JP4807404B2 - 一体集積型光アイソレータ及びその製造方法 - Google Patents
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図1は、第1実施形態に係る一体集積型光アイソレータ10の構成を示す断面図である。一体集積型光アイソレータ10に対して、磁場方向及び光の伝搬方向を特定するため、一体集積型光アイソレータ10の断面幅方向をY方向とし、磁場方向をX方向、光の伝搬方向をZ方向とする。
但し、これらの屈折率及び膜厚の数字は、例示であって、これらに限定されるものではない。これにより、導波する光の約20%以上は、発光再結合、光増幅等が生じる半導体光増幅器活性層6ではなく、その上部に位置する上部導波層8を伝搬することになる。
ここで、光アイソレータの動作原理を簡単に説明する。図3Aは、光アイソレータの動作原理の概念図である。第1実施形態に係る半導体光アイソレータ(図1参照)、第2実施形態に係る半導体光アイソレータ(図2参照)、TEモードで動作する従来の半導体光アイソレータ(図3B参照)及びTEモードで動作する従来の半導体光アイソレータ(図3C参照)は、いずれも図1に示す動作原理に従って動作する。
TE偏光に対して動作する従来の半導体光アイソレータ(図3B参照)とTM偏光に対して動作する従来の半導体光アイソレータ(図3C参照)とに関して、本実施形態に係る半導体光アイソレータ(図1参照)と比較しながら簡単に説明する。
図3Bに示す半導体光アイソレータの素子構造は、多くの半導体レーザが動作するTEモードに対応して動作する長所を有する。
図2は、第2実施形態に係る一体集積型光アイソレータ30の構成を示す断面図である。X,Y,Zの各方向は図1と同様である。一体集積型光アイソレータ30は、クラッド層の屈折率と導波層の屈折率との差が比較的大きい高屈折差光導波路素子に適している。
一体集積型光アイソレータ10(第1実施形態)と一体集積型光アイソレータ30(第2実施形態)とは、TEモードで動作する半導体光アイソレータであって、導波層の側壁に強磁性体層を配置した点で技術的特徴を共有する。即ち、従来のTE偏光に対して動作する半導体光アイソレータ(図3B参照)では、半導体光増幅器活性層6の側壁に強磁性体層を配置していた。このため、製造工程で半導体光増幅器活性層6が露出し、その結果、デバイスの信頼性を悪化させていた。
第3実施形態は、第1実施形態に係る一体集積型光アイソレータ10の製造方法に関する。図4A〜4Cは、製造工程順に各工程を示したものでる。
第4実施形態は、第2実施形態に係る一体集積型光アイソレータ30の製造方法に関する。図5A〜5Dは、製造工程順に各工程を示したものでる。
以上、本実施形態に係る一体集積型光アイソレータ及びその製造方法に関して説明したが、これらは例示であって、本発明はこれに限定されない。特に、各要素の材料、膜厚等のサイズは、典型例であって、これに限定されるものではない。本実施形態に関して、当業者が容易になしえる追加・削除・変更・改良等は本発明の範囲内である。
Claims (4)
- 半導体基板上に形成された下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成されたバッファ層と、
前記バッファ層上の一部に形成された導波層と、
前記導波層上に形成された上部クラッド層と、
前記導波層の一方の側壁に沿って、該導波層の上面(Y方向)に直交方向(X方向)に延在し、X方向に磁場を印加する光吸収性の強磁性体層とを備え、
前記導波層を伝搬する光の一部が、該導波層から漏れて前記強磁性体層に達することにより光アイソレーションを得ることを特徴とする、一体集積型光アイソレータ。 - 請求項1に記載の一体集積型光アイソレータにおいて、
前記上部及び下部クラッド層の屈折率n1、前記導波層の屈折率n2及び前記活性層の屈折率n3の大小関係を、n1<n2<n3とし、該導波層へ光を比較的多く集中させる、一体集積型光アイソレータ。 - 請求項1に記載の一体集積型光アイソレータにおいて、更に、
前記上部クラッド層上に形成された第1の電極と、
前記半導体基板の下面に形成された第2の電極とを備え、
第1及び第2の電極間に直流バイアス源を接続することにより光増幅を行って、伝搬する光の減衰を補償する、一体集積型光アイソレータ。 - 半導体基板上に、下部クラッド層、活性層、バッファ層、導波層及び上部クラッド層を連続的に成膜するステップと、
成膜工程を終了した前記半導体基板に対して、前記導波層及び前記上部クラッド層の両側の側壁をドライエッチングして光伝搬方向に沿って部分的に取り去るステップと、
前記導波層の一方の側壁を覆うように、強磁性体層を形成するステップとを含む、一体集積型光アイソレータの製造方法。
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