JP4824221B2 - 3次元構造体の製作方法 - Google Patents

3次元構造体の製作方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4824221B2
JP4824221B2 JP2001250359A JP2001250359A JP4824221B2 JP 4824221 B2 JP4824221 B2 JP 4824221B2 JP 2001250359 A JP2001250359 A JP 2001250359A JP 2001250359 A JP2001250359 A JP 2001250359A JP 4824221 B2 JP4824221 B2 JP 4824221B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photocurable resin
dimensional
light
dimensional structure
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001250359A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003057477A (ja
Inventor
宏 村松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2001250359A priority Critical patent/JP4824221B2/ja
Publication of JP2003057477A publication Critical patent/JP2003057477A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4824221B2 publication Critical patent/JP4824221B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、マイクロ化学分析用部品や光通信用部品の中の光導波路部品などを製作するための3次元構造体の製作方法および3次元構造体に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、マイクロ化学分析用部品や光通信用部品光導波路部品の製作には、薄膜形成法による光導波路形成技術やイオン交換法による光導波路形成技術が用いられてきた。例えば、薄膜形成法では、高分子材料の薄膜や気相法で堆積した石英等の薄膜の2次元的なエッチングプロセスが用いられている。また、イオン交換法では、基板のガラスの所定の領域に溶融塩を接触させることでイオン交換を行い屈折率を変化させるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記の光導波路部品形成法においては、基本的に2次元的な構造の光導波路の形成しかできないため、光導波路部品と他の光学部品を接続する構造の形成や光導波路部品に機能を持たせることには限界があった。
【0004】
また、3次元的な構造を形成する方法として知られる光造形法を用いて、フォトニック結晶を製作し、光学部品を製作しようという試みはなされているが、屈折率の異なる材料を用いた光導波路を製作する方法については、確立されていない。
【0005】
このようなことから、本発明では、複合した立体的な構造体の製作法および複合した立体的な構造物を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明では、3次元構造体である光導波路の部品の製作工程において、第1の光硬化性樹脂による3次元光造形工程に引き続き第2の光硬化性樹脂による3次元光造形工程を行い、少なくとも2種類以上の光硬化性樹脂の複合した立体的な構造体の製作を行う方法を考案した。すなわち、相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂である第1の光硬化性樹脂による3次元光造形工程に引き続き、相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂である第二の光硬化性樹脂による3次元光造形工程を行い、相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂による3次元光造形工程によって光導波路のコア部分の形成を行い、前記の相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂による3次元光造形工程によってクラッド領域を形成して、立体的な光導波路部品の製作を行うようにした。さらに、屈折率の高い光硬化性樹脂による3次元光造形の工程において、3次元形状保持のための支持部分を相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂の3次元構造体と同時に形成し、初めの相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂による3次元光造形工程によって形成されたコア形状が保持されるようにした。また、3次元形状保持のための支持部分が、コアを伝搬する光の波長に対して細く形成することで、支持部分への光の漏れを低く抑える、さらに、コア部分と支持部分との接続部の形状を面取りがたの形状とすることで、散乱光を低く抑えるようにした。
【0007】
一方、相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂による3次元光造形工程中において、クラッド部分の一部が形成され、不要になった3次元形状保持のための支持部分をコア部分から分離することによって、支持部分が光の伝搬に与える影響を減らすこともできる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明する。
【0009】
図1は、本発明の3次元構造体の製作方法の一つの概念を示した図である。図1(a)では、第1の光硬化性樹脂の原料液101が、容器102中に保持されており、レンズ103で集光された光104の焦点部分110において、光重合反応が進行し、硬化物105が形成される。この焦点部分を移動させたり、強度を変化させることで、図1(b)のように目的とする形状の硬化物106を硬化物の支持部分107とともに形成することができる。続いて、図1(c)に示すように、容器内を第1の光硬化性樹脂に換えて第2の光硬化性樹脂の原料液108を満たし、図1(d)に示すように、外部から光を集光して照射することで、再び光重合反応を進行させ、第2の光硬化性物質の硬化物109を形成させて行く。このようにして、図1(e)に示すような2種類の光硬化性樹脂の複合した立体的な構造体の製作を行うことができる。
【0010】
ここで、第1の光硬化性樹脂が相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂であり、前記第2の光硬化性樹が相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂とすることによって、第1の光硬化性樹脂による3次元光造形工程によって光導波路のコア部分の形成を行い、第2の光硬化性樹脂による3次元光造形工程によってクラッド領域を形成して、立体的な光導波路部品の製作を行うことができる。
【0011】
また、3次元形状保持のために同時に形成した支持部分をコアを伝搬する光の波長に対して細く形成することで、支持部分への光の漏れを低く抑えることができる。さらに、図2に示すように、図2(a)のようなコア部分121と支柱部分122の接続の構造に対し、図2(b)のように、接続部の形状を面取りがたの形状123とすることによって、図2(a)のエッジ部124での散乱の効果を押さえることができる。
【0012】
