JP4850876B2 - 光触媒担持体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、排ガス等の気体やメカニカルシール廃水等の液体を浄化処理するフィルタ等として使用される光触媒担持体であって、水処理非酸化物系セラミックス製の基体に酸化チタン（ＴｉＯ２）光触媒を担持させてなる光触媒担持体及びこれを製造する方法に関するものである。
ＴｉＯ２光触媒担持体としては、一般に、基体表面に有機系又は無機系の接着剤や界面活性剤を適宜にブレンドしたＴｉＯ２ゾルにディップコーティングした上、これに適宜の乾燥処理又は熱処理等を施すことにより、基体表面にＴｉＯ２光触媒層を接着固定したものが周知である。
しかし、このような一般的なＴｉＯ２光触媒担持体は、基体とＴｉＯ２光触媒層との接着強度が十分でなく、耐久性に問題があった。特に、水流との接触による負荷が大きい水浄化処理用フィルタとして使用する場合には、ＴｉＯ２光触媒層が剥がれ易く、長期に亘って良好な光触媒機能を発揮，維持することができない。すなわち、光触媒層が剥がれることにより光触媒機能が短期間のうちに低下，喪失する虞れがあった。なお、ディップコーティング材であるＴｉＯ２ゾルには、上記した如く、ＴｉＯ２ゾルの安定性を高めるための界面活性剤や基体への接着性を高めるための接着剤が含まれているため、これらの界面活性剤や接着剤がＴｉＯ２光触媒層の表面に滲出して、ＴｉＯ２光触媒層による光触媒機能（浄化機能）を低下させる虞れもある。
そこで、従来からも、ＴｉＯ２光触媒層の接着強度を向上させるべく、種々の提案がなされている。例えば、ＳｉＣ基体の表面をＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３の複合酸化物であるムライトとなし、その表面上にＴｉＯ２光触媒層を一般的な方法で形成してＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ２の界面とすることによって、ＴｉＯ２光触媒層の接着強度を高めるようにすること（例えば、特許文献１を参照）、又は基体をアモルファル過酸化チタンゾルであるペルオキソチタン酸水溶液にアナターゼ型ＴｉＯ２粒子を分散させたコーティング液にディッピングし、これを乾燥，焼成することによって、基体との濡れ性改善とＴｉＯ２粒子間のバインダー的役割によりＴｉＯ２光触媒層の密着性向上を図るようにすること（例えば、特許文献２を参照）が提案されている。
しかし、前者においては、数十ｎｍ程度と思われるＳｉＣの自然酸化膜であるＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３膜とで基体界面が構成され、その上面に５０〜１５０μｍのＡｌ２Ｏ３膜があり、更にその上面に酸化物とはいえ異物質であるＴｉＯ２膜があるため、水浄化処理用フィルタのように負荷の大きな用途においてはＴｉＯ２光触媒層の接着強度が十分であるとはいい難い。また、後者の場合には、ＴｉＯ２膜のクラック対策としては有効であると思われるが、ＳｉＣのような非酸化系セラミックスの基体に対してはＴｉＯ２光触媒層の接着強度が十分ではない。このように、何れの場合にも、ＳｉＣ等の非酸化系セラミックスからなる基体とＴｉＯ２光触媒層との接着強度を、水浄化処理用フィルタのような負荷抵抗の大きな用途においては十分に確保することができない。
本発明は、非酸化系セラミックスからなる基体とＴｉＯ２光触媒層との接着強度を、水浄化処理用フィルタのような負荷抵抗の大きな用途にも十分適用できる程度にまで向上させることができる光触媒担持体を提供すると共に、これを容易に製造することができる方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、上記の目的を達成すべく、非酸化物系セラミックスからなる基体と、これを大気中で加熱して酸化処理することによって基体表面に形成された酸化膜層と、この酸化膜層上に形成された当該酸化膜成分及びＴｉＯ２からなる固溶体層と、この固溶体層上に形成されたＴｉＯ２光触媒層とからなることを特徴とする光触媒担持体を提案する。