JP4845834B2 - Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing - Google Patents

Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing Download PDF

Info

Publication number
JP4845834B2
JP4845834B2 JP2007214641A JP2007214641A JP4845834B2 JP 4845834 B2 JP4845834 B2 JP 4845834B2 JP 2007214641 A JP2007214641 A JP 2007214641A JP 2007214641 A JP2007214641 A JP 2007214641A JP 4845834 B2 JP4845834 B2 JP 4845834B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
nonionic surfactant
cloud point
aqueous solution
polyoxyethylene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007214641A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009046353A (en
Inventor
匠 鈴木
英幸 友田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Neos Co Ltd
Original Assignee
Neos Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Neos Co Ltd filed Critical Neos Co Ltd
Priority to JP2007214641A priority Critical patent/JP4845834B2/en
Publication of JP2009046353A publication Critical patent/JP2009046353A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4845834B2 publication Critical patent/JP4845834B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Description

本発明は、ガラス製部材の製造方法、より詳しくは、ガラス加工時に発生する切り屑のガラス表面への付着が抑制されたガラス製部材の製造方法に関する。更に詳しくは、ガラスの切断時、切削時又は端面研削時等に発生するサブミクロン〜数百ミクロンの切り屑がガラス表面に付着あるいは凝着することを防止しつつガラスを加工する方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass member, and more particularly, to a method for manufacturing a glass member in which adhesion of chips generated during glass processing to a glass surface is suppressed. More specifically, the present invention relates to a method of processing glass while preventing chips of submicron to several hundreds of microns generated during cutting, cutting or end face grinding of glass from adhering or adhering to the glass surface.

ガラスは、一般の窓やビン用ばかりでなく、特に最近は液晶テレビやプラズマディスプレーテレビ等のテレビのディスプレー用、ガラス磁気ディスク、レンズ等精密な分野での使用、用途も広がってきている。これらの用途で切断加工、切削加工或いは端面研削加工時に問題となるのは、加工時に発生した切り屑の再付着である。再付着した切り屑をそのまま放置すると溶着を起こし取れなくなる。   Glass is used not only for general windows and bottles, but also recently, its use and applications in precision fields such as for television displays such as liquid crystal televisions and plasma display televisions, glass magnetic disks, and lenses are expanding. In these applications, a problem at the time of cutting, cutting or end face grinding is reattachment of chips generated during processing. If the reattached chips are left as they are, welding cannot occur.

従来から、この再付着を防止するために、(1)切断工程を流水中で行う、(2)切断位置にテープ等を貼り、切断後そのテープを剥がす、等の方法が試みられている。しかし、方法(1)では、切断工程を流水中で行っても、微小な切り屑がガラス表面に付着し残ってしまう。方法(2)では、ガラスの付着はなくなるものの、テープを剥がした後が残り、洗浄が極めて困難になる、等の課題が残っており完全な解決にはいたっていないのが現状である。   Conventionally, in order to prevent this reattachment, methods such as (1) performing the cutting step in running water, (2) applying a tape or the like at the cutting position, and peeling the tape after cutting have been attempted. However, in the method (1), even if the cutting step is performed in running water, minute chips remain attached to the glass surface. In the method (2), although the adhesion of the glass is eliminated, there are still problems such as remaining after the tape is peeled off and cleaning becomes extremely difficult, and the present situation is that the solution has not been completely solved.

特許文献1では、ガラスの切断面に水溶性高分子類の被膜を形成し、その被膜下の切断面から発生するガラスの微小破片の飛散防止方法が提案されているが、飛散を防止しても切り屑が発生していない訳ではなく、発生した切り屑の再付着により引き起こされる問題は、依然として解決できない。むしろ、飛散できなかった切り屑が追付着するため、基板への再付着量を増加させる危険性を孕んでいる。   Patent Document 1 proposes a method for preventing scattering of fine glass fragments generated from a cut surface under the coating by forming a water-soluble polymer film on the cut surface of the glass. However, the chips are not generated, and the problems caused by the reattachment of the generated chips cannot be solved. Rather, since the chips that could not be scattered additionally adhere, there is a risk of increasing the amount of reattachment to the substrate.

また、特許文献2では、界面活性剤を塗布してダイシングする方法が提案されているが、実施例においても、界面活性剤としては家庭用中性洗剤としか記載がなく、さらにすべての界面活性剤が切り屑の付着防止に有効なわけではなかった。特定の界面活性剤を選択することが、切り屑の付着防止には重要であった。
特開平8−157236号公報 特開平11−191540号公報
Further, Patent Document 2 proposes a method of dicing by applying a surfactant. However, in the examples, only a neutral detergent for home use is described as the surfactant, and all the surfactants are used. The agent was not effective in preventing chip adhesion. It was important to select a specific surfactant to prevent chip adhesion.
JP-A-8-157236 JP-A-11-191540

本発明が解決しようとする課題は、ガラスの切断、切削又は端面研削等のガラス加工時に発生するサブミクロン〜数百ミクロンの切り屑がガラス表面に付着あるいは凝着することを防止することである。   The problem to be solved by the present invention is to prevent submicron to several hundred micron chips generated during glass processing such as glass cutting, cutting or end face grinding from adhering to or adhering to the glass surface. .

本発明者は、上記課題の解決のために鋭意研究を重ねた結果、ガラスの加工前にガラス表面に非イオン性界面活性剤水溶液を予め付着させ、当該非イオン性界面活性剤を付着させたガラスを加工し、ガラス加工により生じたガラス切り屑を非イオン性界面活性剤と共に除去することによってガラス表面への切り屑の付着を防止しつつガラス製部材を製造することができることを見出した。本発明者らは、工程の温度、非イオン性界面活性剤水溶液の曇点等について様々な条件で切り屑付着防止効果を検討し、本願発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventor pre-attached a nonionic surfactant aqueous solution to the glass surface before processing the glass, and attached the nonionic surfactant. It has been found that a glass member can be produced while processing glass and removing glass chips generated by glass processing together with a nonionic surfactant while preventing chips from adhering to the glass surface. The present inventors have studied the effect of preventing chip adhesion under various conditions with respect to the temperature of the process, the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution, and the like, and have completed the present invention.

従って、本発明は、以下の項に示すガラス加工時のガラス表面への切り屑付着防止方法を提供する。   Therefore, this invention provides the chip | tip adhesion prevention method to the glass surface at the time of the glass processing shown to the following items.

項1.(1)ガラス加工前に、予めガラス表面に非イオン性界面活性剤水溶液を付着させる工程
(2)前記工程(1)において非イオン性界面活性剤水溶液を付着させたガラスを加工する工程、及び
(3)前記ガラス加工工程(2)により生じたガラス切り屑を、非イオン性界面活性剤水溶液と共に除去する工程
を含む、ガラス切り屑付着が抑制されたガラス製部材の製造方法。
Item 1. (1) A step of attaching a nonionic surfactant aqueous solution to the glass surface in advance before glass processing (2) A step of processing the glass to which the nonionic surfactant aqueous solution is attached in the step (1), and (3) The manufacturing method of the glass member in which the glass chip adhesion was suppressed including the process of removing the glass chip produced by the said glass processing process (2) with nonionic surfactant aqueous solution.

項2.前記工程(1)を、非イオン性界面活性剤水溶液の曇点以上の温度で行うことを特徴とする、項1に記載の方法。   Item 2. Item 2. The method according to Item 1, wherein the step (1) is performed at a temperature equal to or higher than the cloud point of the aqueous nonionic surfactant solution.

項3.非イオン性界面活性剤水溶液の曇点が10〜60℃である、項1または2に記載の方法。   Item 3. Item 3. The method according to Item 1 or 2, wherein the cloud point of the aqueous nonionic surfactant solution is 10 to 60 ° C.

項4.前記工程(3)の非イオン性界面活性剤及びガラス切り屑の除去を、非イオン性界面活性剤水溶液の曇点未満の温度の水を用いて行う、項1〜3のいずれか一項に記載の方法。   Item 4. The removal of the nonionic surfactant and glass chips in the step (3) is performed using water having a temperature lower than the cloud point of the aqueous nonionic surfactant solution. The method described.

本発明の方法は、ガラス加工時に発生するサブミクロン〜数百ミクロンの切り屑のガラス表面への付着または凝着を抑制することができる。従って本発明の方法を用いることによって、ガラスの切断能力、切削精度、及び研削精度が向上する。また、ガラス切り屑のガラス表面への付着または凝着の抑制は、ガラス製部材製造の歩留まり向上、コストダウン及び工数低減に繋がる。   The method of the present invention can suppress adhesion or adhesion of submicron to several hundred microns of chips generated during glass processing to the glass surface. Therefore, by using the method of the present invention, the glass cutting ability, cutting accuracy, and grinding accuracy are improved. Moreover, suppression of adhesion or adhesion of glass chips to the glass surface leads to an improvement in the yield of manufacturing the glass member, cost reduction, and man-hour reduction.

以下に、本発明の詳細を実施形態に基づいて更に詳しく説明する。   Below, the detail of this invention is demonstrated in more detail based on embodiment.

本発明は、(1)ガラス加工前に、予めガラス表面に非イオン性界面活性剤水溶液を付着させる工程(2)前記工程(1)において非イオン性界面活性剤水溶液を付着させたガラスを加工する工程、及び(3)前記ガラス加工工程(2)により生じたガラス切り屑を、非イオン性界面活性剤水溶液と共に除去する工程を含む、ガラス製部材の製造方法を提供する。   The present invention includes (1) a step of previously attaching a nonionic surfactant aqueous solution to a glass surface before glass processing (2) processing a glass to which a nonionic surfactant aqueous solution is attached in the step (1) And (3) a method for producing a glass member, including a step of removing glass chips generated by the glass processing step (2) together with a nonionic surfactant aqueous solution.