図3は、本発明の3次元構造体の製作方法のバリエーションを示した図である。図3(a)では、第1の光硬化性樹脂の原料液体101が、容器102中に保持されており、レンズ103で集光された光104の焦点部分110において、光重合反応が進行し、硬化物105が形成される。この焦点部分を移動させたり、強度を変化させることで、図3(b)のように目的とする形状の硬化物106を硬化物の支持部分107および外側のフレーム201とともに形成することができる。続いて、図3(c)に示すように、第1の光硬化性樹脂でできた3次元構造物の中間形成物を上下反転させるなどして、光造形装置の光軸の向きに対する配置を変更するとともに、容器内を第1の光硬化性樹脂に換えて第2の光硬化性樹脂の原料液108を第1の光硬化性樹脂の硬化物の一部分がひたるところまで満たす。この後、図3(d)に示すように、外部から光を集光して照射することで、再び光重合反応を進行させ、第2の光硬化性物質の硬化物109を形成させて行く。ある程度、第2の光硬化性樹脂の硬化物を形成させた段階で、図3(e)に示すように、レンズ211で集光されたレーザー光212を照射することで、支柱部分の一部を除去することができる。これによって、コアを伝搬する光のロスや散乱を一層抑えることができる。中間形成物の向きを光軸に対して変化させることによって、第1の光硬化性樹脂の形成物が次の処理で光を遮ることを防いだり、支持体の位置を逆転することで、第2の硬化物で、第1の硬化物の一部が固定された後でも、支柱部分を露出させておくことができる。
続いて、図3(f)に示すように、容器内を第2の光硬化性樹脂108を満たし、外部から光を集光して照射することで、再び光重合反応を進行させ、第2の光硬化性物質の硬化物109を形成させて行き、図3(g)に示すような2種類の光硬化性樹脂の複合した立体的な構造体の製作を行うことができる。
一方、第1の光硬化樹脂の硬化工程において、光の入射方向を図3(a)とは反対に、下方向から照射するなどして、中間形成物を反転させることはせずに、図3(c)に示すような第1の光硬化樹脂の硬化物を形成することもできる。
【0013】
本発明で、光重合に用いる光源としては、可視光領域および紫外光領域の光を発生できるアルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー等を用いることができる。さらに、2光子吸収を利用する場合には、チタンサファイヤレーザー等を用いることができる。
また、支柱の一部を除去するための光源としては、エキシマレーザーを用いることができ、また、高出力のアルゴンイオンレーザーを用いることもできる。照射する光は、レンズで広い角度から絞りこまれるため、焦点付近のみで硬化反応が進行し、多少さえぎる部分があっても、角度を広くとることによって、影響を少なくすることができる。
【0014】
本発明で使用する光硬化性樹脂としては、エポキシ系光硬化性樹脂、ウレタンアクリレート系エポキシ樹脂などを用いることができるが、特にエポキシ樹脂では、フッ素系エポキシ樹脂は屈折率が標準的なエポキシ樹脂に比べて低くなり、逆にイオウを含有するエポキシ樹脂の屈折率は高くなることが知られている。
【0015】
本発明では、2種類の光硬化性樹脂を用いる例を示したが、さらに複数の種類の光硬化性樹脂を組み合わせることも可能である。
【0016】
次に、本発明の3次元構造体の製作方法を利用した3次元構造体の例を示す。
【0017】
図4は、光導波路を利用した分析モジュールの構造を示したものである。この分析モジュールでは、第1の光硬化樹脂材料である相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂によってコア部401が形成され、周囲を第2の光硬化性樹脂である相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂402によって形成することで、導波路の機能としてはクラッドとしての機能を持たせ、分析モジュールの構造としては、流路403を形成している。この分析モジュールの流路に試料液を流し、参照光404をコア部に入射し、出力光405の強度や波長成分の変化を検出することで、流路内にコア部が露出することで変化した参照光の変化を検出し、試料液の分析を行うことができる。第2の光硬化性樹脂によって、光導入部411や光取り出し部412にコネクタ形状を形成することもできる。
【0018】
図5は、光導波路を利用した光学部品の作製例としてスターカプラの構造を示したものである。図5において、第1ポート501から第2ポート502から第8ポート508の7つのポートに対して、第1の光硬化樹脂材料である相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂によって7つに分岐したコア部551が形成されており、この周囲に第2の光硬化性樹脂である相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂552が形成されている。図5の例では、第1ポート501に入射した光を他の7つのポートに均等に分割することができる。ここでさらに、8つのポートを相互に28本のコア部で結ぶことによって、双方向の8ポートカプラを構成することもできる。
【0019】
図6は、光導波路を利用した光学部品の作製例として、光切り換え器の構造を示したものである。図6(a)において、第1の光硬化樹脂材料である相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂によって、2つのコア部601が第1のブロック611に形成されており、同様に2つのコア部602が第2のブロック612に形成されている。第1のブロックと第2のブロックは、ベース613によって一体になっている。コア部601は、ファイバー部603の内部を通って、もう一方のコア部602に近接できる位置まで達しており、支柱614によって支持された回転子615を回転させることによって、コア端面どうしを近接させることができる。回転子を180度回転させることで、2つのコアどうしの接続関係の組み合わせを換えることができる。このコア部以外の材料は、第2の光硬化性樹脂である相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂によって形成される。このような光学部品を構成することで、2x2の光スイッチを実現することができる。
【0020】
さらに、図6(b、c)は、この光スイッチを組み合わせることで、4x4の光スイッチを構成する例を示している。図6(b)は、外観を示したもので、6つの2x2スイッチモジュール621と2つの導波路モジュール622で構成されている。このスイッチ構造は、本発明の方法によって、一体に形成することが可能である。図6(c)では、4x4スイッチの構造を示したもので、2x2スイッチ部分631と導波路モジュール部分632におけるコア部633の接続の関係を示している。
【0021】
【発明の効果】
以上のように、本発明によって、複雑な3次元構造の光導波路部品を提供できるようになるとともに、複雑な3次元構造の光導波路部品を簡単なプロセスで製作できるようになり、光導波路部品製作時間の短縮が可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の3次元構造体の製作方法を示す図
【図2】本発明のコア部分と支柱部分の接続の構造を示す図
【図3】本発明の3次元構造体の製作方法を示す図
【図4】本発明の3次元構造体の製作方法で製作した光導波路を利用した分析モジュールの構造を示す図
【図5】本発明の3次元構造体の製作方法で製作した光導波路を利用した光学部品の作製例を示す図
【図6】本発明の3次元構造体の製作方法で製作した光導波路を利用した光学部品の作製例を示す図
【符号の説明】
101 第1の光硬化性樹脂の原料液
102 容器
103 レンズ
104 集光された光
105 第1の光硬化性樹脂の硬化物
106 第1の光硬化性樹脂の目的とする形状の硬化物
107 支持部分
108 第2の光硬化性樹脂の原料液
109 第2の光硬化性物質の硬化物
110 焦点部分
121 コア部分
122 支柱部分
123 面取りがたの形状
124 エッジ部
201 フレーム
211 レンズ
212 集光されたレーザー光
401 コア部
402 相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂
403 流路
404 参照光
405 出力光
411 光導入部
412 光取り出し部
501 第1ポート
502 第2ポート