好ましい実施の形態にあって、かかる光触媒担持体は、ＳｉＣ等のＳｉ質のセラミック基体と、基体表面に形成された酸化膜層たるＳｉＯ２層と、ＳｉＯ２層上に形成されたＳｉＯ２及びＴｉＯ２の拡散層である固溶体層と、固溶体層上に形成されたＴｉＯ２光触媒層とからなる。基体の形態は、当該光触媒担持体の用途に応じて適宜であり、水浄化処理用フィルタ等として使用する場合においては一般に多孔質体が好適する。酸化膜層の厚みは１〜１０μｍであることが好ましく、固溶体層の厚みは１〜１０μｍであることが好ましい。また、ＴｉＯ２光触媒層の厚みは１〜１０μｍであることが好ましい。かかる光触媒担持体は、負荷の大きな水浄化処理用フィルタ（例えば、メカニカルシールからの廃水（フラッシング水，クエンチング水等）の浄化処理装置用フィルタ）として、特に好適に使用することができる。
また、本発明は、このような光触媒担持体を好適に製造する方法を提案する。すなわち、本発明は、非酸化物系セラミックスからなる基体を大気中で加熱して酸化処理することによって基体表面に酸化膜層を形成する一次前処理工程と、酸化膜層が形成された基体を、酸化膜層上にＴｉＯ２スラリをコーティングした上で、大気中で熱処理することにより、酸化膜層上に当該酸化膜成分及びＴｉＯ２の固溶体層を形成する二次前処理工程と、固溶体層が形成された基体を、固溶体層上にＴｉＯ２粉末の水スラリ（光触媒活性を低下させる虞れのある接着剤，分散剤等の添加剤を一切含まないもの）をコーティングした上で、熱処理することにより、固溶体層上にＴｉＯ２光触媒層を形成する触媒担持処理工程とからなることを特徴とする光触媒担持体の製造方法を提案する。好ましい実施の形態にあって、かかる製造方法は、ＳｉＣ等のＳｉ質のセラミック基体（好ましくは多孔質体）を大気中において８００〜１２００℃（最適には１０００℃）で加熱して酸化することによって、基体表面に酸化膜層であるＳｉＯ２層を形成する一次前処理工程と、ＳｉＯ２層が形成された基体を、ＳｉＯ２層上にＴｉＯ２濃度を０．５〜５％とするＴｉＯ２ゾル（接着剤，分散剤等の添加剤を含む市販のＴｉＯ２ゾルを希釈したものが使用できる）をコーティングした上で大気中において８００〜１２００℃（最適には１０００℃）で熱処理することにより、ＳｉＯ２層上にＳｉＯ２及びＴｉＯ２の拡散層である固溶体層を形成する二次前処理工程と、固溶体層が形成された基体を、固溶体層上にＴｉＯ２粉末を純水に分散させてなるＴｉＯ２スラリをコーティングした上で、ＴｉＯ２の結晶形態がルチル型に転移しない条件（より好ましくは、ＴｉＯ２の結晶形態がルチル型に転移せず且つＴｉＯ２結晶粒が肥大化することなく光触媒活性を最大限発揮されうる条件）で熱処理することにより、固溶体層上にＴｉＯ２光触媒層を形成する触媒担持処理工程とからなる。触媒担持処理工程において使用するＴｉＯ２スラリとしては、純水１００部にＴｉＯ２粉末５〜１５部を分散させたものを使用することが好ましい。ＴｉＯ２粉末としては、例えば、一次粒子径２１ｎｍ，比表面積５０ｍ２／ｇのアナターゼ型を主成分とするものを使用することが好ましい。触媒担持処理工程における熱処理温度は、ＴｉＯ２の結晶形態がルチル型に転移する直前の温度（一般に、４００〜７００℃）に設定することが好ましく、最適には、ＴｉＯ２の結晶形態がルチル型に転移せず且つＴｉＯ２結晶粒が肥大化することなく光触媒活性を最大限発揮されうる温度条件である６００℃に設定しておくことが好ましい。
本発明の光触媒担持体によれば、基体とＴｉＯ２光触媒層とを酸化膜層及び固溶体層を介して接着させており、これらの層相互の界面が一種の傾斜材組成となっているため、ＴｉＯ２光触媒層の接着強度を大幅に向上させ得て、大きな負荷がかかる水浄化処理用フィルタ等の用途においても、長期に亘ってＴｉＯ２光触媒層の剥離を防止しつつ良好な光触媒機能を発揮させることができる。しかも、ＴｉＯ２光触媒層が接着剤，分散剤の添加剤を含有しないことから、ＴｉＯ２光触媒層形成時の熱処理温度を適正に設定することにより、優れた光触媒活性を発揮することができる。また、本発明の方法によれば、このような光触媒担持体を容易且つ良好に製造することができる。
