JP4832895B2 - Transfer device - Google Patents
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Description
本発明は、転写装置に係り、特に、型の表面に形成された微細な転写パターンを基板の表面に転写するものに関する。 The present invention relates to a transfer apparatus, and more particularly to a transfer device that transfers a fine transfer pattern formed on a surface of a mold to the surface of a substrate.
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型(テンプレート、スタンパ)を作製し、被成形品(基板)として被転写基板表面に形成されたレジスト膜に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成されたパターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている(非特許文献1参照)。 In recent years, a mold (template, stamper) is formed by forming an ultrafine transfer pattern on a quartz substrate or the like by an electron beam drawing method, and the resist film formed on the surface of the transfer substrate as a molded product (substrate) Research and development has been conducted on nanoimprint technology for pressing a mold with a predetermined pressure to transfer a pattern formed on the mold (see Non-Patent Document 1).
また、前記ナノインプリントを実行するための装置としてたとえば特許文献1に記載の転写装置100が知られている(図6、図7参照)。この転写装置100は、L字型のフレーム102の下部水平部にXステージ106、Yステージ108を設けてその上に被成形品(基板W)の支持部である基板テーブル104を搭載し、フレーム102の垂直部の上部に上下方向の移動機構112を介して型支持部(型保持体)110を設けている。型保持体110は、転写用の微細なパターンが形成されている型Mを保持するものである。
Moreover, as an apparatus for executing the nanoimprint, for example, a
そして、図6に示す状態から基板テーブル104を、Xステージ106、Yステージ108を用いてX軸方向Y軸方向で適宜位置決めし、型保持体110を下降し型Mで基板Wを押圧することで、基板Wへの微細なパターンの転写を行うようになっている。
ところで、従来の転写装置100では、基板Wを型Mよりも大きく形成し、基板WをX軸Y軸方向に適宜移動位置決めし、1つの基板Wの複数箇所に転写を行うようになっている。そして、複数箇所に転写がされた基板を適宜切り離し、1枚の大きい基板から多数の製品や半製品を得ることで、転写を効率良く行うことができるようになっている。
By the way, in the
また、従来の転写装置100においては、精度良く安定した状態で基板テーブル104を移動位置決めするために、基板テーブル104がこの周辺部(X軸、Y軸方向の両端部やこの近傍で)でXステージ106やYステージ108に支持されている。
Further, in the
したがって、転写をするときに型Mで基板Wを押圧する部位(基板テーブル104の中央部)と、基板テーブル104がXステージ106やYステージ108で支持されている部位(基板テーブル104の周辺部)との位置がずれており、型Mで基板Wを押圧することにより、モーメントが発生し基板テーブル104や基板Wが図6の下方向に撓み正確な転写を行うことが困難になるという問題がある。
Therefore, a portion where the substrate W is pressed by the mold M when transferring (the central portion of the substrate table 104) and a portion where the substrate table 104 is supported by the
なお、この問題解決すべく、基板テーブル104の厚さを厚くする等して基板テーブルの剛性を上げることも考えられるが、基板テーブル104を厚くすると、基板テーブル104の質量が増え、基板テーブル104に位置決め制御が困難になり、転写装置の質量が増え転写装置が大型化する等の弊害がある。 In order to solve this problem, it is conceivable to increase the rigidity of the substrate table by increasing the thickness of the substrate table 104. However, increasing the thickness of the substrate table 104 increases the mass of the substrate table 104, thereby increasing the substrate table 104. In addition, the positioning control becomes difficult, and the mass of the transfer device increases and the size of the transfer device increases.
本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、型に設けられている微細なパターンを基板に転写する転写装置において、基板を載置する基板テーブルの質量の増加を抑えつつ、転写の際に押圧する力がかかっても、基板テーブルが変形しにくい転写装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and in a transfer device that transfers a fine pattern provided on a mold to a substrate, the transfer is performed while suppressing an increase in the mass of the substrate table on which the substrate is placed. It is an object of the present invention to provide a transfer device in which a substrate table is not easily deformed even when a pressing force is applied.
請求項1に記載の発明は、被成形材料である基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルを移動位置決め可能な基板移動位置決め手段と、前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動させるための駆動手段と、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられる場合、前記基板テーブルが変形することを防止するために、前記基板テーブルに外力を加えることが可能な外力付加手段とを有し、前記外力付加手段は、前記基板テーブルに接触して前記基板テーブルに外力を加える外力付加部材を備えて構成されていると共に、前記基板移動位置決め手段で前記基板テーブルを移動させるときには、前記外力付加部材を前記基板テーブルから離しておき、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときに、前記外力付加部材を前記基板テーブルに接触させて外力を付加するように構成されている転写装置において、前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出する検出手段を備え、前記外力付加手段は、前記基板テーブルと前記型保持体とが互いに離れているときに、前記外力付加部材が前記基板テーブルの方向に移動し、前記検出手段で前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出したときに、前記外力付加部材の移動を停止すると共にこの停止した前記外力付加部材の位置を保持することで、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときの前記基板テーブルの変形を防止するように構成されている転写装置である。 The invention according to claim 1, a mold for transfer which is disposed a substrate table and, movable positioning the substrate table substrate positioning means for holding a substrate as an object to be molded materials, is opposed to the substrate table with it can hold, and relatively movable mold carrier in a direction toward or away from the said substrate table, the driving of the order by relatively moving said mold carrier to said substrate table If a unit, which is the form by the drive means is pressed against the substrate, in order to prevent the substrate table is deformed, possess the external force applying unit capable of applying an external force to the substrate table, wherein The external force applying means includes an external force adding member that contacts the substrate table and applies an external force to the substrate table. When moving the plate table, the external force applying member is separated from the substrate table, and when the mold is pressed against the substrate by the driving means, the external force applying member is brought into contact with the substrate table to apply external force. The transfer device is configured to include detection means for detecting that the external force applying member contacts the substrate table, and the external force applying means is configured such that the substrate table and the mold holder are separated from each other. When the external force application member moves in the direction of the substrate table and the detection means detects that the external force application member contacts the substrate table, the movement of the external force application member is stopped. The mold is pressed against the substrate by the driving means by holding the position of the stopped external force application member. Kino is a transfer device that is configured to prevent deformation of the substrate table.