(1)ガラス表面への非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程
本発明の方法は、第一にガラス加工前に、予めガラス表面に非イオン性界面活性剤水溶液を付着させる工程を含む。
(1) Attachment process of nonionic surfactant aqueous solution to glass surface First, the method of this invention includes the process of making nonionic surfactant aqueous solution adhere to the glass surface previously before glass processing.

当該非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程において、ガラス表面の少なくとも一部が非イオン性界面活性剤水溶液で被覆されるため、次のガラス加工工程により生じるガラスの切り屑がガラス表面に付着するのを防ぐことができる。   In the adhesion process of the nonionic surfactant aqueous solution, at least a part of the glass surface is coated with the nonionic surfactant aqueous solution, so that glass chips generated in the next glass processing process adhere to the glass surface. Can be prevented.

本発明の方法において原料として用いるガラスは、形状及び組成共に特に限定されず、例えば、各種組成の、板状、管状、管球状等のガラスを広く用いることができる。また、これらのガラスは、表面にコーティングされていてもよい。   The glass used as a raw material in the method of the present invention is not particularly limited in terms of shape and composition, and for example, glass having various compositions such as a plate shape, a tube shape, and a tube shape can be widely used. In addition, these glasses may be coated on the surface.

ガラス表面に付着させる非イオン性界面活性剤としては、例えば、以下に示すポリオキシアルキレン界面活性剤が挙げられる:ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンイソトリデシルエーテル、ポリオキシアルキレン分岐デシルエーテル、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル、ポリオキシアルキレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸モノエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシブチレンランダムブロックポリマー。   Examples of the nonionic surfactant attached to the glass surface include the following polyoxyalkylene surfactants: polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyalkylene isotridecyl ether, polyoxyalkylene surfactant Oxyalkylene branched decyl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, polyoxyalkylene tridecyl ether, polyoxyethylene fatty acid monoester, polyoxyethylene fatty acid diester, polyoxyethylene higher alcohol ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer, polyoxy Ethylene polyoxybutylene random block polymer.

ポリオキシエチレンアルキルエーテルとしては、例えば、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyethylene alkyl ether include polyoxyethylene isodecyl ether, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene oleyl ether and the like.

ポリオキシエチレンイソデシルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製ノイゲンSD−60(平均分子量:約450)等を挙げることができる。   Examples of polyoxyethylene isodecyl ether include Neugen SD-60 (average molecular weight: about 450) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.

ポリオキシエチレントリデシルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製ノイゲンTDS−30(平均分子量:約300)等を挙げることができる。   Examples of polyoxyethylene tridecyl ether include Neugen TDS-30 (average molecular weight: about 300) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.

ポリオキシエチレンラウリルエーテルとしては、例えば、花王社製エマルゲン108(平均分子量:約500)、第一工業製薬社製DKS NL−15(平均分子量:約300)、DKS NL−60(平均分子量:約400)等を挙げることができる。   Examples of polyoxyethylene lauryl ether include Emulgen 108 manufactured by Kao Corporation (average molecular weight: about 500), DKS NL-15 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. (average molecular weight: about 300), and DKS NL-60 (average molecular weight: about 400).

ポリオキシエチレンオレイルエーテルとしては、例えば、花王社製エマルゲン409P(平均分子量:約700)等を挙げることができる。   Examples of polyoxyethylene oleyl ether include Emulgen 409P (average molecular weight: about 700) manufactured by Kao Corporation.

上記以外のポリオキシエチレンアルキルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製ノイゲンET−65、ET−115、三洋化成工業社製サンノニックSS−70等を挙げることができる。   Examples of polyoxyethylene alkyl ethers other than the above include Neugen ET-65 and ET-115 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. and Sannonic SS-70 manufactured by Sanyo Chemical Industries.

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとしては、例えば、花王社製エマルゲンLS−106、MS−110、第一工業製薬社製ノイゲンET−106A、ET−116B、ET−116C、DL−0206、三洋化成工業社製ナロアクティーN−85(平均分子量:約600)、N−95(平均分子量:約700)、サンノニックFD−80(平均分子量:約500)、FN−80、FD−100(平均分子量:約600)、セドランFF−160、FF−180、FF−200、FF−210等を挙げることができる。   As polyoxyalkylene alkyl ether, for example, Emulgen LS-106, MS-110 manufactured by Kao Corporation, Neugen ET-106A, ET-116B, ET-116C, DL-0206 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. Naroacty N-85 (average molecular weight: about 600), N-95 (average molecular weight: about 700), Sannonic FD-80 (average molecular weight: about 500), FN-80, FD-100 (average molecular weight: about 600) Cedran FF-160, FF-180, FF-200, FF-210 and the like.

ポリオキシアルキレンイソトリデシルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製ノイゲンTDS−30(平均分子量:約300)、ノイゲンTDX−50(平均分子量:約400)等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyalkylene isotridecyl ether include Neugen TDS-30 (average molecular weight: about 300) and Neugen TDX-50 (average molecular weight: about 400) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.

ポリオキシアルキレン分岐デシルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製ノイゲンXL−40(平均分子量:約300)、XL−60(平均分子量:約400)、XL−70(平均分子量:約500)等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyalkylene branched decyl ether include Neugen XL-40 (average molecular weight: about 300), XL-60 (average molecular weight: about 400), XL-70 (average molecular weight: about 500) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Etc.

ポリオキシアルキレンラウリルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製DKS NL−Dash400、DKS NL−Dash403、DKS NL−Dash408、ノイゲンLP−70(平均分子量:約500)、三洋化成工業社製エマルミンFL−80(平均分子量:約600)等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyalkylene lauryl ether include DKS NL-Dash400, DKS NL-Dash403, DKS NL-Dash408, Neugen LP-70 (average molecular weight: about 500) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. -80 (average molecular weight: about 600).

ポリオキシアルキレントリデシルエーテルとしては、例えば、第一工業製薬社製ノイゲンTDX−50(平均分子量:約400)、TDX−50D(平均分子量:約400)、TDX−80D(平均分子量:約600)等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyalkylene tridecyl ether include Neugen TDX-50 (average molecular weight: about 400), TDX-50D (average molecular weight: about 400), and TDX-80D (average molecular weight: about 600) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Etc.

ポリオキシエチレン脂肪酸モノエステルとしては、例えば、三洋化成工業社製イオネットMO−600(平均分子量:約900)等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyethylene fatty acid monoester include Ionette MO-600 (average molecular weight: about 900) manufactured by Sanyo Chemical Industries.

ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステルとしては、例えば、三洋化成工業社製イオネットDO−1000(平均分子量:約1600)等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyethylene fatty acid diester include Ionette DO-1000 (average molecular weight: about 1600) manufactured by Sanyo Chemical Industries.

ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルとしては、例えば、花王社製エマルゲン707、709等を挙げることができる。   Examples of the polyoxyethylene higher alcohol ether include Emulgen 707 and 709 manufactured by Kao Corporation.

ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーとしては、例えば、三洋化成工業社製ニューポールPE−61(平均分子量:約2000)、PE−62(平均分子量:約2200)、PE−72(平均分子量:約2500)を挙げることができる。   Examples of the polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer include New Pole PE-61 (average molecular weight: about 2000), PE-62 (average molecular weight: about 2200), PE-72 (average molecular weight: about 2000) manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. 2500).

ポリオキシエチレンポリオキシブチレンランダムブロックポリマーとしては、例えば、三洋化成工業社製ブレンバーLUB−70(平均分子量:約5800)を挙げることができる。   Examples of the polyoxyethylene polyoxybutylene random block polymer include Brember LUB-70 (average molecular weight: about 5800) manufactured by Sanyo Chemical Industries.

非イオン性界面活性剤水溶液には、任意成分としてアミン、脂肪酸、防腐剤、グリコール系溶剤、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤等を添加してもよい。   An amine, a fatty acid, a preservative, a glycol solvent, an anionic surfactant, a cationic surfactant, and the like may be added as optional components to the nonionic surfactant aqueous solution.

本発明に使用する非イオン性界面活性剤水溶液中の非イオン性界面活性剤の濃度は、特に制限されないが、通常0.1重量%〜10重量%、好ましくは、0.3〜5重量%で、特に好ましくは0.5〜3重量%である。上記濃度範囲の非イオン性界面活性剤水溶液を用いることによって、ガラス表面へのガラス切り屑の付着を防ぐのに十分な親油層を形成し、また下記ガラス切り屑及び非イオン性界面活性剤水溶液の除去工程において、切り屑を十分に洗い流すことができかつ洗浄後の界面活性剤の残留を防ぐことができる。   The concentration of the nonionic surfactant in the aqueous nonionic surfactant solution used in the present invention is not particularly limited, but is usually 0.1 wt% to 10 wt%, preferably 0.3 to 5 wt%. And particularly preferably 0.5 to 3% by weight. By using a nonionic surfactant aqueous solution in the above concentration range, a sufficient lipophilic layer is formed to prevent adhesion of glass chips on the glass surface, and the following glass chips and nonionic surfactant aqueous solution are formed. In the removing step, it is possible to sufficiently wash away the chips and to prevent the surfactant from remaining after washing.

当該非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程における好ましい温度は、後述する非イオン性界面活性剤水溶液の曇点等により異なる場合もあるが、通常10〜70℃、好ましくは10〜60℃である。   Although the preferable temperature in the adhesion process of the nonionic surfactant aqueous solution may vary depending on the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution described later, it is usually 10 to 70 ° C, preferably 10 to 60 ° C. .

