルプを、破砕装置の出口から本質的に垂直な立て管（22／40'）中に自由降下のもとに供給し、
（ハ）多数のノズル（62）を立て管（22）の周囲に設け、該ノズルから希釈流体（Liq_DIL）を、立て管中に加圧下に添加し且つ立て管で確立した希釈済みセルロースパルプの液面（Liq_LEV）以上で添加し、
（ニ）添加した希釈流体（Liq_DIL）の量は8〜16%の中位稠度の範囲でセルロースパルプの稠度を確立し、50%以上好ましくは75〜90%以上にまでこの添加量は、立て管に確立した液面（Liq_LEV）の上方に設けた前記ノズル（62）を通して添加され、
（ホ）この中位稠度のセルロースパルプを、供給装置（41）により次後の処理段階に前進して供給し、
（ヘ）立て管で8〜16%の中位稠度にまでセルロースパルプを希釈することは前記ノズルを通して希釈流体の添加からの水力動力学的作用の影響下で且つ立て管（22／40'）で確立した流体の液面（Liq_LEV）の上方で機械的攪拌機の使用なしに専ら行なうことを特徴とする、脱水セルロースパルプの希釈用装置に在る。

添附図面を参照するに、図１は従来技術による次後の洗浄プレスを有する反応器でパルプの典型的な処理工程を示す図解図であり、図２は図１（従来技術）の処理装置の一部を示す図解図であり、図３は本発明の希釈装置を示す図解図であり、図４は図３の詳細な図解図であり、図５は断面A−Aのレベルから見た図４の下側部から見た図解図であり、図６は本発明の別の希釈装置の図解図である。

図１は以下では「パルプ」と呼ぶセルロースパルプについての慣用の処理工程を示す。パルプはポンプ１により、必要な処理薬剤を添加してあるミキサー２に供給する。これらの処理薬剤は例えば酸素ガス、オゾン、二酸化塩素、塩素、過酸化物、純粋な酸又は抽出工程用の適当なアルカリ又はこれらの混合物及び場合によってはキレート化剤の如き別の薬剤又は添加剤であり得る。パルプはミキサー２により必要な薬剤の添加後に、ここでは上方流の単一容器塔３の形で示した反応器系３に運搬する。然しながら、反応器系は単純な管体又は１個又は幾つかの直列にした反応器によっても構成でき、しかも場合によっては漂白プロセスが共存でき且つ塔同志間で洗浄を必要としない場合には塔同志の間で薬剤を回分式に添加しながら構成できる。

処理したパルプは反応器系３での処理後に、緩衝剤容量と所要の静圧とを確立するパルプシュート／立て管４に供給し、パルプシュートの底部に設けたポンプ５に供給する。パルプはポンプ５から、ここでは２個のドラム7a，7bを有する洗浄プレスの形で示した洗浄器７に供給する。パルプはここでは12時の位置にあるドラムに施用され、洗浄流体（図示せず）の添加中に収斂性のパルプコレクターによりドラム間の最終脱水用ニップに導通され、そこから脱水したパルプのマットをシュレッダースクリュー８に上方に供給する。

図１のドラムは反対方向に回転し、パルプマットはドラムの外表面を通って脱水され、然るにパルプはドラムの周囲の周り約270°でニップに導通される。洗浄プレスは米国特許第6,521,094号によって表示されるのと同等であり得るのが好ましい。然しながら１個又は複数のドラムを有する何れか別型式の脱水プレス又は洗浄プレスを用いることができ、その際20〜30％又はそれ以上の稠度が達成され、例えば単一の脱水ドラムと対向ローラーとを有する洗浄プレスあるいは２個の脱水ドラムを有する別型式の洗浄プレスを用い得る。

