JP4845470B2 - Process for producing optically active amino alcohols - Google Patents

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JP4845470B2 JP2005300013A JP2005300013A JP4845470B2 JP 4845470 B2 JP4845470 B2 JP 4845470B2 JP 2005300013 A JP2005300013 A JP 2005300013A JP 2005300013 A JP2005300013 A JP 2005300013A JP 4845470 B2 JP4845470 B2 JP 4845470B2
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Description

本発明は、医薬又は農薬等の中間体等として有用な、4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類、特に光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の製造方法に関する。   The present invention relates to a process for producing 4-amino-2-hydroxybutyric acids, particularly optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids, which are useful as intermediates for pharmaceuticals or agricultural chemicals.

光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の製造方法は、例えば非特許文献1には、2−オキソ酪酸類を、酵母を用いて還元反応を行うことが記載されている。また、非特許文献2には、酵素を用いて2−オキソブタン酸類の還元反応を行うことが記載されている。   As for the method for producing optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid, for example, Non-Patent Document 1 describes that 2-oxobutyric acid is reduced using yeast. Non-Patent Document 2 describes that a reduction reaction of 2-oxobutanoic acid is performed using an enzyme.

しかしながら、非特許文献1及び2に記載の方法は、2−オキソ酪酸類の高希釈条件下での反応であり、工業化には経済的観点から不向きであるという問題を有していた。また、非特許文献1に記載の方法では、過剰量のイースト菌及び糖が必要であり、コストがかかる等の問題を有していた。   However, the methods described in Non-Patent Documents 1 and 2 are reactions under high dilution conditions of 2-oxobutyric acid, and have a problem that they are unsuitable for industrialization from an economical viewpoint. In addition, the method described in Non-Patent Document 1 has a problem that it requires an excessive amount of yeast and sugar and is expensive.

また、特許文献1には、不斉水素化反応による光学活性アミノアルコールの製造方法が記載されている。しかしながら、特許文献1に記載の方法は、不斉水素化反応させる基質がケトアルケン類であり、4−アミノ−2−オキソブテン酸類の還元反応については記載されてない。
特開2004−155770号公報 バイオカタリシス(Biocatalysis)、1992年、第5巻、p.195−201 ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)、1995年,p.231−232
Patent Document 1 describes a method for producing an optically active amino alcohol by an asymmetric hydrogenation reaction. However, in the method described in Patent Document 1, the substrate for the asymmetric hydrogenation reaction is a ketoalkene, and the reduction reaction of 4-amino-2-oxobutenoic acids is not described.
JP 2004-155770 A Biocatalysis, 1992, Vol. 5, p. 195-201 Journal of the Chemical Society Chemical Communication (J. Chem. Soc. Chem. Commun.), 1995, p. 231-232

本発明は上記状況に鑑みなされたものであり、収率がよく、しかも作業性のよい4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類、特に光学純度の高い光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and 4-amino-2-hydroxybutyric acid having high yield and good workability, particularly optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid having high optical purity or It aims at providing the manufacturing method of the salt.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩を還元反応に付すことにより、容易に且つ高収率で所望の4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類、特に光学純度の高い光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention easily and at a high yield yield the desired 4-amino-2-oxobutenoic acid or a salt thereof by subjecting it to a reduction reaction. It has been found that amino-2-hydroxybutyric acids, in particular, optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof having high optical purity can be obtained, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は以下の通りである。
[1]4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩を還元反応に付すことを特徴とする4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の製造方法、
[2]還元反応が不斉還元反応であり、製造される4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩が光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩であることを特徴とする前記[1]に記載の製造方法、
[3]4−アミノ−2−オキソブテン酸類が一般式(2)

Figure 0004845470
(式中、R1は(i)置換されていてもよい水酸基、(ii)置換されていてもよいメルカプト基又は(iii)置換されていてもよいアミノ基を示し、R2及びR3は夫々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、R4及びR5は夫々独立して、水素原子又は保護基を示す。但し、R1とR2、R2とR3、R2とR5又はR4とR5とが結合して環を形成してもよく、二重結合はシス又はトランスである。)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類であり、得られる光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類が一般式(1)
Figure 0004845470
(式中、*は不斉炭素を示し、R1〜R5は前記と同意義である。但し、R2が水素原子であるときはR2が結合している炭素原子は不斉炭素とはならず、またR3が水素原子であるときはR3が結合している炭素原子は不斉炭素とはならない。)で表される光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類であることを特徴とする前記[1]又は[2]に記載の製造方法、
[4]R1で示される置換されていてもよい水酸基が、−OR1a(式中、R1aは水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。)で表される基であることを特徴とする前記[3]に記載の製造方法、
[5]R1で示される置換されていてもよいメルカプト基が、−SR1b(式中、R1bは水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。)で表される基であることを特徴とする前記[3]に記載の製造方法、
[6]還元反応を不斉触媒の存在下で行うことを特徴とする前記[1]又は[2]に記載の製造方法、
[7]不斉触媒が、遷移金属錯体である、前記[6]に記載の製造方法、
[8]還元反応により生成した4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒中で晶析させ、取得することを特徴とする前記[1]〜[7]の何れかに記載の製造方法、
[9]溶媒が、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アルコール類及び水から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記[8]に記載の製造方法、
[10]4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩を不斉触媒の存在下に還元し、還元反応により生成した光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒中で晶析させることを特徴とする光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の製造方法、
[11]溶媒が、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類及び水から選ばれる少なくとも1種である、前記[10]に記載の光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の製造方法、及び
[12]4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩を不斉触媒の存在下に還元し、還元反応により生成した光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒中で晶析させることを特徴とする光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の光学純度を向上させる方法、
に関する。 That is, the present invention is as follows.
[1] A process for producing 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof, which comprises subjecting 4-amino-2-oxobutenoic acid or a salt thereof to a reduction reaction,
[2] The reduction reaction is an asymmetric reduction reaction, and the produced 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof is an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof. The production method according to the above [1],
[3] 4-amino-2-oxobutenoic acids are represented by the general formula (2)
Figure 0004845470
(Wherein R 1 represents (i) an optionally substituted hydroxyl group, (ii) an optionally substituted mercapto group or (iii) an optionally substituted amino group, R 2 and R 3 are Each independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or A protecting group, provided that R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 2 and R 5, or R 4 and R 5 may be combined to form a ring, and the double bond is cis or trans 4-amino-2-oxobutenoic acids represented by the general formula (1).
Figure 0004845470
(In the formula, * represents an asymmetric carbon, and R 1 to R 5 are as defined above. However, when R 2 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 2 is bonded is an asymmetric carbon; In addition, when R 3 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 3 is bonded is not an asymmetric carbon.) And is an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid The production method according to [1] or [2], wherein:
[4] a hydroxy group which may be substituted represented by R 1 is, in -OR 1a (wherein, R 1a is not a hydrogen atom, may be substituted hydrocarbon group or an optionally substituted The production method according to the above [3], which is a group represented by:
[5] An optionally substituted mercapto group represented by R 1 is —SR 1b (wherein R 1b has a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. The production method according to the above [3], which is a group represented by the following:
[6] The production method according to [1] or [2], wherein the reduction reaction is performed in the presence of an asymmetric catalyst.
[7] The production method according to the above [6], wherein the asymmetric catalyst is a transition metal complex,
[8] The production according to any one of [1] to [7], wherein 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof produced by the reduction reaction is crystallized in a solvent and obtained. Method,
[9] The production method according to [8], wherein the solvent is at least one selected from aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alcohols and water,
[10] Reduction of 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof in the presence of an asymmetric catalyst, and crystallization of optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof generated by the reduction reaction in a solvent A method for producing optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof,
[11] The optically active 4-amino- described in [10], wherein the solvent is at least one selected from aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, and water. Process for producing 2-hydroxybutyric acid or its salt, and [12] optically active 4-amino-2 produced by reduction of 4-amino-2-oxobutenoic acid or its salt in the presence of an asymmetric catalyst A method for improving the optical purity of optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof, characterized by crystallizing hydroxybutyric acid or a salt thereof in a solvent;
About.

本発明によれば、基質として用いる4−アミノ−2−オキソブテン酸類のカルボニル基部分、及び炭素−炭素二重結合部分の両方を1工程で不斉還元反応(水素化反応)が行われ得るため、4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の製造に対する作業性が向上し、経済的にも有用である。また、本発明の製造方法によれば、所望の4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類、特に光学純度の高い光学活性4−アミノ−3−ヒドロキシ酪酸類又はその塩が高収率で得られる、という効果を奏する。   According to the present invention, an asymmetric reduction reaction (hydrogenation reaction) can be performed in one step on both the carbonyl group portion and the carbon-carbon double bond portion of 4-amino-2-oxobutenoic acids used as a substrate. The workability for the production of 4-amino-2-hydroxybutyric acid is improved and economically useful. In addition, according to the production method of the present invention, desired 4-amino-2-hydroxybutyric acid, particularly optically active 4-amino-3-hydroxybutyric acid having a high optical purity or a salt thereof can be obtained in high yield. There is an effect.

本発明で用いられる4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩は、4−アミノ−2−オキソブテン酸類及び4−アミノ−2−オキソブテン酸類の塩であり(以下、これらを総称して、単に「4−アミノ−2−オキソブテン酸類」ということもある。)、その2位のカルボニル基に隣る1位の位置に置換基を有していてもよい炭化水素基や置換基を有していてもよい複素環基以外の基を有しているオキソブテン酸類であればよく、好ましくは例えば下記一般式(2)   The 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof used in the present invention are salts of 4-amino-2-oxobutenoic acids and 4-amino-2-oxobutenoic acids (hereinafter collectively referred to simply as “ 4-amino-2-oxobutenoic acids "), which has a hydrocarbon group or a substituent which may have a substituent at the 1-position adjacent to the 2-position carbonyl group. Any oxobutenoic acid having a group other than a heterocyclic group may be used, and preferably, for example, the following general formula (2)

Figure 0004845470
Figure 0004845470

(式中、R1は(i)置換されていてもよい水酸基、(ii)置換されていてもよいメルカプト基又は(iii)置換されていてもよいアミノ基を示し、R2及びR3は夫々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、R4及びR5は夫々独立して、水素原子又は保護基を示し、R4及びR5は夫々独立して、水素原子又は保護基を示す。但し、R1とR2、R2とR3、R2とR5又はR4とR5とが結合して環を形成してもよく、二重結合はシス又はトランスである。)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩等が挙げられる。 (Wherein R 1 represents (i) an optionally substituted hydroxyl group, (ii) an optionally substituted mercapto group or (iii) an optionally substituted amino group, R 2 and R 3 are Each independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or a protecting group, provided that R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 2 and R 5 or R 4 and R 5 May be combined to form a ring, and the double bond is cis or trans.). 4-amino-2-oxobutenoic acids represented by the following formula:

一般式(1)及び(2)において、R1で示される置換されていてもよい水酸基は、例えば、−OR1aで表される基である。ここにおいて、R1aは水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。 In the general formulas (1) and (2), the optionally substituted hydroxyl group represented by R 1 is, for example, a group represented by —OR 1a . Here, R 1a represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent.

1aで示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、炭化水素基及び置換炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基又はアラルキル基等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 1a include a hydrocarbon group and a substituted hydrocarbon group. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group.

アルキル基としては、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基が好ましい。アルキル基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、tert−ブチル、n−ペンチル、1−メチルブチル、1−エチルプロピル、tert−ペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、2,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、1−メチルペンチル、1−エチルブチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、2−メチルペンタン−3−イル、3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル等が挙げられる。アルキル基は、中でも炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜6のアルキル基が更に好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がとりわけ好ましい。   As the alkyl group, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. Specific examples of the alkyl group include, for example, methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, 1-methylpropyl, 2-methylpropyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-methylbutyl, 1-methylbutyl, Ethylpropyl, tert-pentyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 2,2-dimethylpropyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 1-ethylbutyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4-methylpentyl, 2-methylpentan-3-yl, 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, Decyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, eicosyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl or cyclohexyl, and the like. Among these, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable.

アリール基としては、炭素数6〜20のアリール基が好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル、インデニル、ペンタレニル、ナフチル、アズレニル、フルオレニル、フェナントレニル、アントラセニル、アセナフチレニル、ビフェニレニル、ナフタセニル又はピレニル等が挙げられる。アリール基は、中でも炭素数6〜14のアリール基がより好ましい。   As the aryl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferable. Specific examples of the aryl group include phenyl, indenyl, pentarenyl, naphthyl, azulenyl, fluorenyl, phenanthrenyl, anthracenyl, acenaphthylenyl, biphenylenyl, naphthacenyl, and pyrenyl. The aryl group is more preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms.

アラルキル基としては、炭素数7〜20のアラルキル基が好ましい。該アラルキル基の具体例としては、ベンジル、フェネチル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、1−フェニルブチル、2−フェニルブチル、3−フェニルブチル、4−フェニルブチル、1−フェニルペンチルブチル、2−フェニルペンチルブチル、3−フェニルペンチルブチル、4−フェニルペンチルブチル、5−フェニルペンチルブチル、1−フェニルヘキシルブチル、2−フェニルヘキシルブチル、3−フェニルヘキシルブチル、4−フェニルヘキシルブチル、5−フェニルヘキシルブチル、6−フェニルヘキシルブチル、1−フェニルヘプチル、1−フェニルオクチル、1−フェニルノニル、1−フェニルデシル、1−フェニルウンデシル、1−フェニルドデシル、1−フェニルトリデシル又は1−フェニルテトラデシル等が挙げられる。アラルキル基は、中でも炭素数7〜12のアラルキル基がより好ましい。   As the aralkyl group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms is preferable. Specific examples of the aralkyl group include benzyl, phenethyl, 1-phenylpropyl, 2-phenylpropyl, 3-phenylpropyl, 1-phenylbutyl, 2-phenylbutyl, 3-phenylbutyl, 4-phenylbutyl, 1-phenylbutyl, Phenylpentylbutyl, 2-phenylpentylbutyl, 3-phenylpentylbutyl, 4-phenylpentylbutyl, 5-phenylpentylbutyl, 1-phenylhexylbutyl, 2-phenylhexylbutyl, 3-phenylhexylbutyl, 4-phenylhexyl Butyl, 5-phenylhexylbutyl, 6-phenylhexylbutyl, 1-phenylheptyl, 1-phenyloctyl, 1-phenylnonyl, 1-phenyldecyl, 1-phenylundecyl, 1-phenyldodecyl, 1-phenyltridecyl Or 1 Phenyl tetradecyl, and the like. Among them, the aralkyl group is more preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.

1aで示される「炭化水素基」が有してもよい置換基は後記する置換基が挙げられる。置換炭化水素基の好ましい具体例としては、例えばトリフルオロメチル、メトキシメチル等の置換アルキル基、トリル(例えば4−メチルフェニル)、キシリル(例えば3,5−ジメチルフェニル)、4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニル又は4−メトキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル等の置換アリール基又は置換アラルキル基等が挙げられる。 Examples of the substituent that the “hydrocarbon group” represented by R 1a may have include those described later. Preferable specific examples of the substituted hydrocarbon group include substituted alkyl groups such as trifluoromethyl and methoxymethyl, tolyl (for example, 4-methylphenyl), xylyl (for example, 3,5-dimethylphenyl), 4-methoxy-3, A substituted aryl group or a substituted aralkyl group such as 5-dimethylphenyl or 4-methoxy-3,5-di-t-butylphenyl is exemplified.

1aで示される置換基を有していてもよい複素環基としては、複素環基及び置換複素環基が挙げられる。複素環基としては、脂肪族複素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。
脂肪族複素環基としては、例えば、炭素数2〜14で、異種原子として少なくとも1個、好ましくは1〜3個の例えば窒素原子、酸素原子及び/又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、3〜8員、好ましくは5又は6員の単環、多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、ピロリジル−2−オン基、ピペリジル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、モルホリニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、チオラニル基又はスクシンイミジル基等が挙げられる。
Examples of the heterocyclic group which may have a substituent represented by R 1a include a heterocyclic group and a substituted heterocyclic group. Examples of the heterocyclic group include an aliphatic heterocyclic group and an aromatic heterocyclic group.
Examples of the aliphatic heterocyclic group include 2 to 14 carbon atoms and at least one hetero atom, preferably 1 to 3 hetero atoms such as a nitrogen atom, an oxygen atom and / or a sulfur atom. , 3 to 8 membered, preferably 5 or 6 membered monocyclic, polycyclic or condensed ring aliphatic heterocyclic group. Specific examples of the aliphatic heterocyclic group include, for example, pyrrolidyl-2-one group, piperidyl group, piperidino group, piperazinyl group, morpholino group, morpholinyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydropyranyl group, thiolanyl group, and succinimidyl group. Is mentioned.