請求項2に記載の発明は、被成形材料である基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルを移動位置決め可能な基板移動位置決め手段と、前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動させるための駆動手段と、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられる場合、前記基板テーブルが変形することを防止するために、前記基板テーブルに外力を加えることが可能な外力付加手段とを有し、前記外力付加手段は、前記基板テーブルに接触して前記基板テーブルに外力を加える外力付加部材を備えて構成されていると共に、前記基板移動位置決め手段で前記基板テーブルを移動させるときには、前記外力付加部材を前記基板テーブルから離しておき、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときに、前記外力付加部材を前記基板テーブルに接触させて外力を付加するように構成されている転写装置において、前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出する検出手段を備え、前記外力付加手段は、前記基板テーブルと前記型保持体とが互いに離れているときに、前記外力付加部材が前記基板テーブルの方向に移動し、前記検出手段で前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出したときに前記外力付加部材の移動を停止すると共に、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときの前記基板テーブルに加わる力の変化にかかわらず、前記停止した前記外力付加部材の位置が一定の位置になるように保持することで、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときの前記基板テーブルの変形を防止するように構成されている転写装置である。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate table that holds a substrate that is a molding material, substrate movement positioning means that can move and position the substrate table, and a transfer mold that is disposed to face the substrate table. A mold holder that can be held and is relatively movable in a direction approaching and moving away from the substrate table; and a driving unit that moves the mold holder relative to the substrate table. An external force applying means capable of applying an external force to the substrate table in order to prevent the substrate table from being deformed when the mold is pressed against the substrate by the driving means. The means comprises an external force application member that contacts the substrate table and applies an external force to the substrate table, and the substrate movement positioning means When moving the plate table, the external force applying member is separated from the substrate table, and when the mold is pressed against the substrate by the driving means, the external force applying member is brought into contact with the substrate table to apply external force. The transfer device is configured to include detection means for detecting that the external force applying member contacts the substrate table, and the external force applying means is configured such that the substrate table and the mold holder are separated from each other. when you are, together with the external force applying member is moved in the direction of the substrate table, the external force applying member by said detecting means to stop the movement of the external force applying member when it is detected that the contact with the substrate table, Regardless of the change in force applied to the substrate table when the mold is pressed against the substrate by the driving means, By holding the stopped external force applying member at a constant position, the substrate table is prevented from being deformed when the mold is pressed against the substrate by the driving means. It is a transfer device.
請求項3に記載の発明は、フレームに一体的に設けられ、被成形材料である基板を、保持する基板テーブルと、前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向で、前記フレームに対して移動自在に設けられた型保持体と、前記型保持体を移動させる駆動手段と、前記フレームと前記基板テーブルとの間に形成されている空間に設けられていると共に、延びた場合には外力付加部材を前記基板テーブルに接触させ、縮んだ場合には前記外力付加部材を前記基板テーブルから離すように、前記フレームに設けられているピエゾ装置とを有する転写装置である。 The invention of claim 3 is provided integrally with the frame, the substrate is the molded material, a substrate table for holding, can hold mold for transfer arranged to face the front Stories substrate table with some, in a direction approaching and separating from with respect to the substrate table, and the mold holder provided movably relative to the frame, drive means Before moving the mold carrier, wherein said frame substrate table The external force applying member is brought into contact with the substrate table when extended, and the external force applying member is separated from the substrate table when contracted when extended. And a piezo device provided on the frame.
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の転写装置において、前記外力付加部材の位置を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果により、前記ピエゾ装置に加える電圧を制御する制御手段とを有する転写装置である。 According to a fourth aspect of the present invention, in the transfer device according to the third aspect , a detecting unit that detects a position of the external force applying member, and a control that controls a voltage applied to the piezo device based on a detection result of the detecting unit. A transfer device.
請求項5に記載の発明は、請求項3に記載の転写装置において、前記ピエゾ装置と前記外力付加部材との間に設けられた中間部材と、前記基板テーブルに接触する接触側部位と弾性を備えた弾性部位とを備えて構成され、前記弾性部位が前記中間部材と前記接触側部位との間に位置するようにして、前記中間部材に一体的に設けられた前記外力付加部材と、前記中間部材に対する前記接触側部位の位置を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果により、前記ピエゾ装置に加える電圧を制御する制御手段とを有する転写装置である。 According to a fifth aspect of the present invention, in the transfer device according to the third aspect , the intermediate member provided between the piezo device and the external force applying member, and the contact side portion contacting the substrate table are elastic. The external force applying member provided integrally with the intermediate member such that the elastic portion is located between the intermediate member and the contact side portion; The transfer device includes a detection unit that detects a position of the contact side portion with respect to the intermediate member, and a control unit that controls a voltage applied to the piezo device based on a detection result of the detection unit.
請求項6に記載の発明は、フレームに一体的に設けられ、被成形材料である基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向で、前記フレームに対して移動自在に設けられた型保持体と、前記型保持体を移動させる駆動手段と、前記フレームと前記基板テーブルとの間に形成されている空間に設けられていると共に、延びた場合には外力付加部材を前記基板テーブル方向に移動させ、縮んだ場合には前記外力付加部材を前記基板テーブルから離す方向に移動させるように、前記フレームに設けられているピエゾ装置と、前記ピエゾ装置と前記基板テーブルとの間にかかる力を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果により、前記ピエゾ装置に加える電圧を制御する制御手段とを有する転写装置である。 The invention of claim 6 is provided integrally with the frame, it is possible to retain the mold for transfer which is disposed a substrate table for holding a substrate as an object to be molded material, so as to face the front Stories substrate table together, in a direction toward or away from the said substrate table, and the mold holder provided movably relative to the frame, drive means Before moving the mold carrier, said frame and said substrate table The external force applying member is moved in the direction of the substrate table when extended, and the external force applying member is moved away from the substrate table when contracted. A piezo device provided on the frame, a detection means for detecting a force applied between the piezo device and the substrate table, and a detection result of the detection means. A transfer device and a control means for controlling a voltage applied to the piezoelectric device.
この発明によれば、型に設けられている微細なパターンを基板に転写する転写装置において、基板を載置する基板テーブルの質量の増加を抑えつつ、転写の際に押圧する力がかかっても、基板テーブルが変形しにくい転写装置を提供することができるという効果を奏する。 According to the present invention, in a transfer device that transfers a fine pattern provided on a mold to a substrate, even if a pressing force is applied during transfer while suppressing an increase in the mass of the substrate table on which the substrate is placed. There is an effect that it is possible to provide a transfer device in which the substrate table is hardly deformed.
[第1の実施形態]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る転写装置1の概略構成を示す図である。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a transfer apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention.
なお、本件明細書においては、説明の便宜のために、水平方向の一方向をX軸方向とし、水平方向の他の一方向であって前記X軸方向に垂直な方向をY軸方向とし、鉛直方向をZ軸方向とする。 In the present specification, for convenience of explanation, one horizontal direction is defined as the X-axis direction, the other horizontal direction and the direction perpendicular to the X-axis direction is defined as the Y-axis direction, The vertical direction is the Z-axis direction.
転写装置1は、従来の転写装置100と同様に、型Mの表面に形成された微細なパターン(たとえば凹凸パターン)を基板Wの表面に転写する装置であり、基板テーブル104と型保持体(型保持テーブル)110とを備えている。
Similar to the
基板テーブル104は、基板移動位置決め手段の例であるXステージ、Yステージ(図1においてはいずれも図示せず)によって支持され、X軸方向、Y軸方向に移動位置決め自在になっている。 The substrate table 104 is supported by an X stage and a Y stage (both not shown in FIG. 1) which are examples of substrate movement positioning means, and can be moved and positioned in the X axis direction and the Y axis direction.
また、基板テーブル104は、たとえば、所定の厚みを有する矩形な板状に形成され厚さ方向が上下方向(Z軸方向)に一致するように配置されており、上面の平面に被成形材料である薄い平板状の基板(たとえば矩形な板状の基板)Wを搭載し保持することができるように構成されている。 Further, the substrate table 104 is formed, for example, in a rectangular plate shape having a predetermined thickness, and is arranged so that the thickness direction coincides with the vertical direction (Z-axis direction). A thin flat substrate (for example, a rectangular plate substrate) W is mounted and held.
基板Wの一方の表面には、前記型Mの微細な転写パターンが転写される部位である被成形層(たとえばUV硬化樹脂または熱硬化樹脂で構成された被成形層)が設けられており、基板テーブル104に保持された状態では、基板Wの上側の平面に前記被成形層が存在しており、基板Wの下側の平面(被成形層が設けられていない面)が前記基板テーブル104の上面に接している。 On one surface of the substrate W, a molding layer (for example, a molding layer made of a UV curable resin or a thermosetting resin) that is a portion to which the fine transfer pattern of the mold M is transferred is provided. In the state of being held by the substrate table 104, the molding target layer exists on the upper plane of the substrate W, and the lower plane of the substrate W (the surface on which the molding target layer is not provided) is the substrate table 104. It is in contact with the top surface.
型保持体110は、基板テーブル104の上方に設けられている。また、型保持体110は、下面の平面に転写用の型(矩形な平板状の型)Mを配置し保持することができるようになっている。型保持体110の下面は、基板テーブル104の上面に対して平行になっている。したがって、型保持体110の下面に保持された型Mの下面と基板テーブル104に保持された基板Wの上面とは対向し互いに平行になっている。また、型保持体110の下面に保持された型Mの下面には、微細な転写パターンが存在している。
The
また、型保持体110は、型Mの転写パターンを基板Wに転写すべく型Mの下面が基板Wの上面に接触している位置と、基板Wを基板テーブル104に設置しもしくは基板Wを前記基板テーブル104から取り外すべく型Mが基板Wから離れた位置との間で、基板テーブル104に対して接近・離反する方向(基板テーブル104の上面に直交する方向;Z軸方向)に相対的に移動自在になっている。
Further, the
たとえば、型保持体110は、図示しないリニアガイドベアリング等を介して転写装置1のフレーム102(「L」字状以外の形態であってもよい。)に対して、Z軸方向に移動自在になっている。しかしながら、転写装置1のフレーム102に型保持体110が固定されておりフレーム102に対して基板テーブル104がZ軸方向に移動するように構成されていてもよいし、さらには、転写装置1のフレーム102に対して、型保持体110と基板テーブル104との両方が移動するように構成されていてもよい。すなわち、転写装置1のフレーム102に対して、型保持体110、基板テーブル104の少なくともいずれか一方がZ軸方向で移動するように構成されていればよい。
For example, the
図1に示す転写装置1では、基板テーブル104が下方に位置し型保持体110が上方に位置しているが、逆に、基板テーブル104が上方に位置し型保持体110が下方に位置していてもよいし、型保持体110や基板テーブル104の移動方向が水平方向や斜め方向になるようにしてもよい。
In the transfer apparatus 1 shown in FIG. 1, the substrate table 104 is positioned below and the
また、転写装置1には、基板テーブル104に対して型保持体110を相対的に移動するための駆動手段(図示せず)と硬化手段(図示せず)とが設けられている。前記駆動手段は、サーボモータ等のアクチュエータを用いて、たとえば、型保持体110をZ軸方向に移動するものである。前記硬化手段は、型Mの転写パターンを基板Wに転写すべく前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられたとき(押圧されたとき)に、基板Wの上面に設けられている被成形層を硬化させるためのものであり、被成形層が熱硬化性樹脂で構成されている場合には、前記被成形層を加熱し、被成形層がUV硬化樹脂で構成されている場合には、前記被成形層に紫外線を照射するものである。
In addition, the transfer device 1 is provided with a driving unit (not shown) and a curing unit (not shown) for moving the
また、転写装置1には、前述したように、基板テーブル104を、X軸方向、Y軸方向で移動位置決め自在な基板移動位置決め手段が設けられている。この基板移動位置決め手段は、たとえば、前述したXステージ106、Yステージ108を用いて構成されている。より詳しくは、基板テーブル104は、たとえばリニアガイドベアリングを介して、基板テーブル104の周辺部でフレーム102に支持されている。
Further, as described above, the transfer apparatus 1 is provided with substrate movement positioning means that can move and position the substrate table 104 in the X-axis direction and the Y-axis direction. This substrate movement positioning means is configured using, for example, the
そして、基板テーブル104と型保持体110とが互いに離れているときに(基板Wと型Mとが互いに離れているときに)、サーボモータ等のアクチュエータを用いて、基板テーブル104をX軸方向、Y軸方向に移動位置決め自在になっている。
When the substrate table 104 and the
なお、型Mの面積は、基板Wの面積よりも小さくなっており、したがって、基板テーブル104を水平方向に適宜移動位置決めして、各位置決め後毎に基板Wへの転写を行うことができるようになっている。そして、前記複数回の転写後、転写がされた基板Wを適宜切り離せば、1枚の大きい基板Wから多数の製品や半製品を得ることができるものである。 The area of the mold M is smaller than the area of the substrate W. Therefore, the substrate table 104 can be appropriately moved and positioned in the horizontal direction so that transfer onto the substrate W can be performed after each positioning. It has become. Then, after the plurality of times of transfer, a large number of products and semi-finished products can be obtained from one large substrate W by appropriately separating the transferred substrate W.
