JP4799982B2 - An electromagnetic wave shielding material roll body and a manufacturing method thereof - Google Patents

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本発明は、電磁波シールド材及びその製造方法に関し、さらに詳細には、主に大型建築物の窓ガラスや自動車の窓ガラスなどの屋外側に貼り付けて使用するための連続ロールシート状態で供給される電磁波シールド材ロール体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding material and a manufacturing method thereof, and more particularly, is mainly supplied in a continuous roll sheet state for use adhered to outdoor side such as a window glass or automotive window glass of a large building that an electromagnetic wave shielding material roll and a method for producing the same.

近年、各種の電子機器から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、さらには、無線LANの普及により建物内の通信データが建物の外部に漏洩して傍受されるのを防止する必要が生じており、電磁波シールドの対策がますます重要視されつつある。 Recently, or apply various adverse electromagnetic waves on the human body generated by electronic equipment, now be malfunctioning electronic equipment around in question, furthermore, the communication data in the building by the spread of wireless LAN building and it is necessary to prevent from being intercepted by leakage to the outside, as countermeasures against electromagnetic shielding is being increasingly important.

従来、電子機器から発生する電磁波が外部に漏洩して人体への悪影響を防ぐという要求に対して、種々の透明導電性フィルムおよび電磁波シールドフィルムが開発されている。 Conventionally, electromagnetic waves generated from electronic equipment to the request of preventing adverse effects on the human body from leaking to the outside, various transparent conductive film and an electromagnetic wave shielding film has been developed. 公知の電磁波シールド材は、大きくは、透明導電膜による電磁波シールド材と、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の2つに区分される。 Known electromagnetic wave shielding material is large, and an electromagnetic wave shielding material of a transparent conductive film is divided by conductive metal mesh into two electromagnetic wave shielding material. このうち、透明導電膜による電磁波シールド材は、金属メッシュによる電磁波シールド材に比べて透明性に優れる反面、表面抵抗率が大きく、電磁波シールド性能に劣る。 Among them, the electromagnetic wave shielding material of a transparent conductive film, although excellent in transparency as compared with the electromagnetic wave shielding material by the metal mesh, the surface resistivity is large, poor electromagnetic shielding performance. このため高度な電磁波シールド性能が必要とされる用途では、金属メッシュによる電磁波シールド材が好ましい。 In applications where this for high electromagnetic wave shielding performance is required, the electromagnetic wave shielding material by the metal mesh is preferred.

さらに、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の作製方法としては、下記の(1)〜(3)に示す方法が挙げられる。 Further, as a method for manufacturing a conductive metal mesh by an electromagnetic wave shielding material, and a method shown in the following (1) to (3).
(1)透明基材に金属箔を貼り合わせ、または透明基材に金属の薄膜を蒸着した後、フォトリソグラフ法により導電性金属パターンを形成するエッチング法(例えば、特許文献1参照)。 (1) laminating a metal foil on a transparent substrate, or after depositing a thin film of metal on a transparent substrate, an etching method for forming a conductive metal pattern by photolithography (e.g., see Patent Document 1).
(2)透明基材の上に導電性の金属ペーストをメッシュパターンに印刷した後にメッキして導電性金属パターンを形成する印刷−メッキ法(例えば、特許文献2参照)。 (2) Printing a plating with a conductive metal pattern after printing a conductive metal paste to a mesh pattern on the transparent substrate - plating (e.g., see Patent Document 2).
(3)細線パターンを写真製法により現像された金属銀で形成した後、この金属銀を物理現像および/またはメッキすることにより導電性金属パターンを形成する写真銀−メッキ法(例えば、特許文献3および特許文献4参照)。 (3) forming in the developed metallic silver by photo process a fine line pattern, photographic silver to form a conductive metal pattern by physical development and / or plating the metallic silver - plating (e.g., Patent Document 3 and Patent Document 4).

そして、写真製法により金属銀でメッシュパターンを形成する方法には、下記の(a)、(b)に示す2通りがある。 Then, the method for forming the mesh pattern in metallic silver by photo process, the following (a), there are two types shown in (b).

(a)支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び/又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法(例えば、特許文献3参照)。 (A) exposing the silver salt-containing layer containing a silver salt provided on the support, by developing to form a metal silver portion and a light transmitting portion further physical development and the metallic silver portion / or plating method for forming a conductive metal portion in which is supported a conductive metal particles in the metal silver portion by (e.g., see Patent Document 3). この方法は、露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀は発現せず、露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、したがって、露光マスクと比較して反転した形に現像銀が表れるネガ型の露光・現像法である。 The method does not developed silver expression in a portion not exposed are covered with an exposure mask, developed silver is expressed in portions exposed not covered by the exposure mask, therefore, compared with the exposure mask a negative type exposure and development method developed silver appears to form an inverted Te.

(b)透明基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とをこの順で有する感光材料を露光し、物理現像核上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきする方法(例えば、特許文献4参照)。 (B) on a transparent substrate, physical development and a nuclei layer and a silver halide emulsion layer and exposing a photosensitive material having in this order to precipitate metallic silver in any fine line pattern on the physical development nuclei, followed by the physical after removing the layer provided on the developing nuclei, a method of plating a metal the physical developed metallic silver as a catalyst nucleus (e.g., see Patent Document 4). この方法は、露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現し、露光マスクに覆われていなくて露光された部分には現像銀が発現しない、したがって、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるポジ型の露光・現像法(銀錯塩拡散転写法、以降DTR法と称す。)である。 This method, developed silver is expressed in the portion which has not been exposed is covered with the exposure mask, is not exhibited developed silver in portions exposed not covered by the exposure mask, therefore, the same shape as the exposure mask it is a developed silver appears positive exposure and development method (the silver complex diffusion transfer process, referred to as subsequent DTR method.) to.

また、特許文献5には、建築物の窓ガラス、列車や自動車の窓ガラスなどに貼り付ける電磁波シールド材に関して、フォトレジスト法を用いて、基体に接着剤層を介して積層した金属箔をエッチングすることによりメッシュを作製する方法が記載されている。 Further, Patent Document 5, a window glass of buildings, with respect to an electromagnetic wave shielding material paste such as window glass of the train or automobile, using the photoresist method, etching the metallic foil laminated through an adhesive layer to a substrate method of making a mesh is described by.
特開平10−075087号公報 JP 10-075087 discloses 特開平11−170420号公報 JP 11-170420 discloses 特開2004−221564号公報 JP 2004-221564 JP 国際公開WO2004/007810号パンフレット International Publication WO2004 / 007810 pamphlet 特開2002−190692号公報 JP 2002-190692 JP

上記(1)のエッチング法においては、エッチングにより細線部分となるほんのわずかな部分のみを残し、それ以外のほとんど大部分の金属を溶解除去するのは資源を節減するという観点から問題である。 In the etching method described above (1), leaving only the only a small portion to be a thin line portion by etching, is problematic from the viewpoint of saving resources to dissolve and remove the vast majority of the metals other than it. また、市販されている金属箔の最大規格寸法幅が約600mm以下であるから、金属箔を貼り合わせる方法ではこれ以上の寸法幅が広い電磁波シールド材は製造できない。 Further, since the maximum standard dimension the width of the metal foil which is commercially available is about 600mm or less, can not be produced any more dimensions wider electromagnetic shielding material in the method of bonding a metal foil. また、金属の薄膜を蒸着する場合は、膨大な設備費が必要となることから簡単に製造を行うことができないという問題があった。 In the case of depositing a thin film of metal, there is a problem that can not be performed easily prepared from the enormous equipment cost is required.
上記(2)の印刷−メッキ法においては、メッシュパターンの線幅を30μm以下にするのが困難であり、また、透明基材とメッシュパターンの密着性が悪く剥がれ易いという問題があった。 Printing of the (2) - In the plating method, it is difficult to the line width of the mesh pattern to 30μm or less, adhesion of the transparent base material and the mesh pattern has a problem of easily peeling poor.

上記(3)の写真銀−メッキ法においては、高い電磁波シールド性が得られ、また、透明基材の寸法に制約を受けることが無く、ロールtoロールで製造でき非常に生産性が高いことから好ましい製造方法である。 Photo Silver above (3) - In the plating method, high electromagnetic wave shielding property can be obtained and, without being restricted to the dimensions of the transparent substrate, since very high productivity can be produced by a roll-to-roll it is a preferred method.

ところで、従来の電磁波シールド材の用途としては、PDP(プラズマディスプレイパネル)から発生する電磁波をシールドするために、PDPの光学フィルターの中に組み込まれる電磁波シールドフィルムが主要なものである。 Meanwhile, the application of conventional electromagnetic wave shielding material, for shielding electromagnetic waves generated from the PDP (plasma display panel), an electromagnetic wave shielding film to be incorporated into the PDP optical filter is of major. このような比較的に小型の機器を対象としたものでは、一台当たりに使用する電磁波シールドフィルムの面積は狭くなってしまう。 Such targeted at an small equipment in a relatively, the area of ​​the electromagnetic wave shielding film used per single becomes narrower. また、PDP用等の電磁波シールドフィルムは、PDPの画面サイズのメッシュパターンをロールシート面上に一定間隔で間欠的に不連続に製造しており、ロールシート面上に切れ目のない連続したメッシュパターンからなる電磁波シールド材を製造することは知られていなかった。 Further, the electromagnetic wave shielding film, such as a PDP, the mesh pattern of the screen size of the PDP have been intermittently discontinuously produced at regular intervals on the roll sheet surface, a mesh pattern which is continuous unbroken on the roll sheet surface to produce an electromagnetic wave shielding material made of is not known.

また、特許文献5には、金属箔メッシュによる建築物の窓ガラス、列車や自動車の窓ガラスなどに貼り付けて用いる電磁波シールド材が開示されている。 Further, Patent Document 5, a window glass of buildings with metal foil mesh, an electromagnetic wave shielding material using paste like window glass trains and automobiles is disclosed. この文献には、フォトレジスト法を用いて金属箔をエッチングすることにより金属箔メッシュを作製するという一般的な技術が開示されているが、切れ目のない長尺の連続メッシュパターンを製造することに係わる技術に関しては、何ら開示も示唆もされていない。 This document, although the general technique is disclosed that to produce the metal foil mesh by etching the metal foil using the photo-resist method, to produce a continuous mesh pattern of unbroken elongated with respect to the related technology, it has not been nor suggest any disclosure.

大型建築物では、窓ガラスを保持する機構を窓ガラスの屋内側に備えている場合があり、このような場合には屋外側から窓ガラスに電磁波シールド材を貼り付ける必要がある。 In large buildings, it may have a mechanism for holding the window glass indoor side of the window glass, in such a case it is necessary to paste the electromagnetic shielding material to the window glass from the weather side. このため、耐候性があって大型建築物の窓ガラスなどの屋外側に貼り付けて使用するための切れ目のない連続メッシュパターンが形成された連続ロールシート状態で供給される電磁波シールド材を安価に提供できる技術が求められていた。 Therefore, there is a weather resistance inexpensively electromagnetic shielding material supplied in a continuous roll sheet state unbroken continuous mesh pattern for pasted using the weather side is formed such as a window glass of a large building technology that can provide has been demanded.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、従来の製造方法では対応できない、耐候性があって大型建築物の窓ガラスなどの屋外側に貼り付けて使用するための連続ロールシート状態で供給される電磁波シールド材及びその製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, it can not be handled by the conventional manufacturing method, the continuous roll sheet state for when there is weather resistance using paste outdoor side such as a window glass of a large building and to provide a in electromagnetic wave shielding material and a manufacturing method thereof are provided.