芳香族複素環基としては、例えば、炭素数2〜15で、異種原子として少なくとも1個、好ましくは1〜3個の窒素原子、酸素原子及び/又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる、3〜8員、好ましくは5又は6員の単環式、多環式又は縮合環式の複素環基が挙げられ、その具体例としては、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、1,2,3−オキサジアゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、フラザニル、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ〔b〕チエニル、インドリル、イソインドリル、1H−インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、1,2−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラニル、1,2−ベンゾイソチアゾリル、1H−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリジニル、プリニル、ブテリジニル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、フェナントリジニル、フェナントロリニル、インドリジニル、ピロロ〔1,2−b〕ピリダジニル、ピラゾロ〔1,5−a〕ピリジル、イミダゾ〔1,2−a〕ピリジル、イミダゾ〔1,5−a〕ピリジル、イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニル、イミダゾ〔1,2−a〕ピリミジニル、1,2,4−トリアゾロ〔4,3−a〕ピリジル、1,2,4−トリアゾロ〔4,3−b〕ピリダジニル、ベンゾ〔1,2,5〕チアジアゾリル、ベンゾ〔1,2,5〕オキサジアゾリル又はフタルイミノ基等が挙げられる。   As the aromatic heterocyclic group, for example, it has 2 to 15 carbon atoms and contains at least one hetero atom, preferably 1 to 3 hetero atoms such as nitrogen atom, oxygen atom and / or sulfur atom. Examples thereof include 3 to 8 membered, preferably 5 or 6 membered monocyclic, polycyclic or condensed heterocyclic groups. Specific examples thereof include furyl, thienyl, pyrrolyl, oxazolyl, isoxazolyl and thiazolyl. , Isothiazolyl, imidazolyl, pyrazolyl, 1,2,3-oxadiazolyl, 1,2,4-oxadiazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, furazanyl, 1,2,3-thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1 , 3,4-thiadiazolyl, 1,2,3-triazolyl, 1,2,4-triazolyl, tetrazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimi Nyl, pyrazinyl, triazinyl, benzofuranyl, isobenzofuranyl, benzo [b] thienyl, indolyl, isoindolyl, 1H-indazolyl, benzimidazolyl, benzoxazolyl, 1,2-benzisoxazolyl, benzothiazolyl, benzopyranyl, 1 , 2-Benzisothiazolyl, 1H-benzotriazolyl, quinolyl, isoquinolyl, cinnolinyl, quinazolinyl, quinoxalinyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, purinyl, buteridinyl, carbazolyl, α-carbolinyl, β-carbolinyl, γ-carbolinyl, acridinyl, phenoxazinyl Phenothiazinyl, phenazinyl, phenoxathiinyl, thianthenyl, phenanthridinyl, phenanthrolinyl, indolizinyl, pyrrolo [1,2-b] Ridazinyl, pyrazolo [1,5-a] pyridyl, imidazo [1,2-a] pyridyl, imidazo [1,5-a] pyridyl, imidazo [1,2-b] pyridazinyl, imidazo [1,2-a] Pyrimidinyl, 1,2,4-triazolo [4,3-a] pyridyl, 1,2,4-triazolo [4,3-b] pyridazinyl, benzo [1,2,5] thiadiazolyl, benzo [1,2, 5] An oxadiazolyl or phthalimino group is exemplified.

1aで示される「複素環基」が有していてもよい置換基としては、後記する置換基が挙げられる。 Examples of the substituent that the “heterocyclic group” represented by R 1a may have include those described later.

1で示される置換されていてもよいメルカプト基としては、例えば、−SR1bで表される基である。ここにおいて、R1bは水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。R1bで示される炭化水素基は、R1aで示される炭化水素基と同意義である。R1bで示される複素環基は、R1aで示される複素環基と同意義である。R1bで示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」又は「置換基を有していてもよい複素環基」における置換基としては、後記する置換基が挙げられる。 The optionally substituted mercapto group represented by R 1 is, for example, a group represented by —SR 1b . Here, R 1b represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent. Hydrocarbon group represented by R 1b are as defined hydrocarbon groups represented by R 1a. Heterocyclic group represented by R 1b are as defined heterocyclic group represented by R 1a. Examples of the substituent in the “optionally substituted hydrocarbon group” or “optionally substituted heterocyclic group” represented by R 1b include the substituents described later.

1で示される置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ基又はアミノ基の1個又は2個の水素原子がアミノ保護基等の置換基で置換された鎖状又は環状のアミノ基が挙げられる。前記アミノ保護基は、通常、アミノ保護基として用いられているものであれば何れも使用可能であり、例えば「PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS THIRD EDITION[JOHN WILEY & SONS INC.(1999)]にアミノ保護基として記載されている基等が好ましく挙げられる。アミノ保護基の具体例としては、例えば、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基又は置換基を有していてもよいアラルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the optionally substituted amino group represented by R 1 include an amino group or a linear or cyclic amino group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with a substituent such as an amino protecting group. Can be mentioned. Any amino protecting group can be used as long as it is usually used as an amino protecting group. For example, amino protecting groups are described in “PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS THIRD EDITION [JOHN WILEY & SONS INC. (1999)]”. Preferred examples include a group described as a group, etc. Specific examples of the amino protecting group include, for example, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group, and a substituted group. And an alkoxycarbonyl group which may have a group, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, an aralkyloxycarbonyl group which may have a substituent, and the like.

上記アミノ保護基における「置換基を有していてもよい炭化水素基」は、上記で説明した置換基を有していてもよい炭化水素基と同意義であってよい。   The “hydrocarbon group which may have a substituent” in the amino protecting group may have the same meaning as the hydrocarbon group which may have a substituent described above.

上記アミノ保護基における置換基を有していてもよいアシル基は、アシル基及び置換アシル基が挙げられる。アシル基としては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスフィン酸又はホスホン酸等の酸由来の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアシル基が挙げられ、カルボン酸又はスルホン酸等の酸由来のアシル基が好ましい。   Examples of the acyl group that may have a substituent in the amino protecting group include an acyl group and a substituted acyl group. Examples of the acyl group include a linear, branched or cyclic acyl group having 1 to 20 carbon atoms derived from an acid such as carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphinic acid or phosphonic acid. An acyl group derived from an acid such as sulfonic acid is preferred.

カルボン酸由来のアシル基としては、脂肪族カルボン酸又は芳香族カルボン酸等のカルボン酸由来のアシル基が挙げられ、例えば−CORa[式中、Raは水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基等を示す。]で表される。Raで示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」及び「置換基を有していてもよい複素環基」は、前記アミノ保護基における置換基を有していてもよい炭化水素基および置換基を有していてもよい複素環基と同意義である。
カルボン酸由来のアシル基の好ましい具体例としては、ホルミル基、カルボキシ基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ラウロイル、ステアロイル等)、シクロアルキルカルボニル基(例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル等)、アリール−カルボニル基(例えば、ベンゾイル、1−ナフトイル、2−ナフトイル等)、アラルキルカルボニル基(例えば、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル等)などが挙げられる。前記アシル基は、中でも炭素数1〜18のアシル基が好ましく、炭素数1〜6のアシル基がより好ましい。
Examples of the acyl group derived from a carboxylic acid include an acyl group derived from a carboxylic acid such as an aliphatic carboxylic acid or an aromatic carboxylic acid. For example, -COR a [wherein R a has a hydrogen atom or a substituent. A hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may have a substituent; ]. The “optionally substituted hydrocarbon group” and the “optionally substituted heterocyclic group” represented by R a may have a substituent in the amino protecting group. It is the same meaning as the heterocyclic group which may have a hydrocarbon group and a substituent.
Preferable specific examples of the acyl group derived from carboxylic acid include formyl group, carboxy group, carbamoyl group, alkylcarbonyl group (for example, acetyl, propionyl, butyryl, pivaloyl, pentanoyl, hexanoyl, lauroyl, stearoyl, etc.), cycloalkylcarbonyl group (Eg, cyclopropylcarbonyl, cyclopentylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, etc.), aryl-carbonyl groups (eg, benzoyl, 1-naphthoyl, 2-naphthoyl, etc.), aralkylcarbonyl groups (eg, phenylacetyl, phenylpropionyl, etc.) and the like. It is done. The acyl group is preferably an acyl group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably an acyl group having 1 to 6 carbon atoms.

スルホン酸由来のアシル基としては、スルホニル基が挙げられる。スルホニル基としては、例えばRb−SO2−[Rbは、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。]で表される置換スルホニル基が挙げられる。スルホニル基の具体例としては、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、プロパンスルホニル、ペンタンスルホニル、ヘプタンスルホニル、ノナンスルホニル、ウンデカンスルホニル、トリデカンスルホニル、ペンタデカンスルホニル、ヘプタデカンスルホニル、ノナデカンスルホニル等)又はアリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニル、1−ナフチルスルホニル、2−ナフチルスルホニル等)などが挙げられる。 A sulfonyl group is mentioned as an acyl group derived from a sulfonic acid. As the sulfonyl group, for example, R b —SO 2 — [R b represents a hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent. ] The substituted sulfonyl group represented by this is mentioned. Specific examples of the sulfonyl group include alkylsulfonyl groups (for example, methanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl, propanesulfonyl, pentanesulfonyl, heptanesulfonyl, nonanesulfonyl, undecanesulfonyl, tridecanesulfonyl, pentadecanesulfonyl, heptadecanesulfonyl, nonadecanesulfonyl. Etc.) or an arylsulfonyl group (for example, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 1-naphthylsulfonyl, 2-naphthylsulfonyl, etc.) and the like.

「置換基を有していてもよいアシル基」における置換基としては、後記する置換基等が挙げられる。   Examples of the substituent in the “acyl group optionally having a substituent” include the substituents described below.

上記アミノ保護基における置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基は、アルコキシカルボニル基及び置換アルコキシカルボニル基が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、直鎖状でも分岐状でも或いは環状でもよい、例えば炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基が挙げられ、その具体例としてメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、2−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、ラウリルオキシカルボニル基、ステアリルオキシカルボニル基又はシクロヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
置換アルコキシカルボニル基(置換基を有するアルコキシカルボニル基)としては、前記アルコキシカルボニル基の少なくとも1個の水素原子が置換基で置換されたアルコキシカルボニル基が挙げられる。該置換基としては、後記する置換基が挙げられる。
Examples of the alkoxycarbonyl group which may have a substituent in the amino protecting group include an alkoxycarbonyl group and a substituted alkoxycarbonyl group.
The alkoxycarbonyl group may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, 2-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, pentyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, lauryloxycarbonyl group, stearyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, etc. Is mentioned.
Examples of the substituted alkoxycarbonyl group (an alkoxycarbonyl group having a substituent) include an alkoxycarbonyl group in which at least one hydrogen atom of the alkoxycarbonyl group is substituted with a substituent. Examples of the substituent include those described later.

上記アミノ保護基における置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基は、アリールオキシカルボニル基及び置換アリールオキシカルボニル基が挙げられる。
アリールオキシカルボニル基としては、例えば炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基が挙げられ、その具体例としてフェノキシカルボニル基又はナフチルオキシカルボニル基等が挙げられる。
置換アリールオキシカルボニル基(置換基を有するアリールオキシカルボニル基)としては、前記アリールオキシカルボニル基の少なくとも1個の水素原子が置換基で置換されたアリールオキシカルボニル基が挙げられる。該置換基としては、後記する置換基が挙げられる。
Examples of the aryloxycarbonyl group which may have a substituent in the amino protecting group include an aryloxycarbonyl group and a substituted aryloxycarbonyl group.
Examples of the aryloxycarbonyl group include an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenoxycarbonyl group and a naphthyloxycarbonyl group.
Examples of the substituted aryloxycarbonyl group (aryloxycarbonyl group having a substituent) include aryloxycarbonyl groups in which at least one hydrogen atom of the aryloxycarbonyl group is substituted with a substituent. Examples of the substituent include those described later.

上記アミノ保護基における置換基を有していてもよいアラルキルオキシカルボニル基は、アラルキルオキシカルボニル基及び置換アラルキルオキシカルボニル基が挙げられる。
アラルキルオキシカルボニル基としては、例えば炭素数8〜20のアラルキルオキシカルボニル基が挙げられ、その具体例としてベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基又は9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられる。
置換アラルキルオキシカルボニル基(置換基を有するアラルキルオキシカルボニル基)としては、前記アラルキルオキシカルボニル基の少なくとも1個の水素原子が置換基で置換されたアラルキルオキシカルボニル基が挙げられる。該置換基としては、後記する置換基が挙げられる。
Examples of the aralkyloxycarbonyl group which may have a substituent in the amino protecting group include an aralkyloxycarbonyl group and a substituted aralkyloxycarbonyl group.
Examples of the aralkyloxycarbonyl group include an aralkyloxycarbonyl group having 8 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a benzyloxycarbonyl group, a phenethyloxycarbonyl group, and a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group.
Examples of the substituted aralkyloxycarbonyl group (aralkyloxycarbonyl group having a substituent) include an aralkyloxycarbonyl group in which at least one hydrogen atom of the aralkyloxycarbonyl group is substituted with a substituent. Examples of the substituent include those described later.

1で示されるアルキル基で置換されたアミノ基、即ち、アルキル置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、N−メチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジイソプロピルアミノ基又はN−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基が挙げられる。 Preferred specific examples of the amino group substituted with the alkyl group represented by R 1 , that is, the alkyl-substituted amino group include, for example, an N-methylamino group, an N, N-dimethylamino group, an N, N-diethylamino group, Examples thereof include mono- or dialkylamino groups such as N, N-diisopropylamino group and N-cyclohexylamino group.

1で示されるアリール基で置換されたアミノ基、即ちアリール置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N−ナフチルアミノ基又はN−ナフチル−N−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the aryl group represented by R 1 , that is, the aryl-substituted amino group include, for example, an N-phenylamino group, an N, N-diphenylamino group, an N-naphthylamino group, or an N- Examples thereof include mono- or diarylamino groups such as naphthyl-N-phenylamino group.

1で示されるアラルキル基で置換されたアミノ基、即ちアラルキル置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、N−ベンジルアミノ基又はN,N−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基が挙げられる。また、N−メチル−N−フェニルアミノ基又はN−ベンジル−N−メチルアミノ基等のジ置換アミノ基が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the aralkyl group represented by R 1 , that is, the aralkyl-substituted amino group include, for example, mono- or diaralkylamino groups such as N-benzylamino group and N, N-dibenzylamino group Is mentioned. Further, a disubstituted amino group such as an N-methyl-N-phenylamino group or an N-benzyl-N-methylamino group can be mentioned.

1で示されるアシル基で置換されたアミノ基、即ちアシル置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基又はベンゾイルアミノ基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the acyl group represented by R 1 , that is, the acyl-substituted amino group include, for example, formylamino group, acetylamino group, propionylamino group, pivaloylamino group, pentanoylamino group, hexanoyl An amino group, a benzoylamino group, etc. are mentioned.

1で示されるアルコキシカルボニル基で置換されたアミノ基、即ちアルコキシカルボニル置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、n−プロポキシカルボニルアミノ基、n−ブトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基又はヘキシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the alkoxycarbonyl group represented by R 1 , that is, the alkoxycarbonyl-substituted amino group include, for example, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, n-propoxycarbonylamino group, n-butoxy Examples thereof include a carbonylamino group, a tert-butoxycarbonylamino group, a pentyloxycarbonylamino group, and a hexyloxycarbonylamino group.

1で示されるアリールオキシカルボニル基で置換されたアミノ基、即ちアリールオキシカルボニル置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、アミノ基の1個の水素原子が前記したアリールオキシカルボニル基で置換されたアミノ基が挙げられ、その具体例としては、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基又はナフチルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the aryloxycarbonyl group represented by R 1 , that is, the aryloxycarbonyl-substituted amino group include, for example, that one hydrogen atom of the amino group is substituted with the above-mentioned aryloxycarbonyl group. Specific examples thereof include, for example, a phenoxycarbonylamino group or a naphthyloxycarbonylamino group.

1で示されるアラルキルオキシカルボニル基で置換されたアミノ基、即ちアラルキルオキシカルボニル置換アミノ基の好ましい具体例としては、例えば、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、フェネチルオキシカルボニルアミノ基又は9−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the aralkyloxycarbonyl group represented by R 1 , that is, the aralkyloxycarbonyl-substituted amino group include, for example, benzyloxycarbonylamino group, phenethyloxycarbonylamino group or 9-fluorenylmethyl. An oxycarbonylamino group etc. are mentioned.

1で示される置換スルホニル基で置換されたアミノ基の好ましい具体例としては、例えば、−NHSO2CH3、−NHSO265、−NHSO264CH3又は−NHSO2CF3等が挙げられる。 Preferable specific examples of the amino group substituted with the substituted sulfonyl group represented by R 1 include, for example, —NHSO 2 CH 3 , —NHSO 2 C 6 H 5 , —NHSO 2 C 6 H 4 CH 3 or —NHSO 2. CF 3 and the like can be mentioned.