508 第8ポート
551 分岐したコア部551
552 相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂
601 コア部
602 コア部
603 ファイバー部
611 第1ブロック
612 第2ブロック
613 ベース
614 支柱
615 回転子
621 2x2スイッチモジュール
622 導波路モジュール
631 2x2スイッチモジュール部分
632 導波路モジュール部分
633 コア部

Claims (2)

  1. 3次元構造体の製作工程において、第1の光硬化性樹脂による3次元光造形工程に引き続き、第2の光硬化性樹脂による3次元光造形工程を行い、少なくとも2種類以上の光硬化性樹脂の複合した立体的な構造体の製作を行い、
    前記第1の光硬化性樹脂が相対的に屈折率の高い光硬化性樹脂であり、前記第2の光硬化性樹脂が相対的に屈折率の低い光硬化性樹脂であり、前記第1の光硬化性樹脂による3次元光造形工程によって光導波路のコア部分の形成を行い、前記第2の光硬化性樹脂による3次元光造形工程によってクラッド領域を形成する3次元形状形成法において、
    前記第1の光硬化性樹脂による3次元光造形の工程において、3次元形状保持のための支持部分を前記第1の光硬化性樹脂の3次元構造体と同時に形成し、
    前記3次元形状保持のための支持部分が、前記コア部分を伝搬する光の波長に対して細く形成され、前記支持部分への光の漏れが低く抑えられていることを特徴とする3次元構造体の製作方法。
  2. 前記コア部分と前記支持部分との接続部の形状を面取りがたの形状とすることによって、散乱光を低く抑えることを特徴とする請求項1記載の3次元構造体の製作方法。
JP2001250359A 2001-08-21 2001-08-21 3次元構造体の製作方法 Expired - Fee Related JP4824221B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001250359A JP4824221B2 (ja) 2001-08-21 2001-08-21 3次元構造体の製作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001250359A JP4824221B2 (ja) 2001-08-21 2001-08-21 3次元構造体の製作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003057477A JP2003057477A (ja) 2003-02-26
JP4824221B2 true JP4824221B2 (ja) 2011-11-30

Family

ID=19079193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001250359A Expired - Fee Related JP4824221B2 (ja) 2001-08-21 2001-08-21 3次元構造体の製作方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4824221B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004069395A (ja) 2002-08-02 2004-03-04 Nec Corp マイクロチップ、マイクロチップの製造方法および成分検出方法
JP5931921B2 (ja) * 2011-01-12 2016-06-08 ケンブリッジ エンタープライズ リミテッド 複合光学材料の製造
EP3130950A1 (de) * 2015-08-10 2017-02-15 Multiphoton Optics Gmbh Strahlumlenkelement sowie optisches bauelement mit strahlumlenkelement
KR101966332B1 (ko) * 2017-02-27 2019-04-08 주식회사 캐리마 3d광도파로를 갖는 물체
US10543645B2 (en) * 2017-09-15 2020-01-28 The Boeing Company Feedstock lines for additive manufacturing of an object

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59223408A (ja) * 1983-06-02 1984-12-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高分子導光路の製作方法
JPS60247515A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Oosakafu 光学的造形法
WO1992000185A1 (en) * 1990-06-22 1992-01-09 Martin Russell Harris Optical waveguides
JPH0588121A (ja) * 1991-09-30 1993-04-09 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 立体光線路の接続部品及びその製造方法
JP2600047B2 (ja) * 1992-11-24 1997-04-16 大阪府 光学的造形法
JPH06337320A (ja) * 1993-05-27 1994-12-06 Agency Of Ind Science & Technol 光導波路作製法および装置
JP3500962B2 (ja) * 1998-05-15 2004-02-23 株式会社豊田中央研究所 光分波器の製造方法
JP2000006252A (ja) * 1998-06-25 2000-01-11 Nakakin:Kk 光造形物の製造方法
JP2000006251A (ja) * 1998-06-25 2000-01-11 Nakakin:Kk 光造形物の製造方法
JP2000141498A (ja) * 1998-11-16 2000-05-23 Nissan Motor Co Ltd 立体モデルの光学的造形方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003057477A (ja) 2003-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Gonzalez‐Hernandez et al. Micro‐optics 3D printed via multi‐photon laser lithography
US5114513A (en) Optical device and manufacturing method thereof
TWI395978B (zh) 光學元件與製造光學元件的方法
JP2003057476A (ja) 光導波路デバイス製造用治具及びそれを用いた光導波路デバイスの製造方法並びにその光導波路デバイス
KR20180039704A (ko) 빔 배향 요소를 갖는 광학 컴포넌트, 이의 제조를 위한 방법, 및 컴포넌트에 대해 적합한 빔 배향 요소들
CN104395785B (zh) 光学元件、光学元件的制造方法和光学装置
US20040201890A1 (en) Microlens including wire-grid polarizer and methods of manufacture
JP2022505052A (ja) ポリマー製品を鋳造するための方法および装置
JP4824221B2 (ja) 3次元構造体の製作方法
JP3456685B2 (ja) 導波路型光学素子の作製法
US20050064343A1 (en) Method for fabricating complex three-dimensional structures on the submicrometric scale by combined lithography of two resists
Grabulosa et al. Additive 3D photonic integration that is CMOS compatible
JP2003240989A (ja) フォトニック結晶の作製方法、マスク、マスク作製方法、及び光デバイス作製方法
JP2013045028A (ja) 分岐光導波路の製造方法及び光デバイス
Stender et al. Industrial-Scale Fabrication of Optical Components Using High-Precision 3D Printing: Aspects-Applications-Perspectives
US5376507A (en) Method to produce nonlinear optical microcomponents
US6917474B2 (en) Lens array and method for fabricating the lens array
JP7441091B2 (ja) 多段光フィルタ装置、及び、多段光フィルタ装置の製造方法
JPH03200106A (ja) 光導波路レンズ
JP2020067522A (ja) 光接続構造およびその形成方法
JPH11170377A (ja) 光造形加工法、該加工法を用いた可動装置および光造形加工装置
KR101375638B1 (ko) 집적형 분광분석 모듈과 그 제조 방법
JPS6039201B2 (ja) 集積光結合装置の製造方法
JP2942825B1 (ja) 面外分岐ミラーを有する光集積回路の製造方法
US7989149B2 (en) Mold core and method for fabricating mold core

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20040303

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080516

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20091113

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091201

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100622

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110426

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110622

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110906

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110908

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees