JP4800044B2 - プラズマ処理装置および処理方法 - Google Patents
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Description
103 電極
104 ウエハ
105 高周波電源
121 フォーカスリング
124 スイッチ回路
Claims (3)
- 被処理基板へ電力を供給する第1の給電線と、前記被処理基板の周辺に設置された部材へ電力を供給する第2の給電線と、分岐された前記第1及び前記第2の給電線へ電力を供給する電力供給装置と、インピーダンス調整手段とを有するプラズマ処理装置であって、
前記第1の給電線が、前記インピーダンス調整手段を介して前記電力供給装置に接続される第1の電源供給ライン、または、前記インピーダンス調整手段を介さずに直接、前記電力供給装置に接続される第2の電源供給ラインに、スイッチにより切り替え可能に構成され、
前記第2の給電線が、前記電力供給装置に直結されている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記インピーダンス調整手段が可変容量コンデンサである
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載されたプラズマ処理装置を用いて行うプラズマ処理方法であって、
前記被処理基板周辺に設置された部材への前記第2の給電線が前記電力供給装置に直結され、前記被処理基板への前記第1の給電線が前記該電力供給装置から前記インピーダンス調整手段を介して接続された状態でプラズマ処理を行うステップを含む
ことを特徴とするプラズマ処理方法。
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JP2006015575A JP4800044B2 (ja) | 2006-01-24 | 2006-01-24 | プラズマ処理装置および処理方法 |
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Family Applications (1)
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JP5204673B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2013-06-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ分布の制御方法 |
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JP2000164583A (ja) * | 1998-06-24 | 2000-06-16 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
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