1で示される環状のアミノ基としては、例えば、置換基を有していてもよいアルキレン基等で結合して含窒素環を形成した環状アミノ基等が挙げられる。該アルキレン基としては、直鎖状でも分岐状でもよく、例えば炭素数1〜6のアルキレン基が挙げられ、その具体例としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、2−メチルプロピレン、2,2−ジメチルプロピレン又は2−エチルプロピレン等が挙げられる。また、前記アルキレン基は、該アルキレン基の末端又は鎖中の任意の位置に酸素原子、イミノ基、置換イミノ基又はカルボニル基等や二重結合を有していてもよい。該置換イミノ基としては、イミノ基の1個の水素原子がアミノ保護基等の置換基で置換されたイミノ基が挙げられる。前記アミノ保護基は、上記置換アミノ基で説明した保護基と同意義であってよい。
環状アミノ基の具体例としては、例えば、ピロリジノ基、ピペラジノ基又はモルホリノ基等が挙げられる。
Examples of the cyclic amino group represented by R 1 include a cyclic amino group formed by bonding with an alkylene group which may have a substituent to form a nitrogen-containing ring. The alkylene group may be linear or branched, and examples thereof include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples thereof include, for example, methylene, ethylene, propylene, trimethylene, 2-methylpropylene, , 2-dimethylpropylene or 2-ethylpropylene. The alkylene group may have an oxygen atom, an imino group, a substituted imino group, a carbonyl group, or the like or a double bond at an end of the alkylene group or at any position in the chain. Examples of the substituted imino group include an imino group in which one hydrogen atom of the imino group is substituted with a substituent such as an amino protecting group. The amino protecting group may have the same meaning as the protecting group described for the substituted amino group.
Specific examples of the cyclic amino group include pyrrolidino group, piperazino group, morpholino group and the like.

2及びR3で示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」は、上記R1aで説明した置換基を有していてもよい炭化水素基と同意義であってよい。R2及びR3で示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」における置換基としては、後記する置換基等が挙げられる。 The “hydrocarbon group which may have a substituent” represented by R 2 and R 3 may have the same meaning as the hydrocarbon group which may have a substituent described in the above R 1a . Examples of the substituent in the “hydrocarbon group which may have a substituent” represented by R 2 and R 3 include the substituents described later.

2及びR3で示される「置換基を有していてもよい複素環基」は、上記R1aで説明した置換基を有していてもよい複素環基と同意義である。 The “heterocyclic group which may have a substituent” represented by R 2 and R 3 has the same meaning as the heterocyclic group which may have a substituent described in the above R 1a .

本発明における「置換基」としては、例えば、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、−OR1a’、−SR1b’、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基、ニトロ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、スルホ基、置換シリル基、水酸基、カルボキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシチオカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシチオカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキルチオカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールチオカルボニル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換ホスフィノ基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基又はオキソ基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換アミノ基及び置換基を有していてもよいアシル基は、上記で説明したそれぞれの各基と同意義である。−OR1a’は−OR1aと同意義である。−SR1b’は−SR1bと同意義である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等が挙げられる。 Examples of the “substituent” in the present invention include a hydrocarbon group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, a halogen atom, a halogenated hydrocarbon group, —OR 1a. ' , -SR 1b' , an optionally substituted acyl group, an optionally substituted acyloxy group, an optionally substituted alkoxycarbonyl group, and a substituted group. Aryloxycarbonyl group which may have a substituent, alkylenedioxy group which may have a substituent, nitro group, amino group, substituted amino group, cyano group, sulfo group, substituted silyl group, hydroxyl group, carboxy group, substituent An alkoxythiocarbonyl group which may have, an aryloxythiocarbonyl group which may have a substituent, an alkylthiocarbonyl group which may have a substituent, and an aryl which may have a substituent. A thiothiocarbonyl group, an optionally substituted carbamoyl group, a substituted phosphino group, an aminosulfonyl group, an alkoxysulfonyl group or an oxo group. The hydrocarbon group that may have a substituent, the heterocyclic group that may have a substituent, the substituted amino group, and the acyl group that may have a substituent may be, It is the same meaning as the group. —OR 1a ′ has the same meaning as —OR 1a . -SR 1b ' has the same meaning as -SR 1b . Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

4及びR5で示される保護基としては、上記置換されていてもよいアミノ基で説明したアミノ保護基と同意義であってよい。
1とR2、R2とR3、R2とR5又はR4とR5とが結合して環を形成する場合には、置換基を有していてもよいアルキレン基で結合して環を形成する場合等が挙げられる。また、形成する環は、単環状でも多環状でも或いは縮合環状でもよく、例えば4〜8員環等の脂肪族環等が挙げられる。
The protecting group for R 4 and R 5 may have the same meaning as the amino protecting group described above for the optionally substituted amino group.
When R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 2 and R 5 or R 4 and R 5 are combined to form a ring, they are bonded with an alkylene group which may have a substituent. To form a ring. In addition, the ring to be formed may be monocyclic, polycyclic, or condensed, and examples thereof include aliphatic rings such as 4- to 8-membered rings.

アルキレン基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数1〜6のアルキレン基が挙げられ、好ましい具体例としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、2−メチルプロピレン、2,2−ジメチルプロピレン又は2−エチルプロピレン等が挙げられる。また、前記アルキレン基は、該アルキレン基の末端又は鎖中の任意の位置に酸素原子、イミノ基又は置換イミノ基等を有していてもよい。置換イミノ基は、上記で説明した置換イミノ基と同意義である。   The alkylene group may be linear or branched, for example, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. Preferred specific examples include, for example, methylene, ethylene, propylene, trimethylene, 2-methylpropylene, 2, Examples include 2-dimethylpropylene or 2-ethylpropylene. The alkylene group may have an oxygen atom, an imino group, a substituted imino group, or the like at an end of the alkylene group or at any position in the chain. The substituted imino group has the same meaning as the substituted imino group described above.

「置換基を有していてもよいアルキレン基」における置換基としては、上記した置換基が挙げられる。   Examples of the substituent in the “alkylene group which may have a substituent” include the above-described substituents.

一般式(1)において、R2が水素原子であるときはR2が結合している炭素原子は不斉炭素とはならず、またR3が水素原子であるときはR3が結合している炭素原子は不斉炭素とはならない。
一般式(2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類の具体例としては、例えば下記表1〜3に示す化合物等が挙げられる。
In the general formula (1), when R 2 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 2 is bonded is not an asymmetric carbon, and when R 3 is a hydrogen atom, R 3 is bonded. Carbon atoms that are not asymmetric carbons.
Specific examples of 4-amino-2-oxobutenoic acids represented by the general formula (2) include compounds shown in Tables 1 to 3 below.

Figure 0004845470
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一般式(2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類の塩としては、例えば、酸塩又はアミン塩等が挙げられる。具体的には、4−アミノ−2−オキソブテン酸類の分子内の窒素原子部分やR1がアミノ基又は置換アミノ基である場合に酸塩となっていてもよい。また、R1が水酸基である場合には、アルカリ金属やアルカリ土類金属等との金属塩やアミンとの塩となっていてもよい。 Examples of salts of 4-amino-2-oxobutenoic acids represented by the general formula (2) include acid salts or amine salts. Specifically, it may be an acid salt when the nitrogen atom part or R 1 in the molecule of 4-amino-2-oxobutenoic acid is an amino group or a substituted amino group. When R 1 is a hydroxyl group, it may be a metal salt with an alkali metal or alkaline earth metal or a salt with an amine.

塩を形成する酸としては、無機酸、有機酸、ルイス酸等が挙げられる。無機酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、テトラフルオロホウ酸、過塩素酸又は過ヨウ素酸等が挙げられる。有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、吉草酸、ヘキサン酸、クエン酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、サリチル酸、シュウ酸、コハク酸、マロン酸、フタル酸、酒石酸、リンゴ酸又はグリコール酸等のカルボン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸又はトリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられる。ルイス酸としては、例えば、塩化アルミニウム又は臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、臭化ジエチルアルミニウム又は塩化ジイソプロピルアルミニウム等のハロゲン化ジアルキルアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム又はトリ−tert−ブトキシアルミニウム等のトリアルコキシアルミニウム,四塩化チタン等のハロゲン化チタン、テトライソプロポキシチタニウム等のテトラアルコキシチタニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素又は三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等のハロゲン化ホウ素、或いは塩化亜鉛又は臭化亜鉛等のハロゲン化亜鉛等が挙げられる。
水酸基である場合に塩となるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム又はセシウム等が挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム又はバリウム等が挙げられる。
塩を形成するアミンとしては、アンモニア、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン、ヘキサデシルアミン、トリ−n−ブチルアミン又はN−メチルモルホリン等の脂肪族アミン類、例えば、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン又は4−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン類、例えばピペリジン等の飽和複素環アミン類等が挙げられる。
Examples of the acid forming the salt include inorganic acids, organic acids, Lewis acids and the like. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, and periodic acid. Examples of organic acids include formic acid, acetic acid, valeric acid, hexanoic acid, citric acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, benzoic acid, salicylic acid, oxalic acid, succinic acid, malonic acid, phthalic acid, Examples thereof include carboxylic acids such as tartaric acid, malic acid and glycolic acid, sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid. Examples of the Lewis acid include aluminum halides such as aluminum chloride or aluminum bromide, dialkylaluminum halides such as diethylaluminum chloride, diethylaluminum bromide or diisopropylaluminum chloride, triethoxyaluminum, triisopropoxyaluminum or tri-tert. -Trialkoxyaluminum such as butoxyaluminum, titanium halide such as titanium tetrachloride, tetraalkoxytitanium such as tetraisopropoxytitanium, boron trifluoride, boron trichloride, boron tribromide or boron trifluoride diethyl ether complex, etc. Or a halogenated zinc halide such as zinc chloride or zinc bromide.
Examples of the alkali metal that becomes a salt when it is a hydroxyl group include lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium. Examples of the alkaline earth metal include magnesium, calcium, strontium, and barium.
Examples of amines that form salts include ammonia, such as methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, cyclohexylamine, dimethylamine, diethylamine, diisopropylamine, triethylamine, tripropylamine, diisopropylethylamine, di (2-ethylhexyl) amine, Aliphatic amines such as hexadecylamine, tri-n-butylamine or N-methylmorpholine, for example, aromatic amines such as N, N-dimethylaniline, pyridine or 4-dimethylaminopyridine, and saturated heterocycles such as piperidine. And cyclic amines.

4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩は、市販品を用いても、適宜製造したものを用いてもよい。   As 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof, commercially available products or those appropriately produced may be used.

本発明に係る上記一般式(2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩は、例えばR4が水素原子である場合[例えば下記一般式(2−1)]等、その化合物の種類によっては、反応系中や単離した状態で、一般式(2−2)

Figure 0004845470
(式中、R1〜R3及びR5は前記と同意義である。)で表される化合物である、エノール型の構造をとる場合がある。
Figure 0004845470
The 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof represented by the above general formula (2) according to the present invention, for example, when R 4 is a hydrogen atom [for example, the following general formula (2-1)], Depending on the type of compound, in the reaction system or in an isolated state, the compound represented by the general formula (2-2)
Figure 0004845470
(Wherein, R 1 to R 3 and R 5 have the same meanings as described above) may take an enol-type structure.
Figure 0004845470

両者はいわゆるケト・エノール異性の関係にあり、本発明では上記一般式(2−1)と上記一般式(2−2)の化合物並びにそれらの混合物は実質的に同一である。   Both are in a so-called keto-enol isomerism relationship, and in the present invention, the compound of the general formula (2-1) and the compound of the general formula (2-2) and the mixture thereof are substantially the same.

本発明においては、本発明で用いられる上記一般式(2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩は、上記一般式(2−2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩も、上記一般式(2−1)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩と上記一般式(2−2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩との混合物もその範囲に包含されるものである。   In the present invention, the 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof represented by the general formula (2) used in the present invention are the 4-amino-2 represented by the general formula (2-2). -Oxobutenoic acids or salts thereof are also 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof represented by the general formula (2-1) and 4-amino-2-form represented by the general formula (2-2). Mixtures with oxobutenoic acids or salts thereof are also encompassed within the scope.

また、本発明の製造方法においては、上記一般式(2−1)及び上記一般式(2−2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩を保護基で保護しなくとも、不斉還元反応、特に不斉水素化を行うことにより高収率及び光学純度よく、一般式(1)で表される光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を得ることができる。また、上記一般式(2)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩が、エノール型の構造をとる場合には、上記一般式(2−2)における水酸基に保護基を導入しても本発明の製造方法を行うことにより、高収率でかつ光学純度よく一般式(1)で表される光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を得ることができる。   In the production method of the present invention, the 4-amino-2-oxobutenoic acids represented by the general formula (2-1) and the general formula (2-2) or salts thereof may not be protected with a protecting group. By carrying out an asymmetric reduction reaction, particularly asymmetric hydrogenation, an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid represented by the general formula (1) or a salt thereof can be obtained with high yield and optical purity. it can. Further, when the 4-amino-2-oxobutenoic acid represented by the general formula (2) or a salt thereof has an enol-type structure, a protective group is introduced into the hydroxyl group in the general formula (2-2). Even if it performs the manufacturing method of this invention, the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt represented with General formula (1) with high yield and sufficient optical purity can be obtained.

本発明の製造方法により得られる4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩、特に光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩は、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類及び光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の塩である(以下、これらを総称して、単に「4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類」又は「光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類」ということもある。)。該光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩としては、例えば下記一般式(1)   4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof obtained by the production method of the present invention, particularly optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof, are optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids and salts thereof. It is a salt of optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid (hereinafter collectively referred to simply as “4-amino-2-hydroxybutyric acid” or “optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid”). Sometimes it is.) Examples of the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof include, for example, the following general formula (1)

Figure 0004845470
(式中、*は不斉炭素を示し、R1〜R5は前記と同意義である。しかし、R2が水素原子であるときはR2が結合している炭素原子は不斉炭素とはならず、またR3が水素原子であるときはR3が結合している炭素原子は不斉炭素とはならない。)で表される光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩等が挙げられる。
形成する塩は、上記4−アミノ−2−オキソブテン酸類の塩で説明した塩と同様の塩が挙げられ、必要に応じて塩を交換、例えば塩酸塩から硝酸塩に変換してもよい。
Figure 0004845470
(In the formula, * represents an asymmetric carbon, and R 1 to R 5 are as defined above. However, when R 2 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 2 is bonded is an asymmetric carbon; In addition, when R 3 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 3 is bonded is not an asymmetric carbon.) Or an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid salt or a salt thereof Etc.
Examples of the salt to be formed include the same salts as those described above for the salt of 4-amino-2-oxobutenoic acid, and the salt may be exchanged, for example, converted from hydrochloride to nitrate as necessary.

一般式(1)で表される光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の具体例としては、例えば下記表4〜6に示す化合物等が挙げられる。   Specific examples of the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid represented by the general formula (1) include compounds shown in Tables 4 to 6 below.

Figure 0004845470
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本発明の製造方法において、還元反応は、4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩と還元剤とを反応させることによって行われてよい。そのような還元剤は、特に限定されないが通常約15〜100℃で約1分〜48時間、常圧で行うことができる。該還元剤としては、特に限定されないが、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム又はボラン等の還元剤又は水素化ホウ素ナトリウムとルイス酸とを組み合わせた還元剤等が挙げられる。好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムとルイス酸との組み合わせが挙げられる。好ましいルイス酸としては、マグネシウム又はカルシウムの化合物が挙げられる。還元反応は、必要に応じて不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。不活性ガスとしては窒素ガス又はアルゴンガス等が挙げられる。   In the production method of the present invention, the reduction reaction may be performed by reacting 4-amino-2-oxobutenoic acid or a salt thereof with a reducing agent. Such a reducing agent is not particularly limited, but can be usually performed at about 15 to 100 ° C. for about 1 minute to 48 hours at normal pressure. Examples of the reducing agent include, but are not limited to, a reducing agent such as lithium aluminum hydride, sodium borohydride, or borane, or a reducing agent that combines sodium borohydride and a Lewis acid. Preferably, the combination of sodium borohydride and a Lewis acid is mentioned. Preferred Lewis acids include magnesium or calcium compounds. The reduction reaction may be performed in an inert gas atmosphere as necessary. Examples of the inert gas include nitrogen gas and argon gas.

本発明の製造方法において、光学純度の高い光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を製造するためには、不斉触媒の存在下で、一般式(2)で表される化合物又はその塩の不斉還元反応を行うのが好ましい。不斉還元反応とは、原料に対して還元反応を行って得られる生成物が、不斉炭素を有する場合の反応をいう。不斉還元反応は、不斉水素化反応であることが好ましく、さらに不斉還元反応は、不斉触媒の存在下で行われるのが好ましい。   In the production method of the present invention, in order to produce optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof having high optical purity, a compound represented by the general formula (2) in the presence of an asymmetric catalyst Alternatively, an asymmetric reduction reaction of the salt is preferably performed. The asymmetric reduction reaction refers to a reaction when a product obtained by performing a reduction reaction on a raw material has an asymmetric carbon. The asymmetric reduction reaction is preferably an asymmetric hydrogenation reaction, and the asymmetric reduction reaction is preferably performed in the presence of an asymmetric catalyst.

不斉水素化反応は、水素源の存在下で行うことができる。水素源としては、水素ガス及び水素供与性物質が挙げられる。即ち、本発明で用いられる不斉水素化反応としては、水素ガスの存在下で行う不斉水素化反応又は水素供与性物質の存在下で行う水素移動型不斉水素化反応が挙げられる。   The asymmetric hydrogenation reaction can be performed in the presence of a hydrogen source. Examples of the hydrogen source include hydrogen gas and a hydrogen donating substance. That is, examples of the asymmetric hydrogenation reaction used in the present invention include an asymmetric hydrogenation reaction carried out in the presence of hydrogen gas or a hydrogen transfer asymmetric hydrogenation reaction carried out in the presence of a hydrogen donating substance.