パルプは、大片に合体化されたセルロースパルプの脱水済み且つ圧縮済みマット20の形でニップから上方にシュレッダースクリュー８に供給され、該スクリューの細断軸はドラムの回転軸に本質的に平行であるように設ける。円錐のシュレッダースクリューを用いるならば例えば最大で5〜10°の小さな斜め載置が存在でき、その際パルプマットを円錐シュレッダースクリューの外方ケーシング中の入口スリットに供給し、その際パルプマットを円錐シュレッダースクリューの外方ケーシング中の入口スリットに供給し、その際入口スリットはドラムの軸と平行にある。このシュレッダースクリュー８後に破砕したパルプを、流れ21としてシュレッダースクリューのケーシングの出口からモーター31で駆動される希釈スクリュー30に供給する。希釈スクリューは、希釈流体Liq２の添加中にパルプを連続的な転動に暴露し、パルプを次後にその最終的に調整した稠度で立て管40に供給する。パルプは続いて立て管40から漂白系列の同様な型式の次の処理工程にポンプ輸送し得る。

図２は、シュレッダースクリュー８が希釈スクリュー30と同じ方向に配向されている同じプロセスの一部の別の図解図を示す。大片に合体化されたパルプの脱水済み、圧縮済みマット20が如何にシュレッダースクリュー８に供給されるかをここではより明白に見られる。シュレッダースクリューは、モーター8cにより駆動されしかもその出口で多数のビーター8bを取付け得るネジ山付きスクリュー8aを収容し、該ビーターは細断したパルプを更にホイップし且つ破砕する。シュレッダースクリューの目的は主として、大片に合体化したパルプの脱水、圧縮済みマット20をより小さな細片に破断することであり、時にはかかる１つのシュレッダースクリューで十分であり得る。ビーター8bは、シュレッダースクリューと同じシャフト上に設けることができ、追加の破砕効果を提供するが、閉塞を形成しないようにシュレッダースクリューからの出口を保持するのに主として用いられる。

パルプ粒子の破砕流21はその後、それ自体の重さで下降して次後の希釈スクリュー30に供給される。

図３は他の点では図１に示したのと同等である処理工程で本発明による希釈装置を示す。20〜30％又はそれ以上の稠度を有するパルプの脱水済みウェブをこの場合には図１及び２に示したのと同じ仕方でシュレッダースクリュー８に供給する。然しながら、希釈は有意な程に簡素化した要領で本発明のシュレッダースクリューからの出口で生起する。20〜30％又はそれ以上の稠度を維持するパルプのウェブ又はマット20は先ずシュレッダースクリューによって破砕されるのが重要であり、このようにしてマット20は5〜40mmの範囲に在る平均寸法付近に普通分布される粒度に粒状化されるのが重要である。この事実は破砕したパルプが40mmより小さい、好ましくは30mmより小さい、より好ましくは20mmより小さい最大寸法付近で通常分布される粒度を有することを表わすのに採用される。

通常の分布は破砕したパルプの90〜95%が破砕したパルプの最大寸法40〜30mm又は20mmの±5mm以内に在るように分布されるのが適当である。

次いで粒状化したパルプはシュレッダースクリューの出口から、その出口でシュレッダースクリューの外方ケーシングに接続した立て管22に自由降下形で供給される。続いて希釈流体Liq_DILを、好ましくは立て管の周囲付近に設けた且つ立て管に確立した希釈済みセルロースパルプの液面Liq_LEVより上方で設けた多数の流体ジェットを通して立て管に加圧下で添加する。別法として、流体ジェットの若干又は全ては、自由降下形で直立しているパルプの破砕片の流れ中に定置される中央管から開始でき、しかもその際流体ジェットは本質的に外方に放射状に指向される。或る斜めの調節が確立し得るが、ジェットは90°の攻勢角度で又は90°±60°（＝30°〜155°）の範囲内で自由降下流に指向されるのが好ましく、このようにして或る最低の攻勢角度が確立される。本質的に連続した「流体カーテン」を確立するように多数の流体ジェットが存在できあるいは希釈流体を１個又は幾つかのスリットを通して自由に降下する破砕済みパルプの流れ中に注入できる。重要な事実は、希釈流体を幾つかの箇所でしかも粒状物がその最終程度まで希釈されたパルプの下方にある表面に達する前に自由に降下している箇所でパルプの流れに添加することである。

図３に示した具体例においては、シュレッダースクリューの外方ケーシングへの立て管の上部接続部22は下側にある下方部分40'よりも小さい直径を有する。この原理はパルプが立て管の部分22，40'を通って下方に重力の影響下に降下することであり、その下方部分40'には立て管22，40'中でパルプの所与液面Liq_LEVでポンプ41'でポンプ輸送する前に適当な緩衝剤容量を確立し得るために、より大きな直径が与えられている。

添加した希釈流体Liq_DILの量は8〜16%の中位稠度（コンシステンシー）の範囲内にセルロースパルプの稠度を確立し、これはMCポンプを用いてパルプを前方に給送し得る稠度である。パルプを続いてポンプ輸送する稠度を確立するために必要とされる希釈流体の量は、立て管に確立された液面／表面より上方に設けた前記ノズルで添加される流体の75〜90%以上に構成される。酸性化剤／アルカリ又はキレート剤の如き薬剤の或る量は立て管22／40'の底部で添加し得るが、基本的な希釈は立て管に確立したパルプ液面より上方の希釈流体で行なわれる。この中位稠度のセルロースパルプはポンプ41により立て管の下方端から前方にセルロースパルプの次後の処理工程に供給する。

立て管の上部で20〜30%又はそれ以上の高稠度から立て管の下部からポンプ輸送する前に8〜16%の中位稠度にまで希釈することは、前記ノズルを通して希釈流体を添加することから生ずる流体力学的作用の影響下で専らこの要領で行なわれる。

図３及び図４は希釈流体の添加を実現し得る要領の具体例を示す。希釈流体は立て管22の周りに同心円的に設けた分配室60にポンプにより添加される。ポンプは希釈流体を適当なレベルに、大体0.1〜0.8バールの過剰圧力に加圧する。別法として、高圧ノズルを用いることができ、これは垂直面に対して適当な角度で配向した、流体の扇形水煙柱の形で希釈流体を微細に分布し、適当な角度は30〜90°である。

多数のノズル62を、粒状物の流れ方向に且つ流れの中心に向かって内側に、斜め下方に配向した分配室の底部に設ける。載置における斜めの程度は垂線に対して大体45±15°である。下側への斜め配向が粒状物流への射出影響を達成するために且つ希釈流体が立て管の上方に飛散する危険を回避するために好都合である。

多数のノズル、少なくとも４個のノズルを、好ましくはノズル間を等間隔で立て管22／40'の周囲に設置する。800〜1,500mmの直径を有する立て管22では、10〜40個のノズルを立て管の周囲に設けるのが適当である。隣接するノズル間の間隔は50〜300mmより小さいのが適当である。流体を扇形水煙柱とさせる高圧ノズルを用いるならば、隣接するノズル間の間隔を大きくしながら該ノズルを設置できる。希釈流体は粒状物の流れの完全な周縁回りに均一に且つ粒状物の流れの中心に浸透させるために十分な高圧で添加するのが重要である。圧力の設定は、用いられるノズル、立て管の直径及び破砕したパルプの流速に基づく技術的な適合である。

図６は本発明の別の具体例を示す。図３に示した具体例とこの別の具体例との間の差異は、この場合の脱水設備が脱水スクリュー（シューン型又はスードル型）であることであり、その際円錐形のスクリュー80aはスクリュー付きの包囲有孔箱体を通して包囲空間に対して脱水中にパルプの入来流20を圧縮し、その際濾液８0bはこの空間から導出される。スクリューの駆動力は通常その入口に定置されるがモーター8cはここではスクリューの出口に接続されて示される。