前記課題を解決するため、本発明は、長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体であって、前記金属メッシュパターンは、 現像銀が発現する写真製法により生成されてなる、前記透明基材の送りが連続送りであり、前記透明基材への光の照射が断続することなく連続して露光することができ、かつ、線が切れ目なく連続したメッシュパターンを形成できる連続露光装置を用いて露光マスクをとおして露光し、次いで現像することにより形成された現像銀メッシュパターンと、その上に、ロールtoロールで無電解メッキを連続して行う装置を用いて形成された、無電解銅メッキ層及び/又は無電解ニッ To solve the above problems, the present invention is, on at least one surface of the long transparent base material, a metal mesh pattern longitudinal lines are continuous without break of the transparent substrate is provided, supplied in rolls a electromagnetic wave shielding material roll body to be, the metal mesh pattern is formed by generating the photo production method developed silver is expressed, the is a feed continuous feed of the transparent substrate, the light to the transparent substrate irradiation can be successively exposed without intermittent, and a line is exposed through an exposure mask by using a continuous exposure apparatus capable of forming a continuous mesh pattern seamlessly, then formed by developing and developed silver mesh pattern, thereon was formed using the apparatus to continuously perform electroless plating a roll-to-roll, electroless copper plating layer and / or electroless Stevenage ルメッキ層からなる金属メッキ層とを有し、かつ前記金属メッシュパターンは、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンであって、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層が埋め込まれていることを特徴とする電磁波シールド材ロール体を提供する。 And a metal plating layer made of Rumekki layer, and the metal mesh pattern, the longitudinal line of the transparent substrate is a continuous metal mesh pattern seamlessly, transparent resin to the uneven portion of the metal mesh pattern providing electromagnetic shielding material roll body, wherein the layer is embedded.

本発明の電磁波シールド材ロール体においては、前記透明樹脂層の上には防汚層が積層されていることが好ましい。 In the electromagnetic wave shielding material roll of the present invention, it is preferable that the antifouling layer is laminated on the transparent resin layer. また、前記透明樹脂層と防汚層との間にハードコート層を積層することもできる。 It is also possible to laminate a hard coat layer between the transparent resin layer and the antifouling layer. また、前記透明樹脂層の中に紫外線吸収剤を含有した構成とすることもできる。 It is also possible to adopt a configuration that contains an ultraviolet absorber in the transparent resin layer. 前記金属メッシュパターンを透明基材の一方の面に設け、かつ該透明基材の他方の面に粘着剤層を設けた構成とすることもできる。 The metal mesh pattern formed on one surface of a transparent substrate, and may be a structure in which a pressure-sensitive adhesive layer on the other surface of the transparent substrate.
前記現像銀メッシュパターンとしては、露光した部分に現像銀が発現するネガ型の現像方法により生成されたもの、露光しない部分に現像銀が発現するポジ型の現像方法により生成されたもののいずれを採用することも可能である。 As the developed silver mesh pattern, that the exposed portions to developed silver produced by development method negative expressing adopt any of those produced by the developing method of the positive expressing developed silver in a portion not exposed it is also possible to.

また本発明は、長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体の製造方法であって、露光及び現像によって金属銀を析出する物質を含む層が設けられた透明基材を、 前記透明基材の送りが連続送りであり、前記透明基材への光の照射が断続することなく連続して露光することができ、かつ、線が切れ目なく連続したメッシュパターンを形成できる連続露光装置を用いて露光マスクをとおして露光し、次いで現像することにより、前記透明基材の長手方向に、メッシュパターンを構成する線が切れ目なく連続した現像銀メッシュパターンが生成された原反ロールを製造する工程と、当該現像銀メッシュパター The present invention, on at least one surface of the long transparent base material, a metal mesh pattern longitudinal lines are continuous without break of the transparent substrate is provided, the electromagnetic wave shielding material roll which is supplied in a roll a method of manufacturing a body, a transparent base material layer is provided containing a substance to deposit metallic silver by exposure and development, the is a feed continuous feed of the transparent substrate, the light to the transparent substrate irradiation can be successively exposed without intermittent, and by the lines exposed through an exposure mask by using a continuous exposure apparatus capable of forming a continuous mesh pattern seamlessly, then developed, the transparent in the longitudinal direction of the substrate, a step of lines constituting the mesh pattern to produce a master roll that contiguous developed silver mesh pattern is generated seamlessly, the developed silver mesh pattern が設けられた透明基材を前記原反ロールから連続的に繰り出したのち、前記現像銀メッシュパターンの上に、ロールtoロールで無電解メッキを連続して行う装置を用いて、銅及び/又はニッケルを無電解メッキすることにより金属メッキ層を形成し、再び巻き取ってロール体とする工程と、前記金属メッシュパターンが形成された透明基材を連続的に繰り出し、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層を埋め込む透明樹脂埋め込み工程と、を有することを特徴とする電磁波シールド材ロール体の製造方法を提供する。 After the continuously feeding the transparent substrate provided from the source roll, on the developed silver mesh pattern, using the apparatus continuously performs electroless plating a roll-to-roll, copper and / or nickel to form a metal plating layer by electroless plating, continuously feeding the steps of a roll body, a transparent substrate where the metal mesh pattern is formed by winding again, uneven portions of the metal mesh pattern to provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding material roll body and having a transparent resin embedding step of embedding the transparent resin layer.

また本発明は、長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体の製造方法であって、露光及び現像によって金属銀を析出する物質を含む層が設けられた透明基材を連続的に繰り出し、該透明基材に、前記透明基材の送りが連続送りであり、前記透明基材への光の照射が断続することなく連続して露光することができ、かつ、線が切れ目なく連続したメッシュパターンを形成できる連続露光装置を用いて露光マスクをとおして露光し、次いで現像することにより、前記透明基材の長手方向に、メッシュパターンを構成する線が切れ目なく連続した現像銀メッシュパターンを生成し、引き続いて、前記現像銀メ The present invention, on at least one surface of the long transparent base material, a metal mesh pattern longitudinal lines are continuous without break of the transparent substrate is provided, the electromagnetic wave shielding material roll which is supplied in a roll a method of manufacturing a body, a transparent substrate layer is provided containing a substance to deposit metallic silver by exposure and development continuously feeding, to a transparent base material, feeding of the transparent substrate is in continuous feed There, the irradiation of light to the transparent substrate can be successively exposed without intermittent, and exposed through an exposure mask by using a continuous exposure apparatus line capable of forming a continuous mesh pattern seamlessly was followed by development, in the longitudinal direction of the transparent substrate, to produce a developed silver mesh pattern lines constituting the mesh pattern are continuously without a break, and subsequently, the developing Ginme シュパターンの上に、ロールtoロールで無電解メッキを連続して行う装置を用いて、銅及び/又はニッケルを無電解メッキすることにより金属メッキ層を形成したのち、再び巻き取ってロール体とする工程と、前記金属メッシュパターンが形成された透明基材を連続的に繰り出し、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層を埋め込む透明樹脂埋め込み工程と、を有することを特徴とする電磁波シールド材ロール体の製造方法を提供する。 On the shoe pattern using a device to continuously perform the electroless plating a roll-to-roll, after the copper and / or nickel to form a metal plating layer by electroless plating, roll and wound again step and the metal mesh pattern continuously feeding the transparent substrate is formed, the electromagnetic wave shielding material and having a transparent resin embedding step of embedding the transparent resin layer in the concavo-convex portion of the metal mesh pattern to provide a method for manufacturing a roll body.

前記現像銀メッシュパターンの生成は、露光した部分に現像銀が発現するネガ型の現像方法、露光しない部分に現像銀が発現するポジ型の現像方法のいずれによっても行うことができる。 The generation of the developed silver mesh pattern can be performed negative developing method of expressing developed silver in the exposed portions, by either developed silver to a portion which is not exposed is a positive type developing method of expressing.

本発明によれば、耐候性があって大型建築物の窓ガラスなどの屋外側に貼り付けて使用するための切れ目のない連続メッシュパターンが形成された連続ロールシート状態で供給される電磁波シールド材ロール体及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, an electromagnetic wave shielding material weatherability is supplied in a continuous roll sheet state unbroken continuous mesh pattern for pasted using the weather side is formed such as a window glass of a large building there it is possible to provide a roll body and a manufacturing method thereof. また、本発明によれば、ロールtoロールで電磁波シールド材を連続製造して供給することができるので、製造コストを大幅に低減することが可能である。 Further, according to the present invention, can be supplied continuously producing an electromagnetic wave shielding material in a roll-to-roll, it is possible to greatly reduce the manufacturing cost.

本発明の電磁波シールド材ロール体は、長尺の透明基材の少なくとも一方の面に金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材であって、前記金属メッシュパターンは、写真製法により生成された現像銀メッシュパターンとその上に無電解銅メッキ層及び/又は無電解ニッケルメッキ層からなる金属メッキ層とを有し、かつ前記金属メッシュパターンは、前記透明基材の長手方向に切れ目のない連続したパターンであって、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層が埋め込まれていることを特徴とする。 Electromagnetic wave shielding material roll of the present invention, a metal mesh pattern is provided on at least one surface of the long transparent base material, a electromagnetic wave shielding material which is supplied in a roll, the metal mesh pattern, photo has a developed silver mesh pattern produced and the metal plating layer made of electroless copper plating layer and / or the electroless nickel plating layer thereon by the method, and the metal mesh pattern in the longitudinal direction of the transparent substrate in a continuous pattern unbroken, and a transparent resin layer on the concavo-convex portion of the metal mesh pattern is embedded.
このような電磁波シールド材ロール体を製造する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、露光及び現像によって金属銀を析出する物質を含む層が長尺の透明基材の少なくとも一方の面に設けられた基材を用意して、この基材を露光し、次いで現像することにより、前記透明基材の長手方向に切れ目のない連続した現像銀メッシュパターンを生成する工程と、前記現像銀メッシュパターンの上に銅及び/又はニッケルを無電解メッキすることにより金属メッキ層を形成するメッキ工程と、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層を埋め込む透明樹脂埋め込み工程と、を少なくとも含む製造方法によって製造することができる。 As a method for producing such an electromagnetic wave shielding material roll body, but are not limited to, exposure and development of at least one transparent substrate layer is long containing the substance to deposit metallic silver by by providing a substrate provided on a surface, and exposing the substrate and then by developing, and generating a continuous developed silver mesh pattern unbroken in the longitudinal direction of the transparent substrate, said developing comprising a plating step of forming a metal plating layer by electroless plating of copper and / or nickel on a silver mesh pattern, and a transparent resin embedding step of embedding the transparent resin layer in the concavo-convex portion of the metal mesh pattern, at least it can be manufactured by the method.
さらに本発明を詳しくするため、以下、本発明の電磁波シールド材ロール体及びその製造方法の最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。 To further detail the present invention, the following, based on the best mode of the electromagnetic wave shielding material roll body and its manufacturing method of the present invention, illustrating the present invention with reference to the drawings.

図1は、本発明において、ロールtoロールで露光・現像に引き続いて無電解メッキを連続して行う装置の一例を示す概略図である。 1, in the present invention, is a schematic diagram showing an example of an apparatus for continuously electroless plating subsequent to exposure and development by a roll-to-roll. 図2は、本発明において、ロールtoロールで無電解メッキを行う装置の一例を示す概略図である。 2, in the present invention, is a schematic diagram showing an example of an apparatus for performing electroless plating in a roll-to-roll. 図3(a)は本発明の電磁波シールド材ロール体におけるメッシュパターンの配置の一例を示す部分平面図、図3(b)は、電磁波シールド材の層構成の一例を示す断面図、図3(c)は、電磁波シールド材の層構成の別の一例を示す断面図である。 3 (a) is a partial plan view showing an example of an arrangement of a mesh pattern in the electromagnetic shielding material roll of the present invention, and FIG. 3 (b) is a sectional view showing an example of the layer structure of the electromagnetic wave shielding material, FIG. 3 ( c) is a sectional view showing another example of a layer structure of an electromagnetic wave shielding material. 図4は、本発明で用いられる連続露光装置の一例を示す概略図である。 Figure 4 is a schematic diagram showing an example of a continuous exposure apparatus used in the present invention. 図5は、本発明で用いられる連続露光装置の別の一例を示す概略図である。 Figure 5 is a schematic view showing another example of a continuous exposure apparatus used in the present invention.

(無電解メッキ工程) (Electroless plating process)
図1に示す電磁波シールド材製造装置1において、原反ロール2は、露光及び現像によって金属銀を析出する物質を含む層(詳しくは後述)を長尺の透明基材上に設けたロールシート3をロール状に巻き取ったものである。 In the electromagnetic shielding material manufacturing apparatus 1 shown in FIG. 1, source roll 2, the roll sheet 3 layer containing a substance to deposit metallic silver by exposure and development (details described later) provided on the long transparent base material a the one in which was wound into a roll. 原反ロール2から繰り出されたロールシート3は、所要箇所に配置された移送ロール4、4、4、…により、同図の左から右に移送される。 Original roll sheet 3 fed from roll 2, the required point in arranged transport rolls 4,4,4, ..., the is transferred from left to right in FIG. ロールシート3は、まず、連続露光装置5に移送されて所定のマスクパターンで焼き付けられる(露光される)。 Roll sheet 3 first (exposed) is transferred to a continuous exposure apparatus 5 by baking is at a predetermined mask pattern. ここで、連続露光装置5とは、詳しくは後述するが、透明基材を連続送りにて移送しながら露光を行う装置である。 Here, the continuous exposure apparatus 5, although details will be described later, is a device that performs exposure while transporting the transparent substrate in a continuous feed.

次に、露光されたロールシート3は、現像装置6に移送されて、写真現像された現像銀がメッシュパターン形状に定着される。 Next, the roll sheet 3 that is exposed is transferred to the developing device 6, photographic development has been developed silver is fixed in a mesh pattern. 次に、水洗浄槽7に通されて洗浄され、不要な異物や汚染物が除去された後、メッキ工程を行うため無電解メッキ槽8に移送される。 Then, washed is passed through a water wash bath 7, unwanted foreign matter and contaminants after removal, is transferred to an electroless plating bath 8 for performing the plating process.

無電解メッキ槽8では、無電解メッキ液9を通して無電解メッキが行われ、ロールシート3の表面の現像銀メッシュパターン上に無電解メッキ層が析出する。 In the electroless plating bath 8, electroless plating is performed through an electroless plating solution 9, an electroless plating layer is deposited on the developed silver mesh pattern on the surface of the roll sheet 3. 無電解メッキ液9の温度は、所定温度となるように温度調整器(図示せず)にて制御される。 Temperature of the electroless plating solution 9 is controlled by the temperature controller to a predetermined temperature (not shown). 無電解メッキ液9は、無電解メッキ槽8のロールシート3が通される隙間(スリット)から漏出して落下しうる。 Electroless plating solution 9 may fall leaking from the gap (slit) of the roll sheet 3 of an electroless plating tank 8 is passed. このため、無電解メッキ槽8の下方には、漏出した無電解メッキ液9を受ける受け槽10が設置されており、受け槽10に受け止められた無電解メッキ液9が循環ポンプ11及びフィルター12を経て再び無電解メッキ槽8に再循環するように構成されている。 Therefore, below the electroless plating bath 8, tub 10 for receiving an electroless plating solution 9 leaked is installed, the electroless plating solution 9 which is received by the receiving tank 10 is a circulating pump 11 and the filter 12 It is configured to re-circulate in an electroless plating bath 8 again through.

無電解メッキ槽8を出たロールシート3は、水洗浄槽13で不要な無電解メッキ液9を洗い落としてから乾燥器14にて水切り乾燥され、再び巻き取られ、ロール形状の電磁波シールド材ロール体15が得られる。 Roll sheet 3 exiting the electroless plating bath 8, with water washing tank 13 by washing away unwanted electroless plating solution 9 is drained dried in dryer 14, is rewound, electromagnetic wave shielding material roll of the roll shape the body 15 is obtained.
さらに、得られた電磁波シールド材ロール体15を原反ロールとしてロールtoロールの工程を必要回数分実施し、前記金属メッシュパターンが形成された透明基材を連続的に繰り出し、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層を埋め込む透明樹脂埋め込み工程などを行うことにより、本発明の電磁波シールド材ロール体を得ることができる。 Furthermore, the obtained electromagnetic wave shielding material roll-to-roll the roll 15 as an original fabric roll process performed as many times as required and feeding the transparent substrate where the metal mesh pattern is formed continuously, the metal mesh pattern by performing such a transparent resin embedding step of embedding the transparent resin layer in the concave-convex portion, it is possible to obtain an electromagnetic wave shielding material roll of the present invention.

本発明の電磁波シールド材ロール体は、図3(a)及び図3(b)に示すように、長尺の透明基材21の少なくとも一方の面に金属メッシュパターン(電磁波シールド層)22を有する電磁波シールド材20がロールの状態に巻き取られており、該金属メッシュパターン22が、連続露光装置5と現像装置6とを用いた写真製法により生成された現像銀メッシュパターン23と、その上に無電解メッキ槽8を用いて生成された金属メッキ層24とを有し、さらに金属メッシュパターン22は、透明基材21の長手方向に切れ目のない連続したパターンであって、金属メッシュパターン22の凹凸部に透明樹脂層25が埋め込まれている。 Electromagnetic wave shielding material roll of the present invention, as shown in FIG. 3 (a) and 3 (b), on at least one surface of the transparent substrate 21 of the elongated having a metal mesh pattern (electromagnetic wave shielding layer) 22 and an electromagnetic wave shielding material 20 is wound on the state of the roll, the metal mesh pattern 22, the developed silver mesh pattern 23 generated by the photo process using a continuous exposure apparatus 5 and the developing unit 6, on which and a metal plating layer 24 that is generated using an electroless plating bath 8, further metal mesh pattern 22 is a continuous pattern unbroken in the longitudinal direction of the transparent substrate 21, a metal mesh pattern 22 transparent resin layer 25 is embedded in the concave-convex portion. 金属メッキ層24の層数が一層である場合、この金属メッキ層24は、無電解銅メッキ層又は無電解ニッケルメッキ層であることが好ましい。 If the number of layers of the metal plating layer 24 is more, the metal plating layer 24 is preferably an electroless copper plating layer or electroless nickel plating layer.

ここで透明樹脂層25は、透明基材21上に設けた金属メッシュパターン22による凹凸を平坦化するために設けられた透明な樹脂層である。 Here the transparent resin layer 25 is a transparent resin layer provided in order to planarize the unevenness due to the metal mesh pattern 22 provided on the transparent substrate 21. 金属メッシュパターン22の厚みは0.5μm〜15μmあり、この金属メッシュパターン22による透明基材21との凹凸により金属メッシュパターン22の上面に例えば反射防止剤を直接塗布すると、塗りムラが発生しやすくなる。 The thickness of the metal mesh pattern 22 is 0.5Myuemu~15myuemu, when unevenness by coating a top, for example, anti-reflection agent of metal mesh pattern 22 directly to the transparent substrate 21 by the metal mesh pattern 22, coating unevenness tends to occur Become. また、反射防止フィルムを直接ラミネートする場合でも気泡が発生しやすくなる。 Further, the bubbles even when laminating the antireflection film directly tends to occur. 塗りムラや気泡ができると、反射防止効果の低下を招くことになる。 When it is coating unevenness and bubbles, which leads to deterioration of the anti-reflection effect. そこで透明樹脂層25は、金属メッシュパターン22と透明基材21との凹凸を平坦化し、これらの不具合を防止するために設けられている。 So the transparent resin layer 25, the unevenness of the metal mesh pattern 22 and the transparent substrate 21 is flattened, it is provided in order to prevent these problems. また、透明樹脂層25には金属酸化物を含有させることが好ましい。 Further, preferably contains a metal oxide in the transparent resin layer 25. この金属酸化物は透明樹脂層25の透明性を低下させないため、透明性に優れ、高い屈折率を有するものであるとよい。 Since the metal oxide is not to lower the transparency of the transparent resin layer 25, excellent transparency, it may be those having a high refractive index. 高い屈折率を必要とするのは、透明樹脂層25の上面に設ける屈折率の低い層との組み合わせにより、より高い反射防止効果を得るためである。 To require high refractive index, in combination with a low refractive index provided on the upper surface of the transparent resin layer 25 layer, in order to obtain higher antireflection effect. なお、この透明樹脂層25の屈折率は1.7以上であるとよい。 The refractive index of the transparent resin layer 25 may is 1.7 or more. また、このような条件を満たす金属酸化物の例として、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛などがある。 As examples of such conditions are satisfied metal oxides, titanium oxide, silicon oxide, and the like zinc oxide.

前記透明樹脂層25の上には、防汚層27を積層することが好ましい。 On the transparent resin layer 25 is preferably laminated antifouling layer 27. 本発明における防汚層27は、電磁波シールド材20の保護膜的な効果を狙うもので、外的要因により汚れた表面を清掃することで反射防止効果を常に保つことができるものである。 Antifouling layer 27 in the present invention, which aims protective film effect of electromagnetic shielding material 20, as it can be maintained at all times an antireflection effect by cleaning the soiled surface due to external factors. この防汚層27の形成材料としては、撥水性および/または撥油性であることにより、それより下にある層の表面を保護し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を満たすものであれば、いかなる材料であっても制限されるものではないが、電磁波シールド材を窓ガラスに貼り付けたときに充分な透明性を確保でき、反射防止特性を損なわないことが必要である。 As the material for forming the antifouling layer 27, by a water-repellent and / or oil repellency, it than to protect the surface of the underlying layer, which further enhance the antifouling properties, which meet the required performance if, but are not limited to any material, an electromagnetic wave shielding material can secure sufficient transparency when pasted to the window glass, it is necessary not to impair the anti-reflective properties. このような防汚性処理剤としては、例えば、アクリル系やフッ素系の処理剤が挙げられ、フルオロアルキル基含有樹脂やフルオロカーボンやフルオロシラン等、あるいはこれらの化合物等が好ましい。 Such antifouling treating agent, for example, include acrylic and fluorine-based treatment agent, a fluoroalkyl group-containing resin or a fluorocarbon or a fluoro silane, or their compounds are preferable. また指紋拭き取り性には、メチル基を導入した化合物も適している。 The fingerprint wiping-off property are also suitable compounds obtained by introducing a methyl group. 前記防汚層27の形成方法としては適用材料に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法、プラズマ重合やロールコート法、スプレーコート法、ディップコート法等各種コーティング法を用いることができる。 The proof As a method for forming the antifouling layer 27, depending on the application material, a vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, a plasma CVD method, a plasma polymerization or roll coating, spray coating, dip coating and various coating methods it can be used.

さらに透明樹脂層25の中には、紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。 In addition the transparent resin layer 25 preferably contains an ultraviolet absorber. 紫外線吸収剤としては合成樹脂用紫外線吸収剤として通常使用されているようなベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤などを好適に使用することができる。 Benzotriazole ultraviolet absorbers such as Examples of the ultraviolet absorber is usually used as a synthetic resin for UV absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, salicylic acid ultraviolet absorbers, triazine based ultraviolet absorber, cyanoacrylate ultraviolet absorber it can be suitably used and the like agents. 具体的化合物としては、たとえば以下に示すような化合物が挙げられる。 Specific compounds include those compounds shown in example below.
ベンゾトリアゾール系:オクチル−3−[3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(2−アクリロイルオキシエチル)フェニル]ベンゾ Benzotriazole: octyl-3-[3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-t-butyl-4-hydroxyphenyl] propionate, 2- (2-hydroxy-3,5-di -t- pentylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (5-t-butyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di -t- butylphenyl) benzotriazole, 2- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chloro-benzotriazole, 2- (3,5-di -t- butyl-2-hydroxy phenyl) -5-chloro-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (2-acryloyloxyethyl) phenyl] benzo リアゾール、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル−3−[3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル]プロピオネート、など。 Riazor, 2-hydroxy-3-methacryloyloxy propyl-3- [3- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-hydroxy -5-t-butylphenyl] propionate, and the like.
ベンゾフェノン系:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、など。 Benzophenone: 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy benzophenone, 2,2 ' , 4,4'-tetrahydroxy benzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, etc..
サリチル酸系:p−t−ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、p−オクチルフェニルサリチレート、など。 Salicylic acid: p-t-butylphenyl salicylate, phenyl salicylate, p- octylphenyl salicylate, and the like.
フェニルトリアジン系:2−[4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、など。 Phenyl triazine: 2- [4- (2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, Such.
シアノアクリレート系:2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチル、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸2−エチルヘキシル、など。 Cyanoacrylate: 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-cyano-3,3-diphenyl 2-ethylhexyl acrylate, and the like.

さらに透明樹脂層25と防汚層27との間にハードコート層26を積層することが好ましい。 Furthermore, it is preferable to laminate a hard coat layer 26 between the transparent resin layer 25 and antifouling layer 27. ハードコート層26としては、ポリシラザンを紫外線の照射により硬化させた緻密なシリカ層、テトラアルコキシシラン類の完全加水分解により生成する無機シリカ層、アルキル基等の非加水分解性基を有するアルコキシシラン類を部分又は完全加水分解させることにより生成するポリオルガノシロキサン層、(メタ)アクリレートやアクリルウレタンに代表される活性エネルギー線硬化性化合物を硬化させた層などが挙げられる。 The hard coat layer 26, a dense silica layer polysilazane was cured by irradiation with ultraviolet rays, the inorganic silica layer produced by complete hydrolysis of tetraalkoxysilanes, alkoxysilanes having a non-hydrolyzable group such as an alkyl group the polyorganosiloxane layer to produce by partial or complete hydrolysis, such as a layer obtained by curing the (meth) active energy ray-curable compound represented by acrylates and acrylic urethane.

さらに電磁波シールド材20を窓ガラスの屋外側に貼着する場合には、透明基材21の一方の面のみに金属メッシュパターン22を設け、他方の面に粘着剤層28を設けることが好ましい。 Further, when adhering the electromagnetic wave shielding material 20 on the outdoor side of the window glass, a metal mesh pattern 22 is provided only on one surface of the transparent substrate 21, it is preferable that the other surface provided with a pressure-sensitive adhesive layer 28. 粘着剤層28を形成する粘着剤としては、一般に粘着テープやシール等に使用されている公知の粘着剤を使用しうる。 As the adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer 28 may use a known adhesive commonly used in adhesive tapes, seals and the like. たとえば天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル系、ポリビニルエーテル系、ウレタン系、シリコーン系等が挙げられる。 Such as natural rubber, synthetic rubber, acrylic, polyvinyl ether, urethane, silicone, and the like. これら粘着剤は、1種単独で、または2種以上を組合せて用いることができる。 These adhesives may be used alone or in combination of two or more. 粘着剤には、さらに必要に応じて粘着付与剤、充填剤、軟化剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、架橋剤等を配合することができる。 The adhesive may further tackifier if necessary, fillers, softening agents, formulated antioxidants, ultraviolet absorbers, cross-linking agent. この粘着剤層28の厚さは、通常5〜100μm、好ましくは10〜50μmの範囲である。 The thickness of the adhesive layer 28 is usually 5 to 100 [mu] m, range preferably of 10 to 50 [mu] m. また、この粘着剤層28を保護するために設けられる剥離シート(図示略)としては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙および各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗付したものなどが挙げられる。 As the release sheet is provided to protect the adhesive layer 28 (not shown), e.g. glassine paper, coated paper, to paper and various plastic films such as laminated paper, with coating a release agent such as silicone resin such as the ones and the like. この剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20〜150μm程度である。 No particular limitation is imposed on the thickness of the release sheet, but is usually about 20 to 150 [mu] m.

また、メッキ工程において、無電解メッキ槽8及び水洗浄槽13を複数組(2組以上)繰り返して設置し、1回のロールtoロールの処理の間に無電解メッキを複数回行うことにより、図3(c)に示すように、金属メッシュパターン22が、現像銀メッシュパターン23と、その上に2層またはそれ以上の層数の金属メッキ層24a、24bが積層された電磁波シールド材20を得ることもできる。 Further, in the plating step, an electroless plating bath 8 and water washing tank 13 a plurality of sets (two or more pairs) repeatedly installed, by performing several times the electroless plating during the processing of a single roll-to-roll, as shown in FIG. 3 (c), a metal mesh pattern 22, the developed silver mesh pattern 23, thereon two or more layers of the metal plating layer 24a, an electromagnetic wave shielding material 20 24b are stacked It can also be obtained. 複数の金属メッキ層24a、24bを構成する金属の組み合わせは特に限定されないが、例えば、現像銀メッシュパターン23の直上に設けられる金属メッキ層24aとして無電解銅メッキ層、さらにその上に設けられる金属メッキ層24bとして無電解ニッケルメッキ層を有する構成が挙げられる。 A plurality of metal plating layer 24a, a combination of the metal constituting the 24b is not particularly limited, for example, electroless copper plating layer as the metal plating layer 24a provided immediately above the developed silver mesh pattern 23 is provided further on the metal configuration having an electroless nickel plating layer as a plating layer 24b and the like.

図1の構成によれば、1回のロールtoロール処理の間に、写真製法による現像銀メッシュパターンの生成(露光・現像工程)と無電解メッキ層の形成(メッキ工程)とを引き続いて連続的に実施することができ、処理速度の一層の向上、低コスト化を図ることができる。 According to the configuration of FIG. 1, a continuous subsequently during a single roll-to-roll process, the generation of developed silver mesh pattern by photo process formation (exposure and development step) and an electroless plating layer (plating step) manner can be carried out, further improvement in processing speed, it is possible to reduce the cost. 本形態例において、写真製法による現像銀メッシュパターンの生成後、透明基材の表面が湿潤した状態を保持したまま引き続いてメッキ工程を行うことが好ましい。 In this embodiment, after formation of developed silver mesh pattern by photo process, it is carried out plating process subsequently leave the surface of the transparent base holding the wet state preferred. この場合、微小気泡が現像銀のメッシュパターン表面に付着してメッキ液との接触を妨害してメッキ不良の原因となるのを減少させることができる。 In this case, it is possible to reduce the microbubbles cause interfere defective plating the contact with the plating liquid adhering to the mesh pattern the surface of the developed silver.

また、図2に示す電磁波シールド材製造装置1Aは、長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、写真製法により露光・現像されて現像銀がメッシュパターン形状に定着されている原反ロール2Aからロールシート3を繰り出し、連続的に無電解メッキを行う装置である。 Further, the electromagnetic wave shielding material production apparatus 1A shown in FIG. 2, at least one surface, original developed silver is exposed and developed is fixed to a mesh pattern by photo process roll 2A of the long transparent base material feeding the roll sheet 3 from a continuous apparatus for performing electroless plating. 図2に示す電磁波シールド材製造装置1Aにおいて、ロールシート3は、ロール状に巻き取られた原反ロール2Aから、所要箇所に配置された移送ロール4、4、4、…により、同図の左から右に移送される。 In electromagnetic wave shielding material production apparatus 1A shown in FIG. 2, the roll sheet 3, the wound raw web roll 2A in a roll, the transfer roll disposed in a required position 4,4,4, ..., the in FIG. It is transferred from left to right. ロールシート3は、まず、水洗浄槽7に通されて洗浄され、不要な異物や汚染物が除去される。 Roll sheet 3 is first cleaned is passed through a water wash bath 7, unwanted foreign matter and contaminants are removed. 次に、メッキ工程を行うため無電解メッキ槽8に移送される。 Next, it is transferred to an electroless plating bath 8 for performing the plating process.
図2の電磁波シールド材製造装置1Aにおいて、無電解メッキ槽8から電磁波シールド材ロール体15までの構成は、図1に示す電磁波シールド材製造装置1と同様であり、この製造装置1Aを用いることによっても図3に示す構成の電磁波シールド材20を製造することができるので、重複する説明を省略する。 In the electromagnetic shielding material manufacturing apparatus 1A of FIG. 2, the structure of the electroless plating bath 8 to the electromagnetic shielding material roll 15 is similar to the electromagnetic wave shielding material production apparatus 1 shown in FIG. 1, the use of this production apparatus 1A it is possible also to produce an electromagnetic wave shielding material 20 of the structure shown in FIG. 3 by, without redundant description.

(透明基材) (Transparent substrate)
本発明に使用される透明基材21としては、可視領域で透明性を有し、一般に全光線透過率が90%以上のものが好ましい。 The transparent substrate 21 used in the present invention, has transparency in the visible region, generally the total light transmittance is preferably from 90% or more. 中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で、好適に用いられる。 Among them, a resin film having flexibility is in terms of handling property is excellent, is preferably used. 透明基材21に使用される透明樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ50〜300μmの単層フィルム又は前記透明樹脂からなる複数層の複合フィルムが挙げられる。 Specific examples of the transparent resin film used for the transparent substrate 21, polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) polyester resin such as an acrylic resin, epoxy resin, fluorine resin, silicone resin, polycarbonate resin, di acetate resins, triacetate resins, polyarylate resins, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, a single-layer film or the transparent thick 50~300μm consisting cyclic polyolefin resin composite film multi-layer consisting of resin.

(金属メッシュパターンの作製方法) (A method for manufacturing a metal mesh pattern)
本発明に適用できる導電性の金属メッシュの作製方法は、細線パターンを写真製法により現像された金属銀で形成した後、この金属銀を物理現像および/またはメッキすることにより導電性金属パターンを形成する露光現像法によるものである。 The method for manufacturing a conductive metal mesh can be applied to the present invention, after forming in the developed metallic silver by photo process a fine line pattern, forming a conductive metal pattern by physical development and / or plating the metallic silver it is by exposure and development method of.
本発明に適用できる、この写真製法に基づく露光現像法には、上記のとおり、(a)露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、即ち、露光マスクと反対の形に現像銀が表れるいわゆるネガ型の露光現像方法と、(b)露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現する、即ち、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるいわゆるポジ型の露光現像方法の2通りがある。 Applicable to the present invention, the exposure and development method based on this photo process, as described above, (a) the developed silver to the exposed portion not covered with the photomask is expressed, i.e., exposure mask opposite so-called a negative tone exposure and development method developed silver appears to form, developed silver is expressed in the portion which has not been exposed is covered with (b) an exposure mask, i.e., so-called developed silver in the same shape as the exposure mask appears there are two positive exposure development process. 本発明には、(a)ネガ型の露光・現像方法と、(b)ポジ型の露光・現像方法のいずれでも適用できる。 The present invention can be applied either (a) the method exposing and developing the negative type, (b) positive exposure and development method.

