JP4835003B2 - Slit nozzle, bubble discharge method of slit nozzle, and coating apparatus - Google Patents

Slit nozzle, bubble discharge method of slit nozzle, and coating apparatus Download PDF

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本発明は、基板上に塗布液を塗布するスリットコータに関するものであり、特に、スリットコータのスリットノズル内の気泡の排出を円滑に効果的に行うことのできるスリットノズル、スリットノズルの気泡排出方法、塗布装置に関するものである。   The present invention relates to a slit coater for applying a coating liquid onto a substrate, and in particular, a slit nozzle capable of smoothly and effectively discharging bubbles in the slit nozzle of the slit coater, and a bubble discharging method for the slit nozzle. The invention relates to a coating apparatus.
液晶表示装置やプラズマディスプレイパネルにおいて、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成されて使用されるものである。表示装置用カラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、フォトリソグラフィー法、印刷法などがあげられる。
In a liquid crystal display device or a plasma display panel, it is a useful means to use a color filter for purposes such as color display, reflectance reduction, contrast improvement, and spectral characteristic control.
In many cases, the color filter used in the display device is formed and used as a pixel. As a method for forming a pixel of a color filter for a display device, a photolithography method, a printing method, and the like can be cited as methods that have been put into practical use.
例えば、顔料分散法は、このフォトリソグラフィー法の一方法であるが、この顔料分散法において使用するカラーフィルタ形成用のフォトレジストは、ガラス基板上に、例えば、スピンコータを用いて回転塗布され、この塗膜にフォトマスクを介してUV露光、現像処理がおこなわれ表示装置用カラーフィルタの画素として形成される。   For example, the pigment dispersion method is one method of this photolithography method, and a color filter forming photoresist used in this pigment dispersion method is spin-coated on a glass substrate using, for example, a spin coater. The coating film is subjected to UV exposure and development processing through a photomask to form pixels of a color filter for a display device.
従来、液晶表示装置の製造プロセスにおいて、フォトレジストなどの塗布装置としては、ノズルからガラス基板の中央部に塗布液を滴下した後、ガラス基板を回転させ塗布液を延展させる上記スピンコータが多く用いられてきた。
このスピンコータは、膜厚の精度が高いのが長所であるが、ガラス基板が大型化するとモーターなどの機械的制約から装置化するのが困難であり、また、塗布液の95%以上が無駄に浪費されるといった短所がある。
Conventionally, in the manufacturing process of a liquid crystal display device, as a coating device such as a photoresist, the above spin coater that rotates a glass substrate and spreads the coating solution after dropping the coating solution from a nozzle to the center of the glass substrate is often used. I came.
This spin coater has the advantage of high film thickness accuracy, but if the glass substrate becomes large, it is difficult to implement it due to mechanical restrictions such as a motor, and more than 95% of the coating solution is wasted. There is a disadvantage that it is wasted.
このため、例えば、550mm×650mm程度の大きさのガラス基板においては、スリット&スピンコータ(或いは、コート&スピンコータとも呼ばれる)が使用され始めた。これは、スリットノズルから塗布液をガラス基板に塗布した後、ガラス基板を回転させて膜厚の均一性を高める方法である。
この方法は、塗布液の利用率は30〜40%と大幅に改善されたものの、上記モーターなどの機械的制約は同様なので、装置を更に大型化するのは困難なことである。
For this reason, for example, in a glass substrate having a size of about 550 mm × 650 mm, a slit & spin coater (also called a coat & spin coater) has started to be used. This is a method of increasing the uniformity of the film thickness by applying the coating liquid to the glass substrate from the slit nozzle and then rotating the glass substrate.
In this method, although the utilization rate of the coating solution is greatly improved to 30 to 40%, the mechanical constraints such as the motor are the same, so it is difficult to further increase the size of the apparatus.
これらのコータに代わって、精度の高いスリットコータの開発、実用が進んでいる。スリットコータは、ガラス基板を載置した定盤を、或いは塗布ヘッドを水平移動させながらスリットノズルから塗布液をガラス基板に塗布する方法であり、1m×1.3m、或いは1.5m×1.8m程度の大きさのガラス基板にも対応ができるようになった。   Instead of these coaters, the development and practical use of highly accurate slit coaters are progressing. The slit coater is a method of applying a coating solution to a glass substrate from a slit nozzle while horizontally moving a surface plate on which a glass substrate is placed or an application head, and is 1 m × 1.3 m or 1.5 m × 1. A glass substrate having a size of about 8 m can be accommodated.
図1は、スリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。また、図2は、図1に示すスリットコータの側面図である。
図1、及び図2に示すように、模式的に示すスリットコータ(10)は、フレーム(14)と吸引バキューム付き定盤(15)からなるステージ(11)、及びスリットノズル(13)で構成されている。
スリットノズル(13)はステージ(11)右方、フレーム(14)上方の第一待機位置(A)に設けられ、基板上に塗布液を塗布する際には矢印で示すように、スリットノズル(13)は左方に移動し、定盤上に載置・固定された基板上に塗布液を塗布するようになっている。
FIG. 1 is a plan view schematically showing an outline of an example of a slit coater. FIG. 2 is a side view of the slit coater shown in FIG.
As shown in FIGS. 1 and 2, the slit coater (10) schematically shown includes a stage (11) comprising a frame (14) and a surface plate (15) with a suction vacuum, and a slit nozzle (13). Has been.
The slit nozzle (13) is provided at the first standby position (A) on the right side of the stage (11) and above the frame (14). When applying the coating liquid onto the substrate, the slit nozzle (13) 13) moves to the left and applies the coating solution onto the substrate placed and fixed on the surface plate.
このようなスリットコータ(10)の動作は、先ず、第一ロボット(図示せず)が前工程から搬送された基板(12)を白太矢印(16)で示すように、吸引バキューム付き定盤(15)上に載置する。基板(12)は吸引バキュームによって定盤(15)上に固定される。
次に、ステージ(11)右方、フレーム(14)上方の第一待機位置(A)のスリットノズル(13)は、矢印で示すように、定盤(15)上に固定された基板(12)上を右方から左方へと移動しながら基板(12)上に塗布液を塗布し、第二待機位置(D)に至る。
The operation of the slit coater (10) is as follows. First, the substrate (12) transported from the previous process by the first robot (not shown) is indicated by a white thick arrow (16), and a surface plate with suction vacuum is provided. (15) Place on top. The substrate (12) is fixed on the surface plate (15) by suction vacuum.
Next, the slit nozzle (13) at the first standby position (A) on the right side of the stage (11) and above the frame (14) is a substrate (12) fixed on the surface plate (15) as indicated by an arrow. ) The coating solution is applied onto the substrate (12) while moving from the right to the left, and reaches the second standby position (D).
塗布液の塗布が終了すると第二ロボット(図示せず)は、白太矢印(17)で示すように、基板(12)を次工程へと搬出する。
スリットノズル(13)内に混入した気泡の排出は、第二待機位置(D)または第一待機位置(A)で行われる。例えば、この第二待機位置(D)において行われる際には、気泡の排出などが終了するとスリットノズル(13)は第一待機位置(A)に戻る。
When the application of the coating liquid is completed, the second robot (not shown) carries the substrate (12) to the next process as indicated by the white arrow (17).
The bubbles mixed in the slit nozzle (13) are discharged at the second standby position (D) or the first standby position (A). For example, when it is performed at the second standby position (D), the slit nozzle (13) returns to the first standby position (A) when the discharge of the bubbles is completed.
図3は、このようなスリットコータ(10)における、スリットノズル(13)への塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構の一例の概略を示す説明図である。図3は、図1に示すスリットコータ(10)の、図1中右方からの側面図である。
図3に示すように、この塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構は、塗布液の供給系としての塗布液タンク(21)、塗布液供給配管(22)、供給ポンプ(23)、気泡の排出系としての気泡排出配管(24)、開閉バルブ(25)、廃液タンク(26)、及びスリットノズル(13)で構成されている。
塗布液タンク(21)には塗布液(27)が充填され、廃液タンク(26)には気泡の排出と共に排出された廃液(気泡と塗布液の混合物)(28)が溜まっている。
FIG. 3 is an explanatory view schematically showing an example of a mechanism for supplying the coating liquid to the slit nozzle (13) and discharging the bubbles in the slit coater (10). FIG. 3 is a side view of the slit coater (10) shown in FIG. 1 from the right side in FIG.
As shown in FIG. 3, the mechanism for supplying the coating liquid and discharging the bubbles includes a coating liquid tank (21), a coating liquid supply pipe (22), a supply pump (23) as a coating liquid supply system, It comprises a bubble discharge pipe (24) as a bubble discharge system, an open / close valve (25), a waste liquid tank (26), and a slit nozzle (13).
The coating liquid tank (21) is filled with the coating liquid (27), and the waste liquid tank (26) stores waste liquid (a mixture of bubbles and coating liquid) (28) discharged together with the discharge of bubbles.
図4は、図3に示す塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構を用いて、基板(12)上に塗布液を塗布する動作の一例を示す説明図である。図4は、図2と同様に、図1に示すスリットコータの、図1中下方からの側面図である。
第一待機位置(A)にあるスリットノズル(13)には塗布液が充填され、スリットノズル(13)は既に気泡の排出は終了している状態である。この際、開閉バルブ(25)は閉じられており、また供給ポンプ(23)は作動していない。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of the operation of applying the coating liquid onto the substrate (12) using the mechanism for supplying the coating liquid and discharging the bubbles shown in FIG. 4 is a side view of the slit coater shown in FIG. 1 as viewed from below in FIG. 1, similarly to FIG.
The slit nozzle (13) in the first standby position (A) is filled with the coating liquid, and the slit nozzle (13) is already in the state of discharging the bubbles. At this time, the on-off valve (25) is closed and the supply pump (23) is not operating.
スリットノズル(13)が、図4中左方へ移動し、塗布開始位置(B)に至ると、供給ポンプ(23)が作動し塗布液供給配管(22)を経てスリットノズル(13)の注入口(42)から塗布液の供給が開始され、吐出口(41)から基板(12)上への塗布が開始される。
スリットノズル(13)は図4中左方へ移動しながら基板(12)上へ塗布液を塗布する。塗布開始位置(B)から塗布終了位置(C)までの間は、開閉バルブ(25)は閉じ、供給ポンプ(23)は作動し続けた状態で塗布が行われる。
When the slit nozzle (13) moves to the left in FIG. 4 and reaches the application start position (B), the supply pump (23) is actuated and passes through the application liquid supply pipe (22) to insert the slit nozzle (13). Supply of the coating liquid is started from the inlet (42), and coating on the substrate (12) is started from the discharge port (41).
The slit nozzle (13) applies the coating liquid onto the substrate (12) while moving to the left in FIG. Between the application start position (B) and the application end position (C), the on-off valve (25) is closed and the supply pump (23) is applied while being operated.
スリットノズル(13)が塗布終了位置(C)に至ると、供給ポンプ(23)の作動は停止し、基板(12)上への塗布液の塗布は終了する。スリットノズル(13)は更に左方へ移動するが、スリットノズル(13)が塗布終了位置(C)から第二待機位置(D)へと移動する間は、開閉バルブ(25)は閉じ、加圧ポンプ(23)は作動を停止したままである。
スリットノズル(13)が第二待機位置(D)に至り移動を停止する。この第二待機位置(D)または第一待機位置(A)にて、スリットノズル(13)内に混入し、溜まった気泡の排出が行われる。
When the slit nozzle (13) reaches the application end position (C), the operation of the supply pump (23) is stopped, and the application of the application liquid onto the substrate (12) is completed. The slit nozzle (13) moves further to the left. However, while the slit nozzle (13) moves from the application end position (C) to the second standby position (D), the open / close valve (25) is closed and applied. The pressure pump (23) remains deactivated.
The slit nozzle (13) reaches the second standby position (D) and stops moving. At this second standby position (D) or first standby position (A), the bubbles that have entered the slit nozzle (13) and accumulated are discharged.
気泡を排出する際は、気泡の排出系の開閉バルブ(25)を開とし、加圧ポンプ(23
)を作動させると、スリットノズル(13)内の気泡は通気口(43)から気泡排出配管(24)を経て廃液タンク(26)に排出される。この気泡の排出時には、気泡は塗布液と共に混合した状態の廃液(28)として排出される。
気泡の排出は、上記のように基板(12)上への塗布液の塗布が終了する度に行われる。気泡の排出が行われている間、塗布液は吐出口(41)からも吐出されている。
When discharging bubbles, the opening / closing valve (25) of the bubble discharge system is opened, and the pressure pump (23
) Is discharged, the bubbles in the slit nozzle (13) are discharged from the vent (43) to the waste liquid tank (26) through the bubble discharge pipe (24). When the bubbles are discharged, the bubbles are discharged as a waste liquid (28) mixed with the coating liquid.
The bubbles are discharged every time the application of the coating liquid onto the substrate (12) is completed as described above. While the bubbles are being discharged, the coating liquid is also discharged from the discharge port (41).
しかしながら、上記のように、図3に示す塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構を用いて、上記のような動作で基板(12)上に塗布液を塗布し、スリットノズル(13)内の気泡の排出を行うと、実際の製造においては、安全を見込んで気泡の排出を行うために、どうしても塗布液の供給量が過度になるといった傾向になる。これに伴い、気泡の排出に要する時間も過度になってしまうといった傾向になる。   However, as described above, the coating liquid is applied on the substrate (12) by the above-described operation using the mechanism for supplying the coating liquid and discharging the bubbles shown in FIG. 3, and the slit nozzle (13). If the bubbles in the inside are discharged, the actual supply tends to cause the supply amount of the coating liquid to be excessive in order to discharge the bubbles in anticipation of safety. Along with this, the time required for discharging the bubbles tends to be excessive.
図5は、図3に示すスリットノズル(13)の一例における、YZ面での側断面図である。また、図6は、図5に示すスリットノズル(13)の一例における、XZ面での側断面図である。図5、及び図6に示すように、スリットノズル(13)内には溜まり部(マニホールド部)(31)、その下方にスリット(32)が設けられている。
スリットノズル(13)の長手方向の中央部のX方向には、注入口(42)が設けられており塗布液供給配管(22)が接続している。また、中央部のZ方向には、通気口(43)が設けられており気泡排出配管(24)が接続している。
FIG. 5 is a cross-sectional side view on the YZ plane in the example of the slit nozzle (13) shown in FIG. FIG. 6 is a side sectional view on the XZ plane in the example of the slit nozzle (13) shown in FIG. As shown in FIGS. 5 and 6, a reservoir (manifold) (31) is provided in the slit nozzle (13), and a slit (32) is provided therebelow.
An injection port (42) is provided in the X direction at the center of the slit nozzle (13) in the longitudinal direction, and a coating liquid supply pipe (22) is connected thereto. Further, a vent (43) is provided in the center Z direction, and a bubble discharge pipe (24) is connected thereto.
上記のように、基板(12)上への塗布液の塗布が終了する度に、スリットノズル(13)内の気泡の排出を安全を見込んで行うが、スリットノズル(13)の長手方向の距離が大きくなると、例えば、1.5m×1.8m程度の大きさのガラス基板に対応したスリットノズルとなると、中央部から端までの距離は75cm程度となる。
このように、スリットノズル(13)の長手方向の距離が大きくなると、安全を見込んだ気泡の排出を行っても、溜まり部(マニホールド部)(31)内に気泡が残留してしまうことがある。
As described above, every time the application of the coating liquid onto the substrate (12) is completed, the bubbles in the slit nozzle (13) are discharged with the safety in mind. For example, when the slit nozzle is adapted to a glass substrate having a size of about 1.5 m × 1.8 m, the distance from the center to the end is about 75 cm.
Thus, when the distance in the longitudinal direction of the slit nozzle (13) is increased, the bubbles may remain in the pool portion (manifold portion) (31) even if the bubbles are discharged for safety. .
排出されずに残留した気泡は、スリットノズル(13)の注入口(42)からの塗布液の供給が再開されると、図5中、符号(E)で示すように、溜まり部(マニホールド部)(31)内の端に移動し留まる。
スリットノズル(13)内では、塗布液には圧力が均一に加圧され、塗布液が均一に流れることが求められるが、溜まり部(マニホールド部)(31)内に気泡が残留していると、塗布液の流れが不均一な状態になり塗布膜の膜厚に悪影響を及ぼすといった問題を引き起こす。
When the supply of the coating liquid from the inlet (42) of the slit nozzle (13) is resumed, the remaining bubbles without being discharged are collected (manifold portion) as shown by symbol (E) in FIG. ) Move and stay at the end in (31).
In the slit nozzle (13), it is required that the coating liquid is uniformly pressurized and the coating liquid flows uniformly, but if bubbles remain in the reservoir (manifold section) (31). This causes a problem that the flow of the coating liquid becomes non-uniform and adversely affects the thickness of the coating film.
また、気泡は吐出口(41)から溜まり部(31)内に入り込むこともあり、吐出口(41)から入り込んだ気泡は、同様に溜まり部(31)内の端に溜まる傾向にある。
更には、塗布液中に気泡が混入したままスリット(32)から基板上に塗布されると、露光、現像処理後のカラーフィルタの画素上には、ピンホール等が発生しカラーフィルタとしてはピンホールと称する欠陥となる。
特開平9−253556号公報 特開平8−274014号公報 特開2002−66487号公報 特開2002−45760号公報
In addition, the bubbles may enter the accumulation portion (31) from the discharge port (41), and the bubbles that have entered from the discharge port (41) tend to accumulate at the end in the accumulation portion (31).
Furthermore, if the coating liquid is coated on the substrate through the slit (32) with air bubbles mixed in, a pinhole or the like is generated on the pixel of the color filter after the exposure and development processing, and the color filter is a pin. It becomes a defect called a hole.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-253556 JP-A-8-274014 JP 2002-66487 A JP 2002-45760 A
本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、大型基板上への塗布液の塗布をスリットコータを用いて行う際に、スリットノズルに混入し、溜まる気泡の排出を円滑に効果的に、すなわち、少量の塗布液で短時間に気泡の排出を充分に行うことのできるスリットノズルを提供することを課題とするものである。また、スリットノズル内の気泡を排出する際に、少量の塗布液で短時間に気泡の排出を充分に行うことのできるスリットノズルの気泡排出方法を提供することを課題とする。また、上記スリットノズルを用いた塗布装置を提供することを課題とする。   The present invention has been made to solve the above-described problem, and when applying a coating liquid onto a large substrate using a slit coater, it is effective to smoothly and efficiently discharge bubbles accumulated in the slit nozzle. In other words, it is an object of the present invention to provide a slit nozzle that can sufficiently discharge bubbles in a short time with a small amount of coating solution. It is another object of the present invention to provide a method of discharging bubbles in a slit nozzle that can sufficiently discharge bubbles in a short time with a small amount of coating liquid when discharging bubbles in the slit nozzle. Another object is to provide a coating apparatus using the slit nozzle.
本発明は、基板上に塗布液を塗布するスリットコータのスリットノズルにおいて、スリットノズル内の気泡の排出を行う通気口が、スリットノズルの長手方向の両端部に設けられていることを特徴とするスリットノズルである。   The present invention is characterized in that, in a slit nozzle of a slit coater for applying a coating liquid on a substrate, vent holes for discharging bubbles in the slit nozzle are provided at both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle. It is a slit nozzle.
また、本発明は、上記発明によるスリットノズルにおいて、前記スリットノズルの溜まり部内の上部は、スリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜していることを特徴とするスリットノズルである。   Further, the present invention provides the slit nozzle according to the above invention, wherein the upper portion in the reservoir portion of the slit nozzle is inclined so as to gradually increase from the center portion of the slit nozzle toward both end portions. Nozzle.
また、本発明は、上記発明によるスリットノズルにおいて、前記両端部に設けられている通気口からの気泡を含む塗布液の排出は、両端部にて各々独立に行われることを特徴とするスリットノズルである。   Further, the present invention provides the slit nozzle according to the above invention, wherein the discharge of the coating liquid containing bubbles from the air vents provided at both ends is performed independently at both ends. It is.
また、本発明は、基板上に塗布液を塗布するスリットコータのスリットノズル内の気泡を排出する際に、スリットノズルの長手方向の両端部に設けられた通気口から気泡の排出を行うことを特徴とするスリットノズルの気泡排出方法である。   Further, the present invention is to discharge bubbles from the vent holes provided at both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle when discharging bubbles in the slit nozzle of the slit coater that applies the coating liquid onto the substrate. This is a feature of the bubble discharge method of the slit nozzle.
また、本発明は、上記発明によるスリットノズルの気泡排出方法において、前記スリットノズルの溜まり部内の上部は、スリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜していることを特徴とするスリットノズルの気泡排出方法である。   Further, the present invention is the method for discharging bubbles of the slit nozzle according to the above invention, wherein the upper part in the reservoir part of the slit nozzle is inclined so as to gradually increase from the central part of the slit nozzle toward both ends. This is a feature of the bubble discharge method of the slit nozzle.
また、本発明は、上記発明によるスリットノズルの気泡排出方法において、前記両端部に設けられている通気口からの気泡を含む塗布液の排出は、両端部にて各々独立に行うことを特徴とするスリットノズルの気泡排出方法である。   Further, the present invention is characterized in that, in the method of discharging bubbles of the slit nozzle according to the above invention, the discharge of the coating liquid containing bubbles from the vents provided at both ends is performed independently at both ends. This is a method for discharging bubbles from a slit nozzle.
また、本発明は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のスリットノズルを用いたことを特徴とする塗布装置である。   Moreover, this invention is a coating device using the slit nozzle of any one of Claims 1-3.
本発明は、スリットノズル内の気泡の排出を行う通気口が、スリットノズルの長手方向の両端部に設けられているので、スリットノズルに混入し、溜まる気泡の排出を円滑に効果的に、すなわち、少量の塗布液で短時間に気泡の排出を充分に行うことのできるスリットノズルとなる。
また、本発明は、スリットノズルの溜まり部内の上部は、スリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜しているので、より効果的に、気泡の排出を充分に行うことのできるスリットノズルとなる。また、本発明は、両端部に設けられている通気口からの気泡を含む塗布液の排出は、両端部にて各々独立に行われるので、一層効果的に、気泡の排出を充分に行うことのできるスリットノズルとなる。
In the present invention, since the air vents for discharging the air bubbles in the slit nozzle are provided at both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle, the air bubbles mixed in the slit nozzle and discharging the accumulated air bubbles smoothly and effectively, that is, The slit nozzle can sufficiently discharge bubbles in a short time with a small amount of coating solution.
Further, according to the present invention, the upper portion in the slit nozzle reservoir portion is inclined so as to gradually increase from the center portion of the slit nozzle toward both end portions, so that the bubbles can be discharged sufficiently more effectively. It becomes a slit nozzle that can. Further, according to the present invention, since the discharge of the coating liquid containing bubbles from the vents provided at both ends is performed independently at both ends, the bubbles can be sufficiently discharged more effectively. It becomes a slit nozzle that can be used.
また、本発明は、スリットノズルの長手方向の両端部に設けられた通気口から気泡の排
出を行うので、少量の塗布液で短時間に気泡の排出を充分に行うことのできるスリットノズルの気泡排出方法となる。また、スリットノズルの溜まり部内の上部は、スリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜しているので、より効果的なスリットノズルの気泡排出方法となる。また、両端部に設けられている通気口からの気泡を含む塗布液の排出は、両端部にて各々独立に行うので、一層効果的なスリットノズルの気泡排出方法となる。
In addition, since the present invention discharges bubbles from the vents provided at both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle, the bubbles in the slit nozzle can be sufficiently discharged in a short time with a small amount of coating liquid. It becomes the discharge method. Moreover, since the upper part in the reservoir part of a slit nozzle inclines so that it may become gradually high toward the both ends from the center part of a slit nozzle, it becomes a more effective bubble discharge method of a slit nozzle. Moreover, since the discharge of the coating liquid containing bubbles from the vents provided at both ends is performed independently at both ends, a more effective slit nozzle bubble discharge method is provided.
また、本発明は、上記スリットノズルを用いた塗布装置であるので、少量の塗布液で短時間に気泡の排出を充分に、またはより効果的に、或いは一層効果的に行うことのできる塗布装置となる。   In addition, since the present invention is a coating apparatus using the slit nozzle, the coating apparatus can sufficiently, more effectively, or more effectively discharge bubbles in a short time with a small amount of coating liquid. It becomes.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
図7は、本発明によるスリットノズル(33)の一例の概略を示すYZ面での側断面図である。また、図8(a)は図7に示す、本発明によるスリットノズル(33)の一例における、XZ面での側断面図であり、図8(b)は、XZ面に平行な、スリットノズル(33)の両端におけるXF面での側断面図である。
図7、及び図8(a)、(b)に示すように、スリットノズル(33)内には溜まり部(マニホールド部)(31)、その下方にスリット(32)が設けられている。
FIG. 7 is a side sectional view on the YZ plane showing an outline of an example of the slit nozzle (33) according to the present invention. FIG. 8A is a side sectional view taken along the XZ plane in the example of the slit nozzle 33 according to the present invention shown in FIG. 7, and FIG. 8B is a slit nozzle parallel to the XZ plane. It is a sectional side view in XF surface in the both ends of (33).
As shown in FIGS. 7 and 8 (a) and 8 (b), a reservoir (manifold) (31) is provided in the slit nozzle (33), and a slit (32) is provided therebelow.
スリットノズル(33)の長手方向の中央部のX方向には、注入口(42)が設けられている。また、中央部のZ方向には通気口が設けられていない。
スリットノズル(33)の長手方向の両端部のZ方向には、左右各々に左通気口(43A)、右通気口(43B)が設けられている。
An injection port (42) is provided in the X direction at the center in the longitudinal direction of the slit nozzle (33). Further, no vent hole is provided in the central Z direction.
In the Z direction at both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle (33), a left vent (43A) and a right vent (43B) are provided on each of the left and right sides.
溜まり部(マニホールド部)(31)内の気泡の排出を行う際には、スリットノズル(33)の長手方向の中央部の注入口(42)から塗布液が供給され、供給された塗布液は、両端部の左通気口(43A)、及び右通気口(43B)から気泡と塗布液の混合物の状態となり、各々左気泡排出配管(24A)、及び右気泡排出配管(24B)を経て外部へ排出される。
従って、スリットノズル(33)の長手方向の距離が大きくなり、溜まり部(マニホールド部)(31)内に気泡が残留してしまうことがあっても、また、前記図5中、符号(E)で示すように、溜まり部(マニホールド部)(31)内の端に移動し留まることがあっても、気泡は両端部の左通気口(43A)、及び右通気口(43B)から容易に排出される。
When discharging the bubbles in the reservoir (manifold portion) (31), the coating liquid is supplied from the inlet (42) in the center in the longitudinal direction of the slit nozzle (33), and the supplied coating liquid is From the left vent (43A) and the right vent (43B) at both ends, it becomes a mixture of bubbles and coating liquid, and then passes through the left bubble discharge pipe (24A) and the right bubble discharge pipe (24B) to the outside. Discharged.
Therefore, even if the distance in the longitudinal direction of the slit nozzle (33) increases and bubbles may remain in the reservoir (manifold) (31), the reference numeral (E) in FIG. As shown in Fig. 2, even if the gas stays at the end in the reservoir (manifold) (31), the bubbles are easily discharged from the left vent (43A) and the right vent (43B) at both ends. Is done.
図9は、本発明によるスリットノズル(33)を用いた際の、スリットノズル(33)への塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構の一実施例の概略を示す説明図である。図9のYZ面は、図7のYZ面に対応している側面図である。
図9に示すように、この塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構は、塗布液の供給系としての塗布液タンク(21)、塗布液供給配管(22)、供給ポンプ(23)、気泡の排出系としての左右排出系(20A、20B)、及びスリットノズル(33)で構成されている。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing an outline of an embodiment of a mechanism for supplying the coating liquid to the slit nozzle (33) and discharging the bubbles when the slit nozzle (33) according to the present invention is used. The YZ plane of FIG. 9 is a side view corresponding to the YZ plane of FIG.
As shown in FIG. 9, the mechanism for supplying the coating liquid and discharging the bubbles includes a coating liquid tank (21), a coating liquid supply pipe (22), a supply pump (23) as a coating liquid supply system, It consists of a left and right discharge system (20A, 20B) as a bubble discharge system, and a slit nozzle (33).
左排出系(20A)は、左気泡排出配管(24A)、左開閉バルブ(25A)、左廃液タンク(26A)で構成され、右排出系(20B)は、右気泡排出配管(24B)、右開閉バルブ(25B)、右廃液タンク(26B)で構成されている。
塗布液タンク(21)には塗布液(27)が充填され、左右廃液タンク(26A、26B)には気泡の排出と共に排出された左右廃液(気泡と塗布液の混合物)(28A、28B
)が溜まっている。
The left discharge system (20A) is composed of a left bubble discharge pipe (24A), a left on-off valve (25A), and a left waste liquid tank (26A), and the right discharge system (20B) is a right bubble discharge pipe (24B), right It consists of an open / close valve (25B) and a right waste liquid tank (26B).
The coating liquid tank (21) is filled with the coating liquid (27), and the left and right waste liquid tanks (26A, 26B) are discharged with the left and right waste liquids (a mixture of bubbles and the coating liquid) (28A, 28B).
) Has accumulated.
塗布液を塗布する際は、図9に示す、気泡の排出系の左右開閉バルブ(25A、25B)を閉とした状態にしておき、加圧ポンプ(23)の作動により塗布液を注入口(42)から供給し、溜まり部(31)、スリット(32)を経て吐出口(41)から基板上へ塗布する。
気泡を排出する際は、左右開閉バルブ(25A、25B)を開とし、溜まり部(31)に混入した気泡を左右通気口(43A、43B)から塗布液と共に排出する。
When applying the coating liquid, the left and right open / close valves (25A, 25B) of the bubble discharge system shown in FIG. 9 are closed, and the application liquid is injected into the inlet ( 42), and is applied to the substrate from the discharge port (41) through the reservoir (31) and the slit (32).
When discharging the bubbles, the left and right open / close valves (25A, 25B) are opened, and the bubbles mixed in the reservoir (31) are discharged together with the coating liquid from the left and right vents (43A, 43B).
塗布液は、スリットノズル(33)の長手方向の中央部の注入口(42)から供給され、長手方向の両端部の左通気口(43A)、及び右通気口(43B)から気泡と共に排出されるので、実際の製造において安全を見込んで気泡の排出を行っても、塗布液の供給量が過度になるといったことはなく、これに伴い、気泡の排出に要する時間も過度にはならない。
すなわち、気泡の排出は少量の塗布液で短時間で、円滑に効果的に充分に行うことができるものとなる。
また、これにより、溜まり部(マニホールド部)(31)内には気泡が残留せず、スリットノズル(33)内では、塗布液には圧力が均一に加圧され、塗布液が均一に流れ塗布膜の膜厚に悪影響を及ぼすことはなくなる。
The coating liquid is supplied from the inlet (42) at the center in the longitudinal direction of the slit nozzle (33), and is discharged together with bubbles from the left vent (43A) and the right vent (43B) at both ends in the longitudinal direction. Therefore, even if the bubbles are discharged in anticipation of safety in actual manufacturing, the supply amount of the coating liquid does not become excessive, and accordingly, the time required for discharging the bubbles does not become excessive.
That is, bubbles can be discharged smoothly and effectively with a small amount of coating solution in a short time.
This also prevents bubbles from remaining in the reservoir (manifold) (31), and in the slit nozzle (33), pressure is uniformly applied to the coating liquid, and the coating liquid flows uniformly. The film thickness is not adversely affected.
図10は、請求項2に係わるスリットノズル(53)の一例の概略を示すYZ面での側断面図である。また、図11(a)は図10に示す、スリットノズル(53)の一例における、XZ面での側断面図であり、図11(b)は、XZ面に平行な、スリットノズル(53)の両端におけるXG面での側断面図である。
図10、及び図11(a)、(b)に示すように、スリットノズル(53)内には溜まり部(マニホールド部)(51)、その下方にスリット(32)が設けられている。
FIG. 10 is a cross-sectional side view on the YZ plane showing an outline of an example of the slit nozzle (53) according to claim 2. FIG. 11A is a side sectional view of the example of the slit nozzle (53) shown in FIG. 10, taken along the XZ plane, and FIG. 11B is a slit nozzle (53) parallel to the XZ plane. It is a sectional side view in the XG plane in both ends.
As shown in FIGS. 10 and 11 (a) and 11 (b), a reservoir (manifold) (51) is provided in the slit nozzle (53), and a slit (32) is provided therebelow.
スリットノズル(53)の長手方向の中央部のX方向には、注入口(42)が設けられている。また、中央部のZ方向には通気口が設けられていない。
スリットノズル(53)の長手方向の両端部のZ方向には、左右各々に左通気口(43A)、右通気口(43B)が設けられている。
An injection port (42) is provided in the X direction at the center in the longitudinal direction of the slit nozzle (53). Further, no vent hole is provided in the central Z direction.
In the Z direction at both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle (53), a left vent (43A) and a right vent (43B) are provided on the left and right, respectively.
図10、及び図11(a)、(b)に示すように、溜まり部(51)内の上部は、スリットノズル(53)の中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜している。このような傾斜を設けることにより、溜まり部(51)内に混入した気泡が両端部へと移動し易くしている。溜まり部(51)内の上部の両端部には、左通気口(43A)及び右通気口(43B)が設けられており気泡の排出に好都合になる。   As shown in FIGS. 10 and 11 (a) and 11 (b), the upper part in the reservoir part (51) is inclined so as to gradually increase from the center part of the slit nozzle (53) toward both ends. ing. By providing such an inclination, the bubbles mixed in the reservoir portion (51) can easily move to both end portions. A left vent (43A) and a right vent (43B) are provided at both upper ends of the reservoir (51), which is convenient for discharging bubbles.
また、本発明によるスリットノズルは、両端部に設けられている通気口からの気泡を含む塗布液の排出は、両端部にて各々独立に行われることを特徴としている。溜まり部(マニホールド部)内に溜まる気泡の量は、スリットノズル(53)の中央部を境として左側と右側で均等な気泡量にあるとは限らない。
左側の気泡量と、右側の気泡量との差が小さい場合には、その影響は少ないが、その差が大きい場合には、気泡量の多い側の気泡が充分に排出されるように、多い側の排出に合わせて少ない側の塗布液の排出も行うことになる。
In addition, the slit nozzle according to the present invention is characterized in that the discharge of the coating liquid containing bubbles from the air vents provided at both ends is performed independently at both ends. The amount of bubbles accumulated in the reservoir portion (manifold portion) is not always equal to the amount of bubbles on the left and right sides of the central portion of the slit nozzle (53).
When the difference between the amount of bubbles on the left side and the amount of bubbles on the right side is small, the effect is small, but when the difference is large, the amount of bubbles on the side with a large amount of bubbles is sufficiently discharged. In accordance with the discharge on the side, the coating liquid on the smaller side is also discharged.
すなわち、気泡を排出する際の注入口(42)からの塗布液の供給をより少量とし、より短時間で気泡の排出を充分に完了させるには、左端部からの気泡を含む塗布液の排出と、右端部からの気泡を含む塗布液の排出とを各々独立して行うことが好ましい。   That is, in order to make the supply of the coating liquid from the inlet (42) when discharging the bubbles smaller and to sufficiently complete the discharge of the bubbles in a shorter time, the discharge of the coating liquid containing bubbles from the left end portion It is preferable that the coating liquid containing bubbles from the right end is discharged independently.
塗布液を各々独立して排出するには、例えば、図9における左開閉バルブ(25A)と右開閉バルブ(25B)の開閉に時間差を設ける手法をとることができる。
或いは、図9に点線で示すように、左排出系(20A)及び右排出系(20B)の各々に、左吸引ポンプ(30A)及び右吸引ポンプ(30B)を設け、左側の気泡量と、右側の気泡量の差に対応した作動を行わせることによっても可能である。
In order to discharge the coating liquid independently, for example, a method of providing a time difference between the opening and closing of the left opening and closing valve (25A) and the right opening and closing valve (25B) in FIG.
Alternatively, as shown by the dotted line in FIG. 9, each of the left discharge system (20A) and the right discharge system (20B) is provided with a left suction pump (30A) and a right suction pump (30B), It is also possible to perform an operation corresponding to the difference in the amount of bubbles on the right side.
すなわち、請求項2に係わるスリットノズルによれば、一層効果的に、少量の塗布液で短時間に気泡の排出を充分に行うことのできるものとなる。   That is, according to the slit nozzle according to the second aspect, the bubbles can be sufficiently discharged in a short time with a small amount of coating liquid.
スリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows the outline of an example of a slit coater typically. 図1に示すスリットコータの側面図である。It is a side view of the slit coater shown in FIG. スリットコータの、スリットノズルへの塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構の一例の概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of an example of the mechanism which performs supply of the coating liquid to a slit nozzle, and discharge | emission of a bubble of a slit coater. 図3に示す塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構を用いて、基板上に塗布液を塗布する動作の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the operation | movement which apply | coats a coating liquid on a board | substrate using the mechanism which supplies the coating liquid shown in FIG. 3, and discharge | releases a bubble. 図3に示すスリットノズルの一例における、YZ面での側断面図である。It is a sectional side view in the YZ plane in an example of the slit nozzle shown in FIG. 図3に示すスリットノズルの一例における、XZ面での側断面図である。It is a sectional side view in the XZ plane in an example of the slit nozzle shown in FIG. 本発明によるスリットノズルの一例の概略を示すYZ面での側断面図である。It is a sectional side view in the YZ plane which shows the outline of an example of the slit nozzle by this invention. (a)は、図7に示すスリットノズルの一例における、XZ面での側断面図である。(b)は、XZ面に平行な、スリットノズルの両端におけるXF面での側断面図である。(A) is a sectional side view in XZ plane in an example of the slit nozzle shown in FIG. (B) is a sectional side view on the XF plane at both ends of the slit nozzle parallel to the XZ plane. 本発明によるスリットノズルを用いた際の、スリットノズルへの塗布液の供給、及び気泡の排出を行う機構の一実施例の概略を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline of one Example of the mechanism which supplies the coating liquid to a slit nozzle, and discharge | releases a bubble at the time of using the slit nozzle by this invention. 請求項2に係わるスリットノズルの一例の概略を示すYZ面での側断面図である。It is a sectional side view in the YZ plane which shows the outline of an example of the slit nozzle concerning Claim 2. (a)は、図10に示すスリットノズルの一例における、XZ面での側断面図である。(b)は、XZ面に平行なスリットノズルの両端におけるXG面での側断面図である。(A) is a sectional side view in XZ plane in an example of the slit nozzle shown in FIG. (B) is a sectional side view on the XG plane at both ends of the slit nozzle parallel to the XZ plane.
符号の説明Explanation of symbols
10・・・スリットコータ
11・・・ステージ
12・・・基板
13、33、53・・・スリットノズル
14・・・フレーム
15・・・吸引バキューム付き定盤
20A・・・左排出系
20B・・・右排出系
21・・・塗布液タンク
22・・・塗布液供給配管
23・・・供給ポンプ
24・・・気泡排出配管
24A・・・左気泡排出配管
24B・・・右気泡排出配管
25・・・開閉バルブ
25A・・・左開閉バルブ
25B・・・右開閉バルブ
26・・・廃液タンク
26A・・・左廃液タンク
26B・・・右廃液タンク
27・・・塗布液
28・・・廃液
28A・・・左廃液
28B・・・右廃液
30A・・・左吸引ポンプ
30B・・・右吸引ポンプ
31、51・・・溜まり部(マニホールド部)
32・・・スリット
41・・・吐出口
42・・・注入口
43・・・通気口
43A・・・左通気口
43B・・・右通気口
A・・・第一待機位置
B・・・塗布開始位置
C・・・塗布終了位置
D・・・第二待機位置
E・・・残留した気泡が移動し留まる位置
10 ... slit coater 11 ... stage 12 ... substrates 13, 33, 53 ... slit nozzle 14 ... frame 15 ... surface plate 20A with suction vacuum ... left discharge system 20B ...・ Right discharge system 21 ... Coating liquid tank 22 ... Coating liquid supply pipe 23 ... Supply pump 24 ... Bubble discharge pipe 24A ... Left bubble discharge pipe 24B ... Right bubble discharge pipe 25 ..Open / close valve 25A ... Left open / close valve 25B ... Right open / close valve 26 ... Waste liquid tank 26A ... Left waste liquid tank 26B ... Right waste liquid tank 27 ... Coating liquid 28 ... Waste liquid 28A ... Left waste liquid 28B ... Right waste liquid 30A ... Left suction pump 30B ... Right suction pump 31, 51 ... Reserved part (manifold part)
32 ... Slit 41 ... Discharge port 42 ... Injection port 43 ... Ventilation port 43A ... Left ventilation port 43B ... Right ventilation port A ... First standby position B ... Application Start position C ... Application end position D ... Second standby position
E: Position where the remaining bubbles move and stay

Claims (3)

  1. 塗布液の溜まり部の下方にスリットを有し、溜まり部の塗布液を均一に加圧して基板上に塗布液を塗布するスリットコータのスリットノズルにおいて、
    溜まり部の長手方向の中央部に塗布液の注入口が設けられており、
    スリットノズル内の気泡の排出を行う通気口が、溜まり部の長手方向の両端部に設けられており、かつ、前記スリットノズルの溜まり部内の上部は、スリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜しており、
    前記両端部に設けられている通気口からの気泡を含む塗布液の排出は、両端部にて各々独立に行われる
    ことを特徴とするスリットノズル。
    In the slit coater slit nozzle that has a slit below the reservoir of the coating liquid, pressurizes the coating liquid of the reservoir uniformly and applies the coating liquid on the substrate,
    A coating liquid injection port is provided at the central portion in the longitudinal direction of the reservoir,
    Vents for discharging bubbles in the slit nozzle are provided at both ends in the longitudinal direction of the reservoir, and the upper portion in the reservoir of the slit nozzle extends from the center of the slit nozzle toward both ends. It is inclined to gradually increase,
    The slit nozzle characterized by discharge | emission of the coating liquid containing the bubble from the vent provided in the said both ends independently at both ends .
  2. 塗布液の溜まり部の下方にスリットを有し、溜まり部の塗布液を均一に加圧して基板上に塗布液を塗布するスリットコータのスリットノズル内の気泡を排出する際に、溜まり部の長手方向の中央部の注入口から塗布液が供給され、溜まり部内の上部がスリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜した溜まり部の長手方向の両端部に設けられた通気口から気泡の排出を、両端部にて各々独立に行うことを特徴とするスリットノズルの気泡排出方法。 A slit is provided below the reservoir of the coating liquid, and when the bubbles in the slit nozzle of the slit coater that applies the coating liquid onto the substrate by uniformly pressurizing the coating liquid in the reservoir are discharged, the length of the reservoir The coating liquid was supplied from the injection port in the central part of the direction, and the upper part in the reservoir part was provided at both ends in the longitudinal direction of the reservoir part inclined so that the upper part gradually increased from the central part of the slit nozzle toward both ends. A method for discharging bubbles from a slit nozzle, wherein the bubbles are discharged independently from each other at both ends .
  3. 請求項1に記載のスリットノズルを用いたことを特徴とする塗布装置。   A coating apparatus using the slit nozzle according to claim 1.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5176359B2 (en) * 2006-03-31 2013-04-03 東レ株式会社 Coating apparatus and coating method, and display member manufacturing method and manufacturing apparatus
JP5202838B2 (en) * 2006-12-12 2013-06-05 東京応化工業株式会社 Slit nozzle
JP2008188501A (en) * 2007-02-01 2008-08-21 Sony Corp Die coating device
JP5157486B2 (en) * 2008-01-30 2013-03-06 大日本印刷株式会社 Die head and die coater provided with the same
JP5499503B2 (en) * 2008-09-25 2014-05-21 凸版印刷株式会社 Coating apparatus and coating method
JP5625299B2 (en) * 2009-09-29 2014-11-19 凸版印刷株式会社 Coating device
JP5494788B2 (en) * 2012-12-06 2014-05-21 大日本印刷株式会社 Die head and die coater provided with the same
JP6068271B2 (en) * 2013-06-10 2017-01-25 東レ株式会社 Coating device and coating device
JP6309407B2 (en) * 2014-09-17 2018-04-11 東レ株式会社 Application device, application device, and application method
JP6564648B2 (en) * 2015-08-20 2019-08-21 東京応化工業株式会社 Nozzle and application equipment

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2614142B2 (en) * 1990-11-09 1997-05-28 富士写真フイルム株式会社 Coating device
US5326402A (en) * 1992-12-31 1994-07-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Slide-bead coating technique
JPH09276771A (en) * 1996-04-17 1997-10-28 Teijin Ltd Coater and coating method
JPH10277458A (en) * 1997-04-02 1998-10-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd Coating method and coating device
JPH10314645A (en) * 1997-05-16 1998-12-02 Sony Corp Coating device
JP2001334197A (en) * 2000-05-30 2001-12-04 Toppan Printing Co Ltd Coater
JP2003245583A (en) * 2002-02-25 2003-09-02 Hirata Corp Liquid coating device

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