非イオン性界面活性剤水溶液をガラス表面に付着させる方法としては、当該分野において通常用いられる方法を広く使用することができ、例えば、原料のガラスを浸漬する方法、ガラス表面に塗布、噴霧、シャワー等する方法等が挙げられる。   As a method for adhering the nonionic surfactant aqueous solution to the glass surface, a method generally used in the art can be widely used. For example, a method of immersing a raw material glass, application to the glass surface, spraying, showering And the like.

本願発明において用いる非イオン性界面活性剤水溶液は曇点を有し、曇点以上の温度では該水溶液は濁り、親油性を示すようになる。逆に温度を曇点未満に降下させると、濁りは無くなり透明な水溶液となる。従って、当該曇点以上の温度では、非イオン性界面活性剤水溶液は、ガラス表面上に親油性層を形成し、次のガラス加工工程により生じるガラス切り屑のガラス表面への付着に対する、より優れた抑制効果を示す。従って、ガラス表面への非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程を、非イオン性界面活性剤水溶液の曇点以上の温度で行うことが好ましい。   The nonionic surfactant aqueous solution used in the present invention has a cloud point, and at a temperature equal to or higher than the cloud point, the aqueous solution becomes turbid and exhibits lipophilicity. Conversely, when the temperature is lowered below the cloud point, turbidity disappears and a transparent aqueous solution is obtained. Therefore, at a temperature higher than the cloud point, the nonionic surfactant aqueous solution forms a lipophilic layer on the glass surface, and is superior to adhesion of glass chips generated by the next glass processing step to the glass surface. Show the suppression effect. Therefore, it is preferable to perform the adhesion process of the nonionic surfactant aqueous solution to the glass surface at a temperature equal to or higher than the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution.

当該付着工程を非イオン性界面活性剤水溶液の曇点以上の温度で行う方法としては、ガラスを曇点以上の温度にした非イオン性界面活性剤水溶液に浸漬する方法、ガラス表面に曇点以上の温度にした非イオン性界面活性剤水溶液を噴霧、シャワーして、ガラス表面に付着させ、ガラス表面を非イオン性界面活性剤の曇点以上の温度に維持する方法、ガラスを曇点未満の温度にした非イオン性界面活性剤水溶液に浸漬するかガラス表面に曇点未満の温度にした非イオン性界面活性剤水溶液を噴霧、シャワーして、ガラス表面に付着させ、ガラス表面を非イオン性界面活性剤の曇点以上の温度になるように加温する方法等があり、いずれの方法を用いてもよい。   As a method of performing the adhesion step at a temperature higher than the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution, a method of immersing the glass in a nonionic surfactant aqueous solution having a temperature higher than the cloud point, a cloud point higher than the cloud point. A method of spraying and showering a nonionic surfactant aqueous solution at a temperature of 1 to adhere to the glass surface and maintaining the glass surface at a temperature higher than the cloud point of the nonionic surfactant. Immerse in a non-ionic surfactant aqueous solution at a temperature or spray and shower a non-ionic surfactant aqueous solution at a temperature below the cloud point on the glass surface to adhere to the glass surface, making the glass surface non-ionic There are methods such as heating to a temperature equal to or higher than the cloud point of the surfactant, and any method may be used.

ここで、本発明において用いる非イオン性界面活性剤水溶液の曇点は、通常10〜60℃であり、好ましくは15〜55℃である。   Here, the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution used in the present invention is usually 10 to 60 ° C, and preferably 15 to 55 ° C.

非イオン性界面活性剤水溶液の曇点が低すぎると、後述の非イオン性界面活性剤を洗い流す水の好適な温度範囲が狭く、洗浄性が不十分になる。また、非イオン性界面活性剤水溶液の曇点が高すぎる場合、曇点以上に熱する実施形態においては、ガラスの種類又は求められる精度により、熱による衝撃の影響が出たり、作業環境が悪化する。   If the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution is too low, the suitable temperature range of water for washing away the nonionic surfactant described later is narrow, and the detergency becomes insufficient. In addition, when the cloud point of the aqueous nonionic surfactant solution is too high, in embodiments where the cloud point is heated above the cloud point, depending on the type of glass or the required accuracy, the impact of heat may be exerted, or the working environment may deteriorate. To do.

当該非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程を曇点以上の温度にて行う場合、当該工程(1)は、好ましくは曇点以上曇点よりも30℃高い温度までの範囲、より好ましくは曇点以上曇点よりも20℃高い温度までの範囲、特に好ましくは曇点以上曇点よりも10℃高い温度までの範囲にて行う。
(2)ガラス加工工程
本発明の方法は、前記工程(1)において非イオン性界面活性剤水溶液を付着させたガラスを加工する工程を含む。
When the step of attaching the nonionic surfactant aqueous solution is performed at a temperature equal to or higher than the cloud point, the step (1) is preferably performed in the range from the cloud point to a temperature 30 ° C. higher than the cloud point, more preferably cloudy. It is carried out in a range up to a temperature higher than the cloud point and 20 ° C. higher than the cloud point, particularly preferably up to a temperature higher than the cloud point and higher than the cloud point by 10 ° C.
(2) Glass processing process The method of this invention includes the process of processing the glass which adhered the nonionic surfactant aqueous solution in the said process (1).

