JP4807161B2 - Multilayer ceramic electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

この発明は、積層型セラミック電子部品およびその製造方法に関するもので、特に、ビア導体を備える積層型セラミック電子部品およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a multilayer ceramic electronic component and a manufacturing method thereof, and more particularly to a multilayer ceramic electronic component including a via conductor and a manufacturing method thereof.

積層型セラミック電子部品は、積層された複数のセラミック層からなる積層構造を有する積層体を備えている。積層体には、通常、複数のセラミック層間の特定の界面に沿って内部導体膜が形成され、また、外表面上には、外部導体膜が形成される。積層体には、また、特定のセラミック層を厚み方向に貫通するようにビア導体が設けられることがある。ビア導体は、セラミック層間の異なる界面に沿ってそれぞれ形成された複数の内部導体膜間を電気的に接続したり、内部導体膜と外部導体膜とを互いに電気的に接続したり、積層体の相対向する主面上にそれぞれ形成された外部導体膜間を電気的に接続したりする。   A multilayer ceramic electronic component includes a multilayer body having a multilayer structure including a plurality of multilayered ceramic layers. In the laminated body, an internal conductor film is usually formed along a specific interface between a plurality of ceramic layers, and an external conductor film is formed on the outer surface. The laminated body may also be provided with a via conductor so as to penetrate a specific ceramic layer in the thickness direction. Via conductors electrically connect a plurality of internal conductor films formed along different interfaces between ceramic layers, electrically connect internal conductor films and external conductor films to each other, The external conductor films respectively formed on the opposing main surfaces are electrically connected.

上述したビア導体を備える積層型セラミック電子部品は、一般に、次のように製造される。金属粉末を含有する導電性ペーストが用意される。他方、セラミック層となるべき複数のセラミックグリーンシートが用意され、特定のセラミックグリーンシートには、それを厚み方向に貫通するように、ビアホールが設けられる。ビアホールには、上述した導電性ペーストが充填されるとともに、複数のセラミックグリーンシートが積層され、それによって生の積層体が得られ、この生の積層体を焼成する工程を経て、積層型セラミック電子部品が得られる。   A multilayer ceramic electronic component including the above-described via conductor is generally manufactured as follows. A conductive paste containing metal powder is prepared. On the other hand, a plurality of ceramic green sheets to be a ceramic layer are prepared, and a via hole is provided in a specific ceramic green sheet so as to penetrate the ceramic green sheet in the thickness direction. The via hole is filled with the above-described conductive paste, and a plurality of ceramic green sheets are laminated to obtain a raw laminate, and the raw laminate is fired to obtain a multilayer ceramic electronic. Parts are obtained.

しかしながら、上述のようにして得られた積層型セラミック電子部品において、セラミックグリーンシート中のセラミック粉末と導電性ペースト中の金属粉末との焼成時における寸法変化の度合いの違いが起因して、ビア導体とビアホールの内周面との間に隙間が生じるといった構造欠陥がもたらされることがある。このような構造欠陥の発生は、ビア導体を含む配線導体の電気抵抗の増大や断線を引き起こす。   However, in the multilayer ceramic electronic component obtained as described above, the via conductor is caused by the difference in the degree of dimensional change during firing of the ceramic powder in the ceramic green sheet and the metal powder in the conductive paste. In some cases, a structural defect such as a gap is formed between the inner surface of the via hole and the inner peripheral surface of the via hole. The occurrence of such a structural defect causes an increase in electrical resistance or disconnection of the wiring conductor including the via conductor.

上述の問題を解決するため、ビア導体を形成するために用いられる導電性ペーストにセラミック粉末を含有させることが、たとえば特開平3−212993号公報(特許文献1)に提案されている。これによれば、導電性ペースト中の金属粉末の焼結が抑制され、前述したような構造欠陥を生じさせにくくすることができる。   In order to solve the above-described problem, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-212993 (Patent Document 1) proposes that a conductive paste used for forming a via conductor contains ceramic powder. According to this, sintering of the metal powder in the conductive paste is suppressed, and it is possible to make it difficult to cause the structural defects as described above.

しかしながら、導電性ペースト中へのセラミック粉末の含有は、別の問題を引き起こす。すなわち、セラミック粉末は、通常、電気絶縁物であるため、ビア導体の電気抵抗を増加させる。そのため、ビア導体に比較的大きな電流を流す用途では、ビア導体の発熱による製品の温度上昇を無視できなくなり、たとえば、多層セラミック基板、積層セラミックインダクタ、積層セラミックコンデンサなどのビア導体を有する積層型セラミック電子部品の用途を拡大する上で支障が生じている。
特開平3−212993号公報
However, the inclusion of ceramic powder in the conductive paste causes another problem. That is, since ceramic powder is usually an electrical insulator, it increases the electrical resistance of the via conductor. Therefore, in applications where a relatively large current flows through the via conductor, the temperature rise of the product due to the heat generated from the via conductor cannot be ignored. For example, multilayer ceramics having via conductors such as multilayer ceramic substrates, multilayer ceramic inductors, multilayer ceramic capacitors, etc. There is a problem in expanding the use of electronic components.
Japanese Patent Laid-Open No. 3-212993

そこで、この発明の目的は、上述のような問題を解決し得る積層型セラミック電子部品およびその製造方法を提供しようとすることである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a multilayer ceramic electronic component that can solve the above-described problems and a method for manufacturing the same.

この発明は、積層された複数のセラミック層からなる積層構造を有する、積層体と、特定のセラミック層上に形成される、内部導体膜と、特定のセラミック層を厚み方向に貫通するように設けられかつ特定の内部導体膜に接する、ビア導体とを備える、積層型セラミック電子部品に向けられるものであって、上述した技術的課題を解決するため、次のような構成を備えることを特徴としている。   The present invention provides a laminate having a laminated structure composed of a plurality of laminated ceramic layers, an internal conductor film formed on a specific ceramic layer, and a specific ceramic layer penetrating in the thickness direction. In order to solve the above technical problem, the following configuration is provided, which is directed to a multilayer ceramic electronic component including a via conductor that is in contact with a specific internal conductor film. Yes.

すなわち、この発明に係る積層型セラミック電子部品において、ビア導体は、金属粉末およびセラミック粉末を含有するが、ビア導体中のセラミック粉末は、ビア導体の径方向に関して、ビア導体の中心から外周側に向かって減少するような濃度勾配をもって存在していることを特徴としている。   That is, in the multilayer ceramic electronic component according to the present invention, the via conductor contains metal powder and ceramic powder, but the ceramic powder in the via conductor is from the center of the via conductor to the outer peripheral side in the radial direction of the via conductor. It is characterized by the existence of a concentration gradient that decreases toward the bottom.

この発明に係る積層型セラミック電子部品において、好ましくは、ビア導体の外周部に、セラミック粉末が存在しない領域が形成される。   In the multilayer ceramic electronic component according to the present invention, preferably, a region where no ceramic powder is present is formed on the outer periphery of the via conductor.

また、ビア導体中のセラミック粉末を構成するセラミックは、セラミック層を構成するセラミックと同じ材料系のものであることが好ましい。   The ceramic constituting the ceramic powder in the via conductor is preferably of the same material system as the ceramic constituting the ceramic layer.

ビア導体は、その外周面において、特定の内部導体膜と接することが好ましいが、その端面において、特定の前記内部導体膜と接するようにされてもよい。   The via conductor is preferably in contact with the specific inner conductor film on the outer peripheral surface thereof, but may be in contact with the specific inner conductor film on the end surface.

この発明は、また、上述のような積層型セラミック電子部品を製造する方法にも向けられる。   The present invention is also directed to a method of manufacturing the multilayer ceramic electronic component as described above.

この発明に係る積層型セラミック電子部品の製造方法は、複数のセラミックグリーンシートを用意する工程と、特定のセラミックグリーンシート上に内部導体膜を形成する工程と、複数のセラミックグリーンシートを積層することによって、生の積層体を得る工程と、生の積層体を焼成する工程とを備えていて、前述した技術的課題を解決するため、次のような構成を備えることを特徴としている。   A method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to the present invention includes a step of preparing a plurality of ceramic green sheets, a step of forming an internal conductor film on a specific ceramic green sheet, and a stack of the plurality of ceramic green sheets. In order to solve the technical problem described above, a process for obtaining a raw laminate and a process for firing the raw laminate are provided.

すなわち、金属粉末およびセラミック粉末を含有する、第1の導電性ペーストと、金属粉末を含有するとともに、第1の導電性ペースト中のセラミック粉末より少ない量のセラミック粉末を含有するかセラミック粉末を含有しない、第2の導電性ペーストが用意される。他方、特定のセラミックグリーンシートを厚み方向に貫通するように、ビアホールが設けられる。   That is, the first conductive paste containing the metal powder and the ceramic powder, and containing the metal powder and containing the ceramic powder in an amount smaller than the ceramic powder in the first conductive paste or containing the ceramic powder A second conductive paste is prepared. On the other hand, a via hole is provided so as to penetrate a specific ceramic green sheet in the thickness direction.

そして、ビアホールに第2の導電性ペーストを注入し、それによって、ビアホールの内周面に沿って第2の導電性ペーストを付着させる工程と、第2の導電性ペーストが内周面に付着したビアホールに第1の導電性ペーストを充填する工程とが実施される。   Then, a step of injecting the second conductive paste into the via hole and thereby attaching the second conductive paste along the inner peripheral surface of the via hole, and the second conductive paste adhered to the inner peripheral surface And filling the via hole with the first conductive paste.

この発明に係る積層型セラミック電子部品の製造方法において、積層体を貫通するビアホールを設ける場合、ビアホールを設ける工程は、生の積層体を得る工程の前に実施されてもよいが、好ましくは、生の積層体を得る工程の後に実施される。そして、ビアホールを設ける工程が、生の積層体を得る工程の後に実施されるとき、ビアホールは、特定の内部導体膜を貫通するように設けられることが好ましい。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to the present invention, when providing a via hole penetrating the multilayer body, the step of providing the via hole may be performed before the step of obtaining the raw multilayer body, It is carried out after the step of obtaining a raw laminate. And when the process of providing a via hole is implemented after the process of obtaining a raw laminated body, it is preferable that a via hole is provided so that a specific internal conductor film may be penetrated.

また、ビアホールの内周面に沿って第2の導電性ペーストを付着させる工程は、ビアホールに第2の導電性ペーストを注入した後、ビアホールの内周面に付着した部分のみを残して余分な第2の導電性ペーストをビアホールから除去する工程を備えることが好ましい。この場合、第2の導電性ペーストは、第1の導電性ペーストの粘度より低い粘度を有していることが好ましい。   In addition, the step of attaching the second conductive paste along the inner peripheral surface of the via hole is performed by injecting the second conductive paste into the via hole and then leaving only the portion attached to the inner peripheral surface of the via hole. It is preferable to include a step of removing the second conductive paste from the via hole. In this case, it is preferable that the second conductive paste has a viscosity lower than that of the first conductive paste.

この発明によれば、焼成工程において、ビアホールの中心部に位置する少なくとも第1の導電性ペーストがセラミック粉末を含んでいるので、少なくとも第1の導電性ペースト中の金属粉末の焼結による収縮が抑制され、ビア導体とビアホールの内周面との間に隙間が生じるといった構造欠陥がもたらされにくくなるばかりでなく、ビアホールの内周面に沿って位置する第2の導電性ペーストがセラミック粉末を比較的少なく含むか、含まないので、焼成後において、ビア導体の外周部とこれに接する内部導体膜との接触抵抗を低くすることができ、積層型セラミック電子部品の信頼性を向上させることができる。   According to this invention, since at least the first conductive paste located at the center of the via hole contains the ceramic powder in the firing step, at least shrinkage due to sintering of the metal powder in the first conductive paste is caused. In addition to being suppressed, structural defects such as a gap between the via conductor and the inner peripheral surface of the via hole are less likely to be caused, and the second conductive paste positioned along the inner peripheral surface of the via hole is ceramic powder. Therefore, it is possible to reduce the contact resistance between the outer periphery of the via conductor and the internal conductor film in contact with the via conductor after firing, thereby improving the reliability of the multilayer ceramic electronic component. Can do.

また、積層型セラミック電子部品において、ビア導体中のセラミック粉末は、ビア導体の径方向に関して、ビア導体の中心から外周側に向かって減少するような濃度勾配をもって存在しているので、ビア導体の外周部では、比較的良好な電気的導通状態が確保される。   Further, in the multilayer ceramic electronic component, the ceramic powder in the via conductor exists with a concentration gradient that decreases from the center of the via conductor toward the outer peripheral side in the radial direction of the via conductor. In the outer peripheral portion, a relatively good electrical conduction state is ensured.

これらのことから、ビア導体および内部導体膜を含む配線導体において断線が生じにくくなるばかりでなく、ビア導体および内部導体を含む配線導体の電気抵抗を低くすることができる。そのため、ビア導体および内部導体に比較的大きな電流を流す用途にも問題なく向けることができ、積層型セラミック電子部品の用途を拡大することが可能になる。   For these reasons, not only does the wiring conductor including the via conductor and the internal conductor film hardly break, but also the electrical resistance of the wiring conductor including the via conductor and the internal conductor can be reduced. Therefore, the present invention can be directed without problems to the application of a relatively large current to the via conductor and the internal conductor, and the application of the multilayer ceramic electronic component can be expanded.

また、積層型セラミック電子部品がビア導体に高周波信号が流れる用途に向けられる場合、表皮効果により、ビア導体の外周側に電流が集中するが、この発明によれば、この電流が集中する部位において、電気抵抗を低くすることができるので、良好な伝送特性を得ることができる。   In addition, when the multilayer ceramic electronic component is directed to an application in which a high-frequency signal flows through the via conductor, the current concentrates on the outer peripheral side of the via conductor due to the skin effect. Since electrical resistance can be lowered, good transmission characteristics can be obtained.

この発明に係る積層型セラミック電子部品において、ビア導体の外周部に、セラミック粉末が存在しない領域があると、ビア導体自体の電気抵抗をより確実に低くすることができるとともに、内部導体膜との接触抵抗をより確実に低くすることができる。   In the multilayer ceramic electronic component according to the present invention, if there is a region where the ceramic powder is not present on the outer peripheral portion of the via conductor, the electrical resistance of the via conductor itself can be lowered more reliably and the inner conductor film The contact resistance can be lowered more reliably.

ビア導体に含有されるセラミック粉末を構成するセラミックが、セラミック層を構成するセラミックと同じ材料系のものであると、ビア導体中のセラミック粉末がセラミック層の特性に悪影響を及ぼすことがなく、また、ビア導体とセラミック層との間で良好な接合状態を得ることができる。   When the ceramic constituting the ceramic powder contained in the via conductor is of the same material system as the ceramic constituting the ceramic layer, the ceramic powder in the via conductor does not adversely affect the characteristics of the ceramic layer, and A good bonding state can be obtained between the via conductor and the ceramic layer.

ビア導体は、その外周面において、特定の内部導体膜と接するようにされると、ビア導体の、内部導体膜と接する面のすべてにおいて、内部導体膜との接触抵抗を低くすることができる。   If the via conductor is brought into contact with a specific internal conductor film on the outer peripheral surface thereof, the contact resistance with the internal conductor film can be lowered on all the surfaces of the via conductor in contact with the internal conductor film.

この発明に係る積層型セラミック電子部品の製造方法において、生の積層体を得た後、ビアホールを設ける工程を実施するようにしながら、ビアホールが、特定の内部導体膜を貫通するように設けられると、整列精度の高いビアホールを能率的に形成することができ、電気的導通に対する信頼性の高いビア導体を形成することができるとともに、ビア導体が、その外周面において、内部導体膜と接する構造を容易に得ることができる。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to the present invention, after obtaining the raw multilayer body, the via hole is provided so as to penetrate the specific internal conductor film while performing the step of providing the via hole. A via hole with high alignment accuracy can be efficiently formed, a highly reliable via conductor can be formed, and a structure in which the via conductor is in contact with the inner conductor film on the outer peripheral surface thereof. Can be easily obtained.

この発明に係る積層型セラミック電子部品の製造方法において、ビアホールの内周面に沿って第2の導電性ペーストを付着させるにあたって、ビアホールに第2の導電性ペーストを注入した後、ビアホールの内周面に付着した部分のみを残して余分な第2の導電性ペーストをビアホールから除去するようにすれば、当初から、ビアホールの内周面に沿って第2の導電性ペーストを付着させるように量的な制御をしながら第2の導電性ペーストを付与する場合に比べて、能率的に第2の導電性ペーストをビアホールの内周面に沿って付着させた状態を得ることができる。この場合、第2の導電性ペーストとして、第1の導電性ペーストの粘度より低い粘度を有するものを用いると、余分な第2の導電性ペーストをビアホールから除去することがより容易になる。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to the present invention, when the second conductive paste is adhered along the inner peripheral surface of the via hole, the second conductive paste is injected into the via hole, and then the inner periphery of the via hole. If the excess second conductive paste is removed from the via hole while leaving only the portion adhering to the surface, the amount of the second conductive paste is attached from the beginning along the inner peripheral surface of the via hole. Compared with the case where the second conductive paste is applied while performing the general control, it is possible to obtain a state in which the second conductive paste is efficiently attached along the inner peripheral surface of the via hole. In this case, if a second conductive paste having a viscosity lower than that of the first conductive paste is used, it becomes easier to remove the excess second conductive paste from the via hole.

図1は、この発明の一実施形態を説明するための図であり、積層型セラミック電子部品に備える、互いに隣り合う2つのセラミック層1またはセラミック層1となるべき2つのセラミックグリーンシート1aならびにそれらの間に位置する内部導体膜2の各一部を拡大して断面図で示している。なお、図1において、単に2つのセラミック層1または単に2つのセラミックグリーンシート1aを図示したのは、それらの間に位置する内部導体膜2をも含めての説明を容易にするためのものである。   FIG. 1 is a view for explaining an embodiment of the present invention, two ceramic layers 1a that are to be adjacent to each other, or two ceramic green sheets 1a to be provided in a multilayer ceramic electronic component, and those Each part of the inner conductor film 2 located between them is enlarged and shown in a sectional view. In FIG. 1, the two ceramic layers 1 or the two ceramic green sheets 1 a are simply illustrated in order to facilitate the description including the inner conductor film 2 positioned between them. is there.

図1において、(5)には、積層型セラミック電子部品に備えるセラミック層1が示され、(1)〜(4)には、積層型セラミック電子部品を得るために実施されるいくつかの工程が順次示されている。   In FIG. 1, (5) shows a ceramic layer 1 provided in a multilayer ceramic electronic component, and (1) to (4) show several steps performed to obtain a multilayer ceramic electronic component. Are shown sequentially.

まず、図1(1)に示すように、セラミック層1となるべきセラミックグリーンシート1aが用意され、次いで、特定のセラミックグリーンシート1a上に内部導体膜2が導電性ペーストの印刷によって形成される。次に、図示した2つのセラミックグリーンシート1aを含む複数のセラミックグリーンシートが積層され、積層方向にプレスされ、それによって、生の積層体10aが得られる。   First, as shown in FIG. 1A, a ceramic green sheet 1a to be the ceramic layer 1 is prepared, and then an internal conductor film 2 is formed on the specific ceramic green sheet 1a by printing a conductive paste. . Next, a plurality of ceramic green sheets including the two ceramic green sheets 1a shown in the figure are laminated and pressed in the laminating direction, thereby obtaining a raw laminated body 10a.

次に、同じく図1(1)を参照して、生の積層体10aにおいて、セラミックグリーンシート1aを厚み方向に貫通するように、ビアホール3が設けられる。ビアホール3の形成には、たとえば、ドリル、パンチング、レーザなどが適用される。ビアホール3は、内部導体膜2をも貫通するように設けられ、ビアホール3の内周面上に内部導体膜2の切断面が露出している。   Next, referring also to FIG. 1 (1), via hole 3 is provided in raw laminate 10a so as to penetrate ceramic green sheet 1a in the thickness direction. For example, drilling, punching, or laser is applied to the formation of the via hole 3. The via hole 3 is provided so as to penetrate the internal conductor film 2, and the cut surface of the internal conductor film 2 is exposed on the inner peripheral surface of the via hole 3.

他方、金属粉末およびセラミック粉末を含有する、第1の導電性ペーストと、金属粉末を含有するとともに、第1の導電性ペースト中のセラミック粉末より少ない量のセラミック粉末を含有するかセラミック粉末を含有しない、第2の導電性ペーストとが用意される。   On the other hand, the first conductive paste containing the metal powder and the ceramic powder, and containing the metal powder and containing the ceramic powder in an amount smaller than the ceramic powder in the first conductive paste or containing the ceramic powder A second conductive paste is prepared.

ここで、第1の導電性ペースト中のセラミック粉末の含有量は、10〜20重量%であることが好ましい。10重量%未満であると、後述する焼成工程において、焼結収縮を十分抑制できない場合があり、20重量%を超えると、電気抵抗が高くなりすぎる場合があるためである。第2の導電性ペースト中のセラミック粉末の含有量は、0〜15重量%であることが好ましい。15重量%を超えると電気抵抗の観点から好ましくない場合がある。できるだけ小さい電気抵抗を得るためには、セラミック粉末を含有しないことが最も好ましい。   Here, the content of the ceramic powder in the first conductive paste is preferably 10 to 20% by weight. This is because if it is less than 10% by weight, sintering shrinkage may not be sufficiently suppressed in the firing step described later, and if it exceeds 20% by weight, the electrical resistance may become too high. The content of the ceramic powder in the second conductive paste is preferably 0 to 15% by weight. If it exceeds 15% by weight, it may not be preferable from the viewpoint of electrical resistance. In order to obtain the lowest possible electrical resistance, it is most preferable not to contain ceramic powder.

第1および第2の導電性ペーストに含有されるセラミック粉末を構成するセラミックとしては、次のようなものを用いることができる。第1および第2の導電性ペーストに含有される金属粉末を構成する金属として、Ni、Ag−Pdなどの融点の比較的高い金属を用いる場合には、BaTiO、CaTiO、SrTiO、CaZrOなどを主成分とする焼結温度が比較的高い誘電体セラミックを用いることができる。なお、これらの主成分に、Mn化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物、Ni化合物などの副成分を添加したものを用いてもよい。他方、導電性ペーストに含有される金属粉末を構成する金属として、Cu、Agなどの融点の比較的低い金属を用いる場合には、Alとホウケイ酸系ガラスとを混合したガラスセラミックや、Ba−Al−Si−O系セラミックなどを主成分とするものを用いることができる。 As the ceramic constituting the ceramic powder contained in the first and second conductive pastes, the following can be used. When a metal having a relatively high melting point, such as Ni or Ag—Pd, is used as the metal constituting the metal powder contained in the first and second conductive pastes, BaTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3 , CaZrO A dielectric ceramic whose sintering temperature is relatively high, mainly composed of 3 or the like, can be used. In addition, you may use what added subcomponents, such as a Mn compound, Fe compound, Cr compound, Co compound, Ni compound, to these main components. On the other hand, when a metal having a relatively low melting point such as Cu or Ag is used as the metal constituting the metal powder contained in the conductive paste, a glass ceramic in which Al 2 O 3 and borosilicate glass are mixed is used. , Ba—Al—Si—O-based ceramics or the like can be used.

なお、導電性ペースト中のセラミック粉末を構成するセラミックは、セラミック層1を構成するセラミック、すなわちセラミックグリーンシート1aに含まれるセラミック成分と同じ材料系のもの、言い換えると主成分を共通とするものであることが好ましく、より好ましくは、同一のセラミックである。導電性ペースト中のセラミック粉末が、焼成後において、セラミック層1の特性に悪影響を及ぼすことがないばかりでなく、焼成後において、セラミック層1との間で良好な接合性が得られるからである。なお、本明細書において、主成分とは、全成分の50重量%を超える成分を意味する。   The ceramic constituting the ceramic powder in the conductive paste is the same material as the ceramic constituting the ceramic layer 1, that is, the ceramic component contained in the ceramic green sheet 1a, in other words, having the same main component. It is preferred that it is the same ceramic. This is because the ceramic powder in the conductive paste not only does not adversely affect the characteristics of the ceramic layer 1 after firing, but also provides good bondability with the ceramic layer 1 after firing. . In addition, in this specification, a main component means the component exceeding 50 weight% of all the components.

第1および第2の導電性ペースト中のセラミック粉末の平均粒径は、0.1〜0.5μmの範囲に選ばれることが好ましい。また、セラミック粉末の平均粒径は、内部導体膜2の厚みより小さいことが好ましい。   The average particle size of the ceramic powder in the first and second conductive pastes is preferably selected in the range of 0.1 to 0.5 μm. The average particle size of the ceramic powder is preferably smaller than the thickness of the internal conductor film 2.

次に、図1(2)に示すように、セラミックグリーンシート1aに設けられたビアホール3に第2の導電性ペースト4が注入され、引き続き、図1(3)に示すように、第2の導電性ペースト4がビアホール3の内周面に沿って付着した状態とされる。第2の導電性ペースト4の注入には、たとえば圧入、スキージなどが適用される。なお、図1(2)ならびに後述する図1(3)および(4)においては、第2の導電性ペースト4の形態または挙動が、2つのセラミックグリーンシート1aを貫通するビアホール3に適合するように図示されているが、これは、図解上の便宜にすぎないことを指摘しておく。   Next, as shown in FIG. 1 (2), the second conductive paste 4 is injected into the via hole 3 provided in the ceramic green sheet 1a. Subsequently, as shown in FIG. The conductive paste 4 is attached along the inner peripheral surface of the via hole 3. For injection of the second conductive paste 4, for example, press-fitting, squeegee or the like is applied. In FIG. 1 (2) and FIGS. 1 (3) and (4) described later, the form or behavior of the second conductive paste 4 is adapted to the via hole 3 penetrating the two ceramic green sheets 1a. It should be pointed out that this is for illustration purposes only.

図1(3)に示すように、ビアホール3の内周面に沿って第2の導電性ペースト4が付着した状態を能率的に得るためには、ビアホール3に第2の導電性ペースト4を注入した後、ビアホール3の内周面に付着した部分のみを残して余分な第2の導電性ペースト4をビアホール3から除去するようにすることが好ましい。   As shown in FIG. 1 (3), in order to efficiently obtain a state in which the second conductive paste 4 adheres along the inner peripheral surface of the via hole 3, the second conductive paste 4 is applied to the via hole 3. After the injection, it is preferable to remove the excess second conductive paste 4 from the via hole 3 while leaving only the portion attached to the inner peripheral surface of the via hole 3.

この場合、上述の余分な第2の導電性ペースト4の除去を容易に行なえるようにするためには、第2の導電性ペースト4の粘度を、第1の導電性ペーストの粘度より低く、より具体的には、10〜20Pa・s(ブルックフィールド粘度計における20rpmの値)の粘度範囲に選ぶことが好ましい。ここで、粘度の好ましい範囲が10〜20Pa・sに選ばれるのは、10Pa・s未満であると、第2の導電性ペースト4がビアホール3の内周面上に十分に付着しない場合があり、他方、20Pa・sを超えると、余分な第2の導電性ペースト4がビアホール3から抜けにくくなり、後述する第1の導電性ペーストを充填するためのスペース5を十分に形成できない場合があるためである。   In this case, in order to make it possible to easily remove the excess second conductive paste 4 described above, the viscosity of the second conductive paste 4 is lower than the viscosity of the first conductive paste, More specifically, it is preferable to select a viscosity range of 10 to 20 Pa · s (a value of 20 rpm in a Brookfield viscometer). Here, the preferable range of the viscosity is selected to be 10 to 20 Pa · s. If the viscosity is less than 10 Pa · s, the second conductive paste 4 may not sufficiently adhere to the inner peripheral surface of the via hole 3. On the other hand, if it exceeds 20 Pa · s, the excess second conductive paste 4 is difficult to escape from the via hole 3, and there may be a case where a space 5 for filling the first conductive paste described later cannot be sufficiently formed. Because.

第2の導電性ペースト4の粘度を上述のように低くすれば、ビアホール3の径にもよるが、注入された第2の導電性ペースト4のすべてがビアホール3内に留まることができず、その一部がビアホール3から自然に漏れ出し、結果として、図1(3)に示すように、ビアホール3の内周面に沿って付着した状態を実現することができる。   If the viscosity of the second conductive paste 4 is lowered as described above, depending on the diameter of the via hole 3, all of the injected second conductive paste 4 cannot stay in the via hole 3, A part of the leakage naturally leaks from the via hole 3, and as a result, as shown in FIG. 1 (3), it is possible to realize a state of adhering along the inner peripheral surface of the via hole 3.

なお、第2の導電性ペースト4の粘度が比較的高いことなどが原因となって、図1(2)の状態から図2(3)の状態が順調に得られない場合には、圧縮空気をビアホール3に向かって吹き込んだり、吸い取り紙を接触させたりして、余分な第2の導電性ペースト4を強制的に除去するようにしてもよい。   If the state of FIG. 1 (2) cannot be obtained smoothly from the state of FIG. 1 (2) due to the relatively high viscosity of the second conductive paste 4, etc., compressed air The excess second conductive paste 4 may be forcibly removed by blowing the resin toward the via hole 3 or contacting a blotting paper.

次に、第2の導電性ペースト4が乾燥される。この乾燥は、室温で行なっても、加熱下で行なってもよいが、セラミックグリーンシート1aに含まれる樹脂のガラス転移点(Tg)以下の温度下であることが好ましい。   Next, the second conductive paste 4 is dried. Although this drying may be performed at room temperature or under heating, it is preferably at a temperature not higher than the glass transition point (Tg) of the resin contained in the ceramic green sheet 1a.

次に、図1(4)に示すように、第2の導電性ペースト4が内周面に付着したビアホール3に第1の導電性ペースト6が充填される。この第1の導電性ペースト6の充填にも、たとえば圧入、スキージなどが適用される。   Next, as shown in FIG. 1 (4), the first conductive paste 6 is filled in the via hole 3 in which the second conductive paste 4 adheres to the inner peripheral surface. For example, press-fitting or squeegee is applied to the filling of the first conductive paste 6.

第1の導電性ペースト6の粘度は、100〜200Pa・sの範囲に選ばれることが好ましい。100Pa・s未満であると、ビアホール3の内部に第1の導電性ペースト6が残留しにくくなり、後述する焼成によって得られたビア導体の密度が低下する場合がある。他方、200Pa・sを超えると、ビアホール3の軸線方向長さによっては、すなわち、この実施形態では、生の積層体10aの厚みによっては、ビアホール3の内部に第1の導電性ペースト6を十分に充填できない場合がある。なお、第1の導電性ペースト6がビアホール3の内部に円滑に充填されるようにするため、ビアホール3の一方開口側から真空吸引等により負圧を及ぼしながら、他方開口側から第1の導電性ペースト6を導入する方法が有効である。   The viscosity of the first conductive paste 6 is preferably selected in the range of 100 to 200 Pa · s. If it is less than 100 Pa · s, the first conductive paste 6 is less likely to remain inside the via hole 3, and the density of the via conductor obtained by firing, which will be described later, may be reduced. On the other hand, if it exceeds 200 Pa · s, depending on the length of the via hole 3 in the axial direction, that is, in this embodiment, depending on the thickness of the raw laminated body 10 a, the first conductive paste 6 is sufficient in the via hole 3. May not be filled. In order to smoothly fill the inside of the via hole 3 with the first conductive paste 6, a negative pressure is applied from one opening side of the via hole 3 by vacuum suction or the like, while the first conductive paste 6 is applied from the other opening side. A method of introducing the conductive paste 6 is effective.

次に、ビアホール3内の第1の導電性ペースト6が乾燥される。この乾燥のための好ましい条件は、前述した第2の導電性ペースト4の場合と同様である。   Next, the first conductive paste 6 in the via hole 3 is dried. The preferable conditions for this drying are the same as in the case of the second conductive paste 4 described above.

なお、ビアホール3に占める第1および第2の導電性ペースト6および4の体積割合については、第2の導電性ペースト4の体積に比べて、第1の導電性ペースト6の体積の方が小さいことが好ましい。   The volume ratio of the first and second conductive pastes 6 and 4 in the via hole 3 is smaller than the volume of the second conductive paste 4 than the volume of the second conductive paste 4. It is preferable.

次に、生の積層体10aが焼成される。この焼成には、たとえば、900〜1300℃の温度が適用される。なお、導電性ペースト4および6に含有される金属粉末を構成する金属として、Cuなどの低融点金属が用いられる場合には、1000℃以下の焼成温度が適用される。   Next, the raw laminate 10a is fired. For this firing, for example, a temperature of 900 to 1300 ° C. is applied. When a low melting point metal such as Cu is used as the metal constituting the metal powder contained in the conductive pastes 4 and 6, a firing temperature of 1000 ° C. or less is applied.

上述した焼成の結果、図1(5)に示すように、焼結した積層体10が得られる。この積層体10において、セラミックグリーンシート1aが焼結してセラミック層1となり、また、内部導体膜2が焼結するとともに、導電性ペースト4および6においても焼結が生じ、ビア導体7となる。ビア導体7は、互いの間に明確な境界が存在するわけではないが、外周部8と中心部9とを有する。外周部8は、第2の導電性ペースト4に由来し、中心部9は、第1の導電性ペースト6に由来する。したがって、外周部8に比べて中心部9の方がセラミック粉末の含有量が多く、その結果、ビア導体7中のセラミック粉末は、ビア導体7の径方向に関して、ビア導体7の中心から外周側に向かって減少するような濃度勾配をもって存在している。   As a result of the firing described above, a sintered laminate 10 is obtained as shown in FIG. In this laminate 10, the ceramic green sheet 1 a is sintered to become the ceramic layer 1, the internal conductor film 2 is sintered, and the conductive pastes 4 and 6 are also sintered to become the via conductor 7. . The via conductor 7 has an outer peripheral portion 8 and a central portion 9 although there is no clear boundary between them. The outer peripheral portion 8 is derived from the second conductive paste 4, and the central portion 9 is derived from the first conductive paste 6. Therefore, the content of the ceramic powder is larger in the central portion 9 than in the outer peripheral portion 8, and as a result, the ceramic powder in the via conductor 7 is located on the outer peripheral side from the center of the via conductor 7 in the radial direction of the via conductor 7. It exists with a concentration gradient that decreases toward.

上述のようなセラミック粉末の存在状態により、ビア導体7の外周部8において比較的良好な電気的導通状態が得られるので、ビア導体7の外周面に接する内部導体膜2との接触抵抗を低減することができる。また、表皮効果により、外周部8に集中する高周波信号が流れやすくなり、良好な伝送特性を得ることができる。特に、第2の導電性ペースト4がセラミック粉末を含有しない場合には、上記効果が顕著に現れる。   Due to the presence of the ceramic powder as described above, a relatively good electrical conduction state can be obtained in the outer peripheral portion 8 of the via conductor 7, so that the contact resistance with the inner conductor film 2 in contact with the outer peripheral surface of the via conductor 7 is reduced. can do. Further, the skin effect makes it easy for high-frequency signals concentrated on the outer peripheral portion 8 to flow, and good transmission characteristics can be obtained. In particular, when the second conductive paste 4 does not contain a ceramic powder, the above-described effect appears remarkably.

また、少なくとも第1の導電性ペースト6中に存在するセラミック粉末により、ビア導体7の内部の金属粉末の焼結が抑制され、ビア導体7とセラミック層1との間に隙間が生じにくくなる。   In addition, at least the ceramic powder present in the first conductive paste 6 suppresses the sintering of the metal powder inside the via conductor 7, and it is difficult for a gap to be formed between the via conductor 7 and the ceramic layer 1.

ビア導体7の径は、50〜150μmの範囲に選ばれることが好ましい。50μm未満の場合には、導電性ペースト4および6のビアホール3への導入が困難になることがある。また、ビア導体7と内部導体膜2との接触面積が小さくなり、良好な電気的導通状態が得られないことがある。他方、ビア導体7の径が150μmを超えると、耐湿性が低下することがある。   The diameter of the via conductor 7 is preferably selected in the range of 50 to 150 μm. When the thickness is less than 50 μm, it may be difficult to introduce the conductive pastes 4 and 6 into the via hole 3. Further, the contact area between the via conductor 7 and the internal conductor film 2 is reduced, and a good electrical conduction state may not be obtained. On the other hand, when the diameter of the via conductor 7 exceeds 150 μm, the moisture resistance may be lowered.

ビア導体7の軸線方向長さは、特に限定されるものではなく、用途に応じて様々な長さをとり得る。なお、積層型セラミック電子部品に備える積層体10の全厚みを貫通するようにビア導体7が設けられる場合には、ビア導体7の長さとしては、100μm〜1mmが実用的な範囲である。   The length in the axial direction of the via conductor 7 is not particularly limited, and can take various lengths depending on the application. In the case where the via conductor 7 is provided so as to penetrate the entire thickness of the multilayer body 10 provided in the multilayer ceramic electronic component, the length of the via conductor 7 is in a practical range of 100 μm to 1 mm.

上述した実施形態において、導電性ペーストとして、セラミック粉末の含有量が互いに異なる第1および第2の導電性ペースト6および4というように、2種類の導電性ペーストを用いたが、セラミック粉末の含有量が3段階以上で異ならせた3種類以上の導電性ペーストが用いられ、セラミック粉末の濃度について、3段階以上の濃度分布が与えられるようにしてもよい。   In the above-described embodiment, two types of conductive pastes were used as the conductive paste, such as the first and second conductive pastes 6 and 4 having different ceramic powder contents. Three or more kinds of conductive pastes having different amounts in three or more stages may be used, and the concentration distribution of the ceramic powder may be given in three or more stages.

図2は、この発明が適用され得る積層型セラミック電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサ11を示す断面図である。この積層セラミックコンデンサ11は、等価直列インダクタンスの低減を目的として提案されたものである。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing a multilayer ceramic capacitor 11 as an example of a multilayer ceramic electronic component to which the present invention can be applied. This multilayer ceramic capacitor 11 has been proposed for the purpose of reducing the equivalent series inductance.

積層セラミックコンデンサ11は、積層体12を備えている。積層体12は、積層された複数のセラミック層13からなる積層構造を有している。   The multilayer ceramic capacitor 11 includes a multilayer body 12. The laminated body 12 has a laminated structure composed of a plurality of laminated ceramic layers 13.

積層体12の内部には、複数のセラミック層13間の特定の界面に沿って、内部導体膜としての各々複数の第1および第2の内部電極14および15が形成されている。第1および第2の内部電極14および15は積層方向に交互に配置される。   Inside the multilayer body 12, a plurality of first and second internal electrodes 14 and 15 are formed as internal conductor films along specific interfaces between the plurality of ceramic layers 13. The first and second internal electrodes 14 and 15 are alternately arranged in the stacking direction.

また、積層体12には、各々複数の第1および第2のビア導体16および17が設けられる。第1の内部電極14は、第2のビア導体17に対しては電気的に絶縁されながら、第1のビア導体16に電気的に接続される。第2の内部電極15は、第1のビア導体16に対しては電気的に絶縁されながら、第2のビア導体17に電気的に接続される。   The multilayer body 12 is provided with a plurality of first and second via conductors 16 and 17, respectively. The first internal electrode 14 is electrically connected to the first via conductor 16 while being electrically insulated from the second via conductor 17. The second internal electrode 15 is electrically connected to the second via conductor 17 while being electrically insulated from the first via conductor 16.

上記の第1の内部電極14と第1のビア導体16との接続では、第1のビア導体16の外周面が第1の内部電極14と接している。また、第2の内部電極15と第2のビア導体17との接続では、第2のビア導体17の外周面が第2の内部電極15と接している。   In the connection between the first internal electrode 14 and the first via conductor 16, the outer peripheral surface of the first via conductor 16 is in contact with the first internal electrode 14. Further, in connection between the second internal electrode 15 and the second via conductor 17, the outer peripheral surface of the second via conductor 17 is in contact with the second internal electrode 15.

第1および第2のビア導体16および17は、交互に配列されながら、積層体12を厚み方向に貫通するように、すなわち、すべてのセラミック層13を厚み方向に貫通するように設けられ、積層体12の両主面上には、第1のビア導体16に電気的に接続される第1の外部電極18、および第2のビア導体17に電気的に接続される第2の外部導体19が形成される。   The first and second via conductors 16 and 17 are provided alternately so as to penetrate the multilayer body 12 in the thickness direction, that is, to penetrate all the ceramic layers 13 in the thickness direction. On both main surfaces of the body 12, a first external electrode 18 electrically connected to the first via conductor 16 and a second external conductor 19 electrically connected to the second via conductor 17 are provided. Is formed.

このような積層セラミックコンデンサ11において、第1および第2のビア導体16および17は、図1(5)に示したビア導体7の場合と実質的に同様の方法によって形成される。したがって、図2には図示されないが、ビア導体16および17は、図1(5)に示したビア導体7と実質的に同様の構造を有していて、セラミック粉末が、ビア導体16および17の径方向に関して、ビア導体16および17の中心から外周側に向かって減少するような濃度勾配をもって存在している。   In such a multilayer ceramic capacitor 11, the first and second via conductors 16 and 17 are formed by a method substantially similar to the case of the via conductor 7 shown in FIG. Accordingly, although not shown in FIG. 2, the via conductors 16 and 17 have substantially the same structure as the via conductor 7 shown in FIG. With respect to the radial direction, there exists a concentration gradient that decreases from the center of the via conductors 16 and 17 toward the outer peripheral side.

なお、ビア導体16および17を形成するにあたって、ビアホールを有する複数のセラミックグリーンシートを、各ビアホールが同一軸線上に整列しかつ互いに連通するようにして積層し、整列したビアホールに導電性ペーストを充填する、といった第1の方法、あるいは、図1を参照して説明したように、複数のセラミックグリーンシートを積層し、すべてのセラミックグリーンシートを貫通するビアホールを一挙に形成し、このビアホールに導電性ペーストを充填する、といった第2の方法を採用することができる。これらの方法のうち、第2の方法、言い換えると、生の積層体を得た後にビアホールを設ける方法の方が、複数のセラミックグリーンシートの各々のビアホールを互いに位置合わせする必要がなく、高い精度をもって貫通するビア導体16および17を形成することができる。   When forming the via conductors 16 and 17, a plurality of ceramic green sheets having via holes are stacked so that the via holes are aligned on the same axis and communicate with each other, and the aligned via holes are filled with a conductive paste. As described with reference to FIG. 1 or the first method, a plurality of ceramic green sheets are laminated, and via holes penetrating all the ceramic green sheets are formed at once, and the via holes are electrically conductive. A second method of filling the paste can be employed. Of these methods, the second method, in other words, the method of providing a via hole after obtaining a raw laminate, does not require alignment of each via hole of a plurality of ceramic green sheets, and has high accuracy. Via conductors 16 and 17 can be formed.

図3は、この発明が適用され得る積層型セラミック電子部品の他の例としての多層セラミック基板21を示す断面図である。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing a multilayer ceramic substrate 21 as another example of a multilayer ceramic electronic component to which the present invention can be applied.

多層セラミック基板21は、積層体22を備えている。積層体22は、積層された複数のセラミック層23からなる積層構造を有している。   The multilayer ceramic substrate 21 includes a laminated body 22. The laminated body 22 has a laminated structure composed of a plurality of laminated ceramic layers 23.

積層体22の内部には、複数のセラミック層23間の界面に沿って、いくつかの内部導体膜24が形成されている。また、特定の内部導体膜24に電気的に接続されるいくつかのビア導体25が、特定のセラミック層23を厚み方向に貫通するように設けられている。また、積層体22の外表面上には、いくつかの外部導体膜26が形成されている。   Several internal conductor films 24 are formed along the interface between the plurality of ceramic layers 23 inside the multilayer body 22. Further, several via conductors 25 electrically connected to the specific internal conductor film 24 are provided so as to penetrate the specific ceramic layer 23 in the thickness direction. In addition, several external conductor films 26 are formed on the outer surface of the multilayer body 22.

このような多層セラミック基板21において、ビア導体25は、図1(5)に示したビア導体7と実質的に同様の構造を有していて、セラミック粉末が、ビア導体25の径方向に関して、ビア導体25の中心から外周側に向かって減少するような濃度勾配をもって存在している。   In such a multilayer ceramic substrate 21, the via conductor 25 has substantially the same structure as the via conductor 7 shown in FIG. 1 (5), and the ceramic powder is related to the radial direction of the via conductor 25. There exists a concentration gradient that decreases from the center of the via conductor 25 toward the outer peripheral side.

この多層セラミック基板21においては、ビア導体25は、その端面において、特定の内部導体膜24あるいは特定の外部導体膜26と接している。この場合であっても、ビア導体25の、電気抵抗が比較的低い外周部を、内部導体膜24または外部導体膜26に接触させることができる。   In the multilayer ceramic substrate 21, the via conductor 25 is in contact with a specific internal conductor film 24 or a specific external conductor film 26 at its end face. Even in this case, the outer peripheral portion of the via conductor 25 having a relatively low electric resistance can be brought into contact with the inner conductor film 24 or the outer conductor film 26.

なお、図3に示した多層セラミック基板21のように、ビア導体25の位置が各セラミック層23ごとに異なる場合には、複数のセラミックグリーンシートにそれぞれビアホールを形成し、各ビアホールに、図1(2)〜(4)に示す工程と実質的に同様の工程に従って、導電性ペーストを充填した上で、複数のセラミックグリーンシートを積層する方法を採用することができる。   When the position of the via conductor 25 is different for each ceramic layer 23 as in the multilayer ceramic substrate 21 shown in FIG. 3, via holes are respectively formed in the plurality of ceramic green sheets, and A method of laminating a plurality of ceramic green sheets after filling with a conductive paste according to substantially the same steps as the steps shown in (2) to (4) can be adopted.

次に、この発明による効果を確認するために実施した実験例について説明する。この実験例では、図2に示すような構造を有する積層セラミックコンデンサ11を試料として作製した。   Next, experimental examples carried out to confirm the effects of the present invention will be described. In this experimental example, a multilayer ceramic capacitor 11 having a structure as shown in FIG. 2 was produced as a sample.

まず、この発明の範囲内にある実施例に係る試料を、次のような条件の下で作製した。   First, samples according to examples within the scope of the present invention were produced under the following conditions.

試料としての積層セラミックコンデンサ11に備える積層体12の寸法を3mm×3mm×0.85mmとした。セラミック層13は、BaTiOを主成分とするセラミックから構成し、その厚みを3μmとした。ビア導体16および17の各々の径を100μmとした。また、内部電極14および15の導電成分として、Niを用いた。 The dimension of the multilayer body 12 provided in the multilayer ceramic capacitor 11 as a sample was 3 mm × 3 mm × 0.85 mm. The ceramic layer 13 is made of ceramic mainly composed of BaTiO 3 and has a thickness of 3 μm. The diameter of each of the via conductors 16 and 17 was 100 μm. Ni was used as the conductive component of the internal electrodes 14 and 15.

また、ビア導体16および17の形成のため、第2の導電性ペーストとして、Ni粉末、イソプロピルアルコールおよびポリビニルブチラールを含有するものを用いた。すなわち、セラミック粉末を含有しない組成とした。第2の導電性ペーストの粘度を10Pa・sとし、ビアホールへの注入後の乾燥において、60℃の温度を適用した。   Further, for forming the via conductors 16 and 17, a second conductive paste containing Ni powder, isopropyl alcohol and polyvinyl butyral was used. That is, the composition does not contain ceramic powder. The viscosity of the second conductive paste was 10 Pa · s, and a temperature of 60 ° C. was applied in drying after pouring into the via hole.

他方、第1の導電性ペーストとしては、Ni粉末、セラミック粉末、イソプロピルアルコールおよびポリビニルブチラールを含有するものを用いた。ここで、セラミック粉末としては、BaTiOを主成分とするセラミックからなるもので、平均粒径0.2μmのものを用い、第1の導電性ペースト中での含有率を10重量%とした。また、第1の導電性ペーストの粘度を150Pa・sとし、ビアホールへの充填後の乾燥工程において、60℃の温度を適用した。 On the other hand, as the first conductive paste, a paste containing Ni powder, ceramic powder, isopropyl alcohol and polyvinyl butyral was used. Here, as the ceramic powder, a ceramic powder mainly composed of BaTiO 3 having an average particle diameter of 0.2 μm was used, and the content in the first conductive paste was 10% by weight. In addition, the viscosity of the first conductive paste was 150 Pa · s, and a temperature of 60 ° C. was applied in the drying step after filling the via holes.

さらに、積層体12を得るための生の積層体を焼成する工程において、中性雰囲気で1250℃の温度を適用した。また、外部電極18および19の導電成分としてCuを用い、これを焼付けにより形成するため、還元性雰囲気中において800℃の温度を適用した。   Further, in the step of firing the raw laminate for obtaining the laminate 12, a temperature of 1250 ° C. was applied in a neutral atmosphere. Further, Cu was used as the conductive component of the external electrodes 18 and 19, and in order to form this by baking, a temperature of 800 ° C. was applied in a reducing atmosphere.

他方、この発明の範囲外にある比較例1に係る試料として、ビア導体16および17を形成するため、ビアホールに第2の導電性ペーストのみを充填したものを作製した。また、比較例2に係る試料として、ビア導体16および17を形成するため、ビアホールに第1の導電性ペーストのみを充填したものを作製した。比較例1および2のいずれについても、他の条件は、実施例の場合と同じとした。   On the other hand, as a sample according to Comparative Example 1 outside the scope of the present invention, a via hole filled with only the second conductive paste was prepared in order to form the via conductors 16 and 17. Moreover, in order to form the via conductors 16 and 17 as a sample according to Comparative Example 2, a via hole filled with only the first conductive paste was produced. For all of Comparative Examples 1 and 2, the other conditions were the same as in the example.

これら実施例ならびに比較例1および2を比較すると、任意のビア導体16または17と接続される1対の外部電極18または19間に直流電圧を印加し、比抵抗を測定したところ、比較例2の比抵抗が実施例および比較例1のものに比べて高かった。   When these Examples and Comparative Examples 1 and 2 are compared, when a DC voltage is applied between a pair of external electrodes 18 or 19 connected to an arbitrary via conductor 16 or 17, and a specific resistance is measured, Comparative Example 2 is obtained. The specific resistance was higher than that of the example and the comparative example 1.

また、任意のビア導体16または17の断面をSEMで観察したところ、実施例および比較例2では、セラミック層13との境界に、1μmを超える隙間がなかったのに対し、比較例1ではそのような隙間が存在していることが確認された。   Moreover, when the cross section of the arbitrary via conductor 16 or 17 was observed by SEM, in Example and Comparative Example 2, there was no gap exceeding 1 μm at the boundary with the ceramic layer 13, whereas in Comparative Example 1 It was confirmed that such a gap exists.

この発明の一実施形態を説明するための図であり、積層型セラミック電子部品に備える、互いに隣り合う2つのセラミック層1またはセラミック層1となるべき2つのセラミックグリーンシート1aならびにそれらの間に位置する内部導体膜2の各一部を拡大して断面図で示すものであり、積層型セラミック電子部品の製造方法において実施されるいくつかの工程を順次示している。It is a figure for describing one embodiment of the present invention, and is provided in a multilayer ceramic electronic component, two adjacent ceramic layers 1 or two ceramic green sheets 1a to be ceramic layers 1 and a position between them FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of each part of the inner conductor film 2 and sequentially shows several steps performed in the method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component. この発明が適用され得る積層型セラミック電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサ11を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the multilayer ceramic capacitor 11 as an example of the multilayer ceramic electronic component with which this invention can be applied. この発明が適用され得る積層型セラミック電子部品の他の例としての多層セラミック基板21を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the multilayer ceramic substrate 21 as another example of the multilayer ceramic electronic component with which this invention can be applied.

符号の説明Explanation of symbols

1,13,23 セラミック層
1a セラミックグリーンシート
2 内部導体膜
3 ビアホール
4 第2の導電性ペースト
6 第1の導電性ペースト
7,16,17,25 ビア導体
8 外周部
9 中心部
10,12,22 積層体
10a 生の積層体
11 積層セラミックコンデンサ
21 多層セラミック基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,13,23 Ceramic layer 1a Ceramic green sheet 2 Internal conductor film 3 Via hole 4 2nd electroconductive paste 6 1st electroconductive paste 7, 16, 17, 25 Via conductor 8 Outer peripheral part 9 Center part 10,12, 22 Laminated body 10a Raw laminated body 11 Multilayer ceramic capacitor 21 Multilayer ceramic substrate

Claims (9)

積層された複数のセラミック層からなる積層構造を有する、積層体と、
特定の前記セラミック層上に形成される、内部導体膜と、
特定の前記セラミック層を厚み方向に貫通するように設けられかつ特定の前記内部導体膜に接する、ビア導体と
を備え、
前記ビア導体は、金属粉末およびセラミック粉末を含有し、
前記ビア導体中の前記セラミック粉末は、前記ビア導体の径方向に関して、前記ビア導体の中心から外周側に向かって減少するような濃度勾配をもって存在している、
積層型セラミック電子部品。
A laminated body having a laminated structure comprising a plurality of laminated ceramic layers;
An inner conductor film formed on the specific ceramic layer;
A via conductor provided so as to penetrate the specific ceramic layer in the thickness direction and in contact with the specific internal conductor film,
The via conductor contains a metal powder and a ceramic powder,
The ceramic powder in the via conductor is present with a concentration gradient that decreases from the center of the via conductor toward the outer peripheral side with respect to the radial direction of the via conductor.
Multilayer ceramic electronic components.
前記ビア導体の外周部に、前記セラミック粉末が存在しない領域がある、請求項1に記載の積層型セラミック電子部品。   The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein there is a region where the ceramic powder is not present on an outer peripheral portion of the via conductor. 前記セラミック粉末を構成するセラミックは、前記セラミック層を構成するセラミックと同じ材料系のものである、請求項1または2に記載の積層型セラミック電子部品。   The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein the ceramic constituting the ceramic powder is of the same material system as the ceramic constituting the ceramic layer. 前記ビア導体は、その外周面において、特定の前記内部導体膜と接する、請求項1ないし3のいずれかに記載の積層型セラミック電子部品。   4. The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein the via conductor is in contact with the specific inner conductor film on an outer peripheral surface thereof. 5. 前記ビア導体は、その端面において、特定の前記内部導体膜と接する、請求項1ないし4のいずれかに記載の積層型セラミック電子部品。   5. The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein the via conductor is in contact with the specific inner conductor film at an end surface thereof. 6. 複数のセラミックグリーンシートを用意する工程と、特定の前記セラミックグリーンシート上に内部導体膜を形成する工程と、複数の前記セラミックグリーンシートを積層することによって、生の積層体を得る工程と、前記生の積層体を焼成する工程とを備える、積層型セラミック電子部品の製造方法であって、
金属粉末およびセラミック粉末を含有する、第1の導電性ペーストと、金属粉末を含有するとともに、前記第1の導電性ペースト中の前記セラミック粉末より少ない量のセラミック粉末を含有するかセラミック粉末を含有しない、第2の導電性ペーストとをそれぞれ用意する工程と、
特定の前記セラミックグリーンシートを厚み方向に貫通するように、ビアホールを設ける工程と、
前記ビアホールに前記第2の導電性ペーストを注入し、それによって、前記ビアホールの内周面に沿って前記第2の導電性ペーストを付着させる工程と、
前記第2の導電性ペーストが内周面に付着した前記ビアホールに前記第1の導電性ペーストを充填する工程と
をさらに備え、
前記生の積層体の状態にあるとき、少なくとも前記第2の導電性ペーストは、特定の前記内部導体膜に接する、
積層型セラミック電子部品の製造方法。
A step of preparing a plurality of ceramic green sheets, a step of forming an internal conductor film on the specific ceramic green sheet, a step of obtaining a raw laminate by laminating the plurality of ceramic green sheets, A method for producing a multilayer ceramic electronic component comprising a step of firing a raw laminate,
First conductive paste containing metal powder and ceramic powder, and containing metal powder and containing ceramic powder in an amount less than ceramic powder in first conductive paste or containing ceramic powder Not preparing each of the second conductive pastes;
Providing a via hole so as to penetrate the specific ceramic green sheet in the thickness direction;
Injecting the second conductive paste into the via hole, thereby attaching the second conductive paste along the inner peripheral surface of the via hole;
Filling the via hole with the second conductive paste adhering to the inner peripheral surface with the first conductive paste;
When in the state of the raw laminate, at least the second conductive paste is in contact with the specific inner conductor film,
Manufacturing method of multilayer ceramic electronic component.
前記ビアホールを設ける工程は、前記生の積層体を得る工程の後に実施され、前記ビアホールは、特定の前記内部導体膜を貫通するように設けられる、請求項6に記載の積層型セラミック電子部品の製造方法。   The multilayer ceramic electronic component according to claim 6, wherein the step of providing the via hole is performed after the step of obtaining the raw multilayer body, and the via hole is provided to penetrate the specific internal conductor film. Production method. 前記ビアホールの内周面に沿って第2の導電性ペーストを付着させる工程は、前記ビアホールに前記第2の導電性ペーストを注入した後、前記ビアホールの内周面に付着した部分のみを残して余分な前記第2の導電性ペーストを前記ビアホールから除去する工程を備える、請求項6または7に記載の積層型セラミック電子部品の製造方法。   The step of attaching the second conductive paste along the inner peripheral surface of the via hole leaves only the portion attached to the inner peripheral surface of the via hole after injecting the second conductive paste into the via hole. The method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to claim 6, further comprising a step of removing excess second conductive paste from the via hole. 前記第2の導電性ペーストは、前記第1の導電性ペーストの粘度より低い粘度を有する、請求項8に記載の積層型セラミック電子部品の製造方法。   The method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to claim 8, wherein the second conductive paste has a viscosity lower than that of the first conductive paste.
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