不斉触媒としては、遷移金属錯体が好ましく、不斉遷移金属錯体がより好ましい。前記不斉遷移金属錯体は、遷移金属と不斉配位子とを含有する遷移金属錯体が好ましく用いられる。また、該不斉遷移金属錯体はin situで不斉水素化反応に用いてもよい。   As an asymmetric catalyst, a transition metal complex is preferable, and an asymmetric transition metal complex is more preferable. As the asymmetric transition metal complex, a transition metal complex containing a transition metal and an asymmetric ligand is preferably used. Further, the asymmetric transition metal complex may be used for the asymmetric hydrogenation reaction in situ.

不斉遷移金属錯体における遷移金属としては、例えば元素周期表の第8〜10族の遷移金属が好ましい。   As the transition metal in the asymmetric transition metal complex, for example, a transition metal of Groups 8 to 10 of the periodic table is preferable.

不斉遷移金属錯体としては、例えば下記一般式(3)
mnpq (3)
又は一般式(4)
[Mmnpq]Zs (4)
で表される遷移金属錯体が挙げられるが、これらに限定されない。
As an asymmetric transition metal complex, for example, the following general formula (3)
M m L n X p Y q (3)
Or general formula (4)
[M m L n X p Y q ] Z s (4)
Although the transition metal complex represented by these is mentioned, it is not limited to these.

一般式(3)又は(4)において、Mは元素周期表の第8〜10族の遷移金属を示し、Lは不斉配位子を示し、Xはハロゲン原子、カルボキシラート基、アリル基、1,5−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンを示し、Yは配位子を示し、Zはアニオン又はカチオンを示し、mは1〜5の整数を示し、n、p、q及びsはそれぞれ独立して0〜5の整数を示す。   In the general formula (3) or (4), M represents a transition metal of Groups 8 to 10 of the periodic table, L represents an asymmetric ligand, X represents a halogen atom, a carboxylate group, an allyl group, 1,5-cyclooctadiene or norbornadiene, Y represents a ligand, Z represents an anion or cation, m represents an integer of 1 to 5, and n, p, q and s are each independently An integer of 0 to 5 is shown.

一般式(3)及び(4)において、Mで示される元素周期表の第8〜10族の遷移金属としては、例えばルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、パラジウム(Pd)又はニッケル(Ni)等が挙げられる。mが2以上の時、前記遷移金属は同一又は異なってもよい。   In the general formulas (3) and (4), examples of the transition metal belonging to Groups 8 to 10 of the periodic table of M are ruthenium (Ru), rhodium (Rh), iridium (Ir), palladium (Pd). Or nickel (Ni) etc. are mentioned. When m is 2 or more, the transition metals may be the same or different.

Lで示される不斉配位子は、例えば単座配位子又は二座配位子等が挙げられる。好ましい不斉配位子は、光学活性リン配位子等が挙げられ、より好ましくは光学活性二座リン配位子等が挙げられる。nが2以上の時、前記不斉配位子は同一又は異なってもよい。   Examples of the asymmetric ligand represented by L include a monodentate ligand and a bidentate ligand. Preferred asymmetric ligands include optically active phosphorus ligands, and more preferably optically active bidentate phosphorus ligands. When n is 2 or more, the asymmetric ligands may be the same or different.

光学活性二座リン配位子としては、分子内に光学活性部位を有していればよく、例えば下記一般式(5)
1112P−Q1−PR1314 (5)
(式中、R11〜R14は夫々独立して、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルコキシ基又は置換基を有していてもよいアリールオキシ基を示し、Q1はスペーサーを示す。また、R11及びR12及び/又はR13及びR14が結合して環を形成してもよい。尚、R11〜R14及びQ1は、上記一般式(5)で表されるリン化合物が光学活性リン化合物となる基であればよい。)で表されるリン化合物等が挙げられ、式中に光学活性部位を有していればよい。
The optically active bidentate phosphorus ligand only needs to have an optically active site in the molecule. For example, the following general formula (5)
R 11 R 12 PQ 1 -PR 13 R 14 (5)
(Wherein R 11 to R 14 each independently have a hydrocarbon group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, or a substituent. An alkoxy group or an aryloxy group which may have a substituent, Q 1 represents a spacer, and R 11 and R 12 and / or R 13 and R 14 may combine to form a ring; R 11 to R 14 and Q 1 may be phosphorus compounds represented by general formula (5) as long as the phosphorus compound is an optically active phosphorus compound). In the formula, it suffices to have an optically active site.

一般式(5)において、R11〜R14で示される置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルコキシ基又は置換基を有していてもよいアリールオキシ基は、上記一般式(1)等で説明した各基と同意義である。 In the general formula (5), a hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 11 to R 14 , a heterocyclic group which may have a substituent, or a substituent. The aryloxy group which may have an alkoxy group or a substituent is synonymous with each group demonstrated by the said General formula (1) etc.

1で示されるスペーサーとしては、アルキレン基、アリーレン基又はヘテロアリーレン基等の置換基を有していてもよい2価の有機基等が挙げられる。また、前記2価の有機基は、該有機基の末端又は鎖中の任意の位置に酸素原子、カルボニル基、硫黄原子、イミノ基又は置換イミノ基等の異種原子又は原子団を少なくとも1個有していてもよい。置換イミノ基における置換基は、上記置換アミノ基における置換基と同意義である。更に、前記2価の有機基は、上記したような置換基で置換されていてもよい。 Examples of the spacer represented by Q 1 include a divalent organic group that may have a substituent such as an alkylene group, an arylene group, or a heteroarylene group. The divalent organic group has at least one heteroatom or atomic group such as an oxygen atom, a carbonyl group, a sulfur atom, an imino group, or a substituted imino group at an end of the organic group or at any position in the chain. You may do it. The substituent in the substituted imino group has the same meaning as the substituent in the substituted amino group. Furthermore, the divalent organic group may be substituted with a substituent as described above.

アルキレン基としては、例えば炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、その具体例としてはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基又はプロピレン基等が挙げられる。   Examples of the alkylene group include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, and an octamethylene group. Group, nonamethylene group, decamethylene group or propylene group.

アリーレン基としては、例えば炭素数6〜20のアリーレン基が挙げられ、その具体例としては、フェニレン基、ビフェニルジイル基、ビナフタレンジイル基又はビスベンゾジオキソールジイル基等が挙げられる。   Examples of the arylene group include an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenylene group, a biphenyldiyl group, a binaphthalenediyl group, and a bisbenzodioxolediyl group.

ヘテロアリーレン基としては、例えば、炭素数2〜20で、少なくとも1個、好ましくは1〜3個の窒素原子、酸素原子及び/又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる、3〜8員、好ましくは5又は6員の単環式ヘテロアリーレン基、多環式又は縮合環式のヘテロアリーレン基が挙げられ、その具体例としては、ビピリジンジイル基、ビスベンゾチオールジイル基又はビスチオールジイル基等が挙げられる。   Examples of the heteroarylene group include 3 to 8 members having 2 to 20 carbon atoms and containing at least one, preferably 1 to 3 hetero atoms such as a nitrogen atom, an oxygen atom and / or a sulfur atom, Preferably, a 5- or 6-membered monocyclic heteroarylene group, a polycyclic or condensed ring heteroarylene group can be mentioned, and specific examples thereof include a bipyridinediyl group, a bisbenzothioldiyl group, or a bisthioldiyl group. Is mentioned.

異種原子又は原子団を有する2価の有機基としては、−CH2−O−CH2−又は−C64−O−C64−等が挙げられる。 Examples of the divalent organic group having a different atom or atomic group include —CH 2 —O—CH 2 — or —C 6 H 4 —O—C 6 H 4 —.

これら2価の有機基は後述する置換基で置換されていてもよい。
また、スペーサーが光学活性部位を有する場合における、光学活性部位を有するスペーサーの具体例としては、1,2−ジメチルエチレン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2−ジフェニルエチレン基、1,2−ジ(4−メチルフェニル)エチレン基、1,2−ジシクロヘキシルエチレン基、1,3−ジオキソラン−4,5−ジイル基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基等が挙げられる。これら光学活性部位を有するスペーサーは、(R)体、(S)体、(R,R)体又は(S,S)体が挙げられる。
These divalent organic groups may be substituted with a substituent described later.
Specific examples of the spacer having an optically active site when the spacer has an optically active site include 1,2-dimethylethylene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,2-diphenylethylene group, 1, Examples include 2-di (4-methylphenyl) ethylene group, 1,2-dicyclohexylethylene group, 1,3-dioxolane-4,5-diyl group, biphenyldiyl group, or binaphthalenediyl group. Examples of the spacer having an optically active site include (R) isomer, (S) isomer, (R, R) isomer, and (S, S) isomer.

11及びR12及び/又はR13及びR14が結合して環を形成する場合には、例えばアルキレン基で結合して含リン環を形成する場合等が挙げられる。該アルキレン基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数1〜6のアルキレン基が挙げられ、その具体例としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、2−メチルプロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基又は2−エチルプロピレン基等が挙げられる。形成する環の具体例としては、例えば、ホスホラン環又は2,5−ジメチルホスホラン環等が挙げられる。 In the case where R 11 and R 12 and / or R 13 and R 14 are bonded to form a ring, for example, an alkylene group is bonded to form a phosphorus-containing ring. The alkylene group may be linear or branched, for example, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include, for example, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, and a 2-methylpropylene group. 2,2-dimethylpropylene group or 2-ethylpropylene group. Specific examples of the ring to be formed include a phospholane ring and a 2,5-dimethylphosphorane ring.

光学活性リン化合物は、配位子として使用可能な公知又は未知の光学活性リン化合物が挙げられ、その具体例としては、例えば公知の具体例、例えば1,2−ビス(アニシルフェニルホスフィノ)エタン(DIPAMP)、1,2−ビス(アルキルメチルホスフィノ)エタン(BisP*)、2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(CHIRAPHOS)、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(PROPHOS)、2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)−5−ノルボルネン(NORPHOS)、2,3−O−イソプロピリデン−2,3−ジヒドロキシ−1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(DIOP)、1−シクロヘキシル−1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(CYCPHOS)、1−置換−3,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ピロリジン(DEGPHOS)、2,4−ビス−(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(SKEWPHOS)、1,2−ビス(置換ホスホラノ)ベンゼン(DuPHOS)、1,2−ビス(置換ホスホラノ)エタン(BPE)、1−((置換ホスホラノ)−2−(ジフェニルホスフィノ)ベンゼン(UCAP−Ph)、1−(ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−2−(置換ホスホラノ)ベンゼン(UCAP−DM)、1−((置換ホスホラノ)−2−(ビス(3,5−ジ(t−ブチル)−4−メトキシフェニル)ホスフィノ)ベンゼン(UCAP−DTBM)、1−((置換ホスホラノ)−2−(ジ−ナフタレン−1−イル−ホスフィノ)ベンゼン(UCAP−(1−Nap))、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビシクロペンタン(BICP)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−(5,5’,6,6’,7,7’,8,8’−オクタヒドロビナフチル) (H8−BINAP)、2,2’−ビス(ジ−p−トリルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(TOL−BINAP)、2,2’−ビス(ジ(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(DM−BINAP)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−6,6’−ジメチル−1,1’−ビフェニル(BICHEP)、(4,4’−ビ−1,3−ベンゾジオキソール)−5,5’−ジイルビス(ジフェニルホスフィン) (SEGPHOS)、(4,4’−ビ−1,3−ベンゾジオキソール)−5,5’−ジイルビス[ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン] (DM−SEGPHOS)又は[(4S)−[4,4’−ビ−1,3−ベンゾジオキソール]−5,5’−ジイル]ビス[ビス[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−メトキシフェニル]ホスフィン] (DTBM−SEGPHOS)等の光学活性体が挙げられる。 Examples of the optically active phosphorus compound include known or unknown optically active phosphorus compounds that can be used as a ligand. Specific examples thereof include, for example, known specific examples such as 1,2-bis (anisylphenylphosphino). Ethane (DIPAMP), 1,2-bis (alkylmethylphosphino) ethane (BisP *), 2,3-bis (diphenylphosphino) butane (CHIRAPHOS), 1,2-bis (diphenylphosphino) propane (PROPHOS) ), 2,3-bis (diphenylphosphino) -5-norbornene (NORPHOS), 2,3-O-isopropylidene-2,3-dihydroxy-1,4-bis (diphenylphosphino) butane (DIOP), 1-cyclohexyl-1,2-bis (diphenylphosphino) ethane (CYCPHOS), 1-substituted- , 4-bis (diphenylphosphino) pyrrolidine (DEGPHOS), 2,4-bis- (diphenylphosphino) pentane (SKEWPHOS), 1,2-bis (substituted phosphorano) benzene (DuPHOS), 1,2-bis ( Substituted phosphorano) ethane (BPE), 1-((substituted phosphorano) -2- (diphenylphosphino) benzene (UCAP-Ph), 1- (bis (3,5-dimethylphenyl) phosphino) -2- (substituted phosphorano) ) Benzene (UCAP-DM), 1-((substituted phosphorano) -2- (bis (3,5-di (t-butyl) -4-methoxyphenyl) phosphino) benzene (UCAP-DTBM), 1-(( Substituted phosphorano) -2- (di-naphthalen-1-yl-phosphino) benzene (UCAP- (1-Nap)), 2,2 ′ Bis (diphenylphosphino) -1,1′-bicyclopentane (BICP), 2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl (BINAP), 2,2′-bis (diphenylphosphino) ) -1,1 ′-(5,5 ′, 6,6 ′, 7,7 ′, 8,8′-octahydrobinaphthyl) (H 8 -BINAP), 2,2′-bis (di-p-) Tolylphosphino) -1,1′-binaphthyl (TOL-BINAP), 2,2′-bis (di (3,5-dimethylphenyl) phosphino) -1,1′-binaphthyl (DM-BINAP), 2,2 ′ -Bis (diphenylphosphino) -6,6'-dimethyl-1,1'-biphenyl (BICHEP), (4,4'-bi-1,3-benzodioxole) -5,5'-diylbis ( Diphenylphosphine) (SEGPHOS), (4 4′-bi-1,3-benzodioxole) -5,5′-diylbis [bis (3,5-dimethylphenyl) phosphine] (DM-SEGPHOS) or [(4S)-[4,4′- Bi-1,3-benzodioxole] -5,5′-diyl] bis [bis [3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-methoxyphenyl] phosphine] (DTBM-SEGPHOS) and the like These optically active substances are mentioned.

不斉配位子は、上記光学活性二座ホスフィン配位子の他に、ビス複素環化合物も使用可能である。   As the asymmetric ligand, in addition to the above-mentioned optically active bidentate phosphine ligand, a bisheterocyclic compound can also be used.

Yで示される配位子としては、同一又は異なっていてもよく、芳香族化合物又はオレフィン化合物等の中性配位子又はアミン類等が挙げられる。   The ligands represented by Y may be the same or different and include neutral ligands such as aromatic compounds or olefin compounds or amines.

芳香族化合物としては、ベンゼン、p−シメン、1,3,5−トリメチルベンゼン(メシチレン)又はヘキサメチルベンゼン等が挙げられる。オレフィン化合物としては、エチレン、1,5−シクロオクタジエン、シクロペンタジエン又はノルボルナジエン等が挙げられる。その他の中性配位子としては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル、ベンゾニトリル、アセトン又はクロロホルム等が挙げられる。   Examples of the aromatic compound include benzene, p-cymene, 1,3,5-trimethylbenzene (mesitylene), hexamethylbenzene and the like. Examples of the olefin compound include ethylene, 1,5-cyclooctadiene, cyclopentadiene, norbornadiene, and the like. Examples of other neutral ligands include N, N-dimethylformamide (DMF), acetonitrile, benzonitrile, acetone or chloroform.

アミン類としては、1,2−ジフェニルエチレンジアミン(DPEN)、1,2−ジアミノシクロヘキサン、エチレンジアミン、1,1−ビス(4−メトキシフェニル)−2−イソプロピルエチレンジアミン(DAIPEN)、1,2−ビス(4−メトキシフェニル)エチレンジアミン、1,2−ジシクロヘキシルエチレンジアミン、1,2−ジ(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−ジ(4−N,N−ジエチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−ジ(4−N,N−ジプロピルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−(N−ベンゼンスルホニル)−1,2−ジ(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−(N−p−トルエンスルホニル)−1,2−ジ(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−(N−メタンスルホニル)−1,2−ジ(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−(N−トリフルオロメタンスルホニル)−1,2−ジ(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−(N−ベンゼンスルホニル)−1,2−ジ(4−N,N−ジエチルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−(N−ベンゼンスルホニル)−1,2−ジ(4−N,N−ジプロピルアミノフェニル)エチレンジアミン、1,2−ジ(4−スルホニルフェニル)エチレンジアミン、1,2−ジ(4−ナトリウムオキシスルホニルフェニル)エチレンジアミン、1,2−シクロヘキサンジアミン、1,2−シクロヘプタンジアミン、2,3−ジメチルブタンジアミン、1−メチル−2,2−ジフェニルエチレンジアミン、1−イソブチル−2,2−ジフェニルエチレンジアミン、1−イソプロピル−2,2−ジフェニルエチレンジアミン、1−メチル−2,2−ジ(p−メトキシフェニル)エチレンジアミン、1−イソブチル−2,2−ジ(p−メトキシフェニル)エチレンジアミン、1−イソプロピル−2,2−ジ(p−メトキシフェニル)エチレンジアミン、1−ベンジル−2,2−ジ(p−メトキシフェニル)エチレンジアミン、1−メチル−2,2−ジナフチルエチレンジアミン、1−イソブチル−2,2−ジナフチルエチレンジアミン、1−イソプロピル−2,2−ジナフチルエチレンジアミン、ビス[N−(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル−1,2−ジフェニルエチレンジアミン、N,N’−ビス(フェニルメチル)−1,2−ジフェニル−1,2−エチレンジアミン、N,N’−ビス(メシチルメチル)−1,2−ジフェニル−1,2−エチレンジアミン若しくはN,N’−ビス(ナフチルメチル)−1,2−ジフェニル−1,2−エチレンジアミン等の芳香族ジアミン類及び脂肪族ジアミン類等のジアミン類、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン等の脂肪族アミン類又はピリジン等の芳香族アミン類等が挙げられる。   Examples of amines include 1,2-diphenylethylenediamine (DPEN), 1,2-diaminocyclohexane, ethylenediamine, 1,1-bis (4-methoxyphenyl) -2-isopropylethylenediamine (DAIPEN), 1,2-bis ( 4-methoxyphenyl) ethylenediamine, 1,2-dicyclohexylethylenediamine, 1,2-di (4-N, N-dimethylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2-di (4-N, N-diethylaminophenyl) ethylenediamine, 1 , 2-di (4-N, N-dipropylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2- (N-benzenesulfonyl) -1,2-di (4-N, N-dimethylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2 -(Np-toluenesulfonyl) -1,2-di (4-N, N- Methylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2- (N-methanesulfonyl) -1,2-di (4-N, N-dimethylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2- (N-trifluoromethanesulfonyl) -1,2 -Di (4-N, N-dimethylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2- (N-benzenesulfonyl) -1,2-di (4-N, N-diethylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2- (N- Benzenesulfonyl) -1,2-di (4-N, N-dipropylaminophenyl) ethylenediamine, 1,2-di (4-sulfonylphenyl) ethylenediamine, 1,2-di (4-sodiumoxysulfonylphenyl) ethylenediamine 1,2-cyclohexanediamine, 1,2-cycloheptanediamine, 2,3-dimethylbutane Diamine, 1-methyl-2,2-diphenylethylenediamine, 1-isobutyl-2,2-diphenylethylenediamine, 1-isopropyl-2,2-diphenylethylenediamine, 1-methyl-2,2-di (p-methoxyphenyl) Ethylenediamine, 1-isobutyl-2,2-di (p-methoxyphenyl) ethylenediamine, 1-isopropyl-2,2-di (p-methoxyphenyl) ethylenediamine, 1-benzyl-2,2-di (p-methoxyphenyl) ) Ethylenediamine, 1-methyl-2,2-dinaphthylethylenediamine, 1-isobutyl-2,2-dinaphthylethylenediamine, 1-isopropyl-2,2-dinaphthylethylenediamine, bis [N- (2,4,6- Trimethylphenyl) methyl-1,2-diphenylethylene Diamine, N, N′-bis (phenylmethyl) -1,2-diphenyl-1,2-ethylenediamine, N, N′-bis (mesitylmethyl) -1,2-diphenyl-1,2-ethylenediamine or N, N '-Bis (naphthylmethyl) -1,2-diphenyl-1,2-ethylenediamine and other aromatic diamines and aliphatic diamines and other diamines, triethylamine and other aliphatic amines and pyridine, etc. Aromatic amines and the like.

これらアミン類は、不斉水素化反応として、水素移動型不斉水素化反応を行う場合には、該アミン類の光学活性体を用いることが好ましく、中でも光学活性芳香族ジアミン類又は光学活性脂肪族ジアミン類等の光学活性ジアミン化合物を用いることがより好ましい。   These amines preferably use an optically active form of the amines when performing a hydrogen transfer type asymmetric hydrogenation reaction as an asymmetric hydrogenation reaction, among which optically active aromatic diamines or optically active fats are preferred. It is more preferable to use an optically active diamine compound such as an aromatic diamine.

Xで示されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等が挙げられる。
一般式(4)において、Zで示されるアニオンとしては、BF4、ClO4、OTf、NO3、PF6、SbF6、AsF6、BPh4、BH4、BF4、Cl、Br、I、I3又はスルホネート等が挙げられる。ここで、Tfはトリフラート基(SO2CF3)を、Phはフェニルを示す。
Examples of the halogen atom represented by X include a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
In the general formula (4), examples of the anion represented by Z include BF 4 , ClO 4 , OTf, NO 3 , PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , BPh 4 , BH 4 , BF 4 , Cl, Br, I, Examples include I 3 or sulfonate. Here, Tf represents a triflate group (SO 2 CF 3 ), and Ph represents phenyl.

Zで示されるカチオンとしては、例えば一般式(6)
[(R15)2NH2 (6)
(式中、2個のR15は同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。)で表される。
Examples of the cation represented by Z include the general formula (6).
[(R 15 ) 2 NH 2 ] + (6)
(In the formula, two R 15 s may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent).

一般式(6)において、R15で示される置換基を有していてもよい炭化水素基は、R2及びR3で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様である。前記R15で示される好ましい置換基を有していてもよい炭化水素基としては、炭素数1〜5のアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよりフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基等が挙げられる。Zで示されるカチオンの具体例としては、例えば[Me2NH2、[Et2NH2又は[Pr2NH2等が挙げられる。Me、Et及びPrは、それぞれメチル、エチル及びプロピルを表す。 In the general formula (6), the hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 15 is the same as the hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 2 and R 3. . The hydrocarbon group which may have a preferable substituent represented by R 15 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group or a substituent which may have a substituent. Examples thereof include a benzyl group which may have. Specific examples of the cation represented by Z include [Me 2 NH 2 ] + , [Et 2 NH 2 ] + and [Pr 2 NH 2 ] + . Me, Et and Pr represent methyl, ethyl and propyl, respectively.

以下に、上記遷移金属錯体の好ましい態様を説明する。
[1]一般式(3)
mnpq (3)
1)MがIrあるいはRhのとき、XはCl、Br又はIであり、Lが単座配位子の場合にはm=p=2、n=4、q=0であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=p=2、q=0である。
2)MがRuのときには、下記(i)〜(iv)であることが好ましい。
(i)XはCl、Br又はIであり、Yはトリアルキルアミンを示し、Lが単座配位子の場合にはm=2、n=p=4、q=1であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=2、p=4、q=1である。
(ii)XはCl、Br又はIを示し、Yはピリジル基あるいは置換ピリジル基を示し、Lが単座配位子の場合にはm=1、n=p=2、q=2、Lが二座配位子の場合にはm=n=1、p=2、q=2である。
(iii)Xはカルボキシラート基であり、Lが単座配位子の場合にはm=1、n=p=2、q=0であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=1、p=2、q=0である。
(iv)XはCl、Br又はIであり、Lが単座配位子の場合にはm=p=2、n=4、q=0であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=p=2、q=0である。
3)MがPdのときには、下記(i)又は(ii)であることが好ましい。
(i)XはCl、Br又はIであり、Lが単座配位子の場合にはm=1、n=2、p=2、q=0であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=1、p=2、q=0である。
(ii)Xはアリル基であり、Lが単座配位子の場合にはm=p=2、n=4、q=0であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=p=2、q=0である。
4)MがNiのとき、XはCl、BrあるいはIであり、Lが単座配位子の場合にはm=1、n=2、p=2、q=0であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=1、p=2、q=0である。
Below, the preferable aspect of the said transition metal complex is demonstrated.
[1] General formula (3)
M m L n X p Y q (3)
1) When M is Ir or Rh, X is Cl, Br or I. When L is a monodentate ligand, m = p = 2, n = 4, q = 0, and L is bidentate In the case of a ligand, m = n = p = 2 and q = 0.
2) When M is Ru, the following (i) to (iv) are preferable.
(I) X is Cl, Br or I, Y represents a trialkylamine, and when L is a monodentate ligand, m = 2, n = p = 4, q = 1, and L is 2 In the case of a bidentate ligand, m = n = 2, p = 4, and q = 1.
(Ii) X represents Cl, Br or I, Y represents a pyridyl group or a substituted pyridyl group, and when L is a monodentate ligand, m = 1, n = p = 2, q = 2, and L is In the case of a bidentate ligand, m = n = 1, p = 2, and q = 2.
(Iii) X is a carboxylate group. When L is a monodentate ligand, m = 1, n = p = 2, q = 0, and when L is a bidentate ligand, m = n = 1, p = 2, and q = 0.
(Iv) X is Cl, Br or I, when L is a monodentate ligand, m = p = 2, n = 4, q = 0, and when L is a bidentate ligand m = n = p = 2 and q = 0.
3) When M is Pd, the following (i) or (ii) is preferable.
(I) X is Cl, Br or I, when L is a monodentate ligand, m = 1, n = 2, p = 2, q = 0, and L is a bidentate ligand M = n = 1, p = 2, and q = 0.
(Ii) X is an allyl group, m = p = 2, n = 4, q = 0 when L is a monodentate ligand, and m = n when L is a bidentate ligand. = P = 2, q = 0.
4) When M is Ni, X is Cl, Br or I. When L is a monodentate ligand, m = 1, n = 2, p = 2, q = 0, and L is bidentate. In the case of a ligand, m = n = 1, p = 2, and q = 0.

[2]一般式(4)
[Mmnpq]Zs (4)
1)MがIrあるいはRhのとき、Xは1,5−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンであり、ZはBF4、ClO4、OTf、PF6、SbF6又はBPh4であり、m=n=p=s=1、q=0又はm=s=1、n=2、p=q=0である。
2)MがRuのときには、下記(i)〜(iii)であることが好ましい。
(i)XはCl、Br又はIであり、Yは芳香族化合物、オレフィン化合物等の中性配位子を示し、ZはCl、Br、I、I3又はスルホネートであり、Lが単座配位子の場合にはm=p=s=q=1であり、n=2であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=p=s=q=1である。
(ii)ZがBF4、ClO4、OTf、PF6、SbF6又はBPh4で、Lが単座配位子の場合にはm=1、n=2、p=q=0、s=2であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=1、p=q=0、s=2である。
(iii)Zがアンモニウムイオンで、Lが二座配位子の場合には、m=2、n=2、p=5、q=0である。
3)MがPd及びNiのとき、ZはBF4、ClO4、OTf、PF6、SbF6又はBPh4であり、Lが単座配位子の場合にはm=1、n=2、p=q=0、s=2であり、Lが二座配位子の場合にはm=n=1、p=q=0、s=2である。
[2] General formula (4)
[M m L n X p Y q ] Z s (4)
1) When M is Ir or Rh, X is 1,5-cyclooctadiene or norbornadiene, Z is BF 4 , ClO 4 , OTf, PF 6 , SbF 6 or BPh 4 , and m = n = p = S = 1, q = 0 or m = s = 1, n = 2, p = q = 0.
2) When M is Ru, the following (i) to (iii) are preferable.
(I) X is Cl, Br or I, Y is a neutral ligand such as an aromatic compound or olefin compound, Z is Cl, Br, I, I 3 or sulfonate, and L is monodentate In the case of a ligand, m = p = s = q = 1, n = 2, and when L is a bidentate ligand, m = n = p = s = q = 1.
(Ii) When Z is BF 4 , ClO 4 , OTf, PF 6 , SbF 6 or BPh 4 and L is a monodentate ligand, m = 1, n = 2, p = q = 0, s = 2 When L is a bidentate ligand, m = n = 1, p = q = 0, and s = 2.
(Iii) When Z is an ammonium ion and L is a bidentate ligand, m = 2, n = 2, p = 5, and q = 0.
3) When M is Pd and Ni, Z is BF 4 , ClO 4 , OTf, PF 6 , SbF 6 or BPh 4 , and when L is a monodentate ligand, m = 1, n = 2, p = Q = 0, s = 2, and when L is a bidentate ligand, m = n = 1, p = q = 0, s = 2.

本発明で用いられる上記遷移金属錯体は、公知の方法を用いて製造することができ、例えば、不斉配位子と遷移金属錯体前駆体とを反応させることにより得ることができる。このようにして得られた遷移金属錯体は、必要に応じて例えば、ろ過又は濃縮等の後処理等を行って、若しくは後処理等をした後に単離及び/又は精製して、あるいは後処理や単離、精製等を行わずにそのまま、還元反応に用いることができる。   The said transition metal complex used by this invention can be manufactured using a well-known method, for example, can be obtained by making an asymmetric ligand and a transition metal complex precursor react. The transition metal complex thus obtained is subjected to post-treatment such as filtration or concentration as necessary, or isolated and / or purified after post-treatment or the like, or post-treatment or It can be used in the reduction reaction as it is without isolation and purification.

遷移金属錯体の前駆体としては、例えば一般式(7)
[MXpq]Zs (7)
(式中、M、X、Y、Z、p、q及びsは前記と同意義である。)で表される遷移金属錯体の前駆体等が挙げられる。
As a precursor of the transition metal complex, for example, the general formula (7)
[MX p Y q ] Z s (7)
(Wherein, M, X, Y, Z, p, q and s have the same meanings as described above).

本発明で用いられる上記一般式(7)で表される遷移金属錯体の前駆体の具体例としては、上記一般式(7)におけるMで示される遷移金属がルテニウム、ロジウム及びイリジウムである場合を例示すると、例えば、[RuCl2(benzene)]2、[RuBr2(benzene)]2、[RuI2(benzene)]2、[RuCl2(p-cymene)]2、[RuBr2(p-cymene)]2、[RuI2(p-cymene)]2、RuCl2(hexamethylbenzene)]2、[RuBr2(hexamethylbenzene)]2、[RuI2(hexamethylbenzene)]2、[RuCl2(mesitylene)]2、[RuBr2(mesitylene)]2、[RuI2(mesitylene)]2、[RuCl2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[RuBr2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[RuI2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[RuCl2(cod)]n、[RuBr2(cod)]n、[RuI2(cod)]n、[RuCl2(nbd)]n、[RuBr2(nbd)]n、[RuI2(nbd)]n、RuCl3水和物、RuBr3水和物、RuI3水和物、[RhCl2(cyclopentadiene)]2、[RhBr2(cyclopentadiene)]2、[RhI2(cyclopentadiene)]2、[RhCl2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[RhBr2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[RhI2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[RhCl2(cod)]n、[RhBr2(cod)]n、[RhI2(cod)]n、[RhCl2(nbd)]n、[RhBr2(nbd)]n、[RhI2(nbd)]n、[Rh(cod)2]SbF6、RhCl3水和物、RhBr3水和物、RhI3水和物、[IrCl2(cyclopentadiene)]2、[IrBr2(cyclopentadiene)]2、[IrI2(cyclopentadiene)]2、[IrCl2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[IrBr2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[IrI2(pentamethylcyclopentadiene)]2、[IrCl2(cod)]n、[IrBr2(cod)]n、[IrI2(cod)]n、[IrCl2(nbd)]n、[IrBr2(nbd)]n、[IrI2(nbd)]n、IrCl3水和物、IrBr3水和物又はIrI3水和物等が挙げられる。尚、上記式中、nは正数を示す。 Specific examples of the precursor of the transition metal complex represented by the general formula (7) used in the present invention include a case where the transition metal represented by M in the general formula (7) is ruthenium, rhodium, and iridium. For example, [RuCl 2 (benzene)] 2 , [RuBr 2 (benzene)] 2 , [RuI 2 (benzene)] 2 , [RuCl 2 (p-cymene)] 2 , [RuBr 2 (p-cymene) )] 2 , [RuI 2 (p-cymene)] 2 , RuCl 2 (hexamethylbenzene)] 2 , [RuBr 2 (hexamethylbenzene)] 2 , [RuI 2 (hexamethylbenzene)] 2 , [RuCl 2 (mesitylene)] 2 , [RuBr 2 (mesitylene)] 2 , [RuI 2 (mesitylene)] 2, [RuCl 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2, [RuBr 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2, [RuI 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2, [RuCl 2 (co )] N, [RuBr 2 ( cod)] n, [RuI 2 (cod)] n, [RuCl 2 (nbd)] n, [RuBr 2 (nbd)] n, [RuI 2 (nbd)] n, RuCl trihydrate, RuBr 3 hydrate, RuI 3 hydrate, [RhCl 2 (cyclopentadiene)] 2, [RhBr 2 (cyclopentadiene)] 2, [RhI 2 (cyclopentadiene)] 2, [RhCl 2 (pentamethylcyclopentadiene) ] 2 , [RhBr 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2 , [RhI 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2 , [RhCl 2 (cod)] n , [RhBr 2 (cod)] n , [RhI 2 (cod)] n , [RhCl 2 (nbd)] n , [RhBr 2 (nbd)] n , [RhI 2 (nbd)] n , [Rh (cod) 2 ] SbF 6 , RhCl 3 hydrate, RhBr 3 hydrate, RhI 3 water Japanese, [IrCl 2 (cyclo pentadiene)] 2 , [IrBr 2 (cyclopentadiene)] 2 , [IrI 2 (cyclopentadiene)] 2 , [IrCl 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2 , [IrBr 2 (pentamethylcyclopentadiene)] 2 , [IrI 2 (pentamethylcyclopentadiene) 2 [IrCl 2 (cod)] n , [IrBr 2 (cod)] n , [IrI 2 (cod)] n , [IrCl 2 (nbd)] n , [IrBr 2 (nbd)] n , [IrI 2 (nbd )] N , IrCl 3 hydrate, IrBr 3 hydrate or IrI 3 hydrate. In the above formula, n represents a positive number.

