JP4840777B2 - シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法 - Google Patents

シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4840777B2
JP4840777B2 JP2007051042A JP2007051042A JP4840777B2 JP 4840777 B2 JP4840777 B2 JP 4840777B2 JP 2007051042 A JP2007051042 A JP 2007051042A JP 2007051042 A JP2007051042 A JP 2007051042A JP 4840777 B2 JP4840777 B2 JP 4840777B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon germanium
silicon
nanowire
germanium
nanowires
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007051042A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007238433A (ja
Inventor
哲二 野田
全利 胡
弘 荒木
裕 鈴木
文 楊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute for Materials Science
Original Assignee
National Institute for Materials Science
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute for Materials Science filed Critical National Institute for Materials Science
Priority to JP2007051042A priority Critical patent/JP4840777B2/ja
Publication of JP2007238433A publication Critical patent/JP2007238433A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4840777B2 publication Critical patent/JP4840777B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

この出願の発明は、シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、半導体等の情報通信用デバイス材料やその他電子・電気材料等として有用で、多様な組成および形態が実現できる新しいシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法に関するものである。
近年、シリコン等のナノワイヤーは微小半導体として注目を集めており、たとえば量子細線等として、従来のリソグラフィー技術による加工限界を超えた、次世代の高密度集積回路素子材料としての利用が期待されている。
このようなナノワイヤーについて、その製造方法としては、気相蒸発法、レーザー法等の各種の方法が提案されており、この出願の発明者らもまた、浮遊帯域溶融法(FZ法)によりシリコンナノワイヤーを大量に製造することができる方法をすでに提案(特願2001−333257)している。
しかしながら、ナノワイヤーを細線材料としてのみならず、様々な機能を有する材料として利用するためには、組成や形態を制御して、簡便かつ大量にナノワイヤーを製造することが望まれる。
そこで、この出願の発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、半導体等の情報通信用デバイス材料やその他電子・電気材料等として有用で、多様な組成および形態が、簡便に、大量にも実現可能とされる新しいシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法を提供することを課題としている。
そこで、この出願の発明は、上記課題を解決するものとして、以下の通りの発明を提供する。
すなわち、本発明のシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法は、一般式SixGe1−x( 式中、0<x<1)で示す組成を有する棒状の粉末焼結試料を浮遊帯域溶融法により試料上部より試料下部に向かって光照射加熱により順次溶融させ、前記棒状合金試料の下方より上方へアルゴンあるいは水素をキャリアガスとして流し、前記溶融部の上方の試料に、960〜1000℃の温度領域を作り出すことによって、前記球状部とナノワイヤー部との前記式中のxの相違を発現させることを特徴とする。
この出願の発明の方法により、リコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、組成が、一般式SixGe1−xで表される様々なxを持つ合金を使用ながらも、シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体となったものは、前記合金とは異なx値を示すことを発現できるようになった。
この出願の発明は、上記の通りの特徴を持つものであるが、以下にその実施の形態について詳しく説明する。
この出願の発明が提供するシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、組成が、一般式SixGe1−xで表される様々なxを持つ合金を使用ながらも、シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体となったものは、前記合金とは異なx値を示すことを発現できるようになった。このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、単一では、代表的に、直径が数十〜数百nmで、長さが数10μm以上の寸法のナノワイヤーである。
実際的には、このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、その複数集合したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体として製造される。このシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、その形態は、たとえば、図4に示したように、単一のシリコンゲルマニウムナノワイヤーがランダムに集合した形態のものや、図1に示したように、房状あるいは束状に集合したもの、放射状に集合したものなど、様々な形態のものとして実現される。
より詳細に観察すると、これらのシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、代表的には、略球状のシリコンゲルマニウム球状部から、シリコンゲルマニウムナノワイヤーが複数本成長している形態のものとして例示することができる。シリコンゲルマニウムナノワイヤーの数、成長点、成長方向等により、上記のような様々な形態を実現していると考えられる。
