JP4842626B2

JP4842626B2 - 殺菌方法および殺菌装置

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Publication number: JP4842626B2
Application number: JP2005342407A
Authority: JP
Inventors: 岡諭正; 藤香近; 島弘之三; 利洋一甘
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd; Sanyo Electric Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd; Sanyo Electric Co Ltd
Priority date: 2004-11-26
Filing date: 2005-11-28
Publication date: 2011-12-21
Anticipated expiration: 2025-11-28
Also published as: JP2006176211A

Description

本発明は、包装用の容器等を大気圧プラズマにより殺菌する方法および装置に関する。

一般に、液体、固体、または液体と固体との組み合わせからなる食品、医薬品、漢方薬品、化粧品、飼料、または肥料等は無菌環境下において包装容器（包装材料）に充填される。また、包装容器は充填工程に先立ってその内面および外面を殺菌処理され、これにより、充填工程への菌の持ち込みも防止される。

このような包装容器の殺菌方法について様々な方法が開発されてきた。昨今においては、薬剤等が残留しないこと、包装容器に影響を与えず十分な殺菌効果が得られること等の理由から、常温常圧下での大気圧プラズマによる殺菌方法が開発されつつある。（例えば、特許文献１）。

特許文献１は、容器内に挿入された放電極と、容器を収納する処理槽を覆う対向電極との間に高電圧パルスを印加して容器の内面を殺菌する方法を開示している。また、殺菌効果を向上させるため、高電圧パルスを印加する前に、容器内に所定のガスを導入すること、および容器内面に液体（水または所定の水溶液）を付着させることが開示されている。
特開２００４−２６１７１号公報

しかしながら、特許文献１では容器の外面および処理槽が殺菌処理されていないため、容器の外面を別の方法で殺菌する必要があるとともに、処理槽の汚染に伴って悪影響が生ずる虞がある。また、殺菌処理後の容器の取り扱いについて開示がなされていない。さらに、放電状態のばらつきを監視する方法も開示されていない。

さらに、多数の容器を順次連続して効率的に殺菌していく方法についても検討する必要がある。

加えて、大気圧プラズマを工業的に用いるに際し、殺菌処理をより高いレベルでより安定してより効率的に行うことが強く望まれている。

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、殺菌効果が高くかつ殺菌ばらつきが少なく、処理槽および容器を同時に殺菌することができる殺菌方法および殺菌装置、また、多数の容器を順次連続して効率的に殺菌することができる殺菌方法および殺菌装置を提供することを目的とする。さらに、殺菌後の容器の再汚染をより確実に防止することができる殺菌方法および殺菌装置を提供することを目的とする。

本発明による第１の殺菌方法は、殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる工程と、殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する工程と、外面に液体を付着させられるとともに内部に蒸気を導入された容器を、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽内に配置するとともに、容器内に放電極を挿入する工程と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる工程と、を備え、処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面と外面とを殺菌することを特徴とする。

このような本発明による第１の殺菌方法によれば、処理槽の容器の内外に存在する気体がプラズマ化するので、処理槽の内面および処理槽内に配置された放電極とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、容器の外面に液体が付着しかつ容器の内部に蒸気が導入されているので、高い殺菌能力を有した多くの活性酸素種が生成されるとともに容器の内面および外面に略均一に接触し、容器の内面および外面を高いレベルでむらなく殺菌することができる。なお、この第１の殺菌方法においては、殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる工程、および殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する工程のうち、いずれの工程を先に行ってもよいし、さらには同時に行ってもよい。

また、本発明による第１の殺菌方法が、容器を処理槽内から排出する工程を、さらに備え、前記処理槽が、開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置され、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、容器が配置される処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画され、前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、前記容器を処理槽内から排出する工程において、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内から排出するようにしてもよい。このような方法によれば、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路と、殺菌後の容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌済の容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。

また、本発明による第１の殺菌方法が、処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する工程と、容器を処理槽内から排出する工程と、をさらに備え、前記処理槽は、開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置され、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、容器が配置される処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画され、前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、前記容器を処理槽内から排出する工程において、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常無しと判定された容器は、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出され、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常有りと判定された容器は、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出されるようにしてもよい。このような方法によれば、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路、および殺菌処理が行われたものの殺菌処理に異常があると判定された容器の移動経路と、殺菌処理が異常なく行われた容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌処理が異常なく行われた容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。なお、殺菌処理の異常の有無を判定する工程は、大気圧プラズマを生じさせる工程の後に行われてもよいし、大気圧プラズマを生じさせる工程と並行して行われてもよいし、さらには大気圧プラズマを生じさせる工程の前に行われてもよい。

また、これらの殺菌方法において、仕切部材と処理槽の一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材とがチャンバー内に配置された回転自在な回転体に支持され、回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて仕切部材に複数の開口が設けられるとともに各開口に対応して処理槽の一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材が設けられており、回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽内に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、その後の移動経路の所定位置において処理槽内から容器が順次排出されるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、多数の容器を、順次効率的に、上述した高いレベルで殺菌処理していくことができる。

また、本発明による第１の殺菌方法において、蒸気は、所定のガスと混合された蒸気混合ガスとして容器の内部に導入されるようにしてもよい。このような方法によれば、少なくとも容器内部を殺菌に適した所定のガスで置換することができ、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器内への蒸気の導入と容器内の雰囲気置換を同時に行っているので、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に効率的に行うことができる。

また、このような殺菌方法において、一定期間連続して所定のガスをヒーターに供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することにより、蒸気混合ガスを生成するようにしてもよい。このような方法によれば、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽内へ導入することができる。これらにより、安定した殺菌効果を期待することができる。

本発明による第２の殺菌方法は、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽内に、殺菌対象の容器を配置するとともに、容器内に放電極を挿入する工程と、容器が配置された処理槽内に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入して、容器に液体を付着させる工程と、容器内に挿入された放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる工程と、を備え、処理槽内面とともに容器の内面と外面とを同時に殺菌することを特徴とする。

このような本発明による第２の殺菌方法によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化するので、処理槽の内面とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、処理槽内へ蒸気を導入することにより容器へ液体を付着させているので、多くの活性酸素種が生じる。これにより、プラズマの発生が均一かつ安定し、殺菌処理の信頼性を高めることができるとともに殺菌効果を格段に向上させることができる。また、この場合、蒸気を処理槽内の容器の内部および外部に導入して、容器の内面および外面に液体を付着させるようにすることもできる。このような方法によれば、容器の内面と外面とに液体を付着させるので、上述した高いレベルでの殺菌処理を確実に容器の内面と外面とに同時に行うことができる。

また、本発明による第２の殺菌方法の前記容器に液体を付着させる工程において、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽内に導入して、容器に所定の液体を付着させるとともに処理槽内の雰囲気を所定のガスで置換するようにしてもよい。このような方法によれば、処理槽内を殺菌に適した雰囲気に置換するので、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器への液体の付着と処理槽内の雰囲気置換を同時に行っているので、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に効率的に行うことができる。また、この場合、蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部および外部に導入して、容器の内面および外面に所定の液体を付着させるとともに処理槽内の容器の内部および外部の雰囲気を所定のガスで置換するようにすることもできる。このような方法によれば、容器の内面と外面とに液体を付着させるので、上述した高いレベルでの殺菌処理を確実に容器の内面と外面とに同時に行うことができる。

また、このような殺菌方法において、一定期間連続して所定のガスをヒーターに供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することにより、蒸気混合ガスを生成するようにしてもよい。このような方法によれば、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽内へ導入することができる。これらにより、常に一定量の液体を容器に均一に付着させることができる。

また、本発明による第２の殺菌方法において、前記容器に液体を付着させる工程は、蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部に導入する工程と、次に、空気を処理槽内の容器の外部に導入する工程と、その後、蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽内の容器の外部に導入する工程と、を有し、容器の内面および外面に所定の液体を付着させるとともに処理槽内の容器の内部および外部の雰囲気を所定のガスで置換するようにしてもよい。このような方法によれば、空気を導入して容器の表面温度を下げることにより、一度付着した液体の再蒸発を防止し、容器の内外面による液体付着量のばらつきを防止することができる。

また、このような殺菌方法において、前記蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部および外部に導入する工程において、それぞれ一定期間連続して所定のガスをヒーターに供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することにより、蒸気混合ガスを生成するようにしてもよい。このような方法によれば、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽内へ導入することができる。これらにより、常に一定量の液体を容器に均一に付着させることができる。

また、本発明による第２の殺菌方法において、前記容器を液体に付着させる工程は、蒸気と空気とを混合した蒸気混合空気を処理槽内の容器の内部に導入する工程と、次に、所定のガスを処理槽内の容器の内部に導入する工程と、その後、蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽内の容器の外部に導入する工程と、を有し、容器の内面および外面に所定の液体を付着させるとともに処理槽内の容器の内部および外部の雰囲気を所定のガスで置換するようにしてもよい。このような方法によれば、ガスを導入して容器の表面温度を下げることにより、一度付着した液体の再蒸発を防止し、容器の内外面による液体付着量のばらつきを防止することができる。

また、このような殺菌方法において、前記蒸気混合空気を処理槽内の容器の内部に導入する工程において、一定期間連続して空気をヒーターに供給するともに、空気の供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することにより、蒸気混合空気を生成し、前記蒸気混合ガスを処理槽内の容器の外部に導入する工程において、一定期間連続して所定のガスをヒーターに供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することにより、蒸気混合ガスを生成するようにしてもよい。このような方法によれば、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽内へ導入することができる。これらにより、常に一定量の液体を容器に均一に付着させることができる。

本発明による第３の殺菌方法は、開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置され、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽であって、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽の内部に、殺菌対象の容器を配置するとともに、放電極を容器内に挿入する工程と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、容器の内面と外面とを殺菌する工程と、殺菌された容器を処理槽内から排出する工程と、を備え、前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、前記容器を処理槽内から排出する工程において、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内から排出することを特徴とする。

このような本発明による第３の殺菌方法によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特にこの第３の殺菌方法によれば、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路と、殺菌後の容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌済の容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。

本発明による第４の殺菌方法は、開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置され、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽であって、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽の内部に、殺菌対象の容器を配置するとともに、放電極を容器内に挿入する工程と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、容器の内面と外面とを殺菌する工程と、処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する工程と、容器を処理槽内から排出する工程と、を備え、前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、前記容器を処理槽内から排出する工程において、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常無しと判定された容器は、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出され、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常有りと判定された容器は、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出されることを特徴とする。

このような本発明による第４の殺菌方法によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特にこの第４の殺菌方法によれば、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路、および殺菌処理が行われたものの殺菌処理に異常があると判定された容器の移動経路と、殺菌処理が異常なく行われた容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌処理が異常なく行われた容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。なお、殺菌処理の異常の有無を判定する工程は、大気圧プラズマを生じさせる工程の後に行われてもよいし、大気圧プラズマを生じさせる工程と並行して行われてもよいし、さらには、大気圧プラズマを生じさせる工程の前に行われてもよい。

また、本発明による第３および第４の殺菌方法において、仕切部材と処理槽の一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材とがチャンバー内に配置された回転自在な回転体に支持され、回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて仕切部材に複数の開口が設けられるとともに各開口に対応して処理槽の一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材が設けられており、回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽内に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、その後の移動経路の所定位置において処理槽内から容器が順次排出されるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、多数の容器を、順次効率的に、上述した高いレベルで殺菌処理していくことができる。

本発明による第５の殺菌方法は、少なくとも一部分が対向電極で覆われ所定方向に移動する処理槽内に、殺菌対象の容器を配置するとともに、容器内に放電極を挿入する工程と、放電極および対向電極のどちらか一方の電極と処理槽の移動経路に沿って設けられ高電圧パルスが印加される高電圧側レールとが導通し、他方の電極と処理槽の移動経路に沿って設けられ接地された接地側レールとが導通することにより、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる工程と、を備え、容器の内面と外面とを同時に殺菌することを特徴とする。

このような本発明による第５の殺菌方法によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、放電極および処理槽の移動にともなって自動的に各電極と各レールが導通状態および非導通状態となることから、特段の制御装置を必要とせず高電圧パルスの印加を簡易、確実そして安全に制御することができる。

また、このような殺菌方法において、処理槽が回転自在な回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて複数設けられるとともに各処理槽に対応した放電極が設けられており、回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、これにより、多数の容器が連続的に殺菌処理されていくようにしてもよい。このような方法によれば、多数の容器を順次効率的に殺菌処理していくことができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法の前記高電圧パルスを印加して大気圧プラズマを生じさせる工程において、高電圧プローブを介して印加される高電圧パルスの電圧を確認するとともに、電流プローブを介して発生する電流を確認することにより、放電電力の負荷状況を監視するようにしてもよい。このような方法によれば、容器１つずつの放電状態を確認することができ、殺菌処理の信頼性をさらに向上させることができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法の前記高電圧パルスを印加して大気圧プラズマを生じさせる工程において、大気圧プラズマにより生ずる放電光の強さを確認することにより、放電光の発生状況を監視するようにしてもよい。このような方法によれば、簡単な構成により容器１つずつの放電状態を確認することができ、殺菌処理の信頼性をさらに向上させることができる。

なお、放電電力の負荷状況の監視および／または放電光の発生状況の監視に基づき、本発明による第１および４の殺菌方法で述べた「殺菌処理の異常の有無」を判定するようにしてもよい。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法が、容器が排出された処理槽に温風エアーを導入して処理槽を乾燥させる工程を、さらに備えるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、殺菌されるべき容器を配置する前に処理槽を乾燥させておき、一定の条件で容器の殺菌処理を行うことができる。これにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法が、容器の殺菌処理に先立って、処理槽および放電極を含む殺菌装置を殺菌剤により殺菌処理する工程を、さらに備えるようにしてもよい。このような方法によれば、容器の２次汚染を防止することができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法が、容器が配置される前の処理槽と容器に挿入される前の放電極との少なくとも一方の温度を調節する工程を、さらに備えるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、大気圧プラズマを生じさせる前に、処理槽または放電極を適切な温度に維持することができる。また、一定の条件で容器の殺菌処理を行うことにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法が、容器が配置される前の処理槽内へ所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する工程を、さらに備えるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、大気圧プラズマを生じさせる前に、適切な量の蒸気を処理槽内に導入しておくことができる。また、一定の条件で容器の殺菌処理を行うことにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法の高電圧パルスを印加して大気圧プラズマを生じさせる工程において、所定の位置関係にある複数の処理槽にそれぞれ対応する複数の対向電極および放電極間に高電圧パルスが同時に印加されるようになっており、高電圧パルスを印加する際、前記複数の処理槽のうち１以上の処理槽に容器が配置されていない場合には、容器が配置されていない処理槽に対応する対向電極および放電極間に代えて、容器を配置された１つの処理槽に対応した対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有する等価回路を前記容器が配置されていない処理槽の数だけ接続した回路に、高電圧パルスが印加されるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、所定の位置関係にある複数の処理槽内にそれぞれ配置された複数の容器に対し、同時に殺菌処理を施すことができ、これにより、多数の容器を順次効率的に殺菌していくことができる。特に、所定の位置関係にある処理槽のいずれかが容器を収容していない場合（例えば殺菌処理の開始時や終了時）に、該処理槽に対応する対向電極および放電極間に代え、等価回路に高電圧パルスが印加されるようになっている。そして、等価回路が容器を配置された１つの処理槽に対応する対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有していることから、高電圧パルスが印加される陽極および陰極間の総抵抗値が略同一となる。したがって、各放電極および対向電極間を流れる電流値が小さくなり過ぎる、あるいは大きくなり過ぎることを防止し、容器を、略一定の条件下で安定して殺菌していくことができる。

また、上記本発明による第１乃至第５の殺菌方法の高電圧パルスを印加して大気圧プラズマを生じさせる工程において、所定の位置関係にある複数の処理槽にそれぞれ対応する複数の対向電極および放電極間に高電圧パルスが同時に印加されるようになっており、高電圧パルスを印加する際、前記複数の処理槽のうち１以上の処理槽に、処理槽内に配置される以前の処理に異常があったと判定された容器が配置されている場合には、前記異常があったと判定された容器が配置されている処理槽に対応する対向電極および放電極間に代えて、処理槽内に配置される以前の処理に異常がなかった容器を配置された１つの処理槽に対応した対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有する等価回路を前記異常があったと判定された容器が配置されている処理槽の数だけ接続した回路に、高電圧パルスが印加されるようにしてもよい。このような殺菌方法によれば、所定の位置関係にある複数の処理槽内にそれぞれ配置された複数の容器に対し、同時に殺菌処理を施すことができ、これにより、多数の容器を順次効率的に殺菌していくことができる。特に、所定の位置関係にある処理槽のいずれかが、処理槽内に配置される以前の処理に異常があったと判定された容器を収容している場合に、該処理槽に対応する対向電極および放電極間に代え、等価回路に高電圧パルスが印加されるようになっている。そして、等価回路が処理槽内に配置される以前の処理に異常がなかった容器を配置された１つの処理槽に対応した対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有していることから、高電圧パルスが印加される陽極および陰極間の総抵抗値が略同一となる。したがって、各放電極および対向電極間を流れる電流値が小さくなり過ぎる、あるいは大きくなり過ぎることを防止し、容器を、略一定の条件下で安定して殺菌していくことができる。

さらに、本発明による第３乃至第５の殺菌方法が、第１の殺菌方法の殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる工程および殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する工程のいずれか一方または両方を備えるようにしてもよいし、さらにこの場合、該工程について上述した様々な変形を適用することができる。また、本発明による第３乃至第５の殺菌方法が、第２の殺菌方法の蒸気を導入して容器に液体を付着させる工程を備えるようにしてもよいし、さらにこの場合、該工程について上述した様々な変形を適用することができる。

さらに、本発明による第１乃至第５の殺菌方法において、容器を処理槽内に配置することと、処理槽内に放電極を挿入することと、を同時に行ってもよいし、前後して行ってもうよい。

本発明による第１の殺菌装置は、殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる付着手段と、殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段と、少なくとも一部分が対向電極で覆われ、殺菌対象の容器が内部に配置される処理槽と、処理槽内に配置される容器内に挿入可能な放電極と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、を備え、処理槽の内面および放電極とともに容器の内面と外面とを殺菌することを特徴とする。

このような本発明による第１の殺菌方法によれば、処理槽の容器の内外に存在する気体がプラズマ化するので、処理槽の内面および処理槽内に配置された放電極とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、容器の外面に液体が付着しかつ容器の内部に蒸気が導入されているので、高い殺菌能力を有した多くの活性酸素種が生成されるとともに容器の内面および外面に略均一に接触し、容器の内面および外面を高いレベルでむらなく殺菌することができる。

また、本発明による第１の殺菌装置が、処理槽を収容するチャンバーと、開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、をさらに備え、処理槽は、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画されるようになっており、容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路と、殺菌後の容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌済の容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。

また、本発明による第１の殺菌装置が、処理槽を収容するチャンバーと、開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する判定手段と、をさらに備え、処理槽は、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画されるようになっており、容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常無しと判定された容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常有りと判定された容器の処理槽内からの排出を一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路、および殺菌処理が行われたものの殺菌処理に異常があると判定された容器の移動経路と、殺菌処理が異常なく行われた容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌処理が異常なく行われた容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。

また、これらの殺菌装置が、チャンバー内に配置され、回転軸を中心として回転自在な回転体をさらに備え、仕切部材は、回転体によりチャンバー内に支持され、回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて複数の開口を形成され、仕切部材の各開口に対応して複数の処理槽が設けられるとともに、各処理槽に対応して複数の放電極が設けられ、回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽内に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、その後の移動経路の所定位置において処理槽内から容器が順次排出されるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、多数の容器を、順次効率的に、上述した高いレベルで殺菌処理していくことができる。

また、本発明による第１の殺菌装置において、導入手段が、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを容器の内部に導入するようにしてもよい。このような装置によれば、少なくとも容器内部を殺菌に適した所定のガスで置換することができ、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器内への蒸気の導入と容器内の雰囲気置換を同時に行えるので、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に効率的に行うことができる。

また、このような殺菌装置において、導入手段は、処理槽内まで延在する管と、管を加熱するヒーターと、管に所定のガスを供給するガス供給手段と、管に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段と、を有するようにしてもよい。このような殺菌装置においては、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽内へ導入することができる。これらにより、常に一定量の液体を容器に均一に付着させることができる。

本発明による第２の殺菌装置は、少なくとも一部分が対向電極で覆われ、殺菌対象の容器が内部に配置される処理槽と、処理槽内に配置される容器内に挿入可能な放電極と、処理槽内に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、を備え、処理槽内面とともに容器の内面と外面とを同時に殺菌することを特徴とする。

このような本発明による第２の殺菌装置によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化するので、処理槽の内面とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、処理槽内へ蒸気を導入することにより容器へ液体を付着させているので、多くの活性酸素種が生じる。これにより、プラズマの発生が均一かつ安定し、殺菌処理の信頼性を高めることができるとともに殺菌効果を格段に向上させることができる。また、この場合、導入手段は処理槽内の容器の内部と外部とに蒸気を導入するようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、容器の内面と外面とに液体を付着させることができるので、上述した高いレベルでの殺菌処理を容器の内面と外面とに同時に行うことができる。

また、本発明による第２の殺菌装置において、導入手段は、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽内に導入するようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、処理槽内を殺菌に適した雰囲気に置換することができるので、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器への液体の付着と処理槽内の雰囲気置換を同時に行うことができ、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に効率的に行うことができる。また、この場合、導入手段は、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部と外部とに導入するようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、容器の内面と外面とに水分を付着させるので、上述した高いレベルでの殺菌処理を容器の内面と外面とに同時に行うことができる。

また、本発明による第２の殺菌装置において、導入手段は、処理槽内に所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガス、および空気を導入するようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、処理槽内を殺菌に適した雰囲気に置換することができるので、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器への液体の付着と処理槽内の雰囲気置換を同時に行うことができ、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に的確かつ効率的に行うことができる。また、処理槽内に空気を適宜導入して容器を冷却することもできるので、容器の表面温度を下げ、一度付着した液体の再蒸発を防止し、容器の内外面による水分付着量のばらつきを防止することができる。

また、本発明による第２の殺菌装置において、導入手段は、処理槽内に所定の液体を蒸発させてなる蒸気と空気とを混合した蒸気混合空気、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガス、および所定のガスを導入するようにしてもよい。このような殺菌装置によっても、処理槽内を殺菌に適した雰囲気に置換することができるので、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器への液体の付着と処理槽内の雰囲気置換を同時に行うことができ、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に的確かつ効率的に行うことができる。また、処理槽内に所定のガスを適宜導入して容器を冷却することもできるので、容器の表面温度を下げ、一度付着した液体の再蒸発を防止し、容器の内外面による液体付着量のばらつきを防止することができる。

また、これらの殺菌装置において、導入手段は、処理槽内まで延在する管と、管を加熱するヒーターと、管に所定のガスを供給するガス供給手段と、管に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段と、管に空気を供給する空気供給手段と、を有するようにしてもよい。このような殺菌装置においては、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽内へ導入することができる。これらにより、常に一定量の液体を容器に均一に付着させることができる。また、処理槽内に空気あるいは所定のガス等を適宜導入して容器を冷却することもできるので、容器の表面温度を下げ、一度付着した液体の再蒸発を防止することができる。

本発明による第３の殺菌装置は、チャンバーと、開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、チャンバー内に仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽であって、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽と、処理槽内に配置された容器に挿入される放電極と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、を備え、容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようになっていることを特徴とする。

このような本発明による第３の殺菌装置によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路と、殺菌後の容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌済の容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。

本発明による第４の殺菌装置は、チャンバーと、開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、チャンバー内に仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽であって、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽と、処理槽内に配置された容器に挿入される放電極と、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する判定手段と、をさらに備え、容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常無しと判定された容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常有りと判定された容器の処理槽内からの排出を一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようになっていることを特徴とする。

このような本発明による第４の殺菌装置によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、殺菌前の容器の処理槽内へ配置されるまでの移動経路、および殺菌処理が行われたものの殺菌処理に異常があると判定された容器の移動経路と、殺菌処理が異常なく行われた容器の移動経路と、を区分けすることができる。したがって、殺菌処理が異常なく行われた容器の無菌状態（あるいは殺菌された状態）をより確実に維持することができる。すなわち、容器の２次汚染をより確実に防止することができ、これにより、信頼性の高い殺菌処理を行うことができる。

また、本発明による第３および第４の殺菌装置において、チャンバー内に配置され、回転軸を中心として回転自在な回転体をさらに備え、仕切部材は、回転体によりチャンバー内に支持され、回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて複数の開口を形成され、仕切部材の各開口に対応して複数の処理槽が設けられるとともに、各処理槽に対応して複数の放電極が設けられ、回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽内に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、その後の移動経路の所定位置において処理槽内から容器が順次排出されるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、多数の容器を、順次効率的に、上述した高いレベルで殺菌処理していくことができる。

本発明による第５の殺菌装置は、少なくとも一部分が対向電極で覆われ、殺菌対象の容器が内部に配置される処理槽であって、所定方向に移動する処理槽と、処理槽内に配置される容器内に挿入されて処理槽とともに移動する放電極と、処理槽の移動経路に沿って設けられ高電圧パルスが印加される高電圧側レールと、処理槽の移動経路に沿って設けられ接地された接地側レールと、を有する高電圧パルス印加手段と、を備え、処理槽の移動にともなって、放電極および対向電極のどちらか一方の電極と高電圧側レールとが導通し、他方の電極と接地側レールとが導通することにより、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、容器の内面と外面とを同時に殺菌することを特徴とする。

このような本発明による第５の殺菌装置によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、放電極および処理槽の移動にともなって自動的に各電極と各レールが導通状態および非導通状態となることから、特段の制御装置を必要とせず高電圧パルスの印加を簡易、確実そして安全に制御することができる。

本発明による第６の殺菌装置は、回転軸を中心として回転自在な回転体と、回転体上の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて設けられた複数の処理槽であって、少なくとも一部分が対向電極で覆われ殺菌対象の容器が内部に配置される複数の処理槽と、各処理槽に対応して設けられ、処理槽内に配置される容器内に挿入されて処理槽とともに移動する複数の放電極と、回転体の回転にともなう処理槽の移動経路に沿って設けられ高電圧パルスが印加される高電圧側レールと、処理槽の移動経路に沿って設けられ接地された接地側レールと、を有する高電圧パルス印加手段と、を備え、処理槽の移動にともなって、放電極および対向電極のどちらか一方の電極と高電圧側レールとが導通し、他方の電極と接地側レールとが導通することにより、放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、多数の容器が順次殺菌差よりされていくようになっていることを特徴とする。

このような本発明による第６の殺菌装置によれば、処理槽内の容器の内外に存在する気体がプラズマ化して、処理槽の内面とともに容器の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、回転体が回転することにより放電極および処理槽が移動して自動的に各電極と各レールが導通状態および非導通状態となることから、特段の制御装置を必要とせず高電圧パルスの印加を簡易、確実そして安全に制御することができる。また、このような装置によれば、多数の容器を順次効率的に殺菌処理していくことができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置において、印加される高電圧パルスの電圧を計測する高電圧プローブと、高電圧パルスの印加にともなって発生する電流を計測する電流プローブと、を有し、高電圧パルス印加手段による放電電力の負荷状況を監視する放電電力監視手段をさらに備えるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、容器１つずつの放電状態を確認することができ、殺菌処理の信頼性をさらに向上させることができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置において、大気圧プラズマにより生ずる放電光を検出し放電光の強さを電気信号に変換する放電光検出部と、放電光検出部から電気信号を受けて放電光の強さが所定の基準値以上であるかを判定する判定部と、を有し、放電光の発生状況を監視する放電光監視手段をさらに備えるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、容器１つずつの放電状態を確認することができ、殺菌処理の信頼性をさらに向上させることができる。

なお、放電電力監視手段および／または放電光監視手段を、本発明による第１および第４の殺菌装置で述べた「殺菌処理の異常の有無を判定する判定手段」として用いるようにしてもよい。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置において、容器が排出された処理槽に温風エアーを導入して処理槽を乾燥させる乾燥手段をさらに備えるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、殺菌されるべき容器を配置する前に処理槽を乾燥させておき、一定の条件で容器の殺菌処理を行うことができる。これにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置において、処理槽と放電極とを収容するチャンバーに連通し、チャンバー内に殺菌剤を噴射する殺菌剤供給手段と、をさらに備えるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、容器の２次汚染を防止することができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置が、容器が配置される前の処理槽と容器に挿入される前の放電極との少なくとも一方の温度を調節する温調手段をさらに備えるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、大気圧プラズマを生じさせる前に、処理槽または放電極を適切な温度に維持することができる。また、一定の条件で容器の殺菌処理を行うことにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置が、容器が配置される前の処理槽内へ所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する予備導入手段をさらに備えるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、大気圧プラズマを生じさせる前に、適切な量の蒸気を処理槽内に導入しておくことができる。また、一定の条件で容器の殺菌処理を行うことにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置において、高電圧パルス印加手段が、容器を配置された１つの処理槽に対応する対向電極と放電極との間の抵抗値と同等の抵抗値を有した等価回路を１以上有し、また、高電圧パルス印加手段は、隣り合って配置された複数の処理槽にそれぞれ対応する複数の対向電極および放電極間に高電圧パルスを同時に印加するようになっており、高電圧パルスを印加する際、前記複数の処理槽のうち１以上の処理槽に容器が配置されていない場合には、容器が配置されていない処理槽に対応する対向電極および放電極間に代え、前記容器が配置されていない処理槽の数と同数の等価回路に、高電圧パルスが印加されるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、所定の位置関係にある複数の処理槽内にそれぞれ配置された複数の容器に対し、同時に殺菌処理を施すことができ、これにより、多数の容器を順次効率的に殺菌していくことができる。特に、所定の位置関係にある処理槽のいずれかが容器を収容していない場合（例えば殺菌処理の開始時や終了時）に、該処理槽に対応する対向電極および放電極間に代え、等価回路に高電圧パルスが印加されるようになっている。そして、等価回路が容器を配置された１つの処理槽に対応した対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有していることから、高電圧パルスが印加される陽極および陰極間の総抵抗値が略同一となる。したがって、各放電極および対向電極間を流れる電流値が小さくなり過ぎる、あるいは大きくなり過ぎることを防止し、容器を、略一定の条件下で安定して殺菌していくことができる。

また、上記本発明による第１乃至第６の殺菌装置において、高電圧パルス印加手段が、処理槽内に配置される以前の処理に異常がなかった容器を配置された１つの処理槽に対応する対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有した等価回路を１以上有し、また、高電圧パルス印加手段が、所定の位置関係にある複数の処理槽にそれぞれ対応する複数の対向電極および放電極間に高電圧パルスを同時に印加するようになっており、高電圧パルスを印加する際、前記複数の処理槽のうち１以上の処理槽に、処理槽内に配置される以前の処理に異常があったと判定された容器が配置されている場合には、前記異常があったと判定された容器が配置されている処理槽に対応する対向電極および放電極間に代え、前記異常があったと判定された容器が配置されている処理槽の数と同数の等価回路に、高電圧パルスが印加されるようにしてもよい。このような殺菌装置によれば、所定の位置関係にある複数の処理槽内にそれぞれ配置された複数の容器に対し、同時に殺菌処理を施すことができ、これにより、多数の容器を順次効率的に殺菌していくことができる。特に、所定の位置関係にある処理槽のいずれかが、処理槽内に配置される以前の処理に異常があったと判定された容器を収容している場合に、該処理槽に対応する対向電極および放電極間に代え、等価回路に高電圧パルスが印加されるようになっている。そして、等価回路が処理槽内に配置される以前の処理に異常がなかった容器を配置された１つの処理槽に対応した対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有していることから、高電圧パルスが印加される陽極および陰極間の総抵抗値が略同一となる。したがって、各放電極および対向電極間を流れる電流値が小さくなり過ぎる、あるいは大きくなり過ぎることを防止し、容器を、略一定の条件下で安定して殺菌していくことができる。

さらに、本発明による第３乃至第６の殺菌装置が、第１の殺菌装置の殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる付着手段および殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段のいずれか一方または両方を備えるようにしてもよいし、さらにこの場合、該手段について上述した様々な変形を適用することもできる。また、本発明による第３乃至第６の殺菌装置が、第２の殺菌装置の処理槽内に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段を備えるようにしてもよいし、さらにこの場合、該手段について上述した様々な変形を適用することもできる。

また、上述した本発明による殺菌方法および殺菌装置において、所定の液体として水、とりわけ純水を用いることが好ましい。

〔第１の実施の形態〕
まず、添付図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。

図１乃至図１０は本発明による容器の殺菌方法の第１の実施の形態を示す図である。このうち図１は容器１の成形から内容物の充填までの概略工程を示す図であり、図２は容器の殺菌方法および殺菌装置１０を示す上面図であり、図３は殺菌装置１０内における各処理内容を説明する図であり、図４および図５は容器の殺菌装置１０を示す側面図であり、図６は放電極３５を示す側面図であり、図７は導入手段４０の概略構成を示す図であり、図８は蒸気混合ガスを生成する方法を説明する図であり、図９は大気プラズマの発生状況を監視する方法および手段６０，６５を示す図であり、図１０は乾燥手段５６を示す図である。

本発明の対象とする殺菌とは、図１に示すように、容器１が成形された後に内容物の充填に先立って行われものである。

なお、本願における容器１とは、金属以外の各種の材料にて構成されたものであればよい。本実施の形態においては、殺菌される容器１として、上端に設けられた開口部１ａと、開口部１ａから徐々に太さが太くなっていく首部１ｂと、首部１ｂの下方に設けられた胴部１ｃと、を有するボトル型の容器を対象とした例を示す。また本願において、容器１の外面は容器１の外側に露出している面を意味し、外周面２は容器１の外面のうち容器１の側方（図５における紙面の横方）に向けられた面を意味し、底面３は容器１の外面のうち容器の底側（図５における紙面の下側）に向けられた面を意味する。

まず、容器の殺菌装置１０について説明する。

図１乃至図１０に示すように、殺菌装置１０は、チャンバー１２と、チャンバー１２内に設けられ回転軸Ｌ１を中心として回転自在な回転体４０と、回転体４０上の回転軸Ｌ１を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて設けられた複数の処理槽２０であって、少なくとも一部分が対向電極３０で覆われ殺菌対象の容器１が内部に配置される複数の処理槽２０と、各処理槽２０に対応して設けられ、処理槽２０内に配置される容器１内に挿入されて処理槽２０とともに回転する複数の放電極３５と、処理槽２０内に少なくとも所定の液体を蒸発させた蒸気を導入する導入手段７０と、回転体４０の回転にともなう処理槽２０の移動経路に沿って設けられ、高電圧パルスが印加される高電圧側レール５９と接地された接地側レール５８とを有する高電圧パルス印加手段５７と、を備えている。

また、図２に示すように、殺菌装置１０は、チャンバー１２内に連通し、チャンバー１２内に殺菌剤を噴射する殺菌剤供給手段５０をさらに備えている。本実施の形態においては、殺菌剤として過酸化水素を用いており、殺菌剤供給手段５０は過酸化水素水と加圧されたエアーとを２流体スプレーで混合し、過酸化水素ミストとしてチャンバー１２内に送り込むようになっている。また、この殺菌剤供給手段５０は常温または加熱されたエアーをチャンバー１２内に送り込むこともできるようになっている。なお、チャンバー１２には、チャンバー１２内への殺菌剤の供給に対応した１つまたは複数の排気口１２ａが設けられている。

また同様に、殺菌装置１０は、処理槽２０内に殺菌剤を供給する処理槽用殺菌剤供給手段５０ａを備えている（図２）。この処理槽用殺菌剤供給手段５０ａは上述した殺菌剤供給手段５０と同様の構成からなっており、過酸化水素ミストを供給することができるようになっている。図２に示されているように、処理槽用殺菌剤供給手段５０ａは後に詳述する導入手段７０と並列に配置され、導入手段７０の管７２にバルブを介して連通している。そしてこの管７２を経由して処理槽内に過酸化水素ミストを送り込むことができるようになっている。なお、本実施の形態において、このように殺菌剤供給手段５０とは別に処理槽用殺菌剤供給手段５０ａを設けた例を示したが、これに限られず、殺菌剤供給手段５０を導入手段７０の管７２にバルブを介して連通させ、上述した殺菌剤供給手段５０により処理槽２０内へも過酸化水素ミストを導入することができるようにしてもよい。

図２に示すように、このような殺菌装置１０においては、容器１は搬入手段１５ａによりチャンバー１２内に送り込まれ、受け渡しホイール１６を介して処理槽２０内に配置されるようになっている。また、殺菌装置１０で殺菌された後、容器１は受け渡しホイール１６を介して処理槽２０内から搬出手段１５ｂへ受け渡され、搬出手段１５ｂによりチャンバー１２内から運び出されるようになっている。

また、チャンバー１２内を含む搬入路１４ａよりも下流工程側を陽圧とすることができるようになっている。これにより、殺菌装置の稼働中にチャンバー１２内から搬入路１４ａに向けた気流をつくることができ、これにより、搬入路１４ａから菌が持ち込まれることを防止することができるようになっている。

まず、回転体４０について詳述する。

図４および図５に示すように、回転体４０は、回転軸Ｌ１上に配置されたシャフト４９を取り囲むように配置されており、モーター等の駆動手段（図示せず）を介して回転軸Ｌ１を中心として回転自在となっている。回転体４０は、下方に設けられた下方テーブル４１と、上方に設けられた上方テーブル４３と、下方テーブル４１と上方テーブル４３とを連結する連結部４５とからなり、これらが一体となり回転する、すなわち、下方テーブル４１と上方テーブル４３とは同期して回転するようになっている。また、上方テーブル４３には放電極３５等を上下方向に移動自在に支持する支持部材４７が、下方テーブル４１に支持される各処理槽２０に対応して複数設けられている。本実施の形態において、この支持部材４７はエアシリンダ４８のロッド４８ａに固定されている。なお、図２において、上方テーブル４３、連結部４５、支持部材４７、および放電極３５は図示されていない。

次に、処理槽２０について詳述する。

図４および図５に示すように、処理槽２０は処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とからなっている。処理槽本体２１は回転体４０の下方テーブル４１上に載置支持されている。処理槽蓋体２２は処理槽本体２１の上方に上述した支持部材４７を介して上下方向に沿って移動自在に支持されている。支持部材４７が下方に移動した場合、処理槽本体２１のフランジ２１ａと処理槽蓋体２２とのフランジ２２ａとが対面するようにして、処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とが重ね合わせられるようになっている（図５）。図５に示すように、処理槽蓋体２２には、容器１の開口部１ａに対面する位置に処理槽開口部２０ａが設けられている。この処理槽開口部２０ａは放電極３５や導入手段７０の処理槽２０内への導入経路として用いることができる限りにおいて大きさ形状等は特に限定されない。また、本実施の形態において、処理槽開口部２０ａは、ガス（気体）が処理槽２０内に導入される際にガスを処理槽２０外へ排出するための抜き孔としても機能するようになっている。しかしながら、専用の抜き孔を処理槽本体２１または処理槽蓋体２２に別途設けるようにしてもよい。

処理槽２０内に形成される容器１の収納スペースＳは容器１の形状に沿うようになされている。すなわち、図５に示すように、断面において処理槽２０内面が容器１から略一定距離離間するようになされ、さらに言い換えると、処理槽２０内の収納スペースＳが容器１と略相似形状となるようになされている。処理槽２０をこのように相似型に形成することにより、対向電極３０が容器１および放電極３５から大きく離間してしまうことを防止し、効率的に大気圧プラズマを発生させ殺菌効果を向上させることができる。また、処理槽２０は処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とに分割可能な分割型としているので、仮に容器１が胴部の一箇所において最も太さが太くなるような形状であったとしても、その部分で処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とを分離するように構成することにより、容器１を処理槽２０内に収納可能とし、かつ処理槽２０内の収納スペースＳと容器１とを相似形状にすることができる。

処理槽２０の大きさは、収納スペースＳが容器１を収容可能な最小限の大きさに多少の余裕を加えた程度となるようにすればよい。なお、収納スペースＳを必要以上に大きくすれば、放電極３５と外周対向電極３０ａの距離が不必要に増加して放電現象の安定性が損なわれるおそれがある。

図４および図５に示すように、本実施の形態において、処理槽２０は、内方に配置され収容スペースＳに露出した誘電体２４と、誘電体２４の外方に配置され誘電体２４を覆う対向電極３０と、から構成されている。誘電体２４としては、アクリル樹脂、セラミックス、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、フッ素系樹脂、メチルペンテン系樹脂等の各種の誘電性材料を使用することができる。ただし、容器１の殺菌前等、必要に応じて処理槽２０自体またはチャンバー１２内全体が殺菌処理されるため、誘電体２４はこのとき使用される薬品に対する耐性を有していることが好ましい。また、処理槽２０内の収容スペースＳには容器１が順次収容され、そして取り出しされる。このとき、処理槽２０と容器１との接触により処理槽２０が摩耗してしまうことを防止することができるよう、誘電体２４が耐摩耗性を有していることが好ましい。さらに、外部から処理槽２０内で生じる放電現象を観察することができるよう、誘電体２４は透光性を有していることが望ましい。さらにまた、放電現象にともなってわずかながら紫外線が発生するため、誘電体２４はＵＶ耐性を有していることが好ましい。このような耐薬品性、耐摩耗性、ＵＶ耐性、および透光性を有する材料としてＰＥＳ（ポリ・エーテル・サルフォン（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ））を誘電体２４として用いることができる。

このような誘電体２４の厚みは、放電極３５と対向電極３０との間に安定した放電を生じさせる範囲で適宜に変更してよい。例えば、上述したＰＥＳにて処理槽２０の処理槽本体２１および処理槽蓋体２２を構成する場合、それらの厚さは好ましくは０．５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲に設定することができる。

さらに、処理槽２０の容器１の底面３に対向する部分には、容器１の底面３と処理槽２０との間にガスを流通させるための隙間が生じるよう、容器１を支持する支持手段２６としての複数のスペーサが容器１の周方向または半径方向に適宜に間隔を空けて配置されている。スペーサは処理槽２０の内側面と同様に誘電体２４にて構成されている。スペーサの個数及び大きさは容器１を安定して支持しつつ、容器１の底面と処理槽２０との間にガスが十分に回り込める隙間が空くように定めることが望ましい。隙間は０．１ｍｍ〜２０ｍｍの範囲であることが望ましい。スペーサは処理槽２０と別体に構成されても、一体に構成されてもよい。

なお、容器１と処理槽２０の底面との間に隙間を生じさせることができる限りにおいて支持手段２６の支持形態は問わない。従って、容器１と処理槽２０の底面との間に様々な支持手段２６を配置して容器１を下から支えるようにするだけでなく、容器１の上方に支持手段２６を配置してその一部で容器１を吊り下げるようにしてもよい。

一方、図４および図５に示すように、対向電極３０は誘電体２４の外方を囲むように設けられている。すなわち、図５に示すように、対向電極３０は、誘電体２４を挟んで容器１の底面３と対向する底面対向電極３０ｂと、誘電体２４を挟んで容器１の外周面２と対向する外周対向電極３０ａと、から構成されている。

また、図４および図５に示すように、外周対向電極３０ａは、処理槽２０が処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とに分離されることにともない、処理槽本体２１側と処理槽蓋体２２側とに設けられている。そして、処理槽２０は、これらの外周対向電極３０ａを導通させるための接点アーム２７，２８を処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とにそれぞれ有している（図４および図５）。処理槽蓋体２２側の接点アーム２８は、処理槽蓋体２２側の外周対向電極３０ａに導通されるとともに、内方に向けて（回転軸Ｌ１側に向けて）延び出している。一方、処理槽本体２１側の接点アーム２７は、処理槽本体２１側の外周対向電極３０ａに導通されるとともに、内方に向けて延びるとともにさらに上方に向けて延びている。図５に示すように、これらの接点アーム２７，２８は、処理槽本体２１と処理槽蓋体２２とが重ね合わされた場合に接触するようになっており、これにより、処理槽本体２１側の外周対向電極３０ａと処理槽蓋体２２側の外周対向電極３０ａとが導通する。

本実施の形態において、外周対向電極３０ａの上端は収容スペースＳに配置された容器１よりも高く、かつ誘電体２４の上端よりはわずかに低い位置にある。外周対向電極３０ａの下端は底面対向電極３０ｂと連結され、一体に構成されている。したがって、本実施の形態において、対向電極３０は処理槽開口部２０ａ近傍およびフランジ２１ａ，２２ａ近傍を除いて誘電体２４を覆うようになっており、容器１の外形状と略相似形状となっている。しかしながら、対向電極３０をこのように構成することは必須ではなく、処理される容器１の形状、求められる殺菌レベル等を考慮して、対向電極３０を外周対向電極３０ａまたは底面対向電極３０ｂのみから構成してもよく、また外周対向電極３０ａを容器１の底面３よりも幾らか高い位置までしか延在しないようにしてもよく、また外周対向電極３０ａと底面対向電極３０ｂとを別体に構成してもよい。

対向電極３０は導電性の材料（例えばステンレス等の金属）からなる板又は網を誘電体２４の外周に巻き付けることによって形成することができる。処理槽２０の内部における放電現象を観察することができるよう、対向電極３０、特に外周対向電極３０ａは透光性を有することが望ましい。このような観点から、例えば金属網にて外周対向電極３０ａを構成すれば、その網目を通して放電現象を確認することができるので好ましい。本実施の形態においては、底面対向電極３０ｂを含む対向電極３０全体が金属網から構成されている。

また、このような対向電極３０を誘電体２４の所望の外面に導電性材料を蒸着して形成することもできる。この場合、蒸着条件を適正にすることにより、電極を薄く構成し処理槽２０の内部の放電現象を観察できる程度の透光性を対向電極３０に付与することができる。電極を形成するために蒸着する材料としては銅、アルミニウム、金、白金等の金属材料、その他各種の導電性材料を使用することができる。また、蒸着に代え、誘電体２４の所望の外面に導電性塗料を塗工して外周対向電極３０ａを形成することもできる。

次に、放電極３５について詳述する。

放電極３５はステンレス等の導電性材料を容器１内に挿入可能な太さの棒状部材（例えば、丸棒）に成形してなるものである。図４および図５に示すように、放電極３５は各処理槽２０の上方において上述した支持部材４７により上下方向に移動自在に支持されている。すなわち、処理槽蓋体２２の上下方向に移動に同期して移動し、図５に示すように、下方に移動した際に容器１の開口部１ａから容器１内に挿入される。

本実施の形態において、この放電極３５は高電圧パルス印加手段５７の正極と接続されて正極として機能する。高電圧パルス印加手段５７の負極および対向電極３０はいずれも接地される。放電極３５と対向電極３０との距離を短縮してなるべく小さいエネルギで放電現象を発生させることを考慮しつつ、放電極３５の太さは容器１に挿入可能な範囲で設定することが望ましい。放電極３５の長さは容器１に必要十分な深さで挿入できるように定めればよい。放電極３５の容器１への挿入量（長さ）は容器１の全高の１／１０〜９／１０の範囲に設定することが好ましい。放電極３５の挿入量が容器１の全高の１／１０に満たないと容器１内における放電量が不足し、挿入量が９／１０を超えると底面対向電極３０ｂ側に放電が集中して容器１の底面が熱変形するおそれがあるとともに、容器１の外周面側にて十分な殺菌効果が得られないおそれがあるからである。

図６（ａ）に放電極３５の一部を拡大して示し、同（ｂ）には放電極３５のさらに一部を拡大して示す。これらの図から明らかなように、放電極３５の容器１内への挿入範囲の全域には一条の螺旋状のねじ山３５ａが形成され、これにより放電極３５の挿入範囲のほぼ全域に亘って凹凸が設けられている。このように凹凸を設けるのは、放電現象を放電極３５の先端３５ｂに集中させることなく、放電極３５の容器１内への挿入範囲のほぼ全長に亘って均一に放電を生じさせるためである。つまり、放電極３５においては尖った部分で電界が集中して放電が生じるため、放電極３５の容器１への挿入範囲の全域に凹凸を満遍なく設けることにより、放電極３５の先端３５ｂに限らずねじ山３５ａの頂点から均一に放電を生じさせて容器１の各部で等しい殺菌作用を生じさせることができる。放電極３５の先端３５ｂはこの部分への放電の集中を避けるべくなるべく平坦に形成することが望ましい。

放電極３５に形成されるねじ山３５ａのピッチＰは０．０１ｍｍ〜１０ｍｍの範囲が好ましく、さらには０．１ｍｍ〜５ｍｍの範囲が好ましい。ピッチＰが０．０１ｍｍ未満の場合には凹凸の間隔が狭すぎて均一な放電が得られないおそれがあり、他方、ピッチＰが１０ｍｍを超える場合には凸部が疎らに分布して放電密度が減少する。また、ねじ山３５ａの頂角θは５°〜６０°の範囲が好ましく、さらには１０°〜４５°の範囲が好ましい。頂角θが５°未満の場合はねじ山３５ａの強度が不足するおそれがあり、頂角θが６０°を超えるとねじ山３５ａの頂部からの放電が弱められるおそれがあるからである。

次に、導入手段７０について説明する。

本実施の形態において、導入手段７０は所定の液体を蒸発させた蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の内部と外部とに導入することができるようになっている。図７に示すように、このような導入手段７０は、処理槽２０内まで延在する管７２と、管７２を加熱するヒーター８１と、管７２に所定のガスを供給するガス供給手段７８と、管７２に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段８０とを有している。

管７２の末端は、処理槽２０内の容器１内部に連通する内部導入管７４と、容器１外部に連通する外部導入管７６とから構成されている。図４および図５に示すように、内部導入管７４と外部導入管７６とは各処理槽２０の上方において上述した支持部材４７により上下方向に移動自在に支持されており、処理槽蓋体２２の上下方向の移動に同期して移動するようになっている。図５に示すように、下方に移動した際、内部導入管７４は容器１の開口部１ａから容器１内に挿入され、容器１の内部と連通し、外部導入管７６は処理槽開口部２０ａから処理槽２０と容器１との間に挿入され、処理槽２０内の容器１の外部と連通する。

図７に示すように、液体供給手段８０から供給される液体は管７２を介して混合部７２ａに向けて送り込まれる。この時、液体はバルブＶ１を介して液滴の状態で混合部７２ａに送り込まれる。また、供給されるガスは管７２を介して混合部７２ａに向けて送り込まれる。混合部７２ａで混合されたガスと液滴状の液体とがヒーター８１に送り込まれ、ヒーター８１で加熱されることにより液滴状の液体は蒸発して蒸気となり、加熱されたガスと合わさって蒸気混合ガスが生成されるようになっている。生成された蒸気混合ガスは内部導入管７４および外部導入管７６を介して処理槽２０内の容器１の内部と外部とに導入されるようになっている。なお、液体供給手段８０からの液体の供給およびガス供給手段７８からのガスの供給は、供給時間および供給量とも制御可能であり、流量計（図示せず）等の適当な計測器により監視することができるようになっている。また、本実施の形態においては、蒸気化した液体が再凝縮することのないよう、管７２を加熱（保温）するためのテープヒーター（リボンヒーター）７７が、ヒーター８１以降から処理槽２０近傍までの管７２に巻き付けられている。

また、図７に示すように、管路にはバルブＶ２，Ｖ３がさらに設けられており、ガス供給手段７８から供給されるガスをヒーター８１で加熱することなく常温のまま内部導入管７４および外部導入管７６を介して処理槽２０内の容器１の内部と外部とに導入することもできるようになっている。

なお、図７においては、図２を用いて上述した処理槽用殺菌剤供給手段５０ａが省略されている。上述したように、処理槽用殺菌剤供給手段５０ａは内部導入管７４および外部導入管７６に殺菌剤（過酸化水素ミスト）を導入することができるようになっており、これにより配管等の殺菌処理を行うことができる。

ガス供給手段７８から供給される所定のガスとしては、酸素、水素、窒素、二酸化炭素、空気、アルゴン、及びヘリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種類のガスを使用することができる。これらのガスによれば高電圧パルスを印加した際の絶縁破壊電圧を低下させることができて好ましい。また、上記群から選ばれる２種類以上のガスを混合して供給するようにしてもよい。その他にもプラズマ生成に寄与する限りにおいて種々のガスを利用することができる。ここで、所定のガスに空気が含まれることから、蒸気混合ガスは蒸気混合空気を含む概念と言える。

液体供給手段８０から供給される所定の液体としては水、とりわけ不純物を含まない純水が適している。純水を用いた場合、その供給量は容器１の内外面に曇りが生ずる程度でよく、付着する液滴は直径数μｍ程度の微粒子であることが好ましい。例えば容器１が容量２４０ｍＬ（ミリリットル）の樹脂製ボトルの場合において、容器１の内面及び外面のいずれに対しても０．０１ｇ〜１０ｇの範囲の純水を供給すればよい。なお、殺菌効果を向上させることができる限りにおいて、水（純水）に代え、エタノールやアセトン等を含む有機系水溶液や電解質等を含む無機系水溶液を供給するようにしてもよい。

なお、上述した導入手段７０は蒸気混合ガスを導入するようにした例を示したが、単なる所定の液体を蒸発させて生成した蒸気を供給するようにしてもよい。この場合、導入手段７０は処理槽２０内まで延在する管７２と、管７２に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段８０と、供給される液体を加熱するヒーター８１を有していればよい。また、このように蒸気を処理槽２０内に導入する導入手段７０とは別に、所定のガスを処理槽２０内に導入するガス導入手段（図示せず）を設けることもできる。

次に、高電圧パルス印加手段５７について詳述する。

図２および図９に示すように、高電圧パルス印加手段５７は、高電圧パルス電源５７ａと、高電圧パルスが印加される高電圧側レール５９と、接地された接地側レール５８とを有している。上述したように、高電圧側レール５９と接地側レール５８とは回転体４０の回転にともなった処理槽２０および放電極３５の移動経路の外方に移動経路に沿って延在しており、回転体４０の回転軸Ｌ１を中心とした円弧上に沿って配置されている。

図５に示すように、本実施の形態においては、高電圧側レール５９と接地側レール５８とは上下方向に離間して同一円弧上に配置されている。高電圧側レール５９は下方に移動した（容器１内に挿入された）放電極３５の上端部近傍、さらに詳しくは処理槽２０内に入り切らなかった部分の外方にこれと同じ高さレベルで配置され、接地側レール５８は対向電極３０の外方にこれと同じ高さレベルで配置されている。なお、外方とは回転体４０の半径方向に沿った方向において回転軸Ｌ１から離間する方向を意味する。

一方、図９に示すように、放電極３５および対向電極３０は高電圧側レール５９および接地側レール５８にそれぞれ接触するパンタグラフ３７，３２を有している。このパンタグラフ３７，３２は回転体４０の半径方向に沿って移動自在であり、また半径方向外方に向けて付勢されている。また、パンタグラフ３２，３７は、レール５８，５９に接触していない場合、各レール５８，５９の配置位置よりも回転体４０の半径方向外方の円弧上を移動するようになっている。したがって、処理槽２０および放電極３５が接地側レール５８および高電圧側レール５９の内方を移動する場合、各パンタグラフ３２，３７は各レール５８，５９に接触する。このとき、各パンタグラフ３２，３７は半径方向外方、すなわち各レール５８，５９に向けて付勢されているので、各電極３０，３５と各レール５８，５９とはパンタグラフ３２，３７を介して確実に接触し導通状態に保たれる。

高電圧パルス電源５７ａには例えば電圧３８〜８０ｋＶ、周波数１００〜３０００Ｈｚ（またはｐｐｓ）の高電圧パルスを放電極３５と対向電極３０との間に印加できるものが使用される。ただし、高電圧パルス電源５７ａの性能は殺菌対象の容器１の大きさや処理槽２０の容量に応じて適宜に変更してよい。

ところで、図９に示すように、殺菌装置１０は、高電圧パルス印加手段５７による放電電力の負荷状況を監視する放電電力監視手段６０をさらに備えている。放電電力監視手段６０は、印加される高電圧パルスの電圧を計測するための高電圧プローブ６３と、高電圧パルスの印加にともなって発生する電流を計測するための電流プローブ６２と、を有している。本実施の形態において、高電圧プローブ６３は接続線６３ａ，６３ａを介して高電圧側レール５９と接地側レール５８とに接続されるとともに、信号線６３ｂを介してデジタルオシロモジュールコントローラ６１に接続されている。また、本実施の形態において、電流プローブ６２は各処理槽２０毎に設けられ、各処理槽２０の対向電極３０に接続されるとともに、信号線６２ａを介して、例えばデジタルオシロモジュールコントローラ６１に接続されている。このような構成により、デジタルオシロモジュールコントローラ６１を介して放電電圧および放電電流を監視することができるようになっている。また、本実施の形態によれば、放電電力の負荷状況に異常があればデジタルオシロモジュールコントローラ６１から異常信号が発信されるようになっている。

さらに、図９に示すように、殺菌装置１０は放電光の発生状況を監視する放電光監視手段６５をさらに備えている。放電光監視手段６５は、大気圧プラズマにより生ずる放電光を検出し放電光の強さを電気信号に変換する放電光検出部６７と、放電光検出部６７から電気信号を受けて放電光の強さが所定の基準値以上であるかを判定する判定部６６と、を有している。放電光検出部６７はフォトダイオード、発光スペクトルモニター、あるいはＣＣＤカメラ等から構成することができ、光を検出して光の強さを電気信号に変換することができる限りにおいて特に限定されない。本実施の形態において、放電光の発生状況に異常があれば判定部６６から異常信号が発信されるようになっている。判定部６６は電気信号が所定の基準値以上か否かを判定することができる限りにおいて、特に限定されず、本実施の形態においては、判定部６６をアナログコンパレータから構成している。

また、これらの監視手段６０，６５において異常が発見され異常信号が発せられた場合、対象となる容器１は受け渡しホイール１６を介して不良品排出口１９から排出されるようになっている（図２）。

さらにまた、殺菌装置１０は、容器１が排出された処理槽２０に温風エアーを導入して処理槽２０を乾燥させる乾燥手段５６をさらに備えている。図１０に示すように、乾燥手段５６は支持部材４７により上方に移動させられた処理槽蓋体２２と、回転体４０上に載置された処理槽本体２１との間となる位置（高さレベル）に設けられている。この乾燥手段５６は上下方向に向けて、すなわち処理槽蓋体２２と処理槽本体２１とに向けて温風エアーを噴出する吐出孔５６ａを処理槽２０の移動方向に沿って多数有している。吐出孔５６ａから吐出される温風エアーの温度、吐出量は、処理槽蓋体２２および処理槽本体２２が通過中に完全に乾燥されるように適宜設定することができる。

次にこのような構成からなる殺菌装置１０により容器１を殺菌する方法について説明する。

まず、容器１の殺菌処理に先立って、上述した殺菌装置１０自体を殺菌剤（本実施の形態においては過酸化水素ミスト）により殺菌する。この場合、まず、処理槽用殺菌剤供給手段５０ａおよび殺菌剤供給手段５０により、処理槽２０内およびチャンバー１２内に３０℃から５０℃前後の温風を吹き込んで処理槽２０内およびチャンバー１２内を昇温する。次に、殺菌剤を処理槽２０内およびチャンバー１２内に吹き込む。その後、常温の空気を処理槽２０内およびチャンバー１２内に吹き込んで処理槽２０内およびチャンバー１２内を冷却するとともに、残留する過酸化水素成分を処理槽２０内およびチャンバー１２内から排出する。このような３つの各工程が３０分程度行われ、処理槽２０内およびチャンバー１２内が殺菌される。なお、このような殺菌装置１０自体の殺菌処理は、回転体４０が回転し、搬入手段１５ａおよび搬出手段１５ｂが駆動された状態で行われる。これにより、回転体４０の隅々まで殺菌処理することができるとともに、搬入手段１５ａおよび搬出手段１５ｂも殺菌処理することができる。また、上述したようにチャンバー１２には排気口１２ａが設けられているので、温風、過酸化水素ミスト、および空気が順次供給されている間、排気口１２ａからチャンバー１２内の気体が排出されチャンバー１２内の圧力が一定に保たれるとともに、効率的にチャンバー１２内雰囲気が置換されていくようになっている。

このようなチャンバー１２内の殺菌処理が終了した後、チャンバー１２内を含む搬入路１４ａよりも下流工程側は陽圧に保たれ、チャンバー１２内から搬入路１４ａに向けた気流がつくられる。したがって、このようなチャンバー１２内の殺菌処理が終了した後に、搬入路１４ａから菌が持ち込まれることが防止される。

次に、容器１の殺菌処理が行われる。

まず、図３を用いて殺菌方法の概略を説明する。

上述したように搬入手段１５ａにより搬入路１４ａを通過してチャンバー１２内に容器１が順次持ち込まれる。持ち込まれた容器１は受け渡しホイール１６を介して回転体４０上の処理槽２０内に順次配置されていく。図３に示すように、その後、回転体４０の回転にともなって処理槽２０が移動し、各容器１および各処理槽２０に対する殺菌処理が行われる。殺菌処理された容器１は受け渡しホイール１６を介して搬出手段１５ｂに受け渡され、搬出手段１５ｂにより搬出路１４ｂを通過して、次工程である充填工程（図１）へと搬送される。このような殺菌方法によれば、多数の容器１を順次連続して効率的に殺菌処理することができる。

次に、回転体４０の回転にともなって処理槽２０および容器１になされる処理工程を順に詳述していく。

まず、図４および図５に示すように、受け渡しホイール１６を介して処理槽本体２１の上方に搬送されてきた容器１が処理槽本体２１の支持手段２６上に配置される。その後、電極挿入領域Ａ１（図３）において、支持部材４７が降下して放電極３５が容器１の開口部１ａを介して容器１内に挿入される。このとき、放電極３５の降下にともない、同様に支持部材４７に支持された処理槽蓋体２２と、ガス導入手段７０の内部導入管７４および外部導入管７６とが降下する。図５に示すように、処理槽蓋体２２は互いのフランジ２１ａ，２２ａが対面するように処理槽本体２１上に載置され、また、処理槽本体２１側の外周対向電極３０ａと処理槽蓋体２２側の外周対向電極３０ａとが接点アーム２７，２８を介して導通する。また、同様に図５に示すように、ガス導入手段７０の内部導入管７４は容器１の開口部１ａを介して容器１内に連通し、外部導入管７６は処理槽２０内の容器１の外部に連通する。

次に、図５に示す状態で蒸気導入領域Ａ２（図３）に移動する。ここでは、導入手段７０により生成された蒸気混合ガスが、内部導入管７４と外部導入管７６とを介して処理槽２０内の容器１の内部と外部とへ導入される。

このとき、図８に示すように、ガス供給手段７８が一定期間連続してガスをヒーター８１に供給するとともに、液体供給手段８０がガスの供給期間内における所定期間連続して液体を液滴の状態でヒーター８１に供給することにより、蒸気混合ガスが生成される。このような方法で蒸気混合ガスを生成する場合、ヒーター温度、供給ガス流速、供給液体流速等を監視することにより、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器１に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽２０内へ導入することができる。

このようにして生成された蒸気が処理槽２０内に導入されると、容器１の内外面および処理槽２０内面に蒸気が結露して、容器１の内外面および処理槽２０の内面に微細な液滴が均一に付着する。また、蒸気は蒸気混合ガスとして処理槽２０内に導入されているので、液体の付着にともなって同時に処理槽２０内の容器１の内部および外部における雰囲気が殺菌処理に適した所定のガスで置換される。すなわち、高いレベルでの殺菌処理を非常に効率的に行うことができ、また、容器１への液体の付着と処理槽２０内の雰囲気置換とを別々に行う場合に比べて、殺菌工程を大幅に短縮することができる。

このとき処理槽２０内に導入される液体の適正な供給量は上述した通りであり、処理槽２０内面および容器１の内外面には曇りが生じる程度に液体が付着する。一方、内部導入管７４および外部導入管７６から導入されるガス流量は適宜に定められてよいが、例えば容器１が容量２４０ｍＬの樹脂製ボトルの場合には、内部導入管７４および外部導入管７６ともそれぞれ０．１Ｌ／ｍｉｎ．〜１０００Ｌ／ｍｉｎ．の範囲、より好ましくは１０Ｌ／ｍｉｎ．〜４００Ｌ／ｍｉｎ．の範囲にし、ガスの供給時間は内部導入管７４および外部導入管７６のいずれにおいても、０．０５秒〜６０秒の範囲であることが好ましく、また０．１秒〜１０秒の範囲に設定することがさらに好ましい。

また、このときのヒーター８１の温度は１００℃より高いことが好ましく、また１３０℃以上であることがさらに好ましい。このようにヒーター８１の温度を高く設定することにより、液体がより蒸発しやすくなるとともに、いったん蒸気化した液体が再凝縮することをより確実に防止することができるからでる。また、これにともない上述したテープヒーター７７の温度を８０℃に以上に設定しておくことが好ましく、１００℃より高く設定しておくことがさらに好ましい。これにより、ヒーター８１以降の管７２内で蒸気が再凝縮することを防止することができる。

ところで、このとき、雰囲気置換前に処理槽２０内の容器１の内部に滞留していた気体は容器１の開口部１ａおよび処理槽開口部２０ａを介して処理槽２０外に排気され、処理槽２０内の容器１の外部に滞留していた気体は処理槽開口部２０ａを介して処理槽２０外に排気される。

なお、図８におけるガス供給手段７８および液体供給手段８０の一つのＯＮ状態は一つの処理槽２０に対応するものである。この例では、蒸気導入領域Ａ２（図３）を一つの処理槽２０のみが通過する、あるいは多数通過する処理槽２０に一つずつ蒸気混合ガスを供給するようになっているが、これに限られず、供給量を適宜変更して複数の処理槽２０へ同時に蒸気混合ガスを導入するようにしてもよい。

次に、容器１を収容した処理槽２０および容器１内に挿入された放電極３５は、放電領域Ａ３（図３）に移動する。放電領域Ａ３に入ると、処理槽２０および放電極３５の移動経路の半径方向外方に、移動経路に沿って高電圧パルス印加手段５７の高電圧側レール５９と接地側レール５８とが設けられている。各放電極３５はパンタグラフ３７を介して高電圧パルスを印加された高電圧側レール５９に順次接触していき、各対向電極３０はパンタグラフ３２を介して接地された接地側レール５８に順次接触していく。これにより、放電極３５と対向電極３０との間に常温常圧下で高電圧パルスが印加され、放電極３５と対向電極３０との間に放電が生じ、容器１の内外に存在するガスが電離されて大気圧プラズマが発生する。

また、処理槽２０が放電領域Ａ３（図３）を移動する間、すなわち放電極３５と対向電極３０との間に高電圧パルスが印加されている間、導入手段７０からは所定のガスが導入され続ける。このガスは、酸素、水素、窒素、二酸化炭素、空気、アルゴン、及びヘリウムからなる群から選ばれる一種類または２種類以上のガスであることが好ましいが、蒸気導入領域Ａ２（図３）で導入されたガスと同一である必要はない。また、ガス流量は蒸気導入領域Ａ３（図３）でのガス流量よりも減少させることが望ましい。蒸気導入領域Ａ３（図３）では雰囲気置換をなるべく短時間で完了するためにガス流量が多くなるように設定されるが、高電圧パルスの印加中にもそのような大流量でガスを供給すれば放電が必要以上に活発化されて容器１の内外面に均一に殺菌効果を生じさせることが困難となるからである。高電圧パルスの印加中のガス流量は放電極３５と対向電極３０との間の特定箇所に偏ってプラズマが生じることなく、放電極３５の全周でプラズマが均一に維持される程度の流量に設定することが望ましい。例えば、容量２４０ｍＬの樹脂製ボトルの場合、高電圧パルスを印加している間のガス流量は、内部導入管７４および外部導入管７６とも０．１Ｌ／ｍｉｎ．〜１０Ｌ／ｍｉｎ．の範囲に設定するとよい。高電圧パルスの印加時間が十分に短い場合には、印加中においてガスの流量を０、すなわちガスの導入を停止してもよい。

これらのことから、処理槽２０内面と容器１の内外面とが同時に殺菌される。また、容器１の内外面および処理槽２０の内面には殺菌に適した液体の液滴が付着されているとともに、処理槽２０内には殺菌に適したガスが充満されている。これにより、絶縁破壊抵抗が低下し、また多くの活性酸素種が生じるので、処理槽２０の内面とともに容器１の内外面を同時に高いレベルで殺菌することができる。特に、処理槽２０内へ蒸気を導入することにより容器１へ液体を付着させているので、付着した液体は微細かつ均一な液滴となる。これにより、プラズマの発生が均一となりかつ安定するので、殺菌効果のばらつきを解消して殺菌処理の信頼性を高めることができるとともに殺菌効果を格段に向上させることができる。さらに、容器１の殺菌にともなって処理槽２０内面も高いレベルで殺菌処理されることから、２次汚染の発生を防止することができる。

なお、高電圧パルス電源５７ａから印加する高電圧パルスの範囲は上記の通りである。高電圧パルスの印加を継続する時間は容器１の容量にもよるが、０．１秒〜６０秒、より好ましくは１秒〜１０秒範囲である。

また、このような高電圧パルスが印加されている間、放電電力監視手段６０の高電圧プローブ６３と電流プローブ６２とを介して、印加される高電圧パルスの電圧と発生する電流とを確認することにより放電電力の負荷状況が監視される。さらに、放電光監視手段６５によって、大気圧プラズマで生ずる放電光の強さを確認することにより放電光の発生状況が監視される。

このようにして、容器１が殺菌処理された後、処理槽２０等は電極取外領域Ａ４（図３）へと移動する。ここでは、支持部材４７が上方に移動して処理槽蓋体２２とともに放電極３５、内部導入管７４、および外部導入管７６が上方に移動される。そして、異常なく殺菌された容器１は上述したように受け渡しホイール１６を介して搬出手段１５ｂに移載されるとともに、搬出路１４ｂを通って殺菌装置１０のチャンバー１２から排出され、次工程である充填工程（図１）に持ち込まれる。

一方、放電電力監視手段６０または放電光監視手段６５によって異常が発見された場合には、異常信号を発するとともに対象となる容器１は、受け渡しホイール１６を介して搬出手段１５ｂに移載されることなく不良品排出口１９から排出されるようになっている（図２）。このようにして、容器１の殺菌処理状態を１つずつ監視して殺菌不十分の容器１を排除することにより、容器１の殺菌状態を一定基準以上に維持することができるとともに、殺菌処理の信頼性をさらに向上させることができる。

ところで、容器１を取り出された処理槽２０は乾燥領域Ａ５（図３）へと移動する。図１０に示すように、乾燥領域では乾燥手段５６により温風が処理槽本体２１と、処理槽蓋体２２および放電極３５とに向けて噴出される。これにより、蒸気導入工程で液体が付着した処理槽２０が順次確実に乾燥されていく。乾燥された処理槽２０内には、殺菌装置１０に搬入されてきた未殺菌の容器１が再度配置され、上述した殺菌工程が繰り返されていく。この場合、殺菌されるべき容器１を再度配置される前に、乾燥手段５６によって処理槽２０は乾燥されているので、常に一定の条件で容器１の殺菌処理が行われる。これにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

以上のように本実施の形態によれば、導入手段７０により蒸気が処理槽２０内の容器１の内部および外部に導入し、容器１の内外面に液体を付着させることができる。そして、容器１の内外面および処理槽２０の内面に液体が付着した状態で放電極３５と対向電極３０との間に高電圧パルスが印加され、処理槽２０内の容器１の内外に存在する気体がプラズマ化するので、多くの活性酸素種が生じ、処理槽の内面とともに容器の内面および外面を同時に高いレベルで殺菌することができる。特に、処理槽内へ蒸気を導入することにより容器へ液体を付着させているので、付着した液体は微細かつ均一な液滴となる。これにより、プラズマの発生が均一となりかつ安定するので、殺菌効果のばらつきを解消して殺菌処理の信頼性を高めることができるとともに殺菌効果を格段に向上させることができる。さらに、容器１の内面および外面の殺菌にともなって処理槽２０の内面も高いレベルで殺菌処理されることから、容器１を収容する処理槽２０の汚れを原因とする２次汚染を防止することができる。

また、本実施の形態によれば、導入手段７０は蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の内部および外部に導入するので、容器１に所定の液体を付着させると同時に処理槽２０内の雰囲気を所定のガスで置換することができる。このような方法によれば、処理槽２０内を殺菌に適した雰囲気に置換するので、殺菌効果をさらに向上させることができる。特に、蒸気混合ガスを導入することにより容器１への液体の付着と処理槽２０内の雰囲気置換を同時に行っているので、上述した高いレベルでの殺菌処理を非常に的確かつ効率的に行うことができる。また、容器１への液体の付着と処理槽２０内の雰囲気置換とを別々に行う場合に比べ、殺菌工程を大幅に簡略化することができる。

さらに、本実施の形態によれば、導入手段７０は一定期間連続して所定のガスをヒーターに供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することができ、これにより、蒸気混合ガスが生成されている。このような方法によれば、ヒーター温度、供給ガス流速、供給液体流速等を監視することにより、液体が蒸発しきれずに液滴の状態で容器１に向けて噴射されることを防止することができ、また、所望の量の液体を確実に蒸気化した状態で処理槽２０内へ導入することができる。これらにより、常に一定量の液体を容器１に均一に付着させることができるので、殺菌効果が常に一定となり殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

さらにまた、本実施の形態によれば、放電極３５の移動経路に沿って設けられた高電圧側レール５９と放電極３５とがパンタグラフ３７を介して接触して導通し、処理槽２０の移動経路に沿って設けられ接地された接地側レール５８と処理槽２０の対向電極３０がパンタグラフ３２を介して接触して導通するようになっている。これにより、放電極３５と対向電極３０との間に高電圧パルスが印加されるようになっている。これにより、放電極３５および処理槽２０の移動にともなって自動的に各電極と各レールが導通状態および非導通状態となるので、特段の制御装置を必要とせず高電圧パルスの印加を簡易、確実そして安全に制御することができる。また、高電圧側レール５９および接地側レール５８を変更することにより、容易に所望の印加状態を得ることができる。また、多数の容器１を順次効率的に殺菌処理していくことができる。

また、本実施の形態によれば、各電極３０，３５と各レール５８，５９がパンタグラフ３２，３７を介して接触することから、電極３０，３５とレール５８，５９との間の導通をより確実にとることができ、これにより、容器１の殺菌処理をより確実に行うことができる。また、多数の容器１を順次効率的に殺菌処理していくことができる。

さらに、本実施の形態によれば、放電電力監視手段６０により放電電力の負荷状況を監視することができ、放電光監視手段６５により放電光の発生状況を監視することができる。これにより、簡単な構成により容器１の放電状態を１つずつ確認することができ、殺菌不十分の容器１を排除することにより容器１の殺菌状態を一定基準以上に維持することができる。よって、殺菌処理の信頼性をさらに向上させることができる。

さらにまた、本実施の形態によれば、乾燥手段５６が設けられていることから、殺菌済みの容器１を排出された処理槽２０に温風エアーを導入することができ、これにより、処理槽は殺菌されるべき容器１を再度収納する前に乾燥されるようになっている。このような方法によれば、殺菌されるべき容器１を配置する前に処理槽２０が乾燥しているので、常に一定の条件で容器１の殺菌処理を行うことができる。これにより、殺菌効果のばらつきを防止し、殺菌処理の信頼性をさらに高めることができる。

またさらに、本実施の形態によれば、殺菌剤供給手段５０および処理槽用殺菌剤供給手段５０ａが設けられており、容器１の殺菌処理に先立ち、処理槽２０および放電極３５を含む殺菌装置１０を過酸化水素ミスト（殺菌剤）により殺菌処理（無菌化）することができるようになっている。このように容器１の殺菌処理に先立ち殺菌装置を殺菌処理することにより、上述した処理槽２０内面の殺菌効果とあいまって、処理装置の汚れを原因とする２次汚染を完全に防止することができる。

なお、上述した実施の形態において、蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の内部および外部に同時に導入して、処理槽２０内の容器１の内部および外部の雰囲気を所定のガスで置換するとともに、処理槽２０内面と、容器１の内面および外面とに液体を付着させる例を示したが、これに限られない。

上述したように、蒸気混合ガスは液体とガスとを加熱して生成されているため、生成された蒸気混合ガスは高温となっている。このため、処理槽２０の形状および大きさ、または容器１の形状および大きさによっては、容器１が内部から加熱されて高温となり容器１の外部に結露して一度付着した液滴が再度蒸発する虞がある。この場合、蒸気の導入方法を以下のように変形してもよい。

まず、第１の変形例として、図１１に示すように、導入手段７０ａが、処理槽２０内まで延在する管７２と、管７２を加熱するヒーター８１と、管７２に所定のガスを供給するガス供給手段７８と、管７２に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段８０と、管７２に空気を供給する空気供給手段８２と、を有し、処理槽２０内に所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガス、および空気を導入することができるようにしてもよい。なお、図１１において、上述した実施の形態と同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。

図１１に示すように、この導入手段７０ａにおいては、空気供給手段８２が外部導入管７６に連通しており、処理槽２０内の容器１の外部に空気を導入することができるようになっている。また、バルブＶ４，Ｖ５により蒸気混合ガスを処理槽２内の容器１の内部のみ、あるいは容器１の外部のみに供給することもできるようになっている。なお、図１１においては処理槽用殺菌剤供給手段５０ａを省略しているが、図２に示すように、処理槽用殺菌剤供給手段５０ａを設けてもよいし、殺菌剤供給手段５０とバルブを介して連通させるようにしてもよい。

このような導入手段７０ａを用いれば、蒸気を導入する工程を、蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の内部に導入する工程と、次に、空気を処理槽２０内の容器１の外部に導入する工程と、その後、蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の外部に導入する工程と、から構成することができる。このような方法によれば、蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の内部に導入した後、空気を処理槽２０内の容器１の外部に導入にし、容器１の内面に付着した液滴に影響を及ぼすことなく容器１の表面温度を下げることができ、これにより、その後に容器１の外面に付着した液体の蒸発が防止され、容器１の内面および外面による液体付着量のばらつきを防止することができる。このため、容器１の内外面による殺菌効果のばらつきを防止し、容器１をさらに均一に殺菌することができる。

また、図１１において２点鎖線で示す冷却装置８５を導入手段７０ａに設け、この冷却装置８５を介して冷却した空気を処理槽２０内の容器１の外部に導入するようにしてもよい。このようにすると、容器１の冷却を効率的に行うことができ、上述した効果をより顕著に得ることができる。なお、冷却装置８５による冷却方法としては空気を断熱膨張させて冷却させる方法等を用いることができ、空気を１０℃以下まで冷却させることが好ましい。

また、このような方法においても、上述したように蒸気混合ガスは、一定期間連続して所定のガスをヒーター８１へ混合部７２ａを経由して供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して液体を液滴の状態でヒーター８１へ混合部７２ａを経由して供給することにより、生成することができる。

次に、第２の変形例として、図１２に示すように、導入手段７０ｂが、処理槽２０内まで延在する管７２と、管７２を加熱するヒーター８１ａ，８１ｂと、管７２に所定のガスを供給するガス供給手段７８と、管７２に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段８０と、管７２に空気を供給する空気供給手段８２と、を有し、処理槽２０内に所定の液体を蒸発してなる蒸気と空気とを混合した蒸気混合空気、所定の液体を蒸発してなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガス、および所定のガスを導入することができるようにしてもよい。なお、図１２において、上述した実施の形態または変形例と同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。

図１２に示すように、この導入手段７０ｂにおいては、第１ヒーター８１ａおよび第２ヒーター８１ｂの２つのヒーターが設けられており、第１ヒーター８１ａは所定のガスと所定の液体とを加熱して蒸気混合ガスを生成し、第２ヒーター８１ｂは空気と所定の液体とを加熱して蒸気混合空気を生成することができるようになっている。また、液体供給手段７８はバルブＶ１ａ，Ｖ１ｂを操作することにより、混合部７２ａを経由して第１ヒーター８１ａのみに、あるいは混合部７２ｂを経由して第２ヒーター８１ｂのみに液体を供給することができるようになっている。生成された蒸気混合ガスは外部導入管７６を経て処理槽２０内の容器１の外部に導入され、蒸気混合空気は内部導入管７４を経て処理槽２０内の容器１に内部に導入されるようになっている。なお、ヒーター８１ａ，８１ｂを１つにするとともにヒーターにより加熱される管７２にバルブを設け、バルブを操作することにより蒸気混合ガスと蒸気混合空気とを生成しわけるようにしてもよい。また。この導入手段７０ｂにおいては、バルブＶ６，Ｖ７により常温の所定のガスを処理槽２０内の容器１の内部のみ、あるいは外部のみに供給することができるようになっている。なお、第１の変形例と同様に、図１２においては処理槽用殺菌剤供給手段５０ａを省略しているが、図２に示すように、処理槽用殺菌剤供給手段５０ａを設けてもよいし、殺菌剤供給手段５０とバルブを介して連通させるようにしてもよい。

このような導入手段７０ｂを用いれば、蒸気を導入する工程を、蒸気と空気とを混合した蒸気混合空気を処理槽２０内の容器１の内部に導入する工程と、次に、所定のガスを処理槽２０内の容器１の内部に導入する工程と、その後、蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを処理槽２０内の容器１の外部に導入する工程と、から構成することができる。このような方法によれば、蒸気混合空気を処理槽２０内の容器１の内部に導入した後、常温の所定のガスで処理槽２０内の容器１の内部の雰囲気を置換するとともに容器１内部を確実に冷却することができる。これにより、その後に容器１の外面に付着する液体の蒸発が防止され、容器１の内面および外面による液体付着量のばらつきを防止することができる。このため、容器１の内外面による殺菌効果のばらつきを防止し、容器１をさらに均一に殺菌することができる。

また、上述した変形例１と同様に、冷却装置８５（図１２における２点鎖線）を導入手段７０ｂに設け、この冷却装置８５を介して冷却したガスを処理槽２０内の容器１の外部に導入するようにしてもよい。このようにすると、容器１の冷却を効率的に行うことができ、上述した効果をより顕著に得ることができる。なお、冷却装置８５による冷却方法としては空気を断熱膨張させて冷却させる方法等を用いることができ、空気を１０℃以下まで冷却させることが好ましい。

また、このような方法においても、上述したように蒸気混合ガスおよび蒸気混合空気は、一定期間連続して所定のガスまたは空気をヒーター８１ａ，８１ｂへ混合部７２ａを経由して供給するともに、ガスまたは空気の供給期間内における所定期間連続して液体を液滴の状態でヒーター８１ａ，８１ｂへ混合部７２ａを経由して供給することにより、生成することができる。

またさらに、図１３に示したように容器１の内部に蒸気等を導入する内部導入管７４ａの内側に放電極３５を同軸に配置することにより、放電極３５の周囲から容器１の内部に蒸気等を放出するようにしてもよい。このような構成によれば、容器１の内部に放電極３５および内部導入管７４ａを容易に挿入でき、容器１の開口部１ａが狭い場合に特に有利である。また、放電極３５および内部導入管７４ａをいずれも容器１の中心線上に配置できるので、放電極３５と外周対向電極３０ａとの距離を容器１の全周において等しく維持しつつ、容器１の内部において中心線上から周囲に均等に蒸気等を拡散させて容器１の内部における蒸気等の分布の偏りを防ぐことができる。なお、図１３において、上述した実施の形態または変形例と同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。

また、本実施の形態においては、処理槽２０の移動にともなって、放電極３５と高電圧側レール５９とがパンタグラフ３７を介して接触して導通し、対向電極３０と接地側レール５８とがパンタグラフ３２を介して接触して導通することにより、放電極３５と対向電極３０との間に高電圧パルスを印加して処理槽２０内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、処理槽２０内面とともに容器１の内面と外面とを同時に殺菌する例を示したが、これに限られない。放電極３５と接地側レール５８とがパンタグラフ３７を介して接触して導通し、対向電極３０と高電圧側レール５９とがパンタグラフ３２を介して接触して導通することにより、放電極３５と対向電極３０との間に高電圧パルスを印加するようにしてもよい。さらには、放電領域Ａ３（図３）の前半部分を通過する際に、放電極３５と高電圧側レール５９とがパンタグラフ３７を介して接触して導通し、対向電極３０と接地側レール５８とがパンタグラフ３２を介して接触して導通し、その後、放電領域Ａ３の後半部分を通過する際に、放電極３５と接地側レール５８とがパンタグラフ３７を介して接触して導通し、対向電極３０と高電圧側レール５９とがパンタグラフ３２を介して接触して導通することにより、極性を途中で変更しながら放電極３５と対向電極３０との間に高電圧パルスを印加するようにしてもよい。このような高電圧パルスの印加方法は、例えば、高電圧側レール５９と接地側レール５８とを処理槽２０の移動方向に沿って分割するとともに、移動方向に沿った前半部分と後半部分とで高電圧側レール５９と接地側レール５８との高さ方向の配置位置を相互に入れ替えることにより容易に実施することができる。このように放電極３５および対向電極３０の極性を変えながら高電圧パルスを印加することにより、容器１の内外面および処理槽２０の内面を全面にわたってより均一に殺菌処理することができる。なお、放電極３５および対向電極３０の極性の変更は当然に１回に限られるものではなく、容器１の形状の複雑さや、求められる殺菌レベル等を考慮して、放電極３５および対向電極３０の極性を２回または３回以上変更するようにしもよい。

さらに、殺菌されるべき容器の形状や要求される殺菌レベルに応じて、図１４乃至図１７に示すような処理槽１００を用いることもできる。なお、図１４乃至図１７において、上述した実施の形態または変形例と同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。

この処理槽１００は、容器１を下方から支持するステージ１１０と、そのステージ１１０上に載置される円筒形の筒状体１１１と、蓋としての蓋１１２とを備えている。ステージ１１０、筒状体１１１及び蓋１１２はいずれも誘電体製である。この場合、筒状体１１１またはステージ１１０のどちらかまたは両方が透光性を有することが好ましい。外周対向電極３０ａは筒状体１１１の外周に、底面対向電極３０ｂはステージ１０の下面にそれぞれ密着して配置されることにより処理槽１００の一部を構成している。

ステージ１１０及び蓋１１２は筒状体１１１の下端及び上端の開口部１１１ａ、１１１ｂをそれぞれ確実に覆うように筒状体１１１よりも大きく形成されている。ステージ１１０は上述した回転体４０の下方テーブル４１上に配置されてもよい。ステージ１１０と筒状体１１１とは一体化されてもよいし、分離可能であってもよい。蓋１１２は筒状体１１１に対して開閉可能に取り付けられてもよいし、筒状体１１１から分離され、上述した支持部材４７のような適当な駆動手段により筒状体１１１に対して開閉駆動されてもよい。なお、蓋１１２は開口部１１１ｂを完全に閉じる必要はなく、収容スペースＳからの蒸気等の拡散を妨げるように開口部１１１ｂを狭められるものであればよい。図１４では、蓋１１２に放電極３５および導入手段７０の内部導入管７４および外部導入管７６を通すための抜き孔１１２ａ、１１２ｂが設けられている。これらの抜き孔１１２ａ、１１２ｂは多少大きめに形成されることにより、置換されるガス等を処理槽１００外へ排出するためのガス抜き孔として機能する。抜き孔１１２ａ、１１２ｂとは別にガス抜き用の孔を設けてもよい。

また、このような処理槽１００においては、外周対向電極３０ａは筒状体１１１の外周をその全周に亘って取り囲む円筒形状に形成されている。外周対向電極３０ｂの上端は収容スペースＳに配置された容器１よりも高く、かつ筒状体１１１の上端よりは低い位置にある。外周対向電極３０ａの下端はステージ１１０の上面と同一の高さに位置している。但し、外周対向電極３０ａの下端は容器１の底面３よりも幾らか高い位置にあってもよい。

また、図１５（ａ）に示したように、底面対向電極３０ｂはその外周３０ｃが外周対向電極５よりも外側に位置するか、または図１５（ｂ）に示すようにその外周３０ｃが外周対向電極３０ａと一致するように設けることが望ましい。図１５（ｃ）に示すように底面対向電極３０ｂの外周３０ｃが外周対向電極３０ａよりも内側に位置していると、放電極３５と底面対向電極３０ｂの外周３０ｃとの間に放電が集中し、放電極３５と外周対向電極３０ａとの間に十分な放電が生じないおそれがある。ステージ１１０が透光性を有する場合には底面対向電極３０ｂにも透光性を与えて処理槽１００内部の放電現象を処理槽１００の底側から観察可能としてもよい。

また、このような処理槽１００を図１４に示す状態から上下反転させ、図１６に示すようにして用い、容器１の処理槽１００への出し入れを下側から行うようにしてもよい。さらに、図１７は、外周対向電極３０ａおよび底面対向電極３０ｂを保護するため、処理槽１００の筒状体１１１の外側及びステージ１１０の下面側に、外周対向電極３０ａおよび底面対向電極３０ｂを覆う保護層１２５、１２６を設けた例である。これらの保護層１２５、１２６は、筒状体１１１およびステージ１１０と同じく誘電体にて構成することが望ましい。また、処理槽１００の内部における放電現象を観察可能とするため、これらの保護層１２５、１２６にも透光性を付与することが望ましい。なお、保護層１２５、１２６のうちいずれか一方のみを設けるようにしてもよい。

また、支持手段２６についても、図１８乃至図２１に示すように変形してもよい。なお、図１８乃至図２１に示す支持手段の変形例は、図１４乃至図１７を用いて説明した処理槽１００について説明しているが、当然に上述した分離相似型の処理槽２０に適用してもよい。また、図１８乃至図２１において、上述した実施の形態または変形例と同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。

図１８および図１９に示す形態では、ステージ１１０の上面１１０ａに容器１よりも半径方向に大きい凹部１１０ｂを形成し、その凹部１１０ｂ内に容器１の底面３を支える複数のリブ１１０ｃを半径方向に間隔を空けて設けることによりリブ１１０ｃを支持手段として機能させている。この場合には図１８に示したように処理槽１００の内底面を構成する凹部１１０ｂの底面と容器１の底面３との間に隙間１１９が形成される。そして、凹部１１０ｂの外周からその隙間１１９に矢印Ｇで示すごとくガス等が導入される。

図２０に示す形態では、容器１よりも大径の網１２０の裏面側に脚部１２１を設けて支持手段を構成している。この場合には、ステージ１１０の上面１１０ａに脚部１２１を載せ、網１２０に容器１の底面３を載せることにより、容器１の底面３と処理槽１００の内底面１１０ａとの間に隙間１１９が生じる。そして、矢印Ｇで示すように網１２０を通過して隙間１１９にガス等が導入される。脚部１２１は半径方向に間隔を空けて設けられてもよいし、リング状でもよい。

図２１に示す形態では、処理槽１００を上下に反転させ、容器１の首部１ｂを把持可能な爪部材１２２と、その爪部材１２２を蓋１１２の内面１１２ｃ上に支持する脚部１２３とによって支持手段を構成している。この場合には、処理槽１００の内底面を構成する蓋１１２の内面１１２ｃと容器１との隙間１１９に、爪部材１２２または脚部１２３の隙間から矢印Ｇで示したように蒸気等を導入することにより、開口部１ａを取り囲む天面を蒸気等と接触させることができる。

なお、容器１の底面３に例えばペタロイドのような凹凸が付されることにより、容器１の底面３と処理槽１００の内底面との間に十分な隙間が生じる場合にはスペーサ等の支持手段を省略してもよい。

また、放電極３５についても、例えば図２２および図２３に示すように、殺菌対象となる容器の形状等に応じて様々な変形が可能である。また、図２２および図２３において、上述した実施の形態または変形例と同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。

放電極３５の容器１内への挿入範囲を、容器１の内周面に沿った形状に形成してもよい。例えば図２２に示すように容器１の内周面が開口部１ａに向かって漸次拡大するテーパ面状に形成されている場合、放電極３５の外周を容器１の内周面に倣って漸次拡大させてもよい。

また、放電極は棒状又は軸状に形成されたものに限らない。例えば図２３に示すように容器１がその深さに比して開口部１ａの直径が十分に大きい丼又はボウル型の場合には、放電極３５をリング状に形成してこれを容器１に水平に挿入することも可能である。

その他にも、本発明は適宜の形態で実施できる。容器１はＰＥＴボトル等の樹脂製容器１に限らず、導電性材料にて構成されていない限りは本発明の殺菌対象に含めることができる。本発明において殺菌効果を高めるためには容器１の内外面に対するガスの導入とともに、容器１の内外面に水分を付着させることが望ましい。但し、要求される殺菌効果のレベルが低い場合には水分の付着を省略しても十分な殺菌効果が得られることがある。処理槽２０は分離相似型や円筒型に限らず、断面多角形状であってもよい。放電極３５、内部導入管７４、および外部導入管７６を複数設けてもよい。

〔第２の実施の形態〕
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。

図２４乃至図３３Ｂは本発明による殺菌方法および殺菌装置の第２の実施の形態を説明する図である。このうち図２４は殺菌方法および殺菌装置を示す上面図であり、図２５は殺菌装置内における各処理内容を説明する図であり、図２６は容器の外面に液体を付着させる方法および付着手段の概略構成を示す図であり、図２７は容器の内部に蒸気を導入する方法および導入手段の概略構成を示す図であり、図２８は容器の内部への蒸気の導入方法を説明する図であり、図２９は殺菌装置を示す部分断面図であり、図３０および図３１は殺菌装置の動作方法を説明する図であり、図３２は高電圧パルス印加手段の概略構成を示す図であり、図３３Ａおよび図３３Ｂは処理槽の動作方法を説明する図である。

なお、図２４乃至図３３Ｂに示された第２の実施の形態において、上述した第１の実施の形態およびその変形例と同一部分には、図２４乃至図３３Ｂ中に同一符号を付し、重複する説明は省略する。

図２４乃至図３３Ｂに示すように、本実施の形態において殺菌対象となる容器は、第１の実施の形態と同一である。

まず、本実施の形態における殺菌装置２１０について説明する。

図２４乃至図３２に示すように、殺菌装置２１０は、チャンバー１２と、チャンバー１２内に設けられた処理チャンバー（処理室）２１７と、処理チャンバー２１７外に配置され、回転軸Ｌ２を中心として回転自在な第１の回転体２４４と、第１回転体２４４によって搬送される殺菌対象の容器１の外面に所定の液体を付着させる付着手段２８６と、第１回転体２４４によって搬送される殺菌対象の容器１の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段２７０と、処理チャンバー２１７内に配置され、回転軸Ｌ１を中心として回転自在な第２回転体２４０と、処理チャンバー２１７内に配置され、第２回転体２４０に支持された仕切部材２１８と、処理チャンバー２１７内に配置され、第２回転体２４０に支持された複数の処理槽２２０であり、少なくとも一部分が対向電極３０で覆われ殺菌対象の容器１が内部に配置される処理槽２２０と、各処理槽２２０に対応して設けられ、処理槽２２０内に配置される容器１内に挿入される放電極３５と、高電圧パルスが印加される高電圧側レール２５９と接地された接地側レール２５８とを有する高電圧パルス印加手段２５７と、を備えている。

図２４に示すように、殺菌装置２１０のチャンバー１２内は、後に詳述するよう、処理チャンバー２１７を介し、第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとに区画（区分け）されている。そして、第１の実施の形態と同様に、チャンバー１２外よりもチャンバー１２内を陽圧（高圧）に保つことができるようになっているとともに、本実施の形態においては、さらに、第１処理スペース２０５ａよりも第２処理スペース２０５ｂを陽圧に保つことができるようになっている。したがって、殺菌装置２１０の稼働中に、チャンバー内からチャンバー外に向けた気流をつくりだすことができるとともに、チャンバー１２内においては第２処理スペース２０５ｂから第１処理スペース２０５ａに向けた気流をつくりだすことができる。また、本実施の形態において、搬入路１４ａおよび不良品排出口１９は第１処理スペース２０５ａに設けられ、一方、搬出路１５ｂは第２処理スペース２０５ｂに設けられている。さらに、図２４に示すように、本実施の形態において、殺菌剤供給手段５０は、処理チャンバー２１７内を含み、チャンバー１２の第１処理スペース２０５ａおよび第２処理スペース２０５ｂに殺菌剤を供給するようになっている。

まず、主に図２４および図２６乃至２７を用いて、第１回転体２４４と、第１回転体２４４によって搬送される容器１を処理する付着手段２８６および導入手段２７０について説明する。

第１回転体２４４は、モーター等の駆動手段（図示せず）を介して回転軸Ｌ２を中心として回転自在となっており、また、受け渡しホイール１６を介して搬送手段１５ａによって搬送されてきた殺菌対象の容器１を順次受けるようになっている。図２４に示すように、第１回転体２４４は、回転軸Ｌ２を中心とした円周上に等間隔を空けて容器１を保持し、回転軸Ｌ２を中心として回転することによって保持した容器１を搬送するようになっている。

付着手段２８６は、第１回転体２４４によって搬送される容器１に向けて所定の液体を吹き付け、容器１の外面に液体を付着させるようになっている。図２４および図２６に示すように、このような付着手段２８６は、第１回転体２４４により搬送される容器１の移動経路の所定区間に沿って配置された複数の２流体スプレー２８７と、管２８９ａを介して２流体スプレー２８７に連通した空気供給手段２８２と、管２８９ｂを介して２流体スプレー２８７に連通するとともに、管２８９ｃを介して空気供給手段２８２に連通した液体タンク２８８と、を有している。

空気供給手段２８２は、管２８９ａを介し、所定圧力および所定流量の空気を２流体スプレー２８７に送り込むようになっている。

液体タンク２８８内には所定の液体が収容されている。液体タンク２８８は図示しない液体供給手段に連通している。そして、液体供給手段は液体タンク２８８に液体を供給して、液体タンク２８８内に蓄えられている液体の量が常に一定範囲内となるようにしている。管２８９ｂの液体タンク２８８内にある端部は、所定量に調整された液体中まで延びている。一方、管２８９ｃの液体タンク２８８内にある端部は、液体中まで延びていない、すなわち、液体中に浸かっていない。そして、この管２８９ｃを介し、空気供給手段２８２から液体タンク２８８内に空気が送り込まれ、これにともない、管２８９ｂを介し、液体タンク２８８から２流体スプレー２８７へ液体が送り込まれるようになっている。なお、空気供給手段２８２は、液体タンク２８８中の圧力が所定の圧力値となるように、液体タンク２８８へ空気を送り込むようになっており、これにより、２流体スプレー２８７に所定流量かつ所定圧力の液体が送り込まれる。

なお、各要素には、流量計や圧力計等の適切な計器が設けられており、これによって、上述した各圧力や各流量が一定の値にあることを確認することができるようになっている。

このような構成により、２流体スプレー２８７に所定流量および所定圧力の液体と空気とが送り込まれ、搬送されている容器１に液体が空気との混合物としてスプレーされる（噴射される）ようになっている。

ここで、所定の液体としては水、とりわけ不純物を含まない純水が適している。純水を用いた場合、その供給量は容器１の内外面に曇りが生ずる程度でよく、付着する液滴は直径数μｍ程度の微粒子であることが好ましい。そして、例えば容器１が容量２４０ｍＬ（ミリリットル）の樹脂製ボトルである場合において、容器１の外面に対して０．０１ｇ〜１０ｇの範囲の純水を付着させることが好ましい。

なお、殺菌効果を向上させることができる限りにおいて、水（純水）に代え、エタノールやアセトン等を含む有機系水溶液や電解質等を含む無機系水溶液を供給するようにしてもよい。また、空気供給手段に代え、例えば、酸素、水素、窒素、二酸化炭素、空気、アルゴン、及びヘリウム等を供給するガス供給手段を用いることもできる。また、計器による監視だけでなく、容器１の外面への液体付着状態を検査する何らかの手段を設けるようにすることも好ましい。このような手段として、液体を付着させられた容器１の一方からレーザ光を照射するレーザ光照射器と、容器１の他方から照射されたレーザ光の透過量を測定する測定器と、を有する手段が用いられ得る。

次に、導入手段２７０について説明する。

本実施の形態において、導入手段２７０は、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを、第１回転体２４４によって搬送される容器１の内部に導入するようになっている。図２４および図２７に示すように、このような導入手段２７０は、第１回転体２４４の容器１を保持する部分にそれぞれ対応して設けられた複数の導入管２７５と、複数の導入管２７５にそれぞれ対応して設けられ導入管２７５を開閉する複数のバルブ２７９と、複数の導入管２７５に連結されたループ状のマニホールド２７３と、所定の液体を収容した液槽２９０と、液槽２９０に所定のガスを供給するガス供給手段２７８と、液槽２９０とマニホールド２７３とを連通させる管２７１と、管２７１を加熱するヒーター２８１と、ヒーター以降の管２７１、マニホールド２７３、および導入管２７５に巻き付けられたテープヒーター（リボンヒーター）２７７と、を有している。

各導入管２７５の末端は、第１回転体２４４に保持される容器１の開口部１ａの直上または容器１の内部まで延びている。図２４に示すように、本実施の形態においては、マニホールド２７３が円形状からなっており、回転軸Ｌ２を中心とした円周に沿うよう、第１回転体２４４の回転軸Ｌ２を中心として配置されている。そして、各導入管２７５は、回転軸Ｌ２を中心とした放射線（半径方向線）に沿ってマニホールド２７３から延び出ており、回転軸Ｌ２を中心として所定角度離間して配置されている。

液槽２９０は図示しない液体供給手段に連通している。そして、液体供給手段は液槽２９０に液体を供給して、液槽２９０内に収容されている液体の量が常に一定範囲内となるようにしている。管２７１の液槽２９０内にある端部は液槽２９０内の上方にあり、液体中まで延びていない、すなわち、液体中に浸かっていない。一方、ガス供給手段２７８は液槽２９０の下方から所定のガスを液槽２９０内に送り込んでおり、供給されたガスは液槽２９０内の液体中を通過し、液槽２９０内の液体上方に回収されるようになっている。

また、図２７に示すように、液槽２９０内に蓄えられた液体の温度を調整する調整装置２９１が設けられている。調整装置２９１は、液槽２９０の液体中に配置された加熱機構２９１ｂと、液槽２９０内の液体の温度を測定する熱電対２９１ｃと、加熱機構２９１ｂおよび熱電対２９１ｃに接続された調整制御部２９１ａと、を有している。調整制御部２９１ａは、熱電対２９１ｃによる液温の測定結果に基づいて加熱機構２９１ｂを入り切りし、液槽２９０内の液体の温度を一定に保つようになっている。

このような構成によって、液槽２９０内の液体上方には、所定湿度、所定温度、および所定圧力の蒸気混合ガスが生成されて蓄えられる。そして、バルブ２７９が開いている導入管２７５に、管２７１およびマニホールド２７３を介して蒸気混合ガスが送り込まれ、該導入管２７５から容器１の内部に蒸気混合ガスが導入されるようになる。

ここで、所定の液体としては、水、とりわけ不純物を含まない純水が適している。純水を用いた場合、その供給量は容器１の内外面に曇りが生ずる程度でよく、例えば容器１が容量２４０ｍＬ（ミリリットル）の樹脂製ボトルの場合、容器１の内部に０．０１ｇ〜１０ｇの程度の純水が導入されることが好ましい。なお、殺菌効果を向上させることができる限りにおいて、水（純水）に代え、エタノールやアセトン等を含む水溶液を供給するようにしてもよい。また、ここでいう所定の液体は、上述した付着手段２８６から噴射される液体と必ずしも同一である必要はない。

また、所定のガスとしては、酸素、水素、窒素、二酸化炭素、空気、アルゴン、及びヘリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種類のガスを使用することができる。これらのガスを使用することは、高電圧パルスを印加した際の絶縁破壊電圧の低下や、生成される活性酸素種量の増加等、種々の効果を期待することができる点において好ましい。また、上記群から選ばれる２種類以上のガスを混合して供給するようにしてもよい。その他にもプラズマ生成に寄与する限りにおいて種々のガスを利用することができる。

なお、計器による監視だけでなく、容器１の外面への液体付着状態を検査する何らかの手段を設けるようにすることも好ましい。このような手段として、液体を付着させられた容器１の一方からレーザ光を照射するレーザ光照射器と、容器１の他方から照射されたレーザ光の透過量を測定する測定器と、を有する手段が用いられ得る。

ところで、これらの付着手段２８６および導入手段２７０の各構成要素、とりわけ管類が、上述した殺菌剤供給手段５０に直接接続されていることが好ましい。

次に、主に図２４および図２９を用い、処理チャンバー２１７、処理チャンバー２１７内に配置された第２回転体２４０、および第２回転体２４０に支持された仕切部材２１８について詳述する。

図２９および図２４から理解できるように、本実施の形態において、処理チャンバー２１７は両端が塞がれた略円筒状の形状を有している。処理チャンバー２１７には、第１回転体２４４から受け渡しホイール１６を介して容器１を受け入れるための受け入れ開口２０４ａと、受け渡しホイール１６を介して容器１を排出するための第１排出開口２０４ｂおよび第２排出開口２０４ｃと、が設けられている。なお、図２４に示すように、第１排出口２０４ｂは第２処理スペース２０５ｂに開放され、第２排出口２０４ｃは第１処理スペース２０５ａに向けて開放されている。

第２回転体２４０は、回転軸Ｌ１上に配置されたシャフト４９を取り囲むように配置されており、モーター等の駆動手段（図示せず）を介して回転軸Ｌ１を中心として回転自在となっている。第２回転体２４０は、下方に設けられた下方テーブル２４１と、上方に設けられた上方テーブル２４３と、下方テーブル２４１と上方テーブル２４３とを連結する連結部２４５とを有している。

また、図２４および図２９に示されているように、本実施の形態において仕切部材２１８は略円盤状からなっている。図２４に示すように、仕切部材２１８には、第２回転体２４０の回転軸Ｌ２を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて複数の開口２１８ａが形成されている。仕切部材２１８は第２回転体２４０に支持されており、第２回転体２４０の下方テーブル２４１、上方テーブル２４３、および連結部２４５と同期して回転するようになっている。

図２９に示すように、仕切部材２１８は処理チャンバー２１７の区画壁近傍まで延びており、区画壁に形成された係合突起状部２１７ｃと係合するようになっている。ただし、係合突起状部２１７ｃと仕切部材２１８の端縁との間には若干の隙間が形成されており、仕切部材２１８は処理チャンバー２１７（係合突起状部２１７ｃ）に対してスムースに回転移動することができるようになっている。このような仕切部材２１８の構成によって処理チャンバー２１７内が第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとに区分けされるようになっている。

また、図２９に示されているように、第２回転体の上方テーブル２４３も、処理チャンバー２１７の区画壁近傍まで延びており、区画壁に形成された係合突起状部２１７ｃと係合するようになっている。そして、係合突起状部２１７ｃと上方テーブル２４３の端縁との間には若干の隙間が形成されており、上方テーブル２４３を含む第２回転体２４０は処理チャンバー２１７（係合突起状部２１７ｃ）に対してスムースに回転移動することができるようになっている。

次に、主に図２４および図２９乃至図３１を用い、処理チャンバー２１７内に配置され、少なくとも一部分が対向電極３０で覆われた処理槽２２０、および処理槽２２０に対応して設けられた放電極３５について詳述する。

このうち、まず処理槽２２０について説明する。処理槽２２０は、仕切部材２１８の各開口２１８ａに対応して複数設けられている。各処理槽２２０は仕切部材２１８を挟んで配置された一側処理槽形成部材（処理槽蓋体）２２２と、他側処理槽形成部材（処理槽本体）２２１と、を有している。一側処理槽形成部材２２２は、第２回転体２４０の上方テーブル２４３と仕切部材２１８との間に設けられたエアシリンダ２４８ａにより、支持部材２４７ａを介して連結支持されており、仕切部材２１８の各開口２１８ａの上方に配置されている。他側処理槽形成部材２２１は、仕切部材２１８と第２回転体２４０の下方テーブル２４１との間に設けられたエアシリンダ２４８ｂにより、支持部材２４７ｂを介して連結支持されており、仕切部材２１８の各開口２１８ａの下方に配置されている。なお、図２４に示されているように、エアシリンダ２４８ａ，２４８ｂおよび支持部材２４７ａ，２４７ｂは、各処理槽２２０に対応し、第２回転体２４０に複数設けられている。したがって、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の各々は、対応するエアシリンダ２４８ａ，２４８ｂを介し、独立して上下方向に移動し、仕切部材２１８から離間すること、並びに、仕切部材２１８に接近して当接することができるようになっている。

なお、図２４においては、理解を容易にするため、上方テーブル４３等の一部の部材が省略されている。

図２９乃至図３１に示すよう、一側処理槽形成部材（処理槽蓋体）２２２および他側処理槽形成部材（処理槽本体）２２１は、仕切部材２１８の開口２１８ａの周縁部に設けられた係合溝２１８ｂと係合するフランジ２２２ａ，２２１ａをそれぞれ有している。したがって、図２９および図３０に示すように、一側処理槽形成部材２２２と仕切部材２１８とが当接すると、フランジ２２２ａと係合溝２１８ｂとが係合し、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の対応する開口２１８ａを上方から覆って塞ぐようになる。同様に、図２９および図３１に示すように、他側処理槽形成部材２２１と仕切部材２１８とが当接すると、フランジ２２１ａと係合溝２１８ｂとが係合し、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８の対応する開口２１８ａを下方から覆って塞ぐようになる。そして、図２９に示すように、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の両者が仕切部材２１８に当接して各々が仕切部材２１８の開口２１８ａを塞いた場合に、一側処理槽形成部材２２２と他側処理槽形成部材２２１とによって、より厳密には、一側処理槽形成部材２２２と他側処理槽形成部材２２１と仕切部材２１８によって、外部と区画された内部空間Ｓを有する処理槽２２０が形成されるようになる。また、図２９乃至図３１に示すよう、処理槽２２０の他側処理槽形成部材２２１には、第１の実施の形態と同様に、容器１を支持するための支持手段２６が設けられている。

なお、図２９乃至図３１から明らかなように、一側処理槽形成部材（処理槽蓋体）２２２は、第１の実施の形態の処理槽蓋体２２と異なり上方に処理槽開口部２０ａ（図４）が形成されていない。

このようにして形成される処理槽２２０内の収納スペースＳは、第１の実施の形態と同様に、容器１の形状に沿うようになされている。すなわち、図２９に示すように、断面において処理槽２０内面が容器１から略一定距離離間するようになされ、さらに言い換えると、処理槽２０内の収納スペースＳが容器１と略相似形状となるようになされている。処理槽２０をこのように相似型に形成することにより、対向電極３０が容器１および放電極３５から大きく離間してしまうことを防止し、効率的に大気圧プラズマを発生させ殺菌効果を向上させることができる。また、処理槽２２０は第１の実施の形態と同様に分割可能な分割型なっており、仮に容器１が胴部の一箇所において最も太さが太くなるような形状であったとしても、その部分で一側処理槽形成部材２２２と他側処理槽形成部材２２１とを分離するように構成することにより、容器１を処理槽２２０内に収納可能とし、かつ処理槽２２０内の収納スペースＳと容器１とを相似形状にすることができる。なお、処理槽２２０の大きさは、第１の実施の形態と同様に構成すればよい。

また、本実施の形態における処理槽２２０は、第１の実施の形態と同様に、収容スペースＳに露出した誘電体２４と、誘電体２４の外方に配置され誘電体２４を覆う対向電極３０と、を有している。誘電体２４に用いられる材料は、第１の実施の形態で説明したような材料を用いればよい。また、誘電体２４の厚みについても、第１の実施の形態と同様に構成すればよい。ただし、本実施の形態においては、仕切部材２１８の開口２１８ａの周縁部も処理槽２２０の誘電体として機能するようになっている。したがって、仕切部材２１８の開口周縁部も、誘電体２４と同様の材料によって形成すればよい。

本実施の形態における対向電極３０は、第１の実施の形態と同様に構成されている。すなわち、対向電極３０は底面対向電極３０ｂと外周対向電極３０ａとを有し、また、処理槽２２０が一側処理槽形成部材２２２と他側処理槽形成部材２２１とに分離されることにともない、外周対向電極３０ａは一側処理槽形成部材２２２側と他側処理槽形成部材２２１側とに設けられている。

図２９に示すよう、導電性材料からなり、一側処理槽形成部材２２２側および他側処理槽形成部材２２１側の外周対向電極３０ａとそれぞれ導通した接点アーム２２２ｂ，２２１ｂが、設けられている。また、図２９に示されているよう、接点アーム２２２ｂ，２２１ｂに対応して導電性材料からなる接続接点２１８ｃが仕切部材２１８に設けられている。接続接点２１８ｃは仕切部材２１８を貫通し、仕切部材２１８の下側の第１処理スペース２０５ａおよび上側の第２処理スペース２０５ｂの両方に露出している。そして、一側処理槽形成部材２２２あるいは他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８と当接した場合、各接点アーム２２２ｂ，２２１ｂは接続接点２１８ｃと接触し導通するようになっている。したがって、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の両者が仕切部材２１８に当接すると、一側処理槽形成部材２２２側の外周対向電極３０ａと他側処理槽形成部材２２１側の外周対向電極３０ａとが、接点アーム２２２ｂ，２２１ｂおよび接続接点２１８ｃを介して導通されるようになる。

その他、対向電極３０の配置位置、材料、形成方法等については、第１の実施の形態と同様に構成すすることができる。

一方、本実施の形態において、放電極３５は、容器１の開口部１ａ側を受ける一側処理槽形成部材２２２に支持され、処理槽２２０内へ延び出ている。このような放電極３５は、その他において、第１の実施の形態と同様に構成することができる。

次に、主に図２４、図２９、および図３２を用い、高電圧パルス印加手段５７を含む高電圧パルスの印加に関する構成について詳述する。

図２４、図２９、および図３２に示すように、本実施の形態における高電圧パルス印加手段２５７は、高電圧パルス電源５７ａと、高電圧パルスが印加される高電圧側レール２５９と、接地された接地側レール２５８とを有している。本実施の形態における高電圧側レール２５９および接地側レール２５８は略リング状に形成され、図２９に示すように、各レール２５９，２５８のリング中心と回転軸Ｌ１とが一致するように配置されている。なお、図２９において、高電圧側レール２５９はその一部のみが図示されている。

高電圧側レール２５９は第２回転体２４０の上方テーブル２４３に固定され、接地側レール２５８は第２回転体２４０の下方テーブル２４１に固定されており、高電圧側レール２５９および接地側レール２５８が第２回転体２４０とともに回転するようになっている。また、高電圧パルス電源５７ａと高電圧側レール２５９とは、導電性材料からなり摺動自在な摺動子２５５を介して接続されている。この摺動子２５５は、高電圧側レール２５９に対して進退自在に保持され、かつ高電圧側レール２５９に向けて付勢されている。このため、この摺動子２５５により、回転中の高電圧側レール２５９と高電圧パルス電源５７ａとを確実に導通させることができるようになっている。同様に、接地側レール２５８も摺動子２５５を介して接地されており、これにより、接地側レール２５８が回転している場合であっても接地側レール２５８を確実に導通させることができるようになっている。

また、図２４および図３２に示すように、本実施の形態における殺菌装置２１０においては、第２回転体２４０の移動経路に沿った所定区間を通過している隣り合う複数の処理槽２２０にそれぞれ対応する放電極３５および対向電極３０間に、高電圧パルスが印加されるようになっている。そして、図３２に示すように、同時に高電圧パルスを印加される電極間数に応じた数（図３２中では４つ）以上の接地側レール２５８が、設けられていることが好ましい。本実施の形態において、各接地側レール２５８は、すべて略リング状に形成されている。そして、図３２に示すように、高電圧パルスを同時に印加される処理槽２２０の対向電極３０は、別個の接地側レール２５８と接続されている。

一方、各放電極３５は、図２９および図３２に示すように、高電圧開閉接点２５４を介し、高電圧側レール２５９と接続されるようになっている。高電圧開閉接点２５４は、図示しない制御手段に動作させられ、放電極３５および該放電極３５に対応する処理槽２２０が高電圧パルスを印加されるべき所定の区間を移動中であり、かつ、その処理槽２２０内に殺菌対象の容器１が配置されている場合に、高電圧開閉接点２５４を閉じて、放電極３５と高電圧側レール２５９とを導通させるようになっている。

また、図３２に示すように、高電圧パルス印加手段２５７は、高電圧パルス電源５７ａに接続された等価回路部２５１を有している。等価回路部２５１は、処理槽２２０内に容器１を配置した状態における１つの対向電極３０および放電極３５間の抵抗値と略同一の抵抗値を有する抵抗器２５２ｂと、抵抗器２５２ｂと直列に接続された回路開閉接点２５２ａと、を有した等価回路２５２を、前記高電圧パルスを同時に印加される電極間数（図３２中では４つ）と同じ数だけ、並列に接続した回路を含んでいる。このうち、回路開閉接点２５２ａは、高電圧開閉接点２５４の開閉を制御する制御手段（図示せず）と接続されている。制御手段は、高電圧パルスを印加されるべき所定の区間を移動している処理槽２２０中に、容器１を配置されていない処理槽２２０があれば、その数と同数の等価回路２５２の回路開閉接点２５２ａを閉じて、該等価回路２５２の抵抗器２５２ｂに高電圧パルスを印加させるようになっている。

なお、高電圧パルス電源５７ａから印加される高電圧パルスの条件等は、第１の実施の形態と同様にすることができる。

また、図３２に示すように、本実施の形態における殺菌装置２１０は、第１の実施の形態で説明した放電電力監視手段６０と放電光監視手段６５とをさらに備えている。さらに、本実施の形態における殺菌装置２１０は、放電電力監視手段６０のデジタルオシロモジュールコントローラ６１と、放電光監視手段６５の判定部６６と、に接続された判定手段２５３をさらに備えている。判定手段２５３は、デジタルオシロモジュールコントローラ６１および判定部６６から信号を受け、この信号に基づき、各処理槽２２０内に配置されている容器１についての殺菌処理の異常の有無を判定するようになっている。そして、判定手段２５３は、判定結果に基づいて第２回転体２４０のエアシリンダ２４８ａ，２４８ｂを動作させ、容器１の処理槽２２０からの排出、さらには容器１の処理チャンバー２１７からの排出を制御するようになっている。なお、排出時における処理槽２２０の一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の動作については、後に詳述する。

なお、図３２に示すように、本実施の形態において、放電電力監視手段６０の電流プローブ６２は接地側レール２５８毎に設けられており、これにより、放電の際に流れた電流を容器１単位で監視することができるようになっている。

次に、殺菌後の容器１を排出された後の処理槽２２０に対して処理を施す、言い換えると、殺菌前の容器１を受け入れる前の処理槽２２０に対して処理を施す各手段について説明する。

本実施の形態における殺菌装置２１０は、容器１が排出された処理槽２２０に温風エアーを導入して処理槽２２０を乾燥させる乾燥手段２５６をさらに備えている。本実施の形態における乾燥手段２５６は、図３３Ｂに示すように、温風源２５６ａと、温風源２５６ａに連通し、一側処理槽形成部材２２２に向けて温風エアーを吹き付ける一側吐出ノズル２５６ｂと、温風源２５６ａに連通し、他側処理槽形成部材２２１に向けて温風エアーを吹き付ける他側吐出ノズル２５６ｃと、を有している。一側吐出ノズル２５６ｂから温風エアーを吹き付けることにより、一側処理槽形成部材２２２の内部と、一側処理槽形成部材に支持された放電極３５と、仕切部材２１８の開口２１８ａの周囲と、が乾燥させられる。一方、他側吐出ノズル２５６ｃから温風エアーを吹き付けることにより、他側処理槽形成部材２２１の内部が乾燥させられる。また、吹き出される温風エアーの温度、吐出量は、適宜設定することができるようになっている。

なお、乾燥手段２５６は、図３３Ｂに示されているよう、処理チャンバー２１７内において仕切部材２１８の他側、すなわち、第１処理スペース２０５ａに配置されていることが好ましい。

また、本実施の形態における殺菌装置２１０は、容器１が配置される前の処理槽２２０と容器１に挿入される前の放電極３５との少なくとも一方の温度を調節する温調手段２９４をさらに備えている。本実施の形態における温調手段２９４は、図３３Ｂに示すように、所定の温度のエアーを供給するエアー源２９４ａと、エアー源２９４ａに連通し、一側処理槽形成部材２２２に向けて所定の温度のエアーを吹き付ける一側吐出ノズル２９４ｂと、エアー源２９４ａに連通し、他側処理槽形成部材２２１に向けて所定の温度のエアーを吹き付ける他側吐出ノズル２９４ｃと、を有している。一側吐出ノズル２９４ｂから所定の温度のエアーを吹き付けることにより、一側処理槽形成部材２２２の内部と、一側処理槽形成部材に支持された放電極３５と、仕切部材２１８の開口２１８ａの周囲と、が所定の温度に調整される。一方、他側吐出ノズル２９４ｃから所定の温度のエアーを吹き付けることにより、他側処理槽形成部材２２１の内部が所定の温度に調整される。また、吹き出されるエアーの温度、吐出量は、適宜設定することができるようになっている。

なお、温調手段２９４は、図３３Ｂに示されているよう、処理チャンバー２１７内において仕切部材２１８の他側、すなわち、第１処理スペース２０５ａに配置されていることが好ましい。

また、上述した乾燥手段２５６および温調手段２９４のいずれか一方を省略し、他方の手段によって乾燥および温調の両方を行えるようにしてもよい。

さらに、本実施の形態における殺菌装置２１０は、容器１が配置される前の処理槽２２０内へ蒸気を導入する予備導入手段２９５をさらに備えている。予備導入手段２９５は、上述した導入手段２７０や、第１の実施の形態において説明した導入手段７０，７０ａ，７０ｂと同様の構成をとることができる。また、図３３Ｂに示す例において、予備導入手段２９５は、一側処理槽形成部材２２２内へ蒸気を導入するようになっているが、これに限られず、他側処理槽形成部材２２１内へ蒸気を導入するようにしてもよいし、あるいは、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の両方内へ蒸気を導入するようにしてもよい。さらに、予備導入手段２９５から導入される蒸気は、導入手段２７０から導入される蒸気と同一であってもよいし、異なっていてもよい。

なお、予備導入手段２９５は、図３３Ｂに示されているよう、処理チャンバー２１７内において仕切部材２１８の他側、すなわち、第１処理スペース２０５ａに配置されていることが好ましい。

次にこのような構成からなる殺菌装置２１０により容器１を殺菌する方法について説明する。

まず、第１の実施の形態と同様に、容器１の殺菌処理に先立ち殺菌装置２１０自体を、殺菌剤供給手段５０を用いて殺菌処理する。このとき、殺菌剤は、処理チャンバー２１７内を含め、チャンバー１２の第１処理スペース２０５ａおよび第２処理スペース２０５ｂのいずれにも導入される。殺菌の方法及び条件は、第１の実施の形態と同様にすることができる。

チャンバー１２内の殺菌処理が終了した後、チャンバー１２の内部を外部よりも陽圧に保ち、さらにチャンバー１２内の第２処理スペース２０５ｂを第１処理スペース２０５ａよりも陽圧に保つ。これにより、チャンバー１２の内部から外部に向けた気流、並びに、第２処理スペース２０５ｂから第１処理スペース２０５ａへ向けた気流が作り出される。したがって、気体中に含まれた菌が、チャンバー１２の外部から内部へ入り込むこと、並びに、第１処理スペース２０５ａから第２処理スペース２０５ｂへ入り込むこと、を防止することができる。

次に、容器１の殺菌処理が行われる。

まず、図２５を用いて殺菌方法の概略を説明する。

容器１が、搬入手段１５ａにより搬入路１４ａを通過してチャンバー１２内に順次持ち込まれる。持ち込まれた容器１は受け渡しホイール１６を介して第１回転体２４４に順次受け渡されていく。第１回転体２４４に受け渡された容器１は、第１回転体２４４の回転にともって移動しながら処理を施される。次に、容器１は、受け渡しホイール１６を介して第１回転体２４４から第２回転体２４０へ順次転載される。転載された容器１は第２回転体２４０の回転にともなって移動しながら処理を施される。殺菌処理された容器１は受け渡しホイール１６を介して搬出手段１５ｂに受け渡され、搬出手段１５ｂにより搬出路１４ｂを通過して、次工程である充填工程（図１）へと搬送される。このような殺菌方法によれば、多数の容器１を順次連続して効率的に殺菌処理することができる。なお、殺菌処理に異常があった容器１については、不良品排出手段１９ａに受け渡され、不良品排出口１９を経由してチャンバー１２内から排出される。

次に、第１回転体２４４および第２回転体２４０の回転にともなって処理槽２０および容器１になされる処理工程を順に詳述していく。

まず、図２４に示すように、受け渡しホイール１６を介して第１回転体２４４に受け渡された容器１は、第１回転体２４４に保持され、第１回転体２４４の回転にともなって移動する。このとき、第１回転体２４４には多数の容器１が順次送り込まれてくるが、送り込まれてきた容器１は、回転軸Ｌ２を中心とした円周に沿って等間隔に間を空けて第１回転体２４４に保持される。

図２５に示す領域Ａ２１においては、付着手段の２流体スプレー２８７から液体が噴射されている。したがって、第１回転体２４４の回転にともなって領域Ａ２１を通過する容器１はその外面に液体を吹き付けられ、容器１の外面に液体が付着する。このとき、上述したように、２流体スプレー２８７に供給される液体の流量および空気の流量および圧力は一定となるように調整されている。したがって、各容器１の外面には、略一定量の液体が付着するようになる。

外面に液体を付着させられた容器１は、その後、第１回転体２４４の回転にともなって領域Ａ２２を通過する。上述したように第１回転体２４４に保持された容器１の直上には、導入手段２７０の導入管２７５の末端が配置されている（図２７）。そして、容器１が領域Ａ２２に入ると、導入手段２７０のバルブ２７９が開き、導入管２７５から蒸気混合ガスが噴射される。このとき、上述したように、所定湿度、所定温度、および所定圧力の蒸気混合ガスが液槽２９０から管２７１に送り込まれる。また、液槽２９０から容器１内までの管路はヒーター２８１およびリボンヒーター２７７によって加熱されるので、一度蒸気化した液体が再凝縮することはない。さらに、領域Ａ２２は、等間隔で配置された容器１が所定の数量だけ入る（通過する）広さとなっている。すなわち、図２８に示すように、開いているバルブ２７９の数が常に一定数（図２８中では２つ）となるようになっている。なお、図２８に示す例においては、６つの導入管２７５およびバルブ２７９が設けられており、このうちいずれか２つのバルブ２７９が開いるようになっている。

これらのことから、導入管２７５から容器１の内部に送り込まれる蒸気混合ガスは一定量となる。このため、容器１の内部に一定量の蒸気を導入することができる。また、蒸気とともに導入されるガスも一定量となるので、この蒸気混合ガスの導入により容器１内の雰囲気を空気以外のガスに確実に置換することもできる。

次に、領域Ａ２２を通過した容器１は、受け渡しホイール１６を介し、処理チャンバー２１７の第２回転体２４０へと転載される。図２４に示すように、容器１は、受け渡しホイール１６の把持手段１６ａに保持された状態で、処理チャンバー２１７の受け入れ開口２０４ａから処理チャンバー２１７内に入る。このとき、とりわけ図３０に示されているように、一側処理槽形成部材２２２は仕切部材２１８の開口２１８ａに当接し、開口２１８ａを塞いでいる。一方、他側処理槽形成部材２２１は仕切部材２１８から離間した位置に配置されている。そして、図３０において二点鎖線で示すように、受け渡しホイール１６が容器１を処理チャンバー２１７内に持ち込むと、他側処理槽形成部材２２１は上方に移動する（仕切部材２１８に向けて移動する）。そして、他側処理槽形成部材２２１がその内部に容器１を受け入れると同時に、受け渡しホイール１６の把持手段１６ａは容器１を解放する。

その後、他側処理槽形成部材２２１はそのまま上方に移動し、仕切部材２１８に当接する。このとき、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８の開口２１８ａを塞ぐようになり、これにより、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１、並びに仕切部材２１８によって処理槽２２０の内部が外部から区画され、第１処理スペース２０５ａおよび第２処理スペース２０５ｂのいずれからも区画された容器１の収容スペースＳが形成される（図２９および図３３Ａ）。

なお、このような容器１の受け渡しホイール１６から処理槽２２０内への配置は、領域Ａ２３において行われ、この間、第２回転体２４０は一定速度で回転し続けている。また、受け渡しホイール１６から容器１が持ち込まれてきていない等、何らかの理由によって、容器１を配置されることなく領域Ａ２３を通過した処理槽２２０を、図示しない制御手段が記憶するようになっている。すなわち、制御手段は、第２回転体の回転にともって移動している各処理槽２２０が容器１を収容しているか否かを把握することができるようになっている。

図２５に示すように、容器１が配置された処理槽２２０は、その後、領域Ａ２４に移動する。この領域Ａ２４に入ると、高電圧接続接点２５４が閉じ、高電圧パルス電源５７ａに接続された高電圧側レール２５９と放電極３５とが接続（導通）される。これにより、放電極３５と接地された対向電極３０との間に常温常圧下で高電圧パルスが印加され、放電極３５と対向電極３０との間に放電が生じ、処理槽２２０内に大気圧プラズマが発生する。したがって、処理槽２２０内に電離されたガスが生成され、これにより、処理槽２２０の内面および処理槽２２０内に配置されている放電極３５とともに容器１の内面および外面が殺菌される。

また、上述したように、容器１の外面には液体が付着し、また容器１の内部には蒸気が存在している。これにより、プラズマの発生が安定するとともに、強力な殺菌能力を有する活性酸素種が生成され、高いレベルで安定した殺菌処理を行うことができる。さらに、上述した領域Ａ２２での蒸気混合ガスの導入において、処理槽２２０内の雰囲気を殺菌に適したガスに置換させておくことも可能である。この場合、さらに高いレベルでの殺菌処理を行うことができる。さらに、処理槽２２０の内部が外部から区画されているので、殺菌能力を有する活性酸素種が、処理槽２２０内から拡散して放出されてしまうことを防止することができる。以上のようなことから、領域Ａ２４において、処理槽２２０の内面および処理槽２２０内に配置されている放電極３５とともに容器１の内面および外面が、高いレベルで効率的に安定して殺菌される。

なお、図２４、図２５、および図３２に示されているように、隣り合う複数の処理槽２２０が領域Ａ２４中を同時に移動し、これら複数の容器１が同時に殺菌処理されるようになっている。したがって、多数の容器１を順次効率的に殺菌処理することができる。

また、例えば運転開始時または運転終了時である等の何らかの理由により、容器１が処理槽２２０に配置されていなかったとすると、該処理槽２２０に対応する放電極３５および対向電極３０間の抵抗値は、容器１が配置されている場合に比べ、著しく小さくなる。この結果、該処理槽２２０に対応する電極間を流れる電流値が著しく大きくなるとともに、同時に高電圧パルスを印加される他の処理槽２２０に対応する電極間を流れる電流値が小さくなる。その一方で、容器１が配置されていない処理槽２２０に高電圧パルスが印加されないようにすると、同時に高電圧パルスを印加されるべき他の処理槽２２０に対応する電極間を流れる電流値が大きくなり、この処理槽２２０内の容器１が変形してしまう等の不具合が生じてしまう虞がある。

しかしながら、本実施の形態によれば、上述したように、容器１が配置されていない処理槽２２０を制御手段（図示せず）が把握するようになっており、容器１が配置されていない処理槽２２０が領域Ａ２４を通過する場合、図３２に示すように、制御手段は該容器１に対応する高電圧開閉接点２５４を開いたままに保つ。また同時に、制御手段は、等価回路部２５１の等価回路２５２の回路開閉接点２５２ａを閉じる。さらに詳しくは、領域Ａ２４に容器１が配置されていない処理槽２２０が移動してきた場合、該処理槽２２０に対応する高電圧接続接点２５４に代え、回路開閉接点２５２ａを閉じるようになっている。したがって、容器１を配置されていない１以上の処理槽２２０が領域Ａ２４を通過している場合、該処理槽２２０に対応する放電極３５および対向電極３０間に代え、等価回路２５２を該処理槽２２０の数に応じた数だけ並列に接続した等価回路部２５１に高電圧パルスが印加される。上述したように、各等価回路２５２は、容器１を配置されている処理槽２２０に対応する放電極３５および対向電極３０間の抵抗値と略同一の抵抗値を有している。このため、領域Ａ２４を通過中の各処理槽（電極間）を流れる電流は略一定となり、容器１を変形させてしまう等の不具合を防止することができる。加えて、高電圧パルスの印加条件が一定となり、信頼性の高い殺菌処理を安定して行うことができる。

また、高電圧パルスが印加されている間、放電電力監視手段６０の高電圧プローブ６３と電流プローブ６２とを介して、印加される高電圧パルスの電圧と発生する電流とを確認することにより放電電力の負荷状況が監視される。さらに、放電光監視手段６５によって、大気圧プラズマで生ずる放電光の強さを確認することにより放電光の発生状況が監視される。本実施の形態においては、図３２に示すように、放電電力負荷状況の監視結果および放電光発生状況の監視結果が判定手段２５３に送信されるようになっている。また、判定手段２５３は処理槽２２０内にある容器１について殺菌処理の異常に有無を判定するようになっている。

領域Ａ２４で殺菌された容器１を収容した処理槽２２０は、その後、領域Ａ２５および領域Ａ２６へと移動する。領域Ａ２５および領域Ａ２６における処理槽２２０の動作は、図３３Ａおよび図３３Ｂに示すように、判定手段２５３による判定結果によって異なる。まず、殺菌処理の異常が無いと判定された容器１を収容した処理槽２２０が、領域Ａ２５および領域Ａ２６へ移動した場合について説明する。

まず、処理槽２２０が領域Ａ２５に入ると、該処理槽２２０に対応する高電圧開閉接点２５４が開き、高電圧パルスの印加が停止する。次に、図３１および図３３Ａに示すように、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８から離間し、処理槽２２０内と第２処理スペース２０５ｂとが連通する。このとき、他側処理槽形成部材２２１は仕切部材２１８に当接し、開口２１８ａを塞いだままの状態に維持されているので、第２処理スペース２０５ｂが第１処理スペース２０５ａと連通してしまうことはない。なお、容器１とともに処理槽２２０の内面および放電極３５は領域Ａ２４において殺菌されているので、このような一側処理槽形成部材２２２の動作によって、第２処理スペース内２０５ｂ内に菌が持ち込まれることはない。

次に、図３３Ａに示すように、受け渡しホイール１６の把持手段１６ａが他側処理槽形成部材２２１内に収容されている容器１を把持する。その後、受け渡しホイール１６の把持手段１６ａは、容器１を他側処理槽形成部材２２１内から引き上げるとともに、第１排出口２０４ｂを介し、処理チャンバー２１７内から排出される。図２４に示すように、排出された容器１は搬出手段１５ｂに移載されるとともに、搬出路１４ｂを通って殺菌装置１０のチャンバー１２から排出され、次工程である充填工程（図１）に持ち込まれる。

その一方で、容器１が他側処理槽形成部材２２１から回収されると、図３３Ａに示すように、一側処理槽形成部材２２２は、再び仕切部材２１８に接近する。そして、一側処理槽形成部材２２２は仕切部材２１８に当接して、仕切部材２１８の開口２１８ａを塞ぐ。これにより、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１、並びに仕切部材２１８によって処理槽２２０の内部が外部から区画され、第１処理スペース２０５ａおよび第２処理スペース２０５ｂのいずれからも区画された容器１の収容スペースＳが形成される（図３３Ａ）。このような一側処理槽形成部材２２２の仕切部材２１８への再接近は、領域Ａ２５または領域Ａ２６中にて行われる。

さらに、領域Ａ２６中においては、図３３Ｂに示すように、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の開口２１８ａに当接し、開口２１８ａを塞いだ状態で、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８から離間する。これにより、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の内部と、放電極３５とが、処理チャンバー２１７内の第１処理スペース２０５ａの露出された状態となる。そして、処理槽２２０は、この状態のまま、領域Ａ２７へと移動する。

このような領域Ａ２５および領域Ａ２６における容器１の排出方法および処理槽２２０の動作方法が、殺菌処理に異常が無いと判定された容器１およびこれを収容した処理槽２２０についてのものである。これに対し、殺菌処理の異常が有ると判定された容器１を収容した処理槽２２０が、領域Ａ２５および領域Ａ２６へ移動した場合について、以下に説明する。

図３３Ａに示すように、殺菌処理に異常が有ると判定された容器１を収容した処理槽２２０は何ら動作することなく領域Ａ２５を通過し、領域Ａ２６へと移動する。処理槽２２０が領域Ａ２６に入ると、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の開口２１８ａに当接し、開口２１８ａを塞いだ状態で、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８から離間する。これにより、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１の内部と、放電極３５とが、処理チャンバー２１７内の第１処理スペース２０５ａに露出された状態となる（図３０）。

次に、受け渡しホイール１６の把持手段１６ａが他側処理槽形成部材２２１内に収容されている容器１を把持する。その後、受け渡しホイール１６の把持手段１６ａは、容器１を他側処理槽形成部材２２１内から引き上げるとともに、第２排出口２０４ｃを介し、処理チャンバー２１７内から容器１を排出する。図２４に示すように、排出された容器１は不良品搬出手段１９ａに移載されるとともに、不良品排出口１９を通って殺菌装置１０のチャンバー１２から排出され、殺菌が十分に行われなかった不良品として回収される。

容器１を回収された処理槽２２０は、その後、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の開口２１８ａを塞ぐとともに、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８から離間した状態のまま、領域Ａ２７へと移動する。

以上のように、殺菌処理に異常が有ると判定された場合および異常が無いと判定された場合のいずれにおいても、処理槽２２０は、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の開口２１８ａを塞ぐとともに、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８から離間した状態で、領域Ａ２７に入る。また、領域Ａ２７以降の領域Ａ２８およびＡ２９においても、処理槽２２０の一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１は、処理を受けるものの、この状態から動作しない。

次に、領域Ａ２７乃至領域Ａ２９における処理槽２２０への処理を説明する。

領域Ａ２７においては、図３３Ｂに示すよう、乾燥手段２５６の一側吐出ノズル２５６ｂにより一側処理槽形成部材２２２に温風エアーが吹き付けられ、これにより、一側処理槽形成部材２２２の内部と、一側処理槽形成部材２２２に支持された放電極３５と、仕切部材２１８の開口２１８ａの周囲と、が乾燥させられる。また、乾燥手段２５６の他側吐出ノズル２５６ｃにより他側処理槽形成部材２２１に温風エアーが吹き付けられ、これにより、他側処理槽形成部材２２１の内部が乾燥させられる。なお、乾燥手段２５６は、一側処理槽形成部材２２２、他側処理槽形成部材２２１、放電極３５、および仕切部材２１８の開口２１８ａのいずれかのみを乾燥させるようにしてもよい。

次に、領域Ａ２８においては、図３３Ｂに示すよう、温調手段２９４の一側吐出ノズル２９４ｂにより一側処理槽形成部材２２２に所定温度のエアーが吹き付けられ、これにより、一側処理槽形成部材２２２の内部と、一側処理槽形成部材２２２に支持された放電極３５と、仕切部材２１８の開口２１８ａの周囲と、が所定の温度に調整される。また、温調手段２９４の他側吐出ノズル２９４ｃにより他側処理槽形成部材２２１に所定温度のエアーが吹き付けられ、これにより、他側処理槽形成部材２２１の内部が所定の温度に調整される。

なお、温調手段２９４は、一側処理槽形成部材２２２、他側処理槽形成部材２２１、放電極３５、および仕切部材２１８の開口２１８ａのいずれかのみを温調するようにしてもよい。また、温調手段２９４は、これらを冷却して温度調節するようにしてもよいし、加熱して温度調節するものであってもよい。さらに、エアーに代えて、所定のガスを吹き付けることにより、温調と同時に、一側処理槽形成部材２２２および／または他側処理槽形成部材２２１内を大気圧プラズマの発生に適した雰囲気に置換するようにしてもよい。

その後、領域Ａ２９においては、図３３Ｂに示すよう、予備導入手段２９５によって、処理槽２２０内に予め蒸気または蒸気混合ガスを導入される。なお、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１のいずれか一方または両方に蒸気が導入されるようにしてもよい。これにより、処理槽２２０をより高いレベルで殺菌することができるようになる。また、予備導入手段２９８５から蒸気混合ガスを導入するようにすれば、蒸気の導入と同時に、一側処理槽形成部材２２２および／または他側処理槽形成部材２２１内を殺菌に適した雰囲気に置換することもできる。

これら領域Ａ２７乃至Ａ２９を通過して再度Ａ２３に移動してきた処理槽２２０内には、第１回転体２４４から送り込まれてきた未殺菌の容器１が再度配置され、この未殺菌の容器１に対し上述した殺菌処理が行われていく。したがって、領域Ａ２７乃至Ａ２９における処理は、容器１を殺菌する前における処理槽２２０の準備工程と言える。そして、これらの工程を経て、容器１を受け入れる前の処理槽２２０を一定の状態に維持することにより、安定した信頼性の高い殺菌処理を行うことができるようになる。

以上のように本実施の形態によれば、殺菌対象の容器１の外面に所定の液体を付着させるとともに殺菌対象の容器１の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入した後、容器１を処理槽２２０内に配置するとともに容器１に放電極３５を挿入し、放電極３５と処理槽２２０の少なく一部を覆う対向電極３０との間に高電圧パルスを印加している。これにより、処理槽２２０内の容器１の内外に存在する気体がプラズマ化し、処理槽２２０の内面および処理槽２２０内に配置されている放電極３５とともに容器１の内面および外面を同時に殺菌することができる。特に、容器１の外面に液体が付着しかつ容器１の内面に蒸気が導入されているので、高い殺菌能力を有した多くの活性酸素種が生成されるとともに、容器１の内面および外面に略均一に接触し、容器１の内面および外面を高いレベルで殺菌することができる。

また、本実施の形態によれば、蒸気は、所定のガスと混合された蒸気混合ガスとして、容器１の内部に導入される。このような方法によれば、容器１の内部に蒸気を導入する同時に、処理槽２０内の雰囲気をプラズマの発生に適した所定のガスに置換することができる。したがって、プラズマの発生を安定化させ、上述した高いレベルでの殺菌処理を効率的に行うことができる。

さらに、本実施の形態によれば、チャンバー１２内を第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとに区画する仕切部材２１８が、設けられている。また、仕切部材２１８は開口２１８ａを有し、処理槽２２０が、仕切部材２１８の開口２１８ａを両側から塞ぐようになされた一側処理槽形成部材２２２と、他側処理槽形成部材２２１と、を有している。そして、殺菌前の容器１を処理槽２２０内に配置する場合、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の開口２１８ａを覆い第２処理スペース２０５ｂと第１処理スペース２０５ａとを遮断した状態で、他側処理槽形成部材２２１を仕切部材２１８から離間させて、容器１を第１処理スペース２０５ａから処理槽２２０内に配置する。一方、殺菌後の容器１を処理槽２２０内から排出する場合、他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８の開口２１８ａを覆い第２処理スペース２０５ｂと第１処理スペース２０５ａとを遮断した状態で、一側処理槽形成部材２２２を仕切部材２１８から離間させて、容器１を処理槽２２０内から第２処理スペース２０５ｂへ排出する。したがって、第２処理スペース２０５ｂを通過するのは殺菌後の容器１だけとなる。また、排出後の工程を含め一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８から離間し、処理槽２２０内と第２処理スペース２０５ｂが連通するようになるのは、処理槽２２０の内面および放電極３５を含む処理槽２２０の内部が殺菌された状態にある場合だけである。したがって、第２処理スペース２０５ｂを高度の無菌状態に保つことができ、これにより、第２処理スペース２０５ｂを移動する殺菌済容器１の無菌状態をより確実に保つことができ、この結果、殺菌処理の信頼性を格段に高めることができる。

なお、仕切部材２１８の縁部には第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとを連通させる隙間が存在する。しかしながら、また第２処理スペース２０５ｂは第１処理スペース２０５ａに比べ陽圧に保たれており、図２９乃至図３１に示すように、この隙間部分においては、第２処理スペース２０５ｂから第１処理スペース２０５ａに向けて気流が生じている。また、そもそもこの隙間は仕切部材２１８の回転を阻害しないためのものであって非常に小さい。これらのことから、この隙間が第２処理スペース２０５ａの無菌状態に影響を及ぼすことない。

さらに本実施の形態によれば、処理槽２２０内にある容器１について殺菌処理の異常の有無を判定する判定するようになっている。そして、殺菌処理に異常が有ると判定された容器１を処理槽２２０から排出する場合、一側処理槽形成部材２２２が仕切部材２１８の開口２１８ａを覆い第２処理スペース２０５ｂと第１処理スペース２０５ａとを遮断した状態で、他側処理槽形成部材２２１を仕切部材２１８から離間させて、容器１を処理槽２２０内から第１処理スペース２０５ａへ排出する。したがって、殺菌処理の異常に起因して内部に菌が存在するかもしれない処理槽２２０を第２処理スペース２０５ｂに連通させてしまうことはない。したがって、殺菌処理に異常が生じてしまったとしても、これに起因して第２処理スペース２０５ｂを汚染させてしまうことはない。これにより、第２処理スペース２０５ｂを高度の無菌状態に保つとともに、第２処理スペース２０５ｂを移動する殺菌済容器１の無菌状態をより確実に保つことができ、この結果、殺菌処理の信頼性を格段に高めることができる。

さらに、本実施の形態によれば、容器１を排出した後であって容器１を再度受け入れる前の処理槽２２０に対して処理を行う、乾燥手段２５６、温調手段２９４、および予備導入手段２９５が、第１処理スペース２０５ａ内（処理チャンバー２１７の下方）に配置され、第１処理スペース２０５ａで処理を行うようになっている。したがって、高度の無菌状態に維持することが望まれる第２処理スペース２０５ｂ内の構成が複雑になってしまうことを防止することができる。すなわち、菌が殺菌されにくい環境をもたらす虞がある管類等の要素が第２処理スペース２０５ｂから排除されているので、第２処理スペース２０５ｂの無菌性をより確実かつ容易に維持することができる。

さらに、本実施の形態によれば、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１に開口が形成されておらず、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１が仕切部材２１８に当接することによって形成される処理槽２２０の内部空間Ｓは、処理槽２２０の外部から遮断される。したがって、大気圧プラズマを生じさせることによって生成される強い殺菌能力を有した活性酸素種が、処理槽２２０の外部に拡散してしまうことがない。これにより、殺菌処理を効率的に行うことができる。

さらに、本実施の形態によれば、隣り合う複数の処理槽２２０にそれぞれ対応する複数の対向電極３０および放電極３５間に高電圧パルスが同時に印加されるようになっている。したがって、複数の処理槽２２０内にそれぞれ配置された複数の容器１に対し、同時に殺菌処理を施すことができ、これにより、多数の容器１を順次効率的に殺菌していくことができる。

さらに本実施の形態によれば、高電圧パルスが印加される領域Ａ２４を通過中の処理槽２２０のうち１以上の処理槽２２０に容器１が配置されていない場合には、容器１が配置されていない処理槽２２０に対応する対向電極３０および放電極３５間に代えて、処理槽２２０内に容器１を配置した状態での１つの対向電極３０および放電極３５間の抵抗値と同等の抵抗値を有した等価回路２５２を前記容器１が配置されていない処理槽２２０の数だけ接続した回路２５１に、高電圧パルスが印加されるようになっている。したがって、高電圧パルスが印加される領域Ａ２４に容器１が配置されていない処理槽２２０が移動してくると、該処理槽２２０に対応する対向電極３５および放電極３５間に代え、等価回路２５２に高電圧パルスが印加されるようになっている。そして、等価回路２５２が容器を配置された１つの処理槽２２０に対応する対向電極３０−放電極３５間の抵抗値と略同等の抵抗値を有していることから、高電圧パルスが印加される陽極および陰極間の総抵抗値が略同一となる。したがって、１つの処理槽２２０（電極間）を流れる電流値が高くなり過ぎることを防止し、容器１を一定条件の下、一定のレベルで安定して殺菌していくことができる。このことは、殺菌処理の開始時や殺菌処理の終了時にとりわけ有用であり、殺菌装置２１０に投入する１本目の容器１および最終の容器１をも良品として取り扱うことができるようになり、歩留まりを格段に向上させることができる。

なお、本発明による第２の実施の形態に対し、種々の変更が可能である。

例えば、第２の実施の形態において、まず、容器１の外面に液体を付着させ、その後に、容器１の内部に蒸気を導入する例を示したが、これに限られず、容器１の外面に液体を付着させる工程と、容器１の内部に蒸気を導入する工程との、順番を逆にしてもよいし、また、これらの工程を同時に行うようにしてもよい。

また、第２の実施の形態において、判定手段２５３が、放電電力監視手段６０の監視結果および放電光監視手段６５の監視結果に基づき、殺菌処理の異常の有無を判定する例を示したが、これに限られない。例えば、放電電力監視手段６０の監視結果および放電光監視手段６５の監視結果のいずれかのみ基づいて、殺菌処理の異常の有無を判定するようにしてもよい。また、これらに代えて、あるいは、これらに加えて、容器１の外面への液体の付着状況や容器１の内部への蒸気の導入状況に基づいて、殺菌処理の異常の有無を判定するようにしてもよい。さらに、放電電力監視手段６０のデジタルオシロモジュールコントローラ６１あるいは放電光監視手段６５の判定部６６自体を判定手段２５３として用いるようにしてもよい。

さらに、第２の実施の形態によれば、殺菌装置２１０に、乾燥手段２５６、予備導入手段２９５、および温調手段２９４が別個に設けられている例を示したが、これに限られない。これらの手段を適宜省略または統合してもよい。

さらに、第２の実施の形態において、仕切部材２１８と第２回転体２４０とが別体からなる例を示したが、これに限られず、仕切部材２１８と第２回転体２４０とが一体に形成されていてもよい。

さらに、第２の実施の形態において、高電圧パルス印加手段２５７の等価回路部２５１が、容器を配置された１つの処理槽に対応する対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有する抵抗器２５２ｂを含んだ等価回路２５２を有する例を示したが、これに限られない。例えば、各等価回路２５２の抵抗器２５２ｂが、処理槽内に配置される以前の処理に異常がなかった容器を配置された１つの処理槽に対応する対向電極および放電極間の抵抗値と同等の抵抗値を有するようにしてもよい。そしてこの場合、高電圧パルス印加部２５７が複数の処理槽２２０に対応する各電極３０，３５間に高電圧パルスを印加する際に、複数の処理槽２２０のうち１以上の処理槽２２０に、処理槽２２０内に配置される以前の処理に異常があったと判定された容器１が配置されている場合には、該異常があったと判定された容器１が配置されている処理槽２２０に対応する対向電極３０および放電極３５間に代え、該異常があったと判定された容器１が配置されている処理槽２２０の数と同数の等価回路２５２に、高電圧パルスが印加されるようにしてもよい。ここで、処理槽２２０内に配置される以前の処理として、第２の実施の形態においては、例えば、領域Ａ２１における容器１の外面へ液体を付着させる処理や、領域Ａ２２における容器１の内部に蒸気混合ガスを導入する処理が挙げられる。また、例えば、領域Ａ２１において容器１の外面に液体を所定の量だけ付着させることができなかった場合、領域Ａ２２において容器１の内部に蒸気を所定の量だけ導入することができなかった場合、あるいは領域Ａ２２において容器１の内部に雰囲気置換用ガスを所定の量だけ導入することができなかった場合等が、第２の実施の形態において、処理槽２２０内に配置される以前の処理に異常が有った場合に該当する。そして、処理槽２２０内に配置される以前の処理に異常が有った容器１が収容されている処理槽２２０に対応する電極３０，３５間の抵抗値は、異常が無かった容器１が収容されている処理槽２２０に対応する電極３０，３５間の抵抗値と異なってしまう虞がある。このような場合、異常が無かった容器１を収容し同時に高電圧パルスを印加される他の処理槽２２０内を流れる電流値は、所望の値より大小してしまう。本変形例によれば、このような不具合を排除することができ、これにより、一定の高電圧パルス印加条件による一定の殺菌効果を期待することができる。なお、処理槽２２０内に配置される以前の処理における異常の有無は、例えば、上述したレーザ光の透過量によって異常の有無を判定する手段、あるいは、導入手段２７５や付着手段２８７の各計器等を用いて判定することができ、この判定結果を受けて、上述した制御手段（図示せず）が高電圧開閉接点２５４および各等価回路２５２の回路開閉接点２５２ａを操作するようにしてもよい。

さらに、第２の実施の形態において、仕切部材２１８の下方に第１処理スペース２０５ａが形成され、上方に第２処理スペース２０５ｂが形成される例を示したが、これの限られず、殺菌対象の容器１の移動経路と関連させて、第１処理スペース２０５ａおよび第２処理スペース２０５ｂの配置を種々変更することができる。

さらに、第２の実施の形態において、チャンバー１２内に略円筒状の処理チャンバー２１７が配置され、処理チャンバー２１７内に仕切部材２１８が配置され、この仕切部材２１８によって処理チャンバー２１７を介してチャンバー１２内が第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとに区分けされている例を示したが、これに限られない。係合突起状部２１７ｃの構成を適宜変更し、処理槽２２０と共同した仕切部材２１８によって、チャンバー１２内を第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとに区分けすることができる限りにおいて、処理チャンバー２１８の形状を円筒状以外の形状に構成するようにしてもよい。さらには、図３４に示すように、殺菌装置２１０ａから処理チャンバー２１８を省くこともできる。図３４に示す殺菌装置２１０は、略円盤状の仕切部材２１８と、仕切部材２１８の形状に対応して開口を形成された板状の係合突起状部２１７ｃと、を備えている。係合突起状部２１７ｃはチャンバー１２の隔壁に設置されており、また係合突起状部２１７ｃの開口に対応して仕切部材２１８が回転自在に設置されている。この係合突起状部２１７ｃおよび仕切部材２１８によって、処理チャンバーを用いることなく、チャンバー１２内が第１処理スペース２０５ａと第２処理スペース２０５ｂとに区分されている。図３４から理解できるように、殺菌前の容器１は、第１処理スペース２０５ａを経由して処理槽２２０内に収納される。そして、殺菌済の容器（殺菌処理に異常がなかった容器）１は、処理槽２２０から第２処理スペース２０５ｂを経由し、チャンバー１２内から排出される。一方、殺菌処理に異常があった容器１は、第２処理スペース２０５ｂに入ることなく、処理槽２０２から第１処理スペース２０５ａ内に取り出され、チャンバー内１２から排出されていく。なお、図３４において上述した第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

さらに、第２の実施の形態において、第１の実施の形態と同様にパンタグラフを用いて、高電圧パルスの印加を制御するようにしてもよい。この場合、上述した高電圧開閉接点２５４は、常時「閉」、殺菌処理異常有りの場合に「開」となるようにすればよい。逆に、第２の実施の形態における高電圧開閉接点２５４を用いた高電圧パルスの印加制御を、第１の実施の形態に適用することも可能である。

さらに、第２の実施の形態においても、第１の実施の形態の変形例で説明したように、放電極３５と対向電極３０との極性を領域Ａ２４内において切り替えるようにしてもよい。

さらに、第２の実施の形態において、第１の実施の形態で説明した導入手段７０，７０ａ，７０ｂを容器１の内部に蒸気を導入する手段として用いるようにしてもよい。

さらに、第２の実施の形態によれば、処理槽２２０が一側処理槽形成部材２２２と他側処理槽形成部材２２１とを有する例を示したが、これに限られない。例えば、処理槽２２０が、仕切部材２１８の開口２１８ａ内に保持されるとともに筒状からなる中間処理槽形成部材をさらに有し、一側処理槽形成部材２２２および他側処理槽形成部材２２１が中間処理槽形成部材の両側を開閉するように構成されてもよい。このような処理槽として、例えば、第１の実施の形態の変形例として説明した図１４に示す処理槽１００を用いることができる。この場合、筒状体１１１を仕切部材２１８の開口２１８ａ内に挿入固定し、筒状体１１１を挟み筒状体１１１に接離可能にステージ１１０および蓋１１２を配置するようにしてもよい。また、第１の実施の形態の変形例として説明した図１５乃至図１７に図示された変形例を、第２の実施の形態に適用することができる。加えて、第２の実施の形態では、放電極３５が一側処理槽形成部材２２２に支持された例を示したが、処理槽２２０内における容器１の配置方法等に関連して、放電極３５が他側処理槽形成部材２２１によって支持されるようにしてもよい。

さらに、第１の実施の形態において説明した支持手段２６の変形例（図１８乃至図２１含む）を、第２の実施の形態に適用することができる。

さらに、第１の実施の形態において説明した放電極３５の変形例（図２２および図２３）を、第２の実施の形態に適用することができる。また、放電極３５の数は１つに限られず、２以上の放電極３５が設けられてもよい。

さらに、処理槽２２０の形状は相似型に限られず、断面多角形状であってもよい。

〔実験１〕
上述した第１の実施の形態の殺菌装置を作製してその殺菌効果を評価した。殺菌対象の容器は容量２４０ｍｌのＰＥＴボトルとした。殺菌操作は次の通りとした。

（殺菌評価用ボトル）
（１）内面殺菌評価用ボトル
Bacillus subtilisあるいはAspergillus nigerの胞子をＰＥＴボトル内面に所定量均一に付着させ内面殺菌評価用ボトルとした。
（２）外面殺菌評価用ボトル
上記胞子の所定量をＰＥＴボトルの外面口部すなわちネジ部，外面胴部および外面底部に１０箇所付着させ外面殺菌評価用ボトルとした。

（放電条件）
放電極：直径４ｍｍのステンレス製のらせん状電極を使用し、ボトル底部から３０ｍｍ上方に設置した。
処理槽：図５に示すような処理槽本体と処理槽蓋体とからなる分離相似型の処理槽を使用した。容器と処理槽内面との離間距離を略１０ｍｍとした。
対向電極：処理槽の誘電体上端から１０ｍｍを除く全外表面にステンレス製金網を巻き付けた。
パルス印加条件：電圧６５ｋＶ，周波数１０００Ｈｚ，放電時間３０秒以下
放電前に導入されるガス：容積比でアルゴン２０％，窒素８０％の混合ガスを用いた。
付着液体：純水を付着させ、付着前後の容器の重さを計量することにより、付着した水分量を調査した。

（培養方法）
放電終了後、殺菌評価用ボトルを装置から取りだし以下の方法で殺菌効果を評価した。
（１）内面殺菌評価
トリプトソーヤブイヨン液体培地約２０ｍｌをボトル内に注ぎ、予め滅菌処理したキャップをはめて充分振ったのち以下の条件で培養した。
Bacillus subtilis ：３５℃，１０日間
Aspergillus niger ：２５℃，１０日間
（２）外面殺菌評価
菌付けした口部，胴部及び底部を切取り滅菌ビーカーに移し、寒天培地を注いで以下の条件で培養した。
Bacillus subtilis ：標準寒天培地，３５℃，１０日間
Aspergillus niger ：ポテトデキストロース寒天培地，２５℃，１０日間
培養後、下記の式１から殺菌効果Ｄ値を算出した。
殺菌効果Ｄ値＝−ｌｏｇ（生存菌数／初発菌数）・・・式１

（比較例１）
処理槽外において、純水を２流体スプレーで空気と混合して容器の内面および外面に噴射し、容器の内面および外面が曇る程度まで純水を付着させた。純水の付着量は内面および外面とも約１．０ｇであった。その後、処理槽内の容器の内部および外部に１２０Ｌ／ｍｉｎの流量の混合ガスを０．５秒間導入した。結果を表１に示す。

（実施例１）
図７に示す導入手段を用い、ガス供給手段から１２０Ｌ／ｍｉｎの流量で混合ガスを供給して、混合ガスと純水が蒸発した水蒸気とからなる蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部および外部に０．５秒間導入した。純水の付着量は内面約１．０ｇ、外面約０．６ｇであった。結果を表１に示す。

（実施例２）
図１１に示す導入手段を用い、まず、混合ガスと純水が蒸発した水蒸気とからなる蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部に０．５秒間導入し、次に、空気を処理槽内の容器の外部に０．５秒間導入し、その後、混合ガスと純水が蒸発した水蒸気とからなる蒸気混合ガスを処理槽内の容器の外部に０．５秒間導入した。ガス供給手段および空気供給手段からはそれぞれ１２０Ｌ／ｍｉｎの流量で混合ガスまたは空気を供給した。純水の付着量は内面約１．０ｇ、外面約１．０ｇであった。結果を表１に示す。

（実施例３）
図１２に示す導入手段を用い、まず、空気と純水が蒸発した水蒸気とからなる空気混合ガスを処理槽内の容器の内部に０．５秒間導入し、次に、混合ガスを処理槽内の容器の内部に０．５秒間導入し、その後、混合ガスと純水が蒸発した水蒸気とからなる蒸気混合ガスを処理槽内の容器の外部に０．５秒間導入した。ガス供給手段および空気供給手段からはそれぞれ１２０Ｌ／ｍｉｎの流量で混合ガスまたは空気を供給した。純水の付着量は内面約１．０ｇ、外面約１．０ｇであった。結果を表１に示す。

〔実験２〕
上述した第２の実施の形態の殺菌装置を作製してその殺菌効果を評価した。殺菌対象の容器は容量３５０ｍｌのＰＥＴボトルとした。殺菌操作は次の通りとした。

（殺菌評価用ボトル）
（１）内面殺菌評価用ボトル
Bacillus cereusの胞子をＰＥＴボトル内面に所定量均一に付着させ内面殺菌評価用ボトルとした。
（２）外面殺菌評価用ボトル
上記胞子の所定量をＰＥＴボトルの外面口部すなわちネジ部，外面胴部および外面底部に１０箇所付着させ外面殺菌評価用ボトルとした。

（放電条件）
放電極：直径６ｍｍのステンレス製の丸棒からなる電極を使用し、ボトル底部から２０ｍｍ上方に設置した。
処理槽：図２９に示すような一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有する処理槽を使用した。すなわち、実験２で使用した処理槽は、実験１で使用した処理槽と異なり、処理槽開口部が形成されておらず、収容スペースＳが外部から遮断される。また、容器と処理槽内面との離間距離を略５ｍｍとした。
パルス印加条件：電圧７５ｋＶ，周波数８５０Ｈｚ，放電時間２０秒以下
放電前に導入されるガス：容積比でアルゴン２０％，窒素４５％，酸素３５％の混合ガスを用いた。
付着液体：純水を付着させ、付着前後の容器の重さを計量することにより、付着した水分量を調査した。

（培養方法）
放電終了後、殺菌評価用ボトルを装置から取りだし以下の方法で殺菌効果を評価した。
（１）内面殺菌評価
トリプトソーヤブイヨン液体培地約２０ｍｌをボトル内に注ぎ、予め滅菌処理したキャップをはめて充分振ったのち以下の条件で培養した。
Bacillus cereus ：３５℃，１０日間
（２）外面殺菌評価
菌付けした口部，胴部及び底部を切取り滅菌ビーカーに移し、寒天培地を注いで以下の条件で培養した。
Bacillus cereus ：標準寒天培地，３５℃，１０日間
培養後、上記の式１から殺菌効果Ｄ値を算出した。

（比較例２）
処理槽外において、純水を２流体スプレーで空気と混合して容器の内面および外面に噴射し、容器の内面および外面が曇る程度まで純水を付着させた。純水の付着量は内面および外面とも約１．０ｇであった。その後、処理槽内の容器の内部に１２０Ｌ／ｍｉｎの流量の混合ガスを０．５秒間導入した。結果を表２に示す。

（実施例４）
図２６に示す付着手段を用い、純水を２流体スプレーで空気と混合して容器の外面に噴射し、容器の外面が曇る程度まで純水を付着させた。次に、図２７に示す導入手段を用い、ガス供給手段から１２０Ｌ／ｍｉｎの流量で混合ガスを供給して、混合ガスと純水が蒸発した水蒸気とからなる蒸気混合ガスを処理槽内の容器の内部に０．５秒間導入した。その後、この容器を処理槽内に配置した。純水の付着量は内面約１．０ｇ、外面約１．０ｇであった。結果を表２に示す。

容器の成形から内容物の充填までの概略工程を示す図。本発明による殺菌方法および殺菌装置の第１の実施の形態を示す上面図。第１の実施の形態における殺菌装置内での各処理内容を説明する図。第１の実施の形態における殺菌装置を示す側面図。第１の実施の形態における殺菌装置を示す側面図。第１の実施の形態における放電極を示す側面図。第１の実施の形態における導入手段の概略構成を示す図。第１の実施の形態における蒸気混合ガスを生成する方法を説明する図。第１の実施の形態における大気プラズマの発生状況を監視する方法および手段を示す図。第１の実施の形態における乾燥手段を示す図。導入手段の変形例の概略構成を示す図。導入手段の変形例の概略構成を示す図。内部導入管の変形例を示す側面図。処理槽の変形例を示す側面図。処理槽の変形例を示す斜視図。処理槽の変形例を示す側面図。処理槽の変形例を示す側面図。支持手段の変形例を示す側面図。支持手段の変形例を示す上面図。支持手段の変形例を示す側面図。支持手段の変形例を示す側面図。放電極の変形例を示す側面図。放電極の変形例を示す図。本発明による殺菌方法および殺菌装置の第２の実施の形態を示す上面図。第２の実施の形態における殺菌装置内での各処理内容を説明する図。第２の実施の形態における容器の外面に液体を付着させる方法および付着手段の概略構成を示す図。第２の実施の形態における容器の内部に蒸気を導入する方法および導入手段の概略構成を示す図。第２の実施の形態における容器の内部への蒸気の導入方法を説明する図。第２の実施の形態における殺菌装置を示す部分断面図。第２の実施の形態における殺菌装置の動作方法を説明する図。第２の実施の形態における殺菌装置の動作方法を説明する図。第２の実施の形態における高電圧パルス印加手段の概略構成を示す図。第２の実施の形態における処理槽の動作方法を説明する図。図３３Ａに続く図であって、第２の実施の形態における処理槽の動作方法を説明する図。殺菌装置の変形例を示す概略構成図。

符号の説明

１容器
１０殺菌装置
１２チャンバー
２０処理槽
３０対向電極
３５放電極
４０回転体
５０殺菌剤供給手段
５６乾燥手段
５７高電圧パルス印加手段
５８接地側レール
５９高電圧側レール
６０放電電圧監視手段
６２電流プローブ
６３高電圧プローブ
６５放電光監視手段
６６判定部
６７放電光検出部
７０，７０ａ，７０ｂ導入手段
７２管
７８ガス供給手段
８０液体供給手段
８１，８１ａ，８１ｂヒーター
８２空気供給手段
１００処理槽
２１０，２１０ａ殺菌装置
２１７処理チャンバー
２１８仕切部材
２１８ａ開口
２２０処理槽
２２１他側処理槽形成部材
２２２一側処理槽形成部材
２４０回転体（第２回転体）
２５３判定手段
２５７高電圧パルス印加手段
２７５導入手段
２８７付着手段
２９４温調手段
２９５予備導入手段
２５２等価回路

Claims

殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる工程と、
殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する工程と、
外面に液体を付着させられるとともに内部に蒸気を導入された容器を、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽内に配置するとともに、容器内に放電極を挿入する工程と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる工程と、
容器を処理槽内から排出する工程と、を備え、
前記処理槽は、開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置されており、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、容器が配置される処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画され、
前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、
前記容器を処理槽内から排出する工程において、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内から排出し、
処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面と外面とを殺菌することを特徴とする殺菌方法。
殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる工程と、
殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する工程と、
外面に液体を付着させられるとともに内部に蒸気を導入された容器を、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽内に配置するとともに、容器内に放電極を挿入する工程と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる工程と、
処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する工程と、
容器を処理槽内から排出する工程と、を備え、
前記処理槽は、開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置されており、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、容器が配置される処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画され、
前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、
前記容器を処理槽内から排出する工程において、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常無しと判定された容器は、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出され、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常有りと判定された容器は、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出され、
処理槽の内面および処理槽内に配置されている放電極とともに容器の内面と外面とを殺菌することを特徴とする殺菌方法。
前記蒸気を導入する工程において、
蒸気は、所定のガスと混合された蒸気混合ガスとして容器の内部に導入されることを特徴とする請求項１または２に記載の殺菌方法。
一定期間連続して所定のガスをヒーターに供給するともに、ガスの供給期間内における所定期間連続して所定の液体を液滴の状態でヒーターへ供給することにより、蒸気混合ガスを生成することを特徴とする請求項３に記載の殺菌方法。
所定の液体が水であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の殺菌方法。
開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置され、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽であって、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽の内部に、殺菌対象の容器を配置するとともに、放電極を容器内に挿入する工程と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、容器を殺菌する工程と、
殺菌された容器を処理槽内から排出する工程と、を備え、
前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、
前記容器を処理槽内から排出する工程において、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内から排出することを特徴とする殺菌方法。
開口を有する仕切部材によって区分けされるチャンバー内に配置され、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽であって、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽の内部に、殺菌対象の容器を配置するとともに、放電極を容器内に挿入する工程と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせ、容器を殺菌する工程と、
処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する工程と、
容器を処理槽内から排出する工程と、を備え、
前記容器を処理槽内に配置する工程において、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて、容器を処理槽内に配置し、
前記容器を処理槽内から排出する工程において、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常無しと判定された容器は、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で一側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出され、前記殺菌処理の異常の有無を判定する工程で異常有りと判定された容器は、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆った状態で他側処理槽形成部材を仕切部材から離間させて処理槽内から排出されることを特徴とする殺菌方法。
仕切部材と処理槽の一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材とがチャンバー内に配置された回転自在な回転体に支持され、回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて仕切部材に複数の開口が設けられるとともに各開口に対応して処理槽の一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材が設けられており、
回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽内に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、その後の移動経路の所定位置において処理槽内から容器が順次排出され、これにより、多数の容器が順次殺菌処理されていくことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の殺菌方法。
殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる付着手段と、
殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段と、
少なくとも一部分が対向電極で覆われ、殺菌対象の容器が内部に配置される処理槽と、
処理槽内に配置される容器内に挿入可能な放電極と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、
処理槽を収容するチャンバーと、
開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、を備え、
処理槽は、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画されるようになっており、
容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようになっており、
処理槽の内面および放電極とともに容器の内面と外面とを殺菌することを特徴とする殺菌装置。
殺菌対象の容器の外面に所定の液体を付着させる付着手段と、
殺菌対象の容器の内部に所定の液体を蒸発させてなる蒸気を導入する導入手段と、
少なくとも一部分が対向電極で覆われ、殺菌対象の容器が内部に配置される処理槽と、
処理槽内に配置される容器内に挿入可能な放電極と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、
処理槽を収容するチャンバーと、
開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、
処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する判定手段と、を備え、
処理槽は、仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、処理槽の内部は、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画されるようになっており、
容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常無しと判定された容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常有りと判定された容器の処理槽内からの排出を一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようになっており、
処理槽の内面および放電極とともに容器の内面と外面とを殺菌することを特徴とする殺菌装置。
導入手段は、所定の液体を蒸発させてなる蒸気と所定のガスとを混合した蒸気混合ガスを容器の内部に導入することを特徴とする請求項９または１０に記載の殺菌装置。
導入手段は、
処理槽内まで延在する管と、
管を加熱するヒーターと、
管に所定のガスを供給するガス供給手段と、
管に所定の液体を液滴の状態で供給する液体供給手段と、を有することを特徴とする請求項１１に記載の殺菌装置。
所定の液体が水であることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の殺菌装置。
チャンバーと、
開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、
チャンバー内に仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽であって、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽と、
処理槽内に配置された容器に挿入される放電極と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、を備え、
容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようになっていることを特徴とする殺菌装置。
チャンバーと、
開口を有し、チャンバー内に配置されてチャンバー内を区分けする仕切部材と、
チャンバー内に仕切部材を挟んで配置され仕切部材に対してそれぞれ接離可能な一側処理槽形成部材と他側処理槽形成部材とを有し、一側処理槽形成部材および他側処理槽形成部材の両者が仕切部材に当接して各々が仕切部材の開口を塞ぐことによって外部と区画される処理槽であって、少なくとも一部分が対向電極で覆われた処理槽と、
処理槽内に配置された容器に挿入される放電極と、
放電極と対向電極との間に高電圧パルスを印加して処理槽内の容器の内部および外部に大気圧プラズマを生じさせる高電圧パルス印加手段と、
処理槽内にある容器について殺菌処理の異常の有無を判定する判定手段と、をさらに備え、
容器の処理槽内への配置を、一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常無しと判定された容器の処理槽内からの排出を、他側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに一側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行い、判定手段により異常有りと判定された容器の処理槽内からの排出を一側処理槽形成部材が仕切部材の開口を覆うとともに他側処理槽形成部材が仕切部材から離間した状態で行うことができるようになっていることを特徴とする殺菌装置。
チャンバー内に配置され、回転軸を中心として回転自在な回転体をさらに備え、
仕切部材は、回転体によりチャンバー内に支持され、回転体の回転軸を中心とした同一円周に沿って等間隔を空けて複数の開口を形成され、
仕切部材の各開口に対応して複数の処理槽が設けられるとともに、各処理槽に対応して複数の放電極が設けられ、
回転体の回転にともなった移動経路の所定位置を通過する処理槽内に容器が順次配置され、その後の移動経路の所定区間において高電圧パルスが順次印加され、その後の移動経路の所定位置において処理槽内から容器が順次排出され、これにより、多数の容器が順次殺菌処理されていくようになっていることを特徴とする請求項９乃至１５のいずれか一項に記載の殺菌装置。