ガラス加工方法としては、ガラス切り屑が生じるようなものであれば、特に限定されないが、例えば、切断、切削、端面研削等が挙げられる。   The glass processing method is not particularly limited as long as glass chips are generated, and examples thereof include cutting, cutting, and end surface grinding.

当該ガラス加工工程によりガラス製部材が形成される。本発明の方法において製造されるガラス製部材は、特に限定されず、例えば、液晶テレビ、プラズマディスプレーテレビ等のテレビのディスプレー用部材、ガラス磁気ディスク、レンズ等の部材等が挙げられる。   A glass member is formed by the glass processing step. The glass member produced in the method of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a member for a display such as a liquid crystal television and a plasma display television, a member such as a glass magnetic disk and a lens.

従来のガラス加工においては、当該加工により生じるガラス切り屑がガラス表面に付着及び/または凝着してしまうが、本発明の方法の場合、ガラス表面の一部または全部が非イオン性界面活性剤水溶液で被覆されているため、ガラス表面へのガラス切り屑の付着及び凝着が有意に抑制される。   In conventional glass processing, glass chips generated by the processing adhere and / or adhere to the glass surface. In the case of the method of the present invention, a part or all of the glass surface is a nonionic surfactant. Since it is coated with an aqueous solution, adhesion and adhesion of glass chips on the glass surface are significantly suppressed.

上記ガラス表面への非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程(1)と同様に、ガラス切り屑付着抑制効果を高めるために、ガラス加工工程も非イオン性界面活性剤水溶液の曇点以上の温度にて行うことが好ましい。具体的な好ましい温度条件は、上記工程(1)と同様の条件を採用することができる。
(3)ガラス切り屑及び非イオン性界面活性剤水溶液の除去工程
本発明の方法は、前記ガラス加工工程(2)により生じたガラス切り屑を、非イオン性界面活性剤水溶液と共に除去する工程を含む。
Similarly to the adhesion step (1) of the nonionic surfactant aqueous solution to the glass surface, the glass processing step is performed at a temperature equal to or higher than the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution in order to enhance the effect of suppressing glass chip adhesion. It is preferable to carry out at. As specific preferred temperature conditions, the same conditions as in the above step (1) can be employed.
(3) Removal step of glass chips and nonionic surfactant aqueous solution The method of the present invention comprises a step of removing the glass chips produced by the glass processing step (2) together with the nonionic surfactant aqueous solution. Including.

非イオン性界面活性剤及びガラス切り屑を除去する方法としては、加工したガラスに水を流す、シャワーする、又はスプレーする方法、加工したガラスを水に浸漬し超音波洗浄する方法等を挙げることができる。   Examples of the method for removing the nonionic surfactant and the glass chips include a method of flowing water, showering or spraying the processed glass, a method of immersing the processed glass in water and performing ultrasonic cleaning. Can do.

当該除去工程(3)に用いる水の水温は、特に限定されないが、通常5〜60℃、好ましくは10〜60℃である。   Although the water temperature of the water used for the said removal process (3) is not specifically limited, Usually, 5-60 degreeC, Preferably it is 10-60 degreeC.

また、本発明において用いる非イオン性界面活性剤水溶液は、曇点未満の温度で高い界面活性が発現されるため、水による除去がより容易となる。   In addition, since the nonionic surfactant aqueous solution used in the present invention exhibits high surface activity at a temperature below the cloud point, it is easier to remove with water.

従って、当該除去工程(3)は、非イオン性界面活性剤水溶液の曇点未満の温度の水を用いて行うのが好ましい。   Therefore, it is preferable to perform the said removal process (3) using the water of the temperature below the cloud point of nonionic surfactant aqueous solution.

本発明の好ましい実施形態において、当該除去工程(3)は、好ましくは曇点未満から曇点よりも30℃低い温度までの範囲、より好ましくは曇点未満から曇点よりも20℃低い温度までの範囲、特に好ましくは曇点未満から曇点よりも10℃低い温度までの範囲にて行う。   In a preferred embodiment of the present invention, the removing step (3) is preferably in the range from below the cloud point to a temperature 30 ° C. below the cloud point, more preferably from below the cloud point to a temperature 20 ° C. below the cloud point. , Particularly preferably in the range from below the cloud point to a temperature 10 ° C. lower than the cloud point.