大片に合体化された脱水、圧縮済みのパルプはまたこの場合スクリューの出口から多数のビーター8bの形でのより簡単な破砕装置に供給され、該ビーターは円錐形スクリューの出口で定置されながら円錐スクリューと同じシャフト上に定置させ得る。これらのビーター8bは、大片に合体化された脱水、圧縮済みパルプの形で脱水スクリューから供出されるパルプをホイップし且つ破断する。これらのビーターはそれ自体の出力源を有するのが好ましく、しかもスクリューの回転速度をかなり越える回転速度で駆動されるのが好ましい。

パルプ粒子の破砕流21は続いて、図３に示したのと同じ要領でそれ自体の重量での下降により降下部40に供給される。更には、第２の脱水スクリュー90を設けて、降下部40の底部で希釈したパルプ懸濁物を受取る。脱水スクリュー90は、例えば脱水プレスへの入口装置における分配スクリューの如き別の運搬装置又は別の分配装置であり得る。

さもなくば、希釈は図３に示した具体例と同じ要領で機能し、同じである部分は同じ参照番号を有する。

本発明はクレームの範囲内で多数の仕方で改変できる。例えば、希釈流体の添加用ノズル62は例えば8〜10mmの最低厚さを有する厚い波形シート中に簡単な穿孔によって構成し得る。然しながら粒状物の流れの最適な浸透と流れの完全な周縁上に均一な分布とを確保するために、好ましくは流体の扇形水煙柱を生成する、特別に適合したノズルが好ましい。希釈流体の添加は、粒状化したパルプが進行する領域で希釈流体がごく微細に分割されたミストを形成するのに十分な程に高い圧力でも行ない得る。希釈流体の添加は好ましい具体例ではより大きな直径を有する立て管の下方部40'に対して立て管22の領域の増大と組合せて行なわれるが、添加が領域の増大と組合せて行なわれるのは必要ではない。

立て管に向かって下方に指向した添加流と共に少量の希釈流体をシュレッダースクリューの出口端で添加し得る。然しながら、希釈は粒状物の流れ中に希釈流体の添加からの流体力学的混合作用によって主として行われるものである。

従来技術による次後の洗浄プレスを有する反応器でパルプの典型的な処理工程を示す図解図 図１（従来技術）の処理装置の一部を示す図解図 本発明の希釈装置を示す図解図 図３の詳細な一部分図解図 断面A−Aのレベルから見た図４の下側部から見た図解図 本発明の別の希釈装置の図解図

符号の説明

１ ポンプ、２ ミキサー、３ 反応器、7a，7b ドラム、８ シュレッダースクリュー、20 パルプの脱水、圧縮済みマット、21 パルプ粒子の破砕流、22 立て管、30 希釈スクリュー、40 立て管（降下部）、60 分配室、62 ノズル（流体ジェット）、90 第２の脱水スクリュー

Claims (11)

1. 大きな細片に合体化された脱水、圧縮済みセルロースパルプの希釈方法であって、脱水したセルロースパルプは20%以上の第１の稠度を維持し、これによってセルロースパルプを、脱水後に又は脱水と組合せて微細に分割したパルプに破砕する、セルロースパルプの希釈方法において、
   （イ）セルロースパルプを砕片化によって40mm以下の最大寸法を有する通常分布の粒度にまで粒状化し、砕片化中は第１の稠度に本質的に均等な稠度を維持し、
   （ロ）砕片化により微細に分割されたパルプを自由に降下する流れとして給送し、
   （ハ）希釈流体を、自由に降下する破砕したパルプの流れと関連して設けた多数の流体ジェット（62）を通して、自由に降下する破砕したパルプに向かって加圧下に添加し、
   （ニ）前記の流体ジェット（62）を通して添加した希釈流体の量はセルロースパルプの第２の稠度を8〜16％の中位稠度に確立するものとし、
   （ホ）この中位稠度8〜16％のセルロースパルプを次後の処理段階に前進して供給し、
   （ヘ）次後の処理段階に前進して供給する前に8〜16％の中位稠度にまで下げた自由降下性パルプの希釈は、前記の流体ジェットを通して希釈流体の添加からの流体力学的作用の影響下で本質的に専ら行ない、セルロースパルプの砕片化と、確立された希釈流体により希釈されたセルロースパルプの下方表面（LiqLEV）との間では機械的な攪拌は行なわないことを特徴とする、脱水、圧縮済みセルロースパルプの希釈方法。
2. 流体ジェットは、自由降下で形成した砕片化したパルプの流れの回りに設け、しかも主として流れに向かって内方に放射状に指向されることを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 中位稠度のセルロースパルプはポンプ輸送により次後の処理段階に前進して供給することを特徴とする請求項１記載の方法。
4. 添加する希釈流体は前記の流体ジェット（62）を通して50％以上の程度まで添加することを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
5. 関連する流体ジェット（62）からの希釈流体の添加は、セルロースパルプの降下方向で斜め下方に向けられる加圧した流体ジェットの形で行なうことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
6. 流体ジェットは垂直方向に関して且つ粒状物の降下方向に関して45°±15°の確度で指向されることを特徴とする請求項４記載の方法。
7. 脱水装置（7, 80）からの脱水したセルロースパルプの希釈用装置であって、脱水装置に4〜12％の範囲の初期稠度のパルプを供給し、脱水後のセルロースパルプは20％以上の稠度を維持し、これによってセルロースパルプを砕片化装置（8，8b）に供給して微細に分割したパルプに破砕する、希釈用装置において、
   （イ）セルロースパルプを、砕片化装置（8，8b）での砕片化により40mm以下の最大寸法を有する通常分布の粒度に粒状化し、
   （ロ）微細に分割されたパルプを、砕片化装置の出口から本質的に垂直な立て管（22／40'）中に自由降下のもとに供給し、
   （ハ）多数のノズル（62）を立て管（22）の周囲に設け、該ノズルから希釈流体LiqDILを立て管中に加圧下に添加し且つ立て管で確立した希釈済みセルロースパルプの液面（LiqLEV）以上で添加し、
   （ニ）添加した希釈流体（LiqDIL）の量は8〜16％の中位稠度の範囲でセルロースパルプの稠度を確立し、50％以上にまでこの添加量は、立て管に確立した液面（LiqLEV）の上方に設けた前記ノズル（62）を通して添加され、
   （ホ）この中位稠度のセルロースパルプを、供給装置（41）により次後の処理段階に前進して供給し、
   （ヘ）立て管で8〜16％の中位稠度にまでセルロースパルプを希釈することは前記ノズルを通して希釈流体の添加からの水力動力学的作用の影響下で且つ立て管（22／40'）で確立した流体の液面（LiqLEV）の上方での機械的攪拌機の使用なしに専ら行なうことを特徴とする、脱水セルロースパルプの希釈用装置。
8. この中位稠度のセルロースパルプは、確立した流体の液面（LiqLEV）より下方の立て管の底部近くの下方部で立て管（20／40'）に接続したポンプ（41）で次後のセルロースパルプ用処理段階に前進して供給することを特徴とする請求項７記載の装置。
9. 少なくとも４個のノズルを、立て管（22／40'）の周囲に設けその際隣り合うノズル間の間隔は50〜300mm以下であることを特徴とする請求項７記載の装置。
10. 各々のノズルは、垂直線及び粒状物の降下方向に関して45±15°の角度で立て管の中央に向かって且つ斜め下方に指向されていることを特徴とする請求項９記載の装置。
11. 全てのノズルは、希釈流体用の共通の分配室（60）に接続されており、該分配室は昇圧装置（61）によって加圧されていることを特徴とする請求項１０記載の装置。

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