実施例として、図１に示す如く、ＳｉＣ多孔質材からなる基体Ａと、その表面に形成された酸化膜層であるＳｉＯ２層Ｂと、ＳｉＯ２層Ｂ上に形成されたＳｉＯ２及びＴｉＯ２の拡散層である固溶体層Ｃと、固溶体層Ｃ上に形成されたＴｉＯ２光触媒層Ｄとからなる光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３を製作した。
すなわち、実施例１として、次のような前処理工程及び光触媒担持工程により光触媒担持体Ｅ１を製作した。
（一次前処理工程）
基体Ａを大気中で１０００℃，１時間の条件で加熱して酸化することにより、基体Ａの表面にＳｉＯ２層を形成した。基体ＡとＳｉＯ２層Ｂとの境界にはＳｉＣ酸化拡散層ａが形成されており、ＳｉＯ２層Ｂは自然酸化膜に比して強固なものとなっている。
基体Ａを大気中で１０００℃，１時間の条件で加熱して酸化することにより、基体Ａの表面にＳｉＯ２層を形成した。基体ＡとＳｉＯ２層Ｂとの境界にはＳｉＣ酸化拡散層ａが形成されており、ＳｉＯ２層Ｂは自然酸化膜に比して強固なものとなっている。
（二次前処理工程）
上記のように酸化処理された基体Ａを、ＳｉＯ２層Ｂ上にＴｉＯ２スラリをディップコーティング，乾燥した上で、大気中で１０００℃，１時間の条件で熱処理して、ＳｉＯ２層Ｂ上にＳｉＯ２及びＴｉＯ２が拡散する固溶体層Ｃを形成した。ＴｉＯ２スラリとしては、ＴｉＯ２濃度１０％の市販ＴｉＯ２ゾル（テイカ株式会社製「ＴＫＣ−３０３」）をＴｉＯ２濃度が２％となるように希釈したものを使用した。
上記のように酸化処理された基体Ａを、ＳｉＯ２層Ｂ上にＴｉＯ２スラリをディップコーティング，乾燥した上で、大気中で１０００℃，１時間の条件で熱処理して、ＳｉＯ２層Ｂ上にＳｉＯ２及びＴｉＯ２が拡散する固溶体層Ｃを形成した。ＴｉＯ２スラリとしては、ＴｉＯ２濃度１０％の市販ＴｉＯ２ゾル（テイカ株式会社製「ＴＫＣ−３０３」）をＴｉＯ２濃度が２％となるように希釈したものを使用した。
（光触媒担持工程）
固溶体層Ｃが形成された基体Ａを、固溶体層Ｃ上にＴｉＯ２スラリをディップコーティング，乾燥した上で、６００℃，１時間の条件で熱処理して、固溶体層Ｃ上にＴｉＯ２光触媒層Ｄが形成された光触媒担持体Ｅ１を得た。ＴｉＯ２スラリは、一次粒子径２１ｎｍ，比表面積５０ｍ２／ｇのルチル型を含みアナターゼ型を主成分とするＴｉＯ２粉末を純水に分散させた水スラリであり、ＴｉＯ２粉末３０ｇを純水２７０ｇに添加してボールミル（又はビーズミル）により１６時間攪拌することによって得られたものである。なお、ＴｉＯ２粉末についてＸ線回折パターン(Ｘ線：Ｃｕ／３０ｋＶ／３０ｍＡ，ゴニオメータ：ＲＩＮＴ２０００広角ゴニオメータ，アタッチメント：標準試料ボルダー，フィルタ：不使用，インシデントノモクロ：不使用，カウンタモノクロメータ：固定モノクロメータ，発散スリット：１°，発散縦制限スリット：１０．００ｍｍ，散乱スリット：１°，受光スリット：０．１５ｍｍ，モノクロ受光スリット：なし，カウンタ：シンチレーションカウンタ，走査モード：連続，スキャンスピード：２．０００°／ｍｉｎ，サンプリング幅：０．０２０°，走査軸：２θ／θ，走査範囲：１０．０００〜９０．０００°，θオフセット：０．０００°)を測定したところ、図２に示す如く、熱処理後のＸ線回折パターン（同図(Ａ)）と熱処理前のＸ線回折パターン（同図(Ｂ)）とは殆ど変化がなく、上記温度(６００℃)の熱処理によってはＴｉＯ２結晶子が増大しないことが確認されている。
固溶体層Ｃが形成された基体Ａを、固溶体層Ｃ上にＴｉＯ２スラリをディップコーティング，乾燥した上で、６００℃，１時間の条件で熱処理して、固溶体層Ｃ上にＴｉＯ２光触媒層Ｄが形成された光触媒担持体Ｅ１を得た。ＴｉＯ２スラリは、一次粒子径２１ｎｍ，比表面積５０ｍ２／ｇのルチル型を含みアナターゼ型を主成分とするＴｉＯ２粉末を純水に分散させた水スラリであり、ＴｉＯ２粉末３０ｇを純水２７０ｇに添加してボールミル（又はビーズミル）により１６時間攪拌することによって得られたものである。なお、ＴｉＯ２粉末についてＸ線回折パターン(Ｘ線：Ｃｕ／３０ｋＶ／３０ｍＡ，ゴニオメータ：ＲＩＮＴ２０００広角ゴニオメータ，アタッチメント：標準試料ボルダー，フィルタ：不使用，インシデントノモクロ：不使用，カウンタモノクロメータ：固定モノクロメータ，発散スリット：１°，発散縦制限スリット：１０．００ｍｍ，散乱スリット：１°，受光スリット：０．１５ｍｍ，モノクロ受光スリット：なし，カウンタ：シンチレーションカウンタ，走査モード：連続，スキャンスピード：２．０００°／ｍｉｎ，サンプリング幅：０．０２０°，走査軸：２θ／θ，走査範囲：１０．０００〜９０．０００°，θオフセット：０．０００°)を測定したところ、図２に示す如く、熱処理後のＸ線回折パターン（同図(Ａ)）と熱処理前のＸ線回折パターン（同図(Ｂ)）とは殆ど変化がなく、上記温度(６００℃)の熱処理によってはＴｉＯ２結晶子が増大しないことが確認されている。
実施例２として、光触媒担持工程における熱処理条件を４００℃，１時間とした点を除いて実施例１と同一の工程により、光触媒担持体Ｅ２を得た。
実施例３として、光触媒担持工程における熱処理条件を７００℃，１時間とした点を除いて実施例１と同一の工程により、光触媒担持体Ｅ３を得た。
また、比較例として、次のような光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ９を製作した。なお、各光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ９における基体は実施例１〜３と同一のものが使用されている。
すなわち、比較例１として、基体をＴｉＯ２ゾルにディッピング，乾燥した上、４００℃，１時間の条件で熱処理することによって、基体表面にＴｉＯ２光触媒層が形成された光触媒担持体Ｅ４を得た。ＴｉＯ２ゾルとしては、ＴｉＯ２濃度１０％の市販ＴｉＯ２ゾル（テイカ株式会社製「ＴＫＣ−３０３」）を使用した。
比較例２として、基体表面にＴｉＯ２ゾルをディップコーティングする前に基体を大気中４００℃で酸化処理した点を除いて、比較例１と同一工程により光触媒担持体Ｅ５を得た。
比較例３として、一次前処理及び二次前処理を行わない点を除いて実施例１と同一の工程（光触媒担持工程）により光触媒担持体Ｅ６を得た。
比較例４として、二次前処理を行わない点を除いて実施例２と同一の工程（二次前処理工程及び光触媒担持工程）により光触媒担持体Ｅ７を得た。
比較例５として、二次前処理を行わない点を除いて実施例１と同一の工程（二次前処理工程及び光触媒担持工程）により光触媒担持体Ｅ８を得た。
比較例６として、二次前処理を行わない点を除いて実施例３と同一の工程（二次前処理工程及び光触媒担持工程）により光触媒担持体Ｅ９を得た。
上記のようにして得られた各光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ９について、ＴｉＯ２光触媒層の接着強度ないし光触媒性能を比較，確認すべく、次のような超音波試験及び脱色試験を行った。
すなわち、超音波試験においては、各光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ９から縦横６０ｍｍ，厚み３０ｍの正方形試験片を採取して、これをビーカ(容量５００ｍＬ)内の水（４００ｍＬ）にいれ、このビーカに超音波洗浄機を使用して３０分間超音波（周波数２８ｋＨｚ）を印加し、各試験片におけるＴｉＯ２光触媒層の剥離量を測定した。剥離量は、超音波試験前後の試験片重量差から剥離重量（＝試験前の試験片重量−試験後の試験片重量）を求めて、試験前の試験片重量に対する比率（＝（剥離重量／試験前の試験片重量）×１００％）で示したものである。その結果は、表１に示す通りであった。
表１に示す超音波試験結果から理解されるように、実施例の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３は、比較例の光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ９の何れに比しても、剥離量が極めて少なく、特に光触媒担持工程における熱処理温度を６００℃とした実施例１の光触媒担持体Ｅ１においては光触媒層Ｄの剥離は認められなかった。また、比較例１〜３の光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ６と比較例４〜６の光触媒担持体Ｅ７〜Ｅ９との比較及び比較例４〜６の光触媒担持体Ｅ７〜Ｅ９と実施例１〜３の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３との比較から、前処理工程が光触媒層の接着強度向上に極めて有効であることが理解される。
また、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により超音波試験後の各試験片について観察したところ、比較例の光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ９では、程度の差はあるものの、何れもＴｉＯ２光触媒層表面にクラックが生じており、ＴｉＯ２光触媒層が剥離して基体骨格が露出している部分が認められたが、実施例１〜３の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３では、このようなクラックや基体骨格の露出は認められなかった。
脱色試験では、濃度７．５ｐｐｍのメチレンブルー水溶液１００Ｌを収容する原水タンクと水浄化装置とを連結する循環水路において、マクネットポンプによりメチレンブルー水溶液を循環させ、水浄化装置から原水タンクへの返戻水の透過率（メチレンブルー吸収波長６６５ｎｍでの透過率）が９０％となる（メチレンブルー水溶液が目視でほぼ透明となる）までの時間（脱色時間）を測定した。水浄化装置は、水浄化処理用フィルタである光触媒担持体を充填した９本の水路管（呼び径１インチ，長さ７１４ｍｍのＰＦＡチューブであって、ＵＶ照度計測定で波長２５４ｎｍのＵＶ光を約７０％透過するＵＶ光高透過性チューブ）を１６本のＵＶランプ(２０Ｗ)により照射するようにしたものであり、メチレンブルー水溶液が水路管内の光触媒担持体を通過する間において浄化処理(脱色処理)されるように構成されている。透過率測定器としては、セントラル化学（株）製の可視・紫外分光光度計「ＤＲ／４０００Ｕ」を使用した。
而して、脱色試験は、各光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ９を上記各水路管内に充填した上、メチレンブルー水溶液の循環流量を異にして３回に分けて行い、第１回目の脱色試験ではメチレンブルー水溶液の循環流量を５Ｌ／ｍｉｎとして、第２回目の脱色試験では当該循環流量を第１回目の２倍（１０Ｌ／ｍｉｎ）として、更に第３回目の脱色試験では当該循環流量を第１回目と同一（５Ｌ／ｍｉｎ）として、夫々脱色時間を測定した。また、各脱色試験後において、水路管から光触媒担持体を取り出して重量を測定することによって、ＴｉＯ２光触媒層の累積剥離量を求めた。すなわち、累積剥離量は、第１回目の脱色試験については（(第１回目の脱色試験前の光触媒担持体重量−第１回目の脱色試験後の光触媒担持体重量)／第１回目の脱色試験前の光触媒担持体重量）×１００％）であり、第２回目の脱色試験については（(第１回目の脱色試験前の光触媒担持体重量−第２回目の脱色試験後の光触媒担持体重量)／第１回目の脱色試験前の光触媒担持体重量）×１００％）であり、第３回目の脱色試験については（(第１回目の脱色試験前の光触媒担持体重量−第３回目の脱色試験後の光触媒担持体重量)／第１回目の脱色試験前の光触媒担持体重量）×１００％）である。
脱色試験の結果は表１に示す通りであり、実施例の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３では、循環流量の変化に拘わらずＴｉＯ２光触媒層が剥離されず、脱色時間も殆ど変化がなかった。これに対して、比較例の光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ９では、累積剥離量が脱色試験回数に応じて増加しており、脱色時間も脱色試験を重ねるに従って増大している。このことからも、超音波長試験の結果と同様に、前処理工程が光触媒機能向上に極めて有効であることが理解される。特に、実施例の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３と比較例の光触媒担持体Ｅ４，Ｅ５とで第１回目の脱色時間が大きく異なるのは、光触媒担持体Ｅ４，Ｅ５においてＴｉＯ２光触媒層形成に接着剤，分散剤等の添加剤を含むＴｉＯ２ゾルを使用したことによるものであり、第２回目及び第３回目の脱色時間が実施例の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ３において殆ど変化がないのに対し比較例の光触媒担持体Ｅ４〜Ｅ９では脱色試験を重ねるに従って増大しているのは、ＴｉＯ２光触媒層の剥離によるものであると考えられる。なお、脱色試験後の光触媒担持体Ｅ１〜Ｅ９についてＳＥＭ観察したところ、超音波試験後のＳＥＭ観察結果と一致した。
Ａ 基体
ａ ＳｉＣ酸化拡散層
Ｂ 酸化膜層（ＳｉＯ２層）
Ｃ 固溶体層
Ｄ ＴｉＯ２光触媒層
Ｅ１ 光触媒担持体
Ｅ２ 光触媒担持体
Ｅ３ 光触媒担持体
ａ ＳｉＣ酸化拡散層
Ｂ 酸化膜層（ＳｉＯ２層）
Ｃ 固溶体層
Ｄ ＴｉＯ２光触媒層
Ｅ１ 光触媒担持体
Ｅ２ 光触媒担持体
Ｅ３ 光触媒担持体
Claims (7)
- 非酸化物系セラミックスからなる基体と、これを大気中で加熱して酸化処理することによって基体表面に形成された酸化膜層と、この酸化膜層上に形成された当該酸化膜成分及びＴｉＯ２からなる固溶体層と、この固溶体層上に形成されたＴｉＯ２光触媒層とからなることを特徴とする光触媒担持体。
- Ｓｉ質のセラミック基体と、基体表面に形成された酸化膜層たるＳｉＯ２層と、ＳｉＯ２層上に形成されたＳｉＯ２及びＴｉＯ２の拡散層である固溶体層と、固溶体層上に形成されたＴｉＯ２光触媒層とからなることを特徴とする、請求項１に記載する光触媒担持体。
- 固溶体層の厚みが１〜１０μｍであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載する光触媒担持体。
- 水浄化処理用フィルタとして使用されるものであることを特徴とする、請求項１〜請求項３の何れかに記載する光触媒担持体。
- 請求項１〜請求項４の何れかに記載する光触媒担持体を製造する方法であって、
非酸化物系セラミックスからなる基体を大気中で加熱して酸化処理することによって基体表面に酸化膜層を形成する一次前処理工程と、酸化膜層が形成された基体を、酸化膜層上にＴｉＯ２スラリをコーティングした上で、大気中で熱処理することにより、酸化膜層上に当該酸化膜成分及びＴｉＯ２の固溶体層を形成する二次前処理工程と、固溶体層が形成された基体を、固溶体層上にＴｉＯ２粉末の水スラリをコーティングした上で、熱処理することにより、固溶体層上にＴｉＯ２光触媒層を形成する触媒担持処理工程とからなることを特徴とする光触媒担持体の製造方法。 - Ｓｉ質のセラミック基体を大気中において８００〜１２００℃に加熱して酸化処理することによって、基体表面に酸化膜層であるＳｉＯ２層を形成する一次前処理工程と、ＳｉＯ２層が形成された基体を、ＳｉＯ２層上にＴｉＯ２濃度を０．５〜５％とするＴｉＯ２ゾルをコーティングした上で、大気中において８００〜１２００℃で熱処理することにより、ＳｉＯ２層上にＳｉＯ２及びＴｉＯ２の拡散層である固溶体層を形成する二次前処理工程と、固溶体層が形成された基体を、固溶体層上にＴｉＯ２粉末を純水に分散させてなるＴｉＯ２スラリをコーティングした上で、ＴｉＯ２の結晶形態がルチル型に転移しない条件で熱処理することにより、固溶体層上にＴｉＯ２光触媒層を形成する触媒担持処理工程とからなることを特徴とする、請求項５に記載する光触媒担持体の製造方法。
- 触媒担持処理工程における熱処理温度が４００〜７００℃であることを特徴とする、請求項５又は請求項６に記載する光触媒担持体の製造方法。
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