以下に、本発明で用いられる遷移金属錯体の製造方法を具体的に説明する。
尚、以下に示す遷移金属錯体の式中で使用されている記号は、それぞれ、Lは不斉配位子を、codは1,5−シクロオクタジエンを、nbdはノルボルナジエンを、Tfはトリフラート基(SO2CF3)を、Phはフェニル基を、Acはアセチル基を夫々示す。また、具体例としては煩雑さを避けるために不斉配位子として二座配位子を用いたものを挙げる。
Below, the manufacturing method of the transition metal complex used by this invention is demonstrated concretely.
The symbols used in the following transition metal complex formulas are: L is an asymmetric ligand, cod is 1,5-cyclooctadiene, nbd is norbornadiene, and Tf is a triflate group. (SO 2 CF 3 ), Ph represents a phenyl group, and Ac represents an acetyl group. Specific examples include those using a bidentate ligand as an asymmetric ligand in order to avoid complexity.

ロジウム錯体:
ロジウム錯体は、日本化学会編「第4版 実験化学講座」、第18巻、有機金属錯体、339−344頁、1991年(丸善)等に記載の方法に従って製造することができる。具体的には、ビス(シクロオクタ−1,5−ジエン)ロジウム(I) テトラフルオロホウ酸塩と不斉配位子とを反応させることにより得ることができる。
ロジウム錯体の具体例としては、例えば以下のものを挙げることができる。
[Rh(L)Cl]2、[Rh(L)Br]2、[Rh(L)I]2、[Rh(cod)(L)]BF4、[Rh(cod)(L)]ClO4、[Rh(cod)(L)]PF6、[Rh(cod)(L)]BPh4、[Rh(cod)(L)]OTf、[Rh(nbd)(L)]BF4、[Rh(nbd)(L)]ClO4、[Rh(nbd)(L)]PF6、[Rh(nbd)(L)]BPh4、[Rh(nbd)(L)]OTf、[Rh(L)2]ClO4、[Rh(L)2]PF6、[Rh(L)2]OTf、[Rh(L)2]BF4
Rhodium complex:
The rhodium complex can be produced according to the method described in “Chemical Course of 4th edition” edited by The Chemical Society of Japan, Vol. 18, Organometallic Complex, 339-344, 1991 (Maruzen). Specifically, it can be obtained by reacting bis (cycloocta-1,5-diene) rhodium (I) tetrafluoroborate with an asymmetric ligand.
Specific examples of the rhodium complex include the following.
[Rh (L) Cl] 2 , [Rh (L) Br] 2, [Rh (L) I] 2, [Rh (cod) (L)] BF 4, [Rh (cod) (L)] ClO 4 , [Rh (cod) (L)] PF 6 , [Rh (cod) (L)] BPh 4 , [Rh (cod) (L)] OTf, [Rh (nbd) (L)] BF 4 , [Rh (Nbd) (L)] ClO 4 , [Rh (nbd) (L)] PF 6 , [Rh (nbd) (L)] BPh 4 , [Rh (nbd) (L)] OTf, [Rh (L) 2 ] ClO 4 , [Rh (L) 2 ] PF 6 , [Rh (L) 2 ] OTf, [Rh (L) 2 ] BF 4

ルテニウム錯体:
ルテニウム錯体は、T.Ikariyaら, J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1985,922等に記載の方法に従って得ることができる。具体的には、[Ru(cod)Cl2nと不斉配位子とをトリエチルアミンの存在下、トルエン溶媒中で加熱還流することにより製造することができる。
Ruthenium complex:
Ruthenium complexes are described in T.W. Ikariya et al. Chem. Soc. , Chem. Commun. , 1985, 922 and the like. Specifically, it can be produced by heating and refluxing [Ru (cod) Cl 2 ] n and an asymmetric ligand in a toluene solvent in the presence of triethylamine.

また、K.Mashimaら, J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1989,1208に記載の方法によってもルテニウム錯体を得ることができる。具体的には、[Ru(p−cymene)I22と不斉配位子とを塩化メチレン及びエタノール中で加熱撹拌することにより得ることができる。ルテニウム錯体の具体例としては、例えば以下のものを挙げることができる。
Ru(OAc)2(L)、Ru2Cl4(L)2NEt3、[RuCl(benzene)(L)]Cl、[RuBr(benzene)(L)]Br、[RuI(benzene)(L)]I、[RuCl(p−cymene)(L)]Cl、[RuBr(p−cymene)(L)]Br、[RuI(p−cymene)(L)]I、[Ru(L)](BF4)2、[Ru(L)](ClO4)2、[Ru(L)](PF6)2、[Ru(L)](BPh4)2、[Ru(L)](OTf)2、Ru(OCOCF3)2(L)、[{RuCl(L)2}(μ−Cl)3][Me2NH2]、[{RuCl(L)}2(μ−Cl)3][Et2NH2]、[{RuBr(L)2}(μ−Cl)3][Me2NH2]、[{RuBr(L)2}(μ−Cl)3][Et2NH2]、RuCl2(L)、RuBr2(L)、RuI2(L)、RuCl2(L)(diamine)、RuBr2(L)(diamine)、RuI2(L)(diamine)、[{RuI(L)}2(μ−I)3][Me2NH2]、[{RuI(L)}2(μ−I)3][Et2NH2]、RuCl2(L)(pyridine)、RuBr2(L)(pyridine)、RuI2(L)(pyridine)
K.K. Masima et al., J. MoI. Chem. Soc. , Chem. Commun. , 1989, 1208, the ruthenium complex can also be obtained. Specifically, it can be obtained by heating and stirring [Ru (p-cymene) I 2 ] 2 and an asymmetric ligand in methylene chloride and ethanol. Specific examples of the ruthenium complex include the following.
Ru (OAc) 2 (L), Ru 2 Cl 4 (L) 2 NEt 3 , [RuCl (benzone) (L)] Cl, [RuBr (benzone) (L)] Br, [RuI (benzene) (L) ] I, [RuCl (p-cymene) (L)] Cl, [RuBr (p-cymene) (L)] Br, [RuI (p-cymene) (L)] I, [Ru (L)] (BF 4) 2, [Ru (L )] (ClO 4) 2, [Ru (L)] (PF 6) 2, [Ru (L)] (BPh 4) 2, [Ru (L)] (OTf) 2 , Ru (OCOCF 3 ) 2 (L), [{RuCl (L) 2 } (μ-Cl) 3 ] [Me 2 NH 2 ], [{RuCl (L)} 2 (μ-Cl) 3 ] [Et 2 NH 2], [{RuBr (L) 2} (μ-Cl) 3] [Me 2 NH 2], [{RuBr (L) 2} (μ-Cl) 3] [ t 2 NH 2], RuCl 2 (L), RuBr 2 (L), RuI 2 (L), RuCl 2 (L) (diamine), RuBr 2 (L) (diamine), RuI 2 (L) (diamine) , [{RuI (L)} 2 (μ-I) 3 ] [Me 2 NH 2 ], [{RuI (L)} 2 (μ-I) 3 ] [Et 2 NH 2 ], RuCl 2 (L) (Pyridine), RuBr 2 (L) (pyridine), RuI 2 (L) (pyridine)

イリジウム錯体:
イリジウム錯体は、K.Mashimaら,J.Organomet.Chem.,1992,428,213等に記載の方法に従って得ることができる。具体的には、不斉配位子と[Ir(cod)(CH3CN)2]BF4とを、テトラヒドロフラン中で撹拌反応させることにより得ることができる。
イリジウム錯体の具体例としては、例えば以下のものを挙げることができる。
[Ir(L)Cl]2、[Ir(L)Br]2、[Ir(L)I]2、[Ir(cod)(L)]BF4、[Ir(cod)(L)]ClO4、[Ir(cod)(L)]PF6、[Ir(cod)(L)]BPh4、[Ir(cod)(L)]OTf、[Ir(nbd)(L)]BF4、[Ir(nbd)(L)]ClO4、[Ir(nbd)(L)]PF6、[Ir(nbd)(L)]BPh4、[Ir(nbd)(L)]OTf
Iridium complex:
Iridium complexes are described in K.K. Masima et al., J. MoI. Organomet. Chem. , 1992, 428, 213 and the like. Specifically, the asymmetric ligand and [Ir (cod) (CH 3 CN) 2 ] BF 4 can be obtained by stirring and reacting in tetrahydrofuran.
Specific examples of the iridium complex include the following.
[Ir (L) Cl] 2 , [Ir (L) Br] 2, [Ir (L) I] 2, [Ir (cod) (L)] BF 4, [Ir (cod) (L)] ClO 4 , [Ir (cod) (L)] PF 6 , [Ir (cod) (L)] BPh 4 , [Ir (cod) (L)] OTf, [Ir (nbd) (L)] BF 4 , [Ir (Nbd) (L)] ClO 4 , [Ir (nbd) (L)] PF 6 , [Ir (nbd) (L)] BPh 4 , [Ir (nbd) (L)] OTf

パラジウム錯体:
パラジウム錯体は、Y.Uozumiら, J.Am.Chem.Soc.,1991,9887等に記載の方法に従って得ることができる。具体的には、不斉配位子とπ−アリルパラジウムクロリドとを反応させることにより得ることができる。
パラジウム錯体の具体例としては、例えば以下のものを挙げることができる。
PdCl2(L)、(π−allyl)Pd(L)、[(Pd(L)]BF4、[(Pd(L)]ClO4、[(Pd(L)]PF6、[(Pd(L)]BPh4、[(Pd(L)]OTf
Palladium complex:
Palladium complexes are described in Y.W. Uozumi et al. Am. Chem. Soc. , 1991, 9887 and the like. Specifically, it can be obtained by reacting an asymmetric ligand with π-allyl palladium chloride.
Specific examples of the palladium complex include the following.
PdCl 2 (L), (π-allyl) Pd (L), [(Pd (L)] BF 4 , [(Pd (L)] ClO 4 , [(Pd (L)) PF 6 , [(Pd ( L)] BPh 4 , [(Pd (L)] OTf

ニッケル錯体:
ニッケル錯体は、日本化学会編「第4版 実験化学講座」第18巻、有機金属錯体、376頁、1991年(丸善)等に記載の方法により得ることができる。また、不斉配位子と塩化ニッケルとを、2−プロパノールとメタノールの混合溶媒に溶解し、加熱撹拌することによっても得ることができる。
ニッケル錯体の具体例としては、例えば以下のものを挙げることができる。
NiCl2(L)、NiBr2(L)、NiI2(L)
Nickel complex:
The nickel complex can be obtained by the method described in the Chemical Society of Japan, “Fourth Edition, Experimental Chemistry Course,” Volume 18, Organometallic Complex, page 376, 1991 (Maruzen). It can also be obtained by dissolving the asymmetric ligand and nickel chloride in a mixed solvent of 2-propanol and methanol and stirring with heating.
Specific examples of the nickel complex include the following.
NiCl 2 (L), NiBr 2 (L), NiI 2 (L)

本発明の製造方法に用いる上記遷移金属錯体としては、市販品を用いても、公知の方法で製造したものを用いてもよい。
また、本発明で用いられる遷移金属錯体は、不斉配位子と遷移金属錯体の前駆体とを混合し、単離や精製することなくそのまま不斉水素化反応に用いてもよい。これは、所謂in situで行う不斉水素化反応である。
As the transition metal complex used in the production method of the present invention, a commercially available product or a product produced by a known method may be used.
The transition metal complex used in the present invention may be used in an asymmetric hydrogenation reaction as it is without being isolated or purified by mixing an asymmetric ligand and a precursor of the transition metal complex. This is a so-called in situ asymmetric hydrogenation reaction.

不斉触媒の使用量は、用いる4−アミノ−2−オキソブテン酸類、使用する反応容器や反応の形式あるいは経済性等によって異なるが、4−アミノ−2−オキソブテン酸類に対して、モル比で通常約1/10〜1/100,000、好ましくは約1/50〜1/10,000の範囲から適宜選択される。   The amount of the asymmetric catalyst used varies depending on the 4-amino-2-oxobutenoic acids to be used, the reaction vessel used, the type of reaction or economy, but is usually in a molar ratio with respect to the 4-amino-2-oxobutenoic acids. It is appropriately selected from the range of about 1/10 to 1 / 100,000, preferably about 1/50 to 1 / 10,000.

水素ガスの存在下で不斉水素化反応を行う場合において、水素雰囲気下であれば行うことができ、水素ガスの圧力は、約0.1MPaでも十分であるが、経済性等を考慮すると通常約0.1〜20MPa、好ましくは約0.2〜10MPaの範囲から適宜選択される。また、経済性を考慮して約1MPa以下でも高い活性を維持することが可能である。   When the asymmetric hydrogenation reaction is performed in the presence of hydrogen gas, the reaction can be performed under a hydrogen atmosphere, and a hydrogen gas pressure of about 0.1 MPa is sufficient. It is appropriately selected from the range of about 0.1 to 20 MPa, preferably about 0.2 to 10 MPa. In consideration of economy, it is possible to maintain high activity even at about 1 MPa or less.

水素供与性物質の存在下で不斉水素化反応を行う場合において、水素供与性物質としては、有機化合物又は/及び無機化合物が挙げられ、反応系内で、例えば熱的作用や触媒作用によって水素を供与できる化合物であれば何れも使用可能である。   When the asymmetric hydrogenation reaction is performed in the presence of a hydrogen donating substance, examples of the hydrogen donating substance include an organic compound and / or an inorganic compound. In the reaction system, for example, hydrogen is generated by thermal action or catalytic action. Any compound that can donate can be used.

水素供与性物質としては、例えば、ギ酸又はその塩類、ギ酸と塩基との組み合わせ、ヒドロキノン、シクロヘキサジエン、亜リン酸又はアルコール類等が挙げられる。これらの中では、ギ酸又はその塩類、ギ酸と塩基との組み合わせ又はアルコール類等が特に好ましい。   Examples of the hydrogen-donating substance include formic acid or a salt thereof, a combination of formic acid and a base, hydroquinone, cyclohexadiene, phosphorous acid or alcohols. Among these, formic acid or a salt thereof, a combination of formic acid and a base, alcohols, and the like are particularly preferable.

ギ酸又はその塩類におけるギ酸の塩類としては、ギ酸のアルカリ金属塩若しくはアルカリ土類金属塩等のギ酸の金属塩、アンモニウム塩又は置換アミン(例えばトリメチルアミン)塩等が挙げられる。また、ギ酸と塩基との組み合わせとしては、反応系内でギ酸がギ酸の塩の形態となるもの、或いは実質的にギ酸の塩の形態となるものが挙げられる。   Examples of formic acid salts in formic acid or salts thereof include metal salts of formic acid such as alkali metal salts or alkaline earth metal salts of formic acid, ammonium salts, substituted amine (for example, trimethylamine) salts, and the like. Examples of the combination of formic acid and base include those in which formic acid is in the form of a formic acid salt in the reaction system, or those in which the formic acid is substantially in the form of a formic acid salt.

これらギ酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩等のギ酸の金属塩や、アンモニウム塩又は置換アミン塩等を形成する塩基、並びに、ギ酸と塩基との組み合わせにおける塩基としては、アンモニア、無機塩基又は有機塩基等が挙げられる。   These bases that form metal salts of formic acid such as alkali metal salts or alkaline earth metal salts of formic acid, ammonium salts or substituted amine salts, etc., and bases in the combination of formic acid and bases include ammonia, inorganic bases or An organic base etc. are mentioned.

ギ酸と塩を形成するアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム又はセシウム等が挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム又はバリウム等が挙げられる。   Examples of the alkali metal that forms a salt with formic acid include lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium. Examples of the alkaline earth metal include magnesium, calcium, strontium, and barium.

無機塩基としては、例えば、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸マグネシウム若しくは炭酸カルシウム等のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、水素化ナトリウム等の金属水素化物類等が挙げられる。   Examples of the inorganic base include potassium carbonate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, and other alkali metal salts or alkaline earth metal salts, Examples thereof include metal hydrides such as sodium hydride.

有機塩基としては、例えば、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド若しくはカリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム若しくは酢酸カルシウム等のアルカリ金属・アルカリ土類金属の酢酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピペリジン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、トリ−n−ブチルアミン若しくはN−メチルモルホリン等の有機アミン類、臭化メチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウム、臭化プロピルマグネシウム、塩化tert−ブチルマグネシウム、臭化tert−ブチルマグネシウム、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、n−ブチルリチウム若しくはtert−ブチルリチウム等の有機金属化合物類又は4級アンモニウム塩等が挙げられる。   Examples of the organic base include alkali metal alkoxides such as potassium methoxide, sodium methoxide, lithium methoxide, sodium ethoxide, potassium isopropoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide and potassium tert-butoxide, sodium acetate , Alkali metal / alkaline earth metal acetates such as potassium acetate, magnesium acetate or calcium acetate, triethylamine, diisopropylethylamine, N, N-dimethylaniline, piperidine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo [ 4.3.0] Non-5-ene, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, tri-n-butylamine or N-methylmorpholine , Methyl magnesium bromide, ethyl magnesium bromide, propyl magnesium bromide, tert-butyl magnesium chloride, tert-butyl magnesium bromide, methyl lithium, ethyl lithium, propyl lithium, n-butyl lithium, tert-butyl lithium, etc. Organic metal compounds or quaternary ammonium salts.

水素供与性物質としてのアルコール類としては、水素原子をα位に有する低級アルコール類が好ましく、具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール又はsec−ブタノール等が挙げられ、中でもイソプロパノールが好ましい。   As the alcohol as a hydrogen-donating substance, lower alcohols having a hydrogen atom at the α-position are preferable, and specific examples include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol and the like. Among them, isopropanol is preferable.

水素供与性物質の使用量は、4−アミノ−2−オキソブテン酸類に対して通常約0.1〜100当量、好ましくは約0.5〜20当量の範囲から適宜選択される。   The amount of the hydrogen-donating substance to be used is appropriately selected from the range of usually about 0.1 to 100 equivalents, preferably about 0.5 to 20 equivalents, relative to 4-amino-2-oxobutenoic acids.

不斉水素化反応は、必要に応じて溶媒中で行うことができる。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン若しくはキシレン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン若しくはオクタン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素若しくはジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくはジオキソラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール若しくはベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール若しくはグリセリン等の多価アルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル若しくはプロピオン酸メチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド若しくはN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトニトリル等の含シアノ有機化合物類、N−メチルピロリドン又は水等が挙げられる。これら溶媒は、夫々単独で用いても、2種以上適宜組み合わせて用いてもよい。   The asymmetric hydrogenation reaction can be performed in a solvent as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane and octane, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride and dichloroethane. , Diethyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane and other ethers, methanol, ethanol, 2-propanol, n-butanol, 2-butanol, tert-butanol or Alcohols such as benzyl alcohol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol or glycerin, vinegar Esters such as methyl, ethyl acetate, n-butyl acetate or methyl propionate, amides such as N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, cyano-containing organic compounds such as acetonitrile , N-methylpyrrolidone or water. These solvents may be used alone or in appropriate combination of two or more.

溶媒の使用量は、用いる反応基質である4−アミノ−2−オキソブテン酸類の溶解度や経済性により判断される。例えば溶媒としてアルコール類を用いた場合には、用いる反応基質である4−アミノ−2−オキソブテン酸類によっては約1%以下の低濃度から無溶媒あるいは無溶媒に近い状態で不斉水素化反応を行うことができる。溶媒の使用量は、反応基質濃度が使用する溶媒に対して、通常約5〜50質量%、好ましくは約10〜40質量%の範囲となるように適宜選択すればよい。   The amount of the solvent used is determined by the solubility and economics of 4-amino-2-oxobutenoic acids, which are reaction substrates used. For example, when an alcohol is used as a solvent, depending on the reaction substrate used, 4-amino-2-oxobutenoic acid, an asymmetric hydrogenation reaction can be performed in a solvent-free or solvent-free state from a low concentration of about 1% or less. It can be carried out. What is necessary is just to select the usage-amount of a solvent suitably so that it may become normally about 5-50 mass% with respect to the solvent to be used, and about 10-40 mass% with respect to the solvent to use.

反応温度は、用いる不斉触媒の種類や使用量等により異なるが、経済性等を考慮して、通常約15〜100℃、好ましくは約20〜80℃の範囲から適宜選択される。また、反応温度は、約−30〜0℃の低温でも、あるいは約100〜250℃の高温でも反応を実施することができる。   The reaction temperature varies depending on the type and amount of the asymmetric catalyst used, but is suitably selected from the range of usually about 15 to 100 ° C., preferably about 20 to 80 ° C. in consideration of economy and the like. The reaction can be carried out even at a low temperature of about -30 to 0 ° C or a high temperature of about 100 to 250 ° C.

反応時間は、用いる不斉触媒の種類や使用量、用いる一般式(5)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸類の種類や濃度、反応温度、水素の圧力等の反応条件等により異なるが、数分から数時間の間で反応は完結するが、通常約1分〜48時間、好ましくは約10分〜24時間の範囲から適宜選択される。   The reaction time varies depending on the type and amount of the asymmetric catalyst used, the type and concentration of the 4-amino-2-oxobutenoic acid represented by the general formula (5) used, the reaction temperature, the reaction conditions such as the hydrogen pressure, and the like. However, the reaction is completed within a few minutes to a few hours, but it is usually selected from the range of about 1 minute to 48 hours, preferably about 10 minutes to 24 hours.

不斉水素化反応は、反応形式がバッチ式においても連続式においても実施することができる。また、フラスコや反応釜、オートクレーブ等、この分野で用いられる反応容器中で行うことができる。   The asymmetric hydrogenation reaction can be carried out regardless of whether the reaction mode is batch or continuous. Moreover, it can carry out in reaction containers used in this field, such as a flask, a reaction kettle, and an autoclave.

不斉水素化反応は、必要に応じて添加剤の存在下で行うことができる。添加剤としては、例えば酸、含フッ素アルコール、塩基、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はハロゲン等が挙げられる。   The asymmetric hydrogenation reaction can be performed in the presence of an additive as necessary. Examples of the additive include an acid, a fluorine-containing alcohol, a base, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt, and a halogen.

酸としては、例えば無機酸、有機酸又はルイス酸等が挙げられる。
無機酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、テトラフルオロホウ酸、過塩素酸又は過ヨウ素酸等挙げられる。
Examples of the acid include inorganic acids, organic acids, Lewis acids, and the like.
Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, and periodic acid.

有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、吉草酸、ヘキサン酸、クエン酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、サリチル酸、シュウ酸、コハク酸、マロン酸、フタル酸、酒石酸、リンゴ酸若しくはグリコール酸等のカルボン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸又はトリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられる。   Examples of organic acids include formic acid, acetic acid, valeric acid, hexanoic acid, citric acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, benzoic acid, salicylic acid, oxalic acid, succinic acid, malonic acid, phthalic acid, Examples thereof include carboxylic acids such as tartaric acid, malic acid and glycolic acid, and sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid.

ルイス酸としては、例えば、塩化アルミニウム若しくは臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、臭化ジエチルアルミニウム若しくは塩化ジイソプロピルアルミニウム等のハロゲン化ジアルキルアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム若しくはトリ−tert−ブトキシアルミニウム等のトリアルコキシアルミニウム、四塩化チタン等のハロゲン化チタン、テトライソプロポキシチタン等のテトラアルコキシチタン、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素若しくは三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等のハロゲン化ホウ素又は塩化亜鉛若しくは臭化亜鉛等のハロゲン化亜鉛等が挙げられる。   Examples of Lewis acids include aluminum halides such as aluminum chloride or aluminum bromide, dialkylaluminum halides such as diethylaluminum chloride, diethylaluminum bromide or diisopropylaluminum chloride, triethoxyaluminum, triisopropoxyaluminum or tri-tert. -Trialkoxyaluminum such as butoxyaluminum, titanium halide such as titanium tetrachloride, tetraalkoxytitanium such as tetraisopropoxytitanium, boron trifluoride, boron trichloride, boron tribromide or boron trifluoride diethyl ether complex And boron halides such as zinc chloride or zinc bromide.

これら酸は、夫々単独で用いても、2種以上適宜組み合わせて用いてもよい。
酸の使用量は、不飽和化合物に対して通常約0.0001〜100当量、好ましくは約0.001〜10当量の範囲から適宜選択される。
These acids may be used alone or in appropriate combination of two or more.
The amount of the acid used is appropriately selected from the range of usually about 0.0001 to 100 equivalents, preferably about 0.001 to 10 equivalents, relative to the unsaturated compound.

含フッ素アルコールとしては、含フッ素脂肪族アルコールが好ましい。含フッ素脂肪族アルコールの具体例としては、例えば炭素数2〜10の飽和又は不飽和の含フッ素脂肪族アルコールが挙げられる。含フッ素脂肪族アルコールの具体例としては、例えば、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2−ジフルオロエタノール、3,3,3−トリフルオロプロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノール、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタノール、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンタノール、5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサノール、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキサノール又は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール等が挙げられる。これら含フッ素脂肪族アルコールは、夫々単独で用いても、2種以上適宜組み合わせて用いてもよい。   As the fluorinated alcohol, a fluorinated aliphatic alcohol is preferred. Specific examples of the fluorinated aliphatic alcohol include saturated or unsaturated fluorinated aliphatic alcohols having 2 to 10 carbon atoms. Specific examples of the fluorine-containing aliphatic alcohol include, for example, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2-difluoroethanol, 3,3,3-trifluoropropanol, 2,2,3,3,3- Pentafluoropropanol, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 3,3,4,4,4-pentafluorobutanol, 4,4,5,5,5-pentafluoropentanol, 5,5,6 , 6,6-pentafluorohexanol, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexanol or 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol Is mentioned. These fluorine-containing aliphatic alcohols may be used alone or in appropriate combination of two or more.

含フッ素アルコールの使用量は、不飽和化合物に対して通常約0.01〜100当量、好ましくは約0.1〜10当量の範囲から適宜選択される。   The amount of the fluorinated alcohol used is appropriately selected from the range of usually about 0.01 to 100 equivalents, preferably about 0.1 to 10 equivalents, relative to the unsaturated compound.

塩基としては、無機塩基又は有機塩基等が挙げられる。無機塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム若しくは水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム若しくは炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム若しくは炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム若しくは水素化カリウム等の金属水素化物類又はアンモニア等が挙げられる。有機塩基としては、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウム−t−ブトキシド、カリウムナフタレニド、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチウムジフェニルホスフィド、ナトリウムジフェニルホスフィド若しくはカリウムジフェニルホスフィド等のアルカリ金属・アルカリ土類金属の塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピペリジン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、トリ−n−ブチルアミン若しくはN−メチルモルホリン等の有機アミン類、メチルリチウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、フェニルリチウム、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、n−プロピルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムクロリド、n−ブチルマグネシウムクロリド、s−ブチルマグネシウムクロリド、t−ブチルマグネシウムクロリド、フェニルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、n−プロピルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、n−ブチルマグネシウムブロミド、s−ブチルマグネシウムブロミド、t−ブチルマグネシウムブロミド若しくはフェニルマグネシウムブロミド等の有機金属化合物類又は上記不斉配位子として例示したジアミン化合物の光学活性体(光学活性ジアミン化合物)及びラセミ体等が挙げられる。   Examples of the base include inorganic bases and organic bases. Examples of inorganic bases include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide, metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, magnesium carbonate or calcium carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate, etc. Metal hydrogen carbonates, metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride, or ammonia. Examples of the organic base include lithium methoxide, lithium ethoxide, lithium tert-butoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert-butoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, potassium tert-butoxide, potassium naphthalene. Sodium acetate, potassium acetate, magnesium acetate, calcium acetate, lithium diethylamide, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, sodium bis (trimethylsilyl) amide, potassium bis (trimethylsilyl) amide, lithium diphenylphosphide, sodium diphenylphosphine Alkali metal / alkaline earth metal salts such as fido or potassium diphenylphosphide, triethylamine, diisopropylethylamine, N, N-di Tyraniline, piperidine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, tri- organic amines such as n-butylamine or N-methylmorpholine, methyllithium, ethyllithium, n-propyllithium, isopropyllithium, n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, phenyllithium, methylmagnesium chloride, Ethylmagnesium chloride, n-propylmagnesium chloride, isopropylmagnesium chloride, n-butylmagnesium chloride, s-butylmagnesium chloride, t-butylmagnesium chloride, phenylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide Organometallic compounds such as amide, ethylmagnesium bromide, n-propylmagnesium bromide, isopropylmagnesium bromide, n-butylmagnesium bromide, s-butylmagnesium bromide, t-butylmagnesium bromide or phenylmagnesium bromide or the above asymmetric ligands Examples of the optically active substance (optically active diamine compound) and racemic body of the diamine compound exemplified above.

塩基の使用量は、不飽和化合物に対して、通常約0〜100当量、好ましくは約0〜10当量の範囲から適宜選択される。   The amount of the base used is appropriately selected from the range of usually about 0 to 100 equivalents, preferably about 0 to 10 equivalents, relative to the unsaturated compound.

四級アンモニウム塩としては、例えば炭素数4〜24の四級アンモニウム塩が挙げられる。四級アンモニウム塩の具体例としては、テトラブチルアンモニウムフロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド又はテトラブチルアンモニウムトリフェニルジフルオロシリケート等が挙げられる。   Examples of the quaternary ammonium salt include quaternary ammonium salts having 4 to 24 carbon atoms. Specific examples of the quaternary ammonium salt include tetrabutylammonium fluoride, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, triethylbenzylammonium chloride or tetrabutylammonium triphenyldifluorosilicate.

四級アンモニウム塩の使用量は、不斉触媒に対して、通常約0〜100当量、好ましくは約0〜10当量の範囲から適宜選択される。   The amount of the quaternary ammonium salt used is appropriately selected from the range of usually about 0 to 100 equivalents, preferably about 0 to 10 equivalents, relative to the asymmetric catalyst.

四級ホスホニウム塩としては、例えば炭素数4〜36の四級ホスホニウム塩が挙げられる。四級ホスホニウム塩の具体例としては、テトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムヨージド、メチルトリフェニルホスホニウムクロリド、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド又はメチルトリフェニルホスホニウムヨージド等が挙げられる。   Examples of the quaternary phosphonium salt include quaternary phosphonium salts having 4 to 36 carbon atoms. Specific examples of the quaternary phosphonium salt include tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium iodide, methyltriphenylphosphonium chloride, methyltriphenylphosphonium bromide, and methyltriphenylphosphonium iodide.

四級ホスホニウム塩の使用量は、不斉触媒に対して、通常約0〜100当量、好ましくは約0〜10当量の範囲から適宜選択される。   The amount of the quaternary phosphonium salt to be used is appropriately selected from the range of usually about 0 to 100 equivalents, preferably about 0 to 10 equivalents, relative to the asymmetric catalyst.

ハロゲンとしては、臭素又はヨウ素等が挙げられる。
ハロゲンの使用量は、不飽和化合物に対して、通常約0〜100当量、好ましくは約0〜10当量の範囲から適宜選択される。
Examples of the halogen include bromine and iodine.
The amount of halogen used is appropriately selected from the range of usually about 0 to 100 equivalents, preferably about 0 to 10 equivalents, relative to the unsaturated compound.

上記添加剤は、夫々単独で用いても、2種以上適宜併用してもよい。
尚、本発明の還元反応により、窒素原子に結合している基、例えば、アミノ基の保護基が脱保護した場合には、必要に応じて還元反応終了後の系内や後処理後に、該アミノ基に同様の基や異なる基を導入すればよい。
The above additives may be used alone or in combination of two or more as appropriate.
In addition, when a group bonded to a nitrogen atom, for example, a protecting group of an amino group is deprotected by the reduction reaction of the present invention, the system may be used in the system after completion of the reduction reaction or after the post treatment, if necessary. A similar group or a different group may be introduced into the amino group.

得られた4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩、特に光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩は、必要に応じて後処理等を行って精製してもよい。後処理の具体的な方法としては、自体公知の手段、例えば、溶媒抽出、塩析、晶析、再結晶、各種クロマトグラフィー等が挙げられる。   The obtained 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof, particularly optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof, may be purified by post-treatment or the like, if necessary. Specific methods for the post-treatment include means known per se, such as solvent extraction, salting out, crystallization, recrystallization, various types of chromatography and the like.

また、上記のようにして得られた光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類を必要に応じて種々の操作を行って該光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の光学純度を向上させてもよく、それにより、更に4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の光学純度及び/又は化学純度を向上させることもできる。   In addition, the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid obtained as described above is subjected to various operations as necessary to obtain an optical purity of the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof. Thus, the optical purity and / or chemical purity of 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof can be further improved.

種々の操作としては、晶析、光学分割剤や微生物を用いる光学分割等が挙げられる。
晶析は、この分野において行われる通常の方法によって行えばよい。これらの操作を行う際に、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩として光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の塩を用いる場合には、必要に応じて形成する塩を脱塩して、フリーの光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類として行ってもよい。
Examples of various operations include crystallization, optical resolution using an optical resolution agent and microorganisms, and the like.
Crystallization may be performed by a conventional method performed in this field. When performing these operations, when an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid salt or a salt thereof is used as the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid salt, a salt formed as necessary is used. Desalting may be performed as free optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids.

晶析を行う場合に用いる溶媒としては、得られた光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶解する溶媒であればよく、例えば、ベンゼン、トルエン若しくはキシレン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン若しくはオクタン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素若しくはジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくはジオキソラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール若しくはベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール若しくはグリセリン等の多価アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン若しくはシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル若しくはプロピオン酸メチル等のエステル類、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド若しくはN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトニトリル等の含シアノ有機化合物類、N−メチルピロリドン又は水等が挙げられる。これら溶媒は、夫々単独で用いても、2種以上適宜組み合わせて用いてもよい。これら溶媒の中でも、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アルコール類又は水が好ましい。   The solvent used for crystallization may be any solvent that dissolves the obtained optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof, for example, an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene. , Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane or octane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride or dichloroethane, diethyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran , Ethers such as dioxane or dioxolane, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, n-butanol, 2-butanol, tert-butanol or benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene Recall, polyhydric alcohols such as 1,2-propanediol or glycerin, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone or cyclohexanone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate or methyl propionate, Examples include amides such as formamide, N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, cyano-containing organic compounds such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, water, and the like. These solvents may be used alone or in appropriate combination of two or more. Among these solvents, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alcohols or water are preferable.

晶析に用いる溶媒の使用量は、用いる溶媒の種類や光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の種類等により異なるため特に限定されないが、使用する溶媒の少なくとも沸点以下で光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶解する量を使用すればよく、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩が溶解させる温度において飽和溶液となるのに相当する量の1〜1.5倍量、好ましくは1〜1.2倍量、より好ましくは1〜1.1倍量の範囲から適宜選択される。尚、溶媒の使用量はできるだけ少ない方が好ましい。
晶析の温度、即ち、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒に溶解する温度は、用いる溶媒の種類や光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の種類等により異なるため特に限定されないが、使用する溶媒の沸点以下で設定すればよい。また、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒に溶解した後、必要に応じて溶媒を冷却してもよい。冷却は、一定の速度で行っても、連続的に変化させても、或いは段階的に変化させて行ってもよい。
晶析は、必要に応じて種晶を添加して行ってもよい。
種晶は、通常晶出させる光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の一方の光学活性体を用いることが好ましく、実質的に100%eeの光学純度の光学活性体を用いることが好ましい。
尚、晶析の際に種晶を添加する場合には、その添加する時期は特に限定されないが、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒に溶解した後でも、冷却操作を行う際には、冷却中でも冷却後でも何れにてもよい。
種晶を添加する量は、用いる溶媒の種類や光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の種類等により異なるため特に限定されないが、ほんの少量でよく、溶媒に溶解する光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩に対して0.00001質量%以上、好ましくは0.00001〜0.2質量%、より好ましくは0.0001〜0.1質量%の範囲から適宜選択される。
The amount of solvent used for crystallization is not particularly limited because it varies depending on the type of solvent used and the type of optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt, but is optically active at least below the boiling point of the solvent used. What is necessary is just to use the quantity which melt | dissolves 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt, and the quantity corresponded to become a saturated solution at the temperature which optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt dissolves. 1 to 1.5 times the amount, preferably 1 to 1.2 times the amount, more preferably 1 to 1.1 times the range. It should be noted that the amount of solvent used is preferably as small as possible.
The crystallization temperature, that is, the temperature at which the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt is dissolved in the solvent is determined depending on the type of solvent used or the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt. Although it is not particularly limited because it differs depending on the etc., it may be set below the boiling point of the solvent used. Moreover, after dissolving optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt in a solvent, you may cool a solvent as needed. Cooling may be performed at a constant speed, continuously changed, or changed stepwise.
Crystallization may be performed by adding seed crystals as necessary.
As the seed crystal, it is preferable to use an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof that is usually crystallized, and an optically active substance having an optical purity of substantially 100% ee is used. Is preferred.
When seed crystals are added during crystallization, the timing of addition is not particularly limited, but the cooling operation is performed even after optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof is dissolved in a solvent. When performing, it may be either during cooling or after cooling.
The amount of seed crystals to be added is not particularly limited because it varies depending on the type of solvent used and the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or its salt, but it may be only a small amount and is optically active 4 that dissolves in the solvent. -Amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof is suitably selected from the range of 0.00001% by mass or more, preferably 0.00001-0.2% by mass, more preferably 0.0001-0.1% by mass. Is done.

ここで、「光学純度を向上」とは、上記した製造方法により得られる晶析前の光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の光学純度に比べてより高い光学純度(高光学純度という。)にすることをいい、実質的に100%eeの光学純度とすることとも言い得る。尚、「実質的に100%ee」とは、一方の鏡像体に対して他方の鏡像体が殆ど検出されないような光学純度をいう。本発明においては、このような「実質的に100%ee」をより具体的に示すと、90%ee以上、好ましくは95%ee以上、より好ましくは96%ee以上の光学純度をいう。高光学純度は、例えば水酸基の結合している炭素の光学純度を本発明の光学純度とするのが好ましいが、一般式(1)で示されるR又はRが水素でない場合に、R又はR3が結合している炭素における光学純度も本発明における光学純度の決定のために前記した水酸基の結合している炭素の光学純度と合わせて、一般式(1)で示される化合物の光学純度を決定するのがより好ましい。 Here, “improvement of optical purity” means higher optical purity (high optical purity) than the optical purity of optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids before crystallization obtained by the above-described production method. It can be said that the optical purity is substantially 100% ee. Note that “substantially 100% ee” means an optical purity such that the other mirror body is hardly detected with respect to one mirror body. In the present invention, when “substantially 100% ee” is specifically shown, it means an optical purity of 90% ee or higher, preferably 95% ee or higher, more preferably 96% ee or higher. The high optical purity is preferably the optical purity of the present invention, for example, the optical purity of carbon bonded to a hydroxyl group, but when R 2 or R 3 represented by the general formula (1) is not hydrogen, R 2 Alternatively, the optical purity of the carbon to which R 3 is bonded is also combined with the optical purity of the carbon to which the hydroxyl group is bonded in order to determine the optical purity in the present invention. More preferably, the purity is determined.

また、「化学純度を向上」とは、上記した製造方法により得られる晶析前の光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類の化学純度に比べてより高い化学純度にすることをいい、実質的に100%の化学純度とすることとも言い得る。ここで、「実質的に100%」とは、原料等の不純物や一方の鏡像体に対する他方の鏡像体が殆ど検出されないような化学純度をいう。本発明においては、このような「実質的に100%」を具体的に示すと、90%以上、好ましくは93%以上、より好ましくは95%以上、更に好ましくは97%以上、最も好ましくは99%以上の化学純度をいう。   Further, “improvement in chemical purity” means to make the chemical purity higher than the chemical purity of the optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid before crystallization obtained by the above-described production method. In other words, it can be said that the chemical purity is 100%. Here, “substantially 100%” means a chemical purity such that impurities such as raw materials and the other enantiomer with respect to one enantiomer are hardly detected. In the present invention, when “substantially 100%” is specifically indicated, it is 90% or more, preferably 93% or more, more preferably 95% or more, still more preferably 97% or more, and most preferably 99%. % Chemical purity.

また、本発明は、4−アミノ−2−オキソブテン酸類又はその塩を上記した不斉触媒の存在下に還元し、還元反応により生成した光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩を溶媒中で晶析させることによって、光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の光学純度をより向上させる方法を提供する。   In addition, the present invention reduces 4-amino-2-oxobutenoic acids or salts thereof in the presence of the above-mentioned asymmetric catalyst, and optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acids or salts thereof produced by a reduction reaction. Provided is a method for further improving the optical purity of optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof by crystallization in a solvent.

本発明の製造方法により得られた4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類、特に光学活性4−アミノ−3−ヒドロキシ酪酸類は、医薬や農薬等の中間体等として有用である。   The 4-amino-2-hydroxybutyric acids obtained by the production method of the present invention, particularly optically active 4-amino-3-hydroxybutyric acids, are useful as intermediates for pharmaceuticals and agricultural chemicals.

以下に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
以下の実施例において、物性等の測定に用いた装置は次の通りである。
NMR:Varian GEMINI−2000(300MHz)
ガスクロマトグラフィー(GC):Hewlett Packard 5890−II
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
In the following examples, the apparatus used for measuring physical properties and the like is as follows.
NMR: Varian GEMINI-2000 (300 MHz)
Gas chromatography (GC): Hewlett Packard 5890-II

〔実施例1〕
エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレートの製造
エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−オキソ−3−ブテナート10g(41.1mmol)、[RuCl(R)−segphos]2(μ−Cl)3[Et2NH2] 189mg及び2−ブタノール60mLを混合した溶液を70℃、水素圧3MPaで撹拌反応させた。7時間後、GCで原料の消失を確認した後、溶媒を留去し、粗エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレート(光学純度:79.2%ee)を得た。
[Example 1]
Preparation of ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate 10 g (41.1 mmol) of ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2-oxo-3-butenate, [RuCl ( R) -segphos] 2 (μ-Cl) 3 [Et 2 NH 2 ] 189 mg and 2-butanol 60 mL were mixed and reacted at 70 ° C. under a hydrogen pressure of 3 MPa. After 7 hours, after confirming disappearance of the raw material by GC, the solvent was distilled off, and crude ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate (optical purity: 79.2% ee). )

〔実施例2〕
実施例1で得られた粗エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレートとトルエン−ヘプタン混合溶液[トルエン:ヘプタン=1:1(v/v)]30mLとを混合し、5℃で晶析を行って、目的のエチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒロドキシブチレート(MW:247.29,28.4mmol)を得た。収率:69%,光学純度96.9%ee。
1H−NMR:δ(CDCl3)1.30(3H,t),1.43(9H,s),1.81(1H,m),2.01(1H,m),3.28(2H,m),4.23(1H,m),4.24(2H,q),4.88(1H,br)
[Example 2]
Crude ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate obtained in Example 1 and toluene-heptane mixed solution [toluene: heptane = 1: 1 (v / v)] 30 mL And crystallization at 5 ° C. gave the desired ethyl-4-t-butyoxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate (MW: 247.29, 28.4 mmol). It was. Yield: 69%, optical purity 96.9% ee.
1 H-NMR: δ (CDCl 3 ) 1.30 (3H, t), 1.43 (9H, s), 1.81 (1H, m), 2.01 (1H, m), 3.28 ( 2H, m), 4.23 (1H, m), 4.24 (2H, q), 4.88 (1H, br)

〔実施例3〕
エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレートの製造
エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−オキソ−3−ブテナート200mg(0.8mmol)、Ru(p−cymene)[(R,R)−Tsdpen]4mg,ギ酸−トリエチルアミン共沸混合物2mL及びテトラヒドロフラン(THF)2mLを混合した溶液を30℃で撹拌反応させた。16時間後、GCで原料の消失を確認した後、溶媒を留去して目的のエチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレート171mg(MW:247.29,0.69mmol)を得た。収率:87%、光学純度:66.1%ee。1H−NMRデータは、実施例1の1H−NMRデータと一致した。
Example 3
Preparation of ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate 200 mg (0.8 mmol) of ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2-oxo-3-butenate, Ru (p -Cymene) [(R, R) -Tsdpen] 4 mg, formic acid-triethylamine azeotrope 2 mL and tetrahydrofuran (THF) 2 mL were mixed and reacted at 30 ° C. with stirring. After confirming disappearance of the raw material by GC after 16 hours, the solvent was distilled off and the desired ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate 171 mg (MW: 247.29, 0.69 mmol) was obtained. Yield: 87%, optical purity: 66.1% ee. The 1 H-NMR data was consistent with the 1 H-NMR data of Example 1.

〔実施例4〜10〕
エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−オキソ−3−ブテナート250mg、下記表7に示す触媒を該エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−オキソ−3−ブテナートに対して1/100mol及び同表7に示す溶媒1.5mLを混合した溶液を80℃、水素圧3MPaで7時間不斉水素化反応を行った。GCで原料の消失を確認した後、溶媒を留去し、目的のエチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシブチレートを得た。結果を表7に示す。
[Examples 4 to 10]
250 mg of ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2-oxo-3-butenate, and the catalyst shown in the following Table 7 is 1 to the amount of ethyl-4-t-butyoxycarbonylamino-2-oxo-3-butenate. / 100 mol and a solution mixed with 1.5 mL of the solvent shown in Table 7 were subjected to an asymmetric hydrogenation reaction at 80 ° C. under a hydrogen pressure of 3 MPa for 7 hours. After confirming disappearance of the raw material by GC, the solvent was distilled off to obtain the desired ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2-hydroxybutyrate. The results are shown in Table 7.

Figure 0004845470
Figure 0004845470

〔実施例11〜14〕
実施例1と同様の方法で得られた光学純度79.2%eeのエチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレート3gを下記表8に示す溶媒A及び溶媒Bとの混合溶液を用いて、下記表8に示す条件で晶析を行って、目的のエチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒロドキシブチレートを得た。結果を表8に示す。
[Examples 11 to 14]
3 g of ethyl-4-t-butyloxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate having an optical purity of 79.2% ee obtained by the same method as in Example 1 was used as the solvent A and the solvent shown in Table 8 below. Crystallization was performed using the mixed solution with B under the conditions shown in Table 8 below to obtain the desired ethyl-4-t-butoxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate. The results are shown in Table 8.

Figure 0004845470
Figure 0004845470

以上の結果から、エチル−4−t−ブチロキシカルボニルアミノ−2−(R)−ヒドロキシブチレートの光学純度は、いずれの晶析条件によっても向上した。   From the above results, the optical purity of ethyl-4-t-butyroxycarbonylamino-2- (R) -hydroxybutyrate was improved under any crystallization conditions.

本発明は、医薬、農薬等の中間体等として有用な4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩、特に光学純度の高い光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類又はその塩の製造方法として、工業的に極めて有用である。本発明によれば、従来の方法に比べて一工程で製造することができるため作業性が向上し、収率よく所望の4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類、特に光学純度の高い光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸類を製造できる。
The present invention is a method for producing 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof useful as an intermediate for pharmaceuticals, agricultural chemicals or the like, particularly an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid or a salt thereof having high optical purity. As industrially very useful. According to the present invention, since it can be produced in one step as compared with the conventional method, the workability is improved, and the desired 4-amino-2-hydroxybutyric acid, particularly optical activity 4 having a high optical purity is obtained with high yield. -Amino-2-hydroxybutyric acids can be produced.

Claims (3)

一般式(2)
Figure 0004845470
(式中、R1−OR 1a で表される基であり、R 1a は水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、R2及びR3は夫々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、R4及びR5は夫々独立して、水素原子又は保護基を示す。但し、R1とR2、R2とR3、R2とR5又はR4とR5とが結合して環を形成してもよく、二重結合はシス又はトランスである。)で表される4−アミノ−2−オキソブテン酸化合物(ここで、前記置換基は、炭化水素基、複素環基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、−OR 1a' 、−SR 1b' 、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、スルホ基、シリル基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基又はオキソ基を表し、R 1a' は水素原子、炭化水素基又は複素環基を示し、R 1b' は水素原子、炭化水素基又は複素環基を示す)を還元反応に付すことを特徴とする、一般式(1)
Figure 0004845470
(式中、*は不斉炭素を示し、R1〜R5は前記と同意義である。但し、R2が水素原子であるときはR2が結合している炭素原子は不斉炭素とはならず、またR3が水素原子であるときはR3が結合している炭素原子は不斉炭素とはならない。)で表される光学活性4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸化合物の製造方法。
General formula (2)
Figure 0004845470
(In the formula, R 1 is a group represented by —OR 1a , and R 1a represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent. R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group optionally having substituent (s) or a heterocyclic group optionally having substituent (s), R 4 and R 5 being Each independently represents a hydrogen atom or a protecting group, provided that R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 2 and R 5, or R 4 and R 5 may combine to form a ring. , A double bond is cis or trans.) (Wherein the substituent is a hydrocarbon group, a heterocyclic group, a halogen atom, a halogenated hydrocarbon group) , -OR 1a ', -SR 1b' , an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, alkylene Oki Group, nitro group, amino group, cyano group, sulfo group, silyl group, hydroxyl group, carboxy group, alkoxythiocarbonyl group, aryloxythiocarbonyl group, alkylthiocarbonyl group, arylthiocarbonyl group, carbamoyl group, phosphino group, aminosulfonyl A group, an alkoxysulfonyl group or an oxo group, R 1a ′ represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 1b ′ represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group). The general formula (1)
Figure 0004845470
(In the formula, * represents an asymmetric carbon, and R 1 to R 5 are as defined above. However, when R 2 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 2 is bonded is an asymmetric carbon; In addition, when R 3 is a hydrogen atom, the carbon atom to which R 3 is bonded is not an asymmetric carbon.) A process for producing an optically active 4-amino-2-hydroxybutyric acid compound .
還元反応を不斉触媒の存在下で行うことを特徴とする請求項1に記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the reduction reaction is performed in the presence of an asymmetric catalyst. 還元反応により生成した4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸化合物を溶媒中で晶析させ、取得することを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。 The 4-amino-2-hydroxybutyric acid compound produced | generated by the reductive reaction is crystallized in a solvent, and it acquires, The manufacturing method of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
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