JP4826998B2 - フラットパネルディスプレイ用ガラス基板 - Google Patents

Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に関するものであり、特にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板、電界放射型ディスプレイ用ガラス基板、有機・無機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用ガラス基板に関するものである。

プラズマディスプレイパネルは、前面ガラス基板表面にＩＴＯやネサ等からなる透明電極を形成し、その上に誘電体材料を塗布して誘電体層を形成する。また、背面ガラス基板表面には、Ａｌ、Ａｇ、Ｎｉ等からなる電極が形成された背面ガラス基板表面に背面誘電体材料と隔壁材料を塗布し隔壁を形成してから、それぞれ５００〜６００℃程度の温度で焼成することにより回路を形成する。その後、前面ガラス基板と背面ガラス基板を対向させて電極等の位置合わせを行い、両ガラス基板を４５０〜６００℃程度の温度でフリットシールすることにより作製される。

従来、プラズマディスプレイパネルに使用されるガラス基板としては、フロート法等によって１．１〜３．０ｍｍの肉厚に成形されたソーダ石灰ガラス（熱膨張係数は約８４×１０^-7／℃）が一般的に用いられてきた。しかし、ソーダ石灰ガラスは、歪点が５００℃程度と低く、５００℃以上の熱処理工程におけるガラス基板の熱変形や熱収縮が問題となり、大型もしくは高精細のプラズマディスプレイパネルに使用できなかった。そこで、現在では、熱変形及び熱収縮の問題を解決するために、ソーダ石灰ガラスと同等の熱膨張係数を有し、しかも、５７０℃以上の歪点を有する高歪点ガラスが広く使用されている（特許文献１〜３参照）。

最近ではディスプレイの更なる軽量化をはかるため、密度の低いガラス材質が検討されている。また、パネル製造工程には多くの熱処理工程が存在し、熱衝撃によるパネルの割れが問題になるため、ガラスの熱膨張係数を下げる対策も検討されている（特許文献４、５参照）。
特開平３−４０９３３号公報 特開平７−２５７９３７号公報 特開平８−１６５１３８号公報 特開平３−１７０３４３号公報 特開平９−２４９４３０号公報

プラズマディスプレイパネルをはじめとするフラットパネルディスプレイの製造においては、ガラス基板を純水、酸、アルカリ等を用いて洗浄した後、ガラス基板上にＩＴＯやネサ等からなるベタ膜を形成する。このベタ膜は所望の線幅の電極となるように酸やアルカリのエッチング液でパターニングされる。さらに、これらの透明電極だけでは電流が十分に流れないため、更に透明電極の上にＡｌ、Ａｇ、Ｃｒ／Ｃｕ等からなる金属電極を焼き付ける工程が存在する。

ガラスの化学的耐久性が悪い場合、洗浄工程においてガラス基板から溶出したアルカリ成分の残渣がガラス基板上に残存する。このような残渣の存在するガラス基板上に膜が形成された場合、パネルの駆動中に膜が剥がれて断線し、表示欠陥となる危険がある。このような欠陥は、ディスプレイとして致命的な欠陥である。最近ではプラズマディスプレイパネル用のガラス基板材質が電界放射型ディスプレイや有機・無機エレクトロルミネッセンスディスプレイなど様々なフラットパネルディスプレイに転用され始めている。さらに、電界放射型ディスプレイ用ガラス基板や有機・無機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板は、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板と同等以上のガラスの化学的耐久性が要求されている。

一方、ガラスの密度を低くし、ディスプレイの更なる軽量化を行うためには、ガラス中のＳｉＯ₂含有量を増加させる必要がある。また、ガラスの熱膨張係数を下げ、ディスプレイの熱衝撃による基板ガラスの割れを防止するには、ガラス中のＳｉＯ₂含有量を増加させる必要がある。したがって、ガラスの密度および熱膨張係数を低下させるためには、ガラス中のＳｉＯ₂含有量を増加させる必要がある。

しかし、ＳｉＯ₂含有量を上昇させると、ガラスの構造が疎になり、比較的原子半径の小さなアルカリ成分がガラスの構造内を移動しやすくなり、洗浄工程においてガラス基板からアルカリ成分が溶出しやすくなるとともに、アルカリ成分の残渣がガラス基板上に残存しやすくなっていた。その結果、洗浄工程におけるアルカリ成分の溶出とガラスの低膨張化及び低密度化の両立が困難であり、上記の問題が深刻となっていた。

本発明の目的は、パネル軽量化のために密度を低くし、かつ、耐熱衝撃性を上げるために熱膨張係数を低くしても、化学的耐久性が高い高歪点のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供することである。

本発明者らは、種々検討した結果、ガラス基板のアルカリ溶出量を０．３ｍｇ以下にすることで、洗浄工程においてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板から溶出したアルカリ成分の残渣がフラットパネルディスプレイ用ガラス基板上に残存することがなく、パネルの駆動中に膜が剥がれて断線し、表示欠陥とならないことを見い出し、本発明を提案するに至った。

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、歪点が５８５℃以上、密度が２．６５ｇ／ｃｍ^３以下、熱膨張係数が６０×１０^−７／℃以上７５×１０^−７／℃未満であり、ＪＩＳ−Ｒ３５０２に準拠した方法で測定されるアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であり、ガラス組成として、重量％表示で、ＳｉＯ _２ ６０〜７２％、Ａｌ _２ Ｏ _３ ０．５〜６％未満、Ｂ _２ Ｏ _３ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜１５％、ＣａＯ ０〜８％、ＳｒＯ ０〜１２％（但し、１１．５超〜１２％の範囲を除く）、ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １〜１１．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １６〜３０％、ＺｒＯ _２ ０〜８％、Ｌｉ _２ Ｏ ０〜５％、Ｎａ _２ Ｏ ０〜１０％、Ｋ _２ Ｏ ０〜１５％、Ｌｉ _２ Ｏ＋Ｎａ _２ Ｏ＋Ｋ _２ Ｏ ４〜８％、ＺｎＯ ０〜５％を含有することを特徴としている。

また、そのガラス基板は、１０ ^４ ｄＰａ・ｓにおける温度が１１７０℃以下であることを特徴としている。

さらに、そのガラス基板は、フロート法で成形されてなることを特徴としている。

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、パネルの軽量化のために従来のガラスに比べて密度が低く、パネル製造工程、特に誘電体等の部材を焼成する工程での熱割れの問題を改善するために熱膨張係数を低く設定しているにもかかわらず、アルカリ溶出量で評価した場合の化学的耐久性が高い。

以下、本発明について詳しく説明する。

本発明において、ガラス基板は、ＪＩＳ−Ｒ３５０２で測定されるアルカリ溶出量を０．３ｍｇ以下（好ましくは０．２５ｍｇ以下、より好ましくは０．２１ｍｇ以下、さらに好ましくは０．１５ｍｇ以下、最も好ましくは０．１３ｍｇ以下）にする必要がある。アルカリ溶出量が０．３ｍｇより多くなると前述したようにガラス基板の洗浄工程やパターニングのための酸やアルカリ溶液でのエッチングの際、ガラスからアルカリ成分の溶出量が多くなり、その残渣がガラス基板表面に付着しやすくなる。

ガラスの密度は２．６５ｇ／ｃｍ³以下（好ましくは２．６４ｇ／ｃｍ³以下、より好ましくは２．６３５ｇ／ｃｍ³以下、さらに好ましくは２．６３ｇ／ｃｍ³以下、最も好ましくは２．６２ｇ／ｃｍ³以下）にする必要がある。密度が２．６５ｇ／ｃｍ³より高くなるとパネルの軽量化に対する効果が小さくなるからである。

なお、密度を低くするためにはＳｉＯ₂含有量を上昇させなければならず、その結果ガラスからのアルカリ成分の溶出量が増加するので注意が必要である。

ガラスの熱膨張係数は、３０〜３８０℃における６０×１０^−７／℃以上７５×１０^−７／℃未満（好ましくは６５〜７４×１０^−７／℃、より好ましくは６８〜７２×１０^−７／℃）にする必要がある。熱膨張係数が７５×１０^−７／℃以上になるとパネル製造工程、特に誘電体等の部材を焼成する工程でのガラス基板の熱割れ問題が起きやすくなる。熱膨張係数を６０×１０^−７／℃未満にすると誘電体材料やシール材などの熱膨張係数と不整合のためガラス基板の反りが大きくなる。

上記特性を有するフラットディスプレイガラス基板を得るには、ガラス組成として、重量％表示で、ＳｉＯ_２が６０〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜６％未満、Ｂ_２Ｏ_３が０〜５％、ＭｇＯが０〜１５％、ＣａＯが０〜８％、ＳｒＯが０〜１２％（但し、１１．５超〜１２％の範囲を除く）、ＢａＯが０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１１．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１６〜３０％、ＺｒＯ_２が０〜８％、Ｌｉ_２Ｏが０〜５％、Ｎａ_２Ｏが０〜１０％、Ｋ_２Ｏが０〜８％、Ｌｉ _２ Ｏ＋Ｎａ _２ Ｏ＋Ｋ _２ Ｏが４〜８％、ＺｎＯが０〜５％の範囲内から適宜選択すべきである。

本発明において、ガラスの各成分の割合を上記のように限定した理由を以下に述べる。

ＳｉＯ_２は、ガラスのネットワークを形成する成分である。その含有量は６０〜７２％、好しくは６０〜７０％、より好ましくは６０〜６８％である。ＳｉＯ_２の含有量が多くなると、ガラスの高温粘度が高くなり、溶融、成形が難しくなる。また、アルカリ溶出量が多くなり、熱膨張係数が小さくなりすぎて周辺材料との整合性が取り難くなる。一方、ＳｉＯ _２ の含有量が少なくなると、熱膨張係数が大きくなりガラスの耐熱衝撃性が低下したり、ガラスの歪点が低下する傾向にあり、プラズマディスプレイパネルを製造する際の熱工程で、ガラス基板に割れが発生したり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。

Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラスの歪点を高くする成分である。その含有量は０．５〜６％未満、好ましくは０．５〜５％未満、より好ましくは０．５〜４％未満、最も好ましくは１〜３％である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が多くなると、ガラスの高温粘度が高くなり、溶融、成形が難しくなる。また、熱膨張係数が小さくなり過ぎて周辺材料との整合性が取り難くなる。

Ｂ_２Ｏ_３は、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜５％、好ましくは０〜２％である。Ｂ_２Ｏ_３の含有量が多くなると、ガラスの歪点が低下する傾向にあり、ディスプレイ装置を製造する際の熱工程でガラス基板に割れが発生したり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。

ＭｇＯは、ガラスの高温粘度を著しく低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜１５％、好ましくは０〜１３％、より好ましくは０〜１０％である。ＭｇＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。

ＣａＯは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜８％、好ましくは０〜６％である。ＣａＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。

ＳｒＯは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜１２％（但し、１１．５超〜１２％の範囲を除く）である。ＳｒＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。

ＢａＯは、ＳｒＯと同様にガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜５％、好ましくは０．１〜５％、より好ましくは０．１〜３％である。ＢａＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなるとともに成形し難くなる傾向がある。

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等のアルカリ土類成分はガラスの構造の中に入るとガラスの構造を密にする効果がある。その結果、アルカリ溶出量が低減する。一方でアルカリ土類成分の合量が多くなると密度が高くなる傾向がある。特に密度の上昇に寄与するＳｒＯとＢａＯの合量は１〜１１．５％、好ましくは５〜１１．５％、より好ましくは７〜１１．５％である。アルカリ土類成分の合量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は１６〜３０％が好ましく、１６．５〜２８％がより好ましく、１７〜２６％がさらに好ましい。

ＺｒＯ_２は、ガラスの歪点を高める成分である。その含有量は０〜８％である。ＺｒＯ_２の含有量が多くなると、失透ブツが発生する傾向にあり、成形が難しくなる。

Ｌｉ₂Ｏは、必須成分ではないが、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。また、Ｌｉ₂Ｏは、ガラスの熱膨張係数を調整する成分でもある。その含有量は０〜５％、好ましくは０〜２％である。Ｌｉ₂Ｏの含有量が多くなると、ガラスの歪点が著しく低下する傾向にあり、フラットパネルディスプレイ装置を製造する際の熱工程でガラス基板の熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。また、ガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。

Ｎａ_２Ｏは、ガラスの熱膨張係数を制御したり、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜１０％、最も好ましくは０．１〜３．５％である。Ｎａ_２Ｏの含有量が多くなると、熱膨張係数が大きくなりガラスの耐熱衝撃性が低下する。また、ガラスの歪点が低下する傾向にある。そのため、プラズマディスプレイパネルを製造する際の熱工程でガラス基板に割れが発生し、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。

Ｋ_２Ｏは、Ｎａ_２Ｏと同様にガラスの熱膨張係数を制御し、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜８％、好ましくは１〜８％、より好ましくは２〜８％、最も好ましくは３〜８％である。Ｋ_２Ｏの含有量が多くなると、熱膨張係数が大きくなりガラスの耐熱衝撃性が低下する。また、ガラスの歪点が低下する傾向にある。そのため、プラズマディスプレイパネルを製造する際の熱工程で、ガラス基板に割れが発生したり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。

また、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合計量は、４〜８％、５〜８％が好ましく、６〜８％がより好ましい。Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合計量が４％より小さくなるとガラスの高温粘性を下げる効果が得られにくくなり、８％より大きいとガラスの熱膨張係数が大きくなるともに、ガラスのアルカリ溶出量が大きくなる。

さらに、Ｎａ⁺よりもイオン半径や質量の大きいＫ⁺を多くすることで、アルカリ成分がガラス中を移動しにくくなり、ガラスのアルカリ溶出量が少なくなる。Ｋ₂Ｏ／Ｎａ₂Ｏ比が１．５〜５（好ましくは２〜３、より好ましくは２．５〜３）であれば、アルカリ溶出量が少なく非常に高い化学的耐久性が得られる。Ｋ₂Ｏ／Ｎａ₂Ｏ比が１．５より小さいとＮａの溶出が多くなり、Ｋ₂Ｏ／Ｎａ₂Ｏ比が５より大きいとＫの溶出が多くなる。

ＺｎＯは、ガラスの高温粘度を著しく低下させて溶融性や成形性を高める成分である。その含有量は０〜５％、好ましくは０〜４％である。ＺｎＯの含有量が多くなると、溶融炉の寿命が短くなる。

本発明において、上記成分以外にも、紫外線着色を防止するために、ＴｉＯ₂を３％まで、液相温度を低下させて、成形性を向上させるために、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₃を各３％まで、着色剤として、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｃｒ₂Ｏ₃、Ｎｄ₂Ｏ₃を各２％まで、清澄剤として、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳＯ₃、Ｆ、Ｃｌ等を合量で１％まで添加することが可能である。但し、フロート法で成形する場合、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃はフロートバス中で還元されて金属異物となるため、導入は避けるべきである。

また、本発明のガラス基板は、上記のガラス組成範囲となるように調合したガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を加熱溶融し、脱泡した後、成形装置に供給し、溶融ガラスを板状に成形し徐冷することで得ることができる。

なお、ガラス基板の成形方法としては、フロート法、スロットダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法、リドロー法等の様々な成形方法があるが、フロート法で板状に成形することが好ましい。その理由は、フロート法の場合、比較的安価に大型のガラス基板を得やすいためである。

フロート法でガラス基板を成形すると、溶融スズや水素や窒素等の還元雰囲気によって、ガラスが着色する場合がある。着色したガラス基板を前面ガラス基板として使用すると画質が低下する等の問題が生じるが、背面用ガラス基板として使用することは可能である。

また、得られたガラス基板は、５８５℃以上（好ましくは５９０℃以上、より好ましくは５９５℃以上）の歪点を有することが必要である。その理由は、歪点が低いと、ディスプレイを製造する際の成膜等の熱処理工程で、ガラス基板が熱収縮や熱変形を起こしやすくなるためである。

（実施例）
以下、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を実施例に基づいて詳細に説明する。

表１は、本発明における実施例（試料Ｎｏ．１〜８）を、表２には比較例（試料Ｎｏ．９）をそれぞれ示している。なお、試料Ｎｏ．９は窓板ガラスを示している。

表中の各試料は、次のようにして調製した。

まず、表１、２に示す組成となるように原料を調合し、白金ルツボに調合バッチを入れ、１５５０℃で４時間溶融した。その後、溶融ガラスをカーボン板の上に板厚が１０ｍｍとなるように流し出して板状に成形し試料ガラスを作製した。

熱膨張係数については、直径５．０ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状の試料を作製し、ディラトメーターで３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した。

また、歪点については、ＡＳＴＭ Ｃ３３６−７１に準拠した方法で測定した。なお、この温度が高い程、ディスプレイを製造する際の熱工程におけるガラス基板の熱変形や熱収縮を抑えることができる。

フロート法で成形するためには、フロートバス入り口における成形に適したガラスの粘性は１０⁴ｄＰａ・ｓ近傍とするのが適当である。この粘性に相当する温度、すなわち、成形温度は低いほど好ましく、１２５０℃以下がより好ましく、１２００℃以下がさらに好ましく、１１８０℃以下が最も好ましい。なお、成形温度は、ガラスの粘度が１０⁴ｄＰａ・ｓに相当する温度を白金球引き上げ法により測定した。

アルカリ溶出量は、ＪＩＳ−Ｒ３５０２に準拠した方法で測定した。

ＪＩＳ−Ｒ３５０２によるアルカリ溶出試験法について説明すると、まず以下の手順に従って試料の調整を行う。供試ガラスを良く洗浄し、乾燥した後、メノウ又は鋼性乳鉢で
注意しながら粉砕する。次に、標準フルイ４２０μｍを通過し、標準フルイ２５０μｍにとどまる大きさの粉末を５グラム取り、エチルアルコール（９９．５容量％）で良く洗って微粉を除いた後、約１２５℃の空気浴中で３０分間乾燥し、デシケーター中で保存する。このように調整された試料から、供試ガラスの比重と同じグラム数を正確に量り取る。また、丸底フラスコ中に予め４０ｃｃの蒸留水を入れ、１０分間以上沸騰水浴中に保持した後試料をフラスコに投入し、さらに１０ｃｃの蒸留水で器壁の内面に付着した試料を洗い落とし、緩く揺り動かして試料集積物の上部が一様な平面を保つように安定させる。次に、冷却器を取り付け、沸騰水浴中で６０分間加熱する。次に、フラスコを水浴中から取り出し、直ちに流水で冷却し、内容液を硬質ガラス製ビーカーに移し、メチルレッド指示薬３滴を加え、Ｎ／１００硫酸で滴定する。また、同様な方法で空試験を行い、結果を比較する。また、得られた結果は、原則として空試験結果を差し引いたＮ／１００硫酸の消費ｃｃ数に０．３１を乗じ、Ｎａ₂Ｏｍｇ数に換算する。

各試料について、密度、熱膨張係数、歪点、成形温度及びアルカリ溶出量について評価し、結果を表１、２に示した。

表から明らかなように、実施例である試料Ｎｏ．１〜８の各試料については、熱膨張係数が６９〜７１×１０^-7／℃であり、熱処理工程における割れの問題を改善でき、かつ、周辺材料と良好に整合した。また、歪点は５８５℃以上であり、熱処理工程におけるガラス基板の熱変形や熱収縮を抑えることができた。密度は２．６５ｇ／ｃｍ³以下であり、パネルの軽量化が達成できた。また、アルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であるので基板の洗浄やエッチング工程での化学的耐久性が高く、アルカリ成分の残渣の付着も低減でき、より高精細の大型ディスプレイを製造することができた。しかも、成形温度が１１８０℃以下と低く成形性にも優れていた。

比較例であるＮｏ．９の試料は、密度は低いが、アルカリ溶出量が０．３ｍｇより大きいので、基板の洗浄やエッチング工程での化学的耐久性が低いとともにアルカリ成分の残渣の付着も認められ、より高精細の大型ディスプレイを製造することができなかった。

（発明の効果）
以上に説明したとおり、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、歪点が５８５℃以上、密度が２．６５ｇ／ｃｍ³以下、熱膨張係数が６０×１０^-7／℃以上７５×１０^-7／℃未満であり、ＪＩＳ−Ｒ３５０２に準拠した方法で測定されるアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であることを特徴とし、そのガラス基板のガラス組成は、重量％表示で、ＳｉＯ₂が５０〜７２％、Ａｌ₂Ｏ₃が０〜６％未満、Ｂ₂Ｏ₃が０〜２０％、ＭｇＯが０〜１５％、ＣａＯが０〜１０％未満、ＳｒＯが０〜１５％、ＢａＯが０〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１６〜３０％、ＺｒＯ₂が０〜１０％、Ｌｉ₂Ｏが０〜５％、Ｎａ₂Ｏが０〜１５％、Ｋ₂Ｏが０〜１５％であることを特徴としている。

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、従来から使用されているプラズマディスプレイパネル用ガラス基板に比べて密度と熱膨張係数が低いにもかかわらず、アルカリ溶出量が少なく化学的耐久性が高い。その結果、基板の洗浄やエッチング工程での化学的耐久性が高く、残渣の付着も低減でき、より高精細のディスプレイを製造することができ、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板として好適である。

Claims (3)

1. 歪点が５８５℃以上、密度が２．６５ｇ／ｃｍ^３以下、３０〜３８０℃における熱膨張係数が６０×１０^−７／℃以上７５×１０^−７／℃未満のフラットパネルディスプレイ基板であって、ＪＩＳ−Ｒ３５０２に準拠した方法で測定されるアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であり、ガラス組成として、重量％表示で、ＳｉＯ _２ ６０〜７２％、Ａｌ _２ Ｏ _３ ０．５〜６％未満、Ｂ _２ Ｏ _３ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜１５％、ＣａＯ ０〜８％、ＳｒＯ ０〜１２％（但し、１１．５超〜１２％の範囲を除く）、ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １〜１１．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １６〜３０％、ＺｒＯ _２ ０〜８％、Ｌｉ _２ Ｏ ０〜５％、Ｎａ _２ Ｏ ０〜１０％、Ｋ _２ Ｏ ０〜１５％、Ｌｉ _２ Ｏ＋Ｎａ _２ Ｏ＋Ｋ _２ Ｏ ４〜８％、ＺｎＯ ０〜５％を含有することを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
2. １０ ^４ ｄＰａ・ｓにおける温度が１１７０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
3. フロート法で成形されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。