上述のように、本発明において用いる非イオン性界面活性剤は、曇点以上の温度においてガラス表面へのガラス切り屑の付着を抑制する効果がより高くなり、曇点未満の温度においてガラス切り屑と共にガラス表面から除去されやすくなる。従って、本発明の方法においては、(1)ガラス表面への非イオン性界面活性剤水溶液の付着工程を非イオン性界面活性剤の曇点以上の温度で行い、かつ(3)ガラス切り屑及び非イオン性界面活性剤水溶液の除去工程を非イオン性界面活性剤の曇点未満の温度で行うことが好ましい。   As described above, the nonionic surfactant used in the present invention has a higher effect of suppressing the adhesion of glass chips to the glass surface at temperatures above the cloud point, and the glass chips at temperatures below the cloud point. At the same time, it is easily removed from the glass surface. Accordingly, in the method of the present invention, (1) the step of attaching the nonionic surfactant aqueous solution to the glass surface is performed at a temperature equal to or higher than the cloud point of the nonionic surfactant, and (3) glass chips and It is preferable to perform the removal process of the nonionic surfactant aqueous solution at a temperature lower than the cloud point of the nonionic surfactant.

以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[試験方法]
実施例1〜14において、各非イオン性界面活性剤の各試験濃度水溶液をガラス基板に塗布し、該ガラス基板を該非イオン性界面活性剤水溶液の曇点より5℃高くなるよう加温し、ダイヤブレードで切断した後、該非イオン性界面活性剤水溶液の曇点より5℃低い水温の水道水でシャワー水洗して、切り屑の再付着状況と該非イオン性界面活性剤の付着状況を目視で判断した。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below using examples, but the present invention is not limited to the following examples.
[Test method]
In Examples 1 to 14, each test concentration aqueous solution of each nonionic surfactant was applied to a glass substrate, and the glass substrate was heated to be 5 ° C. higher than the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution, After cutting with a diamond blade, wash with tap water at a temperature 5 ° C. lower than the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution to visually check the chip reattachment status and the nonionic surfactant adhesion status. It was judged.

また、実施例15〜19において、曇点より5℃高い各非イオン性界面活性剤の各試験濃度水溶液をガラス基板に噴霧塗布し、該ガラス基板を該非イオン性界面活性剤水溶液の曇点より5℃高い状態を維持し、ダイヤブレードで切断した後、該非イオン性界面活性剤水溶液の曇点より5℃低い水温の水道水でシャワー水洗して、切り屑の再付着状況と該非イオン性界面活性剤の付着状況を目視で判断した。   Further, in Examples 15 to 19, each test concentration aqueous solution of each nonionic surfactant 5 ° C. higher than the cloud point was spray-coated on a glass substrate, and the glass substrate was sprayed from the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution. After maintaining at a high temperature of 5 ° C. and cutting with a diamond blade, it is washed with tap water at a temperature 5 ° C. lower than the cloud point of the nonionic surfactant aqueous solution, and the chip reattachment status and the nonionic interface The state of adhesion of the activator was judged visually.

比較例1〜11においては、非イオン性界面活性剤を用いない場合(水だけの場合)、陰イオン性界面活性剤を用いる場合、及び家庭用中性洗剤を用いた場合の切り屑の再付着状況と該非イオン性界面活性剤の付着状況を目視で判断した。   In Comparative Examples 1 to 11, when a nonionic surfactant is not used (in the case of only water), an anionic surfactant is used, and when a household neutral detergent is used, chip recycling The adhesion situation and the adhesion situation of the nonionic surfactant were judged visually.

実施例と比較例との試験条件を表1に示した。   Table 1 shows test conditions for the examples and comparative examples.

尚、曇点の値は、試験濃度時の値を示す。
[判定基準]
◎:切り屑と界面活性剤ともに付着なし。
○:切り屑の付着が微量あり、界面活性剤の付着なし。
×:切り屑の再付着が多く、界面活性剤の付着なし。
××:切り屑と界面活性剤が共に多く残る。
In addition, the value of a cloud point shows the value at the time of test density | concentration.
[Criteria]
(Double-circle): Neither chip nor surfactant adheres.
○: There is a very small amount of chips and no surfactant.
X: Many chip reattachments and no surfactants attached.
XX: Both chips and surfactant remain.

実施例と比較例との試験結果は、「切り屑、界面活性剤の再付着防止性」として、表1に示した。   The test results of the example and the comparative example are shown in Table 1 as “chip and anti-redeposition property of surfactant”.

Figure 0004845834
Figure 0004845834

Claims (3)

(1)ガラス加工前に、予めガラス表面に曇点が10〜60℃の非イオン性界面活性剤水溶液を、10〜70℃、かつ、曇点以上曇点よりも10℃高い温度までの範囲にて付着させる工程
(2)前記工程(1)において非イオン性界面活性剤水溶液を付着させたガラスを加工する工程、及び
(3)前記ガラス加工工程(2)により生じたガラス切り屑を、非イオン性界面活性剤水溶液と共に、5〜60℃、かつ、曇点未満から曇点よりも10℃低い温度までの範囲の温度の水を用いて除去する工程
を含む、ガラス切り屑付着が抑制されたガラス製部材の製造方法。
(1) Before glass processing, a nonionic surfactant aqueous solution having a cloud point of 10 to 60 ° C on the glass surface in advance is a range from 10 to 70 ° C and a temperature higher than the cloud point and 10 ° C higher than the cloud point. step, and the glass swarf produced by (3) the glass processing step (2) processing a glass with attached non-ionic surfactant aqueous solution in the step of attaching (2) the step (1) at, Suppression of glass chip adhesion, including a step of removing water together with a nonionic surfactant aqueous solution using water at a temperature ranging from 5 to 60 ° C. and a temperature ranging from less than the cloud point to 10 ° C. lower than the cloud point. Manufacturing method of the made glass member.
前記非イオン性界面活性剤が、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンイソトリデシルエーテル、ポリオキシアルキレン分岐デシルエーテル、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル、ポリオキシアルキレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸モノエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシブチレンランダムブロックポリマーから選択される、請求項1に記載の方法。The nonionic surfactant is polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyalkylene isotridecyl ether, polyoxyalkylene branched decyl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, polyoxyalkylene tridecyl ether, The process according to claim 1, selected from oxyethylene fatty acid monoesters, polyoxyethylene fatty acid diesters, polyoxyethylene higher alcohol ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymers, polyoxyethylene polyoxybutylene random block polymers. 前記非イオン性界面活性剤水溶液中の非イオン性界面活性剤の濃度が、0.5〜3重量%である、請求項1または2に記載の方法。The method of Claim 1 or 2 whose density | concentration of the nonionic surfactant in the said nonionic surfactant aqueous solution is 0.5 to 3 weight%.
JP2007214641A 2007-08-21 2007-08-21 Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing Expired - Fee Related JP4845834B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007214641A JP4845834B2 (en) 2007-08-21 2007-08-21 Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007214641A JP4845834B2 (en) 2007-08-21 2007-08-21 Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009046353A JP2009046353A (en) 2009-03-05
JP4845834B2 true JP4845834B2 (en) 2011-12-28

Family

ID=40498944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007214641A Expired - Fee Related JP4845834B2 (en) 2007-08-21 2007-08-21 Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4845834B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010215472A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Nippon Electric Glass Co Ltd Processing method of glass plate and processing apparatus thereof
WO2016152932A1 (en) * 2015-03-24 2016-09-29 AvanStrate株式会社 Method for manufacturing glass substrate
JP6099690B2 (en) * 2015-04-27 2017-03-22 住友理工株式会社 Rubber hose manufacturing method
PE20190702A1 (en) 2016-11-29 2019-05-15 Saint Gobain LAMINATED VEHICLE SIDE WINDOW WITH PASSAGE GUIDE TO SUBJECT TO A CLAMPING ELEMENT
DE102018109804A1 (en) * 2018-04-24 2019-10-24 Egon Evertz Kg (Gmbh & Co.) grinder

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6379746B1 (en) * 1999-02-02 2002-04-30 Corning Incorporated Method for temporarily protecting glass articles
KR101061863B1 (en) * 2003-06-06 2011-09-02 일렉트로 사이언티픽 인더스트리즈, 아이엔씨 Laser processing method and apparatus using surfactant film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009046353A (en) 2009-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4350364B2 (en) Cleaning composition, semiconductor wafer cleaning method and manufacturing method
TWI388659B (en) Detergent composition
JP4845834B2 (en) Method for preventing chip adhesion to the glass surface during glass processing
US20010025017A1 (en) Cleaning agent composition, method for cleaning and use thereof
JP4613744B2 (en) Cleaning method of silicon wafer
TW201307237A (en) Cleaning agent and method for cleaning glass substrate
JP5417095B2 (en) Cleaning composition and method for cleaning glass hard disk substrate
KR100789776B1 (en) Cleaning agent composition, method for cleaning and use thereof
JP5518392B2 (en) Electronic device substrate cleaning composition, and electronic device substrate cleaning method
KR100200272B1 (en) Cleansing agent composition and the cleansing method using the same
JP2000319699A (en) Precision detergent composition
JP3503129B2 (en) Release agent for color filter layer and method for recycling glass substrate for color filter
JP6310727B2 (en) Floor polish release agent and floor polish release method
CN110003996B (en) Soak solution and preparation method and use method thereof
KR20110047693A (en) A detergent composition for a glass substrate of flat panel display device
US6394106B1 (en) Cleaning solutions and methods for semiconductor wafers
JPH01243433A (en) Finishing agent for ceramic substrate
KR101765212B1 (en) Natural source based cleaning agent composition for solar wafer
JP5808649B2 (en) Electronic material cleaner
JP3253195B2 (en) Detergent composition
JPWO2010064558A1 (en) Cyanoacrylate-based adhesive stripping composition and method for removing the adhesive
JPH08157236A (en) Method for preventing scattering of fine pieces of carbon glass
JP2662348B2 (en) Cleaning composition for optical parts
JP2752352B2 (en) Cleaning method
JP2963406B2 (en) Non-aqueous cleaning composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100526

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110712

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110830

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110920

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111011

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees