JP4788858B2 - Isophthalic acid compound and process for producing the same - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、(置換)アクリロイル基を有するイソフタル酸化合物及びその製造法に関する。本発明の化合物は、EL(エレクトロルミネッセンス)保護膜用樹脂、歯科医療用接着及び特殊塗料等材料分野のラジカル重合及び紫外線硬化モノマーに関する。
【0002】
【従来の技術】
特開平5−214045号公報に於いて、安息香酸、フタル酸、トリメリット酸及びピロメリット酸等の既存の芳香族カルボン酸のアクリロイル化合物の記載があるが、未だ十分な結果を得ていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
アクリル系ポリマーの原料となる(置換)アクリロイル基を1〜3個保有するモノマーの提供を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するため、鋭意研究を行った。本発明者らが先に出願した特願2000−206499号に記載のビス(2−ヒドロキシエチル)5−ヒドロキシイソフタレート(BH5HIと略記する。)を原料とすることにより、新規なアクリロイル化合物が得られることを見出し本発明を完成させた。
【0005】
即ち、本発明化合物は、式[1]
【0006】
【化11】
【0007】
(式中、R5、R6及びR7はそれぞれ独立に水素原子または式[2]
【0008】
【化12】
【0009】
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、R2及びR3 は、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
で表される(置換)アクリロイル基を表し、少なくとも一つ以上は(置換)アクリロイル基を示す。)
で表されるイソフタル酸化合物及びその製造法に関する。
【0010】
又、本発明は、式[3]
【0011】
【化13】
【0012】
で表されるビス(2−ヒドロキシエチル)5−ヒドロキシイソフタレート(BH5HI)と式[4]
【0013】
【化14】
【0014】
(式中、R1、R2、R3及びR4は、前記と同じ意味を表す。)
で表される(置換)アクリル酸化合物とを、酸触媒下反応させるか、また、
前記式[3]で表されるBH5HIと式[5]
【0015】
【化15】
【0016】
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表し、Xは、ハロゲン原子を表す。)
で表されるアクリル酸ハライド化合物を塩基、金属及び金属化合物の存在下で反応させて、前記式[1]で表されるイソフタル酸化合物の製造法に関する。以下、本発明を詳細に説明する。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明の前記式[1]で表されるイソフタル酸化合物の製造法は、下記の二つの反応スキームで表される。
【0018】
【化16】
【0019】
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びXは、前記と同じ意味を表す。)
先ず(1)から説明する。原料の式[3]で表されるBH5HIは、特願2000−206499号に記載の様に、5−ヒドロキシイソフタル酸化合物とエチレングリコールを原料として、酸、金属又は金属化合物を触媒として効率良く製造することができる。
【0020】
一方、一般式[4]で表されるアクリル酸化合物は、R1が水素または炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは水素原子または炭素数1〜2である。また、R2、R3及びR4は炭素数1〜10であり、好ましくは水素原子または炭素数1〜5である。
【0021】
具体的には、アクリル酸、メタアクリル酸、チグリル酸、3,3−ジメチルアクリル酸、2−メチル−2−ペンテン酸、2−エチル−2−ヘキセン酸及び2−オクテン酸等、及びそれらの炭素数1〜10のアルキルエステル化合物、具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、チグリル酸メチル、チグリル酸エチル、3,3−ジメチルアクリル酸メチル、3,3−ジメチルアクリル酸エチル、2−メチル−2−ペンテン酸メチル、2−メチル−2−ペンテン酸エチル、2−エチル−2−ヘキセン酸メチル、2−エチル−2−ヘキセン酸エチル、2−オクテン酸メチル及び2−オクテン酸エチル等が挙げられる。
【0022】
本反応は、酸触媒が必要であり、酸触媒としては、硫酸、塩酸及び硝酸等の鉱酸が使用でき、特には、硫酸が好ましい。また、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸及びトリフルオロ酢酸等の有機酸も使用でき、特にはベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸が好ましい。アクリル酸化合物の使用量は、理論量から大過剰量を用いることができる。
【0023】
更に、酸触媒としてタングステン酸、モリブデン酸或いはこれらのヘテロポリ酸が挙げられる。ヘテロポリ酸の具体例としては、H3PW12O40、H4SiW12O40、H4TiW12O40、H5CoW12O40、H5FeW12O40、H6P2W18O62、H7PW11O33、 H4TiMo12O40、H3PMo12O40、H7PMo11O39、H6P2Mo18O62、H4PMoW11O40、H4PVMo11O40、H4SiMo12O40、H5PV2Mo10O40、H3PMo6W6O40、H0.5Cs2.5PW12O40及びそれらの水和物等が代表的なものとして挙げられる。また、これらを炭素やシリカに担持させた触媒等が挙げられる。これらのヘテロポリ酸の中では、H3PW13O40、H3PMo12O40及びそれらの水和物等が特に好ましい。
【0024】
また更に、アンバーリストIR120等の陽イオン交換樹脂、H−ZSM−5等のH型ゼオライト等も使用することができる。
【0025】
特に、エステル交換法の場合の触媒としては、前述の鉱酸類、ヘテロポリ酸類、有機酸、陽イオン交換樹脂及びH型ゼオライトの他に、3ZnO−2B2O3 、酢酸カドミウム、酢酸亜鉛及び酢酸カルシウムに代表される周期律表第II族化合物の脂肪酸塩等が使用できる。これらの触媒の使用量は、BH5HIに対し0.1〜100重量%が使用でき、経済的には、1〜20重量%が好ましい。
【0026】
本反応は、アクリル酸化合物を大過剰用いることもできるが、溶媒を用いて行うこともでき、通常は、溶媒を使用することが好ましい。溶媒の種類としては、1,2−ジクロロエタン(EDC)や1,1,1−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素類、1,2−ジメトキシエタンやジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。
【0027】
溶媒の使用量は、BH5HIに対し1〜20重量倍、より好ましくは1〜6重量倍である。反応温度は、50〜200℃、より好ましくは70〜150℃である。反応は常圧でも加圧でも行うことができる。反応時間は、1〜50時間で行うことができ、通常2〜12時間で行うのが実用的である。
【0028】
次に、反応スキーム(2)の製造法について述べる。一般式[5]で表されるアクリル酸ハライド化合物は、そのR1、R2及びR3は前記と同じであり、具体的には、アクリル酸、メタアクリル酸、チグリル酸、3,3−ジメチルアクリル酸、2−メチル−2−ペンテン酸、2−エチル−2−ヘキセン酸及び2−オクテン酸等のハライドである。ハロゲンの種類としては、沸素、塩素、臭素及び沃素であり、経済的には塩素である。特には、アクリル酸クロライドやメタアクリル酸クロライドが使用される。その使用量は、BH5HIの理論量に対し1〜2モル倍、より好ましくは1〜1.5モル倍である。
【0029】
本反応は、塩基が必要であり、その例としては、アルカリ金属やアルカリ土金属の炭酸塩や水酸化物等の無機塩基、脂肪族や芳香族の有機塩基及びアルカリ金属やアルカリ土金属の脂肪酸塩等が使用できる。その具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ピコリン、アニリン、酢酸ナトリウム及び蓚酸ナトリウム等が一例として挙げられる。特には、炭酸ナトリウムやトリエチルアミンが好ましい。その使用量は、BH5HIの理論量に対し1〜2モル倍、より好ましくは1〜1.5モル倍であり、アクリル酸ハライド化合物と等量が好ましい。又、金属又は金属水素化錯体を用いることもできる。
【0030】
金属としては、周期律表第1族のアルカリ金属及び第2族のアルカリ土金属が適応でき、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウム等である。更に金属化合物としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の金属水素化錯体、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩等が挙げられる。特には、ナトリウムや水素化ナトリウムが好ましい。その使用量は前記と同様である。
【0031】
本反応は、溶媒を使用することが好ましい。溶媒の種類としては、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンやジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、BH5HIに対し1〜20重量倍、より好ましくは1〜6重量倍である。反応温度は、−20〜100℃、特には0〜50℃が好ましい。
【0032】
反応後は、水を添加し、残余酸クロライドを加水分解してから、溶媒を留去し、難水溶性溶媒(エーテル系やエステル系)で抽出した後、蒸留又はカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を得ることができる。以上の本発明の反応及び精製は、回分式でも連続式でも可能である。以下に、本反応によって得られる生成物を挙げる。
【0033】
【化17】
【0034】
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
【0035】
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
【0036】
【化18】
【0037】
100ml四口反応フラスコにBH5HI1.35g(5mmol)とN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)17gを仕込み、5℃に冷却した。この撹拌下に、水素化ナトリウム(純度60%)0.72g(18mmol)を添加し1.5時間攪拌した。更に、5℃でメタアクリロイルクロライド3.14g(30mmol)を滴下した。5℃で1時間撹拌を続けた後、更に25℃で6時間反応させた。反応液に氷を添加してから濃縮しDMAcを留去した。残渣に酢酸エチル/水を加えて抽出し、濾過により不溶固形物を除去後、濾液の有機層を濃縮乾燥すると油状物3.44gが得られた。この油状物をn−ヘプタン/酢酸エチル=19/1〜3/1でシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製すると、1,3−ビス(2−メタアクリロイルオキシエトキシカルボニル)−5−メタアクリロイルオキシベンゼン(BMMBと略記する。)0.59g(収率24.9%)が得られた。
【0038】
MASS(FAB+,m/e(%)):475([M+H]+,15),431(25),389(63),345(94),124(100),113(100).