このような特殊な形態を有するシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、この出願の発明によって全く初めて提供されるものである。そして、このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、クロス組み立て等による微小半導体材料として利用できるのはもちろんのこと、様々な形態、構造、および組成の異なるナノワイヤーとして実現されるため、機械的な特性を要求されるナノマシン用素材や、発光素子、光検出器、触媒等としても利用することができる。
以上のようなこの出願の発明のシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、たとえば以下のシリコンゲルマニウムナノワイヤーの製造方法により製造することができる。すなわち、この出願の発明のシリコンゲルマニウムナノワイヤーの製造方法は、原料としての粒径が50μm以下のシリコン粉末およびゲルマニウム粉末をロッド状に成形した後、不活性ガス気流中で溶融させることにより、その成形体より直径がナノメートルオーダーのナノワイヤーを成長させることを特徴としている。
原料としては、シリコン粉末およびゲルマニウム粉末あるいはこれらの合金の粉末を用いることができる。原料粉末におけるシリコンおよびゲルマニウムの配合は、所望のシリコンゲルマニウムナノワイヤーの組成に応じ、たとえばSi−Ge状態図等を参考にして、決定することができる。シリコンよりも低融点で、かつシリコンと全率固溶となるゲルマニウムは、この発明におけるナノワイヤーの形成において触媒的な作用をするものと考えられ、このシリコンとゲルマニウムの組み合わせはこの出願の発明の方法において欠かせないものであるといえる。とりわけシリコン粉末とゲルマニウム粉末を混合して用いる場合には、たとえば図1に示したような特異な形態のシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体を好適に得ることができる。この理由は明らかではないものの、粉末状のゲルマニウムが何らかの触媒作用を示すためであると考えられる。
そして、この出願の発明の方法において原料粉末の大きさは重要であって、上記の原料粉末は粒径50μm以下のものとすることが好ましい。原料粉末を50μm以下とすることにより、表面積を多くすることができ、この粉末表面に形成される僅かな酸化物層がシリコンゲルマニウムナノワイヤーの成長において生成助長効果を発揮するものと考えられる。なお、これらの原料は、微量の酸素、目安としては、1重量%以下の酸素を含むものであることが好ましい。
このような原料粉末をロッド状に成形した後、不活性ガス雰囲気下で溶融するようにする。この成形は、原料粉末の溶融およびナノワイヤーの成長を好適に行なうためのものであって、たとえば形が崩れない程度に成形し、軽く焼結するなどしてもよい。溶融については、アルゴンガス等の不活性ガス、あるいは水素ガスをキャリアガスとして用い、900〜1000℃の一定の範囲に保つようにする。これによって、成形体の表面から、シリコンゲルマニウムナノワイヤーを成長させることができる。
なお、この溶融は、特別の処理および特殊な装置が必要ないことから、帯域溶融法により行なうことが簡便で、かつシリコンゲルマニウムナノワイヤーの大量生産に好適な手段として例示される。帯域溶融法による場合は、具体的には、たとえば、一般的な帯域溶融装置の試料ホルダーに原料粉末の成形体をセットし、装置内部を真空排気した後、Arガスを流量10〜30cm/min程度、圧力20〜400Torr程度で装置内部を下方から上方に流し、図3に示すとおり、キセノンランプを試料上部に照射して900〜1400℃で溶融させるとともに、溶融部を20〜40mm/hの移動速度で下方に移動させて全体を溶融させることなどが例示される。
以上のこの出願の発明の方法によって、大量かつ容易にシリコンゲルマニウムナノワイヤーを製造することができる。この出願の発明の方法は、シリコンゲルマニウムナノワイヤーを提供するものだけでなく、リソグラフィーに変わる新しい高集積半導体作成技術を提供するものとして期待することができる。
以下、添付した図面に沿って実施例を示し、この発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。
[実施
純度99.999%のシリコン粉末と純度99.999%のゲルマニウム粉末を、重量で4:1の割合で混合し、300メッシュ(粒径約50μm)程度になるように乳鉢で細かく粉砕した。この混合粉末を、直径8mm、長さ100mmのロッド状に成形し、10−6Torrの真空において、800℃、2時間で形が崩れない程度に仮焼結を行なった。このロッドを試料として、大気圧下、Arガス流量10cm/minの条件下で、浮遊帯域溶融法により溶解した。このとき、Arガスは、略垂直に設置されているロッド体の下から上に向かって流すようにした。
すると、ロッド表面において、溶融部より約1.5〜2cm上方の、温度960〜1000℃の領域に、図1(a)〜(d)に示したような様々な形態のナノワイヤー集合体が成長しているのが確認された。このナノワイヤー集合体は、いずれも球状部から多数のナノワイヤーが伸びて構成されており、あたかも頭頂部から触手等が伸びている生物のような特殊な形状を有しているのが観察された。
このナノワイヤー集合体を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察した結果を図2に示した。ナノワイヤー部の直径は、数十〜数百nmにわたることがわかった。
また、このナノワイヤー集合体の各部の組成を調べたところ、球状部のSi:Geは48:52と、シリコンおよびゲルマニウムの粉末混合比(80:20)に比べて大幅にGe側に傾いた組成となっていることがわかった。一方、ナノワイヤー部については、Si:Geが82:18とシリコン側に組成がずれているのがわかった。
図3に示したSi−Geの状態図から予測されるように、このナノワイヤー集合体は、まずGeリッチの液滴が試料(ロッド)表面に生じ、そこからSiリッチのナノワイヤーが成長したものと考えられる。したがって、たとえば液相のSi−Ge組成が一定になるようにすれば、所望の組成のシリコンゲルマニウムナノワイヤーを製造することができるといえる
以上詳しく説明した通り、この発明によって、半導体等の情報通信用デバイス材料等として有用で、多様な組成および形態が簡便に実現できる新しいシリコンゲルマニウムナノワイヤーとその製造方法が提供される。
実施例において製造したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体のSEM像を例示した図。 実施例において製造したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体のTEM像と(111)電子回折像を例示した図である。 シリコン−ゲルマニウム2元系状態図である。 実施例において製造したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体のSEM像を例示した図である。

Claims (1)

  1. シリコンゲルマニウム球状部からシリコンゲルマニウムナノワイヤー部が成長したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法であって、一般式SixGe1−x( 式中、0<x<1)で示す組成を有する棒状の粉末焼結試料を浮遊帯域溶融法により試料上部より試料下部に向かって光照射加熱により順次溶融させ、前記棒状合金試料の下方より上方へアルゴンあるいは水素をキャリアガスとして流し、前記溶融部の上方の試料に、960〜1000℃の温度領域を作り出すことによって、前記球状部とナノワイヤー部との前記式中のxの相違を発現させることを特徴とするシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法。
JP2007051042A 2007-03-01 2007-03-01 シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法 Expired - Fee Related JP4840777B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007051042A JP4840777B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007051042A JP4840777B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002228151A Division JP3978490B2 (ja) 2002-08-06 2002-08-06 シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007238433A JP2007238433A (ja) 2007-09-20
JP4840777B2 true JP4840777B2 (ja) 2011-12-21

Family

ID=38584323

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007051042A Expired - Fee Related JP4840777B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4840777B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101146350B1 (ko) * 2009-12-29 2012-05-21 한국과학기술원 단결정 게르마늄화철 나노와이어 및 그 제조방법

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3978490B2 (ja) * 2002-08-06 2007-09-19 独立行政法人物質・材料研究機構 シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007238433A (ja) 2007-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102093441B1 (ko) 그래핀의 제조 방법
KR101594132B1 (ko) 나노복합체형 열전재료, 이를 포함하는 열전모듈과 열전 장치
Wang et al. Deterministic one-to-one synthesis of germanium nanowires and individual gold nano-seed patterning for aligned nanowire arrays
US7655497B1 (en) Growth method for chalcongenide phase-change nanostructures
JP4547519B2 (ja) シリコンナノワイヤーの製造方法
KR20100016725A (ko) 실리콘 풍부산화물을 포함하는 나노와이어 및 그의제조방법
JP5539643B2 (ja) Pb合金及びコア/シェルナノワイヤの合成
KR20100007255A (ko) 실리콘 나노닷 함유 실리카 나노 와이어 및 그의 제조방법
JP3978490B2 (ja) シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体
JP4840777B2 (ja) シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法
JP2007319988A (ja) Iv族半導体ナノ細線の製造方法並びに構造制御方法
JP3571287B2 (ja) 酸化珪素のナノワイヤの製造方法
JP4016105B2 (ja) シリコンナノワイヤーの製造法
JP2008311396A (ja) 薄壁のグラフィチック・カーボンナノチューブで被覆されたヘテロ接合含有窒化マグネシウム・ナノワイヤ及びガリウム・ナノワイヤ
KR101348728B1 (ko) 나노와이어 내부에 귀금속을 불연속적으로 포함하는 산화갈륨 나노와이어의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 산화갈륨 나노와이어
JP3841592B2 (ja) シリコン結晶ナノ球体チェーンの製法
JP5435600B2 (ja) Iv族半導体ナノ細線の製造方法
JP4452813B2 (ja) 六方晶系硫化亜鉛ナノチューブの製造方法
JP4894180B2 (ja) シリカ膜で被覆されたGaとZnSとの接合を有するナノワイヤー及びその製造方法
JP4997622B2 (ja) 六方晶系単結晶ナノチューブ及びその製造方法
JP3873126B2 (ja) リン化インジウムナノワイヤーとナノチューブの製造方法
JP4756239B2 (ja) 窒化ガリウムからなる中空の球状粒子及びその製造方法
KR101702404B1 (ko) 나노 구조체, 및 이의 제조 방법
JP4756236B2 (ja) 単結晶セレン化亜鉛サブマイクロメートルチューブ及びその製造方法
JP3837569B2 (ja) 珪素−硫化亜鉛複合ナノワイヤーとその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100615

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100715

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101005

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110329

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110408

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110927

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110927

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141014

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141014

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees