JP4785093B2 - Long wafer processing tape - Google Patents

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Description

本発明は、ウエハ加工用テープの長尺体に関し、特に、ダイシングテープとダイボンデ
ィングフィルムの2つの機能を有するウエハ加工用テープの長尺体に関する。
The present invention relates to a long body of a wafer processing tape, and more particularly to a long body of a wafer processing tape having two functions of a dicing tape and a die bonding film.

近時、半導体ウエハを個々のチップに切断分離(ダイシング)する際に半導体ウエハを
固定するためのダイシングテープと、切断された半導体チップをリードフレームやパッケ
ージ基板等に接着するため、又は、スタックドパッケージにおいては、半導体チップ同士
を積層、接着するためのダイボンディングフィルム(ダイアタッチフィルムともいう)と
の2つの機能を併せ持つウエハ加工用テープが開発されている。
Recently, a dicing tape for fixing a semiconductor wafer when the semiconductor wafer is cut and separated into individual chips (dicing) and a semiconductor chip that has been cut are bonded to a lead frame, a package substrate, or the like, or stacked. As a package, a wafer processing tape has been developed that has two functions of a die bonding film (also referred to as a die attach film) for laminating and bonding semiconductor chips.

このようなウエハ加工用テープとしては、ウエハへの貼り付けや、ダイシングの際のリ
ングフレームへの取り付け等の作業性を考慮して、プリカット加工が施されたものがある
(例えば特許文献1参照)。
Such wafer processing tapes have been pre-cut in consideration of workability such as attachment to a wafer and attachment to a ring frame during dicing (for example, see Patent Document 1). ).

プリカット加工されたウエハ加工用テープの例を、図2に示す。図2はウエハ加工用テ
ープ20の概要図である。図2に示すように、ウエハ加工用テープ20は、フィルム21
と、接着剤層22と、粘着フィルム23とからなる。接着剤層22は、ウエハの形状に対
応する円形に加工されたものであり、円形状を有する。粘着フィルム23は、ダイシング
用のリングフレームの形状に対応する円形部分の周辺領域が除去されたものであり、図示
するように、円形ラベル部23aと、その外側を囲むような周辺部23bとを有する。接
着剤層22と粘着フィルム23の円形ラベル部23aとは、その中心を揃えて積層され、
また、粘着フィルム23の円形ラベル部23aは、接着剤層22を覆い、且つ、その周囲
でフィルム21に接触している。
An example of a pre-cut wafer processing tape is shown in FIG. FIG. 2 is a schematic view of the wafer processing tape 20. As shown in FIG. 2, the wafer processing tape 20 includes a film 21.
And an adhesive layer 22 and an adhesive film 23. The adhesive layer 22 is processed into a circle corresponding to the shape of the wafer and has a circular shape. The adhesive film 23 is obtained by removing the peripheral area of the circular portion corresponding to the shape of the ring frame for dicing. As shown in the drawing, the adhesive film 23 includes a circular label portion 23a and a peripheral portion 23b surrounding the outside. Have. The adhesive layer 22 and the circular label portion 23a of the adhesive film 23 are laminated with their centers aligned,
Further, the circular label portion 23 a of the adhesive film 23 covers the adhesive layer 22 and is in contact with the film 21 around the adhesive layer 22.

ウエハをダイシングする際には、積層状態の接着剤層22及び粘着フィルム23からな
るラベルからフィルム21を剥離し、図3に示すように、接着剤層22上に半導体ウエハ
Wの裏面を貼り付け、粘着フィルム23の円形ラベル部23aの外周部にダイシング用リ
ングフレームRを粘着固定する。この状態で半導体ウエハWをダイシングし、その後、粘
着フィルム23に紫外線照射等の硬化処理を施して半導体チップをピックアップする。こ
のとき、粘着フィルム23は、硬化処理によって粘着力が低下しているので、接着剤層2
2から容易に剥離し、半導体チップは裏面に接着剤層22が付着した状態でピックアップ
される。半導体チップの裏面に付着した接着剤層22は、その後、半導体チップをリード
フレームやパッケージ基板、あるいは他の半導体チップに接着する際に、ダイボンディン
グフィルムとして機能する。
When dicing the wafer, the film 21 is peeled off from the label composed of the adhesive layer 22 and the adhesive film 23 in a laminated state, and the back surface of the semiconductor wafer W is pasted on the adhesive layer 22 as shown in FIG. The dicing ring frame R is adhesively fixed to the outer peripheral portion of the circular label portion 23 a of the adhesive film 23. In this state, the semiconductor wafer W is diced, and then the adhesive film 23 is subjected to a curing process such as ultraviolet irradiation to pick up a semiconductor chip. At this time, since the adhesive force of the adhesive film 23 is reduced by the curing process, the adhesive layer 2
The semiconductor chip is picked up with the adhesive layer 22 attached to the back surface. The adhesive layer 22 attached to the back surface of the semiconductor chip then functions as a die bonding film when the semiconductor chip is bonded to a lead frame, a package substrate, or another semiconductor chip.

特開2007−2173号公報JP 2007-2173 A

ところで、上記のようなウエハ加工用テープ20は、図2に示すように、製品としては
長尺体である。そのため、ウエハ加工用テープ20を製造する際、品質不良のラベルが、
例えば複数枚連続して存在した場合、ラベルを剥がした後に品質不良のラベルが存在した
部分のフィルムを切除し、複数に分断されたウエハ加工用テープ同士を粘着テープを用い
て接合して、規定長さや規定ラベル枚数のウエハ加工用テープ20を作成する。
Incidentally, the wafer processing tape 20 as described above is a long product as a product, as shown in FIG. Therefore, when manufacturing the wafer processing tape 20, a defective label is
For example, when multiple sheets exist continuously, after peeling off the label, cut off the film where the poor quality label existed, and bond the wafer processing tapes divided into multiple pieces using adhesive tape to specify A wafer processing tape 20 having a length and a specified number of labels is prepared.

図4に、ラベルを剥がして、2つのウエハ加工用テープ40を接合した継ぎ部を示す図
を示す。図4(a)はウエハ加工用テープ40の平面図、図4(b)は図4(a)のX−
X線端面図である。図4に示すように、長尺体の途中にウエハ加工用テープ40同士を接
合した継ぎ部は、以下のようにして形成される。
(1)継ぎを行う部分(品質不良)のラベル(積層状態の接着剤層42及び粘着フィルム
43からなるラベル)、を剥がす。
(2)ラベルを剥がした部分のフィルムを切除する。
(3)フィルムの切断部同士をつき合わせ、面合わせを行った後、第1の粘着テープ44
aをフィルムに貼る。
(4)粘着テープ44aを貼った反対側の粘着フィルム43上にも第2の粘着テープ44
bを貼る。
(5)フィルム幅方向側からはみ出した第1の粘着テープ44a、第2の粘着テープ44
bを切除する。
FIG. 4 is a view showing a joint portion where the label is peeled off and two wafer processing tapes 40 are joined. 4A is a plan view of the wafer processing tape 40, and FIG. 4B is an X-axis of FIG. 4A.
It is an X-ray end view. As shown in FIG. 4, the joint portion in which the wafer processing tapes 40 are joined to each other in the middle of the long body is formed as follows.
(1) The label (the label made up of the adhesive layer 42 and the adhesive film 43 in the laminated state) of the part to be spliced (poor quality) is peeled off.
(2) Cut off the film where the label has been peeled off.
(3) After the cut portions of the film are brought together and face-to-face aligned, the first adhesive tape 44
a is pasted on the film.
(4) The second adhesive tape 44 is also formed on the opposite adhesive film 43 to which the adhesive tape 44a is applied.
Paste b.
(5) The 1st adhesive tape 44a and the 2nd adhesive tape 44 which protruded from the film width direction side
Excise b.

ところで、上記のようなウエハ加工用テープ20は、図2に示すように、柔軟な接着剤
層22と粘着フィルム23の円形ラベル部23aとが積層されている。図4に示す第2の
粘着テープ44bが設けられる位置が幅方向で接着剤層42に掛かった部分は、製品とし
てロール状に巻かれた際に、接着剤層42と粘着フィルム43の円形ラベル部43aの積
層部分と、粘着フィルム43の周辺部43bと第2の粘着テープ44bの積層部分との段
差が重なりあい、柔軟な接着剤層42表面に段差が転写される現象、すなわち図5に示す
ような転写痕45が発生する。この転写痕45の発生は、特に接着剤層42が柔らかい樹
脂で形成されている場合や厚みがある場合、及びウエハ加工用テープ40の巻き数が多い
場合などに顕著である。そして、転写痕45が発生すると、接着剤層と半導体ウエハとの
接着不良により、ウエハの加工時に不具合が生じるおそれがある。
Meanwhile, as shown in FIG. 2, the wafer processing tape 20 as described above has a flexible adhesive layer 22 and a circular label portion 23a of an adhesive film 23 laminated thereon. The portion where the second adhesive tape 44b shown in FIG. 4 is provided on the adhesive layer 42 in the width direction is a circular label of the adhesive layer 42 and the adhesive film 43 when wound as a product in a roll shape. FIG. 5 shows a phenomenon in which the step between the laminated portion of the portion 43a, the peripheral portion 43b of the adhesive film 43, and the laminated portion of the second adhesive tape 44b overlap, and the step is transferred to the surface of the flexible adhesive layer 42. As shown, a transfer mark 45 is generated. The generation of the transfer marks 45 is remarkable particularly when the adhesive layer 42 is formed of a soft resin or has a thickness, and when the number of windings of the wafer processing tape 40 is large. When the transfer mark 45 is generated, there is a risk that a defect may occur during the processing of the wafer due to poor adhesion between the adhesive layer and the semiconductor wafer.

そこで、本発明の目的は、ウエハ加工用テープを使用する際に、継ぎ部の段差によって
生じる接着剤層への転写痕の発生を抑制することができるウエハ加工用テープの長尺体を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a long wafer processing tape that can suppress the occurrence of transfer marks on an adhesive layer caused by a step of a joint when using a wafer processing tape. There is.

以上のような目的を達成するため、本発明に係るウエハ加工用テープの長尺体は、長尺
のフィルムと、前記フィルムの第1の面上に設けられた所定の平面形状を有する接着剤層
と、前記接着剤層を覆い、かつ、前記接着剤層の周囲で前記フィルムに接触するように設
けられた所定の平面形状を有するラベル部と、前記ラベル部の外周を囲むように設けられ
た周辺部とを有する粘着フィルムとからなるウエハ加工用テープの長尺体であって、複数
のウエハ加工用テープ同士を長手方向に接続する継ぎ部を有しており、前記継ぎ部は、前
記フィルムの第1の面と反対側の第2の面同士を第1の粘着テープにより貼り合わせ、前
記複数のウエハ加工用テープの互いの前記周辺部同士を第2の粘着テープにより貼り合わ
せることにより形成されており、前記第2の粘着テープは、前記フィルムの長手方向と平
行な前記接着剤層の外接線よりも端部側にのみ設けられていることを特徴とする。
In order to achieve the above-described object, an elongated body of a wafer processing tape according to the present invention includes an elongated film and an adhesive having a predetermined planar shape provided on the first surface of the film. A label portion having a predetermined planar shape so as to cover the adhesive layer and to contact the film around the adhesive layer, and to surround an outer periphery of the label portion. A long wafer processing tape comprising an adhesive film having a peripheral portion, and having a joint portion for connecting a plurality of wafer processing tapes in the longitudinal direction, the joint portion, By bonding the second surfaces opposite to the first surface of the film with a first adhesive tape, and bonding the peripheral portions of the plurality of wafer processing tapes with a second adhesive tape Formed The second adhesive tape is characterized in that is provided only on the end side than the circumscribed line parallel to the longitudinal direction the adhesive layer of the film.

第2の粘着テープを、前記フィルムの長手方向と平行な前記接着剤層の外接線よりも端
部側に設けることで、継ぎ部の段差によって生じる接着剤層への転写痕の発生を抑制し、
接着剤層と半導体ウエハとの接着不良により、ウエハの加工時に不具合が生じることを防
止することができる。
By providing the second pressure-sensitive adhesive tape on the end side with respect to the circumscribing line of the adhesive layer parallel to the longitudinal direction of the film, generation of transfer marks on the adhesive layer caused by the step of the joint portion is suppressed. ,
It is possible to prevent a problem from occurring during processing of the wafer due to poor adhesion between the adhesive layer and the semiconductor wafer.

上述のウエハ加工用テープの長尺体において、前記継ぎ部は、長手方向に対して斜めに
形成されていることが好ましい。
In the long wafer processing tape described above, it is preferable that the joint portion is formed obliquely with respect to the longitudinal direction.

第1及び第2の粘着テープが、ウエハ加工用テープの長手方向に対して斜めに切断され
た複数のウエハ加工用テープ同士を接合することから、切断面を面合わせることによって
、簡単かつ正確に2つのウエハ加工用テープの位置合わせを行うことができる。
Since the first and second adhesive tapes join a plurality of wafer processing tapes that are cut obliquely with respect to the longitudinal direction of the wafer processing tape, it is easy and accurate by matching the cut surfaces. Two wafer processing tapes can be aligned.

上述のウエハ加工用テープの長尺体において、前記第1の粘着テープは、前記フィルム
の第1の面と、前記周辺部とに貼られていてもよい。
In the long wafer processing tape described above, the first adhesive tape may be attached to the first surface of the film and the peripheral portion.

上述のウエハ加工用テープの長尺体において、前記第1の粘着テープは、前記フィルム
の第1の面には貼られていなくてもよい。
In the long wafer processing tape described above, the first adhesive tape may not be attached to the first surface of the film.

ウエハ加工用テープが使用される際は、接着剤層とともにラベル部を剥がして使用され
るため、フィルム21には離型処理が施されている。従って、周辺部上に貼られた第1の
粘着テープが長尺のフィルムにはみ出している場合、はみ出した部分が剥がれ易く、剥が
れた部分を起点として粘着テープがはがれてしまうのに対して、第1の粘着テープが長尺
のフィルムにはみ出さない場合、粘着テープが剥がれることを防止することができる。
When the wafer processing tape is used, since the label portion is peeled off together with the adhesive layer, the film 21 is subjected to a mold release process. Therefore, when the first adhesive tape affixed on the peripheral part protrudes from the long film, the protruding part is easily peeled off, and the adhesive tape is peeled off starting from the peeled part. When 1 adhesive tape does not protrude into a long film, it can prevent that an adhesive tape peels.

上述のウエハ加工用テープの長尺体において、前記第1及び前記第2の粘着テープの少
なくとも一方は着色部材であることが望ましい。
In the long wafer processing tape described above, at least one of the first and second adhesive tapes is preferably a colored member.

第1及び第2の粘着テープの少なくとも一方が着色部材であることから、ウエハ加工用
テープの長尺体に接合された継ぎ部が存在することが目視或いは色差計により容易に確認
することができる。また、周辺部の粘着フィルム上に貼られた第1の粘着テープのみが着
色部材である場合、ウエハ加工用テープの接合の際に、第1の粘着テープの貼り忘れを防
止することができる。
Since at least one of the first and second adhesive tapes is a colored member, it can be easily confirmed visually or by a color difference meter that there is a joint portion joined to the long body of the wafer processing tape. . Moreover, when only the 1st adhesive tape stuck on the adhesive film of the peripheral part is a coloring member, it can prevent forgetting to stick the 1st adhesive tape in the case of joining of the tape for wafer processing.

本発明のウエハ加工用テープの長尺体によれば、第2の粘着テープは、前記フィルムの
長手方向と平行な前記接着剤層の外接線よりも端部側に設けることで、継ぎ部の段差によ
って生じる接着剤層への転写痕の発生を抑制し、接着剤層と半導体ウエハとの接着不良に
より、ウエハの加工時に不具合が生じることを防止することができる。
According to the elongated wafer processing tape of the present invention, the second pressure-sensitive adhesive tape is provided on the end side with respect to the outer tangent line of the adhesive layer parallel to the longitudinal direction of the film. Generation of a transfer mark on the adhesive layer caused by the step is suppressed, and it is possible to prevent a defect from occurring during processing of the wafer due to poor adhesion between the adhesive layer and the semiconductor wafer.

(a)は、本発明の実施形態に係るウエハ加工用テープの平面図であり、(b)は、(a)におけるA−A線端面図であり、(c)は、(b)におけるL部拡大図である。(A) is a top view of the tape for wafer processing which concerns on embodiment of this invention, (b) is an AA line end view in (a), (c) is L in (b). FIG. 従来のウエハ加工用テープの概要図である。It is a schematic diagram of the conventional wafer processing tape. ウエハ加工用テープとダイシング用リングフレームとが貼り合わされた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state by which the tape for wafer processing and the ring frame for dicing were bonded together. (a)は、従来のウエハ加工用テープの平面図であり、(b)は、(a)におけるX−X線端面図である。(A) is a top view of the conventional wafer processing tape, (b) is an XX line end view in (a). 従来のウエハ加工用テープの不具合を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the malfunction of the conventional tape for wafer processing.

以下に本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1(a)は、本発明の
実施形態に係るウエハ加工用テープであって、長手方向に対して斜め方向に切断されたウ
エハ加工用テープを粘着テープを用いて接合したウエハ加工用テープの平面図、図1(b
)は、図1(a)の継ぎ部のA−A線断面図、図1(c)は、図1(b)のL部拡大図で
ある。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 (a) is a wafer processing tape according to an embodiment of the present invention, and is a wafer processing tape in which a wafer processing tape cut obliquely with respect to the longitudinal direction is joined using an adhesive tape. Plan view, FIG.
) Is a cross-sectional view taken along line AA of the joint portion in FIG. 1A, and FIG. 1C is an enlarged view of the L portion in FIG.

図1(a)及び図1(b)に示すように、ウエハ加工用テープ10は、長尺のフィルム
11と、フィルム11上に設けられた円形状の接着剤層12と、粘着フィルム13とを有
する。粘着フィルム13は、接着剤層12を覆い、且つ、接着剤層12の周囲でフィルム
11に接触するように設けられた円形状のラベル部13aと、フィルム11の幅方向両端
部上に、接着剤層12及びラベル部13aの積層体の外周を囲むように、フィルム11の
長手方向に沿って連続的に設けられた周辺部13bとを有する。
As shown in FIGS. 1A and 1B, a wafer processing tape 10 includes a long film 11, a circular adhesive layer 12 provided on the film 11, an adhesive film 13, and the like. Have The pressure-sensitive adhesive film 13 covers the adhesive layer 12 and adheres to the circular label portion 13 a provided so as to contact the film 11 around the adhesive layer 12 and both end portions in the width direction of the film 11. The peripheral part 13b provided continuously along the longitudinal direction of the film 11 so that the outer periphery of the laminated body of the agent layer 12 and the label part 13a may be enclosed.

図1(a)に示すように、ウエハ加工用テープ10は、ウエハ加工用テープ10の長手
方向に対して斜めに継ぎ部が形成されている。継ぎ部は以下のように形成される。接着剤
層12とラベル部13aとからなる積層体のラベルに連続して複数の品質不良が生じた場
合、品質不良が生じた先頭のラベルをフィルム11から剥がした後、フィルム11のラベ
ルが積層されていた部分の略中央を長手方向に対して斜めに切断する。そして、品質不良
が生じた最後のラベルを同様にフィルム11から剥がした後、フィルム11のラベルが積
層されていた部分の略中央を長手方向に対して斜めに切断する。このとき互いの切断部分
を付き合わせて接合することで、ラベル1つ分のスペースができるように切断する。そし
て、第1の粘着テープ14a、第2の粘着テープ14bを用いて、切断されたウエハ加工
用テープ10が接合する。第1の粘着テープ14aは、接着剤層12が設けられたフィル
ム11の反対側の面(請求項における第2の面)から、ウエハ加工用テープ10の切断部
分に沿って、切断線全体を覆うようにフィルム11に貼り付ける。第2の粘着テープ14
bは、粘着フィルム13の周辺部13b上の切断線を覆うように貼り付ける。なお、品質
不良のラベルが1つの場合でも、ラベルをフィルム11から剥がした後、フィルム11の
ラベルが積層されていた部分の略中央を長手方向に対して斜めに切断し、その切断部分を
接合して継ぎ部を形成すると、ラベルの欠落箇所が分かりやすくなってよい。
As shown in FIG. 1A, the wafer processing tape 10 has a splice formed obliquely with respect to the longitudinal direction of the wafer processing tape 10. The joint is formed as follows. When a plurality of quality defects occur continuously on the label of the laminate composed of the adhesive layer 12 and the label portion 13a, the label on the film 11 is laminated after the leading label in which the quality defect has occurred is peeled off from the film 11. The substantial center of the portion that has been formed is cut obliquely with respect to the longitudinal direction. And after peeling off the last label which produced the quality defect from the film 11 similarly, the approximate center of the part where the label of the film 11 was laminated | stacked is cut | disconnected diagonally with respect to a longitudinal direction. At this time, cutting is performed so that a space corresponding to one label is created by joining the cut portions to each other and joining them. And the cut | disconnected tape 10 for wafer processing joins using the 1st adhesive tape 14a and the 2nd adhesive tape 14b. The first pressure-sensitive adhesive tape 14a extends from the opposite surface (second surface in the claims) of the film 11 provided with the adhesive layer 12 along the cutting portion of the wafer processing tape 10 along the entire cutting line. Affix to film 11 so as to cover. Second adhesive tape 14
b is affixed so that the cutting line on the peripheral part 13b of the adhesive film 13 may be covered. Even in the case where there is only one poor quality label, after peeling the label from the film 11, the center of the portion where the label of the film 11 is laminated is cut obliquely with respect to the longitudinal direction, and the cut portion is joined. Then, when the joint portion is formed, the missing portion of the label may be easily understood.

ここで、第2の粘着テープ14bは、図1(a)に示すように、フィルム11の端部か
ら接着剤層12の外接線までの領域Hに貼り付けられている。
Here, the 2nd adhesive tape 14b is affixed on the area | region H from the edge part of the film 11 to the outer tangent of the adhesive bond layer 12, as shown to Fig.1 (a).

粘着テープ14bがフィルム11の端部から接着剤層12までの領域Hに貼り付けられ
ていることにより、ウエハ加工用テープ10がロール状に巻き取られた場合に、継ぎ部の
段差が接着剤層12にかかることがなく、接着剤層12への転写痕の発生がないことから
、接着剤層12と半導体ウエハとの接着不良により、ウエハの加工時に不具合が生じるこ
とを防止することができる。
The adhesive tape 14b is attached to the region H from the end of the film 11 to the adhesive layer 12, so that when the wafer processing tape 10 is wound up in a roll shape, the level difference at the joint is adhesive. Since it does not apply to the layer 12 and no transfer mark is generated on the adhesive layer 12, it is possible to prevent a defect from occurring during processing of the wafer due to poor adhesion between the adhesive layer 12 and the semiconductor wafer. .

また、図1(a)〜図1(c)に示すように、粘着フィルムの周辺部13b上に貼られ
た第2の粘着テープ14bは、ラベル部13aと周辺部13bとの間に形成されているフ
ィルム11およびラベル部13aをフィルム11から剥がした後に現れるフィルム11の
表面にはみ出さないように貼られている。
Moreover, as shown to Fig.1 (a)-FIG.1 (c), the 2nd adhesive tape 14b stuck on the peripheral part 13b of an adhesive film is formed between the label part 13a and the peripheral part 13b. The film 11 and the label portion 13a are pasted so as not to protrude from the surface of the film 11 that appears after the film 11 is peeled off from the film 11.

これにより、ウエハ加工用テープ10が使用される際は、接着剤層12とともにラベル
部13aを剥がして使用されるため、フィルム11には離型処理が施されている。従って
、周辺部13b上に貼られた第2の粘着テープ14bがフィルム11にはみ出している場
合、はみ出した部分が剥がれ易く、剥がれた部分を起点として第2の粘着テープ14bが
剥がれてしまうのに対して、第2の粘着テープ14bがフィルム11にはみ出さない場合
、第2の粘着テープ14bが剥がれることを防止することができる。
As a result, when the wafer processing tape 10 is used, the label portion 13a is peeled off together with the adhesive layer 12, so that the film 11 is subjected to a mold release process. Therefore, when the second adhesive tape 14b pasted on the peripheral portion 13b protrudes from the film 11, the protruding portion is easily peeled off, and the second adhesive tape 14b is peeled off starting from the peeled portion. On the other hand, when the 2nd adhesive tape 14b does not protrude into the film 11, it can prevent that the 2nd adhesive tape 14b peels.

さらに、粘着テープ14a、14bの少なくとも一方に着色処理が行われていた場合、
ウエハ加工用テープ10に粘着テープ14a、14bを用いて接合された継ぎ部が存在す
ることが目視或いは色差計により容易に確認することができる。また、周辺部13bの粘
着フィルム13上に貼られた第2の粘着テープ14bのみに着色処理が行われていた場合
、ウエハ加工用テープ10の接合の際に、第2の粘着テープ14bの貼り忘れを防止する
ことができる。
Furthermore, when a coloring process is performed on at least one of the adhesive tapes 14a and 14b,
It can be easily confirmed visually or by a color difference meter that the joint portion bonded to the wafer processing tape 10 using the adhesive tapes 14a and 14b exists. In addition, when only the second adhesive tape 14b pasted on the adhesive film 13 in the peripheral portion 13b has been colored, the second adhesive tape 14b is pasted when the wafer processing tape 10 is joined. Forgetting can be prevented.

なお、第1の粘着テープ14a及び第2の粘着テープ14bを用いて、ウエハ加工用テ
ープ10の長手方向と斜め方向に切断されたウエハ加工用テープ同士が接合される。従っ
て、切断面を面合わせることによって、簡単かつ正確に2つのウエハ加工用テープの位置
合わせを行うことができる。
The wafer processing tapes cut in the longitudinal direction and the oblique direction of the wafer processing tape 10 are joined to each other using the first adhesive tape 14a and the second adhesive tape 14b. Therefore, the two wafer processing tapes can be aligned easily and accurately by matching the cut surfaces.

ただし、切断線は斜めに形成されていなくてもよく、長手方向に垂直に切断されていて
も良い。さらにこの場合、1つの粘着テープをフィルム11の第2面にから折り返して周
辺部13bに貼り付けることにより、第1粘着テープ14aと第2の粘着テープ14bと
してもよい。なお、切断線を斜めに形成した場合でも、1つの粘着テープを折り返して第
1粘着テープ14aと第2の粘着テープ14bとすることもできる。この場合、粘着テー
プの折り返した部分が周辺部13b側の面の切断線に沿うように、ウエハ加工用テープの
幅からはみ出させるようにして折り返し、このはみ出た部分を後に切除するとよい。
However, the cutting line may not be formed obliquely and may be cut perpendicular to the longitudinal direction. Furthermore, in this case, the first adhesive tape 14a and the second adhesive tape 14b may be obtained by folding one adhesive tape from the second surface of the film 11 and attaching it to the peripheral portion 13b. Even when the cutting line is formed obliquely, one adhesive tape can be folded back into the first adhesive tape 14a and the second adhesive tape 14b. In this case, the folded portion of the adhesive tape may be folded so as to protrude from the width of the wafer processing tape so that the folded portion is along the cutting line on the surface on the peripheral portion 13b side, and the protruding portion may be excised later.

また、本実施の形態では、切断部分をフィルム11のラベルが積層されていた部分の略
中央に設けるようにしたが、領域Hを超えて内側に第2の粘着テープ14bが設けられて
いない限り、図4に示すように、ラベルが積層されていた部分以外の箇所で切断し、継ぎ
部を形成するようにしてもよい。この場合、領域H全体に第2の粘着テープ14bが設け
られている必要はなく、その一部に設けられていてもよい。
Moreover, in this Embodiment, although the cut part was provided in the approximate center of the part on which the label of the film 11 was laminated | stacked, as long as the 2nd adhesive tape 14b is not provided in the inner side exceeding the area | region H. As shown in FIG. 4, it may be cut at a portion other than the portion where the label is laminated to form a joint portion. In this case, the second adhesive tape 14b need not be provided in the entire region H, and may be provided in a part thereof.

なお、本実施の形態では、第2の粘着テープ14bは、フィルム11の表面にはみ出さ
ないように貼るようにしたが、ラベル部13a以外の領域のフィルム11と粘着フィルム
の周辺13b部とに貼るようにしてもよい。なお、この場合においても、第2の粘着テー
プ14bは、上述と同様に第1の粘着テープ14aとともに1つの粘着テープで構成して
もよい。
In the present embodiment, the second adhesive tape 14b is applied so as not to protrude from the surface of the film 11. However, the second adhesive tape 14b is attached to the film 11 in a region other than the label portion 13a and the peripheral 13b portion of the adhesive film. You may make it stick. In this case as well, the second adhesive tape 14b may be composed of one adhesive tape together with the first adhesive tape 14a as described above.

以下、本実施形態のウエハ加工用テープ10の各構成要素について詳細に説明する。
(フィルム)
本発明のウエハ加工用テープ10に用いられるフィルム11としては、ポリエチレンテ
レフタレート(PET)系、ポリエチレン系、その他、離型処理が施されたフィルム等周
知のものを使用することができる。フィルムの厚さは、特に限定されるものではなく、適
宜に設定してよいが、25〜50μmが好ましい。
Hereafter, each component of the tape 10 for wafer processing of this embodiment is demonstrated in detail.
(the film)
As the film 11 used for the wafer processing tape 10 of the present invention, a known film such as a polyethylene terephthalate (PET) type, a polyethylene type, or a film subjected to a release treatment can be used. The thickness of the film is not particularly limited and may be appropriately set, but is preferably 25 to 50 μm.

(接着剤層)
本発明の接着剤層12は、上述のように、フィルム11の第1の面11a上に形成され
、ウエハの形状に対応する円形状を有する。
(Adhesive layer)
As described above, the adhesive layer 12 of the present invention is formed on the first surface 11a of the film 11 and has a circular shape corresponding to the shape of the wafer.

接着剤層12は、半導体ウエハ等が貼合されダイシングされた後、チップをピックアッ
プする際に、チップ裏面に付着しており、チップを基板やリードフレームに固定する際の
接着剤として使用されるものである。接着剤層12としては、エポキシ系樹脂、アクリル
系樹脂、フェノール系樹脂から選択される少なくとも1種を含む粘接着剤等を使用するこ
とができる。この他、ポリイミド系樹脂やシリコーン系樹脂を使用することもできる。そ
の厚さは適宜設定してよいが、5〜100μm程度が好ましい。
The adhesive layer 12 is attached to the back surface of the chip when the chip is picked up after the semiconductor wafer or the like is bonded and diced, and is used as an adhesive for fixing the chip to the substrate or the lead frame. Is. As the adhesive layer 12, an adhesive including at least one selected from an epoxy resin, an acrylic resin, and a phenol resin can be used. In addition, a polyimide resin or a silicone resin can also be used. The thickness may be appropriately set, but is preferably about 5 to 100 μm.

(粘着フィルム)
本発明の粘着フィルム13は、上述のように、ダイシング用のリングフレームの形状に
対応する円形ラベル部13aと、その外側を囲むような周辺部13bとを有する。このよ
うな粘着フィルムは、プリカット加工により、フィルム状粘着剤から円形ラベル部13a
の周辺領域を除去することで形成することができる。
(Adhesive film)
As described above, the adhesive film 13 of the present invention has the circular label portion 13a corresponding to the shape of the ring frame for dicing, and the peripheral portion 13b surrounding the outside. Such an adhesive film is obtained by pre-cut processing from the film-like adhesive to the circular label portion 13a.
It can be formed by removing the peripheral region.

粘着フィルム13としては、特に制限はなく、ウエハをダイシングする際にはウエハが
剥離しないように十分な粘着力を有し、ダイシング後にチップをピックアップする際には
容易に接着剤層から剥離できるよう低い粘着力を示すものであればよい。例えば、基材フ
ィルムに粘着剤層を設けたものを好適に使用できる。
The adhesive film 13 is not particularly limited, and has a sufficient adhesive force so that the wafer does not peel when dicing the wafer, and can be easily peeled from the adhesive layer when picking up the chip after dicing. Any material that exhibits low adhesive strength may be used. For example, what provided the adhesive layer in the base film can be used conveniently.

粘着フィルム13の基材フィルムとしては、従来公知のものであれば特に制限すること
なく使用することができるが、後述の粘着剤層として放射線硬化性の材料を使用する場合
には、放射線透過性を有するものを使用することが好ましい。
The base film of the adhesive film 13 can be used without particular limitation as long as it is a conventionally known base film. However, when a radiation curable material is used as the adhesive layer described later, the radiation transparency is used. It is preferable to use one having

例えば、その材料として、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重
合体、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、エチレン−酢酸ビニル共重合体
、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、アイオノマーなどのα−オレフィンの単独重合体または共重合
体あるいはこれらの混合物、ポリウレタン、スチレン−エチレン−ブテンもしくはペンテ
ン系共重合体、ポリアミド−ポリオール共重合体等の熱可塑性エラストマー、およびこれ
らの混合物を列挙することができる。また、基材フィルムはこれらの群から選ばれる2種
以上の材料が混合されたものでもよく、これらが単層又は複層化されたものでもよい。
基材フィルムの厚さは、特に限定されるものではなく、適宜に設定してよいが、50〜
200μmが好ましい。
For example, as the material, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polybutene-1, poly-4-methylpentene-1, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic Α-olefin homopolymer or copolymer such as acid methyl copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ionomer or a mixture thereof, polyurethane, styrene-ethylene-butene or pentene copolymer, polyamide-polyol Listed are thermoplastic elastomers such as copolymers, and mixtures thereof. Further, the base film may be a mixture of two or more materials selected from these groups, or may be a single layer or a multilayer.
The thickness of the base film is not particularly limited and may be set as appropriate.
200 μm is preferred.

粘着フィルム13の粘着剤層に使用される樹脂としては、特に限定されるものではなく
、粘着剤に使用される公知の塩素化ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を使用することができる。
The resin used for the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive film 13 is not particularly limited, and a known chlorinated polypropylene resin, acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, or the like used for the pressure-sensitive adhesive is used. can do.

粘着剤層の樹脂には、アクリル系粘着剤、放射線重合性化合物、光重合開始剤、硬化剤
等を適宜配合して粘着剤を調製することが好ましい。粘着剤層の厚さは特に限定されるも
のではなく適宜に設定してよいが、5〜30μmが好ましい。
It is preferable to prepare a pressure-sensitive adhesive by appropriately mixing an acrylic pressure-sensitive adhesive, a radiation polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a curing agent and the like with the resin of the pressure-sensitive adhesive layer. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately set, but is preferably 5 to 30 μm.

放射線重合性化合物を粘着剤層に配合して放射線硬化により接着剤層から剥離しやすく
することができる。その放射線重合性化合物は、例えば光照射によって三次元網状化しう
る分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分量化合物が用い
られる。
A radiation-polymerizable compound can be blended in the pressure-sensitive adhesive layer to facilitate peeling from the adhesive layer by radiation curing. As the radiation polymerizable compound, for example, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation is used.

具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒ
ドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4−ブ
チレングリコールジアクリレート、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレートや、オリゴエステルアクリレート等が適用可能である。
Specifically, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6 hexanediol diacrylate Acrylate, polyethylene glycol diacrylate, oligoester acrylate, and the like are applicable.

また、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマ
ーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型または
ポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物(例えば、2,4
−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレンジイソシアナート、1,3−キシリレン
ジイソシアナート、1,4−キシリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン4,4−ジ
イソシアナートなど)を反応させて得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに
、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレート(例えば、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリ
レート、ポリエチレングリコールメタクリレートなど)を反応させて得られる。
粘着剤層には、上記の樹脂から選ばれる2種以上が混合されたものでもよい。
In addition to the above acrylate compounds, urethane acrylate oligomers can also be used. The urethane acrylate oligomer includes a polyol compound such as a polyester type or a polyether type, and a polyvalent isocyanate compound (for example, 2, 4
Terminal obtained by reacting tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc. An acrylate or methacrylate having a hydroxyl group on an isocyanate urethane prepolymer (for example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, etc.) It is obtained by reacting.
The pressure-sensitive adhesive layer may be a mixture of two or more selected from the above resins.

光重合開始剤を使用する場合、例えばイソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベ
ンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサントン、ドデシ
ルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチ
ルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェ
ニルプロパン等を使用することができる。これら光重合開始剤の配合量はアクリル系共重
合体100質量部に対して0.01〜5質量部が好ましい。
When using a photopolymerization initiator, for example, isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, benzophenone, Michler's ketone, chlorothioxanthone, dodecylthioxanthone, dimethylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxymethylphenyl Propane or the like can be used. The blending amount of these photopolymerization initiators is preferably 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic copolymer.

