JP4816362B2 - Manufacturing method of electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、一面に検出部を有する電子部品と基材とをバンプを介して電気的に接続するとともに、電子部品の検出部を接着フィルムで保護してなる電子装置の製造方法に関し、たとえば、角速度や加速度などの力学量を検出するようなセンサ装置に適用できる。 The present invention relates to an electronic component and a substrate having a detecting portion on one side as well as electrically connected through the bumps, in the manufacture how the electronic device comprising protecting the detection unit of the electronic component in the adhesive film, For example, the present invention can be applied to a sensor device that detects a mechanical quantity such as angular velocity or acceleration.
従来より、この種の電子装置としては、たとえば、電子部品としてその一面に可動部を有するセンサチップを用い、基材として回路チップを用いたセンサ装置が知られている。具体的には、加速度、角速度あるいは圧力などの力学量により変位する検出部としての可動部を、半導体基板の一面側に形成してなるセンサチップを用いた加速度センサ、角速度センサ、圧力センサなどが提案されている。 Conventionally, as this type of electronic device, for example, a sensor device using a sensor chip having a movable part on one surface as an electronic component and a circuit chip as a base material is known. Specifically, an acceleration sensor, an angular velocity sensor, a pressure sensor, etc. using a sensor chip in which a movable portion as a detection portion that is displaced by a mechanical quantity such as acceleration, angular velocity, or pressure is formed on one surface side of a semiconductor substrate. Proposed.
ここで、本出願人は先に特願2005−277696において、このようなセンサ装置として、電子部品としてのセンサチップの可動部側を、基材としての回路チップに対向させた状態で、これら両チップを重ね合わせるとともに、離間する両チップ間にバンプを介在させ、このバンプを介して両チップを電気的に接続したものを提案している。 Here, the applicant previously described in Japanese Patent Application No. 2005-277696, as such a sensor device, the movable part side of a sensor chip as an electronic component is opposed to a circuit chip as a base material. Proposals have been made in which chips are stacked and bumps are interposed between the two spaced apart chips, and the two chips are electrically connected via the bumps.
そして、このようなバンプによる電気的接続部を構成することにより、従来一般に行われていたワイヤによる電気的接続よりも、衝撃等による変形の範囲が狭くなり、衝撃等による両チップの電気的接続部の寄生容量の変化を極力抑制している。 And, by configuring such an electrical connection portion using bumps, the range of deformation due to impact or the like becomes narrower than electrical connection using wires that has been conventionally performed, and electrical connection between both chips due to impact or the like. The change of the parasitic capacitance of the part is suppressed as much as possible.
さらに、上記先願においては、センサチップのうち回路チップに対向する面に、電気絶縁性を有するフィルム状の接着フィルムを貼り付けるとともに、この接着フィルムのうち可動部に対応する部位を、可動部とは空隙を有して離れさせることで中空部を構成したものとしている。 Furthermore, in the above-mentioned prior application, an adhesive film-like adhesive film having an electrical insulating property is attached to the surface of the sensor chip that faces the circuit chip, and a portion corresponding to the movable part of the adhesive film is moved to the movable part. Means that the hollow portion is formed by separating the gap.
このような中空部は、たとえばプレス加工などにより接着フィルムに凹部を形成して可動部と離間させたものであり、それによって、可動部の動作を確保しつつ適切に可動部の保護を行えるようにしている。 Such a hollow portion is formed by forming a concave portion in the adhesive film by, for example, pressing and separating from the movable portion, so that the movable portion can be appropriately protected while ensuring the operation of the movable portion. I have to.
この先願におけるセンサ装置は、次のようにして製造している。一面に可動部を有するセンサチップと回路チップとを用意し、まず、センサチップの一面のうち可動部以外の部位にバンプを設ける。次に、フィルム貼り付け工程では、可動部に対向する部分に中空部を有する接着フィルムを、センサチップの一面に対してバンプおよび可動部を覆うように貼り付ける。 The sensor device in this prior application is manufactured as follows. A sensor chip having a movable part on one side and a circuit chip are prepared. First, bumps are provided on a part of one side of the sensor chip other than the movable part. Next, in the film affixing step, an adhesive film having a hollow part at a part facing the movable part is affixed to one surface of the sensor chip so as to cover the bump and the movable part.
その後、バンプ接合工程では、センサチップの一面を回路チップに対向させ、両チップを重ね合わせ、バンプが接着フィルムを越えて回路チップに当たるようにする。具体的には、熱などで軟化させた接着フィルムをバンプが突き破ることで、バンプと回路チップとを接触させる。その後、超音波接合や熱圧着などにより、上記両チップをバンプによって電気的に接続することでセンサ装置を完成させるようにしている。 Thereafter, in the bump bonding step, one surface of the sensor chip is opposed to the circuit chip, the two chips are overlapped, and the bumps contact the circuit chip beyond the adhesive film. Specifically, the bump breaks through the adhesive film softened by heat or the like, thereby bringing the bump and the circuit chip into contact with each other. After that, the sensor device is completed by electrically connecting the two chips with bumps by ultrasonic bonding or thermocompression bonding.
しかしながら、本発明者の検討によれば、上記した先願では、センサチップに接着フィルムを貼り付けた後、バンプ接合工程において、上記のバンプ接合を行うときの加熱などによる接着フィルムの低粘度化や、超音波接合による振動などにより、中空部の形状がくずれてしまうという問題が生じることがわかった。 However, according to the inventor's study, in the above-described prior application, after the adhesive film is attached to the sensor chip, the adhesive film is reduced in viscosity by heating or the like when performing the bump bonding in the bump bonding step. Further, it has been found that there is a problem that the shape of the hollow portion is broken due to vibration caused by ultrasonic bonding.
中空部の形状が崩れてしまうと、接着フィルムが可動部に接触する可能性が高くなり、その結果、可動部の動作特性に悪影響を及ぼすことになる。 If the shape of the hollow portion is broken, the possibility that the adhesive film comes into contact with the movable portion is increased, and as a result, the operation characteristics of the movable portion are adversely affected.
そして、上記した問題は、上記先願におけるセンサ装置に限らず、一面に検出部を有する電子部品を、当該一面が基材に対向した状態でバンプを介して基材に重ね、これら両者をバンプによって離間させた状態で電気的に接続した電子装置であっても、同様に発生すると考えられる。 And the above-mentioned problem is not limited to the sensor device in the previous application, but an electronic component having a detection part on one side is overlaid on the base material via a bump with the one side facing the base material, and both of them are bumped. Even in the case of electronic devices that are electrically connected in a state of being separated by each other, it is considered that the same occurs.
つまり、このような電子装置においても、電子部品の一面に上記接着フィルムを貼り付けるとともに、接着フィルムのうち検出部に対応する部位に、当該検出部とは空隙を有して離れた中空部を構成した場合には、上記した電子部品への接着フィルムの貼り付けた後において、バンプ接合時の熱や振動などによる中空部の形状くずれ、という問題が生じる可能性がある。 That is, even in such an electronic device, the adhesive film is attached to one surface of the electronic component, and a hollow portion separated from the detection portion with a gap is formed in a portion corresponding to the detection portion of the adhesive film. In the case of the configuration, there is a possibility that the hollow portion may be deformed due to heat or vibration during bump bonding after the adhesive film is attached to the electronic component.
この対策として、接着フィルムとして粘度が高くて硬い材料を使用することが考えられるが、材料が硬いと電子部品と基材との接合時におけるバンプ接合が阻害されてしまう。つまり、接着フィルムが硬いと、バンプ接合時におけるバンプによる接着フィルムの突き破りが不十分となり、接着フィルムを構成する材料が、バンプと基材との間に残り、バンプ接合が不十分となる。 As a countermeasure, it is conceivable to use a hard material having a high viscosity as the adhesive film. However, if the material is hard, bump bonding at the time of bonding the electronic component and the substrate is hindered. In other words, if the adhesive film is hard, the adhesive film is not sufficiently broken through by the bumps at the time of bump bonding, and the material constituting the adhesive film remains between the bumps and the base material, resulting in insufficient bump bonding.
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、一面に検出部を有する電子部品と基材とをバンプを介して電気的に接続するとともに、電子部品の検出部を接着フィルムの中空部で保護してなる電子装置の製造方法において、電子部品と基材との接合時におけるバンプ接合性の確保と中空部の形状確保とを両立できるようにすることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and electrically connects an electronic component having a detection portion on one surface and a substrate through bumps, and the detection portion of the electronic component is a hollow portion of an adhesive film. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an electronic device that is protected by the above-described method, in which it is possible to achieve both ensuring of bump bondability and securing of the shape of a hollow portion when an electronic component and a substrate are bonded.
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、接着フィルム(400)として、第1の層(401)と第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)とが積層されてなり、検出部(10)に対向する部位では第1の層(401)に開口部が形成されるとともに当該開口部を第2の層(402)が覆う形で中空部(410)が構成されるものを用い、
この接着フィルム(400)を、第1の層(401)側にて電子部品(100)の一面に貼り付けて、中空部(410)を第2の層(402)よりも硬い第1の層(401)により支持するとともに、第1の層(401)にバンプ(80)を食い込ませるようにし、
続いて、電子部品(100)と基材(200)とを重ね合わせる工程では、バンプ(80)が接着フィルム(400)における第2の層(402)を突き抜けて基材(200)側に当たるようにすることを特徴とする。
To achieve the above object, according to the invention of
The adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100) on the first layer (401) side , and the hollow portion (410) is harder than the second layer (402). (401) and the first layer (401) is made to bite the bump (80),
Subsequently, in the step of superimposing the electronic component (100) and the base material (200), the bump (80) penetrates the second layer (402) of the adhesive film (400) and hits the base material (200) side. a feature that you.
それによれば、接着フィルム(400)を、第1の層(401)と第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)との2層構造としているから、電子部品(100)と基材(200)との接合時に、バンプ(80)が接着フィルム(400)を越えることが容易になり、また、中空部(410)は第2の層(402)よりも硬い第1の層(401)にて支持される形となるため、中空部(410)の形状を適切に保持できる。つまり、電子部品(100)と基材(200)との接合時におけるバンプ接合性の確保と中空部(410)の形状確保とを両立できる。 According to this, since the adhesive film (400) has a two-layer structure of the first layer (401) and the second layer (402) that is softer than the first layer (401), the electronic component (100) It becomes easy for the bump (80) to exceed the adhesive film (400) during bonding of the substrate (200) to the substrate (200), and the hollow portion (410) is harder than the second layer (402) . Since the shape is supported by the layer (401), the shape of the hollow portion (410) can be appropriately maintained. That is, it is possible to ensure both the bump bonding property and the shape of the hollow portion (410) when the electronic component (100) and the base material (200) are bonded.
この場合、請求項2に記載の発明のように、請求項1に記載の電子装置の製造方法において、接着フィルム(400)としては、第1層(401)のうちバンプ(80)に対応する部位にバンプ(80)が入り込むことの可能な大きさの貫通穴(403)を設けたものとし、
接着フィルム(400)を電子部品(100)の一面に貼り付ける工程では、上記貫通穴(403)を介して第1の層(401)にバンプ(80)を食い込ませるようにすれば、フィルム貼り付けのときに、第1の層(401)にバンプ(80)を食い込ませやすくできる。
In this case, as in the invention described in claim 2, in the method of manufacturing the electronic device described in
In the step of attaching the adhesive film (400) to one surface of the electronic component (100) , if the bump (80) is bitten into the first layer (401) through the through hole (403), the film is attached. At the time of attaching, the bump (80) can be easily bited into the first layer (401).
また、請求項3に記載の発明では、接着フィルム(400)として、第1の層(401)と第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)とが積層されてなり、検出部(10)に対向する部位では第1の層(401)に開口部が形成されるとともに当該開口部を第2の層(402)が覆う形で中空部(410)が構成されるものを用い、
電子部品(100)の一面に設けられたバンプ(80)の高さ寸法を、接着フィルム(400)の第1の層(401)および第2の層(402)の合計厚さ寸法よりも大きくし、
接着フィルム(400)を電子部品(100)の一面に貼り付ける工程では、接着フィルム(400)を、第1の層(401)側にて電子部品(100)の一面に貼り付けて、中空部(410)を第2の層(402)よりも硬い第1の層(401)により支持するとともに、バンプ(80)が第1の層(401)および第2の層(402)を突き抜けて、接着フィルム(400)からバンプ(80)の先端部が突出するようにし、
続いて、電子部品(100)と基材(200)とを重ね合わせる工程では、バンプ(80)の先端部を基材(200)側に当てるようにすることを特徴とする。
Further, in the invention according to claim 3, as an adhesive film (400), a first layer (401) and the first layer (401) softer than the second layer (402) and it is being laminated The hollow portion (410) is configured in such a manner that an opening is formed in the first layer (401) and the opening is covered by the second layer (402) at a portion facing the detection portion (10). Use things
The height of the bump (80) provided on one surface of the electronic component (100), than the total thickness of the first layer (401) and the second layer of the adhesive film (400) (402) Make it bigger
In the step of attaching the adhesive film (400) to one surface of the electronic component (100), the adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100) on the first layer (401) side to form a hollow portion. (410) is supported by the first layer (401) harder than the second layer (402), and the bump (80) penetrates the first layer (401) and the second layer (402), The tip of the bump (80) protrudes from the adhesive film (400),
Subsequently, in the step of superimposing the electronic component (100) and the substrate (200), and feature to make it hit the substrate (200) side the leading end of the bump (80).
それによれば、中空部(410)は第2の層(402)よりも硬い第1の層(401)にて支持されるため、中空部(410)の形状を適切に保持できる。しかも、接着フィルム(400)を電子部品(100)の一面に貼り付けるときに、第1の層(401)が硬いものであってもバンプ(80)の先端部が接着フィルム(400)から確実に突出するため、電子部品(100)と基材(200)との接合時に、バンプ(80)を基材(200)に容易に当てることができる。そのため、電子部品(100)と基材(200)との接合時におけるバンプ接合性の確保と中空部(410)の形状確保とを両立できる。 According to this, since the hollow part (410) is supported by the first layer (401) harder than the second layer (402), the shape of the hollow part (410) can be appropriately maintained. Moreover, when the adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100), the tip of the bump (80) is surely secured from the adhesive film (400) even if the first layer (401) is hard. for projecting, at the time of bonding between the electronic component (100) and the substrate (200), the bump (80) can easily shed it to the substrate (200). Therefore, it is possible to ensure both of the bump bonding property and the shape of the hollow portion (410) when the electronic component (100) and the base material (200) are bonded.
また、請求項4に記載の発明では、接着フィルム(400)として、第1の層(401)と第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)とが積層されてなり、検出部(10)に対向する部位では第1の層(401)に開口部が形成されるとともに当該開口部を第2の層(402)が覆う形で中空部(410)が構成されるものを用い、
さらに、接着フィルム(400)は第2の層(402)のうちバンプ(80)に対向する部位にバンプ(80)が通り抜け可能な大きさの貫通穴(404)を形成したものとし、
この接着フィルム(400)を、第1の層(401)側にて電子部品(100)の一面に貼り付けて、中空部(410)を第2の層(402)よりも硬い第1の層(401)により支持するとともに、第1の層(401)にバンプ(80)を食い込ませるようにし、
続いて、電子部品(100)と基材(200)とを重ね合わせる工程では、バンプ(80)が接着フィルム(400)における第2の層(402)の貫通穴(404)を通り抜けて基材(200)側に当たるようにすることを特徴とする。
Further, in the invention according to claim 4, as an adhesive film (400), a first layer (401) and the first layer (401) softer than the second layer (402) and it is being laminated , in a position facing the detection unit (10) is Ru is configured hollow portion (410) with a first layer of the opening with an opening is formed in the (401) a second layer (402) covers the form Use things
Furthermore, the adhesive film (400) is assumed to forming the bumps (80) through a size capable of through holes (404) in a portion facing the bump (80) of the second layer (402),
The adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100) on the first layer (401) side , and the hollow portion (410) is harder than the second layer (402). (401) and the first layer (401) is made to bite the bump (80),
Subsequently, in the step of superimposing the electronic component (100) and the base material (200), the bump (80) passes through the through hole (404) of the second layer (402) in the adhesive film (400) and the base material. (200) to make it strike the side and feature.
それによれば、中空部(410)は第2の層(402)よりも硬い第1の層(401)にて支持されるため、中空部(410)の形状を適切に保持できる。しかも、バンプ(80)が接着フィルム(400)における第2の層(402)の貫通穴(404)を通り抜けて基材(200)側に当たるから、電子部品(100)と基材(200)との接合時に、バンプ(80)が接着フィルム(400)を容易に越えることができる。そのため、電子部品(100)と基材(200)との接合時におけるバンプ接合性の確保と中空部(410)の形状確保とを両立できる。 According to this, since the hollow part (410) is supported by the first layer (401) harder than the second layer (402), the shape of the hollow part (410) can be appropriately maintained. Moreover, since the bump (80) passes through the through hole (404) of the second layer (402) in the adhesive film (400) and hits the base material (200), the electronic component (100) and the base material (200) At the time of bonding , the bump (80) can easily exceed the adhesive film (400). Therefore, we achieve both shape ensuring bump bonding Ensuring the hollow portion during the bonding of the electronic component (100) and the substrate (200) (410).
また、請求項5に記載の発明のように、請求項1ないし4のいずれか1つに記載の電子装置の製造方法において、接着フィルム(400)は、プレス加工によって第1および第2の層(401、402)が第1の層(401)側から第2の層(402)側に向かって凸となるドーム形状をなすように形成されて中空部(410)を構成するものであってもよい。 According to a fifth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an electronic device according to any one of the first to fourth aspects, the adhesive film (400) is formed by pressing the first and second layers. (401, 402) is not more that it is formed so as to form a first layer (401) side from the second layer (402) is convex toward the side dome shape constituting a hollow portion (410) Also good.
それによれば、中空部(410)と検出部(10)との距離を大きくとることができるため、中空部(410)の形状をより一層適切に保持できる。 According to this, since the distance between the hollow part (410) and the detection part (10) can be increased , the shape of the hollow part (410) can be more appropriately maintained .
なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。 In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each means described in the claim and this column is an example which shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, parts that are the same or equivalent to each other are given the same reference numerals in the drawings in order to simplify the description.
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る電子装置としての角速度センサ装置S1の全体概略断面構成を示す図である。また、図2は、図1に示される角速度センサ装置S1における回路チップ200のバンプ80側の面構成をセンサチップ100を透過した状態で示す概略平面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing an overall schematic cross-sectional configuration of an angular velocity sensor device S1 as an electronic device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic plan view showing a surface configuration of the
[構成等]
本実施形態の角速度センサ装置S1は、大きくは、図1に示されるように、電子部品としての角速度センサチップ100と、基材としての回路チップ200とこれらを収納するパッケージ300とを備えて構成されている。
[Configuration]
As shown in FIG. 1, the angular velocity sensor device S1 of the present embodiment is roughly configured to include an angular
センサチップ100は、ここでは角速度検出素子として構成されるものである。一般的な半導体角速度センサにおけるものと同様に、半導体基板などの基板に対して周知のマイクロマシン加工を施すことにより、センサチップ100の一面には、検出部としての可動部10が形成されている。
Here, the
センサチップ100の具体的構成について、簡単に述べておく。たとえば、センサチップ100を構成する基板としては、第1の半導体層としての第1シリコン層上に絶縁層としての酸化膜を介して第2の半導体層としての第2シリコン層を貼り合わせてなるSOI(シリコン−オン−インシュレータ)基板を採用することができる。
A specific configuration of the
そして、この基板の表層、たとえばSOI基板における第2シリコン層に対して、トレンチエッチングおよびリリースエッチングなどを施すことにより、検出部としての可動部10を形成している。この可動部10は、バネ性を有する梁などによりセンサチップ100を構成する基板に連結されたものである。
And the
そして、センサチップ100においては、可動部10は一方向に駆動振動するようになっており、この駆動振動のもと、角速度が印加されたときに、コリオリ力によって駆動振動の方向とは直交する方向へ、可動部10は検出振動するようになっている。そして、この検出振動による可動部10の変位状態を容量変化などとして検出することで、上記角速度の検出が可能となっている。
In the
ここで、センサチップ100においては、可動部10が形成されている上記一面の適所に、上記可動部10や各種の図示しない電極などに電圧を印加したり、信号を取り出したりするためのパッド70が設けられている。
Here, in the
図1、図2に示される例では、可動部10はセンサチップ100の一面の中央部に形成されており、パッド70はセンサチップ100の一面の周辺部に設けられている。このようなパッド70は、たとえばアルミなどからなる。そして、このパッド70には、図1に示されるように、Au(金)バンプやはんだバンプなどからなる金属製のバンプ80が接続されるようになっている。
In the example shown in FIGS. 1 and 2, the
なお、このバンプ80は、一般的なスタッドバンプの形成方法やはんだバンプの形成方法、または、Auなどの導体ペーストを用いたスクリーン印刷、あるいは、Auなどのナノペーストを用いたインクジェット法による印刷など、各種の方法を採用することにより、形成することができる。
The
それにより、図1に示されるように、電子部品としてのセンサチップ100は、その一面すなわち検出部としての可動部10側の面を、基材としての回路チップ200に対向させた状態で、バンプ80を介して回路チップ200に重ねられた状態となっている。そして、これらセンサチップ100と回路チップ200とは、バンプ80によって電気的に接続されている。
Thereby, as shown in FIG. 1, the
ここでは、図1に示されるように、センサチップ100のパッド70と回路チップ200のパッド210とがバンプ80を介して接続されている。また、本角速度センサ装置S1では、バンプ80によってセンサチップ100の一面と回路チップ200との間の間隔(すなわち両チップ間の高さ)が確保されているため、可動部10と回路チップ200とは離間している。
Here, as shown in FIG. 1, the
この回路チップ200は、たとえばシリコン基板等に対してMOSトランジスタやバイポーラトランジスタ等が、周知の半導体プロセスを用いて形成されているものである。そして、回路チップ200は、バンプ80を介して、センサチップ100に対して可動部10を駆動させるための電圧などを送ったり、センサチップ100から送られてくる電気信号を、変換や増幅などの処理に供して外部へ出力する等の機能を有する。
In the
図1に示されるように、この回路チップ200は、パッケージ300に対してバンプ80を介して電気的および機械的に接続されている。ここで、図1に示されるように、本実施形態のパッケージ300は、内部もしくは表面などに導体材料からなる配線310を有するものであり、この配線310は外部と電気的に接続されている。
As shown in FIG. 1, the
このパッケージ300は、セラミックや樹脂などからなるものにできるが、ここではアルミナなどのセラミック層が複数積層されたセラミック積層配線基板として構成されている。このような積層配線基板は、各層の間に上記配線310が形成され、スルーホールなどにより各配線310が導通されているものである。
The
そして、図1に示されるように、回路チップ200のパッド210とパッケージ300の表面に位置する上記配線310とが、上記両チップ100、200を接続するバンプ80と同様のバンプ80により電気的・機械的に接続されている。
As shown in FIG. 1, the
ここで、図1に示される例では、パッケージ300の内部に設けられた段差部に配線310が露出しており、センサチップ100よりも一回り大きい回路チップ200の周辺部が、当該段差部に支持された形となっている。そして、本例では、この段差部にて回路チップ200のパッド210とパッケージ300の配線310とがバンプ80を介して接続されている。
Here, in the example shown in FIG. 1, the
このようにして、センサチップ100および回路チップ200と外部とは、上記バンプ80やパッケージ300の配線310を介して電気的に接続されている。そして、たとえば、回路チップ200からの出力信号はバンプ80を介してパッケージ300の配線310から外部へ送られるようになっている。
In this way, the
また、図1に示されるように、パッケージ300の開口部には蓋部(リッド)320が取り付けられ固定されており、この蓋部320によってパッケージ300の内部が封止されている。
As shown in FIG. 1, a
この蓋部320は、セラミック、樹脂、金属など材質を限定するものではなく、また、蓋部320とパッケージ300との接合は、接着や溶接など各種の接合方法が採用可能である。
The
さらに、図1、図2に示されるように、センサチップ100と回路チップ200との間においては、センサチップ100の一面に、電気絶縁性を有するフィルム状の接着フィルム400が貼り付けられている。
Furthermore, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, between the
この接着フィルム400のうち可動部(検出部)10に対向する部位すなわち可動部10を被覆する部位は、可動部10とは空隙を有して離れることで中空部410を構成している。ここで、中空部410の周囲の接着フィルム400の部分がセンサチップ100の一面に貼り付いていることにより、当該中空部410内の空間は封止されたものとなっている。
A part of the
ここでは、図1、図2に示されるように、接着フィルム400のうち可動部10に対向する部位に、可動部10から離れる方向へ凹んだ平面矩形状の凹部410が形成されている。そして、接着フィルム400のうち当該凹部410以外の部位がセンサチップ100に貼り付けられることで、凹部410が封止され、この封止された凹部410が中空部410として構成されている。
Here, as shown in FIGS. 1 and 2, a planar rectangular
また、図1、図2に示されるように、センサチップ100と回路チップ200との間にて、接着フィルム400はバンプ80の周囲に設けられ、この接着フィルム400によってバンプ80が封止されている。
1 and 2, the
また、接着フィルム400において、可動部10に対向する部位に中空部410を形成し、接着フィルム400と可動部10とを離間させ、非接触状態とすることで、可動部10の適切な動作が確保されている。また、中空部410内部が上記のように封止されていることにより、可動部10が外部から保護されている。
Moreover, in the
ここで、このような接着フィルム400としては、電気絶縁性を有する樹脂よりなるフィルムを採用できる。より具体的には、接着フィルム400としては、たとえばポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などからなるNCF(Non Contactive Film)、ACF(異方性導電性フィルム)などの樹脂フィルムを採用することができる。
Here, as such an
また、接着フィルム400の材質としては、上述したような樹脂成分に、たとえば球状をなすシリカやアルミナよりなる微粒子すなわちフィラが含有されたものであってもよい。なお、この接着フィルム400は、後述するように複数層401、402が積層されたものである。
Moreover, as a material of the
[製造方法等]
次に、本第1実施形態の角速度センサ装置S1の製造方法について、図3を参照して説明する。図3はその製造方法を示す工程図である。
[Manufacturing method]
Next, a manufacturing method of the angular velocity sensor device S1 of the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a process diagram showing the manufacturing method.
