JP4787760B2 - ガス放電mopaレーザのスペクトル解析モジュール - Google Patents
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Description
関連出願
本出願は、本明細書においてその開示内容が引用により組み込まれている、2003年9月30日出願の「ガス放電MOPAレーザのスペクトル解析モジュール」という名称の米国特許出願第10/676,907号、2003年9月30日出願の「ガス放電MOPAレーザのスペクトル解析モジュール」という名称の米国特許出願第10/676,175号、及び2003年9月30日出願の「MOPAレーザ波長計のための光学マウント」という名称の米国特許出願第10/676,224号に対して優先権を請求するものである。
本出願は、共に本出願と同じ日に出願の「MOPAレーザ波長計のための光学マウント」という名称の代理人整理番号第2003−0088−01号、及び「ガス放電MOPAレーザのスペクトル解析モジュール」という名称の第2003−0002−01号に関連しており、その開示内容は、本明細書において引用により組み込まれている。
上述に引用した出願で説明されている繰返し率及びそれらの繰返し率を超えて作動するガス放電レーザ、特により高いパワー出力が利用可能なMOPAシステムに構成されたこのようなレーザのための測定機器の改良の必要性が存在する。
用語/頭字語:定義
ABF:重フッ化アンモニウム
ADC:アナログ/デジタル変換器
Amp:電流のアンペア
AOI:入射角
ArF:フッ化アルゴン
AR:反射防止(光学面からのフレネル反射を低減するコーティング)
AWR:絶対波長基準
BARO:モジュールのアラインメント、較正、及び試験のための気圧ステーション
Blur:「帯域幅鋸歯」効果を補正するために用いられる補正係数
BW:帯域幅
CaF2:フッ化カルシウム
DD:回折拡散器
DFM:製造用設計
EWCM:拡張波長制御モジュール
F2:フッ素
FCP:発射制御プロセッサ
FD:焦点距離
fm:フェントメータ(femtometer)
FRU:フィールド交換ユニット
FS:溶融シリカ
FSR:自由スペクトル範囲
FWHM:半値全幅。レーザ帯域幅に対する一般的測定基準。
GGD:研磨ガラス拡散器
KrF:フッ化クリプトン
LAM:ライン中心解析モジュール
LNM/LNP:ライン・ナローイング・モジュール/ライン・ナローイング・パッケージ
MgF2:フッ化マグネシウム
MOPA:主発振器電力増幅器
NIST:米国標準技術局
PDA:フォトダイオードアレイ
PDM:光検出器モジュール
pm:ピコメートル
SAM:スペクトル解析モジュール
WEB:波面エンジニアリングボックス
SAM光学機器サブシステム72の平面図である図4に示すように、一次ビームスプリッタのミラー104によって主ビーム64から取り上げられ、ステアリングミラー102から反射された光は、サンプリングされたビーム114として一次ビームスプリッタ80を出射する。サンプリングされたビーム114は、SAM46の帯域幅メータ88の2つの別々の内部機能に供給するためにSAM46の帯域幅メータ88内に分配された二次ビームスプリッタ140の非コーティング光学機器の前面及び後面からのフレネル反射を有する。二次ビームスプリッタのミラー140に入射するビーム114の一部は、パルスエネルギ測定のためのビーム142として光検出器モジュール(PDM)144上へ反射され、高速フォトダイオード信号として電子機器パッケージ74に出力される。下述でより詳細に説明する帯域幅回路は、二次ビームスプリッタとしての役割を果たすミラー140を通過してステアリングミラーからビーム114の主要部分を受け取る。選択された一次ビームスプリッタのミラー104の薄さのために、フレネル反射は重複し、SAM内のある一定の光学機器上のフルエンスを許容範囲内、すなわち光学機器の材料に対する損傷閾値よりも下に保つという問題を複雑化する。このビーム114は、下述でより詳細に説明するように、フォトダイオードアレイPDA182を用いてモニタされるフリンジパターンを生成するエタロン162の照明に関わっている。本発明の実施形態によると、フリンジパターンから、FWHM帯域幅は、4000Hz及びそれよりも高いパルス毎の計算をより一層考慮するために、PDA182の出力の処理速度を増大させる単純化された数学的計算を用いて0.01pmよりも細かい精度で計算することができる。
SAM46は、PDA182の出力とPDM144の出力でのパルスエネルギとによって帯域幅を測定することができる。SAM46及びLAM28は、レーザ制御システムとインタフェース(図示しない)で接続することができ、これは、次に、とりわけこれらの測定モジュールからのフィードバックに基づいて能動的制御を提供する。
SAM46の設計は、システム20からのモジュール46の迅速な取外しを容易にするために迅速なアクセスを可能にすることが要求される。これは、上部構造における不適正な装着及び設置の排除を含む。取扱を容易にし、装置への損傷又は作業者への傷害を防ぐために、誘導具、軌動、又は停止装置を備えることができる。
SAM46は、光学テーブル(図示しない)に対して垂直に装着することができる。モジュール交換を簡単にするために、モジュール46は、3つの拘束蝶ネジ78を用いてモジュール内の隔壁122に装着することができる。境界面において、エラストマー性のないシーリングを備えることができる。
CaF2一次ビームスプリッタ80のミラー104へのいわゆる「ホワイトファズ」損傷(高UVフルエンスの下での圧縮による)の可能性により、本出願人は、上述の70°角のビーム入射を利用するに至った。それに応じてSAM46の内部光学レイアウトは、従来技術の波長計バージョンから修正されている。
一次ビームスプリッタのミラー104の45°から70°への再方向付けにより、一次スプリッタのミラー104において、約25〜51mJ/cm2のフルエンスの低減がある。しかし、「ホワイトファズ」損傷は依然として残り、設計においてこれに対して依然として対処する必要がある。再設計されたマウントは、CaF2又はMgF2材料に適応することができると考えられる。
Δx=+0.0mm
Δy=+1.33mm
ここでは、1atmにおけるN2の屈折率=1.0003であると仮定されている。
Δx=+0.0mm
Δy=+1.29mm
これは、CaF2での変位量とそれ程変わらない。
d=2*t*(tanθi)*(cosθr)
θi=70°に対して上述で列挙した材料の性質を用いると、以下のようになる。
⇒CaF2に対して、d=l.lmm
⇒MgF2に対して、d=1.2mm
I11=I0y[{P70Cos2(0)}+{S70Sin2(0)}]=I0yP70
ここで、P70は、70°の入射角においてp偏光された光の反射率であり、I11は、一次スプリッタのミラー104の前面から反射された光の強度であり、I0yは、水平に偏光された入射光の強度である。
I12=(I0y−I11)P70−(I0y−I11)(P70)2
ここで、I12は、一次スプリッタのミラー104の後面からの反射の後に一次スプリッタのミラー104の前面を出射する光の強度である。ビーム114のうちの測定モジュール46の中に反射された合計強度は、以下のようになる。
IR=I11+I12
⇒CaF2に対して、=0.08133I0y
⇒MgF2に対して、=0.08632l0y
I21=S45(I11+I12)
I22=S45(I11+I12−I21)−(S45)2(I11+I12−I21)
ここで、I21及びI22は、二次スプリッタのミラー140の前面及び後面からエネルギモニタ144に反射された光の強度である。水平に偏光された光に関するエネルギモニタ144の中へ反射された入射光の強度の割合は、以下のようになる。
IR=I21+I22
⇒CaF2に対して、=0.0137I0y
⇒MgF2に対して、=0.01454l0y
垂直に偏光された光に関するエネルギモニタ144の中へ反射された入射光の強度の割合は、以下のようになる。
⇒CaF2に対して、=0.00756I0x
⇒MgF2に対して、=0.00702I0y
MOビーム:
水平プロフィール:2.0mm、垂直プロフィール:7.5mm
PAビーム:
水平プロフィール:5.0mm、垂直プロフィール:11.0mm
中心間離間:3.72mm
MO及びPAビーム間の傾き:6.7mrad
入射ビームフルエンス=Cos(70)*30.0/(0.9*0.3)=38mJ/cm2
反射ビームフルエンス=Cos(70)*(0.0389)*30.0/(0.9*0.3)=1.48mJ/cm2
⇒合計フルエンス=39.5mJ/cm2
20〜40mJ/パルスの範囲に対して、一次スプリッタのミラー104におけるフルエンス範囲は、26.3〜52.6mJ/cm2である。
前面反射によるフルエンス=Cos(25)*(0.0424)*30.0/(0.9*0.3)=4.27mJ/cm2
後面反射によるフルエンス=Cos(25)*(0.0389)*30.0/(0.9*0.3)=3.92mJ/cm2
⇒合計フルエンス=8.2mJ/cm2
20〜40mJ/パルスの範囲に対して、ステアリングミラー(誘電体コーティング光学機器)におけるフルエンス範囲は、5.5〜11.0mJ/cm2である。
M1調節可能ミラー146:4.1〜8.3mJ/cm2
テレスコープ前部レンズ204:5.8〜11.7mJ/cm2
テレスコープ後部レンズ220:11.8〜23.7mJ/cm2
回折拡散器222:10.9〜21.8mJ/cm2
集束レンズ224:7.6〜15.3mJ/cm2
第2段拡散器230:7〜14mJ/cm2
一次スプリッタのミラー104からの2つのフレネル反射の重なりの結果、テレスコープ後部レンズ220及び回折拡散器222におけるフルエンスレベルはかなり高いと考えられ、損傷の可能性を伴っている。これを軽減するために、本出願人は、例えば円柱テレスコープを組込み、及び/又はMgF2を利用した。
222 第1の拡散器
Claims (16)
- 出力が15mJ毎パルスに等しいか又はそれよりも大きく、かつ帯域幅の同調範囲がサブナノメートル単位であるパルス出力、を有するレーザビームを出力するガス放電レーザに対して、4000Hz及びそれよりも高いパルス繰返し率を有するパルス毎に、フェムトメートル帯域幅精度で帯域幅を測定する、波長計を含むスペクトル解析モジュールであって、
レーザ出力ビームの50%超を通過させ、かつ該レーザ出力ビームの第1の部分を反射するように作動する、ガス放電レーザのレーザ出力ビームの経路内の一次ビームスプリッタであって、該一次ビームスプリッタ上のフルエンスを該一次ビームスプリッタの損傷閾値未満へと低減させる角度の向きに配置され、かつ、該一次ビームスプリッタの前面から反射された該第1の部分と、該一次ビームスプリッタの後面から反射された該第1の部分とが重なり合うよう、該一次ビームスプリッタの前面及び後面から該レーザ出力ビームの該第1の部分を反射するべく厚さが選択された、一次ビームスプリッタと、
前記レーザ出力ビームの前記第1の部分の50%超を反射し、かつ該レーザ出力ビームの第2の部分を通過させるような二次ビームスプリッタと、
第1段拡散器と、
前記レーザ出力ビームの縮小された第2の部分を受け取る前記第1段拡散器上に該レーザ出力ビームの該第2の部分を縮小するように作動する、該レーザ出力ビームの該第2の部分の経路内のテレスコープ光学機器であって、この縮小化が、該レーザ出力ビームの該第2の部分における前記重なり合う反射内のフルエンスを該第1段拡散器の損傷閾値よりも低く保つように選択されているようなテレスコープ光学機器と、
を含むことを特徴とするスペクトル解析モジュール。 - 前記テレスコープ光学機器は、前記レーザ出力ビームの前記第2の部分の長軸を該レーザ出力ビームの該第2の部分の短軸よりも多く縮小するような向きに配置された円柱形テレスコープ光学機器を含み、該レーザ出力ビームの該第2の部分のフルエンスを前記第1段拡散器にわたって再分配して該第1段拡散器のどの部分も該第1段拡散器が作られる材料に対する前記損傷閾値を超えないように維持している、
ことを特徴とする請求項1に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記レーザ出力ビームの前記第1の部分の前記50%超は、反射されてパワー検出モジュール内に入る、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記レーザ出力ビームの前記第2の部分の経路内の集束レンズと、
第2段拡散器と、
光学干渉計と、
を更に含み、
前記集束レンズは、前記レーザ出力ビームの前記第2の部分を前記第2段拡散器上に集束させて、該レーザ出力ビームの集束した第2の部分を生成し、
前記第2段拡散器は、前記レーザ出力ビームの前記集束した第2の部分の円錐を生成するべく、該レーザ出力ビームの該集束した第2の部分の経路内にあり、
前記光学干渉計は、前記レーザ出力ビームの前記第2の部分の前記集束した第2の部分の前記円錐の経路内にある、
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記光学干渉計内への通路のために前記レーザ出力ビームの前記集束した第2の部分の前記円錐のスライスを選択する、該レーザ出力ビームの該集束した第2の部分の該円錐の経路内のスリット、
を更に含むことを特徴とする請求項4に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記ガス放電レーザは、193.350nmの公称レーザ出力ビーム波長を有するArFガス放電レーザであり、前記光学干渉計は、20pmよりも短い自由スペクトル領域を有する、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記一次ビームスプリッタは、前記レーザ出力ビームに対して少なくとも70度の角度を成すよう向けられた部分反射ミラーである、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記一次ビームスプリッタの前記部分反射ミラーは、CaF2で作られている、
ことを特徴とする請求項7に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記スリットの大きさは、前記光学干渉計に対するフルエンスを最小にし、同時に前記波長計内に収容されたフォトダイオードアレイ内の複数のフォトダイオードの各々において帯域幅計算を可能とするのに十分な照射をするように選択されている、
ことを特徴とする請求項5に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記第2段拡散器は、前記集束レンズと前記スリットの間にあって該スリット内への円錐拡散角度をもたらすエッチングされた拡散器である、
ことを特徴とする請求項9に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記一次ビームスプリッタは、前記レーザ出力ビームの5%を反射して前記レーザ出力ビームの前記第1の部分を形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記二次ビームスプリッタは、前記第1の部分の95%を反射する、
ことを特徴とする請求項1に記載のスペクトル解析モジュール。 - 前記二次ビームスプリッタは前記第1の部分の50%超を検出器へと反射する、
ことを特徴とする請求項1に記載のスペクトル解析モジュール。 - 出力が15mJ毎パルスに等しいか又はそれよりも大きく、かつ帯域幅の同調範囲がサブナノメートル単位であるパルス出力、を有するレーザビームを出力するガス放電レーザに対して、4000Hz及びそれよりも高いパルス繰返し率を有するパルス毎に、フェムトメートル帯域幅精度で帯域幅を測定する方法であって、
第1の光学機器上のフルエンスを該第1の光学機器の損傷閾値未満へと低減するような角度の向きに配置され、かつ、該第1の光学機器の前面から反射された第1の部分と、該第1の光学機器の後面から反射された第1の部分とが重なり合うよう、該第1の光学機器の前面及び後面から該レーザ出力ビームの第1の部分を反射するべく厚さが選択された、該第1の光学機器を通じて、前記レーザ出力ビームの50%超を通過させるとともに該レーザ出力ビームの該第1の部分を反射することにより、ガス放電レーザのレーザ出力ビームを分割する段階と、
第2の光学機器内で前記レーザ出力ビームの前記第1の部分を分割し、該二次分割が、該レーザ出力ビームの該第1の部分の50%超を反射して、該レーザ出力ビームの第2の部分を通過させる段階と、
前記レーザ出力ビームの前記第2の部分を縮小するために該レーザ出力ビームの該第2の部分を縮小する段階と、
拡散光学機器内で前記レーザ出力ビームの前記縮小した第2の部分を拡散する段階と、 を含み、
前記縮小化が、前記レーザ出力ビームの前記縮小した第2の部分内の前記重なり合う反射の前記フルエンスを前記拡散光学機器の損傷閾値よりも低く維持するように選択される、
ことを特徴とする方法。 - 前記第1の光学機器を通じて前記ガス放電レーザの主発振器の出力ビームを通過させる段階を更に含む、
ことを特徴とする、請求項14に記載の方法。 - 前記第1の光学機器上で前記主発振器の出力ビームと前記ガス放電レーザからの前記レーザ出力ビームとの間の重なり合いを回避する段階を更に含む、
ことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
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