1H-NMR(CDCl3,δppm):1.82(s,6H),1.95(s,3H),4.38 (dd,J1=3.21Hz,J2=4.74Hz,4H), 4.49 (dd,J1=3.21Hz,J2=4.74Hz,4H),5.48(t,J=1.53Hz,2H),5.71(d,J=1.53Hz,1H), 6.03(s,2H),6.28(s,1H),7.89(dd,J1=1.53Hz,J2=3.36Hz,2H), 8.45(t,J=1.52Hz,1H).
13C-NMR(CDCl3,δppm):17.78(2),17.81,61.98(2),62.93(2),125.96(2),127.16(2),127.68,127.93,131.39(2),134.84,135.45(2),150.66,164.24,164.99,166.87.[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an isophthalic acid compound having a (substituted) acryloyl group and a method for producing the same. The compound of the present invention relates to radical polymerization and ultraviolet curable monomers in the field of materials such as EL (electroluminescence) protective film resins, dental adhesives and special paints.
[0002]
[Prior art]
In JP-A-5-214045, there are descriptions of acryloyl compounds of existing aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, phthalic acid, trimellitic acid and pyromellitic acid, but sufficient results have not yet been obtained.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
An object is to provide a monomer having 1 to 3 (substituted) acryloyl groups as a raw material for an acrylic polymer.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present inventor has conducted earnest research. By using bis (2-hydroxyethyl) 5-hydroxyisophthalate (abbreviated as BH5HI) described in Japanese Patent Application No. 2000-206499 filed earlier by the present inventors, a novel acryloyl compound is obtained. The present invention has been completed.
[0005]
That is, the compound of the present invention has the formula [1]
[0006]
Embedded image
[0007]
Wherein R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or the formula [2]
[0008]
Embedded image
[0009]
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 and R 3 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
Represents a (substituted) acryloyl group, and at least one represents a (substituted) acryloyl group. )
The isophthalic acid compound represented by these, and its manufacturing method.
[0010]
The present invention also provides the formula [3]
[0011]
Embedded image
[0012]
And bis (2-hydroxyethyl) 5-hydroxyisophthalate (BH5HI) represented by the formula [4]
[0013]
Embedded image
[0014]
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same meaning as described above.)
Or a (substituted) acrylic acid compound represented by
BH5HI represented by the formula [3] and the formula [5]
[0015]
Embedded image
[0016]
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 represent the same meaning as described above, and X represents a halogen atom.)
The present invention relates to a method for producing an isophthalic acid compound represented by the above formula [1] by reacting an acrylic acid halide compound represented by formula (1) in the presence of a base, a metal and a metal compound. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The production method of the isophthalic acid compound represented by the formula [1] of the present invention is represented by the following two reaction schemes.
[0018]
Embedded image
[0019]
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and X represent the same meaning as described above.)
First, (1) will be described. As described in Japanese Patent Application No. 2000-206499, BH5HI represented by the formula [3] of the raw material is efficiently produced using a 5-hydroxyisophthalic acid compound and ethylene glycol as raw materials and an acid, metal or metal compound as a catalyst. can do.
[0020]
On the other hand, in the acrylic acid compound represented by the general formula [4], R 1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or 1 to 2 carbon atoms. R 2 , R 3 and R 4 have 1 to 10 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or 1 to 5 carbon atoms.
[0021]
Specifically, acrylic acid, methacrylic acid, tiglylic acid, 3,3-dimethylacrylic acid, 2-methyl-2-pentenoic acid, 2-ethyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, and the like, and their C1-C10 alkyl ester compounds, specifically, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, methyl tiglate, ethyl tiglate, methyl 3,3-dimethylacrylate, Ethyl 3,3-dimethylacrylate, methyl 2-methyl-2-pentenoate, ethyl 2-methyl-2-pentenoate, methyl 2-ethyl-2-hexenoate, ethyl 2-ethyl-2-hexenoate, 2 -Methyl octenoate, ethyl 2-octenoate, etc. are mentioned.
[0022]
This reaction requires an acid catalyst. As the acid catalyst, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid can be used, and sulfuric acid is particularly preferable. Further, organic acids such as benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid and trifluoroacetic acid can be used, and benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid are particularly preferable. The use amount of the acrylic acid compound can be a large excess from the theoretical amount.
[0023]
Further, examples of the acid catalyst include tungstic acid, molybdic acid, and heteropolyacids thereof. Specific examples of the heteropolyacid include H 3 PW 12 O 40 , H 4 SiW 12 O 40 , H 4 TiW 12 O 40 , H 5 CoW 12 O 40 , H 5 FeW 12 O 40 , and H 6 P 2 W 18 O. 62, H 7 PW 11 O 33 , H 4 TiMo 12 O 40, H 3 PMo 12 O 40, H 7 PMo 11 O 39, H 6 P 2 Mo 18 O 62, H 4 PMoW 11 O 40, H 4 PVMo 11 Typical examples include O 40 , H 4 SiMo 12 O 40 , H 5 PV 2 Mo 10 O 40 , H 3 PMo 6 W 6 O 40 , H 0.5 Cs 2.5 PW 12 O 40 and their hydrates. It is done. Moreover, the catalyst etc. which carry | supported these on carbon and a silica are mentioned. Among these heteropolyacids, H 3 PW 13 O 40 , H 3 PMo 12 O 40 and their hydrates are particularly preferable.
[0024]
Furthermore, cation exchange resins such as Amberlyst IR120, H-type zeolite such as H-ZSM-5, and the like can also be used.
[0025]
In particular, as a catalyst in the transesterification method, in addition to the aforementioned mineral acids, heteropoly acids, organic acids, cation exchange resins and H-type zeolite, 3ZnO-2B 2 O 3 , cadmium acetate, zinc acetate and calcium acetate A fatty acid salt of a Group II compound of the periodic table represented by These catalysts can be used in an amount of 0.1 to 100% by weight, preferably 1 to 20% by weight, based on BH5HI.
[0026]
Although this reaction can use an acrylic acid compound in large excess, it can also be performed using a solvent and it is preferable to use a solvent normally. Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane (EDC) and 1,1,1-trichloroethane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, 1,2-dimethoxyethane, And ethers such as diethylene glycol dimethyl ether.
[0027]
The usage-amount of a solvent is 1-20 weight times with respect to BH5HI, More preferably, it is 1-6 weight times. The reaction temperature is 50 to 200 ° C, more preferably 70 to 150 ° C. The reaction can be carried out at normal pressure or at elevated pressure. The reaction time can be 1 to 50 hours, and it is practically 2 to 12 hours.
[0028]
Next, the manufacturing method of reaction scheme (2) is described. In the acrylic acid halide compound represented by the general formula [5], R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above. Specifically, acrylic acid, methacrylic acid, tiglylic acid, 3,3- Halides such as dimethylacrylic acid, 2-methyl-2-pentenoic acid, 2-ethyl-2-hexenoic acid and 2-octenoic acid. Halogen is fluorine, chlorine, bromine and iodine, and economically it is chlorine. In particular, acrylic acid chloride and methacrylic acid chloride are used. The amount used is 1 to 2 mol times, more preferably 1 to 1.5 mol times the theoretical amount of BH5HI.
[0029]
This reaction requires a base, examples of which include inorganic bases such as alkali metals and alkaline earth metal carbonates and hydroxides, aliphatic and aromatic organic bases, and fatty acids of alkali metals and alkaline earth metals. Salt and the like can be used. Specific examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, Examples include pyridine, picoline, aniline, sodium acetate and sodium oxalate. In particular, sodium carbonate and triethylamine are preferable. The amount used is 1-2 mol times, more preferably 1-1.5 mol times the theoretical amount of BH5HI, and is preferably the same amount as the acrylic acid halide compound. A metal or a metal hydride complex can also be used.
[0030]
As the metal, alkali metals belonging to Group 1 of the Periodic Table and alkaline earth metals belonging to Group 2 can be used, and specifically, lithium, sodium, potassium, magnesium, calcium, and the like. In addition, examples of metal compounds include metals such as lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride, lithium aluminum hydride, sodium aluminum hydride, potassium aluminum hydride, lithium borohydride, sodium borohydride, and potassium borohydride. Examples thereof include hydrogenated complexes, metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate. In particular, sodium and sodium hydride are preferable. The amount used is the same as described above.
[0031]
This reaction preferably uses a solvent. Examples of the solvent include tetrahydrofuran (THF), dioxane, ethers such as 1,2-dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether. The usage-amount of a solvent is 1-20 weight times with respect to BH5HI, More preferably, it is 1-6 weight times. The reaction temperature is preferably -20 to 100 ° C, particularly 0 to 50 ° C.
[0032]
After the reaction, water is added to hydrolyze the residual acid chloride, and then the solvent is distilled off, extracted with a hardly water-soluble solvent (ether type or ester type), and then purified by distillation or column chromatography. The object can be obtained. The above reaction and purification of the present invention can be performed batchwise or continuously. The products obtained by this reaction are listed below.
[0033]
Embedded image
[0034]
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 represent the same meaning as described above.)
[0035]
【Example】
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
[0036]
Embedded image
[0037]
A 100 ml four-neck reaction flask was charged with 1.35 g (5 mmol) of BH5HI and 17 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) and cooled to 5 ° C. Under this stirring, 0.72 g (18 mmol) of sodium hydride (purity 60%) was added and stirred for 1.5 hours. Further, 3.14 g (30 mmol) of methacryloyl chloride was added dropwise at 5 ° C. Stirring was continued at 5 ° C. for 1 hour, and further reacted at 25 ° C. for 6 hours. Ice was added to the reaction solution, followed by concentration to distill off DMAc. The residue was extracted with ethyl acetate / water, insoluble solids were removed by filtration, and the organic layer of the filtrate was concentrated to dryness to give 3.44 g of an oil. This oily substance was purified by silica gel column chromatography with n-heptane / ethyl acetate = 19/1 to 3/1 to obtain 1,3-bis (2-methacryloyloxyethoxycarbonyl) -5-methacryloyloxybenzene (BMMB). 0.59 g (yield 24.9%) was obtained.
[0038]
MASS (FAB + , m / e (%)): 475 ([M + H] + , 15), 431 (25), 389 (63), 345 (94), 124 (100), 113 (100).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 1.82 (s, 6H), 1.95 (s, 3H), 4.38 (dd, J 1 = 3.21 Hz, J 2 = 4.74 Hz, 4H), 4.49 (dd, J 1 = 3.21Hz, J 2 = 4.74Hz, 4H), 5.48 (t, J = 1.53Hz, 2H), 5.71 (d, J = 1.53Hz, 1H), 6.03 (s, 2H), 6.28 (s, 1H) , 7.89 (dd, J 1 = 1.53Hz, J 2 = 3.36Hz, 2H), 8.45 (t, J = 1.52Hz, 1H).
13 C-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 17.78 (2), 17.81, 61.98 (2), 62.93 (2), 125.96 (2), 127.16 (2), 127.68, 127.93, 131.39 (2), 134.84, 135.45 (2), 150.66,164.24,164.99,166.87.
Claims (5)
で表される(置換)アクリロイル基を表し、少なくとも一つ以上は(置換)アクリロイル基を示す。)
で表されるイソフタル酸化合物。Formula [1]
Represents a (substituted) acryloyl group, and at least one represents a (substituted) acryloyl group. )
An isophthalic acid compound represented by
で表される(置換)アクリル酸化合物とを、酸触媒下反応させることを特徴とする式[1]
で表される(置換)アクリロイル基を表し、少なくとも一つ以上は(置換)アクリロイル基を示す。)
で表されるイソフタル酸化合物の製造法。Formula [3]
And a (substituted) acrylic acid compound represented by the formula [1]
Represents a (substituted) acryloyl group, and at least one represents a (substituted) acryloyl group. )
The manufacturing method of the isophthalic acid compound represented by these.
で表されるアクリル酸ハライド化合物を塩基、金属及び金属化合物の存在下で反応させることを特徴とする式[1]
で表される(置換)アクリロイル基を表し、少なくとも一つ以上は(置換)アクリロイル基を示す。)
で表されるイソフタル酸化合物の製造法。Formula [3]
Wherein the acrylate halide compound represented by the formula is reacted in the presence of a base, a metal and a metal compound [1]
Represents a (substituted) acryloyl group, and at least one represents a (substituted) acryloyl group. )
The manufacturing method of the isophthalic acid compound represented by these.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001261040A JP4788858B2 (en) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | Isophthalic acid compound and process for producing the same |
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Publication Number | Publication Date |
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