(粘着テープ)
粘着テープ(第1粘着テープ14a、第2の粘着テープ14b)としては、例えば、樹
脂フィルム基材に粘接着剤を塗布した粘接着テープを好適に使用することができる。粘接
着テープの基材樹脂としては、耐熱性、平滑性、及び、入手し易さの点から、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)及びポリエステルが好ましい。粘接着テープの粘着剤の組成
及び物性については、特に限定はなく、ウエハ加工用テープ10の巻き取り工程及び保管
工程において、フィルム11から剥離しないものが好ましい。
(Adhesive tape)
As the adhesive tape (the first adhesive tape 14a and the second adhesive tape 14b), for example, an adhesive tape obtained by applying an adhesive to a resin film base material can be suitably used. As the base resin for the adhesive tape, polyethylene terephthalate (PET) and polyester are preferable from the viewpoint of heat resistance, smoothness, and availability. The composition and physical properties of the adhesive of the adhesive tape are not particularly limited, and those that do not peel from the film 11 in the winding process and storage process of the wafer processing tape 10 are preferable.

以上の通り、本実施形態のウエハ加工用テープの長尺体によれば、切断されたウエハ加
工用テープを粘着テープを用いて接合する際に、粘着テープ14bがフィルム11の端部
から接着剤層12までの領域Hに貼り付ける。その結果、継ぎ部の段差によって生じる接
着剤層への転写痕の発生がないことから、接着剤層と半導体ウエハとの接着不良により、
ウエハの加工時に不具合が生じることを防止することができる。
As described above, according to the long wafer processing tape of the present embodiment, when the cut wafer processing tape is joined using the adhesive tape, the adhesive tape 14b is bonded from the end of the film 11 to the adhesive. Affix to region H up to layer 12. As a result, since there is no occurrence of transfer marks to the adhesive layer caused by the step of the joint, due to poor adhesion between the adhesive layer and the semiconductor wafer,
It is possible to prevent problems from occurring during the processing of the wafer.

10,20,40:ウエハ加工用テープ
11,11a,21,41:フィルム
12,22,32,42:接着剤層
13:粘着フィルム
13a,23a,33a,43a:円形ラベル部
13b,23b,43b:周辺部
14a,44a,:第1の粘着テープ
14b,44b:第2の粘着テープ
10, 20, 40: Wafer processing tapes 11, 11a, 21, 41: Films 12, 22, 32, 42: Adhesive layer 13: Adhesive films 13a, 23a, 33a, 43a: Circular label portions 13b, 23b, 43b : Peripheral portions 14a, 44a ,: first adhesive tapes 14b, 44b: second adhesive tape

Claims (5)

長尺のフィルムと、前記フィルムの第1の面上に設けられた所定の平面形状を有する接
着剤層と、
前記接着剤層を覆い、かつ、前記接着剤層の周囲で前記フィルムに接触するように設けら
れた所定の平面形状を有するラベル部と、前記ラベル部の外周を囲むように設けられた周
辺部とを有する粘着フィルムとからなるウエハ加工用テープの長尺体であって、
複数のウエハ加工用テープ同士を長手方向に接続する継ぎ部を有しており、
前記継ぎ部は、前記フィルムの第1の面と反対側の第2の面同士を第1の粘着テープによ
り貼り合わせ、前記複数のウエハ加工用テープの互いの前記周辺部同士を第2の粘着テー
プにより貼り合わせることにより形成されており、
前記第2の粘着テープは、前記フィルムの長手方向と平行な前記接着剤層の外接線よりも
端部側にのみ設けられていることを特徴とするウエハ加工用テープの長尺体。
An elongated film, and an adhesive layer having a predetermined planar shape provided on the first surface of the film;
A label portion having a predetermined planar shape that covers the adhesive layer and is in contact with the film around the adhesive layer, and a peripheral portion that surrounds the outer periphery of the label portion It is a long body of a wafer processing tape consisting of an adhesive film having
It has a joint that connects a plurality of wafer processing tapes in the longitudinal direction,
The joint portion is bonded to the second surface opposite to the first surface of the film with a first adhesive tape, and the peripheral portions of the plurality of wafer processing tapes are bonded to each other as a second adhesive. It is formed by pasting together with tape,
The long piece of wafer processing tape, wherein the second pressure-sensitive adhesive tape is provided only on the end side of the outer tangent line of the adhesive layer parallel to the longitudinal direction of the film.
前記継ぎ部は、長手方向に対して斜めに形成されていることを特徴とする請求項1に記
載のウエハ加工用テープの長尺体。
The long body of a wafer processing tape according to claim 1, wherein the joint portion is formed obliquely with respect to the longitudinal direction.
前記第1の粘着テープは、前記フィルムの第1の面と、前記周辺部とに貼られていること
を特徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項に記載のウエハ加工用テープの長尺
体。
The said 1st adhesive tape is affixed on the 1st surface of the said film, and the said peripheral part, The tape for wafer processing of any one of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned. Long body.
前記第1の粘着テープは、前記フィルムの第1の面には貼られていないことを特徴とす
る請求項1または請求項2のいずれか1項に記載のウエハ加工用テープの長尺体。
3. The wafer processing tape long body according to claim 1, wherein the first adhesive tape is not attached to the first surface of the film. 4.
前記第1及び前記第2の粘着テープの少なくとも一方は着色部材であることを特徴とす
る請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のウエハ加工用テープの長尺体。
The long body of a tape for wafer processing according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one of the first and second adhesive tapes is a colored member.
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