本製造方法によって製造される角速度センサ装置S1では、図3に示されるように、接着フィルム400は、センサチップ100への貼り付き部分を構成する第1の層401と中空部410を構成する第2の層402とを貼り合わせてなる。
In the angular velocity sensor device S1 manufactured by this manufacturing method, as shown in FIG. 3, the
具体的には、図3(c)、(d)に示されるように、第2の層402は、第1の層401における回路チップ200側の面に貼り付けられたものである。そして、両層401、402が積層された状態では、可動部10に対向する部位にて第1の層401に開口部が形成されており、この開口部を第2の層402が覆うような形にて中空部410が構成されている。
Specifically, as shown in FIGS. 3C and 3D, the
ここで、これら第1、第2の層401、402は、上述した接着フィルム400の材質を用いたものであるが、第1の層401の方が硬く、第2の層402の方が軟らかいものである。これは、互いの層401、402の樹脂成分の粘度や含有されるフィラの量を変えることにより、容易に行える。
Here, the first and
まず、本製造方法では、図3(a)に示されるバンプ形成工程を行う。この工程では、電子部品としてのセンサチップ100の一面のうち検出部としての可動部10を除く部位、具体的には当該可動部10の周囲に設けられたパッド70(図1参照)上に、上述した方法によりバンプ80を形成する。
First, in this manufacturing method, the bump forming step shown in FIG. In this step, on one surface of the
次に、図3(b)、(c)に示されるように、接着フィルム400をセンサチップ100の一面に貼り付ける工程、すなわちフィルム貼り付け工程を行う。この工程では、センサチップ100の一面に対して、可動部10に対向する部分に中空部410を有する接着フィルム400を貼り付ける。それによって、接着フィルム400のうち中空部410の部分にて可動部10を覆うとともに、中空部410の周囲部にてバンプ80を覆うようにする。
Next, as shown in FIGS. 3B and 3C, a process of attaching the
このとき、本製造方法におけるフィルム貼り付け工程では、まず、図3(b)に示されるように、接着フィルム400を構成する第1の層401を圧着などにより、センサチップ100の一面のうち可動部10の周囲に貼り付ける。
At this time, in the film sticking step in the present manufacturing method, first, as shown in FIG. 3B, the
ここで、第1の層401には、中空部410を形成するための上記開口部が設けられているが、この開口部は、治具を用いたパンチ加工などにより形成される。そして、第1の層401の貼り付けは、この開口部の位置と可動部10の位置とを一致させた状態で行う。また、このとき、第1の層401を加圧して貼り付けることにより、第1の層401にバンプ80を食い込ませる。
Here, the opening for forming the
次に、図3(c)に示されるように、接着フィルム400を構成する第2の層402を、第1の層401の上に搭載し、圧着などにより第1の層401と第2の層402とを貼り付ける。このとき、第1の層401の上記開口部およびバンプ80を、第2の層402で覆うようにする。
Next, as shown in FIG. 3C, the
この第2の層402の貼り付けにより、接着フィルム400の貼り付けが完了するとともに、第2の層402のうち可動部10に対向する部位にて、第1の層401の厚さ分だけ実質的に凹んだ凹部としての中空部410が形成される。
By pasting the
こうして、フィルム貼り付け工程が終了し、上記第1および第2の層401、402が積層されるとともに、可動部10に対向する部位では第1の層401に形成された開口部を第2の層402が覆う形で中空部410が構成されてなる接着フィルム400が、第1の層401側にてセンサチップ100の一面に貼り付けられるとともに、第1の層401にバンプ80が食い込んだ状態となる。
In this way, the film attaching step is completed, and the first and
次に、本製造方法では、図3(d)に示される両チップ100、200を重ね合わせ、バンプ80を介して接合するバンプ接合工程を行う。この工程では、センサチップ100の一面を回路チップ200に対向させ、この状態で、これら両チップ100、200を、バンプ80および接着フィルム400を介して重ね合わせ、バンプ80によって両チップ100、200を電気的に接続する。
Next, in this manufacturing method, a bump bonding step is performed in which both the
図3(d)では、両チップ100、200を対向させた状態を示しているが、この状態から、両チップ100、200を互いに近づけて行くことにより、上記の重ね合わせおよびバンプ接続を行う。なお、回路チップ200側へのバンプ80の形成方法については上述の通りである。
FIG. 3D shows a state in which the two
ここで、このバンプ接合工程における両チップ100、200の重ね合わせ、および、バンプ80による接続は、ヒータなどによって接着フィルム400を加熱して軟化させた状態で行うことが好ましい。
Here, in the bump bonding step, the two
それにより、上記の先願と同様に、重ね合わされた両チップ100、200の間で、センサチップ100側のバンプ80が接着フィルム400における第2の層402を突き抜けて、回路チップ200側すなわち回路チップ200のバンプ80に当たる。こうして、両チップ100、200の対向し合うバンプ80同士が、接着フィルム400を突き破って互いに接触する。
As a result, as in the previous application, the
そして、接触したバンプ80同士は、熱圧着や超音波接合などにより接続する。こうして、バンプ接合工程が終了し、それに伴い、センサチップ100と回路チップ200とがバンプ80によって電気的に接続される。また、それとともに、接着フィルム400の接着機能やバンプ接合時の加熱などによる接着フィルム400の軟化を利用して、両チップ100、200が接着フィルム400を介して機械的に接合される。
The
こうして、両チップ100、200を接合した後、回路チップ200におけるセンサチップ100の外側の周辺部に位置するバンプ80を介して、これら接合された両チップ100、200をパッケージ300に接合する。その後は、パッケージ300に対して蓋部320を取り付けパッケージ300の内部を封止する。こうして、上記図1に示される角速度センサ装置S1ができあがる。
In this way, after bonding both the
[効果等]
ところで、上記製造方法では、接着フィルム400をセンサチップ100側から比較的硬い第1の層401、比較的軟らかい第2の層402を順次積層したものとしている。そして、バンプ接合時では、第1の層401にはバンプ80は、すでに食い込んでいるので、主として突き破られる部分は、第2の層402である。
[Effects]
In the above manufacturing method, the
ここで、この第2の層402を第1の層401よりも軟らかいものとしているので、センサチップ100側のバンプ80による接着フィルム400の突き破りが容易になり、当該バンプ80と回路チップ200との接合が十分に確保される。
Here, since the
また、可動部10を被覆する中空部410は、比較的硬い第1の層401に形成された上記開口部を、比較的軟らかい第2の層402にて覆う形で構成しており、中空部410は比較的硬い第1の層401にて支持される形になる。そのため、バンプ接合工程時に、両チップ100、200の重ね合わせやバンプ80の接続の際の熱や振動などが加わっても、中空部410の形状が適切に保持される。
The
こうして、本実施形態の角速度センサ装置S1の製造方法によれば、両チップ100、200のバンプ接合工程時におけるバンプ接合性の確保と中空部410の形状確保とを両立することができる。
Thus, according to the manufacturing method of the angular velocity sensor device S1 of the present embodiment, it is possible to ensure both the bump bonding property and the shape of the
ここで、図4は、本実施形態の製造方法の別の例を示す概略断面図である。図4では、本実施形態の製造方法において、フィルム貼り付け工程にて、接着フィルム400として、上記した構成に加えて第1層401のうちバンプ80に対応する部位にバンプ80が入り込むことの可能な大きさの貫通穴403を設けたものを、センサチップ100の一面に貼り付ける。
Here, FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of the manufacturing method of the present embodiment. In FIG. 4, in the manufacturing method of the present embodiment, the
このような貫通穴403を有する第1の層401は、パンチなどによる穴あけ加工により容易に形成できる。そして、この場合、貫通穴403を有する第1の層401をセンサチップ100の一面に貼り付けるようにするが、このとき、図4に示されるように、貫通穴403を介して第1の層401にバンプ80を食い込ませる。
The
その後は、上記製造方法と同様に、第2の層402を貼り付けることにより、フィルム貼り付け工程が終了し、図4に示される状態となる。そして、この状態からは上記図3に示される製造方法と同様に、バンプ接合工程を行って両チップ100、200を接合し、これをパッケージ300に取り付けることにより、上記図1に示される角速度センサ装置S1ができあがる。
Thereafter, as in the manufacturing method described above, the
この図4に示される製造方法によっても、上記した本実施形態の製造方法の作用効果が発揮されることは言うまでもないが、さらに、この場合には、第1の層401に貫通穴403を形成することで、接着フィルム400を電子部品100の一面に貼り付けるときに、第1の層401にバンプ80を食い込ませやすくできる。
Needless to say, the manufacturing method shown in FIG. 4 also demonstrates the effects of the manufacturing method of the present embodiment described above. In this case, furthermore, a through
なお、上記図3および図4に示される製造方法では、接着フィルム400を構成する第1の層401と第2の層402とを、センサチップ100の一面に別々に順次貼り付けたが、あらかじめ、これら両層401、402を貼り付けて一体化させた後に、これをセンサチップ100の一面に貼り付けるようにしてもよい。
3 and 4, the
(第2実施形態)
図5は、本発明の第2実施形態に係る角速度センサ装置の製造方法の要部を示す工程図であり、本製造方法においてセンサチップ100の一面に接着フィルム400を貼り付けた直後の状態を示す概略断面図である。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a process diagram showing the main part of the manufacturing method of the angular velocity sensor device according to the second embodiment of the present invention, and shows a state immediately after the
本実施形態の製造方法では、上記第1実施形態に示した製造方法において、バンプ形成工程およびフィルム貼り付け工程を、変更したものであり、上記第1実施形態の製造方法との相違点を中心に述べる。 In the manufacturing method of the present embodiment, the bump forming step and the film attaching step are changed in the manufacturing method shown in the first embodiment, and the difference from the manufacturing method of the first embodiment is mainly described. In the following.
本実施形態の製造方法においても、基本的には、上記第1実施形態と同様に、バンプ形成工程を行い、次に、2層401、402からなる接着フィルム400を、1層ずつセンサチップ100の一面に貼り付けるか、もしくは、2層一体化したものをセンサチップ100の一面に貼り付ける。
Also in the manufacturing method of the present embodiment, basically, a bump forming step is performed in the same manner as in the first embodiment, and then the
ここで、本製造方法では、バンプ形成工程において、センサチップ100の一面に形成するバンプ80の高さが、フィルム貼り付け工程で貼り付けられる接着フィルム400の厚さよりも大きくなるように、バンプ80を形成する。
Here, in this manufacturing method, in the bump formation process, the
それによって、本製造方法のフィルム貼り付け工程では、センサチップ100の一面に設けられたバンプ80の高さ寸法を、接着フィルム400の厚さ寸法よりも大きくした状態で、接着フィルム400が貼り付けられる。そのため、図5に示されるように、貼り付けられた接着フィルム400からバンプ80の先端部が突出する。
Thereby, in the film attaching process of this manufacturing method, the
その後は、上記第1実施形態と同様にバンプ接合工程を行う。それにより、両チップ100、200を重ね合わせるときに、接着フィルム400から突出するバンプ80の先端部を、回路チップ200側のバンプに当てるようにする。
Thereafter, a bump bonding step is performed in the same manner as in the first embodiment. Thus, when the two
そして、上記第1実施形態と同様に、両チップ100、200を接合した後、これをパッケージ300に取り付けることにより、本実施形態においても、上記図1に示されるものと同様の角速度センサ装置S1ができあがる。
As in the first embodiment, the two
本実施形態の製造方法によれば、両チップ100、200のバンプ接合時に、図5に示されるように、バンプ80の先端部が接着フィルム400から突出しているため、接着フィルム400を硬いものとしても、容易にバンプ80を回路チップ200側に当てることができる。
According to the manufacturing method of the present embodiment, when the bumps of both the
そのため、本実施形態においては、中空部410の形状を確保するべく接着フィルム400の全体を硬いものとすることができる。したがって、本実施形態の製造方法によれば、バンプ接合工程時におけるバンプ接合性の確保と中空部410の形状確保とを両立することができる。
Therefore, in the present embodiment, the entire
そして、本実施形態の製造方法においては、上記効果の通り、接着フィルム400が硬いものであってもかまわないため、接着フィルム400の第2の層402は第1の層401よりも軟らかいものである必要はなく、ともに同じ硬さのものであってもかまわない。さらには、第1の層401と第2の層401とは同じ材質より構成されたものであってもかまわない。
And in the manufacturing method of this embodiment, since the
なお、本実施形態の製造方法においては、接着フィルム400は、上記図5に示されるような2層401、402よりなるものでなくてもよく、1層のみよりなるものであってもよい。この場合には、フィルム貼り付け工程において、センサチップ100の一面に設けられたバンプ80の高さ寸法を、この1層よりなる接着フィルムの厚さ寸法よりも大きくすればよい。
In the manufacturing method of the present embodiment, the
(第3実施形態)
図6は、本発明の第3実施形態に係る角速度センサ装置の製造方法の要部を示す工程図であり、本製造方法においてセンサチップ100の一面に接着フィルム400を貼り付けた直後の状態を示す概略断面図である。
(Third embodiment)
FIG. 6 is a process diagram showing the main part of the manufacturing method of the angular velocity sensor device according to the third embodiment of the present invention, and shows a state immediately after the
本実施形態の製造方法では、上記第1実施形態に示した製造方法において、フィルム貼り付け工程を変更したものであり、上記第1実施形態の製造方法との相違点を中心に述べる。 In the manufacturing method of the present embodiment, the film attaching step is changed in the manufacturing method shown in the first embodiment, and the difference from the manufacturing method of the first embodiment will be mainly described.
本実施形態の製造方法においても、基本的には、上記第1実施形態と同様に、バンプ形成工程を行う。次に、フィルム貼り付け工程では、図6に示されるように、上記第1実施形態と同様に、接着フィルム400を構成する第1の層401を、センサチップ100の一面に貼り付ける。
Also in the manufacturing method of the present embodiment, basically, the bump forming step is performed as in the first embodiment. Next, in the film attaching step, as shown in FIG. 6, the
次に、第1の層401の上に、第2の層402を貼り付けて中空部410を形成するが、本実施形態では、第2の層402として、パンチを用いた穴あけ加工などによりバンプ80に対向する部位に、バンプ80が通り抜け可能な大きさの貫通穴404が形成されたものを、貼り付ける。
Next, the
こうして、本製造方法のフィルム貼り付け工程が終了し、図6に示されるように、積層された第1および第2の層401、402によって中空部410が形成されるとともに上記貫通穴404が形成されてなる接着フィルム400が、第1の層401側にてセンサチップ100の一面に貼り付けられるとともに、第1の層401にバンプ80が食い込んだ状態となる。
Thus, the film attaching process of the present manufacturing method is completed, and as shown in FIG. 6, the
その後は、上記第1実施形態と同様にバンプ接合工程を行う。それにより、両チップ100、200を重ね合わせるときに、センサチップ100側のバンプ80が、接着フィルム400における第2の層402の貫通穴404を通り抜けて回路チップ200側のバンプに当たるようにする。つまり、本製造方法では、バンプ接合時にバンプ80が接着フィルム400を突き破ることが、実質的に不要となる。
Thereafter, a bump bonding step is performed in the same manner as in the first embodiment. Thereby, when the two
そして、上記第1実施形態と同様に、両チップ100、200を接合した後、これをパッケージ300に取り付けることにより、本実施形態においても、上記図1に示されるものと同様の角速度センサ装置S1ができあがる。
As in the first embodiment, the two
本実施形態の製造方法によれば、両チップ100、200のバンプ接合時に、中空部410の形状を適切に保持するべく第1の層401と第2の層402とを硬いものとしても、第2の層402の貫通穴404を介して、バンプ80が接着フィルム400を容易に越えることができる。そのため、バンプ接合時におけるバンプ接合性の確保と中空部410の形状確保とを両立することができる。
According to the manufacturing method of the present embodiment, even when the
そして、本実施形態の製造方法においては、上記効果の通り、接着フィルム400の2層401、402とも硬いものであってもかまわないため、第2の層402は第1の層401よりも軟らかいものである必要はなく、ともに同じ硬さであったり、同じ材質であったりしてもかまわない。
And in the manufacturing method of this embodiment, since the two
ここで、図7は、本実施形態の製造方法の別の例を示す概略断面図である。図7に示される製造方法では、フィルム貼り付け工程において、接着フィルム400として、第2の層402だけでなく、第1の層401のうち第2の層402の貫通穴404に対応する部位にもバンプ80が通り抜け可能な大きさの貫通穴403を設けたものを、センサチップ100の一面に貼り付ける。
Here, FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another example of the manufacturing method of the present embodiment. In the manufacturing method shown in FIG. 7, in the film attaching step, not only the
このような貫通穴403を有する第1の層401は、パンチなどによる穴あけ加工により容易に形成できる。そして、この場合、貫通穴403を有する第1の層401をセンサチップ100の一面に貼り付けるが、このとき、図7に示されるように、貫通穴403を介して第1の層401にバンプ80を食い込ませる。
The
その後は、上記製造方法と同様に、第2の層402を貼り付けることにより、フィルム貼り付け工程が終了し、図7に示されるように、両層401、402の両貫通穴403、403が連通し、この連通した穴の内部にバンプ80が配置された状態となる。この後は、上記した本実施形態の製造方法と同様である。
Thereafter, as in the above manufacturing method, the
この図7に示される例の場合でも、上記した本実施形態の製造方法の作用効果が発揮されることは言うまでもないが、さらに、第1の層401に形成された貫通穴403によって、第1の層401にバンプ80を食い込ませやすくできる。
Even in the case of the example shown in FIG. 7, it goes without saying that the operational effects of the manufacturing method of the present embodiment described above are exerted, and further, the
また、両チップ100、200の重ね合わせ工程では、センサチップ100側のバンプ80は両貫通穴403、404を介して回路チップ200に臨んだ形となり、当該バンプ80と回路チップ200との間に、実質的に接着フィルム400が存在しない形となるので、バンプ接合性の更なる向上が期待できる。
Further, in the overlapping process of both the
なお、本実施形態においても、上記したように2層401、402からなる接着フィルム400を、1層ずつセンサチップ100の一面に貼り付けてもよいが、上記実施形態と同様に、予め2層一体化したものをセンサチップ100の一面に貼り付ける方法も採用することが可能である。
Also in this embodiment, as described above, the
(第4実施形態)
図8は、本発明の第4実施形態に係る角速度センサ装置の製造方法の要部を示す工程図であり、本製造方法に用いる接着フィルム400の概略断面図である。
(Fourth embodiment)
FIG. 8 is a process diagram showing the main part of the manufacturing method of the angular velocity sensor device according to the fourth embodiment of the present invention, and is a schematic sectional view of the
本実施形態の製造方法では、上記第1実施形態に示した製造方法において、フィルム貼り付け工程前の接着フィルム400の中空部410に加工を施したことが相違するものであり、ここでは、その相違点を中心に述べる。
The manufacturing method of this embodiment is different from the manufacturing method shown in the first embodiment in that the
本実施形態の製造方法では、上記第1実施形態と同様に、まず、バンプ形成工程を行い、次に、フィルム貼り付け工程によって、2層401、402からなる接着フィルム400をセンサチップ100の一面に貼り付ける。
In the manufacturing method of the present embodiment, as in the first embodiment, first, a bump forming process is performed, and then the
ここで、本製造方法では、図8に示されるように、接着フィルム400として、第1の層401と第2の層402とが積層されてなるとともに、プレス加工によって第1および第2の層401、402が第1の層401側から第2の層402側に向かって凸となるドーム形状をなすように中空部410を作成したものを形成する。
Here, in this manufacturing method, as shown in FIG. 8, the
その後、フィルム貼り付け工程では、この図8に示される接着フィルム400を、第1の層401側にてセンサチップ100の一面に貼り付ける。その後は、上記第1実施形態と同様にバンプ接合工程を行う。
Thereafter, in the film attaching step, the
それにより、両チップ100、200を重ね合わせるときに、センサチップ100側のバンプ80が接着フィルム400を突き破って、回路チップ200側のバンプに当たるようにする。
Thus, when the two
そして、上記第1実施形態と同様に、両チップ100、200を接合した後、これをパッケージ300に取り付けることにより、本実施形態においても、上記図1に示されるものと同様の角速度センサ装置S1ができあがる。
As in the first embodiment, the two
本実施形態の製造方法によれば、図8に示されるように、フィルム貼り付け工程の前に予め、接着フィルム400の中空部410をドーム形状に加工しておくことにより、中空部410と可動部10との距離を、上記第1実施形態よりも大きくとることができる。そのため、接着フィルム400を硬いものとしなくても中空部410の形状を適切に保持できる。
According to the manufacturing method of the present embodiment, as shown in FIG. 8, the
そして、接着フィルム400を硬いものとしなくてもよいことから、バンプ接合時におけるバンプ80による接着フィルム400の突き破りを、従来通りのレベルで行うことができ、従来通りのバンプ接合性を実現できる。そのため、本実施形態の製造方法によれば、バンプ接合時におけるバンプ接合性の確保と中空部410の形状確保とを両立することができる。
And since it is not necessary to make the
そして、本製造方法は、このような効果を持つことから、接着フィルム400を構成する第1の層401と第2の層402との硬さを異ならせる必要はなく、同じものとしてもよい。ただし、本実施形態においても、上記第1実施形態と同様に、第1の層401よりも第2の層402の方が軟らかい接着フィルム400を用いてもよく、それによる上記効果が期待できる。
And since this manufacturing method has such an effect, it is not necessary to make the hardness of the
また、図9、図10、および図11は、それぞれ、本実施形態の製造方法に用いる接着フィルム400の第1の変形例、第2の変形例、および第3の変形例を示す概略断面図である。
9, FIG. 10, and FIG. 11 are schematic cross-sectional views showing a first modification, a second modification, and a third modification, respectively, of the
本実施形態の接着フィルム400としては、上記図8およびこれら図9〜図11に示されるように、フィルム貼り付け工程前の状態において、プレス加工によって第1および第2の層401、402が第1の層401側から第2の層402側に向かって凸となるドーム形状をなすように中空部410を作成されたものであればよい。
As the
そして、図9に示される第1の変形例では、上記図7に示されるものと同様に、第1および第2の層401、402の両方に対してバンプ80が通り抜け可能な貫通穴403、404を形成している。
In the first modification shown in FIG. 9, the through
また、図10に示される第2の変形例のように、第2の層402のみに貫通穴404を設けたり、図11に示される第3の変形例のように、第1の層401のみに貫通穴403を設けてもよい。これら各変形例に設けたような貫通穴403、404の作成方法は、上述の通りである。
Further, as in the second modification example shown in FIG. 10, a through
そして、これら変形例においても、上記したドーム状の中空部410による本実施形態の効果が発揮されることに加えて、上記実施形態において述べたような貫通穴403、404による効果が期待できる。
Also in these modified examples, in addition to the effect of the present embodiment by the dome-shaped
また、本実施形態の製造方法では、フィルム貼り付け工程前に、上記図8〜図11に示されるような接着フィルム400を形成するが、この形成方法としては、2層401、402を貼り付けた後に一括してプレス加工してドーム状の中空部410を形成してもよいし、1層ずつプレス加工してドーム形状を形成した後、各層401、402を貼り付けて2層としてもよい。
Further, in the manufacturing method of the present embodiment, the
(第5実施形態)
ところで、上記各実施形態の製造方法では、当該製造工程の一部として接着フィルム400の加工が行われるが、この加工は、上述の通り、パンチを用いた穴あけ加工や、プレス型を用いたプレス加工などにより行われる。これらは、いずれも接着フィルム400を、型やガイドなどを有する治具に接触させた状態で行われ、加工後には当該治具から接着フィルム400を取り外すものである。
(Fifth embodiment)
By the way, in the manufacturing method of each said embodiment, although the process of the
このような場合、加工後の接着フィルム400と治具とが貼り付いて離れにくくなる可能性があり、治具からの取り外し性の向上が要望されている。本実施形態は、そのような治具を用いた接着フィルム400の加工方法において、治具からの接着フィルム400の取り外しを、容易にするための方法を提供するものである。
In such a case, the processed
図12は、本発明の第5実施形態に係る接着フィルム400の加工方法を説明するための図であり、パンチを用いた穴あけ加工を例にとって治具500の構成を模式的に示す図である。この穴あけ加工は、たとえば上記各実施形態における貫通穴403、404の形成に採用される。
FIG. 12 is a view for explaining a processing method of the
この治具500の基本構造は、一般的なパンチ加工の治具と同様である。すなわち、治具500は、土台501と、この土台501の上に搭載されて支持されたダイ502と、ダイ502の上に支持されたレール503と、このレール503によってダイ502上を上下に移動可能なガイド504と、このガイド504に設けられた開口部504aを介して穴あけを行うパンチ505とを備えて構成されている。
The basic structure of the
ここで、加工される接着フィルム400は、ダイ502とガイド504との間に挟まれて固定されるようになっており、この状態で、パンチ505による接着フィルム400の穴あけを行った後、ガイド504を上方に上げて、接着フィルム400からガイド504を取り外すものである。
Here, the processed
従来では、このガイド504を取り外すときに、ガイド504と接着フィルム400とが離れにくくなる。そこで、本実施形態では、治具500における接着フィルム400と接触する面、すなわち、ガイド504における接着フィルム400と接触する面を、接着フィルム400が離れやすい面に加工している。
Conventionally, when the
具体的には、ガイド504における接着フィルム400と接触する面を、撥水性を有するものとして樹脂との濡れ性を小さくしたり、凹凸面として密着面積を小さくしたりすることにより、上記離れやすい面としている。撥水性を有するものとする場合には、ガイド504における接着フィルム400と接触する面にフッ素樹脂やシリコーン樹脂などよりなる薄膜を、塗布および硬化などの成膜方法により形成する。
Specifically, the surface of the
また、ガイド504における接着フィルム400と接触する面を、凹凸面とする場合には、当該面に対してローレット加工を施したり、サンドブラスト処理やスパッタリングなどにより面を荒らしたりすることで、当該凹凸面を形成すればよい。
Further, when the surface of the
このように、本実施形態では、ガイド504における接着フィルム400と接触する面を、接着フィルム400が離れやすい面とすることにより、加工後における接着フィルム400の治具500からの取り外しが容易になる。
As described above, in this embodiment, the surface of the
(第6実施形態)
図13は、本発明の第6実施形態に係る接着フィルム400の加工方法を説明するための図である。
(Sixth embodiment)
FIG. 13 is a view for explaining a processing method of the
本実施形態も、上記第5実施形態と同様に、パンチ加工において、接着フィルム400を治具500に接触させた状態で、接着フィルム400を加工した後、接着フィルム400を治具500から取り外す接着フィルムの加工方法を提供するものである。
Similarly to the fifth embodiment, in the present embodiment, in the punching process, after the
本実施形態では、図13に示されるように、ガイド504に対して切削加工や型加工などを施すことにより、ガイド504の内部に、空気が流通することのできる空気通路504bを設けている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 13, an
この空気通路504bは、ガイド504の外部、たとえばガイド504の側面から、図示しないコンプレッサなどにより加圧空気が送り込まれるものである。そして、空気通路504bの出口は、ガイド504における接着フィルム400との接触面に設けられ、この出口から当該加圧空気が吹き出すようになっている。
The
それによって、加工後の接着フィルム400は、空気通路504bに送り込まれた加圧空気によって、ガイド504における接着フィルム400と接触する面から離れるように加圧される。
Thus, the processed
このように、本実施形態の加工方法によれば、治具500を接着フィルム400から取り外すときに、治具500側から接着フィルム400に対して空気を吹き付けて加圧することにより、加工後における接着フィルム400の治具500からの取り外しを容易にすることができる。
As described above, according to the processing method of the present embodiment, when the
(第7実施形態)
図14は、本発明の第7実施形態に係る接着フィルム400の加工方法を説明するための図である。
(Seventh embodiment)
FIG. 14 is a view for explaining a processing method of the
本実施形態も、上記第5実施形態と同様に、パンチ加工において、接着フィルム400を治具500に接触させた状態で、接着フィルム400を加工した後、接着フィルム400を治具500から取り外す接着フィルムの加工方法を提供するものである。
Similarly to the fifth embodiment, in the present embodiment, in the punching process, after the
本実施形態では、図14に示されるように、ダイ502に対して切削加工や型加工などを施すことにより、ダイ502の内部に負圧通路502aを設けている。この負圧通路502aは、ダイ502の外部、たとえばダイ502の側面から、図示しない真空ポンプなどにより吸引が行われるもので、負圧通路502aの出口は、ダイ502における接着フィルム400との接触面に設けられている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 14, a negative pressure passage 502 a is provided inside the
それによって、加工後の接着フィルム400は、負圧通路502aからの吸引によってダイ502側へ引っ張られるように負圧が加えられることによって、ガイド504における接着フィルム400と接触する面から離れやすくなる。
Thus, the processed
このように、本実施形態の加工方法によれば、治具500を接着フィルム400から取り外すときに、治具500のうち接着フィルム400を取り外すべき部位であるガイド504とは反対側から接着フィルム400を吸引するように接着フィルム400に負圧を加えることにより、加工後における接着フィルム400の治具500からの取り外しを容易にすることができる。
As described above, according to the processing method of the present embodiment, when the
(他の実施形態)
なお、上記第5〜第7実施形態に示した接着フィルム400の加工方法は、上記したパンチ加工だけでなく、図15に示されるような接着フィルム400のプレス加工の場合にも適用できる。このプレス加工は、たとえば上記ドーム形状の中空部410を形成する工程に採用される。
(Other embodiments)
In addition, the processing method of the
図15に示されるプレスの治具600では、土台601上にレール602を介して、第1のプレス型603と第2のプレス型604とが対向しており、これら両プレス型603、604の間に接着フィルム400を挟んでプレスを行うものである。
In the
この場合、両プレス型603、604における接着フィルム400と接触する面が、プレス加工後において接着フィルム400から離れにくくなる。その対策として、図15においては、たとえば、両プレス型603、604における接着フィルム400と接触する面を、上記した撥水性を有するものとしたり、凹凸面とすればよい。
In this case, the surfaces of the press dies 603 and 604 that are in contact with the
あるいは、第1のプレス型603あるいは第2のプレス型604に、上記した空気通路や負圧通路を形成し、上記同様の加圧や負圧を行うことで、プレス加工後の接着フィルム400を容易に、両プレス型603、604から取り外すことが可能となる。
Alternatively, the above-described air passage or negative pressure passage is formed in the first press die 603 or the second press die 604, and the
また、上記第5〜第7実施形態に示した加工方法は、それぞれ独立して行ってもよいが、上記パンチ加工やプレス加工において、互いに組み合わせて行ってもよいことはもちろんである。たとえば、上記パンチ加工において、ガイド504に撥水加工を施すとともに上記空気通路504bを形成し、さらに、ダイ502に上記負圧通路502aを形成すれば、これらの各効果によって、より接着フィルム400の取り外しが容易になることが期待される。
Moreover, although the processing method shown to the said 5th-7th embodiment may each be performed independently, of course, in the said punch process and press process, you may carry out in combination with each other. For example, in the punching process, if the
また、上記実施形態に示した角速度センサ装置の製造方法では、センサチップ100側のバンプ80は、接着フィルム400を越えて、回路チップ200側のバンプ80を介して回路チップ200に当たったが、この回路チップ200側のバンプ80は無いものであってもよい。
In the manufacturing method of the angular velocity sensor device shown in the above embodiment, the
つまり、センサチップ100側のバンプ80が回路チップ200側に当たることとは、接着フィルム400を越えて、直接、回路チップ200のパッド210に当たるものであってもよい。
In other words, the
また、上記各実施形態に示した接着フィルム400におけるバンプ80が通り抜け可能な大きさの貫通穴403、403については、その穴形状はバンプ80が通り抜けできるものであればよく、丸穴でも角穴でもよい。また、穴のサイズについては、バンプ80よりも多少大きいものでもよいが、バンプ80が穴を押し広げて通り抜けできるならば、バンプ80よりも小さいものであってもよい。
In addition, regarding the through
また、電子部品としてのセンサチップとしては、上記した角速度センサチップ以外にも、加速度センサチップであってもよい。加速度センサチップの場合は、検出部としての可動部は、加速度の印加時に一方向に変位し、その変位の度合を容量変化として検出することで、当該加速度を求めるものである。 In addition to the angular velocity sensor chip described above, the sensor chip as an electronic component may be an acceleration sensor chip. In the case of the acceleration sensor chip, the movable part as the detection part is displaced in one direction when the acceleration is applied, and obtains the acceleration by detecting the degree of displacement as a capacitance change.
また、その検出部としての可動部については、角速度センサや加速度センサにおける梁構造体などの可動部以外にも、圧力センサにおけるダイアフラムなどであってもよい。また、電子部品としては、上記したセンサチップ以外にも、一面に検出部を有するものであればよく、たとえばBGA(ボールグリッドアレイ)や、フリップチップなどであってもよい。 In addition to the movable part such as the beam structure in the angular velocity sensor or the acceleration sensor, the movable part as the detection part may be a diaphragm in the pressure sensor. In addition to the sensor chip described above, any electronic component may be used as long as it has a detection unit on one surface, such as a BGA (ball grid array) or a flip chip.
さらに、電子部品の検出部としては、角速度、加速度、圧力などの力学量により変位する可動部以外にも、湿度センサなどにおける湿度検出部、あるいは、なんらかの回路が形成されている回路部であってもよい。要するに、検出部は、電子部品の一面のうち接着フィルムが接触してはいけない部位である。 In addition to the movable part that is displaced by mechanical quantities such as angular velocity, acceleration, and pressure, the electronic part detection part is a humidity detection part in a humidity sensor or the like, or a circuit part in which some circuit is formed. Also good. In short, the detection unit is a part of one surface of the electronic component that the adhesive film should not contact.
また、基材としては、上記した回路チップ以外にも、たとえばプリント基板やセラミック配線基板などの各種の回路基板や配線基板、さらにはリードフレーム、バスバーなどを採用できる。 In addition to the circuit chips described above, various circuit boards and wiring boards such as printed boards and ceramic wiring boards, lead frames, bus bars and the like can be used as the base material.
10…検出部としての可動部、80…バンプ、
100…電子部品としてのセンサチップ、200…基材としての回路チップ、
400…接着フィルム、401…第1の層、402…第2の層、
403、404…貫通穴、410…中空部、500…治具。
10 ... movable part as a detection part, 80 ... bump,
100 ... sensor chip as an electronic component, 200 ... circuit chip as a substrate,
400 ... Adhesive film, 401 ... First layer, 402 ... Second layer,
403, 404 ... through hole, 410 ... hollow part, 500 ... jig.
Claims (5)
前記電子部品(100)の一面のうち前記検出部(10)以外の部位にバンプ(80)を設け、
次に、前記電子部品(100)の一面に対して、前記検出部(10)に対向する部分に前記検出部(10)とは離れた中空部(410)を有するフィルム状の接着フィルム(400)を、前記バンプ(80)および前記検出部(10)を覆うように貼り付け、
しかる後、前記電子部品(100)の一面を前記基材(200)に対向させ、前記電子部品(100)と前記基材(200)とを重ね合わせて、前記バンプ(80)が前記接着フィルム(400)を越えて前記基材(200)側に当たるようにすることにより、前記電子部品(100)と前記基材(200)とを前記バンプ(80)によって電気的に接続する電子装置の製造方法において、
前記接着フィルム(400)として、第1の層(401)と前記第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)とが積層されてなり、前記検出部(10)に対向する部位では前記第1の層(401)に開口部が形成されるとともに当該開口部を前記第2の層(402)が覆う形で前記中空部(410)が構成されるものを用い、
前記接着フィルム(400)を前記電子部品(100)の一面に貼り付ける工程では、前記接着フィルム(400)を、前記第1の層(401)側にて前記電子部品(100)の一面に貼り付けて、前記中空部(410)を前記第2の層(402)よりも硬い前記第1の層(401)により支持するとともに、前記第1の層(401)に前記バンプ(80)を食い込ませるようにし、
前記電子部品(100)と前記基材(200)とを重ね合わせる工程では、前記バンプ(80)が前記接着フィルム(400)における前記第2の層(402)を突き抜けて前記基材(200)側に当たるようにすることを特徴とする電子装置の製造方法。 An electronic component (100) having a detection unit (10) on one side and a base material (200) are prepared,
A bump (80) is provided on a portion of the one surface of the electronic component (100) other than the detection unit (10),
Next, with respect to one surface of the electronic component (100), a film-like adhesive film (400) having a hollow portion (410) separated from the detection portion (10) in a portion facing the detection portion (10). ) To cover the bump (80) and the detection unit (10),
Thereafter, one surface of the electronic component (100) is made to face the base material (200), the electronic component (100) and the base material (200) are overlapped, and the bump (80) is attached to the adhesive film. Manufacturing of an electronic device in which the electronic component (100) and the base material (200) are electrically connected by the bump (80) by making contact with the base material (200) side beyond (400) In the method
As the adhesive film (400), a first layer (401) and a second layer (402) that is softer than the first layer (401) are laminated, and face the detection unit (10). At the site, an opening is formed in the first layer (401) and the hollow portion (410) is configured so that the opening is covered by the second layer (402) .
In the step of attaching the adhesive film (400) to one surface of the electronic component (100), the adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100) on the first layer (401) side. In addition , the hollow portion (410) is supported by the first layer (401) which is harder than the second layer (402 ), and the bump (80) is bitten into the first layer (401). And let
In the step of superimposing the electronic component (100) and the substrate (200), the bump (80) penetrates the second layer (402) of the adhesive film (400) and the substrate (200). A method for manufacturing an electronic device, wherein the method hits the side.
前記接着フィルム(400)を前記電子部品(100)の一面に貼り付ける工程では、前記貫通穴(403)を介して前記第1の層(401)に前記バンプ(80)を食い込ませることを特徴とする請求項1に記載の電子装置の製造方法。 Before SL adhesive film (400) is provided with the bump (80) through hole of a size capable of that entering (403) a position corresponding to the bumps (80) of said first layer (401) Shall be
In the step of attaching the adhesive film (400) to one surface of the electronic component (100), the bump (80) is bitten into the first layer (401) through the through hole (403). A method for manufacturing an electronic device according to claim 1.
前記電子部品(100)の一面のうち前記検出部(10)以外の部位にバンプ(80)を設け、
次に、前記電子部品(100)の一面に対して、前記検出部(10)に対向する部分に前記検出部(10)とは離れた中空部(410)を有するフィルム状の接着フィルム(400)を、前記バンプ(80)および前記検出部(10)を覆うように貼り付け、
しかる後、前記電子部品(100)の一面を前記基材(200)に対向させ、前記電子部品(100)と前記基材(200)とを重ね合わせて、前記バンプ(80)が前記接着フィルム(400)を越えて前記基材(200)側に当たるようにすることにより、前記電子部品(100)と前記基材(200)とを前記バンプ(80)によって電気的に接続する電子装置の製造方法において、
前記接着フィルム(400)として、第1の層(401)と前記第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)とが積層されてなり、前記検出部(10)に対向する部位では前記第1の層(401)に開口部が形成されるとともに当該開口部を前記第2の層(402)が覆う形で前記中空部(410)が構成されるものを用い、
前記バンプ(80)の高さ寸法を、前記接着フィルム(400)の前記第1の層(401)および前記第2の層(402)の合計厚さ寸法よりも大きくし、
前記接着フィルム(400)を前記電子部品(100)の一面に貼り付ける工程では、前記接着フィルム(400)を、前記第1の層(401)側にて前記電子部品(100)の一面に貼り付けて、前記中空部(410)を前記第2の層(402)よりも硬い前記第1の層(401)により支持するとともに、前記バンプ(80)が前記第1の層(401)および前記第2の層(402)を突き抜けて、前記接着フィルム(400)から前記バンプ(80)の先端部が突出するようにし、
前記電子部品(100)と前記基材(200)とを重ね合わせる工程では、前記バンプ(80)の先端部を前記基材(200)側に当てるようにすることを特徴とする電子部品の製造方法。 An electronic component (100) having a detection unit (10) on one side and a base material (200) are prepared,
A bump (80) is provided on a portion of the one surface of the electronic component (100) other than the detection unit (10),
Next, with respect to one surface of the electronic component (100), a film-like adhesive film (400) having a hollow portion (410) separated from the detection portion (10) in a portion facing the detection portion (10). ) To cover the bump (80) and the detection unit (10),
Thereafter, one surface of the electronic component (100) is made to face the base material (200), the electronic component (100) and the base material (200) are overlapped, and the bump (80) is attached to the adhesive film. Manufacturing of an electronic device in which the electronic component (100) and the base material (200) are electrically connected by the bump (80) by making contact with the base material (200) side beyond (400) In the method
As the adhesive film (400), a first layer (401) and a second layer (402) that is softer than the first layer (401) are laminated, and face the detection unit (10). At the site, an opening is formed in the first layer (401) and the hollow portion (410) is configured so that the opening is covered by the second layer (402).
A height dimension of the bump (80) is larger than a total thickness dimension of the first layer (401) and the second layer (402) of the adhesive film (400) ;
In the step of attaching the adhesive film (400) to one surface of the electronic component (100), the adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100) on the first layer (401) side. In addition, the hollow portion (410) is supported by the first layer (401) which is harder than the second layer (402), and the bump (80) is supported by the first layer (401) and the first layer (401). Penetrating through the second layer (402) so that the tip of the bump (80) protrudes from the adhesive film (400),
In the step of superimposing the electronic component (100) and the base material (200), the tip of the bump (80) is applied to the base material (200) side. Method.
前記電子部品(100)の一面のうち前記検出部(10)以外の部位にバンプ(80)を設け、
次に、前記電子部品(100)の一面に対して、前記検出部(10)に対向する部分に前記検出部(10)とは離れた中空部(410)を有するフィルム状の接着フィルム(400)を、前記バンプ(80)および前記検出部(10)を覆うように貼り付け、
しかる後、前記電子部品(100)の一面を前記基材(200)に対向させ、前記電子部品(100)と前記基材(200)とを重ね合わせて、前記バンプ(80)が前記接着フィルム(400)を越えて前記基材(200)側に当たるようにすることにより、前記電子部品(100)と前記基材(200)とを前記バンプ(80)によって電気的に接続する電子装置の製造方法において、
前記接着フィルム(400)として、第1の層(401)と前記第1の層(401)よりも軟らかい第2の層(402)とが積層されてなり、前記検出部(10)に対向する部位では前記第1の層(401)に開口部が形成されるとともに当該開口部を前記第2の層(402)が覆う形で前記中空部(410)が構成されるものを用い、
さらに、前記接着フィルム(400)は前記第2の層(402)のうち前記バンプ(80)に対向する部位に前記バンプ(80)が通り抜け可能な大きさの貫通穴(404)を形成したものとし、
前記接着フィルム(400)を前記電子部品(100)の一面に貼り付ける工程では、前記接着フィルム(400)を、前記第1の層(401)側にて前記電子部品(100)の一面に貼り付けて、前記中空部(410)を前記第2の層(402)よりも硬い前記第1の層(401)により支持するとともに、前記第1の層(401)に前記バンプ(80)を食い込ませるようにし、
前記電子部品(100)と前記基材(200)とを重ね合わせる工程では、前記バンプ(80)が前記接着フィルム(400)における前記第2の層(402)の前記貫通穴(404)を通り抜けて前記基材(200)側に当たるようにすることを特徴とする電子装置の製造方法。 An electronic component (100) having a detection unit (10) on one side and a base material (200) are prepared,
A bump (80) is provided on a portion of the one surface of the electronic component (100) other than the detection unit (10),
Next, with respect to one surface of the electronic component (100), a film-like adhesive film (400) having a hollow portion (410) separated from the detection portion (10) in a portion facing the detection portion (10). ) To cover the bump (80) and the detection unit (10),
Thereafter, one surface of the electronic component (100) is made to face the base material (200), the electronic component (100) and the base material (200) are overlapped, and the bump (80) is attached to the adhesive film. Manufacturing of an electronic device in which the electronic component (100) and the base material (200) are electrically connected by the bump (80) by making contact with the base material (200) side beyond (400) In the method
As the adhesive film (400), a first layer (401) and a second layer (402) that is softer than the first layer (401) are laminated, and face the detection unit (10). At the site, an opening is formed in the first layer (401) and the hollow portion (410) is configured so that the opening is covered by the second layer (402) .
Further, the adhesive film (400) is formed by forming a through hole (404) having a size through which the bump (80) can pass in a portion of the second layer (402) facing the bump (80). age,
In the step of attaching the adhesive film (400) to one surface of the electronic component (100), the adhesive film (400) is attached to one surface of the electronic component (100) on the first layer (401) side. In addition , the hollow portion (410) is supported by the first layer (401) which is harder than the second layer (402 ), and the bump (80) is bitten into the first layer (401). And let
In the step of superimposing the electronic component (100) and the substrate (200), the bump (80) passes through the through hole (404) of the second layer (402) in the adhesive film (400). The method for manufacturing an electronic device is characterized in that it contacts the base material (200) side.
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JP2008089411A (en) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Denso Corp | Electronic device and its manufacturing method |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4851555B2 (en) * | 2008-05-13 | 2012-01-11 | 株式会社デンソー | Mechanical quantity sensor and manufacturing method thereof |
JP4766143B2 (en) | 2008-09-15 | 2011-09-07 | 株式会社デンソー | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR102544326B1 (en) * | 2018-08-27 | 2023-06-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1019924A (en) * | 1996-07-05 | 1998-01-23 | Murata Mfg Co Ltd | Miniature electronic component |
JP4969822B2 (en) * | 2004-12-06 | 2012-07-04 | 株式会社デンソー | Sensor device |
-
2006
- 2006-09-25 JP JP2006258493A patent/JP4816362B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008089411A (en) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Denso Corp | Electronic device and its manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008076332A (en) | 2008-04-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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