以下、ポジ型の露光・現像方法(DTR法)と無電解メッキ法を用いた金属メッシュパターンの作製方法について説明する。 Hereinafter, a manufacturing method will be described of the metal mesh pattern using exposure and development process of positive and (DTR process) electroless plating. DTR法の場合、透明基材表面には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。 For DTR-process, the transparent substrate surface, it is preferable to advance the physical development nuclei layer is provided. 物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子(粒子サイズは1〜数十nm程度)が用いられる。 The physical development nuclei, fine particles of heavy metal or its sulphide (about particle size 1 to several tens of nm) is used. 例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。 For example, gold, colloidal silver, etc., palladium, a metal sulfide was mixed sulphide and water-soluble salts such as zinc and the like. これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。 Particle layers of these physical development nuclei, a vacuum deposition method, a cathode sputtering method, can be provided on a transparent substrate by coating. 生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。 Coating the surface of the production efficiency is preferably used. 物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で1平方メートル当たり0.1〜10mg程度が適当である。 The content of the physical development nuclei in a physical development nuclei layer is suitably from about 0.1~10mg per square meter in solids.

透明基材は、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。 Transparent substrate may be provided an adhesive layer of polymeric latex layer, such as vinylidene chloride, polyurethane, and also between the adhesive layer and the physical development nuclei layer to provide an intermediate layer comprising a hydrophilic binder such as gelatin it can.

物理現像核層には、親水性バインダーを含有するのが好ましい。 The physical development nuclei layer, preferably contains a hydrophilic binder. 親水性バインダー量は物理現像核に対して10〜300質量%程度が好ましい。 Hydrophilic binder amount about 10 to 300 wt% with respect to the physical development nuclei are preferred. 親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。 As the hydrophilic binder, can be gelatin, gum arabic, cellulose, albumin, casein, sodium alginate, various starches, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, be used copolymers of acrylamide and vinyl imidazole. 物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。 The physical development nucleus layer may also contain a crosslinking agent of the hydrophilic binder.

物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。 The application of such physical development nuclei layer and the intermediate layer, for example, can be applied dip coating, slide coating, curtain coating, bar coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, a coating method such as spray coating. 本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。 Physical development nuclei layer in the present invention, by a coating method described above, it is preferable to provide a uniform layer that typically continuous.

物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、透明基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。 Supply of silver halide for depositing metallic silver on the physical development nuclei layer, a method is provided integrally with the physical development nuclei layer and a silver halide emulsion layer in this order on a transparent substrate or another paper or plastic resin, a method for supplying a soluble silver complex salt from silver halide emulsion layer provided on a substrate such as a film. コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。 In terms of cost and production efficiency it is preferably provided integrally with the former physical development nuclei layer and a silver halide emulsion layer.

前記ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。 The silver halide emulsion can be produced according to the production method of the typical silver halide emulsion of the silver halide photographic light-sensitive material. ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。 Silver halide emulsion is usually a silver nitrate solution is made by a halogen aqueous solution of sodium chloride and sodium bromide mixed aged in the presence of gelatin.
前記ハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を80モル%以上含有するのが好ましく、特に90モル%以上が塩化銀であることが好ましい。 Wherein the silver halide composition of the silver halide emulsion layer, it is preferable that preferably contains silver chloride 80 mol% or more, more preferably 90 mol% is silver chloride. 塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。 Conductive physical development silver formed by increasing the silver chloride content is increased.

(露光方法) (Exposure method)
前記ハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。 It said silver halide emulsion layer has a photosensitivity to various light sources. 電磁波シールド材を作製するための1つの方法として、例えば網目状などの細線パターンの物理現像銀の形成が挙げられる。 One method for making electromagnetic wave shielding material, for example, the formation of physical development silver fine line patterns such as reticulated and the like. この場合、ハロゲン化銀乳剤層は細線パターン状に露光されるが、露光方法として、細線パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。 In this case, the silver halide emulsion layer is exposed to fine line pattern, an exposure method, a method to expose in close contact with the transparent original and the silver halide emulsion layer of fine line patterns or scanning exposure using various laser light, there is a method in which. 前者の密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。 The former contact exposure is photosensitive silver halide can be also relatively low, relatively high photosensitivity in the case of scanning exposure using laser light is required. 従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。 Therefore, when using the latter exposure method, in order to increase the photosensitivity of the silver halide, the silver halide may be spectrally sensitized by chemical sensitization or sensitizing dyes. 化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。 The chemical sensitization, metal sensitization using gold compounds and silver compounds, an increase of sulfur was used sulfur compound feeling, or combinations of these and the like. 好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。 Preferably, the gold in combination with gold compound and a sulfur compound - a sulfur sensitization. 上記したレーザー光で露光する方法においては、450nm以下の発振波長の持つレーザー光、例えば400〜430nmに発振波長を有する青色半導体レーザー(バイオレットレーザーダイオードともいう)を用いることによって、明室下(明るいイエロー蛍光灯下)でも取り扱いが可能となる。 In the method of exposing a laser beam as described above, the laser beam having the following oscillation wavelength 450 nm, by using a blue semiconductor laser (also referred to as a violet laser diode) having an oscillation wavelength, for example, in 400 to 430 nm, a bright room (bright it is possible to handling yellow fluorescent light) even.

(露光装置) (Exposure apparatus)
上記の露光方法による露光装置としては、枚葉式の露光マスク(フォトマスク)を用いる枚葉処理方式の露光装置と、連続したパターンが形成できる連続露光装置とがある。 The exposure apparatus according to the above exposure method, an exposure apparatus of single wafer processing system using a single-wafer exposure mask (photomask), there is a continuous exposure apparatus continuous pattern can be formed. 枚葉処理方式の露光装置は、所定のマスクパターンが形成された枚葉式の露光マスク(フォトマスク)を用いて、ロールシートを間欠送りで露光装置に送り、装置内を真空排気して露光マスクと基材とを密着させて隙間を無くしてから、例えば紫外線で露光する。 Exposure apparatus of a single wafer processing system, using a predetermined exposure mask sheet mask pattern is formed formula (photomask) and sent to the exposure device roll sheet in the intermittent feeding, the inside of the apparatus was evacuated exposure in close contact with the mask and the substrate after eliminating the gap, it is exposed, for example, ultraviolet light. 枚葉処理方式の露光装置では、真空排気、露光、大気開放を間欠的に行うので処理速度は遅くなるとともに、切れ目のない連続パターンを得ることができない。 In the exposure apparatus single wafer processing method, evacuation, exposure, along with slower processing speed is performed is intermittently air release, can not be obtained unbroken continuous pattern.

これに対して本発明では、図4、図5に例示するように、パターンを連続的に形成できる連続露光装置60、70を用いる。 In the present invention, on the other hand, FIG. 4, as illustrated in FIG. 5, using a continuous exposure apparatus 60 and 70 can be continuously patterned.
これらの連続露光装置60、70は、図1に示すように、ロールtoロールで露光・現像工程とメッキ工程を引き続いて連続的に行う場合には、電磁波シールド材製造装置1に組み込まれる連続露光装置5として、図4、図5に例示するような連続露光装置60、70を用いることができる。 These continuous exposure device 60 and 70, as shown in FIG. 1, in the case of subsequent exposure and development process and plating process by a roll-to-roll continuously, the continuous exposure to be incorporated into the electromagnetic wave shielding material manufacturing apparatus 1 as device 5, FIG. 4, it is possible to use a continuous exposure apparatus 60, 70 as illustrated in FIG. また、図2に示すように、メッキ工程を行うロールtoロール処理とは別に露光・現像工程を行う場合には、電磁波シールド材製造装置1Aとは別に設けられた装置により連続露光と現像を行い、前記原反ロール2Aを製造する。 Further, as shown in FIG. 2, in the case of separate exposure and development process is a roll-to-roll process for plating process, and developed with continuous exposure by provided separately from devices and electromagnetic wave shielding material production apparatus 1A , to produce the raw fabric roll 2A.
なお、これら連続露光装置60、70を示す図面では、前記露光に用いる透明基材には、図1に示す電磁波シールド材製造装置1を用いる場合と図2に示す電磁波シールド材製造装置1Aを用いる場合とで区別することなく、共通の符号64、74を付して説明することにする。 In the drawings indicating these continuous exposure device 60 and 70, wherein the transparent base material used for the exposure, using a case and an electromagnetic wave shielding material production apparatus 1A shown in FIG. 2 using an electromagnetic wave shielding material manufacturing apparatus 1 shown in FIG. 1 without distinction between the case, it will be explained denoted with the same reference numerals 64 and 74.

図4に示す連続露光装置60は、写真製法における露光に用いられる光を透過する材質からなる円筒ドラム61と、円筒ドラム61の外周壁に設けられた露光マスク部分62と、円筒ドラム61の内部に配設された露光用光源63とを備え、円筒ドラム61の内側の光源63から出射した光によって円筒ドラム61に巻き付けられた透明基材64を露光する装置である。 Continuous exposure apparatus 60 shown in FIG. 4, a cylindrical drum 61 made of a material that transmits the light used for exposure in the photographic process, an exposure mask portion 62 provided on the outer peripheral wall of the cylindrical drum 61, the interior of the cylindrical drum 61 comprising a has been an exposure light source 63 arranged on a device for exposing the transparent substrate 64 wound on the cylindrical drum 61 by the light emitted from the inner light source 63 of the cylindrical drum 61. この連続露光装置60には、特定の照射方向に光を透過する開口部66を有する光源カバー65を露光用光源63の周囲に設けることができる。 The continuous exposure device 60 can be provided with a light source cover 65 having an opening 66 for transmitting light to a specific illumination direction around the exposure light source 63. 透明基材64を露光するパターンは、露光マスク部分62の光を透過する部分のパターンによって決定される。 Pattern exposing the transparent substrate 64 is determined by the pattern of the portion which transmits light of the exposure mask portion 62. 円筒ドラム61に対する露光マスク部分62の配設は、例えば、円筒ドラム61の外周壁の表面(内面又は外面)に設けられ、あるいは外周壁の内部に挿入又は挟み込まれることによって行われる。 Disposed in the exposure mask portion 62 against the cylindrical drum 61 is provided, for example, on the surface of the outer peripheral wall of the cylindrical drum 61 (inner or outer surface), or is carried out by insertion or be sandwiched in the interior of the outer peripheral wall. なお図4は、露光マスク部分62を円筒ドラム61の外周壁の外面に設けた場合を例示した図面である。 Note 4 is an exemplary drawing the case in which the exposure mask portion 62 to the outer surface of the outer peripheral wall of the cylindrical drum 61.

この連続露光装置60では、円筒ドラム61は、連続的に移送される透明基材64と同じ速度で回転しているので、透明基材64の各部分が円筒ドラム61に巻き付けられた箇所において露光される間、透明基材64に対する露光マスク部分62のパターン(光を透過する部分と遮光する部分のパターン)がずれることがなく、所要時間の露光を継続することが可能である。 In the continuous exposure device 60, a cylindrical drum 61, since the rotation at the same speed as the transparent substrate 64 which is continuously transferred, the exposure at the point where the portion of the transparent substrate 64 is wound on the cylindrical drum 61 while being, without pattern of the exposure mask portion 62 to the transparent substrate 64 (pattern of the portion for shielding a portion that transmits light) is shifted, it is possible to continue the exposure time required. 露光装置に利用する光源63としては、ハロゲン化銀乳剤層に含まれるハロゲン化銀乳剤の分光特性、感度により適宜選択することができるが、例えばタングステンランプ、紫外線ランプ、蛍光ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等を利用することができる。 As the light source 63 to be used for the exposure apparatus, the spectral characteristics of the silver halide emulsion contained in the silver halide emulsion layer, may be suitably selected by the sensitivity, for example, tungsten lamps, ultraviolet lamps, fluorescent lamps, xenon lamps, metal halide it is possible to use the lamp, and the like. 露光の際、光源カバー65は回転せず、開口部66が常時一定の方向(図4の右方向)を向いているので、透明基材64が円筒ドラム61の表面から離れている部分では光源63の光が光源カバー65によって遮られる。 During exposure, the light source cover 65 is not rotated, in the portion because the opening 66 is oriented always constant direction (the right direction in FIG. 4), the transparent substrate 64 is away from the surface of the cylindrical drum 61 sources 63 of the light is blocked by the light source cover 65. すなわち、露光装置60の光源63による透明基材64の露光は、透明基材64がその移送経路上において円筒ドラム61の表面に巻き付けられている一定の範囲67内でなされるので、感光層の感度に合わせて、露光の光量及び照射時間を制御することにより、最適な光量を確実に照射することができる。 That is, the exposure of the transparent substrate 64 by the light source 63 of the exposure apparatus 60, since the transparent substrate 64 is made within a predetermined range 67 is wound on the surface of the cylindrical drum 61 on its transport path, the photosensitive layer in accordance with the sensitivity, by controlling the amount of light and the irradiation time of the exposure, it is possible to reliably irradiate an optimum light quantity.

一方、図5に示す連続露光装置70は、円筒ドラム71と、連続したパターンが形成された露光マスクフィルム72と、前記円筒ドラム71の外部に配設された露光用光源73とを備え、前記円筒ドラム71に重ねて巻き付けられた透明基材74及び前記露光マスクフィルム72に対して前記円筒ドラム71の外側から光を照射し、透明基材74を露光する装置である。 On the other hand, continuous exposure device 70 shown in FIG. 5 comprises a cylindrical drum 71, a continuous exposure mask film 72 on which a pattern is formed with, an exposure light source 73 external to the arrangement of the cylindrical drum 71, the the light irradiated from the outside of the cylindrical drum 71 with respect to the transparent substrate 74 and the exposure mask film 72 wound to overlap the cylindrical drum 71 is a device for exposing the transparent substrate 74.
露光マスクフィルム72は、透明樹脂フィルムの上に、縮小露光によるフォトリソグラフ方法などの公知の方法にてマスクとなるメッシュパターンを形成し、透明基材74と円筒ドラム71で重ね合わされて露光する。 Exposure mask film 72 on the transparent resin film to form a mesh pattern serving as a mask by a known method such as photolithographic method according reduction exposure, the exposure is superposed by a transparent substrate 74 and a cylindrical drum 71. その後、露光マスクフィルム72は、透明基材74から切離されて巻き取られ、繰り返しての使用に供される。 Thereafter, the exposed mask film 72 is wound is disconnected from the transparent substrate 74, it is subjected to repeated use.
光源73が円筒ドラム71の外部にある場合は、円筒ドラム71の透明性について特に限定はなく、不透明でもよい。 If the light source 73 is outside the cylindrical drum 71 is not particularly limited transparency of the cylindrical drum 71 may be opaque.

この連続露光装置70には、特定の照射方向に光を透過する開口部76を有する光源カバー75を露光用光源73の周囲に設けることができ、これにより、光源73による透明基材74の露光は、透明基材74がその移送経路上において円筒ドラム71の表面に巻き付けられている一定の範囲77内でなされるので、露光の光量及び照射時間の制御を確実に行うことができる。 The continuous exposure device 70, can be provided with a light source cover 75 having an opening 76 for transmitting light to a specific illumination direction around the exposure light source 73, thereby, exposing the transparent substrate 74 by the light source 73 since the transparent substrate 74 is made in the range 77 constant which is wound on the surface of the cylindrical drum 71 on its transport path, it is possible to reliably control the amount of light and the irradiation time of the exposure. ここで光源73としては、上記の連続露光装置60の光源63と同様のものを利用できるので、重複する説明を省略する。 Here, as the light source 73, it is possible to utilize the same as the light source 63 of the continuous exposure device 60, and overlapping description is omitted.

この連続露光装置70は、重ね合わせた透明基材74と露光マスクフィルム72を、円筒ドラム71に巻きつけながら連続的に移送するので、両者に適度なテンションを与えながら移送が可能であり、移送速度の制御が容易であるとともに、透明基材74の各部分が円筒ドラム71に巻き付けられた箇所において露光される間、透明基材74に対する露光マスクフィルム72のパターン(光を透過する部分と遮光する部分のパターン)がずれることがなく、所要時間の露光を継続することが可能である。 The continuous exposure device 70, a superimposed transparent substrate 74 and the exposure mask film 72, since the continuously transferred while wound in a cylindrical drum 71, is capable of transporting while providing an appropriate tension to both the transport with the control of the speed it is easy, while each portion of the transparent substrate 74 is exposed at a portion wound around the cylindrical drum 71, a portion for transmitting a pattern (light exposure mask film 72 to the transparent substrate 74 shielding without pattern) deviates the portion, it is possible to continue the exposure time required.
なお、上記に例示した連続露光装置60、70以外にも、例えば、重ね合わせた透明基材と露光マスクフィルムを、直線状の経路に沿って連続的に搬送しながら光源を用いて連続露光する装置などを用いることもできる。 In addition to the continuous exposure device 60 and 70 illustrated above also, for example, a transparent substrate and the exposure mask film superimposed, continuous exposure using a light source while continuously conveyed along a straight path it is also possible to use devices and the like. また、露光用の光源の個数は特に限定されず、必要に応じて複数個(複数箇所に)設けても良い。 The number of light source for exposure is not particularly limited, may be provided a plurality of (a plurality of positions) as needed.

連続露光装置60、70は、従来の枚葉処理方式の露光装置に比較して処理速度が速く、かつ、切れ目のない連続したパターンが得られるという長所がある。 Continuous exposure apparatus 60 and 70, faster processing speed compared to the exposure apparatus of the conventional single-wafer processing method, and is advantageous in that unbroken succession pattern is obtained. 本発明では、大型建築物の窓ガラスなどの広い面積を覆うための幅広で連続ロールシート状態の電磁波シールド材を製造するために、連続した切れ目のないメッシュパターンを形成する必要があるため、上記透明基材21上に現像銀メッシュパターン23を形成するとき、現像に先立つ露光の際に、連続露光装置60、70を用いる。 In the present invention, in order to produce an electromagnetic wave shielding material of wide, continuous roll sheet form for covering a large area such as a window glass of a large building, it is necessary to form a continuous unbroken mesh pattern, the when forming a developed silver mesh pattern 23 on the transparent substrate 21, when the exposure prior to the development using a continuous exposure apparatus 60, 70.

物理現像核層が設けられる透明基材上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、保護層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。 Any position on the physical development nuclei layer transparent substrate is provided, for example an adhesive layer, an intermediate layer, a physical development nuclei layer or silver halide emulsion layer, halation backing layer provided to sandwich the protective layer, or the support or irradiation dye or a pigment may be contained for the prevention.

物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて電磁波シールド材を作製する場合は、網目状パターンのような任意の細線パターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、任意の細線パターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像(DTR現像)が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して細線パターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。 Physical When the silver halide emulsion layer through a directly or intermediate layer on the development nuclei layer to produce an electromagnetic wave shielding material using the photosensitive material which has been coated, the optional fine line pattern, such as a reticulated pattern exposing the transparent original and the photosensitive material in close contact with, or after the scanning exposure to the photosensitive material in a digital image of any fine line patterns of various laser output unit, in the presence of a soluble silver complex salt-forming agent and a reducing agent occur silver complex diffusion transfer development (DTR development) is by treatment with alkaline solution, is dissolved silver halide in the unexposed portion becomes silver complex and fine lines is reduced on the physical development nuclei and precipitation of metallic silver it is possible to obtain physical development silver thin film pattern. 露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。 Exposed portions become blackened silver is chemically developed silver halide emulsion layer. 現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、細線パターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。 After development, the silver halide emulsion layer and the intermediate layer, or the protective layer provided if necessary be removed by washing with water, the physical development silver thin film of the thin line pattern is exposed on the surface.

DTR現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。 After DTR development, a method for removing such a silver halide emulsion layer provided on the physical development nuclei layer, a method of transferring peeling the washing removal or release paper or the like. 水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。 Removed by washing with water, there is a method of removing momentum of water while jetting nozzle or the like or a method hot water to remove while spraying a hot showers with scrubbing rollers.

一方、物理現像核層が塗布された透明基材とは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された透明基材と、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した細線パターンの物理現像銀薄膜が得られる。 On the other hand, when the physical development nuclei layer to provide a soluble silver complex salt from silver halide emulsion layer provided on another substrate to the transparent substrate coated, giving exposure to the silver halide emulsion layer in the same manner as described above and then, a physical development nuclei layer is coated transparent substrate, and another light-sensitive material silver halide emulsion layer is applied, superimposed in alkaline solution in the presence of a soluble silver complex salt-forming agent and a reducing agent closely Te, after removal from the alkaline solution, after the lapse of several tens of seconds to several minutes, by peeling the both physical development silver thin film of fine line patterns deposited on the physical development nuclei is obtained.

次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。 Next, soluble silver complex forming agent necessary for the silver complex diffusion transfer development, a reducing agent, and the alkaline solution will be described. 可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。 Soluble silver complex salt-forming agent is a compound for forming a silver complex soluble to dissolve the silver halide, the reducing agent is a compound for precipitating metallic silver on the physical development nuclei by reduction of the soluble silver complex these actions are performed in an alkali solution.

本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、T. The soluble silver complex salt-forming agent used in the present invention, sodium thiosulfate, thiosulfate such as ammonium thiosulfate, sodium thiocyanate, thiocyanate such as ammonium thiocyanate, alkanol amines, sodium sulfite, bisulfite Potassium sulfites such as, T. H. H. ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス4版の474〜475項(1977年)に記載されている化合物等が挙げられる。 James Hen of The Theory of the Photographic Process 4th edition 474-475 Section of the compounds and the like which are described in (1977), and the like.

前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。 The reducing agent may be a known developing agents in the field of photographic development. 例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等の3−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。 For example, hydroquinone, catechol, pyrogallol, methyl hydroquinone, polyhydroxy benzene such as chlorobenzene hydroquinone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl - 3-pyrazolidones such as 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, p-methyl-aminophenol, p-aminophenol, p-hydroxyphenylglycine, p-phenylenediamine, and the like.

上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に透明基材に塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。 Soluble silver complex forming agent and a reducing agent as described above may be applied to a transparent substrate with a physical development nucleus layer may be added to the silver halide emulsion layer, or contained in an alkali solution it may also be, but may contain further a plurality of positions, preferably contained in at least the alkaline solution.

アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液1リットル当たり、0.1〜5モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液1リットル当たり0.05〜1モルの範囲で用いるのが適当である。 The content of soluble silver complex forming agent into the alkali solution is per developer 1 liter is suitably employed in the range of 0.1 to 5 mol, reducing agent developing solution per liter 0.05 it is suitably employed in the range of molar.

アルカリ液のpHは10以上が好ましく、更に11〜14の範囲が好ましい。 pH is preferably 10 or more alkali solution, further a range of 11 to 14 is preferred. 銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。 Application of an alkaline solution to perform silver complex diffusion transfer development, even dipping method may be a coating method. 浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた透明基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を1平方メートル当たり40〜120ml程度塗布するものである。 Immersion method, for example, is intended to convey in an alkali solution which is a large amount 貯流 the tank, while immersing the transparent substrate physical development nuclei layer and a silver halide emulsion layer is provided, the coating method, such as those applied about 40~120ml per square meter an alkali solution to the silver halide emulsion layer.

前述したように、細線パターンとしては、たとえば線幅10〜100μm程度の細線を縦横に格子状に設けられたものがあるが、細線幅を小さくして格子の間隔を大きくすると透光性は上がるが導電性は低下し、逆に細線幅を大きくして格子の間隔を小さくすると透光性は低下して導電性は高くなる。 As described above, the fine line pattern, for example, a thin line having a line width of about 10~100μm there is provided in a grid pattern in the vertical and horizontal directions, it rises translucent Increasing the spacing of the grid by reducing the fine line width There conductivity decreases when increasing the fine line width reversed to reduce the spacing of lattice translucent is higher conductivity decreases. 本発明にかかる透明基材上に形成された任意の細線パターンの物理現像による銀画像は、全光線透過率50%以上の透光性と表面抵抗率10オーム/□以下の導電性とを同時に満足させることは困難である。 Silver image by physical development of any fine line pattern formed on a transparent substrate according to the present invention has a total light transmittance of 50% or more of the light-transmitting and a surface resistivity of 10 ohms / □ or less conductive at the same time it is difficult to satisfy. 具体的にはこの物理現像による銀画像は、表面抵抗率50オーム/□以下、好ましくは20オーム/□以下の導電性を有しているが、細線幅50μm以下、たとえば細線幅20μmのパターンで、全光線透過率50%以上とした場合には、表面抵抗率は数百オーム/□〜千オーム/□以上にもなってしまう。 Silver image by specifically this physical development, the surface resistivity of 50 ohms / □ or less, preferably has the 20 ohms / □ or less conductive, thin line width 50μm or less, for example in a pattern of fine line width 20μm , when the total light transmittance of 50% or more, the surface resistivity becomes several hundred ohms / □ ~ thousand ohms / □ or more. しかしながら、この物理現像による銀画像自身は、現像処理後に得られた銀画像を形成する金属銀粒子が極めて小さく、且つ銀画像中に存在する親水性バインダー量が極めて少ないことにより、銀画像を形成する金属銀粒子が最密充填状態に近い状態で銀画像が形成されて通電性を有しているため、銅やニッケルなどの金属による鍍金(メッキ)、特に無電解メッキを施すことにより、細線パターンが0.5〜15μmの厚み及び10〜50μmの線幅であるとき、全光線透過率50%以上、好ましくは60%以上の透光性の細線パターンであっても、表面抵抗率10オーム/□以下、好ましくは7オーム/□以下の導電性を保持することができる。 However, the silver image itself by the physical development, development processing after obtained silver image metallic silver particles to form a very small, hydrophilic binder amount and present in the silver image by very small, forming a silver image because metallic silver particles have a silver image is formed electrical conductivity in a state proximate to a closest packing state, plating with a metal such as copper or nickel (plating), particularly by electroless plating, thin line when the pattern is a thickness and 10~50μm line width of 0.5 to 15 m, the total light transmittance of 50% or more, preferably even fine line patterns of more than 60% of the light-transmitting, surface resistivity 10 ohms / □ or less, preferably it can hold 7 ohm / □ or less conductive.
金属メッシュの全光線透過率を向上させるためには、細線が設けられた領域の面積に対して、細線間の光透過部の面積を十分に広くする必要がある。 In order to improve the total light transmittance of the metal mesh, the area of ​​the fine line is provided region, it is necessary to sufficiently large area of ​​the light transmitting portion between the thin line. このため、細線の間隔は、100〜900μmであることが好ましく、より好ましくは150〜700μmである。 Therefore, the interval of fine lines is preferably 100~900Myuemu, more preferably 150~700Myuemu.

金属メッキした細線パターンの厚みは所望とする特性により任意に変えることができるが、0.5〜15μm、好ましくは2〜12μmの範囲である。 The thickness of the metal plated fine line pattern can be varied as desired by characteristics desired, 0.5 to 15 m, preferably from 2~12Myuemu. また上述の方法によって作製された電磁波シールド材は、30MHz〜1,000MHzのような広い周波数帯に亘って30dB以上のシールド効果を得ることができる。 The electromagnetic wave shielding material made by the method described above, it is possible to obtain a wide 30dB or more shielding effect over a frequency band, such as 30MHz~1,000MHz.

細線パターンの物理現像銀のメッキは、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能であるが、透明基材21上に電磁波シールド層22を作製するにあたり、ロール状の長尺ウェブの上に生成された現像銀からなる細線パターンに対して、給電することなくメッキが可能であって、メッキ膜厚を均一に施すことができる観点からも、無電解メッキによる方法が好ましい。 Plating of physical development silver fine line pattern, an electroless plating method, when it is possible either electrolytic plating method or a plating method that combines both to produce an electromagnetic wave shielding layer 22 on the transparent substrate 21, a roll the method with respect to fine line pattern composed of developed silver produced on a long web, be capable of plating without the feed, from the viewpoint capable of plating film thickness uniform, by electroless plating It is preferred.

本発明において、無電解メッキ法は公知の方法で行うことができるが、無電解メッキは、例えば銅、ニッケル、銀、金、スズ、はんだ、あるいは銅/ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「無電解めっき 基礎と応用;日刊工業新聞社、1994年5月30日初版」等の文献を参照することができる。 In the present invention, an electroless plating method can be performed by a known method, electroless plating, for example, copper, nickel, silver, gold, tin, known a multilayer or composite systems of the solder or copper / nickel, methods can be used, for these, "electroless plating Fundamentals and applications; Nikkan Kogyo Shimbun, First edition may 30, 1994" can refer to documents such as.

メッキが容易で、かつ導電性に優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コスト等の理由により、銅および/またはニッケルを用いることが好ましい。 Plating easy, and excellent conductivity can be plated more thick, for reasons such as low cost, it is preferable to use copper and / or nickel. 無電解銅メッキ浴の一例を挙げると、硫酸銅:30g/dm 、酒石酸ナトリウムカリウム(ロシェル塩):100g/dm 、ホルムアルデヒド:30cm /dm 、炭酸ナトリウム:30g/dm 、水酸化ナトリウム:50g/dm 、浴温度24℃で無電解銅メッキすることができる。 As an example of an electroless copper plating bath, copper sulfate: 30 g / dm 3, potassium sodium tartrate (Rochelle salt): 100g / dm 3, formaldehyde: 30cm 3 / dm 3, sodium carbonate: 30 g / dm 3, hydroxide sodium: 50g / dm 3, it is possible to electroless copper plating at a bath temperature of 24 ° C..
また、無電解ニッケルメッキ浴の一例を挙げると、硫酸ニッケル:21g/dm 、ホスフィン酸ナトリウム:25g/dm 、酢酸ナトリウム:10g/dm 、pH:4〜6、浴温度90℃で無電解ニッケルメッキすることができる。 Further, the one example of the electroless nickel plating bath, nickel sulfate: 21g / dm 3, sodium phosphinate: 25 g / dm 3, sodium acetate: 10g / dm 3, pH: 4~6, No at a bath temperature of 90 ° C. it is possible to electroless nickel plating.
使用する無電解メッキ槽8の型式は、竪型、横型のいずれであっても構わないが、所定のメッキ滞留時間を確保できるようにロールシート3の移送速度に応じて無電解メッキ槽8の長さを決定することが望ましい。 Type of electroless plating bath 8 to be used, vertical, but may be any of horizontal, electroless plating tank 8 according to the transport speed of the roll sheet 3 so as to ensure a predetermined plating dwell time it is desirable to determine the length.

上記方法によって得られる電磁波シールド層(金属メッシュパターン)22は、メッシュパターンが0.5〜15μmの厚み及び10〜50μmの線幅であるとき、全光線透過率50%以上、かつ表面抵抗率が10オーム/□以下という優れた透光性能と導電性能を持ち、30MHz〜1,000MHzのような広い周波数帯に亘って30dB以上のシールド効果を発揮することができる。 Electromagnetic wave shielding layer obtained by the above method (metal mesh pattern) 22, when the mesh pattern is a thickness and 10~50μm line width of 0.5 to 15 m, the total light transmittance of 50% or more, and the surface resistivity 10 ohm / □ has excellent translucency performance and conductivity performance of the following can exhibit a wide frequency band 30dB or more shielding effect over like 30MHz~1,000MHz.

本発明によれば、従来の製造方法では対応できない、耐候性があって大型建築物の窓ガラスなどの屋外側に貼り付けて使用するための連続ロールシート状態で供給される電磁波シールド材を製造することができるので、品質向上やコスト削減などに益するところが大である。 According to the present invention, it can not be handled by the conventional manufacturing method, manufacturing an electromagnetic wave shielding material weatherability is supplied in a continuous roll sheet state for use adhered to outdoor side such as a window glass of a large building there it is possible to, is a large place where Ekisuru in such as quality improvement and cost reduction.

本発明において、ロールtoロールで露光・現像に引き続いて無電解メッキを連続して行う装置の一例を示す概略図である。 In the present invention, it is a schematic diagram showing an example of an apparatus for continuously electroless plating subsequent to exposure and development by a roll-to-roll. 本発明において、ロールtoロールで無電解メッキを行う装置の一例を示す概略図である。 In the present invention, it is a schematic diagram showing an example of an apparatus for performing electroless plating in a roll-to-roll. (a)は本発明の電磁波シールド材ロール体におけるメッシュパターンの配置の一例を示す部分平面図、(b)は、電磁波シールド材の層構成の一例を示す断面図、(c)は、電磁波シールド材の層構成の別の一例を示す断面図である。 (A) is a partial plan view showing an example of the arrangement of the mesh pattern in the electromagnetic shielding material roll of the present invention, (b) is a sectional view showing an example of the layer structure of the electromagnetic wave shielding material, (c), the electromagnetic wave shielding it is a sectional view showing another example of the layer structure of wood. 本発明で用いられる連続露光装置の一例を示す概略図である。 It is a schematic diagram showing an example of a continuous exposure apparatus used in the present invention. 本発明で用いられる連続露光装置の別の一例を示す概略図である。 Another example of a continuous exposure apparatus used in the present invention is a schematic diagram showing.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1、1A…電磁波シールド材製造装置、2、2A…原反ロール、3…ロールシート、4…移送ロール、5…連続露光装置、6…現像装置、7…水洗浄槽、8…無電解メッキ槽、9…無電解メッキ液、10…受け槽、11…循環ポンプ、12…フィルター、13…水洗浄槽、14…乾燥器、15…電磁波シールド材ロール体、20…電磁波シールド材、21…透明基材、22…金属メッシュパターン、23…現像銀メッシュパターン、24、24a、24b…金属メッキ層、25…透明樹脂層、26…ハードコート層、27…防汚層、28…粘着剤層、60…連続露光装置、61…円筒ドラム、62…露光マスク部分、63…露光用光源、64…透明基材、65…光源カバー、70…連続露光装置、71…円筒ドラム、72…露光マスクフィル 1, 1A ... electromagnetic wave shielding material manufacturing apparatus, 2, 2A ... original fabric roll, 3 ... roll sheet, 4 ... transporting roll, 5 ... continuous exposure apparatus, 6 ... developing device, 7 ... water washing tank, 8 ... electroless plating bath, 9 ... electroless plating solution, 10 ... receiving tank, 11 ... circulation pump, 12 ... filter, 13 ... water washing tank, 14 ... dryer, 15 ... electromagnetic wave shielding material roll body, 20 ... electromagnetic wave shielding material, 21 ... transparent substrate 22: metal mesh pattern, 23 ... developed silver mesh pattern, 24, 24a, 24b ... metal plating layer, 25 ... transparent resin layer, 26 ... hard coat layer, 27 ... antifouling layer, 28 ... adhesive layer , 60 ... continuous exposure apparatus, 61 ... cylindrical drum, 62 ... exposure mask portion, 63 ... light source for exposure, 64 ... transparent substrate, 65 ... light source cover, 70 ... continuous exposure apparatus, 71 ... cylindrical drum, 72 ... exposure mask fill 、73…露光用光源、74…透明基材、75…光源カバー。 , 73 ... light source for exposure, 74 ... transparent substrate, 75 ... light source cover.

Claims (11)

  1. 長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体であって、 At least one surface of a transparent substrate of the elongated longitudinal line of the transparent substrate is provided continuous metal mesh pattern without a break, a electromagnetic wave shielding material roll which is supplied in a roll,
    前記金属メッシュパターンは、 現像銀が発現する写真製法により生成されてなる、前記透明基材の送りが連続送りであり、前記透明基材への光の照射が断続することなく連続して露光することができ、かつ、線が切れ目なく連続したメッシュパターンを形成できる連続露光装置を用いて露光マスクをとおして露光し、次いで現像することにより形成された現像銀メッシュパターンと、その上に、ロールtoロールで無電解メッキを連続して行う装置を用いて形成された、無電解銅メッキ層及び/又は無電解ニッケルメッキ層からなる金属メッキ層とを有し、かつ前記金属メッシュパターンは、前記透明基材の長手方向にメッシュパターンを構成する線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンであって、前記金属メッシュパターンの凹凸部 The metal mesh pattern is formed by generating the photo production method developed silver is expressed, the is a feed continuous feed of the transparent substrate is continuously exposed without irradiation of light into the transparent substrate is intermittently it can, and a line is exposed through an exposure mask by using a continuous exposure apparatus capable of forming a continuous mesh pattern seamlessly, then the developed silver mesh pattern formed by development, over its roll electroless plating with to-roll formed by using the performed successively device, and a metal plating layer made of electroless copper plating layer and / or the electroless nickel plating layer, and the metal mesh pattern, the lines constituting the longitudinally mesh pattern of the transparent substrate is a continuous metal mesh pattern seamlessly, uneven portions of the metal mesh pattern 透明樹脂層が埋め込まれていることを特徴とする電磁波シールド材ロール体。 Electromagnetic shielding material roll body, wherein the transparent resin layer is embedded.
  2. 前記透明樹脂層の上に防汚層が積層されていることを特徴とする請求項1に記載の電磁波シールド材ロール体。 Electromagnetic wave shielding material roll body of claim 1, wherein the antifouling layer is laminated on the transparent resin layer.
  3. 前記透明樹脂層と防汚層との間にハードコート層が積層されていることを特徴とする請求項2に記載の電磁波シールド材ロール体。 Electromagnetic wave shielding material roll of claim 2, wherein the hard coat layer is laminated between the transparent resin layer and the antifouling layer.
  4. 前記透明樹脂層の中に紫外線吸収剤が含まれていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の電磁波シールド材ロール体。 Electromagnetic wave shielding material roll body according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it contains the ultraviolet absorber in the transparent resin layer.
  5. 前記金属メッシュパターンが透明基材の一方の面に設けられ、かつ該透明基材の他方の面に粘着剤層が設けられていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の電磁波シールド材ロール体。 Wherein the metal mesh pattern is provided on one surface of a transparent substrate, and according to any one of 4 to claims 1, characterized in that the pressure-sensitive adhesive layer on the other surface of the transparent substrate is provided electromagnetic wave shielding material roll body.
  6. 前記現像銀メッシュパターンは、露光した部分に現像銀が発現するネガ型の現像方法により生成されたものであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の電磁波シールド材ロール体。 The developed silver mesh pattern, an electromagnetic wave shielding material roll body according to any one of the exposed portions in the developed silver claims 1, characterized in that those produced by the developing method of the negative expressing 5.
  7. 前記現像銀メッシュパターンは、露光しない部分に現像銀が発現するポジ型の現像方法により生成されたものであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の電磁波シールド材ロール体。 The developed silver mesh pattern, an electromagnetic wave shielding material roll body according to any one of claims 1, wherein the portion developed silver is not exposed are those produced by the developing method of the positive expressing 5.
  8. 長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体の製造方法であって、 At least one surface of a transparent substrate of the elongated longitudinal line of the transparent substrate is provided continuous metal mesh pattern seamlessly, in the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material roll which is supplied in a roll there,
    露光及び現像によって金属銀を析出する物質を含む層が設けられた透明基材を、前記透明基材の送りが連続送りであり、前記透明基材への光の照射が断続することなく連続して露光することができ、かつ、線が切れ目なく連続したメッシュパターンを形成できる連続露光装置を用いて露光マスクをとおして露光し、次いで現像することにより、前記透明基材の長手方向に、メッシュパターンを構成する線が切れ目なく連続した現像銀メッシュパターンが生成された原反ロールを製造する工程と、 The transparent base material layer is provided containing a substance to deposit metallic silver by exposure and development, the is a feed continuous feed of the transparent substrate, continuously without irradiation of light into the transparent substrate is intermittently can be exposed Te, and the line is exposed through an exposure mask by using a continuous exposure apparatus capable of forming a continuous mesh pattern seamlessly, followed by development, in the longitudinal direction of the transparent substrate, a mesh a step of lines constituting a pattern to produce a master roll that contiguous developed silver mesh pattern is generated seamlessly,
    当該現像銀メッシュパターンが設けられた透明基材を前記原反ロールから連続的に繰り出したのち、前記現像銀メッシュパターンの上に、ロールtoロールで無電解メッキを連続して行う装置を用いて、銅及び/又はニッケルを無電解メッキすることにより金属メッキ層を形成し、再び巻き取ってロール体とする工程と、 After the transparent substrate to which the developed silver mesh pattern is provided continuously feeding from the source roll, on the developed silver mesh pattern, using the apparatus continuously performs electroless plating a roll-to-roll the metal plating layer is formed by electroless plating of copper and / or nickel, a step of the roll body wound again,
    前記金属メッシュパターンが形成された透明基材を連続的に繰り出し、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層を埋め込む透明樹脂埋め込み工程と、 And the metal mesh pattern continuously feeding the transparent substrate is formed, the metal mesh pattern transparent resin embedding step of embedding the transparent resin layer in the uneven portion,
    を少なくとも含むことを特徴とする電磁波シールド材ロール体の製造方法。 Method of manufacturing an electromagnetic wave shielding material roll body, characterized in that it includes at least a.
  9. 長尺の透明基材の少なくとも一方の面に、前記透明基材の長手方向に線が切れ目なく連続した金属メッシュパターンが設けられ、ロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体の製造方法であって、 At least one surface of a transparent substrate of the elongated longitudinal line of the transparent substrate is provided continuous metal mesh pattern seamlessly, in the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material roll which is supplied in a roll there,
    露光及び現像によって金属銀を析出する物質を含む層が設けられた透明基材を連続的に繰り出し、該透明基材に、前記透明基材の送りが連続送りであり、前記透明基材への光の照射が断続することなく連続して露光することができ、かつ、線が切れ目なく連続したメッシュパターンを形成できる連続露光装置を用いて露光マスクをとおして露光し、次いで現像することにより、前記透明基材の長手方向に、メッシュパターンを構成する線が切れ目なく連続した現像銀メッシュパターンを生成し、引き続いて、前記現像銀メッシュパターンの上に、ロールtoロールで無電解メッキを連続して行う装置を用いて、銅及び/又はニッケルを無電解メッキすることにより金属メッキ層を形成したのち、再び巻き取ってロール体とする工程と、 Feeding the transparent substrate layer is provided containing a substance to deposit metallic silver by exposure and development sequentially, the transparent base material, feeding of the transparent substrate is not less feeding continuous to said transparent substrate can be successively exposed without irradiation of light is interrupted, and, by the lines exposed through an exposure mask by using a continuous exposure apparatus capable of forming a continuous mesh pattern seamlessly, then developed, in the longitudinal direction of the transparent substrate, to produce a developed silver mesh pattern lines constituting the mesh pattern are continuously without a break, subsequently, on the developed silver mesh pattern, continuous electroless plating a roll-to-roll using the apparatus performed, after forming the metal plating layer by electroless plating of copper and / or nickel, a step of the roll body wound again,
    前記金属メッシュパターンが形成された透明基材を連続的に繰り出し、前記金属メッシュパターンの凹凸部に透明樹脂層を埋め込む透明樹脂埋め込み工程と、 And the metal mesh pattern continuously feeding the transparent substrate is formed, the metal mesh pattern transparent resin embedding step of embedding the transparent resin layer in the uneven portion,
    を少なくとも含むことを特徴とする電磁波シールド材ロール体の製造方法。 Method of manufacturing an electromagnetic wave shielding material roll body, characterized in that it includes at least a.
  10. 前記現像銀メッシュパターンの生成は、露光した部分に現像銀が発現するネガ型の現像方法により行うことを特徴とする請求項8または9に記載の電磁波シールド材ロール体の製造方法。 The generation of the developed silver mesh pattern, the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material roll of claim 8 or 9, characterized in that the developing process of the negative expressing developed silver in the exposed portions.
  11. 前記現像銀メッシュパターンの生成は、露光しない部分に現像銀が発現するポジ型の現像方法により行うことを特徴とする請求項8または9に記載の電磁波シールド材ロール体の製造方法。 The generation of the developed silver mesh pattern, the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material roll of claim 8 or 9, characterized in that the developing process of positive expressing developed silver in a portion not exposed.
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WO2007102393A1 (en) * 2006-03-06 2007-09-13 Konica Minolta Holdings, Inc. Method for manufacturing electromagnetic wave shielding film and electromagnetic wave shielding film
JP5240545B2 (en) * 2007-09-27 2013-07-17 大日本印刷株式会社 Electromagnetic shielding sheet and a composite sheet material
JP2010098073A (en) * 2008-10-15 2010-04-30 Gunze Ltd Electromagnetic shield member and plasma display panel equipped with the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3870485B2 (en) * 1997-06-06 2007-01-17 日立化成工業株式会社 Method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film having transparency and non-visibility
JP3710721B2 (en) * 2001-04-25 2005-10-26 三井化学株式会社 Method of manufacturing a filter for display
JP4288235B2 (en) * 2002-08-08 2009-07-01 大日本印刷株式会社 An electromagnetic wave shielding sheet
JP2004207001A (en) * 2002-12-25 2004-07-22 Mitsubishi Paper Mills Ltd Manufacturing method of transparent conductive film
JP4641719B2 (en) * 2002-12-27 2011-03-02 富士フイルム株式会社 Production process and the light-transmitting electromagnetic wave shielding film of the light-transmitting film shielding electromagnetic wave
JP4334920B2 (en) * 2003-06-19 2009-09-30 大日本印刷株式会社 Electromagnetic shielding sheet and the front plate, and a display device
TWI403761B (en) * 2005-02-15 2013-08-01 Fujifilm Corp Process of producing light transmittancy electroconductibility film

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