また、転写装置1には、型Mの転写パターンを基板Wに転写すべく前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられる場合、基板テーブル104が変形すること(下方向に撓むこと)を防止するために、基板テーブル104に外力を加えることが可能な外力付加手段が設けられている。 In addition, the transfer device 1 is configured such that when the mold M is pressed against the substrate W by the driving means to transfer the transfer pattern of the mold M to the substrate W, the substrate table 104 is deformed (bends downward). In order to prevent this, external force applying means capable of applying an external force to the substrate table 104 is provided.
前記外力付加手段は、たとえば、型Mが押し付けられる基板テーブル104の箇所の近傍に、押し付け力に相当する反力を付加するように構成されている。すなわち、前記外力付加手段は、型Mによって力が加えられる方向(Z軸方向)から眺めた場合、型Mが押し付けられる箇所とほぼ一致している箇所であって基板テーブル104の下面に位置する箇所に、型Mと同じ面積で前記反力(図1では上向きの力)を付加するように構成されている。 The external force applying means is configured to add a reaction force corresponding to the pressing force in the vicinity of the location of the substrate table 104 to which the mold M is pressed, for example. That is, when viewed from the direction in which the force is applied by the mold M (Z-axis direction), the external force applying means is located on the lower surface of the substrate table 104 and substantially coincides with the place where the mold M is pressed. The reaction force (upward force in FIG. 1) is applied to the location with the same area as the mold M.
また、前記外力付加手段は、基板テーブル104に接触して基板テーブル104に外力を加える外力付加部材を備えて構成されていると共に、前述したように、前記基板移動位置決め手段で基板テーブル104をX軸方向やY軸方向に移動するときには、前記外力付加部材を基板テーブル104から離しておき、前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられるときに、前記外力付加部材を基板テーブル104に接触させて外力を付加するように構成されている。 The external force applying means includes an external force applying member that contacts the substrate table 104 and applies an external force to the substrate table 104, and, as described above, the substrate table 104 is moved by the substrate movement positioning means. When moving in the axial direction or the Y-axis direction, the external force applying member is separated from the substrate table 104, and the external force applying member is brought into contact with the substrate table 104 when the mold M is pressed against the substrate W by the driving means. It is configured to apply external force.
例を掲げてより詳しく説明すると、前記外力付加手段は、ピエゾ装置3を用いて構成されている。ピエゾ装置3は、薄い板状の多数のピエゾ素子4を、これらの厚さ方向に積層して構成されている。
Explaining in more detail by giving an example, the external force adding means is configured using a piezo device 3. The piezo device 3 is configured by laminating a large number of thin plate-like
そして、基板Wを基板テーブル104に設置するときや、基板テーブル104をX軸方向やY軸方向に移動位置決めするときには、各ピエゾ素子4(ピエゾ装置3)に電圧を加えることなく、図1に示すように、ピエゾ装置3の上面と基板テーブル104の下面とを距離Lだけ離しておく。また、前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられるときには、各ピエゾ素子4(ピエゾ装置3)に適宜の電圧を加えることにより、基板テーブル104にピエゾ装置3の上面を接触させ、基板テーブル104の変形を防止するようになっている。なお、図1に示す転写装置1では、最も上に位置しているピエゾ素子4aが、前記外力付加部材に相当する。
When the substrate W is placed on the substrate table 104, or when the substrate table 104 is moved and positioned in the X-axis direction or the Y-axis direction, no voltage is applied to each piezo element 4 (piezo device 3). As shown, the upper surface of the piezoelectric device 3 and the lower surface of the substrate table 104 are separated by a distance L. Further, when the mold M is pressed against the substrate W by the driving means, an appropriate voltage is applied to each piezo element 4 (piezo device 3) to bring the upper surface of the piezo device 3 into contact with the substrate table 104, so that the substrate table 104 It is designed to prevent deformation. In the transfer device 1 shown in FIG. 1, the uppermost
ところで、ピエゾ装置3に十分な剛性がある場合には、型Mが基板Wに非接触なときであってピエゾ装置3が基板テーブル104に接触したときの各ピエゾ素子4に加えた電圧V1を、型Mで基板テーブル104を押圧するときに上昇させる必要はなくそのまま維持していればよい。
When the piezo device 3 has sufficient rigidity, the voltage V 1 applied to each
一方、ピエゾ装置3に十分な剛性がない場合や基板テーブル104の撓みを一層正確に防止する場合には、型Mで基板テーブル104を押圧する際、この押圧力に応じ前記電圧V1を適宜上げ、基板テーブル104の撓みを防止すればよい。 On the other hand, when the piezoelectric device 3 does not have sufficient rigidity or more accurately prevents the substrate table 104 from being bent, when the substrate table 104 is pressed by the mold M, the voltage V 1 is appropriately set according to the pressing force. It is sufficient to prevent the substrate table 104 from being bent.
なお、前記外力付加部材(ピエゾ素子ではなくたとえばスレンレス鋼で構成された外力付加部材)を、エアーシリンダ等の流体圧シリンダを用いて駆動してもよい。この際、基板テーブル104に加える力を、空気圧を変えることにより制御することが望ましい。また、前記外力付加部材を、フレーム102に対してZ軸方向に移動するように設け、前記外力付加部材をボールネジ等の機構を介してサーボモータ等のアクチュエータで駆動してもよい。
The external force application member (external force application member made of, for example, stainless steel instead of the piezo element) may be driven using a fluid pressure cylinder such as an air cylinder. At this time, it is desirable to control the force applied to the substrate table 104 by changing the air pressure. The external force addition member may be provided so as to move in the Z-axis direction with respect to the
なお、基板テーブル104は、前述したように周辺部で支持されており、基板テーブル104の下にはピエゾ装置3を設置するための空間が存在しているものである。 The substrate table 104 is supported at the periphery as described above, and a space for installing the piezo device 3 exists below the substrate table 104.
次に、ピエゾ装置3に十分な剛性があるものとして、転写装置1の動作について説明する。 Next, the operation of the transfer device 1 will be described assuming that the piezoelectric device 3 has sufficient rigidity.
まず、図1に示すように、型保持体110と基板テーブル104とが互いに離反しており、型保持体110には型Mが設置され基板テーブル104には基板Wが設置されており、基板テーブル104の下面とピエゾ装置3の上面とは離れているものとする。
First, as shown in FIG. 1, the
この状態で、図示しない制御装置の制御の下、基板WをX軸、Y軸方向で適宜位置決めし、この後、各ピエゾ素子4に電圧を加えて、基板テーブル104の下面にピエゾ装置3の上面を接触させ(押圧しないで接触だけさせ)この状態を維持する。なお、各ピエゾ素子4に加える電圧の値は、前記制御装置に予めインプットされているものとする。
In this state, under the control of a control device (not shown), the substrate W is appropriately positioned in the X-axis and Y-axis directions, and then a voltage is applied to each
続いて、型保持体110を下降して、型Mで基板Wを押圧しつつ、基板Wの被成形層を硬化させる。硬化が終わったら、型保持体110を上昇し、各ピエゾ素子4への電圧の印加を止め、基板Wへの1回目の転写を終了する。
Subsequently, the
続いて、基板WをX軸、Y軸方向で更に適宜位置決めし、2回目以降の転写を行い、転写が総て終了したら、基板Wを転写装置1から取り外し、次の基板Wへの転写を行う。 Subsequently, the substrate W is further appropriately positioned in the X-axis and Y-axis directions, the second and subsequent transfers are performed, and when the transfer is completed, the substrate W is removed from the transfer device 1 and transferred to the next substrate W. Do.
転写装置1によれば、型Mが基板Wに押し付けられるときに、基板テーブル104に外力を加えることが可能な外力付加手段を備えているので、基板テーブル104の剛性(たとえば厚さ)を高めることなく、転写すべく型Mで基板Wを押圧したときにおける基板テーブル104の変形量を小さく押さえることができ、正確な転写を行うことができる。 According to the transfer apparatus 1, since the external force applying means capable of applying an external force to the substrate table 104 when the mold M is pressed against the substrate W is provided, the rigidity (for example, thickness) of the substrate table 104 is increased. Without deformation, the amount of deformation of the substrate table 104 when the substrate W is pressed with the mold M to be transferred can be kept small, and accurate transfer can be performed.
また、基板テーブル104の剛性を高める必要がないので、基板テーブル104の質量を低減することができ基板テーブル104の位置決め制御を早く容易に行うことができ、転写装置1の質量が増え転写装置1が大型化することを避けることができる。 Further, since it is not necessary to increase the rigidity of the substrate table 104, the mass of the substrate table 104 can be reduced, and the positioning control of the substrate table 104 can be performed quickly and easily, the mass of the transfer device 1 is increased, and the transfer device 1 is increased. Can be avoided.
また、転写装置1によれば、型Mが押し付けられる基板テーブル104の箇所の近傍に、押し付け力に相当する反力を付加するように構成されているので、型Mで基板Wを押圧したときに、基板テーブル104にモーメントが発生することを防止することができ、基板テーブル104の変形を効率よく抑制することができる。 Further, according to the transfer apparatus 1, since the reaction force corresponding to the pressing force is applied in the vicinity of the position of the substrate table 104 to which the mold M is pressed, when the substrate W is pressed by the mold M, In addition, a moment can be prevented from being generated in the substrate table 104, and the deformation of the substrate table 104 can be efficiently suppressed.
また、転写装置1によれば、基板移動位置決め手段で基板テーブル104を移動するときには、外力付加部材を基板テーブル104から離しておき、型Mが基板Wを押圧されるときに、外力付加部材を基板テーブル104に接触させて外力を付加するように構成されているので、基板テーブル104の移動を小さい力で行うことができ、外力付加部材や基板Wが磨耗することを防止することができる共に、型Mで基板Wを押圧したときにおける基板テーブル104の変形量を小さく押さえることができる。 Further, according to the transfer apparatus 1, when the substrate table 104 is moved by the substrate movement positioning unit, the external force application member is separated from the substrate table 104, and when the mold M is pressed against the substrate W, the external force application member is moved. Since the external force is applied by contacting the substrate table 104, the substrate table 104 can be moved with a small force, and the external force applying member and the substrate W can be prevented from being worn. The amount of deformation of the substrate table 104 when the substrate W is pressed with the mold M can be reduced.
[第2の実施形態]
図2は、本発明の第2の実施形態に係る転写装置1aの概略構成を示す図である。
[Second Embodiment]
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a transfer apparatus 1a according to the second embodiment of the present invention.
本発明の第2の実施形態に係る転写装置1aは、基板テーブル104に外力付加部材7が接触したことを検出する検出手段を備えている点が第1の実施形態に係る転写装置1とは異なり、その他の点は、第1の実施形態に係る転写装置1とほぼ同様に構成されほぼ同様の効果を奏する。 The transfer device 1a according to the second embodiment of the present invention is different from the transfer device 1 according to the first embodiment in that the transfer device 1a includes a detecting unit that detects that the external force applying member 7 is in contact with the substrate table 104. The other differences are substantially the same as those of the transfer apparatus 1 according to the first embodiment, and have substantially the same effects.
すなわち、前記外力付加手段は、基板テーブル104と型保持体110とが互いに離れているときに、外力付加部材7を基板テーブル104の方向に移動し、前記検出手段で外力付加部材7が基板テーブル104に接触したことを検出したときに、外力付加部材7の移動を停止すると共にこの停止した外力付加部材7の位置を保持することで、前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられるときの基板テーブル104の変形を防止するように構成されている。
That is, the external force applying means moves the external force adding member 7 in the direction of the substrate table 104 when the substrate table 104 and the
転写装置1aによれば、外力付加部材7が基板テーブル104に接触したことを検出したときに、外力付加部材7の移動を停止すると共にこの停止した外力付加部材7の位置を保持するように構成されているので、外力付加部材7で基板テーブル104を押す量が不足して基板テーブル104に外力付加部材7が接触せず型Mで押されたときに基板テーブル104が下方に変形することや、外力付加部材7で基板テーブル104を押しすぎて、基板テーブル104が上方に変形してしまう自体を回避することができる。 According to the transfer device 1a, when it is detected that the external force applying member 7 is in contact with the substrate table 104, the movement of the external force adding member 7 is stopped and the position of the stopped external force applying member 7 is held. Therefore, the amount of pressing the substrate table 104 by the external force applying member 7 is insufficient, and the substrate table 104 is deformed downward when the external force adding member 7 is pressed by the mold M without contacting the substrate table 104. The substrate table 104 can be avoided from being deformed upward by excessively pushing the substrate table 104 with the external force applying member 7.
なお、転写装置1aにおいて、基板テーブル104と型保持体110とが互いに離れているときに、外力付加部材7を基板テーブル104の方向に移動し、前記検出手段で外力付加部材7が基板テーブル104に接触したことを検出したときに外力付加部材7の移動を停止すると共に、前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられるときの基板テーブル104に加わる力の大きさの変化にかかわらず、前記停止した外力付加部材7の位置が一定の位置になるように(前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられることによる基板テーブル104に加わる力によっても、前記停止した外力付加部材7がフレーム102に対して動かないように)保持することで、前記駆動手段によって型Mが基板Wに押し付けられるときの基板テーブル104の変形を防止するように、前記外力付加手段を構成してもよい。
In the transfer device 1a, when the substrate table 104 and the
より具体的に説明すると、転写装置1aは転写装置1と同様に、フレーム102、基板テーブル104、型保持体110を備えて構成されており、また、前記外力付加手段としてピエゾ装置3aを備えている。ピエゾ装置3aは、薄い環状(たとえば円環状)のピエゾ素子を積層して構成されて筒状に形成されている。
More specifically, similarly to the transfer device 1, the transfer device 1a includes a
ピエゾ装置3aの下端は、板状の部材5を介してフレーム102に一体的に設けられており、ピエゾ装置3aの上端には、板状の外力付加部材7が一体的に設けられている。
The lower end of the
前記検出手段は、たとえば、非接触センサ9で構成されており、非接触センサ9は筒状のピエゾ装置3aの内側に設けられている。そして、外力付加部材7の下面と非接触センサ9の検出部(上面)との間の距離zを検出することができるようになっており、非接触センサ9で、非接触センサ9の外力付加部材7との間の距離を検出することにより、外力付加部材7の上面が基板テーブル104の下面に接触したことを検出することができるようになっている。
The detection means is constituted by, for example, a non-contact sensor 9, and the non-contact sensor 9 is provided inside the cylindrical
さらに、制御装置の制御の下、非接触センサ9の検出結果により、ピエゾ装置3aに加える電圧を制御するように構成されている。
Further, under the control of the control device, the voltage applied to the
より詳しく説明すると、図2に示すように、型保持体110が基板テーブル104から離れて型Mが基板Wに非接触な状態であってピエゾ装置3aが縮んでいる状態(初期状態)における、基板テーブル104と外力付加部材7との間の距離を「L」とし外力付加部材7と非接触センサ9との間の距離zを「z0」とする。
More specifically, as shown in FIG. 2, in a state (initial state) in which the
前記初期状態からピエゾ装置3aが延びて、距離zが、「L+z0」になると、外力付加部材7が基板テーブル104に接触したことになる。
When the
前記制御装置は、前記初期状態からピエゾ装置3aに加える電圧を徐々にあげていってピエゾ装置3aを徐々に延ばして外力付加部材7を徐々に上昇させ、非接触センサ9で基板テーブル104に外力付加部材7が接触したことを検出したときに(距離zが「L+z0」になったときに)、ピエゾ装置3aに加える電圧の上昇を止めて、基板テーブル104に外力付加部材7が接触したときの電圧V1を維持するようになっている(すなわち、距離zを「L+z0」で維持するようになっている。)。
前述したように電圧V1を維持している状態で、型Mで基板テーブル104が押圧されると、基板テーブル104が変形し前記距離zが「L+z0」よりも小さくなろうとするが、このとき、前記制御装置は、ピエゾ装置3aに加える電圧を一層上昇させて、前記距離zが「L+z0」の状態を保つようにしてもよい。
The controller gradually increases the voltage applied to the
As described above, when the substrate table 104 is pressed by the mold M while the voltage V 1 is maintained, the substrate table 104 is deformed and the distance z tends to be smaller than “L + z 0 ”. At this time, the control device may further increase the voltage applied to the
ところで、ピエゾ装置3aに十分剛性がある場合は、型Mで基板テーブル104が押圧されたときに、ピエゾ装置3aに加える電圧を上昇させる必要はなく、前記電圧V1を維持してもよい。
Incidentally, when the
さらには、部材5や外力付加部材7の弾性を考慮して、ピエゾ装置3aに加える電圧を制御してもよい。すなわち、ピエゾ装置3aで基板テーブル104を押圧した場合には、部材5や外力付加部材7もごく僅かに縮むが、このごく僅かな縮みをも考慮して、ピエゾ装置3aに加える電圧を上昇させ、距離zを「L+z0」よりもごくわずかに大きく(部材5や外力付加部材7が縮んだ量だけ大きく)するようにしてもよい。
Furthermore, the voltage applied to the
転写装置1aによれば、外力付加部材7が基板テーブル104に接触したことを検出したときに、外力付加部材7の移動を停止すると共に、型Mが基板Wを押圧するときの基板テーブル104に加わる力の大きさが変化しても、停止した外力付加部材7の位置が一定の位置になるように保持されるので、型Mで基板Wを押圧したときにおける基板テーブル104の変形をほぼ無くすことができ、一層正確な転写を行うことができる。 According to the transfer device 1a, when it is detected that the external force applying member 7 has contacted the substrate table 104, the movement of the external force adding member 7 is stopped and the substrate table 104 when the mold M presses the substrate W is applied. Even if the magnitude of the applied force changes, the position of the stopped external force application member 7 is held so as to be a constant position, so that the deformation of the substrate table 104 when the substrate W is pressed by the mold M is almost eliminated. And more accurate transfer can be performed.
なお、転写装置1aにおいて、基板テーブル104に歪ゲージ11を設け、この歪ゲージ11で前記検出手段を構成してもよいし、基板テーブル104の上方に設けた非接触センサ15で、前記検出手段を構成してもよいし、基板テーブル104と外力付加部材7との間のインピーダンスを検出するインピーダンス検出装置13を設け、このインピーダンス検出装置13で前記検出手段を構成してもよい。
In the transfer device 1a, the
[第3の実施形態]
図3は、本発明の第3の実施形態に係る転写装置1bの概略構成を示す図である。
[Third Embodiment]
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a
本発明の第3の実施形態に係る転写装置1bは、外力付加部材7bとピエゾ装置3aとの間に中間部材17を設けた点が第2の実施形態に係る転写装置1aとは異なり、その他の点は、第2の実施形態に係る転写装置1aとほぼ同様に構成されほぼ同様の効果を奏する。
The
すなわち、本発明の第3の実施形態に係る転写装置1bは、ピエゾ装置3aと外力付加部材7bとの間に板状の中間部材17を備えて構成されている。中間部材17は、ピエゾ装置3aと外力付加部材7bとに一体的に設けられている。
That is, the
外力付加部材7bは、ピエゾ装置3aの伸縮により基板テーブル104に接触しもしく基板テーブル104から離反する接触側部位(所定の厚さを備えた板状の接触側部位)23と、弾性を備えた弾性部位19と、中間部材17に接している筒状の基端部側部位21を備えて構成されている。弾性部位19は、所定の厚さを備えた円錐台の側面形状に形成されており、小径部が接触側部位23につながり、大径部が基端部側部位21につながっている。
The external
また、中間部材17に対する接触側部位23の位置(Z軸方向の位置)を検出する検出手段の例である非接触センサ25が、基端部側部位21の内側で、中間部材17に一体的に設けられている。
Further, a
そして、非接触センサ25の検出結果により、ピエゾ装置3aに加える電圧を制御するように構成されている。
The voltage applied to the
すなわち、ピエゾ装置3aに加える電圧を徐々に上げていき、ピエゾ装置3aが徐々に延びて、接触側部位23の上端が基板テーブル104の下面に接触し、接触側部位23で基板テーブル104が押圧されると、弾性部位19が変形し、接触側部位23が中間部材17に対してごく僅かに下方向に移動する。この移動を非接触センサ25で検出することにより、転写装置1aの場合と同様に、ピエゾ装置3aに加える電圧を制御するようになっている。
That is, the voltage applied to the
さらに、中間部材17のフレーム102に対する変位を、非接触センサ27を用いて検出するようにして、基板テーブル104の変形を一層正確に防止するようにしてもよい。
Furthermore, the displacement of the
[第4の実施形態]
図4は、本発明の第4の実施形態に係る転写装置1cの概略構成を示す図である。
[Fourth Embodiment]
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a transfer apparatus 1c according to the fourth embodiment of the present invention.
本発明の第4の実施形態に係る転写装置1cは、ピエゾ装置3aと基板テーブル104との間にかかる力を検出する検出手段を設けた点が第1の実施形態に係る転写装置1とは異なり、その他の点は、第1の実施形態に係る転写装置1とほぼ同様に構成されほぼ同様の効果を奏する。
The transfer apparatus 1c according to the fourth embodiment of the present invention is different from the transfer apparatus 1 according to the first embodiment in that a detection unit that detects a force applied between the
すなわち、第4の実施形態に係る転写装置1cは、基板テーブル104の下面に前記検出手段の例であるロードセル29を一体的に設け、外力付加部材7と基板テーブル104との間にかかる押圧力(型Mで基板Wを押圧するときの押圧力)を検出し、この検出結果により、ピエゾ装置3aに加える電圧を制御するように構成されている。
That is, in the transfer device 1 c according to the fourth embodiment, a
すなわち、ピエゾ装置3aに加える電圧を徐々に上げていき、ピエゾ装置3aが徐々に延びて、外力付加部材7の上端がロードセル29の下面に接触し、外力付加部材7でロードセル29が押圧されたことを検出すること等により、転写装置1aの場合と同様に、ピエゾ装置3aに加える電圧を制御するようになっている。
That is, the voltage applied to the
なお、図5に示すように、ピエゾ装置3aとフレーム102との間にロードセル29を設けてもよい。
As shown in FIG. 5, a
ところで、前記第1の実施形態では、ピエゾ装置等のアクチュエータを用いて、基板テーブル104に外力を付加するようになっているが、前記アクチュエータに代え、高い剛性の支持部材を用い基板テーブル104の変形を防止してもよい。 By the way, in the first embodiment, an external force is applied to the substrate table 104 by using an actuator such as a piezo device, but instead of the actuator, a highly rigid support member is used. Deformation may be prevented.
前記支持部材は、基端部がフレーム102に一体的に設けられ、先端部が基板テーブル104に接触しもしくは先端部が基板テーブル104からごく僅かに離れており、基板Wが載置される側とは反対側に位置する空間であってフレーム102と基板テーブル104との間の空間にZ軸方向に延びて存在している。また、前記支持部材は、たとえば、鋼やステンレス鋼で構成され鋼やステンレス鋼の材質で満たされている。
The support member is integrally provided on the
1、1a、1b、1c 転写装置
3、3a ピエゾ装置
4 ピエゾ素子
7 外力付加部材
9、25、27 非接触センサ
29 ロードセル
M 型
W 基板
1, 1a, 1b,
Claims (6)
前記基板テーブルを移動位置決め可能な基板移動位置決め手段と、
前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、
前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動させるための駆動手段と、
前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられる場合、前記基板テーブルが変形することを防止するために、前記基板テーブルに外力を加えることが可能な外力付加手段とを有し、
前記外力付加手段は、前記基板テーブルに接触して前記基板テーブルに外力を加える外力付加部材を備えて構成されていると共に、前記基板移動位置決め手段で前記基板テーブルを移動させるときには、前記外力付加部材を前記基板テーブルから離しておき、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときに、前記外力付加部材を前記基板テーブルに接触させて外力を付加するように構成されている転写装置において、
前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出する検出手段を備え、
前記外力付加手段は、前記基板テーブルと前記型保持体とが互いに離れているときに、前記外力付加部材が前記基板テーブルの方向に移動し、前記検出手段で前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出したときに、前記外力付加部材の移動を停止すると共にこの停止した前記外力付加部材の位置を保持することで、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときの前記基板テーブルの変形を防止するように構成されている、
ことを特徴とする転写装置。 A substrate table for holding a substrate which is a molding material ;
Substrate movement positioning means capable of moving and positioning the substrate table;
Together can hold the mold for transfer arranged to face the front Stories substrate table, and relatively movable mold carrier in a direction toward or away from the said substrate table,
And because of the drive means by relatively moving said mold carrier to said substrate table,
If the mold by the drive means is pressed onto the substrate, in order to prevent the substrate table is deformed, possess the external force applying unit capable of applying an external force to said substrate table,
The external force applying means includes an external force adding member that contacts the substrate table and applies an external force to the substrate table. When the substrate table is moved by the substrate moving positioning means, the external force applying member is provided. In the transfer apparatus configured to apply an external force by bringing the external force application member into contact with the substrate table when the mold is pressed against the substrate by the driving means.
Detecting means for detecting that the external force applying member is in contact with the substrate table;
The external force applying means moves the external force applying member toward the substrate table when the substrate table and the mold holder are separated from each other, and the detecting means causes the external force applying member to move to the substrate table. When the contact is detected, the movement of the external force addition member is stopped and the position of the stopped external force addition member is held, so that the substrate is pressed against the substrate by the driving means. Configured to prevent table deformation,
A transfer device characterized by that.
前記基板テーブルを移動位置決め可能な基板移動位置決め手段と、
前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、
前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動させるための駆動手段と、
前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられる場合、前記基板テーブルが変形することを防止するために、前記基板テーブルに外力を加えることが可能な外力付加手段とを有し、
前記外力付加手段は、前記基板テーブルに接触して前記基板テーブルに外力を加える外力付加部材を備えて構成されていると共に、前記基板移動位置決め手段で前記基板テーブルを移動させるときには、前記外力付加部材を前記基板テーブルから離しておき、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときに、前記外力付加部材を前記基板テーブルに接触させて外力を付加するように構成されている転写装置において、
前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出する検出手段を備え、
前記外力付加手段は、前記基板テーブルと前記型保持体とが互いに離れているときに、前記外力付加部材が前記基板テーブルの方向に移動し、前記検出手段で前記外力付加部材が前記基板テーブルに接触したことを検出したときに前記外力付加部材の移動を停止すると共に、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときの前記基板テーブルに加わる力の変化にかかわらず、前記停止した前記外力付加部材の位置が一定の位置になるように保持することで、前記駆動手段によって前記型が前記基板に押し付けられるときの前記基板テーブルの変形を防止するように構成されている、
ことを特徴とする転写装置。 A substrate table for holding a substrate which is a molding material;
Substrate movement positioning means capable of moving and positioning the substrate table;
A mold holding body capable of holding a transfer mold arranged to face the substrate table and relatively movable in a direction approaching and separating from the substrate table;
Drive means for moving the mold holder relative to the substrate table;
An external force applying means capable of applying an external force to the substrate table in order to prevent the substrate table from being deformed when the mold is pressed against the substrate by the driving means;
The external force applying means includes an external force adding member that contacts the substrate table and applies an external force to the substrate table. When the substrate table is moved by the substrate moving positioning means, the external force applying member is provided. In the transfer apparatus configured to apply an external force by bringing the external force application member into contact with the substrate table when the mold is pressed against the substrate by the driving means .
Detecting means for detecting that the external force applying member is in contact with the substrate table;
The external force applying means moves the external force applying member toward the substrate table when the substrate table and the mold holder are separated from each other, and the detecting means causes the external force applying member to move to the substrate table. When the contact is detected, the movement of the external force application member is stopped, and the stopped external force is applied regardless of a change in the force applied to the substrate table when the mold is pressed against the substrate by the driving means. By holding the additional member at a fixed position, it is configured to prevent deformation of the substrate table when the mold is pressed against the substrate by the driving means.
A transfer device characterized by that.
前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向で、前記フレームに対して移動自在に設けられた型保持体と、
前記型保持体を移動させる駆動手段と、
前記フレームと前記基板テーブルとの間に形成されている空間に設けられていると共に、延びた場合には外力付加部材を前記基板テーブルに接触させ、縮んだ場合には前記外力付加部材を前記基板テーブルから離すように、前記フレームに設けられているピエゾ装置と、
を有することを特徴とする転写装置。 A substrate table provided integrally with the frame and holding a substrate which is a molding material ; and
A mold holding body that can hold a transfer mold disposed to face the substrate table, and is movable with respect to the frame in a direction approaching and separating from the substrate table;
Drive means for moving the mold holder;
It is provided in a space formed between the frame and the substrate table, and when extended, an external force application member is brought into contact with the substrate table, and when contracted, the external force application member is disposed on the substrate. A piezo device provided on the frame so as to be separated from the table;
A transfer device comprising:
前記外力付加部材の位置を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果により、前記ピエゾ装置に加える電圧を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする転写装置。 The transfer device according to 請 Motomeko 3,
A detecting means for detecting a position of the external force applying member,
Control means for controlling the voltage applied to the piezo device according to the detection result of the detection means;
Transfer apparatus according to claim Rukoto to have a.
前記ピエゾ装置と前記外力付加部材との間に設けられた中間部材と、
前記基板テーブルに接触する接触側部位と弾性を備えた弾性部位とを備えて構成され、前記弾性部位が前記中間部材と前記接触側部位との間に位置するようにして、前記中間部材に一体的に設けられた前記外力付加部材と、
前記中間部材に対する前記接触側部位の位置を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果により、前記ピエゾ装置に加える電圧を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする転写装置。 The transfer device according to claim 3 , wherein
An intermediate member provided between the piezo device and the external force addition member ;
A contact side portion that contacts the substrate table and an elastic portion having elasticity are configured, and the elastic portion is located between the intermediate member and the contact side portion so as to be integrated with the intermediate member. The external force application member provided in an automatic manner,
Detecting means for detecting a position of the contact side portion with respect to the intermediate member ;
Control means for controlling the voltage applied to the piezo device according to the detection result of the detection means;
Transfer apparatus according to claim Rukoto to have a.
前記基板テーブルに対向させて配置した転写用の型を保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向で、前記フレームに対して移動自在に設けられた型保持体と、
前記型保持体を移動させる駆動手段と、
前記フレームと前記基板テーブルとの間に形成されている空間に設けられていると共に、延びた場合には外力付加部材を前記基板テーブル方向に移動させ、縮んだ場合には前記外力付加部材を前記基板テーブルから離す方向に移動させるように、前記フレームに設けられているピエゾ装置と、
前記ピエゾ装置と前記基板テーブルとの間にかかる力を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果により、前記ピエゾ装置に加える電圧を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする転写装置。 A substrate table provided integrally with the frame and holding a substrate which is a molding material ;
A mold holding body that can hold a transfer mold disposed to face the substrate table, and is movable with respect to the frame in a direction approaching and separating from the substrate table ;
Drive means for moving the mold holder;
Together provided the space formed between the frame and the substrate table, when extended moves the external force applying member on the substrate table direction, if contracted in the said external force applying member A piezo device provided on the frame so as to move in a direction away from the substrate table ;
Detecting means for detecting a force applied between the piezo device and the substrate table ;
Control means for controlling the voltage applied to the piezo device according to the detection result of the detection means;
Transfer equipment, characterized in Rukoto to have a.
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